KR20200042645A - Motion stage capable of aligning flat products in relatively precise locations - Google Patents
Motion stage capable of aligning flat products in relatively precise locations Download PDFInfo
- Publication number
- KR20200042645A KR20200042645A KR1020180123013A KR20180123013A KR20200042645A KR 20200042645 A KR20200042645 A KR 20200042645A KR 1020180123013 A KR1020180123013 A KR 1020180123013A KR 20180123013 A KR20180123013 A KR 20180123013A KR 20200042645 A KR20200042645 A KR 20200042645A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mounting plate
- slider
- actuator
- posture
- motion stage
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
Abstract
Description
본 발명은 모션 스테이지에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 상하로 직교 이동하는 상부 및 하부 자세조절유닛을 구비함으로써 각 자세조절유닛에 장착되는 장비의 자세를 정밀하게 조절할 수 있는 모션 스테이지에 관한 것이다.The present invention relates to a motion stage, and more particularly, to a motion stage capable of precisely adjusting the posture of equipment mounted to each posture control unit by having upper and lower posture adjustment units orthogonally moving up and down.
모션 스테이지를 이용하여 웨이퍼에 형성된 소자를 글래스 패널에 전사하는 작업을 진행하는 경우, 상측 슬라이더에 웨이퍼를 파지하기 위한 진공 척이 장착되고 하측 슬라이더에 글래스 패널이 장착되는 클램퍼가 설치될 수 있다.When a device formed on a wafer is transferred to a glass panel by using a motion stage, a vacuum chuck for gripping the wafer is mounted on the upper slider and a clamper on which the glass panel is mounted on the lower slider may be installed.
이 경우, 진공척에 파지되는 웨이퍼와 클램퍼에 클램핑되는 글래스 패널 간의 간격은 수 마이크로미터의 매우 좁은 간격을 유지하면서 작업이 이루어지게 된다. 이때 웨이퍼의 소자를 글래스 패널로 전사하기 위해 진공척은 상부 슬라이더에 장착된 상태로 X축 및 Y축을 따라 미리 설정된 거리로 지속적으로 이동 및 반복하게 된다.In this case, the distance between the wafer held by the vacuum chuck and the glass panel clamped by the clamper is maintained while maintaining a very narrow gap of several micrometers. At this time, in order to transfer the elements of the wafer to the glass panel, the vacuum chuck is continuously mounted on the upper slider and continuously moved and repeated at a predetermined distance along the X and Y axes.
그런데 종래의 에어 베어링이 적용된 모션 스테이지는 모션 스테이지 전체에 미세한 진동이 발생할 수 있다. 뿐만 아니라 웨이퍼와 글래스 패널의 간격이 매우 좁고, 진공척이 이동해야 하는 작업 환경에서 웨이퍼와 글래스 패널이 서로 평행한 자세를 유지하지 못하는 경우 상호 접촉하거나 마찰하게 되어 결국 웨이퍼 및 글래스 패널이 파손되는 문제가 있다.However, in the motion stage to which the conventional air bearing is applied, fine vibration may occur in the entire motion stage. In addition, if the distance between the wafer and the glass panel is very narrow and the wafer and the glass panel cannot maintain a parallel posture in a work environment in which the vacuum chuck needs to move, the wafer and the glass panel may be damaged due to mutual contact or friction. There is.
본 발명의 목적은 에어 베어링이 적용되며 X축 및 Y축으로 이동하는 슬라이더와 그 위에 적층되는 X축 및 Y축으로 이동하는 슬라이더에 각각 상부 및 하부 자세조절유닛을 구비함에 따라 각 자세조절유닛에 장착되는 각 장비의 자세를 절대 수평 상태로 각각 조절하거나 서로 평행한 상태로 배치될 수 있도록 정밀한 조절이 가능한 모션 스테이지를 제공하는데 있다.The object of the present invention is applied to each posture control unit as air bearings are applied and the upper and lower posture adjustment units are respectively provided on the sliders moving on the X and Y axes and the sliders moving on the X and Y axes stacked thereon. The present invention is to provide a motion stage capable of precisely adjusting each posture of each equipment to be mounted in an absolute horizontal state or parallel to each other.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 에어 베어링이 적용된 모션 스테이지에 있어서, 베이스; 상기 베이스 상부에 제1 방향을 따라 슬라이딩 배치된 제1 슬라이더; 상기 제1 슬라이더의 상부에 상기 제1 방향의 직각 방향인 제2 방향을 따라 슬라이딩 가능하게 배치된 제2 슬라이더; 상기 제2 슬라이더의 상부에 상기 제1 방향을 따라 슬라이딩 가능하게 배치된 제3 슬라이더; 상기 제3 슬라이더의 상부에 상기 제2 방향을 따라 슬라이딩 가능하게 배치된 제4 슬라이더; 상기 제4 슬라이더에 배치되는 상부 자세조절유닛; 및 상기 제2 슬라이더에 배치되는 하부 자세조절유닛;을 포함하며, 상기 상부 및 하부 자세조절유닛은 각각에 장착되는 제1 장비 및 제2 장비에 각각 고정된 부재들이 상호 평행한 자세를 이루도록 조절하는 것을 특징으로 하는 모션 스테이지를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a motion stage to which an air bearing is applied, comprising: a base; A first slider slidingly disposed in a first direction on the base; A second slider slidably disposed on the upper portion of the first slider along a second direction perpendicular to the first direction; A third slider slidably disposed along the first direction on an upper portion of the second slider; A fourth slider slidably disposed along the second direction on an upper portion of the third slider; An upper posture adjustment unit disposed on the fourth slider; And a lower posture adjustment unit disposed on the second slider, wherein the upper and lower posture adjustment units adjust members fixed to each of the first and second equipment mounted on each to achieve a parallel posture. It provides a motion stage characterized in that.
상기 상부 자세조절유닛은, 상기 제1 장비가 장착되는 제1 장착 플레이트와, 상기 제1 장착 플레이트를 다양한 각도로 조절하기 위한 제1 내지 제3 엑츄에이터와, 상기 제1 장착 플레이트의 회전 각도를 조절하기 위한 제4 엑츄에이터;를 포함하며, 상기 하부 자세조절유닛은, 제2 장비가 장착되는 제2 장착 플레이트와, 상기 제2 장착 플레이트를 다양한 각도로 조절하기 위한 제5 내지 제7 엑츄에이터와, 상기 제2 장착 플레이트의 회전 각도를 조절하기 위한 제8 엑츄에이터;를 포함할 수 있다.The upper posture adjusting unit, the first mounting plate on which the first equipment is mounted, the first to third actuators for adjusting the first mounting plate at various angles, and the rotation angle of the first mounting plate are adjusted Includes; a fourth actuator for, the lower posture adjustment unit, a second mounting plate on which the second equipment is mounted, and the fifth to seventh actuators for adjusting the second mounting plate at various angles, the It may include a; eighth actuator for adjusting the rotation angle of the second mounting plate.
상기 제1 내지 제3 엑츄에이터는 피에조 엑츄에이터일 수 있다.The first to third actuators may be piezo actuators.
상기 제1 내지 제3 엑츄에이터는, 각각 일측이 상기 제8 엑츄에이터에 의해 회전하는 링 가이드에 고정되고 타측이 탄성핀을 통해 상기 제1 장착 플레이트에 연결될 수 있다.Each of the first to third actuators may be fixed to a ring guide on which one side is rotated by the eighth actuator, and the other side may be connected to the first mounting plate through an elastic pin.
상기 제1 내지 제3 엑츄에이터는 Z축 방향으로 탄성핀을 밀거나 당김으로써 상기 제1 장착 플레이트의 자세를 조절할 수 있다.The first to third actuators can adjust the posture of the first mounting plate by pushing or pulling the elastic pin in the Z-axis direction.
상기 각 탄성핀은 서로 동일한 각도로 이격 배치될 수 있다.The elastic pins may be spaced apart from each other at the same angle.
상기 제4 엑츄에이터는 서로 직교하는 축을 따라 이동하면서 상기 링 가이드를 시계방향 및 반시계방향으로 회전 가능하게 지지하는 제1 동력전달부를 포함할 수 있다.The fourth actuator may include a first power transmission unit rotatably supporting the ring guide clockwise and counterclockwise while moving along an axis orthogonal to each other.
상기 제5 내지 제7 엑츄에이터는 상기 제2 장착 플레이트의 3지점을 각각 캠유닛을 통해 Z축 방향으로 밀거나 당겨 상기 제2 장착 플레이트의 자세를 조절할 수 있다.The fifth to seventh actuators can adjust the posture of the second mounting plate by pushing or pulling three points of the second mounting plate in the Z-axis direction through the cam unit, respectively.
상기 캠유닛은, 상기 엑츄에이터에 의해 직선 이동하며 경사진 가이드레일이 형성된 캠부재; 및 상기 제2 장착 플레이트에 고정되며 상기 가이드레일에 슬라이딩 가능하게 결합된 캠팔로워;를 포함할 수 있다.The cam unit, the cam member is formed by a linear guide rail is inclined by the actuator; And a cam follower fixed to the second mounting plate and slidably coupled to the guide rail.
상기 제8 엑츄에이터는 서로 직교하는 축을 따라 이동하면서 상기 제2 장착 플레이트를 시계방향 및 반시계방향으로 회전 가능하게 연결하는 제2 동력전달부를 포함할 수 있다.The eighth actuator may include a second power transmission unit rotatably connecting the second mounting plate clockwise and counterclockwise while moving along an axis orthogonal to each other.
상기 제2 장착 플레이트는 4코너 측이 각각 다수의 보조지지부에 의해 이동 가능하게 지지되며, 각 보조지지부는, 가이드블록; 상기 가이드블록 상부에 적층되며 서로 직교하는 방향으로 슬라이딩 가능하게 결합되는 한 쌍의 가동블록; 및 상기 한 쌍의 가동블록 중 상측에 위치한 가동블록에 회전 가능하게 결합되며 상기 제2 장착 플레이트와 연결된 원형 베어링;을 포함할 수 있다.The second mounting plate is supported by the four corners to be movable by a plurality of auxiliary supports, and each auxiliary support includes a guide block; A pair of movable blocks stacked on the guide block and slidably coupled in directions perpendicular to each other; And a circular bearing rotatably coupled to the movable block located above the pair of movable blocks and connected to the second mounting plate.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지를 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지를 나타낸 측면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지의 상부 자세조절유닛을 나타낸 분해사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지의 상부 자세조절유닛을 나타낸 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지의 상부 자세조절유닛을 타낸 저면도이다.
도 6 및 도 7은 프레임을 생략한 상태의 상부 자세조절유닛을 나타낸 도면들이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지의 하부 자세조절유닛을 나타낸 분해사시도이다.
도 9 및 도 10은 도 8에 표시된 캠구조와 탄성플레이트 간의 결합구조를 각각 나타낸 분해사시도 및 단면도이다.1 is a perspective view showing a motion stage according to an embodiment of the present invention.
2 is a side view showing a motion stage according to an embodiment of the present invention.
3 is an exploded perspective view showing an upper posture control unit of a motion stage according to an embodiment of the present invention.
4 is a plan view showing an upper posture control unit of a motion stage according to an embodiment of the present invention.
5 is a bottom view showing the upper posture control unit of the motion stage according to an embodiment of the present invention.
6 and 7 are views showing an upper posture adjustment unit in a state in which a frame is omitted.
8 is an exploded perspective view showing a lower posture control unit of a motion stage according to an embodiment of the present invention.
9 and 10 are exploded perspective views and cross-sectional views respectively showing a coupling structure between the cam structure and the elastic plate shown in FIG. 8.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 다양한 실시 예를 보다 상세하게 설명한다. 본 명세서에 기재된 실시 예는 다양하게 변형될 수 있다. 특정한 실시 예가 도면에서 묘사되고 상세한 설명에서 자세하게 설명될 수 있다. 그러나, 첨부된 도면에 개시된 특정한 실시 예는 다양한 실시 예를 쉽게 이해하도록 하기 위한 것일 뿐이다. 따라서, 첨부된 도면에 개시된 특정 실시 예에 의해 기술적 사상이 제한되는 것은 아니며, 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 균등물 또는 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, various embodiments will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described herein can be variously modified. Certain embodiments are depicted in the drawings and may be described in detail in the detailed description. However, the specific embodiments disclosed in the accompanying drawings are only for easy understanding of various embodiments. Therefore, it is to be understood that the technical spirit is not limited by the specific embodiments disclosed in the accompanying drawings, and includes all equivalents or substitutes included in the spirit and technical scope of the invention.
제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이러한 구성요소들은 상술한 용어에 의해 한정되지는 않는다. 상술한 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms including ordinal numbers such as first and second may be used to describe various components, but these components are not limited by the above-described terms. The above-mentioned terms are used only for the purpose of distinguishing one component from other components.
본 명세서에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.In this specification, terms such as "comprises" or "have" are intended to indicate that there are features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification, and one or more other features. It should be understood that the existence or addition possibilities of fields or numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof are not excluded in advance. When an element is said to be "connected" or "connected" to another component, it is understood that other components may be directly connected to or connected to the other component, but other components may exist in the middle. It should be. On the other hand, when a component is said to be "directly connected" or "directly connected" to another component, it should be understood that no other component exists in the middle.
한편, 본 명세서에서 사용되는 구성요소에 대한 "모듈" 또는 "부"는 적어도 하나의 기능 또는 동작을 수행한다. 그리고, "모듈" 또는 "부"는 하드웨어, 소프트웨어 또는 하드웨어와 소프트웨어의 조합에 의해 기능 또는 동작을 수행할 수 있다.On the other hand, "module" or "unit" for a component used in the present specification performs at least one function or operation. And, the "module" or "unit" may perform a function or operation by hardware, software, or a combination of hardware and software.
그 밖에도, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그에 대한 상세한 설명은 축약하거나 생략한다.In addition, in describing the present invention, when it is determined that detailed descriptions of related known functions or configurations may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, detailed descriptions thereof are abbreviated or omitted.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지를 나타낸 사시도 및 측면도이다.1 and 2 are a perspective view and a side view showing a motion stage according to an embodiment of the present invention.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지(10)는 제1 장비가 장착될 수 있는 상부 자세조절유닛(100)과, 제2 장비가 장착될 수 있는 하부 자세조절유닛(200)을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지(10)는 상부 자세조절유닛(100)을 X축 및 Y축을 따라 직선 이동시킬 수 있고, 하부 자세조절유닛(200)을 X축 및 Y축을 따라 직선 이동시킬 수 있다.1 and 2, the
본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지(10)는 베이스(20)와, 베이스(20) 상측에 배치된 하부 직선 이동부와, 하부 직선 이동부 상측에 배치된 상부 직선 이동부와, 상부 및 하부 직선 이동부에 각각 배치된 제1 및 제2 자세조절유닛(100,200)을 포함할 수 있다.The
하부 직선 이동부는 베이스(20) 상면에 평행하게 배치된 한 쌍의 제1 X축 가이드레일(31)과, 한 쌍의 제1 X축 가이드레일(31)에 슬라이딩 가능하게 결합된 제1 슬라이더(33)와, 제1 슬라이더(33) 상면에 배치되며 제1 X축 가이드레일(31)에 직교하는 한 쌍의 제1 Y축 가이드레일(41)과, 한 쌍의 제1 Y축 가이드레일(41)에 슬라이딩 가능하게 결합된 제2 슬라이더(43)를 포함할 수 있다.The lower linear moving part includes a pair of first
상부 직선 이동부는 제2 슬라이더(43) 상면에 평행하게 배치된 한 쌍의 제2 X축 가이드레일(51)과, 한 쌍의 제2 X축 가이드레일(51)에 슬라이딩 가능하게 결합된 제3 슬라이더(53)와, 제3 슬라이더(53) 상면에 배치되며 제2 X축 가이드레일(51)에 직교하는 한 쌍의 제2 Y축 가이드레일(61)과, 한 쌍의 제2 Y축 가이드레일(61)에 슬라이딩 가능하게 결합된 제4 슬라이더(63)를 포함할 수 있다.The upper linear moving part is slidably coupled to a pair of second
이 경우 각 슬라이더는 에어 베어링에 의해 각 가이드레일에 슬라이딩 가능하게 결합된다. 여기서, 에어 베어링은 슬라이더와 가이드레일 사이에 소정의 압력으로 공기를 분사하여 슬라이더와 가이드레일 사이에 형성되는 공지기술에 해당하는 것으로, 슬라이더와 가이드레일 간의 마찰력을 최소화(거의 0에 수렴)할 수 있다.In this case, each slider is slidably coupled to each guide rail by an air bearing. Here, the air bearing corresponds to a known technology formed between the slider and the guide rail by injecting air at a predetermined pressure between the slider and the guide rail, and it is possible to minimize the frictional force between the slider and the guide rail (nearly converge to zero). have.
도 2를 참조하면, 상부 자세조절유닛(100)과 하부 자세조절유닛(200)은 서로 마주하는 측에 각각 제1 장비(1) 및 제2 장비(3)가 설치될 수 있다. 상부 자세조절유닛(100)과 하부 자세조절유닛(200) 사이에 제1 및 제2 장비(1,3)를 설치할 수 있는 공간이 확보되도록, 도 2와 같이, 상부 자세조절유닛(100)과 하부 자세조절유닛(200)은 일정한 간격을 두고 배치된다.Referring to FIG. 2, the first
상부 및 하부 자세조절유닛(100,200)에 장착되는 제1 및 제2 장비(1,3)는 어느 한 종류의 장비에 국한되지 않고 수행하고자 하는 작업에 따라 다양한 장비가 적용될 수 있다.The first and
예를 들어, 웨이퍼에 형성된 소자를 글래스 패널에 전사하는 작업에 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지(10)가 사용되는 경우, 상부 자세조절유닛(100)에 장착되는 제1 장비(1)는 웨이퍼(5)를 파지하기 위한 진공 척일 수 있고, 하부 자세조절유닛(200)에 장착되는 제2 장비(3)는 글래스 패널(7)이 장착되는 클램퍼일 수 있다. 이와 같이 각 장비(1, 3)에 의해 고정되는 제품(웨이퍼, 글래스 패널)들은 평평한 형상(flat shape)으로 이루어질 수 있다.For example, when the
이 경우 본 발명은 전술한 종래의 문제를 해결하기 위해서 웨이퍼(5)와 글래스 패널(7)은 전사 작업 시 절대 수평 자세(즉, 하나의 기준 평면(베이스의 상면)에 대하여 각각 평행하게 배치된 자세)를 유지하는 것이 반드시 필요하다. 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지(10)는 제1 장비(1)가 장착된 상부 자세조절유닛(100)과, 제2 장비(3)가 장착된 하부 자세조절유닛(200)이 임의의 방향 및 각도로 경사지게 자세를 조절할 수 있도록 구성될 수 있다.In this case, the present invention, in order to solve the above-described conventional problems, the
상부 및 하부 자세조절유닛(100,200)은 각각 제1 및 제2 장비(1,3)의 오일러 각(Euler angle)을 조절하고 세타(θ) 방향(Z축 방향을 기준으로 회전하는 방향)의 회전 각도를 조절하여 제1 및 제2 장비에 고정된 구조물(웨이퍼, 글래스 패널)의 자세를 절대 수평 자세로 조절할 수 있다.The upper and lower
이하에서는, 도 2 내지 도 10을 참조하여 상부 자세조절유닛(100) 및 하부 자세조절유닛(200)을 순차적으로 설명한다.Hereinafter, the upper
먼저, 도 3 내지 도 7을 참조하여 상부 자세조절유닛(100)의 구조 및 작동을 설명한다.First, the structure and operation of the upper
도 3 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지의 상부 자세조절유닛을 나타낸 분해사시도, 평면도 및 저면도이고, 도 6 및 도 7은 프레임을 생략한 상태의 상부 자세조절유닛을 나타낸 도면들이다.3 to 5 is an exploded perspective view, a top view and a bottom view showing an upper posture control unit of a motion stage according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 6 and 7 show an upper posture adjustment unit without a frame These are drawings.
상부 자세조절유닛(100)은 도 1과 같이 양측이 각각 한 쌍으로 이루어지는 제4 슬라이더(63)에 결합될 수 있다. 이에 따라, 상부 자세조절유닛(100)은 제4 슬라이더(63)의 상측에 위치하지 않고 제4 슬라이더(63)의 사이에 배치될 수 있어 모션 스테이지(10)의 전체 높이를 낮출 수 있어 종래에 비해 컴팩트하게 제작될 수 있다.The upper
상부 자세조절유닛(100)은 프레임(111)과, 제1 장비(1, 도 2 참조)가 장착되는 제1 장착 플레이트(130)와, 제1 장착 플레이트(130)를 다양한 각도로 조절하기 위한 제1 내지 제3 엑츄에이터(150,160,170)와, 제1 장착 플레이트(130)의 회전 각도를 조절하기 위한 제4 엑츄에이터(180)를 포함할 수 있다.The upper
여기서, 제1 장착 플레이트(130)가 다양한 각도로 조절된다는 것은 제1 장착 플레이트(130)가 제2 장착 플레이트(230)에 대하여 동일한 간격을 유지하면서 상호 평행하게 배치되도록 다양한 각도로 경사지게 조절하는 것을 의미할 수 있다. 또한, 다양한 각도는 3축 회전 각인 오일러 각을 조절함에 따라 구현될 수 있다.Here, the fact that the first mounting plate 130 is adjusted at various angles means that the first mounting plate 130 is adjusted to be inclined at various angles so as to be disposed parallel to each other while maintaining the same distance with respect to the second mounting plate 230. Can mean In addition, various angles can be implemented by adjusting the Euler angle, which is a 3-axis rotation angle.
도 3을 참조하면, 프레임(111)은 대략 사각형으로 이루어지며 내측으로 제1 내지 제4 엑츄에이터(150,160,170,180)가 배치될 수 있다. 프레임(111)은 내측에 배치되는 제1 내지 제4 엑츄에이터(150,160,170,180)를 보호하기 위해 상부에 제1 및 제2 상부 커버(113a,113b)가 배치될 수 있다.Referring to FIG. 3, the
제1 상부 커버(113a)는 프레임(111)에 체결될 수 있고, 제2 상부 커버(113b)는 프레임(111)의 내측에 원형 고정부(112)에 체결될 수 있다.The first
원형 고정부(112) 내측에는 원형 고정부보다 작은 직경을 가지는 원형 지지부(114)가 고정 배치되고, 원형 지지부(114) 내측에는 원형 지지부보다 작은 직경을 가지는 링 가이드(115)가 회전 가능하게 배치될 수 있다.A
도 4를 참조하면, 링 가이드(115)에는 내주면을 따라 일정한 각도로 제1 내지 제3 엑츄에이터(150,160,170)가 배치된다. 이 경우 제1 내지 제3 엑츄에이터(150,160,170)에 각각 연결된 탄성핀(158,168,178)은 서로 동일한 각도(α)로 배열될 수 있다. 본 실시예에서는 3개의 탄성핀(158,168,178)이 서로 동일한 각도로 배열된 것으로 설명하지만 반드시 동일한 각도일 필요는 없으며, 3개의 탄성핀(158,168,178)은 링 가이드(115)의 회전 중심이 각 탄성핀을 잇는 가상의 3각형의 내측에 위치할 수 있도록 배치되면 족하다.Referring to FIG. 4, the first to
3개의 탄성핀(158,168,178)은 각각 연결된 제1 내지 제3 엑츄에이터(150,160,170)의 작동에 따라 Z축 방향을 따라 이동함에 따라 제1 장착 플레이트(116)를 다양한 각도로 경사지게 조절할 수 있다. 즉, 3개의 탄성핀(158,168,178)이 Z축 방향을 따라 이동하면 제1 장착 플레이트(116)의 오일러 각이 조절될 수 있다.The three
제4 엑츄에이터(180)는 원형 고정부(112)의 외측으로 인접하게 배치될 수 있다. 제4 엑츄에이터(180)는 제1 동력전달부(181)를 통해 링 가이드(115)와 연결됨에 따라 링 가이드(115)를 Z축을 중심으로 시계방향 및 반시계방향으로 회전시킬 수 있다.The
도 5를 참조하면, 3개의 탄성핀(158,168,178)에 연결된 제1 장착 플레이트(116)는 링 가이드(115) 내측에 위치할 수 있다.Referring to FIG. 5, the first mounting
제1 장착 플레이트(116)는 외곽이 링 가이드(115) 내주면과 소정 간격을 두고 배치됨에 따라, 제1 내지 제3 엑츄에이터(150,160,170)에 의해 다양한 경사각도를 갖도록 자세가 조절될 때 링 가이드(115)에 간섭되지 않는다.The
도 6 및 도 7을 참조하여, 제1 내지 제4 엑츄에이터(150,160,170,180)의 구조를 설명한다.The structures of the first to
제1 내지 제3 엑츄에이터(150,160,170)는 피에조(piezo) 엑츄에이터로 이루어질 수 있다. 본 실시예에서는 제1 내지 제3 엑츄에이터(150,160,170)가 모두 동일한 구조로 이루어지므로 이하에서는 제1 엑츄에이터(150)에 대해서만 구성을 설명한다.The first to
도 6을 참조하면, 제1 엑츄에이터(150)는 일측(152a)이 링 가이드(115)의 내주면에 대략 수평 방향으로 장착된 제1 지지브라켓(153)에 고정되고, 타측(152b)이 탄성핀(158)이 장착된 제2 지지브라켓(153)에 결합된다.Referring to FIG. 6, the
제1 엑츄에이터(150)는 일측(152a)을 기준으로 타측(152b)이 상방향 또는 하방향으로 소정 각도 기울어지도록 동작하며 탄성핀(158)을 Z축 방향으로 이동시킬 수 있다.The
제2 지지브라켓(153)은 제1 엑츄에이터(150)와 탄성핀(158)을 상호 연결하는 연결부재이다. 탄성핀(158)은 일단이 제2 지지브라켓(153)에 고정되고, 타단이 제1 장착 플레이트(116)에 고정될 수 있다.The
탄성핀(158)은 제1 장착 플레이트(116)의 자세가 조절될 때, 해당 탄성핀(158)이 배치된 제1 장착 플레이트(116)의 일측이 상방향으로 이동하게 되면 제1 엑츄에이터(150)에 전달되는 부하를 최소화하도록 휘어질 수 있는 탄성 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.When the posture of the first mounting
이와 같이 제1 내지 제3 엑츄에이터(150,160,170)는 각각 탄성핀(158,168,178)과 연결되어 있어, 제1 장착 플레이트(116)의 자세를 다양한 경사각으로 조절할 수 있다.As described above, the first to
도 6 및 도 7을 참조하면, 제4 엑츄에이터(180)는 제1 동력전달부(181)를 통해 링 가이드(115)를 시계방향 또는 반시계방향으로 회전시킬 수 있다. 링 가이드(115)가 회전하는 각도는 예를 들면 ±1°정도일 수 있다. 제4 엑츄에이터(180)는 D.C. 기어드 모터일 수 있다.6 and 7, the
제1 동력전달부(181)는 제4 엑츄에이터(180)의 회전축에 볼 스크류 방식으로 연결됨에 따라 직선왕복운동 가능한 제1 가동블록(183a)과, 제1 가동블록에 슬라이딩 가능하게 연결된 제2 가동블록(183b)과, 제2 가동블록(183b)에 결합되어 제2 가동블록과 함께 이동하는 제1 커넥터(185a)를 포함할 수 있다.The first
또한, 제1 동력전달부(181)는 제1 커넥터에 슬라이딩 가능하게 연결된 제3 가동블록(185b)과, 제3 가동블록 하단에 회전 가능하게 배치된 원형 베어링(186)과, 일측이 원형 베어링에 연결되고 타측이 링 가이드(115)의 일측에 연결된 제2 커넥터(187)를 포함할 수 있다.In addition, the first
제1 커넥터(185a) 일측에 연결된 제2 가동블록(183b)과 제1 커넥터(185a) 타측에 연결된 제3 가동블록(185b)은 서로 직교하는 방향으로 슬라이딩 될 수 있다.The second
제1 동력전달부(181)는 제4 엑츄에이터(180) 작동 시 제4 엑츄에이터(180)의 동력을 이용하여 링 가이드(115)를 시계방향 또는 반시계방향으로 회전시킬 수 있다.The first
이와 같은 구조에 따라, 상부 자세조절유닛(100)은 제1 내지 제4 엑츄에이터(150,160,170,180)를 작동시켜 제1 장착 플레이트(116)를 원하는 자세로 조절할 수 있다.According to this structure, the upper
이하, 도면을 참조하여 하부 자세조절유닛(200)의 구성 및 동작을 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the lower
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 모션 스테이지의 하부 자세조절유닛을 나타낸 분해사시도이고, 도 9 및 도 10은 도 8에 표시된 캠구조와 탄성플레이트 간의 결합구조를 각각 나타낸 분해사시도 및 단면도이다.8 is an exploded perspective view showing a lower posture adjustment unit of a motion stage according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 9 and 10 are exploded perspective views and cross-sectional views respectively showing a coupling structure between the cam structure and the elastic plate shown in FIG. .
도 8을 참조하면, 하부 자세조절유닛(200)은 상부 자세조절유닛(100)과 대응하도록 제2 슬라이더(43)의 상면에 배치될 수 있다. 하부 자세조절유닛(200)의 높이는 제1 및 제2 장착 플레이트(116,216)에 각종 장비가 장착될 수 있도록 상부 자세조절유닛(100)의 저면과 소정의 간격을 가질 수 있도록 고려하여 제작하는 것이 바람직하다.Referring to FIG. 8, the lower
하부 자세조절유닛(200)은 제2 슬라이더(43)의 상면에 배치된 베이스(210)와, 제2 장착 플레이트(216)와, 베이스에 설치된 제5 내지 제8 엑츄에이터(250,260,270,280)와, 제1 내지 제4 보조지지부(291,292,293,294)를 포함할 수 있다.The lower
제2 장착 플레이트(216)는 다수의 탄성편(214)에 의해 베이스(210)에 탄력적으로 연결된 지지 플레이트(213)의 상측에 배치될 수 있다.The
제2 장착 플레이트(216)는 가운데 부분이 시계방향 및 반시계방향으로 회전되는 링 가이드(215)에 결합되고, 4코너 측이 각각 제1 내지 제4 보조지지부(291,292,293,294)에 의해 연결된다.The
링 가이드(215)는 지지 플레이트(216)의 중앙부에 연결된 회전 가이드(212)의 외주에 회전 가능하도록 결합될 수 있다. 이에 따라, 링 가이드(215)는 회전 가이드(212)를 통해 간접적으로 지지 플레이트(216)에 연결될 수 있다.The
또한, 제2 장착 플레이트(216)는 일측이 제2 동력전달부(281)와 연결됨에 따라 제8 엑츄에이터(280)로부터 발생한 동력을 제2 동력전달부(281)를 통해 전가되는 경우 링 가이드(215)에 의해 시계방향 또는 반시계방향으로 회전될 수 있다. 이 경우, 제2 장착 플레이트(216)의 회전 각도는 제1 장착 플레이트(116)의 링 가이드(115)의 회전 각도와 마찬가지로 ±1°정도일 수 있다.In addition, the
제5 내지 제7 엑츄에이터(250,260,270)는 D.C. 기어드 모터일 수 있으며, 제2 장착 플레이트(216)의 3지점을 각각 캠유닛과 플레이트(258,268,278)를 통해 Z축 방향으로 밀거나 당겨 상기 제2 장착 플레이트(216)를 다양한 각도로 경사지게 조절할 수 있다. 즉, 3개의 탄성 플레이트(258,268,278)의 일측이 Z축 방향을 따라 휘어지면서 제2 장착 플레이트(216)를 다양한 경사 각도로 변경할 수 있도록 제2 장착 플레이트(216)의 오일러 각이 조절될 수 있다.The fifth to
제5 엑츄에이터(250)는 베이스(210)의 한변을 따라 배치됨에 따라 제8 엑츄에이터(280)의 맞은 편에 배치될 수 있다. 제6 및 제7 엑츄에이터(260,270)는 베이스(210)의 서로 마주하는 다른 2변을 따라 각각 배치될 수 있다.The
제5 내지 제7 엑츄에이터(250,260,270)에 의해 동작하는 3개의 탄성 플레이트(278)는 각 엑츄에이터에 인접하도록 지지 플레이트(213)의 각 변에 배치된다. 탄성 플레이트(278)는 외력에 의해 휘어질 수 있고 원형으로 복원될 수 있도록 탄성을 갖는 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.The three
제5 내지 제7 액츄에이터(250,260,270)와 각 탄성 플레이트(258,268,278)를 연결하는 캠유닛의 구조는 모두 동일하므로, 이하에서는 제5 엑츄에이터(250)와 관련된 캠유닛과 탄성플레이트(258)에 대해서만 설명한다.Since the structures of the cam units connecting the fifth to
도 9를 참조하면, 제5 엑츄에이터(250)와 탄성플레이트(258) 사이에 배치된 캠유닛은 제5 엑츄에이터(250)의 회전축(250a)에 볼 스크류 방식으로 연결된 제4 가동블록(251)과, 제4 가동블록의 직선 이동에 따라 승강하는 승강블록(255)과, 승강블록 상측에 배치된 틸트 플레이트(256)와, 틸트 플레이트와 탄성 플레이트의 저면 사이에 배치된 스페이서(257)를 포함할 수 있다. 여기서 제4 가동블록(251)이 캠부재이면, 승강블록(255)은 캠부재에 캠 접촉하여 동작하는 캠팔로워일 수 있다.Referring to FIG. 9, the cam unit disposed between the
제4 가동블록(251)은 상측에는 가동블록(251)의 이동방향을 따라 일측으로 경사진 가이드레일(253)이 형성된다. 가이드레일(253)에는 승강블록(255)에 슬라이딩 가능하게 결합될 수 있다. The fourth
도 9 및 도 10을 참조하면, 틸트 플레이트(256)는 양측이 나사(254a,254b)에 의해 각각 승강블록(255)의 한 쌍의 돌기(255a,255b)에 체결되고, 중앙이 나사(254c)에 의해 탄성 플레이트(258)의 일측(258b)에 체결된다. 이에 따라 승강블록(255)이 승강 동작 시 탄성 플레이트(258)의 일측(258b)은 밀리거나 당겨지면서 승강블록(255)의 이동방향과 동일한 방향으로 승강된다.9 and 10, the
틸트 플레이트(256)는 탄성 플레이트(258)가 승강블록(255)의 승강 동작에 연동하여 휘어질 때 발생하는 하중을 흡수할 수 있도록 탄성 재질로 형성하는 것이 바람직하다.The
승강블록(255)의 한 쌍의 돌기(255a,255b) 사이에는 틸트 플레이트(256)의 휨 동작이 간섭되지 않도록 공간을 확보하는 공간부(255c)가 형성될 수 있다.Between the pair of
탄성 플레이트(258)는 일측(258a)이 상하로 휘어질 수 있도록 일측(258a)이 승강블록(255)에 연결되고 타측(258b)이 지지 플레이트(213)의 각 변에 연결될 수 있다.The
이와 같은 구성을 통해, 제5 내지 제7 엑츄에이터(250,260,270)가 동작함에 따라 각각의 캠유닛을 통해 탄성 플레이트(258,268,278)가 제2 장착 플레이트(216)의 3점을 밀거나 당김으로써 제2 장착 플레이트(216)의 오일러 각을 조절할 수 있다.Through this configuration, as the fifth to
도 8을 참조하면, 제8 엑츄에이터(280)는 제2 동력전달부(281)를 통해 제2 장착 플레이트(216)를 시계방향 및 반시계방향으로 회전시킬 수 있다.Referring to FIG. 8, the
제2 동력전달부(281)는 제8 엑츄에이터(280)의 회전축(280a)에 볼 스크류 방식으로 연결된 제5 가동블록(280b)과, 제5 가동블록(280b)에 연결되어 직선방향으로 왕복 이동하는 제6 가동블록(282)과, 제6 가동블록이 이동하는 방향에 대하여 직교하는 방향으로 슬라이딩 가능하게 제6 가동블록에 연결된 제7 가동블록(283)과, 제7 가동블록에 회전 가능하게 연결된 원형 베어링(285)과, 일측이 원형 베어링에 연결되고 타측이 제2 장착 플레이트(216)의 일단에 연결된 제2 커넥터(287)를 포함할 수 있다.The second
이와 같은 구조하에서, 제2 동력전달부(281)는 제8 엑츄에이터(280)의 동작 시 제8 엑츄에이터(280)의 동력을 제2 장착 플레이트(216)로 전달하여 제2 장착 플레이트(216)를 시계방향 및 반시계방향으로 회전시킬 수 있다.Under such a structure, the second
한편, 제1 내지 제4 보조지지부(291,292,293,294)는 제2 장착 플레이트(216)의 4코너 측을 지지하여 제2 장착 플레이트(216)의 처짐을 방지할 수 있고, 동시에 제2 장착 플레이트(216)가 회전하는 동작이 원활하게 할 수 있다.Meanwhile, the first to fourth auxiliary supports 291, 292, 293, and 294 support the four corner side of the
제1 내지 제4 보조지지부(291,292,293,294)의 구조는 모두 동일하므로 이하에서는 제1 보조지지부(291)의 구조에 대해서만 설명한다.Since the structures of the first to fourth auxiliary supports 291, 292, 293, and 294 are all the same, only the structure of the first
제1 보조지지부(291)는 베이스(210) 상면에 고정된 가이드블록(291a)과, 가이드블록 상부에 직선방향으로 슬라이딩 가능하게 결합된 제8 가동블록(291b)과, 제8 가동블록 상부에 제8 가동블록의 이동방향에 직교하는 방향으로 슬라이딩 가능하게 결합된 제9 가동블록(291c)과, 제9 가동블록에 회전 가능하게 결합되며 제2 장착 플레이트와 연결된 원형 베어링(291d)을 포함할 수 있다.The first
이와 같이 구성된 제1 보조지지부(291)는 제2 장착 플레이트(216)의 회전 시 간섭 없이 원활하게 움직일 수 있도록 지지할 수 있다.The first
상기한 바와 같이 본 발명은 에어 베어링이 적용되며 X축 및 Y축으로 이동하는 슬라이더와 그 위에 적층되는 X축 및 Y축으로 이동하는 슬라이더에 각각 상부 및 하부 자세조절유닛(100,200)을 구비함에 따라, 각 자세조절유닛에 장착되는 각 장비의 자세를 절대 수평 상태로 각각 조절하거나, 또한 서로 평행한 상태로 배치될 수 있도록 조절이 가능하다.As described above, according to the present invention, air bearings are applied, and the sliders moving in the X and Y axes and the sliders moving in the X and Y axes stacked thereon are provided with upper and lower
경우에 따라 제2 자세조절유닛(200)은 전술한 제1 자세조절유닛(100)과 동일한 구성으로 이루어지는 것도 물론 가능하다.In some cases, the second
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해돼서는 안될 것이다.In the above, although the preferred embodiment of the present invention has been illustrated and described, the present invention is not limited to the above-described specific embodiment, and is generally limited in the technical field to which the present invention belongs without departing from the gist of the present invention claimed in the claims. Of course, various modifications can be implemented by a person having knowledge of the above, and these modifications should not be individually understood from the technical idea or prospect of the present invention.
100: 상부 자세조절유닛
115: 링 가이드
116: 제1 장착 플레이트
150,160,170,180: 제1 내지 제4 엑츄에이터
158,168,178: 탄성핀
181: 제1 동력전달부
200: 하부 자세조절유닛
215: 링 가이드
216: 제2 장착 플레이트
258,268,278: 탄성 플레이트
250,260,270,280: 제5 내지 제8 엑츄에이터
281: 제2 동력전달부100: upper posture adjustment unit
115: ring guide
116: first mounting plate
150,160,170,180: first to fourth actuators
158,168,178: Elastic pin
181: first power transmission unit
200: lower posture adjustment unit
215: ring guide
216: second mounting plate
258,268,278: Elastic plate
250,260,270,280: 5th to 8th actuators
281: second power transmission unit
Claims (11)
베이스;
상기 베이스 상부에 제1 방향을 따라 슬라이딩 배치된 제1 슬라이더;
상기 제1 슬라이더의 상부에 상기 제1 방향의 직각 방향인 제2 방향을 따라 슬라이딩 가능하게 배치된 제2 슬라이더;
상기 제2 슬라이더의 상부에 상기 제1 방향을 따라 슬라이딩 가능하게 배치된 제3 슬라이더;
상기 제3 슬라이더의 상부에 상기 제2 방향을 따라 슬라이딩 가능하게 배치된 제4 슬라이더;
상기 제4 슬라이더에 배치되는 상부 자세조절유닛; 및
상기 제2 슬라이더에 배치되는 하부 자세조절유닛;을 포함하며,
상기 상부 및 하부 자세조절유닛은 각각에 장착되는 제1 장비 및 제2 장비에 각각 고정된 부재들이 상호 평행한 자세를 이루도록 조절하는 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.In the motion stage with air bearings,
Base;
A first slider slidingly disposed in a first direction on the base;
A second slider slidably disposed on the upper portion of the first slider along a second direction perpendicular to the first direction;
A third slider slidably disposed along the first direction on an upper portion of the second slider;
A fourth slider slidably disposed along the second direction on an upper portion of the third slider;
An upper posture adjustment unit disposed on the fourth slider; And
Includes; a lower posture adjustment unit disposed on the second slider,
The upper and lower posture adjusting units are motion stages characterized in that members fixed to each of the first equipment and the second equipment mounted on each are adjusted to form a parallel posture.
상기 상부 자세조절유닛은, 상기 제1 장비가 장착되는 제1 장착 플레이트와, 상기 제1 장착 플레이트를 다양한 각도로 조절하기 위한 제1 내지 제3 엑츄에이터와, 상기 제1 장착 플레이트의 회전 각도를 조절하기 위한 제4 엑츄에이터;를 포함하며,
상기 하부 자세조절유닛은, 제2 장비가 장착되는 제2 장착 플레이트와, 상기 제2 장착 플레이트를 다양한 각도로 조절하기 위한 제5 내지 제7 엑츄에이터와, 상기 제2 장착 플레이트의 회전 각도를 조절하기 위한 제8 엑츄에이터;를 포함하는 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.According to claim 1,
The upper posture adjustment unit includes a first mounting plate on which the first equipment is mounted, first to third actuators for adjusting the first mounting plate at various angles, and a rotation angle of the first mounting plate It includes a fourth actuator for;
The lower posture adjusting unit includes a second mounting plate on which the second equipment is mounted, a fifth to seventh actuator for adjusting the second mounting plate at various angles, and adjusting a rotation angle of the second mounting plate An eighth actuator for; a motion stage comprising a.
상기 제1 내지 제3 엑츄에이터는 피에조 엑츄에이터인 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.According to claim 2,
The first to third actuators are motion stages, characterized in that the piezo actuator.
상기 제1 내지 제3 엑츄에이터는 각각 일측이 상기 제8 엑츄에이터에 의해 회전하는 링 가이드에 고정되고 타측이 탄성핀을 통해 상기 제1 장착 플레이트에 연결되는 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.According to claim 3,
Each of the first to third actuators is a motion stage, wherein one side is fixed to a ring guide rotated by the eighth actuator and the other side is connected to the first mounting plate through an elastic pin.
상기 제1 내지 제3 엑츄에이터는 Z축 방향으로 탄성핀을 밀거나 당기는 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.According to claim 4,
The first to third actuators are motion stages characterized in that the elastic pins are pushed or pulled in the Z-axis direction.
상기 각 탄성핀은 서로 동일한 각도로 이격 배치되는 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.According to claim 4,
Each elastic pin is a motion stage, characterized in that spaced apart from each other at the same angle.
상기 제4 엑츄에이터는 서로 직교하는 축을 따라 이동하면서 상기 링 가이드를 시계방향 및 반시계방향으로 회전 가능하게 지지하는 제1 동력전달부를 포함한 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.According to claim 2,
The fourth actuator is a motion stage comprising a first power transmission unit rotatably supporting the ring guide clockwise and counterclockwise while moving along an axis orthogonal to each other.
상기 제5 내지 제7 엑츄에이터는 상기 제2 장착 플레이트의 3지점을 각각 캠유닛을 통해 Z축 방향으로 밀거나 당겨 상기 제2 장착 플레이트의 자세를 조절하는 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.According to claim 2,
The fifth to seventh actuators push the three points of the second mounting plate in the Z-axis direction through the cam unit, or pull to adjust the posture of the second mounting plate.
상기 캠유닛은,
상기 엑츄에이터에 의해 직선 이동하며 경사진 가이드레일이 형성된 캠부재; 및
상기 제2 장착 플레이트에 고정되며 상기 가이드레일에 슬라이딩 가능하게 결합된 캠팔로워;를 포함하는 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.The method of claim 8,
The cam unit,
A cam member having a linearly inclined guide rail formed by the actuator; And
And a cam follower fixed to the second mounting plate and slidably coupled to the guide rail.
상기 제8 엑츄에이터는 서로 직교하는 축을 따라 이동하면서 상기 제2 장착 플레이트를 시계방향 및 반시계방향으로 회전 가능하게 연결하는 제2 동력전달부를 포함한 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.According to claim 2,
The eighth actuator includes a second power transmission unit that rotatably connects the second mounting plate clockwise and counterclockwise while moving along an axis orthogonal to each other.
상기 제2 장착 플레이트는 4코너 측이 각각 다수의 보조지지부에 의해 이동 가능하게 지지되며,
각 보조지지부는,
가이드블록;
상기 가이드블록 상부에 적층되며 서로 직교하는 방향으로 슬라이딩 가능하게 결합되는 한 쌍의 가동블록; 및
상기 한 쌍의 가동블록 중 상측에 위치한 가동블록에 회전 가능하게 결합되며 상기 제2 장착 플레이트와 연결된 원형 베어링;을 포함한 것을 특징으로 하는 모션 스테이지.According to claim 2,
In the second mounting plate, the four corner sides are movably supported by a plurality of auxiliary supports, respectively.
Each auxiliary support,
Guide block;
A pair of movable blocks stacked on the guide block and slidably coupled in directions perpendicular to each other; And
A motion stage comprising; a rotatable coupling rotatably coupled to the movable block located above the pair of movable blocks and connected to the second mounting plate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180123013A KR102153726B1 (en) | 2018-10-16 | 2018-10-16 | Motion stage capable of aligning flat products in relatively precise locations |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180123013A KR102153726B1 (en) | 2018-10-16 | 2018-10-16 | Motion stage capable of aligning flat products in relatively precise locations |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200042645A true KR20200042645A (en) | 2020-04-24 |
KR102153726B1 KR102153726B1 (en) | 2020-09-09 |
Family
ID=70466185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180123013A KR102153726B1 (en) | 2018-10-16 | 2018-10-16 | Motion stage capable of aligning flat products in relatively precise locations |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102153726B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022103111A1 (en) * | 2020-11-13 | 2022-05-19 | 한국표준과학연구원 | Vibration generation device capable of minimizing occurrence of parasitic motion and ripple |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003318372A (en) * | 2002-04-25 | 2003-11-07 | Seiko Epson Corp | Method and apparatus of manufacturing electronic device |
KR100663939B1 (en) * | 2006-02-23 | 2007-01-03 | 한국생산기술연구원 | Long range stage with full stroke nano resolution for high vacuum |
KR20110004404A (en) * | 2008-04-02 | 2011-01-13 | 써스 마이크로텍 인코포레이티드. | Apparatus and method for semiconductor wafer alignment |
KR20140106419A (en) * | 2013-02-25 | 2014-09-03 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | Pattern forming apparatus, pattern forming method, alignment apparatus and alignment method |
KR20160095093A (en) * | 2013-12-06 | 2016-08-10 | 후버 디프락시온스테크닉 게엠베하 운트 코. 카게 | Redundant Parallel Positioning Table Device |
KR20170072146A (en) * | 2015-12-16 | 2017-06-26 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | Transfer apparatus and transfer method |
-
2018
- 2018-10-16 KR KR1020180123013A patent/KR102153726B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003318372A (en) * | 2002-04-25 | 2003-11-07 | Seiko Epson Corp | Method and apparatus of manufacturing electronic device |
KR100663939B1 (en) * | 2006-02-23 | 2007-01-03 | 한국생산기술연구원 | Long range stage with full stroke nano resolution for high vacuum |
KR20110004404A (en) * | 2008-04-02 | 2011-01-13 | 써스 마이크로텍 인코포레이티드. | Apparatus and method for semiconductor wafer alignment |
KR20140106419A (en) * | 2013-02-25 | 2014-09-03 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | Pattern forming apparatus, pattern forming method, alignment apparatus and alignment method |
KR20160095093A (en) * | 2013-12-06 | 2016-08-10 | 후버 디프락시온스테크닉 게엠베하 운트 코. 카게 | Redundant Parallel Positioning Table Device |
KR20170072146A (en) * | 2015-12-16 | 2017-06-26 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | Transfer apparatus and transfer method |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022103111A1 (en) * | 2020-11-13 | 2022-05-19 | 한국표준과학연구원 | Vibration generation device capable of minimizing occurrence of parasitic motion and ripple |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102153726B1 (en) | 2020-09-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6891601B2 (en) | High resolution, dynamic positioning mechanism for specimen inspection and processing | |
JP4664142B2 (en) | Stage equipment | |
US7849762B2 (en) | Constrained tri-sphere kinematic positioning system | |
KR20150101911A (en) | Stage aligner structure | |
KR102153726B1 (en) | Motion stage capable of aligning flat products in relatively precise locations | |
WO2016095855A1 (en) | Microscope and drive device thereof | |
CN106006463A (en) | Supporting table structure for accurately adjustable equipment | |
KR20130022253A (en) | Ultra-precision moving apparatus | |
CN113655612B (en) | High-stability two-dimensional posture adjusting mechanism | |
JP4112919B2 (en) | Z tilt stage | |
CN105953053A (en) | Equipment support table device | |
TWI591272B (en) | Multiple-blade holding devices and device manufacturing method | |
KR102461287B1 (en) | Transfer apparatus and method of transfer | |
TW200427546A (en) | Minute movement stage device | |
CN106002866A (en) | Equipment support table assembly provided with safety light | |
CN105563465A (en) | Photoelectric-static compound driving micro platform device | |
CN208683945U (en) | Positioning device | |
KR102512208B1 (en) | laser processing apparatus | |
JP4220505B2 (en) | Stage equipment (STAGEEAPPARATUS) | |
KR20120070522A (en) | Component mounting apparatus | |
JP6254060B2 (en) | Vertical movement stage for charged particle beam apparatus and charged particle beam apparatus | |
JP2017013210A (en) | Biaxial positioning stage apparatus | |
CN110205599A (en) | Substrate placing stage and evaporated device | |
CN110340826A (en) | A kind of folded core positioning device | |
CN219255520U (en) | Take rotatory handing-over mechanism |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |