KR20190122501A - 마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법 - Google Patents

마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법에 관한 것으로, 서로 다른 배스에서 이루어지는 마스크 처리 공정 사이에 마스크 의 대기시간을 단축할 수 있는 마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법을 제공하고자 한다.
이를 구현하기 위한 본 발명의 기판 처리용 챔버는, 마스크 처리 장치는, 서로 다른 마스크 처리 공정이 수행되는 복수의 배스와, 상기 배스에서 마스크 처리가 완료된 후 마스크에 잔류하는 공정유체를 건조하기 위해 마스크를 향하여 건조유체를 분사하는 블로워를 포함하여 이루어진다.

Description

마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법{Apparatus for Treating Mask and the Method Thereof}
본 발명은 복수의 배스를 구비한 마스크 처리 장치 및 이를 이용하는 마스크 처리 방법에 관한 것으로서, 서로 다른 배스에서 이루어지는 마스크 처리 공정 사이에 마스크의 대기시간을 단축할 수 있는 마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법에 관한 것이다.
최근 정보 통신 분야의 급속한 발달과, 컴퓨터와 같은 정보 매체의 대중화에 따라 반도체 장치도 비약적으로 발전하고 있다. 또한, 그 기능적인 면에 있어서 반도체 장치의 소자 고집적화 경향에 따라 기판에 형성되는 개별 소자의 크기를 줄이면서 한편으로 소자 성능을 극대화시키기 위해 여러 가지 방법이 연구 개발되고 있다.
일반적으로 반도체 소자는 리소그래피(lithography), 증착(Deposition) 및 식각(etching), 감광제(Photoresist)의 도포(Coating), 현상(Develop), 세정 및 건조공정 등의 복수의 기판 처리를 반복적으로 진행하여 제조된다.
리소그래피는 미세하고 복잡한 전자회로를 반도체 기판에 그려 집적회로를 형성하는 단계로, 사진 기술을 응용했다 하여 포토리소그래피(photo lithography)라고도 한다. 쿼츠(quartz)라 불리는 석영 유리기판 위에 실제 크기의 수배로 확대된 크롬 회로 패턴이 형성되는 마스크가 필름 역할을 하며, 포토 레지스트(photo resist)와 같은 감광물질이 코팅된 반도체 기판에 마스크를 통해 빛을 조사하여 마스크에 새겨진 회로 패턴이 반도체 기판상에 구현된다.
이러한 리소그래피 공정에 있어서, 마스크에 불량이 있는 경우 반도체 기판의 회로 형성에 직접적인 영향을 미치게 된다. 마스크의 불량에는 여러 원인이 있을 수 있으며, 특히 마스크에 부착된 금속 불순물, 유기물 등의 오염물질로 인해 불량이 발생하는 경우가 많다.
따라서 마스크에 부착된 오염물질을 제거하기 위한 세정공정이 중요하게 다뤄지고 있다.
마스크의 세정은 다양한 오염물질에 맞는 공정유체를 수용하는 적어도 하나의 배스에 연속적으로 마스크를 침지시켜 오염물질을 제거하는 방식으로 이루어지는 것이 일반적이다.
도 1을 참조하여 종래 기술에 의한 마스크 처리 장치에 대해 서술한다.
종래 기술에 의한 마스크 처리 장치는, 마스크(M)를 수용하여 처리하는 복수의 배스(10,20)와, 상기 마스크(M)를 이송하여 상기 복수의 배스(10,20)에 순차로 침지시키는 이송로봇을 포함한다.
상기 복수의 배스(10,20)는 서로 다른 종류의 공정유체인 제1공정유체와 제2공정유체를 각각 수용하여 서로 다른 마스크 처리를 수행하는 제1배스(10)와 제2배스(20)를 포함한다.
상기 이송로봇은 구동부가 구비되는 로봇 본체(미도시)와, 상기 마스크(M)를 지지하는 지지부(51)와, 상기 로봇 본체와 상기 지지부(51)를 연결하는 로봇 암(50)을 포함하여 이루어진다.
상기 로봇 암(50)은 상승(S1)과 수평 이동(S2)과 하강(S3)을 반복하여 상기 마스크(M)를 상기 복수의 배스(10,20)에 순차로 침지시킨다.
이때, 상기 로봇 암(50)에 의해 상승하여 상기 제1배스(10)에 수용된 상기 제1공정유체로부터 분리된 상기 마스크(M)상에는 상기 제1공정유체가 잔존하게 되며, 상기 마스크(M)상에 잔존하는 상기 제1공정유체가 상기 마스크(M)와 함께 상기 제2배스(20)에 수용된 상기 제2공정유체에 침지되면 상기 제1공정유체와 상기 제2공정유체가 혼합되어 마스크 처리의 효율성이 낮아지고 공정 불량이 발생할 수 있었다.
즉, 상기 마스크(M)가 상기 제1배스(10)에 수용된 상기 제1공정유체로부터 배출되어 상기 제2배스(20)에 수용된 상기 제2공정유체에 침지되기 전에 상기 마스크(M)의 표면에 잔존하는 상기 제1공정유체를 건조할 필요성이 있어, 상기 마스크(M)가 이송되는 중 상기 마스크(M)의 표면에 잔존하는 상기 제1공정유체의 건조를 위한 대기시간이 소요되었다.
상기한 바와 같은 마스크 처리 장치에 대한 선행기술의 일례로 대한민국 공개특허 10-2008-0072265호가 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 배스와 배스 사이를 이동하는 마스크의 건조 대기시간을 단축할 수 있는 마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법을 제공하고자 한다.
상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 마스크 처리 장치는, 서로 다른 마스크 처리 공정이 수행되는 복수의 배스와, 상기 배스에서 마스크 처리가 완료된 후 마스크에 잔류하는 공정유체를 건조하기 위해 마스크를 향하여 건조유체를 분사하는 블로워를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 블로워는 상기 배스의 상측에 구비될 수 있으며, 상기 마스크를 운송하는 이송로봇의 로봇 암에 구비될 수도 있다.
상기 블로워는 상기 복수의 배스 사이에 구비되는 대기존에 구비될 수 있으며, 상기 복수의 챔버의 내측면에 구비될 수도 있다.
상기 불로워는 상기 마스크의 양측면을 향해 상기 건조유체를 분사하도록 구비될 수 있으며, 상기 건조유체를 통해 상기 마스크를 퍼지하는 역할을 겸하도록 이루어질 수 있다.
상기 마스크 처리 장치를 이용하는 본 발명의 마스크 처리 방법은, a) 상기 공정유체가 수용된 제1배스에 마스크가 침지되어 제1공정이 이루어지는 단계와, b) 상기 마스크가 상기 제1배스로부터 제2공정유체가 수용된 제2배스로 이송되는 단계와, c) 상기 제2배스에 마스크가 침지되어 제2공정이 이루어지는 단계를 포함하되, 상기 단계 b)가 수행되는 동안 상기 마스크에 건조유체가 분사되어 상기 마스크가 건조되도록 이루어질 수 있다.
상기 단계 b)는 상기 마스크가 상승하여 상기 제1배스에 수용된 상기 제1공정유체로부터 분리되는 단계와, 상기 마스크가 수평방향으로 이동하여 상기 제2배스 상측으로 이동하는 단계와, 상기 마스크가 하강하여 상기 제2배스에 수용된 상기 제2공정유체에 침지되는 단계로 이루어질 수 있으며, 상기 블로워가 구비되는 위치에 따라 상기 건조유체가 분사되는 구간이 다르게 이루어질 수 있다.
본 발명에 따른 마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법에 의하면, 배스와 배스 사이를 이동하는 마스크를 건조하는 건조 수단을 구비하여 건조 대기시간을 단축할 수 있다.
또한, 마스크를 퍼지할 수 있는 건조 수단을 구비하여 배스와 배스 사이를 이동중인 마스크에 오염물질이 부착되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 마스크의 양측면을 건조하는 건조 수단을 구비하여 마스크의 양측면을 균일하게 건조할 수 있다.
또한, 마스크를 이송하며 마스크와 함께 움직이는 로봇 암에 건조 수단을 구비하여 마스크를 균일하게 건조할 수 있다.
또한, 복수의 배스 사이에 구비되는 대기존에 건조 수단을 구비하여 마스크의 건조 중 오염물질이 배스에 유입되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 건조유체를 분사하는 유압을 이용하여 마스크상에 잔존하는 공정유체를 밀어내고 마스크의 건조 속도를 높일 수 있다.
또한, 마스크가 완전히 건조된 후 다음 순서의 배스에 이송되도록 하여 공정유체의 혼입 및 혼용을 최소화하고 공정유체의 재생량을 높일 수 있다.
도 1은 종래 기술에 의한 마스크 처리 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 도면.
도 2는 본 발명에 의해 배스의 상측에 블로워가 구비된 마스크 처리 장치를 보여주는 도면.
도 3은 본 발명에 의해 마스크의 양측면을 향하여 건조유체를 분사하도록 구비되는 블로워가 구비된 마스크 처리 장치를 보여주는 도면.
도 4는 본 발명에 의해 이송중인 마스크상에 건조유체가 분사되기 시작하는 때와 분사가 끝나는 때를 보여주는 도면.
도 5는 본 발명에 의해 로봇 암에 블로워가 구비되는 마스크 처리 장치를 보여주는 도면.
도 6은 본 발명에 의해 대기존에 블로워가 구비되는 마스크 처리 장치를 보여주는 도면.
도 7은 본 발명에 의해 배스의 내측면에 블로워가 구비되는 마스크 처리 장치를 보여주는 도면.
도 8은 본 발명에 의한 마스크 처리 방법을 보여주는 순서도.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 의한 마스크 처리 장치는, 도 2에 나타난 바와 같이, 서로 다른 마스크 처리 공정이 수행되는 복수의 배스(110,120)와. 상기 배스(110,120)에서 마스크 처리가 완료된 후 마스크(M)에 잔류하는 공정유체를 건조하기 위해 상기 마스크(M)를 향하여 건조유체를 분사하는 블로워(300)를 포함한다.
상기 마스크(M)는 기판 위에 회로 패턴이 형성된 회로 원판으로, 쿼츠(quartz)라 불리는 석영 유리기판 위에 크롬 회로 패턴이 형성되어 이루어질 수 있다. 상기 마스크(M)는 반도체 기판의 수배 크기로 형성될 수 있으며, 상기 반도체 기판의 형상과 크기에 따라 원형 및 사각 형 등 다양한 형상과 크기를 가질 수 있다. 상기 마스크(M)는 리소그래피(lithography) 공정의 익스포저(Exposure) 단계에서 빛이 조사되면 상기 반도체 기판에 상을 형성하는 필름 역할을 한다. 상기 반도체 기판에는 포토 레지스트(photo resist) 등의 감광물질이 코팅되며, 상기 마스크(M)를 통해 상기 반도체 기판에 조사되는 빛이 상기 포토 레지스트와 반응하여 화학변화를 일으켜 상기 반도체 기판상에 회로 패턴을 형성한다.
상기 배스(100)는 상기 마스크(M)를 수용하여 마스크 처리 환경을 제공한다. 상기 배스(100)는 마스크 처리 환경을 견딜 수 있도록 소정의 두께를 갖는 재질로 구성되며, 온도의 변화를 견디기 위한 높은 내열성을 가지고 유체에 반응하여 변질되거나 부식이 일어나 마스크 처리 공정에 영향을 끼치지 않도록 내화학성 및 내식성을 가지는 재질로 구성된다.
상기 조건들을 만족하는 재질로는 스테인리스강(SUS)이 있다. 스테인리스강은 강성이 높고 내열성, 내식성, 내화학성이 우수하며 접근성이 좋고 경제적인 장점이 있어 상기 배스(100)를 구성하는 데 가장 많이 이용되고 있는 재질 중 하나이다.
상기 마스크(M)에는 세정 대상물을 제거하기 위한 액체 또는 기체 상태의 세정제가 공급된다. 세정제는 처리 대상이 되는 종류에 따라 복수의 세정제가 사용될 수 있다. 예를 들면, 레지스트를 제거하기 위해서는 유기용제, N2 가스가 사용될 수 있다. 또한, SiO를 제거하기 위해서는 물, 불화수소 HF, IPA 및 N2 가스 등이 사용될 수 있다. 또한, 금속을 제거하기 위해서는 염산 HCl, 오존 O3, N2 가스가 사용될 수 있다. 또한, 레지스트 이외의 유기물을 제거하기 위해서는 O3, N2 가스를 사용할 수 있다. 이외에도, 그 밖의 파티클을 제거하기 위해서는 암모니아 가수(加水) APM, N2 가스, 또는 N2 가스 혹은 아르곤 Ar을 사용할 수 있다. 또한, 불소 F, 염소 Cl, 암모니아 NH4의 이온을 제거하기 위해서는 물, IPA 및 N2 가스를 사용할 수 있다. 이러한 세정제 등을 통틀어 공정유체라 한다.
상기 복수의 배스(110,120)는 서로 다른 공정유체인 제1공정유체와 제2공정유체를 각각 수용하여 서로 다른 마스크 처리를 수행하는 제1배스(110)와 제2배스(120)를 포함한다.
상기 마스크(M)는 상기 제1배스(110)와 상기 제2배스(120)에 순차로 침지되어 상기 제1공정유체와 상기 제2공정유체에 의해 순차로 처리된다.
상기 복수의 배스(110,120) 사이의 상기 마스크(M)의 이송은 이송로봇에 의해 이루어지며, 상기 이송로봇은 구동부가 구비되는 로봇 본체(미도시)와, 상기 마스크(M)를 지지하여 이송하는 지지부(210)와, 상기 로봇 본체와 상기 지지부를 연결하는 로봇 암(200)을 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 복수의 배스(110,120)는 일정 간격으로 배열되며, 일렬로 배열될 수 있고, 원형으로 배열될 수도 있다.
상기 로봇 암(200)은, 상기 복수의 배스(110,120)가 일렬로 배열되는 경우 수직방향 및 수평방향 이동이 가능하도록 이루어질 수 있으며, 상기 복수의 배스(110,120)가 원형으로 배열되는 경우 수직방향 및 회전 이동이 가능하도록 이루어질 수 있다.
상기 제1배스(110)에서 수행되는 마스크 처리가 완료되면, 상기 로봇 암(200)은, 상기 제1배스(110)에 침지된 상기 마스크(M)를 지지하여 상기 마스크(M)가 상기 제1공정유체로부터 완전히 벗어나도록 상승시키는 제1이송단계(S1)와, 상기 제 2배스(120)의 상측으로 수평이동하는 제2이송단계(S2)와, 하강하여 상기 마스크(M)를 상기 제2배스(120)의 상기 제2공정유체에 침지시키는 제3이송단계(S3)을 수행한다.
상기 블로워(300)는, 상기한 바와 같이 상기 제1배스(110)로부터 상기 제2배스(120)로 이송되는 상기 마스크(M)상에 상기 건조유체를 분사하여 상기 마스크(M)상에 잔류하는 상기 제1공정유체를 제거하고 상기 마스크(M)를 건조하도록 구비된다.
즉, 상기 마스크(M)는 이송 중 상기 마스크(M)를 건조시키는 상기 블로워(300)를 구비하여 상기 마스크(M)의 건조시간을 단축함으로써 전체 마스크 처리 공정의 소요시간을 단축할 수 있다.
상기 건조유체는 상기 마스크(M)를 퍼지하는 역할을 더 할 수 있다.
상기 건조유체는 클린에어일 수 있으며, 불활성기체일 수 있고, 특히 질소 가스(N2)일 수 있다.
상기 블로워(300)는 상기 제1이송단계(S1) 중에 상기 공정유체를 분사하도록 이루어질 수 있으며, 상기 제2이송단계(S2) 중에 상기 공정유체를 분사하도록 이루어질 수도 있고, 상기 제3이송단계(S3) 중에 상기 공정유체를 분사하도록 이루어질 수도 있다.
상기 블로워(300)는 상기 제1배스(110)의 상측 또는 상기 제2배스(120)의 상측에 구비될 수 있으며, 상기 건조유체를 하향분사하여 상기 마스크(M)를 건조할 수 있다.
또한, 도 3에 나타난 바와 같이, 상기 블로워(300)는 상기 마스크(M)의 양측면을 향하여 분사되도록 할 수 있다.
도 3은 상기 도 2에서 묘사한 마스크 처리 장치를 수평으로 90도 돌린 측면에서 바라본 것으로, 상기 블로워(300)가 상기 건조유체를 하향분사하되 상기 마스크(M)의 양측면을 향해 경사진 방향으로 분사하도록 이루어지는 것을 나타낸다.
상기 건조유체는 상기 마스크(M)의 양측면에 분사됨으로써 상기 마스크(M)의 양측면이 균일하게 건조되도록 할 수 있다.
또한, 도 4에 나타난 바와 같이, 상기 블로워(300)는 상기 마스크(M)가 상승하여 상기 마스크(M)의 일측이 상기 제1배스(110) 내부의 상기 제1공정유체로부터 분리되기 시작하는 때(A) 상기 건조유체를 분사하기 시작하여, 상기 마스크(M)가 하강하여 상기 제2배스(120) 내부의 상기 제2공정유체에 완전히 침지될 때(D)까지 상기 건조유체를 분사하도록 이루어질 수 있다.
상기 실시예에 따르면 상기 건조유체는 상기 마스크(M)를 건조할 뿐 아니라 퍼지 역할을 겸하여, 상기 마스크(M)가 운송되는 중에 공기중의 오염물질과 접촉하는 것을 차단하고 공정불량을 방지할 수 있다.
또한, 상기 블로워(300)는 상기 마스크(M)가 상승하여 상기 마스크(M)의 일측이 상기 제1배스(110) 내부의 상기 제1공정유체로부터 완전히 분리되었을 때(B) 상기 건조유체를 분사하기 시작하여, 상기 마스크(M)가 하강하여 상기 마스크(M)의 일측이 상기 제2배스(120) 내부의 상기 제2공정유체에 침지되기 시작할 때(C)까지 상기 건조유체를 분사하도록 이루어질 수 있다.
상기 실시예에 따르면 상기 마스크(M)의 전 면이 상기 건조유체에 의해 균일하게 건조되어, 불균등한 건조에 의해 일어날 수 있는 불균형 및 공정불량을 방지할 수 있다.
또한, 도 5에 나타난 바와 같이, 상기 블로워(300)는 상기 로봇 암(200)에 구비될 수 있다.
상기 로봇 암(200)은 상기 마스크(M)를 운반하며 함께 이동하므로, 상기 로봇 암(200)에 구비되는 상기 블로워(300)는 상기 마스크(M)의 이송 중에 상기 건조유체가 상기 마스크(M)상에 일정한 밀도로 분사되도록 할 수 있다. 즉, 상기 마스크(M)를 균일하게 건조할 수 있다.
또한, 도 6에 나타난 바와 같이, 상기 블로워(300)는 상기 복수의 배스(110,120) 사이의 대기존(400)에 구비될 수 있다.
상기 마스크(M)는 상기 로봇 암(200)에 의해 이송되어 상기 대기존(400)을 지나는 동안 상기 블로워(300)에서 분사되는 상기 건조유체에 의해 건조된다.
상기 대기존(400)은 상기 제1배스(110) 또는 상기 제2배스(120)와 분리된 공간으로, 상기 마스크(M)가 건조되며 상기 마스크(M)로부터 분리될 수 있는 오염물질이 상기 제1배스(110) 또는 상기 제2배스(120)에 유입되어 상기 제1공정유체 또는 상기 제2공정유체가 오염되는 것을 방지할 수 있는 공간을 제공한다.
상기 블로워(320)는 상기 대기존(400)의 하부에 구비되어 상기 건조유체를 상향 분사하도록 이루어질 수 있으며, 상기 대기존(400)의 상측에 구비되어 상기 건조유체를 하향 분사하도록 이루어질 수도 있다.
또한, 도 7에 나타난 바와 같이, 상기 블로워(300)는 상기 배스(110,120)의 내측면에 구비될 수 있다.
상기 블로워(300)는 상기 건조유체를 수평방향으로 분사하도록 이루어질 수 있다.
상기 블로워(300)는 상기 배스(110,120)의 내측면 양측에 구비되어 상기 마스크(M)의 양측에서 상기 건조유체를 분사하도록 이루어질 수 있으며, 상기 배스(110,120)의 내측면의 사방에 구비되어 상기 마스크(M)의 사방에서 상기 건조유체를 분사하도록 이루어져, 상기 마스크(M)를 균일하게 건조할 수 있다.
도 8을 참조하여 본 발명에 의한 마스크 처리 장치에 의한 마스크 처리 방법에 대해 서술한다.
단계 S10은, 제1공정유체가 수용된 제1배스(110)에 마스크(M)가 침지되어 마스크 처리 공정이 이루어지는 단계이다.
단계 S20은, 상기 마스크(M)가 상기 제1배스(110)로부터 제2공정유체가 수용된 제2배스(120)로 이송되는 단계로, 상기 마스크(M)가 이송되는 동안 상기 마스크(M)상에 건조유체가 분사되어 상기 마스크(M)를 건조하도록 이루어진다.
본 단계는, 상기 마스크(M)가 상승하여 상기 제1배스(110)에 수용된 상기 제1공정유체로부터 분리되는 제1운송단계(S1)와, 상기 마스크(M)가 수평방향으로 이동하여 상기 제2배스(120)의 상측으로 이동하는 제2운송단계(S2)와, 상기 마스크(M)가 하강하여 상기 제2배스(120)에 수용된 상기 제2공정유체에 침지되는 제3운송단계(S3)를 포함하여 이루어질 수 있다.
본 단계가 수행되는 동안 블로워(300)에 의해 상기 마스크(M)상에 상기 건조유체가 분사되어 상기 마스크(M)의 건조가 이루어진다.
상기 블로워(300)는 상기 제1배스(110) 또는 상기 제2배스(120)의 상측에 구비되어, 상기 제1운송단계(S1) 또는 상기 제2운송단계(S2) 또는 상기 제3운송단계(S3)에서 상기 건조유체를 상기 마스크(M)상에 분사하도록 이루어질 수 있다.
또한, 상기 블로워(300)는 상기 마스크(M)를 운송하는 이송로봇(미도시)의 로봇 암(200)에 구비되어, 상기 제1운송단계(S1) 또는 상기 제2운송단계(S2) 또는 상기 제3운송단계(S3)에서 상기 건조유체를 상기 마스크(M)상에 분사하도록 이루어질 수 있다.
또한, 상기 블로워(300)는 상기 제1배스(110)와 상기 제2배스(120)의 사이에 구비되는 대기존(400)에 구비되어, 상기 제2운송단계(S2)에서 상기 건조유체를 상기 마스크(M)상에 분사하도록 이루어질 수 있다.
또한, 상기 블로워(300)는 상기 제1배스(110) 또는 상기 제2배스(120)의 내측면에 구비되어, 상기 제1운송단계(S1) 또는 상기 제3운송단계(S3)에서 상기 건조유체를 상기 마스크(M)상에 분사하도록 이루어질 수 있다.
단계 S30은, 제2공정유체가 수용된 제2배스(120)에 마스크(M)가 침지되어 마스크 처리 공정이 이루어지는 단계이다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 마스크 처리 장치 및 마스크 처리 방법에 의하면, 복수의 배스(110,120)간을 이동하는 마스크(M)를 건조하는 블로워(300)을 구비하여 건조 대기시간을 단축할 수 있다.
또한, 상기 블로워(300)에서 분사되는 건조유체는 상기 마스크(M)를 퍼지하는 역할을 겸하여 상기 복수의 배스(110,120)간을 이동하는 마스크에 오염물질이 부착되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기 건조유체는 상기 마스크(M)의 양측면을 향해 분사되어 상기 마스크(M)의 양측면을 균일하게 건조할 수 있다.
또한, 상기 마스크(M)를 이송하며 상기 마스크(M)와 함께 움직이는 로봇 암(200)에 상기 블로워(300)를 구비하여 상기 마스크(M)를 균일하게 건조할 수 있다.
또한, 상기 복수의 배스(110,120) 사이에 구비되는 대기존(400)에 상기 블로워(300)를 구비하여 상기 마스크(M)의 건조 중 오염물질이 상기 복수의 배스(110,120) 중 하나에 유입되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기 건조유체를 분사하는 유압을 이용하여 상기 마스크(M)상에 잔존하는 상기 공정유체를 밀어내고 상기 마스크(M)의 건조 속도를 높일 수 있다.
또한, 상기 마스크(M)가 완전히 건조된 후 다음 순서의 배스에 이송되도록 하여 상기 공정유체의 혼입 및 혼용을 최소함으로써 마스크 처리 효율을 높이고 상기 공정유체의 재생량을 높일 수 있다.
본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구되는 본 발명의 기술적 사상에 벗어남 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 자명한 변형실시가 가능하고, 이러한 변형실시는 본 발명의 범위에 속한다.
M : 마스크 110 : 제1배스
120 : 제2배스 200 : 로봇 암
210 : 지지대 300 : 블로워
400 : 대기존 S1 : 제1운송단계
S2 : 제2운송단계 S3 : 제3운송단계

Claims (19)

  1. 서로 다른 마스크 처리 공정이 수행되는 복수의 배스;
    상기 배스에서 마스크 처리가 완료된 후 마스크에 잔류하는 공정유체를 건조하기 위해 마스크를 향하여 건조유체를 분사하는 블로워;
    를 포함하는 마스크 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 블로워는 배스의 상측에 구비되는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 블로워는 상기 마스크의 양측면을 향하여 건조유체를 분사하도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 배스는, 제1공정유체를 수용하는 제1배스와, 제2공정유체를 수용하는 제2배스를 포함하여 이루어지고;
    상기 블로워는, 상기 마스크가 상기 제1배스 내부의 제1공정유체로부터 완전히 분리되는 때부터 상기 마스크의 일측이 상기 제2배스 내부의 제2공정유체에 침지되기 시작하는 때까지 상기 건조유체를 분사하는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 배스는, 제1공정유체를 수용하는 제1배스와, 제2공정유체를 수용하는 제2배스를 포함하여 이루어지고;
    상기 블로워는, 상기 마스크의 일측이 상기 제1배스 내부의 상기 제1공정유체로부터 분리되기 시작하는 때부터 상기 마스크가 상기 제2배스 내부의 상기 제2공정유체에 완전히 침지될 때까지 상기 건조유체를 분사하는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 배스와 배스 사이에 상기 마스크를 운반하는 이송로봇에 있어서,
    상기 이송로봇은, 구동부가 구비되는 로봇 본체와, 상기 마스크를 지지하여 운반하는 지지부와, 상기 로봇 본체와 상기 지지부를 연결하는 로봇 암을 포함하여 이루어지고;
    상기 블로워는 상기 이송로봇의 로봇 암에 구비되는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 배스 사이에 대기존이 구비되고;
    상기 블로워는 상기 대기존에 구비되는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 블로워는 상기 대기존의 하부에 구비되어, 상기 건조유체를 상향 분사하여 상기 마스크를 건조하는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 블로워는 상기 대기존의 상측에 구비되어, 상기 건조유체를 하향 분사하여 상기 마스크를 건조하는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 블로워는 상기 배스의 내측면에 구비되어, 상기 마스크의 양측 또는 사방에서 상기 건조유체를 분사하도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 블로워는 상기 건조유체를 수평방향으로 분사하여 상기 마스크를 건조하는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 건조유체는 클린 에어인 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 건조유체는 비활성 기체인 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 건조유체는 질소 기체인 것을 특징으로 하는 마스크 처리 장치
  15. a) 제1공정유체가 수용된 제1배스에 마스크가 침지되어 제1공정이 이루어지는 단계;
    b) 상기 마스크가 상기 제1배스로부터 제2공정유체가 수용된 제2배스로 이송되는 단계;
    c) 상기 제2배스에 마스크가 침지되어 제2공정이 이루어지는 단계;
    를 포함하되, 상기 단계 b)가 수행되는 동안 상기 마스크에 건조유체가 분사되어 상기 마스크가 건조되는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 단계 b)는,
    b-1) 상기 마스크가 상승하여 상기 제1배스에 수용된 상기 제1공정유체로부터 분리되는 단계;
    b-2) 상기 마스크가 수평방향으로 이동하여 상기 제2배스 상측으로 이동하는 단계;
    b-3) 상기 마스크가 하강하여 상기 제2배스에 수용된 상기 제2공정유체에 침지되는 단계;
    를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 단계 b-1)이 수행되는 동안 상기 마스크에 건조유체가 분사되어 상기 마스크가 건조되는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 방법.
  18. 제16항에 있어서,
    상기 단계 b-2)가 수행되는 동안 상기 마스크 에 건조유체가 분사되어 상기 마스크가 건조되는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 방법.
  19. 제16항에 있어서,
    상기 단계 b-3)이 수행되는 동안 상기 마스크에 건조유체가 분사되어 상기 마스크가 건조되는 것을 특징으로 하는 마스크 처리 방법.
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