KR20200002637A - Method for producing metal-clad laminate, method for producing and recovering coated press roll - Google Patents

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KR20200002637A
KR20200002637A KR1020190076065A KR20190076065A KR20200002637A KR 20200002637 A KR20200002637 A KR 20200002637A KR 1020190076065 A KR1020190076065 A KR 1020190076065A KR 20190076065 A KR20190076065 A KR 20190076065A KR 20200002637 A KR20200002637 A KR 20200002637A
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가츠후미 히라이시
뎃페이 니시야마
마사카즈 이이
마도카 데라시마
신지 고미네
가즈아키 가네코
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닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention relates to a metal clad laminate in which a polyimide film is filled without irregularities on uneven of a surface of a metal foil, and which has high adhesion between the polyimide film and the metal foil. The metal clad laminate (100) is produced by overlapping the polyimide film (10) and the metal foil (20) as a metal foil and continuously passing between a pair of press rolls (30, 40), and thermally compressing the polyimide film (10) and the metal foil (20). While a press surface of at least one side of the press roll (30) between the pair of press rolls (30, 40) is coated with a coating layer 50 as a film-shaped buffer movable in synchronization with the press roll (30), and thermal compression is performed.

Description

금속장 적층판의 제조 방법, 피복 가압 롤의 제조 방법 및 수복 방법{METHOD FOR PRODUCING METAL-CLAD LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING AND RECOVERING COATED PRESS ROLL}METHODS FOR PRODUCING METAL-CLAD LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING AND RECOVERING COATED PRESS ROLL}

본 발명은, 전자 제품에 사용되는 플렉시블 회로 기판(FPC; Flexible Printed Circuits) 등에 사용되는 금속장 적층판의 제조 방법, 그 방법에 사용 가능한 피복 가압 롤의 제조 방법 및 수복 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the manufacturing method of the metal-clad laminated board used for flexible printed circuit boards (FPC) used for electronic products, etc., the manufacturing method of the coating press roll which can be used for the method, and the repair method.

FPC는, 수지층과 구리층을 적층한 동장 적층판(CCL; Copper Clad Laminate)의 구리층을 에칭하여 회로 배선 가공함으로써 제조된다. FPC에 사용되는 CCL은, 수지층의 편측에만 구리박이 적층되는 편면 동장 적층판(이하, 편면 CCL), 수지층의 양측에 구리박이 적층되는 양면 동장 적층판(이하, 양면 CCL)이 알려져 있다.FPC is manufactured by etching the copper layer of the copper clad laminate (CCL; Copper Clad Laminate) which laminated | stacked the resin layer and the copper layer, and carrying out circuit wiring process. As for CCL used for FPC, the single-sided copper clad laminated board (henceforth single sided CCL) by which copper foil is laminated | stacked only on one side of a resin layer, and the double-sided copper clad laminated board (henceforth double-sided CCL) by which copper foil is laminated | stacked on both sides of a resin layer are known.

CCL의 제조 방법으로서, 예를 들어 금속제의 프레스 롤을 사용하여, 구리박과 수지 필름을 열 압착하는 라미네이트법이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1, 2 참조).As a manufacturing method of CCL, the lamination method which thermo-compresses copper foil and a resin film using the metal press roll is known, for example (for example, refer patent document 1, 2).

또한, 라미네이트법에 관하여, 액정 폴리머 필름과 금속박을 적층할 때에 적층체의 외관을 양호하게 하기 위해, 금속제의 프레스 롤의 표면에 두께 0.02 내지 5mm의 불소 고무, 실리콘 고무 또는 폴리이미드의 수지 피복층을 형성한 것을 사용하는 것이 제안되어 있다(예를 들어, 특허문헌 3 참조).In addition, in the laminating method, in order to improve the appearance of the laminate when the liquid crystal polymer film and the metal foil are laminated, a resin coating layer of fluorine rubber, silicone rubber or polyimide having a thickness of 0.02 to 5 mm is formed on the surface of the metal press roll. It is proposed to use what was formed (for example, refer patent document 3).

일본 특허 공개 제2001-129918호 공보(특허 청구 범위 등)Japanese Patent Laid-Open No. 2001-129918 (patent claims, etc.) 일본 특허 공개 제2009-66911호 공보(도 2 등)Japanese Patent Publication No. 2009-66911 (Fig. 2, etc.) 일본 특허 제4398179호 공보(특허 청구 범위 등)Japanese Patent No. 4398179 (patent claims, etc.)

최근 몇년간, 스마트폰을 비롯한 모바일 기기에 있어서의 디스플레이의 고정밀화 및 다기능화에 의해, 이들 기기의 하우징 내부품의 접속에 사용되는 FPC에 있어서, 배선의 미세화가 진행되고 있다. 이에 따라, 적층된 구리박을 가공하여 배선을 형성함으로써 접속 부품으로서의 기능을 행하는 CCL에 있어서는, 구리박과 수지층의 접착성 등에 대한 요구 품질이 보다 엄격화되고 있다. 그러나, 라미네이트법으로 금속박과 폴리이미드 필름을 적층하는 경우, 접합면의 접착성, 열 압착면의 충전이 불충분해지기 쉽고, 미세 배선 가공한 경우에 배선의 박리를 야기하는 원인이 된다.In recent years, finer wiring has been advanced in FPCs used for connection of the internal parts of the housings of these devices due to high precision and multifunctional display in mobile devices including smart phones. Therefore, in CCL which functions as a connection component by processing laminated copper foil and forming wiring, the required quality with respect to the adhesiveness of copper foil and a resin layer, etc. is becoming more stringent. However, when laminating | stacking a metal foil and a polyimide film by the lamination method, the adhesiveness of a joining surface and the filling of a thermocompression bonding surface are easy to become inadequate, and when a fine wiring process is performed, it causes a peeling of wiring.

따라서, 본 발명은, 폴리이미드 필름이 금속박의 표면의 요철에 불균일 없이 충전되어 있으며, 폴리이미드 필름과 금속박의 접착성이 높은 금속장 적층판을 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, an object of this invention is to provide the metal-clad laminated board in which a polyimide film is filled unevenly in the unevenness | corrugation of the surface of metal foil, and high adhesiveness of a polyimide film and metal foil.

본 발명자들은 예의 검토를 거듭한 결과, 라미네이트법에 의해 금속장 적층판을 제조할 때에, 한 쌍의 가압 롤 중, 적어도 편측의 가압 롤의 압박면을 필름 형상 완충재에 의해 피복한 상태에서 열 압착을 행함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining, when manufacturing a metal-clad laminated board by the lamination method, thermocompression bonding was carried out in the state which covered at least the pressing surface of the pressurization roll of one side of a pair of pressurization rolls with the film-shaped buffer material. By doing this, it was found that the above problems can be solved, and the present invention was completed.

즉, 본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 폴리이미드 필름과 금속박을 중첩하여 연속적으로 한 쌍의 가압 롤간을 통과시킴으로써, 상기 폴리이미드 필름과 상기 금속박을 열 압착하여 금속장 적층판을 제조하는 방법이다. 그리고, 본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 상기 한 쌍의 가압 롤 중, 적어도 편측의 가압 롤의 압박면을, 해당 가압 롤과 동기하여 이동 가능한 필름 형상 완충재에 의해 피복한 상태에서 열 압착을 행함과 함께, 상기 필름 형상 완충재가, 비열가소성 폴리이미드를 포함하는 비열가소성 폴리이미드층을 포함하는 것인 것을 특징으로 한다.That is, the manufacturing method of the metal-clad laminated board of this invention heat-compresses the said polyimide film and the said metal foil and manufactures a metal-clad laminated board by superimposing a polyimide film and a metal foil and passing a pair of pressure rolls continuously. to be. And the manufacturing method of the metal-clad laminated board of this invention is thermocompression bonding in the state which covered the press surface of at least one side of the press roll among the said pair of press rolls with the film-shaped cushioning material which can move in synchronization with the said press roll. In addition, the said film-like buffer material contains the non-thermoplastic polyimide layer containing a non-thermoplastic polyimide, It is characterized by the above-mentioned.

본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 상기 필름 형상 완충재가, 상기 편측의 가압 롤의 표면을 둘레 방향으로 피복하는 피복층을 형성하고 있어도 된다.In the manufacturing method of the metal-clad laminate of this invention, the said film-shaped buffer material may form the coating layer which coat | covers the surface of the said one side press roll in the circumferential direction.

본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 상기 편측의 가압 롤이 상기 피복층을 갖는 피복 가압 롤이어도 되고, 다른쪽의 가압 롤이 금속제 롤이어도 된다.The manufacturing method of the metal-clad laminate of this invention may be the coating press roll which the said one side press roll has the said coating layer, and the other press roll may be a metal roll.

본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 상기 금속제 롤을 상기 금속박측에 배치해도 된다.In the manufacturing method of the metal-clad laminate of this invention, you may arrange | position the said metal roll on the said metal foil side.

본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 상기 필름 형상 완충재가 환 형상으로 형성되어 있어도 되고, 상기 편측의 가압 롤과, 복수의 가이드 롤에 의해 회전 가능하게 형성되어 있어도 된다.In the method for producing a metal-clad laminate of the present invention, the film-shaped cushioning material may be formed in an annular shape, or may be rotatably formed by the one-side press roll and a plurality of guide rolls.

본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 상기 필름 형상 완충재가 길게 형성되어 있고, 롤·투·롤식으로 반송되는 것이어도 된다.In the manufacturing method of the metal-clad laminate of the present invention, the film-shaped cushioning material is formed long and may be conveyed in a roll-to-roll manner.

본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 상기 필름 형상 완충재의 두께가 1 내지 200㎛의 범위 내여도 된다.In the manufacturing method of the metal-clad laminate of this invention, the thickness of the said film-shaped buffer material may be in the range of 1-200 micrometers.

본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법에 있어서, 상기 폴리이미드 필름은 단층 또는 복수층의 폴리이미드층을 포함하고 있어도 되고, 적어도 1층이 비열가소성 폴리이미드여도 되고, 또한 적어도 상기 금속박과 열 압착되는 측의 표면이 열가소성 폴리이미드층이어도 된다.In the method for producing a metal-clad laminate of the present invention, the polyimide film may include a single layer or a plurality of polyimide layers, at least one layer may be a non-thermoplastic polyimide, and at least one of the metal foils is thermally compressed. The surface of the side may be a thermoplastic polyimide layer.

본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 상기 폴리이미드 필름이 기재와, 해당 기재 상에 적층 형성된 폴리이미드층을 포함하는 적층 구조체여도 된다.The manufacturing method of the metal-clad laminate of this invention may be a laminated structure in which the said polyimide film contains a base material and the polyimide layer laminated | stacked and formed on this base material.

본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 상기 기재가 구리박이어도 된다.As for the manufacturing method of the metal-clad laminated board of this invention, the said base material may be copper foil.

본 발명의 피복 가압 롤의 제조 방법은, 폴리이미드 필름과 금속박을 중첩하여 연속적으로 한 쌍의 가압 롤간을 통과시킴으로써, 상기 폴리이미드 필름과 상기 금속박을 열 압착하여 금속장 적층판을 제조할 때에 사용되는 피복 가압 롤의 제조 방법이다. 그리고, 본 발명의 피복 가압 롤의 제조 방법은, 상기 피복 가압 롤이, 금속제 롤과, 해당 금속제 롤의 표면을 둘레 방향으로 피복하는 피복층을 갖는 것이며,The manufacturing method of the coating press roll of this invention is used when heat-compressing the said polyimide film and the said metal foil and manufacturing a metal clad laminated board by making a polyimide film and a metal foil overlap and let them pass continuously between a pair of press rolls. It is a manufacturing method of a coating press roll. And the manufacturing method of the coating press roll of this invention is that the said coating press roll has a metal roll and the coating layer which coat | covers the surface of the said metal roll in the circumferential direction,

상기 금속제 롤의 표면에 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액을 도포하는 공정과,Applying a resin solution of a polyimide or polyimide precursor to the surface of the metal roll;

상기 금속제 롤 상에서 상기 수지 용액의 열 처리를 완료시킴으로써 상기 피복층을 형성하는 공정Process of forming the said coating layer by completing the heat processing of the said resin solution on the said metal roll

을 포함하는 것을 특징으로 한다.Characterized in that it comprises a.

본 발명의 피복 가압 롤의 제조 방법은, 상기 금속제 롤을 회전시키면서, 그의 표면에 상기 수지 용액을 도포해도 된다. 이 경우, 도포 수단을, 상기 금속제 롤의 회전축 방향으로 상대적으로 이동시키면서 상기 수지 용액을 도포해도 된다.The manufacturing method of the coating press roll of this invention may apply the said resin solution to the surface, rotating the said metal roll. In this case, you may apply | coat the said resin solution, moving an application | coating means relatively to the rotating shaft direction of the said metal roll.

본 발명의 피복 가압 롤의 제조 방법은, 상기 금속제 롤의 가열 기구를 사용하여, 해당 금속제 롤을 가열함으로써 상기 수지 용액의 열 처리를 행해도 된다.The manufacturing method of the coating press roll of this invention may heat-process the said resin solution by heating the said metal roll using the heating mechanism of the said metal roll.

본 발명의 피복 가압 롤의 수복 방법은, 폴리이미드 필름과 금속박을 중첩하여 연속적으로 한 쌍의 가압 롤간을 통과시킴으로써, 상기 폴리이미드 필름과 상기 금속박을 열 압착하여 금속장 적층판을 제조할 때에 사용되는 피복 가압 롤의 수복 방법이다. 그리고, 본 발명의 피복 가압 롤의 수복 방법은, 상기 피복 가압 롤이, 금속제 롤과, 해당 금속제 롤의 표면을 둘레 방향으로 피복하는 피복층을 갖는 것이며,The repairing method of the coating press roll of this invention is used when heat-compressing the said polyimide film and the said metal foil and manufacturing a metal clad laminated board by superimposing a polyimide film and a metal foil and passing a pair of press rolls continuously. It is a repair method of a coating press roll. And the repairing method of the coating press roll of this invention is that the said coating press roll has a metal roll and the coating layer which coat | covers the surface of the said metal roll in the circumferential direction,

상기 피복층의 표면의 적어도 일부에, 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액을 도포하는 공정과,Applying a resin solution of a polyimide or polyimide precursor to at least a part of the surface of the coating layer;

상기 피복 가압 롤 상에서 상기 수지 용액의 열 처리를 완료시키는 공정Process of completing the heat treatment of the resin solution on the coating pressure roll

을 포함하는 것을 특징으로 한다.Characterized in that it comprises a.

본 발명에 따르면, 폴리이미드 필름이 금속박의 표면의 요철에 불균일 없이 충전되어 있으며, 폴리이미드 필름과 금속박이 견고하게 접착된 금속장 적층판을 제조할 수 있다. 이와 같이 하여 제조된 금속장 적층판을 FPC 등의 회로 기판 재료로서 사용함으로써, 미세화된 배선과 절연 수지층의 밀착성이 우수한 회로 기판을 제조할 수 있다. 따라서, 본 발명에 의해, 회로 기판 및 회로 기판을 사용하는 전자 제품의 수율과 신뢰성을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, a polyimide film is filled with irregularities on the surface of the metal foil without unevenness, and a metal-clad laminate in which the polyimide film and the metal foil are firmly adhered can be produced. By using the metal sheet laminate thus produced as a circuit board material such as FPC, a circuit board excellent in adhesion between the micronized wiring and the insulating resin layer can be produced. Therefore, according to this invention, the yield and reliability of an electronic product using a circuit board and a circuit board can be improved.

또한, 가압 롤로서 금속제 롤을 사용한 경우, 폴리이미드 필름의 두께 불균일, 금속제 롤의 폭 방향의 직경의 변동에 기인하여 압박면으로의 압력이 불균일해지기 쉽다. 이때, 압력이 낮은 개소에서는 폴리이미드 필름이 금속박의 표면의 요철에 충분히 충전되지 않는다는 문제가 일어나는 경우가 있다. 본 발명 방법에서는, 필름 형상 완충재를 사용함으로써 이 압력 불균일을 균일하게 하고, 전체면에 걸쳐서 폴리이미드 필름이 금속박의 표면의 요철에 충분히 충전되어 견고하게 접착된 금속장 적층판의 제조가 가능하게 된다.Moreover, when a metal roll is used as a press roll, the pressure to a press surface tends to become uneven due to the thickness nonuniformity of a polyimide film and the fluctuation of the diameter of the metal roll in the width direction. Under the present circumstances, the problem that a polyimide film is not fully filled in the unevenness | corrugation of the surface of metal foil may arise at the location where pressure is low. In the method of the present invention, by using the film-shaped buffer member, this pressure nonuniformity is made uniform, and the polyimide film is sufficiently filled with the unevenness of the surface of the metal foil over the whole surface, and the manufacture of the metal-clad laminate with which it is firmly adhere | attached is attained.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태의 금속장 적층판의 제조 방법을 설명하는 도면이다.
도 2는 피복 가압 롤의 구조를 도시하는 단면도이다.
도 3은 피복 가압 롤의 제조 방법을 설명하는 도면이다.
도 4는 피복 가압 롤의 수복 방법을 설명하는 도면이다.
도 5는 제1 실시 형태의 금속장 적층판의 제조 방법의 변형예를 설명하는 도면이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시 형태의 금속장 적층판의 제조 방법을 설명하는 도면이다.
도 7은 제2 실시 형태의 금속장 적층판의 제조 방법의 변형예를 설명하는 도면이다.
도 8은 본 발명의 제3 실시 형태의 금속장 적층판의 제조 방법을 설명하는 도면이다.
도 9는 제3 실시 형태의 금속장 적층판의 제조 방법의 변형예를 설명하는 도면이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure explaining the manufacturing method of the metal-clad laminated board of 1st Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows the structure of a coating press roll.
It is a figure explaining the manufacturing method of a coating press roll.
It is a figure explaining the repair method of a coating press roll.
It is a figure explaining the modification of the manufacturing method of the metal-clad laminated board of 1st Embodiment.
It is a figure explaining the manufacturing method of the metal-clad laminate of 2nd Embodiment of this invention.
It is a figure explaining the modification of the manufacturing method of the metal-clad laminated board of 2nd Embodiment.
It is a figure explaining the manufacturing method of the metal clad laminated board of 3rd embodiment of this invention.
It is a figure explaining the modification of the manufacturing method of the metal-clad laminate of 3rd Embodiment.

이하, 적절히 도면을 참조하면서, 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명한다. 본 발명의 금속장 적층판의 제조 방법은, 폴리이미드 필름과 금속박을 중첩하여 연속적으로 한 쌍의 가압 롤간을 통과시킴으로써, 폴리이미드 필름과 금속박을 열 압착하여 금속장 적층판을 제조한다. 이때, 한 쌍의 가압 롤 중, 적어도 편측의 가압 롤의 압박면을, 이 가압 롤과 동기하여 이동 가능한 필름 형상 완충재에 의해 피복한 상태에서 열 압착을 행한다. 여기서, 필름 형상 완충재는, 비열가소성 폴리이미드를 포함하는 비열가소성 폴리이미드층을 포함하고 있다. 또한, 「비열가소성 폴리이미드」란, 일반적으로 가열해도 연화, 접착성을 나타내지 않는 폴리이미드이지만, 본 발명에서는, 동적 점탄성 측정 장치(DMA)를 사용하여 측정한, 30℃에서의 저장 탄성률이 1.0×109Pa 이상이며, 300℃에서의 저장 탄성률이 3.0×108Pa 이상인 폴리이미드를 말한다. 또한, 「열가소성 폴리이미드」란, 일반적으로 유리 전이 온도(Tg)를 명확하게 확인할 수 있는 폴리이미드이지만, 본 발명에서는, 동적 점탄성 측정 장치(DMA)를 사용하여 측정한, 30℃에서의 저장 탄성률이 1.0×109Pa 이상이며, 320℃에서의 저장 탄성률이 3.0×108Pa 미만인 폴리이미드를 말한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described, referring drawings suitably. In the manufacturing method of the metal-clad laminated board of this invention, a polyimide film and a metal foil are thermally crimped | bonded by passing a pair of press rolls continuously and overlapping a polyimide film and a metal foil, and manufacturing a metal-clad laminated board. At this time, thermocompression bonding is performed in the state which covered at least the press surface of the pressurization roll of one side with the film-form buffer material which can move in synchronization with this press roll among a pair of press rolls. Here, the film-form buffer material contains the non-thermoplastic polyimide layer containing a non-thermoplastic polyimide. In addition, although "non-thermoplastic polyimide" is generally a polyimide which does not show softening and adhesiveness even when heated, in this invention, the storage elastic modulus in 30 degreeC measured using the dynamic-viscoelasticity measuring apparatus (DMA) is 1.0. × 10 9 Pa or more, and refers to the storage elastic modulus of the polyimide at 300 ℃ less than 3.0 × 10 8 Pa. In addition, although "thermoplastic polyimide" is generally a polyimide which can clearly confirm the glass transition temperature (Tg), in the present invention, the storage elastic modulus at 30 ° C. measured using a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA). The polyimide which is 1.0 * 10 <9> Pa or more and whose storage elastic modulus in 320 degreeC is less than 3.0 * 10 <8> Pa.

이하, 본 발명 방법에서 사용하는 「필름 형상 완충재」의 바람직한 형태에 대하여, 제1 내지 제3 실시 형태를 들어 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the 1st-3rd embodiment is given and demonstrated about the preferable aspect of the "film-shaped buffer material" used by the method of this invention.

[제1 실시 형태] [First Embodiment]

도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 금속장 적층판의 제조 방법의 설명도이다. 도 2는, 이 방법에 사용하는 피복 가압 롤의 주요부 확대 단면도이다. 본 실시 형태에서는, 폴리이미드 필름(10)과 금속박(20)을 중첩하여 연속적으로 한 쌍의 가압 롤(30, 40)간을 통과시킴으로써, 폴리이미드 필름(10)과 금속박(20)을 열 압착하여 금속장 적층판(100)을 제조한다. 그리고, 필름 형상 완충재가, 가압 롤(30)의 표면을 둘레 방향으로 피복하는 피복층(50)을 형성하고 있다. 즉, 편측의 가압 롤(30)이 피복층(50)을 갖는 피복 가압 롤이다. 따라서, 본 실시 형태에서는, 한 쌍의 가압 롤(30, 40) 중, 적어도 편측의 가압 롤(30)의 압박면을, 가압 롤(30)과 동기하여 이동 가능한 필름 형상 완충재로서의 피복층(50)에 의해 피복한 상태에서 열 압착을 행한다. 여기서, 가압 롤(30)의 「압박면」이란, 회전하는 가압 롤(30)의 표면이며, 폴리이미드 필름(10)을, 금속박(20)측(다른쪽의 가압 롤(40)측)으로 압박하는 부분을 의미한다. 압박면은, 가압 롤(30)의 회전에 의해 순차 교체된다. 또한, 피복층(50)이 폴리이미드 필름(10)에 압접하는 부분도, 가압 롤(30)의 회전에 동기하여 순차 교체된다. 또한, 도 1 중의 화살표는, 반송 방향이나 회전 방향을 나타내고 있으며, 권출 롤, 권취 롤, 가이드 롤 등의 도시는 생략하였다. 또한, 한 쌍의 가압 롤(30, 40)은, 각각 가열 기구(도시 생략)를 구비하고 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing of the manufacturing method of the metal-clad laminated board which concerns on 1st Embodiment of this invention. 2 is an enlarged cross-sectional view of the main portion of the coating press roll used in this method. In this embodiment, the polyimide film 10 and the metal foil 20 are thermally crimped by superimposing the polyimide film 10 and the metal foil 20 and continuously passing them between the pair of pressure rolls 30 and 40. To prepare a metal sheet laminate (100). And the film-form buffer material forms the coating layer 50 which coat | covers the surface of the press roll 30 in the circumferential direction. That is, the one side press roll 30 is a coating press roll which has the coating layer 50. Therefore, in this embodiment, the coating layer 50 as a film-shaped buffer material which can move the press surface of at least one side of the press roll 30 in synchronization with the press roll 30 among the pair of press rolls 30 and 40. The thermocompression bonding is carried out in a state of being coated with Here, the "press surface" of the press roll 30 is the surface of the rotating press roll 30, and makes the polyimide film 10 into the metal foil 20 side (the other press roll 40 side). It means the part to press. The pressing surface is sequentially replaced by the rotation of the pressing roll 30. In addition, the part which the coating layer 50 press-contacts the polyimide film 10 is also replaced one by one in synchronization with the rotation of the press roll 30. In addition, the arrow in FIG. 1 showed the conveyance direction and the rotation direction, and illustration of the unwinding roll, the winding roll, the guide roll, etc. was abbreviate | omitted. In addition, the pair of press rolls 30 and 40 are each equipped with the heating mechanism (not shown).

도 1에 있어서, 다른쪽의 가압 롤(40)은 피복층(50)을 갖지 않는 금속제 롤이지만, 가압 롤(30, 40)의 양쪽이 피복층(50)을 갖는 피복 가압 롤이어도 된다. 가압 롤(30, 40)의 양쪽을 피복 가압 롤로 하는 것은, 롤 폭 방향의 열 압착시의 압력의 변동의 저감에 유효하다.In FIG. 1, the other press roll 40 is a metal roll which does not have the coating layer 50, but the coating press roll which both the press rolls 30 and 40 have the coating layer 50 may be sufficient. Using both of the press rolls 30 and 40 as a coated press roll is effective for reducing the fluctuation of the pressure at the time of thermal compression in the roll width direction.

한편, 가압 롤(30, 40)의 한쪽을 피복 가압 롤로 하고, 다른쪽의 롤을 피복층(50)을 갖지 않는 금속제 롤로 하는 것은, 압착 부위에 열을 효율적으로 전달하기 위해 유효하다. 이 경우, 도 1과 같이, 금속박(20)측으로부터 압박하는 가압 롤(40)을, 피복층(50)을 갖지 않는 금속제 롤로 하는 것이 바람직하다. 금속박(20)측에 금속제 롤을 배치함으로써, 압착 부위에 보다 효율적으로 열을 전달할 수 있다. 즉, 금속제의 가압 롤(40)과 금속박(20)을 직접 접촉시킴으로써, 도시하지 않은 가열 기구에 의해 가열된 가압 롤(40)로부터, 열전도율이 높은 금속박(20)을 통해 폴리이미드 필름(10)과의 압착 부위에 빠르게 열을 전달할 수 있기 때문에, 열 압착의 효율이 높아지고, 폴리이미드 필름(10)과 금속박(20)의 접착성이 양호해진다.On the other hand, it is effective to make one of the press rolls 30 and 40 a coating press roll and the other roll to the metal roll which does not have the coating layer 50 in order to transmit heat efficiently to a crimping | compression-bonding site | part. In this case, it is preferable to make the press roll 40 pressed from the metal foil 20 side into the metal roll which does not have the coating layer 50 like FIG. By arrange | positioning a metal roll on the metal foil 20 side, heat can be transmitted more efficiently to a crimping | compression-bonding site | part. That is, the polyimide film 10 is directly contacted with the metal press roll 40 and the metal foil 20 by the metal foil 20 having high thermal conductivity from the press roll 40 heated by a heating mechanism (not shown). Since heat can be quickly transferred to the crimping section with the adhesive, the efficiency of thermal crimping becomes high, and the adhesion between the polyimide film 10 and the metal foil 20 becomes good.

<피복 가압 롤> <Coating press roll>

도 2에 도시한 바와 같이, 가압 롤(30)은, 코어가 되는 금속제 롤(31)과, 이 금속제 롤(31)의 주위를 덮는 접착제층(33)과, 접착제층(33)을 통해 금속제 롤(31)을 덮는 폴리이미드 피복층(35)을 포함하고 있다. 접착제층(33)과 폴리이미드 피복층(35)에 의해 피복층(50)이 구성되어 있다. 또한, 접착제층(33)은 마련하지 않아도 된다.As shown in FIG. 2, the press roll 30 is made of metal through a metal roll 31 serving as a core, an adhesive layer 33 covering the periphery of the metal roll 31, and an adhesive layer 33. The polyimide coating layer 35 covering the roll 31 is included. The coating layer 50 is comprised by the adhesive bond layer 33 and the polyimide coating layer 35. As shown in FIG. In addition, the adhesive layer 33 does not need to be provided.

접착제층(33)은, 폴리이미드계 접착제를 포함하는 것이 바람직하다. 접착제층(33)에 의해, 금속제 롤(31)과 폴리이미드 피복층(35)의 접착성이 확보된다. 또한, 폴리이미드계 접착제란, 이미드 결합을 갖는 접착제를 말하며, 예를 들어 실록산폴리이미드, 폴리에테르이미드 등도 포함한다.It is preferable that the adhesive bond layer 33 contains a polyimide adhesive. The adhesive layer 33 ensures the adhesion between the metal roll 31 and the polyimide coating layer 35. In addition, a polyimide adhesive agent means the adhesive agent which has an imide bond, For example, a siloxane polyimide, a polyether imide, etc. are also included.

한편, 폴리이미드 피복층(35)은, 비열가소성 폴리이미드를 포함하는 것이 바람직하다. 폴리이미드 필름(10)과 직접 접촉하는 폴리이미드 피복층(35)을 비열가소성 폴리이미드에 의해 형성함으로써, 폴리이미드 피복층(35)이 폴리이미드 필름(10)에 부분적으로 열 융착됨에 따른, 주름, 얼룩 등의 외관 이상의 발생을 방지할 수 있다.On the other hand, it is preferable that the polyimide coating layer 35 contains a non-thermoplastic polyimide. By forming the polyimide coating layer 35 in direct contact with the polyimide film 10 by non-thermoplastic polyimide, wrinkles, stains as the polyimide coating layer 35 is partially thermally fused to the polyimide film 10 It is possible to prevent the occurrence of abnormalities such as appearance.

폴리이미드 피복층(35)을 구성하는 폴리이미드는, 예를 들어 유리 전이 온도(Tg)가 300℃ 이상인 내열성을 갖는 폴리이미드인 것이 바람직하다. Tg가 300℃ 이상인 폴리이미드를 사용함으로써, 열 압착시의 가열에 의한 변형이나 손상을 회피하고, 피복층(50)의 내구성을 높일 수 있다.It is preferable that the polyimide which comprises the polyimide coating layer 35 is a polyimide which has heat resistance whose glass transition temperature (Tg) is 300 degreeC or more, for example. By using the polyimide whose Tg is 300 degreeC or more, the deformation | transformation and damage by the heating at the time of thermocompression bonding are avoided, and the durability of the coating layer 50 can be improved.

또한, 마찬가지의 관점에서, 폴리이미드 피복층(35)을 구성하는 폴리이미드의 Tg는, 폴리이미드 필름(10)의 일부분을 구성하는 열가소성 폴리이미드(후술)의 Tg보다도, 예를 들어 10℃ 이상 높은 것이 바람직하다.In addition, from the same viewpoint, the Tg of the polyimide constituting the polyimide coating layer 35 is, for example, 10 ° C or more higher than the Tg of the thermoplastic polyimide (to be described later) constituting a part of the polyimide film 10. It is preferable.

또한, 폴리이미드 피복층(35)은, 열 압착시의 폴리이미드 필름(10)으로의 열 충격을 완화하는 관점에서, 열전도율이 0.2W/m·K 미만인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the thermal conductivity of the polyimide coating layer 35 is less than 0.2W / m * K from a viewpoint of alleviating the thermal shock to the polyimide film 10 at the time of thermocompression bonding.

또한, 열 압착시의 온도 변화에 의한 치수 변화를 억제하고, 반송되어 오는 폴리이미드 필름(10)에 대한 추종성을 확보하기 위해, 피복층(50)을 구성하는 폴리이미드 피복층(35)의 열팽창 계수 E는, 후술하는 폴리이미드 필름(10)의 전체의 열팽창 계수 E1에 대하여, 예를 들어 0.5×E≤E1≤1.5×E의 관계가 되도록 하는 것이 바람직하다.Moreover, in order to suppress the dimensional change by the temperature change at the time of thermocompression bonding, and to ensure the followability with respect to the polyimide film 10 conveyed, the thermal expansion coefficient E of the polyimide coating layer 35 which comprises the coating layer 50 is carried out. It is preferable to make it become the relationship of 0.5 * E <= E1 <= 1.5 * E with respect to the thermal expansion coefficient E1 of the whole polyimide film 10 mentioned later, for example.

피복층(50)의 두께(본 실시 형태에서는, 접착제층(33)과 폴리이미드 피복층(35)의 합계의 두께를 의미한다)는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 1 내지 200㎛의 범위 내인 것이 바람직하고, 10 내지 100㎛의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 두께의 상한은, 열을 효율적으로 전달하기 위해 200㎛ 이하가 바람직하다. 또한, 후술하는 바와 같이, 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액을 금속제 롤(31)의 표면에 도포한 후 열 처리를 행하여 피복층(50)을 형성하는 경우에는, 피복층(50)의 형성을 용이하게 하기 위해 100㎛ 이하가 보다 바람직하다. 또한, 금속제 롤(31)의 폭 방향의 온도 변동을 방지하기 위해, 피복층(50)의 두께가 25㎛ 이하인 것이 바람직하다. 두께의 하한은, 반복 사용에 견딜 수 있도록 1㎛ 이상이 바람직하고, 5㎛ 이상이 보다 바람직하다.Although the thickness of the coating layer 50 (meaning the thickness of the sum total of the adhesive bond layer 33 and the polyimide coating layer 35 in this embodiment) is not specifically limited, For example, it exists in the range of 1-200 micrometers. It is preferable and it is more preferable to exist in the range of 10-100 micrometers. The upper limit of the thickness is preferably 200 µm or less in order to efficiently transfer heat. As described later, when the resin solution of the polyimide or polyimide precursor is applied to the surface of the metal roll 31 and then heat-treated to form the coating layer 50, the formation of the coating layer 50 is easy. In order to make it easy, 100 micrometers or less are more preferable. Moreover, in order to prevent the temperature fluctuation of the width direction of the metal roll 31, it is preferable that the thickness of the coating layer 50 is 25 micrometers or less. 1 micrometer or more is preferable and, as for the minimum of thickness, withstand repeated use, 5 micrometers or more are more preferable.

필름 형상 완충재로서의 피복층(50)은, 열 압착시의 압력의 치우침을 완화하여 압력을 균등하게 배분하는 작용을 갖고, 폴리이미드 필름(10)과 금속박(20)을 균일하게 접착시키는 효과가 있다. 그 때문에, 폴리이미드 필름(10)이 금속박(20)의 표면의 요철에 불균일 없이 충전되어 있으며, 폴리이미드 필름(10)과 금속박(20)이 견고하게 접착된 금속장 적층판(100)을 제조할 수 있다.The coating layer 50 as a film-shaped buffer material has the effect | action which alleviates the bias of the pressure at the time of thermocompression bonding, and distributes pressure equally, and has an effect which adhere | attaches the polyimide film 10 and the metal foil 20 uniformly. Therefore, the polyimide film 10 is unevenly filled in the unevenness of the surface of the metal foil 20, and the polyimide film 10 and the metal foil laminate 20 can be manufactured to which the metal foil 20 is firmly bonded. Can be.

피복층(50)은, 적어도 비열가소성 폴리이미드를 포함하는 필름을 바람직하게 사용할 수 있지만, 비열가소성 폴리이미드만을 포함하는 필름이어도 되고, 필요에 따라 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분이란, 구체적으로는 비열가소성 폴리이미드 이외의 수지, 피복층(50)으로서의 여러 특성을 개선하기 위한 각종 첨가제 등을 들 수 있다. 또한, 비열가소성 폴리이미드도 복수 종류 조합하여 사용되고 있어도 된다. 또한, 필러 등도 함유해도 된다.Although the coating layer 50 can use preferably the film containing at least a non-thermoplastic polyimide, the film containing only a non-thermoplastic polyimide may be sufficient, and may contain another component as needed. Specific examples of other components include resins other than non-thermoplastic polyimide, various additives for improving various properties as the coating layer 50, and the like. In addition, a plurality of non-thermoplastic polyimides may be used in combination. Moreover, you may also contain a filler.

<피복 가압 롤의 제조 방법> <Method of manufacturing coating press roll>

금속제 롤(31)과, 이 금속제 롤(31)의 표면을 둘레 방향으로 피복하는 피복층(50)을 갖는 가압 롤(30)은, 예를 들어 이하의 공정 a 및 공정 b;The press roll 30 which has the metal roll 31 and the coating layer 50 which coat | covers the surface of this metal roll 31 in the circumferential direction is the following process a and process b;

a) 금속제 롤(31)의 표면에 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액을 도포하는 공정,a) the process of apply | coating the resin solution of a polyimide or a polyimide precursor to the surface of the metal roll 31,

b) 금속제 롤(31) 상에서 수지 용액의 열 처리를 완료시킴으로써 피복층(50)을 형성하는 공정b) A step of forming the coating layer 50 by completing the heat treatment of the resin solution on the metal roll 31.

을 포함하는 방법으로 제조할 수 있다.It can be prepared by a method comprising a.

공정 a에서는, 금속제 롤(31)을 회전시키면서, 그의 표면에 수지 용액을 도포하는 것이 바람직하다. 수지 용액을 금속제 롤(31) 상에 도포하는 방법으로서는, 예를 들어 코터, 스프레이 등의 도포 수단을 사용해도 되고, 금속제 롤(31)을 수지 용액에 침지한 후, 금속제 롤(31)을 인상하는 디핑법이어도 된다. 코터, 스프레이 등의 도포 수단을 사용하여, 수지 용액을 금속제 롤(31)의 표면에 도포하는 경우에는, 도포 수단을 금속제 롤(31)의 회전축 방향으로 상대적으로 이동시키면서 수지 용액을 도포하는 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 도 3에 도시한 바와 같이, 도포 수단(61)의 토출구를 금속제 롤(31)의 표면에 근접 또는 접촉시키고, 금속제 롤(31)을 회전시키면서, 또한 토출구를 금속제 롤(31)의 회전축 방향으로 상대적으로 이동시키면서, 토출구로부터 금속제 롤(31)의 표면에 수지 용액(63)을 연속적으로 공급하는 것이 바람직하다. 여기서, 토출구를 「금속제 롤(31)의 회전축 방향으로 상대적으로 이동시키는」이란, 회전하고 있는 금속제 롤(31)의 한쪽의 단부로부터 다른쪽의 단부로 이동시키는 것을 의미한다. 따라서, 수지 용액(63)은 금속제 롤(31)의 표면에 나선 형상으로 도포된다. 또한, 수지 용액(63)을 금속제 롤(31)의 표면에 도포한 후, 수지 용액(63)의 두께의 균일화 등을 목적으로 열 처리 개시 전에 금속제 롤(31)을 회전시켜도 된다.In process a, it is preferable to apply | coat a resin solution to the surface, rotating the metal roll 31. As shown in FIG. As a method of apply | coating a resin solution on the metal roll 31, you may use coating means, such as a coater and a spray, for example, and after immersing the metal roll 31 in resin solution, the metal roll 31 is pulled up. The dipping method may be used. When applying a resin solution to the surface of the metal roll 31 using coating means, such as a coater and a spray, it is more preferable to apply a resin solution, moving a coating means relatively to the rotation axis direction of the metal roll 31. FIG. desirable. For example, as shown in FIG. 3, the discharge port of the application means 61 is brought into close proximity or contact with the surface of the metal roll 31, and the discharge port is further made into the metal roll 31 while rotating the metal roll 31. As shown in FIG. It is preferable to continuously supply the resin solution 63 to the surface of the metal roll 31 from the discharge port while relatively moving in the rotation axis direction. Here, "releasing the discharge port relatively in the rotation axis direction of the metal roll 31" means moving from one end of the rotating metal roll 31 to the other end. Therefore, the resin solution 63 is applied to the surface of the metal roll 31 in spiral form. Moreover, after apply | coating the resin solution 63 to the surface of the metal roll 31, you may rotate the metal roll 31 before a heat processing start for the purpose of equalizing the thickness of the resin solution 63, and the like.

공정 b에서는, 금속제 롤(31) 상에서 가열함으로써 열 처리를 완료시켜, 피복층(50)을 형성한다. 가열은 금속제 롤(31)을 오븐에 넣어 전체를 가열해도 되고, 금속제 롤(31) 표면을 히터에 의해 열풍을 맞혀 가열해도 된다. 또한, 금속제 롤(31) 자체의 가열 기구(도시 생략)를 이용하여, 금속제 롤(31)의 내부로부터 가열해도 된다.In the process b, heat processing is completed by heating on the metal roll 31, and the coating layer 50 is formed. Heating may put the metal roll 31 in oven, and may heat the whole, and may heat the surface of the metal roll 31 with a hot air by a heater. In addition, you may heat from the inside of the metal roll 31 using the heating mechanism (not shown) of the metal roll 31 itself.

열 처리 조건은, 피막층(50)을 구성하는 폴리이미드의 화학 구조, 두께, 면적, 수지 용액(63)의 용제종 등에 따라 상이하지만, 최고 온도는 300℃ 이상 500℃ 이하의 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 또한, 급속하게 가열하면, 승온시의 아웃 가스가 발생하고, 기포가 발생하는 경우가 있기 때문에, 예를 들어 30분 이상의 시간을 들여서 최고 온도까지 승온하는 것이 바람직하다.The heat treatment conditions vary depending on the chemical structure, thickness, area of the polyimide constituting the coating layer 50, the solvent species of the resin solution 63, and the like, but the maximum temperature is preferably in the range of 300 ° C or more and 500 ° C or less. Do. Moreover, when heated rapidly, outgas at the time of temperature rising may generate | occur | produce a bubble, and it is preferable to heat up to the maximum temperature for 30 minutes or more, for example.

피복층(50)을 복수의 폴리이미드층에 의해 구성하는 경우에는, 상기 공정 a와 공정 b를 반복해도 되고, 공정 a를 소정 횟수 반복한 후, 일괄하여 공정 b를 실시해도 된다.In the case where the coating layer 50 is composed of a plurality of polyimide layers, the steps a and b may be repeated, or the steps b may be collectively performed after the steps a are repeated a predetermined number of times.

<피복 가압 롤의 수복 방법> <Repair method of coating press roll>

피복층(50)은, 금속제 롤(31)의 표면에 피복층(50)을 형성할 때에 기포, 표면 거칠음, 이물 부착 등의 결함이 발생할 수 있다. 또한, 피복층(50)을 갖는 가압 롤(30)의 사용, 즉 금속장 적층판(100)의 제조에 있어서도 마찬가지의 결함이 발생할 수 있다. 가압 롤(30)의 피복층(50)에 결함이 발생한 경우, 그 결함 개소를 수복할 수 있다. 피복층(50)을 갖는 가압 롤(30)의 수복은, 예를 들어 이하의 공정 c 및 공정 d;When the coating layer 50 forms the coating layer 50 on the surface of the metal roll 31, defects, such as air bubbles, surface roughness, and foreign material adhesion, may arise. In addition, the same defect may occur in the use of the press roll 30 which has the coating layer 50, ie, manufacture of the metal-clad laminated board 100. FIG. When a defect arises in the coating layer 50 of the press roll 30, the defect location can be repaired. Repair of the press roll 30 which has the coating layer 50 is the following process c and process d;

c) 피복층(50)의 표면의 적어도 일부(예를 들어 결함 부분과 그의 주위)에, 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액을 도포하는 공정,c) applying a resin solution of a polyimide or polyimide precursor to at least a part of the surface of the coating layer 50 (for example, the defect portion and its surroundings),

d) 피복층(50)을 갖는 가압 롤(30) 상에서 수지 용액의 열 처리를 완료시키는 공정d) process of completing the heat treatment of the resin solution on the press roll 30 having the coating layer 50;

을 포함할 수 있다.It may include.

공정 c에서는, 예를 들어 도 4에 도시한 바와 같이, 시린지 등의 도포 수단(61)의 토출구를 금속제 롤(31)의 표면에 근접 또는 접촉시키고, 토출구로부터 금속제 롤(31)의 표면에 수지 용액(63)을 국소적으로 도포한다.In the process c, for example, as shown in FIG. 4, the discharge port of the application means 61 such as a syringe is brought into proximity or contact with the surface of the metal roll 31, and the resin is applied to the surface of the metal roll 31 from the discharge port. The solution 63 is applied topically.

공정 d의 열 처리는, 피복 가압 롤의 제조 방법에 있어서의 공정 b와 마찬가지로 실시할 수 있다.The heat treatment of the step d can be performed in the same manner as the step b in the method for producing the coated press roll.

또한, 공정 c에 앞서, 결함이나 결함과 그의 주변의 피복층(50)을 금속제 롤(31)의 표면으로부터 제거한 후, 공정 c를 행해도 된다. 또한, 공정 d의 열 처리가 완료된 후, 피복층(50)의 표면을 평활하게 하기 위한 처리, 예를 들어 연마재에 의한 연마를 행해도 된다.In addition, before the process c, you may perform a process c after removing a defect, a defect, and the surrounding coating layer 50 from the surface of the metal roll 31. FIG. In addition, after the heat treatment of step d is completed, a treatment for smoothing the surface of the coating layer 50, for example, polishing with an abrasive may be performed.

<폴리이미드 필름> <Polyimide film>

금속박(20)과 열 압착되는 폴리이미드 필름(10)은, 단층 또는 복수층의 폴리이미드층을 포함하고, 폴리이미드층 이외의 임의의 층을 더 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 적어도 1층이 비열가소성 폴리이미드층이고, 또한 적어도 금속박(20)과 열 압착되는 측의 표면이 열가소성 폴리이미드층인 것이 바람직하다. 이 경우, 금속박(20)과의 접착성을 확보하기 위해, 열가소성 폴리이미드의 유리 전이 온도(Tg)는 200 내지 350℃의 범위 내인 것이 바람직하고, 280 내지 320℃의 범위 내가 보다 바람직하다.The polyimide film 10 thermocompression-bonded with the metal foil 20 contains the polyimide layer of a single layer or multiple layers, and may further contain arbitrary layers other than a polyimide layer. In this case, it is preferable that at least one layer is a non-thermoplastic polyimide layer, and at least the surface of the side which is heat-compressed with the metal foil 20 is a thermoplastic polyimide layer. In this case, in order to ensure adhesiveness with the metal foil 20, it is preferable that the glass transition temperature (Tg) of a thermoplastic polyimide exists in the range of 200-350 degreeC, and the inside of the range of 280-320 degreeC is more preferable.

폴리이미드 필름(10)의 두께는, 금속장 적층판(100)을 가공하여 얻어지는 FPC 등의 회로 기판의 박형화를 실현하는 관점에서, 예를 들어 1 내지 150㎛의 범위 내가 바람직하고, 2 내지 100㎛의 범위 내가 보다 바람직하다. 폴리이미드 필름(10)의 두께가 1㎛ 미만이면, 전기적 절연성 등의 기능이 손상될 우려가 있다. 폴리이미드 필름(10)의 두께가 150㎛를 초과하면, FPC 등의 회로 기판의 박형화가 곤란해진다.The thickness of the polyimide film 10 is preferably in the range of 1 to 150 μm, for example, from the viewpoint of realizing thinning of a circuit board such as FPC obtained by processing the metal-clad laminate 100, and 2 to 100 μm. The range of I is more preferable. If the thickness of the polyimide film 10 is less than 1 µm, there is a concern that functions such as electrical insulation may be impaired. When the thickness of the polyimide film 10 exceeds 150 micrometers, thickness reduction of circuit boards, such as FPC, becomes difficult.

폴리이미드 필름(10)의 전체의 열팽창 계수는, 금속박(20)의 열팽창 계수에 가능한 한 근사하고 있는 것이 바람직하다. 폴리이미드 필름(10)의 열팽창 계수를 금속박(20)의 열팽창 계수에 가깝게 함으로써, FPC의 가공 프로세스에 있어서의 휨의 발생 등을 억제할 수 있다. 이러한 관점에서, 금속장 적층판(100)에 있어서 폴리이미드 필름(10)의 전체의 열팽창 계수 E1과, 금속박(20)의 열팽창 계수 E2가, 예를 들어 0.7×E1≤E2≤1.1×E1의 관계가 되도록 하는 것이 바람직하다.It is preferable that the thermal expansion coefficient of the whole polyimide film 10 is approximated to the thermal expansion coefficient of the metal foil 20 as much as possible. By making the thermal expansion coefficient of the polyimide film 10 close to the thermal expansion coefficient of the metal foil 20, generation | occurrence | production of the curvature in the FPC process, etc. can be suppressed. From this viewpoint, in the metal-clad laminate 100, the coefficient of thermal expansion E1 of the entire polyimide film 10 and the coefficient of thermal expansion E2 of the metal foil 20 are, for example, 0.7 × E1 ≦ E2 ≦ 1.1 × E1. It is preferable to

또한, 폴리이미드 필름(10)은, 폴리이미드층 이외에 임의의 층을 포함하는 적층 구조체의 형태여도 된다. 임의의 층으로서는, 예를 들어 기재, 박리 필름 등을 들 수 있다. 폴리이미드 필름(10)의 바람직한 형태로서, 도 5에 도시한 바와 같이 기재(71)와, 해당 기재(71)에 적층 형성된 폴리이미드층(73)을 포함하는 적층 구조를 갖는 폴리이미드 필름(10A)을 들 수 있다. 여기서, 기재(71)로서는, 예를 들어 구리박 등의 금속박을 들 수 있다. 기재(71)가 구리박인 경우, 폴리이미드 필름(10A)은 편면 CCL이다. 폴리이미드 필름(10A)으로서 편면 CCL을 사용함으로써, 고밀도 배선이 가능한 양면 회로 기판에 사용되는 양면 CCL(양면 동장 적층판)이 제조 가능하게 되기 때문에, 특히 유리하다. 또한, 폴리이미드 필름(10A)으로서 편면 CCL을 사용하는 경우, 편면 CCL의 구리박층측에 피복층(50)을 갖는 가압 롤(30)이 압접하도록 배치하는 것이 바람직하다. 가압 롤(30)의 피복층(50)이 개재하기 때문에, 기재(71)로서의 구리박에 과잉의 열 이력이 가해지는 것을 피할 수 있기 때문이다. 또한, 편면 CCL의 구리박층측에 피복층(50)을 갖는 가압 롤(30)이 압접하도록 배치함으로써, 가압 롤(30)이 기재(71)로서의 구리박과 밀착하는 것을 방지하여, 반송성을 유지할 수 있으며, 구리박의 미소 사이즈의 결함을 방지할 수 있다.Moreover, the form of the laminated structure containing arbitrary layers other than a polyimide layer may be sufficient as the polyimide film 10. As arbitrary layers, a base material, a peeling film, etc. are mentioned, for example. As a preferable embodiment of the polyimide film 10, as shown in FIG. 5, a polyimide film 10A having a laminated structure including a base 71 and a polyimide layer 73 laminated on the base 71. ). Here, as base material 71, metal foil, such as copper foil, is mentioned, for example. When the base material 71 is copper foil, the polyimide film 10A is single sided CCL. By using single-sided CCL as the polyimide film 10A, double-sided CCL (double-sided copper clad laminate) used for double-sided circuit boards capable of high-density wiring can be manufactured, which is particularly advantageous. In addition, when using single-sided CCL as 10A of polyimide films, it is preferable to arrange | position so that the press roll 30 which has the coating layer 50 on the copper foil layer side of single-sided CCL may be press-contacted. Since the coating layer 50 of the press roll 30 is interposed, it can avoid that an excess heat history is added to the copper foil as the base material 71. Moreover, by arrange | positioning so that the press roll 30 which has the coating layer 50 on the copper foil layer side of single-sided CCL may contact-contact with copper foil as the base material 71, and maintains conveyability It can be able to prevent the micro size defect of copper foil.

또한, 폴리이미드 필름(10A)으로서의 편면 CCL은, 기재(71) 상에 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액을 도포하고, 건조시킨 후, 열 처리를 행함으로써 폴리이미드층(73)을 형성하는 캐스트법에 의해 제조된 편면 CCL인 것이 바람직하다. 또한, 폴리이미드층(73)은, 단층만으로 형성되는 것이어도 되지만, 폴리이미드층(73)과 구리박의 접착성 및 치수 안정성을 고려하면 복수층으로 이루어지는 것이 바람직하다. 폴리이미드층(73)을 복수층으로 하는 경우, 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액 상에 상이한 구성 성분을 포함하는 다른 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액을 순차 도포하여 형성할 수 있다. 폴리이미드층(73)이 복수층으로 이루어지는 경우, 동일한 구성의 수지 용액을 2회 이상 사용해도 된다. 또한, 캐스트법에 의해 제조된 편면 CCL은 치수 안정성이 우수한 유리한 실시 형태이며, 또한 편면 CCL의 구리박층측에만 피복층(50)을 배치함으로써, 열 압착시에 있어서의 치수 변화율을 낮게 억제할 수 있다. 또한, 폴리이미드 필름(10A)으로서 편면 CCL을 사용하는 경우, 얻어지는 금속장 적층판(100A)은 양면 CCL(양면 동장 적층판)이 된다.In addition, the single-sided CCL as the polyimide film 10A is coated with a resin solution of a polyimide or polyimide precursor on the substrate 71, dried, and then subjected to heat treatment to form the polyimide layer 73. It is preferable that it is single-sided CCL manufactured by the casting method. In addition, although the polyimide layer 73 may be formed only from a single layer, when the adhesiveness and dimensional stability of the polyimide layer 73 and copper foil are considered, it is preferable to consist of multiple layers. In the case where the polyimide layer 73 is provided in plural layers, the resin solution of another polyimide or polyimide precursor containing different constituent components can be formed sequentially on the resin solution of the polyimide or polyimide precursor. When the polyimide layer 73 consists of multiple layers, you may use the resin solution of the same structure twice or more. In addition, the one-sided CCL manufactured by the casting method is an advantageous embodiment which is excellent in dimensional stability, and by arranging the coating layer 50 only on the copper foil layer side of the single-sided CCL, the rate of dimensional change at the time of thermocompression bonding can be suppressed low. . In addition, when single-sided CCL is used as the polyimide film 10A, the metal-clad laminate 100A obtained is a double-sided CCL (double-sided copper clad laminate).

편면 CCL에 있어서의 폴리이미드층(73)을 비열가소성 폴리이미드층과 열가소성 폴리이미드층의 적층 구조로 한 경우, 바람직하게는 비열가소성 폴리이미드층과 열가소성 폴리이미드층의 두께비(비열가소성 폴리이미드층/열가소성 폴리이미드층)가 1.5 내지 10.0의 범위 내인 것이 바람직하다. 이 비의 값이 1.5가 되지 않으면 폴리이미드층(73) 전체에 대한 비열가소성 폴리이미드층이 얇아지기 때문에, 구리박을 에칭했을 때의 치수 변화율이 커지기 쉽고, 10.0을 초과하면 열가소성 폴리이미드층이 얇아지기 때문에, 폴리이미드층(73)과 구리박의 접착 신뢰성이 저하되기 쉬워진다.When the polyimide layer 73 in the single-sided CCL is a laminated structure of a non-thermoplastic polyimide layer and a thermoplastic polyimide layer, preferably the thickness ratio (non-thermoplastic polyimide layer) of the non-thermoplastic polyimide layer and the thermoplastic polyimide layer / Thermoplastic polyimide layer) is preferably in the range of 1.5 to 10.0. If the value of this ratio is not 1.5, the non-thermoplastic polyimide layer with respect to the entire polyimide layer 73 becomes thin, so that the rate of dimensional change when the copper foil is etched tends to be large, and if it exceeds 10.0, the thermoplastic polyimide layer Since it becomes thin, the adhesive reliability of the polyimide layer 73 and copper foil falls easily.

<금속박> <Metal foil>

금속박(20)의 금속으로서, 예를 들어 구리, 알루미늄, 스테인리스, 철, 은, 팔라듐, 니켈, 크롬, 몰리브덴, 텅스텐, 지르코늄, 금, 코발트, 티타늄, 탄탈륨, 아연, 납, 주석, 실리콘, 비스무트, 인듐 또는 이들의 합금 등으로부터 선택되는 금속을 들 수 있다. 도전성의 면에서 특히 바람직한 것은 구리 또는 구리 합금의 금속박이다. 금속장 적층판(100, 100A)을 연속적으로 생산하기 위해, 소정의 두께인 것이 롤 형상으로 권취된 긴 형상의 금속박(20)이 사용된다.As the metal of the metal foil 20, for example, copper, aluminum, stainless steel, iron, silver, palladium, nickel, chromium, molybdenum, tungsten, zirconium, gold, cobalt, titanium, tantalum, zinc, lead, tin, silicon, bismuth , Metal selected from indium, alloys thereof, and the like. Particularly preferred from the viewpoint of conductivity is metal foil of copper or copper alloy. In order to continuously produce the metal-clad laminates 100 and 100A, an elongated metal foil 20 in which a roll having a predetermined thickness is wound in a roll shape is used.

금속박(20)의 폴리이미드 필름(10)과 직접 접하는 면의 표면 조도는, 예를 들어 Rz로 0.1 내지 7㎛인 것이 바람직하다. 이 범위이면, 폴리이미드 필름(10)과의 접착력이 충분히 양호해지기 때문이다. 나아가, Rz가 0.3 내지 3.0㎛이면, 보다 바람직하다. 여기서, Rz는, JIS B 0601(1994)에 규정되는 10점 평균 조도를 나타낸다.It is preferable that the surface roughness of the surface which directly contacts the polyimide film 10 of the metal foil 20 is 0.1-7 micrometers, for example in Rz. It is because adhesive force with the polyimide film 10 becomes it favorable enough that it is this range. Furthermore, it is more preferable if Rz is 0.3-3.0 micrometers. Here, Rz represents the 10-point average roughness prescribed | regulated to JIS B 0601 (1994).

<열 압착 조건> <Thermal crimping conditions>

가열 롤(30, 40)의 가열 방법은, 소정의 온도에서 가열할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 열매체 순환 방식, 열풍 가열 방식, 유전 가열 방식 등을 들 수 있다. 가압 방식에 대해서도 소정의 압력을 가할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 유압 방식, 공기압 방식, 갭간 압력 방식 등을 들 수 있다.The heating method of the heating rolls 30 and 40 will not be specifically limited if it can heat at predetermined temperature, For example, a heat medium circulation system, a hot air heating system, a dielectric heating system, etc. are mentioned. It will not specifically limit, if it can apply a predetermined pressure also about a pressurization system, For example, a hydraulic system, a pneumatic system, a gap-gap pressure system etc. are mentioned.

가압 롤(30, 40)에 의한 폴리이미드 필름(10)과 금속박(20)의 열 압착시의 압력은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 0.1 내지 50MPa의 범위 내가 바람직하다.Although the pressure at the time of the thermocompression bonding of the polyimide film 10 and the metal foil 20 by the press rolls 30 and 40 is not specifically limited, For example, the inside of the range of 0.1-50 MPa is preferable.

또한, 열 압착시의 온도는, 예를 들어 280℃ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 300 내지 400℃의 범위 내이다.Moreover, as for the temperature at the time of thermocompression bonding, 280 degreeC or more is preferable, for example, More preferably, it exists in the range of 300-400 degreeC.

[제2 실시 형태] Second Embodiment

도 6은, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 금속장 적층판의 제조 방법의 설명도이다. 본 실시 형태에서는, 필름 형상 완충재가 환 형상으로 형성되어 있다. 즉, 본 실시 형태에서는, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)을, 한 쌍의 금속제의 가압 롤(40A, 40B) 중, 적어도 편측의 가압 롤(40A)의 외주에 배치하고, 이것을 필름 형상 완충재로 한다. 여기서, 「환 형상」에는 원통 형상도 포함된다. 도 6에서는, 다른쪽의 가압 롤(40B)의 측에는 필름 형상 완충재를 배치하고 있지 않지만, 가압 롤(40A, 40B)의 양쪽을 필름 형상 완충재에 의해 피복한 상태에서 열 압착을 행해도 된다.FIG. 6: is explanatory drawing of the manufacturing method of the metal clad laminated board which concerns on 2nd Embodiment of this invention. In this embodiment, the film-like buffer material is formed in ring shape. That is, in this embodiment, 50 A of annular polyimide films are arrange | positioned in the outer periphery of 40 A of pressurized rolls of at least one side among a pair of metal press rolls 40A, 40B, and this is made into a film-shaped buffer material. do. Here, a "cylindrical shape" also includes a cylindrical shape. In FIG. 6, although the film-form cushioning material is not arrange | positioned at the side of the other press roll 40B, you may thermocompress in the state which covered both the press rolls 40A and 40B with the film-form buffer.

환 형상 폴리이미드 필름(50A)의 내경은, 가압 롤(40A)의 외경보다 크게 형성되어 있으며, 편측의 가압 롤(40A)과, 가이드 롤(80A, 80B)에 의해 회전 가능하게 형성되어 있다. 환 형상 폴리이미드 필름(50A)을, 가압 롤(40A)의 회전 방향과 동일 방향으로 회전시킴으로써, 가압 롤(40A)의 압박면을, 가압 롤(40A)과 동기하여 이동 가능한 환 형상 폴리이미드 필름(50A)에 의해 피복한 상태에서 열 압착을 행할 수 있다. 또한, 가이드 롤은 2개로 한정되지 않으며, 1개 또는 3개 이상 배치해도 된다.The inner diameter of 50 A of annular polyimide films is formed larger than the outer diameter of 40 A of press rolls, and is rotatably formed by the press roll 40A of one side, and guide rolls 80A, 80B. By rotating the annular polyimide film 50A in the same direction as the rotational direction of the pressure roll 40A, the annular polyimide film capable of moving the pressing surface of the pressure roll 40A in synchronism with the pressure roll 40A. Thermocompression bonding can be performed in a state covered by 50A. In addition, the guide roll is not limited to two, You may arrange | position one or three or more.

상기한 바와 같이, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)의 내경은, 가압 롤(40A)의 외경보다 크기 때문에, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)은 가압 롤(40A)에 고정되어 있지 않다. 폴리이미드는 흡습 특성이 있으며, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)에 포함되는 수분이 열 압착시에 급격하게 휘발되고, 이것이 금속장 적층판(100)의 외관 불량을 일으킬 우려가 있다. 환 형상 폴리이미드 필름(50A)의 내경이 가압 롤(40A)의 외경보다 충분히 큰 경우에는, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)이 열 압착면에 달하기 전에, 가압 롤(40A)의 일부를 피복하도록 접촉시켜 예열하는 것이 가능하게 되기 때문에, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)에 포함되는 수분을 저감할 수 있다. 환 형상 폴리이미드 필름(50A)이 가압 롤(40A)에 접하는 시간은 1초 이상으로 하는 것이 바람직하다.As mentioned above, since the inner diameter of 50 A of annular polyimide films is larger than the outer diameter of 40 A of press rolls, 50 A of annular polyimide films are not being fixed to 40 A of press rolls. The polyimide has hygroscopic properties, and moisture contained in the annular polyimide film 50A rapidly volatilizes upon thermal compression, which may cause a poor appearance of the metal-clad laminate 100. When the inner diameter of the annular polyimide film 50A is sufficiently larger than the outer diameter of the pressure roll 40A, a part of the pressure roll 40A is covered before the annular polyimide film 50A reaches the thermocompression bonding surface. Since it becomes possible to contact and preheat so that the water contained in 50 A of annular polyimide films can be reduced. It is preferable to make time for the annular polyimide film 50A to contact the pressure roll 40A to 1 second or more.

환 형상 폴리이미드 필름(50A)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 1 내지 200㎛의 범위 내인 것이 바람직하고, 10 내지 100의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 두께의 상한은, 열을 효율적으로 전달하기 위해 200㎛ 이하가 바람직하고, 가압 롤(40A)의 폭 방향의 온도 변동을 방지하기 위해서는 25㎛ 이하가 바람직하다. 두께의 하한은, 반복 사용에 견딜 수 있도록 1㎛ 이상이 바람직하고, 5㎛ 이상이 보다 바람직하다.Although the thickness of the cyclic polyimide film 50A is not specifically limited, For example, it is preferable to exist in the range of 1-200 micrometers, and it is more preferable to exist in the range of 10-100. The upper limit of the thickness is preferably 200 µm or less in order to efficiently transfer heat, and 25 µm or less is preferable in order to prevent temperature fluctuations in the width direction of the pressure roll 40A. 1 micrometer or more is preferable and, as for the minimum of thickness, withstand repeated use, 5 micrometers or more are more preferable.

환 형상 폴리이미드 필름(50A)은, 예를 들어 원기둥 형상 혹은 원통 형상의 이형재의 표면에, 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액을 도포하고, 이형재 상에서 수지 용액의 열 처리를 완료시킨 후, 이형재로부터 박리함으로써 제조할 수 있다. 이형재로의 수지 용액의 도포 방법이나 열 처리 조건은, 피복 가압 롤의 제조 방법에 있어서의 공정 a, b에 준하여 실시할 수 있다.The ring-shaped polyimide film 50A is, for example, after applying a resin solution of a polyimide or polyimide precursor to the surface of a cylindrical or cylindrical release material, and completing the heat treatment of the resin solution on the release material, the release material It can manufacture by peeling from. The coating method and heat treatment conditions of the resin solution to a mold release material can be performed according to the process a and b in the manufacturing method of a coating press roll.

환 형상 폴리이미드 필름(50A)은, 단층 또는 복수층의 폴리이미드층을 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 적어도 1층이 비열가소성 폴리이미드이고, 또한 적어도 가압 롤(40A)과 접하는 측의 표면(내주면)이 열가소성 폴리이미드층인 것이 바람직하다. 즉, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)은, 접착성이 높은 열가소성 폴리이미드층을 사용하여 금속제의 가압 롤(40A)의 표면과 밀착하기 쉽게 해도 된다.The cyclic polyimide film 50A may include a single layer or a plurality of polyimide layers. In this case, it is preferable that at least 1 layer is a non-thermoplastic polyimide, and the surface (inner peripheral surface) of the side which contact | connects 40 A of pressure rolls at least is a thermoplastic polyimide layer. That is, 50 A of annular polyimide films may make it easy to contact with the surface of the metal press roll 40A using the thermoplastic polyimide layer with high adhesiveness.

한편, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)에 있어서, 폴리이미드 필름(10)과 직접 접촉시키는 측의 표면(외주면)은, 비열가소성 폴리이미드를 포함하는 것이 바람직하다. 폴리이미드 필름(10)과 직접 접촉하는 표면을 비열가소성 폴리이미드층에 의해 형성함으로써, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)이 폴리이미드 필름(10)에 부분적으로 열 융착됨에 따른, 주름, 얼룩 등의 외관 이상의 발생을 방지할 수 있다. 환 형상 폴리이미드 필름(50A)에 있어서의 비열가소성 폴리이미드층을 구성하는 폴리이미드는, 예를 들어 유리 전이 온도(Tg)가 300℃ 이상인 내열성을 갖는 폴리이미드인 것이 바람직하다. Tg가 300℃ 이상인 폴리이미드를 사용함으로써, 열 압착시의 가열에 의한 변형이나 손상을 회피하고, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)의 내구성을 높일 수 있다.On the other hand, in 50 A of annular polyimide films, it is preferable that the surface (outer peripheral surface) of the side which makes direct contact with the polyimide film 10 contains a non-thermoplastic polyimide. By forming a surface in direct contact with the polyimide film 10 by the non-thermoplastic polyimide layer, wrinkles, stains, and the like, as the annular polyimide film 50A is partially thermally fused to the polyimide film 10 Occurrence of abnormalities can be prevented. It is preferable that the polyimide which comprises the non-thermoplastic polyimide layer in 50 A of cyclic polyimide films is a polyimide which has heat resistance whose glass transition temperature (Tg) is 300 degreeC or more, for example. By using the polyimide whose Tg is 300 degreeC or more, the deformation | transformation and damage by the heating at the time of thermocompression bonding are avoided, and the durability of the cyclic polyimide film 50A can be improved.

또한, 마찬가지의 관점에서, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)에 있어서의 비열가소성 폴리이미드층의 Tg는, 폴리이미드 필름(10)의 일부분을 구성하는 열가소성 폴리이미드(후술)의 Tg보다도, 예를 들어 10℃ 이상 높은 것이 바람직하다.In addition, from the same viewpoint, the Tg of the non-thermoplastic polyimide layer in the ring-shaped polyimide film 50A is, for example, more than the Tg of the thermoplastic polyimide (to be described later) constituting a part of the polyimide film 10. For example, it is preferable that it is 10 degreeC or more high.

또한, 열 압착시의 온도 변화에 의한 치수 변화를 억제하고, 반송되어 오는 폴리이미드 필름(10)에 대한 정밀한 추종성을 확보하기 위해, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)의 전체의 열팽창 계수 E3은, 후술하는 폴리이미드 필름(10)의 전체의 열팽창 계수 E1에 대하여, 예를 들어 0.5×E3≤E1≤1.5×E3의 관계가 되도록 하는 것이 바람직하다.Moreover, in order to suppress the dimensional change by the temperature change at the time of thermocompression bonding, and to ensure the precise followability with respect to the polyimide film 10 conveyed, the thermal expansion coefficient E3 of the whole of the cyclic polyimide film 50A is It is preferable to make it become the relationship of 0.5xE3 <= E1 <= 1.5 * E3, for example with respect to the thermal expansion coefficient E1 of the whole polyimide film 10 mentioned later.

또한, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)으로서, 환 형상의 CCL 등의 환상 금속장 적층판을 사용해도 된다. 환 형상 폴리이미드 필름(50A)으로서 환 형상 금속장 적층판을 사용함으로써, 핸들링성이 향상됨과 함께, 내구성을 높일 수 있다. 환 형상 폴리이미드 필름(50A)으로서 사용하는 환 형상 금속장 적층판으로서는, 내구성의 관점에서, 캐스트법에 의해 제조된 환 형상 금속장 적층판인 것이 바람직하다.As the annular polyimide film 50A, a cyclic metal sheet laminate such as annular CCL may be used. By using the annular metal sheet laminate as the annular polyimide film 50A, handling properties are improved and durability can be increased. As an annular metal sheet laminated board used as 50 A of annular polyimide films, it is preferable that it is an annular metal sheet laminated board manufactured by the casting method from a viewpoint of durability.

필름 형상 완충재로서의 환 형상 폴리이미드 필름(50A)은, 열 압착시의 압력을 완화함과 함께 균등하게 배분하는 작용을 갖고, 폴리이미드 필름(10)과 금속박(20)을 균일하게 접착시키는 효과가 있다.The annular polyimide film 50A as the film-like cushioning material has the effect of alleviating pressure at the time of thermocompression bonding and evenly distributing, and having an effect of uniformly adhering the polyimide film 10 and the metal foil 20 to each other. have.

본 실시 형태에 있어서의 다른 구성 및 효과는, 제1 실시 형태와 마찬가지이다. 또한, 본 실시 형태에 있어서도, 변형예로서, 도 7에 도시한 바와 같이 폴리이미드 필름(10) 대신에, 적층 구조를 갖는 폴리이미드 필름(10A)을 사용함으로써, 금속장 적층판(100A)을 제조할 수 있다.The other structure and effect in this embodiment are the same as that of 1st embodiment. In addition, also in this embodiment, as a modified example, instead of the polyimide film 10 as shown in FIG. 7, the metal-clad laminated board 100A is manufactured by using the polyimide film 10A which has a laminated structure. can do.

환 형상 폴리이미드 필름(50A)은, 열 압착 전에 미리 가열하여 수분을 저감해 두는 것이 바람직하다. 예를 들어, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)을 구성하는 폴리이미드는 흡습 특성이 있으며, 이에 따른 함유하는 수분이 열 압착시에 휘발되고, 특히 폴리이미드 필름(10A)의 경우에는, 편면 CCL측에 있어서의 구리박의 외관 불량을 야기할 우려가 있다. 열 압착시, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)을 사용하는 경우에는, 삽입각을 크게 하거나 하여 열 압착면에 달하기 전의 가열 롤(40A)과 접촉시키는 시간을 확보해 둠으로써, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)을 가열 롤(40A)의 일부를 덮도록 접촉시키고, 환 형상 폴리이미드 필름(50A)을 미리 가열하는 것이 가능하게 된다. 이때, 가열 롤(40A)에 환 형상 폴리이미드 필름(50A)이 접하는 시간은, 1초 이상으로 하는 것이 바람직하다.It is preferable that 50 A of annular polyimide films are heated before thermocompression bonding, and water content is reduced. For example, the polyimide constituting the cyclic polyimide film 50A has a hygroscopic property, and the water contained therein volatilizes upon thermal compression, and in particular, in the case of the polyimide film 10A, the one-sided CCL side There exists a possibility of causing the external appearance defect of the copper foil in. In the case of using the annular polyimide film 50A at the time of thermocompression bonding, by increasing the insertion angle and ensuring time for contact with the heating roll 40A before reaching the thermocompression surface, the annular polyimide 50 A of films are contacted so that a part of heating roll 40A may be covered, and 50 A of annular polyimide films can be heated beforehand. At this time, it is preferable to make time for the annular polyimide film 50A to contact 40 A of heating rolls to 1 second or more.

[제3 실시 형태] [Third Embodiment]

도 8은, 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 금속장 적층판의 제조 방법의 설명도이다. 본 실시 형태에서는, 필름 형상 완충재가 길게 형성되어 있으며, 롤·투·롤식으로 반송되는 구성으로 되어 있다. 즉, 본 실시 형태에서는, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)을 한 쌍의 금속제의 가압 롤(40A, 40B) 중, 적어도 편측의 가압 롤(40A)과 폴리이미드 필름(10)의 사이에 배치하고, 이것을 필름 형상 완충재로 한다. 도 8에서는, 다른쪽의 가압 롤(40B)의 측에는 필름 형상 완충재를 배치하고 있지 않지만, 가압 롤(40A, 40B)의 양쪽을 필름 형상 완충재에 의해 피복한 상태에서 열 압착을 행해도 된다.FIG. 8: is explanatory drawing of the manufacturing method of the metal clad laminated board which concerns on 3rd Embodiment of this invention. In this embodiment, the film-like buffer material is formed long and it is set as the structure conveyed by a roll-to-roll type. That is, in this embodiment, the elongate polyimide film 50B is arrange | positioned between at least one side press roll 40A and the polyimide film 10 among a pair of metal press rolls 40A, 40B. Let this be a film-shaped buffer material. In FIG. 8, although the film-form buffer material is not arrange | positioned at the side of the other press roll 40B, you may thermocompress in the state which covered both the press rolls 40A and 40B with the film-form buffer material.

긴 형상 폴리이미드 필름(50B)은, 가압 롤(40A)과, 권출 롤(90A)과 권취 롤(90B)에 의해 반송 가능하게 형성되어 있다. 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)을, 가압 롤(40A)의 회전 방향과 동일 방향으로 반송시킴으로써, 가압 롤(40A)의 압박면을, 가압 롤(40A)과 동기하여 이동 가능한 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)에 의해 피복한 상태에서 열 압착을 행할 수 있다. 또한, 가압 롤(40A)에 대한 접촉시의 각도 및 이격시의 각도를 조절하기 위해, 임의로 1개 이상의 가이드 롤을 마련해도 된다.The elongate polyimide film 50B is formed so as to be able to be conveyed by the pressure roll 40A, the unwinding roll 90A, and the winding roll 90B. By carrying out elongate polyimide film 50B in the same direction as the rotation direction of 40 A of press rolls, the elongate polyimide film which can move the press surface of 40 A of press rolls in synchronism with 40 A of press rolls. Thermocompression bonding can be performed in a state covered by 50B. In addition, in order to adjust the angle at the time of contact with the press roll 40A, and the angle at the time of separation, you may provide one or more guide rolls arbitrarily.

상기한 바와 같이, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)은, 가압 롤(40A)에 고정되어 있지 않다. 제2 실시 형태에 있어서의 환 형상 폴리이미드 필름(50A)의 경우와 마찬가지로, 가압 롤(40A)과 동일 속도로 반송되는 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)은, 열 압착면에 달하기 전에, 가압 롤(40A)의 일부를 피복하도록 접촉시켜 예열하는 것이 가능하게 되기 때문에, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)에 포함되는 수분을 저감할 수 있다. 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)이 가압 롤(40A)에 접하는 시간은 1초 이상으로 하는 것이 바람직하다.As described above, the elongate polyimide film 50B is not fixed to the pressure roll 40A. In the same manner as in the case of the annular polyimide film 50A in the second embodiment, the elongated polyimide film 50B conveyed at the same speed as the pressure roll 40A is pressurized before reaching the thermocompression bonding surface. Since it becomes possible to preheat by making a part of roll 40A contact and coat | cover it, the water contained in elongate polyimide film 50B can be reduced. It is preferable to make time for the elongate polyimide film 50B to contact the pressure roll 40A to 1 second or more.

긴 형상 폴리이미드 필름(50B)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 1 내지 200㎛의 범위 내인 것이 바람직하고, 10 내지 100의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 두께의 상한은, 열을 효율적으로 전달하기 위해 200㎛ 이하가 바람직하고, 가압 롤(40A)의 폭 방향의 온도 변동을 방지하기 위해서는 25㎛ 이하가 바람직하다. 두께의 하한은, 반복 사용에 견딜 수 있도록 1㎛ 이상이 바람직하고, 5㎛ 이상이 보다 바람직하다.Although the thickness of elongate polyimide film 50B is not specifically limited, For example, it is preferable to exist in the range of 1-200 micrometers, and it is more preferable to exist in the range of 10-100. The upper limit of the thickness is preferably 200 µm or less in order to efficiently transfer heat, and 25 µm or less is preferable in order to prevent temperature fluctuations in the width direction of the pressure roll 40A. 1 micrometer or more is preferable and, as for the minimum of thickness, withstand repeated use, 5 micrometers or more are more preferable.

긴 형상 폴리이미드 필름(50B)은, 단층 또는 복수층의 폴리이미드층을 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 적어도 1층이 비열가소성 폴리이미드이고, 또한 적어도 가압 롤(40A)과 접하는 측의 표면이 열가소성 폴리이미드층인 것이 바람직하다. 즉, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)은, 접착성이 높은 열가소성 폴리이미드층을 사용하여 금속제의 가압 롤(40A)의 표면과 밀착하기 쉽도록 해도 된다.The elongate polyimide film 50B may contain the single layer or the polyimide layer of multiple layers. In this case, it is preferable that at least one layer is a non-thermoplastic polyimide, and at least the surface of the side which contacts 40A of pressure rolls is a thermoplastic polyimide layer. That is, the elongate polyimide film 50B may be made to adhere to the surface of the metal press roll 40A easily using the thermoplastic polyimide layer with high adhesiveness.

한편, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)에 있어서, 폴리이미드 필름(10)과 직접 접촉시키는 측의 표면은, 비열가소성 폴리이미드를 포함하는 것이 바람직하다. 폴리이미드 필름(10)과 직접 접촉하는 표면을 비열가소성 폴리이미드층에 의해 형성함으로써, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)이 폴리이미드 필름(10)에 부분적으로 융착됨에 따른 주름, 얼룩 등의 외관 이상의 발생을 방지할 수 있다. 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)에 있어서의 비열가소성 폴리이미드층을 구성하는 폴리이미드는, 예를 들어 유리 전이 온도(Tg)가 300℃ 이상인 내열성을 갖는 폴리이미드인 것이 바람직하다. Tg가 300℃ 이상인 폴리이미드를 사용함으로써, 열 압착시의 가열에 의한 변형이나 손상을 회피하고, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)의 내구성을 높일 수 있다.On the other hand, in the elongate polyimide film 50B, it is preferable that the surface of the side which makes direct contact with the polyimide film 10 contains a non-thermoplastic polyimide. By forming the surface in direct contact with the polyimide film 10 by the non-thermoplastic polyimide layer, the appearance of wrinkles, stains, and the like caused by the elongate polyimide film 50B partially fused to the polyimide film 10 It can prevent occurrence. It is preferable that the polyimide which comprises the non-thermoplastic polyimide layer in elongate polyimide film 50B is a polyimide which has heat resistance whose glass transition temperature (Tg) is 300 degreeC or more, for example. By using the polyimide whose Tg is 300 degreeC or more, the deformation | transformation and damage by the heating at the time of thermocompression bonding are avoided, and the durability of elongate polyimide film 50B can be improved.

또한, 마찬가지의 관점에서, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)에 있어서의 비열가소성 폴리이미드층의 Tg는, 폴리이미드 필름(10)의 일부분을 구성하는 열가소성 폴리이미드(후술)의 Tg보다도, 예를 들어 10℃ 이상 높은 것이 바람직하다.In addition, from the same viewpoint, the Tg of the non-thermoplastic polyimide layer in the elongate polyimide film 50B is, for example, more than the Tg of the thermoplastic polyimide (to be described later) constituting a part of the polyimide film 10. For example, it is preferable that it is 10 degreeC or more high.

또한, 열 압착시의 온도 변화에 의한 치수 변화를 억제하고, 반송되어 오는 폴리이미드 필름(10)에 대한 정밀한 추종성을 확보하기 위해, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)의 전체의 열팽창 계수 E4는, 후술하는 폴리이미드 필름(10)의 전체의 열팽창 계수 E1에 대하여, 예를 들어 0.5×E4≤E1≤1.3×E4의 관계가 되도록 하는 것이 바람직하다.Moreover, in order to suppress the dimensional change by the temperature change at the time of thermocompression bonding, and to ensure the precise followability with respect to the polyimide film 10 conveyed, the thermal expansion coefficient E4 of the whole elongate polyimide film 50B is It is preferable to make it become the relationship of 0.5xE4 <= E1 <= 1.3 * E4, for example with respect to the thermal expansion coefficient E1 of the whole polyimide film 10 mentioned later.

긴 형상 폴리이미드 필름(50B)으로서, 예를 들어 도레이·듀퐁사제의 캡톤 V(상품명), 우베 고산사제의 유필렉스 S(상품명) 등의 시판되고 있는 폴리이미드 필름을 사용해도 된다.As elongate polyimide film 50B, you may use commercially available polyimide films, such as Kapton V (brand name) by Toray Dupont Corporation, Euphilex S (brand name) by Ube Koyama Co., Ltd., for example.

또한, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)으로서, 긴 형상인 CCL 등의 금속장 적층판을 사용해도 된다. 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)으로서 금속장 적층판을 사용함으로써, 핸들링성이 향상됨과 함께, 내구성을 높일 수 있다. 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)으로서 사용하는 금속장 적층판으로서는, 내구성, 두께 균일성의 관점에서, 캐스트법에 의해 제조된 금속장 적층판인 것이 바람직하다.As the elongate polyimide film 50B, a metal-clad laminate such as CCL having an elongated shape may be used. By using a metal-clad laminate as elongate polyimide film 50B, while handling property is improved, durability can be improved. As a metal sheet laminated board used as elongate polyimide film 50B, it is preferable that it is a metal sheet laminated board manufactured by the casting method from a viewpoint of durability and thickness uniformity.

필름 형상 완충재로서의 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)은, 열 압착시의 압력을 완화함과 함께 균등하게 배분하는 작용을 갖고, 폴리이미드 필름(10)과 금속박(20)을 균일하게 접착시키는 효과가 있다.The elongate polyimide film 50B as the film-like cushioning material has the effect of alleviating the pressure at the time of thermocompression bonding and evenly distributing, and having the effect of uniformly adhering the polyimide film 10 and the metal foil 20 to each other. have.

본 실시 형태에 있어서의 다른 구성 및 효과는, 제1 및 제2 실시 형태와 마찬가지이다. 또한, 본 실시 형태에 있어서도, 변형예로서, 도 9에 도시한 바와 같이 폴리이미드 필름(10) 대신에, 적층 구조를 갖는 폴리이미드 필름(10A)을 사용함으로써, 금속장 적층판(100A)을 제조할 수 있다.The other structure and effect in this embodiment are the same as that of 1st and 2nd embodiment. In addition, also in this embodiment, as a modified example, instead of the polyimide film 10, as shown in FIG. 9, the metal-clad laminated board 100A is manufactured by using the polyimide film 10A which has a laminated structure. can do.

긴 형상 폴리이미드 필름(50B)은, 열 압착 전에 미리 가열하여 수분을 저감해 두는 것이 바람직하다. 예를 들어, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)을 구성하는 폴리이미드는 흡습 특성이 있으며, 이에 따른 함유하는 수분이 열 압착시에 휘발되고, 특히 폴리이미드 필름(10A)의 경우에는, 편면 CCL측에 있어서의 구리박의 외관 불량을 야기할 우려가 있다. 열 압착시, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)을 사용하는 경우에는, 삽입각을 크게 하거나 하여 열 압착면에 달하기 전의 가열 롤(40A)과 접촉시키는 시간을 확보해 둠으로써, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)을 가열 롤(40A)의 일부를 덮도록 접촉시키고, 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)을 미리 가열하는 것이 가능하게 된다. 이때, 가열 롤(40A)에 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)이 접하는 시간은, 1초 이상으로 하는 것이 바람직하다.It is preferable that the elongate polyimide film 50B is heated before a thermocompression bonding to reduce moisture. For example, the polyimide constituting the elongated polyimide film 50B has a hygroscopic property, and the moisture contained therein is volatilized at the time of thermal compression, especially in the case of the polyimide film 10A, the one-sided CCL side There exists a possibility of causing the external appearance defect of the copper foil in. When using the elongate polyimide film 50B at the time of thermocompression bonding, elongate polyimide is made by increasing the insertion angle and making time to contact with the heating roll 40A before reaching the thermocompression surface. The film 50B is contacted so that a part of 40 A of heating rolls may be covered, and it becomes possible to heat the elongate polyimide film 50B beforehand. At this time, it is preferable to make time for the elongate polyimide film 50B to contact 40 A of heating rolls to 1 second or more.

이상, 제1 내지 제3 실시 형태에서 얻어지는 금속장 적층판(100, 100A)은, 폴리이미드 필름(10, 10A)이 금속박(20)의 표면의 요철에 불균일 없이 충전되어 있음과 함께, 폴리이미드 필름(10, 10A)과 금속박(20)이 견고하게 접착된 것이 된다. 폴리이미드 필름(10, 10A)과 금속박(20)의 접착 강도(박리 강도)는, 폴리이미드 필름(10, 10A)을 구성하는 폴리이미드의 원료 모노머의 종류나 비율, 열 처리 조건 등에 따라 제어할 수 있다.As described above, in the metal-clad laminates 100 and 100A obtained in the first to third embodiments, the polyimide films 10 and 10A are filled without irregularities in the irregularities of the surface of the metal foil 20, and the polyimide films (10, 10A) and the metal foil 20 are firmly adhere | attached. The adhesive strength (peel strength) of the polyimide films 10 and 10A and the metal foil 20 can be controlled according to the kind and ratio of the raw material monomers of the polyimide constituting the polyimide films 10 and 10A, heat treatment conditions, and the like. Can be.

[폴리이미드] [Polyimide]

이어서, 상기 제1 내지 제3 실시 형태에 있어서, 폴리이미드 필름(10, 10A), 피복층(50), 환 형상 폴리이미드 필름(50A) 또는 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)의 일부분 혹은 전체를 구성하는 폴리이미드에 대하여 설명한다. 폴리이미드는, 전구체인 폴리아미드산을 이미드화하여 이루어지는 것이며, 특정한 산 무수물과 디아민 화합물을 반응시켜 제조되기 때문에, 산 무수물과 디아민 화합물을 설명함으로써, 폴리이미드의 구체예가 이해된다. 또한, 본 발명에서 폴리이미드라 하는 경우, 폴리이미드 이외에, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에스테르이미드, 폴리실록산이미드, 폴리벤즈이미다졸이미드 등, 분자 구조 중에 이미드기를 갖는 폴리머를 포함하는 수지를 의미한다.Subsequently, in the first to third embodiments, a part or the whole of the polyimide films 10 and 10A, the coating layer 50, the annular polyimide film 50A or the elongated polyimide film 50B is constituted. The polyimide to be described will be described. Since a polyimide is made by imidating the polyamic acid which is a precursor, and is manufactured by making a specific acid anhydride and a diamine compound react, the specific example of a polyimide is understood by demonstrating an acid anhydride and a diamine compound. In the present invention, the polyimide includes a polymer having an imide group in a molecular structure, such as polyamideimide, polyetherimide, polyesterimide, polysiloxaneimide, polybenzimidazoleimide, etc. in addition to polyimide. Means resin.

폴리이미드의 원료가 되는 디아민 화합물로서는, 방향족 디아민 화합물, 지방족 디아민 화합물 등을 사용할 수 있지만, 예를 들어 NH2-Ar1-NH2로 표시되는 방향족 디아민 화합물을 적합한 것으로서 들 수 있다. 여기서, Ar1은 하기 식으로 표시되는 기로부터 선택되는 것이며, 아미노기의 치환 위치는 임의이지만, p, p' 위치가 바람직하다. Ar1은 치환기를 가질 수도 있지만, 바람직하게는 갖지 않거나, 갖는 경우에는 그의 치환기는 탄소수 1 내지 6의 저급 알킬 또는 저급 알콕시기가 바람직하다. 이들 방향족 디아민 화합물은 1종만을 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 병용해도 된다.As the diamine compound used as a raw material of the polyimide, can be used in the aromatic diamine compound include aliphatic diamine compounds such as, for example, there may be mentioned aromatic diamine compounds represented by NH 2 -Ar1-NH 2 as appropriate. Here, Ar1 is selected from the group represented by a following formula, The substitution position of an amino group is arbitrary, but p and p 'positions are preferable. Ar1 may have a substituent, but preferably does not have or, when it has, the substituent is preferably a lower alkyl or lower alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. These aromatic diamine compounds may use only 1 type, and may use 2 or more types together.

Figure pat00001
Figure pat00001

디아민 화합물과 반응시키는 산 무수물로서는, 폴리아미드산의 합성 용이함의 면에서, 방향족 테트라카르복실산 무수물이 바람직하다. 방향족 테트라카르복실산 무수물로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 O(CO)2Ar2(CO)2O로 표시되는 화합물을 적합한 것으로서 들 수 있다. 여기서, Ar2는, 하기 식으로 표시되는 4가의 방향족기인 것이 바람직하고, 산 무수물기[(CO)2O]의 치환 위치는 임의이지만, 대칭의 위치가 바람직하다. Ar2는, 치환기를 가질 수도 있지만, 바람직하게는 갖지 않거나, 갖는 경우에는 그의 치환기는 탄소수 1 내지 6의 저급 알킬기인 것이 바람직하다.As the acid anhydride to be reacted with the diamine compound, an aromatic tetracarboxylic anhydride is preferable in view of the ease of synthesis of the polyamic acid. The aromatic tetracarboxylic acid anhydrides can be given as is not particularly limited, for example, O (CO) 2 Ar2 (CO ) suitable for the compound represented by O 2. Here, Ar2 is preferably a tetravalent aromatic group represented by the following formula, and the substitution position of the acid anhydride group [(CO) 2 O] is arbitrary, but the position of symmetry is preferable. Although Ar <2> may have a substituent, it is preferable not to have it, or, when it has, it is preferable that the substituent is a C1-C6 lower alkyl group.

Figure pat00002
Figure pat00002

폴리이미드 필름(10, 10A), 피복층(50), 환 형상 폴리이미드 필름(50A), 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)은, 열가소성 폴리이미드층과 비열가소성 폴리이미드층을 포함하는 다층 구조일 수 있기 때문에, 열가소성 폴리이미드, 비열가소성 폴리이미드 각각에 사용되는 산 무수물과 디아민 화합물의 바람직한 예에 대하여 설명한다.The polyimide films 10 and 10A, the coating layer 50, the annular polyimide film 50A, and the elongate polyimide film 50B may have a multilayer structure including a thermoplastic polyimide layer and a non-thermoplastic polyimide layer. Therefore, the preferable example of the acid anhydride and diamine compound used for each of thermoplastic polyimide and non-thermoplastic polyimide is demonstrated.

열가소성 폴리이미드:Thermoplastic Polyimide:

폴리이미드가 열가소성 폴리이미드인 경우, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 원료의 디아미노 성분으로서, 예를 들어 3,4'-디아미노디페닐에테르, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판으로부터 선택되는 1종 이상을 50몰% 이상 함유하는 디아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 원료의 산 무수물 성분으로서, 예를 들어 피로멜리트산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 이무수물, 4,4'-옥시디프탈산 무수물로부터 선택되는 1종 이상을 50몰% 이상 함유하는 산 무수물을 사용하는 것이 바람직하다. 이들 디아민 화합물이나 산 무수물을 소정량 사용함으로써, 열가소성 폴리이미드에 의한 접착성이 충분히 발휘되고, 열 압착성이 높아진다.When the polyimide is a thermoplastic polyimide, the polyimide is not particularly limited. Examples of the polyimide include, for example, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, Using diamine compound containing 50 mol% or more of 1 or more types chosen from 1, 4-bis (4-amino phenoxy) benzene and 2, 2-bis [4- (4-amino phenoxy) phenyl] propane It is preferable. Moreover, although it is not specifically limited, As an acid anhydride component of a raw material, for example, pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride Using an acid anhydride containing at least 50 mol% of at least one selected from water, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride and 4,4'-oxydiphthalic anhydride desirable. By using a predetermined amount of these diamine compounds and acid anhydrides, the adhesiveness by a thermoplastic polyimide is fully exhibited, and thermocompression property becomes high.

비열가소성 폴리이미드:Non-thermoplastic Polyimide:

폴리이미드가 비열가소성 폴리이미드인 경우, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 원료의 디아미노 성분으로서, 예를 들어 1,3-페닐렌디아민, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 3,4'-디아미노디페닐에테르로부터 선택되는 1종 이상을 60몰% 이상 함유하는 디아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 원료의 산 무수물 성분으로서, 예를 들어 피로멜리트산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물로부터 선택되는 1종 이상을 60몰% 이상 함유하는 산 무수물을 사용하는 것이 바람직하다. 이들 디아민 화합물이나 산 무수물을 소정량 사용함으로써, 비열가소성 폴리이미드에 의한 내열성, 치수 안정성 등의 특성이 발휘된다.When the polyimide is a non-thermoplastic polyimide, the polyimide is not particularly limited. Examples of the polyimide include 1,3-phenylenediamine, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl as the diamino component of the raw material. It is preferable to use the diamine compound which contains 60 mol% or more of 1 or more types chosen from 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine and 3,4'- diamino diphenyl ether. Moreover, although it is not specifically limited, As an acid anhydride component of a raw material, 60 or more types chosen from pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride are 60, for example. It is preferable to use the acid anhydride containing mol% or more. By using a predetermined amount of these diamine compounds and acid anhydrides, characteristics, such as heat resistance and dimensional stability by non-thermoplastic polyimide, are exhibited.

상기 열가소성 폴리이미드 및 비열가소성 폴리이미드에 있어서, 디아민 화합물 및 산 무수물의 종류나, 각각의 몰비를 선정함으로써, 열팽창 계수, 저장 탄성률, 유리 전이 온도 등을 제어할 수 있다.In the thermoplastic polyimide and the non-thermoplastic polyimide, the thermal expansion coefficient, the storage modulus, the glass transition temperature, and the like can be controlled by selecting the kind of the diamine compound and the acid anhydride and the molar ratios thereof.

또한, 상기 열가소성 폴리이미드 및 비열가소성 폴리이미드에 있어서, 폴리이미드의 구조 단위를 복수 갖는 경우에는, 블록으로서 존재해도, 랜덤하게 존재하고 있어도 되지만, 랜덤하게 존재하는 것이 바람직하다.Moreover, in the said thermoplastic polyimide and non-thermoplastic polyimide, when it has two or more structural units of a polyimide, although it exists as a block or may exist at random, it is preferable to exist at random.

폴리이미드는, 예를 들어 용매 중에서, 상기한 디아민 화합물 및 산 무수물을 거의 등몰의 비율로 혼합하고, 반응 온도 0 내지 200℃의 범위에서, 바람직하게는 0 내지 100℃의 범위에서 반응시켜 폴리아미드산의 수지 용액을 얻고, 또한 이것을 이미드화함으로써 얻을 수 있다. 용매로서는, 예를 들어 N-메틸피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸술폭시드(DMSO), 황산디메틸, 술포란, 부티로락톤, 크레졸, 페놀, 할로겐화페놀, 시클로헥사논, 디옥산, 테트라히드로푸란, 디글라임, 트리글라임 등을 들 수 있다.The polyimide is, for example, in a solvent, the above-mentioned diamine compound and an acid anhydride are mixed in a substantially equimolar ratio, and reacted in a range of a reaction temperature of 0 to 200 ° C, preferably in a range of 0 to 100 ° C, and a polyamide It can obtain by obtaining the resin solution of an acid and imidating it. As a solvent, for example, N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethyl sulfate, sulfolane, butyrolactone, cresol, phenol And halogenated phenol, cyclohexanone, dioxane, tetrahydrofuran, diglyme, triglyme and the like.

통상, 폴리아미드산의 합성은, 반응 용기 등의 중에서 행해진다. 예를 들어, 폴리아미드산의 수지 용액을 임의의 기재 상에 도포하고, 건조하여 폴리아미드산층을 형성하고, 이어지는 열 처리에 의해 폴리아미드산층을 이미드화함으로써 폴리이미드층을 얻을 수 있다. 중첩적으로, 이미 형성되어 있는 폴리아미드산층 상 혹은 폴리이미드층 상에 도포를 반복해도 된다. 혹은, 임의의 기재의 표면에, 미리 이미드화한 폴리이미드를 용매에 용해시킨 용액의 형태로 도포하고, 건조시킴으로써 폴리이미드층을 형성해도 된다. 폴리이미드 필름(10, 10A), 피복층(50), 환 형상 폴리이미드 필름(50A), 긴 형상 폴리이미드 필름(50B)이 다층 구조인 경우, 임의의 기재 상에, 순차적으로 복수의 폴리아미드산의 수지 용액을 도포, 건조한 후에 일괄하여 이미드화하는 방법이 바람직하지만, 이것으로 한정되는 것은 아니다. 즉, 임의의 기재에 대하여, 다층 다이 등에 의해 복수의 폴리아미드산의 수지 용액을 일괄하여 도포하고, 이것을 건조한 후에 일괄하여 열 처리에 의한 이미드화를 행함으로써 복수의 폴리이미드층을 형성해도 된다. 또한, 복수의 폴리아미드산의 수지 용액의 도포 건조부터 이미드화까지를 순차적으로 행함으로써 1층씩 폴리이미드층을 형성해도 된다. 복수의 폴리이미드층을 형성할 때에, 이들 각 처리는 임의로 조합할 수 있다.Usually, the synthesis of polyamic acid is carried out in a reaction vessel or the like. For example, a polyimide layer can be obtained by applying a resin solution of polyamic acid on an arbitrary substrate, drying to form a polyamic acid layer, and imidating the polyamic acid layer by subsequent heat treatment. Overlapping, you may repeat application | coating on the polyamic-acid layer or polyimide layer already formed. Or you may form the polyimide layer by apply | coating in the form of the solution which melt | dissolved the polyimide previously imidized in the solvent, and drying it on the surface of arbitrary base materials. When the polyimide films 10 and 10A, the coating layer 50, the cyclic polyimide film 50A, and the elongate polyimide film 50B have a multilayer structure, a plurality of polyamic acids are sequentially formed on any substrate. Although the method of carrying out imidization collectively after apply | coating and drying a resin solution of is preferable, it is not limited to this. That is, you may form a some polyimide layer by apply | coating collectively the resin solution of several polyamic acid with a multilayer die etc. to an arbitrary base material, and carrying out the imidation by heat processing collectively after drying this. Moreover, you may form a polyimide layer one by one by performing application drying of the resin solution of several polyamic acid from imidation one by one sequentially. When forming a some polyimide layer, each of these processes can be combined arbitrarily.

폴리이미드 용액 또는 폴리아미드산의 수지 용액을, 임의의 기재 상에 도포하는 방법으로서는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 콤마, 다이, 나이프, 립 등의 코터로 대표되는 도포 수단으로 도포하는 것이 가능하다. 다층의 폴리이미드층의 형성시에는 폴리이미드 용액(또는 폴리아미드산의 수지 용액)을 기재에 도포, 건조하는 조작을 반복하는 방법이 바람직하다.The method of applying the polyimide solution or the resin solution of the polyamic acid on any substrate is not particularly limited, and may be applied by application means represented by a coater such as a comma, die, knife, or lip. . At the time of formation of a multilayer polyimide layer, the method of repeating the operation which apply | coats a polyimide solution (or the resin solution of polyamic acid) to a base material, and dries is preferable.

건조 및 가열 이미드화 처리의 방법으로서는, 예를 들어 뱃치 처리 방식, 연속 처리 방식 등의 임의의 방법을 선택 가능하다. 뱃치 처리 방식은, 폴리아미드산의 수지 용액을 긴 형상의 금속박에 도포한 후, 이미드화되어 있지 않은 상태에서 그의 적층체를 롤 형상으로 권취하고, 소정의 온도로 설정 가능한 열풍 건조로 중에 일정 시간 정치하고, 최종적으로 200℃ 이상의 고온에서 열 처리함으로써 이미드화를 완료시키는 방법이다. 연속 처리 방식은, 폴리아미드산의 수지 용액을 긴 형상의 금속박에 도포한 후, 건조로 내를 연속 이동시켜 소정의 열 처리 시간을 확보시킨 후, 최종적으로 200℃ 이상의 고온에서 열 처리를 행하는 방법이다. 이들은, 생산성이나 수율 등의 관점에서 어느 방법을 선택해도 되지만, 200℃ 이상의 고온에 있어서의 열 처리는 감압 환경하, 환원성 기체 분위기하, 혹은 환원성 기체 분위기하이면서 또한 감압 환경하에서 행하는 것이 바람직하다. 또한, 건조 및 이미드화 처리 공정에서의 가열에 의해 폴리아미드산 수지의 용매가 제거되어 이미드화되지만, 이때, 고온에서 급격하게 열 처리를 행하면 수지 표면에 스킨층이 생성되어 용매가 증발하기 어려워지거나, 발포가 발생하거나 하기 때문에, 저온부터 단계적으로 고온까지 상승시키면서 열 처리를 행하는 것이 바람직하다. 또한, 가열 이미드화 공정에 있어서는 최종적으로 300 내지 400℃의 온도에서 열 처리하는 것이 바람직하다.As a method of drying and heat | fever imidation treatment, arbitrary methods, such as a batch processing system and a continuous processing system, can be selected, for example. In the batch treatment method, after applying a resin solution of polyamic acid to an elongated metal foil, the laminate is wound in a roll shape without being imidized, and a predetermined time is set in a hot air drying furnace that can be set at a predetermined temperature. It is a method of completing imidation by standing still and finally heat-processing at high temperature 200 degreeC or more. In the continuous treatment method, after the resin solution of polyamic acid is applied to an elongated metal foil, the inside of the drying furnace is continuously moved to secure a predetermined heat treatment time, and finally, the heat treatment is performed at a high temperature of 200 ° C or higher. to be. Although these may select either method from a viewpoint of productivity, a yield, etc., it is preferable to perform heat processing in high temperature of 200 degreeC or more in a reduced pressure environment, a reducing gas atmosphere, or a reducing gas atmosphere, and under reduced pressure environment. In addition, the solvent of the polyamic acid resin is removed and imidized by heating in the drying and imidization treatment process. At this time, if the heat treatment is performed rapidly at a high temperature, a skin layer is formed on the surface of the resin, making it difficult to evaporate the solvent. Since foaming occurs, it is preferable to heat-process while raising from low temperature to high temperature step by step. Moreover, in a heat | fever imidation process, it is preferable to heat-process at the temperature of 300-400 degreeC finally.

[실시예]EXAMPLE

이하에 실시예를 나타내어, 본 발명의 특징을 보다 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명의 범위는, 실시예로 한정되지 않는다. 또한, 이하의 실시예에 있어서, 특별히 언급하지 않는 한 각종 측정, 평가는 하기에 의한 것이다.An Example is shown below and the characteristic of this invention is demonstrated more concretely. However, the scope of the present invention is not limited to the Example. In addition, in the following Examples, unless otherwise indicated, various measurements and evaluation are based on the following.

[열팽창 계수(CTE)] [Coefficient of Thermal Expansion (CTE)]

3mm×20mm의 사이즈의 폴리이미드 필름을, 서모 메카니컬 애널라이저(Bruker사제, 상품명; 4000SA)를 사용하여, 5.0g의 하중을 가하면서 일정한 승온 속도로 30℃부터 265℃까지 승온시키고, 또한 이 온도에서 10분 유지한 후, 5℃/분의 속도로 냉각하여, 240℃부터 100℃까지의 평균 열팽창 계수(선 열팽창 계수)를 구하였다.The polyimide film of the size of 3mm x 20mm was heated up from 30 degreeC to 265 degreeC at a constant temperature increase rate, applying the load of 5.0g using a thermomechanical analyzer (Bruker company make, brand name; 4000SA), and also at this temperature After hold | maintaining for 10 minutes, it cooled at the speed | rate of 5 degreeC / min, and calculated | required the average thermal expansion coefficient (linear thermal expansion coefficient) from 240 degreeC to 100 degreeC.

[유리 전이 온도(Tg)] [Glass Transition Temperature (Tg)]

유리 전이 온도는, 5mm×20mm의 사이즈의 폴리이미드 필름을, 동적 점탄성 측정 장치(DMA: 유·비·엠사제, 상품명; E4000F)를 사용하여, 30℃부터 400℃까지 승온 속도 4℃/분, 주파수 11Hz로 측정을 행하여, 탄성률 변화(tanδ)가 최대가 되는 온도를 유리 전이 온도로 하였다.The glass transition temperature is a polyimide film having a size of 5 mm x 20 mm, using a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA: U.B., Inc., trade name; E4000F), and the temperature increase rate is 4 ° C / min from 30 ° C to 400 ° C. The measurement was performed at a frequency of 11 Hz, and the temperature at which the elastic modulus change (tan δ) becomes the maximum was taken as the glass transition temperature.

[점도의 측정] [Measurement of viscosity]

점도의 측정은, E형 점도계(브룩필드사제, 상품명; DV-II+Pro)를 사용하여, 25℃에서의 점도를 측정하였다. 토크가 10% 내지 90%가 되도록 회전수를 설정하고, 측정을 개시하고 나서 2분 경과 후, 점도가 안정되었을 때의 값을 판독하였다.The measurement of the viscosity measured the viscosity in 25 degreeC using the E-type viscosity meter (the Brookfield company make, brand name; DV-II + Pro). The rotation speed was set so that torque might be 10%-90%, and the value when the viscosity stabilized after 2 minutes after starting a measurement was read.

[필 강도] [Peel Strength]

필 강도는, 텐실론 테스터(도요 세이키 세이사쿠쇼제, 상품명; 스트로그래프 VE-1D)를 사용하여, 도체층측의 금속이 폭 1mm의 배선으로 가공된 금속장 적층판의 수지층측을 양면 테이프에 의해 SUS판에 고정하고, 180° 방향으로 50mm/분의 속도로, 수지층으로부터 금속 배선을 박리할 때의 힘을 구하였다.Peel strength is a double-sided tape on the resin layer side of the metal-clad laminate in which the metal on the conductor layer side is processed by wiring having a width of 1 mm using a tensilon tester (trade name: Straw Graph VE-1D manufactured by Toyo Seiki Seisakusho). It fixed to the SUS board and calculated | required the force at the time of peeling a metal wiring from a resin layer at the speed | rate of 50 mm / min in 180 degree direction.

[열 압착면 충전 상태] [Thermal pressing surface charge state]

열 압착 후의 동장 적층판의 구리박을 전체 폭에 걸쳐서 에칭한 후, 폴리이미드 필름 표면을 눈으로 봐서 관찰하고, 전체면이 균일한 색조인 것을 전체면 양호로 하고, 색조가 상이한 부분이 있는 것을 불량으로 하였다.After etching the copper foil of the copper clad laminated board after thermocompression bonding over the whole width | variety, the surface of a polyimide film is visually observed and observed that the whole surface is a uniform color tone, and it is defective that there exists a part from which a color tone differs. It was made.

실시예 등에서 사용한 약호는, 이하의 화합물을 나타낸다.The symbol used in the Example etc. shows the following compounds.

BAPP: 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판BAPP: 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane

m-TB: 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐m-TB: 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl

PMDA: 피로멜리트산 이무수물PMDA: pyromellitic dianhydride

BPDA: 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물BPDA: 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride

DMAc: N,N-디메틸아세트아미드DMAc: N, N-dimethylacetamide

<폴리아미드산 용액의 합성> Synthesis of Polyamic Acid Solution

(합성예 1) Synthesis Example 1

열전대 및 교반기를 구비함과 함께 질소 도입이 가능한 반응 용기에, 87.5kg의 DMAc를 넣고, 또한 이 반응 용기에 8.11kg의 BAPP를 투입하여 용기 중에서 교반하면서 용해시켰다. 이어서, 4.10kg의 PMDA를 투입하였다. 그 후, 3시간 교반을 계속하여 중합 반응을 행하여, 폴리아미드산 a의 수지 용액 1을 얻었다. 수지 용액 1(고형분: 12.5%)의 점도는 1,300cps였다. 또한, 폴리아미드산 a를 이미드화하여 얻어지는 폴리이미드는 열가소성이며, 폴리아미드산 a로 형성된 두께 25㎛의 폴리이미드 필름의 열팽창 계수(CTE)는 55×10-6/K이고, 유리 전이 온도는 320℃였다.87.5 kg of DMAc was put into a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer, and nitrogen was introduced, and 8.11 kg of BAPP was added to the reaction vessel and dissolved while stirring in the vessel. Subsequently, 4.10 kg of PMDA was added. Then, stirring was continued for 3 hours and polymerization reaction was performed and the resin solution 1 of polyamic acid a was obtained. The viscosity of the resin solution 1 (solid content: 12.5%) was 1,300 cps. In addition, the polyimide obtained by imidating polyamic acid a is thermoplastic, and the thermal expansion coefficient (CTE) of the polyimide film of thickness 25micrometer formed with polyamic acid a is 55x10 <-6> / K, and glass transition temperature is It was 320 degreeC.

(합성예 2) Synthesis Example 2

열전대 및 교반기를 구비함과 함께 질소 도입이 가능한 반응 용기에, 212.5kg의 DMAc를 넣고, 또한 이 반응 용기에 17.9kg의 m-TB를 투입하여 용기 중에서 교반하면서 용해시켰다. 이어서, 4.94kg의 BPDA 및 14.7kg의 PMDA를 투입하였다. 그 후, 3시간 교반을 계속하여 중합 반응을 행하여, 폴리아미드산 b의 수지 용액 2를 얻었다. 수지 용액 2(고형분: 15%)의 점도는 26,500cps였다. 또한, 폴리아미드산 b를 이미드화하여 얻어지는 폴리이미드는 비열가소성이며, 폴리아미드산 b로 형성된 두께 25㎛의 폴리이미드 필름의 열팽창 계수(CTE)는 22×10-6/K였다.212.5 kg DMAc was put into the reaction container which can be introduce | transduced with a thermocouple and a stirrer, and 17.9 kg m-TB was added to this reaction container, and it melt | dissolved in stirring in a container. Then 4.94 kg BPDA and 14.7 kg PMDA were added. Thereafter, stirring was continued for 3 hours to conduct a polymerization reaction, to obtain a resin solution 2 of polyamic acid b. The viscosity of the resin solution 2 (solid content: 15%) was 26,500 cps. In addition, the polyimide obtained by imidating the polyamic acid b was non-thermoplastic, and the thermal expansion coefficient (CTE) of the 25-micrometer-thick polyimide film formed from the polyamic acid b was 22x10 <-6> / K.

[폴리이미드 피복 롤의 제조] [Production of Polyimide Coating Roll]

내부에 히터를 구비한 금속제 롤을 회전시키면서, 합성예 2에서 제조한 수지 용액 2를 금속제 롤의 표면에 코터를 사용하여 도포한 후, 히터에 의해 금속제 롤을 가열함으로써 실온부터 360℃까지 1시간에 걸쳐서 승온하여, 표면에 소정의 두께의 폴리이미드 피복층을 갖는 폴리이미드 피복 롤을 얻었다.After rotating the metal roll provided with the heater inside, the resin solution 2 produced in the synthesis example 2 was apply | coated to the surface of the metal roll using a coater, and the metal roll was heated by a heater for 1 hour from room temperature to 360 degreeC. It heated up over and obtained the polyimide coating roll which has a polyimide coating layer of predetermined thickness on the surface.

(실시예 1) (Example 1)

긴 형상의 구리박 1(압연 구리박, 두께; 12㎛, 가로 폭; 500mm)을 기재로 하여, 구리박 1의 조화면에 다이 코터를 사용하여, 합성예 1에서 제조한 수지 용액 1을 경화 후의 두께가 2.5㎛가 되도록 균일하게 도포한 후, 130℃에서 가열 건조하여 용매를 제거하였다. 이어서, 이 도포면측에 합성예 2에서 제조한 수지 용액 2를 경화 후의 두께가 20㎛가 되도록 균일하게 도포하고, 120℃에서 가열 건조하여 용매를 제거하였다. 또한, 이 도포면측에 제1층째에 도포한 것과 동일한 수지 용액 1을 경화 후의 두께가 2.5㎛가 되도록 균일하게 도포하고, 130℃에서 가열 건조하여 용매를 제거하고, 360℃까지 단계적으로 열 처리하여, 두께가 25㎛인 폴리이미드 필름을 갖는 편면 동장 적층판 1a를 얻었다.The resin solution 1 manufactured by the synthesis example 1 was hardened using the die-coater on the rough surface of copper foil 1 based on elongate copper foil 1 (rolled copper foil, thickness; 12 micrometers, width: 500 mm). After apply | coating uniformly so that the thickness might be set to 2.5 micrometers, it heat-dried at 130 degreeC and removed the solvent. Subsequently, the resin solution 2 produced in the synthesis example 2 was apply | coated uniformly so that the thickness after hardening might be set to 20 micrometers on this application | coating surface side, it heat-dried at 120 degreeC, and the solvent was removed. Further, the same resin solution 1 as applied to the first layer on the coated surface side was uniformly applied so that the thickness after curing was 2.5 μm, heated and dried at 130 ° C. to remove the solvent, and heat-treated stepwise to 360 ° C. And the single-side copper clad laminated board 1a which has a polyimide film whose thickness is 25 micrometers was obtained.

한 쌍의 가압 롤을 갖는 가열 가압 장치를 사용하여, 편면 동장 적층판 1a의 구리박 1측에 폴리이미드 피복 롤 1(폴리이미드 피복층의 두께; 50㎛)을 배치하고, 또한 편면 동장 적층판 1a의 폴리이미드층측에 긴 형상의 구리박 2(전해 구리박, 두께; 12㎛, 가로 폭; 540mm)를 배치하고, 또한 구리박 2의 열 압착면의 반대측에 금속제 롤을 배치하였다. 이들을, 가이드 롤을 경유하여 반송하면서, 질소 분위기하에서, 롤 표면 온도; 300 내지 400℃, 프레스 롤의 선압; 38.6 내지 115.8kgf/cm의 범위 내, 반송 속도; 4.0m/분의 조건으로, 연속적으로 열 압착시켜, 양면 동장 적층판 1b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 1b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다.The polyimide coating roll 1 (thickness of a polyimide coating layer; 50 micrometers) is arrange | positioned at the copper foil 1 side of single-sided copper clad laminated board 1a using the heating pressurization apparatus which has a pair of pressure rolls, and the poly of the single-sided copper clad laminated board 1a The long copper foil 2 (electrolytic copper foil, thickness; 12 micrometers, width | variety width; 540 mm) was arrange | positioned at the mid layer side, and the metal roll was arrange | positioned on the opposite side to the thermocompression bonding surface of copper foil 2. Roll surface temperature in nitrogen atmosphere, conveying these via a guide roll; 300 to 400 ° C., linear pressure of the press roll; Conveying speed, in the range of 38.6 to 115.8 kgf / cm; On the conditions of 4.0 m / min, it thermally crimped continuously and the double-sided copper clad laminated board 1b was obtained. The external appearance of the copper foil surface on the coating surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 1b was favorable in the whole surface, and the peeling strength of the copper foil on the crimping side was 1.6 kN / m.

(비교예 1) (Comparative Example 1)

양쪽의 가압 롤을 금속제 롤로 한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 양면 동장 적층판 1b'을 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 1b'의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 일부 불량이며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.2kN/m이었다.Except having made both the press rolls into the metal roll, it carried out similarly to Example 1, and obtained double-sided copper clad laminated board 1b '. The external appearance of the copper foil surface on the coating surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 1b 'was partially defective, and the peel strength of the copper foil on the crimping side was 1.2 kN / m.

실시예 1 및 비교예 1의 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the results of Example 1 and Comparative Example 1.

Figure pat00003
Figure pat00003

(실시예 2) (Example 2)

폴리이미드 피복 롤 2(폴리이미드 피복층의 두께; 75㎛)를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 양면 동장 적층판 2b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 2b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다.Except having used polyimide coating roll 2 (thickness of a polyimide coating layer; 75 micrometers), it carried out similarly to Example 1, and obtained double-sided copper clad laminated board 2b. The external appearance of the copper foil surface of the coated surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 2b was favorable for the whole surface, and the peeling strength of the copper foil of the crimping | compression-bonding side was 1.6 kN / m.

(실시예 3) (Example 3)

폴리이미드 피복 롤 3(폴리이미드 피복층의 두께; 25㎛)을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 양면 동장 적층판 3b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 3b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다.Except having used polyimide coating roll 3 (thickness of a polyimide coating layer; 25 micrometers), it carried out similarly to Example 1, and obtained double-sided copper clad laminated board 3b. The external appearance of the copper foil surface of the application surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 3b was favorable for the whole surface, and the peeling strength of the copper foil of the crimping | compression-bonding side was 1.6 kN / m.

(실시예 4) (Example 4)

폴리이미드 피복 롤 4(폴리이미드 피복층의 두께; 20㎛)를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 양면 동장 적층판 4b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 4b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다.Except having used polyimide coating roll 4 (thickness of a polyimide coating layer; 20 micrometers), it carried out similarly to Example 1, and obtained double-sided copper clad laminated board 4b. The external appearance of the copper foil surface of the coated surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 4b was favorable for the whole surface, and the peeling strength of the copper foil of the crimping | compression-bonding side was 1.6 kN / m.

(실시예 5) (Example 5)

폴리이미드 피복 롤 5(폴리이미드 피복층의 두께; 15㎛)를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 양면 동장 적층판 5b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 5b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다.Except having used polyimide coating roll 5 (thickness of polyimide coating layer; 15 micrometers), it carried out similarly to Example 1, and obtained double-sided copper clad laminated board 5b. The external appearance of the copper foil surface of the coated surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 5b was favorable for the whole surface, and the peeling strength of the copper foil of the crimping | compression-bonding side was 1.6 kN / m.

(실시예 6) (Example 6)

폴리이미드 피복 롤 6(폴리이미드 피복층의 두께; 12㎛)을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 양면 동장 적층판 6b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 6b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다.Except having used polyimide coating roll 6 (thickness of a polyimide coating layer; 12 micrometers), it carried out similarly to Example 1, and obtained double-sided copper clad laminated board 6b. The external appearance of the copper foil surface of the coated surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 6b was favorable for the whole surface, and the peeling strength of the copper foil of the crimping | compression-bonding side was 1.6 kN / m.

(실시예 7) (Example 7)

폴리이미드 피복 롤 7(폴리이미드 피복층의 두께; 10㎛)을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 양면 동장 적층판 7b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 7b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다.Except having used polyimide coating roll 7 (thickness of polyimide coating layer; 10 micrometers), it carried out similarly to Example 1, and obtained double-sided copper clad laminated board 7b. The external appearance of the copper foil surface of the coated surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 7b was favorable for the whole surface, and the peeling strength of the copper foil of the crimping | compression-bonding side was 1.6 kN / m.

(실시예 8) (Example 8)

폴리이미드 피복 롤 8(폴리이미드 피복층의 두께; 8㎛)을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 양면 동장 적층판 8b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 8b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다.Except having used polyimide coating roll 8 (thickness of polyimide coating layer; 8 micrometers), it carried out similarly to Example 1, and obtained double-sided copper clad laminated board 8b. The external appearance of the copper foil surface of the coated surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 8b was favorable for the whole surface, and the peeling strength of the copper foil of the crimping | compression-bonding side was 1.6 kN / m.

(실시예 9) (Example 9)

폴리이미드 피복 롤 9(폴리이미드 피복층의 두께; 100㎛)를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 양면 동장 적층판 9b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 9b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다.Except having used the polyimide coating roll 9 (thickness of a polyimide coating layer; 100 micrometers), it carried out similarly to Example 1, and obtained double-sided copper clad laminated board 9b. The external appearance of the copper foil surface of the coated surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 9b was favorable for the whole surface, and the peeling strength of the copper foil of the crimping | compression-bonding side was 1.6 kN / m.

(실시예 10) (Example 10)

실시예 1에 있어서의 편면 동장 적층판 1a의 구리박 1측에 폴리이미드 피복 롤 1을 배치하는 대신에, 예비 가열에 의해 수분을 제거한 폴리이미드 벨트 10(두께; 20㎛, 인장 강도; 400MPa, 인장 탄성률; 9GPa, 심리스 타입)을 배치한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 양면 동장 적층판 10b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 10b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다. 또한, 폴리이미드 벨트 10의 가압 롤과의 접촉 시간은 2초로 하였다.Instead of arranging the polyimide coating roll 1 on the copper foil 1 side of the single-sided copper clad laminate 1a in Example 1, the polyimide belt 10 (thickness; 20 µm, tensile strength; 400 MPa, tensile) from which moisture was removed by preheating A double-sided copper clad laminate 10b was obtained in the same manner as in Example 1 except that the elastic modulus; 9 GPa, seamless type). The external appearance of the copper foil surface of the coated surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 10b was favorable for the whole surface, and the peeling strength of the copper foil of the crimping | compression-bonding side was 1.6 kN / m. In addition, the contact time with the press roll of the polyimide belt 10 was 2 seconds.

(실시예 11) (Example 11)

실시예 1에 있어서의 편면 동장 적층판 1a의 구리박 1측에 폴리이미드 피복 롤 1을 배치하는 대신에, 예비 가열에 의해 수분을 제거한 시판되고 있는 폴리이미드 필름 11(두께; 25㎛)을 배치한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 양면 동장 적층판 11b를 얻었다. 얻어진 양면 동장 적층판 11b의 도포면측의 구리박 표면의 외관은 전체면 양호하며, 압착측의 구리박의 필 강도는 1.6kN/m이었다. 또한, 폴리이미드 필름 11의 가압 롤에 대한 삽입각은 70°로 하였다.Instead of placing the polyimide coating roll 1 on the copper foil 1 side of the single-sided copper clad laminated board 1a in Example 1, the commercially available polyimide film 11 (thickness; 25 micrometers) which removed water by preheating was arrange | positioned. A double-sided copper clad laminate 11b was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above. The external appearance of the copper foil surface of the coated surface side of the obtained double-sided copper clad laminated board 11b was favorable for the whole surface, and the peeling strength of the copper foil of the crimping | compression-bonding side was 1.6 kN / m. In addition, the insertion angle with respect to the pressure roll of the polyimide film 11 was 70 degrees.

이상, 상세하게 설명한 바와 같이, 본 실시 형태의 금속장 적층판의 제조 방법에 의하면, 폴리이미드 필름이 금속박의 표면의 요철에 불균일 없이 충전되어 있으며, 폴리이미드 필름과 금속박이 견고하게 접착된 금속장 적층판이 얻어진다. 이와 같이 하여 제조된 금속장 적층판을 FPC 등의 회로 기판 재료로서 사용함으로써, 미세화된 배선과 절연 수지층의 밀착성이 우수한 회로 기판을 제조할 수 있다. 따라서, 본 발명에 의해, 회로 기판 및 회로 기판을 사용하는 전자 제품의 수율과 신뢰성을 향상시킬 수 있다.As described above, as described in detail, according to the manufacturing method of the metal-clad laminate of the present embodiment, the metal-clad laminate in which the polyimide film is filled unevenly on the unevenness of the surface of the metal foil, and the polyimide film and the metal foil are firmly adhered to each other. Is obtained. By using the metal sheet laminate thus produced as a circuit board material such as FPC, a circuit board excellent in adhesion between the micronized wiring and the insulating resin layer can be produced. Therefore, according to this invention, the yield and reliability of an electronic product using a circuit board and a circuit board can be improved.

이상, 본 발명의 실시 형태를 예시의 목적으로 상세하게 설명했지만, 본 발명은 상기 실시 형태로 제약되지 않는다.As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail for the purpose of illustration, this invention is not restrict | limited to the said embodiment.

10, 10A…폴리이미드 필름
20…금속박
30…가압 롤(피복 가압 롤)
31…금속제 롤
33…접착제층
35…폴리이미드 피복층
40…가압 롤
50…피복층
50A…환 형상 폴리이미드 필름
50B…긴 형상 폴리이미드 필름
61…도포 수단
63…수지 용액
71…기재
73…폴리이미드층
80A, 80B…가이드 롤
90A…권출 롤
90B…권취 롤
100, 100A…금속장 적층판
10, 10A... Polyimide film
20... Metal foil
30... Pressurized roll (coating pressurized roll)
31... Metal roll
33.. Adhesive layer
35... Polyimide coating layer
40... Pressurized roll
50... Coating layer
50A... Annular polyimide film
50B... Long shape polyimide film
61... Application means
63... Resin solution
71... materials
73... Polyimide layer
80A, 80B... Guide roll
90A... Unwinding roll
90B... Winding roll
100, 100A... Metal sheet laminate

Claims (15)

폴리이미드 필름과 금속박을 중첩하여 연속적으로 한 쌍의 가압 롤간을 통과시킴으로써, 상기 폴리이미드 필름과 상기 금속박을 열 압착하여 금속장 적층판을 제조하는 방법으로서,
상기 한 쌍의 가압 롤 중, 적어도 편측의 가압 롤의 압박면을, 해당 가압 롤과 동기하여 이동 가능한 필름 형상 완충재에 의해 피복한 상태에서 열 압착을 행함과 함께, 상기 필름 형상 완충재가, 비열가소성 폴리이미드를 포함하는 비열가소성 폴리이미드층을 포함하는 것인 것을 특징으로 하는 금속장 적층판의 제조 방법.
As a method of manufacturing a metal-clad laminate by thermally compressing the polyimide film and the metal foil by superimposing a polyimide film and a metal foil and passing a pair of pressure rolls continuously,
Among the pair of press rolls, at least one press face of the press roll on the one side is thermally crimped in a state of being covered with a film-shaped buffer member movable in synchronism with the press roll, and the film-shaped buffer member is non-thermoplastic. A non-thermoplastic polyimide layer containing a polyimide is included.
제1항에 있어서, 상기 필름 형상 완충재가, 상기 편측의 가압 롤의 표면을 둘레 방향으로 피복하는 피복층을 형성하고 있는 금속장 적층판의 제조 방법.The manufacturing method of the metal clad laminated board of Claim 1 in which the said film-form buffer material forms the coating layer which coat | covers the surface of the said pressurized roll of the one side in the circumferential direction. 제2항에 있어서, 상기 편측의 가압 롤이 상기 피복층을 갖는 피복 가압 롤이고, 다른쪽의 가압 롤이 금속제 롤인 것을 특징으로 하는 금속장 적층판의 제조 방법.The said one side press roll is a coating press roll which has the said coating layer, and the other press roll is a metal roll, The manufacturing method of the metal-clad laminated board of Claim 2 characterized by the above-mentioned. 제3항에 있어서, 상기 금속제 롤을 상기 금속박측에 배치하는 것을 특징으로 하는 금속장 적층판의 제조 방법.The said metal roll is arrange | positioned at the said metal foil side, The manufacturing method of the metal-clad laminated board of Claim 3 characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, 상기 필름 형상 완충재가 환 형상으로 형성되어 있고, 상기 편측의 가압 롤과, 복수의 가이드 롤에 의해 회전 가능하게 형성되어 있는 금속장 적층판의 제조 방법.The manufacturing method of the metal clad laminated board of Claim 1 in which the said film-shaped buffer material is formed in ring shape, and is formed rotatably by the said one side press roll and the some guide roll. 제1항에 있어서, 상기 필름 형상 완충재가 길게 형성되어 있고, 롤·투·롤식으로 반송되는 금속장 적층판의 제조 방법.The said film-shaped shock absorbing material is long formed, and the manufacturing method of the metal clad laminated board of Claim 1 conveyed by roll-to-roll type. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필름 형상 완충재의 두께가 1 내지 200㎛의 범위 내인 것을 특징으로 하는 금속장 적층판의 제조 방법.The thickness of the said film-shaped buffer material exists in the range of 1-200 micrometers, The manufacturing method of the metal-clad laminated board of any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리이미드 필름은 단층 또는 복수층의 폴리이미드층을 포함하고, 적어도 1층이 비열가소성 폴리이미드이며, 또한 적어도 상기 금속박과 열 압착되는 측의 표면이 열가소성 폴리이미드층인 금속장 적층판의 제조 방법.The side according to any one of claims 1 to 6, wherein the polyimide film comprises a single layer or a plurality of layers of polyimide layers, and at least one layer is a non-thermoplastic polyimide, and is at least thermally compressed with the metal foil. The manufacturing method of the metal sheet laminated board whose surface is a thermoplastic polyimide layer. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리이미드 필름이 기재와, 해당 기재 상에 적층 형성된 폴리이미드층을 포함하는 적층 구조체인 금속장 적층판의 제조 방법.The method for producing a metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 6, wherein the polyimide film is a laminate structure comprising a substrate and a polyimide layer laminated on the substrate. 제9항에 있어서, 상기 기재가 구리박인 금속장 적층판의 제조 방법.The manufacturing method of the metal sheet laminated board of Claim 9 whose said base material is copper foil. 폴리이미드 필름과 금속박을 중첩하여 연속적으로 한 쌍의 가압 롤간을 통과시킴으로써, 상기 폴리이미드 필름과 상기 금속박을 열 압착하여 금속장 적층판을 제조할 때에 사용되는 피복 가압 롤의 제조 방법으로서,
상기 피복 가압 롤은, 금속제 롤과, 해당 금속제 롤의 표면을 둘레 방향으로 피복하는 피복층을 갖는 것이며,
상기 금속제 롤의 표면에 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액을 도포하는 공정과,
상기 금속제 롤 상에서 상기 수지 용액의 열 처리를 완료시킴으로써 상기 피복층을 형성하는 공정
을 포함하는 것을 특징으로 하는 피복 가압 롤의 제조 방법.
As a manufacturing method of the coating press roll used when a polyimide film and a metal foil are overlapped and continuously passed between a pair of press rolls, the said polyimide film and the said metal foil are thermo-compressed and a metal sheet laminated board is manufactured,
The said coating press roll has a metal roll and the coating layer which coat | covers the surface of this metal roll in a circumferential direction,
Applying a resin solution of a polyimide or polyimide precursor to the surface of the metal roll;
Process of forming the said coating layer by completing the heat processing of the said resin solution on the said metal roll
Method of producing a coating press roll comprising a.
제11항에 있어서, 상기 금속제 롤을 회전시키면서, 그의 표면에 상기 수지 용액을 도포하는 것을 특징으로 하는 피복 가압 롤의 제조 방법.The manufacturing method of the coating press roll of Claim 11 which apply | coats the said resin solution to the surface, rotating the said metal roll. 제12항에 있어서, 도포 수단을, 상기 금속제 롤의 회전축 방향으로 상대적으로 이동시키면서 상기 수지 용액을 도포하는 것을 특징으로 하는 피복 가압 롤의 제조 방법.The manufacturing method of the coating press roll of Claim 12 which apply | coats the said resin solution, moving an application | coating means relatively to the rotation axis direction of the said metal roll. 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속제 롤의 가열 기구를 사용하여, 해당 금속제 롤을 가열함으로써 상기 수지 용액의 열 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 피복 가압 롤의 제조 방법.The manufacturing method of the coating press roll as described in any one of Claims 11-13 which heat-processes the said resin solution by heating the said metal roll using the heating mechanism of the said metal roll. 폴리이미드 필름과 금속박을 중첩하여 연속적으로 한 쌍의 가압 롤간을 통과시킴으로써, 상기 폴리이미드 필름과 상기 금속박을 열 압착하여 금속장 적층판을 제조할 때에 사용되는 피복 가압 롤의 수복 방법으로서,
상기 피복 가압 롤은, 금속제 롤과, 해당 금속제 롤의 표면을 둘레 방향으로 피복하는 피복층을 갖는 것이며,
상기 피복층의 표면의 적어도 일부에, 폴리이미드 또는 폴리이미드 전구체의 수지 용액을 도포하는 공정과,
상기 피복 가압 롤 상에서 상기 수지 용액의 열 처리를 완료시키는 공정
을 포함하는 것을 특징으로 하는 피복 가압 롤의 수복 방법.
A method for repairing a coated pressure roll used when a polyimide film and a metal foil are overlapped and continuously passed through a pair of pressure rolls to thermally compress the polyimide film and the metal foil to produce a metal-clad laminate.
The said coating press roll has a metal roll and the coating layer which coat | covers the surface of this metal roll in a circumferential direction,
Applying a resin solution of a polyimide or polyimide precursor to at least a part of the surface of the coating layer;
Process of completing the heat treatment of the resin solution on the coating pressure roll
The repair method of the coating press roll characterized by including the.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111703185B (en) * 2020-07-09 2021-11-05 昆山乐邦精密科技有限公司 Polyimide screen hot-pressing device and using method thereof

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6900138B1 (en) * 2020-09-18 2021-07-07 株式会社日本製鋼所 Laminate molding press equipment, laminating molding system, and laminating molding method
CN112739048A (en) * 2020-12-10 2021-04-30 厦门柔性电子研究院有限公司 Roll type manufacturing method of double-sided flexible circuit board and flexible circuit board manufactured by same

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6335991A (en) * 1986-07-30 1988-02-16 森本 吉春 Blind displaying thick or thin figure
JP2001046963A (en) * 1999-08-13 2001-02-20 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Method of repairing metallic surface
JP2001129918A (en) 1999-11-01 2001-05-15 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Manufacturing method of laminated sheet
JP2007118477A (en) * 2005-10-31 2007-05-17 Toray Ind Inc Double-sided metal foil lamination plate and method for manufacturing the same
JP2009066911A (en) 2007-09-13 2009-04-02 Toray Ind Inc Manufacturing method of flexible metal laminate
JP2009262534A (en) * 2008-03-31 2009-11-12 Toray Ind Inc Method of manufacturing metal foil laminated film

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06335991A (en) * 1993-05-28 1994-12-06 Mitsui Toatsu Chem Inc Heat-resistant resin coated elastic roll
JP2004358677A (en) 2003-06-02 2004-12-24 Nippon Steel Chem Co Ltd Method for manufacturing laminate
CN100503215C (en) * 2003-12-26 2009-06-24 株式会社钟化 Method for producing flexible laminate
FI20106107A (en) * 2010-10-26 2012-03-19 Metso Paper Inc A method for manufacturing a roll of a fiber web machine and a roll of a fiber web machine

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6335991A (en) * 1986-07-30 1988-02-16 森本 吉春 Blind displaying thick or thin figure
JP2001046963A (en) * 1999-08-13 2001-02-20 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Method of repairing metallic surface
JP2001129918A (en) 1999-11-01 2001-05-15 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Manufacturing method of laminated sheet
JP2007118477A (en) * 2005-10-31 2007-05-17 Toray Ind Inc Double-sided metal foil lamination plate and method for manufacturing the same
JP2009066911A (en) 2007-09-13 2009-04-02 Toray Ind Inc Manufacturing method of flexible metal laminate
JP2009262534A (en) * 2008-03-31 2009-11-12 Toray Ind Inc Method of manufacturing metal foil laminated film

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111703185B (en) * 2020-07-09 2021-11-05 昆山乐邦精密科技有限公司 Polyimide screen hot-pressing device and using method thereof

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