KR20190060775A - 8 초과의 pH에서 분산성인 알루미나를 생산하는 방법 - Google Patents
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Abstract
알루미나 슬러리를 제공하고, 슬러리를 에이징시키고, 에이징된 알루미나 슬러리에 트리카복실산을 첨가하고, 추가로 슬러리를 에이징시키고, 분무 건조시킴을 포함하는 알루미나를 제조하는 방법으로서, 방법이 트리카복실산과 동시에, 또는 두 번째 에이징 후 및 분무 건조 전에 디카복실산을 첨가함을 특징으로 하는 방법이 기재된다. 생성된 알루미나는 95% 넘게 9.5 초과의 pH에서 분산성이며, 10 wt.% 졸의 경우 0.4 Pa.S 미만의 점도를 갖는다.
Description
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2016년 8월 29일자 출원된 미국 출원 제62/380,770호의 우선권을 주장하고, 이의 개시는 모든 목적상 본원에 참조로 포함된다.
본 발명은 8 초과의 pH에서 분산성인 알루미나를 제조하는 신규한 방법 및 고도 분산성 알루미나에 관한 것이다.
시트르산은 고도 분산성 알루미나의 분야에서 알루미나 옥사이드를 위한 효과적인 분산제로서 잘 알려져 있다. 일반적으로, 시트르산은 산성 pH(7 미만의 pH)에서 분산제로서 사용되지만, 염기성 pH에서 분산된 알루미나를 안정화시키기 위해 시트르산을 사용하는 상업적 제품이 존재한다. 시트르산은 효과적인 분산제이지만, 7 초과의 pH에서 이러한 시트르산 분산제가 적정한 중량 투입에서(예를 들어, 10 wt.%의 Al2O3에서) 매우 점성이 되는 경향을 갖는다는 것이 한계이다. 이는 다수 적용에서 이들의 사용을 제한한다. 이러한 점도 문제를 해결하기 위해서, 점도 개질제가 이러한 알루미나 분산물에 첨가된다. 이러한 점도 개질제의 첨가 시에 문제는 알루미나 분산물, 예를 들어, 폴리아크릴레이트에 대한 이들의 도입이 분산물뿐만 아니라 건조 및 하소 후 얻어진 생성물의 특성에 영향을 미칠 수 있다는 것이다.
본 발명자들은 이러한 문제에 대한 해결책을 찾았다.
발명
본 발명의 첫 번째 양태에 따르면,
i) 알루미나 슬러리를 제공하는 단계;
ii) 알루미나 슬러리를 에이징시켜, 38 내지 450Å(120 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 포함하는 에이징된 알루미나 슬러리를 형성시키는 단계;
iii) 에이징된 알루미나 슬러리에 트리카복실산을 첨가하여 산 개질된 슬러리를 형성시키는 단계;
iv) 75℃ 내지 125℃의 온도에서 산 개질된 슬러리를 에이징시켜 생성물 슬러리를 형성시키는 단계; 및
v) 생성물 슬러리를 분무 건조시키는 단계를 포함하는 알루미나를 제조하는 방법으로서,
방법이 트리카복실산으로의 공정 단계 iii)에서 디카복실산을 첨가하거나, 단계 iv) 후, 단계 v)의 분무 건조 전에, 생성물 슬러리에 디카복실산을 첨가함을 특징으로 하는 방법이 제공된다.
본 발명의 공정에 의해 생산된 알루미나는 8 초과, 바람직하게는 9 초과, 및 가장 바람직하게는 9.5 초과의 pH에서 분산성이다.
알루미나 슬러리는 알루미늄 옥시하이드록사이드, 알루미늄 옥사이드, 알루미늄 하이드록사이드, 또는 이들의 혼합물을 포함한다. 알루미나 슬러리는 바람직하게는 베마이트(Boehmite), 바이어라이트(Bayerite), 깁사이트(Gibbsite), 감마-알루미나, 전이 (델타-쎄타) 알루미나 및 이들의 혼합물을 포함한다. 더욱 바람직하게는, 알루미나 슬러리는 베마이트 및 감마-알루미나를 포함하고, 및 가장 바람직하게는 베마이트를 포함한다.
알루미나 슬러리는 다수의 방식으로 생산될 수 있다. 알루미나 슬러리는 물에서 알루미늄 알콕사이드의 가수분해를 거쳐, 최소의 물에서 알루미나 염의 침전을 통해, 또는 최소의 물에서 알루미늄 화합물의 현탁을 통해 생산될 수 있다. 물에서 알루미늄 알콕사이드(예를 들어, 베마이트)의 가수분해를 통해 제조된 알루미나 슬러리를 제공하는 것이 바람직하다. 생산 경로에 좌우하여, 알루미나 슬러리는 6 내지 10의 pH를 갖는다.
알루미나 슬러리는 30분 내지 8시간의 기간 동안 95 내지 220℃의 온도로 가열함으로써 에이징된다. 에이징 후, 알루미나 슬러리는 바람직하게는 40 내지 180 Å (120 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 포함하고, 더욱 바람직하게는 에이징된 알루미나 슬러리는 60 내지 140Å (120 면)의 미결정 크기, 및 가장 바람직하게는 80 내지 100 Å (120 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 포함한다.
트리카복실산은 용액으로서 또는 분말로서 첨가될 수 있다. 트리카복실산은 시트르산, 이소시트르산, 아코니트산, 트리카발릭산, 트리메스산 및 이들의 유도체를 포함하고, 바람직하게는 트리카복실산은 시트르산, 트리메스산, 및 아코니트산을 포함하고, 가장 바람직하게는 트리카복실산은 시트르산을 포함한다. 본 발명은 트리카복실산의 유도체, 특히 이의 나트륨 및 암모늄 염의 사용을 제공한다. 트리카복실산 염의 유도체는 소듐 시트레이트(모노, 디, 및 트리소듐 시트레이트) 및 암모늄 시트레이트(모노, 디, 및 트리암모늄 시트레이트)를 포함한다. 트리카복실산들의 혼합물이 또한 사용될 수 있다.
알루미나 슬러리에 대한 트리카복실산(단독의 또는 디카복실산과 함께)의 첨가는 pH를 1 내지 6의 pH로 감소시키고, 그에 따라서 알루미나 슬러리는 산 개질된 슬러리가 된다.
산 개질된 슬러리는 10 분 내지 1 시간의 기간 동안 에이징된다. 산 개질된 슬러리를 에이징시키기에 더욱 바람직한 온도 범위는 바람직하게는 85℃ 내지 115℃의 온도이고, 가장 바람직하게는 산 개질된 슬러리는 95℃ 내지 105℃에서 에이징된다.
디카복실산은 말론산, 석신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 말레산, 푸마르산, 글루타콘산, 무콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 및 이들의 혼합물을 포함한다. 바람직하게는, 디카복실산은 말론산, 시트라콘산, 메사콘산, 푸마르산, 말레산, 석신산 및 이들의 혼합물을 포함한다. 가장 바람직하게는, 디카복실산은 말론산을 포함한다.
단계 i)의 알루미나 슬러리 중의 알루미나의 비율은 1 내지 15 wt.%의 Al2O3, 및 바람직하게는 5 내지 10 wt.%의 Al2O3이다.
Al2O3 기준으로 본 발명의 공정의 단계 iii)에서 및/또는 단계 iv) 후에 첨가된 산(트리카복실산 및 디카복실산)의 총량은 디카복실산이 첨가되는 경우에 좌우하여 산 개질된 슬러리 또는 생성물 슬러리의 0.5 내지 15 wt.%, 바람직하게는 2 내지 11 wt.%, 및 가장 바람직하게는 4 내지 9 wt.%이다.
본 발명의 이점은, 초기 가공에서 둘 모두의 산이 첨가되고 알루미나와 반응될 수 있고, 그에 따라서 이것이 점도 개질제에 대한 필요성을 없앤다는 것이다.
트리카복실산의 존재에서 알루미나의 에이징은 시간 경과 따라 물질의 분산성 및 안정성을 증가시키므로 유리하다.
디카복실산은, 생성물 슬러리의 에이징 전, 또는 이의 에이징 후, 산을 예비혼합함으로써 트리카복실산과 동시에 또는 산의 순차적인 첨가에 의해 첨가될 수 있다. 둘 모두의 방법에 의해서 유사한 특성들을 갖는 물질이 생성된다. 디카복실산이 트리카복실산과 동시에 첨가되는 경우, 산을 예비혼합하는 것이 바람직하다.
본 발명의 두 번째 양태에 따르면, 90% 초과의 분산성 및 10 wt.% 졸(sol)의 경우 5 Pa.S 미만의 점도를 갖는 8 초과의 pH에서 고도 분산성인 알루미나가 제공된다.
바람직하게는, 8 초과의 pH에서 고도 분산성인 알루미나의 점도는 90% 초과의 분산성 및 10 wt.% 졸의 경우 1 Pa.S 미만의 점도를 갖는다.
바람직하게는, 고도 분산성 알루미나는 9.5 초과의 pH에서 95% 초과의 분산성 및 10 wt.% 졸의 경우 0.4 Pa.S 미만의 점도를 갖는다.
고도 분산성 알루미나의 점도는 실시예 섹션하에 기재된 방법에 따라 측정되었다.
전반적인 설명
본 발명의 첫 번째 양태에 따르면, 8 초과의 pH에서 분산성인, 더욱 바람직하게는 9 초과의 pH에서 분산성인, 및 가장 바람직하게는 9.5 초과의 pH에서 분산성인 알루미나를 제조하는 방법이 제공된다. 이러한 방법은 알루미나 슬러리, 예를 들어, 베마이트 슬러리(물에서 베마이트의 가수분해에 의해 제조됨)를 제공하고, 상기 슬러리를 95 내지 220℃의 온도에서 약 30분 내지 8시간의 기간 동안 열수 에이징시켜 요망되는 미결정 크기, 전형적으로 40 내지 180Å (120 면), 더욱 바람직하게는 60 내지 140Å (120 면)의 에이징된 알루미나 슬러리를 형성시킴을 포함하고, 가장 바람직하게는 에이징된 알루미나 슬러리는 80 내지 100Å (120 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 포함한다.
알루미나 슬러리는 6 내지 10의 pH를 가질 것이다.
미결정 크기는 x-선 회절(x-ray diffraction: XRD)에 의해 건조된 분말을 분석함으로써 결정된다. 120-면 피크 높이, 반치 전폭 최대 강도(full-width-at-half-maximum-intensity: FWHM), 및 각도는 XRD 스펙트럼으로부터 얻어진다. 이러한 정보는 미결정 크기를 결정하기 위해 셰러 방정식(Scherrer equation)에 입력된다. 선폭 증대(line broadening) 및 x-선 파장을 포함한 특정 기기에 대한 다른 정보가 또한 입력된다. 방정식을 풀면 측정된 결정 면에 대한 크기가 나온다. 이는 본 발명의 분야에 잘 알려져 있다.
본 발명의 한 가지 구체예에서, 트리카복실산, 예를 들어, 시트르산, 및 디카복실산, 예를 들어, 말론산은 물에서 예비-분산되고(예비-혼합되고), 에이징된 알루미나 슬러리에 첨가되어 산 개질된 슬러리를 형성시킨다. 산은 또한 에이징된 알루미나 슬러리에 순차적으로 첨가되어 산 개질된 슬러리를 형성시킬 수 있다. 산(들)의 첨가 후에, 알루미나 슬러리는 1 내지 6의 pH를 가질 것이고, 그러므로 산 개질된 슬러리로 칭해진다.
산 개질된 슬러리는 이후 10분 내지 1시간의 기간 동안 에이징된다. 이러한 에이징 공정에 대한 온도 범위는 75℃ 내지 125℃, 더욱 바람직하게는 85℃ 내지 115℃이고, 가장 바람직하게는 산 개질된 슬러리는 95℃ 내지 105℃의 온도에서 에이징되어 생성물 슬러리를 형성시킨다.
대안으로서, 방법은 트리카복실산, 즉, 시트르산과 함께 첨가하지 않고, 생성물 슬러리가 에이징된 후에 그리고 분무 건조되기 전에 생성물 슬러리에 대한 디카복실산, 즉, 말론산의 첨가를 포함할 수 있다. 둘 모두의 방법을 이용하여 유사한 특성을 갖는 물질이 생성될 것이다.
생성물 슬러리는 이후 분무 건조되고, 수거된다.
이러한 방법에 의해서 다음 특징들을 포함하는 알루미나가 생산된다: 8 초과의 pH에서 90% 초과의 분산성 및 10 wt.% 졸의 경우 5 Pa.S 미만의 점도.
바람직하게는, 8 초과의 pH에서 고도 분산성인 알루미나는 90% 초과의 분산성 및 10 wt.% 졸의 경우 1 Pa.S 미만의 점도를 갖는다.
더욱 바람직하게는, 알루미나는 9.5 초과의 pH에서 95% 초과의 분산성 및 10 wt.% 졸의 경우 0.4 Pa.S 미만의 점도를 갖는다.
실시예
본 발명은 이제 비-제한적 실시예 및 도면에 의해 기술될 것이다.
도 1은 각각 실시예 1 및 2, 및 비교예 2에 따른 5 및 10 wt%에서의 알루미나 분산물의 점도를 보여주는 것인데, 이는 본 발명에 따른 디카복실산 첨가가 생성물 슬러리의 점도에 대해 영향을 갖는다는 것을 입증한다.
먼저 지시된 pH에서 알루미나를 생성시킴으로써 분산성을 측정하였다. 이를 암모늄 하이드록사이드 수용액(10의 pH를 가짐)에 10 wt.%의 알루미나를 첨가함으로써 수행하였다. 농축된 암모늄 하이드록사이드 용액을 이용하여 pH를 조절하였다. 분산물을 30분 동안 교반하였다. 분산물을 이후 30분 동안 원심분리시키고, 이후 상청액을 디캔팅(decanting)하였다. 임의의 잔여 분말을 120℃에서 건조시키고, 모았다. 첨가된 분말의 질량으로부터 건조 후 잔여물의 질량을 뺀 후, 첨가된 분말의 질량으로 나누고, 마지막으로 결과에 100을 곱함으로써 분산성을 계산하였다.
먼저 지시된 pH에서 알루미나 분산물을 생성시키고, 10 wt.%의 고형물 투입에 의해 점도를 측정하였다. 이를, 수성 암모늄 하이드록사이드 용액에 알루미나를 첨가하고, pH를 필요 시 암모늄 하이드록사이드를 이용하여 조절함으로써 달성하였다. 생성된 슬러리를 이후 30분 동안 교반하였다. 소량의 슬러리를 이후, 온도가 25℃로 평형된 TA 인스트루먼츠 DHR2 레오미터(TA instruments DHR2 rheometer)의 하부 판으로 옮겼다. 40 mm의 평판 지오메트리를 필요한 갭으로 내리고, 임의의 슬러리를 트리밍된 갭으로부터 밀었다. 첨가된 슬러리가 판 아래의 면적을 완전히 채우기에 불충분한 경우, 판을 올리고, 추가 슬러리를 첨가하였다. 기기를 100s-1의 전단 속도로 개시하고, 점도를 기록하였다.
실시예 1 - 말론산/시트르산 개질된 알루미나의 제조
알루미늄 알콕사이드의 가수분해를 통해 베마이트 슬러리를 생성시키고, 120℃에서 2시간 동안 열수 에이징시켜 95Å(120 미결정 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 얻었다. 5 wt.%의 시트르산 및 3 wt.%의 말론산(알루미나 함량을 기준으로 한 중량 비율)을 물에서 예비혼합한 후, 베마이트 슬러리에 첨가하여 산 개질된 슬러리를 형성시켰다. 산 개질된 슬러리를 105℃에서 1시간 동안 에이징시켜 생성물 슬러리를 형성시키고, 생성물 슬러리를 이후 분무 건조시키고, 생성물을 수거하였다.
실시예 2 - 시트르산으로 개질되고 말론산으로 후속 개질된 알루미나의 제조
알루미늄 알콕사이드의 가수분해를 통해 베마이트 슬러리를 생성시키고, 120℃에서 2시간 동안 열수 에이징시켜 95Å(120 미결정 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 얻었다. 5 wt.%의 시트르산(알루미나 함량을 기준으로 한 중량 비율)을 베마이트 슬러리에 첨가하여 산 개질된 슬러리를 형성시켰다. 산 개질된 슬러리를 이후 105℃에서 1시간 동안 에이징시켜 생성물 슬러리를 형성시켰다. 생성물 슬러리를 이후 3 wt.%의 말론산의 첨가에 의해 개질시키고, 30 min 동안 교반하였다. 그 후에, 개질된 생성물 슬러리를 분무 건조시키고, 생성물을 수거하였다.
비교예 1 - 에이징 단계 iv)가 없는 실시예 1
실시예 1에 따라 베마이트 슬러리를 제공하고, 열수 에이징시켜 95Å(120 미결정 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 얻었다. 5 wt.%의 시트르산 및 3 wt.%의 말론산(알루미나 함량을 기준으로 한 중량 비율)을 물에서 예비혼합하고, 베마이트 슬러리에 첨가하여 산 개질된 슬러리를 형성시켰다. 산 개질된 슬러리를 이후 분무 건조시키고, 생성물을 수거하였다.
비교예 2 - 시트르산 개질된 알루미나의 제조
실시예 1에 따라 베마이트 슬러리를 제공하고, 열수 에이징시켜 95Å(120 미결정 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 얻었다. 물 중의 5 wt.%의 시트르산(알루미나 함량을 기준으로 한 중량 비율)을 베마이트 슬러리에 첨가하여 산 개질된 슬러리를 형성시켰다. 산 개질된 슬러리를 105℃에서 1시간 동안 에이징시킨 후, 분무 건조시키고, 생성물을 수거하였다.
비교예 3 - 말론산이 알루미나와 에이징되고 에이징 후 시트르산이 첨가된 실시예 2
실시예 1에 따라 베마이트 슬러리를 제공하고, 열수 에이징시켜 95Å(120 미결정 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 얻었다. 3 wt.%의 말론산(알루미나 함량을 기준으로 한 중량 비율)을 첨가하고, 베마이트 슬러리를 이후 105℃에서 1시간 동안 에이징시켰다. 그 후에, 슬러리를 5 wt.%의 시트르산의 첨가에 의해 개질시키고, 30 min 동안 교반하여 생성물 슬러리를 형성시켰다. 생성물 슬러리를 이후 분무 건조시키고, 생성물을 수거하였다.
결과는 이하의 표 1에 포함되어 있고, 일부는 도 1에 도시되어 있다.
표 1
표 1에서의 결과에 의해 예시되는 바와 같이, 시트르산 개질된 베마이트(비교예 2)는 실제로 고도 분산성이었지만, 물질의 점도는 1.3 Pa.S로 다수의 잠재적인 적용에서 사용하기에 너무 높았다. 열수 에이징 전 슬러리에 대한 시트르산과 말론산의 동시 첨가(실시예 1)는 약간 더 높은 분산성(97.5%) 및 훨씬 더 낮은 점도(0.156 Pa.S)를 갖는 물질을 생성시켰다. 이는 다수의 적용에서 사용하기에 충분한 유체였다. 대안적으로, 말론산은 실시예 1에 비해 어떠한 역효과 없이 시트르산과 에이징된 후 알루미나 슬러리에 첨가될 수 있었다(실시예 2). 실제로, 생성된 물질은 분산성 및 점도와 관련하여 거의 동일했다.
이러한 물질의 첨가 및 에이징에 대한 순서는 저 점도 고 pH 졸을 생성시킬 수 있는 고도 분산성 물질의 생산에 있어서 중요한 단계이다. 알루미나가 산의 존재에서 에이징 되지 않는 경우에(비교예 1), 물질은 겔화되고, 분산물을 생성시키지 않는다. 단독의 말론산이 알루미나와 에이징되고 에이징 후 시트르산이 첨가되는 경우(비교예 3), 물질은 10의 pH에서 분산되는 때에 또한 겔화된다.
도 1은 추가로 동일한 조건하에서 비교예 2와 비교한 실시예 1 및 2에서 생성된 샘플을 이용하여 10 wt% 및 pH 10에서 생성된 분산물에 대한 졸 점도의 차이를 보여주는 것이다. 말론산과 시트르산 둘 모두를 사용하여 제조된 샘플은 단독의 시트르산을 사용하여 생성된 샘플의 점도보다 상당히 더 낮은 졸 점도를 갖는다. 30분 후, 실시예 1로부터의 물질을 사용하여 생성된 졸의 점도는 0.156 Pa.S의 점도를 갖는 반면, 실시예 2로부터의 것은 0.180 Pa.S의 점도를 갖는데, 이 둘 모두는 1.3 Pa.S의 점도를 갖는 비교예 2에서의 물질로부터 제조된 졸의 점도보다 상당히 더 낮다.
Claims (15)
- i) 알루미나 슬러리를 제공하는 단계;
ii) 상기 알루미나 슬러리를 에이징시켜, 38 내지 450Å(120 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 포함하는 에이징된 알루미나 슬러리를 형성시키는 단계;
iii) 상기 에이징된 알루미나 슬러리에 트리카복실산을 첨가하여 산 개질된 슬러리를 형성시키는 단계;
iv) 75℃ 내지 125℃의 온도에서 상기 산 개질된 슬러리를 에이징시켜 생성물 슬러리를 형성시키는 단계; 및
v) 상기 생성물 슬러리를 분무 건조시키는 단계를 포함하는 알루미나를 제조하는 방법으로서,
상기 방법이 상기 트리카복실산으로의 공정 단계 iii)에서 디카복실산을 첨가하거나, 단계 iv) 후, 단계 v)의 분무 건조 전에, 상기 생성물 슬러리에 상기 디카복실산을 첨가함을 특징으로 하는 방법. - 제1항에 있어서, 알루미나 슬러리가 알루미늄 옥시하이드록사이드, 알루미늄 옥사이드, 알루미늄 하이드록사이드, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 방법.
- 제2항에 있어서, 알루미나 슬러리가 베마이트(Boehmite), 바이어라이트(Bayerite), 깁사이트(Gibbsite), 감마-알루미나, 전이 (델타-쎄타) 알루미나 및 이들의 혼합물을 포함하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 알루미나 슬러리가 6 내지 10의 pH를 갖는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 알루미나 슬러리가 30분 내지 8시간의 기간 동안 95 내지 220℃의 온도로 가열함으로써 에이징되는 방법.
- 제5항에 있어서, 에이징 후, 알루미나 슬러리가 바람직하게는 40 내지 180 Å (120 면), 바람직하게는 60 내지 140Å (120 면)의 미결정 크기를 갖는 알루미나를 포함하는 방법.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 트리카복실산이 시트르산, 이소시트르산, 아코니트산, 트리카발릭산, 트리메스산 및 이들의 혼합물 및/또는 유도체를 포함하는 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 트리카복실산이 첨가되면(단독으로 또는 디카복실산과 함께), 산 개질된 슬러리의 pH가 1 내지 6의 pH인 방법.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 산 개질된 슬러리가 10분 내지 1시간의 기간 동안 에이징되는 방법.
- 제9항에 있어서, 산 개질된 슬러리가 85℃ 내지 115℃의 온도에서 에이징되는 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 디카복실산이 말론산, 석신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 말레산, 푸마르산, 글루타콘산, 무콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 방법.
- 제10항에 있어서, 디카복실산이 산을 예비혼합함으로써 트리카복실산과 동시에 에이징된 알루미나 슬러리에 첨가되는 방법.
- 제10항에 있어서, 디카복실산이 트리카복실산과 순차적으로 에이징된 알루미나 슬러리에 첨가되는 방법.
- 제10항에 있어서, 디카복실산이 생성물 슬러리에 첨가되는 방법.
- 90% 초과의 분산성 및 10 wt.% 졸(sol)의 경우 5 Pa.S 미만의 점도를 갖는, 8 초과의 pH에서 고도 분산성인 알루미나.
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