KR20200055414A - Method for manufacturing of metal shadow mask, and metal shadow mask manufactured by thereof - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a shadow mask and a shadow mask manufactured thereby. The method includes the steps of: preparing a thin metal sheet; attaching a discarded substrate to at least one of both sides of the thin metal plate; patterning the metal thin plate and the discarded substrate by a laser according to a preset standard; separating the discarded substrate, or preparing the metal thin plate; providing a container containing an etchant to a certain height so that the thin metal plate can be immersed; patterning the metal thin plate according to a preset standard by a laser while the metal thin plate is immersed in the container; and performing the etching with the etchant. The shadow mask may be manufactured by the above-described manufacturing method.

Description

쉐도우 마스크의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 쉐도우 마스크{Method for manufacturing of metal shadow mask, and metal shadow mask manufactured by thereof}Method for manufacturing shadow mask and shadow mask manufactured by this manufacturing method {Method for manufacturing of metal shadow mask, and metal shadow mask manufactured by thereof}

본 발명은 쉐도우마스크의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 쉐도우마스크에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 대면적 쉐도우마스크를 단위 쉐도우마스크로 절단하는 과정에서 레이저에 의해 절단하되, 쉐도우마스크의 전단 면에 버(Burr)가 발생되지 않도록 하는 쉐도우마스크의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 쉐도우마스크에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a shadow mask and a shadow mask manufactured by the manufacturing method, and more specifically, a large area shadow mask is cut by a laser in the process of cutting into a unit shadow mask, but the front end surface of the shadow mask It relates to a method of manufacturing a shadow mask to prevent the generation of burr and the shadow mask manufactured by the manufacturing method.

일반적으로, OLED(Organic Light Emitting Diode) 등과 같은 표시 장치의 제조 공정에 사용되는 쉐도우마스크는, 메탈 박판에 구멍을 뚫어 기판상에 선택적으로 OLED용 유기물을 성막하는 구조물이다.In general, a shadow mask used in the manufacturing process of a display device such as an OLED (Organic Light Emitting Diode) is a structure for forming an organic material for OLED selectively on a substrate by drilling holes in a thin metal plate.

이러한 쉐도우마스크는, 진공증착 공정을 수행함에 있어서, 중요한 부분을 차지하는 것으로서, 패턴이 필요한 부분은 증착을 시키고, 패턴이 필요 없는 부분은 막을 형성하여 증착이 되지 않도록 특정한 패턴막을 형성시키는 증착 공정에 제공된다.Such a shadow mask, as an important part in performing the vacuum deposition process, provides a deposition process in which a part requiring a pattern is deposited, and a part without a pattern is formed to form a film to prevent deposition. do.

도 1은 종래 기술에 따른 쉐도우마스크를 제조하는 공정을 개략적으로 도시한 것으로서, 도 1 (a)에 도시된 바와 같이 메탈 박판(1) 상에 드라이 필름층(2)을 형성하고 도 1 (b)에 도시된 바와 같이 그 상부에 패턴층(3)을 형성시킨다.1 schematically illustrates a process for manufacturing a shadow mask according to the prior art, as shown in FIG. 1 (a), forming a dry film layer 2 on the metal thin plate 1 and FIG. 1 (b) ), A pattern layer 3 is formed thereon.

그리고, 패턴층(3)이 형성된 상태에서 노광 공정과 현상 공정을 통해 도 1의 (c)에 도시된 바와 같이 드라이 필름층(2)에 쉐도우마스크의 패턴을 형성시키기 위하여 포토레지스트 패턴(4)을 형성시킨다.Then, in the state in which the pattern layer 3 is formed, the photoresist pattern 4 is formed to form a pattern of a shadow mask on the dry film layer 2 as shown in FIG. 1 (c) through an exposure process and a development process. To form.

쉐도우마스크의 패턴을 형성시키기 위한 포토레지스트 패턴(4)이 형성되면 에칭 공정을 통한 습식 식각(Wet etch)으로 메탈 박판(1) 상에서 포토레지스트 패턴(4)이 형성된 이외의 부분을 식각하여 쉐도우마스크의 패턴을 형성시키고, 포토레지스트 패턴(4)을 제거하면 상기 도 1의 (d)에 도시된 바와 같이 쉐도우마스크(5)의 제작이 완료된다.When the photoresist pattern 4 for forming the pattern of the shadow mask is formed, a shadow mask is etched by wet etching through an etching process to etch a portion other than the photoresist pattern 4 formed on the metal thin plate 1 When the pattern of is formed and the photoresist pattern 4 is removed, the production of the shadow mask 5 is completed as shown in FIG. 1 (d).

이와 같은 에칭 공정을 통한 종래기술에 따른 쉐도우마스크의 제조방법은 에칭 공정으로 인한 인체 및 자연계 환경에 유해한 유해 물질이 배출되어 환경 오염에 큰 문제로 대두되고 있다. The manufacturing method of the shadow mask according to the prior art through such an etching process has emerged as a major problem in environmental pollution because harmful substances harmful to the human body and the natural environment due to the etching process are discharged.

상기와 같은 환경 오염을 제거하기 위한 종래기술로서 레이저 가공을 통한 쉐도우마스크를 제조하는 방법이 제안되었는데, 도 2는 종래기술에 따른 레이저 가공을 통한 쉐도우마스크를 제조하는 공정을 도시한다.A method of manufacturing a shadow mask through laser processing has been proposed as a prior art for removing environmental pollution as described above, and FIG. 2 shows a process for manufacturing a shadow mask through laser processing according to the prior art.

도 2를 참조하여 종래기술에 따른 레이저 가공을 통한 쉐도우마스크를 제조하는 공정을 살펴보면, 상기 도 2의 (a)에 도시된 바와 같이 메탈 박판(6)의 상부에 레이저 레이저 가공기(9)를 위치시키고, 레이저 가공기(9)를 통해 기 설정된 패턴의 형태에 따라 레이저 가공기(9)가 메탈 박판(6)을 가공하여 상기 도 2의 (b)에 도시된 바와 같이 쉐도우마스크(7)가 제조된다.Looking at the process of manufacturing a shadow mask through laser processing according to the prior art with reference to FIG. 2, as shown in (a) of FIG. 2, the laser laser processing machine 9 is positioned on the top of the metal thin plate 6 And the laser processing machine 9 processes the metal thin plate 6 in accordance with the shape of a predetermined pattern through the laser processing machine 9, so that the shadow mask 7 is manufactured as shown in FIG. 2 (b). .

그러나 이와 같은 레이저 가공을 통한 쉐도우마스크를 제조하는 방법에 의하면, 미세패턴의 가공시에 얇은 모재의 열변형이 발생되고 또한 패턴 가공시에 레이저 가공기의 움직임으로 모서리의 각짐 및 직진성에 대한 문제가 발생된다. However, according to the method of manufacturing a shadow mask through such laser processing, thermal deformation of a thin base material occurs during the processing of a fine pattern, and also a problem of angularity and straightness of edges due to the movement of the laser processing machine during pattern processing. do.

나아가서 상기와 같은 종래기술에 따른 제조 방법에 의해 쉐도우마스크를 제작하는 경우에, 쉐도우마스크의 얇은 선폭과 얇은 간격으로 인하여 패턴을 유지하는 폭이 좁아져 쉐도우마스크의 패턴이 처짐 또는 휘는 현상이 발생되며, 특히 쉐도우마스크가 대형화될수록 이와 같은 현상은 더욱 커지게 되어 미세한 선폭을 갖는 쉐도우마스크의 제조가 어려워지는 문제점이 있었다.Furthermore, when the shadow mask is manufactured by the manufacturing method according to the prior art as described above, the width of maintaining the pattern is narrowed due to the thin line width and the thin gap of the shadow mask, resulting in sagging or bending of the pattern of the shadow mask. In particular, the larger the size of the shadow mask, the more such a phenomenon becomes, and thus there is a problem in that it is difficult to manufacture a shadow mask having a fine line width.

또한, 식각에 의해 메탈 박판의 패터닝 공정을 수행하게 되는 경우, OLED용 기판의 사이즈가 커지게 되면서 식각에 필요한 장비도 커져야 되고, 투자 및 장비적 한계에 부딪치게 된다.In addition, when the metal thinning patterning process is performed by etching, as the size of the OLED substrate increases, the equipment required for etching also needs to be increased, and investment and equipment limitations are encountered.

한편, 레이저 가공에 의하여 메탈 박판을 패터닝하는 공정을 수행하는 경우 도 3에 도시된 바와 같이, 메탈 박판(10)의 전단 면(12) 양 단부 측에 레이저 절단에 의한 버(Burr)(14)가 발생되어 표시 장치와 척킹에 의한 밀착 시 상기 버(14)에 의해 표시 장치의 일 면에 스크래치 등의 손상을 입히게 되는 등의 문제점이 있었다.On the other hand, when performing the process of patterning the metal thin plate by laser processing, as shown in FIG. 3, burrs (14) by laser cutting on both ends of the front end surface 12 of the metal thin plate 10 There was a problem in that when the display device is in close contact with the chucking, damage such as scratches is caused to one surface of the display device by the burrs 14.

한국공개특허 10-2016-0101675호(2016.08.25.)Korean Patent Publication No. 10-2016-0101675 (2016.08.25.) 한국공개특허 10-2017-0007705호(2017.01.19.)Korean Patent Publication No. 10-2017-0007705 (2017.01.19.)

본 발명은 상기와 같은 제반 문제점들에 착안하여 안출된 것으로서, 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 레이저에 의하여 박막의 메탈 박판을 패터닝하여 정밀한 규격에 맞게 패터닝이 이루어지도록 하되, 레이저에 의한 패터닝 시 발생할 수 있는 버(Burr)의 발생 없이 매끈한 전단 면을 갖도록 패터닝 공정을 수행할 수 있는 쉐도우마스크의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 쉐도우마스크를 제공하는 것이다.The present invention has been devised in view of the above-mentioned problems, and the technical problem to be solved by the present invention is to pattern a metal thin plate of a thin film by a laser so that it is patterned to a precise standard, but is patterned by a laser. It is to provide a manufacturing method of a shadow mask capable of performing a patterning process so as to have a smooth shear surface without generating burrs that may occur at the time, and to provide a shadow mask manufactured by the manufacturing method.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 쉐도우마스크의 제조방법은, (a) 메탈 박판을 준비하는 단계; (b) 상기 메탈 박판의 양 면 중, 적어도 어느 한쪽의 일 면에 버림 기판을 부착시키는 단계; (c) 상기 메탈 박판과 상기 버림 기판을 미리 설정된 규격에 맞게 레이저로서 패터닝하는 단계; 및 (d) 상기 버림 기판을 분리하는 단계를 포함할 수 있다.Method for manufacturing a shadow mask according to an embodiment of the present invention for solving the above problems, (a) preparing a thin metal plate; (b) attaching a discarded substrate to at least one side of at least one of both sides of the thin metal plate; (c) patterning the thin metal plate and the discarded substrate as a laser according to a preset standard; And (d) separating the discard substrate.

이 경우, 상기 (b) 단계에서, 상기 메탈 박판의 양 면 중, 표시 장치와 척킹에 의해 면 접촉이 이루어지는 일 면에만 버림 기판을 부착시킬 수 있다.In this case, in step (b), a discarded substrate may be attached to only one surface of the metal thin plate that is in contact with the display device by chucking.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른 쉐도우마스크의 제조방법은, (a) 메탈 박판을 준비하는 단계; (b) 상기 메탈 박판이 담길 수 있도록 일정 높이의 식각 액이 담긴 용기를 구비하는 단계; (c) 상기 용기에 상기 메탈 박판을 담근 상태에서, 레이저에 의해 미리 설정된 규격에 맞게 패터닝하는 단계; 및 (d) 상기 식각 액에 의해 식각을 실시하는 단계를 포함할 수도 있다.In addition, the method of manufacturing a shadow mask according to an embodiment of the present invention, (a) preparing a thin metal plate; (B) providing a container containing a predetermined height of the etchant so that the metal thin plate can be contained; (c) in the state in which the metal thin plate is immersed in the container, patterning according to a preset specification by a laser; And (d) performing etching with the etching solution.

한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 쉐도우마스크의 제조방법에 의해 제조된 쉐도우마스크는, 상기한 쉐도우마스크의 제조방법에 의해 절단 공정을 수행하여 제조될 수 있다.On the other hand, a shadow mask manufactured by the method for manufacturing a shadow mask according to an embodiment of the present invention for solving the above problems may be manufactured by performing a cutting process by the above-described method for manufacturing a shadow mask.

여기서, 상기 메탈 박판의 전단 면에는 버의 발생 없이 매끈한 면을 이룰 수 있다.Here, a smooth surface can be formed on the front surface of the thin metal plate without generating burrs.

본 발명의 기타 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Other specific matters of the present invention are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 실시 예에 따른 쉐도우마스크의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 쉐도우마스크에 의하면, 레이저에 의하여 박막의 메탈 박판이 절단되어 정밀한 규격에 맞게 절단이 이루어지되, 레이저에 의한 절단 시 발생할 수 있는 버(Burr)의 발생 없이 매끈한 전단 면을 갖는 쉐도우마스크가 제조됨에 따라 별도의 연마 공정을 수행하지 않아도 됨으로써, 제조 공정이 단순화되어 제조비용이 절감되고 작업성 및 생산성이 향상되는 효과가 제공될 수 있다.According to the manufacturing method of the shadow mask according to the embodiment of the present invention and the shadow mask manufactured by the manufacturing method, the metal thin plate of the thin film is cut by a laser to cut according to a precise standard, but may occur when cutting by a laser As a shadow mask having a smooth shear surface is produced without the occurrence of burrs, it is not necessary to perform a separate polishing process, thereby simplifying the manufacturing process, thereby reducing manufacturing costs and improving workability and productivity. Can be.

또한, 메탈 박판을 레이저에 의해 정밀한 규격에 맞게 신속히 절단하는 공정을 수행할 수 있게 됨으로써, 규격의 오차 발생 우려가 불식되어 불량률을 줄일 수 있는 효과도 제공될 수 있다.In addition, by being able to perform a process of rapidly cutting a thin metal sheet to a precise standard by a laser, fear of an error in the specification can be eliminated and an effect of reducing a defect rate may be provided.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present specification.

도 1은 종래에 쉐도우마스크를 제조하는 공정을 순차적으로 도시한 공정도.
도 2는 종래에 쉐도우마스크를 제조하는 다른 공정을 순차적으로 도시한 공정도.
도 3은 도 2의 공정에 의해 형성된 전단 면을 개략적으로 도시한 부분 단면도.
도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 패터닝 공정의 순서도.
도 5는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 패터닝 공정과, 이 패터닝 공정에 의해 형성되는 전단 면을 개략적으로 도시한 부분 단면도.
도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 패터닝 공정의 순서도.
도 7은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 패터닝 공정과, 이 패터닝 공정에 의해 형성되는 전단 면을 개략적으로 도시한 부분 단면도.
도 8은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 패터닝 공정의 순서도.
도 9는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 패터닝 공정과, 이 패터닝 공정에 의해 형성되는 전단 면을 개략적으로 도시한 부분 단면도.1 is a process diagram sequentially showing a process for manufacturing a shadow mask in the prior art.
Figure 2 is a process diagram sequentially showing another process for manufacturing a shadow mask in the prior art.
Figure 3 is a partial cross-sectional view schematically showing the shear surface formed by the process of Figure 2;
4 is a flowchart of a patterning process according to a first embodiment of the present invention.
5 is a partial cross-sectional view schematically showing a patterning process according to a first embodiment of the present invention and a shear surface formed by the patterning process.
6 is a flowchart of a patterning process according to a second embodiment of the present invention.
7 is a partial cross-sectional view schematically showing a patterning process according to a second embodiment of the present invention and a shear surface formed by the patterning process.
8 is a flowchart of a patterning process according to a third embodiment of the present invention.
9 is a partial cross-sectional view schematically showing a patterning process according to a third embodiment of the present invention and a shear surface formed by the patterning process.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention, and methods for achieving them will be clarified with reference to embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and only the embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the holder of the scope of the invention, and the invention is only defined by the scope of the claims. The same reference numerals refer to the same components throughout the specification.

따라서, 몇몇 실시 예에서, 잘 알려진 공정 단계들, 잘 알려진 구조 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다.Thus, in some embodiments, well-known process steps, well-known structures, and well-known techniques are not specifically described in order to avoid obscuring the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 포함한다(comprises) 및/또는 포함하는(comprising)은 언급된 구성요소, 단계 및/또는 동작 이외의 하나 이상의 다른 구성요소, 단계 및/또는 동작의 존재 또는 추가를 배제하지 않는 의미로 사용한다. 그리고, "및/또는"은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.The terminology used herein is for describing the embodiments and is not intended to limit the present invention. In the present specification, the singular form also includes the plural form unless otherwise specified in the phrase. Includes and / or comprising, as used in the specification, does not exclude the presence or addition of one or more other components, steps and / or actions other than the mentioned components, steps and / or actions. Used as. And, “and / or” includes each and every combination of one or more of the mentioned items.

또한, 본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 사시도, 단면도, 측면도 및/또는 개략도들을 참고하여 설명될 것이다. 따라서, 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함되는 것이다. 또한, 본 발명의 실시 예에 도시된 각 도면에 있어서 각 구성 요소들은 설명의 편의를 고려하여 다소 확대 또는 축소되어 도시된 것일 수 있다.In addition, the embodiments described herein will be described with reference to perspective views, sectional views, side views, and / or schematic views, which are ideal exemplary views of the present invention. Therefore, the shape of the exemplary diagram may be modified by manufacturing technology and / or tolerance. Therefore, embodiments of the present invention are not limited to the specific shapes shown, but also include changes in the shape generated according to the manufacturing process. In addition, in each of the drawings shown in the embodiment of the present invention, each component may be slightly enlarged or reduced in view of convenience of description.

이하, 본 발명의 실시 예들에 따른 쉐도우마스크의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조된 쉐도우마스크를 첨부된 예시도면에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a shadow mask according to embodiments of the present invention and a shadow mask manufactured by the manufacturing method will be described in detail based on the attached exemplary drawings.

<제1 실시 예><First Example>

도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 패터닝 공정의 순서도이고, 도 5는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 패터닝 공정과, 이 패터닝 공정에 의해 형성되는 전단 면을 개략적으로 도시한 부분 단면도이다.4 is a flowchart of a patterning process according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a partial cross-sectional view schematically showing a patterning process according to a first embodiment of the present invention and a shear surface formed by the patterning process to be.

도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 패터닝 공정은, 패터닝 공정을 수행하고자 하는 메탈 박판을 준비(S100)하고, 이 메탈 박판의 일 면에 버림 기판을 부착(S110)시킨 후, 레이저를 이용하여 규격에 맞는 치수로 패터닝 공정(S120)을 수행함으로써, 일 측면에 전단 면을 형성할 수 있다.4 and 5, in the patterning process according to the first embodiment of the present invention, a metal thin plate to be subjected to the patterning process is prepared (S100), and a discarded substrate is attached to one surface of the metal thin plate. After (S110), by performing a patterning process (S120) in a dimension conforming to the standard by using a laser, a shear surface may be formed on one side.

이 때, 레이저에 의한 패터닝 공정에 의해 메탈 박판(100)과 부착된 버림 기판(110)의 전단 면(102,112) 단부에는 버(Burr)(104.114)가 발생되는바, 메탈 박판(100)으로부터 버(114)가 발생된 버림 기판(110)을 분리시키게 되면, 메탈 박판(100)의 전단 면(102)은 버의 발생 없이 매끈한 상태의 전단 면을 형성하게 된다.At this time, a burr (104.114) is generated at the ends of the front end surfaces 102 and 112 of the discarded substrate 110 attached to the metal thin plate 100 by the laser patterning process, and the burr from the metal thin plate 100 is generated. When the discarded substrate 110 on which the 114 is generated is separated, the front surface 102 of the metal thin plate 100 forms a smooth front surface without generating burrs.

이 때, 메탈 박판(100)의 전단 면(102) 중, 버림 기판(110)이 부착되었던 일 면에는 버가 발생되지 않지만, 별도로 버림 기판이 부착되지 않았던 타 면에는 버(104)가 발생될 수 있다.At this time, among the front surfaces 102 of the thin metal plate 100, burrs are not generated on one surface to which the discarded substrate 110 is attached, but burrs 104 are generated on the other surface to which the discarded substrate is not separately attached. You can.

여기서, 버림 기판(110)이 부착되었던 일 면은 표시 장치와 척킹에 의해 밀착되어 면 접촉이 이루어지는 면이고, 버림 기판(110)이 부착되지 않았던 타 면은 표시 장치와 척킹에 의해 밀착되지 않는 면이므로, 표시 장치와 척킹에 의해 밀착되어 면 접촉이 이루어지는 일 면에만 버가 발생되지 않도록 버림 기판(110)을 부착시킨 후 레이저에 의해 패터닝 공정을 수행할 수 있다.Here, one surface on which the discarded substrate 110 is attached is a surface that is in close contact with the display device by chucking, and the other surface on which the discarded substrate 110 is not attached is a surface that is not adhered by the display device and the chucking. Therefore, the patterning process may be performed by a laser after attaching the discarding substrate 110 so that burrs are not generated only on one surface in close contact with the display device by chucking.

이와 같이, 메탈 박판(100)의 일 면 즉, 표시 장치와 척킹에 의해 면 접촉을 이루게 되는 일 면에 버림 기판(110)을 부착시킨 후, 레이저에 의해 패터닝 공정을 수행하게 되면, 버림 기판(110)의 전단 면에 버(114)가 발생될 뿐, 메탈 박판(100)에서 표시 장치와 면 접촉을 이루게 되는 일 면에는 버가 발생되지 않음으로써, 표시 장치 등에 스크래치 등을 발생시킬 우려가 불식될 수 있다.As described above, when the discarding substrate 110 is attached to one surface of the metal thin plate 100, that is, one surface that is in contact with the display device by chucking, and the patterning process is performed by laser, the discarding substrate ( The burr 114 is generated only on the front end surface of 110, and the burr is not generated on one surface of the metal thin plate 100 that makes surface contact with the display device, so that there is no fear of causing scratches or the like on the display device. Can be.

따라서, 본 발명의 제1 실시 예에 따르면 종래에서와 같이 식각에 의해 메탈 박판을 패터닝시키지 않고 레이저에 의해 버의 발생 없이 신속하면서도 정밀한 치수에 맞는 규격으로 패터닝시킬 수 있게 됨으로써, 그 패터닝 공정이 간소화되어 전체적인 쉐도우마스크의 제조 공정이 줄어들게 됨은 물론 정밀도 또한 크게 향상될 수 있다.Therefore, according to the first embodiment of the present invention, the patterning process is simplified by being able to pattern the metal thin plate by etching and patterning it to a specification conforming to a fast and precise dimension without generating burrs by laser, as in the prior art. As the overall manufacturing process of the shadow mask is reduced, the precision can be greatly improved.

<제2 실시 예><Second Example>

도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 패터닝 공정의 순서도이고, 도 7은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 패터닝 공정과, 이 패터닝 공정에 의해 형성되는 전단 면을 개략적으로 도시한 부분 단면도이다.6 is a flowchart of a patterning process according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a partial cross-sectional view schematically showing a patterning process according to a second embodiment of the present invention and a shear surface formed by the patterning process to be.

도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 패터닝 공정은, 패터닝 공정을 수행하고자 하는 메탈 박판을 준비(S200)하고, 이 메탈 박판(200)의 양 면에 각각 제1 버림 기판(210) 및 제2 버림 기판(220)을 부착시킨 후, 레이저를 이용하여 규격에 맞는 치수로 패터닝(S220) 공정을 수행함으로써, 일 측면에 전단 면을 형성할 수 있다.6 and 7, in the patterning process according to the second embodiment of the present invention, a metal thin plate to be subjected to the patterning process is prepared (S200), and on both sides of the metal thin plate 200, respectively. After attaching the first discarded substrate 210 and the second discarded substrate 220, a shearing surface may be formed on one side surface by performing a patterning (S220) process with dimensions conforming to a standard using a laser.

이 때, 레이저에 의한 패터닝 공정에 의해 메탈 박판(200)의 양 면에 각각 부착된 제1 버림 기판(210) 및 제2 버림 기판(220)의 전단 면(212,222) 단부에는 버(Burr)(214,2224)들이 발생되는바, 메탈 박판(200)으로부터 각각 버(214,224)들이 발생된 제1 버림 기판(210) 및 제2 버림 기판(220)을 분리(S230)시키게 되면, 메탈 박판(200)의 전단 면(202)은 버의 발생 없이 매끈한 상태의 전단 면을 형성하게 된다.At this time, the ends of the front side 212 and 222 of the first discarded substrate 210 and the second discarded substrate 220 attached to both sides of the metal thin plate 200 by the laser patterning process are burrs ( Bars 214 and 2224 are generated. When separating (S230) the first discarded substrate 210 and the second discarded substrate 220 from which the burrs 214 and 224 are respectively generated from the metal thin plate 200, the metal thin plate 200 ), The shear surface 202 forms a smooth shear surface without generating burrs.

이와 같이, 메탈 박판(200)의 양 면 즉, 표시 장치와 척킹에 의해 면 접촉을 이루게 되는 일 면과 이 일 면의 타 면에 각각 제1 버림 기판(210) 및 제2 버림 기판(220)을 부착시킨 후, 레이저에 의해 패터닝 공정을 수행하게 되면, 제1 버림 기판(210) 및 제2 버림 기판(220)의 전단 면(212,222)에만 버(214,224)가 발생될 뿐, 메탈 박판(200)의 전단 면(202)에는 버가 발생되지 않음으로써, 표시 장치 등에 스크래치 등을 발생시킬 우려가 불식될 수 있다.As described above, the first discarded substrate 210 and the second discarded substrate 220 are respectively provided on both surfaces of the metal thin plate 200, that is, one surface that makes surface contact by the display device and the chucking, and the other surface of the one surface. After attaching, and performing the patterning process by laser, burrs 214 and 224 are generated only on the front end surfaces 212 and 222 of the first discarded substrate 210 and the second discarded substrate 220, and the metal thin plate 200 ) By not generating burrs on the front end surface 202, the fear of causing scratches or the like on the display device may be extinguished.

따라서, 본 발명의 제2 실시 예에 따르면 종래에서와 같이 식각에 의해 메탈 박판을 패터닝시키지 않고 레이저에 의해 버의 발생 없이 신속하면서도 정밀한 치수에 맞는 규격으로 절단시킬 수 있게 됨으로써, 그 패터닝 공정이 간소화되어 전체적인 쉐도우마스크의 제조 공정이 줄어들게 됨은 물론 정밀도 또한 크게 향상될 수 있다.Therefore, according to the second embodiment of the present invention, the patterning process is simplified by being able to cut the metal thin plate by etching to a standard conforming to a quick and precise dimension without generating burrs by laser without patterning the metal sheet by etching. As the overall manufacturing process of the shadow mask is reduced, the precision can be greatly improved.

<제3 실시 예><The third embodiment>

도 8은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 패터닝 공정의 순서도이고, 도 9는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 패터닝 공정과, 이 패터닝 공정에 의해 형성되는 전단 면을 개략적으로 도시한 부분 단면도이다.8 is a flowchart of a patterning process according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a partial cross-sectional view schematically showing a patterning process according to a third embodiment of the present invention and a shear surface formed by the patterning process to be.

도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 패터닝 공정은, 패터닝 공정을 수행하고자 하는 메탈 박판을 준비(S300)하고, 일정 높이의 식각 액이 담긴 용기를 구비한 후, 이 용기에 메탈 박판을 투입(S310)한 다음, 레이저를 이용하여 규격에 맞는 치수로 패터닝 공정을 수행함과 아울러 식각(S320)이 동시에 이루어지도록 함으로써, 일 측면에 전단 면을 형성할 수 있다.8 and 9, the patterning process according to the third embodiment of the present invention prepares a thin metal plate to perform the patterning process (S300), and includes a container containing a predetermined height of etching liquid Thereafter, a metal thin plate is introduced into the container (S310), and then a patterning process is performed using a laser to a dimension conforming to a standard, and etching (S320) is performed at the same time, thereby forming a shear surface on one side. .

따라서, 레이저에 의한 패터닝 공정에 의해 메탈 박판(300)의 전단 면(302)이 형성될 때, 식각이 동시에 이루어지게 됨에 따라 전단 면(302)의 양 측에는 버가 발생되지 않고 식각에 의해 전단 면의 모서리 부위는 전단 면 방향으로 경사지도록 식각 면(304)이 형성되는바, 메탈 박판(300)의 전단 면(302)에는 버가 발생되지 않음으로써, 표시 장치 등에 스크래치 등을 발생시킬 우려가 불식될 수 있다.Therefore, when the shearing surface 302 of the metal thin plate 300 is formed by the patterning process by laser, as the etching is simultaneously performed, burrs are not generated on both sides of the shearing surface 302, and the shearing surface is caused by etching. The edge portion of the etched surface 304 is formed so as to be inclined in the direction of the shearing surface. Since burrs are not generated on the shearing surface 302 of the metal thin plate 300, there is no fear of causing scratches or the like on the display device. Can be.

따라서, 본 발명의 제3 실시 예에 따르면 레이저에 의해 패터닝 공정을 수행할 때, 동시에 식각에 의해 버 발생 부분을 식각시키게 됨으로써, 신속하면서도 정밀한 치수에 맞는 규격으로 패터닝시킬 수 있게 되는바, 그 패터닝 공정이 간소화되어 전체적인 쉐도우마스크의 제조 공정이 줄어들게 됨은 물론 정밀도 또한 크게 향상될 수 있다.Therefore, according to the third embodiment of the present invention, when performing a patterning process by a laser, the burr-generating part is etched by etching at the same time, so that it can be patterned into a standard that meets the rapid and precise dimensions. As the process is simplified, the manufacturing process of the entire shadow mask is reduced, and precision can be greatly improved.

본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will appreciate that the present invention may be implemented in other specific forms without changing its technical spirit or essential features. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the above detailed description, and it should be interpreted that all changes or modified forms derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts thereof are included in the scope of the present invention. do.

<제1 실시 예>
100 : 메탈 박판 102 : 전단 면
104 : 버 110 : 버림 기판
112 : 전단 면 114 : 버
<제2 실시 예>
200 : 메탈 박판 202 : 전단 면
210 : 제1 버림 기판 212 : 전단 면
214 : 버 220 : 제2 버림 기판
222 : 전단 면 224 : 버
<제3 실시 예>
300 : 메탈 박판 302 : 전단 면
304 : 식각 면 310 : 용기
320 : 식각액<First Example>
100: metal thin plate 102: shear surface
104: Ver 110: Discard substrate
112: shear surface 114: bur
<Second Example>
200: metal thin plate 202: shear surface
210: first discarded substrate 212: shear surface
214: Ver 220: Second discard substrate
222: shear surface 224: bur
<The third embodiment>
300: thin metal plate 302: shear surface
304: etching surface 310: container
320: etching solution

Claims (5)

(a) 메탈 박판을 준비하는 단계;
(b) 상기 메탈 박판의 양 면 중, 적어도 어느 한쪽의 일 면에 버림 기판을 부착시키는 단계;
(c) 상기 메탈 박판과 상기 버림 기판을 미리 설정된 규격에 맞게 레이저로서 패터닝하는 단계; 및
(d) 상기 버림 기판을 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우마스크의 제조방법.
(A) preparing a thin metal plate;
(b) attaching a discarded substrate to at least one side of at least one of both sides of the thin metal plate;
(c) patterning the thin metal plate and the discarded substrate as a laser according to a preset standard; And
(d) A method of manufacturing a shadow mask, comprising separating the discarded substrate.
제 1항에 있어서,
상기 (b) 단계에서,
상기 메탈 박판의 양 면 중, 표시 장치와 척킹에 의해 면 접촉이 이루어지는 일 면에만 버림 기판을 부착시키는 것을 특징으로 하는 쉐도우마스크의 제조방법.
According to claim 1,
In step (b),
A method of manufacturing a shadow mask, wherein the discarded substrate is attached to only one surface of the metal thin plate that is in contact with the display device by chucking.
(a) 메탈 박판을 준비하는 단계;
(b) 상기 메탈 박판이 담길 수 있도록 일정 높이의 식각액이 담긴 용기를 구비하는 단계;
(c) 상기 용기에 상기 메탈 박판을 담근 상태에서, 레이저에 의해 미리 설정된 규격에 맞게 패터닝하는 단계; 및
(d) 상기 식각 액에 의해 식각을 실시하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우마스크의 제조방법.
(A) preparing a thin metal plate;
(B) providing a container containing a predetermined height of the etchant so that the thin metal plate can be contained;
(c) in the state in which the metal thin plate is immersed in the container, patterning according to a preset specification by a laser; And
(D) a method of manufacturing a shadow mask, comprising the step of etching with the etching solution.
청구항 1 내지 청구항 3 중, 어느 하나의 청구항에 기재된 쉐도우마스크의 제조방법에 의해 패터닝 공정을 수행하여 제조된 것을 특징으로 하는 쉐도우마스크.
A shadow mask produced by performing a patterning process by the method for manufacturing a shadow mask according to any one of claims 1 to 3.
제 4항에 있어서,
상기 메탈 박판의 전단 면에는 버의 발생 없이 매끈한 면을 이루는 것을 특징으로 하는 쉐도우마스크.
The method of claim 4,
A shadow mask characterized by forming a smooth surface without generating burrs on the front surface of the thin metal plate.
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