KR102010003B1 - Producing method of mask integrated frame - Google Patents

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Abstract

본 발명은 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 프레임 일체형 마스크의 제조 방법은, 마스크(100')와 마스크(100')를 지지하는 프레임(200')이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 제1 방향 및 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하는 프레임(200')을 제공하는 단계, (b) 복수의 마스크 셀(C)을 포함하는 마스크(100')를 제공하는 단계, (c) 마스크(100')를 프레임(200')의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는 단계, 및 (d) 마스크(100')의 테두리의 적어도 일부를 프레임(200')에 접착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a method of manufacturing a frame-integrated mask. The manufacturing method of the frame-integrated mask according to the present invention is a method of manufacturing the frame-integrated mask in which the mask 100 'and the frame 200' supporting the mask 100 'are integrally formed, and (a) the first direction and Providing a frame 200 'having a plurality of mask cell regions CR along a second direction perpendicular to the first direction, (b) a mask 100' comprising a plurality of mask cells C Providing (c) the mask 100 'corresponding to one mask cell region CR of the frame 200', and (d) at least a portion of an edge of the mask 100 ' 200 ').

Description

프레임 일체형 마스크의 제조 방법 {PRODUCING METHOD OF MASK INTEGRATED FRAME}Manufacturing method of frame-integrated mask {PRODUCING METHOD OF MASK INTEGRATED FRAME}

본 발명은 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 마스크를 프레임과 일체를 이루도록 할 수 있고, 각 마스크 간의 얼라인(align)을 명확하게 할 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a frame-integrated mask. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a frame-integrated mask, which allows the mask to be integral with the frame, and enables alignment between the masks.

최근에 박판 제조에 있어서 전주 도금(Electroforming) 방법에 대한 연구가 진행되고 있다. 전주 도금 방법은 전해액에 양극체, 음극체를 침지하고, 전원을 인가하여 음극체의 표면상에 금속박판을 전착시키므로, 극박판을 제조할 수 있으며, 대량 생산을 기대할 수 있는 방법이다.Recently, studies on electroforming methods have been underway in thin plate manufacturing. The electroplating method is to immerse the positive electrode and the negative electrode in the electrolyte, and to apply the power to electrodeposit the metal thin plate on the surface of the negative electrode, it is possible to manufacture the ultra-thin plate, it is a method that can be expected to mass production.

한편, OLED 제조 공정에서 화소를 형성하는 기술로, 박막의 금속 마스크(Shadow Mask)를 기판에 밀착시켜서 원하는 위치에 유기물을 증착하는 FMM(Fine Metal Mask) 법이 주로 사용된다.Meanwhile, as a technology of forming pixels in an OLED manufacturing process, a fine metal mask (FMM) method of depositing an organic material at a desired position by closely attaching a thin metal mask to a substrate is mainly used.

기존의 OLED 제조 공정에서는 마스크를 스틱 형태, 플레이트 형태 등으로 제조한 후, 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용한다. 마스크 하나에는 디스플레이 하나에 대응하는 셀이 여러개 구비될 수 있다. 또한, 대면적 OLED 제조를 위해서 여러 개의 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 고정시킬 수 있는데, 프레임에 고정하는 과정에서 각 마스크가 평평하게 되도록 인장을 하게 된다. 마스크의 전체 부분이 평평하게 되도록 인장력을 조절하는 것은 매우 어려운 작업이다. 특히, 각 셀들을 모두 평평하게 하면서, 크기가 수 내지 수십 ㎛에 불과하는 마스크 패턴을 정렬하기 위해서는, 마스크의 각 측에 가하는 인장력을 미세하게 조절하면서, 정렬 상태를 실시간으로 확인하는 고도의 작업이 요구된다.In the conventional OLED manufacturing process, the mask is manufactured in a stick form, a plate form, and the like, and then the mask is welded and fixed to the OLED pixel deposition frame. Each mask may include a plurality of cells corresponding to one display. In addition, in order to manufacture a large area OLED, several masks may be fixed to the OLED pixel deposition frame. In the process of fixing to the frame, each mask is tensioned to be flat. Adjusting the tension to make the entire part of the mask flat is a very difficult task. In particular, in order to align the mask pattern having a size of only a few to several tens of micrometers while flattening each cell, a high-level operation of checking the alignment in real time while finely adjusting the tension applied to each side of the mask is required. Required.

그럼에도 불구하고, 여러 개의 마스크를 하나의 프레임에 고정시키는 과정에서 마스크 상호간에, 그리고 마스크 셀들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 있었다. 또한, 마스크를 프레임에 용접 고정하는 과정에서 마스크 막의 두께가 너무 얇고 대면적이기 때문에 하중에 의해 마스크가 쳐지거나 뒤틀어지는 문제점이 있었다.Nevertheless, in the process of fixing several masks in one frame, there is a problem in that the alignment between the mask cells and the mask cells is not good. In addition, in the process of welding and fixing the mask to the frame, the thickness of the mask film is too thin and the large area has a problem that the mask is struck or warped by load.

초고화질의 OLED의 경우, 현재 QHD 화질은 500~600 PPI(pixel per inch)로 화소의 크기가 약 30~50㎛에 이르며, 4K UHD, 8K UHD 고화질은 이보다 높은 ~860 PPI, ~1600 PPI 등의 해상도를 가지게 된다. 이렇듯 초고화질의 OLED의 화소 크기를 고려하여 각 셀들간의 정렬 오차를 수 ㎛ 정도로 감축시켜야 하며, 이를 벗어나는 오차는 제품의 실패로 이어지게 되므로 수율이 매우 낮아지게 될 수 있다. 그러므로, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고, 정렬을 명확하게 할 수 있는 기술, 마스크를 프레임에 고정하는 기술 등의 개발이 필요한 실정이다.In the case of ultra-high-definition OLED, the current QHD image quality is 500 ~ 600 pixel per inch (PPI), and the pixel size is about 30 ~ 50㎛. It has a resolution of. As such, considering the pixel size of the ultra-high-definition OLED, the alignment error between each cell should be reduced to several μm, and the error beyond this may lead to product failure, resulting in very low yield. Therefore, there is a need for development of a technique for preventing deformation, such as knocking or twisting of a mask and making alignment clear, a technique for fixing a mask to a frame, and the like.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 마스크와 프레임이 일체형 구조를 이룰 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a frame-integrated mask, which is conceived to solve the above-mentioned problems of the prior art, which can form an integral structure of a mask and a frame.

또한, 본 발명은 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.It is also an object of the present invention to provide a method for manufacturing a frame-integrated mask which can prevent deformation such as knocking or twisting of the mask and clarity of alignment.

또한, 본 발명은 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킨 프레임 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Moreover, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the frame and the frame-integrated mask which markedly reduced manufacturing time and raised the yield remarkably.

본 발명의 상기의 목적은, 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 제1 방향 및 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는 프레임을 제공하는 단계; (b) 복수의 마스크 셀을 포함하는 마스크를 제공하는 단계; (c) 마스크를 프레임의 하나의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및 (d) 마스크의 테두리의 적어도 일부를 프레임에 접착하는 단계를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 의해 달성된다.The above object of the present invention is a method of manufacturing a frame-integrated mask in which a mask and a frame for supporting the mask are integrally formed, comprising: (a) a plurality of mask cell regions along a first direction and a second direction perpendicular to the first direction; Providing a frame having a; (b) providing a mask comprising a plurality of mask cells; (c) mapping the mask to one mask cell region of the frame; And (d) adhering at least a portion of the rim of the mask to the frame.

그리고, 본 발명의 상기의 목적은, 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 제1 방향 또는 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는 프레임을 제공하는 단계; (b) 복수의 마스크 셀을 포함하는 마스크를 제공하는 단계; (c) 마스크를 프레임의 하나의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및 (d) 마스크의 테두리의 적어도 일부를 프레임에 접착하는 단계를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 의해 달성된다.The above object of the present invention is a method of manufacturing a frame-integrated mask in which a mask and a frame for supporting the mask are integrally formed, comprising: (a) a plurality of masks along a first direction or a second direction perpendicular to the first direction; Providing a frame having a cell area; (b) providing a mask comprising a plurality of mask cells; (c) mapping the mask to one mask cell region of the frame; And (d) adhering at least a portion of the rim of the mask to the frame.

프레임은, 테두리 프레임부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 프레임부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 프레임부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 프레임부와 교차되고, 양단이 테두리 프레임부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 프레임부를 포함할 수 있다.The frame includes a border frame portion; At least one first grid frame portion extending in a first direction and connected at both ends to an edge frame portion; And at least one second grid frame portion extending in a second direction perpendicular to the first direction and intersecting with the first grid frame portion, and both ends connected to the edge frame portion.

프레임은, 테두리 프레임부; 제1 방향 또는 제2 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 프레임부에 연결되는 적어도 하나의 그리드 프레임부를 포함할 수 있다.The frame includes a border frame portion; It may include at least one grid frame portion extending in the first direction or the second direction and both ends connected to the edge frame portion.

테두리 프레임부는 사각 형상일 수 있다.The edge frame portion may have a rectangular shape.

(b) 단계 내지 (d) 단계를 반복수행하여, 복수의 마스크를 순차적으로 마스크 셀 영역에 대응한 후 프레임에 접착할 수 있다.By repeating steps (b) to (d), the plurality of masks may be sequentially attached to the mask cell area and then adhered to the frame.

(c) 단계에서, 마스크를 인장하여 하나의 마스크 셀 영역에 대응할 수 있다.In step (c), the mask may be stretched to correspond to one mask cell region.

(c) 단계에서, 마스크의 복수의 마스크 셀은 하나의 마스크 셀 영역 내에 위치할 수 있다. In step (c), the plurality of mask cells of the mask may be located in one mask cell area.

하나의 마스크 셀 영역에 접착된 마스크와 이에 이웃하는 마스크 셀 영역에 접착된 마스크 사이의 PPA(pixel position accuracy)는 3㎛를 초과하지 않을 수 있다.The pixel position accuracy (PPA) between the mask adhered to one mask cell region and the mask adhered to the mask cell region adjacent thereto may not exceed 3 μm.

상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 마스크와 프레임이 일체형 구조를 이룰 수 있는 효과가 있다.According to the present invention configured as described above, there is an effect that the mask and the frame can form an integrated structure.

또한, 본 발명에 따르면, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect that can prevent the deformation, such as knocking or twisting the mask and to clarify the alignment.

또한, 본 발명에 따르면, 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect that can significantly reduce the production time, and significantly increase the yield.

도 1은 종래의 OLED 화소 증착용 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 2는 종래의 마스크를 프레임에 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 3은 종래의 마스크를 인장하는 과정에서 셀들간의 정렬 오차가 발생하는 것을 나타내는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 인장 형태 및 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응하여 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 8은 본 발명의 여러 실시예에 따른 마스크가 프레임에 접착된 형태를 나타내는 부분 확대 단면도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 이용한 OLED 화소 증착 장치를 나타내는 개략도이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.1 is a schematic view showing a conventional mask for OLED pixel deposition.
2 is a schematic diagram illustrating a process of adhering a conventional mask to a frame.
3 is a schematic diagram showing that alignment errors between cells occur in the process of tensioning a conventional mask.
4 is a front and side cross-sectional view showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.
5 is a front and side cross-sectional view showing a frame according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram showing the tension form of the mask and the state in which the mask corresponds to the cell region of the frame according to an embodiment of the present invention.
7 is a schematic diagram illustrating a process of bonding a mask according to an embodiment of the present invention corresponding to a cell region of a frame.
8 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a form in which a mask is adhered to a frame according to various embodiments of the present disclosure.
9 is a schematic diagram illustrating an OLED pixel deposition apparatus using an integrated frame mask according to an embodiment of the present invention.
10 is a front and side cross-sectional view showing a frame-integrated mask according to another embodiment of the present invention.
11 is a front and side cross-sectional view showing a frame according to another embodiment of the present invention.
12 is a front view and a side sectional view showing a frame-integrated mask according to another embodiment of the present invention.
13 is a front and side cross-sectional view showing a frame according to another embodiment of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different but need not be mutually exclusive. For example, certain shapes, structures, and characteristics described herein may be embodied in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention with respect to one embodiment. In addition, it is to be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is defined only by the appended claims, along with the full range of equivalents to which such claims are entitled. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several aspects, and length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the present invention.

도 1은 종래의 OLED 화소 증착용 마스크(10)를 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a conventional mask for depositing OLED pixels 10.

도 1을 참조하면, 종래의 마스크(10)는 스틱형(Stick-Type) 또는 판형(Plate-Type)으로 제조될 수 있다. 도 1의 (a)에 도시된 마스크(10)는 스틱형 마스크로서, 스틱의 양측을 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용할 수 있다. 도 1의 (b)에 도시된 마스크(100)는 판형(Plate-Type) 마스크로서, 넓은 면적의 화소 형성 공정에서 사용될 수 있다.Referring to FIG. 1, the conventional mask 10 may be manufactured in a stick type or a plate type. The mask 10 shown in FIG. 1A is a stick type mask, and both sides of the stick may be welded and fixed to the OLED pixel deposition frame. The mask 100 illustrated in FIG. 1B is a plate-type mask and may be used in a large area pixel forming process.

마스크(10)의 바디(Body)[또는, 마스크 막(11)]에는 복수의 디스플레이 셀(C)이 구비된다. 하나의 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 셀(C)에는 디스플레이의 각 화소에 대응하도록 화소 패턴(P)이 형성된다. 셀(C)을 확대하면 R, G, B에 대응하는 복수의 화소 패턴(P)이 나타난다. 일 예로, 셀(C)에는 70 X 140의 해상도를 가지도록 화소 패턴(P)이 형성된다. 즉, 수많은 화소 패턴(P)들은 군집을 이루어 셀(C) 하나를 구성하며, 복수의 셀(C)들이 마스크(10)에 형성될 수 있다.A plurality of display cells C are provided in the body (or mask film 11) of the mask 10. One cell C corresponds to one display such as a smartphone. In the cell C, a pixel pattern P is formed to correspond to each pixel of the display. When the cell C is enlarged, a plurality of pixel patterns P corresponding to R, G, and B appear. For example, the pixel pattern P is formed in the cell C to have a resolution of 70 × 140. That is, a large number of pixel patterns P may be clustered to form one cell C, and a plurality of cells C may be formed in the mask 10.

도 2는 종래의 마스크(10)를 프레임(20)에 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 3은 종래의 마스크(10)를 인장(F1~F2)하는 과정에서 셀들간의 정렬 오차가 발생하는 것을 나타내는 개략도이다. 도 1의 (a)에 도시된 6개의 셀(C: C1~C6)을 구비하는 스틱 마스크(10)를 예로 들어 설명한다.2 is a schematic diagram illustrating a process of adhering the mask 10 to the frame 20. 3 is a schematic view showing that alignment errors between cells occur in the process of tensioning the mask 10 (F1 to F2). A stick mask 10 having six cells C: C1 to C6 shown in FIG. 1A will be described as an example.

도 2의 (a)를 참조하면, 먼저, 스틱 마스크(10)를 평평하게 펴야한다. 스틱 마스크(10)의 장축 방향으로 인장력(F1~F2)을 가하여 당김에 따라 스틱 마스크(10)가 펴지게 된다. 그 상태로 사각틀 형태의 프레임(20) 상에 스틱 마스크(10)를 로딩한다. 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들은 프레임(20)의 틀 내부 빈 영역 부분에 위치하게 된다. 프레임(20)은 하나의 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들이 틀 내부 빈 영역에 위치할 정도의 크기일 수 있고, 복수의 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들이 틀 내부 빈 영역에 위치할 정도의 크기일 수도 있다.Referring to FIG. 2A, first, the stick mask 10 should be flattened. The stick mask 10 is unfolded by applying tensile forces F1 to F2 in the major axis direction of the stick mask 10. In this state, the stick mask 10 is loaded onto the frame 20 having a rectangular frame shape. The cells C1 to C6 of the stick mask 10 are positioned in the empty area of the frame 20 of the frame 20. The frame 20 may be large enough so that the cells C1 to C6 of one stick mask 10 are located in an empty area inside the frame, and the cells C1 to C6 of the plurality of stick masks 10 are framed. It may also be large enough to fit inside the empty area.

도 2의 (b)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절하면서 정렬을 시킨 후, 스틱 마스크(10) 측면의 일부를 용접(W)함에 따라 스틱 마스크(10)와 프레임(20)을 상호 연결한다. 도 2의 (c)는 상호 연결된 스틱 마스크(10)와 프레임의 측단면을 나타낸다.Referring to (b) of FIG. 2, after aligning while finely adjusting the tensile forces F1 to F2 applied to each side of the stick mask 10, a part of the side surface of the stick mask 10 is welded (W). Accordingly, the stick mask 10 and the frame 20 are interconnected. 2 (c) shows the side surface of the stick mask 10 and the frame connected to each other.

도 3을 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절함에도 불구하고, 마스크 셀(C1~C3)들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 나타난다. 가령, 셀(C1~C3)들의 패턴(P)간에 거리(D1~D1", D2~D2")가 상호 다르게 되거나, 패턴(P)들이 비뚤어지는 것이 그 예이다. 스틱 마스크(10)는 복수(일 예로, 6개)의 셀(C1~C6)을 포함하는 대면적이고, 수십 ㎛ 수준의 매우 얇은 두께를 가지기 때문에, 하중에 의해 쉽게 쳐지거나 뒤틀어지게 된다. 또한, 각 셀(C1~C6)들을 모두 평평하게 하도록 인장력(F1~F2)을 조절하면서, 각 셀(C1~C6)들간의 정렬 상태를 현미경을 통해 실시간으로 확인하는 것은 매우 어려운 작업이다.Referring to FIG. 3, in spite of finely adjusting the tensile force F1 to F2 applied to each side of the stick mask 10, there is a problem in that the alignment of the mask cells C1 to C3 is not good. For example, the distances D1 to D1 ″ and D2 to D2 ″ may be different from each other or the patterns P may be skewed between the patterns P of the cells C1 to C3. The stick mask 10 is a large area including a plurality of (eg, six) cells C1 to C6, and has a very thin thickness of several tens of micrometers, so that it is easily struck or warped by a load. In addition, it is very difficult to check the alignment between the cells C1 to C6 in real time through a microscope while adjusting the tensile forces F1 to F2 to flatten the cells C1 to C6.

따라서, 인장력(F1~F2)의 미세한 오차는 스틱 마스크(10) 각 셀(C1~C3)들이 늘어나거나, 펴지는 정도에 오차를 발생시킬 수 있고, 그에 따라 마스크 패턴(P)간에 거리(D1~D1", D2~D2")가 상이해지게 되는 문제점을 발생시킨다. 물론, 완벽하게 오차가 0이 되도록 정렬하는 것은 어려운 것이지만, 크기가 수 내지 수십 ㎛인 마스크 패턴(P)이 초고화질 OLED의 화소 공정에 악영향을 미치지 않도록 하기 위해서는, 정렬 오차가 3㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 이렇게 인접하는 셀 사이의 정렬 오차를 PPA(pixel position accuracy)라 지칭한다.Therefore, the minute error of the tensile force (F1 ~ F2) may cause an error in the extent that each cell (C1 ~ C3) of the stick mask 10 is extended or unfolded, and thus the distance (D1) between the mask pattern (P) ~ D1 ", D2-D2") cause a problem that becomes different. Of course, it is difficult to align perfectly so that the error is 0, but in order that the mask pattern P having a size of several to several tens of micrometers does not adversely affect the pixel process of the ultra-high definition OLED, the alignment error does not exceed 3 micrometers. It is preferable not to. This alignment error between adjacent cells is referred to as pixel position accuracy (PPA).

이에 더하여, 대략 6~20개 정도의 복수의 스틱 마스크(10)들을 프레임(20) 하나에 각각 연결하면서, 복수의 스틱 마스크(10)들간에, 그리고 스틱 마스크(10)의 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태를 명확히 하는 것도 매우 어려운 작업이고, 정렬에 따른 공정 시간이 증가할 수밖에 없게 되어 생산성을 감축시키는 중대한 이유가 된다.In addition, between the plurality of stick masks 10 and the plurality of cells C of the stick masks 10 while connecting the plurality of stick masks 10 of about 6 to 20 to each of the frames 20, respectively. It is also very difficult to clarify the alignment between ~ C6), and the process time due to alignment is inevitably increased, which is a significant reason for reducing productivity.

이에, 본 발명은 마스크(100)가 프레임(200)과 일체형 구조를 이룰 수 있게 하는 프레임(200) 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제안한다. 프레임(200)에 일체로 형성되는 마스크(100)는 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형이 방지되고, 프레임(200)에 명확히 정렬될 수 있다. 그리고, 마스크(100)를 프레임(200)에 일체로 연결하는 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킬 수 있는 이점을 가진다.Accordingly, the present invention proposes a method of manufacturing the frame 200 and the frame-integrated mask, which enables the mask 100 to form an integrated structure with the frame 200. The mask 100 integrally formed in the frame 200 may be prevented from being deformed or warped, and may be clearly aligned with the frame 200. In addition, the manufacturing time for integrally connecting the mask 100 to the frame 200 may be significantly reduced, and the yield may be significantly increased.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도[도 4의 (a)] 및 측단면도[도 4의 (b)]이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도[도 5의 (a)] 및 측단면도[도 5의 (b)]이다.4 is a front view (FIG. 4 (a)) and a side cross-sectional view (FIG. 4 (b)) showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is according to an embodiment of the present invention It is a front view (FIG. 5 (a)) and a side cross-sectional view (FIG. 5 (b)) which show a frame.

도 4 및 도 5를 참조하면, 프레임 일체형 마스크는, 복수의 마스크(100) 및 하나의 프레임(200)을 포함할 수 있다. 다시 말해, 복수의 마스크(100)들을 각각 하나씩 프레임(200)에 접착한 형태이다. 이하에서는, 설명의 편의상 사각 형태의 마스크(100)를 예로 들어 설명하나, 마스크(100)들은 프레임(200)에 접착되기 전에는 양측에 클램핑되는 돌출부를 구비한 스틱 마스크 형태일 수 있고, 프레임(200)에 접착된 후에 돌출부가 제거될 수 있다.4 and 5, the frame integrated mask may include a plurality of masks 100 and one frame 200. In other words, the plurality of masks 100 are bonded to the frame 200 one by one. Hereinafter, for convenience of description, the rectangular mask 100 will be described as an example, but the masks 100 may be in the form of a stick mask having protrusions clamped at both sides before being bonded to the frame 200, and the frame 200. The protrusions can be removed after they have been adhered to.

각각의 마스크(100)에는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성되며, 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 얇은 두께로 형성할 수 있도록, 마스크(100)는 전주도금(electroforming)으로 형성될 수 있다. 마스크(100)는 열팽창계수가 약 1.0 X 10-6/℃인 인바(invar), 약 1.0 X 10-7/℃ 인 슈퍼 인바(super invar) 재질일 수 있다. 이 재질의 마스크(100)는 열팽창계수가 매우 낮기 때문에 열에너지에 의해 마스크의 패턴 형상이 변형될 우려가 적어 고해상도 OLED 제조에서 있어서 FMM(Fine Metal Mask), 새도우 마스크(Shadow Mask)로 사용될 수 있다. 이 외에, 최근에 온도 변화값이 크지 않은 범위에서 화소 증착 공정을 수행하는 기술들이 개발되는 것을 고려하면, 마스크(100)는 이보다 열팽창계수가 약간 큰 니켈(Ni), 니켈-코발트(Ni-Co) 등의 재질일 수도 있다.A plurality of mask patterns P may be formed in each mask 100, and one cell C may be formed in one mask 100. In order to form a thin thickness, the mask 100 may be formed by electroforming. The mask 100 may be an invar having a thermal expansion coefficient of about 1.0 × 10 −6 / ° C. and a super invar material having about 1.0 × 10 −7 / ° C. Since the mask 100 of this material has a very low coefficient of thermal expansion, there is little possibility that the pattern shape of the mask is deformed by thermal energy, and thus, the mask 100 may be used as a fine metal mask (FMM) or a shadow mask in high-resolution OLED manufacturing. In addition, in consideration of the recent development of techniques for performing the pixel deposition process in a range where the temperature change is not large, the mask 100 has a slightly larger thermal expansion coefficient than that of nickel (Ni) and nickel-cobalt (Ni-Co). It may be a material such as).

프레임(200)은 복수의 마스크(100)를 접착시킬 수 있도록 형성된다. 프레임(200)은 최외곽 테두리를 포함해 제1 방향(예를 들어, 가로 방향), 제2 방향(예를 들어, 세로 방향)으로 형성되는 여러 모서리를 포함할 수 있다. 이러한 여러 모서리들은 프레임(200) 상에 마스크(100)가 접착될 구역을 구획할 수 있다.The frame 200 is formed to bond the plurality of masks 100. The frame 200 may include various edges formed in a first direction (eg, a horizontal direction) and a second direction (eg, a vertical direction) including an outermost edge. These various corners may define the area to which the mask 100 is to be bonded on the frame 200.

프레임(200)은 대략 사각 형상, 사각틀 형상의 테두리 프레임부(210)를 포함할 수 있다. 테두리 프레임부(210)의 내부는 중공 형태일 수 있다. 프레임(200)은 인바, 슈퍼인바, 알루미늄, 티타늄 등의 금속 재질로 구성될 수 있으며, 열변형을 고려하여 마스크와 동일한 열팽창계수를 가지는 인바, 슈퍼 인바, 니켈, 니켈-코발트 등의 재질로 구성되는 것이 바람직하고, 이 재질들은 프레임(200)의 구성요소인 테두리 프레임부(210), 제1, 2 그리드 프레임부(220, 230)에 모두 적용될 수 있다.The frame 200 may include an edge frame portion 210 having a substantially rectangular shape and a rectangular frame shape. The inside of the frame frame 210 may be hollow. The frame 200 may be made of a metal material such as Invar, Super Invar, Aluminum, Titanium, etc., and may be made of Inbar, Super Invar, Nickel, or Nickel-Cobalt having the same thermal expansion coefficient as a mask in consideration of thermal deformation. Preferably, the materials may be applied to both the edge frame portion 210 and the first and second grid frame portions 220 and 230 which are components of the frame 200.

이에 더하여, 프레임(200)은 제1 방향(가로 방향)으로 연장 형성되는 적어도 하나의 제1 그리드 프레임부(220)를 포함할 수 있다. 제1 그리드 프레임부(220)는 직선 형태로 형성되어 양단이 테두리 프레임부(210)에 연결될 수 있다. 프레임(200)이 복수의 제1 그리드 프레임부(220)를 포함하는 경우, 각각의 제1 그리드 프레임부(220)는 동등한 간격을 이루는 것이 바람직하다.In addition, the frame 200 may include at least one first grid frame portion 220 extending in a first direction (horizontal direction). The first grid frame part 220 may be formed in a straight line shape and both ends thereof may be connected to the edge frame part 210. When the frame 200 includes a plurality of first grid frame parts 220, each of the first grid frame parts 220 may be equally spaced apart.

또, 이에 더하여, 프레임(200)은 제2 방향(세로 방향)으로 연장 형성되는 적어도 하나의 제2 그리드 프레임부(230)를 포함할 수 있다. 제2 그리드 프레임부(230)는 직선 형태로 형성되어 양단이 테두리 프레임부(210)에 연결될 수 있다. 제1 그리드 프레임부(220)와 제2 그리드 프레임부(230)는 서로 수직하므로 상호 교차될 수 있다. 프레임(200)이 복수의 제2 그리드 프레임부(230)를 포함하는 경우, 각각의 제2 그리드 프레임부(230)는 동등한 간격을 이루는 것이 바람직하다.In addition, the frame 200 may include at least one second grid frame part 230 extending in a second direction (vertical direction). The second grid frame part 230 may be formed in a straight shape so that both ends thereof may be connected to the edge frame part 210. Since the first grid frame part 220 and the second grid frame part 230 are perpendicular to each other, they may cross each other. When the frame 200 includes a plurality of second grid frame portions 230, each of the second grid frame portions 230 may be equally spaced apart.

한편, 제1 그리드 프레임부(220)들 간의 간격과, 제2 그리드 프레임부(230)들 간의 간격은 마스크 셀(C)의 크기에 따라서 동일하거나 상이할 수 있다.Meanwhile, an interval between the first grid frame units 220 and an interval between the second grid frame units 230 may be the same or different according to the size of the mask cell C. FIG.

제1 그리드 프레임부(220)와 제2 그리드 프레임부(230)는 서로 수직하므로 상호 교차되는 교차점이 존재할 수 있다. 일 예로, 제1, 2 그리드 프레임부(220, 230)는 소정의 홈이 형성되고, 이 홈이 상호 삽입되어 연결됨에 따라 교차점을 형성할 수 있다. 또는, 제1, 2 그리드 프레임부(220, 230)가 상호 용접되어 교차점을 형성할 수 있다. 또는, 패널 소재의 내부를 가공하여 테두리 프레임부(210), 제1, 2 그리드 프레임부(220, 230)를 형성할 수도 있다. 이 외에도, 공지된 기술을 제한없이 사용하여 도 5에 도시된 형태의 프레임(200)을 제조할 수 있다.Since the first grid frame part 220 and the second grid frame part 230 are perpendicular to each other, intersection points may exist to cross each other. For example, predetermined grooves may be formed in the first and second grid frame parts 220 and 230, and the grooves may be inserted into and connected to each other to form an intersection point. Alternatively, the first and second grid frame parts 220 and 230 may be welded to each other to form an intersection point. Alternatively, the inside of the panel material may be processed to form the edge frame part 210 and the first and second grid frame parts 220 and 230. In addition, it is possible to manufacture the frame 200 of the type shown in FIG. 5 using known techniques without limitation.

제1, 2 그리드 프레임부(220, 230)의 길이 방향에 수직하는 단면의 형상은 삼각형, 사다리꼴과 같은 사각형 형상일 수 있으며[도 5의 (b) 및 도 8 참조], 변, 모서리 부분이 일부 라운딩 될 수도 있다.The shape of the cross section perpendicular to the longitudinal direction of the first and second grid frame portions 220 and 230 may be a quadrangular shape such as a triangle or a trapezoid (see FIGS. 5B and 8). It may be rounded some.

테두리 프레임부(210)의 두께(T1)는 제1 그리드 프레임부(220)의 두께(T2)보다 두꺼울 수 있다. 제2 그리드 프레임부(230)의 두께(T2)도 마찬가지이다. 테두리 프레임부(210)는 프레임(200)의 전체 강성을 담당하기 때문에 수mm 내지 수cm의 두께로 형성될 수 있다. 제1, 2 그리드 프레임부(220, 230)의 경우는, 두께(T2)가 너무 두꺼워지면 OLED 화소 증착 공정에서 유기물 소스(600)[도 9 참조]가 마스크(100)를 통과하는 경로를 막는 문제를 발생시킬 수 있다. 반대로, 두께(T2)가 너무 얇아지면 마스크(100)를 지지할 정도의 강성 확보가 어려울 수 있다. 이에 따라 제1, 2 그리드 프레임부(220, 230)의 폭, 두께는 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있다.The thickness T1 of the edge frame portion 210 may be thicker than the thickness T2 of the first grid frame portion 220. The same applies to the thickness T2 of the second grid frame portion 230. The edge frame part 210 may be formed to a thickness of several mm to several cm because it is responsible for the overall rigidity of the frame 200. In the case of the first and second grid frame parts 220 and 230, when the thickness T2 becomes too thick, the organic material source 600 (see FIG. 9) blocks the path through the mask 100 in the OLED pixel deposition process. It can cause problems. On the contrary, if the thickness T2 is too thin, it may be difficult to secure rigidity enough to support the mask 100. Accordingly, the width and thickness of the first and second grid frame parts 220 and 230 may be formed to about 1 to 5 mm.

테두리 프레임부(210), 제1, 2 그리드 프레임부(220, 230)의 결합에 의해, 프레임부(200)는 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비할 수 있다. 마스크 셀 영역(CR)이라 함은, 프레임부(200)에서 테두리 프레임부(210), 제1, 2 그리드 프레임부(220, 230)가 점유하는 영역을 제외한, 중공 형태의 빈 영역을 의미할 수 있다.By combining the edge frame unit 210 and the first and second grid frame units 220 and 230, the frame unit 200 may include a plurality of mask cell regions CR 11 to CR56. The mask cell region CR may refer to an empty region having a hollow shape except for an area occupied by the edge frame portion 210 and the first and second grid frame portions 220 and 230 in the frame portion 200. Can be.

이 마스크 셀 영역(CR)에 마스크(100)의 셀(C)이 대응됨에 따라, 실질적으로 마스크 패턴(P)을 통해 OLED의 화소가 증착되는 통로로 이용될 수 있게 된다. 전술하였듯이 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)을 구성하는 마스크 패턴(P)들이 형성될 수 있다. 또는, 하나의 마스크(100)가 복수의 셀(C)을 구비하고 각각의 셀(C)이 프레임(200)의 각각의 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있으나, 마스크(100)의 명확한 정렬을 위해서는 대면적 마스크(100)를 지양할 필요가 있고, 하나의 셀(C)을 구비하는 소면적 마스크(100)가 바람직하다. 또는, 프레임(200)의 하나의 셀 영역(CR)에 복수의 셀(C)을 가지는 하나의 마스크(100)가 대응[도 10 및 도 12 참조]할 수도 있으나, 명확한 정렬을 위해서는 2-3개 정도의 소수의 셀(C)을 가지는 마스크(100)를 대응하는 것이 바람직하다.As the cell C of the mask 100 corresponds to the mask cell region CR, the mask C may be used as a passage through which the pixels of the OLED are deposited through the mask pattern P. FIG. As described above, one mask cell C corresponds to one display such as a smartphone. Mask patterns P constituting one cell C may be formed in one mask 100. Alternatively, one mask 100 may include a plurality of cells C, and each cell C may correspond to each cell region CR of the frame 200. It is necessary to avoid the large area mask 100, and the small area mask 100 provided with one cell C is preferable. Alternatively, one mask 100 having a plurality of cells C may correspond to one cell region CR of the frame 200 (see FIGS. 10 and 12). It is preferable to correspond to the mask 100 having a small number of cells C.

프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하고, 각각의 마스크(100)는 각각 하나의 마스크 셀(C)이 마스크 셀 영역(CR)에 대응되도록 접착될 수 있다. 각각의 마스크(100)는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 패턴부[셀(C)에 대응] 및 마스크 패턴부 주변의 더미부[셀(C)을 제외한 마스크 막(110) 부분에 대응]를 포함할 수 있다. 더미부는 마스크 막(110)만을 포함하거나, 마스크 패턴(P)과 유사한 형태의 소정의 더미 패턴이 형성된 마스크 막(110)을 포함할 수 있다. 마스크 패턴부는 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하고, 더미부의 일부 또는 전부가 프레임(200)에 접착될 수 있다. 이에 따라, 마스크(100)와 프레임(200)이 일체형 구조를 이룰 수 있게 된다.The frame 200 may include a plurality of mask cell regions CR, and each mask 100 may be bonded such that one mask cell C corresponds to the mask cell region CR. Each mask 100 corresponds to a mask pattern portion (corresponding to cell C) on which a plurality of mask patterns P are formed, and a dummy portion (mask portion 110 except for cell C) around the mask pattern portion. ] May be included. The dummy part may include only the mask film 110 or the mask film 110 in which a predetermined dummy pattern having a shape similar to the mask pattern P is formed. The mask pattern portion may correspond to the mask cell region CR of the frame 200, and part or all of the dummy portion may be bonded to the frame 200. Accordingly, the mask 100 and the frame 200 may form an integrated structure.

이하에서는, 프레임 일체형 마스크를 제조하는 과정에 대해 설명한다.Hereinafter, a process of manufacturing the frame integrated mask will be described.

먼저, 도 4 및 도 5에서 상술한 프레임(200)을 제공할 수 있다. 프레임(200)은 테두리 프레임부(210)에 제1 그리드 프레임부(220) 및 제2 그리드 프레임부(230)를 연결하여 제조할 수 있다. 본 명세서에서는 5개의 제1 그리드 프레임부(220) 및 4개의 제2 그리드 프레임부(230)를 테두리 프레임부(210)에 연결하여, 6 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 형성한 것을 예로 들어 설명한다.First, the frame 200 described above with reference to FIGS. 4 and 5 may be provided. The frame 200 may be manufactured by connecting the first grid frame unit 220 and the second grid frame unit 230 to the edge frame unit 210. In the present specification, five first grid frame parts 220 and four second grid frame parts 230 are connected to the edge frame part 210 to form a 6 × 5 mask cell area (CR: CR11 to CR56). It demonstrates taking the example which formed.

다음으로, 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크(100)를 제공할 수 있다. 전주도금 방식으로 인바, 슈퍼 인바 재질의 마스크(100)를 제조할 수 있고, 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있음은 상술한 바 있다. 마스크 패턴(P)의 폭은 40㎛보다 작게 형성될 수 있고, 마스크(100)의 두께는 약 2~50㎛로 형성될 수 있다. 프레임(200)이 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비하므로, 각각의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 대응하는 마스크 셀(C: C11~C56)을 가지는 마스크(100)도 복수개 구비할 수 있다.Next, a mask 100 having a plurality of mask patterns P may be provided. As described above, it is possible to manufacture a mask 100 made of Invar and Super Invar using a pre-plating method, and one cell C may be formed in the mask 100. The width of the mask pattern P may be smaller than 40 μm, and the thickness of the mask 100 may be about 2 to 50 μm. Since the frame 200 includes a plurality of mask cell regions CR: CR11 to CR56, the mask 100 having mask cells C11 to C56 corresponding to the mask cell regions CR11 to CR56, respectively. ) Can also be provided in plurality.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)의 인장 형태[도 6의 (a)] 및 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 대응시키는 상태[도 6의 (b)]를 나타내는 개략도이다.FIG. 6 is a view illustrating a tensile form of the mask 100 (FIG. 6A) and a mask 100 corresponding to the cell region CR of the frame 200 according to an embodiment of the present invention (FIG. 6). (b)] is a schematic diagram.

다음으로, 도 6의 (a)를 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 도 6의 (a)에 도시된 바와 같이, 대응시키는 과정에서, 마스크(100)의 일축 방향을 따라 두 측을 인장(F1~F2)하여 마스크(100)를 평평하게 편 상태로 마스크 셀(C)을 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 한 측에서도 여러 포인트(도 6의 예로, 1~3포인트)로 마스크(100)를 잡고 인장할 수 있다. 한편, 일축 방향이 아니라, 모든 축 방향을 따라 마스크(100)의 모든 측을 인장(F1~F4) 할 수도 있다.Next, referring to FIG. 6A, the mask 100 may correspond to one mask cell region CR of the frame 200. As shown in FIG. 6A, in the corresponding process, both sides of the mask 100 are stretched along the uniaxial direction of the mask 100 to form the mask cell C in a flat state. ) May correspond to the mask cell region CR. On one side, the mask 100 may be grasped and tensioned by several points (eg, 1 to 3 points in FIG. 6). In addition, not only one axis but also all sides of the mask 100 can be stretched F1 to F4 along all the axial directions.

예를 들어, 마스크(100)의 각 측에 가하는 인장력은 4N을 초과하지 않을 수 있다. 마스크(100)의 크기에 따라 가하는 인장력은 동일하거나, 달라질 수 있다. 다시 말해, 본 발명의 마스크(100)는 1개의 마스크 셀(C)을 포함하는 크기이므로, 복수개의 셀(C1~C6)을 포함하는 종래의 스틱 마스크(10)보다 필요로 하는 인장력이 동일하거나, 적어도 줄어들 가능성이 있다. 9.8N이 1kg의 중력 힘을 의미함을 고려하면, 1N은 400g의 중력 힘보다도 작은 힘이기 때문에, 마스크(100)가 인장된 후에 프레임(200)에 부착되어도 마스크(100)가 프레임(200)에 가하는 장력(tension), 또는, 반대로 프레임(200)이 마스크(100)에 가하는 장력은 매우 적게 된다. 그리하여, 장력에 의한 마스크(100) 및/또는 프레임(200)의 변형이 최소화되어 마스크(100)[또는, 마스크 패턴(P)]의 정렬 오차가 최소화 될 수 있다.For example, the tensile force applied on each side of the mask 100 may not exceed 4N. The tensile force applied according to the size of the mask 100 may be the same or different. In other words, since the mask 100 of the present invention has a size including one mask cell C, the tensile force required is the same as that of the conventional stick mask 10 including the plurality of cells C1 to C6. At least, it is likely to shrink. Considering that 9.8 N means a gravity force of 1 kg, since 1 N is a force less than 400 g of gravity force, even if the mask 100 is attached to the frame 200 after the mask 100 is tensioned, the mask 100 remains in the frame 200. The tension applied to the mask or, conversely, the tension applied by the frame 200 to the mask 100 is very small. Thus, deformation of the mask 100 and / or the frame 200 due to tension may be minimized to minimize alignment errors of the mask 100 (or mask pattern P).

그리고, 종래의 도 1의 마스크(10)는 셀 6개(C1~C6)를 포함하므로 긴 길이를 가지는데 반해, 본 발명의 마스크(100)는 셀 1개(C)를 포함하여 짧은 길이를 가지므로 PPA(pixel position accuracy)가 틀어지는 정도가 작아질 수 있다. 예를 들어, 복수의 셀(C1~C6, ...)들을 포함하는 마스크(10)의 길이가 1m이고, 1m 전체에서 10㎛의 PPA 오차가 발생한다고 가정하면, 본 발명의 마스크(100)는 상대적인 길이의 감축[셀(C) 개수 감축에 대응]에 따라 위 오차 범위를 1/n 할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 마스크(100)의 길이가 100mm라면, 종래 마스크(10)의 1m에서 1/10로 감축된 길이를 가지므로, 100mm 길이의 전체에서 1㎛의 PPA 오차가 발생하게 되며, 정렬 오차가 현저히 감소하게 되는 효과가 있다.In addition, since the mask 10 of FIG. 1 includes six cells C1 to C6, the mask 10 of FIG. 1 has a long length, whereas the mask 100 of the present invention includes one cell C to have a short length. As a result, the degree of distortion of the pixel position accuracy (PPA) can be reduced. For example, assuming that the length of the mask 10 including the plurality of cells C1 to C6, ... is 1 m, and a PPA error of 10 µm occurs in the entire 1 m, the mask 100 of the present invention According to the reduction of the relative length (corresponding to the reduction of the number of cells (C)) may be 1 / n of the above error range. For example, if the length of the mask 100 of the present invention is 100mm, it has a length reduced by 1/10 at 1m of the conventional mask 10, the PPA error of 1㎛ occurs in the entire 100mm length As a result, the alignment error is significantly reduced.

한편, 마스크(100)가 복수의 셀(C)을 구비하고, 각각의 셀(C)이 프레임(200)의 각각의 셀 영역(CR)에 대응하여도 정렬 오차가 최소화되는 범위 내에서라면, 마스크(100)는 프레임(200)의 복수의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있다. 또는, 복수의 셀(C)을 가지는 마스크(100)가 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수도 있다. 이 경우에도, 정렬에 따른 공정 시간과 생산성을 고려하여, 마스크(100) 가급적 적은 수의 셀(C)을 구비하는 것이 바람직하다.On the other hand, if the mask 100 is provided with a plurality of cells (C), each cell (C) corresponding to each cell region (CR) of the frame 200 is within a range that the alignment error is minimized, The mask 100 may correspond to the plurality of mask cell regions CR of the frame 200. Alternatively, the mask 100 having the plurality of cells C may correspond to one mask cell region CR. Also in this case, in consideration of the process time and productivity according to the alignment, it is preferable to provide as few cells C as possible in the mask 100.

마스크(100)가 평평한 상태로 마스크 셀 영역(CR)에 대응하도록 인장력(F1~F4)을 조절하면서, 현미경을 통해 실시간으로 정렬 상태를 확인할 수 있다. 본 발명의 경우는, 마스크(100)의 하나의 셀(C)을 대응시키고 정렬 상태를 확인하기만 하면 되므로, 복수의 셀(C: C1~C6)을 동시에 대응시키고 정렬 상태를 모두 확인하여야 하는 종래의 방법[도 2 참조]보다, 제조시간을 현저하게 감축시킬 수 있다.While the mask 100 is flat, the alignment force F1 to F4 may be adjusted to correspond to the mask cell region CR, and the alignment state may be confirmed in real time through a microscope. In the case of the present invention, since only one cell C of the mask 100 needs to be corresponded and the alignment state checked, the plurality of cells C: C1 to C6 must be simultaneously associated and the alignment state must be confirmed. Compared with the conventional method (see FIG. 2), the manufacturing time can be significantly reduced.

즉, 본 발명의 프레임 일체형 마스크 제조 방법은, 6개의 마스크(100)에 포함되는 각각의 셀(C11~C16)을 각각 하나의 셀 영역(CR11~CR16)에 대응시키고 각각 정렬 상태를 확인하는 6번의 과정을 통해, 6개의 셀(C1~C6)을 동시에 대응시키고 6개 셀(C1~C6)의 정렬 상태를 동시에 모두 확인해야 하는 종래의 방법보다 훨씬 시간이 단축될 수 있다.That is, in the method of manufacturing a frame-integrated mask of the present invention, each cell C11 to C16 included in the six masks 100 corresponds to one cell region CR11 to CR16, respectively, and checks the alignment state. Through the process, the time can be much shorter than the conventional method of simultaneously matching six cells C1 to C6 and simultaneously confirming the alignment of the six cells C1 to C6.

또한, 본 발명의 프레임 일체형 마스크 제조 방법은, 30개의 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 30개의 마스크(100)를 각각 대응시키고 정렬하는 30번의 과정에서의 제품 수득률이, 6개의 셀(C1~C6)을 각각 포함하는 5개의 마스크(10)[도 2의 (a) 참조]를 프레임(20)에 대응시키고 정렬하는 5번의 과정에서의 종래의 제품 수득률보다 훨씬 높게 나타날 수 있다. 한번에 6개씩의 셀(C)이 대응하는 영역에 6개의 셀(C1~C6)을 정렬하는 종래의 방법이 훨씬 번거롭고 어려운 작업이므로 제품 수율이 낮게 나타나는 것이다.In addition, in the method of manufacturing a frame-integrated mask of the present invention, the product yield in 30 steps of matching and aligning 30 masks 100 with 30 cell areas CR: CR11 to CR56, respectively, results in six cells (C1). 5 masks 10 (see FIG. 2 (a)) each comprising ˜C6) may appear much higher than the conventional product yield in five steps of matching and aligning the frame 20. Since the conventional method of aligning six cells C1 to C6 in a region corresponding to six cells C at a time is much more cumbersome and difficult, the product yield is low.

한편, 마스크(100)를 프레임(200)에 대응한 후, 프레임(200)에 소정의 접착제를 개재하여 마스크(100)를 임시로 고정할 수도 있다. 이후에, 마스크(100)의 접착 단계를 진행할 수 있다.Meanwhile, after the mask 100 corresponds to the frame 200, the mask 100 may be temporarily fixed to the frame 200 through a predetermined adhesive. Thereafter, the bonding step of the mask 100 may be performed.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 대응하여 접착하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 8은 도 7의 B-B' 단면도로서, 본 발명의 여러 실시예에 따른 마스크(100)가 프레임(200)에 접착된 형태를 나타내는 부분 확대 단면도이다.7 is a schematic diagram illustrating a process of bonding the mask 100 according to an embodiment of the present invention corresponding to the cell region CR of the frame 200. FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 7, and is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a form in which a mask 100 is adhered to a frame 200 according to various embodiments of the present disclosure.

다음으로, 도 7, 도 8의 (a) 및 (b)를 참조하면, 마스크(100)의 테두리의 일부 또는 전부를 프레임(200)에 접착할 수 있다. 접착은 용접(W)으로 수행될 수 있고, 바람직하게는 레이저 용접(W)으로 수행될 수 있다. 용접(W)된 부분은 마스크(100)/프레임(200)과 동일한 재질을 가지고 일체로 연결될 수 있다. Next, referring to FIGS. 7 and 8 (a) and (b), some or all of the edges of the mask 100 may be attached to the frame 200. The adhesion can be carried out by welding W, preferably by laser welding W. The welded portion W may have the same material as the mask 100 / frame 200 and be integrally connected.

레이저를 마스크(100)의 테두리 부분[또는, 더미부]의 상부에 조사하면, 마스크(100)의 일부가 용융되어 프레임(200)과 용접(W)될 수 있다. 용접(W)은 프레임(200)의 모서리쪽에 최대한 가깝게 수행하여야 마스크(100)와 프레임(200) 사이의 들뜬 공간을 최대한 줄이고 밀착성을 높일 수 있게 된다. 용접(W) 부분은 라인(line) 또는 스팟(spot) 형태로 생성될 수 있으며, 마스크(100)와 동일한 재질을 가지고 마스크(100)와 프레임(200)을 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다.When the laser is irradiated onto the edge portion (or the dummy portion) of the mask 100, a portion of the mask 100 may be melted and welded to the frame 200. Welding (W) should be performed as close as possible to the edge of the frame 200 as possible to reduce the excited space between the mask 100 and the frame 200 as much as possible to increase the adhesion. The welding (W) part may be generated in the form of a line or a spot, and may be a medium having the same material as the mask 100 and integrally connecting the mask 100 and the frame 200. .

제1 그리드 프레임부(220)[또는, 제2 그리드 프레임부(230)]의 상면에 두 개의 이웃하는 마스크(100)의 일 테두리가 각각 접착(W)된 형태가 나타난다. 제1 그리드 프레임부(220)[또는, 제2 그리드 프레임부(230)]의 폭, 두께는 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있고, 제품 생산성 향상을 위해, 제1 그리드 프레임부(220)[또는, 제2 그리드 프레임부(230)]와 마스크(100a, 100b)의 테두리가 겹치는 폭을 약 0.1~2.5mm 정도로 최대한 감축시킬 필요가 있다.One edges of two neighboring masks 100 are bonded to the upper surface of the first grid frame unit 220 (or the second grid frame unit 230). The width and thickness of the first grid frame portion 220 (or the second grid frame portion 230) may be formed about 1 to 5 mm, and to improve product productivity, the first grid frame portion 220 [ Alternatively, it is necessary to reduce the width where the edges of the second grid frame part 230 and the masks 100a and 100b overlap with each other to about 0.1 to 2.5 mm.

제1, 2 그리드 프레임부(220, 230)의 길이 방향에 수직하는 단면의 형상은 삼각형(220)[도 8의 (a), (c), (d) 참조] 일 수 있으나, 마스크(100)의 하중 및 장력을 보다 잘 지지하기 위해 단면의 형상이 사각형[일 예로, 사다리꼴, 도 8의 (b) 참조]이 되도록 형성할 수 있으며, 변, 모서리 부분이 일부 라운딩 될 수도 있다.The shape of the cross section perpendicular to the longitudinal direction of the first and second grid frame parts 220 and 230 may be a triangle 220 (see FIGS. 8A, 8C, and 8D), but the mask 100 In order to better support the load and the tension of the cross-section), the cross-sectional shape may be formed to be a quadrangle (eg, a trapezoid, see FIG. 8 (b)), and the edges and edges may be partially rounded.

용접(W) 방법은 마스크(100)를 프레임(200)에 접착하는 하나의 방법일 뿐이며, 이러한 실시예로 국한되지 않는다.The welding (W) method is only one method of adhering the mask 100 to the frame 200, but is not limited to this embodiment.

다른 예를 설명하면, 도 8의 (c)와 같이, 유테틱 재질의 접착부(EM)를 사용하여 마스크(100)를 프레임(200)에 접착할 수 있다. 유테틱 재질의 접착부(EM)는 적어도 두가지 금속을 포함하는 접착제로서, 필름, 선, 다발 형태 등의 다양한 모양을 가질 수 있고, 약 10 ~ 30㎛의 얇은 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 유테틱 재질의 접착부(EM)는 In, Sn, Bi, Au 등의 그룹과 Sn, Bi, Ag, Zn, Cu, Sb, Ge 등의 그룹에서 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 유테틱 재질의 접착부(EM)는 적어도 두 개의 금속 고상(solid phase)을 포함하고, 특정 온도/압력의 유테틱 포인트(eutectic point)에서는 두 개의 금속 고상이 모두 액상(liquid phase)이 될 수 있다. 그리고 유테틱 포인트를 벗어나면 다시 두 개의 금속 고상이 될 수 있다. 이에 따라, 고상 -> 액상 -> 고상의 상변화를 통해 접착제로서의 역할을 수행할 수 있는 것이다.As another example, as shown in FIG. 8C, the mask 100 may be adhered to the frame 200 by using an adhesive part EM of a utero material. The adhesive part EM of the utero material is an adhesive including at least two metals, and may have various shapes such as a film, a line, and a bundle, and may have a thin thickness of about 10 to 30 μm. For example, the bonding portion EM of the eutectic material may include at least one metal from a group of In, Sn, Bi, Au, and the like, and a group of Sn, Bi, Ag, Zn, Cu, Sb, and Ge. . The eutectic adhesive EM comprises at least two metal solid phases, and at the eutectic point of a certain temperature / pressure both metal solid phases can be in liquid phase. . And beyond the eutectic point, it can again become two metallic solids. Accordingly, through the phase change of the solid phase-> liquid-> solid phase it can serve as an adhesive.

유테틱 접착부(EM)는 일반적인 유기 접착제와 다르게 휘발성 유기물을 전혀 포함하고 있지 않다. 따라서, 접착제의 휘발성 유기물질이 공정 가스와 반응하여 OLED의 화소에 악영향을 주거나, 접착제 자체에 포함된 유기물질 등의 아웃 가스가 화소 공정 챔버를 오염시키거나 불순물로서 OLED 화소에 증착되는 악영향을 방지할 수 있게 된다. 또한, 유테틱 접착부(EM)는 고체이므로, OLED 유기물 세정액에 의해서 세정되지 않고 내식성을 가질 수 있게 된다. 또한, 두가지 이상의 금속을 포함하고 있으므로, 유기 접착제에 비해서 동일한 금속 재질인 마스크(100), 프레임(200)과 높은 접착성을 가지고 연결될 수 있고, 금속 재질이므로 변형 가능성이 낮은 이점이 있다.The eutectic adhesive (EM) does not contain any volatile organic materials unlike the general organic adhesive. Therefore, the volatile organic material of the adhesive reacts with the process gas to adversely affect the pixels of the OLED, or to prevent the adverse effects of outgassing of organic materials, such as organic materials included in the adhesive itself, contaminating the pixel processing chamber or deposited on the OLED pixels as impurities. You can do it. In addition, since the eutectic adhesive part EM is a solid, it is possible to have corrosion resistance without being cleaned by the OLED organic cleaning liquid. In addition, since it includes two or more metals, it can be connected to the mask 100, the frame 200, which is the same metal material as compared to the organic adhesive with high adhesiveness, and has a low possibility of deformation since it is a metal material.

또 다른 예를 설명하면, 도 8의 (d)와 같이, 마스크(100)와 동일한 재질의 접착 도금부(150)를 더 형성하여 마스크(100)를 프레임(200)에 접착할 수 있다. 마스크(100)를 프레임(200)에 대응시킨 후, 마스크(100)의 하부면 방향에 PR 등의 절연부를 형성할 수 있다. 그리고, 절연부가 커버하지 않고 노출된 마스크(100)의 후면 및 프레임(200) 상에서 접착 도금부(150)를 전착할 수 있다.As another example, as shown in FIG. 8D, the adhesive plating part 150 of the same material as the mask 100 may be further formed to adhere the mask 100 to the frame 200. After the mask 100 is made to correspond to the frame 200, an insulating part such as PR may be formed in the lower surface direction of the mask 100. In addition, the adhesive plating part 150 may be electrodeposited on the rear surface of the mask 100 and the frame 200 which are not covered by the insulating part.

접착 도금부(150)가 마스크(100)의 노출된 표면 및 프레임(200) 상에서 전착되면서, 마스크(100)와 프레임(200)을 일체로 연결하는 매개체가 될 수 있다. 이때, 접착 도금부(150)는 마스크(100)의 테두리 부분에 일체로 연결되며 전착되므로, 프레임(200) 내측 방향 또는 외측 방향으로 인장력을 가하는 상태를 가지며 마스크(100)를 지지할 수 있다. 그리하여, 별도로 마스크를 인장하고 정렬하는 과정을 수행할 필요없이, 팽팽하게 프레임(200) 측으로 당겨진 마스크(100)를 프레임(200)과 일체로 형성할 수 있게 된다. While the adhesive plating unit 150 is electrodeposited on the exposed surface of the mask 100 and the frame 200, the adhesive plating unit 150 may be a medium for integrally connecting the mask 100 and the frame 200. At this time, since the adhesive plating unit 150 is integrally connected to the edge of the mask 100 and electrodeposited, the adhesive plating unit 150 may support the mask 100 in a state of applying a tensile force in an inner direction or an outer direction of the frame 200. Thus, the mask 100, which is pulled toward the frame 200, may be integrally formed with the frame 200 without the need of separately tensioning and aligning the mask.

도 8에서는 설명의 편의를 위해 용접(W)된 부분, 유테틱 재질의 접착부(EM) 부분의 두께 및 폭이 다소 과장되게 도시되었음을 밝혀두며, 실제로 이 부분은 거의 돌출되지 않고 마스크(100)에 포함된 상태로 프레임(200)을 연결하는 부분일 수 있다.In FIG. 8, for convenience of description, the thickness and the width of the welded portion and the adhesive portion EM portion of the eutectic material are shown to be exaggerated, and in reality, the portion is hardly protruded and is disposed on the mask 100. It may be a part connecting the frame 200 in the included state.

도 8을 참조하면, 제1 그리드 프레임부(220)[또는, 제2 그리드 프레임부(230)]의 상면에 두 개의 이웃하는 마스크(100)의 일 테두리가 각각 접착된 형태가 나타난다. 제1 그리드 프레임부(220)[또는, 제2 그리드 프레임부(230)]의 폭, 두께는 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있고, 제품 생산성 향상을 위해, 제1 그리드 프레임부(220)[또는, 제2 그리드 프레임부(230)]와 마스크(100)의 테두리가 겹치는 폭을 약 0.1~2.5mm 정도로 최대한 감축시킬 필요가 있다.Referring to FIG. 8, one edge of two neighboring masks 100 is adhered to an upper surface of the first grid frame unit 220 (or the second grid frame unit 230). The width and thickness of the first grid frame portion 220 (or the second grid frame portion 230) may be formed about 1 to 5 mm, and to improve product productivity, the first grid frame portion 220 [ Alternatively, it is necessary to reduce the width where the edges of the second grid frame part 230 and the mask 100 overlap with each other by about 0.1 to 2.5 mm.

다음으로, 하나의 마스크(100)를 프레임(200)에 접착하는 공정을 완료하면, 나머지 마스크(100)들을 나머지 마스크 셀(C)에 순차적으로 대응시키고, 프레임(200)에 접착하는 과정을 반복할 수 있다. 이미 프레임(200)에 접착된 마스크(100)가 기준 위치를 제시할 수 있으므로, 나머지 마스크(100)들을 셀 영역(CR)에 순차적으로 대응시키고 정렬 상태를 확인하는 과정에서의 시간이 현저하게 감축될 수 있는 이점이 있다. 그리고, 하나의 마스크 셀 영역에 접착된 마스크(100a)와 이에 이웃하는 마스크 셀 영역에 접착된 마스크(100b) 사이의 PPA(pixel position accuracy)가 3㎛를 초과하지 않게 되어, 정렬이 명확한 초고화질 OLED 화소 형성용 마스크를 제공할 수 있는 이점이 있다.Next, when the process of adhering one mask 100 to the frame 200 is completed, the remaining masks 100 are sequentially corresponded to the remaining mask cells C, and the process of adhering to the frame 200 is repeated. can do. Since the mask 100 already adhered to the frame 200 may present a reference position, the time required to sequentially correspond the remaining masks 100 to the cell region CR and check the alignment state is significantly reduced. There is an advantage that can be. In addition, the pixel position accuracy (PPA) between the mask 100a adhered to one mask cell region and the mask 100b adhered to the mask cell region adjacent thereto does not exceed 3 μm, so that the alignment is very high. There is an advantage that a mask for forming an OLED pixel can be provided.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크(100, 200)를 이용한 OLED 화소 증착 장치(1000)를 나타내는 개략도이다.9 is a schematic diagram illustrating an OLED pixel deposition apparatus 1000 using frame integrated masks 100 and 200 according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, OLED 화소 증착 장치(1000)는, 마그넷(310)이 수용되고, 냉각수 라인(350)이 배설된 마그넷 플레이트(300)와, 마그넷 플레이트(300)의 하부로부터 유기물 소스(600)를 공급하는 증착 소스 공급부(500)를 포함한다.Referring to FIG. 9, the OLED pixel deposition apparatus 1000 includes a magnet plate 300 in which a magnet 310 is accommodated and a coolant line 350 is disposed, and an organic material source 600 from a lower portion of the magnet plate 300. And a deposition source supply unit (500) for supplying ().

마그넷 플레이트(300)와 소스 증착부(500) 사이에는 유기물 소스(600)가 증착되는 유리 등의 대상 기판(900)이 개재될 수 있다. 대상 기판(900)에는 유기물 소스(600)가 화소별로 증착되게 하는 프레임 일체형 마스크(100, 200)[또는, FMM]이 밀착되거나 매우 근접하도록 배치될 수 있다. 마그넷(310)이 자기장을 발생시키고 자기장에 의해 대상 기판(900)에 밀착될 수 있다.A target substrate 900 such as glass on which the organic source 600 is deposited may be interposed between the magnet plate 300 and the source deposition unit 500. In the target substrate 900, the frame-integrated masks 100 and 200 (or FMMs) for allowing the organic material 600 to be deposited pixel by pixel may be closely attached or very close to each other. The magnet 310 may generate a magnetic field and may be in close contact with the target substrate 900 by the magnetic field.

증착 소스 공급부(500)는 좌우 경로를 왕복하며 유기물 소스(600)를 공급할 수 있고, 증착 소스 공급부(500)에서 공급되는 유기물 소스(600)들은 프레임 일체형 마스크(100, 200)에 형성된 패턴(P)을 통과하여 대상 기판(900)의 일측에 증착될 수 있다. 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴(P)을 통과한 증착된 유기물 소스(600)는 OLED의 화소(700)로서 작용할 수 있다.The deposition source supply unit 500 may supply the organic source 600 while reciprocating the left and right paths, and the organic source 600 supplied from the deposition source supply unit 500 may have patterns P formed in the frame integrated masks 100 and 200. ) May be deposited on one side of the target substrate 900. The deposited organic source 600 passing through the pattern P of the frame-integrated masks 100 and 200 can act as the pixel 700 of the OLED.

새도우 이펙트(Shadow Effect)에 의한 화소(700)의 불균일 증착을 방지하기 위해, 프레임 일체형 마스크(100, 200)의 패턴은 경사지게 형성(S)[또는, 테이퍼 형상(S)으로 형성]될 수 있다. 경사진 면을 따라서 대각선 방향으로 패턴을 통과하는 유기물 소스(600)들도 화소(700)의 형성에 기여할 수 있으므로, 화소(700)는 전체적으로 두께가 균일하게 증착될 수 있다.In order to prevent non-uniform deposition of the pixel 700 by the shadow effect, the pattern of the frame-integrated masks 100 and 200 may be formed to be inclined S (or formed into a tapered shape S). . Since the organic sources 600 passing through the pattern in a diagonal direction along the inclined surface may also contribute to the formation of the pixel 700, the pixel 700 may be uniformly deposited as a whole.

도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크(100', 200')를 나타내는 정면도 및 측단면도이다. 도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 프레임(200')을 나타내는 정면도 및 측단면도이다. 이하에서는, 도 4 및 도 5의 실시예와는 차이점에 대해서만 설명한다.10 is a front and side cross-sectional view showing a frame-integrated mask 100 ', 200' according to another embodiment of the present invention. 11 is a front and side cross-sectional view showing a frame 200 'according to another embodiment of the present invention. In the following, only the differences from the embodiment of FIGS. 4 and 5 will be described.

도 10 및 도 11을 참조하면, 프레임 일체형 마스크(100', 200')에서 마스크(100')는 복수의 마스크 셀(C: C11, C12, C13)을 포함할 수 있다. 그리고, 복수의 마스크 셀(C)을 가지는 하나의 마스크(100')가 프레임(200')의 하나의 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 도 10에서는 각각의 마스크(100')들이 2개의 마스크 셀(C11: C11a, C11b)(C12: C12a, C12b)(C13: C13a, C13b)을 포함하는 것을 예로 들어 설명한다. 그리고, 도 11에서는 2개의 제1 그리드 프레임부(220') 및 4개의 제2 그리드 프레임부(230')를 테두리 프레임부(210)에 연결하여, 3 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR53)을 형성한 것을 예로 들어 설명한다.10 and 11, in the frame integrated masks 100 ′ and 200 ′, the mask 100 ′ may include a plurality of mask cells C: C11, C12, and C13. In addition, one mask 100 ′ having the plurality of mask cells C may correspond to one cell region CR of the frame 200 ′. In FIG. 10, each of the masks 100 ′ includes two mask cells C11: C11a and C11b (C12: C12a and C12b) (C13: C13a and C13b). In FIG. 11, two first grid frame portions 220 ′ and four second grid frame portions 230 ′ are connected to the edge frame portion 210 to form a 3 × 5 mask cell region (CR: CR11). A description will be given by taking an example of forming ˜CR53).

하나의 마스크 셀 영역(CR)에는 복수의 마스크 셀(C)이 대응될 수 있다. 명확한 정렬을 위해서는 2-3개 정도의 소수의 셀(C)을 가지는 마스크(100')를 각각의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는 것이 바람직하다. 마스크(100')를 각각의 마스크 셀 영역(CR)에 대응한 후에 접착하는 방법은 도 8에서 상술한 용접(W), 유테틱 재질의 접착부(EM), 접착 도금부(150)를 사용한 접착 방법을 동일하게 사용할 수 있다. 마스크(100')를 마스크 셀 영역(CR)에 대응한 후 마스크(100')를 프레임(200') 상에 접착하면, 마스크(100')의 복수의 마스크 셀(C)들은 하나의 마스크 셀 영역(CR) 내에 위치하게 된다.A plurality of mask cells C may correspond to one mask cell region CR. For the sake of clear alignment, it is preferable that the mask 100 'having a few cells C or 2-3 corresponds to each mask cell region CR. The method of attaching the mask 100 'after corresponding to each of the mask cell regions CR is performed by welding W, the adhesive part EM of an utero material, and the adhesive plating part 150 described above with reference to FIG. 8. The same method can be used. After the mask 100 'corresponds to the mask cell region CR and the mask 100' is adhered on the frame 200 ', the plurality of mask cells C of the mask 100' is one mask cell. It is located in the area CR.

다른 관점에서, 프레임(200')은 제1 방향(가로 방향) 및 제2 방향(세로 방향)을 따라 n X m개(n, m은 정수)의 마스크 셀 영역(CR)을 구비할 수 있다. 그리고, 복수의 마스크(100')들의 마스크 셀(C)의 개수의 총합은 n X m보다 클 수 있다. 즉, 하나의 마스크 셀 영역(CR)에는 적어도 하나 이상의 마스크 셀(C)이 대응될 수 있다. 프레임(200')의 각각의 마스크 셀 영역(CR) 상에는 각각의 마스크(100')가 연결될 수 있다.In another aspect, the frame 200 ′ may include the mask cell region CR having n x m (n, m is an integer) along the first direction (horizontal direction) and the second direction (vertical direction). . The total number of mask cells C of the plurality of masks 100 ′ may be greater than n × m. That is, at least one mask cell C may correspond to one mask cell region CR. Each mask 100 ′ may be connected to each mask cell region CR of the frame 200 ′.

도 10 및 도 11를 예로 들면, 프레임(200')은 3 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR53)을 구비하므로, n=3, m=5로 볼 수 있다. 그리고, 마스크 셀(C: C11a, C11b, C12a, C12b, C13a, C13b, ... , C53a, C53b)들의 개수의 총합은 6 X 5 = 30(개)이다. 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 2개의 마스크 셀(C)이 대응되므로, 마스크 셀 영역의 개수인 15개보다 마스크 셀(C)의 개수가 30개로서 2배 많다. 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 3개의 마스크 셀(C)이 대응된다면, 마스크 셀 영역의 개수인 15개보다 마스크 셀(C)의 개수가 45개로서 3배 많을 것이다. 이렇게, 복수의 마스크의 마스크 셀의 개수의 총합은 n X m 개의 k배(k는 정수)일 수 있다. 10 and 11, for example, the frame 200 ′ includes mask cell regions CR 11 to CR 53 of 3 × 5, so that n = 3 and m = 5. The total number of mask cells C: C11a, C11b, C12a, C12b, C13a, C13b, ..., C53a and C53b is 6 X 5 = 30 (pieces). Since two mask cells C correspond to one mask cell area CR, the number of mask cells C is 30, twice as many as 15, which is the number of mask cell areas. If three mask cells C correspond to one mask cell region CR, the number of mask cells C is 45, which is three times greater than 15, which is the number of mask cell regions. As such, the sum of the number of mask cells of the plurality of masks may be n × m k times (k is an integer).

다만, 이에 제한되지는 않으며, 마스크 셀 영역(CR)마다 상이한 개수의 마스크 셀(C)과 대응될 수도 있다. 가령, 1열, 3열의 마스크 셀 영역(CR11, CR13, CR21, CR23, ... , CR51, CR53)은 2개의 마스크 셀(C)과 대응되고, 2열의 마스크 셀 영역(CR12, CR22, ... , CR52)는 3개의 마스크 셀(C)과 대응되도록 프레임(200)이 형성될 수도 있다.However, the present invention is not limited thereto and may correspond to a different number of mask cells C for each mask cell region CR. For example, the mask cell regions CR11, CR13, CR21, CR23, ..., CR51, CR53 in the first and third columns correspond to the two mask cells C, and the mask cell regions CR12, CR22,. The frame 200 may be formed to correspond to the three mask cells C..

위와 같이, 도 10 및 도 11의 프레임 일체형 마스크(100', 200')는 하나의 마스크(100')가 복수의 마스크 셀(C)을 포함하므로, 마스크(100')를 프레임(200')에 접착하는 공정 시간을 감축할 수 있는 이점이 있다. 도 4 및 도 5처럼 마스크 셀(C)과 마스크 셀 영역(CR)을 일대일 대응하는 것은 아니지만, 2~3개 정도의 소수의 셀(C)을 포함하는 마스크(100')를 사용할 경우, 제조시간 대비 정렬 상태의 높은 효율성을 기대할 수 있고, 제품 수득률을 향상시킬 수 있게 되는 이점이 있다.As described above, in the frame integrated masks 100 'and 200' of FIGS. 10 and 11, since one mask 100 'includes a plurality of mask cells C, the mask 100' is framed 200 '. There is an advantage that can reduce the process time to adhere to. 4 and 5, the mask cell C and the mask cell region CR do not correspond one-to-one, but when a mask 100 'including two or three small cells C is used, manufacturing is performed. The high efficiency of the alignment over time can be expected, there is an advantage that can be improved product yield.

게다가, 적어도 하나의 제1 그리드 프레임부(220')가 마스크 셀 영역(CR)을 구획하여 하나의 행에 두개 이상의 마스크 셀 영역(CR)이 포함되므로, 단위 마스크(100')들의 양측을 테두리 프레임부(210'), 제1 그리드 프레임부(220') 상에 접착시킬 수 있어 PPA(pixel position accuracy)가 틀어지는 정도가 작아질 수 있다. 예를 들어, 복수의 셀(C1~C6, ...)들을 포함하는 종래의 도 1 마스크(10)의 길이가 1m이고, 1m 전체에서 10㎛의 PPA 오차가 발생한다고 가정하면, 본 발명의 마스크(100')는 상대적인 길이의 감축에 따라 위 오차 범위를 1/n 할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 마스크(100')의 길이가 333mm라면, 종래 마스크(10)의 1m에서 1/3로 감축된 길이를 가지므로, 333mm 길이의 전체에서 3.3㎛의 PPA 오차가 발생하게 되며, 정렬 오차가 현저히 감소하게 되는 효과가 있다.In addition, since at least one first grid frame portion 220 ′ divides the mask cell region CR so that one or more mask cell regions CR are included in one row, the two sides of the unit masks 100 ′ are surrounded. It can be adhered to the frame portion 210 'and the first grid frame portion 220' so that the degree of distortion of the pixel position accuracy (PPA) can be reduced. For example, assuming that the length of the conventional mask 1 of FIG. 1 including a plurality of cells C1 to C6 is 1 m, and a PPA error of 10 μm occurs in the entire 1 m, The mask 100 'may reduce the above error range by 1 / n according to the reduction of the relative length. For example, if the length of the mask 100 ′ of the present invention is 333 mm, since the length of the mask 100 ′ is reduced to 1/3 from 1 m of the conventional mask 10, a PPA error of 3.3 μm occurs in the entire length of 333 mm. In addition, there is an effect that the alignment error is significantly reduced.

도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크(100", 200")를 나타내는 정면도 및 측단면도이다. 도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 프레임(200")을 나타내는 정면도 및 측단면도이다. 이하에서는, 도 4 및 도 5의 실시예와는 차이점에 대해서만 설명한다.12 is a front and side cross-sectional view showing a frame-integrated mask 100 ", 200" according to another embodiment of the present invention. 13 is a front view and a side cross-sectional view showing a frame 200 "according to another embodiment of the present invention. Hereinafter, only differences from the embodiments of FIGS. 4 and 5 will be described.

도 12 및 도 13을 참조하면, 프레임 일체형 마스크(100", 200")에서 마스크(100")는 복수의 마스크 셀(C11: C11a~C11f)을 포함할 수 있다. 그리고, 복수의 마스크 셀(C11: C11a~C11f)을 가지는 하나의 마스크(100")가 프레임(200")의 하나의 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 도 12에서는 각각의 마스크(100")들이 6개의 마스크 셀(C11: C11a~C11f)을 포함하는 것을 예로 들어 설명한다. 그리고, 도 13에서는 4개의 제2 그리드 프레임부(230")를 테두리 프레임부(210")에 연결하여, 1 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR51)을 형성한 것을 예로 들어 설명한다. 즉, 그리드 프레임부가 상호 수직하게 배치되지 않고, 일 방향으로만 연장 형성되어 양단이 테두리 프레임부(210")에 연결되는 형태일 수 있다. 제1 그리드 프레임부(220")만 사용하거나 제2 그리드 프레임부(230")만 사용한 형태이다.12 and 13, in the frame-integrated mask 100 ″ and 200 ″, the mask 100 ″ may include a plurality of mask cells C11 (C11a to C11f). C11: One mask 100 "having C11a to C11f may correspond to one cell region CR of the frame 200". In FIG. 12, each mask 100 "includes six mask cells ( C11: It demonstrates taking the example containing C11a-C11f) as an example. In FIG. 13, four second grid frame portions 230 ″ are connected to the edge frame portion 210 ″ to form mask cells regions CR 11 to CR51 of 1 × 5 as an example. . That is, the grid frame parts may not be disposed perpendicular to each other, but may extend in only one direction so that both ends thereof are connected to the edge frame part 210 ". Only the first grid frame part 220" may be used or the second frame part may be used. Only the grid frame portion 230 ″ is used.

하나의 마스크 셀 영역(CR)에는 복수의 마스크 셀(C)이 대응될 수 있다. 명확한 정렬을 위해서는 가급적 적은 수의 셀(C)을 가지는 마스크(100")를 각각의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는 것이 바람직하다. 마스크(100")를 각각의 마스크 셀 영역(CR)에 대응한 후에 접착하는 방법은 도 8에서 상술한 용접(W), 유테틱 재질의 접착부(EM), 접착 도금부(150)를 사용한 접착 방법을 동일하게 사용할 수 있다. 마스크(100")를 마스크 셀 영역(CR)에 대응한 후 마스크(100")를 프레임(200") 상에 접착하면, 마스크(100")의 복수의 마스크 셀(C)들은 하나의 마스크 셀 영역(CR) 내에 위치하게 된다. A plurality of mask cells C may correspond to one mask cell region CR. For clear alignment, it is preferable that the mask 100 "having the smallest number of cells C corresponds to each mask cell region CR. The mask 100" is preferably assigned to each mask cell region CR. As a method of bonding after the corresponding method, the welding method using the above-described welding (W), the bonding portion EM of the eutectic material, and the adhesion plating unit 150 may be similarly used. After the mask 100 "corresponds to the mask cell region CR and then the mask 100" is adhered to the frame 200 ", the plurality of mask cells C of the mask 100" is one mask cell. It is located in the area CR.

다른 관점에서, 프레임(200)은 제1 방향(가로 방향) 또는 제2 방향(세로 방향)을 따라 1 X m개, 또는, n X 1개(n, m은 정수)의 마스크 셀 영역(CR)을 구비할 수 있다. 그리고, 복수의 마스크(100")들의 마스크 셀(C)의 개수의 총합은 n 또는 m보다 클 수 있다. 즉, 하나의 마스크 셀 영역(CR)에는 적어도 하나 이상의 마스크 셀(C)이 대응될 수 있다. 프레임(200")의 각각의 마스크 셀 영역(CR) 상에는 각각의 마스크(100")가 연결될 수 있다.In another aspect, the frame 200 includes 1 X m mask cells in a first direction (horizontal direction) or a second direction (vertical direction), or n X 1 (n, m is an integer) mask cell regions (CR). ) May be provided. The total number of mask cells C of the plurality of masks 100 ″ may be greater than n or m. That is, at least one mask cell C may correspond to one mask cell region CR. Each mask 100 ″ may be connected to each mask cell region CR of the frame 200 ″.

도 12 및 도 13을 예로 들면, 프레임(200")은 1 X 5의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR51)을 구비하므로, n=1, m=5로 볼 수 있다. 그리고, 마스크 셀(C: C11a, C11b, C11c, C11d, C11e, C11f, C21a, C21b, ... , C51e, C51f)들의 개수의 총합은 6 X 5 = 30(개)이다. 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 6개의 마스크 셀(C)이 대응되므로, 마스크 셀 영역의 개수인 5개보다 마스크 셀(C)의 개수가 30개로서 6배 많다. 이렇게, 복수의 마스크의 마스크 셀의 개수의 총합은 n 또는 m의 k배(k는 정수)일 수 있다. 12 and 13, for example, the frame 200 ″ includes mask cell regions CR 11 to CR 51 of 1 × 5, and thus n = 1 and m = 5. C: The sum of the numbers of C11a, C11b, C11c, C11d, C11e, C11f, C21a, C21b, ..., C51e, C51f) is 6 X 5 = 30. In one mask cell region CR Since six mask cells C correspond, the number of mask cells C is six times larger than five, which is the number of mask cell regions, so that the total number of mask cells of the plurality of masks is n or It may be k times m (k is an integer).

다만, 이에 제한되지는 않으며, 마스크 셀 영역(CR)마다 상이한 개수의 마스크 셀(C)과 대응될 수도 있다. 가령, 1행, 3행, 5행의 마스크 셀 영역(CR11, CR31, CR51)은 6개의 마스크 셀(C)과 대응되고, 2행, 4행의 마스크 셀 영역(CR41, CR51)는 3개의 마스크 셀(C)과 대응되도록 마스크(100")가 다른 개수의 마스크 셀(C)을 포함할 수도 있다.However, the present invention is not limited thereto and may correspond to a different number of mask cells C for each mask cell region CR. For example, the mask cell regions CR11, CR31, and CR51 in one row, three rows, and five rows correspond to six mask cells C, and the mask cell regions CR41 and CR51 in two rows and four rows correspond to three mask cells. The mask 100 ″ may include a different number of mask cells C so as to correspond to the mask cells C. FIG.

위와 같이, 도 12 및 도 13의 프레임 일체형 마스크(100", 200")는 하나의 마스크(100")가 복수의 마스크 셀(C)을 포함하므로, 마스크(100")를 프레임(200")에 접착하는 공정 시간을 감축할 수 있는 이점이 있다. 도 4 및 도 5처럼 마스크 셀(C)과 마스크 셀 영역(CR)을 일대일 대응하는 것은 아니지만, 2~3개 정도의 소수의 셀(C)을 포함하는 마스크(100')를 사용할 경우, 제조시간 대비 정렬 상태의 높은 효율성을 기대할 수 있고, 제품 수득률을 향상시킬 수 있게 되는 이점이 있다.As described above, in the frame integrated masks 100 "and 200" of FIGS. 12 and 13, since one mask 100 "includes a plurality of mask cells C, the mask 100" is framed 200 ". There is an advantage in that the process time for adhering to the substrate can be reduced, although the mask cell C and the mask cell region CR do not correspond one-to-one, as shown in Figs. In the case of using the mask (100 ') including), it is possible to expect a high efficiency of the alignment state compared to the manufacturing time, there is an advantage that can be improved product yield.

게다가, 적어도 하나의 행의 마스크 셀 영역(CR)의 위, 아래에 그리드 프레임부(230")가 배치되므로, 단위 마스크(100")들을 그리드 프레임부(230")들이 지지하여 쳐지지 않게 하는 이점이 있다. 마스크(100")의 양측을 테두리 프레임부(210")에 접착하는 것 외에, 마스크(100")의 위, 아래측을 그리드 프레임부(230")에도 접착할 수 있으므로, 마스크(100")의 정렬이 어긋나지 않게 되는 효과가 있다.In addition, since the grid frame portion 230 ″ is disposed above and below the mask cell region CR of at least one row, the unit masks 100 ″ may be supported to prevent the grid frame portions 230 ″ from falling. There is an advantage. In addition to adhering both sides of the mask 100 "to the edge frame portion 210", the upper and lower sides of the mask 100 "can also be adhered to the grid frame portion 230". There is an effect that the alignment of the (100 ") is not misaligned.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.Although the present invention has been shown and described with reference to preferred embodiments as described above, it is not limited to the above embodiments and various modifications made by those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Modifications and variations are possible. Such modifications and variations are intended to fall within the scope of the invention and the appended claims.

100, 100', 100": 마스크
110: 마스크 막
150: 접착 도금부
200, 200', 200": 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 제1 그리드 프레임부
230: 제2 그리드 프레임부
1000: OLED 화소 증착 장치
C: 셀, 마스크 셀
CR: 마스크 셀 영역
EM: 유테틱 재질의 접착부
F1~F4: 인장력
P: 마스크 패턴
W: 용접100, 100 ', 100 ": mask
110: mask film
150: adhesive plating
200, 200 ', 200 ": frame
210: border frame portion
220: first grid frame portion
230: second grid frame portion
1000: OLED pixel deposition device
C: cell, mask cell
CR: mask cell area
EM: Adhesive Bonding
F1 to F4: Tensile force
P: mask pattern
W: welding

Claims (9)

마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 제1 방향 및 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는 프레임을 제공하는 단계;
(b) 복수의 마스크 셀을 포함하는 마스크를 제공하는 단계;
(c) 마스크를 프레임의 하나의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및
(d) 마스크의 테두리의 적어도 일부를 프레임에 접착하는 단계
를 포함하고,
프레임의 하나의 마스크 셀 영역의 크기는 복수의 마스크 셀 크기의 합에 대응하여, 제1 방향을 따라 복수의 마스크가 프레임의 각각의 마스크 셀 영역 상에 각각 연결되며,
프레임은, 테두리 프레임부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 프레임부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 프레임부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 프레임부와 교차되고, 양단이 테두리 프레임부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 프레임부를 포함하고,
테두리 프레임부, 제1 그리드 프레임부, 제2 그리드 프레임부 및 복수의 마스크는 인바(invar) 재질이고,
테두리 프레임부, 제1 그리드 프레임부 및 제2 그리드 프레임부는 일체로 형성되고, 테두리 프레임부의 두께는 제1 그리드 프레임부 및 제2 그리드 프레임부의 두께보다 두꺼우며,
제1 그리드 프레임부 및 제2 그리드 프레임부의 길이 방향에 수직하는 단면 형상은 삼각형 또는 사다리꼴 형상이거나, 또는, 단면 형상의 변, 모서리 중 적어도 하나가 라운딩진 삼각형 또는 사다리꼴 형상인, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.A method of manufacturing a frame-integrated mask in which a mask and a frame supporting the mask are integrally formed,
(a) providing a frame having a plurality of mask cell regions along a first direction and a second direction perpendicular to the first direction;
(b) providing a mask comprising a plurality of mask cells;
(c) mapping the mask to one mask cell region of the frame; And
(d) adhering at least a portion of the edge of the mask to the frame
Including,
The size of one mask cell area of the frame corresponds to the sum of the size of the plurality of mask cells, so that a plurality of masks are respectively connected on each mask cell area of the frame along the first direction,
The frame includes a border frame portion; At least one first grid frame portion extending in a first direction and connected at both ends to an edge frame portion; And at least one second grid frame portion extending in a second direction perpendicular to the first direction and intersecting with the first grid frame portion, and both ends connected to an edge frame portion.
The edge frame portion, the first grid frame portion, the second grid frame portion, and the plurality of masks are made of invar material,
The border frame portion, the first grid frame portion and the second grid frame portion are formed integrally, the thickness of the border frame portion is thicker than the thickness of the first grid frame portion and the second grid frame portion,
The cross-sectional shape perpendicular to the longitudinal direction of the first grid frame portion and the second grid frame portion is a triangular or trapezoidal shape, or at least one of the sides and edges of the cross-sectional shape is a rounded triangle or trapezoidal shape, the manufacture of the frame-integrated mask Way. 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 제1 방향 및 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는 프레임을 제공하는 단계;
(b) 복수의 마스크 셀을 포함하는 마스크를 제공하는 단계;
(c) 마스크를 프레임의 복수의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및
(d) 마스크의 테두리의 적어도 일부를 프레임에 접착하는 단계
를 포함하고,
프레임의 하나의 마스크 셀 영역의 크기는 하나의 마스크 셀 크기에 대응하여, 제1 방향을 따라 복수의 마스크가 프레임의 복수의 마스크 셀 영역 상에 각각 연결되며,
프레임은, 테두리 프레임부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 프레임부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 프레임부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 프레임부와 교차되고, 양단이 테두리 프레임부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 프레임부를 포함하고,
테두리 프레임부, 제1 그리드 프레임부, 제2 그리드 프레임부 및 복수의 마스크는 인바(invar) 재질이고,
테두리 프레임부, 제1 그리드 프레임부 및 제2 그리드 프레임부는 일체로 형성되고, 테두리 프레임부의 두께는 제1 그리드 프레임부 및 제2 그리드 프레임부의 두께보다 두꺼우며,
제1 그리드 프레임부 및 제2 그리드 프레임부의 길이 방향에 수직하는 단면 형상은 삼각형 또는 사다리꼴 형상이거나, 또는, 단면 형상의 변, 모서리 중 적어도 하나가 라운딩진 삼각형 또는 사다리꼴 형상인, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.A method of manufacturing a frame-integrated mask in which a mask and a frame supporting the mask are integrally formed,
(a) providing a frame having a plurality of mask cell regions along a first direction and a second direction perpendicular to the first direction;
(b) providing a mask comprising a plurality of mask cells;
(c) mapping the mask to a plurality of mask cell regions of the frame; And
(d) adhering at least a portion of the edge of the mask to the frame
Including,
The size of one mask cell region of the frame corresponds to the size of one mask cell, and a plurality of masks are respectively connected on the plurality of mask cell regions of the frame in a first direction.
The frame includes a border frame portion; At least one first grid frame portion extending in a first direction and connected at both ends to an edge frame portion; And at least one second grid frame portion extending in a second direction perpendicular to the first direction and intersecting with the first grid frame portion, and both ends connected to an edge frame portion.
The edge frame portion, the first grid frame portion, the second grid frame portion, and the plurality of masks are made of invar material,
The border frame portion, the first grid frame portion and the second grid frame portion are formed integrally, the thickness of the border frame portion is thicker than the thickness of the first grid frame portion and the second grid frame portion,
The cross-sectional shape perpendicular to the longitudinal direction of the first grid frame portion and the second grid frame portion is a triangular or trapezoidal shape, or at least one of the sides and edges of the cross-sectional shape is a rounded triangle or trapezoidal shape, the manufacture of the frame-integrated mask Way. 삭제delete 제1항 또는 제2항에 있어서,
각각의 마스크는 2개 또는 3개의 마스크 셀을 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method according to claim 1 or 2,
Wherein each mask comprises two or three mask cells. 제1항에 있어서,
테두리 프레임부는 사각 형상인, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method of claim 1,
A border frame part is a manufacturing method of the frame integrated mask which has a square shape. 제1항 또는 제2항에 있어서,
(b) 단계 내지 (d) 단계를 반복수행하여, 복수의 마스크를 순차적으로 마스크 셀 영역에 대응한 후 프레임에 접착하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method according to claim 1 or 2,
A method of manufacturing a frame-integrated mask, in which steps (b) to (d) are repeated to adhere a plurality of masks sequentially to a mask cell region and then to a frame. 제1항 또는 제2항에 있어서,
(c) 단계에서,
마스크를 인장하여 하나의 마스크 셀 영역에 대응하고,
마스크의 복수의 마스크 셀은 하나의 마스크 셀 영역 내에 위치하는,, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method according to claim 1 or 2,
in step (c),
Tension the mask to correspond to one mask cell area,
And a plurality of mask cells of the mask are located in one mask cell area. 제2항에 있어서,
(c) 단계에서,
마스크를 인장하여 복수의 마스크 셀 영역에 대응하고,
마스크의 복수의 마스크 셀은 복수의 마스크 셀 영역 내에 각각 위치하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method of claim 2,
in step (c),
The mask is tensioned to correspond to the plurality of mask cell regions,
And a plurality of mask cells of the mask are respectively located in the plurality of mask cell regions. 제1항에 있어서,
하나의 마스크 셀 영역에 접착된 마스크와 이에 이웃하는 마스크 셀 영역에 접착된 마스크 사이의 PPA(pixel position accuracy)는 3㎛를 초과하지 않는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.The method of claim 1,
A pixel position accuracy (PPA) between a mask adhered to one mask cell region and a mask adhered to a mask cell region adjacent thereto does not exceed 3 μm.
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