KR20090002849U - Large area substrate cleaning apparatus - Google Patents

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정일용
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주식회사 케이씨텍
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Abstract

본 고안은 대면적 기판 세정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 세정챔버 하부에 위치하며 양끝단에 수직지지대가 설치된 수평 프레임부, 상기 수직지지대 양측면에 각각 상하 구조로 이격설치되어 그 사이로 기판이 통과되는 한쌍의 상부 및 하부 롤브러시, 상기 한쌍의 상부 및 하부 롤브러시의 회전을 가능하게 지지하는 베어링 하우징이 구비된 롤브러시 구동부 및 상기 롤브러시 구동부를 미세승강 및 대량승강시키는 승강수단을 포함하는 대면적 기판 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a large-area substrate cleaning apparatus, and more particularly, a horizontal frame portion which is positioned below the cleaning chamber and has vertical supports installed at both ends thereof, and is spaced apart in a vertical structure on both sides of the vertical support, and the substrate passes therebetween. A pair of upper and lower roll brushes, a roll brush drive having a bearing housing for supporting rotation of the pair of upper and lower roll brushes, and lifting means for elevating and mass lifting the roll brush drive. It relates to an area substrate cleaning apparatus.

본 고안에 따르면, 구조가 단순하고 설치 공간의 축소 및 경량화됨으로써 사용자의 조작에 있어서의 편리성이 향상되며, 롤브러시 모듈의 뒤틀림을 방지하여 유지보수에 소요되는 비용이 절감된다. 또한, 롤브러시의 구동시 발생하는 진동이 억제되어 구동의 안정화에 기여하는 효과가 있다.According to the present invention, the structure is simple, the installation space is reduced and reduced in weight, the convenience in the user's operation is improved, and the cost of maintenance is reduced by preventing the roll brush module from twisting. In addition, the vibration generated during the driving of the roll brush is suppressed to contribute to the stabilization of the drive.

롤브러시, 기판, 세정, 승강수단, 업다운 Roll Brush, Substrate, Cleaning, Lifting Means, Up-Down

Description

대면적 기판 세정장치{Large area substrate cleaning apparatus}Large area substrate cleaning apparatus

본 고안은 기판 세정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 롤브러시와 기판과의 간격을 조절하면서 기판 표면을 세정하는 대면적 기판 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more particularly, to a large area substrate cleaning apparatus for cleaning the surface of the substrate while adjusting the distance between the roll brush and the substrate.

일반적으로 평판 디스플레이, 포토 마스크 및 LCD 모니터 등에 사용되는 글래스 기판(이하, 「기판」이라고 한다.)은 감광제 도포, 노광, 현상, 부식, 박리, 세정 및 건조 등의 공정을 거쳐 제조된다. 이러한 공정들에 있어서 상기 세정공정은 기판에 묻어 있는 이물질 등을 제거하는 공정이다.Generally, the glass substrate (henceforth "substrate") used for a flat panel display, a photo mask, an LCD monitor, etc. is manufactured through processes, such as photosensitive agent application, exposure, image development, corrosion, peeling, washing, and drying. In these processes, the cleaning process is a process of removing foreign matters and the like deposited on the substrate.

한편, 기판은 미세한 먼지(파티클)에 무척 민감하게 반응하는데, 미세한 먼지 하나가 작게는 부품, 크게는 장치의 특성을 좌우하게 된다. 상기와 같은 이유로 인해 평판 디스플레이 제조 공정에서는 파티클을 최소화하는데 주력하고 있으며, 공정 진행 상황에 따라 세정작업을 반복하여 실시하고 있다. 보통 기판은 유리재질이므로 손상되거나 파손되기 쉽다. 특히, 그 표면은 먼지 등과 같은 이물질 에 의해 손상되어 스크래치가 발생하기 쉽다. 따라서, 기판의 표면에 부착되어 있는 이물질 등을 제거하는 세정공정은 제품의 품질을 결정하는데 매우 중요한 공정이라 할 수 있다.On the other hand, the substrate reacts very sensitively to fine dust (particles), where one fine dust influences the characteristics of the component and the device. For the above reason, the flat panel display manufacturing process is focused on minimizing particles, and the cleaning operation is repeatedly performed according to the process progress. Usually, the substrate is made of glass, so it is easily damaged or broken. In particular, the surface is damaged by foreign matters such as dust and is likely to scratch. Therefore, the cleaning process for removing foreign matters and the like adhering to the surface of the substrate is a very important process for determining the quality of the product.

이러한 세정 공정에 사용되는 세정 방법으로는, 초순수 등의 세정액을 고압 분사시켜 기판 표면을 세정하는 방법과 기판에 세정액이 분사됨과 동시에 브러시를 사용하여 기판 표면의 이물질을 제거하는 방법 등이 있는데, 단지 초순수 등의 세정액을 분사하는 것만으로는 기판에 부착된 이물질을 제거할 수 없는 경우가 있다. 이와 같은 경우, 상기 기판에 세정액을 공급하면서 회전 구동되는 세정 브러시로 상기 기판의 판면을 문지르면서 세정하게 된다.As a cleaning method used in such a cleaning step, there is a method of cleaning a substrate surface by spraying a cleaning liquid such as ultrapure water with a high pressure, and a method of removing a foreign substance on the surface of the substrate using a brush while the cleaning liquid is sprayed onto the substrate. It may not be possible to remove foreign substances adhering to the substrate only by spraying a cleaning liquid such as ultrapure water. In this case, the cleaning is performed while rubbing the plate surface of the substrate with a cleaning brush which is rotationally driven while supplying the cleaning liquid to the substrate.

도 1은 종래의 브러시를 구비한 기판 세정장치를 나타낸 사시도이고, 도 2는 종래의 브러시를 구비한 기판 세정장치의 부분 확대도이다.1 is a perspective view showing a substrate cleaning apparatus with a conventional brush, and FIG. 2 is a partially enlarged view of the substrate cleaning apparatus with a conventional brush.

도 1 및 도 2를 참조하면, 종래의 브러시를 구비한 기판 세정장치는 세정챔버내에서 상하 구조로 이격설치되어 그 사이로 기판이 통과되는 상부 브러시(R1) 및 하부 브러시(R2)와, 상기 상부 브러시(R1) 및 하부 브러시(R2)의 양측 단부를 각각 회전가능하게 지지하는 제1회전지지부(11)와, 제2회전지지부(12)와, 상기 제1회전지지부(11) 및 제2회전지지부(12)에 각각 설치되어 제1회전지지부(11)와, 제2회전지지부(12)를 미세승강 및 대량승강시키는 제1승강수단(20) 및 제2승강수단(30)을 포함하는 구성요소로 이루어져 있다.1 and 2, the substrate cleaning apparatus having a conventional brush is installed in the cleaning chamber spaced apart in the vertical structure, the upper brush (R1) and the lower brush (R2) and the substrate passing therebetween, and the upper A first rotary support 11, a second rotary support 12, and the first rotary support 11 and the second rotation that rotatably support both ends of the brush R1 and the lower brush R2, respectively. The first and second elevating means 20 and the second elevating means 30, which are respectively installed on the support part 12 and finely elevate and mass elevate the second rotary support part 11 and the second rotary support part 12, respectively. Consists of elements.

상기 상부 브러시(R1)에는 그 회전축 양단부를 회전가능하게 지지하는 제1회 전지지부(11)가 설치되고, 하부 브러시(R2)에는 그 회전축 양단부를 회전가능하게 지지하는 제2회전지지부(12)가 설치된다. 상기 제1회전지지부(11) 및 제2회전지지부(12)는 그 내부에 베어링이 설치되는 베어링블록이 될 수 있다. 그리고 상부 브러시(R1) 및 하부 브러시(R2)에는 그 사이로 통과되는 기판의 표면을 가압하여 이물질 및 파티클을 제거하도록 제1회전지지부(11) 및 제2회전지지부(12)의 일측에는 브러시를 회전하도록 하는 제1구동모터(13) 및 제2구동모터(14)가 설치되고, 그 사이의 간격이 조절되도록 제1회전지지부(11) 및 제2회전지지부(12)를 미세승강 또는 대량승강시키는 제1승강수단(20) 및 제2승강수단(30)이 구비된다. 이러한 제1승강수단(20)은 제1회전지지부(11)를 승강시켜 상부 브러시(R1)를 미세승강시키는 제1미세승강수단(21)과 제2회전지지부(12)를 승강시켜 하부 브러시(R2)를 미세승강시키는 제2미세승강수단(22)으로 구분되어 진다.The first brush paper part 11 is rotatably supported at both ends of the rotary shaft, and the second brush support part 12 is rotatably supported at both ends of the rotary shaft. Is installed. The first rotary support 11 and the second rotary support 12 may be bearing blocks in which bearings are installed. In addition, the brush is rotated on one side of the first rotary support 11 and the second rotary support 12 to press the surface of the substrate passed therebetween to the upper brush R1 and the lower brush R2 to remove foreign substances and particles. The first driving motor 13 and the second driving motor 14 are installed to finely lift or mass lift the first rotary support 11 and the second rotary support 12 so that the gap therebetween is adjusted. The first lifting means 20 and the second lifting means 30 are provided. The first lifting means 20 lifts and lowers the first fine lifting means 21 and the second rotating support part 12 to elevate the first rotary support 11 to finely elevate the upper brush R1. R2) is divided into a second fine lifting means 22 for fine elevating.

또한, 상기 제1승강수단(20) 및 제2승강수단(30)은 상기 제1회전지지부(11) 및 제2회전지지부(12)를 나선조작에 의해 미세승강시키는 제1미세승강수단(21) 및 제2미세승강수단(22)과, 상기 제1회전지지부(11) 및 제2회전지지부(12)를 평면캠의 위상조작에 의해 대량승강시키는 제1대량승강수단(31) 및 제2대량승강수단(32)을 포함한다.In addition, the first elevating means 20 and the second elevating means 30, the first fine elevating means 21 for finely elevating the first rotary support 11 and the second rotary support 12 by the spiral operation ) And the second mass elevating means 22 and the first mass elevating means 31 and the second mass elevating means for mass elevating the first rotary support 11 and the second rotary support 12 by a phase operation of the planar cam. Mass lifting means 32 is included.

먼저, 상기 제1승강수단(20) 및 제2승강수단(30)에서 상기 제1회전지지부(11)를 나선조작에 의해 미세승강시키는 제1미세승강수단(21)에 대해 살펴보면, 상기 제1미세승강수단(21)은 제1회전지지부(11)의 양측에 수직하방향으로 결합되는 한쌍의 수직바(23)와, 상기 수직바(23)에 결합되는 한쌍의 업다운블록(24)과, 상단 부는 상기 업다운블록(24)에 나선결합되고 하단부는 웜휠(25)이 결합되는 한쌍의 수직나선축(26)과, 상기 수직나선축(26)의 웜휠(25)에 치합되는 한쌍의 웜(25a)이 축선상에 형성되어 회전가능하게 지지되는 제1수평축(27)과, 상기 제1수평축(27)의 일단에 결합되는 핸들(28)을 포함한다.First, referring to the first fine elevating means 21 for finely elevating the first rotary support 11 by the spiral operation in the first elevating means 20 and the second elevating means 30, the first The micro lifting means 21 includes a pair of vertical bars 23 coupled to both sides of the first rotary support 11 in a vertical downward direction, a pair of up-down blocks 24 coupled to the vertical bars 23, and The upper portion is helically coupled to the up-down block 24 and the lower portion is a pair of vertical spiral shafts 26 to which the worm wheels 25 are coupled, and a pair of worms engaged with the worm wheels 25 of the vertical spiral shafts 26. A first horizontal axis 27 formed on an axis and rotatably supported, and a handle 28 coupled to one end of the first horizontal axis 27.

그리고 상기 제1회전지지부(11)를 평면캠(34)의 위상조작에 의해 대량승강시키는 제1대량승강수단(31)을 살펴보면, 상기 제1대량승강수단(31)은 각 수직나선축(26)을 캠 조작에 의해 승강시킴으로써, 업다운블럭(24)과 수직바(23) 및 상부 브러시(R1)도 함께 승강시킨다. 이러한, 제1대량승강수단(31)은 각 수직나선축(26)의 일측에 각각 설치되는 한쌍의 캠종동체(33)와, 상기 각 캠종동체(33)의 하측에 캠접촉되는 한쌍의 평면캠(34)과, 상기 각 평면캠(34)을 수평연결하여 회전가능하게 지지되는 제2수평축(35)과, 상기 일측 평면캠(34)에 회전구동력을 제공하는 회전실린더(36)를 포함한다.In addition, when looking at the first mass lifting means 31 for mass lifting the first rotary support 11 by the phase operation of the flat cam 34, the first mass lifting means 31 is a vertical spiral shaft 26 ), The up-down block 24, the vertical bar 23, and the upper brush R1 are also raised and lowered by the cam operation. The first mass lifting means 31 has a pair of cam followers 33 provided on one side of each of the vertical spiral shafts 26, and a pair of planar cams cam-contacted under the cam followers 33, respectively. (34), a second horizontal shaft (35) rotatably supported by horizontally connecting each of the planar cams (34), and a rotating cylinder (36) for providing rotational driving force to the one side cam (34). .

종래 브러시를 구비한 기판 세정장치는 세정챔버의 측벽을 기준으로 제1승강수단(20)과 제2승강수단(30)이 설치되어 있고, 상부 브러시(R1)와 하부 브러시(R2)를 지지하는 회전지지부(11)와 업다운블럭(24)이 수직바(23)에 의해 간접연결되어 있다. 이러한 구조는 상부 브러시(R1)와 하부 브러시(R2)를 안정적으로 지지하지 못하기 때문에 상부 브러시(R1)와 하부 브러시(R2)의 구동시 그 회전력에 의해 발생하는 진동에 취약한 문제점이 있으며, 이로 인해 상부 브러시(R1)와 하부 브러시(R2)가 뒤틀리는 현상이 발생한다. 그리고 기판이 이동하는 방향을 따라 복수개의 상기 세정장치가 설치되는 경우, 세정장치의 과도한 크기로 인해 공간 효율성이 떨어지는 문제점이 있다.In the conventional substrate cleaning apparatus having a brush, the first lifting means 20 and the second lifting means 30 are installed on the sidewall of the cleaning chamber, and support the upper brush R1 and the lower brush R2. The rotary support 11 and the up-down block 24 are indirectly connected by the vertical bar 23. Since the structure does not stably support the upper brush R1 and the lower brush R2, there is a problem in that the upper brush R1 and the lower brush R2 are vulnerable to vibration generated by the rotational force when the upper brush R1 and the lower brush R2 are driven. As a result, the upper brush R1 and the lower brush R2 are distorted. In addition, when a plurality of the cleaning devices are installed along the moving direction of the substrate, there is a problem that space efficiency is lowered due to excessive size of the cleaning device.

상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 고안의 목적은, 세정장치의 중량 및 설치공간을 축소하고, 유지 보수에 소요되는 비용을 절감할 수 있는 대면적 기판 세정장치를 제공하는 데 있다.An object of the present invention devised to solve the above problems is to provide a large-area substrate cleaning apparatus that can reduce the weight and installation space of the cleaning apparatus, and reduce the cost of maintenance.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 고안은, 세정챔버 하부에 위치하며 양끝단에 수직지지대가 설치된 수평 프레임부, 상기 수직지지대 양측면에 각각 상하 구조로 이격설치되어 그 사이로 기판이 통과되는 한쌍의 상부 및 하부 롤브러시, 상기 한쌍의 상부 및 하부 롤브러시의 회전을 가능하게 지지하는 베어링 하우징이 구비된 롤브러시 구동부 및 상기 롤브러시 구동부를 미세승강 및 대량승강시키는 승강수단을 포함한다.The present invention for achieving the above object is a horizontal frame portion located in the lower side of the cleaning chamber and vertical supports are installed at both ends, the upper and lower pairs of spaces respectively installed on both sides of the vertical support, a pair of upper substrates therebetween. And a lower roll brush, a roll brush driving unit having a bearing housing for supporting rotation of the pair of upper and lower roll brushes, and elevating means for elevating and mass lifting the roll brush driving unit.

상기한 바와 같이 본 고안에 따르면, 구조가 단순하고 설치 공간이 축소되고 경량화됨으로써 조작의 편리성이 향상되며, 롤브러시 모듈의 뒤틀림이 방지되어 유지보수에 소요되는 비용이 절감된다. 또한, 롤브러시의 구동시 발생하는 진동이 억제되어 구동의 안정화에 기여하는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, the structure is simple, the installation space is reduced, and the weight is reduced, thus improving the convenience of operation, and the warpage of the roll brush module is prevented, thereby reducing the cost of maintenance. In addition, the vibration generated during the driving of the roll brush is suppressed to contribute to the stabilization of the drive.

첨부한 도면을 참조하여 본 고안에 따른 대면적 기판 세정장치의 바람직한 일실시예에 대해 상세하게 설명한다.With reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of a large-area substrate cleaning apparatus according to the present invention.

도 3은 본 고안의 실시예에 따른 대면적 기판 세정장치를 개략적으로 나타낸 구성도이다.3 is a schematic view showing a large-area substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 기판 세정이 이루어지는 세정챔버(100) 내부에는 한쌍의 상부 롤브러시(R1, R1') 및 하부 롤브러시(R2, R2')가 설치되며, 세정챔버(100)의 하부에는 수평 프레임부(200)가 위치하고 측부에는 승강수단(400)이 설치된다. 이러한 구조는 수평 프레임부(200)를 기준으로 조립 및 설치됨으로써 기존의 세정장치에 비해 롤브러시가 롤브러시 구동부(300)에 의해 회전하게 되면 롤브러시의 뒤틀림 현상을 방지하여 유지 보수에 소요되는 비용을 절감하고, 따라서 안정적으로 롤브러시가 구동되는 것을 가능하게 한다.Referring to FIG. 3, a pair of upper roll brushes R1 and R1 ′ and lower roll brushes R2 and R2 ′ are installed in the cleaning chamber 100 where substrate cleaning is performed, and a lower portion of the cleaning chamber 100 is provided. Horizontal frame unit 200 is located and the lifting means 400 is installed on the side. This structure is assembled and installed on the basis of the horizontal frame portion 200, when the roll brush is rotated by the roll brush drive unit 300 compared to the conventional cleaning device to prevent the distortion of the roll brush to maintain the cost required for maintenance This makes it possible to drive the roll brush stably.

도 4는 본 고안의 실시예에 따른 대면적 기판 세정장치를 나타낸 사시도이고, 도 5는 본 고안의 실시예에 따른 대면적 기판 세정장치의 부분 확대도이다.4 is a perspective view showing a large-area substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is a partial enlarged view of a large-area substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4 및 도 5를 참조하면, 본 고안의 실시예에 따른 대면적 기판 세정장치는 세정챔버의 하부에 위치한 수평 프레임부(200), 세정챔버 내부에 설치되는 상부 롤브러시(R1, R1') 및 하부 롤브러시(R2, R2'), 상기 롤브러시를 구동하는 롤브러시 구동부(300) 및 상기 롤브러시 구동부(300)를 승강시키는 승강수단(400)을 포함한 다.4 and 5, the large-area substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention includes a horizontal frame part 200 positioned below the cleaning chamber, and upper roll brushes R1 and R1 ′ installed inside the cleaning chamber. And lifting means 400 for elevating and lowering the lower roll brushes R2 and R2 ', the roll brush driving unit 300 for driving the roll brush, and the roll brush driving unit 300.

상기 수평 프레임부(200)는 세정챔버 하부에 설치되며 양끝단에 수직지지대(210)가 설치된다. 그리고 한쌍의 상부 롤브러시(R1, R1') 및 하부 롤브러시(R2, R2')가 상기 수직지지대(210) 양측면에 각각 상하 구조로 이격설치되며 그 사이로 통과되는 기판의 표면을 가압하여 이물질 및 파티클을 제거하는 세정이 이루어진다. 이와 같이 수평 프레임부(200)를 기준으로 수직지지대(210)가 설치되고, 그 수직지지대(210)에 롤브러시 구동부(300)가 설치됨으로써 한쌍의 상부 롤브러시(R1, R1') 및 하부 롤브러시(R2, R2')의 뒤틀림을 방지할 수 있다.The horizontal frame part 200 is installed under the cleaning chamber and vertical supports 210 are installed at both ends. And a pair of upper roll brush (R1, R1 ') and lower roll brush (R2, R2') are installed on both sides of the vertical support 210 in the vertical structure spaced apart and press the surface of the substrate passed between the foreign matter and A cleaning is done to remove the particles. As such, the vertical support 210 is installed based on the horizontal frame part 200, and the roll brush driving unit 300 is installed on the vertical support 210 so that the pair of upper roll brushes R1 and R1 ′ and the lower roll are installed. Distortion of the brushes R2 and R2 'can be prevented.

상기 롤브러시 구동부(300)는 한쌍의 상부 롤브러시(R1, R1') 및 하부 롤브러시(R2, R2')의 회전을 가능하게 한다. 또한 롤브러시 구동부(300)에는 상기 롤브러시를 지지하는 베어링 하우징(310)과 구동모터가 상기 롤브러시 구동부 일측에 설치된다.The roll brush driving unit 300 enables the rotation of the pair of upper roll brushes R1 and R1 'and the lower roll brushes R2 and R2'. In addition, the roll brush driving unit 300 is a bearing housing 310 for supporting the roll brush and the drive motor is installed on one side of the roll brush driving unit.

상기 승강수단(400)은 롤브러시 구동부(300)를 미세승강시키는 제1승강수단(410)와 상기 롤브러시 구동부(300)를 대량 승강시키는 제2승강수단(420)을 포함한다.The elevating means 400 includes a first elevating means 410 for elevating the roll brush drive 300 and a second elevating means 420 for elevating the roll brush drive 300 in large quantities.

상기 제1승강수단(410)은 롤브러시 구동부(300)를 업다운시키는 LM 블럭(411), 상기 LM 블럭(411) 하단에 위치한 업다운 블럭(413), 상단부 및 하단부가 각각 업다운 블럭(413)과 웜휠(415)에 결합된 수직나선축(414), 상기 수직나선축(414)의 웜휠(415)에 치합되는 웜(415a)이 축선상에 형성되어 회전가능하게 지지되는 제1수평축(416) 및 제1수평축에 결합되는 핸들(417)을 포함한다.The first elevating means 410 is an LM block 411 for up and down the roll brush drive unit 300, an up-down block 413 located at the bottom of the LM block 411, and an up-down block 413 and an up-down block 413 respectively. A vertical spiral shaft 414 coupled to the worm wheel 415 and a worm 415a engaged with the worm wheel 415 of the vertical spiral shaft 414 are formed on the axis to be rotatably supported by the first horizontal shaft 416. And a handle 417 coupled to the first horizontal axis.

이와 같이 구성되는 제1승강수단(410)에 의한 롤브러시 구동부(300)의 미세승강과정을 살펴본다.It looks at the fine lifting process of the roll brush drive unit 300 by the first lifting means 410 configured as described above.

미세승강과정은 롤브러시와 기판과의 간격을 미세조절하는 것으로, 핸들(417)을 회전조작하여 제1수평축(416)을 회전조작하면, 제1수평축(416)의 축선상에 형성된 웜(415a)과 치합되는 웜휠(415)도 회전한다. 이와 같이 웜휠(415)이 회전하면, 웜휠(415)에 하단부가 결합된 수직나선축(414)도 함께 회전한다. 최종적으로, 수직나선축(414)의 상단부와 나선결합되는 업다운 블럭(416)이 수직나선축(414)의 나선부를 따라 승강되고, 업다운 블럭(413)과 결합된 LM 블럭(411) 및 롤브러시도 승강된다.The micro-elevation process is to finely control the distance between the roll brush and the substrate. When the handle 417 is rotated to rotate the first horizontal axis 416, the worm 415 a formed on the axis of the first horizontal axis 416. Worm wheel 415 is also rotated. As the worm wheel 415 rotates as described above, the vertical spiral shaft 414 coupled to the worm wheel 415 at the lower end thereof also rotates. Finally, the up-down block 416, which is spirally coupled to the upper end of the vertical spiral shaft 414, is elevated along the helix of the vertical spiral shaft 414, and the LM block 411 and the roll brush combined with the up-down block 413. Is also elevated.

상기 제2승강수단(420)는 상기 수직나선축(414)의 일측에 결합되는 캠종동체(421), 캠종동체(421)의 하측에 캠접촉되는 평면캠(422), 평면캠(422)을 수평연결하여 회전가능하게 지지하는 제2수평축(423) 및 평면캠(422)에 회전구동력을 제공하는 회전실린더(424)를 포함한다.The second lifting means 420 has a cam follower 421 coupled to one side of the vertical spiral shaft 414, a flat cam 422 and a flat cam 422 contacted to a lower side of the cam follower 421. It includes a second horizontal axis (423) for supporting the rotatable horizontally and the rotation cylinder 424 for providing a rotational driving force to the planar cam (422).

이와 같이 구성되는 제2승강수단(420)에 의한 롤브러시 구동부(300)의 대량승강과정을 살펴본다.The mass lifting process of the roll brush driving unit 300 by the second lifting means 420 configured as described above will be described.

대량승강과정은 롤브러시간의 간격을 일시에 최대한 이격시켜 기기의 유지보수를 수행하기 위한 것으로, 회전실린더(424)에 구동력을 제공하여 회전실린더(424) 구동축이 회전되면, 이 회전구동력이 제2수평축(423)을 통해 전달되어 구동풀리(도시되지 않음)와 구동벨트(426)가 회전되고 평면캠(422)의 일측에 결합된 종동풀리(427)도 회전하여 평면캠(422)의 위상이 전환된다. 이때, 상기 평면 캠(422)에 의해 너트블럭(418)은 일측에 결합된 LM 가이드(412)를 따라 승강되고 동시에 업다운 블럭(413)을 승강시켜 상기 업다운 블럭(413) 상단에 결합된 LM 블럭(411)이 승강된다. 최종적으로 상기 LM 블럭(413)의 일측에 결합된 롤브러시 구동부(300)가 승강된다.Mass lifting process is to perform the maintenance of the equipment by spaced apart the interval of the roll brush time at a time, and when the drive shaft of the rotation cylinder 424 is rotated by providing a driving force to the rotation cylinder 424, this rotation driving force is a second The driving pulley (not shown) and the driving belt 426 are rotated through the horizontal shaft 423, and the driven pulley 427 coupled to one side of the flat cam 422 is also rotated, so that the phase of the flat cam 422 is rotated. Is switched. At this time, the nut block 418 is lifted along the LM guide 412 coupled to one side by the planar cam 422 and at the same time by lifting the up-down block 413, the LM block coupled to the top of the up-down block 413. 411 is elevated. Finally, the roll brush driving unit 300 coupled to one side of the LM block 413 is elevated.

이상에서는 본 고안을 바람직한 실시예에 의거하여 설명하였으나, 본 고안의 기술적 사상은 이에 한정되지 아니하고 청구항에 기재된 범위 내에서 변형이나 변경 실시가 가능함은 본 고안이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백한 것이며, 그러한 변형이나 변경은 첨부된 실용신안등록청구범위에 속한다 할 것이다.In the above described the present invention based on the preferred embodiment, but the technical idea of the present invention is not limited to this and can be modified or changed within the scope described in the claims are those skilled in the art. It will be apparent to those skilled in the art that such modifications and variations fall within the scope of the appended claims.

도 1은 종래의 브러시를 구비한 기판 세정장치를 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view showing a substrate cleaning apparatus having a conventional brush.

도 2는 종래의 브러시를 구비한 기판 세정장치에서 승강수단을 나타낸 부분 확대도이다.Figure 2 is a partially enlarged view showing the lifting means in the substrate cleaning apparatus with a conventional brush.

도 3은 본 고안의 실시예에 따른 대면적 기판 세정장치를 개략적으로 나타낸 구성도이다.3 is a schematic view showing a large-area substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 고안의 실시예에 따른 대면적 기판 세정장치를 나타낸 사시도이다.4 is a perspective view showing a large-area substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 고안의 실시예에 따른 대면적 기판 세정장치에서 승강수단을 나타낸 부분 확대도이다.Figure 5 is a partially enlarged view showing the lifting means in the large-area substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 세정챔버 200: 수평 프레임부100: cleaning chamber 200: horizontal frame portion

210: 수직지지대 300: 롤브러시 구동부210: vertical support 300: roll brush drive unit

310: 베어링 하우징 400: 승강수단310: bearing housing 400: lifting means

410: 제1승강수단 411: LM 블럭410: first lifting means 411: LM block

412: LM 가이드 413: 업다운 블럭412: LM Guide 413: Up-Down Blocks

414: 수직나선축 415: 웜휠414: vertical spiral axis 415: worm wheel

415a: 웜 416: 제1수평축415a: worm 416: first horizontal axis

417: 핸들 420: 제2승강수단417: handle 420: second lifting means

421: 캠종동체 422: 평면캠421: cam follower 422: flat cam

423: 제2수평축 424: 회전실린더423: second horizontal axis 424: rotating cylinder

R1: 제1상부 롤브러시 R1': 제2상부 롤브러시R1: first upper roll brush R1 ': second upper roll brush

R2: 제1하부 롤브러시 R2': 제2하부 롤브러시R2: first lower roll brush R2 ': second lower roll brush

Claims (4)

세정챔버 하부에 위치하며 양끝단에 수직지지대가 설치된 수평 프레임부;A horizontal frame part disposed below the cleaning chamber and having vertical supports installed at both ends thereof; 상기 수직지지대 양측면에 각각 상하 구조로 이격설치되어 그 사이로 기판이 통과되는 한쌍의 상부 및 하부 롤브러시;A pair of upper and lower roll brushes installed on both sides of the vertical support in a vertical structure so as to pass the substrate therebetween; 상기 한쌍의 상부 및 하부 롤브러시의 회전을 가능하게 지지하는 베어링 하우징이 구비된 롤브러시 구동부; 및A roll brush driving unit having a bearing housing for supporting rotation of the pair of upper and lower roll brushes; And 상기 롤브러시 구동부를 미세승강 및 대량승강시키는 승강수단을 포함하는 대면적 기판 세정장치.A large area substrate cleaning device comprising elevating means for fine elevating and mass elevating the roll brush driving unit. 제1항에 있어서, 상기 승강수단은,According to claim 1, The lifting means, 상기 롤브러시 구동부를 나선조작에 의해 미세승강시키는 제1승강수단; 및First elevating means for elevating the roll brush drive part by spiral operation; And 상기 롤브러시 구동부를 평면캠의 위상조작에 의해 대량승강시키는 제2승강수단을 포함하는 대면적 기판 세정장치.And a second elevating means for elevating the roll brush drive part by a phase operation of the planar cam. 제2항에 있어서, 상기 제1승강수단은,The method of claim 2, wherein the first lifting means, 상기 베어링 하우징 일측면에 결합되고 상기 수직지지대의 일측면에 설치된 LM 가이드를 따라 이동하여 상기 롤브러시 구동부의 업다운을 가능하게 하는 LM 블 럭;An LM block coupled to one side of the bearing housing and moving up and down along the LM guide installed on one side of the vertical support to enable up and down of the roll brush drive unit; 상기 LM 블럭 하단에 위치하는 업다운 블럭;An up-down block located below the LM block; 상단부는 상기 업다운 블럭에 나선결합되고, 하단부는 윔휠에 결합되는 수직나선축;An upper end spirally coupled to the up-down block, and a lower end vertical spiral shaft coupled to the wheel; 상기 수직나선축의 웜휠에 치합되는 웜이 축선상에 형성되어 회전가능하게 지지되는 제1수평축; 및A first horizontal shaft on which an worm engaged with the worm wheel of the vertical spiral shaft is formed on an axis and rotatably supported; And 상기 제1수평축의 일단에 결합되는 핸들을 포함하는 대면적 기판 세정장치.And a handle coupled to one end of the first horizontal axis. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 제2승강수단은,The method of claim 2 or 3, wherein the second lifting means, 상기 수직나선축의 일측에 설치되는 캠종동체;A cam follower installed on one side of the vertical spiral shaft; 상기 캠종동체의 하측에 캠접촉되는 평면캠;A flat cam in cam contact with a lower side of the cam follower; 상기 평면캠을 수평연결하여 회전가능하게 지지하는 제2수평축; 및A second horizontal shaft rotatably supporting the flat cam by horizontally connecting the flat cam; And 상기 평면캠에 회전구동력을 제공하는 회전실린더를 포함하는 대면적 기판 세정장치.Large-area substrate cleaning apparatus including a rotation cylinder for providing a rotational driving force to the planar cam.
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