KR102028541B1 - Complex Cleaning Device of Mask and Cleaning Method - Google Patents

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KR102028541B1
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Abstract

The present invention relates to a complex cleaning device and method of a mask. The complex cleaning device of a mask comprises: a cleaning tank in which cleaning liquid for cleaning a mask is stored; an outer storage tank which is disposed in an outer circumferential direction of the cleaning tank and temporarily stores cleaning liquid overflowing from the cleaning tank; an injection nozzle unit which is installed at an upper portion of the cleaning tank and injects the cleaning liquid onto the surface of the mask which is raised, while being immersed in the cleaning tank; and a circulation supply means which recovers the cleaning liquid, which is being discharged, to the cleaning tank. Accordingly, a foreign matter can be prevented from adhering to a mask so as to be completely removed in a process of withdrawing the mask from a cleaning tank, so a cleaning effect can be greatly improved and the mask can be prevented from being badly patterned due to a foreign matter in advance.

Description

마스크 복합 세정장치 및 세정방법{Complex Cleaning Device of Mask and Cleaning Method}Complex Cleaning Device of Mask and Cleaning Method

본 발명은 마스크 복합 세정장치 및 세정방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 세정조로부터 마스크를 인출하는 과정에서 마스크 표면에 이물질(파티클)이 재흡착되어 오염되는 것을 미연에 방지할 수 있는 것과 아울러 세정액 사용량을 크게 절감시킬 수 있는 마스크 복합 세정장치 및 세정방법에 관한 것이다.The present invention relates to a mask complex cleaning device and a cleaning method, and more particularly, to prevent the foreign matter (particles) from being resorbed and contaminated on the surface of the mask in the process of drawing out the mask from the cleaning tank. The present invention relates to a mask composite cleaning device and a cleaning method capable of greatly reducing the amount of use.

고도화된 정보화 산업의 급격한 발달과 함께 초고속의 정보전달은 시간과 장소의 제한 없이 문자, 음성, 화상 등의 정보를 주고받을 수 있는 사회에 이르렀다.With the rapid development of advanced informatization industry, high-speed information delivery has reached a society that can exchange information such as text, voice, and image without restriction of time and place.

이러한 정보전달의 매개체는 CRT를 시발점으로 발전을 거듭하여 왔고 이제는 인간공학적, 고기능화 등에 부합할 수 있는 LCD, PDP, LED, UHD, OLED 등의 대형 평판디스플레이와 초고속 이동통신 단말기, PDA 및 Web Pad 등의 소형디스플레이로 빠르게 바뀌고 있으며 편리함에 따른 수요 폭등에 따라 디스플레이 시장은 끊임없이 발전되고 있다.This medium of information transmission has been developed since the beginning of CRT, and now large flat panel displays such as LCD, PDP, LED, UHD, and OLED, high-speed mobile communication terminals, PDAs, and Web Pads, which can meet ergonomics and high functionality, etc. Is rapidly changing to small displays, and the display market is constantly evolving due to the surge in demand for convenience.

평판디스플레이의 고품질, 저전력 소비 등을 기초하여 다양한 어플리케이션 시장이 더욱 활발해지고 있으며, 특히 OLED(Organic Light Emitting Diodes, 유기발광 다이오드)는 LCD, PDP에 이어서 차세대 디스플레이로 각광을 받고 있다.Based on the high quality and low power consumption of flat panel displays, various application markets are becoming more active. Especially, OLED (Organic Light Emitting Diodes) is attracting attention as next generation display after LCD and PDP.

OLED는 1987년 Eastman Kodak의 Tang이 적층 구조의 유기물질에서 고휘도로 빛을 내는 데 성공한 것을 시작으로 현재까지 많은 기술적인 진보가 이루어졌다.OLED has made a number of technical advances to date, starting in 1987 with Eastman Kodak's Tang's success in shining high-brightness in stacked organic materials.

OLED는 밝기, 명암비, 응답속도, 색 재현율, 시인성 등에서 뛰어난 화질과 제조공정이 단순해 저렴하다는 장점 등을 가지며 소위 ‘꿈의 디스플레이’로 여겨져 왔다.OLEDs have been regarded as so-called 'dream displays' with the advantages of excellent image quality and simple manufacturing process in terms of brightness, contrast ratio, response speed, color reproducibility, and visibility.

그러나 짧은 수명, 낮은 수율 등으로 인하여 상용화에 어려움을 겪었으며 LCD 관련 기술의 빠른 진전으로 OLED의 시장 진입을 위한 입지를 상당히 좁게 만들어 상용화가 지연되었다.However, due to short lifespan and low yield, it was difficult to commercialize. Due to the rapid progress of LCD-related technology, the commercialization was delayed because the position for OLED market entry was narrowed considerably.

최근 전 세계 디스플레이업계에서 상당 부분의 기술적 문제를 해결함에 따라 한국을 비롯한 일본, 대만의 관련업체들이 양산을 시작하고 있다.Recently, as the global display industry has solved a lot of technical problems, related companies in Korea, Japan, and Taiwan have begun mass production.

OLED는 유기 박막에 양극과 음극을 통하여 주입된 정공(Hole)과 전자(Electron)가 재결합하여 여기자(Exciton)를 형성하고, 여기자가 다시 안정된 상태로 돌아오면서 방출되는 에너지가 빛으로 변하여 발광하는 자체 발광형 디스플레이 소자이다.OLED recombines holes and electrons injected through an anode and a cathode in an organic thin film to form excitons, and the energy emitted as the excitons return to a stable state changes into light and emits light itself. It is a light emitting display device.

가장 간단한 구조의 OLED는 전자를 주입하는 음극, 정공을 주입하는 양극, 발광이 일어나는 유기 박막으로 이루어지며, 캐리어의 재결합 및 발광 특성 향상을 위해 전자 또는 정공의 주입 및 전달을 도와주는 기능층을 추가적으로 포함한다.The simplest structure of OLED consists of a cathode for injecting electrons, an anode for injecting holes, and an organic thin film that emits light.In addition, a functional layer helps to inject and transfer electrons or holes for recombination of carriers and improvement of emission characteristics. Include.

유기박막형성 기술은 FMM(Fine Metal Mask)와 같은 마스크를 이용한 증착기술, 레이저를 이용한 패터닝 기술, 액체기반의 잉크화 재료를 이용한 프린팅 기술 등이 있다.Organic thin film formation techniques include a deposition technique using a mask such as a fine metal mask (FMM), a patterning technique using a laser, and a printing technique using a liquid-based inkling material.

이중, 마스크를 이용한 증착기술에서는 기판을 선택적으로 스크리닝(screening)하는 과정에서 마스크의 표면에도 유기 물질이 증착되기 때문에, 일정한 공정 횟수가 지난 이후에는 마스크를 세정하는 것이 필수적으로 요구되어 진다.Among them, in the deposition technique using a mask, since the organic material is deposited on the surface of the mask during the selective screening of the substrate, it is essential to clean the mask after a certain number of steps.

종래의 마스크 세정은 DIW(초순수 증류수, Di-Ionize Water)나 탄화수소용액과 같은 세정액에 침지하는 방법이 대표적이다.Conventional mask cleaning is typically a method of dipping in a cleaning liquid such as DIW (Ultra Pure Distilled Water, Di-Ionize Water) or a hydrocarbon solution.

예컨대, 도 1에 도시한 바와 같이, 통상의 침지식 마스크 세정장치는 통상 세정조(10) 내에 수용된 세정액(11)에 마스크(20)를 침지하여 세정하는 것으로, 상기 마스크(20)는 대면적이므로 세정시 마스크를 이동시켜 상기 세정조(10)에 침지시키기 위한 마스크 운송용 지그(30)를 사용하고 있다.For example, as shown in FIG. 1, a conventional immersion mask cleaning apparatus is to immerse and clean the mask 20 in the cleaning liquid 11 contained in the cleaning tank 10, and the mask 20 has a large area. The mask transport jig 30 for moving a mask and immersing it in the said washing tank 10 at the time of washing | cleaning is used.

또한, OLED 디스플레이의 제조 과정에서 유기 박막을 증착하기 위해 이용되는 마스크의 세정은 상기 마스크를 세정액이 들어 있는 세정조에 침지한 후에 초음파를 적용하기도 한다.In addition, cleaning of a mask used for depositing an organic thin film in the manufacturing process of an OLED display may also apply ultrasonic waves after immersing the mask in a cleaning tank containing a cleaning liquid.

그러나, 초기 생산된 마스크를 세정조에 담그는 침지과정을 반복하는 경우, 상기 마스크로부터 이탈한 이물질(파티클)이 세정액에 잔류하게 됨으로써 상기 세정조 내의 세정액을 빠르게 오염시키는 문제점이 있었다.However, when the immersion process of dipping the initially produced mask in the cleaning bath is repeated, foreign matter (particles) detached from the mask is left in the cleaning solution, which causes a problem of rapidly polluting the cleaning solution in the cleaning bath.

특히, 도 1(b)에 도시한 바와 같이 세정조의 수면 위에는 미세한 이물질(P)이 부유하는 상태로 잔류하고 있기 때문에 상기 마스크(20)를 세정조로부터 인출시키는 과정에서 부유 상태의 이물질이 마스크(20)의 표면에 묻은 상태로 이송되어 마스크에 대한 유기 박막층을 증착시 이물질에 의한 패턴의 불량이 빈번하게 발생하는 문제점이 있었다.In particular, as shown in FIG. 1 (b), since the fine foreign matter P remains on the surface of the cleaning bath in a floating state, the foreign matter in the floating state is removed in the process of drawing out the mask 20 from the cleaning bath. 20) has been a problem that the defect of the pattern caused by the foreign material frequently occurs when depositing the organic thin film layer for the mask is transferred to the surface.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 종래에는 상기 마스크(20)가 복수의 세정조를 차례로 통과하도록 하여 세정효과를 높이는 방법을 채택하고 있다.In order to solve this problem, conventionally, a method of increasing the cleaning effect by allowing the mask 20 to pass through a plurality of cleaning tanks in sequence is adopted.

그러나, 이 경우 설치 공간이 많이 소요되고 복수의 세정조를 설치하기 위한 비용 및 사용되는 세정액의 구입 비용이 커지고 세정시간이 늘어나는 단점이 있었다.However, in this case, it takes a lot of installation space, the cost of installing a plurality of cleaning tanks and the cost of purchasing the cleaning liquid used has a disadvantage that the cleaning time increases.

한국등록특허공보 제1145850호(2012.05.07)Korea Patent Publication No. 1145850 (2012.05.07)

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 세정조로부터 마스크를 인출하는 과정에서 마스크 표면에 이물질이 재흡착되어 오염되는 것을 방지하여 복수의 세정조가 요구되지 않는 것과 아울러 세정액 사용량을 크게 절감시킬 수 있는 마스크 복합 세정장치 및 세정방법을 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above problems, it is possible to prevent the foreign matter re-adsorbed on the surface of the mask in the process of withdrawing the mask from the cleaning tank to prevent contamination, and a plurality of cleaning tanks are not required and the amount of the cleaning liquid is greatly increased. It is to provide a mask composite cleaning apparatus and cleaning method that can be saved.

또한, 분사노즐을 이용한 추가 세정작업을 심플하게 구현하여 세정 공정의 비용과 세정액 소모량을 크게 낮출 수 있으며 생산성을 한층 향상시킬 수 있는 마스크 복합 세정장치 및 세정방법을 제공하는데 있다.In addition, by simply implementing an additional cleaning operation using a spray nozzle it is possible to significantly reduce the cost and cleaning liquid consumption of the cleaning process and to provide a mask complex cleaning apparatus and cleaning method that can further improve the productivity.

전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 마스크 복합 세정장치는, 마스크 세정을 위한 세정액이 저장되는 세정조; 상기 세정조의 외측 둘레방향에 설치되며 상기 세정조로부터 오버플로우되는 세정액을 임시 저장하는 외측 저장조; 상기 세정조의 상부에 설치되며 상기 세정조 내에 침지된 상태에서 상승하는 마스크의 표면에 대하여 세정액을 분사하는 분사노즐유닛; 및 배출되는 세정액을 상기 세정조로 회수하는 순환공급수단을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the mask complex cleaning apparatus according to the present invention, the cleaning tank for storing the cleaning liquid for mask cleaning; An outer storage tank installed in an outer circumferential direction of the cleaning tank and temporarily storing a cleaning liquid overflowing from the cleaning tank; A spray nozzle unit installed on an upper portion of the cleaning tank and spraying a cleaning liquid to a surface of the mask that rises in the cleaning tank; And circulation supply means for recovering the discharged cleaning liquid to the cleaning tank.

상기 분사노즐유닛은 마스크를 사이에 두고 일측과 타측에 각각 설치되는 제1 노즐부와 제2 노즐부로 구성되는 것을 특징으로 한다.The injection nozzle unit is characterized in that it comprises a first nozzle portion and a second nozzle portion which are respectively installed on one side and the other side with a mask therebetween.

상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 상하방향으로 이격되는 복수개의 구성으로 이루어진 것을 특징으로 한다.The first nozzle portion and the second nozzle portion is characterized in that consisting of a plurality of configurations spaced apart in the vertical direction.

상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 세정액의 수면위로 노출되는 상기 마스크를 향해 하향 경사지게 배치되며, 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부는 상기 마스크의 폭방향 길이와 같거나 길게 연장되는 것을 특징으로 한다.The first nozzle portion and the second nozzle portion is disposed to be inclined downward toward the mask exposed on the surface of the cleaning liquid, the first nozzle portion and the second nozzle portion is characterized in that it extends equal to or longer than the widthwise length of the mask. do.

상기 제1 노즐부와 제2 노즐부의 상부에는 상기 마스크의 표면에 잔류하는 세정액을 제거하는 한 쌍의 에어 블로워가 추가적으로 설치된 것을 특징으로 한다.The upper part of the first nozzle unit and the second nozzle unit is characterized in that a pair of air blower for removing the cleaning liquid remaining on the surface of the mask is additionally installed.

상기 외측 저장조의 외측면에는 상기 제1 노즐부와 제2 노즐부로부터 분사되는 세정액이 외측 저장조 바깥쪽으로 튀는 것을 차단하기 위한 비산 방지막이 설치된 것을 특징으로 한다.The outer surface of the outer reservoir is characterized in that the scattering prevention film for preventing the cleaning liquid sprayed from the first nozzle portion and the second nozzle portion to splash out of the outer reservoir.

상기 순환공급수단은 상기 외측 저장조와 세정조 사이를 연결하여 상기 외측 저장조에 저장된 세정액을 상기 세정조로 순환공급 하는 1차 순환공급수단; 및 상기 세정조와 분사노즐유닛 사이를 연결하여 세정조에 저장된 세정액을 분사노즐유닛으로 순환공급 하는 2차 순환공급수단으로 구성된 것을 특징으로 한다.The circulation supply means is connected between the outer reservoir and the washing tank primary circulation supply means for circulating the cleaning liquid stored in the outer reservoir to the washing tank; And secondary circulation supply means for connecting the cleaning tank and the injection nozzle unit to circulate and supply the cleaning liquid stored in the cleaning tank to the injection nozzle unit.

본 발명에 따른 마스크 복합 세정방법은 세정조 내의 세정액에 마스크를 침지하여 세정하는 단계; 침지 세정 완료 후 상기 마스크를 인상하는 단계; 마스크를 인상하는 동안, 상기 마스크의 세정액 수면 위로 노출되는 부분에 노즐을 이용하여 세정액을 분사하는 단계; 및 마스크의 분사 세정이 완료된 후 상기 마스크를 후속 공정으로 이송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The mask complex cleaning method according to the present invention comprises the steps of immersing and cleaning the mask in the cleaning liquid in the cleaning tank; Raising the mask after the immersion cleaning is completed; Spraying the cleaning liquid by using a nozzle on a portion of the mask exposed to the surface of the cleaning liquid during the raising of the mask; And after the spray cleaning of the mask is completed, transferring the mask to a subsequent process.

상기 분사 세정은 상기 세정조 내의 세정액을 순환시키는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 한다.The jet cleaning is performed by circulating a cleaning liquid in the cleaning tank.

상기 세정조 내에 침지된 마스크는 초음파 발생수단에 의해 세정이 이루어지는 것을 특징으로 한다.The mask immersed in the cleaning tank is characterized in that the cleaning by ultrasonic generating means.

상기 세정액은 상기 마스크를 향하여 하향 경사지게 분사되는 것을 특징으로 한다.The cleaning solution is characterized in that the spray is inclined downward toward the mask.

상기 세정액 분사 후 바로 공기 분사가 후속하는 것을 특징으로 한다.Immediately after the cleaning liquid injection, the air injection follows.

전술한 바와 같은 구성의 본 발명에 따르면, 세정조 내에 침지된 상태에서 상승하는 마스크의 표면에 대하여 세정액을 분사하는 분사노즐유닛을 구성함으로써, 마스크가 세정조로부터 인출되는 과정에서 이물질이 달라붙지 못하도록 완벽하게 제거할 수 있어 그에 따른 세정효과를 크게 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 이물질에 의한 마스크의 패턴 불량이 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention having the above-described configuration, by forming a spray nozzle unit for spraying the cleaning liquid to the surface of the mask rising in the state immersed in the cleaning tank, the foreign matter does not stick to the mask is drawn out from the cleaning tank. Since it can be completely removed, the cleaning effect can be greatly improved, and the pattern defect of the mask caused by foreign matter can be prevented in advance.

따라서, 종래기술과는 달리 병렬로 배치되는 복수의 세정조를 마스크가 차례로 통과할 필요가 없어 설치 공간과 설치 비용, 세정액 구입 비용 및 세정시간을 크게 줄일 수 있다는 효과가 있다.Therefore, unlike the prior art, the mask does not need to pass through a plurality of cleaning tanks arranged in parallel, so that an installation space, an installation cost, a cleaning liquid purchase cost, and a cleaning time can be greatly reduced.

또한, 상기 분사노즐유닛은 마스크의 표면과 근접한 위치에서 경사방향으로 세정액을 분사함에 따라 세정액이 외부로 비산되는 것을 억제시켜 세정액의 소모량을 효과적으로 줄일 수 있으며, 노즐 세정작업을 위한 별도의 설치공간 및 복잡한 노즐 장비 등의 설치 면적을 배제시킬 수 있으므로 그에 따른 세정 공정의 규모와 비용을 크게 낮출 수 있을 뿐만 아니라, 생산성을 크게 증대시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, the spray nozzle unit can reduce the consumption of the cleaning liquid by spraying the cleaning liquid in the oblique direction at a position close to the surface of the mask to effectively reduce the consumption of the cleaning liquid, and a separate installation space for the nozzle cleaning work and Since it is possible to exclude the installation area of the complex nozzle equipment, etc., the size and cost of the cleaning process can be greatly reduced, and the productivity can be greatly increased.

또한, 세정액을 정화하여 순환공급하는 순환공급수단을 구성함으로써, 세정조 내의 세정액이 이물질로 인해 역오염되는 현상을 개선할 수 있을 뿐만 아니라 세정조에 투입되는 세정액을 반복적으로 사용할 수 있어 세정액 구입 비용을 크게 절감시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, by configuring the circulation supply means for purifying and circulating the cleaning liquid, the cleaning liquid in the cleaning tank can not only be reversely contaminated by foreign matters, but also the cleaning liquid introduced into the cleaning tank can be repeatedly used to increase the cost of purchasing the cleaning liquid. There is a significant savings effect.

도 1은 종래기술에 따른 마스크 세정장치의 구성을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 마스크 복합 세정장치의 구성을 나타낸 도면이다.
도 3은 도 2의 분사노즐유닛의 구성 및 작용을 나타낸 부분 확대도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 복합 세정장치의 구성을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 복합 세정방법을 나타낸 순서도이다.1 is a cross-sectional view showing the configuration of a mask cleaning apparatus according to the prior art.
2 is a view showing the configuration of a mask complex cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a partially enlarged view illustrating a configuration and an operation of the injection nozzle unit of FIG. 2.
4 is a view showing the configuration of a mask complex cleaning apparatus according to another embodiment of the present invention.
5 is a flowchart illustrating a mask composite cleaning method according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 따른 마스크 복합 세정장치 및 세정방법의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of a mask cleaning apparatus and a cleaning method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

참고로, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어와 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석해야만 한다.For reference, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to the common or dictionary meanings, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. Based on the principle that can be defined, it should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention.

또한, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 나타내는 것은 아니므로 본 출원시점은 물론 그 이후에 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.In addition, the embodiment described in the specification and the drawings shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention, and do not represent all of the technical spirit of the present invention can be replaced at the time of the present application as well as thereafter. It should be understood that there may be various equivalents and variations in the range.

이하, 첨부된 도 2 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying Figures 2 to 5 will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 마스크 복합 세정장치는 마스크(20) 세정을 위한 세정액(11)이 저장되는 세정조(100)와, 상기 세정조(100)의 외측 둘레방향에 설치되며 상기 세정조로부터 오버플로우되는 세정액(11)을 임시 저장하는 외측 저장조(200)와, 상기 세정조(100)의 상부에 설치되며 상기 세정조 내에 침지된 상태에서 상승하는 마스크(20)의 표면에 대하여 세정액(11)을 분사하는 분사노즐유닛(300) 및 배출되는 세정액을 상기 세정조(100)로 회수하는 순환공급수단(S)을 포함하여 구성된다.As shown, the mask complex cleaning apparatus according to the present invention includes a cleaning tank 100 in which a cleaning liquid 11 for cleaning the mask 20 is stored, and installed in the outer circumferential direction of the cleaning tank 100. Outer storage tank 200 for temporarily storing the cleaning liquid 11 overflowing from the tank and the cleaning liquid with respect to the surface of the mask 20 which is installed in the upper portion of the cleaning tank 100 and immersed in the cleaning tank to rise It comprises a spray nozzle unit 300 for injecting (11) and the circulation supply means (S) for recovering the discharged cleaning liquid to the cleaning tank (100).

먼저, 상기 세정조(100)는 마스크(20) 표면에 묻어 있는 이물질(파티클)을 세정하기 위해 내부에 세정액(11)이 저장되는 통형상의 구조물로서, 상기 마스크(20)는 세정조(100) 내에 침지되는 과정에 의해 세척이 이루어진다.First, the cleaning tank 100 is a tubular structure in which the cleaning liquid 11 is stored therein for cleaning foreign matter (particles) on the surface of the mask 20, and the mask 20 is the cleaning tank 100. The washing is carried out by the process of dipping in).

그리고, 상기 마스크(20)의 침지 작용을 위해 마스크를 상하방향으로 이동시키기 위한 운송용 지그(30)가 세정조(100) 상부에 설치된다. 이러한 상기 운송용 지그(30)는 이송 속도를 조절할 수 있는 별도의 속도 조절기를 설치할 수 있다.In addition, a transport jig 30 for moving the mask in the vertical direction for the immersion action of the mask 20 is installed above the cleaning tank 100. The transport jig 30 may be installed a separate speed controller that can adjust the transport speed.

상기 세정조(100)는 마스크(20)가 상하방향으로 출입이 용이하도록 상부가 개방된 함체의 형태로 제작하는 것이 바람직하다. 본 실시예서는 세정조(100)의 형상이 상부가 개방된 것으로만 도시하였으나, 상기 세정조(100)의 형상은 이에 꼭 한정되지 않으며, 상기 세정조(100)의 상부를 선택적으로 개폐단속할 수 있는 덮개부(미도시)를 추가적으로 설치할 수 있다.The cleaning tank 100 is preferably manufactured in the form of an enclosure in which the upper part is opened so that the mask 20 is easily accessible in the vertical direction. In the present embodiment, the shape of the cleaning tank 100 is shown as only the top is opened, the shape of the cleaning tank 100 is not necessarily limited thereto, and the top of the cleaning tank 100 to selectively open and close the control A cover portion (not shown) may be additionally installed.

또한, 상기 세정조(100)의 바닥면에는 초음파를 발생시키는 초음파 발생수단(110)이 설치될 수 있다.In addition, the ultrasonic generator 110 for generating ultrasonic waves may be installed on the bottom surface of the cleaning tank (100).

이 경우, 상기 세정조(100) 내부에 이물질이 증착되어 있는 마스크(20)를 침지시키고, 상기 초음파 발생수단(110)의 진동을 이용하여 마스크(20)에 증착되어 있는 이물질을 1차적으로 제거하는 세정작업을 진행하게 된다.In this case, the mask 20 in which the foreign matter is deposited in the cleaning tank 100 is immersed, and the foreign matter deposited in the mask 20 is primarily removed by using the vibration of the ultrasonic generator 110. The cleaning operation is performed.

이러한 초음파를 이용한 세정작업은 당 업계에서 공지된 기술이므로 그 구체적인 구성 및 작용설명은 생략한다.Since the cleaning operation using the ultrasonic wave is a technique known in the art, the detailed configuration and operation description thereof will be omitted.

또한, 상기 세정조(100)에는 후술할 순환공급수단(S)의 세정액 라인과 연결되는 세정액 유입구(101) 및 배수구(102)가 형성된다.In addition, the cleaning tank 100 is provided with a cleaning liquid inlet 101 and a drain hole 102 connected to the cleaning liquid line of the circulation supply means S to be described later.

상기 외측 저장조(200)는 상기 세정조(100)의 외측 둘레방향에 설치되는 것으로, 상기 세정조(100)로부터 오버플로우(overflow)되는 세정액(11)을 임시 저장하는 역할을 수행한다.The outer storage tank 200 is installed in the outer circumferential direction of the cleaning tank 100, and serves to temporarily store the cleaning liquid 11 that overflows from the cleaning tank 100.

상기 외측 저장조(200)에는 내부에 임시 저장되는 세정액이 상기 세정조(100)에 저정되는 세정액보다 수위가 높아지는 것을 방지하기 위한 수위감지센서(미도시)를 추가적으로 설치할 수 있다.The outer reservoir 200 may be additionally provided with a level sensor (not shown) for preventing the cleaning liquid temporarily stored therein from being higher than the cleaning liquid stored in the cleaning tank 100.

즉, 상기 수위감지센서는 외측 저장조(200) 내의 세정액이 역으로 상기 세정조(100) 쪽으로 역류하는 것을 방지하기 위함이다.That is, the water level sensor is to prevent the cleaning liquid in the outer storage tank 200 to flow backward toward the cleaning tank 100.

또한, 상기 외측 저장조(200)의 외측면에는 후술할 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)로부터 분사되는 세정액이 외측 저장조(200) 바깥쪽으로 튀는 것을 차단하기 위한 비산 방지막(210)이 설치된다.In addition, on the outer surface of the outer reservoir 200, the scattering prevention film 210 for preventing the cleaning liquid sprayed from the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 to be splashed outward of the outer reservoir 200. ) Is installed.

이러한 비산 방지막(210)의 구성은 세정액(11)에 포집된 상태의 이물질이 외부로 유출되는 것을 방지함과 아울러 세정액이 낭비되는 것을 방지하는 효과를 제공한다.The configuration of the anti-scattering film 210 prevents foreign matters collected in the cleaning solution 11 from leaking to the outside and prevents the cleaning solution from being wasted.

특히, 본 발명에 따른 분사노즐유닛(300)은 상기 세정조(100)의 상부에 설치되는 것으로, 상기 세정조(100) 내에 침지된 상태에서 상승하는 마스크(20)의 표면에 대하여 세정액을 분사하는 역할을 수행한다.In particular, the spray nozzle unit 300 according to the present invention is installed on the upper portion of the cleaning tank 100, and sprays the cleaning liquid to the surface of the mask 20 rising in the state immersed in the cleaning tank 100 It plays a role.

즉, 상기 분사노즐유닛(300)은 상기 세정조(100) 내의 세정액에 의한 1차적인 세정작업이 완료된 마스크(20)가 인상되는 과정에서 부유 이물질이 달라붙지 못하도록 다시 한번 세정액을 분사하는 2차 세정작업을 실시하는 구성요소이다.That is, the injection nozzle unit 300 is a second injection of the cleaning liquid to prevent the foreign matter from sticking again in the process of pulling up the mask 20, the first cleaning operation by the cleaning liquid in the cleaning tank 100 is completed It is a component that performs cleaning work.

다시 말해, 상기 세정조(100) 내에 침지된 상태에서 상승하여 표면이 노출되는 마스크(20)에 대하여 세정액(11)을 추가적으로 분사함으로써, 세정조(100)의 수면 위에 부유하는 이물질(파티클)이 마스크(20) 인상시 그 표면에 묻어서 인출되는 것을 근본적으로 차단시킬 수 있는 효과를 제공한다.In other words, by additionally spraying the cleaning liquid 11 on the mask 20 which is raised in the cleaning tank 100 to expose the surface thereof, foreign matter (particles) floating on the water surface of the cleaning tank 100 is discharged. When the mask 20 is raised, the surface of the mask 20 is applied to the surface of the mask 20 so as to fundamentally block the drawing.

더욱이, 본 발명에 따른 분사노즐유닛(300)은 상기 세정조(100)의 상부에 설치되어 상기 마스크가 세정조(100)의 수면 위로 노출되는 시점을 기준으로 샤워방식의 세정액 분사가 이루어짐에 따라 분사노즐의 세정작업을 위한 별도의 설치공간 및 복잡한 노즐 장비 등의 설치 면적을 배제시킬 수 있으므로, 그에 따른 세정 공정의 규모와 비용을 크게 낮출 수 있을 뿐만 아니라, 생산성을 크게 증대시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, the spray nozzle unit 300 according to the present invention is installed on the upper portion of the cleaning tank 100, as the cleaning liquid is sprayed on the basis of the time when the mask is exposed on the surface of the cleaning tank 100 Since it is possible to exclude the installation area of the separate nozzle space and complicated nozzle equipment for cleaning the spray nozzle, the size and cost of the cleaning process can be greatly reduced, and the productivity can be greatly increased. have.

구체적으로, 상기 분사노즐유닛(300)은 마스크(20)를 사이에 두고 일측과 타측에 각각 설치되는 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)로 구성된다.In detail, the injection nozzle unit 300 includes a first nozzle part 310 and a second nozzle part 320 installed on one side and the other side with the mask 20 therebetween.

또한, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 상하방향으로 이격되는 복수개의 구성으로 이루어진다.In addition, the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 is composed of a plurality of configurations spaced apart in the vertical direction.

그리고, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 상기 마스크(20)를 향하여 하향하는 사선방향으로 세정액을 분사하도록 하향 경사지게 배치되며, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 상기 마스크(20)의 폭보다 같거나 길게 연장되는 것이 바람직하다.The first nozzle part 310 and the second nozzle part 320 are disposed to be inclined downward so as to spray the cleaning liquid in a diagonal direction downward toward the mask 20. Preferably, the two nozzle parts 320 extend the same or longer than the width of the mask 20.

여기서, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)의 사선방향은 세정액에 잠입된 마스크(20)가 세정액의 수면위로 노출되는 표면을 향해 세정액이 분사되는 경사각을 말한다.Here, the oblique directions of the first nozzle part 310 and the second nozzle part 320 refer to an inclination angle at which the cleaning liquid is injected toward the surface of the mask 20 immersed in the cleaning liquid and exposed on the surface of the cleaning liquid.

이에 따라, 상기 마스크(20)의 인상에 거슬러서 세정액이 분사되므로 더욱 효과적인 파티클의 제거가 가능하다.Accordingly, since the cleaning liquid is sprayed against the impression of the mask 20, more effective particle removal is possible.

아울러, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 세정액을 분사하는 노즐구멍의 크기가 반드시 동일하게 이루어질 필요 없이 서로 다른 크기와 형태로 이루어질 수 있다.In addition, the first nozzle part 310 and the second nozzle part 320 may be formed in different sizes and shapes without necessarily having the same size of the nozzle hole for spraying the cleaning liquid.

이러한 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)에서 사용되는 세정액은 상기 순환공급수단(S)의 2차 순환공급수단(500)을 이용하여 세정조(100)로부터 세정액을 공급받게 됨으로써 세정액 사용량을 효과적으로 절감시킬 수 있다. 물론, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)는 별도의 외부 세정액 공급라인(330)으로부터 세정액을 공급받는 구조로 제작할 수 있는 것은 당연하다.The cleaning liquid used in the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 is supplied to the cleaning liquid from the cleaning tank 100 by using the secondary circulation supply means 500 of the circulation supply means S. Receiving can effectively reduce the amount of cleaning liquid used. Of course, the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 may be manufactured in a structure in which the cleaning solution is supplied from a separate external cleaning solution supply line 330.

또한, 상기 제1 노즐부(310)와 제2 노즐부(320)의 상부에는 상기 마스크(20)의 표면에 잔류하는 세정액을 제거하는 한 쌍의 에어 블로워(340)가 추가적으로 설치되어 잔존하는 세정액을 파티클과 함께 신속히 이탈시킬 수 있다.In addition, a pair of air blowers 340 for removing the cleaning liquid remaining on the surface of the mask 20 are disposed above the first nozzle unit 310 and the second nozzle unit 320 to maintain the remaining cleaning liquid. You can quickly escape with particles.

한편, 상기 순환공급수단(S)은 상기 외측 저장조(200)와 세정조(100) 사이를 연결하여 상기 외측 저장조(200)에 저장된 세정액을 상기 세정조(100)로 순환공급 하는 1차 순환공급수단(400)과, 상기 세정조(100)와 분사노즐유닛(300) 사이를 연결하여 세정조(100)에 저장된 세정액을 분사노즐유닛(300)으로 순환공급 하는 2차 순환공급수단(500)으로 구성된다.On the other hand, the circulation supply means (S) is connected between the outer storage tank 200 and the cleaning tank 100, the primary circulation supply for circulating supplying the cleaning liquid stored in the outer storage tank 200 to the cleaning tank (100) Second circulation supply means 500 which connects the means 400 and the cleaning tank 100 and the injection nozzle unit 300 to circulate and supply the cleaning liquid stored in the cleaning tank 100 to the injection nozzle unit 300. It consists of.

상기 1차 순환공급수단(400)은 상기 외측 저장조(200)와 세정조(100) 사이를 연결하는 1차 세정액 라인(410)과, 상기 1차 세정액 라인(410)에 연결되는 1차 펌프(420)와, 상기 1차 펌프(420)를 통해 수송되는 세정액을 가열하는 1차 히터(430)와, 상기 1차 히터(430)에 의해 가열된 세정액의 오염 상태를 검출하는 1차 오염감지센서(440)와, 상기 1차 오염감지센서(440)를 통과한 세정액 내의 이물질을 필터링하는 1차 필터(450)로 구성된다.The primary circulation supply means 400 includes a primary washing liquid line 410 connecting between the outer reservoir 200 and the washing tank 100, and a primary pump connected to the primary washing liquid line 410. 420, a primary heater 430 for heating the cleaning liquid transported through the primary pump 420, and a primary contamination sensor for detecting a contamination state of the cleaning liquid heated by the primary heater 430. 440, and the primary filter 450 for filtering the foreign matter in the cleaning liquid passed through the primary contamination detection sensor 440.

상기 1차 세정액 라인(410)은 외측 저장조(200)와 세정조(100) 사이를 연결하는 것으로, 내부 통로를 통해 세정액을 이송시킬 수 있는 중공의 파이프 구조물이다.The primary cleaning liquid line 410 connects between the outer storage tank 200 and the cleaning tank 100, and is a hollow pipe structure capable of transferring the cleaning liquid through an inner passage.

상기 1차 펌프(420)는 상기 외측 저장조(200)와 근접한 1차 세정액 라인(410)에 설치되는 것으로, 상기 외측 저장조(200)로부터 세정액을 흡입하여 상기 세정조(100)로 압송시키는 압력을 발생시키는 구성요소이다.The primary pump 420 is installed in the primary washing liquid line 410 adjacent to the outer reservoir 200, and suctions the washing liquid from the outer reservoir 200 and delivers the pressure to the washing tank 100. It is the component that generates it.

상기 1차 히터(430)는 상기 1차 펌프(420)의 후방에 설치되는 것으로, 세정액의 세정효과를 높이기 위해서 소정 온도로 상승시키는 역할을 수행한다.The primary heater 430 is installed at the rear of the primary pump 420, and serves to raise the predetermined temperature to increase the cleaning effect of the cleaning liquid.

상기 1차 오염감지센서(440)는 세정액의 농도를 체크하는 것으로, 세정액의 반복적인 재사용에 따른 세정액의 상태 여부를 감지하여 세정액의 교체 여부를 판단하는 기능을 수행한다.The primary contamination detection sensor 440 checks the concentration of the cleaning liquid, and detects the state of the cleaning liquid due to the repeated reuse of the cleaning liquid to determine whether to replace the cleaning liquid.

상기 1차 필터(450)는 세정액에 포함된 이물질을 걸러내어 정화된 세정액이 상기 세정조(100)로 재공급이 이루어질 수 있도록 정화시키는 역할을 수행한다.The primary filter 450 filters the foreign matter contained in the cleaning solution to purify the purified cleaning solution to be resupplyed to the cleaning tank 100.

즉, 상기 1차 순환공급수단(400)은 상기 1차 펌프(420)가 작동하여 상기 외측 저장조(200) 내에 저장된 세정액을 흡입하여 상기 세정조(100)로 압송시키는 압력을 발생시키고, 상기 1차 펌프(420)에 의해 이송되는 세정액은 상기 1차 히터(430)를 통과하는 과정에서 소정 온도로 상승하게 되며, 온도가 상승된 세정액은 1차 오염감지센서(440)와 1차 필터(450)를 순차적으로 통화한 후 상기 세정조로 이동하는 일련의 순환과정을 반복적으로 실시하게 된다.That is, the primary circulation supply means 400 operates the primary pump 420 to generate a pressure to suck the cleaning liquid stored in the outer storage tank 200 and to pump it to the cleaning tank 100. The cleaning liquid transferred by the primary pump 420 rises to a predetermined temperature in the process of passing through the primary heater 430, and the cleaning liquid having the elevated temperature is the primary contamination detection sensor 440 and the primary filter 450. ) And then sequentially perform a series of cycles to move to the cleaning tank.

이러한 본 발명에 따른 1차 순환공급수단(400)에 의해 세정조(100) 및 외측 저장조(200) 내에 저장되는 세정액을 모두 재사용할 수 있는 순환기능을 구현함으로써, 세정액의 소모량 및 비용을 효과적으로 줄일 수 있는 장점이 있다.By implementing the circulation function that can reuse all the cleaning liquid stored in the cleaning tank 100 and the outer storage tank 200 by the primary circulation supply means 400 according to the present invention, effectively reducing the consumption and cost of the cleaning liquid There are advantages to it.

상기 2차 순환공급수단(500)은 상기 세정조(100)와 분사노즐유닛(300) 사이를 연결하는 2차 세정액 라인(510)과, 상기 2차 세정액 라인(510)에 연결되는 2차 펌프(520)와, 상기 2차 펌프(520)를 통해 수송되는 세정액을 가열하는 2차 히터(530)와, 상기 2차 히터(530)에 의해 가열된 세정액의 오염 상태를 검출하는 2차 오염감지센서(540)와, 상기 2차 오염감지센서(540)를 통과한 세정액 내의 이물질을 필터링하는 2차 필터(550)로 구성된다.The secondary circulation supply means 500 includes a secondary cleaning liquid line 510 connecting between the cleaning tank 100 and the injection nozzle unit 300, and a secondary pump connected to the secondary cleaning liquid line 510. 520, the secondary heater 530 for heating the cleaning liquid transported through the secondary pump 520, and the secondary contamination detection for detecting the contamination state of the cleaning liquid heated by the secondary heater 530 The sensor 540, and the secondary filter 550 for filtering the foreign matter in the cleaning liquid passed through the secondary pollution detection sensor 540.

이러한 상기 2차 순환공급수단(500)은 앞서 설명은 1차 순환공급수단(400)과 동일 내지 유사한 구성이므로 그 구체적인 구성 및 작용설명은 생략한다.Since the secondary circulation supply means 500 has the same or similar configuration as the primary circulation supply means 400, the detailed configuration and operation description thereof will be omitted.

또한, 도 4에 도시한 바와 같이 상기 1차 순환공급수단(400)과 상기 2차 순환공급수단(500)을 상호 연결하는 연결라인(600)과 개폐밸브(610)를 추가적으로 형성할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 4, a connection line 600 and an on / off valve 610 connecting the primary circulation supply means 400 and the secondary circulation supply means 500 may be further formed.

이는 필요에 따라 1차 순환공급수단(400)을 통해 이송되는 세정액을 상기 분사노즐유닛(300)으로 직접 유동시킬 수 있도록 하기 위함이다.This is to allow the cleaning liquid transferred through the primary circulation supply means 400 to flow directly to the injection nozzle unit 300 as necessary.

이하, 본 발명의 실시예에 따른 마스크 복합 세정방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a mask composite cleaning method according to an embodiment of the present invention will be described.

먼저, 세정조(100) 내의 세정액(11)에 마스크(20)를 침지하여 세정하는 단계(S100)를 진행한다.First, a step S100 of immersing and cleaning the mask 20 in the cleaning liquid 11 in the cleaning tank 100 is performed.

상기 세정조(100)에 대한 마스크(20)의 출입은 운송용 지그(30)에 의해 달성할 수 있다.Entry of the mask 20 into the cleaning tank 100 may be achieved by the transportation jig 30.

본 발명에 따른 상기 세정조(100) 내에 침지된 마스크(20)는 초음파 발생수단(110)에 의해 세정이 이루어진다.The mask 20 immersed in the cleaning tank 100 according to the present invention is cleaned by the ultrasonic generating means (110).

이후, 침지 세정 완료 후 상기 마스크(20)를 상기 세정조(100)로부터 인상하는 단계(S200)를 진행한다.Thereafter, after the immersion cleaning is completed, the mask 20 is pulled out from the cleaning tank 100 (S200).

그 다음, 상기 마스크(20)를 인상하는 동안, 상기 마스크의 세정액 수면 위로 노출되는 부분에 노즐을 이용하여 세정액을 분사하는 단계(S300)를 진행한다.Then, while raising the mask 20, the step of spraying the cleaning liquid by using a nozzle to the portion exposed to the surface of the cleaning liquid of the mask (S300).

여기서, 상기 분사 세정은 상기 세정조(100) 내의 세정액을 순환시키는 것에 의해 이루어진다.Here, the jet cleaning is performed by circulating the cleaning liquid in the cleaning tank (100).

그리고, 노즐로부터 분사되는 세정액은 상기 마스크(20)를 향하여 하향 경사지게 분사하는 것이 바람직하다.In addition, the cleaning liquid sprayed from the nozzle is preferably sprayed inclined downward toward the mask 20.

또한, 상기 세정액 분사 후 바로 공기 분사가 후속할 수 있도록 한다.In addition, it is possible to follow the air injection immediately after the cleaning liquid injection.

그 다음, 상기 마스크(20)의 분사 세정이 완료된 후 상기 마스크를 후속 공정으로 이송하는 단계(S400)를 진행함으로써 마스크 복합 세정을 완료한다.Subsequently, after the spray cleaning of the mask 20 is completed, the mask complex cleaning is completed by performing the step S400 of transferring the mask to a subsequent process.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면들에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형, 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those of ordinary skill in Esau.

100 : 세정조 200 : 외측 저장조
300 : 분사노즐유닛 S : 순환공급수단
400 : 1차 순환공급수단 500 : 2차 순환공급수단100: washing tank 200: outer storage tank
300: injection nozzle unit S: circulation supply means
400: primary circulation supply means 500: secondary circulation supply means

Claims (12)

마스크 세정을 위한 세정액이 저장되는 세정조;
상기 세정조의 외측 둘레방향에 설치되며 상기 세정조로부터 오버플로우되는 세정액을 임시 저장하는 외측 저장조;
상기 세정조의 상부에 설치되며 상기 세정조 내에 침지된 상태에서 상승하는 마스크의 표면에 대하여 세정액을 분사하는 제1 노즐부와 제2 노즐부로 구성되는 분사노즐유닛;
배출되는 세정액을 상기 세정조로 회수하는 순환공급수단; 및,
상기 제제1 노즐부와 제2 노즐부의 상부에 설치되며 상기 마스크의 표면에 잔류하는 세정액을 제거하는 한 쌍의 에어 블로워를 포함하며,
상기 제제1 노즐부와 제2 노즐부는 상하방향으로 이격되는 복수의 구성이 상기 마스크의 폭방향 길이와 같거나 길게 연장되며,
상기 외측 저장조의 외측면에는 상기 제제1 노즐부와 제2 노즐부로부터 분사되는 세정액이 외측 저장조 바깥쪽으로 튀는 것을 차단하기 위한 비산 방지막이 설치되고,
상기 순환공급수단은 상기 외측 저장조와 세정조 사이를 연결하여 상기 외측 저장조에 저장된 세정액을 상기 세정조로 순환공급 하는 1차 순환공급수단과, 상기 세정조와 분사노즐유닛 사이를 연결하여 세정조에 저장된 세정액을 분사노즐유닛으로 순환공급 하는 2차 순환공급수단으로 구성되되,
상기 1차 및 2차 순환공급수단은 세정액을 가열하는 1차 및 2차 히터와, 상기 1차 및 2차 히터에 의해 가열된 세정액의 오염 상태를 검출하는 1차 및 2차 오염감지센서를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 마스크 복합 세정장치.
A cleaning tank in which a cleaning liquid for cleaning the mask is stored;
An outer storage tank installed in an outer circumferential direction of the cleaning tank and temporarily storing a cleaning liquid overflowing from the cleaning tank;
An injection nozzle unit installed on the cleaning tank, the nozzle unit comprising a first nozzle unit and a second nozzle unit for injecting a cleaning liquid to the surface of the mask which is raised in the cleaning tank;
Circulation supply means for recovering the cleaning liquid discharged to the cleaning tank; And,
A pair of air blowers installed on the upper part of the first nozzle part and the second nozzle part to remove the cleaning solution remaining on the surface of the mask,
The formulation 1 nozzle portion and the second nozzle portion is a plurality of configurations spaced apart in the vertical direction extends equal to or longer than the width direction length of the mask,
The outer surface of the outer reservoir is provided with a scattering prevention film for preventing the cleaning liquid sprayed from the first nozzle portion and the second nozzle portion to splash out of the outer reservoir,
The circulation supply means connects between the outer storage tank and the cleaning tank and circulates and supplies the cleaning liquid stored in the outer storage tank to the cleaning tank, and connects the cleaning solution and the spray nozzle unit to the cleaning solution stored in the cleaning tank. Consists of secondary circulation supply means for circulating and supplying to the injection nozzle unit,
The primary and secondary circulation supply means further comprises primary and secondary heaters for heating the cleaning liquid, and primary and secondary pollution detection sensors for detecting a contamination state of the cleaning liquid heated by the primary and secondary heaters. Mask composite cleaning device comprising a.
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