KR20190073804A

KR20190073804A - 도금장치

Info

Publication number: KR20190073804A
Application number: KR1020170174967A
Authority: KR
Inventors: 장태인; 이원호
Original assignee: 주식회사 포스코
Priority date: 2017-12-19
Filing date: 2017-12-19
Publication date: 2019-06-27
Also published as: KR102010064B1

Abstract

본 발명은 도금액이 저장되는 도금조; 상기 도금조에 일측이 제공되고, 이동하는 도금액에 기포를 발생시키는 제1 기포발생수단이 연계되어 설치된 인출라인; 상기 인출라인의 타측에 제공되고 상기 도금조에서 이동된 도금액에서 이물질이 제거되는 제거조; 및, 이물질이 제거된 도금액을 상기 제거조에서 상기 도금조로 이동시키는 리턴라인;을 포함하는 도금장치를 제공한다.

Description

도금장치{PLATING APPARATUS}

본 발명은 지속적인 조업이 가능한 도금장치에 관한 것이다.

이 부분에 기술된 내용은 단순히 본 발명에 대한 배경 정보를 제공할 뿐 종래기술을 구성하는 것은 아님을 밝혀둔다.

도금공정은 용융금속이 수용된 도금조에 침적된 후 강판이 싱크롤을 매개로 수직방향으로 이동하면서 강판에 용융금속이 부착되면서 강판의 도금이 이루어질 수 있다.

특히, 근래에 들어 이와 같은 도금강판은 전자제품이나 자동차용 강판으로 사용되면서 보다 고품질의 도금 강판 제조에 대한 기술개발이 집중되고 있는 실정이다.

하지만, 종래의 기술의 경우에는, 도금액 상부에 떠다니는 드로스를 사람이 직접 제거하거나, 드로스를 제거할 수 있는 삽형태의 제거수단이 달린 로봇을 이용하여 도금액내부를 저어주어 제거하는 방식을 사용하였다.

하지만, 이러한 종래기술만으로는 도금액 내의 드로스를 원활하게 제거할 수 없고 오히려 생산중에 저어준 드로스들이 강판에 붙어 드로스 결함이 발생하는 문제점이 있었다.

자동차의 외판재 조건이 되기 위해서는 드로스 결함이 일정한 수치 이하로 제어되어야 한다.

따라서, 부가가치가 높은 외판재를 지속적으로 생산하기 위해서는 보다 안정적이고 청정화된 도금조를 지속적으로 사용할 수 있어야 한다.

따라서, 본 발명은 도금조 내부의 도금액이 청정상태를 유지할 수 있는 도금장치의 개발이 절실한 실정이다.

KR 10-2002-0037542 A

본 발명은 일 측면으로서, 도금조 내부의 도금액이 청정상태를 유지할 수 있는 도금장치를 제공하고자 한다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 일 측면으로서, 본 발명은 도금액이 저장되는 도금조; 상기 도금조에 일측이 제공되고, 이동하는 도금액에 기포를 발생시키는 제1 기포발생수단이 연계되어 설치된 인출라인; 상기 인출라인의 타측에 제공되고 상기 도금조에서 이동된 도금액에서 이물질이 제거되는 제거조; 및, 이물질이 제거된 도금액을 상기 제거조에서 상기 도금조로 이동시키는 리턴라인;을 포함하는 도금장치를 제공한다.

바람직하게, 제1 기포발생수단은, 상기 인출라인의 내부를 이동하는 도금액에 불활성가스를 분사하여 이물질을 흡착시킬 수 있다.

바람직하게, 제1 기포발생수단은, 상기 인출라인의 내부에 형성된 오리피스부를 통과하면서 부압이 형성된 도금액에 불활성가스를 분사하여 미세기포를 발생시킬 수 있다.

바람직하게, 제1 기포발생수단은, 상기 인출라인을 따라 소정의 길이로 형성되고, 방사상으로 배치되는 가스유입관; 및, 상기 가스유입관에 복수 개가 이격하여 형성되고, 상기 인출라인을 관통하여 내부의 도금액에 불활성가스를 분사하는 가스노즐;을 구비할 수 있다.

바람직하게, 인출라인을 냉각시켜 이물질의 성장을 유도하는 냉각수단;을 더 포함할 수 있다.

바람직하게, 냉각수단은, 상기 제1 기포발생수단을 둘러싸도록 설치되고, 냉각용 공기가 유동하는 공냉후드로 구비될 수 있다.

바람직하게, 리턴라인에 설치되고, 도금액을 설정된 온도로 가열하는 가열수단;을 더 포함할 수 있다.

바람직하게, 제거조의 도금액에 침지되고, 기포를 발생시켜 도금액 내부의 이물질을 흡착하여 부상시키는 제2 기포발생수단;를 더 포함하는 도금장치.

바람직하게, 제2 기포발생수단은, 상기 제거조의 바닥면 부근에 설치되어 불활성가스를 배출하는 다공성챔버로 구비될 수 있다.

바람직하게, 제2 기포발생수단은, 상기 제거조의 바닥면 부근에 설치되고, 내부가 중공된 평판형의 챔버부재; 및, 상기 챔버부재의 상면에서 이격하여 복수 개가 배치되고, 챔버부재의 상면에서 소정의 길이로 연장 형성되는 제트노즐;을 구비할 수 있다.

바람직하게, 제2 기포발생수단은, 상기 제거조의 도금액에 침지되고, 상기 인출라인의 배출구와 상기 리턴라인의 흡입구의 사이에 배치되고, 상기 제2 기포발생수단과 상기 리턴라인의 흡입구 사이에는 도금액의 유동을 차단하는 격벽부재가 설치될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 도금조 내부의 도금액이 청정상태를 유지할 수 있어 안정적으로 도금작업을 수행할 수 있는 효과가 있다.

도 1은 본 발명의 도금장치의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 도금장치의 인출라인에서 제1 기포발생수단에 의해 이물질을 흡착시키는 과정을 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 도금장치의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 도금장치의 평면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 도금장치의 평면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 도금장치가 조절제어수단에 의한 제어상태를 도시한 도면이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 도금장치에 관하여 구체적으로 설명하기로 한다.

도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 도금장치는 도금조(100), 제거조(300), 제1 기포발생수단(210)을 포함하고, 추가적으로 냉각수단(500) 및, 가열수단(600)을 포함할 수 있다.

도 1 및, 도 3을 참조하면, 본 발명의 도금장치는 도금액(F)이 저장되는 도금조(100)와, 상기 도금조(100)에 일측이 제공되고, 이동하는 도금액(F)에 기포(C)를 발생시키는 제1 기포발생수단(210)이 연계되어 설치된 인출라인(200)과, 상기 인출라인(200)의 타측에 제공되고 상기 도금조(100)에서 이동된 도금액(F)에서 이물질(D)이 제거되는 제거조(300) 및, 이물질(D)이 제거된 도금액(F)을 상기 제거조(300)에서 상기 도금조(100)로 이동시키는 리턴라인(400)을 포함할 수 있다.

도 1 및, 도 3을 참조하면, 도금조(100)에는 도금을 위한 금속용액인 도금액(F)이 수용될 수 있다.

도금조(100)에는 예컨대 Zn-Al-Mg 조성계를 갖는 용융금속이 수용될 수 있다. 강판(S)은 이러한 도금조(100)의 용융금속에 침적한 후, 싱크롤(R)에 접하면서 수직방향으로 이동한다.

도금조(100)를 빠져나올 때, 강판(S)의 표면에는 융융금속이 부착될 수 있다.

제거조(300)에는 도금조(100)에서 이동된 도금액(F)에서 이물질(D)이 제거되는 부분이다.

여기서, 도금액(F)에서 제거되는 이물질(D)은 드로스일 수 있다.

드로스는 도금과정에서 강판(S)이 도금액(F)에 의해 용해되어 철이 용출되고 용출된 철과 도금액(F)의 성분이 반응하여 형성될 수 있다.

도 1을 참조하면, 제거조(300)에는 도금액(F)의 탕면으로 기포(C)에 흡착되어 부상하는 이물질(D)을 제거하는 이물질제거수단이 설치될 수 있다.

제거조(300)의 내벽 안에는 열선(350)이 배치되어, 제1 기포발생수단(210), 냉각수단(500) 등을 거치면서 온도가 낮아진 도금액(F)을 승온시켜 도금액(F)이 응고되는 것을 방지할 수 있다.

도 3을 참조하면, 도금조(100)와 제거조(300)의 사이에는 인출라인(200)과 리턴라인(400)이 형성될 수 있다.

인출라인(200)은 도금조(100)에서 제거조(300)로 도금액(F)이 이동하는 경로이고, 리턴라인(400)은 이물질(D)이 제거된 도금액(F)이 제거조(300)에서 도금조(100)로 이동하는 경로이다.

인출라인(200)과 리턴라인(400)에는 각각 펌프(P)가 설치되어 도금액(F)을 이동시킬 수 있다.

인출라인(200)의 흡입구는 도금조(100)에 침지되고, 인출라인(200)은 배출구는 청정조에 침지될 수 있다.

리턴라인(400)의 흡입구는 제거조(300)에 침지되고, 리턴라인(400)의 배출구는 도금조(100)에 침지될 수 있다.

도 3을 참조하면, 인출라인(200)에는 제1 기포발생수단(210)이 설치될 수 있다.

도 2 및, 도 3을 참조하면, 제1 기포발생수단(210)은, 상기 인출라인(200)의 내부를 이동하는 도금액(F)에 불활성가스를 분사하여 이물질(D)을 흡착시킬 수 있다.

제1 기포발생수단(210)은, 상기 인출라인(200)의 둘레방향으로 방사상으로 이격하여 배치되고, 인출라인(200)의 내부로 질소가스 등의 불활성가스를 유입시킬 수 있다.

제1 기포발생수단(210)은 제1 기포발생수단(210)의 일측에 연결된 연결배관을 매개로 가스탱크(T1)에서 불활성가스를 공급받을 수 있다.

도 2를 참조하면, 제1 기포발생수단(210)에 의해 공급된 기포(C)에 도금액(F) 내의 이물질(D)이 흡착될 수 있다.

기포(C)에 부착된 이물질(D)은 인출라인(200)의 배출구를 통해 제거조(300)의 도금액(F)으로 배출될 수 있다.

도 2를 참조하면, 제1 기포발생수단(210)은, 상기 인출라인(200)의 내부에 형성된 오리피스부분(230)를 통과하면서 부압(음압)이 형성된 도금액(F)에 불활성가스를 분사하여 미세기포(C)를 발생시킬 수 있다.

오리피스부분(230)는 인출라인(200)의 내부에 형성되고, 인출라인(200)의 내경이 감소된 영역이다.

도금액(F)이 오리피스부분(230)를 통과시 도금액(F)에는 부압(음압)이 발생되고, 부압이 형성된 도금액(F)에 불활성가스를 공급하여 미세기포(C)를 발생시킬 수 있다.

일례로, 공급되는 불활성가스는 질소가스로 구성될 수 있다.

도금액(F)은 오리피스부분(230)를 통과하면서 부압이 형성된 도금액(F)에 제1 기포발생수단(210)이 미세한 직경의 노즐을 통해 불활성가스를 가스를 분사시 도금액(F) 내에 난류운동이 발생하면서 미세기포(C)가 발생될 수 있다.

이와 같이, 공급된 가스에 의해 미세기포(C)가 발생될 경우, 난류운동에 의해 발생된 미세기포(C)에 이물질(D)이 용이하게 흡착될 수 있다.

도금액(F) 내부의 이물질(D)이 미세기포(C)에 부착되면서 미세기포(C)와 함께 인출라인(200)을 따라 이동할 수 있고, 제거조(300)의 도금액(F)의 탕면으로 부상할 수 있다.

도 3을 참조하면, 제1 기포발생수단(210)은, 상기 인출라인(200)을 따라 소정의 길이로 형성되고, 방사상으로 배치되는 가스유입관(212) 및, 상기 가스유입관(212)에 복수 개가 이격하여 형성되고, 상기 인출라인(200)을 관통하여 내부의 도금액(F)에 불활성가스를 분사하는 가스노즐(213)을 구비할 수 있다.

가스유입관(212)은 인출라인(200)을 따라 연장 형성되면서 소정의 길이로 형성되고, 인출라인(200)의 둘레방향으로 방사상으로 이격하여 배치될 수 있다.

가스노즐(213)은 가스유입관(212)에서 인출라인(200) 방향으로 연장 형성되고, 인출라인(200)을 관통하여 내부의 도금액(F)에 질소가스 등의 불활성가스를 분사하여 기포(C)를 발생시킬 수 있다.

이때, 가스유입관(212)에는 복수 개의 가스노즐(213)이 길이방향으로 이격하여 형성될 수 있고, 각각의 가스노즐(213)은 인출라인(200)을 관통하여 인출라인(200) 내부의 도금액(F)에 가스를 분사할 수 있다.

도 3 및, 도 4를 참조하면, 인출라인(200)을 냉각시켜 이물질(D)의 성장을 유도하는 냉각수단(500)을 더 포함할 수 있다.

냉각수단(500)은 도금액(F)은 온도를 저하시켜 도금액(F) 내에서 드로스 등의 이물질(D)이 잘 뭉치도록 유도하여 이물질(D)이 성장하도록 유도할 수 있다.

도 6을 참조하면, 냉각수단(500)은 연결배관을 매개로 냉매탱크에 연결되고, 냉매탱크에서 공급된 냉각매체를 매개로 인출라인(200)을 냉각시킬 수 있다.

도 3 및, 도 4를 참조하면, 인출라인(200)는 냉각수단(500)과 제1 기포발생수단(210)이 함께 배치될 수 있다.

일례로, 냉각수단(500)이 제1 기포발생수단(210)을 둘러싸도록 설치될 수 있다.

다른 일례로, 냉각수단(500)은 인출라인(200)에 설치되되, 제1 기포발생수단(210)과 이격되어 순차적으로 배치될 수 있다.

도 3을 참조하면, 냉각수단(500)은, 상기 제1 기포발생수단(210)을 둘러싸도록 설치되고, 냉각용 공기가 유동하는 공냉후드로 구비될 수 있다.

도시되지는 않았으나, 냉각수단(500)은, 상기 인출라인(200)을 둘러싸도록 설치되고, 냉각수가 이동하는 워터자켓과, 인출라인(200)과, 워터자켓을 둘러싸도록 설치되어, 공기가 유동하는 공냉후드로 구비될 수 있다.

도 5를 참조하면, 인출라인(200)에는 도금조(100)에서 제거조(300) 방향으로 냉각수단(500)과 제1 기포발생수단(210)이 순차적으로 배치될 수 있다.

냉각수단(500)은 인출라인(200)에 배치되되, 제1 기포발생수단(210)에 도달하기 전에 냉각수단(500)에 의해 1차적으로 이물질(D)의 생성을 촉진시킨 상태에서, 제1 기포발생수단(210)에 의해 기포(C)에 이물질(D)을 흡착시켜 제거조(300)로 이동시킬 수 있다.

도 3 및,도 4를 참조하면, 상기 제거조(300)에서 상기 도금조(100)로 이동하는 도금액(F)의 리턴라인(400)에 설치되고, 도금액(F)을 설정된 온도로 가열하는 가열수단(600)을 더 포함할 수 있다.

인출라인(200)과 제거조(300)를 거치면서 이물질(D)이 제거된 도금액(F)이 리턴라인(400)을 따라 도금조(100)로 복귀과정에서 가열장치에 의해 설정된 온도로 승온될 수 있다.

가열수단(600)은 전원공급기(T3)에서 전력을 공급받아 가열수단(600)을 가열하여 리턴라인(400)을 승온시킬 수 있다.

이때, 가열수단(600) 및, 전원공급기(T3)는 조절제어수단(700)에 의해 온도 등이 조절될 수 있다.

가열수단(600)은 리턴라인(400)에 설치되는 인덕션히터로 구비될 수 있다.

이때, 인덕션히터는 리터라인에 이격하여 복수 개가 설치될 수 있고, 도금조(100)로 재유입되는 도금액(F)은 온도를 미세조정하기 위해 조절제어수단(700)에 의해 개별적으로 제어될 수 있다.

도 4 및, 도 5를 참조하면, 본 발명의 도금장치는 상기 제거조(300)의 도금액(F)에 침지되고, 기포(C)를 발생시켜 도금액(F) 내부의 이물질(D)을 흡착하여 부상시키는 제2 기포발생수단(310)을 더 포함할 수 있다.

제2 기포발생수단(310)은 제거조(300)의 바닥면 부근에 설치되어 도금액(F)으로 가스를 공급하여 기포(C)를 발생시키고, 도금액(F) 내에서 발생된 기포(C)가 이물질(D)을 흡착하여 기포(C)와 이물질(D)을 함께 도금액(F)의 탕면으로 부상시킬 수 있다.

도금장치는 제1 기포발생수단(210)과 제2 기포발생수단(310)을 동시에 포함할 수 있다.

구체적으로, 도금장치는 인출라인(200)의 내부를 이동하는 도금액(F)에 가스를 공급하여 이물질(D)을 흡착하는 제1 기포발생수단(210) 및, 제거조(300)의 도금액(F)에 침지되고, 기포(C)를 발생시켜 도금액(F) 내부의 이물질(D)을 흡착하여 부상시키는 제2 기포발생수단(310)을 포함할 수 있다.

제1 기포발생수단(210)과 제2 기포발생수단(310)에 의해 기포(C)와 함께 흡착되어 부상된 이물질(D)은 도금액(F)의 탕면에 부유하게 할 수 있고, 탕면을 부유하는 이물질(D)은 이물질제거수단에 의해 제거될 수 있다.

이때, 이물질제거수단은 부유하는 이물질(D)을 도금액(F)의 탕면에서 흡입관을 투입하여 흡입하여 제거하는 방식 및, 도금액(F)면에 흡입롤을 침지시켜 이물질(D)을 흡입하여 제거하는 방식 등 다양한 제거방식이 적용될 수 있음은 물론이다.

도 4를 참조하면, 제2 기포발생수단(310)은, 상기 제거조(300)의 바닥면 부근에 설치되어 불활성가스를 배출하는 다공성챔버(310-1)로 구비될 수 있다.

다공성챔버(310-1)는 제거조(300)의 도금액(F)의 바닥면 부근에 배치될 수 있다.

다공성챔버(310-1)는 내부가 중공된 평판형의 챔버부재(311)와, 챔버부재(311)의 상면에 일정한 간격으로 이격 형성된 배출공(313)을 구비할 수 있다.

가스탱크(T1)에서 챔버부재(311)로 공급된 불활성가스는 배출공(313)을 통해 배출되면서 기포(C)를 발생시켜 이물질(D)을 탕면으로 부상시킬 수 있다.

즉, 도금액(F)에 포함된 이물질(D)은 인출라인(200)의 배출구에서 리턴라인(400)의 흡입구 방향으로 이동하면서, 다공성챔버(310-1)에서 배출된 불활성가스에 의해 형성된 기포(C)와 함께 탕면으로 부상될 수 있다.

제거조(300)의 도금액(F) 탕면으로 부상된 이물질(D)은 이물질제거수단에 의해 흡입되어 제거될 수 있다.

도 5를 참조하면, 제2 기포발생수단(310)은, 상기 제거조(300)의 바닥면 부근에 설치되는 제트노즐챔버(310-2)로 구성될 수 있다.

제트노즐챔버(310-2)는 내부가 중공된 평판형의 챔버부재(311)와, 챔버부재(311)의 상면에서 이격하여 복수 개가 배치되고, 챔버부재(311)의 상면에서 소정의 길이로 연장 형성되는 제트노즐(315)을 구비할 수 있다.

제트노즐(315)은 상방으로 갈수록 불활성가스가 이동하는 유로가 작아지는 테이퍼형의 부재로 구성됨으로써, 다공성챔버(310-1)에 비해 상대적으로 강한 압력으로 불활성가스를 분사하여 도금액(F) 내에 보다 강한 난류를 형성하여 미세기포(C)를 형성할 수 있다.

도 5를 참조하면, 제2 기포발생수단(310)의 제거조(300)의 폭방향으로 설치되되, 제거조(300)의 일측 측벽에 근접하게 배치되고 제거조(300) 폭의 1/2 동등 이하의 폭을 가지도록 설치될 수 있다.

도 5에 점선으로 도시된 바와 같이, 제2 기포발생수단(310)은 제거조(300)의 폭방향으로 설치되되, 제거조(300)의 양측 측벽 사이에 제거조(300) 폭의 2/3 이상의 폭을 가지도록 설치될 수 있다.

도 4 및, 도 5를 참조하면, 제2 기포발생수단(310)은, 상기 제거조(300)의 도금액(F)에 침지되고, 상기 인출라인(200)의 배출구와 상기 리턴라인(400)의 흡입구의 사이에 배치되고, 상기 제2 기포발생수단(310)과 상기 리턴라인(400)의 흡입구 사이에는 도금액(F)의 유동을 차단하는 격벽부재(330)가 설치될 수 있다.

이와 같이, 제2 기포발생수단(310)과 상기 리턴라인(400)의 흡입구의 사이에 격벽부재(330)가 설치됨으로써, 제2 기포발생수단(310)에 의해 기포(C)와 함께 부상하는 이물질(D)이 리턴라인(400)의 흡입구로 유입되어 도금조(100)로 이물질(D)이 다시 유입되는 것을 최소화할 수 있다.

도 6을 참조하면, 제1 기포발생수단(210), 제2 기포발생수단(310), 가스탱크(T1), 냉각수단(500), 냉각탱크(T2), 가열수단(600) 및, 전원공급기(T3) 등을 제어하는 조절제어수단(700)을 더 포함할 수 있다.

구체적으로, 조절제어수단(700)은 가스탱크(T1)에서 공급되는 가스의 양을 조절하여 제1 기포발생수단(210), 제2 기포발생수단(310)에서의 기포(C)발생량을 조절할 수 있다.

그리고, 조절제어수단(700)은 냉각탱크(T2)에서 공급되는 냉각매체의 양을 조절하여 인출라인(200)의 냉각정도를 조절할 수 있다.

또한, 조절제어수단(700)은 전원공급기(T3)에서 가열수단(600)으로 공급되는 전류의 양을 조절하여 가열수단(600)은 가열정도를 조절할 수 있다.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당해 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.

100: 도금조 200: 인출라인
210: 제1 기포발생수단 212: 가스유입관
213: 가스노즐 230: 오리피스부분
300: 제거조 310: 제2 기포발생수단
310-1: 다공성챔버 310-2: 제트노즐챔버
311: 챔버부재 313: 배출공
315: 제트노즐 330: 격벽부재
350: 열선 400: 리턴라인
500: 냉각수단 600: 가열수단
700: 조절제어수단 C: 기포
D: 이물질 E: 이물질제거수단
F: 도금액 P: 펌프
R: 싱크롤 S: 강판
T1: 가스탱크 T2: 냉각탱크
T3: 전원공급기

Claims

도금액이 저장되는 도금조;
상기 도금조에 일측이 제공되고, 이동하는 도금액에 기포를 발생시키는 제1 기포발생수단이 연계되어 설치된 인출라인;
상기 인출라인의 타측에 제공되고 상기 도금조에서 이동된 도금액에서 이물질이 제거되는 제거조; 및,
이물질이 제거된 도금액을 상기 제거조에서 상기 도금조로 이동시키는 리턴라인;을 포함하는 도금장치.
제1항에 있어서, 상기 제1 기포발생수단은,
상기 인출라인의 내부를 이동하는 도금액에 불활성가스를 분사하여 이물질을 흡착시키는 도금장치.
제2항에 있어서, 상기 제1 기포발생수단은,
상기 인출라인의 내부에 형성된 오리피스부를 통과하면서 부압이 형성된 도금액에 불활성가스를 분사하여 미세기포를 발생시키는 것을 특징으로 하는 도금장치.
제2항에 있어서, 상기 제1 기포발생수단은,
상기 인출라인을 따라 소정의 길이로 형성되고, 방사상으로 배치되는 가스유입관; 및,
상기 가스유입관에 복수 개가 이격하여 형성되고, 상기 인출라인을 관통하여 내부의 도금액에 불활성가스를 분사하는 가스노즐;을 구비하는 도금장치.
제2항에 있어서,
상기 인출라인을 냉각시켜 이물질의 성장을 유도하는 냉각수단;을 더 포함하는 도금장치.
제2항에 있어서, 상기 냉각수단은,
상기 제1 기포발생수단을 둘러싸도록 설치되고, 냉각용 공기가 유동하는 공냉후드로 구비되는 도금장치.
제1항에 있어서,
상기 리턴라인에 설치되고, 도금액을 설정된 온도로 가열하는 가열수단;을 더 포함하는 도금장치.
제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제거조의 도금액에 침지되고, 기포를 발생시켜 도금액 내부의 이물질을 흡착하여 부상시키는 제2 기포발생수단;를 더 포함하는 도금장치.
제8항에 있어서, 상기 제2 기포발생수단은,
상기 제거조의 바닥면 부근에 설치되어 불활성가스를 배출하는 다공성챔버로 구비되는 도금장치.
제8항에 있어서, 상기 제2 기포발생수단은,
상기 제거조의 바닥면 부근에 설치되고, 내부가 중공된 평판형의 챔버부재; 및,
상기 챔버부재의 상면에서 이격하여 복수 개가 배치되고, 챔버부재의 상면에서 소정의 길이로 연장 형성되는 제트노즐;을 구비하는 도금장치.
제8항에 있어서, 상기 제2 기포발생수단은,
상기 제거조의 도금액에 침지되고, 상기 인출라인의 배출구와 상기 리턴라인의 흡입구의 사이에 배치되고,
상기 제2 기포발생수단과 상기 리턴라인의 흡입구 사이에는 도금액의 유동을 차단하는 격벽부재가 설치되는 도금장치.