KR20190096578A - Method for separating mask adhere to frame - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 프레임으로부터 마스크를 분리하고 교체하는 과정에서 프레임의 변형을 방지할 수 있는 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of detaching a mask adhered to a frame. More specifically, the present invention relates to a method of detaching a mask adhered to a frame, which can prevent deformation of the frame in the process of removing and replacing the mask from the frame.
최근에 박판 제조에 있어서 전주 도금(Electroforming) 방법에 대한 연구가 진행되고 있다. 전주 도금 방법은 전해액에 양극체, 음극체를 침지하고, 전원을 인가하여 음극체의 표면상에 금속박판을 전착시키므로, 극박판을 제조할 수 있으며, 대량 생산을 기대할 수 있는 방법이다.Recently, studies on electroforming methods have been underway in thin plate manufacturing. The electroplating method is to immerse the positive electrode and the negative electrode in the electrolyte, and to apply the power to electrodeposit the metal thin plate on the surface of the negative electrode, it is possible to manufacture the ultra-thin plate, it is a method that can be expected to mass production.
한편, OLED 제조 공정에서 화소를 형성하는 기술로, 박막의 금속 마스크(Shadow Mask)를 기판에 밀착시켜서 원하는 위치에 유기물을 증착하는 FMM(Fine Metal Mask) 법이 주로 사용된다.Meanwhile, as a technology of forming pixels in an OLED manufacturing process, a fine metal mask (FMM) method of depositing an organic material at a desired position by closely attaching a thin metal mask to a substrate is mainly used.
기존의 OLED 제조 공정에서는 마스크를 스틱 형태, 플레이트 형태 등으로 제조한 후, 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용한다. 마스크 하나에는 디스플레이 하나에 대응하는 셀이 여러개 구비될 수 있다. 또한, 대면적 OLED 제조를 위해서 여러 개의 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 고정시킬 수 있는데, 프레임에 고정하는 과정에서 각 마스크가 평평하게 되도록 인장을 하게 된다. 마스크의 전체 부분이 평평하게 되도록 인장력을 조절하는 것은 매우 어려운 작업이다. 특히, 각 셀들을 모두 평평하게 하면서, 크기가 수 내지 수십 ㎛에 불과한 마스크 패턴을 정렬하기 위해서는, 마스크의 각 측에 가하는 인장력을 미세하게 조절하면서, 정렬 상태를 실시간으로 확인하는 고도의 작업이 요구된다.In the conventional OLED manufacturing process, the mask is manufactured in a stick form, a plate form, and the like, and then the mask is welded and fixed to the OLED pixel deposition frame. Each mask may include a plurality of cells corresponding to one display. In addition, in order to manufacture a large area OLED, several masks may be fixed to the OLED pixel deposition frame. In the process of fixing to the frame, each mask is tensioned to be flat. Adjusting the tension to make the entire part of the mask flat is a very difficult task. In particular, in order to align the mask pattern having a size of only a few to several tens of micrometers while flattening each cell, a high-level operation of checking the alignment in real time while finely adjusting the tension applied to each side of the mask is required. do.
그럼에도 불구하고, 여러 개의 마스크를 하나의 프레임에 고정시키는 과정에서 마스크 상호간에, 그리고 마스크 셀들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 있었다. 또한, 마스크를 프레임에 용접 고정하는 과정에서 마스크 막의 두께가 너무 얇고 대면적이기 때문에 하중에 의해 마스크가 쳐지거나 뒤틀어지는 문제점이 있었다.Nevertheless, in the process of fixing several masks in one frame, there is a problem in that the alignment between the mask cells and the mask cells is not good. In addition, in the process of welding and fixing the mask to the frame, the thickness of the mask film is too thin and the large area has a problem that the mask is struck or warped by load.
초고화질의 OLED의 경우, 현재 QHD 화질은 500~600 PPI(pixel per inch)로 화소의 크기가 약 30~50㎛에 이르며, 4K UHD, 8K UHD 고화질은 이보다 높은 ~860 PPI, ~1600 PPI 등의 해상도를 가지게 된다. 이렇듯 초고화질의 OLED의 화소 크기를 고려하여 각 셀들간의 정렬 오차를 수 ㎛ 정도로 감축시켜야 하며, 이를 벗어나는 오차는 제품의 실패로 이어지게 되므로 수율이 매우 낮아지게 될 수 있다. 그러므로, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고, 정렬을 명확하게 할 수 있는 기술, 마스크를 프레임에 고정하는 기술 등의 개발이 필요한 실정이다.In the case of ultra-high-definition OLED, the current QHD image quality is 500 ~ 600 pixel per inch (PPI), and the pixel size is about 30 ~ 50㎛. It has a resolution of. As such, considering the pixel size of the ultra-high-definition OLED, the alignment error between each cell should be reduced to several μm, and the error beyond this may lead to product failure, resulting in very low yield. Therefore, there is a need for development of a technique for preventing deformation, such as knocking or twisting of a mask and making alignment clear, a technique for fixing a mask to a frame, and the like.
한편, 마스크가 일부 정렬이 명확하지 않게 고정되거나, 마스크에 결함이 발생한 경우 마스크를 분리해야 하나, 용접된 마스크를 분리 및 교체하는 과정에서 다른 마스크의 정렬을 어긋나게 하는 문제점이 있었다.On the other hand, if the mask is not fixed in some alignment, or if a defect occurs in the mask, the mask has to be separated, but there was a problem that the alignment of the other mask in the process of removing and replacing the welded mask.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 마스크와 프레임이 일체형 구조를 이루는 프레임 일체형 마스크에서 마스크의 분리 및 교체를 용이하게 할 수 있는 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, the mask is bonded to the frame that can facilitate the separation and replacement of the mask in the frame-integrated mask in which the mask and the frame form an integral structure It is an object to provide a separation method.
또한, 본 발명은 프레임이 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.It is also an object of the present invention to provide a method of detaching a mask adhered to a frame, which can prevent deformation of the frame and the like and to make the alignment clear.
본 발명의 상기의 목적은, 프레임에 접착된 마스크를 분리하는 방법으로서, (a) 테두리 프레임부 및 복수의 마스크 셀 영역을 구비하고 테두리 프레임부에 연결되는 마스크 셀 시트부를 포함하는, 프레임 상부의 적어도 일부분에 마스크가 접착된 프레임 일체형 마스크를 제공하는 단계; (b) 접착된 마스크의 적어도 일측 모서리의 외측 부분을 압착하는 단계; 및 (c) 마스크의 일측 모서리에 외력을 가하여 프레임으로부터 마스크를 분리하는 단계를 포함하는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법에 의해 달성된다.The above object of the present invention is a method of separating a mask adhered to a frame, comprising: (a) a mask cell sheet portion having a border frame portion and a plurality of mask cell regions and connected to the border frame portion; Providing a frame-integrated mask having a mask adhered to at least a portion thereof; (b) pressing the outer portion of at least one edge of the bonded mask; And (c) detaching the mask from the frame by applying an external force to one edge of the mask.
마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비할 수 있다.The mask cell sheet unit may include a plurality of mask cell regions in at least one of a first direction and a second direction perpendicular to the first direction.
마스크 셀 시트부는, 테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부를 포함할 수 있다.The mask cell sheet portion includes an edge sheet portion; At least one first grid sheet portion extending in a first direction and connected at both ends to the edge sheet portion; And at least one second grid sheet portion extending in a second direction perpendicular to the first direction and intersecting with the first grid sheet portion, and both ends connected to the edge sheet portion.
각각의 마스크 셀 영역에 각각의 마스크가 대응될 수 있다.Each mask may correspond to each mask cell region.
마스크는, 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크 셀, 및 마스크 셀 주변의 더미를 포함하고, 더미의 적어도 일부가 마스크 셀 시트부에 접착될 수 있다.The mask includes a mask cell in which a plurality of mask patterns are formed, and a dummy around the mask cell, and at least a part of the dummy may be adhered to the mask cell sheet portion.
마스크는 하나의 마스크 셀을 포함하고, 마스크 셀 시트부의 각각의 마스크 셀 영역 상에 각각의 마스크가 대응 수 있다.The mask includes one mask cell, and each mask may correspond to each mask cell region of the mask cell sheet portion.
마스크는 복수의 마스크 셀을 포함하고, 마스크 셀 시트부의 각각의 마스크 셀 영역 상에 각각의 마스크가 대응될 수 있다. The mask may include a plurality of mask cells, and each mask may correspond to each mask cell region of the mask cell sheet part.
(b) 단계에서, 마스크 일측 모서리의 외측에 배치된 마스크 셀 시트부의 상부면과 하부면을 압착할 수 있다.In step (b), the upper surface and the lower surface of the mask cell sheet portion disposed outside the one edge of the mask may be compressed.
마스크 일측 모서리에 대응하는 마스크 셀 시트부의 모서리 상부면을 압착바로 누를 수 있다.The upper surface of the edge of the mask cell sheet portion corresponding to the one edge of the mask may be pressed with the pressing bar.
프레임 형상에 대응하는 프레임 지지홈이 상부면에 형성된 지지체를 프레임의 하부에 배치할 수 있다.The support formed on the upper surface of the frame support groove corresponding to the frame shape may be disposed under the frame.
(a) 단계에서, 마스크의 더미가 마스크 셀 시트부 상부에 용접되어 마스크가 프레임에 접착되고, (c) 단계에서, 마스크의 일측 모서리에 외력을 가하여 마스크의 일측 모서리를 프레임으로부터 떼어낸 후, 마스크의 일측에 대향하는 타측 모서리에 외력을 가하여 타측 모서리를 프레임으로부터 떼어내면서, 마스크를 프레임으로부터 분리할 수 있다.In step (a), the dummy of the mask is welded to the upper portion of the mask cell sheet to bond the mask to the frame.In step (c), one edge of the mask is removed from the frame by applying an external force to one edge of the mask. The mask can be detached from the frame while applying the external force to the other edge opposite the one side of the mask to remove the other edge from the frame.
(a) 단계에서, 적어도 두 금속의 합금을 포함하는 접착부를 매개하여 마스크가 프레임에 접착되고, (c) 단계에서, 외력에 더하여 소정의 온도, 소정의 압력 중 적어도 어느 하나를 접착부에 가할 수 있다.In step (a), the mask is adhered to the frame via an adhesive portion comprising an alloy of at least two metals, and in step (c), at least one of a predetermined temperature and a predetermined pressure may be applied to the adhesive portion in addition to the external force. have.
(c) 단계에서, 접착부의 적어도 일부가 고상(solid phase)에서 액상(liquid phase)으로 변할 수 있다. In step (c), at least a portion of the bond can change from a solid phase to a liquid phase.
(a) 단계에서, 접착 도금부를 매개하여 마스크가 프레임에 접착되고, (c) 단계에서, 마스크의 일측 모서리에 외력을 가하여 마스크의 일측 모서리를 프레임으로부터 떼어낸 후, 마스크의 일측에 대향하는 타측 모서리에 외력을 가하여 타측 모서리를 프레임으로부터 떼어내면서, 마스크를 프레임으로부터 분리할 수 있다.In step (a), the mask is adhered to the frame by means of an adhesive plating, and in step (c), one side edge of the mask is removed from the frame by applying an external force to one edge of the mask, and then the other side facing one side of the mask. The mask can be detached from the frame while the other edge is removed from the frame by applying external force to the edge.
상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 마스크와 프레임이 일체형 구조를 이루는 프레임 일체형 마스크에서 마스크의 분리 및 교체를 용이하게 할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention configured as described above, there is an effect that can facilitate the separation and replacement of the mask in the frame-integrated mask in which the mask and the frame form an integral structure.
또한, 본 발명에 따르면, 프레임이 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect that can prevent the deformation, such as distortion of the frame and to clarify the alignment.
도 1은 종래의 OLED 화소 증착용 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 2는 종래의 마스크를 프레임에 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 3은 종래의 마스크를 인장하는 과정에서 셀들간의 정렬 오차가 발생하는 것을 나타내는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 인장 형태 및 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응하여 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 10은 본 발명의 여러 실시예에 따른 마스크가 프레임에 접착된 형태를 나타내는 부분 확대 단면도이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 이용한 OLED 화소 증착 장치를 나타내는 개략도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크에서 마스크를 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크에서 마스크를 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.1 is a schematic view showing a conventional mask for OLED pixel deposition.
2 is a schematic diagram illustrating a process of adhering a conventional mask to a frame.
3 is a schematic diagram showing that alignment errors between cells occur in the process of tensioning a conventional mask.
4 is a front and side cross-sectional view showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.
5 is a front and side cross-sectional view showing a frame according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram illustrating a manufacturing process of a frame according to an embodiment of the present invention.
7 is a schematic diagram illustrating a manufacturing process of a frame according to another embodiment of the present invention.
8 is a schematic view showing the tension form of the mask and the state in which the mask corresponds to the cell region of the frame according to an embodiment of the present invention.
9 is a schematic diagram illustrating a process of bonding a mask according to an embodiment of the present invention corresponding to a cell region of a frame.
10 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a form in which a mask is adhered to a frame according to various embodiments of the present disclosure.
11 is a schematic diagram illustrating an OLED pixel deposition apparatus using a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.
12 is a schematic diagram illustrating a process of separating a mask from a frame integrated mask according to an embodiment of the present invention.
13 is a schematic diagram illustrating a process of separating a mask from a frame-integrated mask according to another embodiment of the present invention.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different but need not be mutually exclusive. For example, certain shapes, structures, and characteristics described herein may be embodied in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention with respect to one embodiment. In addition, it is to be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is defined only by the appended claims, along with the full range of equivalents to which such claims are entitled. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several aspects, and length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.
이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the present invention.
도 1은 종래의 OLED 화소 증착용 마스크(10)를 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a conventional mask for depositing
도 1을 참조하면, 종래의 마스크(10)는 스틱형(Stick-Type) 또는 판형(Plate-Type)으로 제조될 수 있다. 도 1의 (a)에 도시된 마스크(10)는 스틱형 마스크로서, 스틱의 양측을 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용할 수 있다. 도 1의 (b)에 도시된 마스크(100)는 판형(Plate-Type) 마스크로서, 넓은 면적의 화소 형성 공정에서 사용될 수 있다.Referring to FIG. 1, the
마스크(10)의 바디(Body)[또는, 마스크 막(11)]에는 복수의 디스플레이 셀(C)이 구비된다. 하나의 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 셀(C)에는 디스플레이의 각 화소에 대응하도록 화소 패턴(P)이 형성된다. 셀(C)을 확대하면 R, G, B에 대응하는 복수의 화소 패턴(P)이 나타난다. 일 예로, 셀(C)에는 70 X 140의 해상도를 가지도록 화소 패턴(P)이 형성된다. 즉, 수많은 화소 패턴(P)들은 군집을 이루어 셀(C) 하나를 구성하며, 복수의 셀(C)들이 마스크(10)에 형성될 수 있다.A plurality of display cells C are provided in the body (or mask film 11) of the
도 2는 종래의 마스크(10)를 프레임(20)에 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 3은 종래의 마스크(10)를 인장(F1~F2)하는 과정에서 셀들간의 정렬 오차가 발생하는 것을 나타내는 개략도이다. 도 1의 (a)에 도시된 6개의 셀(C: C1~C6)을 구비하는 스틱 마스크(10)를 예로 들어 설명한다.2 is a schematic diagram illustrating a process of adhering the
도 2의 (a)를 참조하면, 먼저, 스틱 마스크(10)를 평평하게 펴야한다. 스틱 마스크(10)의 장축 방향으로 인장력(F1~F2)을 가하여 당김에 따라 스틱 마스크(10)가 펴지게 된다. 그 상태로 사각틀 형태의 프레임(20) 상에 스틱 마스크(10)를 로딩한다. 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들은 프레임(20)의 틀 내부 빈 영역 부분에 위치하게 된다. 프레임(20)은 하나의 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들이 틀 내부 빈 영역에 위치할 정도의 크기일 수 있고, 복수의 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들이 틀 내부 빈 영역에 위치할 정도의 크기일 수도 있다.Referring to FIG. 2A, first, the
도 2의 (b)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절하면서 정렬을 시킨 후, 스틱 마스크(10) 측면의 일부를 용접(W)함에 따라 스틱 마스크(10)와 프레임(20)을 상호 연결한다. 도 2의 (c)는 상호 연결된 스틱 마스크(10)와 프레임의 측단면을 나타낸다.Referring to (b) of FIG. 2, after aligning while finely adjusting the tensile forces F1 to F2 applied to each side of the
도 3을 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절함에도 불구하고, 마스크 셀(C1~C3)들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 나타난다. 가령, 셀(C1~C3)들의 패턴(P)간에 거리(D1~D1", D2~D2")가 상호 다르게 되거나, 패턴(P)들이 비뚤어지는 것이 그 예이다. 스틱 마스크(10)는 복수(일 예로, 6개)의 셀(C1~C6)을 포함하는 대면적이고, 수십 ㎛ 수준의 매우 얇은 두께를 가지기 때문에, 하중에 의해 쉽게 쳐지거나 뒤틀어지게 된다. 또한, 각 셀(C1~C6)들을 모두 평평하게 하도록 인장력(F1~F2)을 조절하면서, 각 셀(C1~C6)들간의 정렬 상태를 현미경을 통해 실시간으로 확인하는 것은 매우 어려운 작업이다.Referring to FIG. 3, in spite of finely adjusting the tensile force F1 to F2 applied to each side of the
따라서, 인장력(F1~F2)의 미세한 오차는 스틱 마스크(10) 각 셀(C1~C3)들이 늘어나거나, 펴지는 정도에 오차를 발생시킬 수 있고, 그에 따라 마스크 패턴(P)간에 거리(D1~D1", D2~D2")가 상이해지게 되는 문제점을 발생시킨다. 물론, 완벽하게 오차가 0이 되도록 정렬하는 것은 어려운 것이지만, 크기가 수 내지 수십 ㎛인 마스크 패턴(P)이 초고화질 OLED의 화소 공정에 악영향을 미치지 않도록 하기 위해서는, 정렬 오차가 3㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 이렇게 인접하는 셀 사이의 정렬 오차를 PPA(pixel position accuracy)라 지칭한다.Therefore, the minute error of the tensile force (F1 ~ F2) may cause an error in the extent that each cell (C1 ~ C3) of the
이에 더하여, 대략 6~20개 정도의 복수의 스틱 마스크(10)들을 프레임(20) 하나에 각각 연결하면서, 복수의 스틱 마스크(10)들간에, 그리고 스틱 마스크(10)의 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태를 명확히 하는 것도 매우 어려운 작업이고, 정렬에 따른 공정 시간이 증가할 수밖에 없게 되어 생산성을 감축시키는 중대한 이유가 된다.In addition, between the plurality of stick masks 10 and the plurality of cells C of the stick masks 10 while connecting the plurality of stick masks 10 of about 6 to 20 to each of the
이에, 본 발명은 마스크(100)가 프레임(200)과 일체형 구조를 이룰 수 있게 하는 프레임(200) 및 프레임 일체형 마스크를 제안한다. 프레임(200)에 일체로 형성되는 마스크(100)는 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형이 방지되고, 프레임(200)에 명확히 정렬될 수 있다. 그리고, 마스크(100)를 프레임(200)에 일체로 연결하는 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킬 수 있는 이점을 가진다.Thus, the present invention proposes a
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도[도 4의 (a)] 및 측단면도[도 4의 (b)]이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도[도 5의 (a)] 및 측단면도[도 5의 (b)]이다.4 is a front view (FIG. 4 (a)) and a side cross-sectional view (FIG. 4 (b)) showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is according to an embodiment of the present invention It is a front view (FIG. 5 (a)) and a side cross-sectional view (FIG. 5 (b)) which show a frame.
도 4 및 도 5를 참조하면, 프레임 일체형 마스크는, 복수의 마스크(100) 및 하나의 프레임(200)을 포함할 수 있다. 다시 말해, 복수의 마스크(100)들을 각각 하나씩 프레임(200)에 접착한 형태이다. 이하에서는, 설명의 편의상 사각 형태의 마스크(100)를 예로 들어 설명하나, 마스크(100)들은 프레임(200)에 접착되기 전에는 양측에 클램핑되는 돌출부를 구비한 스틱 마스크 형태일 수 있고, 프레임(200)에 접착된 후에 돌출부가 제거될 수 있다.4 and 5, the frame integrated mask may include a plurality of
각각의 마스크(100)에는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성되며, 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응할 수 있다. 얇은 두께로 형성할 수 있도록, 마스크(100)는 전주도금(electroforming)으로 형성될 수 있다. 마스크(100)는 열팽창계수가 약 1.0 X 10-6/℃인 인바(invar), 약 1.0 X 10-7/℃ 인 슈퍼 인바(super invar) 재질일 수 있다. 이 재질의 마스크(100)는 열팽창계수가 매우 낮기 때문에 열에너지에 의해 마스크의 패턴 형상이 변형될 우려가 적어 고해상도 OLED 제조에서 있어서 FMM(Fine Metal Mask), 새도우 마스크(Shadow Mask)로 사용될 수 있다. 이 외에, 최근에 온도 변화값이 크지 않은 범위에서 화소 증착 공정을 수행하는 기술들이 개발되는 것을 고려하면, 마스크(100)는 이보다 열팽창계수가 약간 큰 니켈(Ni), 니켈-코발트(Ni-Co) 등의 재질일 수도 있다. 마스크의 두께는 약 2㎛ 내지 50㎛ 정도로 형성될 수 있다.A plurality of mask patterns P may be formed in each
프레임(200)은 복수의 마스크(100)를 접착시킬 수 있도록 형성된다. 프레임(200)은 최외곽 테두리를 포함해 제1 방향(예를 들어, 가로 방향), 제2 방향(예를 들어, 세로 방향)으로 형성되는 여러 모서리를 포함할 수 있다. 이러한 여러 모서리들은 프레임(200) 상에 마스크(100)가 접착될 구역을 구획할 수 있다.The
프레임(200)은 대략 사각 형상, 사각틀 형상의 테두리 프레임부(210)를 포함할 수 있다. 테두리 프레임부(210)의 내부는 중공 형태일 수 있다. 즉, 테두리 프레임부(210)는 중공 영역(R)을 포함할 수 있다. 프레임(200)은 인바, 슈퍼인바, 알루미늄, 티타늄 등의 금속 재질로 구성될 수 있으며, 열변형을 고려하여 마스크와 동일한 열팽창계수를 가지는 인바, 슈퍼 인바, 니켈, 니켈-코발트 등의 재질로 구성되는 것이 바람직하고, 이 재질들은 프레임(200)의 구성요소인 테두리 프레임부(210), 마스크 셀 시트부(220)에 모두 적용될 수 있다.The
이에 더하여, 프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하며, 테두리 프레임부(210)에 연결되는 마스크 셀 시트부(220)를 포함할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 마스크(100)와 마찬가지로 전주도금으로 형성되거나, 그 외의 막 형성 공정을 사용하여 형성될 수 있다. 또한, 마스크 셀 시트부(220)는 평면의 시트(sheet)에 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 형성한 후, 테두리 프레임부(210)에 연결할 수 있다. 또는, 마스크 셀 시트부(220)는 평면의 시트를 테두리 프레임부(210)에 연결한 후, 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 형성할 수 있다. 본 명세서에서는 마스크 셀 시트부(220)에 먼저 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 형성한 후, 테두리 프레임부(210)에 연결한 것을 상정하여 설명한다.In addition, the
마스크 셀 시트부(220)는 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225) 중 적어도 하나를 포함하여 구성될 수 있다. 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)는 동일한 시트에서 구획된 각 부분을 지칭하며, 이들은 상호간에 일체로 형성된다.The mask
테두리 시트부(221)가 실질적으로 테두리 프레임부(210)에 연결될 수 있다. 따라서, 테두리 시트부(221)는 테두리 프레임부(210)와 대응하는 대략 사각 형상, 사각틀 형상을 가질 수 있다.The
또한, 제1 그리드 시트부(223)는 제1 방향(가로 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 제1 그리드 시트부(223)는 직선 형태로 형성되어 양단이 테두리 시트부(221)에 연결될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 복수의 제1 그리드 시트부(223)를 포함하는 경우, 각각의 제1 그리드 시트부(223)는 동등한 간격을 이루는 것이 바람직하다.In addition, the first
또한, 이에 더하여, 제2 그리드 시트부(225)가 제2 방향(세로 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 제2 그리드 시트부(225)는 직선 형태로 형성되어 양단이 테두리 시트부(221)에 연결될 수 있다. 제1 그리드 시트부(223)와 제2 그리드 시트부(225)는 서로 수직 교차될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 복수의 제2 그리드 시트부(225)를 포함하는 경우, 각각의 제2 그리드 시트부(225)는 동등한 간격을 이루는 것이 바람직하다.In addition, in addition, the second
한편, 제1 그리드 시트부(223)들 간의 간격과, 제2 그리드 시트부(225)들 간의 간격은 마스크 셀(C)의 크기에 따라서 동일하거나 상이할 수 있다.Meanwhile, the spacing between the first
제1 그리드 시트부(223) 및 제2 그리드 시트부(225)는 박막 형태의 얇은 두께를 가지지만, 길이 방향에 수직하는 단면의 형상은 직사각형, 평행사변형과 같은 사각형 형상[도 5의 (b) 및 도 10 참조], 삼각형 형상 등일 수 있고, 변, 모서리 부분이 일부 라운딩 될 수도 있다. 단면 형상은 레이저 스크라이빙, 에칭 등의 과정에서 조절 가능하다.Although the first
테두리 프레임부(210)의 두께는 마스크 셀 시트부(220)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 테두리 프레임부(210)는 프레임(200)의 전체 강성을 담당하기 때문에 수mm 내지 수cm의 두께로 형성될 수 있다.The thickness of the
마스크 셀 시트부(220)의 경우는, 실질적으로 두꺼운 시트를 제조하는 공정이 어렵고, 너무 두꺼우면 OLED 화소 증착 공정에서 유기물 소스(600)[도 10 참조]가 마스크(100)를 통과하는 경로를 막는 문제를 발생시킬 수 있다. 반대로, 두께가 너무 얇아지면 마스크(100)를 지지할 정도의 강성 확보가 어려울 수 있다. 이에 따라, 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 프레임부(210)의 두께보다는 얇지만, 마스크(100)보다는 두꺼운 것이 바람직하다. 마스크 셀 시트부(220)의 두께는, 약 0.1mm 내지 1mm 정도로 형성될 수 있다. 그리고, 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 폭은 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있다.In the case of the mask
평면의 시트에서 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 점유하는 영역을 제외하여, 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)이 제공될 수 있다. 다른 관점에서, 마스크 셀 영역(CR)이라 함은, 테두리 프레임부(210)의 중공 영역(R)에서 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 점유하는 영역을 제외한, 빈 영역을 의미할 수 있다.A plurality of mask cell areas CR: CR11 to CR56 may be provided except for an area occupied by the
이 마스크 셀 영역(CR)에 마스크(100)의 셀(C)이 대응됨에 따라, 실질적으로 마스크 패턴(P)을 통해 OLED의 화소가 증착되는 통로로 이용될 수 있게 된다. 전술하였듯이 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)을 구성하는 마스크 패턴(P)들이 형성될 수 있다. 또는, 하나의 마스크(100)가 복수의 셀(C)을 구비하고 각각의 셀(C)이 프레임(200)의 각각의 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있으나, 마스크(100)의 명확한 정렬을 위해서는 대면적 마스크(100)를 지양할 필요가 있고, 하나의 셀(C)을 구비하는 소면적 마스크(100)가 바람직하다. 또는, 프레임(200)의 하나의 셀 영역(CR)에 복수의 셀(C)을 가지는 하나의 마스크(100)가 대응할 수도 있다. 이 경우, 명확한 정렬을 위해서는 2-3개 정도의 소수의 셀(C)을 가지는 마스크(100)를 대응하는 것을 고려할 수 있다.As the cell C of the
프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하고, 각각의 마스크(100)는 각각 하나의 마스크 셀(C)이 마스크 셀 영역(CR)에 대응되도록 접착될 수 있다. 각각의 마스크(100)는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 셀(C) 및 마스크 셀(C) 주변의 더미[셀(C)을 제외한 마스크 막(110) 부분에 대응]를 포함할 수 있다. 더미는 마스크 막(110)만을 포함하거나, 마스크 패턴(P)과 유사한 형태의 소정의 더미 패턴이 형성된 마스크 막(110)을 포함할 수 있다. 마스크 셀(C)은 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하고, 더미의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 접착될 수 있다. 이에 따라, 마스크(100)와 프레임(200)이 일체형 구조를 이룰 수 있게 된다.The
이하에서는, 프레임 일체형 마스크를 제조하는 과정에 대해 설명한다.Hereinafter, a process of manufacturing the frame integrated mask will be described.
먼저, 도 4 및 도 5에서 상술한 프레임(200)을 제공할 수 있다. 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임(200)의 제조 과정을 나타내는 개략도이다.First, the
도 6의 (a)를 참조하면, 테두리 프레임부(210)를 제공한다. 테두리 프레임부(210)는 중공 영역(R)을 포함한 사각 틀 형상일 수 있다.Referring to FIG. 6A, an
다음으로, 도 6의 (b)를 참조하면, 마스크 셀 시트부(220)를 제조한다. 마스크 셀 시트부(220)는 전주도금 또는 그 외의 막 형성 공정을 사용하여 평면의 시트를 제조한 후, 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 마스크 셀 영역(CR) 부분을 제거함에 따라 제조할 수 있다. 본 명세서에서는 6 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 형성한 것을 예로 들어 설명한다. 5개의 제1 그리드 시트부(223) 및 4개의 제2 그리드 시트부(225)가 존재할 수 있다.Next, referring to FIG. 6B, a mask
다음으로, 마스크 셀 시트부(220)를 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 대응시키는 과정에서, 마스크 셀 시트부(220)의 모든 측을 인장(F1~F4)하여 마스크 셀 시트부(220)를 평평하게 편 상태로 테두리 시트부(221)를 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 한 측에서도 여러 포인트[도 6의 (b)의 예로, 1~3포인트]로 마스크 셀 시트부(220)를 잡고 인장할 수 있다. 한편, 모든 측이 아니라, 일부 측 방향을 따라 마스크 셀 시트부(220)를 인장(F1, F2) 할 수도 있다.Next, the mask
다음으로, 마스크 셀 시트부(220)를 테두리 프레임부(210)에 대응하면, 마스크 셀 시트부(220)의 테두리 시트부(221)를 용접(W)하여 접착할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)가 테두리 시트부(221)에 견고하게 접착될 수 있도록, 모든 측을 용접(W)하는 것이 바람직하다. 용접(W)은 테두리 프레임부(210)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220) 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다. 용접(W) 부분은 라인(line) 또는 스팟(spot) 형태로 생성될 수 있으며, 마스크 셀 시트부(220)와 동일한 재질을 가지고 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220)를 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다.Next, when the mask
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임의 제조 과정을 나타내는 개략도이다. 도 6의 실시예는 마스크 셀 영역(CR)을 구비한 마스크 셀 시트부(220)를 먼저 제조하고 테두리 프레임부(210)에 접착하였으나, 도 7의 실시예는 평면의 시트를 테두리 프레임부(210)에 접착한 후에, 마스크 셀 영역(CR) 부분을 형성한다.7 is a schematic diagram illustrating a manufacturing process of a frame according to another embodiment of the present invention. In the embodiment of FIG. 6, the mask
먼저, 도 6의 (a)처럼, 중공 영역(R)을 포함한 테두리 프레임부(210)를 제공한다.First, as shown in FIG. 6A, the
다음으로, 도 7의 (a)를 참조하면, 테두리 프레임부(210)에 평면의 시트[평면의 마스크 셀 시트부(220')]를 대응할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220')는 아직 마스크 셀 영역(CR)이 형성되지 않은 평면 상태이다. 대응시키는 과정에서, 마스크 셀 시트부(220')의 모든 측을 인장(F1~F4)하여 마스크 셀 시트부(220')를 평평하게 편 상태로 테두리 프레임부(210)에 대응할 수 있다. 한 측에서도 여러 포인트[도 7의 (a)의 예로, 1~3포인트]로 마스크 셀 시트부(220')를 잡고 인장할 수 있다. 한편, 모든 측이 아니라, 일부 측 방향을 따라 마스크 셀 시트부(220')를 인장(F1, F2) 할 수도 있다.Next, referring to FIG. 7A, a flat sheet (a flat mask
다음으로, 마스크 셀 시트부(220')를 테두리 프레임부(210)에 대응하면, 마스크 셀 시트부(220')의 테두리 부분을 용접(W)하여 접착할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220')가 테두리 프레임부(220)에 견고하게 접착될 수 있도록, 모든 측을 용접(W)하는 것이 바람직하다. 용접(W)은 테두리 프레임부(210)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220') 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다. 용접(W) 부분은 라인(line) 또는 스팟(spot) 형태로 생성될 수 있으며, 마스크 셀 시트부(220')와 동일한 재질을 가지고 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220')를 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다.Next, when the mask
다음으로, 도 7의 (b)를 참조하면, 평면의 시트[평면의 마스크 셀 시트부(220')]에 마스크 셀 영역(CR)을 형성한다. 레이저 스크라이빙, 에칭 등을 통해 마스크 셀 영역(CR) 부분의 시트를 제거함에 따라 마스크 셀 영역(CR)을 형성할 수 있다. 본 명세서에서는 6 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 형성한 것을 예로 들어 설명한다. 마스크 셀 영역(CR)을 형성하게 되면, 테두리 프레임부(210)와 용접(W)된 부분이 테두리 시트부(221)가 되고, 5개의 제1 그리드 시트부(223) 및 4개의 제2 그리드 시트부(225)를 구비하는 마스크 셀 시트부(220)가 구성될 수 있다.Next, referring to FIG. 7B, a mask cell region CR is formed in a planar sheet (planar mask
한편, 도 6 및 도 7에서는 테두리 프레임부(210)와 마스크 셀 시트부(220)가 용접(W)으로 접착된 실시예를 설명하였으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니며, 도 10에서 후술할, 유테틱 접착부(EM), 전주 도금부(150) 및 기타 유무기 접착제 등을 사용한 방법으로 접착을 수행할 수도 있다.6 and 7 illustrate an embodiment in which the
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)의 인장 형태[도 8의 (a)] 및 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 대응시키는 상태[도 8의 (b)]를 나타내는 개략도이다.FIG. 8 illustrates a state in which the
다음으로, 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크(100)를 제공할 수 있다. 전주도금 방식으로 인바, 슈퍼 인바 재질의 마스크(100)를 제조할 수 있고, 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있음은 상술한 바 있다.Next, a
전주도금에서 음극체(cathode)로 사용하는 모판(mother plate)은 전도성 재질을 사용한다. 전도성 재질로서, 메탈의 경우에는 표면에 메탈 옥사이드들이 생성되어 있을 수 있고, 메탈 제조 과정에서 불순물이 유입될 수 있으며, 다결정 실리콘 기재의 경우에는 개재물 또는 결정립계(Grain Boundary)가 존재할 수 있으며, 전도성 고분자 기재의 경우에는 불순물이 함유될 가능성이 높고, 강도. 내산성 등이 취약할 수 있다. 메탈 옥사이드, 불순물, 개재물, 결정립계 등과 같이 모판(또는, 음극체)의 표면에 전기장이 균일하게 형성되는 것을 방해하는 요소를 "결함"(Defect)으로 지칭한다. 결함(Defect)에 의해, 상술한 재질의 음극체에는 균일한 전기장이 인가되지 못하여 도금막[마스크(100)]의 일부가 불균일하게 형성될 수 있다.The mother plate used as a cathode in electroplating is made of a conductive material. As the conductive material, in the case of metal, metal oxides may be formed on the surface, impurities may be introduced during the metal manufacturing process, and in the case of the polycrystalline silicon substrate, inclusions or grain boundaries may exist, and the conductive polymer may be present. In the case of a base material, it is highly likely to contain an impurity, and strength. Acid resistance may be weak. Elements that interfere with the uniform formation of an electric field on the surface of the substrate (or negative electrode body), such as metal oxides, impurities, inclusions, grain boundaries, etc., are referred to as "defects." Due to the defect, a uniform electric field may not be applied to the cathode body of the above-described material, so that a part of the plating film (mask 100) may be unevenly formed.
UHD 급 이상의 초고화질 화소를 구현하는데 있어서 도금막 및 도금막 패턴[마스크 패턴(P)]의 불균일은 화소의 형성에 악영향을 미칠 수 있다. FMM, 새도우 마스크의 패턴 폭은 수 내지 수십㎛의 크기, 바람직하게는 30㎛보다 작은 크기로 형성될 수 있으므로, 수㎛ 크기의 결함조차 마스크의 패턴 사이즈에서 큰 비중을 차지할 정도의 크기이다.Non-uniformity of the plating film and the plating film pattern (mask pattern P) may adversely affect the formation of the pixel in implementing a UHD-class or higher definition pixel. Since the pattern width of the FMM and the shadow mask can be formed in the size of several to several tens of micrometers, preferably smaller than 30 micrometers, even a defect of several micrometers is large enough to occupy a large proportion in the pattern size of the mask.
또한, 상술한 재질의 음극체에서의 결함을 제거하기 위해서는 메탈 옥사이드, 불순물 등을 제거하기 위한 추가적인 공정이 수행될 수 있으며, 이 과정에서 음극체 재료가 식각되는 등의 또 다른 결함이 유발될 수도 있다.In addition, an additional process for removing metal oxides, impurities, and the like may be performed to remove the defects in the cathode material of the material described above, and another defect such as etching of the anode material may be caused in this process. have.
따라서, 본 발명은 단결정 실리콘 재질의 모판(또는, 음극체)를 사용할 수 있다. 전도성을 가지도록, 단결정 실리콘 재질의 모판에는 1019/cm3 이상의 고농도 도핑이 수행될 수 있다. 도핑은 모판의 전체에 수행될 수도 있으며, 모판의 표면 부분에만 수행될 수도 있다.Therefore, the present invention can use a mother plate (or a negative electrode body) made of a single crystal silicon material. In order to have conductivity, a high concentration doping of 10 19 / cm 3 or more may be performed on the single crystal silicon base plate. Doping may be performed on the entirety of the mother plate, or only on the surface portion of the mother plate.
도핑된 단결정 실리콘의 경우는 결함이 없기 때문에, 전주 도금 시에 표면 전부에서 균일한 전기장 형성으로 인한 균일한 도금막[마스크(100)]이 생성될 수 있는 이점이 있다. 균일한 도금막을 통해 제조하는 프레임 일체형 마스크(100, 200)는 OLED 화소의 화질 수준을 더욱 개선할 수 있다. 그리고, 결함을 제거, 해소하는 추가 공정이 수행될 필요가 없으므로, 공정비용이 감축되고, 생산성이 향상되는 이점이 있다.Since the doped single crystal silicon is free from defects, there is an advantage in that a uniform plating film (mask 100) can be generated due to the formation of a uniform electric field on the entire surface during electroplating. The frame-integrated
또한, 실리콘 재질의 모판을 사용함에 따라서, 필요에 따라 모판의 표면을 산화(Oxidation), 질화(Nitridation)하는 과정만으로 절연부를 형성할 수 있는 이점이 있다. 절연부는 포토레지스트를 사용하여 형성할 수도 있다. 절연부가 형성된 부분에서는 도금막[마스크(100)]의 전착이 방지되어, 도금막에 패턴[마스크 패턴(P)]을 형성하게 된다.In addition, according to the use of the silicon substrate, there is an advantage that the insulating portion can be formed only by a process of oxidizing and nitriding the surface of the mother substrate as needed. The insulating portion may be formed using a photoresist. Electrodeposition of the plating film (mask 100) is prevented in the part in which the insulation part was formed, and a pattern (mask pattern P) is formed in a plating film.
마스크 패턴(P)의 폭은 40㎛보다 작게 형성될 수 있고, 마스크(100)의 두께는 약 2~50㎛로 형성될 수 있다. 프레임(200)이 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비하므로, 각각의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 대응하는 마스크 셀(C: C11~C56)을 가지는 마스크(100)도 복수개 구비할 수 있다.The width of the mask pattern P may be smaller than 40 μm, and the thickness of the
도 8의 (a)를 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 도 8의 (a)에 도시된 바와 같이, 대응시키는 과정에서, 마스크(100)의 일축 방향을 따라 두 측을 인장(F1~F2)하여 마스크(100)를 평평하게 편 상태로 마스크 셀(C)을 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 한 측에서도 여러 포인트(도 8의 예로, 1~3포인트)로 마스크(100)를 잡고 인장할 수 있다. 한편, 일축 방향이 아니라, 모든 축 방향을 따라 마스크(100)의 모든 측을 인장(F1~F4) 할 수도 있다.Referring to FIG. 8A, the
예를 들어, 마스크(100)의 각 측에 가하는 인장력은 4N을 초과하지 않을 수 있다. 마스크(100)의 크기에 따라 가하는 인장력은 동일하거나, 달라질 수 있다. 다시 말해, 본 발명의 마스크(100)는 1개의 마스크 셀(C)을 포함하는 크기이므로, 복수개의 셀(C1~C6)을 포함하는 종래의 스틱 마스크(10)보다 필요로 하는 인장력이 동일하거나, 적어도 줄어들 가능성이 있다. 9.8N이 1kg의 중력 힘을 의미함을 고려하면, 1N은 400g의 중력 힘보다도 작은 힘이기 때문에, 마스크(100)가 인장된 후에 프레임(200)에 부착되어도 마스크(100)가 프레임(200)에 가하는 장력(tension), 또는, 반대로 프레임(200)이 마스크(100)에 가하는 장력은 매우 적게 된다. 그리하여, 장력에 의한 마스크(100) 및/또는 프레임(200)의 변형이 최소화되어 마스크(100)[또는, 마스크 패턴(P)]의 정렬 오차가 최소화 될 수 있다.For example, the tensile force applied on each side of the
그리고, 종래의 도 1의 마스크(10)는 셀 6개(C1~C6)를 포함하므로 긴 길이를 가지는데 반해, 본 발명의 마스크(100)는 셀 1개(C)를 포함하여 짧은 길이를 가지므로 PPA(pixel position accuracy)가 틀어지는 정도가 작아질 수 있다. 예를 들어, 복수의 셀(C1~C6, ...)들을 포함하는 마스크(10)의 길이가 1m이고, 1m 전체에서 10㎛의 PPA 오차가 발생한다고 가정하면, 본 발명의 마스크(100)는 상대적인 길이의 감축[셀(C) 개수 감축에 대응]에 따라 위 오차 범위를 1/n 할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 마스크(100)의 길이가 100mm라면, 종래 마스크(10)의 1m에서 1/10로 감축된 길이를 가지므로, 100mm 길이의 전체에서 1㎛의 PPA 오차가 발생하게 되며, 정렬 오차가 현저히 감소하게 되는 효과가 있다.In addition, since the
한편, 마스크(100)가 복수의 셀(C)을 구비하고, 각각의 셀(C)이 프레임(200)의 각각의 셀 영역(CR)에 대응하여도 정렬 오차가 최소화되는 범위 내에서라면, 마스크(100)는 프레임(200)의 복수의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있다. 또는, 복수의 셀(C)을 가지는 마스크(100)가 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있다. 이 경우에도, 정렬에 따른 공정 시간과 생산성을 고려하여, 마스크(100)는 가급적 적은 수의 셀(C)을 구비하는 것이 바람직하다.On the other hand, if the
마스크(100)가 평평한 상태로 마스크 셀 영역(CR)에 대응하도록 인장력(F1~F4)을 조절하면서, 현미경을 통해 실시간으로 정렬 상태를 확인할 수 있다. 본 발명의 경우는, 마스크(100)의 하나의 셀(C)을 대응시키고 정렬 상태를 확인하기만 하면 되므로, 복수의 셀(C: C1~C6)을 동시에 대응시키고 정렬 상태를 모두 확인하여야 하는 종래의 방법[도 2 참조]보다, 제조시간을 현저하게 감축시킬 수 있다.While the
즉, 본 발명의 프레임 일체형 마스크 제조 방법은, 6개의 마스크(100)에 포함되는 각각의 셀(C11~C16)을 각각 하나의 셀 영역(CR11~CR16)에 대응시키고 각각 정렬 상태를 확인하는 6번의 과정을 통해, 6개의 셀(C1~C6)을 동시에 대응시키고 6개 셀(C1~C6)의 정렬 상태를 동시에 모두 확인해야 하는 종래의 방법보다 훨씬 시간이 단축될 수 있다.That is, in the method of manufacturing a frame-integrated mask of the present invention, each cell C11 to C16 included in the six
또한, 본 발명의 프레임 일체형 마스크 제조 방법은, 30개의 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 30개의 마스크(100)를 각각 대응시키고 정렬하는 30번의 과정에서의 제품 수득률이, 6개의 셀(C1~C6)을 각각 포함하는 5개의 마스크(10)[도 2의 (a) 참조]를 프레임(20)에 대응시키고 정렬하는 5번의 과정에서의 종래의 제품 수득률보다 훨씬 높게 나타날 수 있다. 한번에 6개씩의 셀(C)이 대응하는 영역에 6개의 셀(C1~C6)을 정렬하는 종래의 방법이 훨씬 번거롭고 어려운 작업이므로 제품 수율이 낮게 나타나는 것이다.In addition, in the method of manufacturing a frame-integrated mask of the present invention, the product yield in 30 steps of matching and aligning 30
한편, 마스크(100)를 프레임(200)에 대응한 후, 프레임(200)에 소정의 접착제를 개재하여 마스크(100)를 임시로 고정할 수도 있다. 이후에, 마스크(100)의 접착 단계를 진행할 수 있다.Meanwhile, after the
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 대응하여 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 10은 도 9의 B-B' 단면도로서, 본 발명의 여러 실시예에 따른 마스크(100)가 프레임(200)[제1 그리드 시트부(223)]에 접착된 형태를 나타내는 부분 확대 단면도이다.9 is a schematic diagram illustrating a process of bonding the
다음으로, 도 9, 도 10의 (a) 및 (b)를 참조하면, 마스크(100)의 테두리의 일부 또는 전부를 프레임(200)에 접착할 수 있다. 접착은 용접(W)으로 수행될 수 있고, 바람직하게는 레이저 용접(W)으로 수행될 수 있다. 용접(W)된 부분은 마스크(100)/프레임(200)과 동일한 재질을 가지고 일체로 연결될 수 있다. Next, referring to FIGS. 9 and 10 (a) and (b), some or all of the edges of the
레이저를 마스크(100)의 테두리 부분[또는, 더미]의 상부에 조사하면, 마스크(100)의 일부가 용융되어 프레임(200)과 용접(W)될 수 있다. 용접(W)은 프레임(200)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 마스크(100)와 프레임(200) 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다. 용접(W) 부분은 라인(line) 또는 스팟(spot) 형태로 생성될 수 있으며, 마스크(100)와 동일한 재질을 가지고 마스크(100)와 프레임(200)을 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다.When the laser is irradiated onto the edge portion (or the dummy) of the
제1 그리드 시트부(223)[또는, 제2 그리드 시트부(225)]의 상면에 두 개의 이웃하는 마스크(100)의 일 테두리가 각각 접착(W)된 형태가 나타난다. 제1 그리드 시트부(223)[또는, 제2 그리드 시트부(225)]의 폭, 두께는 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있고, 제품 생산성 향상을 위해, 제1 그리드 시트부(223)[또는, 제2 그리드 시트부(225)]와 마스크(100)의 테두리가 겹치는 폭을 약 0.1~2.5mm 정도로 최대한 감축시킬 필요가 있다.One edges of two neighboring
제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 길이 방향에 수직하는 단면의 형상은 높이가 낮은 사각형, 평행사변형 등일 수 있다.The shape of the cross section perpendicular to the length direction of the first and second
용접(W) 방법은 마스크(100)를 프레임(200)에 접착하는 하나의 방법일 뿐이며, 이러한 실시예로 국한되지 않는다.The welding (W) method is only one method of adhering the
다른 예를 설명하면, 도 10의 (c)와 같이, 유테틱 재질의 접착부(EM)를 사용하여 마스크(100)를 프레임(200)에 접착할 수 있다. 유테틱 재질의 접착부(EM)는 적어도 두가지 금속을 포함하는 접착제로서, 필름, 선, 다발 형태 등의 다양한 모양을 가질 수 있고, 약 10 ~ 30㎛의 얇은 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 유테틱 재질의 접착부(EM)는 In, Sn, Bi, Au 등의 그룹과 Sn, Bi, Ag, Zn, Cu, Sb, Ge 등의 그룹에서 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 유테틱 재질의 접착부(EM)는 적어도 두 개의 금속 고상(solid phase)을 포함하고, 특정 온도/압력의 유테틱 포인트(eutectic point)에서는 두 개의 금속 고상이 모두 액상(liquid phase)이 될 수 있다. 그리고 유테틱 포인트를 벗어나면 다시 두 개의 금속 고상이 될 수 있다. 이에 따라, 고상 -> 액상 -> 고상의 상변화를 통해 접착제로서의 역할을 수행할 수 있는 것이다.As another example, as shown in FIG. 10C, the
유테틱 접착부(EM)는 일반적인 유기 접착제와 다르게 휘발성 유기물을 전혀 포함하고 있지 않다. 따라서, 접착제의 휘발성 유기물질이 공정 가스와 반응하여 OLED의 화소에 악영향을 주거나, 접착제 자체에 포함된 유기물질 등의 아웃 가스가 화소 공정 챔버를 오염시키거나 불순물로서 OLED 화소에 증착되는 악영향을 방지할 수 있게 된다. 또한, 유테틱 접착부(EM)는 고체이므로, OLED 유기물 세정액에 의해서 세정되지 않고 내식성을 가질 수 있게 된다. 또한, 두가지 이상의 금속을 포함하고 있으므로, 유기 접착제에 비해서 동일한 금속 재질인 마스크(100), 프레임(200)과 높은 접착성을 가지고 연결될 수 있고, 금속 재질이므로 변형 가능성이 낮은 이점이 있다.The eutectic adhesive (EM) does not contain any volatile organic materials unlike the general organic adhesive. Therefore, the volatile organic material of the adhesive reacts with the process gas to adversely affect the pixels of the OLED, or to prevent the adverse effects of outgassing of organic materials, such as organic materials included in the adhesive itself, contaminating the pixel processing chamber or deposited on the OLED pixels as impurities. You can do it. In addition, since the eutectic adhesive part EM is a solid, it is possible to have corrosion resistance without being cleaned by the OLED organic cleaning liquid. In addition, since it includes two or more metals, it can be connected to the
또 다른 예를 설명하면, 도 10의 (d)와 같이, 마스크(100)와 동일한 재질의 접착 도금부(150)를 더 형성하여 마스크(100)를 프레임(200)에 접착할 수 있다. 마스크(100)를 프레임(200)에 대응시킨 후, 마스크(100)의 하부면 방향에 PR 등의 절연부를 형성할 수 있다. 그리고, 절연부가 커버하지 않고 노출된 마스크(100)의 후면 및 프레임(200) 상에서 접착 도금부(150)를 전착할 수 있다.As another example, as illustrated in FIG. 10D, the
접착 도금부(150)가 마스크(100)의 노출된 표면 및 프레임(200) 상에서 전착되면서, 마스크(100)와 프레임(200)을 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다. 이때, 접착 도금부(150)는 마스크(100)의 테두리 부분에 일체로 연결되며 전착되므로, 프레임(200) 내측 방향 또는 외측 방향으로 인장력을 가하는 상태를 가지며 마스크(100)를 지지할 수 있다. 그리하여, 별도로 마스크를 인장하고 정렬하는 과정을 수행할 필요없이, 팽팽하게 프레임(200) 측으로 당겨진 마스크(100)를 프레임(200)과 일체로 형성할 수 있게 된다. While the
도 10에서는 설명의 편의를 위해 용접(W)된 부분, 유테틱 재질의 접착부(EM) 부분의 두께 및 폭이 다소 과장되게 도시되었음을 밝혀두며, 실제로 이 부분은 거의 돌출되지 않고 마스크(100)에 포함된 상태로 프레임(200)을 연결하는 부분일 수 있다.In FIG. 10, for convenience of description, the thickness and width of the welded portion and the adhesive portion EM portion of the eutectic material are shown to be exaggerated. In fact, the portion is hardly protruded and is disposed on the
다음으로, 하나의 마스크(100)를 프레임(200)에 접착하는 공정을 완료하면, 나머지 마스크(100)들을 나머지 마스크 셀(C)에 순차적으로 대응시키고, 프레임(200)에 접착하는 과정을 반복할 수 있다. 이미 프레임(200)에 접착된 마스크(100)가 기준 위치를 제시할 수 있으므로, 나머지 마스크(100)들을 셀 영역(CR)에 순차적으로 대응시키고 정렬 상태를 확인하는 과정에서의 시간이 현저하게 감축될 수 있는 이점이 있다. 그리고, 하나의 마스크 셀 영역에 접착된 마스크(100)와 이에 이웃하는 마스크 셀 영역에 접착된 마스크(100) 사이의 PPA(pixel position accuracy)가 3㎛를 초과하지 않게 되어, 정렬이 명확한 초고화질 OLED 화소 형성용 마스크를 제공할 수 있는 이점이 있다.Next, when the process of adhering one
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크(100, 200)를 이용한 OLED 화소 증착 장치(1000)를 나타내는 개략도이다.11 is a schematic diagram illustrating an OLED
도 11을 참조하면, OLED 화소 증착 장치(1000)는, 마그넷(310)이 수용되고, 냉각수 라인(350)이 배설된 마그넷 플레이트(300)와, 마그넷 플레이트(300)의 하부로부터 유기물 소스(600)를 공급하는 증착 소스 공급부(500)를 포함한다.Referring to FIG. 11, the OLED
마그넷 플레이트(300)와 소스 증착부(500) 사이에는 유기물 소스(600)가 증착되는 유리 등의 대상 기판(900)이 개재될 수 있다. 대상 기판(900)에는 유기물 소스(600)가 화소별로 증착되게 하는 프레임 일체형 마스크(100, 200)[또는, FMM]이 밀착되거나 매우 근접하도록 배치될 수 있다. 마그넷(310)이 자기장을 발생시키고 자기장에 의해 대상 기판(900)에 밀착될 수 있다.A
증착 소스 공급부(500)는 좌우 경로를 왕복하며 유기물 소스(600)를 공급할 수 있고, 증착 소스 공급부(500)에서 공급되는 유기물 소스(600)들은 프레임 일체형 마스크(100, 200)에 형성된 패턴(P)을 통과하여 대상 기판(900)의 일측에 증착될 수 있다. 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴(P)을 통과한 증착된 유기물 소스(600)는 OLED의 화소(700)로서 작용할 수 있다.The deposition
새도우 이펙트(Shadow Effect)에 의한 화소(700)의 불균일 증착을 방지하기 위해, 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴은 경사지게 형성(S)[또는, 테이퍼 형상(S)으로 형성]될 수 있다. 경사진 면을 따라서 대각선 방향으로 패턴을 통과하는 유기물 소스(600)들도 화소(700)의 형성에 기여할 수 있으므로, 화소(700)는 전체적으로 두께가 균일하게 증착될 수 있다.In order to prevent non-uniform deposition of the
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크(100, 200)에서 마스크(100)를 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 12의 (a)는 두 마스크 셀(C11, C12)에 대한 평면도, 도 12의 (b) 내지 (d) 는 도 12의 (a)의 D-D' 단면 개략도이다. 도 12에서는 용접(W)으로 프레임(200)에 접착한 마스크(100)를 분리하는 과정을 설명하나, 이는 접착 도금부(150)[도 10의 (d) 참조]를 개재하여 프레임(200)에 접착한 마스크(100)를 분리하는 과정과도 실질적으로 동일하다.12 is a schematic diagram illustrating a process of separating the
한편, 프레임(200)에 접착된 마스크(100)에 이물질이 개재된다거나, 마스크 패턴(P)에 손상이 발생하는 등과 같은 결함이 발생한 경우 마스크(100)를 교체할 필요가 있다. 또는, 마스크 패턴(P)의 일부 정렬이 명확하지 않게 마스크(100)가 프레임(200)에 접착된 경우에도 마스크(100)만을 교체하여 정렬을 명확하게 할 필요가 있다.Meanwhile, when a defect such as foreign matter is interposed in the
종래[도 2 참조]에는 프레임(20)에 용접(W)된 스틱 마스크(10)에 물리적인 힘을 가하여 스틱 마스크(10)를 프레임(20)으로부터 분리하였다. 예를 들어, 펜치, 니퍼 등을 통해 스틱 마스크(10)를 프레임(20)으로부터 뜯어내는데, 이 과정에서 프레임(20)에 힘이 작용하여 프레임(20)에 미세한 변형을 일으킬 수 있다. ㎛ 수준에서의 미세한 변형도 스틱 마스크(10)들의 마스크 셀(C: C1~C6)들간에 정렬이 어긋나는 문제가 발생할 수 있다.In the related art (see FIG. 2), the
본 발명은 프레임(200)으로부터 마스크(100)를 분리/교체하는 과정에서 프레임(200)이 변형되는 것을 방지할 수 있는 마스크(100)의 분리 방법을 제안한다.The present invention proposes a method of separating the
도 12의 (a) 및 (b)를 참조하면, 결함이 발생하여 교체하고자 하는 마스크(100a)가 접착된 프레임 일체형 마스크(100, 200)를 준비한다. 마스크 셀(C11)을 포함하는 마스크(100a)를 분리하는 것을 상정한다. 마스크(100a)는 좌측 모서리(101a) 및 우측 모서리(102a)가 용접(W)되어 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 접착된 상태인 것을 상정한다. 물론, 마스크(100)의 네 모서리 모두가 용접(W)되어 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 접착된 상태일 수도 있으며, 이 경우는 네 모서리 중 하나의 모서리의 접착을 떼어낼 때 나머지 모서리들은 압착하는 것이 필요하다.Referring to FIGS. 12A and 12B, the frame-integrated
마스크 셀(C11)을 포함하는 마스크(100a)의 일측 모서리(102a; 우측 모서리)를 프레임(200)으로부터 떼어낸 후에, 타측 모서리(101a; 좌측 모서리)를 프레임(200)으로부터 떼어낼 수 있다. 구체적으로, 마스크(100a)의 일측 모서리(102a)는, 마스크 셀 영역(CR11)의 우측 모서리인 제1 그리드 시트부(223a)에 접착된 상태일 수 있다. 그리하여 마스크(100a)의 일측 모서리(102a)에 외력(SP)을 가하여 떼어내려고 하면, 마스크(100a)와 프레임(200)[제1 그리드 시트부(223a)]의 접착력에 의해 제1 그리드 시트부(223a)의 부분에 변형이 발행하는 문제가 있다. 따라서, 프레임(200)[제1 그리드 시트부(223a)]을 단단하게 고정시킨 후에 마스크(100a)를 떼어낼 필요가 있다.After removing one
외력(SP)에 대해 프레임(200)을 단단하게 고정시키기 위해 외력(SP)이 직접적으로 작용하는 마스크(100a) 일측 모서리(102a)의 외측 부분을 압착할 수 있다. 즉, 마스크(100a)가 접착되어 있는 제1 그리드 시트부(223a) 및/또는 마스크(100a)의 우측에 이웃한 마스크(100b)의 좌측 모서리 부분(101b)을 압착할 수 있다. 제1 그리드 시트부(223a) 및/또는 마스크(100b)의 좌측 모서리 부분(101b)의 상부면과 하부면을 압착함에 따라, 이들을 외력(SP)에 대해서 단단하게 고정시킬 수 있다.In order to firmly fix the
상부에서는 압착바(260)를 통해 제1 그리드 시트부(223a)와 마스크(100b)의 좌측 모서리 부분(101b)의 상부면을 압착할 수 있다. 하부에서도 압착바(미도시)를 통해 제1 그리드 시트부(223a)와 마스크(100b)의 좌측 모서리 부분(101b)의 하부면을 압착할 수 있다. 도 12에서는 압착바(260)와 제1 그리드 시트부(223a), 마스크(100b)와 접촉하는 단부에 단차가 있는 것처럼 도시되어 있으나, 이는 설명의 편의상 두께 및 폭이 과장되게 도시된 것이며, 실제로 마스크(100b)의 두께는 수㎛ 정도이고, 용접(W)된 부분도 거의 돌출되지 않고 마스크(100)에 포함된 상태이기 때문에, 압착바(260)의 단부는 편평한 것으로 이해될 수 있다.In the upper portion, the first
한편, 하부에서는 압착바(미도시)를 사용하지 않고, 프레임(200)을 지지하는 지지체(250)를 사용할 수 있다. 지지체(250)는 프레임(200)의 하부를 지지할 수 있다. 지지체(250)는 프레임(200)을 지지할 수 있도록 판 형상을 가질 수 있고, 대략 프레임(200)의 면적보다 동일하거나 작게 형성될 수 있다. 지지체(250)는 열팽창계수를 고려하여 프레임(200)과 동일한 재질을 사용하는 것이 바람직하나, 강성이 높은 재질을 사용할 수도 있다.On the other hand, the
지지체(250)의 상부에는 프레임(200)의 형상에 대응하는 프레임 지지홈(251, 253)이 형성될 수 있다. 프레임 지지홈(251, 253)은 테두리 지지홈(251) 및 그리드 지지홈(253)을 포함한다. 테두리 지지홈(251)은 테두리 프레임부(210)와 테두리 시트부(221)에 대응하는 형상의 홈일 수 있다. 그리드 지지홈(253)은 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)에 대응하는, 제1 방향(x 방향), 제2 방향(y 방향)으로 형성될 수 있다. 그리드 지지홈(253)은 직선 형태로 형성되어 양단이 테두리 지지홈(251)에 연결될 수 있다. 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)와 마찬가지로, 각각의 그리드 지지홈(253)은 동등한 간격을 이룰 수 있다. 그리그 지지홈(253)의 길이 방향에 수직하는 단면의 형상은 제1, 2 그리드 시트부(223, 235) 대응하는 형상의 홈일 수 있다.
테두리 프레임부(210)와 테두리 시트부(221)의 두께가 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 두께보다 두꺼울 수 있으므로, 테두리 지지홈(251)은 그리드 지지홈(253)보다 깊은 두께로 형성될 수 있다.Since the thickness of the
프레임(200)은 지지체(250)의 프레임 지지홈(251, 253)에 수용되어 안착 지지될 수 있다. 프레임(200)이 지지체(250)에 안착 지지된 상태에서 프레임(200)의 최상면, 즉, 마스크(100)가 접착되는 면은 지지체(250)의 최상면보다 동일하거나 높은 위치를 가질 수 있다. 그리하여, 지지체(250)가 마스크(100)에 영향을 주지 않고 프레임(200)만을 지지할 수 있게 된다.The
다음으로, 도 12의 (c)를 참조하면, 마스크(100a)의 일측 모서리(102a)에 외력(SP)을 가하여 제1 그리드 시트부(223a)로부터 떼어낼 수 있다. 이때, 상부에서는 압착바(260)가 일측 모서리(102a)의 외측인 제1 그리드 시트부(223a)와 마스크(100b)의 좌측 모서리 부분(101b)의 상부면을 압착하고, 하부에서는 지지체(250)가 지지홈(251, 253)에 프레임(200)[제1 그리드 시트부(223a)]를 수용하여 안정적으로 지지하므로, 외력(SP)이 가해져도 프레임(200)[제1 그리드 시트부(223a)]이 변형되는 것을 방지할 수 있다.Next, referring to FIG. 12C, an external force SP may be applied to one
또한, 마스크(100a)의 타측 모서리(101a)와 테두리 시트부(221a)도 압착바(260')가 압착하고 있으므로, 외력(SP)에 의해 우측 모서리(102b)만 떼어질 수 있게 된다. 물론 타측 모서리(101a) 외에 상부 및 하부 모서리에도 압착바(미도시)가 압착을 가할 수 있다.In addition, since the
다음으로, 도 12의 (d)를 참조하면, 마스크(100a)의 타측 모서리(101a)에 외력(SP)을 가하여 테두리 시트부(221a)로부터 떼어낼 수 있다. 이때, 상부에서는 압착바(260")가 타측 모서리(101a)의 외측인 테두리 시트부(221a)의 상부면을 압착하고, 하부에서는 지지체(250)가 지지홈(251, 253)에 프레임(200)[테두리 시트부(221a)]을 수용하여 안정적으로 지지하므로, 외력(SP)이 가해져도 프레임(200)[테두리 시트부(221a)]이 변형되는 것을 방지할 수 있다.Next, referring to FIG. 12D, an external force SP may be applied to the
도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크에서 마스크를 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 13의 (a)는 두 마스크 셀(C11, C12)에 대한 평면도, 도 13의 (b) 내지 (d) 는 도 13의 (a)의 D-D' 단면 개략도이다. 이하에서는, 도 12과 차이점에 대해서만 설명한다.13 is a schematic diagram illustrating a process of separating a mask from a frame-integrated mask according to another embodiment of the present invention. FIG. 13A is a plan view of two mask cells C11 and C12, and FIGS. 13B to 13D are schematic views taken along the line D-D 'of FIG. Hereinafter, only the difference from FIG. 12 is demonstrated.
도 13의 (a) 및 (b)를 참조하면, 결함이 발생하여 교체하고자 하는 마스크(100a)가 접착된 프레임 일체형 마스크(100, 200)를 준비한다. 마스크 셀(C11)을 포함하는 마스크(100a)를 분리하는 것을 상정한다. 마스크(100a)는 좌측 모서리(101a) 및 우측 모서리(102a)에 적어도 두 금속의 합금을 포함하는 유테틱 접착부(EM)를 매개하여 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 접착된 상태인 것을 상정한다. 물론, 마스크(100)의 네 모서리 모두에 접착부(EM)가 개재되어 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 접착된 상태일 수도 있으며, 이 경우는 네 모서리 중 하나의 모서리의 접착을 떼어낼 때 나머지 모서리들은 압착하는 것이 필요하다.Referring to (a) and (b) of FIG. 13, the frame-integrated
상부에서는 압착바(260)를 통해 제1 그리드 시트부(223a)와 마스크(100b)의 좌측 모서리 부분(101b)의 상부면을 압착할 수 있다. 하부에서도 압착바(미도시)를 통해 제1 그리드 시트부(223a)와 마스크(100b)의 좌측 모서리 부분(101b)의 하부면을 압착할 수 있다. 도 13에서는 압착바(260)와 제1 그리드 시트부(223a), 마스크(100b)와 접촉하는 단부에 단차가 있는 것처럼 도시되어 있으나, 이는 설명의 편의상 두께 및 폭이 과장되게 도시된 것이며, 실제로 마스크(100b)의 두께는 수㎛ 정도이고, 유테틱 접착부(EM)의 부분도 거의 돌출되지 않기 때문에, 압착바(260)의 단부는 편평한 것으로 이해될 수 있다.In the upper portion, the first
한편, 하부에서는 압착바(미도시)를 사용하지 않고, 프레임(200)을 지지하는 지지체(250)를 사용할 수 있다. 프레임(200)은 지지체(250)의 프레임 지지홈(251, 253)에 수용되어 안착 지지될 수 있다.On the other hand, the
다음으로, 도 13의 (c)를 참조하면, 마스크(100a)의 일측 모서리(102a)에 위치한 유테틱 접착부(EM)에 소정의 온도/압력(HP)을 인가할 수 있다. 접착부(EM)의 금속들이 고상에서 액상으로 변하기 위한 온도, 압력을 가할 수 있다. 접착부(EA)를 구성하는 금속에 따라서 적절한 온도, 압력을 선택할 수 있다. 약 100℃ ~ 300℃의 열을 가하는 것만으로도 접착부(EM)는 고상에서 액상으로 변할 수 있다.Next, referring to FIG. 13C, a predetermined temperature / pressure HP may be applied to the utic adhesive portion EM positioned at one
여기에서, 마스크(100a)의 일측 모서리(102a)에 외력(SP)을 가하여 제1 그리드 시트부(223a)로부터 떼어낼 수 있다. 이때, 상부에서는 압착바(260)가 일측 모서리(102a)의 외측인 제1 그리드 시트부(223a)와 마스크(100b)의 좌측 모서리 부분(101b)의 상부면을 압착하고, 하부에서는 지지체(250)가 지지홈(251, 253)에 프레임(200)[제1 그리드 시트부(223a)]를 수용하여 안정적으로 지지하므로, 외력(SP)이 가해져도 프레임(200)[제1 그리드 시트부(223a)]이 변형되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 접착부(EM)가 액상으로 변하면서 접착력이 매우 약해지기 때문에, 적은 외력(SP)으로도 마스크(100a)의 일측 모서리(102a)가 제1 그리드 시트부(223a)로부터 떼어질 수 있으며, 프레임(200)[제1 그리드 시트부(223a)]이 변형되는 것을 더욱 방지할 수 있게 된다.Here, the external force SP may be applied to one
또한, 마스크(100a)의 타측 모서리(101a)와 테두리 시트부(221a)도 압착바(260')가 압착하고 있으므로, 외력(SP)에 의해 우측 모서리(102b)만 떼어질 수 있게 된다. 물론 타측 모서리(101a) 외에 상부 및 하부 모서리에도 압착바(미도시)가 압착을 가할 수 있다.In addition, since the
다음으로, 도 13의 (d)를 참조하면, 마스크(100a)의 타측 모서리(101a)에 위치한 유테틱 접착부(EM)에 소정의 온도/압력(HP)을 인가할 수 있다. 유테틱 접착부(EM)는 고상에서 액상으로 변할 수 있다. 이에 더하여 마스크(100a)의 타측 모서리(101a)에 외력(SP)을 가하여 테두리 시트부(221a)로부터 떼어낼 수 있다. 이때, 상부에서는 압착바(260")가 타측 모서리(101a)의 외측인 테두리 시트부(221a)의 상부면을 압착하고, 하부에서는 지지체(250)가 지지홈(251, 253)에 프레임(200)[테두리 시트부(221a)]을 수용하여 안정적으로 지지하므로, 외력(SP)이 가해져도 프레임(200)[테두리 시트부(221a)]이 변형되는 것을 방지할 수 있다.Next, referring to FIG. 13D, a predetermined temperature / pressure HP may be applied to the eutectic adhesive part EM positioned at the
본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.Although the present invention has been shown and described with reference to preferred embodiments as described above, it is not limited to the above embodiments and various modifications made by those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Modifications and variations are possible. Such modifications and variations are intended to fall within the scope of the invention and the appended claims.
100: 마스크
110: 마스크 막
150: 접착 도금부
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
221: 테두리 시트부
223: 제1 그리드 시트부
225: 제2 그리드 시트부
250: 지지체
260: 압착바
1000: OLED 화소 증착 장치
C: 셀, 마스크 셀
CR: 마스크 셀 영역
EM: 유테틱 재질의 접착부
F1~F4: 인장력
R: 테두리 프레임부의 중공 영역
P: 마스크 패턴
W: 용접100: mask
110: mask film
150: adhesive plating
200: frame
210: border frame portion
220: mask cell sheet portion
221: border sheet portion
223: first grid sheet portion
225: second grid sheet portion
250: support
260: compression bar
1000: OLED pixel deposition device
C: cell, mask cell
CR: mask cell area
EM: Adhesive Bonding
F1 to F4: Tensile force
R: Hollow area of the border frame portion
P: mask pattern
W: welding
Claims (14)
(a) 테두리 프레임부 및 복수의 마스크 셀 영역을 구비하고 테두리 프레임부에 연결되는 마스크 셀 시트부를 포함하는, 프레임 상부의 적어도 일부분에 마스크가 접착된 프레임 일체형 마스크를 제공하는 단계;
(b) 접착된 마스크의 적어도 일측 모서리의 외측 부분을 압착하는 단계; 및
(c) 마스크의 일측 모서리에 외력을 가하여 프레임으로부터 마스크를 분리하는 단계
를 포함하는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.As a method of separating the mask adhered to the frame,
(a) providing a frame-integrated mask having a mask adhered to at least a portion of an upper portion of the frame, the mask cell sheet portion having a border frame portion and a plurality of mask cell regions and connected to the border frame portion;
(b) pressing the outer portion of at least one edge of the bonded mask; And
(c) detaching the mask from the frame by applying external force to one edge of the mask;
Including, the separation method of the mask bonded to the frame.
마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 1,
The mask cell sheet portion is provided with a plurality of mask cell regions in at least one of a first direction and a second direction perpendicular to the first direction, wherein the mask adhered to the frame.
마스크 셀 시트부는,
테두리 시트부;
제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및
제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부
를 포함하는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 1,
The mask cell sheet part,
Border sheet portion;
At least one first grid sheet portion extending in a first direction and connected at both ends to the edge sheet portion; And
At least one second grid sheet portion extending in a second direction perpendicular to the first direction and intersecting the first grid sheet portion, and both ends connected to the edge sheet portion;
Including, the separation method of the mask bonded to the frame.
각각의 마스크 셀 영역에 각각의 마스크가 대응되는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 1,
A method of detaching a mask bonded to a frame, wherein each mask corresponds to a respective mask cell area.
마스크는,
복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크 셀, 및 마스크 셀 주변의 더미를 포함하고,
더미의 적어도 일부가 마스크 셀 시트부에 접착되는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 4, wherein
The mask is,
A mask cell in which a plurality of mask patterns are formed, and a dummy around the mask cell,
And at least a portion of the dummy is bonded to the mask cell sheet portion.
마스크는 하나의 마스크 셀을 포함하고, 마스크 셀 시트부의 각각의 마스크 셀 영역 상에 각각의 마스크가 대응된, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 1,
And the mask comprises one mask cell, each mask corresponding to each mask cell region of the mask cell sheet portion, wherein the mask is bonded to the frame.
마스크는 복수의 마스크 셀을 포함하고, 마스크 셀 시트부의 각각의 마스크 셀 영역 상에 각각의 마스크가 대응된, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 1,
And the mask comprises a plurality of mask cells, each mask corresponding to each mask cell region of the mask cell sheet portion, wherein the mask is bonded to the frame.
(b) 단계에서, 마스크 일측 모서리의 외측에 배치된 마스크 셀 시트부의 상부면과 하부면을 압착하는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 1,
In step (b), the mask and the method of separating the mask adhered to the frame, which compresses the upper surface and the lower surface of the mask cell sheet portion disposed outside the one side edge of the mask.
마스크 일측 모서리에 대응하는 마스크 셀 시트부의 모서리 상부면을 압착바로 누르는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 8,
A method of detaching a mask bonded to a frame by pressing a corner upper surface of a mask cell sheet portion corresponding to one edge of a mask with a pressing bar.
프레임 형상에 대응하는 프레임 지지홈이 상부면에 형성된 지지체를 프레임의 하부에 배치하는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 9,
And a support formed on the upper surface of the frame support groove corresponding to the frame shape is disposed below the frame.
(a) 단계에서, 마스크의 더미가 마스크 셀 시트부 상부에 용접되어 마스크가 프레임에 접착되고,
(c) 단계에서, 마스크의 일측 모서리에 외력을 가하여 마스크의 일측 모서리를 프레임으로부터 떼어낸 후, 마스크의 일측에 대향하는 타측 모서리에 외력을 가하여 타측 모서리를 프레임으로부터 떼어내면서, 마스크를 프레임으로부터 분리하는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 1,
In step (a), the dummy of the mask is welded to the upper portion of the mask cell sheet portion so that the mask is adhered to the frame,
In step (c), one edge of the mask is removed from the frame by applying an external force to one edge of the mask, and then the mask is detached from the frame while the other edge is removed from the frame by applying an external force to the other edge opposite to one side of the mask. The separation method of the mask bonded to the frame.
(a) 단계에서, 적어도 두 금속의 합금을 포함하는 접착부를 매개하여 마스크가 프레임에 접착되고,
(c) 단계에서, 외력에 더하여 소정의 온도, 소정의 압력 중 적어도 어느 하나를 접착부에 가하는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 1,
in step (a), the mask is adhered to the frame via an adhesive comprising at least two metal alloys,
and in step (c), at least one of a predetermined temperature and a predetermined pressure is applied to the bonding portion in addition to the external force.
(c) 단계에서, 접착부의 적어도 일부가 고상(solid phase)에서 액상(liquid phase)으로 변하는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 12,
and in step (c), at least a portion of the adhesive portion changes from a solid phase to a liquid phase.
(a) 단계에서, 접착 도금부를 매개하여 마스크가 프레임에 접착되고,
(c) 단계에서, 마스크의 일측 모서리에 외력을 가하여 마스크의 일측 모서리를 프레임으로부터 떼어낸 후, 마스크의 일측에 대향하는 타측 모서리에 외력을 가하여 타측 모서리를 프레임으로부터 떼어내면서, 마스크를 프레임으로부터 분리하는, 프레임에 접착된 마스크의 분리 방법.The method of claim 1,
In step (a), the mask is adhered to the frame via the adhesive plating,
In step (c), one edge of the mask is removed from the frame by applying an external force to one edge of the mask, and then the mask is detached from the frame while the other edge is removed from the frame by applying an external force to the other edge opposite to one side of the mask. The separation method of the mask bonded to the frame.
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