KR20190094427A - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 기판의 상면 전역에 약액을 공급하면서, 기판의 중앙역에 공급되는 약액의 막두께의 균일성을 향상시키는 것을 목적으로 한다. 그 목적을 달성하기 위해, 제 1 노즐이 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 제 1 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상류측으로 향하는 성분과, 접선과 직교하는 기판의 직경 방향을 따라 제 1 착액 위치로부터 회전축으로 향하는 성분을 갖는 방향이고, 제 1 노즐에 의한 약액의 토출 속도의 접선 방향의 속도 성분은, 하류측 방향의 힘을 이겨내고 당해 약액이 상류측으로 흐를 수 있는 크기를 갖고, 토출 속도의 직경 방향의 속도 성분은, 원심력을 이겨내고 당해 약액이 회전축측으로 흐를 수 있는 크기를 갖고, 제 2 노즐이 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 제 2 노즐의 상방으로부터 보아, 제 2 착액 위치에 있어서의 접선의 방향을 따라 하류측으로 향하는 성분을 갖는 방향이다.
Description
본 발명은 반도체 웨이퍼, 액정 표시 장치용 유리 기판, 플라즈마 디스플레이용 유리 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크용 유리 기판, 태양 전지용 기판 등 (이하, 간단히 「기판」이라고 한다) 에 처리를 실시하는 기판 처리 기술에 관한 것이다.
특허문헌 1 에는, 기판을 세정하는 세정 장치가 개시되어 있다. 당해 세정 장치는, 회전하고 있는 기판의 상면을 향하여 기판의 상방의 외측으로부터 세정액을 각각 토출하는 제 1 노즐과 제 2 노즐을 구비한다. 제 1 노즐은, 기판을 위에서 봤을 때에 기판의 중심을 통과하는 기울어진 하향의 토출 방향을 따라, 기판의 중심보다 제 1 노즐측의 착액 위치에 닿도록 액기둥상의 제 1 세정액을 토출한다. 기판의 중심 부근에서는 원심력이 약하다. 이 때문에, 제 1 세정액은, 기판을 위에서 봤을 때에 토출 방향과 겹치는 기판 상의 직선을 따라, 착액 위치로부터 기판의 중심을 향하여 흘러 기판의 중심 상을 통과하고, 또한 기판의 중심을 넘어간 위치까지 액기둥상의 형상을 유지하면서 도달한다. 기판의 둘레 가장자리측은 원심력이 강하기 때문에, 기판의 중심을 넘어간 제 1 세정액은, 액막상으로 확산되어 감과 함께, 기판의 회전 방향의 하류측으로 방향을 바꾸면서 기판의 둘레 가장자리를 향하여 흐른다.
제 2 노즐이 기판의 외측으로부터 토출한 액기둥상의 제 2 세정액은, 기판의 중심의 상방을 통과하여, 기판 상에 있어서의 제 1 세정액의 액기둥 및 액막에 닿지 않는 위치에 착액된다. 제 2 세정액의 착액 위치는, 제 1 세정액의 착액 위치보다 기판의 회전 방향의 하류측의 위치로서, 제 1 세정액의 착액 위치보다 기판의 중심으로부터 멀어, 강한 원심력이 작용하는 위치이다. 착액 후의 제 2 세정액은, 원심력의 영향을 받아 액막상으로 확산되면서 기판 상에 있어서의 제 1 세정액의 유동을 방해하지 않고 기판의 회전 방향의 하류측으로 방향을 바꾸면서 기판의 둘레 가장자리를 향하여 흐른다.
특허문헌 1 의 세정 장치는, 상기의 구성에 의해, 기판의 중심부를 제 1 세정액에 의해 세정하고, 기판의 중심부보다 외측의 주변부를 제 2 세정액에 의해 세정하는 것을 도모하고 있다. 또, 당해 세정 장치는, 제 1 세정액과 제 2 세정액이 기판 상에서 서로의 유동을 방해하지 않도록 함으로써, 세정도를 향상시키는 것도 도모하고 있다.
특허문헌 1 의 세정 장치에 있어서는, 기판 상에 있어서의 제 1 세정액의 유동을, 제 2 노즐이 토출하는 제 2 세정액이 방해하지 않게 할 필요가 있다. 이를 위해서는, 제 2 노즐이 토출하는 액기둥상의 제 2 세정액은, 기판의 상방의 외측으로부터 기판 상에서 유동하고 있는 제 1 처리액의 액기둥상의 부분의 상방을 기울어진 하향으로 횡단하여, 기판의 중심에 대해 제 2 노즐과는 반대측의 착액 위치에 도달할 필요가 있다. 한편, 제 2 세정액의 착액 위치가 기판의 중심으로부터 지나치게 멀면, 제 2 세정액에 의해 세정할 수 있는 범위가 좁아져 버린다. 이 때문에, 제 2 세정액은, 기판의 중심으로부터의 거리가, 기판의 반경의 4 분의 1 이하가 되는 위치로 설정되는 착액 위치에 정확하게 도달할 필요가 있다. 또, 제 1 세정액도, 제 2 세정액의 착액 위치보다 더욱 내측의 착액 위치에, 제 2 세정액과 부딪치지 않도록 정확하게 토출될 필요가 있다. 이 때문에, 제 1, 제 2 노즐이 토출하는 제 1, 제 2 세정액의 각 유량 (각 유속) 은, 각 토출구의 구경 등에 따라 엄밀하게 설정할 필요가 있다.
여기에서, 에칭액 등의 약액을 사용하여 기판의 표면의 처리를 실시하는 경우에는, 온도에 따라 약액의 반응성이 변동되기 때문에, 기판 표면의 각 부의 처리 레이트는, 기판의 표면의 온도 분포에 따라 변동된다. 이 때문에, 정해진 온도로 미리 가열된 약액을 기판의 전역에 공급함으로써, 기판 표면의 전역의 온도 분포를 원하는 온도 분포가 되도록 제어하면서, 기판의 처리를 실시하는 것이 도모된다.
그러나, 특허문헌 1 의 세정 장치는, 제 1, 제 2 세정액의 각 유속이 원하는 값으로부터 약간이라도 어긋나 있는 경우, 제 1 세정액과 제 2 세정액이 기판 상에서 충돌하여, 각 세정액이 유동하는 방향이 변화하기 때문에, 세정액을 기판의 중심 상에 공급할 수 없다. 즉, 특허문헌 1 의 장치에는, 제 1, 제 2 노즐이 토출하는 각 약액의 각 유량의 제어가 엄밀하게 이루어지지 않는 경우에는, 기판의 상면 전역에 약액을 공급할 수 없다고 하는 문제나, 기판의 중앙역에 공급되는 약액의 균일성이 악화된다고 하는 문제가 발생한다.
본 발명은, 이와 같은 문제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 회전하는 기판의 표면에 약액을 토출하여 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 있어서, 기판의 상면 전역에 약액을 공급하면서, 기판의 중앙역에 공급되는 약액의 막두께의 균일성을 향상시킬 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기의 과제를 해결하기 위해, 제 1 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 기판을 대략 수평 자세로 유지하면서 회전 가능한 유지 부재와, 상기 유지 부재를, 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 기구와, 상기 기판의 회전 궤적 중 중앙역과 주변역 사이의 중간역에 있어서의 제 1 착액 위치에 닿도록 상기 기판보다 상방으로부터 약액을 토출하는 제 1 노즐과, 상기 중간역에 있어서의 제 2 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 상기 약액을 토출하는 제 2 노즐을 구비하고, 상기 제 1 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 상기 제 1 노즐의 상방으로부터 상기 기판의 상기 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 1 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 1 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 상류측으로 향하는 성분과, 당해 접선과 직교하는 상기 기판의 직경 방향을 따라 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축으로 향하는 성분을 갖는 방향이고, 상기 제 1 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 토출 속도의 상기 접선 방향의 속도 성분은, 상기 기판의 회전에 의해 상기 제 1 착액 위치 상의 상기 약액에 작용하는 상기 기판의 회전 방향의 하류측 방향의 힘을 이겨내고 당해 약액이 상기 기판의 회전 방향의 상류측으로 흐를 수 있는 크기를 갖고, 상기 토출 속도의 상기 직경 방향의 속도 성분은, 상기 제 1 착액 위치 상의 상기 약액에 작용하는 상기 기판의 회전에 의한 원심력을 이겨내고 당해 약액이 상기 회전축측으로 흐를 수 있는 크기를 갖고, 상기 제 2 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 상기 제 2 노즐의 상방으로부터 상기 기판의 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분을 갖는 방향이다.
제 2 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 제 1 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 제 2 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 회전축으로부터 동일한 거리이다.
제 3 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 제 1 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 기판의 둘레 가장자리 중 상기 제 1 착액 위치에 가장 가까운 점의 중점 (中點) 에 의해 주목 중점을 정의했을 때, 상기 제 2 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 제 1 착액 위치보다 상기 회전축으로부터 멀고, 상기 주목 중점보다 상기 회전축에 가깝다.
제 4 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 내지 제 3 중 어느 하나의 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 제 1 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 제 2 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 기판의 직경을 이루는 동일 직선 상에, 상기 회전축을 서로의 사이에 두고 각각 위치한다.
제 5 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 내지 제 4 중 어느 하나의 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 제 2 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 제 1 노즐이 토출한 상기 약액이 상기 제 1 착액 위치로부터 주위로 확산되어 상기 기판 상에 형성되어 있는 액막 위에 위치한다.
제 6 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 기판을 대략 수평 자세로 유지하면서 회전 가능한 유지 부재와, 상기 유지 부재를, 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 기구와, 상기 기판의 회전 궤적 중 중앙역과 주변역 사이의 중간역에 있어서의 제 1 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 약액을 토출하는 제 1 노즐과, 상기 중간역에 있어서의 제 2 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 상기 약액을 토출하는 제 2 노즐을 구비하고, 상기 제 1 노즐은, 상기 제 1 착액 위치에 닿은 직후에 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축측으로 향하는 상기 약액의 양이, 상기 제 1 착액 위치에 닿은 직후에 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축과는 반대측으로 향하는 상기 약액의 양보다 많아지도록, 상기 약액을 토출하고, 상기 제 2 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 상기 제 2 노즐의 상방으로부터 상기 기판의 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분을 갖는 방향이다.
제 7 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 내지 제 6 중 어느 하나의 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 제 2 노즐이 토출하는 상기 약액의 유량이, 상기 제 1 노즐이 토출하는 상기 약액의 유량보다 많다.
제 8 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 내지 제 7 중 어느 하나의 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 제 2 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 상기 제 2 노즐의 상방으로부터 상기 기판의 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분과, 당해 접선과 직교하는 상기 기판의 직경 방향을 따라 상기 제 2 착액 위치로부터 상기 회전축과는 반대측으로 향하는 성분을 갖는 방향이다.
제 9 양태에 관련된 기판 처리 장치는, 제 1 내지 제 8 중 어느 하나의 양태에 관련된 기판 처리 장치로서, 상기 제 1 노즐과 상기 제 2 노즐의 각 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 각 토출 방향은, 상기 각 노즐에 대해 상기 회전축과는 반대측의 각 위치로부터 상기 기판의 직경 방향으로 보아, 상기 기판의 상방으로부터 기울어진 하향으로 향하는 방향이다.
제 10 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 기판을 대략 수평 자세로 유지하면서 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 스텝과, 상기 회전 스텝과 병행하여, 상기 기판의 회전 궤적 중 중앙역과 주변역 사이의 중간역에 있어서의 제 1 착액 위치에 닿도록 상기 기판보다 상방으로부터 약액을 토출하는 제 1 토출 스텝과, 상기 회전 스텝 및 상기 제 1 토출 스텝과 병행하여, 상기 중간역에 있어서의 제 2 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 상기 약액을 토출하는 제 2 토출 스텝을 구비하고, 상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 토출 방향은, 당해 약액을 상방으로부터 상기 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 1 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 1 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 상류측으로 향하는 성분과, 상기 접선과 직교하는 상기 기판의 직경 방향을 따라 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축으로 향하는 성분을 갖는 방향이고, 상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 토출 속도의 상기 접선 방향의 속도 성분은, 상기 기판의 회전에 의해 상기 제 1 착액 위치 상의 상기 약액에 작용하는 상기 기판의 회전 방향의 하류측 방향의 힘을 이겨내고 당해 약액이 상기 기판의 회전 방향의 상류측으로 흐를 수 있는 크기를 갖고, 상기 토출 속도의 상기 직경 방향의 속도 성분은, 상기 제 1 착액 위치 상의 상기 약액에 작용하는 상기 기판의 회전에 의한 원심력을 이겨내고 당해 약액이 상기 회전축측으로 흐를 수 있는 크기를 갖고, 상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 토출 방향은, 당해 약액을 상방으로부터 상기 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분을 갖는 토출 방향으로 상기 약액을 토출하는 스텝이다.
제 11 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 10 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 회전축으로부터 동일한 거리이다.
제 12 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 10 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 기판의 둘레 가장자리 중 상기 제 1 착액 위치에 가장 가까운 점의 중점에 의해 주목 중점을 정의했을 때, 상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 제 1 착액 위치보다 상기 회전축으로부터 멀고, 상기 주목 중점보다 상기 회전축에 가깝다.
제 13 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 10 내지 제 12 중 어느 하나의 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 기판의 직경을 이루는 동일 직선 상에, 상기 회전축을 서로의 사이에 두고 각각 위치한다.
제 14 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 10 내지 제 13 중 어느 하나의 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액이 상기 제 1 착액 위치로부터 주위로 확산되어 상기 기판 상에 형성되어 있는 액막 위에 위치한다.
제 15 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 기판을 대략 수평 자세로 유지하면서 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 스텝과, 상기 회전 스텝과 병행하여, 상기 기판의 회전 궤적 중 중앙역과 주변역 사이의 중간역에 있어서의 제 1 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 약액을 토출하는 제 1 토출 스텝과, 상기 회전 스텝 및 상기 제 1 토출 스텝과 병행하여, 상기 중간역에 있어서의 제 2 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 상기 약액을 토출하는 제 2 토출 스텝을 구비하고, 상기 제 1 토출 스텝은, 상기 제 1 착액 위치에 닿은 직후에 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축측으로 향하는 상기 약액의 양이, 상기 제 1 착액 위치에 닿은 직후에 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축과는 반대측으로 향하는 상기 약액의 양보다 많아지도록, 상기 약액을 토출하는 스텝이고, 상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 토출 방향은, 당해 약액을 상방으로부터 상기 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분을 갖는 방향이다.
제 16 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 10 내지 제 15 중 어느 하나의 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 유량이, 상기 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 유량보다 많다.
제 17 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 10 내지 제 16 중 어느 하나의 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 토출 방향은, 당해 약액을 상방으로부터 상기 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분과, 당해 접선과 직교하는 상기 기판의 직경 방향을 따라 상기 제 2 착액 위치로부터 상기 회전축과는 반대측으로 향하는 성분을 갖는 방향이다.
제 18 양태에 관련된 기판 처리 방법은, 제 10 내지 제 17 중 어느 하나의 양태에 관련된 기판 처리 방법으로서, 상기 제 1 토출 스텝과 상기 제 2 토출 스텝의 각 토출 스텝에 있어서 상기 약액이 토출될 때의 각 토출 방향은, 상기 각 토출 스텝에 있어서 토출되고 있는 각 약액에 대해 상기 회전축과는 반대측으로부터 상기 기판의 직경 방향으로 상기 각 약액을 보아, 상기 기판의 상방으로부터 기울어진 하향으로 향하는 방향이다.
제 1 양태에 관련된 발명에 의하면, 제 1 노즐로부터 토출된 약액의 적어도 일부는, 제 1 착액 위치에 닿은 직후에, 당해 약액에 작용하는 기판의 회전 방향의 하류측 방향의 힘과 원심력의 쌍방의 힘을 이겨내고, 제 1 착액 위치로부터 액막상으로 확산되면서 기판의 회전 방향의 상류측, 또한, 회전축측으로 흐르고, 그 후, 기판의 중앙역을 통과하여 기판의 둘레 가장자리에 도달한다. 이로써, 제 1 착액 위치에는 다량의 약액이 공급되고, 기판의 중앙 부분의 각 위치에는 제 1 착액 위치보다 소량의 약액이 공급된다. 기판의 각 지점의 둘레 방향에 대한 회전 속도는, 회전축으로부터 기판의 둘레 가장자리를 향하여 증가한다. 또, 기판의 각 위치에 공급된 약액은, 각 위치의 둘레 방향에 대한 회전 속도가 증가함에 따라 둘레 방향으로 길게 늘어져 막두께가 감소한다. 따라서, 제 1 착액 위치에는 기판의 중앙역보다 다량의 약액이 공급되지만, 그 막두께는 기판의 중앙역보다 얇아지기 쉬운 한편, 기판의 중앙역에는 제 1 착액 위치보다 소량의 약액이 공급되지만, 그 막두께는 제 1 착액 위치에 비해 잘 얇아지지 않는다. 이 때문에, 기판 표면 중 제 1 착액 위치보다 기판의 중심측 부분에 있어서의 약액의 막두께의 균일성을, 제 1 노즐에 의해 향상시킬 수 있다. 또, 제 2 노즐로부터 토출된 약액의 대부분은, 제 2 착액 위치로부터 액막상으로 확산되면서 기판의 주변역을 기판의 회전 방향 하류측으로 흐르면서 기판의 둘레 가장자리부에 도달한다. 따라서, 제 1 노즐과 제 2 노즐에 의해 기판의 표면 전체에 약액을 공급하면서, 제 1 착액 위치보다 회전축측 부분, 즉 기판의 중앙역과, 기판의 중간역 중 제 1 착액 위치보다 회전축측 부분에 공급되는 약액의 막두께의 균일성을 제 1 노즐에 의해 향상시킬 수 있다.
제 2 양태에 관련된 발명에 의하면, 제 1 노즐이 토출하는 약액의 제 1 착액 위치와, 제 2 노즐이 토출하는 약액의 제 2 착액 위치는, 회전축으로부터 동일한 거리이다. 따라서, 쌍방의 노즐로부터 각각 토출된 약액을 기판의 표면 전체에 공급하는 것이 보다 용이해진다.
제 4 양태에 관련된 발명에 의하면, 제 1 노즐이 토출하는 약액의 제 1 착액 위치와, 제 2 노즐이 토출하는 약액의 제 2 착액 위치는, 기판의 직경을 이루는 동일 직선 상에, 회전축을 서로의 사이에 두고 각각 위치한다. 따라서, 예를 들어, 쌍방의 노즐이 토출하는 약액이, 기판의 상방으로부터 보아, 서로 평행하고, 또한 동일한 방향으로 토출된 경우에는, 제 2 노즐이 토출한 약액의 토출 방향을, 기판의 상방으로부터 보아, 기판의 중심측으로 향하는 성분을 갖지 않는 방향으로 할 수 있다. 따라서, 제 2 노즐로부터 기판의 주변역으로 약액을 효율적으로 공급할 수 있다.
제 5 양태에 관련된 발명에 의하면, 제 2 노즐이 토출하는 약액의 제 2 착액 위치는, 제 1 노즐이 토출한 약액이 제 1 착액 위치로부터 주위로 확산되어 기판 상에 형성하고 있는 액막 위에 위치한다. 이로써, 제 2 착액 위치가, 기판 상에 있어서 제 1 노즐로부터 토출된 약액이 형성하는 액막 이외의 부분에 위치하는 경우에 비해, 제 2 노즐로부터 토출된 약액의 액 튕김을 저감시킬 수 있다.
제 6 양태에 관련된 발명에 의하면, 제 1 노즐로부터 토출된 약액이, 제 1 착액 위치로부터 액막상으로 확산되면서 기판의 중심을 향하여 흐르고, 또한 기판의 중심에 대해 제 1 착액 위치와는 반대측 기판의 둘레 가장자리에 도달하는 것이 용이해진다. 이로써, 제 1 착액 위치에는 다량의 약액이 공급되고, 기판의 중앙 부분의 각 위치에는 제 1 착액 위치보다 소량의 약액이 공급된다. 기판의 각 지점의 둘레 방향에 대한 회전 속도는, 회전축으로부터 기판의 둘레 가장자리를 향하여 증가한다. 또, 기판의 각 위치에 공급된 약액은, 각 위치의 둘레 방향에 대한 회전 속도가 증가함에 따라 둘레 방향으로 길게 늘어져 막두께가 감소한다. 따라서, 제 1 착액 위치에는 기판의 중앙역보다 다량의 약액이 공급되지만, 그 막두께는 기판의 중앙역보다 얇아지기 쉬운 한편, 기판의 중앙역에는 제 1 착액 위치보다 소량의 약액이 공급되지만, 그 막두께는 제 1 착액 위치에 비해 잘 얇아지지 않는다. 이 때문에, 기판 표면 중 제 1 착액 위치보다 기판의 중심측 부분에 있어서의 약액의 막두께의 균일성을, 제 1 노즐에 의해 향상시킬 수 있다. 또, 제 2 노즐로부터 토출된 약액의 일부는, 제 2 착액 위치로부터 액막상으로 확산되면서 기판의 주변역을 기판의 회전 방향 하류측으로 흐르면서 기판의 둘레 가장자리부에 도달한다. 따라서, 제 1 노즐과 제 2 노즐에 의해 기판의 표면 전체에 약액을 공급하면서, 제 1 착액 위치보다 회전축측 부분, 즉 기판의 중앙역과, 기판의 중간역 중 제 1 착액 위치보다 회전축측 부분에 공급되는 약액의 막두께의 균일성을 제 1 노즐에 의해 향상시킬 수 있다.
제 7 양태에 관련된 발명에 의하면, 제 2 노즐이 토출하는 약액의 유량이, 제 1 노즐이 토출하는 약액의 유량보다 많기 때문에, 기판의 주변역에 대해, 제 2 노즐로부터 보다 많은 약액을 공급할 수 있다.
제 8 양태에 관련된 발명에 의하면, 제 2 노즐이 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 제 2 노즐의 상방으로부터 기판의 회전축 방향으로 보아, 회전축을 중심으로 하여 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분과, 당해 접선과 직교하는 기판의 직경 방향을 따라 제 2 착액 위치로부터 회전축과는 반대측으로 향하는 성분을 갖는 방향이다. 따라서, 제 2 노즐로부터 기판의 주변역에 대해 효율적으로 약액을 공급할 수 있다.
제 9 양태에 관련된 발명에 의하면, 제 1 노즐과 제 2 노즐의 각 노즐이 약액을 토출할 때의 각 토출 방향은, 각 노즐에 대해 회전축과는 반대측의 각 위치로부터 기판의 직경 방향으로 보아, 기판의 상방으로부터 기울어진 하향으로 향하는 방향이다. 제 1 노즐, 제 2 노즐은, 제 1 착액 위치, 제 2 착액 위치를 향하여, 보다 정확하게 약액을 토출할 수 있다.
제 10 양태에 관련된 발명에 의하면, 제 1 토출 스텝에 있어서 토출된 약액의 적어도 일부는, 제 1 착액 위치에 닿은 직후에, 당해 약액에 작용하는 기판의 회전 방향의 하류측 방향의 힘과 원심력의 쌍방의 힘을 이겨내고, 제 1 착액 위치로부터 액막상으로 확산되면서 기판의 회전 방향의 상류측, 또한, 회전축측으로 흐르고, 그 후, 기판의 중앙역을 통과하여 기판의 둘레 가장자리에 도달한다. 이로써, 제 1 착액 위치에는 다량의 약액이 공급되고, 기판의 중앙 부분의 각 위치에는 제 1 착액 위치보다 소량의 약액이 공급된다. 기판의 각 지점의 둘레 방향에 대한 회전 속도는, 회전축으로부터 기판의 둘레 가장자리를 향하여 증가한다. 또, 기판의 각 위치에 공급된 약액은, 각 위치의 둘레 방향에 대한 회전 속도가 증가함에 따라 둘레 방향으로 길게 늘어져 막두께가 감소한다. 따라서, 제 1 착액 위치에는 기판의 중앙역보다 다량의 약액이 공급되지만, 그 막두께는 기판의 중앙역보다 얇아지기 쉬운 한편, 기판의 중앙역에는 제 1 착액 위치보다 소량의 약액이 공급되지만, 그 막두께는 제 1 착액 위치에 비해 잘 얇아지지 않는다. 이 때문에, 기판 표면 중 제 1 착액 위치보다 기판의 중심측 부분에 있어서의 약액의 막두께의 균일성을, 제 1 토출 스텝에 의해 향상시킬 수 있다. 또, 제 2 토출 스텝에 있어서 토출된 약액의 대부분은, 제 2 착액 위치로부터 액막상으로 확산되면서 기판의 주변역을 기판의 회전 방향 하류측으로 흐르면서 기판의 둘레 가장자리부에 도달한다. 따라서, 제 1 토출 스텝과 제 2 토출 스텝에 의해 기판의 표면 전체에 약액을 공급하면서, 제 1 착액 위치보다 회전축측 부분, 즉 기판의 중앙역과, 기판의 중간역 중 제 1 착액 위치보다 회전축측 부분에 공급되는 약액의 막두께의 균일성을 제 1 토출 스텝에 의해 향상시킬 수 있다.
제 15 양태에 관련된 발명에 의하면, 제 1 토출 스텝에 있어서 토출된 약액이, 제 1 착액 위치로부터 액막상으로 확산되면서 기판의 중심을 향하여 흐르고, 또한 기판의 중심에 대해 제 1 착액 위치와는 반대측 기판의 둘레 가장자리에 도달하는 것이 용이해진다. 이로써, 제 1 착액 위치에는 다량의 약액이 공급되고, 기판의 중앙 부분의 각 위치에는 제 1 착액 위치보다 소량의 약액이 공급된다. 기판의 각 지점의 둘레 방향에 대한 회전 속도는, 회전축으로부터 기판의 둘레 가장자리를 향하여 증가한다. 또, 기판의 각 위치에 공급된 약액은, 각 위치의 둘레 방향에 대한 회전 속도가 증가함에 따라 둘레 방향으로 길게 늘어져 막두께가 감소한다. 따라서, 제 1 착액 위치에는 기판의 중앙역보다 다량의 약액이 공급되지만, 그 막두께는 기판의 중앙역보다 얇아지기 쉬운 한편, 기판의 중앙역에는 제 1 착액 위치보다 소량의 약액이 공급되지만, 그 막두께는 제 1 착액 위치에 비해 잘 얇아지지 않는다. 이 때문에, 기판 표면 중 제 1 착액 위치보다 기판의 중심측 부분에 있어서의 약액의 막두께의 균일성을, 제 1 토출 스텝에 의해 향상시킬 수 있다. 또, 제 2 토출 스텝에 있어서 토출된 약액의 일부는, 제 2 착액 위치로부터 액막상으로 확산되면서 기판의 주변역을 기판의 회전 방향 하류측으로 흐르면서 기판의 둘레 가장자리부에 도달한다. 따라서, 제 1 토출 스텝과 제 2 토출 스텝에 의해 기판의 표면 전체에 약액을 공급하면서, 제 1 착액 위치보다 회전축측 부분, 즉 기판의 중앙역과, 기판의 중간역 중 제 1 착액 위치보다 회전축측 부분에 공급되는 약액의 막두께의 균일성을 제 1 토출 스텝에 의해 향상시킬 수 있다.
도 1 은 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 구성예를 설명하기 위한 측면 모식도이다.
도 2 는 도 1 의 기판 처리 장치의 구성예를 설명하기 위한 상면 모식도이다.
도 3 은 기판의 상면의 중간역의 일례를 설명하기 위한 도면이다.
도 4 는 기판 상에 토출된 약액의 흐름의 일례를 나타내는 도면이다.
도 5 는 기판의 반경과 열 손실의 관계의 일례를 그래프 형식으로 나타내는 도면이다.
도 6 은 약액의 토출 양태와, 기판의 온도 분포의 관계의 일례를 그래프 형식으로 나타내는 도면이다.
도 7 은 2 개의 노즐의 배치의 다른 예를 나타내는 상면 모식도이다.
도 8 은 2 개의 노즐의 배치의 다른 예를 나타내는 상면 모식도이다.
도 9 는 2 개의 노즐의 배치의 다른 예를 나타내는 상면 모식도이다.
도 10 은 2 개의 노즐이 토출하는 약액의 기판의 직경 방향에 있어서의 막두께 분포의 일례를 그래프 형식으로 나타내는 도면이다.
도 11 은 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 동작의 일례를 나타내는 플로 차트이다.
도 2 는 도 1 의 기판 처리 장치의 구성예를 설명하기 위한 상면 모식도이다.
도 3 은 기판의 상면의 중간역의 일례를 설명하기 위한 도면이다.
도 4 는 기판 상에 토출된 약액의 흐름의 일례를 나타내는 도면이다.
도 5 는 기판의 반경과 열 손실의 관계의 일례를 그래프 형식으로 나타내는 도면이다.
도 6 은 약액의 토출 양태와, 기판의 온도 분포의 관계의 일례를 그래프 형식으로 나타내는 도면이다.
도 7 은 2 개의 노즐의 배치의 다른 예를 나타내는 상면 모식도이다.
도 8 은 2 개의 노즐의 배치의 다른 예를 나타내는 상면 모식도이다.
도 9 는 2 개의 노즐의 배치의 다른 예를 나타내는 상면 모식도이다.
도 10 은 2 개의 노즐이 토출하는 약액의 기판의 직경 방향에 있어서의 막두께 분포의 일례를 그래프 형식으로 나타내는 도면이다.
도 11 은 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 동작의 일례를 나타내는 플로 차트이다.
이하, 도면을 참조하면서, 실시형태에 대하여 설명한다. 이하의 실시형태는, 본 발명을 구체화한 일례이며, 본 발명의 기술적 범위를 한정하는 사례는 아니다. 또, 이하에 참조하는 각 도면에서는, 이해를 용이하게 하기 위해, 각 부의 치수나 수가 과장 또는 간략화되어 도시되어 있는 경우가 있다. 상하 방향은 연직 방향이고, 스핀 척에 대해 기판측이 위이다.
＜실시형태에 대하여＞
＜1. 기판 처리 장치 (1) 의 전체 구성＞
기판 처리 장치 (1) 의 구성에 대하여, 도 1, 도 2 를 참조하면서 설명한다. 도 1, 도 2 는, 실시형태에 관련된 기판 처리 장치 (1) 의 구성을 설명하기 위한 도면이다. 도 1, 도 2 는, 기판 처리 장치 (1) 의 측면 모식도, 상면 모식도이다.
도 1, 도 2 에서는, 노즐 (51, 52) 이 기판 (9) 의 상방의 처리 위치에 배치된 상태에서, 기판 (9) 이 스핀 척 (21) 에 의해 회전축 (a1) 둘레로 소정의 회전 방향 (화살표 AR1 의 방향) 으로 회전하고 있는 상태가 나타나 있다. 노즐 (51) (52) 은, 액기둥상의 약액 (L1) (L2) 을 기판 (9) 의 상면에 토출하고 있다. 도 2 에서는, 기판 처리 장치 (1) 의 구성 요소 중 제어부 (130) 등의 일부의 구성 요소의 기재는 생략되어 있다.
기판 (9) 의 표면 형상은 대략 원형이다. 기판 (9) 의 기판 처리 장치 (1) 에 대한 반입 반출은, 노즐 (51, 52) 이 도시가 생략된 노즐 이동 기구에 의해 대피 위치에 배치된 상태에서, 로봇 등에 의해 실시된다. 기판 처리 장치 (1) 에 반입된 기판 (9) 은, 스핀 척 (21) 에 의해 자유롭게 착탈할 수 있게 유지된다.
기판 처리 장치 (1) 는 회전 유지 기구 (2), 처리부 (5), 및 제어부 (130) 를 구비한다. 이들 각 부 (2, 5) 는, 제어부 (130) 와 전기적으로 접속되어 있어, 제어부 (130) 로부터의 지시에 따라 동작한다. 제어부 (130) 로는, 예를 들어, 일반적인 컴퓨터와 동일한 것을 채용할 수 있다. 즉, 제어부 (130) 는, 예를 들어, 각종 연산 처리를 실시하는 CPU, 기본 프로그램을 기억하는 판독 출력 전용의 메모리인 ROM, 각종 정보를 기억하는 자유롭게 판독 입력할 수 있는 메모리인 RAM, 제어용 소프트웨어나 데이터 등을 기억해 두는 자기 디스크 등을 구비하고 있다. 제어부 (130) 에 있어서는, 프로그램에 기술된 순서에 따라 주제어부로서의 CPU 가 연산 처리를 실시함으로써, 기판 처리 장치 (1) 의 각 부를 제어한다.
＜2. 기판 (9)＞
기판 처리 장치 (1) 에서 처리 대상이 되는 기판 (9) 의 표면 형상은 대략 원형이다. 기판 (9) 의 반경은, 예를 들어, 150 ㎜ 이다. 기판 처리 장치 (1) 는, 노즐 (51, 52) 로부터 기판 (9) 의 상면에 처리액을 공급하여 기판 (9) 의 처리를 실시한다.
도 3 은, 기판 (9) 의 상면의 중간역 (K2) 의 일례를 설명하기 위한 도면이다. 중간역 (K2) 은, 기판 (9) 의 회전 궤적 중 중앙역 (K1) 과 주변역 (K3) 사이의 영역이다. 기판 (9) 의 중심 (c1) 에서부터 중앙역 (K1) 과 중간역 (K2) 의 경계까지의 길이는, 예를 들어, 기판 (9) 의 반경의 3 분의 1 이다. 또, 주변역 (K3) 의 폭, 즉, 중간역 (K2) 과 주변역 (K3) 의 경계에서부터 기판 (9) 의 둘레 가장자리까지의 길이는, 예를 들어, 기판 (9) 의 반경의 3 분의 1 이다. 따라서, 이 경우에는, 중간역 (K2) 의 폭, 즉, 중앙역 (K1) 과 중간역 (K2) 의 경계에서부터 중간역 (K2) 과 주변역 (K3) 의 경계까지의 길이는, 기판 (9) 의 반경의 3 분의 1 이다.
＜3. 기판 처리 장치 (1) 의 각 부의 구성＞
＜회전 유지 기구 (2)＞
회전 유지 기구 (2) 는, 기판 (9) 을, 그 일방의 주면 (主面) 을 상방을 향하게 한 상태에서, 대략 수평 자세로 유지하면서 회전 가능한 기구이다. 회전 유지 기구 (2) 는, 기판 (9) 을, 주면의 중심 (c1) 을 통과하는 연직인 회전축 (a1) 을 중심으로 회전시킨다. 회전 유지 기구 (2) 는, 노즐 (51, 52) 이 약액 (L1, L2) 을 토출하고 있을 때에는, 예를 들어, 200 rpm ∼ 400 rpm 의 회전 속도로 기판 (9) 을 회전시킨다.
회전 유지 기구 (2) 는, 기판 (9) 보다 작은 원판상의 부재인 스핀 척 (「유지 부재」, 「기판 유지부」) (21) 을 구비한다. 스핀 척 (21) 은, 그 상면이 대략 수평이 되고, 그 중심축이 회전축 (a1) 에 일치하도록 형성되어 있다. 스핀 척 (21) 의 하면에는, 원통상의 회전축부 (22) 가 연결되어 있다. 회전축부 (22) 는, 그 축선을 연직 방향으로 따르게 하는 자세로 배치된다. 회전축부 (22) 의 축선은, 회전축 (a1) 과 일치한다. 또, 회전축부 (22) 에는, 회전 구동부 (예를 들어, 서보모터) (23) 가 접속된다. 회전 구동부 (23) 는, 회전축부 (22) 를 그 축선 둘레로 회전 구동시킨다. 따라서, 스핀 척 (21) 은, 회전축부 (22) 와 함께 회전축 (a1) 을 중심으로 회전 가능하다. 회전 구동부 (23) 와 회전축부 (22) 는, 스핀 척 (21) 을, 회전축 (a1) 을 중심으로 회전시키는 회전 기구 (231) 이다. 회전축부 (22) 및 회전 구동부 (23) 는, 도시가 생략된 통상의 케이싱 내에 수용되어 있다.
스핀 척 (21) 의 중앙부에는, 도시가 생략된 관통공이 형성되어 있으며, 회전축부 (22) 의 내부 공간과 연통되어 있다. 내부 공간에는, 도시가 생략된 배관, 개폐 밸브를 개재하여 도시가 생략된 펌프가 접속되어 있다. 당해 펌프, 개폐 밸브는, 제어부 (130) 에 전기적으로 접속되어 있다. 제어부 (130) 는, 당해 펌프, 개폐 밸브의 동작을 제어한다. 당해 펌프는, 제어부 (130) 의 제어에 따라, 부압과 정압을 선택적으로 공급 가능하다. 기판 (9) 이 스핀 척 (21) 의 상면에 대략 수평 자세로 놓여진 상태에서 펌프가 부압을 공급하면, 스핀 척 (21) 은, 기판 (9) 을 하방으로부터 흡착 유지한다. 펌프가 정압을 공급하면, 기판 (9) 은, 스핀 척 (21) 의 상면으로부터 떼어낼 수 있게 된다.
이 구성에 있어서, 스핀 척 (21) 이 기판 (9) 을 흡착 유지한 상태에서, 회전 구동부 (23) 가 회전축부 (22) 를 회전시키면, 스핀 척 (21) 이 연직 방향을 따른 축선 둘레에서 회전된다. 이로써, 스핀 척 (21) 상에 유지된 기판 (9) 이, 그 면 내의 중심 (c1) 을 통과하는 연직인 회전축 (a1) 을 중심으로 화살표 AR1 방향으로 회전된다. 스핀 척 (21) 으로서, 기판 (9) 의 둘레 가장자리부를 파지하기 위한 복수 개 (3 개 이상) 의 척 핀이, 회전축 (a1) 을 중심으로 회전하는 원판상의 스핀 베이스의 둘레 가장자리부로부터 세워 형성된 것이 채용되어도 된다.
＜처리부 (5)＞
처리부 (「약액 공급 기구」) (5) 는, 스핀 척 (21) 상에 유지된 기판 (9) 에 대한 처리를 실시한다. 구체적으로는, 처리부 (5) 는, 스핀 척 (21) 상에 유지된 기판 (9) 의 상면에 약액을 공급한다. 처리부 (5) 는, 노즐 (51, 52) 및 약액 공급부 (53) 를 구비하고 있다.
노즐 (51, 52) 은, 예를 들어, 도시가 생략된 노즐 이동 기구가 구비하는 장척 (長尺) 의 아암의 선단에 장착되어 있다. 당해 노즐 이동 기구는, 노즐 (51, 52) 을, 각각의 처리 위치와 퇴피 위치 사이에서 이동시키는 기구이다.
처리부 (5) 는, 기판 (9) 의 상방으로부터 기판 (9) 의 상면 (표면) 에 약액 (L1) (L2) 을 토출하는 노즐 (51) (52) 을 구비한다. 노즐 (51) (52) 은, 예를 들어, 기판 (9) 의 상면을 향하여 연장되는 통상의 선단측 부분을 각각 구비하고 있으며, 당해 선단측 부분의 선단에 형성된 토출구로부터, 기판 (9) 의 상면에 닿도록 약액 (L1) (L2) 을 토출한다.
노즐 (51) 은, 기판 (9) 의 중간역 (K2) 에 있어서의 착액 위치 (P1) 에 닿도록 기판 (9) 보다 상방으로부터 약액 (L1) 을 토출한다. 노즐 (52) 은, 중간역 (K2) 에 있어서의 착액 위치 (P2) 에 닿도록 기판 (9) 보다 상방으로부터 약액 (L2) 을 토출한다. 노즐 (51, 52) 이 약액 (L1, L2) 을 토출할 때의 각 토출 방향 (u1, v1) 은, 각 노즐 (51, 52) 에 대해 회전축 (a1) 과는 반대측의 각 위치로부터 기판 (9) 의 직경 방향으로 보아, 기판 (9) 의 상방으로부터 기울어진 하향으로 향하는 방향이다.
약액 공급부 (53) 는, 노즐 (51, 52) 에 약액 (L1, L2) 을 공급한다. 약액 공급부 (53) 는, 구체적으로는, 약액 공급원 (531, 532), 배관 (541, 542), 및 개폐 밸브 (521, 522) 를 조합하여 구성되어 있다. 약액 공급원 (531) (532) 은, 배관 (541) (542) 을 통해 노즐 (51) (52) 에 약액 (L1) (L2) 을 공급한다. 배관 (541) (542) 의 경로 도중에는, 개폐 밸브 (521) (522) 가 형성되어 있다. 약액 (L1, L2) 으로서, 예를 들어, SPM, SC-1, DHF, SC-2 등이 사용된다. 약액 (L1) 과 약액 (L2) 은, 동일한 종류의 약액이다.
약액 공급원 (531) (532) 으로부터 약액 (L1) (L2) 이 노즐 (51) (52) 에 공급되면, 노즐 (51) (52) 은 약액 (L1) (L2) 을 액기둥상의 액류로서 토출한다. 단, 약액 공급부 (53) 가 구비하는 개폐 밸브 (521) (522) 는, 제어부 (130) 와 전기적으로 접속되어 있는 도시가 생략된 밸브 개폐 기구에 의해, 제어부 (130) 의 제어하에서 개폐된다. 보다 상세하게는, 개폐 밸브 (521) (522) 는, 그 개도를 제어부 (130) 의 제어에 따라, 변경함으로써, 약액 공급원 (531) (532) 으로부터 배관 (541) (542) 을 통해 노즐 (51) (52) 에 공급되는 약액 (L1) (l2) 의 유량을 변경할 수 있다. 밸브 개폐 기구는, 제어부 (130) 의 제어하에서, 개폐 밸브 (521, 522) 의 개도를 독립적으로 변경할 수 있다. 이로써, 노즐 (51) 이 토출하는 약액 (L1) 의 유량과, 노즐 (52) 이 토출하는 약액 (L2) 의 유량은, 서로 독립적으로 제어된다. 요컨대, 노즐 (51) (52) 로부터의 약액 (L1) (L2) 의 토출 양태 (구체적으로는, 토출되는 약액의 토출 개시 타이밍, 토출 종료 타이밍, 토출 유량 등) 는, 제어부 (130) 에 의해 제어된다. 즉, 처리부 (5) 의 노즐 (51) (52) 은, 제어부 (130) 의 제어에 의해, 회전축 (a1) 을 중심으로 회전하고 있는 기판 (9) 의 상면에 닿도록 약액 (L1) (L2) 의 액류를 토출한다.
또, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 노즐 (51) 이 약액 (L1) 을 토출할 때의 토출 방향 (u1) 은, 노즐 (51) 의 상방으로부터 기판 (9) 의 회전축 (a1) 방향으로 보아, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P1) 를 통과하는 원의 착액 위치 (P1) 에 있어서의 접선의 방향을 따라 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측으로 향하는 성분 (「방향 성분」) (u2) 과, 접선과 직교하는 기판 (9) 의 직경 방향을 따라 착액 위치 (P1) 로부터 회전축 (a1) 으로 향하는 성분 (「방향 성분」) (u3) 을 갖는 방향이다. 노즐 (51) 이 약액 (L1) 을 토출할 때의 토출 속도의 수평 방향의 속도 성분은, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P1) 를 통과하는 원의 착액 위치 (P1) 에 있어서의 접선 방향을 따라 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측으로 향하는 당해 접선 방향의 속도 성분과, 당해 접선 방향과 직교하는 기판 (9) 의 직경 방향을 따라 착액 위치 (P1) 로부터 회전축 (a1) 으로 향하는 당해 직경 방향의 속도 성분을 합성한 속도 성분이다. 노즐 (51) 이 약액 (L1) 을 토출할 때의 토출 속도의 당해 접선 방향의 속도 성분은, 기판 (9) 의 회전에 의해 착액 위치 (P1) 상의 약액 (L1) 에 작용하는 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측 방향의 힘을 이겨내고 약액 (L1) 이 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측으로 흐를 수 있는 크기를 갖는다. 당해 토출 속도의 당해 직경 방향의 속도 성분은, 착액 위치 (P1) 상의 약액 (L1) 에 작용하는 기판 (9) 의 회전에 의한 원심력을 이겨내고 당해 약액 (L1) 이 회전축 (a1) 측으로 흐를 수 있는 크기를 갖는다. 이 때문에, 노즐 (51) 로부터 토출된 약액 (L1) 의 적어도 일부는, 착액 위치 (P1) 에 닿은 직후에 당해 약액에 작용하는 기판의 회전 방향의 하류측 방향의 힘과 원심력의 쌍방의 힘을 이겨내고, 착액 위치 (P1) 로부터 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측, 또한, 회전축 (a1) 측으로 흐르고, 그 후, 기판의 중앙역을 통과하여 기판의 둘레 가장자리에 도달한다. 보다 상세하게는, 당해 약액 (L1) 의 적어도 일부는, 착액 위치 (P1) 로부터, 일단, 기판 (9) 의 중심측으로 방향을 바꾸면서, 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측으로 향한 후, 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 방향을 바꾸면서 기판 (9) 의 중심 (c1) 으로 향하는 호상의 경로를 따라, 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 중심 (c1) 에 이른다. 그리고, 당해 약액 (L1) 은, 기판 (9) 의 중심을 넘어가면, 원심력의 영향에 의해 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 방향을 바꾸면서, 기판 (9) 의 둘레 가장자리로 향하는 호상의 경로를 따라, 확산되면서 흘러간다 (도 4 참조).
따라서, 도 2 에 나타내는 노즐 (51) 은, 착액 위치 (P1) 에 닿은 직후에 착액 위치 (P1) 로부터 회전축 (a1) 측으로 향하는 약액 (L1) 의 양이, 착액 위치 (P1) 에 닿은 직후에 착액 위치 (P1) 로부터 회전축 (a1) 과는 반대측으로 향하는 약액 (L1) 의 양보다 많아지도록, 약액 (L1) 을 토출하고 있다. 또, 착액 위치 (P1) 에 토출된 직후의 약액 (L1) 에는, 기판 (9) 의 회전에 의한 원심력이 강하게 작용하지 않기 때문에 약액 (L1) 의 온도가 잘 내려가지 않는다는 이점도 있다.
노즐 (52) 이 약액 (L2) 을 토출할 때의 토출 방향 (v1) 은, 노즐 (52) 의 상방으로부터 기판 (9) 의 회전축 (a1) 방향으로 보아, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P2) 를 통과하는 원의 착액 위치 (P2) 에 있어서의 접선의 방향을 따라 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분 (「방향 성분」) (v2) 을 갖는 방향이다. 이 때문에, 노즐 (52) 로부터 토출된 약액 (L2) 은, 착액 위치 (P2) 에 닿은 직후부터 원심력의 영향을 강하게 받아, 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 방향을 바꾸면서 기판 (9) 의 둘레 가장자리로 향하는 호상의 경로를 따라, 액막상으로 확산되면서 흘러간다 (도 4 참조).
따라서, 노즐 (51) 로부터 토출된 약액 (L1) 의 일부는, 착액 위치 (P1) 로부터 액막상으로 확산되면서, 기판 (9) 의 중앙 부분을 통과하여 기판 (9) 의 둘레 가장자리에 도달하고, 노즐 (52) 로부터 토출된 약액 (L2) 의 일부는, 착액 위치 (P2) 로부터 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 주변역 (K3) 을 기판 (9) 의 회전 방향 하류측으로 흐르면서 기판 (9) 의 둘레 가장자리부에 도달한다.
도 2 의 예에서는, 가상원 (201) 은, 기판 (9) 의 중심 (c1) (회전축 (a1)) 을 중심으로 하여, 착액 위치 (P1, P2) 의 쌍방을 통과하고 있다. 즉, 착액 위치 (P1) 와 착액 위치 (P2) 는, 회전축 (a1) 으로부터 동일한 거리의 위치이다. 또, 약액 (L1, L2) 은, 액막상으로 확산되면서 흐르고 있다. 따라서, 약액 (L1) 이 착액 위치 (P1) 의 근방에 형성하는 액막과, 약액 (L2) 이 착액 위치 (P2) 의 근방에 형성하는 액막은, 기판 (9) 의 직경 방향에 있어서 대략 동일한 범위로 확산된다. 따라서, 쌍방의 노즐로부터 각각 토출된 약액 (L1, L2) 을 기판 (9) 의 표면 전체에 공급하는 것이 보다 용이해진다.
도 5 는, 기판 (9) 의 반경과 열 손실의 관계의 일례를 그래프 형식으로 나타내는 도면이다. 도 5 에 나타내는 예에서는, 반경 150 ㎜ 의 기판 (9) 에 있어서, 열 손실은, 기판 (9) 의 중심 (c1) 으로부터 둘레 가장자리를 향함에 따라 증가하고 있다. 중심 (c1) 에서부터 반경 약 130 ㎜ 이내의 범위에서는, 열 손실의 증가율은 비교적 낮지만, 반경 약 130 ㎜ 이상의 범위에서는, 둘레 가장자리를 향하여 열 손실이 지수 함수적으로 증가하고 있다. 따라서, 기판의 상면에 공급되는 약액에 의해, 기판의 온도 분포를 균일화하기 위해서는, 기판의 주변 부분에 공급되는 약액의 양을, 기판의 중앙 부분에 공급되는 약액에 비해 늘릴 필요가 있다.
도 6 은, 도 2 에 나타내는 구성의 기판 처리 장치 (1) 에 있어서의 약액의 토출 양태와, 기판의 온도 분포의 관계의 일례를 그래프 형식으로 나타내는 도면이다. 사각형으로 나타나는 온도 분포는, 노즐 (51, 52) 중 노즐 (「제 1 노즐」) (51) 만으로부터 약액 (L1) 을 토출했을 때의 기판 (9) 의 온도 분포를 나타내고 있다. 검은 색으로 칠한 마름모꼴로 나타나는 온도 분포는, 노즐 (51, 52) 의 쌍방으로부터 약액 (L1, L2) 을 토출했을 때의 기판 (9) 의 온도 분포를 나타내고 있다. 기판 (9) 의 회전 속도는 200 rpm 이고, 착액 위치 (P1) 로부터 일부가 중심 (c1) 측으로 흐르는 약액 (L1) 의 토출 유량은 2 ℓ/min. 이고, 착액 위치 (P2) 로부터 주로 기판 (9) 의 둘레 가장자리측으로 흐르는 약액 (L2) 의 토출 유량은 3 ℓ/min. 이다. 즉, 노즐 (52) 이 토출하는 약액 (L2) 의 유량이, 노즐 (51) 이 토출하는 약액 (L1) 의 유량보다 많다.
여기에서, 약액 (L1) 의 토출 유량 (X) 과 약액 (L2) 의 토출 유량 (Y) 의 관계는, 기판 (9) 에 있어서, 가상원 (201) (도 2 참조) 보다 중심 (c1) 측 부분의 면적을 A ㎠, 둘레 가장자리측 부분의 면적을 B ㎠ 로 하면, (1) 식에 의해 나타난다. α 는, 기판 처리 장치 (1) 를 수용하는 도시가 생략된 챔버 내의 분위기가 챔버로부터 배기될 때의 풍속과, 기판 (9) 의 회전수 등에 따라 값이 변동되는 변수이다.
도 6 의 그래프에 나타내는 바와 같이, 노즐 (51) 에 의한 약액 (L1) 의 토출만이 실시되는 경우에는, 많은 약액 (L1) 이 공급되는 기판 (9) 의 중앙역 (K1), 중간역 (K2) 에 있어서, 기판 (9) 의 직경 방향의 온도 분포는, 비교적 균일한 분포로 되어 있지만, 주변역 (K3) 에 있어서는, 공급되는 약액 (L1) 이 부족하기 때문에, 기판 (9) 의 온도는, 기판의 둘레 가장자리를 향하여 급격하게 저하되고 있다. 그러나, 기판 (9) 의 회전 속도 혹은 약액 (L1, L2) 이 토출되는 영역의 크기 등에 따라, 약액 (L1, L2) 의 토출 유량을 적절히 조정하여, 노즐 (51, 52) 의 쌍방으로부터 약액 (L1, L2) 을 토출함으로써, 기판의 상면 전역에 걸쳐 비교적 균일한 온도 분포를 실현할 수 있다.
또한, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에 있어서는, 약액 (L2) 의 착액 위치 (P2) 는, 바람직하게는, 약액 (L1) 이 착액 위치 (P1) 로부터 주위로 확산되어 기판 (9) 상에 형성하고 있는 액막 위에 위치한다.
도 10 은, 노즐 (51, 52) 이 토출하는 약액 (L1, L2) 의 기판 (9) 의 직경 방향에 있어서의 막두께 분포의 일례를 그래프 형식으로 나타내는 도면이다. 상기 서술한 바와 같이, 노즐 (51) 로부터 착액 위치 (P1) 에 토출된 약액 (L1) 은, 착액 위치 (P1) 로부터 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측, 또한, 회전축 (a1) 측으로 흐르고, 그 후, 기판 (9) 의 중앙역 (K1) 을 통과하여 기판 (9) 의 둘레 가장자리에 도달한다. 이로써, 착액 위치 (P1) 에는 다량의 약액이 공급되고, 기판 (9) 의 중앙 부분의 각 위치에는 소량의 약액 (L1) 이 공급된다.
기판 (9) 의 각 지점의 둘레 방향에 대한 회전 속도는, 회전축 (a1) 으로부터 기판 (9) 의 둘레 가장자리를 향하여 증가한다. 또, 기판 (9) 의 각 위치에 공급된 약액 (L1, L2) 은, 각 위치의 둘레 방향에 대한 회전 속도가 증가함에 따라 둘레 방향으로 길게 늘어져 막두께가 감소한다. 그리고, 착액 위치 (P1) 에 있어서의 기판 (9) 의 둘레 방향의 회전 속도는 높고, 중앙역 (K1) 에 있어서의 기판 (9) 의 둘레 방향의 회전 속도는 낮다.
따라서, 착액 위치 (P1) 에는 기판 (9) 의 중앙역 (K1) 보다 다량의 약액 (L1) 이 노즐 (51) 로부터 공급되지만, 그 막두께는 중앙역 (K1) 보다 얇아지기 쉽다. 중앙역 (K1) 에는 착액 위치 (P1) 보다 소량의 약액 (L1) 이 노즐 (51) 로부터 공급되지만, 그 막두께는 착액 위치 (P1) 에 비해 잘 얇아지지 않는다. 이 때문에, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 기판 (9) 의 표면 중 착액 위치 (P1) 보다 기판 (9) 의 중심측 부분에 있어서의 약액 (L1) 의 막두께의 균일성을, 노즐 (51) 에 의해 향상시킬 수 있다.
또, 노즐 (52) 로부터 토출된 약액 (L2) 의 대부분은, 착액 위치 (P2) 로부터 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 주변역을 기판 (9) 의 회전 방향 하류측으로 흐르면서 기판 (9) 의 둘레 가장자리부에 도달한다. 따라서, 노즐 (51) 과 노즐 (52) 에 의해 기판 (9) 의 상면 전역에 약액 (L1, L2) 을 공급하면서, 착액 위치 (P1) 보다 회전축 (a1) 측 부분, 즉 기판 (9) 의 중앙역 (K1) 과, 기판 (9) 의 중간역 (K2) 중 착액 위치 (P1) 보다 회전축 (a1) 측 부분에 공급되는 약액 (L1) 의 막두께의 균일성을 제 1 노즐에 의해 향상시킬 수 있다. 또, 기판 (9) 의 회전에 의해, 기판 (9) 의 중심측으로부터 둘레 가장자리측을 향하여 기판 (9) 의 열 손실이 급격하게 증가하지만, 제 2 노즐로부터 토출된 약액 (L2) 은, 주로 기판 (9) 의 주변역 (K3) 에 공급되기 때문에, 기판 (9) 의 주변역 (K3) 에 공급되는 약액 (L1, L2) 을, 기판 (9) 의 중앙부에 공급되는 약액 (L1) 에 비해 늘릴 수 있다. 따라서, 기판 (9) 의 표면의 온도 분포의 균일성을 개선할 수 있다.
＜4. 노즐 (51, 52) 의 배치 관계의 예＞
도 7 ∼ 도 9 는, 기판 처리 장치 (1) 의 노즐 (51, 52) 의, 도 2 에 나타낸는 배치 관계와는 상이한 다른 배치 관계의 예를 각각 나타내는 도면이다. 도 7 ∼ 도 9 에 있어서, 노즐 (51) 은, 도 2 에 기재된 노즐 (51) 과 동일한 위치로부터 동일한 토출 양태로 약액 (L1) 을 착액 위치 (P1) 에 토출하고 있다.
도 7 에 나타내는 배치 관계에 있어서는, 약액 (L2) 의 착액 위치 (P2) 가, 약액 (L1) 의 착액 위치 (P1) 보다 회전축 (a1) 으로부터 멀고, 또한 착액 위치 (P1) 와, 기판 (9) 의 둘레 가장자리 중 착액 위치 (P1) 에 가장 가까운 점의 중점 (「주목 중점」) 보다 회전축 (a1) 에 가깝다. 가상원 (202) 은, 중심 (c1) 을 중심으로 하여 당해 중점을 통과하고, 가상원 (201) 은, 중심 (c1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P1) 를 통과하고 있다. 이 경우에는, 착액 위치 (P1) 와 착액 위치 (P2) 사이에는, 기판 (9) 의 직경 방향에 있어서 간격이 벌어져 있지만, 약액 (L1) (L2) 은, 착액 위치 (P1) (P2) 로부터 주위로 확산되면서 흘러간다. 이 때문에, 기판 (9) 의 직경 방향에 있어서, 약액 (L1) 이 착액 위치 (P1) 의 근방에 형성하는 액막과, 약액 (L2) 이 착액 위치 (P2) 의 근방에 형성하는 액막 사이에 간극이 발생하는 것이 억제된다.
도 8 에 나타내는 배치 관계에 있어서는, 노즐 (51) 이 토출하는 약액 (L1) 의 착액 위치 (P1) 와, 노즐 (52) 이 토출하는 약액 (L2) 의 착액 위치 (P2) 는, 기판 (9) 의 직경을 이루는 동일 직선 상에, 회전축 (a1) 을 서로의 사이에 두고 각각 위치하고 있다.
도 9 에 나타내는 배치 관계에 있어서는, 노즐 (52) 이 약액 (L2) 을 토출할 때의 토출 방향 (v1) 은, 노즐 (52) 의 상방으로부터 기판 (9) 의 회전축 (a1) 방향으로 보아, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P2) 를 통과하는 원의 착액 위치 (P2) 에 있어서의 접선의 방향을 따라 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분 (v2) 과, 당해 접선과 직교하는 기판 (9) 의 직경 방향을 따라 착액 위치 (P2) 로부터 회전축 (a1) 과는 반대측으로 향하는 성분 (「방향 성분」) (v3) 을 갖는 방향이다. 따라서, 당해 접선과 토출 방향 (v1) 이 이루는 각도는, 예각이 된다. 따라서, 노즐 (52) 로부터 기판 (9) 의 주변역 (K3) 에 대해 효율적으로 약액 (L2) 을 공급할 수 있다.
＜5. 기판 처리 장치의 동작＞
도 11 은, 기판 처리 장치 (1) 의 동작의 일례를 나타내는 플로 차트이다. 기판 처리 장치 (1) 는, 이 플로 차트를 따라, 약액 (L1, L2) 에 의해 기판 (9) 을 처리한다. 이 플로 차트에 관련된 동작의 개시에 앞서, 기판 (9) 은 스핀 척 (21) 에 의해 미리 유지되고 있다.
먼저, 회전 기구 (231) 가, 제어부 (130) 의 제어에 따라, 스핀 척 (21) 의 회전을 개시시킴으로써, 스핀 척 (21) 에 유지된 기판 (9) 의 회전을 개시시킨다 (도 11 의 스텝 S10).
다음으로, 처리부 (5) 의 밸브 개폐 기구가, 제어부 (130) 의 제어하에서, 개폐 밸브 (521) 를 소정의 개도로 개방함으로써, 노즐 (51) 은, 기판 (9) 의 회전 궤적 중 중간역 (K2) 에 있어서의 착액 위치 (P1) 에 닿도록 약액 (L1) 의 토출을 개시하고 (스텝 S20), 밸브 개폐 기구가, 제어부 (130) 의 제어하에서, 개폐 밸브 (522) 를 소정의 개도로 개방함으로써, 노즐 (52) 은, 중간역 (K2) 에 있어서의 착액 위치 (P2) 에 닿도록 약액 (L2) 의 토출을 개시한다 (스텝 S30).
스텝 S20 에 있어서 토출되는 약액 (L1) 의 토출 방향은, 당해 약액 (L1) 을 상방으로부터 회전축 (a1) 방향으로 보아, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P1) 를 통과하는 원의 착액 위치 (P1) 에 있어서의 접선 방향을 따라 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측으로 향하는 성분과, 당해 접선과 직교하는 기판 (9) 의 직경 방향을 따라 착액 위치 (P1) 로부터 회전축 (a1) 으로 향하는 성분을 갖는 방향이다.
스텝 S20 에 있어서 노즐 (51) 이 토출하는 약액 (L1) 의 토출 속도의 당해 접선 방향의 속도 성분은, 기판 (9) 의 회전에 의해 착액 위치 (P1) 상의 약액에 작용하는 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측 방향의 힘을 이겨내고 당해 약액이 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측으로 흐를 수 있는 크기를 갖는다. 약액 (L1) 의 토출 속도의 직경 방향의 속도 성분은, 착액 위치 (P1) 상의 약액 (L1) 에 작용하는 기판 (9) 의 회전에 의한 원심력을 이겨내고 당해 약액 (L1) 이 회전축 (a1) 측으로 흐를 수 있는 크기를 가지고 있다. 스텝 S20 에 있어서, 노즐 (51) 은, 바람직하게는, 착액 위치 (P1) 에 닿은 직후에 착액 위치 (P1) 로부터 회전축 (a1) 측으로 향하는 약액 (L1) 의 양이, 착액 위치 (P1) 에 닿은 직후에 착액 위치 (P1) 로부터 회전축 (a1) 과는 반대측으로 향하는 약액 (L1) 의 양보다 많아지도록, 약액 (L1) 을 토출한다. 스텝 S30 에 있어서 노즐 (52) 이 토출하는 약액 (L2) 의 토출 방향은, 당해 약액 (L2) 을 상방으로부터 회전축 (a1) 방향으로 보아, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P2) 를 통과하는 원의 착액 위치 (P2) 에 있어서의 접선 방향을 따라 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분을 갖는 토출 방향이다.
제어부 (130) 는, 약액 (L1, L2) 에 의한 처리의 소요 시간이 경과하는 것을 기다려, 처리부 (5) 의 밸브 개폐 기구에 개폐 밸브 (521, 522) 를 폐쇄하게 하여, 노즐 (51, 52) 에 의한 약액 (L1, L2) 의 토출을 정지시키고 (스텝 S40), 그 후, 회전 기구 (231) 에 스핀 척 (21) 의 회전을 정지시켜 기판 (9) 의 회전을 정지시킨다 (스텝 S50). 도 11 에 나타나는 기판 처리 장치 (1) 의 처리 동작이 종료된다.
이상과 같이 구성된 본 실시형태에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 노즐 (51) 이 약액 (L1) 을 토출할 때의 토출 방향 (u1) 은, 노즐 (51) 의 상방으로부터 기판 (9) 의 회전축 (a1) 방향으로 보아, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P1) 를 통과하는 원의 착액 위치 (P1) 에 있어서의 접선의 방향을 따라 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측으로 향하는 성분 (u2) 과, 당해 접선과 직교하는 기판 (9) 의 직경 방향을 따라 착액 위치 (P1) 로부터 회전축 (a1) 으로 향하는 성분 (u3) 을 갖는 방향이다. 노즐 (51) 이 약액 (L1) 을 토출할 때의 토출 속도의 접선 방향의 속도 성분은, 기판 (9) 의 회전에 의해 착액 위치 (P1) 상의 약액 (L1) 에 작용하는 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측 방향의 힘을 이겨내고 약액 (L1) 이 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측으로 흐를 수 있는 크기를 갖는다. 당해 토출 속도의 당해 직경 방향의 속도 성분은, 착액 위치 (P1) 상의 약액 (L1) 에 작용하는 기판 (9) 의 회전에 의한 원심력을 이겨내고 당해 약액 (L1) 이 회전축 (a1) 측으로 흐를 수 있는 크기를 갖는다. 이 때문에, 제 1 노즐로부터 토출된 약액 (L1) 의 적어도 일부는, 착액 위치 (P1) 에 닿은 직후에, 약액 (L1) 에 작용하는 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측 방향의 힘을 이겨내고, 착액 위치 (P1) 로부터, 일단, 기판 (9) 의 중심측으로 방향을 바꾸면서, 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측으로 향한 후, 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 방향을 바꾸면서 기판 (9) 의 중심 (c1) 으로 향하는 호상의 경로를 따라, 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 중심 (c1) 에 이른다. 그리고, 당해 약액 (L1) 은, 기판 (9) 의 중심을 넘어가면, 원심력의 영향에 의해 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 방향을 바꾸면서 기판 (9) 의 둘레 가장자리로 향하는 호상의 경로를 따라, 확산되면서 흘러간다. 노즐 (52) 이 약액 (L2) 을 토출할 때의 토출 방향 (v1) 은, 노즐 (52) 의 상방으로부터 기판 (9) 의 회전축 (a1) 방향으로 보아, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P2) 를 통과하는 원의 착액 위치 (P2) 에 있어서의 접선의 방향을 따라 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분 (v2) 을 갖는 방향이다. 이 때문에, 약액 (L2) 은, 착액 위치 (P2) 에 닿은 직후부터 원심력의 영향을 강하게 받아, 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 방향을 바꾸면서 기판 (9) 의 둘레 가장자리로 향하는 호상의 경로를 따라, 액막상으로 확산되면서 흘러간다. 따라서, 노즐 (51) 로부터 토출된 약액 (L1) 의 일부는, 착액 위치 (P1) 로부터 액막상으로 확산되면서, 기판 (9) 의 중앙 부분을 통과하여 기판 (9) 의 둘레 가장자리에 도달하고, 노즐 (52) 로부터 토출된 약액 (L2) 의 일부는, 착액 위치 (P2) 로부터 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 주변역 (K3) 을 기판 (9) 의 회전 방향 하류측으로 흐르면서 기판 (9) 의 둘레 가장자리부에 도달한다. 이 때문에, 노즐 (51, 52) 로부터 토출된 약액 (L1, L2) 은, 전체적으로 기판 (9) 의 표면 전체에 공급된다. 또, 기판 (9) 의 회전에 의해, 기판 (9) 의 중심측으로부터 둘레 가장자리측을 향하여 기판 (9) 의 열 손실이 급격하게 증가하지만, 제 2 노즐로부터 토출된 약액 (L2) 은, 주로 기판 (9) 의 주변역 (K3) 에 공급되기 때문에, 기판 (9) 의 주변역 (K3) 에 공급되는 약액 (L1, L2) 의 양을 늘릴 수 있다.
또, 본 실시형태에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 노즐 (51) 이 토출하는 약액 (L1) 의 착액 위치 (P1) 와, 노즐 (52) 이 토출하는 약액 (L2) 의 착액 위치 (P2) 는, 회전축 (a1) 으로부터 동일한 거리이다. 따라서, 쌍방의 노즐로부터 각각 토출된 약액 (L1, L2) 을 기판 (9) 의 표면 전체에 공급하는 것이 보다 용이해진다.
또, 본 실시형태에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 노즐 (51) 이 토출하는 약액 (L1) 의 착액 위치 (P1) 와, 노즐 (52) 이 토출하는 약액 (L2) 의 착액 위치 (P2) 는, 기판 (9) 의 직경을 이루는 동일 직선 상에, 회전축 (a1) 을 서로의 사이에 두고 각각 위치한다. 따라서, 예를 들어, 쌍방의 노즐이 토출하는 약액 (L1, L2) 이, 기판 (9) 의 상방으로부터 보아, 서로 평행하고, 또한 동일한 방향으로 토출된 경우에는, 노즐 (52) 이 토출한 약액 (L2) 의 토출 방향 (v1) 을, 기판 (9) 의 상방으로부터 보아, 기판 (9) 의 중심측으로 향하는 성분을 갖지 않는 방향으로 할 수 있다. 따라서, 노즐 (52) 로부터 기판 (9) 의 주변역 (K3) 에 약액 (L2) 을 효율적으로 공급할 수 있다.
또, 본 실시형태에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 노즐 (52) 이 토출하는 약액 (L2) 의 착액 위치 (P2) 는, 노즐 (51) 이 토출한 약액 (L1) 이 착액 위치 (P1) 로부터 주위로 확산되어 기판 (9) 상에 형성하고 있는 액막 위에 위치한다. 이로써, 착액 위치 (P2) 가, 기판 (9) 상에 있어서 노즐 (51) 로부터 토출된 약액 (L1) 이 형성하는 액막 이외의 부분에 위치하는 경우에 비해, 노즐 (52) 로부터 토출된 약액 (L2) 의 액 튕김을 저감시킬 수 있다.
또, 본 실시형태에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 노즐 (51) 은, 착액 위치 (P1) 에 닿은 직후에 착액 위치 (P1) 로부터 회전축 (a1) 측으로 향하는 약액 (L1) 의 양이, 착액 위치 (P1) 에 닿은 직후에 착액 위치 (P1) 로부터 회전축 (a1) 과는 반대측으로 향하는 약액 (L1) 의 양보다 많아지도록, 약액 (L1) 을 토출하고, 노즐 (52) 이 약액 (L2) 을 토출할 때의 토출 방향 (v1) 은, 노즐 (52) 의 상방으로부터 기판 (9) 의 회전축 (a1) 방향으로 보아, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P2) 를 통과하는 원의 착액 위치 (P2) 에 있어서의 접선의 방향을 따라 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분 (v2) 을 갖는 방향이다. 따라서, 노즐 (51) 로부터 토출된 약액 (L1) 이, 착액 위치 (P1) 로부터 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 중심을 향하여 흐르고, 또한 기판 (9) 의 중심에 대해 착액 위치 (P1) 와는 반대측 기판 (9) 의 둘레 가장자리에 도달하는 것이 용이해진다. 이로써, 제 1 착액 위치에는 다량의 약액이 공급되고, 기판의 중앙 부분의 각 위치에는 제 1 착액 위치보다 소량의 약액이 공급된다. 기판의 각 지점의 둘레 방향에 대한 회전 속도는, 회전축으로부터 기판의 둘레 가장자리를 향하여 증가한다. 또, 기판의 각 위치에 공급된 약액은, 각 위치의 둘레 방향에 대한 회전 속도가 증가함에 따라 둘레 방향으로 길게 늘어져 막두께가 감소한다. 따라서, 제 1 착액 위치에는 기판의 중앙역보다 다량의 약액이 공급되지만, 그 막두께는 기판의 중앙역보다 얇아지기 쉬운 한편, 기판의 중앙역에는 제 1 착액 위치보다 소량의 약액이 공급되지만, 그 막두께는 제 1 착액 위치에 비해 잘 얇아지지 않는다. 이 때문에, 기판 표면 중 제 1 착액 위치보다 기판의 중심측 부분에 있어서의 약액의 막두께의 균일성을, 제 1 노즐에 의해 향상시킬 수 있다. 또, 노즐 (52) 로부터 토출된 약액 (L2) 의 일부는, 착액 위치 (P2) 로부터 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 주변역 (K3) 을 기판 (9) 의 회전 방향 하류측으로 흐르면서 기판 (9) 의 둘레 가장자리부에 도달한다. 따라서, 제 1 노즐과 제 2 노즐에 의해 기판의 표면 전체에 약액을 공급하면서, 제 1 착액 위치보다 회전축측 부분, 즉 기판의 중앙역과, 기판의 중간역 중 제 1 착액 위치보다 회전축측 부분에 공급되는 약액의 막두께의 균일성을 제 1 노즐에 의해 향상시킬 수 있다. 또, 기판 (9) 의 회전에 의해, 기판 (9) 의 중심측으로부터 둘레 가장자리측을 향하여 기판 (9) 의 열 손실이 급격하게 증가하지만, 제 2 노즐로부터 토출된 약액 (L2) 은, 주로 기판 (9) 의 주변역 (K3) 에 공급되기 때문에, 기판 (9) 의 주변역 (K3) 에 공급되는 약액 (L1, L2) 을, 기판 (9) 의 중앙부에 공급되는 약액 (L1) 에 비해 늘릴 수 있다. 따라서, 기판 (9) 의 표면의 온도 분포의 균일성을 개선할 수 있다.
또, 본 실시형태에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 노즐 (52) 이 토출하는 약액 (L2) 의 유량이, 노즐 (51) 이 토출하는 약액 (L1) 의 유량보다 많기 때문에, 기판 (9) 의 주변역 (K3) 에 대해, 노즐 (52) 로부터 보다 많은 약액 (L2) 을 공급할 수 있다.
또, 본 실시형태에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 노즐 (52) 이 약액 (L2) 을 토출할 때의 토출 방향 (v1) 은, 노즐 (52) 의 상방으로부터 기판 (9) 의 회전축 (a1) 방향으로 보아, 회전축 (a1) 을 중심으로 하여 착액 위치 (P2) 를 통과하는 원의 착액 위치 (P2) 에 있어서의 접선의 방향을 따라 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분 (v2) 과, 접선과 직교하는 기판 (9) 의 직경 방향을 따라 착액 위치 (P2) 로부터 회전축 (a1) 과는 반대측으로 향하는 성분 (v3) 을 갖는 방향이다. 따라서, 노즐 (52) 로부터 기판 (9) 의 주변역 (K3) 에 대해 효율적으로 약액 (L2) 을 공급할 수 있다.
또, 본 실시형태에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 노즐 (51, 52) 이 약액 (L1, L2) 을 토출할 때의 각 토출 방향 (u1, u2) 은, 노즐 (51, 52) 에 대해 회전축 (a1) 과는 반대측의 각 위치로부터 기판 (9) 의 직경 방향으로 보아, 기판 (9) 의 상방으로부터 기울어진 하향으로 향하는 방향이다. 노즐 (51, 52) 은, 착액 위치 (P1, P2) 를 향하여, 보다 정확하게 약액 (L1, L2) 을 토출할 수 있다.
또, 이상과 같은 본 실시형태에 관련된 기판 처리 방법에 의하면, 약액 (L1) 의 적어도 일부는, 착액 위치 (P1) 에 닿은 직후에, 당해 약액 (L1) 에 작용하는 기판 (9) 의 회전 방향의 하류측 방향의 힘과 원심력의 쌍방의 힘을 이겨내고, 착액 위치 (P1) 로부터 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 회전 방향의 상류측, 또한, 회전축 (a1) 측으로 흐르고, 그 후, 기판 (9) 의 중앙역을 통과하여 기판 (9) 의 둘레 가장자리에 도달한다. 이로써, 착액 위치 (P1) 에는 다량의 약액 (L1) 이 공급되고, 기판 (9) 의 중앙 부분의 각 위치에는 착액 위치 (P1) 보다 소량의 약액 (L1) 이 공급된다. 착액 위치 (P1) 에는 기판 (9) 의 중앙역보다 다량의 약액 (L1) 이 공급되지만, 그 막두께는 기판 (9) 의 중앙역보다 얇아지기 쉬운 한편, 기판 (9) 의 중앙역에는 착액 위치 (P1) 보다 소량의 약액 (L1) 이 공급되지만, 그 막두께는 착액 위치 (P1) 에 비해 잘 얇아지지 않는다. 이 때문에, 기판 (9) 표면 중 착액 위치 (P1) 보다 기판 (9) 의 중심 (c1) 측 부분에 있어서의 약액의 막두께의 균일성을, 착액 위치 (P1) 에 대한 약액 (L1) 의 토출에 의해 향상시킬 수 있다. 또, 착액 위치 (P2) 에 토출된 약액 (L2) 의 대부분은, 착액 위치 (P2) 로부터 액막상으로 확산되면서 기판 (9) 의 주변역을 기판 (9) 의 회전 방향 하류측으로 흐르면서 기판 (9) 의 둘레 가장자리부에 도달한다. 따라서, 기판 (9) 의 표면 전체에 약액 (L1, L2) 을 공급하면서, 착액 위치 (P1) 보다 회전축 (a1) 측 부분, 즉 기판 (9) 의 중앙역과, 기판 (9) 의 중간역 중 착액 위치 (P1) 보다 회전축 (a1) 측 부분에 공급되는 약액 (L1) 의 막두께의 균일성을 향상시킬 수 있다.
본 발명은 상세하게 나타내어지고 기술되었지만, 상기의 기술은 모든 양태에 있어서 예시로서 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명은, 그 발명의 범위 내에 있어서, 실시형태를 적절히, 변형, 생략하는 것이 가능하다.
1 : 기판 처리 장치
9 : 기판
21 : 스핀 척
231 : 회전 기구
K1 : 중앙역
K2 : 중간역
K3 : 주변역
P1 : 착액 위치 (제 1 착액 위치)
P2 : 착액 위치 (제 2 착액 위치)
L1, L2 : 약액
51 : 노즐 (제 1 노즐)
52 : 노즐 (제 2 노즐)
u1, v1 : 토출 방향
u2, u3, v2, v3 : 성분
a1 : 회전축
c1 : 중심
9 : 기판
21 : 스핀 척
231 : 회전 기구
K1 : 중앙역
K2 : 중간역
K3 : 주변역
P1 : 착액 위치 (제 1 착액 위치)
P2 : 착액 위치 (제 2 착액 위치)
L1, L2 : 약액
51 : 노즐 (제 1 노즐)
52 : 노즐 (제 2 노즐)
u1, v1 : 토출 방향
u2, u3, v2, v3 : 성분
a1 : 회전축
c1 : 중심
Claims (18)
- 기판을 대략 수평 자세로 유지하면서 회전 가능한 유지 부재와,
상기 유지 부재를, 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 기구와,
상기 기판의 회전 궤적 중 중앙역과 주변역 사이의 중간역에 있어서의 제 1 착액 위치에 닿도록 상기 기판보다 상방으로부터 약액을 토출하는 제 1 노즐과,
상기 중간역에 있어서의 제 2 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 상기 약액을 토출하는 제 2 노즐을 구비하고,
상기 제 1 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 상기 제 1 노즐의 상방으로부터 상기 기판의 상기 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 1 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 1 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 상류측으로 향하는 성분과, 당해 접선과 직교하는 상기 기판의 직경 방향을 따라 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축으로 향하는 성분을 갖는 방향이고,
상기 제 1 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 토출 속도의 상기 접선 방향의 속도 성분은, 상기 기판의 회전에 의해 상기 제 1 착액 위치 상의 상기 약액에 작용하는 상기 기판의 회전 방향의 하류측 방향의 힘을 이겨내고 당해 약액이 상기 기판의 회전 방향의 상류측으로 흐를 수 있는 크기를 갖고,
상기 토출 속도의 상기 직경 방향의 속도 성분은, 상기 제 1 착액 위치 상의 상기 약액에 작용하는 상기 기판의 회전에 의한 원심력을 이겨내고 당해 약액이 상기 회전축측으로 흐를 수 있는 크기를 갖고,
상기 제 2 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 상기 제 2 노즐의 상방으로부터 상기 기판의 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분을 갖는 방향인, 기판 처리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 제 2 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 회전축으로부터 동일한 거리인, 기판 처리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 기판의 둘레 가장자리 중 상기 제 1 착액 위치에 가장 가까운 점의 중점에 의해 주목 중점을 정의했을 때,
상기 제 2 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 제 1 착액 위치보다 상기 회전축으로부터 멀고, 상기 주목 중점보다 상기 회전축에 가까운, 기판 처리 장치. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 제 2 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 기판의 직경을 이루는 동일 직선 상에, 상기 회전축을 서로의 사이에 두고 각각 위치하는 기판 처리 장치. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 노즐이 토출하는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 제 1 노즐이 토출한 상기 약액이 상기 제 1 착액 위치로부터 주위로 확산되어 상기 기판 상에 형성되어 있는 액막 위에 위치하는, 기판 처리 장치. - 기판을 대략 수평 자세로 유지하면서 회전 가능한 유지 부재와,
상기 유지 부재를, 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 기구와,
상기 기판의 회전 궤적 중 중앙역과 주변역 사이의 중간역에 있어서의 제 1 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 약액을 토출하는 제 1 노즐과,
상기 중간역에 있어서의 제 2 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 상기 약액을 토출하는 제 2 노즐을 구비하고,
상기 제 1 노즐은, 상기 제 1 착액 위치에 닿은 직후에 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축측으로 향하는 상기 약액의 양이, 상기 제 1 착액 위치에 닿은 직후에 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축과는 반대측으로 향하는 상기 약액의 양보다 많아지도록, 상기 약액을 토출하고,
상기 제 2 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 상기 제 2 노즐의 상방으로부터 상기 기판의 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분을 갖는 방향인, 기판 처리 장치. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 노즐이 토출하는 상기 약액의 유량이, 상기 제 1 노즐이 토출하는 상기 약액의 유량보다 많은, 기판 처리 장치. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 토출 방향은, 상기 제 2 노즐의 상방으로부터 상기 기판의 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분과, 당해 접선과 직교하는 상기 기판의 직경 방향을 따라 상기 제 2 착액 위치로부터 상기 회전축과는 반대측으로 향하는 성분을 갖는 방향인, 기판 처리 장치. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 노즐과 상기 제 2 노즐의 각 노즐이 상기 약액을 토출할 때의 각 토출 방향은, 상기 각 노즐에 대해 상기 회전축과는 반대측의 각 위치로부터 상기 기판의 직경 방향으로 보아, 상기 기판의 상방으로부터 기울어진 하향으로 향하는 방향인, 기판 처리 장치. - 기판을 대략 수평 자세로 유지하면서 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 스텝과,
상기 회전 스텝과 병행하여, 상기 기판의 회전 궤적 중 중앙역과 주변역 사이의 중간역에 있어서의 제 1 착액 위치에 닿도록 상기 기판보다 상방으로부터 약액을 토출하는 제 1 토출 스텝과,
상기 회전 스텝 및 상기 제 1 토출 스텝과 병행하여, 상기 중간역에 있어서의 제 2 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 상기 약액을 토출하는 제 2 토출 스텝을 구비하고,
상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 토출 방향은, 당해 약액을 상방으로부터 상기 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 1 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 1 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 상류측으로 향하는 성분과, 상기 접선과 직교하는 상기 기판의 직경 방향을 따라 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축으로 향하는 성분을 갖는 방향이고,
상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 토출 속도의 상기 접선 방향의 속도 성분은, 상기 기판의 회전에 의해 상기 제 1 착액 위치 상의 상기 약액에 작용하는 상기 기판의 회전 방향의 하류측 방향의 힘을 이겨내고 당해 약액이 상기 기판의 회전 방향의 상류측으로 흐를 수 있는 크기를 갖고,
상기 토출 속도의 상기 직경 방향의 속도 성분은, 상기 제 1 착액 위치 상의 상기 약액에 작용하는 상기 기판의 회전에 의한 원심력을 이겨내고 당해 약액이 상기 회전축측으로 흐를 수 있는 크기를 갖고,
상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 토출 방향은, 당해 약액을 상방으로부터 상기 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분을 갖는 토출 방향으로 상기 약액을 토출하는 스텝인, 기판 처리 방법. - 제 10 항에 있어서,
상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 회전축으로부터 동일한 거리인, 기판 처리 방법. - 제 10 항에 있어서,
상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 기판의 둘레 가장자리 중 상기 제 1 착액 위치에 가장 가까운 점의 중점에 의해 주목 중점을 정의했을 때,
상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 제 1 착액 위치보다 상기 회전축으로부터 멀고, 상기 주목 중점보다 상기 회전축에 가까운, 기판 처리 방법. - 제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 1 착액 위치와, 상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 기판의 직경을 이루는 동일 직선 상에, 상기 회전축을 서로의 사이에 두고 각각 위치하는, 기판 처리 방법. - 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 상기 제 2 착액 위치는, 상기 제 1 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액이 상기 제 1 착액 위치로부터 주위로 확산되어 상기 기판 상에 형성되어 있는 액막 위에 위치하는, 기판 처리 방법. - 기판을 대략 수평 자세로 유지하면서 회전축을 중심으로 회전시키는 회전 스텝과,
상기 회전 스텝과 병행하여, 상기 기판의 회전 궤적 중 중앙역과 주변역 사이의 중간역에 있어서의 제 1 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 약액을 토출하는 제 1 토출 스텝과,
상기 회전 스텝 및 상기 제 1 토출 스텝과 병행하여, 상기 중간역에 있어서의 제 2 착액 위치에 닿도록 기판보다 상방으로부터 상기 약액을 토출하는 제 2 토출 스텝을 구비하고,
상기 제 1 토출 스텝은, 상기 제 1 착액 위치에 닿은 직후에 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축측으로 향하는 상기 약액의 양이, 상기 제 1 착액 위치에 닿은 직후에 상기 제 1 착액 위치로부터 상기 회전축과는 반대측으로 향하는 상기 약액의 양보다 많아지도록, 상기 약액을 토출하는 스텝이고,
상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 토출 방향은, 당해 약액을 상방으로부터 상기 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분을 갖는 방향인, 기판 처리 방법. - 제 10 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 유량이, 상기 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 유량보다 많은, 기판 처리 방법. - 제 10 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 2 토출 스텝에 있어서 토출되는 상기 약액의 토출 방향은, 당해 약액을 상방으로부터 상기 회전축 방향으로 보아, 상기 회전축을 중심으로 하여 상기 제 2 착액 위치를 통과하는 원의 상기 제 2 착액 위치에 있어서의 접선 방향을 따라 상기 기판의 회전 방향의 하류측으로 향하는 성분과, 당해 접선과 직교하는 상기 기판의 직경 방향을 따라 상기 제 2 착액 위치로부터 상기 회전축과는 반대측으로 향하는 성분을 갖는 방향인, 기판 처리 방법. - 제 10 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 토출 스텝과 상기 제 2 토출 스텝의 각 토출 스텝에 있어서 상기 약액이 토출될 때의 각 토출 방향은, 상기 각 토출 스텝에 있어서 토출되고 있는 각 약액에 대해 상기 회전축과는 반대측으로부터 상기 기판의 직경 방향으로 상기 각 약액을 보아, 상기 기판의 상방으로부터 기울어진 하향으로 향하는 방향인, 기판 처리 방법.
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