KR20180138151A - Process for producing optical laminate - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing an optical laminate.
종래, 광학 분야에서 이용되는 다양한 폴리머 필름의 제조에 있어서는, 생산 효율이 좋은 양산 방식으로서, 롤 형상으로 권취된 띠 형상의 기재를 이용하여, 최종 제품까지 연속적인 가공을 행할 수 있는, 소위 롤투롤(roll to roll) 방식이 널리 채용되고 있다. 예컨대 특허문헌 1에는 장척의 폴리머 필름을 반송하면서 길이 방향으로 연신하여 광학 필름을 제조하는 방법이 기재되어 있다. 또한, 특허문헌 2 및 3에는 롤투롤 방식에 의해 반송되는 필름 상에 하드코트층이나 금속막을 형성하는 방법이 기재되어 있다. 이들 방법에서는, 필름이나 필름 상에 형성되는 층이나 막에 상처가 나는 것을 방지하는 것 등을 목적으로 하여, 반송 중인 필름의 대전량이 소정의 값 이하가 되도록 제전(除電)하는 공정이 포함되는 것이 기재되어 있다. BACKGROUND ART [0002] Conventionally, in the production of various polymer films used in the optical field, there has been proposed a mass production method in which production efficiency is improved by using a strip-shaped base material wound in a roll shape, (roll to roll) method is widely adopted. For example,
타원편광판 등의 광학 적층체는, 위상차 필름이나 편광 필름 등의 다양한 광학 필름을 적층시킴으로써 제조할 수 있다. 이러한 광학 분야에서 이용되는 광학 적층체의 제조는, 이물의 혼입을 막기 위해서, 통상 공기 중에 떠다니는 이물이 적은 클린룸 내에서 행해지고 있다. 그러나, 광학 필름의 적층 공정 중에 광학 필름의 단부 등이 박리되는 경우가 있고, 박리된 필름 조각이 이물이 되어, 얻어지는 광학 적층체의 외표면에 부착함으로써, 얻어지는 광학 적층체에 결함을 일으킬 뿐만 아니라, 박리된 필름 조각 등의 이물이 클린룸 내에 잔존함으로써, 잔존한 이물에 의해 그 후에 제조되는 광학 적층체에 연속적인 결함을 일으킬 가능성이 있다. An optical laminate such as an elliptically polarizing plate can be produced by laminating various optical films such as a retardation film and a polarizing film. The production of the optical laminate used in such an optical field is performed in a clean room in which there is usually a small amount of foreign matter floating in the air in order to prevent incorporation of foreign matter. However, the end portions of the optical film may peel off during the laminating process of the optical film, and the peeled film pieces become foreign substances and adhere to the outer surface of the resulting optical laminate, which not only causes defects in the obtained optical laminate , Foreign matter such as a peeled film piece remains in the clean room, and there is a possibility of causing continuous defects in the optical laminate to be subsequently produced by the remaining foreign matter.
이 때문에, 광학 적층체의 제조 공정에서는, 이물에 의한 제조 중인 광학 적층체 자신의 상처 방지에 더하여, 클린룸 내의 이물의 잔존량을 가능한 한 적게 할 필요가 생긴다. 한편, 최근의 화상 표시 장치의 박형화에 따라, 중합성 액정 화합물을 기재나 배향막 상에 도포하여 배향 상태에서 경화시킴으로써 얻어지는 액정 경화막으로 이루어지는 위상차 필름 등의 광학 필름이 개발되어 있다. 이러한 액정 경화막을 포함하는 광학 필름에서는, 특히 액정 경화막의 단부가 벗겨 떨어져 이물을 발생시키기 쉽다는 것을 알게 되었다. Therefore, in the process of manufacturing the optical laminate, it is necessary to reduce the amount of foreign matter remaining in the clean room as much as possible in addition to prevention of scratches of the optical laminate itself during manufacture by the foreign object. On the other hand, optical films such as a retardation film made of a liquid crystal cured film obtained by coating a polymerizable liquid crystal compound on a substrate or an alignment film and curing in an aligned state have been developed in recent years due to the thinness of the image display apparatus. It has been found that an optical film containing such a liquid crystal cured film is particularly liable to peel off an end portion of the liquid crystal cured film and easily generate foreign matter.
따라서, 본 발명은 제조 공정 중에 생기는 광학 적층체를 구성하는 재료에 유래하는 이물의 제조 현장에 있어서의 잔존량을 저감하는 광학 적층체의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is therefore an object of the present invention to provide a process for producing an optical laminate which reduces the amount of foreign matter derived from the material constituting the optical laminate during the manufacturing process.
본 발명은 이하의 적합한 양태를 제공하는 것이다. The present invention provides the following preferred embodiments.
[1] 광학 필름(1)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체 층(2)을 구비하고, 상기 중합체 층(2)이 상기 광학 필름(1)과, 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 적층되어 이루어지는 광학 적층체(4)를 제조하는 방법으로서, (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, wherein the polymer layer (2) comprises the optical film (1), the pressure sensitive adhesive or the adhesive layer (3) (4), wherein the optical laminate (4)
장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체 층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 중합체 층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A), And a polymer layer (2) laminated on the base film (5), wherein the base film (5) is made of a long base material (A), (B) and (C), the film-adhered polymer layer (6)
상기 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)에 대하여, 상기 중합체 층(2) 측에 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체 층(2)과, 이 중합체 층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 접합 공정(B), 및 (3) on the polymer layer (2) side with respect to the base polymer film layer (6) carried by the base film adhered polymer film layer (A) (1) is bonded to a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded to the polymer layer (2) through the adhesive or adhesive layer (B) for obtaining an elongated
상기 접합 공정(B)에서 얻어지는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정(C)과 함께, (C) of peeling the base film (5) from the optical laminate (7) with a base film obtained in the bonding step (B) to obtain the optical laminate (4)
상기 박리 공정(C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름의 제전 반송 공정(D)(D) of the base film to be transported in the longitudinal direction while discharging the base film (5) after peeling in the peeling step (C)
을 포함하고, 상기 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하이거나, 또는 상기 기재 필름의 제전 반송 공정(D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 광학 적층체의 제조 방법. , And the absolute value of the charge amount of the base polymer film layer (6) after charge elimination in the charge transport step (A) of the base film polymer layer is 0.01 kV or more and 6 kV or less, Wherein an absolute value of the charge amount of the base film (5) after charge elimination in the charge elimination step (D) is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
[2] 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)에 있어서, 상기 중합체 층(2)이 이 중합체 층(2)의 폭 방향 전체에 걸쳐 상기 기재 필름(5) 상에 구비되고, 상기 기재 필름(5)의 폭이 상기 중합체 층(2)의 폭보다도 넓은 상기 [1]에 기재한 제조 방법. (2) is provided on the base film (5) over the entire width of the polymer layer (2), and the base film (5) ) Is larger than the width of the polymer layer (2).
[3] 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)에 있어서, 상기 기재 필름(5) 상에 상기 중합체 층(2)이 배향층(8)을 통해 적층되어 있으며, 상기 배향층(8)이 폭 방향 전체에 걸쳐 상기 기재 필름(5) 상에 적층되어 있고, 상기 기재 필름(5)의 폭이 상기 배향층(8)의 폭보다도 넓은 상기 [1] 또는 [2]에 기재한 제조 방법. In the
[4] 상기 기재 필름 부착 광학 적층체(7)에 있어서, 상기 중합체 층(2)의 폭이 상기 점착제 또는 접착제 층(3)의 폭보다도 넓은 상기 [1]∼[3] 중 어느 것에 기재한 제조 방법. [4] The optical laminate with base film (7) according to any one of [1] to [3], wherein the width of the polymer layer (2) is larger than the width of the pressure- Gt;
[5] 상기 기재 필름 부착 광학 적층체(7)에 있어서, 상기 기재 필름(5) 상에 상기 중합체 층(2)이 배향층(8)을 통해 적층되어 있고, 상기 배향층(8)의 폭이 상기 점착제 또는 접착제 층(3)의 폭보다도 넓은 상기 [1]∼[4] 중 어느 것에 기재한 제조 방법. (5), the polymer layer (2) is laminated via an orientation layer (8), and the width of the orientation layer (8) Is larger than the width of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3).
[6] 장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체 층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 중합체 층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 방법으로서, [6] A laminate film comprising a long base film (5) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound laminated on the base film (5) As a method for transporting a long
제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 기재 필름 부착 중합체 층의 반송 방법. Wherein the absolute value of the charge amount of the base polymer film layer (6) after the charge elimination is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
[7] 장척의 기재 필름(5)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체 층(2)과, 이 중합체 층(2) 상에 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 제조하는 방법으로서, [7] A multilayer optical film comprising a long base film (5), a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, and a long optical film (2) bonded via the adhesive or adhesive layer (3) A method for producing a long optical film laminate (7) with a base film (1) capable of peeling off the base film (5) from the polymer layer (2)
상기 장척의 기재 필름(5)과 이 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체 층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 중합체 층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A), 및 And a polymer layer (2) laminated on the base film (5), wherein the base film (5) comprises a long base material (5) capable of peeling from the polymer layer (A) of carrying out the film-adhered polymer layer (6) on the base polymer film layer transported in the longitudinal direction while eliminating electricity, and
상기 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)에 대하여, 상기 중합체 층(2) 측에 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체 층(2)과, 이 중합체 층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 공정(B)(3) on the polymer layer (2) side with respect to the base polymer film layer (6) carried by the base film adhered polymer film layer (A) (1) is bonded to a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded to the polymer layer (2) through the adhesive or adhesive layer (B) of obtaining an elongated
을 포함하고, 상기 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 기재 필름 부착 광학 적층체의 제조 방법. , And the absolute value of the charge amount of the base polymer film layer (6) after charge elimination in the charge transport step (A) of the base film polymer layer is 0.01 kV or more and 6 kV or less, ≪ / RTI >
[8] 장척의 광학 필름(1)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체 층(2)을 구비하고, 상기 중합체 층(2)이 상기 광학 필름(1)과, 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 적층되어 있는 광학 적층체(4)를 제조하는 방법으로서, And a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, wherein the polymer layer (2) comprises the optical film (1) and a pressure-sensitive adhesive or an adhesive layer 3), the method comprising the steps of:
장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체 층(2)과, 이 중합체 층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정(C)과 함께 1. An optical film comprising a long base film (5), a polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded to the polymer layer (2) via the pressure sensitive adhesive or adhesive layer (3) The peeling step (C) of peeling the
상기 박리 공정(C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름의 제전 반송 공정(D)을 구비하고, (D) of transporting the base film in the longitudinal direction while removing the base film (5) after peeling in the peeling step (C)
상기 기재 필름의 제전 반송 공정(D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 광학 적층체의 제조 방법.Wherein an absolute value of a charge amount of the base film (5) after charge elimination in the charge transport step (D) of the base film is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
본 발명에 따르면, 제조 공정 중에 생기는 광학 적층체를 구성하는 재료에 유래하는 이물의 제조 현장에 있어서의 잔존량을 저감하는 광학 적층체의 제조 방법을 제공할 수 있다. According to the present invention, it is possible to provide a method of manufacturing an optical laminate that reduces the amount of foreign matter derived from the material constituting the optical laminate during the production process.
도 1은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법의 일 실시양태를 설명하기 위한 개략도이다.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 제조되는 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 기재 필름 부착 중합체 층의 층 구성의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 4는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 기재 필름 부착 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 5는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 일 실시양태인 기재 필름 부착 중합체 층을 폭 방향을 따라서 절단한 경우의 단면 모식도이다.
도 6은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 일 실시양태인 기재 필름 부착 중합체 층을 폭 방향을 따라서 절단한 경우의 단면 모식도이다.
도 7은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 일 실시양태인 기재 필름 부착 광학 적층체를 폭 방향을 따라서 절단한 경우의 단면 모식도이다. BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a schematic view for explaining an embodiment of a method for producing an optical laminate of the present invention. FIG.
2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical laminate manufactured by the method of producing an optical laminate of the present invention.
Fig. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the base film-adhered polymer layer used in the production method of the optical laminate of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the optical laminate with a base film used in the method of manufacturing the optical laminate of the present invention.
Fig. 5 is a cross-sectional schematic diagram of a polymer layer with a base film, which is an embodiment used in the method for producing an optical laminate of the present invention, cut along the width direction. Fig.
Fig. 6 is a schematic cross-sectional view of a polymer layer with a base film, which is an embodiment used in the method for producing an optical laminate of the present invention, cut along the width direction. Fig.
Fig. 7 is a cross-sectional schematic diagram of an optical laminate with a base film, which is an embodiment used in the method for producing the optical laminate of the present invention, cut along the width direction. Fig.
이하, 본 발명의 실시형태에 관해서 상세히 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시형태에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 취지를 해치지 않는 범위에서 다양한 변경을 할 수 있다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The scope of the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
<광학 적층체의 제조 방법> ≪ Method of producing optical laminate >
본 발명은, 점착제 또는 접착제 층을 통해 적층된, 광학 필름 및 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체 층을 구비한 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다. 예컨대, 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 얻어지는 대표적인 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도시한 도 2에 따라서 설명하면, 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 의해, 광학 필름(1)의 한쪽의 면에 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 적층된 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성된 중합체 층(2)(이하, 단순히 「중합체층(2)」이라고도 한다)로 이루어지는 광학 적층체(4)를 제조할 수 있다. 광학 적층체(4)는, 중합체 층(2)의 점착제 또는 접착제 층(3)과는 반대쪽의 면에 배향층(8)을 갖고 있어도 좋다. The present invention relates to a process for producing an optical laminate comprising a polymer layer composed of a polymer of an optical film and a polymerizable liquid crystal compound laminated through a pressure-sensitive adhesive or an adhesive layer. 2, which shows an example of the layer structure of a typical optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate of the present invention, the optical film (1) (Hereinafter simply referred to as "
도 1은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법의 대표적인 일 실시양태를 설명하는 개략도이다. 이하, 도 1에 따라서 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법을 설명한다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic view for explaining an exemplary embodiment of the method for producing an optical laminate of the present invention. Fig. Hereinafter, a method of producing the optical laminate of the present invention will be described with reference to Fig.
본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 장척의 기재 필름(5)과 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 중합체 층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는, 장척의 기재 필름 부착 중합체 층(6)(도 3)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A)(이하, 단순히 「공정(A)」이라고도 한다)을 포함한다. 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 장척의 기재 필름 부착 중합체 층(6)은 권출 롤에 감긴 상태에서 공정(A)에 이용되고, 권출 롤 1(11)에 롤 형상으로 감긴 기재 필름 부착 중합체 층(6)이 권출 롤 1(11)로부터 연속적으로 송출되어, 반송용 롤러(12)에 의해 길이 방향으로 연속적으로 반송된다. A method for producing an optical laminate according to the present invention comprises a long base film (5) and a polymer layer (2) laminated on the base film (5), the base film (5) (Hereinafter simply referred to as " step (A) ") of the polymer layer with a base film, which is transported in the longitudinal direction while removing the long base
본 발명에 있어서, 기재 필름(5)은 이 기재 필름 상에 적층되는 중합체 층(2) 또는 배향층(8)으로부터 최종적으로 박리할 수 있는 재료로 이루어지는 것이라면 특별히 제한되는 것은 아니다. 기재 필름(5)으로서는 광학 필름에 이용되는 공지된 재료를 이용할 수 있으며, 수지 기재로 이루어지는 장척의 필름 롤인 것이 바람직하다. 수지 기재로 이루어지는 기재 필름(5)을 구성하는 수지로서는 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀; 폴리비닐알코올; 폴리에틸렌테레프탈레이트; 폴리메타크릴산에스테르; 폴리아크릴산에스테르; 셀룰로오스에스테르; 폴리에틸렌나프탈레이트; 폴리카보네이트; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리에테르케톤; 폴리페닐렌술피드; 및 폴리페닐렌옥사이드 등을 들 수 있다. In the present invention, the base film (5) is not particularly limited as long as it is made of a material that can be finally peeled off from the polymer layer (2) or the alignment layer (8) laminated on the base film. As the
이러한 수지 기재로 이루어지는 기재 필름은 일반적으로 대전하기 쉬운 성질을 갖고 있는 대전성의 수지 기재 필름이며, 예컨대 롤 형상으로 감겨 있던 기재 필름 부착 중합체 층(6)이 권출 롤 1(11)로부터 송출되어 반송될 때에 기재 필름 부착 중합체 층(6)끼리 박리함으로써, 또한 송출된 기재 필름 부착 중합체 층(6)이 반송용 롤러(12)와 접촉, 박리함으로써, 반송 중인 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량은 높아진다. 예컨대, 기재 필름 부착 중합체 층(6)이 기재 필름(5)으로서 수지 기재를 포함하는 경우, 송출된 후의 기재 필름 부착 중합체 층(6)은 제전을 행하지 않는 경우에는 절대치가 7 kV를 넘는 대전량을 갖는다. 이러한 높은 대전량을 가진 채로 광학 적층체를 제조하는 것은, 작업자에 대한 위험을 일으키거나 이용하는 기계 등에 문제점을 일으키거나 할 가능성이 있을 뿐만 아니라, 공기 중에 존재하는 티끌이나 먼지 등이 제조 중인 적층체에 부착되거나 감겨져 들어가거나 함으로써, 얻어지는 광학 적층체에 결함을 일으키는 원인이 된다. 이 때문에, 본 발명에 있어서, 권출 롤 1(11)로부터 송출된 기재 필름 부착 중합체 층(6)은 제전하면서 길이 방향으로 연속적으로 반송된다. The base film made of such a resin base material is generally a chargeable resin base film having a property of being easily charged. For example, the
공정(A)에 있어서, 제전 후의 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하가 되도록 제전하는 것이 바람직하다. 대전량이 상기 하한치 이상이면, 기재 필름 부착 중합체 층(6)이 반송되는 과정에서 기재 필름 부착 중합체 층(6)을 구성하는 재료, 특히 중합체 층(2)이나 배향층(8) 등의 단부가 벗겨져 떨어짐으로 인해 생기는 이물이 기재 필름(5)에 부착되기 쉽고, 또한, 벗겨 떨어질 것 같이 된 단부가 대전에 의한 흡착에 의해서 탈락하지 않고서 기재 필름(5) 상에 머물기 쉬우므로, 그 후의 공정에서 박리되는 기재 필름(5)과 함께 이물을 제조 현장(클린룸)(20)으로부터 배출할 수 있다. 이에 따라, 제조 현장에 있어서의 기재 필름 부착 중합체 층(6)을 구성하는 재료에 유래하는 이물의 잔존량을 저감할 수 있다. In the step (A), it is preferable to eliminate the static charge so that the absolute value of the charge amount of the
종래, 공기 중의 티끌이나 먼지의 부착을 방지하거나 이상 방전을 방지하거나 한다는 관점에서, 롤투롤 방식으로 반송되는 필름의 대전량은 낮으면 낮을수록(이상적으로는 0 kV) 바람직하다고 생각되어 왔다(예컨대, 상기 특허문헌 등). 그러나, 본 발명과 같은 중합성 액정 화합물의 중합체로 이루어지는 중합체 층이나 배향층 등을 포함하는 광학 적층체의 제조 방법에 있어서는, 대전량을 가능한 한 0 kV에 가깝게 한 경우, 공기 중에 존재하는 티끌이나 먼지 등이 제조 중인 적층체(필름)에 부착되기 어렵게 되는 한편, 주로 제조 공정 중에 발생하는, 목적으로 하는 광학 적층체 자체를 구성하는 재료에 유래하여 생기는 이물도 흡착하기 어렵게 된다. 이러한 이물은 제조 현장 내에 잔존하여, 그 후에 제조되는 광학 적층체에 연속적인 결함을 일으킬 가능성이 있다. 본 발명에서는, 이러한 광학 적층체를 구성하는 재료에 유래하여 생기는 이물을 보다 효과적으로 기재 필름(5)에 흡착시켜, 제조 현장 내에의 이물의 잔존량을 저감시킨다는 관점에서, 공정(A)에 있어서의 제전 후의 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량의 절대치의 하한치는, 0.03 kV 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.05 kV 이상인 것이 더욱 바람직하고, 0.07 kV 이상인 것이 특히 바람직하다. 나아가서는 공정(A)에 있어서의 제전 후의 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량(절대치)이 상기 하한치 이상, 나아가서는 0.5 kV 이상, 특히는 1.0 kV 이상을 유지하는 것이 바람직하다. From the viewpoint of preventing sticking of dust or dust in the air or preventing abnormal discharge, it has been conventionally thought that the lower the charging amount of the film conveyed by the roll-to-roll method (ideally, 0 kV) , The above patent documents, etc.). However, in the method for producing an optical laminate including the polymer layer, the orientation layer, and the like made of the polymer of the polymerizable liquid crystal compound as in the present invention, when the charge amount is made as close as possible to 0 kV, Dust and the like are hardly adhered to the laminate (film) to be produced, while foreign matters originating in the material constituting the intended optical laminate itself, which are generated mainly during the manufacturing process, are also difficult to be adsorbed. Such foreign matter remains in the manufacturing site, and there is a possibility to cause continuous defects in the optical laminate to be manufactured thereafter. In the present invention, from the viewpoint of effectively adsorbing foreign matter originating from the material constituting the optical laminate to the
또한, 이상 방전의 방지, 안전성 등의 관점에서, 공정(A)에 있어서의 제전 후의 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량의 절대치의 상한치는 5 kV 이하인 것이 보다 바람직하고, 3 kV 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1 kV 이하인 것이 특히 바람직하다. From the viewpoints of prevention of abnormal discharge, safety, and the like, the upper limit value of the absolute value of the electrification amount of the
기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량은 예컨대 공지된 제전 장치 등을 이용함으로써 제어할 수 있다. 제전 장치로서는 예컨대 이온풍을 발생하는 이온풍 제전 장치, 자외선이나 연X선에 의한 광 조사식 제전 장치, 자기 방전식 제전 장치, 제전 브러시, 제전 끈, 접지(어스) 등을 들 수 있으며, 이용하는 롤투롤의 설비 등에 맞춰 적절하게 선택하면 된다. 제전 장치는 1종만을 이용하여도 좋고, 복수를 조합하여 이용하여도 좋다. 본 발명에 있어서 제전 장치로서는, 신속하면서 또한 확실하게 제전을 행할 수 있으므로, 이온풍 제전 장치 및 광 조사식 제전 장치가 바람직하다. 본 발명에 따르면, 이온풍 제전 장치를 이용한 경우에도, 박리된 필름 조각의 이온풍에 의한 비산을 억제할 수 있기 때문에, 이온풍 제전 장치의 이용이 보다 바람직하다. 이온풍 제전 장치를 이용하는 경우, 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 기재 필름(5) 측에 이온풍이 맞도록 이온풍 제전 장치를 반송 경로를 따라서 설치하는 것이 바람직하다. The charge amount of the
공정(A)에 있어서, 반송 중인 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 전체 길이에 걸쳐 그 대전량이 상기 범위를 유지하도록 제어되고 있는 것이 바람직하다. 이 때문에, 권출 롤 1(11)로부터 기재 필름 부착 중합체 층(6)이 송출된 직후에 제전 장치(13)를 설치하는 것이 바람직하며, 예컨대, 마찰에 의해 대전량이 높아지기 쉬운 반송용 롤러(12)와 접촉 후의 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량을 제어할 수 있도록 반송용 롤러(12)의 하류 측에 설치하는 등, 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 반송 경로를 따라서 적절하게 제전 장치를 설치함으로써, 반송 중인 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량을 제어하는 것이 바람직하다. 또한, 제전 후의 기재 필름 부착 중합체 층(6)은, 상술한 대전량(절대치)의 하한치를 유지할 수 있도록 접지(어스)시키지 않고서 반송하여도 좋고, 기재 필름이 대전성의 수지 기재 필름이라면, 추가의 제전을 행하지 않고서 그대로 반송하여도 좋다. In the step (A), it is preferable that the charge amount is controlled so as to remain within the above range over the entire length of the base
또한, 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량은, 제전 장치의 하류 영역에, 표면 전위(전계) 측정기 등의 대전량 측정 장치를 설치함으로써 측정할 수 있다. The charge amount of the base
본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 상기 공정(A)에 의해 반송되는 기재 필름 부착 중합체 층(6)에 대하여, 중합체 층(2) 측에 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과 중합체 층(2)과 이 중합체 층(2) 상에 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)(도 4)를 얻는 접합 공정(B)(이하, 단순히 「공정(B)」이라고도 한다)을 포함한다. The method for producing an optical laminate according to the present invention is a method for producing an optical laminate according to the present invention in which a polymer layer (6) with a base film carried by the above step (A) The
본 발명의 일 실시양태에 있어서, 공정(B)에서는, 공정(A)에 의해 연속적으로 반송되는 기재 필름 부착 중합체 층(6)을 구성하는 중합체 층(2)의 기재 필름(5) 측과는 반대쪽의 면에, 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)을 반송하면서 점착제 또는 접착제 층(3)을 연속적으로 형성한다. 점착제 또는 점착제층(3)은 예컨대 점착제 또는 접착제(3')를 도포함으로써 마련할 수 있다. 점착제 또는 접착제의 도포는 통상의 방법, 예컨대 용제로 희석한 접착제를, 혹은 무희석의 접착제를 그라비아코터, 다이코터 등에 의해 도포하는 방법에 의해 행할 수 있다. 공정(B)에 있어서 점착제 또는 접착제는, 기재 필름 부착 중합체 층(6)을 구성하는 기재 필름(5)과는 반대쪽 층의 최외면(예컨대, 도 3에서는 중합체 층(2) 측)에 도포하면 되지만, 기재 필름 부착 중합체 층(6)에 접합되는 광학 필름(1) 측에 도포하여도 좋다. 이어서, 점착제 또는 접착제가 도포된 기재 필름 부착 중합체 층(6)을 반송하면서, 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 중합체 층(2) 측에 권출 롤 2(14)로부터 연속적으로 송출된 광학 필름(1)을 중첩하고, 닙 롤(15)에 의해 압착함으로써, 기재 필름 부착 중합체 층(6)에 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 접합된 광학 필름(1)을 포함하는 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 연속적으로 얻을 수 있다. In one embodiment of the present invention, in the step (B), the side of the
중합체층(2) 위 또는 광학 필름(1) 위에 점착제 또는 접착제 층(3)을 형성할 때, 점착제 또는 접착제(3')를 중합체 층(2)의 폭과 동일한 폭으로 도포하여도 좋지만, 점착제 또는 접착제 층(3)과 중합체 층(2)을 압착시킬 때에, 점착제 또는 접착제가 적층체의 측면으로 비어져 나오기 어렵고, 얻어지는 광학 적층체가 깨끗하게 마무리되므로, 점착제 또는 접착제를 중합체 층(2)의 폭보다도 좁은 폭으로 도포하여, 얻어지는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)에 있어서 중합체 층(2)의 폭이 점착제 또는 접착제 층(3)의 폭보다 넓은 것이 바람직하다. The pressure sensitive adhesive or the adhesive 3 'may be applied in the same width as the width of the
공정(A)에 있어서 기재 필름(5)에 부착시킨 이물의 제조 현장(클린룸) 밖으로의 확실한 배출을 가능하게 하기 위해서, 또한 공정(B)에 있어서 새롭게 생길 수 있는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 구성 재료에 유래하는 이물을 기재 필름(5)에 부착시켜 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출하기 위해서, 공정(B)에 있어서, 반송되는 기재 필름 부착 중합체 층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 대전량의 절대치는 0.01 kV 이상 6 kV 이하로 제어되고 있는 것이 바람직하고, 0.03 kV 이상 5 kV 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.05 kV 이상 3 kV 이하인 것이 더욱 바람직하고, 0.07 kV 이상인 것이 특히 바람직하다. 나아가서는 공정(B)에 있어서 반송시키는 기재 필름 부착 중합체 층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 대전량(절대치)이 상기 하한치 이상, 나아가서는 0.5 kV 이상, 특히는 1.0 kV 이상을 유지하는 것이 바람직하다. 공정(B)에 있어서의 기재 필름 부착 중합체 층(6)및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 대전량은 공정(A)에 있어서의 방법과 같은 방법에 의해 제어할 수 있다. 공정(B)의 전역에 걸쳐, 기재 필름 부착 중합체 층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 대전량이 상기 범위로 제어되면서 또한 유지되고 있는 것이 바람직하다. 또한, 제전 후의 기재 필름 부착 중합체 층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)는, 상기 대전량(절대치)의 하한치를 유지할 수 있도록 접지시키지 않고서 반송하여도 좋고, 기재 필름이 대전성의 수지 기재 필름이라면, 추가의 제전을 행하지 않고서 그대로 반송하여도 좋다. In order to allow reliable discharge of foreign matter adhering to the
또한, 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 공정(B)에서 얻어진 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 기재 필름(5)을 박리하여 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정(C)(이하, 단순히 「공정(C)」이라고도 한다)과 함께, 공정(C)에서 박리된 후의 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름의 제전 반송 공정(D)(이하, 단순히 「공정(D)」이라고도 한다)을 포함한다. 기재 필름(5)에 부착된 이물을 기재 필름(5)과 함께 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출하기 위해서, 공정(C)과 공정(D)은 통상 동시에 행해진다. 공정(C)에서 적층체로부터 기재 필름(5)을 박리하면서, 공정(D)에서 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량을 특정 범위로 제어함으로써, 기재 필름(5)에 이물을 부착시킨 채로 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출하는 것이 가능하게 된다. The method for producing an optical laminate of the present invention is a peeling step (C) for obtaining an optical laminate (4) by peeling a base film (5) from an optical laminate (7) (Hereinafter simply referred to simply as " step (C) ") of the base film to be transported in the longitudinal direction while eliminating the
본 발명의 일 실시양태에 있어서, 공정(B)에서 얻어진 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 길이 방향으로, 기재 필름(5) 측을 박리용 롤(16)에 품게 하고, 광학 적층체(4) 측은 품게 하지 않고서 연속적으로 반송함으로써, 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 기재 필름(5)을 연속적으로 박리한다. 이 때, 도 7에 도시한 것과 같이, 중합체 층(2)의 폭이 점착제 또는 접착제 층(3)의 폭보다 넓으면, 중합체 층(2)에 있어서 점착제 또는 접착제 층(3)에 접착되지 않는 영역(2a)이 존재하여, 기재 필름(5)을 박리한 경우 상기 영역(2a)은 기재 필름(5) 상에 잔존하기 쉽다. 기재 필름(5) 상에 잔존한 상기 영역(2a)은, 기재 필름(5)과의 밀착성이 낮기 때문에, 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 박리한 후의 기재 필름(5)으로부터 미세한 박리 조각으로서 탈락하기 쉽다. 또한, 중합체 층(2)이 배향층(8)을 통해 기재 필름(5) 상에 적층되어 있는 경우에는, 배향층(8)과 기재 필름(5)의 관계에 있어서, 상기 중합체 층(2)과 기재 필름(5)의 관계와 같은 문제가 생기기 쉽다. In one embodiment of the present invention, the
이러한 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 박리한 후의 기재 필름(5)으로부터 중합체 층(2)의 잔존 영역(2a) 등이 박리 조각(이물)으로서 탈락하는 것을 방지하기 위해서, 공정(D)에 있어서, 공정(C)에서 박리된 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하인 것이 바람직하다. 상기 중합체 층(2)의 잔존 영역(2a)의 탈락을 방지함과 더불어, 공정(A)이나 공정(B) 등에 있어서 기재 필름(5)에 이미 부착되어 있는 이물을 기재 필름(5)에 흡착시킨 채로 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출하여, 제조 현장 내에의 이물의 잔존량을 저감시킨다는 관점에서, 공정(D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대치의 하한치는 0.03 kV 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.05 kV 이상인 것이 더욱 바람직하고, 0.07 kV 이상인 것이 특히 바람직하다. 나아가서는 공정(D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량(절대치)이 상기 하한치 이상, 나아가서는 0.5 kV 이상, 특히는 0.6 kV 이상, 특히 0.7 kV 이상을 유지하는 것이 바람직하다. 또한, 이상 방전 방지나 안전성 등의 관점에서, 공정(D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대치의 상한치는, 5 kV 이하인 것이 보다 바람직하고, 3 kV 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1 kV 이하인 것이 특히 바람직하다. 또한, 기재 필름(5)은, 상기 대전량(절대치)의 하한치를 유지할 수 있도록 접지시키지 않고서 반송하여도 좋고, 기재 필름이 대전성의 수지 기재 필름이라면 그대로 반송하여도 좋다. In order to prevent the
공정(A)에 있어서의 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량과 공정(D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량은, 같은 정도이거나, 공정(D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대치가 공정(A)에 있어서의 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량의 절대치보다 큰 것이 바람직하다. 공정(D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대치가 충분히 크면, 박리된 기재 필름(5)에 이물을 부착시킨 채로 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출할 수 있어, 제조 현장 내의 이물의 잔존량을 효과적으로 저감할 수 있다. 또한, 공정(A)∼공정(D)의 전체 공정에 걸쳐, 제조 중인 적층체(필름)의 대전량이 0.01 kV 이상 6 kV 이하의 범위로 제어되어 유지되고 있으면, 일단 기재 필름(5)에 부착된 이물이 제조 현장 내에 넘쳐 흘러 떨어지기 어렵고, 박리되는 기재 필름(5)과 함께 제조 현장 밖으로 배출되기 때문에 바람직하다. The charge amount of the
공정(D)에 있어서, 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량은, 공정(A)에 있어서의 방법과 마찬가지로 공지된 제전 장치 등을 이용함으로써 제어할 수 있다. 제조 현장 내에 이물이 잔존하지 않도록, 공정(D)에 있어서 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량은, 기재 필름이 제조 현장(클린룸)(20) 밖으로 배출될 때까지 상기 범위로 제어되어, 유지되고 있는 것이 바람직하다. 본 발명의 일 실시양태에서, 공정(D)에 있어서 제전 장치(13)는, 필요에 따라서 박리용 롤(16)의 하류 측에 바람직하게는 직후에 설치될 수 있다. The amount of charge of the
또한, 공정(D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대치가 공정(C)에서 얻어지는 광학 적층체(4)의 대전량의 절대치보다 큰 것이 바람직하다. 광학 적층체(4)의 대전량보다 기재 필름(5)의 대전량이 크면, 이물이 기재 필름(5)에 의해 부착되기 쉽게 되어, 얻어지는 광학 적층체(4) 상에 이물이 부착되어 결함을 일으킬 가능성을 저감할 수 있다. 본 발명의 일 실시양태에서, 공정(C)에 있어서의 광학 적층체(4)의 대전량의 절대치에 대하여 공정(D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대치는, 0.02 kV 이상 큰 것이 바람직하고, 0.05 kV 이상큰 것이 보다 바람직하다. It is also preferable that the absolute value of the charge amount of the
본 발명의 일 실시양태에 있어서, 기재 필름 부착 중합체 층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 중합체 층(2)은, 이 중합체 층(2)의 폭 방향 전체에 걸쳐 기재 필름(5) 상에 구비되어 있고, 상기 기재 필름(5)의 폭은 상기 중합체 층(2)의 폭보다도 넓다. 이러한 양태에 있어서, 중합체 층(2)은, 도 5에 도시한 것과 같이, 기재 필름(5)의 폭 방향의 한쪽 끝 또는 양쪽 끝에 중합체 층(2)이 적층되어 있지 않은 영역(5a)이 존재하도록 적층된다. In one embodiment of the present invention, the
또한, 본 발명의 다른 일 실시양태에 있어서, 중합체 층(2)은 배향층(8)을 통해 기재 필름(5) 상에 적층되어 있으며, 기재 필름 부착 중합체 층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 배향층(8)은, 이 배향층(8)의 폭 방향 전체에 걸쳐 기재 필름(5) 상에 구비되어 있고, 상기 기재 필름(5)의 폭은 상기 배향층(8)의 폭보다도 넓다. 이러한 양태에 있어서 배향층(8)은, 도 6에 도시한 것과 같이, 기재 필름(5)의 폭 방향의 한쪽 끝 또는 양쪽 끝에 배향층(8)이 적층되어 있지 않은 영역(5a)이 존재하도록 적층된다. 이러한 기재 필름 부착 중합체 층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)에 있어서, 중합체 층(2)은 통상 배향층(8) 상에 형성되는 층이기 때문에, 중합체 층(2)의 폭은 상기 배향층(8)의 폭과 같거나 좁은 것이 바람직하다. In another embodiment of the present invention, the
이러한 층 구성을 갖는 기재 필름 부착 중합체 층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)에 있어서는, 기재 필름(5)과 중합체 층(2) 또는 배향층(8)의 단부가 접하는 경계(5b) 부근에서 중합체 층(2) 또는 배향층(8)이 기재 필름(5)으로부터 박리되기 쉽고, 제조 공정 중에 미세한 박리 조각이 이물로 되어 생기기 쉽다. 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에서는, 공정(A), 바람직하게는 공정(A) 및 공정(B)의 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량을 제어함으로써, 제조 중에 생기는 이물을 기재 필름(5)에 부착시켜 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출할 수 있으므로, 상기와 같은 층 구성을 갖는 기재 필름 부착 중합체 층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 이용하는 광학 적층체의 제조 방법으로서 특히 적합하다. 더욱이, 기재 필름(5)의 폭 방향의 양끝에 중합체 층(2) 또는 배향층(8)이 적층되어 있지 않은 영역(5a)이 존재함으로써, 적층되는 중합체 층(2)이나 배향층(8)의 단부가 벗겨져 떨어짐으로 인해 생기는 미세한 이물이 기재 필름(5)의 상기 영역(5a)에 부착되기 쉽게 되어, 제조 현장 내의 이물의 잔존량의 높은 저감 효과를 기대할 수 있다. In the
기재 필름 부착 중합체 층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 기재 필름(5)의 폭은, 그 기재 필름(5) 상에 적층되는 중합체 층(2) 또는 배향층(8)의 폭보다 0.5∼10% 넓은 것이 바람직하고, 0.7∼5% 넓은 것이 보다 바람직하다. The width of the
공정(C)에 의해 얻어지는 광학 적층체(4)는 그 하류 측에 위치하는 권취 롤(17)에 의해 권취할 수 있다. 얻어진 광학 적층체(4)는, 필요에 따라서 슬릿 가공, 펀칭, 칩 컷트, 단부면 연마 등의 외형 가공을 실시함으로써 원하는 형상으로 할 수 있음과 동시에, 광학 적층체(4)의 측면이나 단부에 부착된 이물을 제거할 수 있다. The
본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 있어서, 공정(A) 및 공정(B), 그리고 공정(C)과 공정(D)은 각각 연속해서 행해지더라도 좋고, 독립적으로 행해지더라도 좋다. 예컨대 본 발명에 있어서, 공정(B)에서 얻어진 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를, 공정(B)에서 공정(C)으로 연속적으로 반송하여 광학 적층체(4)를 얻더라도 좋고, 공정(B)에서 제조되는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 일단 권취 롤에 권취한 후, 공정(A) 및 공정(B)과는 별도 라인으로 공정(C) 및 공정(D)을 행하여도 좋다. In the method for producing an optical laminate of the present invention, the step (A) and the step (B), and the step (C) and the step (D) may be performed successively or independently. For example, in the present invention, the
따라서, 본 발명은, Therefore,
상기 공정(A)에 의한 기재 필름 부착 중합체 층의 반송 방법, A method of transporting the polymer layer with a base film according to the above step (A)
상기 공정(A) 및 공정(B)을 포함하는 기재 필름 부착 광학 적층체의 제조 방법, 그리고A method for producing an optical laminate with a base film including the steps (A) and (B), and
상기 공정(C) 및 공정(D)을 포함하는 광학 적층체의 제조 방법A method for producing an optical laminate including the steps (C) and (D)
도 대상으로 한다. 이하, 이들 방법을 통합하여 「본 발명의 방법」이라고도 한다. 상기 반송 방법 및 제조 방법에서 채용되는 각 공정의 조건 등은 앞서 기재한 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법과 같은 것을 들 수 있다. . Hereinafter, these methods are collectively referred to as " the method of the present invention ". The conditions and the like of each step employed in the carrying method and the manufacturing method may be the same as the manufacturing method of the optical laminate of the present invention described above.
공정(A)∼공정(D)을 연속적으로 행함으로써, 기재 필름(5)에 부착된 이물이 제조 중인 적층체에 감겨 들어감으로써 최종적으로 얻어지는 광학 적층체의 결함을 일으킬 가능성을 저감할 수 있다. By continuously carrying out the steps (A) to (D), the foreign matter adhering to the base film (5) is wound on the laminate under manufacturing, and the possibility of causing defects in the finally obtained optical laminate can be reduced.
본 발명의 방법은, 단부가 벗겨 떨어져 이물을 발생시키기 쉬운 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체 층이나 배향층을 갖는 다양한 광학 적층체의 제조 방법으로서 적합하다. 따라서, 본 발명의 방법은, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체 층을 갖는 적층체를 이용하는 것이라면, 적층체를 구성하는 각 층의 구성 성분은 특별히 한정되지 않으며, 종래 공지된 성분 및 재료 등을 이용할 수 있다. The method of the present invention is suitable as a method for producing various optical laminated bodies having a polymer layer and an orientation layer composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound which is easily peeled off and generates foreign substances. Therefore, the method of the present invention is not particularly limited as long as it uses a laminate having a polymer layer composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound. The constituent components of the respective layers constituting the laminate are not particularly limited, Can be used.
이하, 본 발명의 방법에서 이용되는 기재 필름 부착 중합체 층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)에 포함되는 각 층을 구성할 수 있는 성분·재료 등의 일례를 든다. Hereinafter, examples of the components and materials that can be included in each layer included in the base
본 발명의 방법에 있어서, 중합체 층(2)을 구성하는 중합성 액정 화합물은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 기재 필름 상 또는 배향층 상에 도포, 배향함으로써 광학 이방성을 발현하는 것이 바람직하다. 여기서, 본 발명에서 중합성 액정 화합물이란, 중합성 작용기, 특히 광중합성 작용기를 갖는 액정 화합물을 의미한다. 광중합성 작용기란, 광중합개시제로부터 발생한 활성 라디칼이나 산 등에 의해서 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 광중합성 작용기로서는 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 액정성은 서모트로픽성 액정이라도 리오트로픽성 액정이라도 좋지만, 치밀한 막 두께 제어가 가능하다는 점에서 서모트로픽성 액정이 바람직하다. 또한, 서모트로픽성 액정에 있어서의 상 질서 구조로서는 네마틱 액정이라도 스메틱 액정이라도 좋다. In the method of the present invention, the polymerizable liquid crystal compound constituting the polymer layer (2) is not particularly limited, but it is preferable that the polymerizable liquid crystal compound exhibits optical anisotropy by being applied and oriented on a base film or an orientation layer. Herein, the polymerizable liquid crystal compound in the present invention means a liquid crystal compound having a polymerizable functional group, particularly a photopolymerizable functional group. The photopolymerizable functional group means a group capable of participating in the polymerization reaction by an active radical or an acid generated from a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerizable functional group include a vinyl group, a vinyloxy group, a 1-chlorovinyl group, an isopropenyl group, a 4-vinylphenyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an oxiranyl group and an oxetanyl group. Among them, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxiranyl group and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable. The liquid crystal property may be either a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal, but a thermotropic liquid crystal is preferable because a dense film thickness control is possible. Further, nematic liquid crystals or smectic liquid crystals may be used as the phase ordered structure in the thermotropic liquid crystal.
본 발명의 방법에 이용되는 중합성 액정 화합물로서는 예컨대 하기 식(I)의 구조를 갖는 화합물을 들 수 있다. Examples of the polymerizable liquid crystal compound used in the method of the present invention include compounds having the structure of the following formula (I).
식(I) 중, Ar는 2가의 방향족기를 나타내고, 이 2가의 방향족기 중에는 질소 원자, 산소 원자, 유황 원자 중 적어도 하나 이상이 포함된다. In formula (I), Ar represents a divalent aromatic group, and at least one of nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom is contained in the divalent aromatic group.
G1 및 G2는 각각 독립적으로 2가의 방향족기 또는 2가의 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 여기서, 상기 2가의 방향족기 또는 2가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1∼4의 알킬기, 탄소수 1∼4의 플루오로알킬기, 탄소수 1∼4의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 2가의 방향족기 또는 2가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가 산소 원자, 유황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 좋다. G 1 and G 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group. Here, the hydrogen atom contained in the bivalent aromatic group or bivalent alicyclic hydrocarbon group is preferably a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, The carbon atom constituting the bivalent aromatic group or the divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom.
L1, L2, B1 및 B2는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기이다. L 1 , L 2 , B 1 and B 2 are each independently a single bond or a divalent linking group.
k, l은 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타내고, 1≤k+l의 관계를 만족한다. 여기서, 2≤k+l인 경우, B1 및 B2, G1 및 G2는 각각 상호 동일하더라도 다르더라도 좋다. k and l each independently represent an integer of 0 to 3, and satisfy the
E1 및 E2는 각각 독립적으로 탄소수 1∼17의 알칸디일기를 나타내고, 여기서, 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋고, 상기 알칸디일기에 포함되는 -CH2-는 -O-, -Si-로 치환되어 있어도 좋다. E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, wherein the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, and -CH 2 - included in the alkanediyl group is -O-, or -Si-.
P1 및 P2는 상호 독립적으로 중합성기 또는 수소 원자를 나타내고, 적어도 하나는 중합성기이다. P 1 and P 2 independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom, and at least one of them is a polymerizable group.
G1 및 G2는 각각 독립적으로 바람직하게는 할로겐 원자 및 탄소수 1∼4의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 치환기로 치환되어 있어도 좋은 1,4-페닐기, 할로겐 원자 및 탄소수 1∼4의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 치환기로 치환되어 있어도 좋은 1,4-시클로헥실기이고, 보다 바람직하게는 메틸기로 치환된 1,4-페닐기, 무치환의 1,4-페닐기 또는 무치환의 1,4-트랜스-시클로헥실기이며, 특히 바람직하게는 무치환의 1,4-페닐기 또는 무치환의 1,4-트랜스-시클로헥실기이다. G 1 and G 2 are each independently preferably a 1,4-phenyl group which may be substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom and a Cyclohexyl group which may be substituted with at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, more preferably a 1,4-phenyl group substituted with a methyl group, an unsubstituted 1,4-phenyl group, or an unsubstituted Trans-cyclohexyl group, particularly preferably an unsubstituted 1,4-phenyl group or an unsubstituted 1,4-trans-cyclohexyl group.
또한, 복수 존재하는 G1 및 G2 중 적어도 하나는 2가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하고, 또한, L1 또는 L2에 결합하는 G1 및 G2 중 적어도 하나는 2가의 지환식 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다. At least one of G 1 and G 2 which are present is preferably a bivalent alicyclic hydrocarbon group and at least one of G 1 and G 2 bonded to L 1 or L 2 is a divalent alicyclic hydrocarbon group More preferable.
L1 및 L2는 각각 독립적으로 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CRa=CRb- 또는 -C≡C-이다. 여기서 Ra 및 Rb는 탄소수 1∼4의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다. L1 및 L2는 각각 독립적으로 보다 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -COO- 또는 -OCO-이다. L 1 and L 2 are each independently preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 O-, -COO-, -OCO-, -N═N-, -CR a = CR b - or -C? C-. Wherein R a and R b represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom. L 1 and L 2 are each independently preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO- or -OCO-.
B1 및 B2는 각각 독립적으로 바람직하게는 단결합, -O-, -S-, -CH2O-, -COO-, 또는 -OCO-이고, 보다 바람직하게는 단결합, -O-, -COO- 또는 -OCO-이다. B 1 and B 2 are each independently preferably a single bond, -O-, -S-, -CH 2 O-, -COO-, or -OCO-, more preferably a single bond, -O-, -COO- or -OCO-.
k 및 l은 역파장 분산성 발현의 관점에서 2≤k+l≤6의 범위가 바람직하고, k+l=4인 것이 바람직하고, k=2이면서 l=2인 것이 보다 바람직하다. k=2이면서 l=2이면 대칭 구조가 되기 때문에 바람직하다. k and l are preferably in the range of 2? k + l? 6, preferably in the range of k + l = 4, more preferably in the range of k = 2 and l = 2 in view of expression of reverse wavelength dispersion. When k = 2 and l = 2, a symmetrical structure is preferable.
E1 및 E2는 각각 독립적으로 탄소수 1∼17의 알칸디일기가 바람직하고, 탄소수 4∼12의 알칸디일기가 보다 바람직하다. E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms.
P1 또는 P2로 표시되는 중합성기로서는 에폭시기, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기 등을 들 수 있다. Examples of the polymerizable group represented by P 1 or P 2 include an epoxy group, a vinyl group, a vinyloxy group, a 1-chlorovinyl group, an isopropenyl group, a 4-vinylphenyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, Oxetanyl group and the like.
그 중에서도 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. Among them, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxiranyl group and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable.
Ar는 방향족 복소환을 갖는 것이 바람직하다. 이 방향족 복소환으로서는 푸란환, 벤조푸란환, 피롤환, 티오펜환, 피리딘환, 티아졸환, 벤조티아졸환, 티에노티아졸환, 옥사졸환, 벤조옥사졸환 및 페난트롤린환 등을 들 수 있다. 그 중에서도 티아졸환, 벤조티아졸환 또는 벤조푸란환을 갖는 것이 바람직하고, 벤조티아졸기를 갖는 것이 더욱 바람직하다. 또한, Ar에 질소 원자가 포함되는 경우, 그 질소 원자는 π 전자를 갖는 것이 바람직하다. It is preferable that Ar has an aromatic heterocycle. Examples of the aromatic heterocycle include furan ring, benzofuran ring, pyrrole ring, thiophen ring, pyridine ring, thiazole ring, benzothiazole ring, thienothiazole ring, oxazole ring, benzoxazole ring and phenanthroline ring. Among them, those having a thiazole ring, a benzothiazole ring or a benzofuran ring are preferable, and a benzothiazole group is more preferable. When Ar contains a nitrogen atom, the nitrogen atom preferably has a pi electron.
식(I) 중, Ar로 표시되는 2가의 방향족기에 포함되는 π 전자의 합계수 Nπ는 10 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 14 이상이며, 더욱 바람직하게는 18 이상이다. 또한, 바람직하게는 30 이하이고, 보다 바람직하게는 26 이하이며, 더욱 바람직하게는 24 이하이다. In the formula (I), the total number N ? Of the? -Electrons contained in the bivalent aromatic group represented by Ar is preferably 10 or more, more preferably 14 or more, still more preferably 18 or more. Further, it is preferably 30 or less, more preferably 26 or less, and further preferably 24 or less.
Ar로 표시되는 방향족기로서는 예컨대 이하의 기를 들 수 있다. Examples of the aromatic group represented by Ar include the following groups.
식(Ar-1)∼식(Ar-22) 중, * 표시는 연결부를 나타내고, Z0, Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1∼12의 알킬술피닐기, 탄소수 1∼12의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1∼12의 플루오로알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼12의 알킬티오기, 탄소수 1∼12의 N-알킬아미노기, 탄소수 2∼12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1∼12의 N-알킬술파모일기 또는 탄소수 2∼12의 N,N-디알킬술파모일기를 나타낸다. Z 0 , Z 1 and Z 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, A nitro group, an alkylsulfinyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 12 carbon atoms, a carboxyl group, a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, An N-alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, an N, N-dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, an N-alkylsulfamoyl group having 1 to 12 carbon atoms or an N, N-dialkylsulfamoyl group having 2 to 12 carbon atoms .
Q1 및 Q2는 각각 독립적으로 -CR2'R3'-, -S-, -NH-, -NR2'-, -CO- 또는 -O-을 나타내고, R2' 및 R3'은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다. Q 1 and Q 2 each independently represent -CR 2 ' R 3' -, -S-, -NH-, -NR 2 ' -, -CO- or -O-, R 2' and R 3 ' Each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Y1, Y2 및 Y3은 각각 독립적으로 치환되어 있어도 좋은 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소환기를 나타낸다. Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represent an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may be substituted.
W1 및 W2는 각각 독립적으로 수소 원자, 시아노기, 메틸기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m은 0∼6의 정수를 나타낸다. W 1 and W 2 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a methyl group or a halogen atom, and m represents an integer of 0 to 6.
Y1, Y2 및 Y3에 있어서의 방향족 탄화수소기로서는 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기 등의 탄소수 6∼20의 방향족 탄화수소기를 들 수 있으며, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다. 방향족 복소환기로서는 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기 등의 질소 원자, 산소 원자, 유황 원자 등의 헤테로 원자를 적어도 하나 포함하는 탄소수 4∼20의 방향족 복소환기를 들 수 있고, 푸릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기가 바람직하다. Examples of the aromatic hydrocarbon group for Y 1 , Y 2 and Y 3 include an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group and a biphenyl group, and a phenyl group and a naphthyl group are preferable And a phenyl group is more preferable. Examples of the aromatic heterocyclic group include an aromatic group having 4 to 20 carbon atoms and at least one hetero atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom such as a furyl group, a pyrrolyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group and a benzothiazolyl group A heterocyclic group, and a furyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group are preferable.
Y1, Y2 및 Y3은 각각 독립적으로 치환되어 있어도 좋은 다환계 방향족 탄화수소기 또는 다환계 방향족 복소환기라도 좋다. 다환계 방향족 탄화수소기는 축합 다환계 방향족 탄화수소기 또는 방향환 집합에 유래하는 기를 말한다. 다환계 방향족 복소환기는 축합 다환계 방향족 복소환기 또는 방향환 집합에 유래하는 기를 말한다. Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represent a polycyclic aromatic hydrocarbon group or a polycyclic aromatic heterocyclic group which may be substituted. The polycyclic aromatic hydrocarbon group refers to a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group or a group derived from an aromatic ring group. The polycyclic aromatic heterocyclic group means a group derived from a condensed polycyclic aromatic polycyclic group or aromatic ring group.
Z0, Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1∼12의 알콕시기인 것이 바람직하고, Z0은 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 시아노기가 더욱 바람직하고, Z1 및 Z2는 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 메틸기, 시아노기가 더욱 바람직하다. Z 0 , Z 1 and Z 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, a nitro group or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and Z 0 represents a hydrogen atom, More preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cyano group, and Z 1 and Z 2 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group or a cyano group.
Q1 및 Q2는 -NH-, -S-, -NR2'-, -O-이 바람직하고, R2'는 수소 원자가 바람직하다. 그 중에서도 -S-, -O-, -NH-가 특히 바람직하다. Q 1 and Q 2 are preferably -NH-, -S-, -NR 2 ' - or -O-, and R 2' is preferably a hydrogen atom. Among them, -S-, -O- and -NH- are particularly preferable.
식(Ar-1)∼식(Ar-22) 중에서도 식(Ar-6) 및 식(Ar-7)이 분자의 안정성의 관점에서 바람직하다. Among the formulas (Ar-1) to (Ar-22), the formulas (Ar-6) and (Ar-7) are preferable from the viewpoint of stability of the molecule.
식(Ar-16)∼(Ar-22)에 있어서, Y1은 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0와 함께 방향족 복소환기를 형성하고 있어도 좋다. 예컨대, 피롤환, 이미다졸환, 피롤린환, 피리딘환, 피라진환, 피리미딘환, 인돌환, 퀴놀린환, 이소퀴놀린환, 퓨린환, 피롤리딘환 등을 들 수 있다. 이 방향족 복소환기는 치환기를 갖고 있어도 좋다. 또한, Y1은 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0와 함께, 상술한 치환되어 있어도 좋은 다환계 방향족 탄화수소기 또는 다환계 방향족 복소환기라도 좋다. In the formulas (Ar-16) to (Ar-22), Y 1 may form an aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 . Examples thereof include pyrrole, imidazole, pyrrole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, indole, quinoline, isoquinoline, purine, pyrrolidine and the like. This aromatic heterocyclic group may have a substituent. Y 1 may be a polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group which may be substituted as described above, together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 .
Ar로 표시되는 방향족기로서 이하의 식(Ar-23)으로 표시되는 기도 들 수 있다. The aromatic group represented by Ar may be a group represented by the following formula (Ar-23).
식(Ar-23) 중, *, Z1, Z2, Q1 및 Q2는 상기와 같은 의미를 나타내고, U1은 치환기가 결합하고 있어도 좋은 제14속∼제16속의 비금속 원자를 나타낸다. 제14속∼제16속의 비금속 원자로서는 예컨대 탄소 원자, 질소 원자, 산소 원자 및 유황 원자를 들 수 있고, 바람직하게는 =O, =S, =NR' 및 =C(R')R' 등을 들 수 있다. 치환기 R'로서는 예컨대 수소 원자, 할로겐 원자, 알킬기, 할로겐화알킬기, 알케닐기, 아릴기, 시아노기, 아미노기, 니트로기, 니트로소기, 카르복시기, 탄소수 1∼6의 알킬술피닐기, 탄소수 1∼6의 알킬술포닐기, 탄소수 1∼6의 플루오로알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼6의 알킬술파닐기, 탄소수 1∼6의 N-알킬아미노기, 탄소수 2∼12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1∼6의 N-알킬술파모일기, 탄소수 2∼12의 디알킬술파모일기 등을 들 수 있고, 비금속 원자가 탄소 원자(C)인 경우에 있어서의 2개의 R'은 상호 동일하더라도 좋고, 다르더라도 좋다. In the formula (Ar-23), *, Z 1 , Z 2 , Q 1 and Q 2 have the same meanings as above, and U 1 represents a nonmetal atom of the 14th through 16th generations to which a substituent may be bonded. Examples of the nonmetallic atom in the 14th through 16th generations include a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, preferably = O, = S, = NR 'and = C (R') R ' . Examples of the substituent R 'include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a cyano group, an amino group, a nitro group, a nitroso group, a carboxyl group, an alkylsulfinyl group having 1 to 6 carbon atoms, A fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylsulfanyl group having 1 to 6 carbon atoms, an N-alkylamino group having 1 to 6 carbon atoms, an N, N-dialkyl An amino group, an N-alkylsulfamoyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a dialkylsulfamoyl group having 2 to 12 carbon atoms. When two or more R 'groups in the case where the nonmetal atom is a carbon atom (C) It may be good or different.
이러한 중합성 액정 화합물을 배향시켜 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체를 형성함으로써 역파장 분산성을 갖는 중합체 층(2)을 제작할 수 있다. 이 때, 상기 중합성 액정 화합물을 단독으로 이용하여도 좋고, 분자 구조가 다른 2 종류 이상을 혼합하여 이용하여도 좋다. By orienting such a polymerizable liquid crystal compound to form a polymer in an aligned state of the polymerizable liquid crystal compound, the
또한, 배향 상태에서 중합시킨 경우에, 정파장(正波長) 분산성을 보이는 중합성 액정 화합물을 이용하여도 좋다. 그와 같은 중합성 액정 화합물의 구체예로서는 액정편람(액정편람편집위원회 편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 이들 중합성 액정 화합물로서 시판되는 제품을 이용하여도 좋다. Further, when polymerized in the aligned state, a polymerizable liquid crystal compound exhibiting a normal wavelength dispersibility may be used. Specific examples of such a polymerizable liquid crystal compound include "3.8.6 network (completely crosslinked type)", "6.5.1 liquid crystal (liquid crystal cell)" of the liquid crystal handbook (edited by LCD Manual Editing Committee, Maruzen Co., Material b. Polymerizable nematic liquid crystal material ", among the compounds described in " Polymerizable nematic liquid crystal material ". Commercially available products of these polymerizable liquid crystal compounds may be used.
본 발명의 방법에서 이용되는 기재 필름 부착 중합체 층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 중합체 층(2)은, 중합성 액정 화합물을, 기재 필름(5) 또는 배향층(8) 상에, 경우에 따라서는 용제로 희석하여 함유하는 조성물(이하, 「광학 이방성층 형성용 조성물」이라고도 한다)을 도포하고, 필요에 따라서 용제를 건조 후에 중합시킴으로써 얻어진다. 중합성 액정 화합물이 배향 상태를 유지한 채로 중합함으로써, 배향 상태를 유지한 액정 경화막을 얻을 수 있고, 이러한 액정 경화막을 갖는 적층체(기재 필름 부착 중합체 층)는 위상차판으로서 기능한다. The
광학 이방성층 형성용 조성물에 있어서의 중합성 액정 화합물의 함유량(복수 종류 포함하는 경우에는 그 합계량)은, 중합성 액정 화합물의 배향성을 높인다고 하는 관점에서, 광학 이방성층 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여 통상 70∼99.9 질량부이며, 예컨대 바람직하게는 80∼99 질량부이고, 보다 바람직하게는 85∼97 질량부이고, 더욱 바람직하게는 85∼95 질량부이다. 또한, 여기서 말하는 고형분이란, 광학 이방성층 형성용 조성물에서 용제를 제외한 성분의 합계량을 말한다. From the standpoint of enhancing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound, the content of the polymerizable liquid crystal compound in the composition for forming an optically anisotropic layer (the total amount when the plural kinds are included) is preferably from 100 parts by mass Is generally from 70 to 99.9 parts by mass, preferably from 80 to 99 parts by mass, more preferably from 85 to 97 parts by mass, and still more preferably from 85 to 95 parts by mass. The term "solid content" as used herein refers to the total amount of components excluding the solvent in the optically anisotropic layer-forming composition.
광학 이방성층 형성용 조성물은 중합성 액정 화합물 외에 용제, 중합개시제, 중합금지제, 광증감제, 레벨링제 등의 공지된 성분을 포함하고 있어도 좋다. 이들 성분은 이용하는 중합성 액정 화합물의 종류 등에 따라서 적절하게 선택할 수 있다. 이하, 중합체 층(2)을 구성하는 중합성 액정 화합물로서 상기 식(I)으로 표시되는 중합성 액정 화합물을 이용한 경우에 적합한 성분을 예시한다. The composition for forming an optically anisotropic layer may contain, in addition to the polymerizable liquid crystal compound, a known component such as a solvent, a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a photosensitizer, and a leveling agent. These components can be appropriately selected depending on the kind of the polymerizable liquid crystal compound to be used and the like. Hereinafter, suitable components when the polymerizable liquid crystal compound represented by the formula (I) is used as the polymerizable liquid crystal compound constituting the polymer layer (2) are exemplified.
용제로서는, 중합성 액정 화합물 등의 광학 이방성층 형성용 조성물의 구성 성분을 용해할 수 있는 유기 용제가 바람직하고, 중합성 액정 화합물 등의 광학 이방성층 형성용 조성물의 구성 성분을 용해할 수 있는 용제이면서 또한 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 용제가 보다 바람직하다. 구체적으로는 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 페놀 등의 알코올 용제; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산에틸 등의 에스테르 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 비염소화 지방족 탄화수소 용제; 톨루엔, 크실렌 등의 비염소화 방향족 탄화수소 용제; 아세토니트릴 등의 니트릴 용제; 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제; 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화탄화수소 용제를 들 수 있다. 2종 이상의 유기 용제를 조합하여 이용하여도 좋다. 그 중에서도 알코올 용제, 에스테르 용제, 케톤 용제, 비염소화 지방족 탄화수소 용제 및 비염소화 방향족 탄화수소 용제가 바람직하다. As the solvent, an organic solvent capable of dissolving the components of the optically anisotropic layer-forming composition such as a polymerizable liquid crystal compound is preferable, and a solvent capable of dissolving the constituent components of the optically anisotropic layer-forming composition such as a polymerizable liquid crystal compound And is inert to the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound is more preferable. Specific examples thereof include alcohol solvents such as water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether and phenol; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate,? -Butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone and methyl isobutyl ketone; Non-chlorinated aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; Non-chlorinated aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; And chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform and chlorobenzene. Two or more kinds of organic solvents may be used in combination. Among them, alcohol solvents, ester solvents, ketone solvents, non-chlorinated aliphatic hydrocarbon solvents and non-chlorinated aromatic hydrocarbon solvents are preferable.
용제의 함유량은, 광학 이방성층 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여 예컨대 10∼10000 질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100∼5000 질량부이며, 더욱 바람직하게는 100∼2000이다. 광학 이방성층 형성용 조성물 중의 고형분 농도는 바람직하게는 2∼50 질량%이며, 보다 바람직하게는 5∼50 질량%이고, 더욱 바람직하게는 5∼30%이다. The content of the solvent is, for example, preferably from 10 to 10,000 parts by mass, more preferably from 100 to 5,000 parts by mass, and still more preferably from 100 to 2,000 parts by mass based on 100 parts by mass of the solid content of the composition for optically anisotropic layer formation. The solid concentration in the optically anisotropic layer-forming composition is preferably from 2 to 50 mass%, more preferably from 5 to 50 mass%, and still more preferably from 5 to 30 mass%.
중합개시제는 중합성 액정 등의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이다. 중합개시제로서는 광 조사에 의해 라디칼을 발생하는 광중합개시제가 바람직하다. 광중합개시제로서는 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 벤질케탈 화합물, α-히드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, α-아세토페논 화합물, 트리아진 화합물, 요오도늄염 및 술포늄염을 들 수 있다. 구체적으로는, 이르가큐어(Irgacure)(등록상표) 907, 이르가큐어 184, 이르가큐어 651, 이르가큐어 819, 이르가큐어 250, 이르가큐어 369(이상, 전부 치바·재팬가부시키기아샤 제조), 세이크올(등록상표) BZ, 세이크올 Z, 세이크올 BEE(이상, 전부 세이코카가쿠가부시키가이샤 제조), 카야큐어(kayacure)(등록상표) BP100(닛폰가야쿠가부시키가이샤 제조), 카야큐어 UVI-6992(다우사 제조), 아데카옵토마(등록상표) SP-152, 아데카옵토마 SP-170(이상, 전부 가부시키가이샤ADEKA 제조), TAZ-A, TAZ-PP(이상, 닛폰시이베르헤그나사 제조) 및 TAZ-104(산와케미컬사 제조) 등을 들 수 있다. 그 중에서도 α-아세토페논 화합물이 바람직하고, α-아세토페논 화합물로서는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-(4-메틸페닐메틸)부탄-1-온 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온을 들 수 있다. α-아세토페논 화합물의 시판 제품으로서는 이르가큐어 369, 379EG, 907(이상, BASF재팬(주) 제조) 및 세이크올 BEE(세이코카가쿠사 제조) 등을 들 수 있다. The polymerization initiator is a compound capable of initiating a polymerization reaction such as a polymerizable liquid crystal. As the polymerization initiator, a photopolymerization initiator that generates a radical by light irradiation is preferable. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin compounds, benzophenone compounds, benzyl ketal compounds,? -Hydroxy ketone compounds,? -Amino ketone compounds,? -Acetophenone compounds, triazine compounds, iodonium salts and sulfonium salts. Specific examples thereof include Irgacure (registered trademark) 907, Irgacure 184, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure 250, Irgacure 369 (all of which are all manufactured by Chiba, (All manufactured by Seiko Kagaku Kabushiki Kaisha), Kayacure (registered trademark) BP100 (manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha), SEIKOL (registered trademark) BZ, SEIKOLOL Z, (Trade name, manufactured by ADEKA), TAZ-A, and TAZ-PP (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayacure UVI-6992 (manufactured by Daou), ADEKA OPTOMA (registered trademark) SP- (Manufactured by Nippon Shifter Co., Ltd.) and TAZ-104 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.). Among them, the? -Acetophenone compound is preferable, and the? -Acetophenone compound is preferably 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan- (4-morpholinophenyl) -2-benzylbutan-1-one and 2-dimethylamino-1- And more preferably 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one and 2-dimethylamino- -Benzylbutan-1-one. Examples of commercial products of the? -acetophenone compound include Irgacure 369, 379EG, and 907 (manufactured by BASF Japan Ltd.) and Shekol BEE (manufactured by Seiko Kagaku Co., Ltd.).
광중합개시제는 광원으로부터 발생하는 에너지를 충분히 활용할 수 있고, 생산성이 우수하기 때문에, 극대 흡수 파장이 300 nm∼380 nm이면 바람직하고, 300 nm∼360 nm이면 보다 바람직하다. Since the photopolymerization initiator can sufficiently utilize the energy generated from the light source and is excellent in productivity, the maximum absorption wavelength is preferably 300 nm to 380 nm, more preferably 300 nm to 360 nm.
중합개시제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 배향을 어지럽히지 않고서 중합성 액정 화합물을 중합하기 위해서는, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여 통상 0.1∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.5∼10 질량부이다. The content of the polymerization initiator is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.5 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound, in order to polymerize the polymerizable liquid crystal compound without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound to be.
중합금지제를 배합함으로써 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 컨트롤할 수 있다. 중합금지제로서는 히드로퀴논 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 히드로퀴논류; 부틸카테콜 등의 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 카테콜류; 피로갈롤류, 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시라디칼 등의 라디칼 보착제(補捉劑); 티오페놀류; β-나프틸아민류 및 β-나프톨류를 들 수 있다. The polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be controlled by blending a polymerization inhibitor. Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone having a substituent such as hydroquinone and alkyl ether; Catechol having a substituent such as an alkyl ether such as butyl catechol; Radical stabilizers such as pyrogallol, 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy radical and the like; Thiophenols; ? -naphthyl amines,? -naphthyl amines and? -naphthols.
중합금지제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 배향을 어지럽히지 않고서 중합성 액정 화합물을 중합하기 위해서는, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여 통상 0.1∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.5∼10 질량부이다. The content of the polymerization inhibitor is usually from 0.1 to 30 parts by mass, preferably from 0.5 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound, in order to polymerize the polymerizable liquid crystal compound without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound Wealth.
광증감제로서는 예컨대 크산톤, 티오크산톤 등의 크산톤류; 안트라센 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 안트라센류; 페노티아진; 루브렌을 들 수 있다. Examples of the photosensitizer include xanthones such as xanthone and thioxanthone; Anthracene having a substituent such as anthracene and alkyl ether; Phenothiazine; Ruben.
광증감제를 이용함으로써 광중합개시제를 고감도화할 수 있다. 광증감제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여 통상 0.1∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.5∼10 질량부이다. By using a photosensitizer, the photopolymerization initiator can be highly sensitized. The content of the photosensitizer is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.5 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound.
레벨링제로서는 예컨대 유기 변성 실리콘 오일계, 폴리아크릴레이트계 및 퍼플루오로알킬계의 레벨링제를 들 수 있다. 구체적으로는 DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123(이상, 전부 도오레·다우코닝(주) 제조), KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001(이상, 전부 신에츠카가쿠고교(주) 제조), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460(이상, 전부 모멘티브퍼포먼스마테리알즈재팬고도가이샤 제조), 풀루오리너트(fluorinert)(등록상표) FC-72, 동 FC-40, 동 FC-43, 동 FC-3283(이상, 전부 스미토모쓰리엠(주) 제조), 메가팍(등록상표) R-08, 동 R-30, 동 R-90, 동 F-410, 동 F-411, 동 F-443, 동 F-445, 동 F-470, 동 F-477, 동 F-479, 동 F-482, 동 F-483(이상, 모두 DIC(주) 제조), 에프톱(상품명) EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352(이상, 전부 미스비시마테리알덴시가세이(주) 제조), 사프론(등록상표) S-381, 동 S-382, 동 S-383, 동 S-393, 동 SC-101, 동 SC-105, KH-40, SA-100(이상, 전부 AGC세이미케미칼(주) 제조), 상품명 E1830, 동 E5844((주)다이킨파인케미칼겐큐쇼 제조), BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353 및 BYK-361N(모두 상품명: BM Chemie사 제조) 등을 들 수 있다. 2종 이상의 레벨링제를 조합하여도 좋다. Examples of the leveling agent include organic modified silicone oil type, polyacrylate type and perfluoroalkyl type leveling agents. Specifically, it is possible to use DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123 (all of which are manufactured by Dow Corning), KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 , All of which are manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), X22-161A and KF6001 (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF- 4446, TSF4452 and TSF4460 Fluorine (registered trademark) FC-72, FC-40, FC-43 and FC-3283 (all manufactured by Sumitomo 3M Ltd.), Megapak (registered trademark) F-411, F-443, F-445, F-470, F-477, F-479, (All manufactured by DIC Corporation), F-482 and F-483 (all manufactured by DIC Corporation), F-top (trade name) EF301, S-382, S-383, S-393, SC-101, SC-105, KH-40 and SA-100 (all above, AGC BM-1100, BYK-352, BYK-353 and BYK-361N (all trade names, manufactured by Seiyaku Chemical Co., Ltd.), E1830, E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemicals Co., BM Chemie), and the like. Two or more leveling agents may be combined.
레벨링제를 이용함으로써 보다 평활한 광학 이방성층을 형성할 수 있다. 또한, 위상차판의 제조 과정에서, 광학 이방성층 형성용 조성물의 유동성을 제어하거나 위상차판의 가교 밀도를 조정하거나 할 수 있다. 레벨링제의 함유량은 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여 통상 0.1∼30 질량부이며, 바람직하게는 0.1∼10 질량부이다. By using the leveling agent, a smoother optically anisotropic layer can be formed. Further, in the production of the retarder, the fluidity of the composition for forming an optically anisotropic layer can be controlled or the crosslink density of the retarder can be adjusted. The content of the leveling agent is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound.
본 발명의 방법에 있어서 이용되는 기재 필름 부착 중합체 층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 배향층(8)은, 중합체 층(2)을 구성하는 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 배향시키는 배향 규제력을 가지고, 상기 중합성 액정 화합물을 포함하는 광학 이방성층 형성용 조성물의 도포 등에 의해 용해하지 않는 용제 내성을 가지고, 또한, 용제의 제거나 중합성 액정 화합물의 배향을 위한 가열 처리에 있어서의 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 배향층으로서는 배향성 폴리머를 포함하는 배향층, 광배향층 및 표면에 요철 패턴이나 복수의 홈을 갖는 그루브 배향층 등을 들 수 있다. The
배향성 폴리머를 포함하는 경우, 배향성 폴리머로서는 예컨대 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그 가수분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알코올, 알킬 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 및 폴리아크릴산에스테르류를 들 수 있다. 그 중에서도 폴리비닐알코올이 바람직하다. 2종 이상의 배향성 폴리머를 조합하여도 좋다. When the film contains an orientation polymer, examples of the orientation polymer include polyamides or gelatins having an amide bond, polyimides having an imide bond, and hydrolyzates thereof, polyamic acid, polyvinyl alcohol, alkyl modified polyvinyl alcohol, polyacrylamide, Polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acid, and polyacrylic acid esters can be given. Among them, polyvinyl alcohol is preferable. Two or more kinds of orienting polymers may be used in combination.
배향성 폴리머를 포함하는 배향층은, 통상 배향성 폴리머가 용제에 용해된 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하거나, 또는 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하고, 그 도포막을 러빙함으로써 얻어진다. The orientation layer containing the oriented polymer can be obtained by applying the oriented polymer composition in which the oriented polymer is dissolved in the solvent to the substrate and removing the solvent to form a coating film or applying the oriented polymer composition to the substrate, Forming a film, and rubbing the coating film.
배향성 폴리머 조성물 중의 배향성 폴리머의 농도는 배향성 폴리머가 용제에 완전히 녹는 범위면 된다. 배향성 폴리머 조성물에 대한 배향성 폴리머의 함유량은 바람직하게는 0.1∼20 질량%이며, 보다 바람직하게는 0.1∼10 질량%이다. The concentration of the oriented polymer in the oriented polymer composition is only required so long as the oriented polymer is completely dissolved in the solvent. The content of the oriented polymer in the oriented polymer composition is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass.
배향성 폴리머 조성물은 시장에서 입수할 수 있다. 시판되는 배향성 폴리머 조성물로서는 산에바(등록상표, 닛산카가쿠고교(주) 제조), 옵티마(등록상표, JSR(주) 제조) 등을 들 수 있다. Oriented polymer compositions are available on the market. Commercially available orientable polymer compositions include Saneva (registered trademark, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and Optima (registered trademark, manufactured by JSR Corporation).
배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법으로서는 후술하는 광학 이방성층 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법과 같은 방법을 들 수 있다. 배향성 폴리머 조성물에 포함되는 용제를 제거하는 방법으로서는 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법 등을 들 수 있다. As a method of applying the oriented polymer composition to a substrate, there may be mentioned a method such as a method of applying a composition for forming an optically anisotropic layer described later on a substrate. Examples of the method for removing the solvent contained in the oriented polymer composition include a natural drying method, a ventilation drying method, a heat drying method and a reduced pressure drying method.
배향성 폴리머 조성물로 형성된 도포막에는 러빙 처리를 실시하여도 좋다. 러빙 처리를 실시함으로써 상기 도포막에 배향 규제력을 부여할 수 있다. The coating film formed from the oriented polymer composition may be subjected to rubbing treatment. By applying the rubbing treatment, the alignment regulating force can be imparted to the coating film.
러빙 처리 방법으로서는 예컨대 러빙 천이 휘감겨 회전하고 있는 러빙 롤에 상기 도포막을 접촉시키는 방법을 들 수 있다. 러빙 처리를 행할 때에 마스킹을 행하면, 배향의 방향이 다른 복수의 영역(패턴)을 배향막에 형성할 수도 있다. As a rubbing treatment method, for example, there can be mentioned a method of bringing the coating film into contact with a rubbing roll rotating with a rubbing cloth wound thereon. When masking is performed in the rubbing process, a plurality of regions (patterns) having different directions of orientation may be formed in the alignment film.
광배향막은, 통상 광반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 광배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거한 후에 편광(바람직하게는 편광 UV)을 조사함으로써 얻어진다. 광배향막은 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있다. The photo alignment layer is usually obtained by applying a composition for forming a photo alignment layer containing a polymer or monomer having a photo reactive group and a solvent to a substrate, and then removing the solvent and then irradiating with polarized light (preferably polarized UV). The orientation of the alignment regulating force can be arbitrarily controlled by selecting the polarization direction of the polarized light to be irradiated.
광반응성기란, 광 조사함으로써 배향능을 생기게 하는 기를 말한다. 구체적으로는, 광 조사에 의해 생기는 분자의 배향 유기 반응, 이성화 반응, 광이량화 반응, 광가교 반응 혹은 광분해 반응 등의 배향능의 기원이 되는 광 반응에 관여하는 기를 들 수 있다. 광반응성기로서는, 불포화 결합, 특히 이중 결합을 갖는 기가 바람직하고, 탄소-탄소 이중 결합(C=C 결합), 탄소-질소 이중 결합(C=N 결합), 질소-질소 이중 결합(N=N 결합) 및 탄소-산소 이중 결합(C=O 결합)으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 갖는 기가 특히 바람직하다. The photoreactive group means a group capable of giving an alignment ability by light irradiation. Concretely, there can be mentioned groups involved in the photoreaction, which is the origin of the aligning functions such as the orientation organic reaction, the isomerization reaction, the photo-dimerization reaction, the photo-crosslinking reaction or the photolysis reaction of molecules generated by light irradiation. As the photoreactive group, a group having an unsaturated bond, particularly a double bond is preferable, and a carbon-carbon double bond (C═C bond), a carbon-nitrogen double bond (C═N bond), a nitrogen- Bond) and a carbon-oxygen double bond (C = O bond) are particularly preferable.
C=C 결합을 갖는 광반응성기로서는 예컨대 비닐기, 폴리엔기, 스틸벤기, 스틸바졸기, 스틸바졸륨기, 칼콘기 및 신나모일기를 들 수 있다. C=N 결합을 갖는 광반응성기로서는 예컨대 방향족 시프 염기, 방향족 히드라존 등의 구조를 갖는 기를 들 수 있다. N=N 결합을 갖는 광반응성기로서는 예컨대 아조벤젠기, 아조나프탈렌기, 방향족 복소환 아조기, 비스아조기, 포르마잔기 및 아족시벤젠 구조를 갖는 기를 들 수 있다. C=O 결합을 갖는 광반응성기로서는 예컨대 벤조페논기, 쿠마린기, 안트라퀴논기 및 말레이미드기를 들 수 있다. 이들 기는 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 알릴옥시기, 시아노기, 알콕시카르보닐기, 히드록실기, 술폰산기, 할로겐화알킬기 등의 치환기를 갖고 있어도 좋다. Examples of the photoreactive group having a C = C bond include a vinyl group, a polyene group, a stilbene group, a stilbazol group, a steel barazol group, a chalcone group and a cinnamoyl group. Examples of the photoreactive group having a C = N bond include groups having a structure such as an aromatic sip base and an aromatic hydrazone group. Examples of the photoreactive group having an N = N bond include groups having an azobenzene group, an azonaphthalene group, an aromatic heterocyclic azo group, a bisazo group, a formar residue, and an azoxybenzene structure. Examples of the photoreactive group having a C = O bond include a benzophenone group, a coumarin group, an anthraquinone group and a maleimide group. These groups may have a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group or a halogenated alkyl group.
광이량화 반응 또는 광가교 반응에 관여하는 기가 배향성이 우수하다는 점에서 바람직하다. 그 중에서도 광이량화 반응에 관여하는 광반응성기가 바람직하고, 배향에 필요한 편광 조사량이 비교적 적으며 또한 열안정성이나 경시안정성이 우수한 광배향막을 얻기 쉽다고 하는 점에서, 신나모일기 및 칼콘기가 바람직하다. 광반응성기를 갖는 폴리머로서는, 그 폴리머 측쇄의 말단부가 계피산 구조로 되는 신나모일기를 갖는 것이 특히 바람직하다. Is preferable in that the group involved in the photo-dimerization reaction or photo-crosslinking reaction is excellent in orientation. Of these, a cinnamoyl group and a chalcone group are preferred in view of the fact that a photoreactive group involved in the photo-dimerization reaction is preferable, and a photo-alignment layer having a relatively small amount of polarized light required for alignment and excellent thermal stability and stability with time is easy to obtain. As the polymer having a photoreactive group, it is particularly preferable that the polymer has a cinnamoyl group having a cinnamic acid structure at the terminal of the polymer side chain.
광배향막 형성용 조성물 중의 광반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 함유량은, 폴리머 또는 모노머의 종류나 목적으로 하는 광배향막의 두께에 따라 조절할 수 있으며, 적어도 0.2 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 0.3∼10 질량%의 범위가 보다 바람직하다. 광배향막의 특성이 현저히 손상되지 않는 범위에서, 광배향막 형성용 조성물은 폴리비닐알코올이나 폴리이미드 등의 고분자 재료나 광증감제를 포함하고 있어도 좋다. The content of the polymer or monomer having a photoreactive group in the composition for forming a photo alignment layer can be adjusted depending on the kind of the polymer or monomer and the thickness of the intended photo alignment film, and is preferably at least 0.2 mass% The range of mass% is more preferable. The composition for forming a photo alignment film may contain a polymer material such as polyvinyl alcohol or polyimide or a photosensitizer insofar as the properties of the photo alignment layer are not significantly impaired.
광배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법으로서는 후술하는 광학 이방성층 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법과 같은 방법을 들 수 있다. 도포된 광배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거하는 방법으로서는 배향성 폴리머 조성물로부터 용제를 제거하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다. As a method of applying the composition for forming a photo alignment layer to a substrate, a method such as a method of applying a composition for forming an optically anisotropic layer, which will be described later, to a substrate can be mentioned. As a method for removing the solvent from the coated composition for forming a photo alignment film, the same method as the method for removing the solvent from the oriented polymer composition can be mentioned.
편광을 조사하기 위해서는, 기재 상에 도포된 광배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거한 것에 직접 편광을 조사하는 형식이라도, 기재 측에서 편광을 조사하고, 편광을 기재에 투과시켜 조사하는 형식이라도 좋다. 또한, 상기 편광은 실질적으로 평행광이면 바람직하다. 조사하는 편광의 파장은, 광반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 광반응성기가 빛에너지를 흡수할 수 있는 파장 영역인 것이 좋다. 구체적으로는 파장 250 nm∼400 nm 범위의 UV(자외선)이 특히 바람직하다. 상기 편광을 조사하는 광원으로서는 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있다. 그 중에서도 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가 파장 313 nm의 자외선의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다. 상기 광원으로부터의 빛을 적당한 편광층을 통과하여 조사함으로써 편광 UV를 조사할 수 있다. 편광층으로서는, 편광 필터, 글랜 톰슨 및 글랜 테일러 등의 편광 프리즘, 그리고 와이어 그리드 타입의 편광층을 들 수 있다. In order to irradiate the polarized light, the polarized light may be directly polarized by removing the solvent from the composition for forming a photo alignment film coated on the substrate. Alternatively, the polarized light may be irradiated on the substrate side and transmitted through the substrate. Further, it is preferable that the polarized light is substantially parallel light. The wavelength of the polarized light to be irradiated is preferably a wavelength region in which the photoreactive group of the polymer or monomer having the photoreactive group can absorb light energy. Specifically, UV (ultraviolet ray) having a wavelength in the range of 250 nm to 400 nm is particularly preferable. Examples of the light source for irradiating the polarized light include a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an ultraviolet laser such as KrF and ArF, and the like. Among them, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp and a metal halide lamp are preferable because of high emission intensity of ultraviolet rays having a wavelength of 313 nm. Polarized UV can be irradiated by irradiating the light from the light source through an appropriate polarizing layer. Examples of the polarizing layer include a polarizing prism such as a polarizing filter, Glen Thomson and Glan Taylor, and a polarizing layer of a wire grid type.
기재 필름(5) 또는 배향층(8) 상에 광학 이방성층 형성용 조성물을 도포하는 방법으로서는, 압출코팅법, 다이렉트그라비아코팅법, 리버스그라비아코팅법, CAP코팅법, 슬릿코팅법, 다이코팅법 등을 들 수 있다. 또한, 딥코터, 바코터, 스핀코터 등의 코터를 이용하여 도포하는 방법 등도 들 수 있다. CAP코팅법, 잉크젯법, 딥코팅법, 슬릿코팅법, 다이코팅법 및 바코터에 의한 도포 방법을 채용함으로써, 롤투롤 형식으로 연속적으로 도포할 수 있다. 롤투롤 형식으로 도포하는 경우, 기재 필름(5)에 광배향막 형성용 조성물 등을 도포하여 배향층(8)을 형성하고, 또한 얻어진 배향층(8) 상에 광학 이방성층 형성용 조성물을 연속적으로 도포할 수도 있다. Examples of the method for applying the composition for forming an optically anisotropic layer on the
광학 이방성층 형성용 조성물에 포함되는 용제를 제거하는 건조 방법으로서는 예컨대 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조, 감압 건조 및 이들을 조합시킨 방법을 들 수 있다. 광배향막 형성용 조성물 및 배향성 폴리머 조성물도 같은 식으로 건조할 수 있다. Examples of the drying method for removing the solvent contained in the composition for forming an optically anisotropic layer include natural drying, air drying, heat drying, vacuum drying, and a combination thereof. The composition for forming a photo alignment film and the oriented polymer composition may be dried in the same manner.
중합성 액정 화합물의 중합은, 예컨대 기재 필름(5) 위 또는 배향층(8) 위에 중합성 액정 화합물을 포함하는 광학 이방성층 형성용 조성물이 도포된 적층체에 활성 에너지선을 조사함으로써 실시된다. 조사하는 활성 에너지선은, 건조 피막에 포함되는 중합성 액정 화합물의 종류(특히, 중합성 액정 화합물이 갖는 광중합성 작용기의 종류), 광중합개시제를 포함하는 경우에는 광중합개시제의 종류 및 이들의 양에 따라서 적절하게 선택하면 된다. 구체적으로는 가시광, 자외광, 적외광, X선, α선, β선 및 γ선 등의 빛을 들 수 있다. The polymerization of the polymerizable liquid crystal compound is carried out, for example, by irradiating an active energy ray onto a laminate to which a composition for forming an optically anisotropic layer containing a polymerizable liquid crystal compound is applied on the
본 발명의 방법에 있어서, 기재 필름 부착 중합체 층(6)과 접합되는 광학 필름(1)은, 화상 표시(표시 화면 등)를 위해서 기능하는 필름(예컨대, 화상의 가시성 향상을 위해서 기능하는 필름)이며, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 삽입될 수 있는 각종 광학 특성을 갖는 필름을 의미한다. 본 발명의 방법에서 이용할 수 있는 광학 필름으로서는 예컨대 편광자, 위상차 필름, 휘도 향상 필름, 방현 필름, 반사 방지 필름, 확산 필름, 집광 필름 등의 광학 기능성 필름, 편광판, 위상차판 등을 들 수 있다. In the method of the present invention, the optical film (1) to be bonded to the base polymer film layer (6) is a film (for example, a film functioning for improving the visibility of images) functioning for image display Means a film having various optical properties that can be inserted into an image display device such as a liquid crystal display device. Examples of the optical film that can be used in the method of the present invention include an optical functional film such as a polarizer, a retardation film, a brightness enhancement film, an antiglare film, an antireflection film, a diffusion film and a light condensing film, a polarizing plate and a retardation plate.
본 발명의 방법에 있어서, 기재 필름 부착 중합체 층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 중합체 층(2)과 광학 필름(1)을 접합하기 위한 점착제 또는 접착제 층(3)을 구성하는 점착제 또는 접착제는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 종래 공지된 점착제 및 접착제를 특별히 제한 없이 이용할 수 있다. 점착제로서는 예컨대 아크릴계, 고무계, 우레탄계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계 등의 베이스 폴리머를 갖는 점착제를 들 수 있다. 또한, 에너지선 경화형 점착제, 열경화형 점착제 등이라도 좋다. 접착제로서는 활성 에너지선 경화형 접착제, 수계 접착제, 유기 용제계 접착제 및 무용제계 접착제를 예로 들 수 있다. In the method of the present invention, a pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) for bonding the optical film (1) with the polymer layer (2) constituting the base polymer film layer (6) or the optical laminate (7) Is not particularly limited, and conventionally known pressure-sensitive adhesives and adhesives can be used without particular limitation. Examples of the pressure-sensitive adhesive include pressure-sensitive adhesives having a base polymer such as acrylic, rubber, urethane, silicone, and polyvinyl ether. Further, an energy radiation curable pressure sensitive adhesive, a thermosetting pressure sensitive adhesive, or the like may be used. Examples of the adhesive include active energy ray-curable adhesives, water-based adhesives, organic solvent-based adhesives, and solvent-based adhesives.
[부호의 설명][Description of Symbols]
(1) 광학 필름(1) Optical film
(2) 중합체 층(2) Polymer layer
(2a) 중합체 층 잔존 영역(2a) the polymer layer remaining region
(3) 점착제 또는 접착제 층(3) Adhesive or adhesive layer
(4) 광학 적층체(4) Optical laminate
(5) 기재 필름(5)
(5a) 중합체 층 미적층 영역(5a) Polymer layer Aesthetic layer area
(5b) 기재 필름-중합체층 경계(5b) Base film - Polymer layer boundary
(6) 기재 필름 부착 중합체 층(6) Polymer layer with base film
(7) 기재 필름 부착 광학 적층체(7) Optical laminate with base film
(8) 배향층(8)
(11) 권출 롤 1(11) unwinding
(12) 반송용 롤러(12) Rollers for conveying
(13) 제전 장치(13) Static electricity removing equipment
(14) 권출 롤 2(14) Wetting
(15) 닙 롤(15) Nip roll
(16) 박리용 롤(16) Peeling Roll
(17) 권취 롤(17)
(20) 클린룸 (20) Clean room
Claims (8)
장척의 기재 필름(5)과 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체 층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 중합체 층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A),
상기 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)에 대하여, 상기 중합체 층(2) 측에 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체 층(2)과, 이 중합체 층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 접합 공정(B), 및
상기 접합 공정(B)에서 얻어지는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정(C)과 함께
상기 박리 공정(C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름의 제전 반송 공정(D)
을 포함하고, 상기 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하이거나, 또는 상기 기재 필름의 제전 반송 공정(D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 광학 적층체의 제조 방법. An optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, wherein the polymer layer (2) is laminated via the optical film (1) and a pressure sensitive adhesive or adhesive layer (4), comprising the steps of:
A base material film (5) comprising a long substrate film (5) and the polymer layer (2) laminated on the base film (5) (A) of the polymer layer with a base film, which carries the polymer layer 6 in the longitudinal direction while destaticizing it,
(3) on the polymer layer (2) side with respect to the base polymer film layer (6) carried by the base film adhered polymer film layer (A) (1) is bonded to a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded to the polymer layer (2) through the adhesive or adhesive layer (B) for obtaining an elongated optical laminate 7 having a base film on which the base film (5) can be peeled off from the polymer layer (2), and
(C) of peeling the base film (5) from the optical laminate (7) with a base film obtained in the bonding step (B) to obtain the optical laminate (4)
(D) of the base film to be transported in the longitudinal direction while discharging the base film (5) after peeling in the peeling step (C)
, And the absolute value of the charge amount of the base polymer film layer (6) after charge elimination in the charge transport step (A) of the base film polymer layer is 0.01 kV or more and 6 kV or less, Wherein an absolute value of the charge amount of the base film (5) after charge elimination in the charge elimination step (D) is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 기재 필름 부착 중합체 층의 반송 방법. And a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound laminated on the base film (5), wherein the base film (5) is separated from the polymer layer (2) As a method for transporting a polymer film 6 with a long base film adherable to a separator in the longitudinal direction while removing electricity,
Wherein the absolute value of the charge amount of the base polymer film layer (6) after the charge elimination is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
상기 장척의 기재 필름(5)과 이 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체 층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 중합체 층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A), 및
상기 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)에 대하여, 상기 중합체 층(2) 측에 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체 층(2)과, 이 중합체 층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 공정(B)
을 포함하고, 상기 기재 필름 부착 중합체 층의 제전 반송 공정(A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체 층(6)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 기재 필름 부착 광학 적층체의 제조 방법. A long polymer film 2 made of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound and a long optical film 1 bonded to the polymer layer 2 through a pressure-sensitive adhesive or an adhesive layer 3 (7) having a base film on which the base film (5) can be peeled off from the polymer layer (2), the method comprising:
And a polymer layer (2) laminated on the base film (5), wherein the base film (5) comprises a long base material (5) capable of peeling from the polymer layer (A) of carrying out the film-adhered polymer layer (6) on the base polymer film layer transported in the longitudinal direction while eliminating electricity, and
(3) on the polymer layer (2) side with respect to the base polymer film layer (6) carried by the base film adhered polymer film layer (A) (1) is bonded to a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded to the polymer layer (2) through the adhesive or adhesive layer (B) of obtaining an elongated optical laminate 7 having a base film on which the base film (5) can be peeled off from the polymer layer (2)
, And the absolute value of the charge amount of the base polymer film layer (6) after charge elimination in the charge transport step (A) of the base film polymer layer is 0.01 kV or more and 6 kV or less, ≪ / RTI >
장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체 층(2)과, 이 중합체 층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제 층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)을 상기 중합체 층(2)으로부터 박리할 수 있는 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정(C)과 함께
상기 박리 공정(C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름의 제전 반송 공정(D)을 구비하고,
상기 기재 필름의 제전 반송 공정(D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대치가 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 광학 적층체의 제조 방법. And a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, wherein the polymer layer (2) comprises the optical film (1) and a pressure-sensitive adhesive or an adhesive layer (3) A method for producing an optical laminate (4)
1. An optical film comprising a long base film (5), a polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded to the polymer layer (2) via the pressure sensitive adhesive or adhesive layer (3) The peeling step (C) of peeling the base film 5 from the elongated optical laminate 7 with base film capable of peeling the film 5 from the polymer layer 2 to obtain the optical laminate 4 )with
(D) of transporting the base film in the longitudinal direction while removing the base film (5) after peeling in the peeling step (C)
Wherein an absolute value of a charge amount of the base film (5) after charge elimination in the charge transport step (D) of the base film is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
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