KR20190035489A - 스테이지 구동 장치 및 묘화 장치 - Google Patents

스테이지 구동 장치 및 묘화 장치 Download PDF

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Abstract

스테이지 구동 장치(5)는, 스테이지가 설치되는 베이스 플레이트(51)와, 한 쌍의 가이드 레일과, 한 쌍의 가이드 레일과 각각 걸어맞춰지는 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)와, 가동자(546)를 이동 방향으로 이동시키는 리니어 모터와, 가동자(546)를 베이스 플레이트(51)에 대해서 고정시키는 가동자 고정부(55)를 구비한다. 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 있어서, 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)가 장착되는 복수의 장착 영역(A11)을 포함하는 최소의 직사각형 영역을 주목 영역(A12)으로 하며, 베이스 플레이트(51)에 있어서 가동자 고정부(55)가 고정되는 고정 위치(P11)가, 주목 영역(A12)보다, 이동 방향의 외측에 위치한다. 이것에 의해, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)에 있어서의 열팽창을 억제할 수 있다.

Description

스테이지 구동 장치 및 묘화 장치{STAGE DRIVING APPARATUS AND DRAWING APPARATUS}
본 발명은, 스테이지 구동 장치 및 묘화 장치에 관한 것이다.
종래, 마스크를 이용하지 않고, 기판 상의 감광 재료에 패턴을 묘화하는 묘화 장치가 실용화되고 있다. 묘화 장치에서는, 스테이지 구동 장치 및 광출사부가 설치된다. 스테이지 구동 장치는, 스테이지 상의 기판을 스테이지와 함께 광출사부에 대해서 이동시킨다. 기판의 이동에 동기하여, 광출사부가 기판에 조사하는 광을 변조함으로써, 기판(의 감광 재료)에 패턴이 묘화된다. 상기 스테이지 구동 장치에서는, 스테이지가 설치되는 베이스 플레이트의 하면 중앙에 구동부를 배치하고, 당해 구동부를 사이에 끼우는 양측에 한 쌍의 가이드 기구를 배치하는 구조가, 구동 안정성의 관점으로부터 통상 채용된다. 또, 고(高)추력 및 속도 안정성을 확보하기 위해서, 구동부로서 리니어 모터가 이용된다.
또한, 일본국 특허공개 2004-88981호 공보에서는, 리니어 모터에 있어서의 전기자 코일을 포함하는 가동자를, 테이블을 통해 안내 기구의 이동 블록에 연결한 구동 안내 장치에 있어서, 가동자와 테이블 사이에 단열재 또는 단열 공간을 설치함으로써, 가동자가 발생시키는 열이, 이동 블록에 전달되는 것을 방지하는 수법이 개시되어 있다. 또, 국제 공개 제WO2008-123287호에서는, 가동자와 테이블 사이에 히트 싱크를 구비하는 구동 안내 장치에 있어서, 히트 싱크에서 다 방열할 수 없는 열을 테이블에 전달하는 전열 경로를 설치함과 더불어, 테이블을 열팽창 계수가 낮은 재료로 구성함으로써, 가동자에서 발생한 열을 효과적으로 방열하는 수법이 개시되어 있다.
기술과 같이, 스테이지 구동 장치에 있어서의 베이스 플레이트의 하면에서는, 중앙부를 주목 영역으로 하며, 가동자 및 고정자를 포함하는 리니어 모터가 당해 주목 영역에 대향하는 위치에 배치되고, 당해 주목 영역을 사이에 끼우도록 한 쌍의 가이드 기구가 설치된다. 이러한 스테이지 구동 장치에서는, 주목 영역에 고정된 가동자의 발열에 의해 주목 영역이 가열된다. 묘화 장치에서는, 베이스 플레이트의 상면 중앙부에, 스테이지 승강 기구 등을 통해 스테이지가 설치되기 때문에, 베이스 플레이트의 주목 영역에 있어서의 열팽창에 의해, 묘화 장치에 있어서 패턴 묘화의 정밀도가 저하해 버린다.
본 발명은, 스테이지 구동 장치를 위한 것이고, 베이스 플레이트의 주목 영역에 있어서의 열팽창을 억제하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명에 따르는 스테이지 구동 장치는, 제1 주면, 및, 상기 제1 주면과는 반대측의 제2 주면을 갖고, 상기 제1 주면에 스테이지가 설치되는 베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이트의 상기 제2 주면측에 있어서, 상기 제2 주면에 평행한 이동 방향으로 연장됨과 더불어, 상기 제2 주면에 평행하고 또한 상기 이동 방향에 수직인 폭 방향으로 서로 떨어져 배치되는 한 쌍의 가이드 레일과, 상기 베이스 플레이트에 장착되고, 상기 이동 방향으로 이동 가능한 상태로 상기 한 쌍의 가이드 레일과 각각 걸어맞춰지는 한 쌍의 레일 걸어맞춤부와, 코일을 포함하는 가동자 및 영구 자석을 포함하는 고정자를 갖고, 상기 베이스 플레이트의 상기 제2 주면측에 있어서 상기 한 쌍의 가이드 레일 사이에 배치되며, 상기 가동자를 상기 이동 방향으로 이동시키는 리니어 모터와, 상기 가동자를 상기 베이스 플레이트에 대해서 고정하는 가동자 고정부를 구비하고, 상기 베이스 플레이트의 상기 제2 주면에 있어서, 상기 한 쌍의 레일 걸어맞춤부가 장착되는 복수의 장착 영역을 포함하는 최소의 직사각형 영역을 주목 영역으로 하며, 상기 베이스 플레이트에 있어서 상기 가동자 고정부가 고정되는 고정 위치가, 상기 주목 영역보다, 상기 이동 방향 또는 상기 폭 방향의 외측에 위치한다.
본 발명에 의하면, 베이스 플레이트의 주목 영역에 있어서의 열팽창을 억제할 수 있다.
본 발명의 하나의 바람직한 형태에서는, 상기 한 쌍의 레일 걸어맞춤부의 각각이, 상기 이동 방향으로 떨어져 상기 베이스 플레이트에 장착되는 복수 개의 가이드 블록을 포함하고, 상기 베이스 플레이트의 상기 제2 주면에 있어서, 한쪽의 레일 걸어맞춤부에 포함되는 상기 복수 개의 가이드 블록 중 양단의 2개의 가이드 블록, 및, 다른쪽의 레일 걸어맞춤부에 포함되는 상기 복수 개의 가이드 블록 중 양단의 2개의 가이드 블록에 대응하는 4개의 장착 영역이 설치되며, 상기 4개의 장착 영역을 포함하는 최소의 직사각형 영역이, 상기 주목 영역에 포함된다.
본 발명의 다른 바람직한 형태에서는, 상기 베이스 플레이트에 있어서, 상기 가동자 고정부가 고정되는 고정 영역의 전체가, 상기 주목 영역보다, 상기 이동 방향 또는 상기 폭 방향의 외측에 위치한다.
본 발명의 또 다른 바람직한 형태에서는, 상기 가동자 고정부의 상기 고정 위치가, 상기 주목 영역보다 상기 이동 방향의 외측에 위치한다.
본 발명의 하나의 국면에서는, 상기 가동자 고정부가, 상기 이동 방향으로 연장되는 제1 지지 부재와, 상기 제1 지지 부재의 양단에 각각 장착되고, 상기 베이스 플레이트에 고정되는 한 쌍의 제2 지지 부재를 구비하며, 상기 베이스 플레이트에 있어서, 각 제2 지지 부재가 고정되는 고정 위치가, 상기 주목 영역보다 상기 이동 방향의 외측에 위치한다.
이 경우에, 바람직하게는, 상기 각 제2 지지 부재가, 상기 폭 방향으로 연장되어 있고, 상기 각 제2 지지 부재의 양단에 한 쌍의 돌기부가 설치되며, 상기 한 쌍의 돌기부가, 상기 베이스 플레이트에 있어서의 상기 주목 영역보다 상기 이동 방향 외측의 부위에 있어서, 상기 폭 방향에 있어서의 양단부에 각각 고정된다.
본 발명은, 대상물 상에 패턴을 묘화하는 묘화 장치도 위한 것이다. 본 발명에 따르는 묘화 장치는, 스테이지 상에 대상물이 유지되는, 상기의 스테이지 구동 장치와, 광원으로부터의 광을 변조하여, 상기 스테이지 상의 대상물에 조사하는 광출사부와, 상기 스테이지 구동 장치 및 상기 광출사부를 제어하는 제어부를 구비한다.
상기 서술한 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 행하는 이 발명의 상세한 설명에 의해 분명해진다.
도 1은 묘화 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 스테이지 구동 장치를 도시한 정면도이다.
도 3은 스테이지 구동 장치의 일부를 도시한 측면도이다.
도 4는 스테이지 구동 장치의 일부를 도시한 저면도이다.
도 5는 레일 걸어맞춤부의 장착 영역과 가동자 고정부의 고정 위치를 도시한 도면이다.
도 6은 비교예의 스테이지 구동 장치를 도시한 도면이다.
도 7은 비교예의 스테이지 구동 장치를 도시한 도면이다.
도 8은 스테이지 구동 장치의 다른 예를 도시한 도면이다.
도 9는 스테이지 구동 장치의 다른 예를 도시한 도면이다.
도 1은, 본 발명의 하나의 실시 형태에 따르는 묘화 장치(1)의 구성을 도시한 도면이다. 도 1에서는, 서로 직교하는 3개의 방향을 X방향, Y방향 및 Z방향으로 하여 화살표로 나타내고 있다(다른 도면에 있어서도 동일). 도 1의 예에서는, X방향 및 Y방향은 수평 방향이며, Z방향은 연직 방향이다. 묘화 장치(1)의 설계에 따라서는, Z방향이 연직 방향에 대해서 경사진 방향, 또는, 수평 방향이어도 된다.
묘화 장치(1)는, 프린트 기판 등의 기판(9) 상의 감광 재료에 광을 조사하고, 당해 감광 재료에 배선 등의 패턴을 묘화하는 장치이다. 묘화 장치(1)는, 제어부(2)와, 복수의 광출사부(3)와, 스테이지(41)와, 스테이지 승강 기구(4)와, 스테이지 구동 장치(5)를 구비한다. 제어부(2)는, 복수의 광출사부(3), 스테이지 승강 기구(4) 및 스테이지 구동 장치(5)를 제어한다. 스테이지(41)는, 광출사부(3)의 하방((-Z)측)에서 기판(9)을 유지한다. 복수의 광출사부(3)는, X방향(이하, 「폭 방향」이라고 한다)으로 배열된다. 각 광출사부(3)는, 광원(31)과, 광변조부(32)를 구비한다. 광원(31)은, 광변조부(32)를 향해서 레이저광을 출사한다. 광변조부(32)는, 광원(31)으로부터의 광을 변조한다. 광변조부(32)에 의해 변조된 광은, 스테이지(41) 상의 기판(9)에 조사된다. 광변조부(32)로는, 예를 들어, 복수의 광변조 소자가 이차원으로 배열된 DMD(디지털 미러 디바이스) 등이 이용된다. 광변조부(32)는, 복수의 광변조 소자가 일차원으로 배열된 변조기 등이어도 된다.
스테이지 승강 기구(4)는, 스테이지(41)를 Z방향(이하, 「상하 방향」이라고 한다)으로 이동시킨다. 스테이지 구동 장치(5)는, 스테이지(41)를, 스테이지 승강 기구(4)와 함께 Y방향(이하, 「이동 방향」이라고 한다)으로 이동시킨다. 이것에 의해, 광변조부(32)에 의해 변조된 광의 조사 위치가, 기판(9) 상에서 이동 방향으로 주사한다. 묘화 장치(1)에서는, 스테이지 구동 장치(5)에 의한 스테이지(41)의 이동에 동기하여, 광출사부(3)를 제어함으로써, 기판(9) 상에 패턴이 묘화된다. 묘화 장치(1)에서는, 스테이지 승강 기구(4)가 생략되어도 되고, Z방향에 평행한 축을 중심으로 하여 스테이지(41)를 회전시키는 회전 기구가 설치되어도 된다.
도 2는, 스테이지 구동 장치(5)를 도시한 정면도이다. 도 3은, 스테이지 구동 장치(5)의 일부를 도시한 측면도이며, (-X)측으로부터 (＋X)방향을 향해 본 스테이지 구동 장치(5)를 도시하고 있다. 도 3에서는, 후술의 가이드 레일(52)을 이점쇄선으로 나타내고, 리니어 스케일(59) 및 리니어 모터(54)의 고정자(541)의 도 시를 생략하고 있다. 도 4는, 스테이지 구동 장치(5)의 일부를 도시한 저면도이다. 도 4에서는, 고정자(541)의 도시를 생략하고 있다.
스테이지 구동 장치(5)는, 베이스 플레이트(51)와, 한 쌍의 가이드 레일(52)과, 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)와, 리니어 모터(54)와, 가동자 고정부(55)를 구비한다. 베이스 플레이트(51)는, 직사각형의 판형상이며, 상하 방향에 수직인 방향으로 넓어진다. 베이스 플레이트(51)는, 금속, 예를 들어 SS400 등의 탄소강에 의해 형성된다. 베이스 플레이트(51)는, (＋Z)측의 제1 주면(511)과, 당해 주면(511)과는 반대측의 제2 주면(512)((-Z)측의 주면이며, 이하, 「하면(512)」이라고 한다)을 갖는다. 도 2에 도시한 바와 같이, 베이스 플레이트(51)의 주면(511)에는, 기술의 스테이지 승강 기구(4) 및 스테이지(41)가 설치된다. 또한, 스테이지 구동 장치(5)의 설계에 따라서는, 베이스 플레이트(51)의 주면(511)이 스테이지로서 취급되어도 된다.
한 쌍의 가이드 레일(52)은, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)측((-Z)측)에 있어서, 기대(10) 상에 고정된다. 한 쌍의 가이드 레일(52)은, 하면(512)에 평행한 이동 방향(Y방향)으로 연장됨과 더불어, 하면(512)에 평행하고 또한 이동 방향에 수직인 폭 방향(X방향)으로 서로 떨어져 배치된다. 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)는, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 장착되고, 한 쌍의 가이드 레일(52)과 각각 걸어맞춰진다. 스테이지 구동 장치(5)에서는, 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)와 한 쌍의 가이드 레일(52)에 의해, 한 쌍의 가이드 기구가 구성된다.
도 4에 도시한 바와 같이, 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)의 각각은, 2개의 가이드 블록(531)을 갖는다. 각 레일 걸어맞춤부(53)의 2개의 가이드 블록(531)은, 이동 방향으로 서로 떨어져 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 장착된다. 당해 2개의 가이드 블록(531)은 폭 방향에 있어서 같은 위치에 배치된다. 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)에 포함되는 4개의 가이드 블록(531) 중, (＋Y)측에 설치되는 2개의 가이드 블록(531)은, 이동 방향에 있어서 서로 같은 위치에 배치되고, (-Y)측에 설치되는 2개의 가이드 블록(531)은, 이동 방향에 있어서 서로 같은 위치에 배치된다.
각 가이드 블록(531)은, 이동 방향으로 이동 가능한 상태로 가이드 레일(52)과 걸어맞춰진다. 가이드 블록(531)과 가이드 레일(52)의 걸어맞춤에 의해, 폭 방향에 관한 가이드 블록(531)의 위치가, 가이드 레일(52)에 대해서 고정된다. 바꾸어 말하면, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 있어서, 가이드 블록(531)이 장착되는 장착 영역(A11)이, 폭 방향에만 착목한 경우에, 가이드 레일(52)에 대해서 고정된다. 장착 영역(A11)은, 하면(512) 중 가이드 블록(531)이 접촉하는 영역이다. 가이드 레일(52) 및 가이드 블록(531)으로서, 예를 들어 LM가이드(등록상표)가 이용 가능하다.
도 2에 도시한 바와 같이, 리니어 모터(54)는, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)측에 있어서 한 쌍의 가이드 레일(52) 사이에 배치된다. 리니어 모터(54)는, 영구 자석을 포함하는 고정자(541)와, 코일을 포함하는 가동자(546)를 갖는다. 고정자(541)는, 이동 방향으로 연장되는 블록형상이다. 고정자(541)에 있어서 (＋X)방향을 향하는 측면에는, 길이 방향의 전체 길이에 걸쳐 홈(542)이 설치된다. 홈(542)은, 상하 방향에 수직인 면(XY평면)을 따라서 넓어진다. 이동 방향을 따라서 본 고정자(541)의 형상은, 개구부가 (＋X)방향을 향하는 U자형상이다. 고정자(541)에 있어서, 홈(542)을 사이에 끼우는 (＋Z)측의 부위, 및, (-Z)측의 부위에는 영구 자석이 설치된다. 고정자(541)는, 기대(10)에 고정된다.
가동자(546)는, 상하 방향에 수직인 판형상의 코일부(547)와, 폭 방향에 수직인 판형상의 근원(根元)부(548)를 구비한다. 코일부(547)의 이동 방향의 길이는, 폭 방향의 폭보다 길다(도 4 참조). 코일부(547)에는 코일이 설치된다. 코일부(547)에 있어서의 (＋X)측의 단부가 근원부(548)와 접속한다. 코일부(547)는, 고정자(541)의 홈(542)의 내부에 배치된다. 즉, 고정자(541)에 있어서 홈(542)을 사이에 끼우는 상기 2개의 부위 사이에, 코일부(547)가 양자에 비접촉 상태로 배치된다. 리니어 모터(54)에서는, 도시 생략된 이동 제어부가, 가동자(546)의 코일에 흐르게 하는 전류를 제어함으로써, 가동자(546)가 고정자(541)에 대해서 이동 방향으로 이동한다. 가동자(546)는, 가동자 고정부(55)에 의해 유지되고, 베이스 플레이트(51)에는 접촉하지 않는다.
가동자 고정부(55)는, 유지 블록(551)과, 제1 지지 부재(56)와, 한 쌍의 제2 지지 부재(57)를 구비한다. 본 실시 형태에서는, 유지 블록(551), 제1 지지 부재(56) 및 제2 지지 부재(57)는, 베이스 플레이트(51)와 동일한 재료(예를 들어 SS400 등의 탄소강)에 의해 형성된다. 물론, 이들 부재가, 베이스 플레이트(51)와 상이한 재료에 의해 형성되어도 된다. 유지 블록(551)은, 이동 방향으로 연장되는 블록형상이다. 유지 블록(551)에 있어서 (-X)방향을 향하는 면에 대해서, 가동자(546)의 근원부(548)가 볼트의 체결 등에 의해 장착된다. 이동 방향에 있어서의 유지 블록(551)의 길이는 가동자(546)보다 아주 약간 길고, 이동 방향에 있어서의 가동자(546)의 거의 전체가 유지 블록(551)에 접촉한다. 유지 블록(551)에 있어서 (＋X)방향을 향하는 면에는, 히트 싱크(552)가 장착된다.
제1 지지 부재(56)는, 이동 방향으로 연장되는 봉형상이며, 예를 들어, 직사각형의 단면을 갖는다. 유지 블록(551)은, 제1 지지 부재(56)에 장착된다. 상세하게는, 도 3에 도시한 바와 같이, 유지 블록(551)에 있어서 (＋Z)방향을 향하는 면에는, 복수의 돌기부(553)가 설치된다. 복수의 돌기부(553)는, 이동 방향으로 간격을 두고 배열된다. 복수의 돌기부(553)는, 제1 지지 부재(56)에 있어서 (-Z)방향을 향하는 면에 대해서, 볼트의 체결 등에 의해 고정된다. 이동 방향에 서로 인접하는 2개의 돌기부(553) 사이에서는, 유지 블록(551)과 제1 지지 부재(56)가 상하 방향으로 이격한다.
도 4에 도시한 바와 같이, 각 제2 지지 부재(57)는, 폭 방향으로 연장되는 봉형이며, 예를 들어, 직사각형의 단면을 갖는다. 한 쌍의 제2 지지 부재(57)는, 이동 방향에 있어서의 베이스 플레이트(51)의 양 외측에 각각 배치된다. 한 쌍의 제2 지지 부재(57)는, 베이스 플레이트(51)에 있어서 이동 방향을 향하는 양단면(513)에 각각 대향한다. 폭 방향에 있어서의 각 제2 지지 부재(57)의 길이는, 베이스 플레이트(51)의 폭과 거의 동일하다. 제2 지지 부재(57)의 양단에는, 한 쌍의 돌기부(571)가 각각 설치된다. 한 쌍의 돌기부(571)는, 베이스 플레이트(51)의 단면(513)에 있어서의 폭 방향의 양단부를 향해 돌출한다. 각 돌기부(571)는, 베이스 플레이트(51)의 단면(513)에 대해서 볼트의 체결 등에 의해 고정된다. 폭 방향에 있어서의 한 쌍의 돌기부(571) 사이에서는, 제2 지지 부재(57)와 베이스 플레이트(51)의 단면(513)이 이동 방향으로 이격한다.
도 3에 도시한 바와 같이, 상하 방향에 있어서의 제2 지지 부재(57)의 두께는, 베이스 플레이트(51)의 두께보다 아주 약간 크다. 상하 방향에 관해, 제2 지지 부재(57)의 (＋Z)측의 면은, 베이스 플레이트(51)의 주면(511)과 거의 동일한 위치에 배치된다. 제2 지지 부재(57)의 (-Z)측의 면은, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)보다 하방((-Z)측)에 배치된다. 제1 지지 부재(56)의 양단은, 이동 방향에 있어서 베이스 플레이트(51)의 외측에 위치한다. 제1 지지 부재(56)의 양단에 있어서 (＋Z)방향을 향하는 면이, 한 쌍의 제2 지지 부재(57)의 (-Z)방향을 향하는 면에, 볼트의 체결 등에 의해 각각 장착된다. 기술과 같이, 제2 지지 부재(57)의 (-Z)측의 면은, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)보다 하방에 배치되기 때문에, 이동 방향의 전체에 걸쳐 제1 지지 부재(56)와 베이스 플레이트(51)의 하면(512)이 상하 방향으로 이격한다. 이상의 구조에 의해, 가동자 고정부(55)는, 가동자(546)를 베이스 플레이트(51)에 대해서 고정시킨다.
도 4에 도시한 바와 같이, 스테이지 구동 장치(5)는, 리니어 스케일(59)을 더 구비한다. 리니어 스케일(59)은, 스케일(591)과, 슬라이더(592)를 구비한다. 스케일(591)은, 이동 방향으로 연장되어 있고, 기대(10)(도 2 참조) 상에 설치된다. 슬라이더(592)는, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 있어서, 이동 방향에 있어서의 단부에 장착된다. 도 4의 예에서는, 슬라이더(592)는, 폭 방향에 있어서, 한쪽의 레일 걸어맞춤부(53)의 (＋Y)측의 가이드 블록(531)과, 다른쪽의 레일 걸어맞춤부(53)의 (＋Y)측의 가이드 블록(531) 사이에 배치된다. 슬라이더(592)는, 스케일(591)과 비접촉 상태로 폭 방향으로 대향한다. 슬라이더(592)는, 발광부 및 수광부를 갖고, 스케일(591)로부터의 반사광에 의거하여, 이동 방향에 있어서의 슬라이더(592)의 위치가 검출된다. 스테이지 구동 장치(5)에서는, 광학식의 리니어 스케일(59) 이외에, 자기식의 리니어 스케일 등이 이용되어도 된다.
도 5는, 베이스 플레이트(51)에 있어서 레일 걸어맞춤부(53)가 장착되는 장착 영역(A11)과, 가동자 고정부(55)가 고정되는 고정 위치(P11)를 도시한 도면이다. 도 5에서는, 베이스 플레이트(51), 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53), 및, 가동자 고정부(55)만을 실선으로 나타내고, 가동자(546)를 이점쇄선으로 나타내고 있다. 또, 각 장착 영역(A11)에 대해서 좁은 간격의 평행 사선을 붙이고 있다.
여기서, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 있어서, 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)가 장착되는 복수의(모든) 장착 영역(A11)을 포함하는 최소의 직사각형 영역(A12)(이하, 「주목 영역(A12)」이라고 한다)에 주목한다. 도 5의 스테이지 구동 장치(5)에서는, 한쪽의 레일 걸어맞춤부(53)에 포함되는 2개의 가이드 블록(531), 및, 다른쪽의 레일 걸어맞춤부(53)에 포함되는 2개의 가이드 블록(531)에 대응하는 4개의 장착 영역(A11)이, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 있어서 설치된다. 따라서, 도 5 중에 넓은 간격의 평행 사선을 붙여 도시한 바와 같이, 4개의 장착 영역(A11)을 포함하는 최소의 직사각형 영역이, 주목 영역(A12)이 된다. 주목 영역(A12)은, 4개의 장착 영역(A11)을 모서리부로 하는 직사각형 영역이며, 베이스 플레이트(51)의 중앙부를 포함한다. 베이스 플레이트(51)의 중앙부에는, 스테이지 승강 기구(4)를 통해 스테이지(41)가 설치된다. 따라서, 묘화 장치(1)에서는, 주목 영역(A12)은, 패턴 묘화의 정밀도에 큰 영향을 주는 영역이라고 할 수 있다. 또한, 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)의 각각이, 이동 방향으로 떨어져 베이스 플레이트(51)에 장착되는 3개 이상의 가이드 블록(531)을 설치하는 것도 가능하다. 그 경우는, 한쪽의 레일 걸어맞춤부(53)에 포함되는 복수 개의 가이드 블록(531) 중 양단의 2개의 가이드 블록(531), 및, 다른쪽의 레일 걸어맞춤부(53)에 포함되는 복수 개의 가이드 블록(531) 중 양단의 2개의 가이드 블록(531)에 대응하는 4개의 장착 영역(A11)을 포함하는 최소의 직사각형 영역이 주목 영역(A12)이 된다.
리니어 모터(54)의 가동자(546)(도 5 중의 이점쇄선의 가동자(546) 참조)는, 상하 방향을 따라서 본 경우에, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)(및 중앙부)과 겹친다. 가동자(546)는, 베이스 플레이트(51)와는 접촉하지 않고, 가동자(546)를 유지하는 가동자 고정부(55)에 있어서, 제2 지지 부재(57)의 돌기부(571)가, 베이스 플레이트(51)의 단면(513)에 고정된다. 가동자 고정부(55)의 다른 부위는, 베이스 플레이트(51)에는 접촉하지 않는다. 가동자 고정부(55)와 베이스 플레이트(51)의 각 접촉 영역(여기에서는, 각 돌기부(571)와 단면(513)의 접촉 영역)의 중심을, 고정 위치(P11)로서 정의하면, 고정 위치(P11)는, 베이스 플레이트(51)의 단면(513)에 있어서의 폭 방향의 단부이다. 이와 같이, 베이스 플레이트(51)에 있어서 가동자 고정부(55)의 고정 위치(P11)는, 주목 영역(A12)보다 이동 방향의 외측에 위치한다. 또, 베이스 플레이트(51)에 있어서, 가동자 고정부(55)가 고정되는 영역(즉, 상기 접촉 영역)을 고정 영역이라고 부르면, 고정 영역의 전체가, 주목 영역(A12)보다 이동 방향의 외측에 위치한다. 도 5의 예에서는, 고정 영역은, 베이스 플레이트(51)의 단면(513)에 설치된다.
스테이지 구동 장치(5)를 구동할 때에는, 이동 제어부가, 가동자(546)의 코일에 흐르게 하는 전류를 제어함으로써, 가동자(546)가 고정자(541)에 대해서 이동 방향으로 이동한다. 이것에 의해, 가동자 고정부(55)를 통해 가동자(546)에 고정된 베이스 플레이트(51)가, 이동 방향으로 이동한다. 이때, 가동자(546)의 코일이 발열한다. 가동자(546)의 일부의 열은, 가동자 고정부(55)의 유지 블록(551)에 있어서의 히트 싱크(552)(도 2 참조)에서 외기로 방출된다. 가동자(546)의 다른 일부의 열은, 길이가 긴 제1 지지 부재(56) 및 제2 지지 부재(57)에 있어서, 외기로 방출된다. 가동자(546)의 나머지의 열은, 제1 지지 부재(56) 및 제2 지지 부재(57)를 통해, 베이스 플레이트(51)의 단면(513)으로 전달된다. 이것에 의해, 베이스 플레이트(51)에 있어서의 단면(513) 근방의 부위에 있어서 열팽창이 발생한다. 한편, 가동자 고정부(55)의 고정 위치(P11)(고정 영역)로부터 떨어진 주목 영역(A12)에서는, 베이스 플레이트(51)의 열팽창은 억제된다. 바꾸어 말하면, 베이스 플레이트(51)에서는, 주목 영역(A12)보다 이동 방향 외측의 부위에 있어서, 열팽창에 의한 변형을 내보내는 것이 가능하게 되어 있다.
여기서, 비교예의 스테이지 구동 장치에 대해 말한다. 도 6 및 도 7은, 비교예의 스테이지 구동 장치(8)를 도시한 도면이고, 도 2 및 도 3에 각각 대응한다. 도 6 및 도 7에서는, 화살표 A82에 의해 주목 영역의 범위를 나타내고 있다. 비교예의 스테이지 구동 장치(8)에서는, 가동자 고정부(85)에 있어서, 가동자(846)가 고정된 유지 블록(851)이 베이스 플레이트(81)의 하면(812)에 고정된다. 도 6 및 도 7에서는, 베이스 플레이트(81)에 있어서 유지 블록(851)이 고정되는 고정 영역(A83)을 두꺼운 선으로 나타내고 있다. 또한, 비교예의 스테이지 구동 장치(8)에 있어서, 한 쌍의 가이드 레일(82) 및 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(83)는, 스테이지 구동 장치(5)와 동일하다.
비교예의 스테이지 구동 장치(8)에서는, 가동자 고정부(85)의 고정 위치, 실제로는, 가동자 고정부(85)의 고정 영역(A83)의 거의 전체가 주목 영역(A82)에 포함된다. 따라서, 가동자(846)의 열에 의해, 베이스 플레이트(81)의 주목 영역(A82)에 있어서 열팽창이 발생한다. 이때, 폭 방향에 있어서의 가이드 블록(831)의 위치가 가이드 레일(82)에 대해서 고정되기 때문에, 도 6 중에 이점쇄선으로 나타낸 바와 같이, 베이스 플레이트(81)의 휘어짐이 발생하여, 베이스 플레이트(81)가 상방을 향해 볼록형상이 된다(오목형상이 되는 경우도 있다). 베이스 플레이트(81)에 있어서, 이러한 변형이 발생하면, 묘화 장치에 있어서의 패턴 묘화의 정밀도가 저하해 버린다. 또, 베이스 플레이트(81)의 주목 영역(A82)이 이동 방향으로 팽창함으로써, 리니어 스케일의 슬라이더와 주목 영역(A82)의 각 위치 사이의 거리가 변동한다. 이 경우도, 묘화 장치에 있어서의 패턴 묘화의 정밀도가 저하해 버린다. 틸러를 갖는 수냉 기구에 의해 유지 블록(851)을 수냉하는 것도 생각할 수 있으나, 스테이지 구동 장치(8)의 제조 비용이 증대해 버린다.
이에 비해, 스테이지 구동 장치(5)에서는, 베이스 플레이트(51)에 있어서 가동자 고정부(55)가 고정되는 고정 위치(P11)가, 주목 영역(A12)보다, 이동 방향의 외측에 위치한다. 이것에 의해, 가동자(546)의 발열에 기인하는, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)에 있어서의 열팽창을 억제할 수 있다. 그 결과, 베이스 플레이트(51)의 휘어짐이나, 리니어 스케일(59)의 슬라이더(592)와 주목 영역(A12)의 각 위치 사이의 거리(주로, 이동 방향의 거리)의 변동 등에 의해, 묘화 장치(1)에 있어서의 패턴 묘화의 정밀도가 저하하는 것을 억제할 수 있다. 즉, 스테이지 구동 장치(5)를 갖는 묘화 장치(1)에서는, 비교예의 스테이지 구동 장치(8)를 갖는 묘화 장치에 비해, 패턴 묘화의 정밀도를 향상시킬 수 있다. 또, 유지 블록(851)의 수냉 기구도 불필요해져, 스테이지 구동 장치(5)의 제조 비용을 삭감할 수 있다.
베이스 플레이트(51)에 있어서, 가동자 고정부(55)가 고정되는 고정 영역의 전체가, 주목 영역(A12)보다, 이동 방향의 외측에 위치함으로써, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)에 있어서의 열팽창을 보다 확실히 억제할 수 있다. 또, 가동자 고정부(55)의 고정 위치(P11)가, 베이스 플레이트(51)의 단면(513)에 설치됨으로써, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)의 열팽창을 보다 한층 억제할 수 있다.
가동자 고정부(55)가, 이동 방향으로 연장되는 제1 지지 부재(56)와, 제1 지지 부재(56)의 양단에 각각 장착되고, 베이스 플레이트(51)에 고정되는 한 쌍의 제2 지지 부재(57)를 구비한다. 이것에 의해, 베이스 플레이트(51)에 있어서의 제2 지지 부재(57)의 고정 위치, 즉, 가동자 고정부(55)의 고정 위치(P11)를, 주목 영역(A12)보다 이동 방향의 외측에 용이하게 배치할 수 있다. 또, 각 제2 지지 부재(57)가 폭 방향으로 연장됨과 더불어, 제2 지지 부재(57)의 양단에 한 쌍의 돌기부(571)가 설치된다. 그리고, 당해 한 쌍의 돌기부(571)가, 베이스 플레이트(51)에 있어서의 주목 영역(A12)보다 이동 방향 외측의 부위에 있어서, 폭 방향에 있어서의 양단부에 각각 고정된다. 이것에 의해, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)에 있어서의 열팽창을 더욱 억제할 수 있다.
스테이지 구동 장치(5)에서는, 가동자(546)로부터 베이스 플레이트(51)로 열이 전달되는 경로가, 이동 방향으로 연장되는 제1 지지 부재(56)와, 폭 방향으로 연장되는 제2 지지 부재(57)에 의해 형성된다. 이것에 의해, 당해 경로를 길게 하여, 당해 경로에 있어서 많은 열을 방출할 수 있다. 그 결과, 비교예의 스테이지 구동 장치(8)에 비해, 베이스 플레이트(51)에 전달되는 열을 줄일 수 있다.
도 8은, 스테이지 구동 장치(5)의 다른 예를 도시한 도면이다. 도 8에서는, 도 5와 마찬가지로, 베이스 플레이트(51)에 있어서의 장착 영역(A11)과 고정 위치(P11)를 나타내고 있다(후술의 도 9에 있어서 동일). 도 8의 스테이지 구동 장치(5)에 있어서의 가동자 고정부(55)에서는, 도 5의 제1 지지 부재(56) 및 제2 지지 부재(57)를 대신하여, 지지 부재(56a)가 설치된다. 가동자(546)는, 지지 부재(56a)에 장착된다. 지지 부재(56a)는, 폭 방향으로 연장되어 있고, 지지 부재(56a)의 양단은, 폭 방향에 있어서의 베이스 플레이트(51)의 외측에 위치한다. 지지 부재(56a)의 양단에는, (＋Z)측으로 돌출하는 한 쌍의 돌기부(561)가 각각 설치된다. 각 돌기부(561)는, 베이스 플레이트(51)에 있어서 폭 방향을 향하는 측면(514)에 볼트의 체결 등에 의해 고정된다. 폭 방향의 전체에 걸쳐 지지 부재(56a)와 베이스 플레이트(51)의 하면(512)이 상하 방향으로 이격한다. 베이스 플레이트(51)에 있어서 가동자 고정부(55)가 고정되는 고정 위치(P11)는, 측면(514)에 있어서의 이동 방향의 중앙이다.
도 8의 스테이지 구동 장치(5)에서는, 가동자 고정부(55)의 고정 위치(P11)가, 주목 영역(A12)보다 폭 방향의 외측에 위치한다. 이것에 의해, 가동자(546)의 발열에 기인하는, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)에 있어서의 열팽창을 억제할 수 있다. 또, 베이스 플레이트(51)에 있어서, 가동자 고정부(55)가 고정되는 고정 영역의 전체가, 주목 영역(A12)보다, 폭 방향의 외측에 위치한다. 이것에 의해, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)에 있어서의 열팽창을 보다 확실히 억제할 수 있다. 가동자 고정부(55)의 고정 위치(P11)가, 베이스 플레이트(51)의 측면(514)에 설치됨으로써, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)의 열팽창을 보다 한층 억제할 수 있다.
가동자 고정부(55)의 고정 위치(P11)가, 이동 방향에 있어서 (＋Y)측의 가이드 블록(531)과 (-Y)측의 가이드 블록(531) 사이의 대략 중앙에 배치된다. 이것에 의해, 베이스 플레이트(51)에 있어서, 폭 방향에 대향하는 2개의 가이드 블록(531) 사이의 부위가 열팽창하는 것을 억제할 수 있고, 베이스 플레이트(51)에 있어서의 휘어짐의 발생(도 6 중의 이점쇄선의 베이스 플레이트(81) 참조)을 억제할 수 있다.
도 9는, 스테이지 구동 장치(5)의 다른 예를 도시한 도면이다. 도 9의 스테이지 구동 장치(5)에서는, 각 레일 걸어맞춤부(53)가, 1개의 가이드 블록(531)을 갖는다. 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)에 있어서의 2개의 가이드 블록(531)은, 이동 방향에 있어서 동일한 위치에 배치된다. 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 있어서의 주목 영역(A12)은, 당해 2개의 가이드 블록(531)의 장착 영역(A11)을, 외측 가장자리의 일부로서 형성되는 최소의 직사각형 영역이다. 주목 영역(A12)은, 베이스 플레이트(51)의 중앙부와 겹친다.
가동자 고정부(55)는, 이동 방향으로 연장되는 지지 부재(56b)를 갖는다. 이동 방향에 있어서의 지지 부재(56b)의 길이는, 베이스 플레이트(51)의 길이보다 작고, 가이드 블록(531)의 길이보다 크다. 지지 부재(56b)의 양단은, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 있어서, 주목 영역(A12)보다 이동 방향의 양 외측의 영역에 대향한다. 지지 부재(56b)의 양단에는, (＋Z)측으로 돌출하는 한 쌍의 돌기부(561)가 각각 설치된다. 각 돌기부(561)는, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 볼트의 체결 등에 의해 고정된다. 돌기부(561)를 제외하고, 지지 부재(56b)와 하면(512)은, 상하 방향으로 이격한다.
도 9의 스테이지 구동 장치(5)에서는, 가동자 고정부(55)의 고정 위치(P11)가, 주목 영역(A12)보다 이동 방향의 외측에 위치한다. 이것에 의해, 가동자(546)의 발열에 기인하는, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)에 있어서의 열팽창을 억제할 수 있다. 또, 베이스 플레이트(51)에 있어서, 가동자 고정부(55)가 고정되는 고정 영역의 전체가, 주목 영역(A12)보다, 이동 방향의 외측에 위치한다. 이것에 의해, 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)에 있어서의 열팽창을 보다 확실히 억제할 수 있다. 또한, 도 9의 스테이지 구동 장치(5)에 있어서, 주목 영역(A12)에 있어서의 열팽창을 더욱 억제하려면, 가동자 고정부(55)의 고정 위치(P11)가, 베이스 플레이트(51)의 둘레 가장자리에 설치되는 것이 바람직하다.
도 9에서는, 지지 부재(56b)를 제1 지지 부재로 인식하고, 돌기부(561)를 제2 지지 부재로 인식하는 것이 가능하다. 이 경우, 가동자 고정부(55)가, 이동 방향으로 연장되는 제1 지지 부재와, 제1 지지 부재의 양단에 각각 장착되고, 베이스 플레이트(51)에 고정되는 한 쌍의 제2 지지 부재를 구비한다고 할 수 있다. 이러한 구조에 의해, 제2 지지 부재의 고정 위치를, 주목 영역(A12)보다 이동 방향의 외측에 용이하게 배치하는 것이 실현된다.
그런데, 도 8의 스테이지 구동 장치(5)와 같이, 베이스 플레이트(51)의 (-Z)측(하면(512)측)에 있어서 폭 방향으로 연장되는 지지 부재(56a)를 설치하는 경우, 지지 부재(56a)가, 기대(10) 상에 설치된 한 쌍의 가이드 레일(52)(도 2 참조)과 간섭하는 것을 피하기 위해, 가이드 블록(531)의 Z방향에 있어서의 두께를 비교적 크게 하는 등이 필요하게 된다. 이에 비해, 도 9의 스테이지 구동 장치(5)에서는, 이동 방향으로 연장되는 지지 부재(56b)를 설치함으로써, 지지 부재(56b)와 가이드 레일(52)이 간섭하는 것을 용이하게 피할 수 있다.
상기 스테이지 구동 장치(5) 및 묘화 장치(1)에서는 여러가지 변형이 가능하다.
가동자 고정부(55)의 고정 위치(P11)가, 이동 방향 및 폭 방향의 쌍방에 있어서, 주목 영역(A12)보다 외측에 위치해도 된다. 또, 베이스 플레이트(51)에 있어서 가동자 고정부(55)가 고정되는 적어도 1개의 고정 위치(P11)가, 주목 영역(A12)보다, 이동 방향 또는 폭 방향의 외측에 위치하는 것이면, 가동자 고정부(55)의 일부가, 예를 들어 단열재 등을 통해 주목 영역(A12)에 접해도 된다. 베이스 플레이트(51)의 주목 영역(A12)에 있어서의 열팽창을 억제한다고 하는 관점에서는, 베이스 플레이트(51)에 있어서, 가동자 고정부(55)가 고정되는 모든 고정 영역의 총 면적 중, 주목 영역(A12)보다, 이동 방향 또는 폭 방향의 외측에 위치하는 고정 영역의 면적의 비율이, 50% 이상인 것이 바람직하고, 80% 이상인 것이 보다 바람직하다.
가동자 고정부(55)는, 반드시 복수의 고정 위치(P11)에서 베이스 플레이트(51)에 고정될 필요는 없고, 가동자(546)의 사이즈가 작은 경우 등에는, 가동자 고정부(55)가, 1개의 고정 위치(P11)에만 있어서 베이스 플레이트(51)에 고정되어도 된다.
지지 부재(56, 56a, 56b, 57)에 있어서, 방열핀 등이 설치되어, 열이 효율적으로 방출되어도 된다.
기술과 같이, 베이스 플레이트(51)의 사이즈 등에 따라서는, 각 레일 걸어맞춤부(53)가, 이동 방향으로 늘어선 3개 이상의 가이드 블록(531)을 가져도 된다. 또, 스테이지 구동 장치(5)의 설계에 따라서는, 한쪽의 레일 걸어맞춤부(53)에 있어서의 가이드 블록(531)의 위치와, 다른쪽의 레일 걸어맞춤부(53)에 있어서의 가이드 블록(531)의 위치가, 이동 방향으로 어긋나 있어도 된다. 이러한 경우에서도, 베이스 플레이트(51)의 하면(512)에 있어서, 한 쌍의 레일 걸어맞춤부(53)에 있어서의 복수의(모든) 가이드 블록(531)이 장착되는 복수의(모든) 장착 영역(A11)을 포함하는 최소의 직사각형 영역이, 주목 영역으로서 인식된다.
패턴이 묘화되는 기판(9)은, 프린트 기판 이외에, 반도체 기판이나 유리 기판 등이어도 된다. 묘화 장치(1)는, 기판(9) 이외의 여러가지 대상물 상으로의 패턴의 묘화에 이용되어도 된다. 대상물이 유지되는 스테이지(41)를 구동시키는 스테이지 구동 장치(5)는, 묘화 장치(1) 이외에 이용되어도 된다.
상기 실시 형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적당히 조합해도 된다.
발명을 상세하게 묘사하여 설명했는데, 기술의 설명은 예시적이며 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다라고 할 수 있다.
1: 묘화 장치 2: 제어부
3: 광출사부 5: 스테이지 구동 장치
9: 기판 31: 광원
41: 스테이지 51: 베이스 플레이트
52: 가이드 레일 53: 레일 걸어맞춤부
54: 리니어 모터 55: 가동자 고정부
56: 제1 지지 부재 56a, 56b: 지지 부재
57: 제2 지지 부재 511: (베이스 플레이트의) 주면
512: (베이스 플레이트의) 하면 531: 가이드 블록
541: 고정자 546: 가동자
571: (제2 지지 부재의) 돌기부 A11: 장착 영역
A12: 주목 영역 P11: 고정 위치

Claims (9)

  1. 스테이지 구동 장치로서,
    제1 주면, 및, 상기 제1 주면과는 반대측의 제2 주면을 갖고, 상기 제1 주면에 스테이지가 설치되는 베이스 플레이트와,
    상기 베이스 플레이트의 상기 제2 주면측에 있어서, 상기 제2 주면에 평행한 이동 방향으로 연장됨과 더불어, 상기 제2 주면에 평행하고 또한 상기 이동 방향에 수직인 폭 방향으로 서로 떨어져 배치되는 한 쌍의 가이드 레일과,
    상기 베이스 플레이트에 장착되고, 상기 이동 방향으로 이동 가능한 상태로 상기 한 쌍의 가이드 레일과 각각 걸어맞춰지는 한 쌍의 레일 걸어맞춤부와,
    코일을 포함하는 가동자 및 영구 자석을 포함하는 고정자를 갖고, 상기 베이스 플레이트의 상기 제2 주면측에 있어서 상기 한 쌍의 가이드 레일 사이에 배치되며, 상기 가동자를 상기 이동 방향으로 이동시키는 리니어 모터와,
    상기 가동자를 상기 베이스 플레이트에 대해서 고정하는 가동자 고정부를 구비하고,
    상기 베이스 플레이트의 상기 제2 주면에 있어서, 상기 한 쌍의 레일 걸어맞춤부가 장착되는 복수의 장착 영역을 포함하는 최소의 직사각형 영역을 주목 영역으로 하며, 상기 베이스 플레이트에 있어서 상기 가동자 고정부가 고정되는 고정 위치가, 상기 주목 영역보다, 상기 이동 방향 또는 상기 폭 방향의 외측에 위치하는, 스테이지 구동 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 한 쌍의 레일 걸어맞춤부의 각각이, 상기 이동 방향으로 떨어져 상기 베이스 플레이트에 장착되는 복수 개의 가이드 블록을 포함하고,
    상기 베이스 플레이트의 상기 제2 주면에 있어서, 한쪽의 레일 걸어맞춤부에 포함되는 상기 복수 개의 가이드 블록 중 양단의 2개의 가이드 블록, 및, 다른쪽의 레일 걸어맞춤부에 포함되는 상기 복수 개의 가이드 블록 중 양단의 2개의 가이드 블록에 대응하는 4개의 장착 영역이 설치되며, 상기 4개의 장착 영역을 포함하는 최소의 직사각형 영역이, 상기 주목 영역에 포함되는, 스테이지 구동 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 베이스 플레이트에 있어서, 상기 가동자 고정부가 고정되는 고정 영역의 전체가, 상기 주목 영역보다, 상기 이동 방향 또는 상기 폭 방향의 외측에 위치하는, 스테이지 구동 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 가동자 고정부의 상기 고정 위치가, 상기 주목 영역보다 상기 이동 방향의 외측에 위치하는, 스테이지 구동 장치.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가동자 고정부가,
    상기 이동 방향으로 연장되는 제1 지지 부재와,
    상기 제1 지지 부재의 양단에 각각 장착되고, 상기 베이스 플레이트에 고정되는 한 쌍의 제2 지지 부재를 구비하며,
    상기 베이스 플레이트에 있어서, 각 제2 지지 부재가 고정되는 고정 위치가, 상기 주목 영역보다 상기 이동 방향의 외측에 위치하는, 스테이지 구동 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 각 제2 지지 부재가, 상기 폭 방향으로 연장되어 있고,
    상기 각 제2 지지 부재의 양단에 한 쌍의 돌기부가 설치되며,
    상기 한 쌍의 돌기부가, 상기 베이스 플레이트에 있어서의 상기 주목 영역보다 상기 이동 방향 외측의 부위에 있어서, 상기 폭 방향에 있어서의 양단부에 각각 고정되는, 스테이지 구동 장치.
  7. 대상물 상에 패턴을 묘화하는 묘화 장치로서,
    스테이지 상에 대상물이 유지되는, 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 기재된 스테이지 구동 장치와,
    광원으로부터의 광을 변조하여, 상기 스테이지 상의 대상물에 조사하는 광출사부와,
    상기 스테이지 구동 장치 및 상기 광출사부를 제어하는 제어부를 구비하는, 묘화 장치.
  8. 대상물 상에 패턴을 묘화하는 묘화 장치로서,
    스테이지 상에 대상물이 유지되는, 청구항 5에 기재된 스테이지 구동 장치와,
    광원으로부터의 광을 변조하여, 상기 스테이지 상의 대상물에 조사하는 광출사부와,
    상기 스테이지 구동 장치 및 상기 광출사부를 제어하는 제어부를 구비하는, 묘화 장치.
  9. 대상물 상에 패턴을 묘화하는 묘화 장치로서,
    스테이지 상에 대상물이 유지되는, 청구항 6에 기재된 스테이지 구동 장치와,
    광원으로부터의 광을 변조하여, 상기 스테이지 상의 대상물에 조사하는 광출사부와,
    상기 스테이지 구동 장치 및 상기 광출사부를 제어하는 제어부를 구비하는, 묘화 장치.
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