KR101387919B1 - Substrate cleaning apparatus - Google Patents

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KR101387919B1 KR1020120151962A KR20120151962A KR101387919B1 KR 101387919 B1 KR101387919 B1 KR 101387919B1 KR 1020120151962 A KR1020120151962 A KR 1020120151962A KR 20120151962 A KR20120151962 A KR 20120151962A KR 101387919 B1 KR101387919 B1 KR 101387919B1
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모연민
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주식회사 케이씨텍
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Abstract

The present invention relates to a substrate cleaning device comprising a pair of cleaning brushes contacting the substrate having the substrate between them while rotating; a pair of rotational shafts respectively installed in the cleaning brushes for rotating with the cleaning brushes and formed with a hollow pipe where multiple penetration holes are formed at a hollow part for functioning as a path for supplying deionized water to the cleaning brush; a deionized water supplying pipe connected coaxially with the rotational axis for rotating so as to supply the deionized water to the hollow part of the rotational axis; a pair of bearings for supporting the rotation of the deionized water supplying pipe at the outer space of a pure water supplying pipe connected to the central space part. The outer space is filled with deionized water injected from the central space part for preventing the leakage and flowing backward of the deionized water, improving the cleaning efficiency of the substrate by constantly maintaining the amount of the deionized water supplied to the substrate from the cleaning brush, and preventing the injection of dirty fluid from the cleaning brush causing a countercurrent.

Description

기판 세정 장치 {SUBSTRATE CLEANING APPARATUS}Substrate Cleaning Device {SUBSTRATE CLEANING APPARATUS}

본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 상세하게는 한 쌍의 세정 브러쉬 사이에서 기판을 세정하는 과정에서 세정 브러쉬의 처짐에 따른 영향을 최소화하면서 기판을 세정하는 액체가 기판 세정 장치의 기계 부품으로 유입되는 것을 최소화할 수 있는 기판 세정 장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and in particular, a liquid for cleaning a substrate is introduced into a mechanical component of the substrate cleaning apparatus while minimizing the effects of the deflection of the cleaning brush in the process of cleaning the substrate between a pair of cleaning brushes. It relates to a substrate cleaning apparatus that can minimize the thing.

디스플레이 장치에 사용되는 기판이나 반도체 소자의 제작에 사용되는 웨이퍼(이하, 이들을 '기판'이라고 통칭함)를 처리한 이후에, 처리 공정 중에 표면에 묻은 이물질을 제거하는 세정 공정이 이루어진다. After a substrate used for a display device or a wafer used for fabricating a semiconductor device (hereinafter, referred to as a " substrate ") is treated, a cleaning process for removing foreign matters on the surface is performed during the process.

도1 및 도2는 종래의 기판 세정 장치(2)를 도시한 것이다. 종래의 기판 세정 장치(2)는 기판 이송부에 의하여 기판(66)을 한 쌍의 세정 브러쉬(10)의 사이로 이송하면, 한 쌍의 세정 브러쉬(10) 중 어느 하나가 상하로 이동(10d)하여 기판(66)을 사이에 낀 상태로 세정 브러쉬(10)가 회전하면서 기판(66)의 표면을 세정한다. 1 and 2 show a conventional substrate cleaning apparatus 2. In the conventional substrate cleaning apparatus 2, when the substrate 66 is transferred between the pair of cleaning brushes 10 by the substrate transfer unit, any one of the pair of cleaning brushes 10 moves up and down 10d. The cleaning brush 10 rotates while the substrate 66 is sandwiched between the surfaces of the substrate 66.

이 때, 세정 브러쉬(10)는 구동부(40)에 의해 각각 서로 다른 방향으로 회전 구동되며, 탈염수 공급부(50)로부터 중공 회전축(30)에 탈염수가 공급되어, 중공부(30p)에 공급된 탈염수가 축 방향으(30x)으로 이송되면서 중공 회전축(30)에 형성된 다수의 통공(31)을 통해 세정 브러쉬(10)로 전달되면서, 세정 브러쉬(10)가 탈염수에 젖은 상태가 되고, 세정 브러쉬(10)로부터 탈염수(55)를 공급하면서 기판(66)을 세정한다. 도면에 도시되지 않았지만, 기판(66)에는 세정액(세정용 케미컬)과 탈염수가 노즐을 통해 공급된다.At this time, the cleaning brush 10 is driven to rotate in different directions by the drive unit 40, demineralized water is supplied from the demineralized water supply unit 50 to the hollow rotating shaft 30, the demineralized water supplied to the hollow portion (30p) The cleaning brush 10 is wetted with demineralized water while being transferred to the cleaning brush 10 through the plurality of through holes 31 formed in the hollow rotating shaft 30 while being transferred in the axial direction 30x. The substrate 66 is cleaned while supplying the demineralized water 55 from 10). Although not shown in the drawings, the substrate 66 is supplied with a cleaning liquid (cleaning chemical) and desalted water through a nozzle.

그러나, 상기와 같이 구성된 종래의 기판 세정 장치(2)는 세정 브러쉬(20)를 회전 지지하는 지지대(20)가 일측에만 위치하여, 세정 브러쉬의 자중에 의한 처짐이 발생되어 기판(66)의 표면에 균일한 세정 마찰력이 작용하지 않음에 따라 불균일한 세정이 야기되는 문제점이 있었다. 이 뿐만 아니라, 종래의 기판 세정 장치(2)의 지지부(20)에는 구동 모터 및 회전 지지부 등의 기계 부품이 위치하고 있는데, 기판(66)의 세정 공정 중에 탈염수와 세정액이 지지부(20)에 튀거나 흘러들어가, 지지부(20)의 부품에 부식이 발생되어 기판 세정 장치(2)의 수명이 단축되고 작동 신뢰성을 저해하는 문제점이 있었다.However, in the conventional substrate cleaning apparatus 2 configured as described above, the support 20 for rotationally supporting the cleaning brush 20 is located on only one side, and the deflection due to the self-weight of the cleaning brush is generated so that the surface of the substrate 66 is formed. There was a problem that non-uniform cleaning is caused as a uniform cleaning frictional force does not act on the. In addition, mechanical parts such as a drive motor and a rotary support are located in the support 20 of the conventional substrate cleaning apparatus 2. During the cleaning process of the substrate 66, demineralized water and a cleaning liquid may splash on the support 20. As a result, corrosion occurs in the parts of the support part 20, which shortens the life of the substrate cleaning device 2 and impairs operating reliability.

또한, 종래의 기판 세정 장치는 회전하는 회전축에 위치 고정된 탈염수 플러그로부터 탈염수를 공급하는 데 있어서, 탈염수의 누수 및 역류가 발생되어 중공 회전축(30) 내에 탈염수가 원활히 공급되지 않아 기판(66)의 세정 효율이 저하되는 문제도 있었다.
In addition, in the conventional substrate cleaning apparatus, when the demineralized water is supplied from the demineralized water plug fixed to the rotating shaft, the demineralized water leaks and flows back, so that the demineralized water is not smoothly supplied into the hollow rotary shaft 30. There was also a problem that the cleaning efficiency was lowered.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 한 쌍의 세정 브러쉬 사이에서 기판을 세정하는 과정에서 세정 브러쉬의 처짐에 따른 영향을 최소화하여 기판의 전 표면에 걸쳐 균일한 마찰력이 작용하여 균일한 세정을 가능하게 하는 것을 목적으로 한다. The present invention is to solve the above-mentioned problems, in the process of cleaning the substrate between a pair of cleaning brush to minimize the effects of the deflection of the cleaning brush to uniform friction across the entire surface of the substrate acts uniform cleaning It is aimed at making this possible.

무엇보다도, 본 발명은 고정된 탈염수 플러그로부터 중공 회전축 내에 탈염수를 공급하는 데 있어서, 탈염수의 누수 및 역류가 발생되는 것을 방지하여, 세정 브러쉬로부터 기판에 공급되는 탈염수의 양을 일정하게 유지하여 기판의 세정 효율을 향상시키는 것을 목적으로 한다.Above all, the present invention prevents leakage and backflow of demineralized water from occurring in supplying demineralized water into the hollow rotating shaft from a fixed demineralized water plug, and maintains a constant amount of demineralized water supplied from the cleaning brush to the substrate. It aims at improving cleaning efficiency.

또한, 본 발명은, 기판의 세정 중에 튀는 액체가 지지대의 기계 부품에 도달하여 부식을 야기하는 것을 효과적으로 억제하여, 기판 세정 공정의 신뢰성을 확실하게 유지하는 것을 목적으로 한다.
Moreover, an object of this invention is to effectively suppress that the liquid which splashes during the cleaning of a board | substrate reaches a mechanical part of a support base, and causes corrosion, and maintains the reliability of a board | substrate cleaning process reliably.

상술한 바와 같은 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은, 기판을 사이에 두고 상기 기판에 접촉하면서 회전하는 한 쌍의 세정 브러쉬와; 상기 세정 브러쉬 내의 각각에 설치되어 상기 세정 브러쉬와 함께 회전하고, 다수의 통공이 중공부에 형성된 중공관으로 형성되어 탈염수(Deionized water)를 상기 세정 브러쉬에 공급하는 통로 역할을 하는 한 쌍의 회전축과; 상기 회전축의 상기 중공부에 탈염수를 공급하도록 상기 회전축과 동축에 배열 연결되어 함께 회전하는 탈염수 공급관과; 탈염수 공급관의 입구로부터 중앙 공간부를 사이에 두고 이격되게 위치 고정되어 탈염수를 상기 탈염수 공급관 내로 공급하는 탈염수 플러그와; 상기 중앙 공간부와 연통하는 상기 순수 공급관의 외측 공간에서 상기 탈염수 공급관의 회전을 지지하는 한 쌍의 베어링을; 포함하여 구성되어, 상기 외측 공간은 상기 중앙 공간부로부터 유입되는 탈염수에 의해 채워지는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치를 제공한다. In order to achieve the above technical problem, the present invention, a pair of cleaning brush that rotates while contacting the substrate with a substrate therebetween; A pair of rotary shafts installed in each of the cleaning brushes to rotate together with the cleaning brushes, and a plurality of through holes are formed in a hollow tube formed in the hollow part to serve as a passage for supplying deionized water to the cleaning brushes; ; A demineralized water supply pipe connected to the rotary shaft and coaxially arranged so as to supply demineralized water to the hollow portion of the rotary shaft; A demineralized water plug which is positioned and spaced apart from the inlet of the demineralized water supply pipe to supply demineralized water into the demineralized water supply pipe; A pair of bearings for supporting rotation of the demineralized water supply pipe in an outer space of the pure water supply pipe communicating with the central space; It is configured to include, the outer space is provided with a substrate cleaning apparatus, characterized in that filled with demineralized water flowing from the central space portion.

이는, 위치 고정된 탈염수 플러그로부터 회전하는 탈염수 공급관으로 탈염수를 공급하는 데 있어서, 탈염수 플러그의 토출구와 탈염수 공급관의 입구를 중앙 공간부를 사이에 두고 서로 이격시키고, 회전하는 탈염수 공급관을 지지하는 베어링이 위치하는 외측 공간을 구비하되, 탈염수 플러그로부터 공급되는 탈염수로 중앙 공간부와 외측 공간을 의도적으로 채우도록 구성됨으로써, 탈염수의 역류가 발생되는 것을 방지함과 동시에, 탈염수 공급관 내에 탈염수를 공급하는 과정에서 외부로 누수되는 것을 방지하여, 세정 브러쉬로부터 기판에 공급되는 탈염수의 양을 일정하게 유지하여 기판의 세정 효율을 향상시키기 위함이다. This is to supply demineralized water to the demineralized water supply pipe which is rotated from the fixed demineralized water plug. The bearing for supporting the rotating demineralized water supply pipe is spaced apart from each other with the outlet of the demineralized water plug and the inlet of the demineralized water supply pipe interposed therebetween. It is provided with an outer space to intentionally fill the central space and the outer space with demineralized water supplied from the demineralized plug, thereby preventing the backflow of demineralized water, and at the same time to supply demineralized water in the demineralized water supply pipe This is to prevent leakage of water and to maintain a constant amount of demineralized water supplied from the cleaning brush to the substrate to improve the cleaning efficiency of the substrate.

또한, 본 발명은 탈염수 플러그와 탈염수 공급관 사이의 공간을 탈염수로 의도적으로 채움으로써, 세정 브러쉬로부터 튀는 더러운 액체가 외측 공간으로 흘러들어와 역류되는 것을 방지하므로, 지지대에 설치된 기계 부품으로 탈염수가 흘러들어와 부식시키는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 기판 세정 장치의 부품 수명을 담보할 수 있으며, 기판 세정 공정의 신뢰성을 확실하게 유지할 수 있다.
In addition, the present invention intentionally fills the space between the demineralized plug and the demineralized water supply pipe with demineralized water to prevent dirty liquid splashing from the cleaning brush from flowing into the outer space and backflowing, so that demineralized water flows into the mechanical parts installed on the support and corrodes. Can be prevented. Thereby, the component lifetime of a board | substrate cleaning apparatus can be ensured and the reliability of a board | substrate cleaning process can be maintained reliably.

이 때, 상기 한 쌍의 베어링은 서로 이격 배치되어, 탈염수 공급부를 안정되게 회전지지하면서, 외측 공간을 충분히 확보할 수 있다. At this time, the pair of bearings are spaced apart from each other, and the outer space can be sufficiently secured while supporting the demineralized water supply part stably in rotation.

그리고, 상기 한 쌍의 베어링은 테프론 재질로 형성되어 탈염수에 잠긴 상태에 있더라도 장 기간동안 부식되지 않고 탈염수 공급부를 회전 지지할 수 있다. In addition, the pair of bearings may be formed of a Teflon material and may rotatably support the demineralized water supply unit without being corroded for a long time even in a state of being submerged in demineralized water.

한편, 상기 탈염수 공급관의 출구 주변을 감싸고 상기 회전축과 맞닿는 연결 부재를 더 포함하여 구성되어, 탈염수 공급관과 중공 회전축 사이의 연결을 보다 확실하게 할 수 있다.On the other hand, it is further configured to further include a connecting member surrounding the outlet of the demineralized water supply pipe and in contact with the rotary shaft, it is possible to more secure the connection between the demineralized water supply pipe and the hollow rotary shaft.

상기 연결 부재와 상기 탈염수 플러그 사이에는 차단막이 형성되어, 세정 브러쉬로부터 튀는 액체를 1차적으로 차단막이 막도록 구성된다.A blocking film is formed between the connection member and the demineralized water plug, and is configured to primarily block the liquid splashing from the cleaning brush.

그리고, 상기 한 쌍의 베어링 사이에는, 상기 탈염수 공급관과 함께 회전하는 내측 스페이서와, 상기 탈염수 공급관과 달리 회전하지 않는 외측 스페이서가 설치된다. In addition, between the pair of bearings, an inner spacer that rotates together with the demineralized water supply pipe and an outer spacer that does not rotate unlike the demineralized water supply pipe are provided.

그리고, 상기 세정 브러쉬는 한 쌍의 지지대에 양단 지지되어, 탈염수를 머금어 무거워진 세정 브러쉬에 의한 처짐을 억제하므로, 세정 브러쉬를 통해 기판에 공급되는 탈염수의 세정 브러쉬가 기판의 표면에 균일한 마찰로 접촉하여 신뢰성있는 세정을 가능하게 한다. The cleaning brush is supported at both ends by a pair of supports to suppress sag caused by a heavy cleaning brush containing demineralized water, so that the cleaning brush of demineralized water supplied to the substrate through the cleaning brush has a uniform friction on the surface of the substrate. Contact ensures reliable cleaning.

상기 기판은 다양한 형태일 수 있으며 원판 형태의 웨이퍼를 포함한다.
The substrate may be in various forms and includes a wafer in the form of a disc.

상술한 바와 같이 본 발명은, 위치 고정된 탈염수 플러그로부터 회전하는 탈염수 공급관을 통해 세정 브러쉬의 중공 회전축 내에 탈염수를 공급하는 데 있어서, 탈염수 플러그의 토출구와 탈염수 공급관의 입구를 중앙 공간부를 사이에 두고 서로 이격시키고, 회전하는 탈염수 공급관을 지지하는 베어링이 위치하는 외측 공간을 구비하되, 탈염수 플러그로부터 공급되는 탈염수로 중앙 공간부와 외측 공간을 의도적으로 채우도록 구성됨으로써, 탈염수의 역류가 발생되는 것을 방지함과 동시에, 탈염수 공급관 내에 탈염수를 공급하는 과정에서 외부로 누수되는 것을 방지하여, 세정 브러쉬로부터 기판에 공급되는 탈염수의 양을 일정하게 유지하여 기판의 세정 효율을 향상시킬 수 있는 유리한 효과가 얻어진다. As described above, the present invention, in the supply of demineralized water in the hollow rotary shaft of the cleaning brush through the demineralized water supply pipe rotated from the positional demineralized water plug, the discharge port of the demineralized water plug and the inlet of the demineralized water supply pipe to each other between Spaced apart and provided with an outer space in which a bearing for supporting the rotating demineralized water supply pipe is located, wherein the demineralized water supplied from the demineralized water plug is intentionally filled with the central space and the outer space, thereby preventing backflow of demineralized water. At the same time, it is possible to prevent leakage to the outside in the process of supplying demineralized water into the demineralized water supply pipe, thereby maintaining a constant amount of demineralized water supplied from the cleaning brush to the substrate, thereby obtaining an advantageous effect of improving the cleaning efficiency of the substrate.

또한, 본 발명은 탈염수 플러그와 탈염수 공급관 사이의 공간을 탈염수로 의도적으로 채우는 구성을 통해, 세정 브러쉬로부터 튀는 더러운 액체가 외측 공간으로 흘러들어와 역류되는 것을 방지하고, 지지대에 설치된 기계 부품으로 탈염수가 흘러들어와 부식시키는 것을 방지하는 잇점이 얻어진다.In addition, the present invention through the configuration to intentionally fill the space between the demineralized plug and the demineralized water supply pipe with demineralized water, to prevent dirty liquid splashing from the cleaning brush to flow into the outer space and backflow, demineralized water flows to the mechanical parts installed on the support The advantage of preventing from coming in and corroding is obtained.

이에 따라, 본 발명은 기판 세정 장치의 부품 수명을 담보할 수 있으므로, 장기간동안 기판 세정 공정의 신뢰성을 확실하게 유지할 수 있다.Accordingly, the present invention can ensure the component life of the substrate cleaning apparatus, so that the reliability of the substrate cleaning process can be reliably maintained for a long time.

도1은 종래의 기판 세정 장치의 구성을 도시한 정면도,
도2는 도1의 세정 브러쉬 및 중공 회전축의 구성의 단면도,
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 구성을 도시한 사시도,
도4는 도3의 평면도,
도5는 도3의 절단선 V-V에 따른 'A'부분의 확대 단면도,
도6은 도5의 탈염수 공급 유닛의 구성을 도시한 단면도,
도7은 도6의 'B'부분의 확대도,
도8은 도6의 'C'부분의 확대도이다.1 is a front view showing a configuration of a conventional substrate cleaning apparatus,
Fig. 2 is a sectional view of the structure of the cleaning brush and hollow rotation shaft of Fig. 1,
3 is a perspective view showing a configuration of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention,
4 is a plan view of FIG. 3;
5 is an enlarged cross-sectional view of a portion 'A' along the cutting line VV in FIG. 3;
6 is a cross-sectional view showing the configuration of the demineralized water supply unit of FIG. 5;
7 is an enlarged view of a portion 'B' of FIG. 6;
FIG. 8 is an enlarged view of a portion 'C' of FIG. 6.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(100)에 대하여 구체적으로 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해서는 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하며, 동일하거나 유사한 기능 혹은 구성에 대해서는 동일하거나 유사한 도면 부호를 부여하기로 한다.Hereinafter, a substrate cleaning apparatus 100 according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In describing the present invention, well-known functions or constructions will be omitted for the sake of clarity of the present invention, and the same or similar function or configuration will be given the same or similar reference numerals.

도3 내지 도8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(100)는, 공급되는 기판(W)을 세정하는 세정 브러쉬(110)와, 세정 브러쉬(110)를 회전 지지하고 다수의 부품이 실장되어 있는 지지대(120)와, 세정 브러쉬(110)를 관통하여 지지하고 세정 브러쉬(110)의 중심으로부터 탈염수(77)를 공급하는 중공 회전축(130)과, 세정 브러쉬(110)와 지지대(120)의 사이에 설치되어 세정 브러쉬(110)에서 세정 중인 세정액 등의 액체가 지지대(120)로 튀는 것을 막는 차단막(140)과, 지지대(120)에 끼워져 탈염수(77)를 공급하는 탈염수 플러그(90)와, 위치 고정된 탈염수 플러그(90)에서 공급되는 탈염수를 회전하는 회전축(130) 내부에 전달하는 탈염수 전달유닛(200)을 포함하여 구성된다. 3 to 8, the substrate cleaning apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a cleaning brush 110 for cleaning the supplied substrate W and a rotating cleaning brush 110. A support 120 having a plurality of parts mounted thereon, a hollow rotating shaft 130 that supports the cleaning brush 110 and supplies demineralized water 77 from the center of the cleaning brush 110, and a cleaning brush ( The blocking film 140 is installed between the support 110 and the support 120 to prevent the liquid such as the cleaning liquid being cleaned from the cleaning brush 110 from splashing into the support 120, and the support 120 is inserted into the blocking film 140. It is configured to include a demineralized water supply unit 200 for transmitting the demineralized water plug 90 to be supplied, and the demineralized water supplied from the fixed position demineralized water plug 90 to the rotating shaft 130 to rotate.

상기 세정 브러쉬(110)는 기판(W)의 표면에 닿아 회전하면서 기판(W)의 표면에 묻어있는 이물질을 제거한다. 세정 브러쉬(110)는 다양한 소재와 형상으로 제작될 수 있지만, 수분을 흡수할 수 있는 재료로 제작된다. 예를 들어, 세정 브러쉬(110)는 스펀지(sponge)와 유사한 구조로 형성될 수 있으며, 일정한 보습율(water retention)을 갖는 다공성 소재의 폴리 비닐 알코올로 제작되는 것이 바람직하다. 그리고, 세정 브러쉬(110)의 표면은 다수의 미세 돌기가 형성되어, 세정 효과를 높일 수도 있다. The cleaning brush 110 removes the foreign matter on the surface of the substrate W while rotating to contact the surface of the substrate (W). The cleaning brush 110 may be made of various materials and shapes, but may be made of a material capable of absorbing moisture. For example, the cleaning brush 110 may be formed of a sponge-like structure, and is preferably made of polyvinyl alcohol of a porous material having a constant water retention. In addition, the surface of the cleaning brush 110 is formed with a plurality of fine projections, it is possible to enhance the cleaning effect.

그리고, 한 쌍의 세정 브러쉬(110) 중 하나는 지지대(120)의 내부에 설치된 구동부(125)에 의하여 상하로 이동 가능하게 설치되어, 기판(W)이 유입되면 한 쌍의 세정 브러쉬(110)는 서로 근접하고, 기판(W)의 세정을 마치면 한 쌍의 세정 브러쉬(110)는 서로 멀어진다. 여기서, 구동부(125)는 실린더, 리니어 모터, 리드 스크류 등 다양한 공지된 구동 수단으로 이루어질 수 있다.In addition, one of the pair of cleaning brushes 110 is installed to be movable up and down by the driving unit 125 installed in the support 120, and when the substrate W is introduced, the pair of cleaning brushes 110 is provided. Are close to each other, and when the cleaning of the substrate W is finished, the pair of cleaning brushes 110 move away from each other. Here, the driving unit 125 may be made of various known driving means, such as a cylinder, a linear motor, a lead screw.

상기 지지대(120)는 베이스 플레이트(73)에 고정되며, 세정 브러쉬(110)의 내부에 설치된 회전축(130) 내부로 탈염수(77)를 공급하는 부품과 회전축(130)을 회전시키는 부품이 도5에 도시된 바와 같이 구비된다. 지지대(120)에는 탈염수(77)를 외부로부터 공급하는 탈염수 플러그(90)가 위치 고정되어, 공급 튜브(91)를 통해 탈염수(77)를 공급한다. The support 120 is fixed to the base plate 73, a part for supplying the demineralized water 77 into the rotary shaft 130 installed inside the cleaning brush 110 and a component for rotating the rotary shaft 130 is shown in FIG. It is provided as shown in. The deionized water plug 90 for supplying the demineralized water 77 from the outside is fixed to the support 120 to supply the demineralized water 77 through the supply tube 91.

상기 회전축(130)은 도2에 도시된 종래의 회전축(30)과 마찬가지로 세정 브러쉬(110)의 내부에 삽입 설치되며, 회전축(130)의 내부는 탈염수(77)가 유입되는 중공부(130p)가 형성되고, 중공부(130p)와 세정 브러쉬(110)를 연통하는 다수의 통공(130a)이 형성된다. 이에 따라, 회전축(130)의 중공부(130p)에 탈염수(77)가 공급되면, 회전축(130)으로부터 세정 브러쉬(110)에 탈염수(77)가 통공(130a)을 통해 공급되어, 세정 브러쉬(110)를 통해서도 기판(W)의 표면에 탈염수(77)가 공급된다.The rotating shaft 130 is inserted into the cleaning brush 110 as in the conventional rotating shaft 30 shown in Figure 2, the inside of the rotating shaft 130, the hollow portion 130p through which demineralized water 77 is introduced. Is formed, and a plurality of through holes 130a communicating the hollow portion 130p and the cleaning brush 110 are formed. Accordingly, when the demineralized water 77 is supplied to the hollow portion 130p of the rotating shaft 130, the demineralized water 77 is supplied from the rotating shaft 130 to the cleaning brush 110 through the through hole 130a, and the cleaning brush ( Demineralized water 77 is also supplied to the surface of the substrate W through the 110.

상기 차단막(140)은 지지대(120)로부터 회전축(30)을 향하여 연장된 탈염수 전달유닛(200)의 비회전부위인 케이싱(250)에 위치 고정된다. 차단막(140)은 자바라로 형성될 수 있으며, 자바라의 끝단(140a)이 케이싱(250)의 홈(250a)에 위치 고정된다. 이를 통해, 세정 브러쉬(110)로부터 튀는 액체를 차단막(140)으로 지지대(120) 주변으로 유입되는 것을 방지한다. The blocking film 140 is fixed to the casing 250 which is a non-rotating part of the demineralized water delivery unit 200 extending from the support 120 toward the rotation shaft 30. The blocking layer 140 may be formed of a bellows, and the tip 140a of the bellows is fixed to the groove 250a of the casing 250. Through this, the liquid splashing from the cleaning brush 110 is prevented from flowing around the support 120 to the blocking film 140.

상기 탈염수 전달유닛(200)은, 탈염수 플러그(90)의 출구로부터 탈염수(77)를 전달받아 회전축(130)의 중공부(130p)에 탈염수(77)를 공급하는 탈염수 공급관(210)과, 회전축(130)과 연결되어 함께 회전하는 탈염수 공급관(210)을 회전 지지하는 한 쌍의 베어링(220, 220')과, 한 쌍의 베어링(220, 220') 사이의 간격을 유지하도록 베어링(220, 220')의 사이에 개재되는 스페이서(230)와, 탈염수 공급관(210)의 출구측에 고정되는 연결 부재(240)와, 베어링(220, 220)의 외륜을 지지하는 케이싱(250)으로 구성된다. The demineralized water delivery unit 200 receives demineralized water 77 from the outlet of the demineralized water plug 90 and supplies a demineralized water supply pipe 210 for supplying demineralized water 77 to the hollow portion 130p of the rotary shaft 130, and a rotary shaft. The bearing 220 is connected to the 130 to maintain the gap between the pair of bearings 220 and 220 'and the pair of bearings 220 and 220' to rotate and support the demineralized water supply pipe 210 to rotate together. And a spacer 230 interposed between 220 ', a connecting member 240 fixed to the outlet side of the demineralized water supply pipe 210, and a casing 250 supporting the outer ring of the bearings 220 and 220. .

탈염수 전달유닛(200)은 세정 브러쉬(110)마다 설치되어 탈염수(77)를 회전축(130) 내에 공급하며 지지대(120)에 위치 고정된다. 한 쌍의 세정 브러쉬(110) 중 하나 이상은 상하 이동하므로, 탈염수 전달유닛(200)의 케이싱(250)을 감싸는 고정 부재(120')에 위치 고정되고, 지지대(120)에 설치된 리니어 모터 등의 구동부(125)에 의해 고정 부재(120')를 상하 이동하는 것에 의해 탈염수 전달유닛(200)과 함께 세정 브러쉬(110)를 상하로 이동시킬 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따른 세정 브러쉬(110)는 한 쌍의 지지대(120)에 양단 지지되는 형태로 설치되므로, 고정 부재(120')는 한 쌍의 지지대(120)에 모두 설치된다. 다만, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 한 쌍의 세정 브러쉬(110) 중 어느 하나 이상이 상하로 이동하지 않고 기판(W)이 삽입되는 위치에 배열된 경우에는, 고정 부재(120')는 지지대(120)에 위치 고정된 상태로 구성될 수 있다. The demineralized water delivery unit 200 is installed for each cleaning brush 110 to supply demineralized water 77 into the rotating shaft 130 and is fixed to the support 120. Since at least one of the pair of cleaning brushes 110 moves up and down, a linear motor or the like is fixed to the fixing member 120 ′ surrounding the casing 250 of the demineralized water delivery unit 200 and installed on the support 120. By moving the fixing member 120 ′ up and down by the driving unit 125, the cleaning brush 110 may be moved up and down together with the demineralized water delivery unit 200. Since the cleaning brush 110 according to the exemplary embodiment of the present invention is installed in the form of being supported at both ends of the pair of supports 120, the fixing members 120 ′ are all installed on the pair of supports 120. However, according to another embodiment of the present invention, when any one or more of the pair of cleaning brushes 110 are arranged at the position where the substrate W is inserted without moving up and down, the fixing member 120 ' It may be configured in a state fixed to the support 120.

상기 탈염수 공급관(210)은 회전축(130)과 동축에 배열되어, 입구(210i)가 탈염수 플러그(90)의 토출구(90o)와 중앙 공간부(99)를 사이에 두고 이격되며, 출구(210o)가 회전축(130)과 밀착된 상태로 배열되어 회전축(130)과 함께 회전된다. 탈염수 공급관(210)에는 탈염수 플러그(90)로부터 전달받은 탈염수(77)가 유동하는 통로(210x)가 형성된다. The demineralized water supply pipe 210 is arranged coaxially with the rotating shaft 130, and the inlet 210i is spaced apart from the outlet 90o of the demineralized water plug 90 and the central space 99 between the outlet 210o and the outlet 210o. Is arranged in close contact with the rotating shaft 130 is rotated with the rotating shaft 130. The demineralized water supply pipe 210 has a passage 210x through which the demineralized water 77 received from the demineralized water plug 90 flows.

상기 베어링(220, 220')은 스페이서(230)를 사이에 두고 서로 이격되어 탈염수 공급관(210)을 회전 지지한다. 베어링(220, 220')의 내륜은 탈염수 공급관(210)의 외주면에 밀착되어 함께 회전하고, 베어링(220, 220')의 외륜은 케이싱(250)의 내주면에 밀착되어 위치 고정됨으로써, 탈염수 공급관(210)을 회전 지지한다. The bearings 220 and 220 'are spaced apart from each other with the spacer 230 therebetween to rotationally support the demineralized water supply pipe 210. The inner ring of the bearings 220 and 220 'is in close contact with the outer circumferential surface of the demineralized water supply pipe 210 and rotates together, and the outer ring of the bearings 220 and 220' is fixed to the inner circumferential surface of the casing 250 so as to be fixed in position. Support the rotation.

베어링(220, 220')이 차지하고 있는 탈염수 공급관(210)의 외측 공간(98)은 중앙 공간부(99)와 연통되어 있어서, 탈염수 플러그(90)로부터 공급되는 탈염수(77)로 채워진다. 따라서, 베어링(220, 220')은 내부식성을 확보하기 위하여 비금속 재질로 형성된 것이 바람직하며, 예를 들어 윤활 특성과 마찰 특성이 우수한 테프론 재질로 형성된다. 이와 같이, 비금속 재질의 베어링(220, 220')의 재질로 사용함에 따라 탈염수(77) 내에 잠긴 베어링(220, 220')은 부식의 문제가 발생되지 않고, 오히려 베어링(220, 220')의 윤활 성능이 향상되는 잇점이 얻어진다.The outer space 98 of the demineralized water supply pipe 210 occupied by the bearings 220 and 220 'communicates with the central space 99 and is filled with demineralized water 77 supplied from the demineralized water plug 90. Therefore, the bearings 220 and 220 'are preferably formed of a non-metallic material in order to secure corrosion resistance, and are formed of, for example, a Teflon material having excellent lubrication characteristics and friction characteristics. As such, the bearings 220 and 220 'submerged in the demineralized water 77 do not cause corrosion problems due to the use of the non-metal bearings 220 and 220'. The advantage that the lubrication performance is improved is obtained.

상기 스페이서(230)는 중공 실린더 형태로 형성되어 한 쌍의 베어링(220, 220') 사이에서 간격을 유지하며, 사이에 외측 공간(98)을 형성한다. 스페이서(230)는 베어링(220, 220')의 내륜 사이에 개재되어 탈염수 공급관(210)과 함께 회전하는 내측 스페이서(230a)와, 베어링(220, 220')의 외륜 사이에 개재되어 회전하지 않는 외측 스페이서(230b)로 이루어진다. The spacer 230 is formed in the form of a hollow cylinder to maintain a gap between the pair of bearings 220 and 220 ', and forms an outer space 98 therebetween. The spacer 230 is interposed between the inner rings of the bearings 220 and 220 'and rotates together with the inner spacer 230a that rotates together with the demineralized water supply pipe 210 and the outer rings of the bearings 220 and 220' and does not rotate. It consists of the outer spacer 230b.

상기 연결 부재(240)는 도6에 도시된 바와 같이 탈염수 공급관(210)의 출구 주변을 감싸고 선단이 회전축(130)과 밀착되게 맞닿은 상태로 탈염수 공급관(210)에 일체로 결합되어 회전축(130)과 함께 회전한다. 연결 부재(240)의 선단 돌출부(240a)는 경우에 따라 세정 브러쉬(110)에 삽입될 수 있다. The connecting member 240 is wrapped around the outlet of the demineralized water supply pipe 210 as shown in Figure 6 and the tip is coupled to the demineralized water supply pipe 210 integrally in contact with the rotary shaft 130, the rotary shaft 130 Rotate with The tip protrusion 240a of the connection member 240 may be inserted into the cleaning brush 110 in some cases.

상기 케이싱(250)은 지지대(120) 또는 고정 부재(120)에 끼워져 지지대(120)로부터 세정 브러쉬(110)가 위치한 방향으로 돌출되게 위치 고정되어, 스페이서(230) 및 탈염수 공급관(210)등을 지지한다. 그리고, 입구 부재(215)는 탈염수 플러그(90)의 토출구(90o) 주변을 감싸도록 케이싱(250)의 일단에 위치하여, 탈염수 플러그(90)를 위치 고정하면서 중앙 공간부(99)를 형성한다.
The casing 250 is fitted to the support 120 or the fixing member 120 and is fixed to protrude in the direction in which the cleaning brush 110 is positioned from the support 120, thereby providing the spacer 230 and the demineralized water supply pipe 210. I support it. In addition, the inlet member 215 is positioned at one end of the casing 250 so as to surround the discharge port 90o of the demineralized plug 90, and forms the central space 99 while fixing the demineralized plug 90. .

한편, 지지대(120)에 위치 고정된 케이싱(250)에는 차단막(140)이 설치된다. 이를 위하여 차단막(140)의 자바라 끝단(140a)이 끼워지는 원형 단면의 링 홈(250a)이 외주면에 형성된다. 한편, 도8에 도시된 바와 같이, 연결 부재(240)는 탈염수 공급관(210)에 고정되어 회전하는데 반하여, 케이싱(250)은 지지대(120)에 위치 고정되므로, 케이싱(250)과 연결 부재(240)의 사이에는 사잇 부재(245)가 개재된다. 따라서, 연결 부재(240)의 외주면(240s)과 사잇 부재(245)의 내주면(245s)의 사이에는 미세한 틈새가 존재한다. Meanwhile, the blocking film 140 is installed in the casing 250 fixed to the support 120. To this end, a ring groove 250a having a circular cross section into which the bellows end 140a of the blocking film 140 is fitted is formed on the outer circumferential surface thereof. On the other hand, as shown in Figure 8, while the connecting member 240 is fixed to the demineralized water supply pipe 210 and rotated, the casing 250 is fixed to the support 120 position, so that the casing 250 and the connecting member ( Between members 240 are interposed between members 245. Therefore, a minute gap exists between the outer circumferential surface 240s of the connection member 240 and the inner circumferential surface 245s of the site member 245.

그런데, 기판(W)을 세정하고 있는 세정 브러쉬(110)로부터 튀는 액체는 차단막(140)에 튄 후, 차단막(140)의 판면을 따라 도면부호 55로 표시된 방향으로 흘러내린다. 흘러내린 액체는 도면부호 55'로 표시된 방향으로 연결 부재(240)의 내측 공간(240a)을 통과하면서, 도면부호 55"로 표시된 방향으로 흘러 연결 부재(240)의 외주면(240s)과 사잇 부재(245)의 내주면(245s)의 사이의 미세한 틈새로 유입되려고 한다. 이 때, 베어링(220, 220')이 차지하고 있는 외측 공간(98)은 탈염수(77)에 의해 이미 채워져 있으므로, 이물질이 함유된 오염된 액체는 베어링(220, 220')이 위치한 외측 공간(98)으로 새어들어오지 않게 된다. 따라서, 오염된 액체에 의해 베어링(220, 220') 등이 손상되는 것을 방지할 수 있으므로 장시간동안 탈염수 전달유닛(200)의 작동 신뢰성이 확보된다. By the way, the liquid which splashes from the cleaning brush 110 which wash | cleans the board | substrate W splashes in the blocking film 140, and flows along the board surface of the blocking film 140 in the direction shown with 55. As shown in FIG. The flowed liquid passes through the inner space 240a of the connecting member 240 in the direction indicated by 55 'and flows in the direction indicated by 55 " and the outer peripheral surface 240s of the connecting member 240 and the internal member ( Attempts to flow into a small gap between the inner circumferential surfaces 245s of 245. At this time, the outer space 98 occupied by the bearings 220 and 220 'is already filled by the demineralized water 77, and thus contains foreign matter. The contaminated liquid does not leak into the outer space 98 in which the bearings 220 and 220 'are located, thus preventing the bearings 220 and 220' from being damaged by the contaminated liquid, so that the demineralized water can be kept for a long time. Operational reliability of the delivery unit 200 is secured.

또한, 외측 공간(98)을 탈염수(77)로 채워두어 더러워진 액체가 지지대(120)측으로 유입되는 것이 방지되므로, 지지대(120)에 배치된 기계 부품이 부식되거나 오염되는 것을 방지할 수 있는 잇점이 얻어진다.
In addition, since the outside space 98 is filled with demineralized water 77 to prevent the infiltrated liquid from flowing into the support 120, an advantage of preventing mechanical parts disposed on the support 120 from being corroded or contaminated can be prevented. Obtained.

상기와 같이 구성된 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(100)는, 탈염수 플러그(90)에 탈염수(77)가 공급되면, 탈염수 플러그(90)와 중앙 공간부(99)를 사이에 두고 이격된 탈염수 공급관(210)의 내부에 탈염수(99)를 공급하면서, 베어링(220, 220')과 스페이서(230)로 둘러싸인 외측 공간(98)과 중앙 공간부(99)에 탈염수(77)가 채워짐에 따라, 탈염수(77)의 역류 및 누수를 방지하고, 세정 브러쉬(110)로부터 튀는 더러운 액체가 외측 공간(98)으로 흘러들어와 역류되거나 기계 부품을 부식, 손상시키는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 기판 세정 장치(100)는 충분한 부품 수명을 담보할 수 있으므로, 장기간동안 기판 세정 공정의 신뢰성을 확실하게 유지할 수 있다.
In the substrate cleaning apparatus 100 according to the exemplary embodiment of the present invention configured as described above, when the demineralized water 77 is supplied to the demineralized water plug 90, the demineralized water plug 90 and the central space 99 are interposed therebetween. The demineralized water 77 is supplied to the outer space 98 and the central space 99 surrounded by the bearings 220 and 220 'and the spacer 230 while supplying the demineralized water 99 to the spaced demineralized water supply pipe 210. As it is filled, it is possible to prevent backflow and leakage of the demineralized water 77 and to prevent dirty liquids splashing from the cleaning brush 110 from flowing into the outer space 98 to backflow or to corrode and damage mechanical parts. Therefore, since the substrate cleaning apparatus 100 according to the present invention can ensure sufficient component life, it is possible to reliably maintain the reliability of the substrate cleaning process for a long time.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 상기와 같은 특정 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 본 발명의 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, And can be appropriately changed within the scope of the claims.

98: 외측 공간 99: 중앙 공간부
100: 기판 세정 장치 110: 세정 브러쉬
120: 지지대 130: 회전축
140: 차단막 200: 탈염수 전달유닛
210: 탈염수 공급관 220: 베어링
230: 스페이서 240: 연결 부재
250: 케이싱 W: 기판98: outer space 99: central space
100: substrate cleaning device 110: cleaning brush
120: support 130: rotation axis
140: barrier membrane 200: demineralized water delivery unit
210: demineralized water supply pipe 220: bearing
230: spacer 240: connection member
250: casing W: substrate

Claims (8)

기판을 사이에 두고 상기 기판에 접촉하면서 회전하는 한 쌍의 세정 브러쉬와;
상기 세정 브러쉬 내의 각각에 설치되어 상기 세정 브러쉬와 함께 회전하고, 다수의 통공이 중공부에 형성된 중공관으로 형성되어 탈염수(Deionized water)를 상기 세정 브러쉬에 공급하는 통로 역할을 하는 한 쌍의 회전축과;
상기 회전축의 상기 중공부에 탈염수를 공급하도록 상기 회전축과 동축에 배열 연결되어 함께 회전하는 탈염수 공급관과;
탈염수 공급관의 입구로부터 중앙 공간부를 사이에 두고 이격되게 위치 고정되어 탈염수를 상기 탈염수 공급관 내로 공급하는 탈염수 플러그와;
상기 중앙 공간부와 연통하는 상기 탈염수 공급관의 외측 공간에서 상기 탈염수 공급관의 회전을 지지하는 한 쌍의 베어링을;
포함하여 구성되어, 상기 외측 공간은 상기 중앙 공간부로부터 유입되는 탈염수에 의해 채워지는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
A pair of cleaning brushes that rotate while contacting the substrate with the substrate therebetween;
A pair of rotary shafts installed in each of the cleaning brushes to rotate together with the cleaning brushes, and a plurality of through holes are formed in a hollow tube formed in the hollow part to serve as a passage for supplying deionized water to the cleaning brushes; ;
A demineralized water supply pipe connected to the rotary shaft and coaxially arranged so as to supply demineralized water to the hollow portion of the rotary shaft;
A demineralized water plug which is positioned and spaced apart from the inlet of the demineralized water supply pipe to supply demineralized water into the demineralized water supply pipe;
A pair of bearings for supporting rotation of the demineralized water supply pipe in an outer space of the demineralized water supply pipe communicating with the central space;
It is configured to include, wherein the outer space is filled with demineralized water flowing from the central space portion substrate cleaning apparatus.
제 1항에 있어서,
상기 한 쌍의 베어링은 서로 이격 배치된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
The method of claim 1,
And the pair of bearings are spaced apart from each other.
제 2항에 있어서,
상기 한 쌍의 베어링은 테프론 재질인 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
3. The method of claim 2,
The pair of bearings are substrate cleaning apparatus, characterized in that the Teflon material.
제 1항에 있어서,
상기 탈염수 공급관의 출구 주변을 감싸고 상기 회전축과 맞닿는 연결 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
The method of claim 1,
And a connecting member surrounding the outlet of the demineralized water supply pipe and contacting the rotating shaft.
제 4항에 있어서,
상기 연결 부재와 상기 탈염수 플러그 사이에는 차단막이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
5. The method of claim 4,
And a blocking film is formed between the connection member and the demineralized water plug.
제 1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 한 쌍의 베어링 사이에는, 상기 탈염수 공급관과 함께 회전하는 내측 스페이서와, 상기 탈염수 공급관과 달리 회전하지 않는 외측 스페이서가 설치된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
A substrate cleaning device, characterized in that between the pair of bearings, an inner spacer that rotates together with the demineralized water supply pipe, and an outer spacer that does not rotate unlike the demineralized water supply pipe.
제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 세정 브러쉬는 양단 지지되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
And the cleaning brush is supported at both ends.
제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판은 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.



6. The method according to any one of claims 1 to 5,
And said substrate is a wafer.



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