KR20190140656A - Circulation Device for Removing Impurity in Mask Cleaning Bath and the Circulation Method - Google Patents

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KR20190140656A
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Abstract

The present invention relates to a circulation device for removing impurities in a mask cleaning bath and a circulation method. The device comprises: a cleaning bath in which a cleaning liquid for cleaning a mask is stored; a cleaning liquid supply nozzle installed in the proximity of a lower surface of the cleaning bath to supply the cleaning liquid to the cleaning bath; an outer storage bath disposed in an outer circumferential direction of the cleaning bath and temporarily storing the cleaning liquid overflowing from the cleaning bath; an auxiliary tank installed outside the cleaning bath and storing the cleaning liquid discharged from the cleaning bath and the outer storage bath; and a circulation supply means for circulating the cleaning liquid by interconnecting the cleaning bath, the outer storage bath, and the auxiliary tank. Accordingly, the present invention eliminates manual cleaning work that has been cumbersome for a worker, can completely solve the health problems of the worker that have no choice but to be exposed to chemicals or impurities harmful to the human body due to the manual cleaning work, and can greatly shorten the time of the cleaning process compared to manual work.

Description

마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법{Circulation Device for Removing Impurity in Mask Cleaning Bath and the Circulation Method}Circulation Device for Removing Impurity in Mask Cleaning Bath and the Circulation Method

본 발명은 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마스크를 세정 후 세정조의 벽면과 바닥면에 잔류하는 불순물을 제거하는 불순물 제거공정과 세정액을 반복적으로 재사용할 수 있는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법에 관한 것이다.The present invention relates to a circulating device and a circulation method for removing impurities in a mask cleaning tank, and more specifically, to remove impurities remaining on walls and bottoms of a cleaning tank after cleaning a mask, and to repeatedly reuse the cleaning liquid. And a circulation method for removing impurities in a mask cleaning tank.

고도화된 정보화 산업의 급격한 발달과 함께 초고속의 정보전달은 시간과 장소의 제한 없이 문자, 음성, 화상 등의 정보를 주고받을 수 있는 사회에 이르렀다.With the rapid development of advanced informatization industry, high-speed information delivery has reached a society that can exchange information such as text, voice, and image without restriction of time and place.

이러한 정보전달의 매개체는 CRT를 시발점으로 발전을 거듭하여 왔고 이제는 인간공학적, 고기능화 등에 부합할 수 있는 LCD, PDP, LED, UHD, OLED 등의 대형 평판디스플레이와 초고속 이동통신 단말기, PDA 및 Web Pad 등의 소형디스플레이로 빠르게 바뀌고 있으며 편리함에 따른 수요 폭등에 따라 디스플레이 시장은 끊임없이 발전되고 있다.This medium of information transmission has been developed since the beginning of CRT, and now large flat panel displays such as LCD, PDP, LED, UHD, and OLED, high-speed mobile communication terminals, PDAs, and Web Pads, which can meet ergonomics and high functionality, etc. Is rapidly changing to small displays, and the display market is constantly evolving due to the surge in demand for convenience.

평판디스플레이의 고품질, 저전력 소비 등을 기초하여 다양한 어플리케이션 시장이 더욱 활발해지고 있으며, 특히 OLED(Organic Light Emitting Diodes, 유기발광 다이오드)는 LCD, PDP에 이어서 차세대 디스플레이로 각광을 받고 있다.Based on the high quality and low power consumption of flat panel displays, various application markets are becoming more active. Especially, OLED (Organic Light Emitting Diodes) is attracting attention as next generation display after LCD and PDP.

OLED는 1987년 Eastman Kodak의 Tang이 적층 구조의 유기물질에서 고휘도로 빛을 내는 데 성공한 것을 시작으로 현재까지 많은 기술적인 진보가 이루어졌다.OLED has made a number of technical advances to date, starting in 1987 with Eastman Kodak's Tang's success in shining high-brightness in stacked organic materials.

OLED는 밝기, 명암비, 응답속도, 색 재현율, 시인성 등에서 뛰어난 화질과 제조공정이 단순해 저렴하다는 장점 등을 가지며 소위 ‘꿈의 디스플레이’로 여겨져 왔다.OLEDs have been regarded as so-called 'dream displays' with the advantages of excellent image quality and simple manufacturing process in terms of brightness, contrast ratio, response speed, color reproducibility, and visibility.

그러나 짧은 수명, 낮은 수율 등으로 인하여 상용화에 어려움을 겪었으며 LCD 관련 기술의 빠른 진전으로 OLED의 시장 진입을 위한 입지를 상당히 좁게 만들어 상용화가 지연되었다.However, due to short lifespan and low yield, it was difficult to commercialize. Due to the rapid progress of LCD-related technology, the commercialization was delayed because the position for OLED market entry was narrowed considerably.

최근 전 세계 디스플레이업계에서 상당 부분의 기술적 문제를 해결함에 따라 한국을 비롯한 일본, 대만의 관련업체들이 양산을 시작하고 있다.Recently, as the global display industry has solved a lot of technical problems, related companies in Korea, Japan, and Taiwan have begun mass production.

OLED는 유기 박막에 양극과 음극을 통하여 주입된 정공(Hole)과 전자(Electron)가 재결합하여 여기자(Exciton)를 형성하고, 여기자가 다시 안정된 상태로 돌아오면서 방출되는 에너지가 빛으로 변하여 발광하는 자체 발광형 디스플레이 소자이다.OLED recombines holes and electrons injected through an anode and a cathode in an organic thin film to form excitons, and the energy emitted as the excitons return to a stable state changes into light and emits light itself. It is a light emitting display device.

가장 간단한 구조의 OLED는 전자를 주입하는 음극, 정공을 주입하는 양극, 발광이 일어나는 유기 박막으로 이루어지며, 캐리어의 재결합 및 발광 특성 향상을 위해 전자 또는 정공의 주입 및 전달을 도와주는 기능층을 추가적으로 포함한다.The simplest structure of OLED consists of a cathode for injecting electrons, an anode for injecting holes, and an organic thin film that emits light.In addition, a functional layer helps to inject and transfer electrons or holes for recombination of carriers and improvement of emission characteristics. Include.

유기박막형성 기술은 FMM(Fine Metal Mask)와 같은 마스크를 이용한 증착기술, 레이저를 이용한 패터닝 기술, 액체기반의 잉크화 재료를 이용한 프린팅 기술 등이 있다.Organic thin film formation techniques include a deposition technique using a mask such as a fine metal mask (FMM), a patterning technique using a laser, and a printing technique using a liquid-based inkling material.

이중, 마스크를 이용한 증착기술에서는 기판을 선택적으로 스크리닝(screening)하는 과정에서 마스크의 표면에도 유기 물질이 증착되기 때문에, 일정한 공정 횟수가 지난 이후에는 마스크를 세정하는 것이 필수적으로 요구되어 진다.Among them, in the deposition technique using a mask, since the organic material is deposited on the surface of the mask during the selective screening of the substrate, it is essential to clean the mask after a certain number of steps.

종래의 마스크 세정은 DIW(초순수 증류수, Di-Ionize Water)나 탄화수소용액과 같은 세정액에 침지하는 방법이 대표적이다.Conventional mask cleaning is typically a method of dipping in a cleaning liquid such as DIW (Ultra Pure Distilled Water, Di-Ionize Water) or a hydrocarbon solution.

예컨대, 도 1에 도시한 바와 같이, 통상의 침지식 마스크 세정장치는 통상 세정조(10) 내에 수용된 세정액(11)에 마스크(20)를 침지하여 세정하는 것으로, 상기 마스크(20)는 대면적이므로 세정시 마스크를 이동시켜 상기 세정조(10)에 침지시키기 위한 마스크 운송용 지그(30)를 사용하고 있다.For example, as shown in FIG. 1, a conventional immersion mask cleaning apparatus is to immerse and clean the mask 20 in the cleaning liquid 11 contained in the cleaning tank 10, and the mask 20 has a large area. The mask transport jig 30 for moving a mask and immersing it in the said washing tank 10 at the time of washing | cleaning is used.

또한, OLED 디스플레이의 제조 과정에서 유기 박막을 증착하기 위해 이용되는 마스크의 세정은 상기 마스크를 세정액이 들어 있는 세정조에 침지한 후에 초음파를 적용하기도 한다.In addition, cleaning of a mask used for depositing an organic thin film in the manufacturing process of an OLED display may also apply ultrasonic waves after immersing the mask in a cleaning tank containing a cleaning liquid.

또한, 침지식 마스크 세정장치는 작업의 특성상 일정 시간이 경과하면 세정조 내에 잔존하는 불순물을 제거하기 위한 세정조 세척작업을 주기적으로 실시하는 것이 일반적이다.In addition, the immersion mask cleaning apparatus generally performs a cleaning tank cleaning operation periodically to remove impurities remaining in the cleaning tank after a predetermined time elapses due to the characteristics of the work.

그런데, 종래기술에 따른 세정조 세척작업은 세정조 내부에 세정액이 없는 상태에서 분사식 세정방법으로 세정조의 벽면 등을 세정하고 있다. 따라서, 세정조에 수용된 세정액을 폐액처리한 후 진행하여야 하므로 세정액이 유기물을 용해할 수 있는 용해도가 많이 남았더라도 파티클을 줄이기 위하여 폐액처리한 후 세척조 세정작업을 해야하는 불합리가 발생하는 문제점이 있다.By the way, the cleaning tank cleaning operation according to the prior art is cleaning the wall surface and the like of the cleaning tank by the spray cleaning method in the absence of the cleaning liquid inside the cleaning tank. Therefore, since the cleaning solution contained in the cleaning tank is to be processed after the waste solution, there is a problem in that irrationality occurs that the cleaning solution is to be washed after the waste solution is processed to reduce the particles even though the solubility of the cleaning solution to dissolve the organic matter remains.

또한, 유기물 세정액 중 증류 방식 등을 이용하여 세정액을 재생하여 사용하는 세정 방법/장치의 경우, 고가의 세정액을 폐액처리 하는 것이 불가능 하므로, 상기의 세척조 세정을 적용하는 것이 불가능하다.In addition, in the case of the washing method / apparatus in which the washing liquid is regenerated using a distillation method or the like among the organic washing liquids, it is impossible to treat the expensive washing liquid as the waste liquid, and thus it is impossible to apply the washing tank washing.

한국등록특허공보 제1145850호(2012.05.07)Korea Patent Publication No. 1145850 (2012.05.07)

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 마스크를 세정 후 세정조의 벽면과 바닥면에 잔류하는 불순물을 제거하는 불순물 제거공정을 한층 효율적으로 진행할 수 있는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법을 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above problems, the mask cleaning tank impurity removal circulation that can proceed more efficiently to remove the impurities remaining on the wall and bottom surface of the cleaning tank after cleaning the mask And to provide a circulation method.

또한, 세정조에 수용된 세정액을 폐액처리하지 않고 여러번 반복적으로 재사용이 가능한 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법을 제공하는데 있다.In addition, the present invention provides a circulator and a circulating method for removing impurity of a mask cleaning tank which can be repeatedly reused many times without treating the cleaning liquid contained in the cleaning tank.

전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치는, 마스크 세정을 위한 세정액이 저장되는 세정조; 상기 세정조의 하면 부근에 설치되어 세정액을 세정조에 공급하는 세정액 공급노즐; 상기 세정조의 외측 둘레방향에 설치되며 상기 세정조로부터 오버플로우되는 세정액을 임시 저장하는 외측 저장조; 상기 세정조와 이격되는 외측에 설치되며 상기 세정조와 외측 저장조로부터 배출되는 세정액을 저장하는 보조탱크; 상기 세정조, 외측 저장조 및 보조탱크를 상호 연결하여 세정액을 순환시키는 순환공급수단을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the mask cleaning tank impurity removal circulation according to the present invention, the cleaning tank for storing the cleaning liquid for mask cleaning; A cleaning liquid supply nozzle installed near a lower surface of the cleaning tank to supply the cleaning liquid to the cleaning tank; An outer storage tank installed in an outer circumferential direction of the cleaning tank and temporarily storing a cleaning liquid overflowing from the cleaning tank; An auxiliary tank installed at an outer side of the washing tank and storing the washing liquid discharged from the washing tank and the outer storage tank; It characterized in that it comprises a circulation supply means for circulating the cleaning liquid by interconnecting the cleaning tank, the outer storage tank and the auxiliary tank.

상기 세정조의 상부에는 상기 세정조의 내벽면 및 바닥면을 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐유닛이 설치된 것을 특징으로 한다.The upper part of the cleaning tank is characterized in that the injection nozzle unit for spraying the cleaning liquid toward the inner wall surface and the bottom surface of the cleaning tank.

상기 분사노즐유닛은 세정조의 개방된 상부의 일측과 타측에 각각 설치되는 제1 노즐부와 제2 노즐부로 구성되며, 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 세정조의 내벽을 향해 하향 경사지게 배치되는 것을 특징으로 한다.The injection nozzle unit is composed of a first nozzle portion and a second nozzle portion respectively installed on one side and the other side of the open upper portion of the cleaning tank, the first nozzle portion and the second nozzle portion is disposed to be inclined downward toward the inner wall of the cleaning tank. It features.

상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 상하방향으로 이격되는 복수개의 구성으로 이루어진 것을 특징으로 한다.The first nozzle portion and the second nozzle portion is characterized in that consisting of a plurality of configurations spaced apart in the vertical direction.

상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 상기 세정조로부터 상승하는 마스크를 향해 세정액을 분사할 수 있도록 회전하는 것을 특징으로 한다.The first nozzle portion and the second nozzle portion are rotated to spray the cleaning liquid toward the mask rising from the cleaning tank.

상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 마스크 상승시 마스크의 상면이 세정액 밖으로 노출되기 시작하는 시점부터 마스크 하면이 노즐부의 분사 범위를 벗어날 때까지 세정액이 분사되는 것을 특징으로 한다.When the first nozzle portion and the second nozzle portion are raised, the cleaning liquid is sprayed from the time when the upper surface of the mask starts to be exposed out of the cleaning liquid until the mask lower surface is out of the spray range of the nozzle portion.

상기 분사노즐유닛은 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부를 상하방향으로 직선이동 가능하게 하는 승강이동부재를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.The injection nozzle unit is characterized in that it comprises a lifting and moving member for linearly moving the first nozzle portion and the second nozzle portion in the vertical direction.

상기 제1 노즐부와 제2 노즐부의 상부에는 세정조 내벽면에 잔류하는 세정액을 제거하는 한 쌍의 에어 블로워가 추가적으로 설치된 것을 특징으로 한다.The upper part of the first nozzle unit and the second nozzle unit is characterized in that a pair of air blower for removing the cleaning liquid remaining on the inner wall surface of the cleaning tank is additionally installed.

상기 보조탱크는 상기 세정조의 세정액 저장공간의 크기와 동일하거나 크게 형성된 것을 특징으로 한다.The auxiliary tank is characterized in that the same or larger than the size of the cleaning liquid storage space of the cleaning tank.

상기 순환공급수단은 상기 외측 저장조 내에 저장된 세정액을 상기 세정액 공급노즐로 공급하거나 상기 보조탱크로 공급하는 1차 순환공급수단; 및, 상기 외측 저장조와 상기 세정조에 저장된 세정액을 상기 보조탱크로 드레인한 후 상기 보조탱크에 저장된 세정액을 상기 세정조의 상부 또는 하부의 세정액 공급노즐로 공급하는 2차 순환공급수단으로 구성된 것을 특징으로 한다.The circulation supply means includes a primary circulation supply means for supplying the cleaning liquid stored in the outer reservoir to the cleaning liquid supply nozzle or to the auxiliary tank; And a secondary circulation supply means for supplying the cleaning liquid stored in the auxiliary tank to the cleaning liquid supply nozzle of the upper or lower part of the cleaning tank after draining the cleaning liquid stored in the outer tank and the cleaning tank to the auxiliary tank. .

상기 1차 순환공급수단과 2차 순환공급수단에는 세정액 내의 포함된 불순물을 필터링하는 1차 필터와 2차 필터가 각각 설치되며, 상기 1차 필터와 2차 필터는 고형의 파티클을 제거하기 위한 다공성 또는 직조 형태의 구성인 것을 특징으로 한다.The primary circulation supply means and the secondary circulation supply means are provided with a primary filter and a secondary filter for filtering impurities contained in the cleaning liquid, respectively, wherein the primary filter and the secondary filter are porous to remove solid particles. Or it is characterized in that the configuration of the woven form.

본 발명에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법은, 세정조 및 외측 저장조 내의 세정액을 보조탱크로 배출시키는 단계; 세정액 배출을 완료 또는 배출하는 과정에서 세정조 상부에 설치되는 노즐이 세정조 내벽면을 향해 세정액을 분사하는 단계; 및 세정조의 내벽면 및 바닥면에 대한 세척작업이 완료된 후 상기 보조탱크 내에 저장된 세정액을 다시 세정조로 이송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The mask cleaning tank circulation method for removing impurities according to the present invention includes the steps of: discharging the cleaning liquid in the cleaning tank and the outer storage tank to the auxiliary tank; Spraying the cleaning liquid toward the inner wall of the cleaning tank by a nozzle installed at an upper portion of the cleaning tank in the process of completing or discharging the cleaning liquid; And transferring the cleaning liquid stored in the auxiliary tank to the cleaning tank after the cleaning operation on the inner wall and the bottom surface of the cleaning tank is completed.

상기 세정액을 분사하는 단계는 세정액 배출과 동시에 세정액을 분사하는 경우, 상기 세정조 내의 세정액 수위가 낮아지는 높이에 대응하여 상기 노즐이 하강 동작하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The spraying of the cleaning liquid may include the step of lowering the nozzle corresponding to a height at which the level of the cleaning liquid in the cleaning tank is lowered when the cleaning liquid is sprayed at the same time as the cleaning liquid is discharged.

상기 세정액의 분사유량은 세정액이 배출 유량보다 낮은 것을 특징으로 한다.The injection flow rate of the cleaning liquid is characterized in that the cleaning liquid is lower than the discharge flow rate.

상기 노즐을 통해 배출되는 세정액은 세정조 또는 보조탱크 내의 세정액을 순환시키는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 한다.The cleaning liquid discharged through the nozzle is characterized by circulating the cleaning liquid in the cleaning tank or the auxiliary tank.

상기 세정액은 상기 세정조의 내벽면과 바닥면을 동시에 향하도록 회전 분사가 이루어지는 것을 특징으로 한다.The cleaning liquid is characterized in that the rotary injection is made to face the inner wall surface and the bottom surface of the cleaning tank at the same time.

상기 세정액 분사와 동시에 공기 분사가 수행되는 것을 특징으로 한다.Air spraying is performed at the same time as the cleaning liquid injection.

전술한 바와 같은 구성의 본 발명에 따르면, 세정조와 외측 저장조의 세정액을 저장하는 보조탱크와 세정액을 순환시키는 순환공급수단을 구성함으로써, 세정액을 여러번 반복적으로 재활용할 수 있어 세정액 구입 비용을 효과적으로 줄일 수 있는 장점이 있다.According to the present invention having the above-described configuration, by configuring the auxiliary tank for storing the cleaning liquid in the cleaning tank and the outer storage tank and the circulation supply means for circulating the cleaning liquid, the cleaning liquid can be repeatedly recycled many times, effectively reducing the cost of purchasing the cleaning liquid. There is an advantage.

또한, 세정조의 내벽면 및 바닥면을 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐유닛을 구성함으로써, 세정조의 벽면과 바닥면에 잔류하는 불순물을 한층 효과적으로 제거할 수 있을 뿐만 아니라 세정공정의 시간을 크게 단축시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, by constructing a spray nozzle unit that sprays the cleaning liquid toward the inner wall and the bottom of the cleaning tank, impurities remaining on the wall and the bottom of the cleaning tank can be removed more effectively, and the cleaning process can be shortened significantly. It has an effect.

도 1은 종래기술에 따른 마스크 세정장치의 구성을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치의 구성을 나타낸 도면이다.
도 3은 도 2의 분사노즐유닛의 구성 및 작용을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법을 순서도이다.1 is a cross-sectional view showing the configuration of a mask cleaning apparatus according to the prior art.
2 is a view showing the configuration of a mask cleaning tank impurity removal circulator according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing the configuration and operation of the injection nozzle unit of FIG.
4 is a flowchart illustrating a circulation method for removing impurities in a mask cleaning tank according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치 및 순환방법의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of a mask cleaning tank impurity removing circulation device and a circulation method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

참고로, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어와 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석해야만 한다.For reference, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to the common or dictionary meanings, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. Based on the principle that can be defined, it should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention.

또한, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 나타내는 것은 아니므로 본 출원시점은 물론 그 이후에 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.In addition, the embodiment described in the specification and the drawings shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention, and do not represent all of the technical spirit of the present invention can be replaced at the time of the present application as well as thereafter. It should be understood that there may be various equivalents and variations in the range.

이하, 첨부된 도 2 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying Figures 2 to 4 will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치는 마스크(20) 세정을 위한 세정액(11)이 저장되는 세정조(100)와, 상기 세정조(100)의 하면 부근에 설치되어 세정액을 세정조에 공급하는 세정액 공급노즐(120)과, 상기 세정조(100)의 외측 둘레방향에 설치되며 상기 세정조(100)로부터 오버플로우되는 세정액(11)을 임시 저장하는 외측 저장조(200)와, 상기 세정조(100)의 상부에 설치되며 상기 세정조의 내벽면 및 바닥면을 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐유닛(300)과, 상기 세정조(100)와 이격되는 외측에 설치되며 상기 세정조(100)와 외측 저장조(200)로부터 배출되는 세정액을 저장하는 보조탱크(400)와, 상기 세정조(100), 외측 저장조(200), 분사노즐유닛(300) 및 보조탱크(400)를 상호 연결하여 세정액을 순환시키는 순환공급수단(S)을 포함하여 구성된다.As shown, the mask cleaning tank impurity removal circulator according to the present invention is installed near the lower surface of the cleaning tank 100 and the cleaning tank 100 in which the cleaning liquid 11 for cleaning the mask 20 is stored. And a cleaning solution supply nozzle 120 for supplying a cleaning solution to the cleaning tank and a cleaning solution 11 temporarily installed in an outer circumferential direction of the cleaning tank 100 and overflowing from the cleaning tank 100. And an injection nozzle unit 300 installed above the cleaning tank 100 and spraying the cleaning solution toward the inner wall surface and the bottom surface of the cleaning tank and spaced apart from the cleaning tank 100. Auxiliary tank 400 for storing the cleaning liquid discharged from the cleaning tank 100 and the outer storage tank 200, the cleaning tank 100, the outer storage tank 200, the injection nozzle unit 300 and the auxiliary tank 400 It includes a circulation supply means for circulating the cleaning solution by interconnecting the Is configured.

먼저, 상기 세정조(100)는 마스크(20) 표면에 묻어 있는 불순물(파티클)을 세정하기 위해 내부에 세정액(11)을 저장하는 통형상의 구조물로서, 상기 마스크(20)는 세정조(100) 내에 침지되는 과정에 의해 세척이 이루어진다.First, the cleaning tank 100 is a tubular structure for storing the cleaning solution 11 therein for cleaning impurities (particles) on the surface of the mask 20. The mask 20 is a cleaning tank 100. The washing is carried out by the process of dipping in).

그리고, 상기 마스크(20)의 침지 작용을 위해 마스크를 상하방향으로 이동시키기 위한 운송용 지그(미도시)가 세정조(100) 상부에 설치된다. 이러한 상기 운송용 지그는 이송 속도를 조절할 수 있는 별도의 속도 조절기를 설치할 수 있다.In addition, a transport jig (not shown) for moving the mask in the vertical direction for the immersion of the mask 20 is installed on the cleaning tank 100. The transport jig can be installed a separate speed controller that can adjust the transport speed.

상기 세정조(100)는 마스크(20)가 상하방향으로 출입이 용이하도록 상부가 개방된 함체의 형태로 제작하는 것이 바람직하다. 이에 본 실시예서는 세정조(100)의 형상이 상부가 개방된 것으로만 도시하였으나, 상기 세정조(100)의 형상은 이에 꼭 한정되지 않으며, 상기 세정조(100)의 상부를 선택적으로 개폐단속할 수 있는 덮개부(미도시)를 추가적으로 설치할 수 있다.The cleaning tank 100 is preferably manufactured in the form of an enclosure in which the upper part is opened so that the mask 20 is easily accessible in the vertical direction. Thus, in the present embodiment, the shape of the cleaning tank 100 is only shown that the top is open, the shape of the cleaning tank 100 is not necessarily limited to this, selectively opening and closing the top of the cleaning tank 100 Cover portion (not shown) can be additionally installed.

또한, 상기 세정조(100)의 바닥면에는 초음파를 발생시키는 초음파 발생수단(110)이 설치될 수 있다.In addition, the ultrasonic generator 110 for generating ultrasonic waves may be installed on the bottom surface of the cleaning tank (100).

이 경우, 상기 세정조(100) 내부에 불순물이 증착되어 있는 마스크(20)를 침지시키고, 상기 초음파 발생수단(110)의 진동을 이용하여 마스크(20)에 증착되어 있는 불순물을 제거하는 세정작업을 진행하게 된다.In this case, a cleaning operation for immersing the mask 20 in which impurities are deposited in the cleaning tank 100 and removing impurities deposited in the mask 20 by using the vibration of the ultrasonic generating means 110. Will proceed.

또한, 상기 세정조(100)와 후술할 외측 저장조(200)에는 세정액을 외부로 배출시키기 위한 각각의 배수구(101,201)가 형성되며, 상기 세정조(100)의 배수구(101) 일측에는 세정액이 유입되는 유입구(102)가 형성된다.In addition, each of the drain ports 101 and 201 for discharging the cleaning liquid to the outside is formed in the cleaning tank 100 and the outer reservoir 200 to be described later, and the cleaning liquid flows into one side of the drain port 101 of the cleaning tank 100. Inlet 102 is formed.

상기 세정액 공급노즐(120) 상기 유입구(102)에 연결되는 것으로, 초기 세정액을 세정조(110)로 공급하는 것과 세정조 내의 세정액을 세정조 상부로 오버플로우(overflow)하여 순환시키는 역할을 수행한다.The cleaning liquid supply nozzle 120 is connected to the inlet 102, and serves to supply the initial cleaning liquid to the cleaning tank 110 and to circulate the cleaning liquid in the cleaning tank by overflowing the upper cleaning tank. .

상기 외측 저장조(200)는 상기 세정조(100)의 외측 둘레방향에 설치되는 것으로, 상기 세정조(100)로부터 오버플로우(overflow)되는 세정액(11)을 임시 저장하는 역할을 수행한다.The outer storage tank 200 is installed in the outer circumferential direction of the cleaning tank 100, and serves to temporarily store the cleaning liquid 11 that overflows from the cleaning tank 100.

상기 외측 저장조(200)에는 내부에 임시 저장되는 세정액이 상기 세정조(100)에 저정되는 세정액보다 수위가 높아지는 것을 방지하기 위한 수위감지센서(미도시)를 추가적으로 설치할 수 있다.The outer reservoir 200 may be additionally provided with a level sensor (not shown) for preventing the cleaning liquid temporarily stored therein from being higher than the cleaning liquid stored in the cleaning tank 100.

즉, 상기 수위감지센서는 외측 저장조(200) 내의 세정액이 역으로 상기 세정조(100) 쪽으로 역류하는 것을 방지하기 위함이다.That is, the water level sensor is to prevent the cleaning liquid in the outer storage tank 200 to flow backward toward the cleaning tank 100.

한편, 상기 분사노즐유닛(300)은 상기 세정조(100)의 상부에 설치되는 것으로, 상기 세정조(100)의 내벽면 및 바닥면을 향하여 세정액을 분사하는 역할을 수행한다.On the other hand, the injection nozzle unit 300 is installed on the upper portion of the cleaning tank 100, and serves to spray the cleaning liquid toward the inner wall surface and the bottom surface of the cleaning tank 100.

즉, 상기 분사노즐유닛(300)은 상기 세정조(100) 내의 내벽면 또는 바닥면에 달라붙어 있는 불순물을 세정액 수압을 이용하여 제거할 수 있도록 하는 기능적인 효과를 제공한다.That is, the injection nozzle unit 300 provides a functional effect to remove impurities adhering to the inner wall surface or the bottom surface of the cleaning tank 100 by using the cleaning liquid water pressure.

다시 말해, 상기 세정조(100)의 내벽면 또는 바닥면에 고착화된 상태로 붙어있는 불순물을 분사노즐유닛(300)을 이용하여 제거할 수 있으므로 세척공정의 시간 및 비용을 크게 줄일 수 있는 효과가 있다.In other words, since the impurities attached to the inner wall surface or the bottom surface of the cleaning tank 100 in a fixed state can be removed using the spray nozzle unit 300, the time and cost of the cleaning process can be greatly reduced. have.

이러한 상기 분사노즐유닛(300)은 세정조(100)의 개방된 상부의 일측과 타측에 각각 설치되는 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)로 구성되며, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 세정조(100)의 내벽을 향해 하향 경사지게 배치된다.The injection nozzle unit 300 includes a first nozzle part 310 and a second nozzle part 320 installed at one side and the other side of an open upper portion of the cleaning tank 100, respectively, and the first nozzle part The 310 and the second nozzle unit 320 are inclined downward toward the inner wall of the cleaning tank 100.

또한, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 상하방향으로 이격되는 복수개의 구성으로 이루어질 수 있다.In addition, the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 may be formed in a plurality of configurations spaced apart in the vertical direction.

그리고, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 상기 세정조 내부로 진입할 수 있도록 세정조의 폭방향 길이보다 작은 길이로 제작한다.The first nozzle part 310 and the second nozzle part 320 are manufactured to have a length smaller than the width direction length of the cleaning tank so as to enter the inside of the cleaning tank.

그리고, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 세정조(100)의 바닥면에 대해서도 세정액 분사가 원활하게 이루어질 수 있도록 회전이 가능한 구조로 설치가 이루어진다. 아울러, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 상기 세정조(100)로부터 상승하는 마스크(20)를 향해 세정액을 분사할 수 있다.In addition, the first nozzle part 310 and the second nozzle part 320 may be installed in a rotatable structure so that the cleaning solution may be sprayed on the bottom surface of the cleaning tank 100. In addition, the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 may spray the cleaning liquid toward the mask 20 rising from the cleaning tank 100.

여기서, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 마스크(20) 상승시 마스크의 상면이 세정액 밖으로 노출되기 시작하는 시점부터 마스크 하면이 노즐부의 분사 범위를 벗어날 때까지 세정액 분사가 이루어진다.In this case, the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 are sprayed with the cleaning liquid from the time when the upper surface of the mask starts to be exposed out of the cleaning liquid when the mask 20 is raised, until the mask lower surface is outside the spraying range of the nozzle unit. Is done.

또한, 도 3에 도시한 바와 같이 상기 분사노즐유닛(300)은 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)를 상하방향으로 직선이동 가능하게 하는 승강이동부재(330)를 포함한다.In addition, as illustrated in FIG. 3, the injection nozzle unit 300 includes a lifting member 330 which allows the first nozzle part 310 and the second nozzle part 320 to be linearly moved in the vertical direction. do.

이는 세정조(100) 내의 세정액 수위가 낮아지는 높이에 대응하여 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)로 하강동작이 이루어질 수 있도록 하기 위함다.This is to allow the lowering operation to the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 corresponding to the height of the level of the cleaning liquid in the cleaning tank 100 is lowered.

이에 따라, 세정액이 배출되는 것과 동시에 세정조(100) 세척 작업을 진행할 수 있어 세정조 세척작업의 시간을 크게 단축시킬 수 있다.Accordingly, the washing tank 100 can be washed at the same time as the washing liquid is discharged, thereby greatly reducing the time of the washing tank washing operation.

그리고, 상기 승강이동부재(330)는 제1, 2 노즐부(310,320)와 세정액의 수면 사이의 거리를 감지하는 근접감지센서를 설치하거나, 세정액이 배수되는 용량에 맞추어 상기 제1, 2 노즐부(310,320)가 이동하는 거리를 산출할 수 있는 제어부를 포함한다.In addition, the elevating member 330 is provided with a proximity sensor for detecting the distance between the first and second nozzles 310 and 320 and the surface of the cleaning liquid, or the first and second nozzles in accordance with the capacity to drain the cleaning liquid. It includes a control unit that can calculate the distance to move (310,320).

또한, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)의 상부에는 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부에 의해 세정조(100) 내벽면에 잔류하는 세정액을 제거하는 한 쌍의 에어 블로워(340)가 추가적으로 설치한다.In addition, the upper part of the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 has a pair of cleaning liquids remaining on the inner wall surface of the cleaning tank 100 by the first nozzle unit and the second nozzle unit. An air blower 340 is additionally installed.

이러한 상기 에어 블로워(340)의 구성은 분사되는 세정액과 함께 공기압이 작용하여 세정조(100) 벽면에 잔존하는 불순물(파티클)을 제거하는데 있어 한층 효과적이다.The configuration of the air blower 340 is more effective in removing impurities (particles) remaining on the wall of the cleaning tank 100 by acting air pressure along with the cleaning liquid to be injected.

아울러, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)에서 사용되는 세정액은 상기 순환공급수단(S)의 2차 순환공급수단(600)을 이용하여 세정조(100)로부터 세정액을 공급받게 됨으로써 세정액 사용량을 효과적으로 절감시킬 수 있다. 물론, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 별도의 외부 세정액 공급라인(미도시)으로부터 세정액을 공급받는 구조로 제작할 수 있는 것은 당연하다.In addition, the cleaning liquid used in the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 is the cleaning liquid from the cleaning tank 100 by using the secondary circulation supply means 600 of the circulation supply means (S). By being supplied, the amount of cleaning solution used can be effectively reduced. Of course, the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 may be manufactured in a structure in which the cleaning solution is supplied from a separate external cleaning solution supply line (not shown).

한편, 상기 보조탱크(400)는 상기 세정조(100)와 이격되는 외측에 설치되는 것으로, 상기 세정조(100)와 외측 저장조(200)로부터 배출되는 세정액을 임시 저장하는 역할을 수행한다.On the other hand, the auxiliary tank 400 is installed on the outside spaced apart from the cleaning tank 100, serves to temporarily store the cleaning liquid discharged from the cleaning tank 100 and the outer storage tank (200).

본 발명에 따른 상기 보조탱크(400)는 상기 세정조(100)의 세정액 저장공간의 크기와 동일하거나 크게 형성한다.The auxiliary tank 400 according to the present invention is formed to be the same as or larger than the size of the cleaning liquid storage space of the cleaning tank (100).

상기 순환공급수단(S)은 상기 세정조(100), 세정액 공급노즐(120), 외측 저장조(200), 분사노즐유닛(300) 및 보조탱크(400)를 상호 연결하는 것으로, 세정액을 순환공급하는 역할을 수행한다.The circulation supply means (S) by connecting the cleaning tank 100, the cleaning liquid supply nozzle 120, the outer storage tank 200, the injection nozzle unit 300 and the auxiliary tank 400, the circulation supply of the cleaning liquid It plays a role.

구체적으로, 상기 순환공급수단(S)은 상기 외측 저장조(200) 내에 저장된 세정액을 상기 세정액 공급노즐(120)로 공급하거나 상기 보조탱크(400)로 공급하는 1차 순환공급수단(500)과, 상기 외측 저장조(200)와 상기 세정조(100)에 저장된 세정액을 상기 보조탱크(400)로 드레인한 후 상기 보조탱크(400)에 저장된 세정액을 상기 세정조(100)의 상부 또는 하부의 세정액 공급노즐(120)로 공급하는 2차 순환공급수단(600)으로 구성된다.Specifically, the circulation supply means (S) is the primary circulation supply means 500 for supplying the cleaning liquid stored in the outer reservoir 200 to the cleaning liquid supply nozzle 120 or to the auxiliary tank 400, After the cleaning solution stored in the outer storage tank 200 and the cleaning tank 100 is drained to the auxiliary tank 400, the cleaning solution stored in the auxiliary tank 400 is supplied with the cleaning liquid at the upper or lower portion of the cleaning tank 100. It consists of a secondary circulation supply means 600 for supplying to the nozzle 120.

상기 1차 순환공급수단(500)은 상기 외측 저장조(200), 세정액 공급노즐(120), 세정조(100) 및 보조탱크(400)를 서로 연결하는 1차 세정액 라인(510)과, 상기 1차 세정액 라인(510)에 연결되는 1차 개폐밸브(520)와, 상기 1차 개폐밸브(520)를 통해 유입되는 세정액을 압송시키는 1차 펌프(530)와, 상기 1차 펌프(530)에 의해 압송되는 세정액 내의 포함된 불순물을 필터링하는 1차 필터(540)로 구성된다.The primary circulation supply means 500 includes a primary cleaning liquid line 510 connecting the outer reservoir 200, the cleaning liquid supply nozzle 120, the cleaning tank 100, and the auxiliary tank 400 to each other, and the first A primary open / close valve 520 connected to the primary cleaning solution line 510, a primary pump 530 for pumping the cleaning solution flowing through the primary opening / closing valve 520, and the primary pump 530. It consists of a primary filter 540 for filtering the impurities contained in the cleaning liquid that is pumped by.

상기 1차 세정액 라인(510)은 외측 저장조(200), 세정액 공급노즐(120), 세정조(100) 및 보조탱크(400) 사이를 연결하는 것으로, 내부 통로를 통해 세정액을 이송시킬 수 있는 중공의 파이프 구조물이다.The primary cleaning liquid line 510 connects the outer storage tank 200, the cleaning liquid supply nozzle 120, the cleaning tank 100, and the auxiliary tank 400 to hollow the cleaning liquid through the inner passage. Of pipe structure.

상기 1차 개폐밸브(520)는 상기 외측 저장조(200)와 세정조(100)로부터 각각 분기되어 연장되는 1차 세정액 라인(510)의 일측 연결지점에 설치되는 것으로, 외측 저장조(200)와 세정조(100) 내의 세정액을 선택적 또는 동시에 개폐단속할 수 있다.The primary open / close valve 520 is installed at one connection point of the primary cleaning liquid line 510 which is branched from the outer storage tank 200 and the cleaning tank 100, respectively, and the outer storage tank 200 and three The cleaning solution in the bath 100 may be selectively or simultaneously controlled.

상기 1차 펌프(530)는 상기 1차 개폐밸브(520)를 통해 유입되는 세정액이 한층 원활하게 배출이 이루어질 수 있도록 압력을 발생시키는 구성요소이다.The primary pump 530 is a component that generates pressure so that the cleaning liquid flowing through the primary open / close valve 520 can be discharged more smoothly.

상기 1차 필터(540)는 상기 1차 펌프(530)의 후방에 설치되는 것으로, 압송되는 세정액 내의 포함된 불순물을 필터링하여 정화된 세정액을 다시 세정조 또는 분사노즐유닛으로 공급할 수 있도록 정화하는 기능을 수행하며, 고형의 파티클 제거가 유용한 다공성 또는 직조 형태의 것으로 제작하는 것이 바람직하다.The primary filter 540 is installed at the rear of the primary pump 530, and filters the impurities contained in the pumped cleaning liquid so that the purified cleaning liquid can be supplied to the cleaning tank or the injection nozzle unit again. It is preferred to produce porous or woven forms in which solid particle removal is useful.

즉, 상기 1차 순환공급수단(500)의 구성에 의해 상기 세정조(100) 및 외측 저장조(200)에 저장된 세정액을 모두 정화시킨 상태에서 상기 세정조(100) 또는 보조탱크(400)로 이송시킬 수 있다.That is, by the configuration of the primary circulation supply means 500 is transferred to the cleaning tank 100 or the auxiliary tank 400 in a state in which all of the cleaning liquid stored in the cleaning tank 100 and the outer storage tank 200 is purified. You can.

상기 2차 순환공급수단(600)은 상기 보조탱크(400)와 분사노즐유닛(300) 사이를 연결하는 2차 세정액 라인(6510)과, 상기 2차 세정액 라인(610)에 연결되는 2차 펌프(620)와, 상기 2차 펌프(620)를 통과한 세정액 내의 불순물을 필터링하는 2차 필터(630)로 구성된다.The secondary circulation supply means 600 is a secondary cleaning liquid line 6510 connecting between the auxiliary tank 400 and the injection nozzle unit 300 and a secondary pump connected to the secondary cleaning liquid line 610. 620 and a secondary filter 630 for filtering impurities in the cleaning liquid that has passed through the secondary pump 620.

상기 2차 필터(630) 역시 고형의 파티클 제거가 유용한 다공성 또는 직조 형태의 것으로 제작하는 것이 바람직하다.The secondary filter 630 is also preferably manufactured in a porous or woven form in which solid particle removal is useful.

이러한 상기 2차 순환공급수단(600)은 앞서 설명은 1차 순환공급수단(500)과 동일 내지 유사한 구성이므로 그 구체적인 구성 및 작용설명은 생략한다.The secondary circulation supply means 600 has the same or similar configuration as the primary circulation supply means 500, and thus its detailed configuration and operation description will be omitted.

아울러, 상기 세정액 공급노즐(120)은 1차 순환공급수단(500)과 2차 순환공급수단(600)을 상호 연결하는 상태로 설치가 이루어짐에 따라 세정액을 보조탱크(400)로 이송시키지 않고 상기 세정조(100) 또는 분사노즐유닛(300) 쪽으로 다이렉트 공급할 수 있다.In addition, the cleaning solution supply nozzle 120 is installed in a state in which the primary circulation supply means 500 and the secondary circulation supply means 600 are interconnected, without transferring the cleaning solution to the auxiliary tank 400. It can be supplied directly to the cleaning tank 100 or the injection nozzle unit 300.

그리고, 상기 세정액 공급노즐(120)의 양단부에는 세정액의 이동 경로를 결정하는 1차 전환밸브(121)와 2차 전환밸브(122)가 설치된다.And, both ends of the cleaning liquid supply nozzle 120 is provided with a primary switching valve 121 and the secondary switching valve 122 to determine the movement path of the cleaning liquid.

이하, 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a circulation method for removing impurity of mask cleaning tank according to an embodiment of the present invention will be described.

먼저, 세정조(100) 및 외측 저장조(200) 내의 세정액을 보조탱크(400)로 배출시키는 단계(S100)를 진행한다.First, the step (S100) of discharging the cleaning liquid in the cleaning tank 100 and the outer storage tank 200 to the auxiliary tank (400).

세정액 배출은 1차 순환공급수단(500)의 1차 개폐밸브(520)를 조작하는 것에 의해 달성할 수 있다.Discharge of the cleaning liquid may be achieved by operating the primary open / close valve 520 of the primary circulation supply means 500.

이후, 세정액 배출을 완료 또는 배출하는 과정에서 세정조(100) 상부에 설치되는 노즐이 세정조 내벽면을 향해 세정액을 분사하는 단계(S200)를 진행한다.Thereafter, in the process of completing or discharging the cleaning liquid, a nozzle installed at the upper portion of the cleaning tank 100 injects the cleaning liquid toward the inner wall of the cleaning tank (S200).

세정액 배출과 동시에 세정액을 분사하는 경우, 세정조 내의 세정액 수위가 낮아지는 높이에 대응하여 상기 노즐이 함께 하강 동작하는 단계(S300)를 진행한다.When the cleaning liquid is sprayed at the same time as the cleaning liquid is discharged, the nozzles are lowered together in response to the height of the level of the cleaning liquid in the cleaning tank (S300).

이때, 상기 세정액의 분사유량은 세정액이 배출 유량보다 낮은 상태로 진행하는 것이 바람직하다.At this time, the injection flow rate of the cleaning liquid is preferably carried out in a state in which the cleaning liquid is lower than the discharge flow rate.

여기서, 분사되는 세정은 상기 세정조(100) 또는 보조탱크(400)의 세정액을 순환시키는 것에 의해 이루어진다.In this case, the spraying is performed by circulating the cleaning liquid of the cleaning tank 100 or the auxiliary tank 400.

그리고, 노즐로부터 분사되는 세정액은 상기 세정조(100)의 내벽면과 바닥면을 동시에 향하도록 회전 분사가 이루어지도록 한다.In addition, the cleaning liquid sprayed from the nozzle may be rotated to face the inner wall surface and the bottom surface of the cleaning tank 100 at the same time.

또한, 상기 세정액 분사와 동시에 공기 분사가 수행될 수 있도록 한다.In addition, the spraying of the cleaning liquid may be performed simultaneously with the spraying of the cleaning liquid.

그 다음, 세정조의 내벽면 및 바닥면에 대한 세척작업이 완료되면 상기 보조탱크(400) 내에 저장된 세정액은 2차 순환공급수단(600)을 통해 세정조(100)로 이송하는 단계(S400)를 진행함으로써 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법을 완료한다.Then, when the washing operation on the inner wall surface and the bottom surface of the cleaning tank is completed, the cleaning liquid stored in the auxiliary tank 400 is transferred to the cleaning tank 100 through the secondary circulation supply means (S400). By proceeding, the circulation method for removing impurity of mask cleaning tank is completed.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면들에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형, 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those of ordinary skill in Esau.

100 : 세정조 200 : 외측 저장조
300 : 분사노즐유닛 400 : 보조탱크
S : 순환공급수단 500 : 1차 순환공급수단
600 : 2차 순환공급수단100: washing tank 200: outer storage tank
300: injection nozzle unit 400: auxiliary tank
S: circulation supply means 500: primary circulation supply means
600: secondary circulation supply means

Claims (17)

마스크 세정을 위한 세정액이 저장되는 세정조;
상기 세정조의 하면 부근에 설치되어 세정액을 세정조에 공급하는 세정액 공급노즐;
상기 세정조의 외측 둘레방향에 설치되며 상기 세정조로부터 오버플로우되는 세정액을 임시 저장하는 외측 저장조;
상기 세정조와 이격되는 외측에 설치되며 상기 세정조와 외측 저장조로부터 배출되는 세정액을 저장하는 보조탱크;
상기 세정조, 외측 저장조 및 보조탱크를 상호 연결하여 세정액을 순환시키는 순환공급수단을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
A cleaning tank in which a cleaning liquid for mask cleaning is stored;
A cleaning liquid supply nozzle installed near a lower surface of the cleaning tank to supply the cleaning liquid to the cleaning tank;
An outer storage tank installed in an outer circumferential direction of the cleaning tank and temporarily storing a cleaning liquid overflowing from the cleaning tank;
An auxiliary tank installed at an outer side of the washing tank and storing the washing liquid discharged from the washing tank and the outer storage tank;
And a circulation supply means for circulating the cleaning liquid by interconnecting the cleaning tank, the outer storage tank, and the auxiliary tank.
제1항에 있어서,
상기 세정조의 상부에는 상기 세정조의 내벽면 및 바닥면을 향하여 세정액을 분사하는 분사노즐유닛이 설치된 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
The method of claim 1,
And a spray nozzle unit for discharging the cleaning liquid toward the inner wall and the bottom surface of the cleaning tank at an upper portion of the cleaning tank.
제2항에 있어서,
상기 분사노즐유닛은 세정조의 개방된 상부의 일측과 타측에 각각 설치되는 제1 노즐부와 제2 노즐부로 구성되며, 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 세정조의 내벽을 향해 하향 경사지게 배치되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
The method of claim 2,
The injection nozzle unit is composed of a first nozzle portion and a second nozzle portion respectively installed on one side and the other side of the open upper portion of the cleaning tank, the first nozzle portion and the second nozzle portion is disposed to be inclined downward toward the inner wall of the cleaning tank. A circulator for removing impurities in a mask cleaning tank.
제3항에 있어서,
상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 상하방향으로 이격되는 복수개의 구성으로 이루어진 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
The method of claim 3,
And the first nozzle part and the second nozzle part have a plurality of configurations spaced apart in the vertical direction.
제3항에 있어서,
상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 상기 세정조로부터 상승하는 마스크를 향해 세정액을 분사할 수 있도록 회전하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
The method of claim 3,
And the first nozzle part and the second nozzle part rotate to spray the cleaning liquid toward the mask rising from the cleaning tank.
제5항에 있어서,
상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 마스크 상승시 마스크의 상면이 세정액 밖으로 노출되기 시작하는 시점부터 마스크 하면이 노즐부의 분사 범위를 벗어날 때까지 세정액이 분사되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
The method of claim 5,
When the first nozzle portion and the second nozzle portion are raised, the cleaning liquid is sprayed from the time when the upper surface of the mask starts to be exposed out of the cleaning liquid, and the cleaning liquid is sprayed from the time when the mask lower surface is outside the spraying range of the nozzle portion. Circulator.
제3항에 있어서,
상기 분사노즐유닛은 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부를 상하방향으로 직선이동 가능하게 하는 승강이동부재를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
The method of claim 3,
The jet nozzle unit circulation apparatus for removing impurities in a mask cleaning tank, characterized in that it comprises a lifting member for moving the first nozzle portion and the second nozzle portion in a vertical direction.
제7항에 있어서,
상기 제1 노즐부와 제2 노즐부의 상부에는 세정조 내벽면에 잔류하는 세정액을 제거하는 한 쌍의 에어 블로워가 추가적으로 설치된 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
The method of claim 7, wherein
And a pair of air blowers for removing the cleaning liquid remaining on the inner wall surface of the cleaning tank are installed on the first nozzle part and the second nozzle part.
제1항에 있어서,
상기 보조탱크는 상기 세정조의 세정액 저장공간의 크기와 동일하거나 크게 형성된 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
The method of claim 1,
The auxiliary tank is a cleaning device for removing impurities in the mask cleaning tank, characterized in that formed in the same or larger than the size of the cleaning liquid storage space of the cleaning tank.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 순환공급수단은,
상기 외측 저장조 내에 저장된 세정액을 상기 세정액 공급노즐로 공급하거나 상기 보조탱크로 공급하는 1차 순환공급수단; 및,
상기 외측 저장조와 상기 세정조에 저장된 세정액을 상기 보조탱크로 드레인한 후 상기 보조탱크에 저장된 세정액을 상기 세정조의 상부 또는 하부의 세정액 공급노즐로 공급하는 2차 순환공급수단으로 구성된 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
The method according to any one of claims 1 to 9,
The circulation supply means,
Primary circulation supply means for supplying the cleaning liquid stored in the outer reservoir to the cleaning liquid supply nozzle or to the auxiliary tank; And,
And a second circulation supply means configured to drain the cleaning liquid stored in the outer tank and the cleaning tank to the auxiliary tank, and then supply the cleaning liquid stored in the auxiliary tank to the cleaning liquid supply nozzles of the upper or lower part of the cleaning tank. Circulator for removing impurities.
제10항에 있어서,
상기 1차 순환공급수단과 2차 순환공급수단에는 세정액 내의 포함된 불순물을 필터링하는 1차 필터와 2차 필터가 각각 설치되며,
상기 1차 필터와 2차 필터는 고형의 파티클을 제거하기 위한 다공성 또는 직조 형태의 구성인 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환장치.
The method of claim 10,
The primary circulation supply means and the secondary circulation supply means are respectively provided with a primary filter and a secondary filter for filtering impurities contained in the cleaning liquid,
The first filter and the second filter is a mask cleaning tank impurity removal circuit, characterized in that the configuration of the porous or woven form to remove the solid particles.
세정조 및 외측 저장조 내의 세정액을 보조탱크로 배출시키는 단계;
세정액 배출을 완료 또는 배출하는 과정에서 세정조 상부에 설치되는 노즐이 세정조 내벽면을 향해 세정액을 분사하는 단계; 및,
세정조의 내벽면 및 바닥면에 대한 세척작업이 완료된 후 상기 보조탱크 내에 저장된 세정액을 다시 세정조로 이송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법.
Discharging the cleaning liquid in the cleaning tank and the outer storage tank to the auxiliary tank;
Spraying the cleaning liquid toward the inner wall of the cleaning tank by a nozzle installed at the upper part of the cleaning tank in the process of completing or discharging the cleaning liquid; And,
And a step of transferring the cleaning liquid stored in the auxiliary tank to the cleaning tank after the cleaning operation on the inner wall surface and the bottom surface of the cleaning tank is completed.
제12항에 있어서,
상기 세정액을 분사하는 단계는,
세정액 배출과 동시에 세정액을 분사하는 경우, 상기 세정조 내의 세정액 수위가 낮아지는 높이에 대응하여 상기 노즐이 하강 동작하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법.
The method of claim 12,
Injecting the cleaning liquid,
And spraying the cleaning liquid at the same time as the cleaning liquid is discharged, the nozzle lowering in response to a height at which the level of the cleaning liquid in the cleaning tank is lowered.
제13항에 있어서,
상기 세정액의 분사유량은 세정액이 배출 유량보다 낮은 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법.
The method of claim 13,
And a spray flow rate of the cleaning liquid is lower than a discharge flow rate of the cleaning liquid.
제12항 또는 제13항에 있어서,
상기 노즐을 통해 배출되는 세정액은 세정조 또는 보조탱크 내의 세정액을 순환시키는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법.
The method according to claim 12 or 13,
And a cleaning liquid discharged through the nozzle is circulated through the cleaning liquid in the cleaning tank or the auxiliary tank.
제12항 또는 제13항에 있어서,
상기 세정액은 상기 세정조의 내벽면과 바닥면을 동시에 향하도록 회전 분사가 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법.
The method according to claim 12 or 13,
And the cleaning solution is rotated and sprayed to face the inner wall surface and the bottom surface of the cleaning tank at the same time.
제12항 또는 제13항에 있어서,
상기 세정액 분사와 동시에 공기 분사가 수행되는 것을 특징으로 하는 마스크 세정조 불순물 제거용 순환방법.
The method according to claim 12 or 13,
And the air cleaning is performed simultaneously with the cleaning liquid injection.
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