KR20200115195A - Method for producing optical laminate - Google Patents

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KR20200115195A
KR20200115195A KR1020200033886A KR20200033886A KR20200115195A KR 20200115195 A KR20200115195 A KR 20200115195A KR 1020200033886 A KR1020200033886 A KR 1020200033886A KR 20200033886 A KR20200033886 A KR 20200033886A KR 20200115195 A KR20200115195 A KR 20200115195A
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야스히로 하바
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention relates to a method of manufacturing an optical laminate, capable of suppressing occurrence of foreign substances derived from a material constituting the optical laminate. According to the present invention, the method of manufacturing an optical laminate includes: an antistatic conveyance step (A) of conveying a base film-attached polymer layer (6) in a longitudinal direction while performing an antistatic function on the base film-attached polymer layer (6); a bonding step (B) of bonding an optical film (1) to a polymer layer (2) through an adhesive or adhesive layer (3) to obtain a base film-attached optical laminate (7); a peeling step (C) of peeling a base film (5) from the base film-attached optical laminate (7) to obtain an optical laminate (4); and a base film antistatic conveyance step (D) of conveying the base film (5) in the longitudinal direction performing the antistatic function on the base film (5).

Description

광학 적층체의 제조 방법{METHOD FOR PRODUCING OPTICAL LAMINATE}The manufacturing method of an optical laminated body {METHOD FOR PRODUCING OPTICAL LAMINATE}

본 발명은, 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing an optical laminate.

종래, 광학 분야에서 이용되는 여러 가지 폴리머 필름의 제조에 있어서는, 생산 효율이 좋은 양산 방식으로서, 롤형으로 감긴 띠 형상의 기재를 이용하여, 최종 제품까지 연속적인 가공을 행할 수 있는, 이른바 롤투롤 방식이 널리 채용되고 있다. 예컨대, 특허문헌 1에는, 장척(長尺)의 폴리머 필름을 반송하면서 길이 방향으로 연신하여 광학 필름을 제조하는 방법이 기재되어 있다. 또한, 특허문헌 2 및 3에는, 롤투롤 방식에 의해 반송되는 필름 상에 하드 코트층이나 금속막을 형성하는 방법이 기재되어 있다. 이들 방법에 있어서는, 필름이나 필름 상에 형성되는 층이나 막에 대한 흠집 발생 방지 등을 목적으로 하여, 반송 중의 필름의 대전량이 소정 값 이하가 되도록 제전(除電)하는 공정이 포함되는 것이 기재되어 있다.Conventionally, in the production of various polymer films used in the optical field, the so-called roll-to-roll method, which is a mass production method with good production efficiency, that can continuously process until the final product using a strip-shaped substrate wound in a roll shape. Is widely adopted. For example, Patent Document 1 describes a method of manufacturing an optical film by stretching in the longitudinal direction while transporting a long polymer film. In addition, in Patent Documents 2 and 3, a method of forming a hard coat layer or a metal film on a film conveyed by a roll-to-roll method is described. In these methods, for the purpose of preventing the occurrence of scratches on a film or a layer or film formed on the film, it is described that a step of static electricity elimination is included so that the amount of charge of the film during transport becomes less than or equal to a predetermined value. .

[특허문헌 1] 일본 특허 공개 제2017-39291호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-39291 [특허문헌 2] 일본 특허 공개 제2015-196322호 공보[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-196322 [특허문헌 3] 일본 특허 공개 제2014-214365호 공보[Patent Document 3] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-214365

타원 편광판 등의 광학 적층체는, 위상차 필름이나 편광 필름 등의 여러 가지 광학 필름을 적층시킴으로써 제조할 수 있다. 이러한 광학 분야에서 이용되는 광학 적층체의 제조는, 이물의 혼입을 막기 위해, 통상, 공기 중에 부유하는 이물이 적은 클린룸 내에서 행해지고 있다. 그러나, 광학 필름의 적층 공정 중에 광학 필름의 단부 등이 박리되는 경우가 있고, 박리된 필름편이 이물이 되어 얻어지는 광학 적층체의 외표면에 부착됨으로써 얻어지는 광학 적층체에 결함을 발생시킬 뿐만 아니라, 박리된 필름편 등의 이물이 클린룸 내에 잔존함으로써, 잔존한 이물에 의해 그 후에 제조되는 광학 적층체에 연속적인 결함을 발생시킬 가능성이 있다.Optical laminates, such as an elliptically polarizing plate, can be manufactured by laminating various optical films, such as a retardation film and a polarizing film. Manufacture of an optical laminate used in such an optical field is usually carried out in a clean room with few foreign matters floating in the air in order to prevent mixing of foreign matters. However, during the lamination process of the optical film, the end of the optical film may be peeled off, and the peeled film piece becomes a foreign material and adheres to the outer surface of the obtained optical laminate, thereby causing defects in the optical laminate obtained. When foreign matter, such as a piece of film, remains in the clean room, there is a possibility that continuous defects may occur in the optical laminate to be manufactured thereafter by the residual foreign matter.

이 때문에, 광학 적층체의 제조 공정에 있어서는, 이물에 의한 제조 중의 광학 적층체 자신의 흠집 발생 방지 이외에, 클린룸 내의 이물의 잔존량을 가능한 한 줄일 필요가 있게 된다. 한편, 최근의 화상 표시 장치의 박형화에 따라, 중합성 액정 화합물을 기재나 배향막 상에 도포하고, 배향 상태로 경화시킴으로써 얻어지는 액정 경화막을 포함하는 위상차 필름 등의 광학 필름이 개발되고 있다. 이러한 액정 경화막을 포함하는 광학 필름에서는, 특히 액정 경화막의 단부가 박리되어 떨어져 이물을 발생시키기 쉬운 것을 알 수 있게 되었다.For this reason, in the manufacturing process of an optical laminated body, it is necessary to reduce the residual amount of foreign matters in the clean room as much as possible in addition to preventing the occurrence of scratches on the optical laminate itself during manufacture by foreign matters. On the other hand, with recent thinning of image display devices, optical films such as retardation films including a liquid crystal cured film obtained by coating a polymerizable liquid crystal compound on a substrate or an alignment film and curing in an alignment state have been developed. In an optical film including such a liquid crystal cured film, it has been found that particularly, the end of the liquid crystal cured film is peeled off and is likely to cause foreign matter to be generated.

또한, 장척의 광학 적층체의 제조 공정에 있어서는, 광학 적층체를 롤형으로 감았을 때의 단면 어긋남의 발생을 억제하기 위해, 적층체의 폭 방향에 있어서의 양단부를 잘라내어 적층체의 폭을 맞추는 슬릿 공정을 마련하는 경우가 있다. 본 발명자들은, 이러한 슬릿 공정을 포함하는 광학 적층체의 제조 공정에 있어서, 절단이나 박리에 의한 필름편 등의 이물이 보다 생기기 쉬워지고, 광학 적층체에 대한 결함의 발생도 보다 생기기 쉬워지는 것을 새롭게 발견하고, 슬릿 공정을 포함하는 광학 적층체의 제조 공정에 있어서는, 제조 현장에서의 이물의 잔존량을 저감하는 것 이외에, 이물의 발생 자체를 억제할 필요가 있는 것을 발견하였다.In addition, in the manufacturing process of a long optical laminate, in order to suppress the occurrence of cross-sectional misalignment when the optical laminate is wound in a roll shape, a slit that cuts off both ends in the width direction of the laminate to match the width of the laminate. There is a case to provide a process. The inventors of the present invention have newly discovered that in the manufacturing process of an optical layered product including such a slit process, foreign matters such as film pieces due to cutting or peeling are more likely to occur, and the occurrence of defects in the optical layered product is more likely to occur. It was discovered, and in the manufacturing process of an optical laminated body including a slit process, it was discovered that it is necessary to suppress the generation|occurrence|production of a foreign matter itself in addition to reducing the residual amount of a foreign matter at the manufacturing site.

본 발명은, 슬릿 공정을 포함하는 광학 적층체의 제조 공정 중에 광학 적층체를 구성하는 재료에 유래하는 이물의 발생을 억제하고, 또한, 제조 현장에 있어서의 이물의 잔존량을 저감하는, 광학 적층체의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention suppresses the generation of foreign matters originating from the material constituting the optical laminate during the manufacturing process of the optical laminate including the slit process, and further reduces the amount of foreign matter remaining at the manufacturing site. It is an object of the present invention to provide a method for producing a sieve.

본 발명은, 이하의 적합한 양태를 제공하는 것이다.The present invention is to provide the following suitable aspects.

[1] 광학 필름(1)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)을 구비하고, 상기 중합체층(2)이 상기 광학 필름(1)과 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 적층되어 이루어지는 광학 적층체(4)를 제조하는 방법으로서,[1] An optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound are provided, and the polymer layer (2) comprises the optical film (1) and an adhesive or adhesive layer (3). As a method of manufacturing the optical laminate 4 obtained by lamination through,

장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A),Attaching a long base film comprising a long base film 5 and the polymer layer 2 laminated on the base film 5, the base film 5 being peelable from the polymer layer 2 The polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A) which conveys the polymer layer 6 in the longitudinal direction while antistatic,

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)에 대하여, 상기 중합체층(2) 측에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 접합 공정 (B), 및With respect to the polymer layer with a base film 6 conveyed by the said polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A), a long optical film through an adhesive or an adhesive layer 3 on the side of the polymer layer 2 ( 1) a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded on the polymer layer (2) through the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) A bonding step (B) for obtaining an optical laminate 7 with a long base film in which the base film 5 is peelable from the polymer layer 2, and

상기 접합 공정 (B)에서 얻어지는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정 (C)와 함께,Along with the peeling process (C) of peeling the said base film 5 from the optical laminated body 7 with a base film obtained in said bonding process (B), and obtaining the said optical laminated body 4,

상기 박리 공정 (C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 제전 반송 공정 (D)를 포함하고,Including a base film static elimination conveyance process (D) conveying in the longitudinal direction while static electricity elimination of the base film 5 after peeling off in the said peeling process (C),

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)가, 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 중합체층 슬릿 공정 (SA)를 포함하거나,The said polymer layer with base film antistatic conveyance process (A) includes a polymer layer slit process with a base film (SA) which cuts and cuts the end part of the said polymer layer with base film 6 in a conveyance direction, or,

상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합하기 전의 상기 광학 필름(1)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 광학 필름 슬릿 공정 (SB1)을 포함하거나, 또는The bonding step (B) includes an optical film slit step (SB1) in which the end portion of the optical film 1 before bonding with the polymer layer 6 with a base film is cut in the conveyance direction and cut out, or

상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합한 후의 상기 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)를 포함하고,The bonding step (B) cuts the end of the optical layered body 7 with the base film after bonding with the polymer layer 6 with a base film in the conveyance direction, and cuts it out. ), and

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하이거나, 또는 상기 기재 필름 제전 반송 공정 (D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인The absolute value of the charge amount of the polymer layer with a base film 6 after static elimination in the polymer layer with base film antistatic transfer step (A) is 0.01 kV or more and 6 kV or less, or the base film antistatic transfer step (D ), the absolute value of the charge amount of the base film 5 after antistatic is 0.01 kV or more and 6 kV or less

상기 광학 적층체의 제조 방법.Method for producing the optical laminate.

[2] 광학 필름(1)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)을 구비하고, 상기 중합체층(2)이 상기 광학 필름(1)과 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 적층되어 이루어지는 광학 적층체(4)를 제조하는 방법으로서,[2] An optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound are provided, and the polymer layer (2) comprises the optical film (1) and an adhesive or adhesive layer (3). As a method of manufacturing the optical laminate 4 obtained by lamination through,

장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A),Attaching a long base film comprising a long base film 5 and the polymer layer 2 laminated on the base film 5, the base film 5 being peelable from the polymer layer 2 The polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A) which conveys the polymer layer 6 in the longitudinal direction while antistatic,

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)에 대하여, 상기 중합체층(2) 측에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 접합 공정 (B), 및With respect to the polymer layer with a base film 6 conveyed by the said polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A), a long optical film through an adhesive or an adhesive layer 3 on the side of the polymer layer 2 ( 1) a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded on the polymer layer (2) through the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) A bonding step (B) for obtaining an optical laminate 7 with a long base film in which the base film 5 is peelable from the polymer layer 2, and

상기 접합 공정 (B)에서 얻어지는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정 (C)와 함께,Along with the peeling process (C) of peeling the said base film 5 from the optical laminated body 7 with a base film obtained in said bonding process (B), and obtaining the said optical laminated body 4,

상기 박리 공정 (C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 제전 반송 공정 (D)를 포함하고,Including a base film static elimination conveyance process (D) conveying in the longitudinal direction while static electricity elimination of the base film 5 after peeling off in the said peeling process (C),

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)가, 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 중합체층슬릿 공정 (SA)를 포함하고,The said polymer layer with base film antistatic conveyance process (A) includes a polymer layer slit process (SA) with a base film in which an end portion of the polymer layer with base film 6 is cut out in a conveyance direction,

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인The absolute value of the charge amount of the polymer layer 6 with the base film after static elimination in the antistatic transfer step (A) of the polymer layer with a base film is 0.01 kV or more and 6 kV or less

상기 광학 적층체의 제조 방법.Method for producing the optical laminate.

[3] 상기 기재 필름 제전 반송 공정 (D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인 상기 [2]에 기재된 제조 방법.[3] The manufacturing method according to [2], wherein the absolute value of the charge amount of the base film 5 after static elimination in the base film antistatic conveyance step (D) is 0.01 kV or more and 6 kV or less.

[4] 상기 기재 필름 부착 중합체층 슬릿 공정 (SA)에 있어서 잘라내어지는 단부에 중합체층(2)이 포함되는 상기 [2] 또는 [3]에 기재된 제조 방법.[4] The production method according to [2] or [3], wherein the polymer layer (2) is included at an end portion cut out in the polymer layer slit step (SA) with a base film.

[5] 광학 필름(1)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)을 구비하고, 상기 중합체층(2)이 상기 광학 필름(1)과 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 적층되어 이루어지는 광학 적층체(4)를 제조하는 방법으로서,[5] An optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound are provided, and the polymer layer (2) comprises the optical film (1) and an adhesive or adhesive layer (3). As a method of manufacturing the optical laminate 4 obtained by lamination through,

장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A),Attaching a long base film comprising a long base film 5 and the polymer layer 2 laminated on the base film 5, the base film 5 being peelable from the polymer layer 2 The polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A) which conveys the polymer layer 6 in the longitudinal direction while antistatic,

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)에 대하여, 상기 중합체층(2) 측에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 접합 공정 (B), 및With respect to the polymer layer with a base film 6 conveyed by the said polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A), a long optical film through an adhesive or an adhesive layer 3 on the side of the polymer layer 2 ( 1) a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded on the polymer layer (2) through the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) A bonding step (B) for obtaining an optical laminate 7 with a long base film in which the base film 5 is peelable from the polymer layer 2, and

상기 접합 공정 (B)에서 얻어지는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정 (C)와 함께,Along with the peeling process (C) of peeling the said base film 5 from the optical laminated body 7 with a base film obtained in said bonding process (B), and obtaining the said optical laminated body 4,

상기 박리 공정 (C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 제전 반송 공정 (D)를 포함하고,Including a base film static elimination conveyance process (D) conveying in the longitudinal direction while static electricity elimination of the base film 5 after peeling off in the said peeling process (C),

상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합하기 전의 상기 광학 필름(1)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 광학 필름 슬릿 공정 (SB1)을 포함하거나, 또는The bonding step (B) includes an optical film slit step (SB1) in which the end portion of the optical film 1 before bonding with the polymer layer 6 with a base film is cut in the conveyance direction and cut out, or

상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합한 후의 상기 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)를 포함하고,The bonding step (B) cuts the end of the optical layered body 7 with the base film after bonding with the polymer layer 6 with a base film in the conveyance direction, and cuts it out. ), and

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하이거나, 또는 상기 기재 필름 제전 반송 공정 (D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인The absolute value of the charge amount of the polymer layer with a base film 6 after static elimination in the polymer layer with base film antistatic transfer step (A) is 0.01 kV or more and 6 kV or less, or the base film antistatic transfer step (D ), the absolute value of the charge amount of the base film 5 after antistatic is 0.01 kV or more and 6 kV or less

상기 광학 적층체의 제조 방법.Method for producing the optical laminate.

[6] 상기 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)를 포함하고,[6] Including the optical laminate slit step (SB2) with the base film,

이 공정 (SB2)에 있어서 절단되는 단부에 중합체층(2)이 포함되는 상기 [5]에 기재된 제조 방법.The manufacturing method according to the above [5], wherein the polymer layer (2) is included in the end portion to be cut in this step (SB2).

[7] 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)에 있어서, 상기 중합체층(2)이 이 중합체층(2)의 폭 방향의 전체에 걸쳐 상기 기재 필름(5) 상에 구비되고, 상기 기재 필름(5)의 폭이 상기 중합체층(2)의 폭보다 넓은 상기 [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 제조 방법.[7] Polymer layer with base film In the polymer layer 6 with base film provided in the antistatic transfer step (A), the polymer layer 2 is the base material over the entire width direction of the polymer layer 2 The production method according to any one of [1] to [6], which is provided on the film 5 and has a width of the base film 5 wider than that of the polymer layer 2.

[8] 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)에 있어서, 상기 기재 필름(5) 상에 상기 중합체층(2)이 배향층(8)을 통해 적층되어 있고, 상기 배향층(8)이 폭 방향의 전체에 걸쳐 상기 기재 필름(5) 상에 적층되어 있으며, 상기 기재 필름(5)의 폭이 상기 배향층(8)의 폭보다 넓은 상기 [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 제조 방법.[8] Polymer layer with base film In the polymer layer (6) with base film provided in the antistatic transfer step (A), the polymer layer (2) is provided on the base film (5) through the alignment layer (8). Is laminated, the alignment layer 8 is laminated on the base film 5 over the entire width direction, and the width of the base film 5 is wider than the width of the alignment layer 8 [ The production method according to any one of 1] to [7].

[9] 접합 공정 (B)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)의 중합체층(2) 폭이, 이 접합 공정 (B)에 있어서 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)과 광학 필름(1)을 접합하기 위해 형성되는 점착제 또는 접착제층(3)의 폭보다 넓은 상기 [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 제조 방법.[9] The width of the polymer layer (2) of the polymer layer (6) with a base film provided in the bonding step (B) is the polymer layer (6) with the base film and the optical film (1) in the bonding step (B). The production method according to any one of [1] to [8] above, which is wider than the width of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) formed to bond).

[10] 접합 공정 (B)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)에 있어서, 상기 기재 필름(5) 상에 상기 중합체층(2)이 배향층(8)을 통해 적층되어 있고, 상기 배향층(8)의 폭이 이 접합 공정 (B)에 있어서 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)과 광학 필름(1)을 접합하기 위해 형성되는 점착제 또는 접착제층(3)의 폭보다 넓은 상기 [1]∼[9] 중 어느 하나에 기재된 제조 방법.[10] In the polymer layer (6) with a base film provided in the bonding step (B), the polymer layer (2) is laminated on the base film (5) through an orientation layer (8), and the orientation [1] The width of the layer (8) is wider than that of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) formed to bond the polymer layer (6) with the base film and the optical film (1) in this bonding step (B). The production method according to any one of] to [9].

[11] 장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 방법으로서,[11] A long base film (5) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound laminated on the base film (5) is provided, and the base film (5) is the polymer As a method of conveying the polymer layer 6 with a long base film which can be peeled off from the layer 2 in the longitudinal direction while being charged,

상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 중합체층 슬릿 공정 (SA)를 포함하고,A polymer layer with a base film slit step (SA) in which an end portion of the polymer layer 6 with a base film is cut and cut in a conveyance direction,

제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인 기재 필름 부착 중합체층의 반송 방법.A method of conveying a polymer layer with a base film in which the absolute value of the charge amount of the polymer layer 6 with a base film after antistatic is 0.01 kV or more and 6 kV or less.

[12] 장척의 기재 필름(5)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 제조하는 방법으로서,[12] A long base film (5), a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, and a long optical bonded on the polymer layer (2) through an adhesive or an adhesive layer (3) As a method of manufacturing an optical laminate 7 with a long base film including a film 1, wherein the base film 5 is peelable from the polymer layer 2,

상기 장척의 기재 필름(5)과, 이 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A), 및A long base film comprising the long base film 5 and the polymer layer 2 laminated on the base film 5, and the base film 5 is peelable from the polymer layer 2 The polymer layer with a base film static elimination conveyance process (A) which conveys the adhesion polymer layer 6 in the longitudinal direction while static electricity, and

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)에 대하여, 상기 중합체층(2) 측에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 공정 (B)With respect to the polymer layer with a base film 6 conveyed by the said polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A), a long optical film through an adhesive or an adhesive layer 3 on the side of the polymer layer 2 ( 1) a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded on the polymer layer (2) through the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) Step (B) of providing an optical laminate 7 with a long base film in which the base film 5 is peelable from the polymer layer 2

를 포함하고,Including,

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)가, 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 중합체층 슬릿 공정 (SA)를 포함하거나,The said polymer layer with base film antistatic conveyance process (A) includes a polymer layer slit process with a base film (SA) which cuts and cuts the end part of the said polymer layer with base film 6 in a conveyance direction, or,

상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합하기 전의 상기 광학 필름(1)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 광학 필름 슬릿 공정 (SB1)을 포함하거나, 또는The bonding step (B) includes an optical film slit step (SB1) in which the end portion of the optical film 1 before bonding with the polymer layer 6 with a base film is cut in the conveyance direction and cut out, or

상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합한 후의 상기 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)를 포함하고,The bonding step (B) cuts the end of the optical layered body 7 with the base film after bonding with the polymer layer 6 with a base film in the conveyance direction, and cuts it out. ), and

상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인 기재 필름 부착 광학 적층체의 제조 방법.The method for producing an optical layered product with a base film, wherein the absolute value of the charge amount of the polymer layer with a base film 6 after static elimination in the polymer layer with base film antistatic transfer step (A) is 0.01 kV or more and 6 kV or less.

[13] 장척의 광학 필름(1)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)을 구비하고, 상기 중합체층(2)이 상기 광학 필름(1)과 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 적층되어 있는 광학 적층체(4)를 제조하는 방법으로서,[13] A long optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, wherein the polymer layer (2) comprises the optical film (1) and an adhesive or adhesive layer (3) As a method of manufacturing the optical laminate (4) laminated through),

장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)와, 단부를 잘라낸 후의 상기 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정 (C)와 함께,A long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded on the polymer layer (2) through the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3), the base material The optical laminated body slit step (SB2) with a base film in which the end of the optical laminate 7 with a long base film capable of being peeled off from the polymer layer 2 is cut in the conveying direction, and the end Along with the peeling step (C) of peeling the said base film 5 from the said optical laminated body 7 with a base film after cutting out, and obtaining the said optical laminated body 4,

상기 박리 공정 (C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 제전 반송 공정 (D)를 구비하고,A base film static elimination conveyance process (D) which conveys in the longitudinal direction while static electricity elimination of the said base material film 5 after peeling in said peeling process (C) is provided,

상기 기재 필름 제전 반송 공정 (D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인 광학 적층체의 제조 방법.The method for producing an optical laminate in which the absolute value of the charge amount of the base film 5 after the static elimination in the base film antistatic conveyance step (D) is 0.01 kV or more and 6 kV or less.

본 발명에 따르면, 슬릿 공정을 포함하는 광학 적층체의 제조 공정 중에 광학 적층체를 구성하는 재료에 유래하는 이물의 발생을 억제하고, 또한, 제조 현장에 있어서의 이물의 잔존량을 저감하는 광학 적층체의 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, during the manufacturing process of the optical layered product including the slit process, the generation of foreign matters originating from the material constituting the optical layered product is suppressed, and the amount of residual foreign matters at the manufacturing site is reduced. A method for producing a sieve can be provided.

도 1은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법의 일 실시양태를 설명하기 위한 개략도이다.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 제조되는 광학 적층체의 층구성의 일례를 나타낸 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 기재 필름 부착 중합체층의 층구성의 일례를 나타낸 개략 단면도이다.
도 4는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 기재 필름 부착 광학 적층체의 층구성의 일례를 나타낸 개략 단면도이다.
도 5는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 슬리터 장치의 일례를 나타낸 개략도이다.
도 6은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 슬리터 장치의 일례에 있어서의 윗날과 아랫날의 중첩을 나타낸 개략도이다.
도 7은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 슬리터 장치의 일례에 있어서의 윗날과 아랫날이 중첩되는 외주부의 폭(랩)을 나타낸 개략도이다.
도 8은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 일 실시양태인 기재 필름 부착 중합체층을 폭 방향을 따라 절단한 경우의 단면 모식도이다.
도 9는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 일 실시양태인 기재 필름 부착 중합체층을 폭 방향을 따라 절단한 경우의 단면 모식도이다.
도 10은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 일 실시양태인 기재 필름 부착 광학 적층체를 폭 방향을 따라 절단한 경우의 단면 모식도이다.
도 11은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 이용되는 일 실시양태인 기재 필름 부착 광학 적층체를 폭 방향을 따라 절단한 경우의 단면 모식도이다.
1 is a schematic diagram for explaining an embodiment of a method for manufacturing an optical laminate of the present invention.
Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a layer structure of an optical laminate produced by the method for producing an optical laminate of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of a polymer layer with a base film used in the method for manufacturing an optical laminate of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a layer structure of an optical laminate with a base film used in the method for producing an optical laminate of the present invention.
5 is a schematic view showing an example of a slitter device used in the method for manufacturing an optical laminate of the present invention.
Fig. 6 is a schematic diagram showing the overlapping of the upper and lower blades in an example of a slitter device used in the method of manufacturing an optical laminate of the present invention.
Fig. 7 is a schematic diagram showing the width (wrap) of the outer peripheral portion where the upper and lower blades overlap in an example of a slitter device used in the method for manufacturing an optical laminate of the present invention.
Fig. 8 is a schematic cross-sectional view of a polymer layer with a base film, which is an embodiment used in the method for producing an optical laminate of the present invention, cut along the width direction.
Fig. 9 is a schematic cross-sectional view of a polymer layer with a base film, which is an embodiment used in the method of manufacturing an optical laminate of the present invention, cut along the width direction.
Fig. 10 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate with a base film, which is an embodiment used in the method for producing an optical laminate of the present invention, cut along the width direction.
Fig. 11 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate with a base film, which is an embodiment used in the method for producing an optical laminate of the present invention, cut along the width direction.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서, 상세히 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시형태에 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 손상하지 않는 범위에서 여러 가지 변경을 할 수 있다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described here, and various changes can be made without impairing the gist of the present invention.

<광학 적층체의 제조 방법><Method of manufacturing an optical laminate>

본 발명은, 점착제 또는 접착제층을 통해 적층된, 광학 필름 및 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층을 구비하는 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다. 예컨대, 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 의해 얻어지는 대표적인 광학 적층체의 층구성의 일례를 나타낸 도 2에 따라 설명하면, 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 의해, 광학 필름(1)의 한쪽 면에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 적층된 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성된 중합체층(2)[이하, 단순히 「중합체층(2)」이라고도 함]을 포함하는 광학 적층체(4)를 제조할 수 있다. 광학 적층체(4)는, 중합체층(2)의 점착제 또는 접착제층(3)과는 반대쪽 면에 배향층(8)을 갖고 있어도 좋다.The present invention relates to a method for producing an optical laminate comprising a polymer layer composed of a polymer of an optical film and a polymerizable liquid crystal compound laminated through an adhesive or an adhesive layer. For example, referring to Fig. 2 showing an example of a layer structure of a typical optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate of the present invention, the optical film 1 is obtained by the method for producing an optical laminate of the present invention. Optical laminate (4) comprising a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound laminated on one side through an adhesive or adhesive layer (3) (hereinafter, also simply referred to as "polymer layer (2)") Can be manufactured. The optical laminated body 4 may have the alignment layer 8 on the side opposite to the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer 3 of the polymer layer 2.

도 1은 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법의 대표적인 일 실시양태를 설명한 개략도이다. 이하, 도 1에 따라, 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법을 설명한다.1 is a schematic diagram illustrating a representative embodiment of a method for manufacturing an optical laminate of the present invention. Hereinafter, a method of manufacturing the optical laminate of the present invention will be described with reference to FIG. 1.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한, 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)(도 3)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)[이하, 단순히 「공정 (A)」라고도 함]를 포함한다. 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)은 권출롤에 감긴 상태로 공정 (A)에 이용되고, 권출롤 1(11)에 롤형으로 감긴 기재 필름 부착 중합체층(6)이 권출롤 1(11)로부터 연속적으로 송출되어, 반송용 롤러(12)에 의해 길이 방향으로 연속적으로 반송된다.The manufacturing method of the optical laminate of the present invention comprises a long base film 5 and a polymer layer 2 laminated on the base film 5, and the base film 5 comprises the polymer layer ( The polymer layer with a base film 6 (FIG. 3) which can be peeled off from 2) is conveyed in the longitudinal direction while being charged in the lengthwise direction (hereinafter, referred to simply as "step (A)"). Includes]. In one embodiment of the present invention, the elongated polymer layer 6 with a base film is used in the step (A) in a state wound on a unwinding roll, and a polymer layer with a base film wound in a roll shape on a unwinding roll 1 (11) ( 6) is continuously fed out from the unwinding roll 1 (11) and continuously conveyed in the longitudinal direction by the conveying roller 12.

본 발명에 있어서, 기재 필름(5)은, 상기 기재 필름 상에 적층되는 중합체층(2) 또는 배향층(8)으로부터 최종적으로 박리 가능한 재료를 포함하는 것이면 특별히 제한되는 것은 아니다. 기재 필름(5)으로는, 광학 필름에 이용되는 공지된 재료를 이용할 수 있고, 수지 기재를 포함하는 장척의 필름 롤인 것이 바람직하다. 수지 기재를 포함하는 기재 필름(5)을 구성하는 수지로는, 예컨대, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보넨계 폴리머 등의 폴리올레핀; 폴리비닐알코올; 폴리에틸렌테레프탈레이트; 폴리메타크릴산에스테르; 폴리아크릴산에스테르; 셀룰로오스에스테르; 폴리에틸렌나프탈레이트; 폴리카보네이트; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리에테르케톤; 폴리페닐렌술피드; 및 폴리페닐렌옥시드 등을 들 수 있다.In the present invention, the base film 5 is not particularly limited as long as it contains a material finally peelable from the polymer layer 2 or the alignment layer 8 laminated on the base film. As the base film 5, a known material used for an optical film can be used, and it is preferable that it is a long film roll containing a resin base material. Examples of the resin constituting the base film 5 including the resin base material include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and norbornene polymer; Polyvinyl alcohol; Polyethylene terephthalate; Polymethacrylic acid ester; Polyacrylic acid ester; Cellulose ester; Polyethylene naphthalate; Polycarbonate; Polysulfone; Polyethersulfone; Polyether ketone; Polyphenylene sulfide; And polyphenylene oxide.

이러한 수지 기재를 포함하는 기재 필름은 일반적으로 대전하기 쉬운 성질을 갖고 있는 대전성의 수지 기재 필름이며, 예컨대, 롤형으로 감겨 있던 기재 필름 부착 중합체층(6)이 권출롤 1(11)로부터 송출되어 반송될 때에 기재 필름 부착 중합체층(6)끼리가 박리됨으로써, 또한, 송출된 기재 필름 부착 중합체층(6)이 반송용 롤러(12)와 접촉, 박리됨으로써, 반송 중의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량은 높아진다. 예컨대, 기재 필름 부착 중합체층(6)이 기재 필름(5)으로서 수지 기재를 포함하는 경우, 송출된 후의 기재 필름 부착 중합체층(6)은 제전을 행하지 않는 경우에는 절대값이 7 kV를 초과하는 대전량을 갖는다. 이러한 높은 대전량을 가진 채로 광학 적층체를 제조하는 것은, 작업자에 대한 위험을 발생시키거나, 이용하는 기계 등에 대한 문제를 발생시키거나 할 가능성이 있을 뿐만 아니라, 공기 중에 존재하는 티끌이나 먼지 등이 제조 중의 적층체에 부착되거나 유입되거나 함으로써, 얻어지는 광학 적층체에 결함을 일으키는 원인이 된다. 이 때문에, 본 발명에 있어서, 권출롤 1(11)로부터 송출된 기재 필름 부착 중합체층(6)은, 제전하면서 길이 방향으로 연속적으로 반송된다.The base film containing such a resin base material is generally an electrically charged resin base film having a property of being easily charged. For example, the polymer layer 6 with the base film wound in a roll shape is sent out from the unwinding roll 1 (11) and conveyed. When the polymer layers 6 with the base film are peeled off from each other, the polymer layer 6 with the base film which has been delivered is brought into contact with the roller 12 for conveyance and peeled off, so that the polymer layer with the base film 6 during conveyance The charge amount of is higher. For example, when the polymer layer 6 with the base film contains a resin base material as the base film 5, the polymer layer 6 with the base film after being sent out has an absolute value exceeding 7 kV when static electricity is not performed. It has a charge amount. Manufacturing an optical laminate with such a high charge amount not only poses a risk to the operator, may cause problems with the machine used, etc., but also dust or dust existing in the air is produced. It causes a defect in the obtained optical laminated body by adhering to or flowing into the laminated body. For this reason, in the present invention, the polymer layer 6 with a base film fed out from the unwinding roll 1 (11) is continuously conveyed in the longitudinal direction while being charged.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 상기 공정 (A)에 의해 반송되는 기재 필름 부착 중합체층(6)에 대하여, 중합체층(2) 측에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)(도 4)를 얻는 접합 공정 (B)[이하, 단순히 「공정 (B)」라고 함]를 포함한다.The manufacturing method of the optical layered product of the present invention provides a long optical layer through an adhesive or an adhesive layer 3 on the polymer layer 2 side with respect to the polymer layer 6 with a base film conveyed by the above step (A). A long-length optical film (1) bonded to the film (1) through a pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) on the long base film (5), the polymer layer (2), and the polymer layer (2) A bonding step (B) to obtain a long base film-attached optical laminate 7 (Fig. 4) in which the base film 5 is peelable from the polymer layer 2 (hereinafter, simply “Step (B )”.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 공정 (B)에서는, 공정 (A)에 의해 연속적으로 반송되는 기재 필름 부착 중합체층(6)을 구성하는 중합체층(2)의 기재 필름(5) 측과는 반대쪽 면에, 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)을 반송하면서 점착제 또는 접착제층(3)을 연속적으로 형성한다. 점착제 또는 점착제층(3)은, 예컨대 점착제 또는 접착제(3')를 도포함으로써 형성할 수 있다. 점착제 또는 접착제의 도포는 통상의 방법, 예컨대 용제로 희석한 접착제를, 혹은 무희석의 접착제를 그라비아 코터, 다이 코터 등에 의해 도포하는 방법에 의해 행할 수 있다. 공정 (B)에 있어서, 점착제 또는 접착제는, 기재 필름 부착 중합체층(6)을 구성하는 기재 필름(5)과는 반대쪽 층의 최외면[예컨대, 도 3에서는 중합체층(2) 측]에 도포하면 좋지만, 기재 필름 부착 중합체층(6)에 접합되는 광학 필름(1) 측에 도포하여도 좋다. 계속해서, 점착제 또는 접착제가 도포된 기재 필름 부착 중합체층(6)을 반송하면서, 기재 필름 부착 중합체층(6)의 중합체층(2) 측에, 권출롤 2(14)로부터 연속적으로 송출된 광학 필름(1)을 중첩시켜, 닙롤(15)에 의해 압착함으로써, 기재 필름 부착 중합체층(6)에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 광학 필름(1)을 포함하는 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 연속적으로 얻을 수 있다.In one embodiment of the present invention, in the step (B), the base film 5 side of the polymer layer 2 constituting the polymer layer 6 with a base film continuously conveyed by the step (A) is On the opposite side, a pressure-sensitive adhesive or adhesive layer 3 is continuously formed while conveying the polymer layer 6 with a base film. The pressure-sensitive adhesive or pressure-sensitive adhesive layer 3 can be formed, for example, by applying a pressure-sensitive adhesive or adhesive 3'. The pressure-sensitive adhesive or adhesive may be applied by a conventional method, for example, an adhesive diluted with a solvent, or a non-diluted adhesive with a gravure coater or a die coater. In step (B), the pressure-sensitive adhesive or adhesive is applied to the outermost surface of the layer opposite to the base film 5 constituting the polymer layer 6 with the base film (for example, on the side of the polymer layer 2 in FIG. 3) Although it just needs to be done, you may apply to the side of the optical film 1 bonded to the polymer layer 6 with a base film. Subsequently, while conveying the polymer layer 6 with a base film to which an adhesive or adhesive has been applied, the optical continuously delivered from the unwinding roll 2 14 to the polymer layer 2 side of the polymer layer 6 with a base film Attaching a long base film including an optical film 1 bonded to the base film-attached polymer layer 6 through a pressure-sensitive adhesive or adhesive layer 3 by overlapping the film 1 and pressing it with a nip roll 15 The optical laminate 7 can be obtained continuously.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 상기 공정 (A) 및/또는 공정 (B)에 있어서 반송되는 기재 필름 부착 중합체층(6), 광학 필름(1) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)(이하, 이들을 통합하여 「장척 시트」라고도 함)의 폭 방향의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 슬릿 공정을 포함한다. 구체적으로는,The manufacturing method of the optical laminated body of this invention is the polymer layer (6) with a base film, optical film (1), or the optical laminated body (7) with a base film conveyed in the said process (A) and/or process (B). ) (Hereinafter, these are collectively referred to as a "long sheet") and a slit step of cutting the end portion in the width direction in the conveying direction. Specifically,

공정 (A)에 있어서, 기재 필름 부착 중합체층(6)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 중합체층 슬릿 공정 (SA)[이하, 단순히 「슬릿 공정 (SA)라고도 함]를 포함하거나,In the step (A), a polymer layer with a base film slit step (SA) (hereinafter simply referred to as a ``slit step (SA)) in which an end portion of the polymer layer 6 with a base film is cut and cut in the conveyance direction is included. do or,

공정 (B)에 있어서, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합하기 전의 광학 필름(1)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 광학 필름 슬릿 공정 (SB1)[이하, 단순히 「슬릿 공정 (SB1)이라고도 함]을 포함하거나, 또는In the step (B), the optical film slit step (SB1) in which the end portion of the optical film 1 before bonding with the polymer layer 6 with the base film is cut in the conveying direction and cut out (hereinafter simply referred to as "slit step (SB1) ), or

공정 (B)에 있어서, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합한 후의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)[이하, 단순히 「슬릿 공정 (SB2)」라고도 함]In step (B), the optical laminated body slit process with a base film (SB2) in which the end of the optical laminate 7 with a base film after bonding with the polymer layer 6 with a base film is cut in the conveyance direction and cut out. Hereinafter, it is also simply referred to as "slit process (SB2)"]

를 포함한다. 상기 슬릿 공정을 거침으로써, 반송되는 장척 시트의 폭 방향의 단부가 가지런히 잘려, 얻어지는 적층체를 롤형으로 감았을 때의 단면 어긋남의 발생 등을 억제할 수 있다.Includes. By passing through the said slit process, the edge part in the width direction of the long sheet to be conveyed is cut neatly, and the occurrence of cross-sectional deviation etc. when the obtained laminated body is wound in a roll shape can be suppressed.

슬릿 공정 (SA), 슬릿 공정 (SB1) 및 슬릿 공정 (SB2)는 모두, 예컨대, 광학 필름 등의 제조에 있어서 종래 이용되고 있는 슬리터 장치를 이용하여, 반송되는 장척 시트의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라냄으로써 행할 수 있다. 슬리터 장치로서는, 예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이, 서로의 대향하는 면을 그 외주연에서 접촉시키면서 회전시키는 환형의 한 쌍의 윗날과 아랫날을 갖는, 이른바 회전 둥근 날을 사용한 슬리터 장치 등을 들 수 있다. 도 5에 도시된 슬리터 장치에 있어서, 윗날(31)은 환형으로 구성되어 있고, 샤프트(34)에 환삽(環揷)한 후 홀더(36) 및 홀더(37)로 협지, 고정된다. 환형 날이 설치된 샤프트(34)의 다른 한쪽 단은 베어링(38)에 의해 지지되고, 감속기(39)를 통해 모터(40)에 의해 고정된 윗날(31)이 회전 가능하게 구성되어 있다. 아랫날(32)도 윗날(31)과 같이 회전 가능하게 구성되고, 도 6에 도시된 바와 같이, 회전시, 윗날(31)과 아랫날(32)이 외주부에서 중첩되도록 배치되어 있다. 이 윗날(31)과 아랫날(32)이 중첩되는 외주부의 폭[도 7의 (35)]은 랩이라 불리고, 절단하는 대상물, 그 두께, 날붙이 직경 등에 의해 조정된다. 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 있어서 랩 폭은, 예컨대, 0.1∼1.5 ㎜ 범위에서 조정될 수 있다. 슬리터 장치의 운전시에 있어서의 랩 폭의 변동은, 회전 둥근 날의 칼 드는 정도에 불균일을 발생시켜, 장척 시트의 절단면의 품질에 영향을 미칠 수 있기 때문에, 샤프트(34)나 공구에 중심 어긋남이 생기지 않도록 가공 정밀도가 높은 것을 사용하는 것이 바람직하다.The slit process (SA), the slit process (SB1), and the slit process (SB2) are all, for example, using a slitter device conventionally used in the manufacture of optical films, etc., and the end of the long sheet to be conveyed in the conveying direction. It can be done by cutting and cutting. As a slitter device, for example, as shown in FIG. 5, a slitter device using a so-called rotating round blade having a pair of upper and lower annular blades that rotate while making contact with each other at the outer periphery thereof. And the like. In the slitter device shown in FIG. 5, the upper blade 31 is formed in an annular shape, and is clamped and fixed with the holder 36 and the holder 37 after being roundly inserted into the shaft 34. The other end of the shaft 34 on which the annular blade is installed is supported by the bearing 38, and the upper blade 31 fixed by the motor 40 through the reducer 39 is configured to be rotatable. The lower blade 32 is also configured to be rotatable like the upper blade 31, and as shown in FIG. 6, when rotating, the upper blade 31 and the lower blade 32 are arranged to overlap at the outer periphery. The width of the outer circumferential portion (35 in Fig. 7) where the upper blade 31 and the lower blade 32 overlap is called a lap, and is adjusted by the object to be cut, its thickness, and the diameter of the blade. In the method for manufacturing the optical laminate of the present invention, the wrap width can be adjusted in the range of 0.1 to 1.5 mm, for example. Since fluctuations in the wrap width during operation of the slitter device may affect the quality of the cut surface of the long sheet by causing unevenness in the degree of cutting of the rotating round blade, it is centered on the shaft 34 or the tool. It is preferable to use one with high processing precision so that a shift does not occur.

예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이, 회전 둥근 날을 사용한 슬리터 장치를, 반송되는 장척 시트(33)의 폭 방향을 따라 원하는 슬릿 위치에 설치하고, 윗날(31)과 아랫날(32)을 포함하는 회전 둥근 날 사이에 장척 시트(33)를 그 반송 방향(길이 방향)을 따라 삽입 관통시킴으로써, 반송된 상기 장척 시트(33)를 원하는 폭으로 길이 방향을 따라 연속적으로 절단할 수 있다. 슬릿 공정 (SA), 슬릿 공정 (SB1) 및 슬릿 공정 (SB2)에 있어서의 장척 시트의 반송 경로에 있어서 슬리터 장치를 배치하는 위치는 특별히 한정되지 않고, 공정 (A) 및 (B)에 있어서 장척 시트가 반송되는 경로의 원하는 지점에 배치하면 좋다.For example, as shown in Fig. 5, a slitter device using a rotating round blade is installed at a desired slit position along the width direction of the long sheet 33 to be conveyed, and the upper blade 31 and the lower blade 32 are By inserting the long sheet 33 along the conveying direction (longitudinal direction) between the included rotary round blades, the conveyed long sheet 33 can be continuously cut along the length direction to a desired width. The position where the slitter device is arranged in the conveyance path of the long sheet in the slit step (SA), the slit step (SB1) and the slit step (SB2) is not particularly limited, and in the steps (A) and (B) It is good to arrange it at a desired point on the path through which the long sheet is conveyed.

상기와 같은 슬릿 공정을 포함하는 경우, 슬릿 공정을 포함하지 않는 제조 공정과 비교하여 장척 시트의 절단에 따른 미세한 절삭 부스러기의 발생, 슬릿 후의 단부에 있어서의 광학 필름이나 광학 적층체의 박리 등에 의해, 광학 적층체를 구성하는 재료에 유래하는 이물이 보다 발생하기 쉬운 경향이 있다. 또한, 일반적으로, 장척 시트를 반송하면서 연속적으로 가공을 행하는 광학 적층체의 제조 현장에 있어서는 그 반송 중에 장척 시트가 사행(蛇行)하기 쉽고, 장척 시트가 길어질수록 이러한 현상이 현저해지기 쉬운 경향이 있다. 장척 시트가 사행하면서 반송되면, 장척 시트가 길이 방향으로부터 다양한 각도를 가지며 슬리터 장치의 절단날에 삽입 관통되게 되고, 장척 시트의 절단이나 단부의 박리에 기인한 이물의 발생량이 더욱 증가하는 하나의 원인이 된다. 슬릿 공정을 포함하는 제조 공정에 있어서는, 예컨대, 제조 공정 중에 생기는 상기 이물이 절단날과 절단 단부 사이에 들어감으로써, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층 등의 절단 단부에 크랙을 발생시키는 경우가 있다. 이러한 크랙은, 얻어지는 광학 적층체의 파단이나, 상기 광학 적층체를 내장한 화상 표시 장치 등의 사용 과정에 있어서의 광학 적층체의 크랙을 발생시키는 원인이 될 수 있다.In the case of including the slit process as described above, compared with the manufacturing process not including the slit process, the generation of fine chips due to cutting of the long sheet, peeling of the optical film or optical laminate at the end after the slit, etc., There is a tendency that foreign matter originating from the material constituting the optical laminate is more likely to be generated. In addition, in general, in the manufacturing site of an optical laminate that continuously processes while conveying a long sheet, the long sheet tends to meander during the conveyance, and this phenomenon tends to become more remarkable as the long sheet becomes longer. have. When the long sheet is conveyed while meandering, the long sheet has various angles from the longitudinal direction and is inserted through the cutting edge of the slitter device, and the amount of foreign matter caused by the cutting of the long sheet or the peeling of the end is further increased. It causes. In the manufacturing process including the slit process, for example, when the foreign material generated during the manufacturing process enters between the cutting blade and the cutting edge, cracks are generated in the cutting edge of the polymer layer composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound. There is. Such cracks may cause fracture of the obtained optical laminate or crack in the optical laminate during use of an image display device incorporating the optical laminate.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 기재 필름 부착 중합체층(6) 등의 장척 시트의 반송 경로[예컨대, 공정 (A)]에 있어서 제전을 행함으로써 장척 시트의 대전량을 제어하는 것을 포함한다. 이것에 의해, 반송 중의 장척 시트의 사행을 억제하고, 슬리터 장치에 삽입 관통되는 장척 시트의 각도를 작게 할(즉, 절단날에 대하여 장척 시트를 평행하게 삽입 관통할) 수 있기 때문에, 슬릿 공정에 기인하여 생기는 이물의 발생을 억제할 수 있다.The manufacturing method of the optical layered product of the present invention includes controlling the amount of charge of the long sheet by performing static electricity elimination in a conveyance path (e.g., step (A)) of a long sheet such as a polymer layer 6 with a base film. do. As a result, it is possible to suppress the meandering of the long sheet during conveyance and to reduce the angle of the long sheet to be inserted into the slitter device (i.e., the long sheet to be inserted parallel to the cutting blade). It is possible to suppress the occurrence of foreign matters caused by this.

이 때문에 공정 (A)에 있어서, 제전 후의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하가 되도록 제전하는 것이 바람직하다. 특히, 대전량이 상기 하한값 이상이면, 기재 필름 부착 중합체층(6)이 그 대전에 의해 슬릿 공정 근방에 형성된 가이드 롤에 대하여 적절히 흡착하면서 반송되기 때문에, 기재 필름 부착 중합체층(6)의 사행을 억제하고, 슬리터 장치에 삽입 관통될 때의 각도를 작게 할 수 있다. 이것에 의해, 슬릿 위치의 정밀도를 높게 유지할 수 있어, 슬릿 공정에 기인하는 이물의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 기재 필름 부착 중합체층(6)이 반송되는 과정에 있어서 기재 필름 부착 중합체층(6)을 구성하는 재료, 특히 중합체층(2)이나 배향층(8) 등의 단부가 박리되어 떨어짐으로써 이물이 생긴 경우여도, 이물이 기재 필름(5)에 부착되기 쉽고, 또한, 박리되어 떨어질 것 같은 단부가, 대전에 의한 흡착에 의해 탈락되지 않고 기재 필름(5) 상에 고정되기 쉽기 때문에, 그 후의 공정에 있어서 박리되는 기재 필름(5)과 함께 이물을 제조 현장(클린룸)(20)으로부터 배출할 수 있다. 이것에 의해, 제조 현장에서의 기재 필름 부착 중합체층(6)을 구성하는 재료에 유래하는 이물의 잔존량을 저감할 수 있다.Therefore, in step (A), it is preferable to perform static electricity so that the absolute value of the charge amount of the polymer layer 6 with a base film after static electricity is not less than 0.01 kV and not more than 6 kV. In particular, when the amount of charge is more than the above lower limit, the polymer layer 6 with the base film is conveyed while being properly adsorbed to the guide roll formed near the slit process by the charging, thereby suppressing the meandering of the polymer layer 6 with the base film. And it is possible to reduce the angle at the time of insertion into the slitter device. Thereby, the precision of the slit position can be maintained high, and generation|occurrence|production of a foreign matter caused by a slit process can be suppressed effectively. In addition, in the process of transporting the polymer layer 6 with the base film, the material constituting the polymer layer 6 with the base film, especially the end of the polymer layer 2 or the alignment layer 8, etc. Even in the case where this occurs, the foreign matter is easily adhered to the base film 5, and the end portion that is likely to be peeled off is not removed by adsorption by charging and is easily fixed on the base film 5, so that the subsequent In the process, foreign matter can be discharged from the manufacturing site (clean room) 20 together with the base film 5 to be peeled off. Thereby, the residual amount of the foreign matter derived from the material constituting the polymer layer 6 with the base film in the manufacturing site can be reduced.

종래, 공기 중의 티끌이나 먼지의 부착을 방지하거나, 이상 방전을 방지하거나 한다는 관점에서, 롤투롤 방식으로 반송되는 장척 시트의 대전량은 낮으면 낮을수록(이상적으로는 0 kV) 바람직하다고 생각되고 있다(예컨대, 상기 특허문헌 등). 그러나, 본 발명과 같은 중합성 액정 화합물의 중합체를 포함하는 중합체층이나 배향층 등을 포함하는 광학 적층체의 제조 방법에 있어서는, 대전량을 가능한 한 0 kV에 가깝게 했을 경우, 공기 중에 존재하는 티끌이나 먼지 등이 제조 중의 장척 시트에 부착되기 어려워지는 한편, 전술한 바와 같이 반송되는 장척 시트가 사행하기 쉬워지고, 슬릿 위치에 어긋남이 생기기 쉬워져서, 슬릿 위치를 일정하게 정밀도 좋게 유지하기는 어려워진다. 이것에 의해 제조 중에 이물이 발생하기 쉬워짐과 더불어, 제조 공정 중에 발생하는, 목적으로 하는 광학 적층체 자체를 구성하는 재료에 유래하여 생기는 이물의 흡착도 하기 어려워진다. 이러한 이물은 제조 현장 내에 잔존하고, 그 후에 제조되는 광학 적층체에 연속적인 결함을 일으킬 가능성이 있다. 본 발명에 있어서는, 이러한 광학 적층체를 구성하는 재료에 유래하여 생기는 이물 자체의 발생을 억제하고, 이물이 발생한 경우여도 이물을 보다 효과적으로 기재 필름(5)에 흡착시키고, 제조 현장 내로의 이물의 잔존량을 저감시킨다는 관점에서, 공정 (A)에 있어서의 제전 후의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값의 하한값은, 보다 바람직하게는 0.03 kV 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 kV 이상, 특히 바람직하게는 0.07 kV 이상이다.Conventionally, from the viewpoint of preventing adhesion of dust or dust in the air or preventing abnormal discharge, it is considered that the lower the charge amount of the long sheet conveyed in the roll-to-roll method, the lower (ideally 0 kV) it is preferable. (For example, the above patent document, etc.). However, in the manufacturing method of an optical layered product including a polymer layer or an alignment layer including a polymer of a polymerizable liquid crystal compound as in the present invention, when the charge amount is made as close to 0 kV as possible, dust existing in the air While it becomes difficult to adhere to the long sheet during manufacture, as described above, the long sheet to be conveyed tends to meander, and the slit position is liable to be shifted, making it difficult to maintain the slit position consistently and accurately. . This makes it easier to generate foreign substances during manufacturing, and also makes it difficult to adsorb foreign substances generated during the manufacturing process and originate from the material constituting the target optical laminate itself. Such foreign matter remains in the manufacturing site, and there is a possibility of causing continuous defects in the optical laminate to be manufactured thereafter. In the present invention, the generation of foreign matters themselves resulting from the materials constituting the optical laminate is suppressed, and even if foreign matters are generated, the foreign matters are more effectively adsorbed to the base film 5, and the foreign matters remain in the manufacturing site. From the viewpoint of reducing the amount, the lower limit of the absolute value of the charge amount of the polymer layer 6 with a base film after static elimination in step (A) is more preferably 0.03 kV or more, still more preferably 0.05 kV or more, It is particularly preferably 0.07 kV or more.

나아가서는, 공정 (A)에 있어서의 제전 후의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량(절대값)을 상기 하한값 이상, 예컨대 0.3 kV 이상, 나아가서는 0.5 kV 이상, 특히는 0.7 kV 이상, 특히 1.0 kV 이상으로 유지하는 것이 바람직하다. 특히, 공정 (A) 및 공정 (B)를 연속적으로 행하는 경우, 대전량을 일정값 이상으로 계속해서 유지함으로써, 공정 (A) 및 공정 (B)의 전체를 통해 장척 시트의 사행을 억제하고, 슬릿 위치를 높은 정밀도로 유지할 수 있어, 이물의 발생이나 잔존을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.Furthermore, the charge amount (absolute value) of the polymer layer 6 with a base film after static elimination in the step (A) is not less than the above lower limit, such as 0.3 kV or more, further 0.5 kV or more, particularly 0.7 kV or more, particularly It is desirable to keep it above 1.0 kV. In particular, in the case of continuously performing the steps (A) and (B), by continuously maintaining the charge amount above a certain value, the meandering of the long sheet throughout the steps (A) and (B) is suppressed, The slit position can be maintained with high precision, and generation and residual of foreign matter can be suppressed more effectively.

공정 (A)에 있어서의 제전 후의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값의 상한값은, 이상 방전의 방지, 안전성 등의 관점에서, 5 kV 이하인 것이 보다 바람직하고, 3 kV 이하인 것이 더욱 바람직하며, 2 kV 이하인 것이 특히 바람직하고, 1.5 kV 이하인 것이 특히 바람직하다.From the viewpoint of prevention of abnormal discharge, safety, etc., the upper limit of the absolute value of the charge amount of the polymer layer 6 with the base film after static elimination in step (A) is more preferably 5 kV or less, and 3 kV or less. It is more preferable, and it is especially preferable that it is 2 kV or less, and it is especially preferable that it is 1.5 kV or less.

기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량은, 예컨대, 공지된 제전 장치 등을 이용함으로써 제어할 수 있다. 제전 장치로서는, 예컨대, 이온풍을 발생하는 이온풍 제전 장치, 자외선이나 연 X선에 의한 광조사식 제전 장치, 자기 방전식 제전 장치, 제전 브러시, 제전 끈, 접지(어스) 등을 들 수 있고, 이용하는 롤투롤의 설비 등에 맞춰 적절하게 선택하면 좋다. 제전 장치는, 1종만을 이용하여도 좋고, 복수를 조합하여 이용하여도 좋다. 본 발명에 있어서, 제전 장치로는, 신속하고 또한 확실하게 제전을 행할 수 있기 때문에, 이온풍 제전 장치 및 광조사식 제전 장치가 바람직하다. 본 발명에 따르면, 이온풍 제전 장치를 이용한 경우에도, 박리된 필름편의 이온풍에 의한 비산을 억제할 수 있기 때문에, 이온풍 제전 장치의 이용이 보다 바람직하다. 이온풍 제전 장치를 이용하는 경우, 기재 필름 부착 중합체층(6)의 기재 필름(5) 측에 이온풍이 닿도록 이온풍 제전 장치를 반송 경로를 따라 설치하는 것이 바람직하다.The amount of charge of the polymer layer 6 with a base film can be controlled, for example, by using a known antistatic device or the like. Examples of the antistatic device include an ion wind antistatic device that generates ion wind, a light irradiation type antistatic device using ultraviolet rays or soft X-rays, a self-discharge type antistatic device, an antistatic brush, an antistatic string, a ground (earth), and the like. , It may be appropriately selected according to the roll-to-roll equipment used. Only one type of antistatic device may be used, or a plurality of antistatic devices may be used in combination. In the present invention, as the antistatic device, since it can perform static electricity quickly and reliably, an ion wind static electricity eliminator and a light irradiation type static electricity eliminator are preferable. According to the present invention, even in the case of using an ion-air static elimination device, the use of an ion-air static elimination device is more preferable since scattering of the peeled film piece by ion wind can be suppressed. In the case of using an ion wind antistatic device, it is preferable to install an ion wind antistatic device along a conveyance path so that ion wind may reach the side of the base film 5 of the polymer layer 6 with a base film.

공정 (A)에 있어서, 반송 중의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 전체 길이에 걸쳐 그 대전량이 상기 범위를 유지하도록 제어되어 있는 것이 바람직하다. 이 때문에, 권출롤 1(11)로부터 기재 필름 부착 중합체층(6)이 송출된 직후에 제전 장치(13)를 설치하는 것이 바람직하고, 예컨대, 마찰에 의해 대전량이 높아지기 쉬운 반송용 롤러(12)와 접촉 후의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량을 제어할 수 있도록 반송용 롤러(12)의 하류측에 설치하는 등, 기재 필름 부착 중합체층(6)의 반송 경로를 따라 적절하게 제전 장치를 설치함으로써, 반송 중의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량을 제어하는 것이 바람직하다. 또한, 슬릿 공정 (SA)를 포함하는 경우, 슬릿 공정 (SA)에 이용하는 슬리터 장치(21)의 상류측에 제전 장치(13)를 설치하여 대전량을 제어함으로써, 슬리터 장치(21)로 삽입 관통되는 기재 필름 부착 중합체층(6)의 반송 방향을 제어하기 쉬워져서, 슬릿 위치의 정밀도를 높일 수 있다. 한편, 제전 후의 기재 필름 부착 중합체층(6)은, 전술한 대전량(절대값)의 하한값을 유지할 수 있도록, 접지(어스)시키지 않고 반송하여도 좋고, 기재 필름이 대전성의 수지 기재 필름이라면, 대전을 더 행하지 않고 그대로 반송하여도 좋다.In step (A), it is preferable that the charge amount is controlled so as to maintain the above range over the entire length of the polymer layer 6 with a base film during transport. For this reason, it is preferable to install the antistatic device 13 immediately after the polymer layer 6 with the base film is delivered from the unwinding roll 1 (11). For example, the conveying roller 12 is liable to increase the amount of charge due to friction. An antistatic device appropriately along the conveying path of the polymer layer 6 with the base film, such as installed on the downstream side of the conveying roller 12 so as to control the amount of charge of the polymer layer 6 with the base film after contact with It is preferable to control the charge amount of the polymer layer 6 with a base film during conveyance by providing. In addition, in the case of including the slit step (SA), by installing an antistatic device 13 on the upstream side of the slitter device 21 used in the slit step (SA) to control the amount of charge, the slitter device 21 It becomes easy to control the conveyance direction of the polymer layer 6 with the base film which is inserted and penetrated, and the precision of a slit position can be improved. On the other hand, the polymer layer 6 with a base film after antistatic may be conveyed without grounding (earth) so that the lower limit of the above-described charging amount (absolute value) can be maintained, and if the base film is a charging resin base film, It may be conveyed as it is without further charging.

또한, 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량은, 제전 장치의 하류 영역에, 표면 전위(전계) 측정기 등의 대전량 측정 장치를 설치함으로써 측정할 수 있다.In addition, the amount of charge of the polymer layer 6 with a base film can be measured by providing a charge amount measuring device such as a surface potential (electric field) measuring device in the downstream region of the antistatic device.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법이 슬릿 공정 (SB1)을 포함하는 경우, 상기 슬릿 공정 (SA)와 마찬가지로, 슬릿 공정 (SB1)에서 이용하는 슬리터 장치(21)의 상류측에 제전 장치(13)를 배치하고, 광학 필름(1)의 대전량을 제어하여도 좋다. 또한, 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법이 슬릿 공정 (SB2)를 포함하는 경우, 상기 슬릿 공정 (SA)와 마찬가지로, 슬릿 공정 (SB2)에서 이용하는 슬리터 장치(21)의 상류측에 제전 장치(13)를 배치하고, 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 대전량을 제어하는 것이 바람직하다.When the manufacturing method of the optical laminate of the present invention includes a slit step (SB1), similarly to the slit step (SA), an antistatic device 13 is provided on the upstream side of the slitter device 21 used in the slit step (SB1). ) May be disposed, and the amount of charge of the optical film 1 may be controlled. In addition, when the manufacturing method of the optical laminated body of the present invention includes a slit step (SB2), similar to the slit step (SA), an antistatic device is provided on the upstream side of the slitter device 21 used in the slit step (SB2). It is preferable to arrange (13) and to control the charge amount of the optical laminated body 7 with a base film.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 슬릿 공정 (SA), 슬릿 공정 (SB1) 및 슬릿 공정 (SB2) 중 어느 하나만을 포함하고 있어도 좋고, 복수의 슬릿 공정을 조합하여 포함하고 있어도 좋다. 장척 시트의 대전량을 제어하는 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 슬릿 공정에서 잘라내는 장척 시트의 단부에 중합체층(2)이 포함되는 경우에 본 발명의 효과(특히, 이물의 발생 억제 효과)를 현저히 발휘하는 것이다.The manufacturing method of the optical layered product of the present invention may include only any one of a slit step (SA), a slit step (SB1), and a slit step (SB2), or may include a plurality of slit steps in combination. The manufacturing method of the optical laminate of the present invention that controls the charge amount of a long sheet is the effect of the present invention (in particular, suppression of the occurrence of foreign matter) when the polymer layer 2 is included at the end of the long sheet cut out in the slit process. Effect) remarkably.

이 때문에, 슬릿 공정 (SA) 및/또는 슬릿 공정 (SB1)에 있어서 절단되는 단부에 중합체층(2)이 포함되도록 슬릿 위치를 결정하는 경우에 유리하고, 또한, 슬릿 공정 (SA) 및 슬릿 공정 (SB2) 중 적어도 한쪽을 포함하는 경우에 유리하며, 슬릿 공정 (SA)와 슬릿 공정 (SB2)를 포함하는 경우에 특히 유리하다.For this reason, it is advantageous in the case of determining the slit position so that the polymer layer 2 is included at the end cut in the slit process (SA) and/or the slit process (SB1), and further, the slit process (SA) and the slit process It is advantageous when it contains at least one of (SB2), and is especially advantageous when it includes a slit process (SA) and a slit process (SB2).

공정 (B)에 있어서의 반송 중의 사행을 억제하기 위해, 공정 (B)에 있어서 반송되는 기재 필름 부착 중합체층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 대전량의 절대값은, 바람직하게는 0.01 kV 이상, 보다 바람직하게는 0.03 kV 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 kV 이상, 특히 바람직하게는 0.07 kV 이상으로 제어되어 있는 것이 바람직하다. 공정 (B)에서 반송되는 장척 시트의 대전량을 상기 하한값 이상으로 제어함으로써, 장척 시트의 사행 억제에 따른 이물의 발생 억제 효과를 얻을 수 있음과 더불어, 공정 (A)에 있어서 기재 필름(5)에 부착시킨 이물의 제조 현장(클린룸) 밖으로의 확실한 배출을 가능하게 하고, 공정 (B)에 있어서 새롭게 생길 수 있는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 구성 재료에 유래하는 이물을 기재 필름(5)에 부착시켜, 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출하는 것을 가능하게 한다. 또한, 이상 방전의 방지, 안전성 등의 관점에서, 공정 (B)에 있어서 반송되는 기재 필름 부착 중합체층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 대전량의 절대값은, 바람직하게는 6 kV 이하, 보다 바람직하게는 5 kV 이하, 더욱 바람직하게는 3 kV 이하로 제어되어 있는 것이 바람직하다. 나아가서는 공정 (B)에 있어서 반송시키는 기재 필름 부착 중합체층(6) 및 기재 필름 부착 광학적층체(7)의 대전량(절대값)을 상기 하한값 이상, 나아가서는 0.5 kV 이상, 특히는 1.0 kV 이상으로 유지하는 것이 바람직하다.In order to suppress meandering during conveyance in step (B), the absolute value of the charge amount of the polymer layer 6 with the base film and the optical laminate 7 with the base film conveyed in the step (B) is preferably Preferably, it is controlled to be 0.01 kV or more, more preferably 0.03 kV or more, even more preferably 0.05 kV or more, and particularly preferably 0.07 kV or more. By controlling the charge amount of the long sheet conveyed in the step (B) to be equal to or greater than the lower limit, the effect of suppressing the occurrence of foreign matter due to the suppression of the meandering of the long sheet can be obtained, and the base film 5 in the step (A) It enables reliable discharge of foreign matter adhered to the outside of the manufacturing site (clean room), and foreign matter originating from the constituent material of the optical laminate 7 with a substrate film that may be newly formed in step (B) is removed from the substrate film ( Attached to 5), it is possible to discharge outside the manufacturing site (clean room). In addition, from the viewpoint of prevention of abnormal discharge, safety, etc., the absolute value of the charge amount of the polymer layer 6 with the base film and the optical laminate 7 with the base film conveyed in the step (B) is preferably It is preferable that it is controlled to 6 kV or less, more preferably 5 kV or less, and still more preferably 3 kV or less. Furthermore, the charge amount (absolute value) of the polymer layer 6 with the base film and the optical laminate 7 with the base film to be conveyed in the step (B) is equal to or greater than the lower limit, and furthermore than 0.5 kV, particularly 1.0 kV or greater. It is desirable to keep it.

공정 (B)에 있어서의 기재 필름 부착 중합체층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 대전량은, 공정 (A)에 있어서의 방법과 동일한 방법에 의해 제어할 수 있다. 공정 (B)의 전역에 걸쳐 기재 필름 부착 중합체층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 대전량이 상기 범위로 제어되고, 또한, 유지되고 있는 것이 바람직하다. 또한, 제전 후의 기재 필름 부착 중합체층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)는, 상기 대전량(절대값)의 하한값을 유지할 수 있도록, 접지시키지 않고 반송하여도 좋고, 기재 필름이 대전성의 수지 기재 필름이라면, 제전을 더 행하지 않고 그대로 반송하여도 좋다.The amount of charge of the polymer layer 6 with a base film and the optical laminate 7 with a base film in step (B) can be controlled by a method similar to the method in step (A). It is preferable that the electric charge amount of the polymer layer 6 with a base film and the optical laminated body 7 with a base film is controlled in the said range and is maintained over the whole of the process (B). In addition, the polymer layer 6 with the base film and the optical layered body 7 with the base film after antistatic may be conveyed without being grounded so that the lower limit of the charge amount (absolute value) can be maintained, and the base film is charged. As long as it is a resin-based film having a high level, it may be conveyed as it is without further performing antistatic.

공정 (B)에 있어서, 중합체층(2) 상 또는 광학 필름(1) 상에 점착제 또는 접착제층(3)을 형성할 때, 점착제 또는 접착제(3')를 중합체층(2)의 폭과 동일한 폭으로 도포하여도 좋지만, 점착제 또는 접착제층(3)과 중합체층(2)을 압착시킬 때에, 점착제 또는 접착제가 적층체의 측면으로 쉽게 삐져나오지 않고, 얻어지는 광학 적층체가 깨끗하게 마무리되기 때문에, 점착제 또는 접착제를 중합체층(2)의 폭보다 좁은 폭으로 도포하고, 얻어지는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)에 있어서 중합체층(2)의 폭이 점착제 또는 접착제층(3)의 폭보다 넓은 것이 바람직하다. 따라서, 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 공정 (B)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)의 중합체층(2)의 폭은, 상기 공정 (B)에 있어서 기재 필름 부착 중합체층(6)과 광학 필름(1)을 접합하기 위해 형성되는 점착제 또는 접착제층(3)의 폭보다 넓다. 또한, 다른 일 실시양태에 있어서 중합체층(2)이 배향층(8)을 통해 기재 필름(5)에 적층되어 있는 경우, 상기 배향층(8)의 폭은, 상기 공정 (B)에 있어서 기재 필름 부착 중합체층(6)과 광학 필름(1)을 접합하기 위해 형성되는 점착제 또는 접착제층(3)의 폭보다 넓다.In step (B), when forming the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) on the polymer layer (2) or on the optical film (1), the pressure-sensitive adhesive or adhesive (3') is equal to the width of the polymer layer (2). It may be applied in width, but when pressing the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer 3 and the polymer layer 2, the pressure-sensitive adhesive or adhesive does not easily protrude to the side of the laminate, and the resulting optical laminate is finished cleanly. It is preferable that the width of the polymer layer 2 is wider than that of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer 3 in the optical laminate 7 with a base film obtained by applying the adhesive to a width narrower than the width of the polymer layer 2 . Therefore, in one embodiment of the present invention, the width of the polymer layer 2 of the polymer layer 6 with a base film provided in step (B) is the polymer layer 6 with a base film in the step (B) ) Is wider than the width of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer 3 formed to bond the optical film 1. In addition, in another embodiment, when the polymer layer (2) is laminated on the base film (5) through the orientation layer (8), the width of the orientation layer (8) is the base material in the step (B). It is wider than the width of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer 3 formed to bond the film-attached polymer layer 6 and the optical film 1.

또한, 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법은, 공정 (B)에서 얻어진 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 기재 필름(5)을 박리하여, 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정 (C)[이하, 단순히 「공정 (C)」라고 함]와 함께, 공정 (C)에서 박리된 후의 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 제전 반송 공정 (D)[이하, 단순히 「공정 (D)」라고도 함]를 포함한다. 기재 필름(5)에 부착된 이물을 기재 필름(5)과 함께 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출하기 위해, 공정 (C)와 공정 (D)는, 통상 동시에 행해진다. 공정 (C)에서 적층체로부터 기재 필름(5)을 박리하면서, 공정 (D)에서 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량을 특정한 범위로 제어함으로써, 기재 필름(5)에 이물을 부착시킨 채로 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출하는 것이 가능해진다.In addition, in the manufacturing method of the optical laminated body of this invention, the peeling process (C) of peeling the base film 5 from the optical laminated body 7 with the base film obtained in process (B) to obtain the optical laminated body 4 ) [Hereinafter, simply referred to as "step (C)"], the base film static elimination conveyance step (D) in which the base film 5 after being peeled off in the step (C) is conveyed in the longitudinal direction while static elimination is carried out (hereinafter, simply Also referred to as "step (D)"] is included. In order to discharge the foreign matter adhered to the base film 5 to the outside of the manufacturing site (clean room) together with the base film 5, the process (C) and the process (D) are usually performed simultaneously. While peeling the base film 5 from the laminate in the step (C), by controlling the charge amount of the base film 5 after peeling in the step (D) to a specific range, while attaching a foreign material to the base film 5 It becomes possible to discharge outside the manufacturing site (clean room).

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 공정 (B)에서 얻어진 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 길이 방향으로, 기재 필름(5) 측을 박리용 롤(16)에 감기게 하고, 광학 적층체(4) 측은 감기게 하지 않고 연속적으로 반송함으로써, 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 기재 필름(5)을 연속적으로 박리한다. 이때, 도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 중합체층(2)의 폭이 점착제 또는 접착제층(3)의 폭보다 넓으면, 중합체층(2)에 있어서 점착제 또는 접착제층(3)에 접착되지 않는 영역(2a)이 존재하지만, 이러한 영역(2a)은 기재 필름(5)과의 밀착성이 낮기 때문에, 슬릿 공정 (SB2)에 의해 잘라내어진 단부(7a)나, 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 박리 후의 기재 필름(5)으로부터 미세한 박리편으로서 탈락하기 쉽다. 또한, 중합체층(2)이 배향층(8)을 통해 기재 필름(5) 상에 적층되어 있는 경우에는, 배향층(8)과 기재 필름(5)과의 관계에 있어서, 상기 중합체층(2)과 기재 필름(5)과의 관계와 동일한 문제가 생기기 쉽다. 상기 중합체층(2)의 잔존 영역(2a)의 탈락을 방지함과 더불어, 공정 (A)나 (B) 등에 있어서 기재 필름(5)에 부착된 이물을 기재 필름(5)에 흡착시킨 채 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출하고, 제조 현장 내로의 이물의 잔존량을 저감시킨다는 관점에서, 공정 (D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대값의 하한값은, 0.03 kV 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.05 kV 이상인 것이 더욱 바람직하며, 0.07 kV 이상인 것이 특히 바람직하다. 나아가서는 공정 (D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량(절대값)이 상기 하한값 이상, 나아가서는 0.5 kV 이상, 특히는 0.6 kV 이상, 특히 0.7 kV 이상을 유지하는 것이 바람직하다. 또한, 이상 방전 방지나 안전성 등의 관점에서, 공정 (D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대값의 상한값은, 5 kV 이하인 것이 보다 바람직하고, 3 kV 이하인 것이 더욱 바람직하며, 1 kV 이하인 것이 특히 바람직하다. 또한, 기재 필름(5)은, 상기 대전량(절대값)의 하한값을 유지할 수 있도록, 접지시키지 않고 반송하여도 좋고, 기재 필름이 대전성의 수지 기재 필름이라면, 그대로 반송하여도 좋다.In one embodiment of the present invention, the optical laminate 7 with a base film obtained in the step (B) is wound in the longitudinal direction, and the side of the base film 5 is wound on a peeling roll 16, and the optical laminate The base film 5 is continuously peeled from the optical laminated body 7 with the base film by continuously conveying the (4) side without being wound up. At this time, as shown in FIGS. 10 and 11, if the width of the polymer layer 2 is wider than the width of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer 3, the polymer layer 2 is adhered to the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer 3 There is a region 2a that does not exist, but since this region 2a has low adhesion to the base film 5, the end portion 7a cut out by the slit process (SB2) or an optical laminate with a base film ( It is easy to fall off as a fine peeling piece from the base film 5 after peeling from 7). In addition, when the polymer layer 2 is laminated on the base film 5 via the alignment layer 8, in the relationship between the alignment layer 8 and the base film 5, the polymer layer 2 ) And the same problem as the relationship between the base film 5 and the base film 5 are likely to occur. In addition to preventing the remaining region 2a of the polymer layer 2 from falling off, it is manufactured while adsorbing foreign substances attached to the base film 5 to the base film 5 in steps (A) or (B), etc. From the viewpoint of discharging to the outside of the site (clean room) and reducing the amount of foreign matter remaining in the manufacturing site, the lower limit of the absolute value of the charge amount of the base film 5 after peeling in the step (D) is 0.03 kV or more. It is more preferable that it is 0.05 kV or more, and it is especially preferable that it is 0.07 kV or more. Furthermore, it is preferable that the charge amount (absolute value) of the base film 5 after peeling in the step (D) is not less than the above lower limit, furthermore 0.5 kV or more, particularly 0.6 kV or more, particularly 0.7 kV or more. . In addition, from the viewpoint of prevention of abnormal discharge and safety, the upper limit of the absolute value of the charge amount of the base film 5 after peeling in step (D) is more preferably 5 kV or less, and still more preferably 3 kV or less. And it is particularly preferably 1 kV or less. In addition, the base film 5 may be conveyed without grounding so that the lower limit of the amount of charge (absolute value) can be maintained, and if the base film is a charging resin base film, it may be conveyed as it is.

공정 (A)에 있어서의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량과 공정 (D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량은, 같은 정도이거나, 공정 (D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이, 공정 (A)에 있어서의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값보다 큰 것이 바람직하다. 공정 (D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이 충분히 크면, 박리된 기재 필름(5)에 이물을 부착시킨 채 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출할 수 있어, 제조 현장 내의 이물의 잔존량을 효과적으로 저감할 수 있다. 또한, 공정 (A)∼공정 (D)의 전 공정에 걸쳐, 제조 중의 적층체(필름)의 대전량이 0.01 kV 이상 6 kV 이하의 범위로 제어되어 유지되고 있으면, 제조 공정 전체를 통해 장척 시트의 사행을 억제하기 쉬워, 이물을 발생하기 어렵게 할 수 있음과 더불어, 일단 기재 필름(5)에 부착된 이물이 제조 현장 내로 쉽게 흘러넘쳐 떨어지지 않고, 박리되는 기재 필름(5)과 함께 제조 현장 밖으로 배출되기 때문에 바람직하다.The charge amount of the polymer layer 6 with the base film in step (A) and the charge amount of the base film 5 after peeling in step (D) are about the same or peeling in step (D) It is preferable that the absolute value of the charge amount of the subsequent base film 5 is larger than the absolute value of the charge amount of the polymer layer 6 with a base film in step (A). If the absolute value of the charge amount of the substrate film 5 after peeling in step (D) is sufficiently large, it can be discharged outside the manufacturing site (clean room) while attaching foreign matter to the peeled substrate film 5 It is possible to effectively reduce the residual amount of foreign matter in the site. In addition, if the charge amount of the laminate (film) during production is controlled and maintained in the range of 0.01 kV or more and 6 kV or less throughout the entire process of the steps (A) to (D), the long sheet is In addition to being easy to suppress meandering and making it difficult to generate foreign matter, foreign matter once attached to the base film 5 does not easily overflow into the manufacturing site and is discharged out of the manufacturing site together with the peeling base film 5 It is preferable because it becomes.

공정 (D)에 있어서, 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량은, 공정 (A)에 있어서의 방법과 마찬가지로 공지된 제전 장치 등을 이용함으로써 제어할 수 있다. 제조 현장 내에 이물이 잔존하지 않도록, 공정 (D)에 있어서, 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량은, 기재 필름이 제조 현장(클린룸)(20) 밖으로 배출될 때까지 상기 범위로 제어되어, 유지되고 있는 것이 바람직하다. 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 공정 (D)에 있어서 제전 장치(13)는, 필요에 따라, 박리용 롤(16)의 하류측에, 바람직하게는 직후에 설치될 수 있다.In the step (D), the amount of charge of the base film 5 after peeling can be controlled by using a known antistatic device or the like similarly to the method in step (A). In order that no foreign matter remains in the manufacturing site, in the process (D), the amount of charge of the base film 5 after peeling is controlled in the above range until the base film is discharged out of the manufacturing site (clean room) 20 , It is desirable that it is maintained. In one embodiment of the present invention, in the step (D), the antistatic device 13 can be provided on the downstream side of the peeling roll 16, preferably immediately after, if necessary.

또한, 공정 (D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이, 공정 (C)에 있어서 얻어지는 광학 적층체(4)의 대전량의 절대값보다 큰 것이 바람직하다. 광학 적층체(4)의 대전량보다, 기재 필름(5)의 대전량이 크면, 이물이 기재 필름(5)에 의해 부착되기 쉬워지고, 얻어지는 광학 적층체(4) 상에 이물이 부착되어 결함을 발생시킬 가능성을 저감할 수 있다. 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 공정 (C)에 있어서의 광학 적층체(4)의 대전량의 절대값에 대하여, 공정 (D)에 있어서의 박리 후의 기재 필름(5)의 대전량의 절대값은, 0.02 kV 이상 큰 것이 바람직하고, 0.05 kV 이상 큰 것이 보다 바람직하다.In addition, it is preferable that the absolute value of the charge amount of the base film 5 after peeling in the step (D) is larger than the absolute value of the charge amount of the optical laminate 4 obtained in the step (C). If the charge amount of the base film 5 is larger than the charge amount of the optical laminate 4, the foreign material is liable to adhere by the base film 5, and the foreign material adheres on the obtained optical laminate 4 to prevent defects. The possibility of occurrence can be reduced. In one embodiment of the present invention, with respect to the absolute value of the charge amount of the optical laminate 4 in the step (C), the absolute amount of the charge amount of the base film 5 after peeling in the step (D) The value is preferably larger than 0.02 kV, more preferably larger than 0.05 kV.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 있어서의 장척 시트의 반송 조건은, 장척 시트의 종류, 길이, 폭, 두께, 제조 설비, 반송 속도 등에 따라 적절하게 선택하면 좋다. 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 장척 시트의 반송 속도는, 예컨대 1 m/분∼50 m/분이어도 좋고, 장척 시트의 사행을 억제하여 이물의 발생을 억누른다는 관점에서는, 바람직하게는 3 m/분∼35 m/분, 보다 바람직하게는 3 m/분∼30 m/분이다.Conveyance conditions of the long sheet in the manufacturing method of the optical laminate of the present invention may be appropriately selected depending on the type, length, width, thickness, manufacturing equipment, and conveyance speed of the long sheet. In one embodiment of the present invention, the conveyance speed of the long sheet may be, for example, 1 m/min to 50 m/min, and from the viewpoint of suppressing the meandering of the long sheet and suppressing the occurrence of foreign matter, preferably 3 m/min to 35 m/min, more preferably 3 m/min to 30 m/min.

장척 시트의 사행량은, 바람직하게는 0 ㎜∼10 ㎜, 보다 바람직하게는 0 ㎜∼5 ㎜, 더욱 바람직하게는 0 ㎜∼3 ㎜이고, 가장 바람직하게는 0 ㎜∼2 ㎜이며, 사행량이 상기 범위가 되도록 장척 시트의 대전량을 제어하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서 「사행량」이란, 장척 시트를 1000 m 반송했다고 했을 때에, 그 전후에서 단부가 폭 방향으로 이동한 최대량을 의미한다.The mean amount of the long sheet is preferably 0 mm to 10 mm, more preferably 0 mm to 5 mm, still more preferably 0 mm to 3 mm, most preferably 0 mm to 2 mm, and the mean amount It is preferable to control the charge amount of the long sheet so that it is within the above range. In addition, in the present invention, the "meaning amount" means the maximum amount that the end portion moved in the width direction before and after the long sheet was conveyed by 1000 m.

장척 시트의 반송 거리는, 장척 시트의 종류 및 길이, 제조 설비, 반송 속도 등에 따라 적절하게 결정되는 것이지만, 통상, 30 m∼1000 m이며, 바람직하게는 50 m∼500 m이다. 또한, 장척 시트의 길이나 폭은, 장척 시트의 종류, 용도 등에 따라 적절하게 설정하면 좋다. 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 장척 시트의 길이는, 통상 100 m∼5000 m이며, 예컨대 500 m∼5000 m여도 좋다. 또한, 장척 시트의 폭은, 통상 300 ㎜∼2000 ㎜이며, 예컨대 500 ㎜∼1500 ㎜여도 좋다.The conveyance distance of the elongate sheet is appropriately determined depending on the type and length of the elongate sheet, manufacturing equipment, conveyance speed, etc., but is usually 30 m to 1000 m, preferably 50 m to 500 m. In addition, the length and width of the long sheet may be appropriately set according to the type and use of the long sheet. In one embodiment of the present invention, the length of the long sheet is usually 100 m to 5000 m, for example 500 m to 5000 m. In addition, the width of the long sheet is usually 300 mm to 2000 mm, and may be, for example, 500 mm to 1500 mm.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 슬릿 공정 (SA)에 의해 단부를 잘라내기 전의 기재 필름 부착 중합체층(6), 즉, 공정 (A)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)은, 상기 중합체층(2)의 폭 방향 전체에 걸쳐 기재 필름(5) 상에 구비되어 있고, 상기 기재 필름(5)의 폭은 상기 중합체층(2)의 폭보다 넓다. 이러한 양태에 있어서, 중합체층(2)은, 도 8에 도시된 바와 같이, 기재 필름(5)의 폭 방향의 한쪽 단 또는 양단에 중합체층(2)이 적층되어 있지 않은 영역(5a)이 존재하도록 적층된다. 또한, 슬릿 공정 (SA) 및 (SB2)에 의해 단부를 잘라내기 전의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 중합체층(2)과 기재 필름(5)이 상기와 동일한 구성이어도 좋다.In one embodiment of the present invention, the polymer layer 6 with a base film before cutting the end by a slit step (SA), that is, the polymer layer 6 with a base film provided in the step (A), comprises: It is provided on the base film 5 over the entire width direction of the polymer layer 2, and the width of the base film 5 is wider than that of the polymer layer 2. In this embodiment, the polymer layer 2 has a region 5a in which the polymer layer 2 is not laminated at one end or both ends of the base film 5 in the width direction, as shown in FIG. 8. Are stacked to do so. In addition, the polymer layer 2 and the base film 5 constituting the optical laminate 7 with a base film before cutting the end by the slit steps (SA) and (SB2) may have the same configuration as described above.

본 발명의 다른 일 실시양태에 있어서, 중합체층(2)은 배향층(8)을 통해 기재 필름(5) 상에 적층되어 있고, 슬릿 공정 (SA)에 의해 단부를 잘라내기 전의, 즉, 공정 (A)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)을 구성하는 배향층(8)은, 상기 배향층(8)의 폭 방향 전체에 걸쳐 기재 필름(5) 상에 구비되어 있고, 상기 기재 필름(5)의 폭은 상기 배향층(8)의 폭보다 넓다. 이러한 양태에 있어서, 배향층(8)은, 도 9에 도시된 바와 같이, 기재 필름(5)의 폭 방향의 한쪽 단 또는 양단에 배향층(8)이 적층되어 있지 않은 영역(5a)이 존재하도록 적층된다. 이러한 기재 필름 부착 중합체층(6)에 있어서, 중합체층(2)은, 통상, 배향층(8) 상에 형성되는 층이기 때문에, 중합체층(2)의 폭은 상기 배향층(8)의 폭과 동일하거나 좁은 것이 바람직하다. 또한, 슬릿 공정 (SA) 및 (SB2)에 의해 단부를 잘라내기 전의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)가 배향층(8)을 구비하고 있어도 좋고, 이러한 경우, 상기 배향층(8)과 기재 필름(5)이 상기와 동일한 구성이어도 좋다.In another embodiment of the present invention, the polymer layer (2) is laminated on the base film (5) through the alignment layer (8), before cutting the end by a slit process (SA), that is, the process The alignment layer 8 constituting the polymer layer 6 with a base film provided in (A) is provided on the base film 5 over the entire width direction of the alignment layer 8, and the base film The width of (5) is wider than that of the alignment layer (8). In this aspect, as shown in FIG. 9, the alignment layer 8 has a region 5a in which the alignment layer 8 is not laminated at one end or both ends of the base film 5 in the width direction. Are stacked to do so. In the polymer layer 6 with a base film, since the polymer layer 2 is usually a layer formed on the alignment layer 8, the width of the polymer layer 2 is the width of the alignment layer 8 It is preferably the same as or narrower. In addition, the optical laminate 7 with a base film before cutting the end by the slit process (SA) and (SB2) may be provided with an alignment layer 8, in this case, the alignment layer 8 and the base material The film 5 may have the same configuration as above.

이러한 층구성을 갖는 기재 필름 부착 중합체층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)에 있어서는, 기재 필름(5)과 중합체층(2) 또는 배향층(8)의 단부의 접하는 경계(5b) 부근에서 중합체층(2) 또는 배향층(8)이 기재 필름(5)으로부터 박리되기 쉽고, 제조 공정 중에 미세한 박리편이 이물이 되어 생기기 쉽다. 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에서는, 공정 (A), 바람직하게는 공정 (A) 및 (B)의 기재 필름 부착 중합체층(6)이나 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 대전량을 제어함으로써, 이들 장척 시트의 사행을 억제하고, 장척 시트를 구성하는 재료에 유래하는 이물의 발생을 억제할 수 있음과 더불어, 제조 중에 생기는 이물을 기재 필름(5)에 부착시켜 제조 현장(클린룸) 밖으로 배출할 수 있기 때문에, 상기와 같은 층구성을 갖는 기재 필름 부착 중합체층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 이용하는 광학 적층체의 제조 방법으로서 특히 적합하다. 또한, 기재 필름(5)의 폭 방향의 양단에 중합체층(2) 또는 배향층(8)이 적층되어 있지 않은 영역(5a)이 존재함으로써, 적층되는 중합체층(2)이나 배향층(8)의 단부가 박리되어 떨어짐으로써 생기는 미세한 이물이 기재 필름(5)의 상기 영역(5a)에 부착되기 쉬워지고, 제조 현장 내의 이물의 잔존량의 높은 저감 효과를 기대할 수 있다.In the polymer layer 6 with the base film or the optical laminate 7 with the base film having such a layered structure, the border 5b in contact with the ends of the base film 5 and the polymer layer 2 or the alignment layer 8 In the vicinity of ), the polymer layer 2 or the alignment layer 8 is easily peeled from the base film 5, and fine peeling pieces become foreign substances during the manufacturing process and are likely to occur. In the manufacturing method of the optical laminate of the present invention, the charge amount of the polymer layer 6 with the base film or the optical laminate 7 with the base film in step (A), preferably in steps (A) and (B) By controlling, meandering of these long sheets can be suppressed, generation of foreign substances derived from the material constituting the long sheets can be suppressed, and foreign substances generated during manufacturing are adhered to the base film 5 at the manufacturing site (clean room). ) Since it can be discharged to the outside, it is particularly suitable as a method for producing an optical laminate using the polymer layer 6 with a base film or the optical laminate 7 with a base film having the above-described layer configuration. In addition, since regions 5a in which the polymer layer 2 or the alignment layer 8 is not laminated exist at both ends of the base film 5 in the width direction, the polymer layer 2 or the alignment layer 8 to be laminated Fine foreign matters generated by peeling off the ends of the substrate film 5 tend to adhere to the region 5a of the base film 5, and a high reduction effect of the residual amount of foreign matters in the manufacturing site can be expected.

기재 필름 부착 중합체층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 기재 필름(5)의 폭은, 슬릿 공정에서 단부를 잘라내기 전의 층구성에 있어서, 상기 기재 필름(5) 상에 적층되는 중합체층(2) 또는 배향층(8)의 폭보다, 0.5∼10% 넓은 것이 바람직하고, 0.7∼5% 넓은 것이 보다 바람직하다.The width of the base film 5 constituting the polymer layer 6 with the base film and the optical laminate 7 with the base film is on the base film 5 in the layer configuration before cutting the end in the slit process. It is preferably 0.5 to 10% wider, more preferably 0.7 to 5% wider than the width of the polymer layer 2 or the alignment layer 8 laminated on the layer.

공정 (C)에 의해 얻어지는 광학 적층체(4)는, 그 하류측에 위치하는 권취롤(17)에 의해 권취할 수 있다. 얻어진 광학 적층체(4)는, 필요에 따라, 슬릿 가공, 펀칭, 칩 컷, 단면 연마 등의 외형 가공을 행함으로써 원하는 형상으로 할 수 있는 동시에, 광학 적층체(4)의 측면이나 단부에 부착된 이물을 제거할 수 있다.The optical laminated body 4 obtained by the process (C) can be wound up by the take-up roll 17 located downstream. The obtained optical laminate 4 can be formed into a desired shape by performing external processing such as slit processing, punching, chip cutting, and cross-section polishing, if necessary, and is attached to the side or end of the optical laminate 4 You can remove the foreign matter.

본 발명의 광학 적층체의 제조 방법에 있어서, 공정 (A) 및 공정 (B), 그리고 공정 (C)와 (D)는 각각 연속하여 행해져도 좋고, 독립적으로 행해져도 좋다. 예컨대, 본 발명에 있어서, 공정 (B)에서 얻어진 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를, 공정 (B)로부터 공정 (C)로 연속적으로 반송하여 광학 적층체(4)를 얻어도 좋고, 공정 (B)에서 제조되는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 일단 권취롤에 권취한 후, 공정 (A) 및 (B)와는 별도의 라인에서 공정 (C) 및 (D)를 행하여도 좋다. 이때, 슬릿 공정 (SA), 슬릿 공정 (SB1) 및 슬릿 공정 (SB2) 중 어느 하나를 포함하고, 제조 방법에 포함되는 공정에 따라, 공정 (A) 및/또는 (D)에서, 바람직하게는 제조 공정 전체를 통해 장척 시트의 대전량은 특정한 범위로 제어된다.In the manufacturing method of the optical laminate of the present invention, the steps (A) and (B), and the steps (C) and (D) may be performed continuously or independently. For example, in the present invention, the optical laminate 7 with a base film obtained in the step (B) may be continuously conveyed from the step (B) to the step (C) to obtain the optical laminate 4, and the step After winding the optical laminated body 7 with the base film produced in (B) once on a take-up roll, you may perform steps (C) and (D) in a line separate from steps (A) and (B). At this time, including any one of the slit process (SA), the slit process (SB1), and the slit process (SB2), in the process (A) and/or (D), preferably, depending on the process included in the manufacturing method. Throughout the manufacturing process, the charge amount of the long sheet is controlled in a specific range.

따라서, 본 발명은,Therefore, the present invention,

상기 공정 (A)∼(D) 및 슬릿 공정 (SA)를 포함하고, 공정 (A)에 있어서의 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량을 특정 범위로 제어하는 광학 적층체의 제조 방법,A method for producing an optical laminate comprising the steps (A) to (D) and the slit step (SA) and controlling the amount of charge of the polymer layer 6 with a base film in the step (A) within a specific range,

상기 공정 (A)∼(D) 및 슬릿 공정 (SB1) 또는 (SB2)를 포함하고, 공정 (A) 또는 (D)에 있어서의 기재 필름 부착 중합체층(6) 또는 기재 필름(5)의 대전량을 특정 범위로 제어하는 광학 적층체의 제조 방법,Charging of the polymer layer 6 or the base film 5 with a base film in step (A) or (D) including the steps (A) to (D) and the slit step (SB1) or (SB2) A method for manufacturing an optical laminate that controls the amount in a specific range,

상기 슬릿 공정 (SA)를 포함하는 공정 (A)에 의한 기재 필름 부착 중합체층의 반송 방법,The conveyance method of the polymer layer with a base film by the process (A) including the said slit process (SA),

상기 공정 (A) 및 (B) 및 슬릿 공정 (SA), (SB1) 또는 (SB2)를 포함하는 기재 필름 부착 광학 적층체의 제조 방법, 그리고The manufacturing method of the optical laminated body with a base film including the said process (A) and (B) and a slit process (SA), (SB1) or (SB2), and

상기 공정 (C) 및 (D), 그리고 슬릿 공정 (SB2)를 포함하는 광학 적층체의 제조 방법The manufacturing method of the optical laminated body including the said process (C) and (D), and a slit process (SB2)

도 대상으로 한다. 이하, 이들 방법을 통합하여, 「본 발명의 방법」이라고도 한다. 상기 제조 방법 및 반송 방법에 있어서 채용되는 각 공정의 조건 등은, 앞서 기재한 본 발명의 광학 적층체의 제조 방법과 동일한 것을 들 수 있다.Also target. Hereinafter, these methods are collectively referred to as "the method of the present invention". The conditions and the like of each step employed in the manufacturing method and the conveying method are the same as those of the manufacturing method of the optical laminate of the present invention described above.

공정 (A)∼(D)를 연속적으로 행함으로써, 기재 필름(5)에 부착된 이물이 제조 중의 적층체에 유입됨으로써 최종적으로 얻어지는 광학 적층체의 결함을 발생시킬 가능성을 저감할 수 있다.By continuously performing the steps (A) to (D), it is possible to reduce the possibility that a defect in the optical layered product finally obtained is caused by the foreign material adhering to the base film 5 flowing into the layered product during manufacture.

본 발명의 방법은, 제조 공정 중, 특히 슬릿 공정에 있어서 단부가 박리되어 떨어져 이물을 발생시키기 쉬운 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층이나 배향층을 갖는 여러 가지 광학 적층체의 제조 방법으로서 적합하다. 따라서, 본 발명의 방법은, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층을 갖는 적층체를 이용하는 것이면, 적층체를 구성하는 각 층의 구성 성분은 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 성분 및 재료 등을 이용할 수 있다.The method of the present invention is a method for producing various optical laminates having a polymer layer or an alignment layer composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, which is easily peeled off at an end during a manufacturing process, particularly in a slit process, to generate foreign matter. Suitable. Therefore, as long as the method of the present invention uses a laminate having a polymer layer composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, components of each layer constituting the laminate are not particularly limited, and conventionally known components and materials, etc. You can use

이하, 본 발명의 방법에 있어서 이용되는 기재 필름 부착 중합체층(6) 및 기재 필름 부착 광학 적층체(7)에 포함되는 각 층을 구성할 수 있는 성분·재료 등의 일례를 든다.Hereinafter, examples of components, materials, etc. that can constitute each layer included in the polymer layer 6 with a base film and the optical laminate 7 with a base film used in the method of the present invention are given.

본 발명의 방법에 있어서, 중합체층(2)을 구성하는 중합성 액정 화합물은 특별히 한정되지 않지만, 기재 필름 상 또는 배향층 상에 도포, 배향함으로써 광학 이방성을 발현하는 것이 바람직하다. 여기서, 본 발명에 있어서 중합성 액정 화합물이란, 중합성 작용기, 특히 광중합성 작용기를 갖는 액정 화합물을 의미한다. 광중합성 작용기란, 광중합개시제로부터 발생한 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 광중합성 작용기로는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 액정성은 서모트로픽성 액정이라도 좋고 리오트로픽성 액정이라도 좋지만, 치밀한 막 두께 제어가 가능한 점에서 서모트로픽성 액정이 바람직하다. 또한, 서모트로픽성 액정에 있어서의 상질서 구조로는 네마틱 액정이라도 좋고 스멕틱 액정이라도 좋다.In the method of the present invention, the polymerizable liquid crystal compound constituting the polymer layer 2 is not particularly limited, but it is preferable to exhibit optical anisotropy by coating and aligning on a base film or an alignment layer. Here, in the present invention, the polymerizable liquid crystal compound means a liquid crystal compound having a polymerizable functional group, particularly a photopolymerizable functional group. The photopolymerizable functional group refers to a group capable of participating in the polymerization reaction by an active radical or acid generated from a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerizable functional group include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, oxiranyl group, oxetanyl group, and the like. have. Among them, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxiranyl group, and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable. The liquid crystal property may be a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal, but a thermotropic liquid crystal is preferred from the viewpoint of enabling precise film thickness control. Moreover, a nematic liquid crystal may be sufficient as a good-order structure in a thermotropic liquid crystal, and a smectic liquid crystal may be sufficient.

본 발명의 방법에 이용되는 중합성 액정 화합물로는, 예컨대, 하기 식 (I)의 구조를 갖는 화합물을 들 수 있다.As the polymerizable liquid crystal compound used in the method of the present invention, for example, a compound having a structure represented by the following formula (I) may be mentioned.

Figure pat00001
Figure pat00001

식 (I) 중, Ar은 2가의 방향족 기를 나타내고, 상기 2가의 방향족 기 중에는 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 중 적어도 하나 이상이 포함된다.In formula (I), Ar represents a divalent aromatic group, and at least one or more of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom is contained in the divalent aromatic group.

G1 및 G2는 각각 독립적으로 2가의 방향족 기 또는 2가의 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 여기서, 상기 2가의 방향족 기 또는 2가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1∼4의 알킬기, 탄소수 1∼4의 플루오로알킬기, 탄소수 1∼4의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 2가의 방향족 기 또는 2가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 좋다.G 1 and G 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group. Here, the hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or the divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, or It may be substituted with a nitro group, and the carbon atom constituting the divalent aromatic group or the divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom.

L1, L2, B1 및 B2는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기이다.L 1 , L 2 , B 1 and B 2 are each independently a single bond or a divalent linking group.

k, l은 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타내고, 1≤k+l의 관계를 만족한다. 여기서, 2≤k+l인 경우, B1 및 B2, G1 및 G2는 각각 상호 동일하여도 좋고 상이하여도 좋다.Each of k and l independently represents an integer of 0 to 3, and satisfies the relationship of 1≦k+l. Here, when 2≤k+l, B 1 and B 2 , G 1 and G 2 may be the same or different from each other.

E1 및 E2는 각각 독립적으로 탄소수 1∼17의 알칸디일기를 나타내고, 여기서, 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋으며, 상기 알칸디일기에 포함되는 -CH2-는 -O-, -Si-로 치환되어 있어도 좋다.E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, wherein the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, and -CH 2 -contained in the alkanediyl group May be substituted with -O- or -Si-.

P1 및 P2는 서로 독립적으로 중합성 기 또는 수소 원자를 나타내고, 적어도 하나는 중합성 기이다.P 1 and P 2 each independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom, and at least one is a polymerizable group.

G1 및 G2는 각각 독립적으로 바람직하게는 할로겐 원자 및 탄소수 1∼4의 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기로 치환되어 있어도 좋은 1,4-페닐기, 할로겐 원자 및 탄소수 1∼4의 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기로 치환되어 있어도 좋은 1,4-시클로헥실기이고, 보다 바람직하게는 메틸기로 치환된 1,4-페닐기, 무치환의 1,4-페닐기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥실기이며, 특히 바람직하게는 무치환의 1,4-페닐기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥실기이다.G 1 and G 2 are each independently preferably a 1,4-phenyl group, a halogen atom and a C 1 to C 4 group, which may be substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. It is a 1,4-cyclohexyl group which may be substituted with at least one substituent selected from the group consisting of alkyl groups, more preferably a 1,4-phenyl group substituted with a methyl group, an unsubstituted 1,4-phenyl group, or no It is a substituted 1,4-trans-cyclohexyl group, Especially preferably, it is an unsubstituted 1,4-phenyl group or an unsubstituted 1,4-trans-cyclohexyl group.

또한, 복수 존재하는 G1 및 G2 중 적어도 하나는 2가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하고, 또한, L1 또는 L2에 결합하는 G1 및 G2 중 적어도 하나는 2가의 지환식 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.In addition, at least one of the plurality of G 1 and G 2 is preferably a divalent alicyclic hydrocarbon group, and further, at least one of G 1 and G 2 bonded to L 1 or L 2 is a divalent alicyclic hydrocarbon group. More preferable.

L1 및 L2는 각각 독립적으로 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -CH2O-, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CRa=CRb-, 또는 -C≡C-이다. 여기서 Ra 및 Rb는 탄소수 1∼4의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다. L1 및 L2는 각각 독립적으로 보다 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -COO-, 또는 -OCO-이다.L 1 and L 2 are each independently preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 O-, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CR a = CR b -, or -C≡C-. Here, R a and R b represent a C 1 to C 4 alkyl group or a hydrogen atom. L 1 and L 2 are each independently more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, or -OCO-.

B1 및 B2는 각각 독립적으로 바람직하게는 단결합, -O-, -S-, -CH2O-, -COO-, 또는 -OCO-이고, 보다 바람직하게는, 단결합, -O-, -COO-, 또는 -OCO-이다.B 1 and B 2 are each independently preferably a single bond, -O-, -S-, -CH 2 O-, -COO-, or -OCO-, more preferably a single bond, -O- , -COO-, or -OCO-.

k 및 l은 역파장 분산성 발현의 관점에서 2≤k+l≤6의 범위가 바람직하고, k+l=4인 것이 바람직하며, k=2 또한 l=2인 것이 보다 바람직하다. k=2 또한 l=2라는 대칭 구조가 되기 때문에 바람직하다.From the viewpoint of expression of reverse wavelength dispersion, k and l are preferably in the range of 2≦k+l≦6, preferably k+l=4, and more preferably k=2 and l=2. Since k=2 also has a symmetrical structure of l=2, it is preferable.

E1 및 E2는 각각 독립적으로 탄소수 1∼17의 알칸디일기가 바람직하고, 탄소수 4∼12의 알칸디일기가 보다 바람직하다.E 1 and E 2 are each independently preferably an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms.

P1 또는 P2로 표시되는 중합성 기로는, 에폭시기, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 및 옥세타닐기 등을 들 수 있다.Examples of the polymerizable group represented by P 1 or P 2 include epoxy group, vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, oxira And an oxetanyl group.

그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.Among them, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxiranyl group, and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable.

Ar은 방향족 복소환을 갖는 것이 바람직하다. 상기 방향족 복소환으로는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 피롤 고리, 티오펜 고리, 피리딘 고리, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 티에노티아졸 고리, 옥사졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 및 페난트롤린 고리 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 또는 벤조푸란 고리를 갖는 것이 바람직하고, 벤조티아졸기를 갖는 것이 더욱 바람직하다. 또한, Ar에 질소 원자가 포함되는 경우, 상기 질소 원자는 π 전자를 갖는 것이 바람직하다.Ar preferably has an aromatic heterocycle. Examples of the aromatic heterocycle include furan ring, benzofuran ring, pyrrole ring, thiophene ring, pyridine ring, thiazole ring, benzothiazole ring, thienothiazole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, and phenanthrol Lean rings, etc. are mentioned. Among them, those having a thiazole ring, a benzothiazole ring, or a benzofuran ring are preferred, and those having a benzothiazole group are more preferred. In addition, when Ar contains a nitrogen atom, it is preferable that the nitrogen atom has π electrons.

식 (I) 중, Ar로 표시되는 2가의 방향족 기에 포함되는 π 전자의 합계수 Nπ는 10 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 14 이상이며, 더욱 바람직하게는 18 이상이다. 또한, 바람직하게는 30 이하이고, 보다 바람직하게는 26 이하이며, 더욱 바람직하게는 24 이하이다.In formula (I), the total number N π of π electrons contained in the divalent aromatic group represented by Ar is preferably 10 or more, more preferably 14 or more, and still more preferably 18 or more. Further, it is preferably 30 or less, more preferably 26 or less, and still more preferably 24 or less.

Ar로 표시되는 방향족 기로는, 예컨대 이하의 기를 들 수 있다.As an aromatic group represented by Ar, the following groups are mentioned, for example.

Figure pat00002
Figure pat00002

식 (Ar-1)∼식 (Ar-22) 중, * 표시는 연결부를 나타내고, Z0, Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1∼12의 알킬술피닐기, 탄소수 1∼12의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1∼12의 플루오로알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼12의 알킬티오기, 탄소수 1∼12의 N-알킬아미노기, 탄소수 2∼12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1∼12의 N-알킬술파모일기 또는 탄소수 2∼12의 N,N-디알킬술파모일기를 나타낸다.In formulas (Ar-1) to (Ar-22), * represents a linking portion, and Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, Nitro group, C1-C12 alkylsulfinyl group, C1-C12 alkylsulfonyl group, carboxyl group, C1-C12 fluoroalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C12 alkylthio group, C1-C12 1 to 12 N-alkylamino group, C 2 to C 12 N,N-dialkylamino group, C 1 to C 12 N-alkylsulfamoyl group, or C 2 to C 12 N,N-dialkylsulfamoyl group. .

Q1 및 Q2는 각각 독립적으로 -CR2'R3'-, -S-, -NH-, -NR2'-, -CO- 또는 -O-를 나타내고, R2' 및 R3'는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.Q 1 and Q 2 are each independently selected from -CR 2 'R 3' -, -S-, -NH-, -NR 2 '- represents a, -CO- or -O-, R 2' and R 3 'is Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

Y1, Y2 및 Y3은 각각 독립적으로 치환되어 있어도 좋은 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소환기를 나타낸다.Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group.

W1 및 W2는 각각 독립적으로 수소 원자, 시아노기, 메틸기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m은 0∼6의 정수를 나타낸다.W 1 and W 2 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a methyl group, or a halogen atom, and m represents an integer of 0-6.

Y1, Y2 및 Y3에 있어서의 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기 등의 탄소수 6∼20의 방향족 탄화수소기를 들 수 있고, 페닐기, 나프틸기가 바람직하며, 페닐기가 보다 바람직하다. 방향족 복소환기로는 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기 등의 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 적어도 하나 포함하는 탄소수 4∼20의 방향족 복소환기를 들 수 있고, 푸릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기가 바람직하다.Examples of the aromatic hydrocarbon group for Y 1 , Y 2 and Y 3 include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, and biphenyl group, and phenyl group and naphthyl group It is preferable, and a phenyl group is more preferable. The aromatic heterocyclic group includes at least one hetero atom such as a furyl group, a pyrrolyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group, an oxygen atom, and a sulfur atom. An aromatic heterocyclic group is mentioned, and a furyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group are preferable.

Y1, Y2 및 Y3은 각각 독립적으로 치환되어 있어도 좋은 다환계 방향족 탄화수소기 또는 다환계 방향족 복소환기여도 좋다. 다환계 방향족 탄화수소기는, 축합 다환계 방향족 탄화수소기, 또는 방향환 집합에 유래하는 기를 말한다. 다환계 방향족 복소환기는, 축합 다환계 방향족 복소환기, 또는 방향환 집합에 유래하는 기를 말한다.Y 1 , Y 2 and Y 3 may each be a polycyclic aromatic hydrocarbon group or a polycyclic aromatic heterocyclic group which may be independently substituted. The polycyclic aromatic hydrocarbon group refers to a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group or a group derived from an aromatic ring group. The polycyclic aromatic heterocyclic group refers to a condensed polycyclic aromatic heterocyclic group or a group derived from an aromatic ring set.

Z0, Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1∼12의 알콕시기인 것이 바람직하고, Z0은 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 시아노기가 더욱 바람직하며, Z1 및 Z2는 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 메틸기, 시아노기가 더욱 바람직하다.Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 to C 6 alkyl group, a cyano group, a nitro group, preferably a C 1 to C 12 alkoxy group, and Z 0 is a hydrogen atom, a C 1 The alkyl group and cyano group of -12 are more preferable, and Z 1 and Z 2 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, and a cyano group.

Q1 및 Q2는 -NH-, -S-, -NR2'-, -O-가 바람직하고, R2'는 수소 원자가 바람직하다. 그 중에서도 -S-, -O-, -NH-가 특히 바람직하다.Q 1 and Q 2 is -NH-, -S-, -NR 2 '- , -O- is preferable, and, R 2' is preferably a hydrogen atom. Among them, -S-, -O-, and -NH- are particularly preferred.

식 (Ar-1)∼(Ar-22) 중에서도, 식 (Ar-6) 및 식 (Ar-7)이 분자의 안정성의 관점에서 바람직하다.Among formulas (Ar-1) to (Ar-22), formulas (Ar-6) and (Ar-7) are preferred from the viewpoint of molecular stability.

식 (Ar-16)∼(Ar-22)에 있어서, Y1은 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0과 함께, 방향족 복소환기를 형성하고 있어도 좋다. 예컨대, 피롤 고리, 이미다졸 고리, 피롤린 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리미딘 고리, 인돌 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 퓨린 고리, 피롤리딘 고리 등을 들 수 있다. 이 방향족 복소환기는, 치환기를 갖고 있어도 좋다. 또한, Y1은, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0과 함께, 전술한 치환되어 있어도 좋은 다환계 방향족 탄화수소기 또는 다환계 방향족 복소환기여도 좋다.In formulas (Ar-16) to (Ar-22), Y 1 may form an aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 . For example, a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrroline ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, an indole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a purine ring, a pyrrolidine ring, and the like can be mentioned. This aromatic heterocyclic group may have a substituent. Further, Y 1 may be a polycyclic aromatic hydrocarbon group or a polycyclic aromatic heterocyclic group which may be substituted above, together with the nitrogen atom and Z 0 to which it is bonded.

Ar로 표시되는 방향족 기로서, 이하의 식 (Ar-23)으로 표시되는 기도 들 수 있다.Examples of the aromatic group represented by Ar include groups represented by the following formula (Ar-23).

Figure pat00003
Figure pat00003

식 (Ar-23) 중, *, Z1, Z2, Q1 및 Q2는 상기와 동일한 의미를 나타내고, U1은 치환기가 결합되어 있어도 좋은 제14족∼제16족의 비금속 원자를 나타낸다. 제14족∼제16족의 비금속 원자로는, 예컨대 탄소 원자, 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자를 들 수 있고, 바람직하게는 =O, =S, =NR' 및 =C(R')R' 등을 들 수 있다. 치환기 R'로는, 예컨대 수소 원자, 할로겐 원자, 알킬기, 할로겐화 알킬기, 알케닐기, 아릴기, 시아노기, 아미노기, 니트로기, 니트로소기, 카르복시기, 탄소수 1∼6의 알킬술피닐기, 탄소수 1∼6의 알킬술포닐기, 탄소수 1∼6의 플루오로알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼6의 알킬술파닐기, 탄소수 1∼6의 N-알킬아미노기, 탄소수 2∼12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1∼6의 N-알킬술파모일기, 탄소수 2∼12의 디알킬술파모일기 등을 들 수 있고, 비금속 원자가 탄소 원자(C)인 경우에 있어서의 2개의 R'는 서로 동일하여도 좋고, 상이하여도 좋다.In formula (Ar-23), *, Z 1 , Z 2 , Q 1 and Q 2 represent the same meaning as above, and U 1 represents a non-metal atom of Group 14 to Group 16 which may have a substituent bonded thereto. . Examples of nonmetallic atoms of groups 14 to 16 include carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms, and sulfur atoms, preferably =O, =S, =NR' and =C(R')R' And the like. Examples of the substituent R'include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a cyano group, an amino group, a nitro group, a nitroso group, a carboxyl group, an alkylsulfinyl group having 1 to 6 carbon atoms, Alkylsulfonyl group, fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, alkylsulfanyl group having 1 to 6 carbon atoms, N-alkylamino group having 1 to 6 carbon atoms, N,N-di group having 2 to 12 carbon atoms Alkylamino group, a C1-C6 N-alkylsulfamoyl group, a C2-C12 dialkylsulfamoyl group, etc. are mentioned, In the case where a non-metal atom is a carbon atom (C), two R'are the same as each other. It may be good or different.

이러한 중합성 액정 화합물을 배향시켜, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체를 형성함으로써 역파장 분산성을 갖는 중합체층(2)을 제작할 수 있다. 이때, 상기 중합성 액정 화합물을 단독으로 이용하여도 좋고, 분자 구조가 상이한 2종류 이상을 혼합하여 이용하여도 좋다.By aligning such a polymerizable liquid crystal compound to form a polymer in the alignment state of the polymerizable liquid crystal compound, the polymer layer 2 having reverse wavelength dispersibility can be produced. At this time, the polymerizable liquid crystal compound may be used alone, or two or more types having different molecular structures may be mixed and used.

또한, 배향 상태로 중합시킨 경우에, 정파장 분산성을 나타내는 중합성 액정 화합물을 이용하여도 좋다. 그러한 중합성 액정 화합물의 구체예로는, 액정편람(액정편람 편집위원회 지음, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성 기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 이들 중합성 액정 화합물로서, 시판되고 있는 제품을 이용하여도 좋다.In addition, in the case of polymerization in an orientation state, a polymerizable liquid crystal compound exhibiting constant wavelength dispersibility may be used. As a specific example of such a polymerizable liquid crystal compound, "3.8.6 Network (completely crosslinked)" and "6.5.1" of the Liquid Crystal Handbook (by the Editorial Committee of the Liquid Crystal Handbook, published on October 30, 2000 by Maruzen Co., Ltd.) Liquid crystal material b. Among the compounds described in "polymerizable nematic liquid crystal material", a compound having a polymerizable group can be mentioned. As these polymerizable liquid crystal compounds, commercially available products may be used.

본 발명의 방법에 있어서 이용되는 기재 필름 부착 중합체층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 중합체층(2)은, 예컨대, 중합성 액정 화합물을, 기재 필름(5) 또는 배향층(8) 상에, 경우에 따라서는 용제로 희석하여 함유하는 조성물(이하, 「광학 이방성 층 형성용 조성물」이라고도 함)을 도포하고, 필요에 따라 용제를 건조 후에 중합시킴으로써 얻어진다. 중합성 액정 화합물이 배향 상태를 유지한 채로 중합됨으로써, 배향 상태를 유지한 액정 경화막이 얻어지고, 이러한 액정 경화막을 갖는 적층체(기재 필름 부착 중합체층)는 위상차판으로서 기능한다.The polymer layer (2) constituting the polymer layer (6) with a base film or the optical laminate (7) with a base film used in the method of the present invention is, for example, a polymerizable liquid crystal compound, the base film (5) or It is obtained by applying a composition (hereinafter also referred to as "composition for forming an optically anisotropic layer") on the alignment layer 8 by diluting with a solvent in some cases, and polymerizing the solvent after drying if necessary. By polymerizing the polymerizable liquid crystal compound while maintaining the alignment state, a liquid crystal cured film having the alignment state is obtained, and the laminate (polymer layer with base film) having such a liquid crystal cured film functions as a retardation plate.

광학 이방성 층 형성용 조성물에 있어서의 중합성 액정 화합물의 함유량(복수 종 포함하는 경우에는 그 합계량)은, 중합성 액정 화합물의 배향성을 높인다고 하는 관점에서, 광학 이방성 층 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 통상 70∼99.9 질량부이고, 예컨대 바람직하게는 80∼99 질량부이며, 보다 바람직하게는 85∼97 질량부이고, 더욱 바람직하게는 85∼95 질량부이다. 또한, 여기서 말하는 고형분이란, 광학 이방성 층 형성용 조성물로부터 용제를 제외한 성분의 합계량을 말한다.The content of the polymerizable liquid crystal compound in the composition for forming an optically anisotropic layer (when multiple types are included, the total amount) is 100 parts by mass of the solid content of the composition for forming an optically anisotropic layer from the viewpoint of enhancing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound. Relatively, it is usually 70 to 99.9 parts by mass, for example, preferably 80 to 99 parts by mass, more preferably 85 to 97 parts by mass, and still more preferably 85 to 95 parts by mass. In addition, the solid content referred to herein refers to the total amount of components excluding the solvent from the composition for forming an optically anisotropic layer.

광학 이방성 층 형성용 조성물은 중합성 액정 화합물 외에 용제, 중합개시제, 중합금지제, 광증감제, 레벨링제 등의 공지된 성분을 포함하고 있어도 좋다. 이들 성분은, 이용하는 중합성 액정 화합물의 종류 등에 따라 적절하게 선택할 수 있다. 이하 중합체층(2)을 구성하는 중합성 액정 화합물로서 상기 식 (I)로 표시되는 중합성 액정 화합물을 이용한 경우에 적합한 성분을 예시한다.In addition to the polymerizable liquid crystal compound, the composition for forming an optically anisotropic layer may contain known components such as a solvent, a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a photosensitizer, and a leveling agent. These components can be appropriately selected depending on the kind of the polymerizable liquid crystal compound to be used or the like. Hereinafter, as the polymerizable liquid crystal compound constituting the polymer layer (2), a suitable component is exemplified when the polymerizable liquid crystal compound represented by the above formula (I) is used.

용제로서는, 중합성 액정 화합물 등의 광학 이방성 층 형성용 조성물의 구성 성분을 용해할 수 있는 유기 용제가 바람직하고, 중합성 액정 화합물 등의 광학 이방성 층 형성용 조성물의 구성 성분을 용해할 수 있는 용제로서, 또한 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 용제가 보다 바람직하다. 구체적으로는, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 페놀 등의 알코올 용제; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산에틸 등의 에스테르 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 비염소화 지방족 탄화수소 용제; 톨루엔, 크실렌 등의 비염소화 방향족 탄화수소 용제; 아세토니트릴 등의 니트릴 용제; 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제; 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화 탄화수소 용제를 들 수 있다. 2종 이상의 유기 용제를 조합하여 이용하여도 좋다. 그 중에서도, 알코올 용제, 에스테르 용제, 케톤 용제, 비염소화 지방족 탄화수소 용제 및 비염소화 방향족 탄화수소 용제가 바람직하다.As the solvent, an organic solvent capable of dissolving the constituents of the composition for forming an optically anisotropic layer, such as a polymerizable liquid crystal compound, is preferable, and a solvent capable of dissolving the constituents of the composition for forming an optically anisotropic layer, such as a polymerizable liquid crystal compound. As, a solvent that is inert to the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound is more preferable. Specifically, alcohol solvents such as water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, and phenol; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, and methyl isobutyl ketone; Non-chlorinated aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; Non-chlorinated aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; And chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform and chlorobenzene. You may use in combination of two or more types of organic solvents. Among them, alcohol solvents, ester solvents, ketone solvents, non-chlorinated aliphatic hydrocarbon solvents, and non-chlorinated aromatic hydrocarbon solvents are preferable.

용제의 함유량은, 광학 이방성 층 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여, 예컨대, 10∼10000 질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100∼5000 질량부이며, 더욱 바람직하게는 100∼2000이다. 광학 이방성 층 형성용 조성물 중의 고형분 농도는, 바람직하게는 2∼50 질량%이고, 보다 바람직하게는 5∼50 질량%이며, 더욱 바람직하게는 5∼30%이다.The content of the solvent is, for example, preferably 10 to 10,000 parts by mass, more preferably 100 to 5000 parts by mass, further preferably 100 to 2000 parts by mass, based on 100 parts by mass of the solid content of the composition for forming an optically anisotropic layer. The solid content concentration in the composition for forming an optically anisotropic layer is preferably 2 to 50% by mass, more preferably 5 to 50% by mass, and still more preferably 5 to 30%.

중합개시제는, 중합성 액정 등의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이다. 중합개시제로는, 광조사에 의해 라디칼을 발생하는 광중합개시제가 바람직하다. 광중합개시제로는, 예컨대, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 벤질케탈 화합물, α-히드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 옥심 화합물, 트리아진 화합물, 요오도늄염 및 술포늄염을 들 수 있다. 광중합개시제로서, 1종만을 이용하여도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다.The polymerization initiator is a compound capable of initiating a polymerization reaction such as a polymerizable liquid crystal. As the polymerization initiator, a photopolymerization initiator that generates radicals by light irradiation is preferable. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin compounds, benzophenone compounds, benzyl ketal compounds, α-hydroxyketone compounds, α-aminoketone compounds, oxime compounds, triazine compounds, iodonium salts and sulfonium salts. As the photopolymerization initiator, only one type may be used, or two or more types may be used in combination.

광중합개시제로서 시판품을 이용하여도 좋다. 그러한 시판품으로서, 구체적으로는, 이르가큐어(Irgacure, 등록상표) 907, 이르가큐어 184, 이르가큐어 651, 이르가큐어 819, 이르가큐어 250, 이르가큐어 369, 이르가큐어 379, 이르가큐어 127, 이르가큐어 2959, 이르가큐어 754, 이르가큐어 379EG(이상, BASF 재팬 주식회사 제조), 세이크올 BZ, 세이크올 Z, 세이크올 BEE(이상, 세이코카가쿠 주식회사 제조), 카야큐어(kayacure) BP100(니혼카야쿠 주식회사 제조), 카야큐어 UVI-6992(다우사 제조), 아데카옵토머 SP-152, 아데카옵토머 SP-170, 아데카옵토머 N-1717, 아데카옵토머 N-1919, 아데카아크루즈 NCI-831, 아데카아크루즈 NCI-930(이상, 주식회사 ADEKA 제조), TAZ-A, TAZ-PP(이상, 니폰시이베르헤그나사 제조) 및 TAZ-104(산와케미컬사 제조)를 들 수 있다.A commercial product may be used as the photopolymerization initiator. As such a commercial item, specifically, Irgacure (registered trademark) 907, Irgacure 184, Irgacure 651, Irgacure 819, Irgacure 250, Irgacure 369, Irgacure 379, Irgacure Gacure 127, Irgacure 2959, Irgacure 754, Irgacure 379EG (above, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), Sakeall BZ, Sakeall Z, Sakeall BEE (above, manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.), Kayacure (kayacure) BP100 (manufactured by Nihon Kayaku Co., Ltd.), Kayacure UVI-6992 (manufactured by Dow), Adeka Optomer SP-152, Adeka Optomer SP-170, Adeka Optomer N-1717, Adeka Opto Mer N-1919, Adeka Cruise NCI-831, Adeka Cruise NCI-930 (above, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), TAZ-A, TAZ-PP (above, manufactured by Nippon Siberheg Screw) and TAZ-104 (Sanwa Chemical Manufactured by Co., Ltd.).

광중합개시제는, 광원으로부터 발생되는 에너지를 충분히 활용할 수 있어, 생산성이 우수하기 때문에, 극대 흡수 파장이 300 ㎚∼400 ㎚이면 바람직하고, 300 ㎚∼380 ㎚이면 보다 바람직하며, 그 중에서도, α-아세토페논계 중합개시제, 옥심계 광중합개시제가 바람직하다.Since the photoinitiator can fully utilize the energy generated from the light source and is excellent in productivity, the maximum absorption wavelength is preferably 300 nm to 400 nm, more preferably 300 nm to 380 nm, and among them, α-aceto Phenon-based polymerization initiators and oxime-based photopolymerization initiators are preferred.

α-아세토페논 화합물로는, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-(4-메틸페닐메틸)부탄-1-온 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온을 들 수 있다. α-아세토페논 화합물의 시판품으로는, 이르가큐어 369, 379EG, 907[이상, BASF 재팬(주) 제조] 및 세이크올 BEE(세이코카가쿠사 제조) 등을 들 수 있다.As an α-acetophenone compound, 2-methyl-2-morpholino-1-(4-methylsulfanylphenyl)propan-1-one, 2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)- 2-benzylbutan-1-one and 2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-2-(4-methylphenylmethyl)butan-1-one, and the like, and more preferably 2- Methyl-2-morpholino-1-(4-methylsulfanylphenyl)propan-1-one and 2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-2-benzylbutan-1-one. I can. Commercially available products of the α-acetophenone compound include Irgacure 369, 379EG, 907 (above, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) and Seiko BEE (manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.).

옥심계 광중합개시제는, 광이 조사됨으로써 페닐 라디칼이나 메틸 라디칼 등의 라디칼을 생성시킨다. 이 라디칼에 의해 중합성 액정 화합물의 중합이 적합하게 진행되지만, 그 중에서도 메틸 라디칼을 발생시키는 옥심계 광중합개시제는 중합 반응의 개시 효율이 높다는 점에서 바람직하다. 또한, 중합 반응을 보다 효율적으로 진행시킨다고 하는 관점에서, 파장 350 ㎚ 이상의 자외선을 효율적으로 이용 가능한 광중합개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 파장 350 ㎚ 이상의 자외선을 효율적으로 이용 가능한 광라디칼 중합개시제로는, 옥심 구조를 포함하는 트리아진 화합물이나 카르바졸 화합물이 바람직하고, 감도의 관점에서는 옥심에스테르 구조를 포함하는 카르바졸 화합물이 보다 바람직하다. 옥심 구조를 포함하는 카르바졸 화합물로는, 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)], 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심) 등을 들 수 있다. 옥심에스테르계 광중합개시제의 시판품으로는, 이르가큐어 OXE-01, 이르가큐어 OXE-02, 이르가큐어 OXE-03(이상, BASF 재팬 주식회사 제조), 아데카옵토머 N-1919, 아데카아크루즈 NCI-831(이상, 주식회사 ADEKA 제조) 등을 들 수 있다.The oxime photopolymerization initiator generates radicals such as phenyl radicals and methyl radicals by irradiation with light. The polymerization of the polymerizable liquid crystal compound proceeds suitably by this radical, but among them, an oxime-based photopolymerization initiator that generates a methyl radical is preferable from the viewpoint of high initiation efficiency of the polymerization reaction. In addition, it is preferable to use a photopolymerization initiator capable of efficiently using ultraviolet rays having a wavelength of 350 nm or more from the viewpoint of making the polymerization reaction proceed more efficiently. As a photo-radical polymerization initiator capable of efficiently using ultraviolet rays with a wavelength of 350 nm or more, a triazine compound or carbazole compound containing an oxime structure is preferable, and a carbazole compound containing an oxime ester structure is more preferable from the viewpoint of sensitivity. . As a carbazole compound containing an oxime structure, 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-2-(O-benzoyloxime)], ethanol, 1-[9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-1-(O-acetyloxime), and the like. Commercially available products of oxime ester photopolymerization initiators include Irgacure OXE-01, Irgacure OXE-02, Irgacure OXE-03 (above, manufactured by BASF Japan Corporation), Adeka Optomer N-1919, and Adeka Cruise NCI-831 (above, manufactured by ADEKA Corporation), etc. are mentioned.

중합개시제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 배향을 어지럽히지 않고 중합성 액정 화합물을 중합하기 위해서는, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 통상 0.1∼30 질량부이고, 바람직하게는 0.5∼10 질량부이다.In order to polymerize the polymerizable liquid crystal compound without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound, the content of the polymerization initiator is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.5 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. It is wealth.

중합금지제를 배합함으로써, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 컨트롤할 수 있다. 중합금지제로는, 히드로퀴논 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 히드로퀴논류; 부틸카테콜 등의 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 카테콜류; 피로갈롤류, 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시 라디칼 등의 라디칼 보충제; 티오페놀류; β-나프틸아민류 및 β-나프톨류를 들 수 있다.By blending a polymerization inhibitor, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be controlled. Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinones having substituents such as hydroquinone and alkyl ether; Catechols having a substituent such as alkyl ether such as butyl catechol; Radical supplements such as pyrogallols and 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy radicals; Thiophenols; β-naphthylamines and β-naphthols are mentioned.

중합금지제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 배향을 어지럽히지 않고, 중합성 액정 화합물을 중합하기 위해서는, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 통상 0.1∼30 질량부이고, 바람직하게는 0.5∼10 질량부이다.The content of the polymerization inhibitor is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.5 to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound in order to polymerize the polymerizable liquid crystal compound without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound. It is 10 parts by mass.

광증감제로는, 예컨대, 크산톤, 티오크산톤 등의 크산톤류; 안트라센 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 안트라센류; 페노티아진; 루브렌을 들 수 있다.Examples of the photosensitizer include xanthones such as xanthone and thioxanthone; Anthracenes having substituents such as anthracene and alkyl ether; Phenothiazine; Rubrene is mentioned.

광증감제를 이용함으로써, 광중합개시제를 고감도화할 수 있다. 광증감제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 통상 0.1∼30 질량부이고, 바람직하게는 0.5∼10 질량부이다.By using a photosensitizer, a photoinitiator can be highly sensitive. The content of the photosensitizer is usually 0.1 to 30 parts by mass, and preferably 0.5 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound.

레벨링제로는, 예컨대, 유기 변성 실리콘 오일계, 폴리아크릴레이트계 및 퍼플루오로알킬계의 레벨링제를 들 수 있다. 구체적으로는, DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123[이상, 전부 도레이·다우코닝(주) 제조], KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001[이상, 전부 신에츠카가쿠고교(주) 제조], TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460(이상, 전부 모멘티브 퍼포먼스 머트리얼즈 재팬 합동회사 제조), 플루오리너트(fluorinert)(등록상표) FC-72, 동 FC-40, 동 FC-43, 동 FC-3283[이상, 전부 스미토모쓰리엠(주) 제조], 메가팍(등록상표) R-08, 동 R-30, 동 R-90, 동 F-410, 동 F-411, 동 F-443, 동 F-445,동 F-470, 동 F-477, 동 F-479, 동 F-482, 동 F-483[이상, 모두 DIC(주) 제조], 에프톱(상품명) EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352[이상, 전부 미쓰비시머트리얼덴시카세이(주) 제조], 서프론(등록상표) S-381, 동 S-382, 동 S-383, 동 S-393, 동 SC-101, 동 SC-105, KH-40, SA-100[이상, 전부 AGC 세이미케미칼(주) 제조], 상품명 E1830, 동 E5844[(주)다이킨파인케미칼겐큐쇼 제조], BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353 및 BYK-361N(모두 상품명: BM Chemie사 제조) 등을 들 수 있다. 2종 이상의 레벨링제를 조합하여도 좋다.As the leveling agent, an organic modified silicone oil type, a polyacrylate type, and a perfluoroalkyl type leveling agent are mentioned, for example. Specifically, DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123 [above, all manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.], KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 , X22-161A, KF6001 [above, all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.], TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (above, all Momentive Performance Materials Japan Joint company), fluorinert (registered trademark) FC-72, copper FC-40, copper FC-43, copper FC-3283 [above, all manufactured by Sumitomo 3M], Megapak (registered trademark) ) R-08, East R-30, East R-90, East F-410, East F-411, East F-443, East F-445, East F-470, East F-477, East F-479, F-482, F-483 [above, all manufactured by DIC Corporation], Ftop (brand name) EF301, EF303, EF351, EF352 [above, all manufactured by Mitsubishi Materials Denshi Kasei Corporation] , Suffron (registered trademark) S-381, East S-382, East S-383, East S-393, East SC-101, East SC-105, KH-40, SA-100 [above, all AGC Semiy Chemical Co., Ltd.], brand name E1830, copper E5844 [Daikin Fine Chemical Co., Ltd. product], BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353 and BYK-361N (all brand names: BM Chemie Manufactured by company), etc. are mentioned. You may combine two or more types of leveling agents.

레벨링제를 이용함으로써, 보다 평활한 광학 이방성 층을 형성할 수 있다. 또한, 위상차판의 제조 과정에서, 광학 이방성 층 형성용 조성물의 유동성을 제어하거나, 위상차판의 가교 밀도를 조정하거나 할 수 있다. 레벨링제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대하여, 통상 0.1∼30 질량부이고, 바람직하게는 0.1∼10 질량부이다.By using a leveling agent, a smoother optically anisotropic layer can be formed. In addition, during the manufacturing process of the retardation plate, the fluidity of the composition for forming an optically anisotropic layer may be controlled or the crosslinking density of the retardation plate may be adjusted. The content of the leveling agent is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound.

본 발명의 방법에 있어서 이용되는 기재 필름 부착 중합체층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 배향층(8)은, 중합체층(2)을 구성하는 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 배향시키는 배향 규제력을 가지며, 상기 중합성 액정 화합물을 포함하는 광학 이방성 층 형성용 조성물의 도포 등에 의해 용해되지 않는 용제 내성을 가지며, 또한, 용제의 제거나 중합성 액정 화합물의 배향을 위한 가열 처리에 있어서의 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 배향층으로는, 배향성 폴리머를 포함하는 배향층, 광배향층, 및 표면에 요철 패턴이나 복수의 홈을 갖는 그루브 배향층 등을 들 수 있다.The alignment layer (8) constituting the polymer layer (6) with a base film or the optical laminate (7) with a base film used in the method of the present invention requires a polymerizable liquid crystal compound constituting the polymer layer (2). It has an orientation regulating force to align in the direction, has a solvent resistance that is not dissolved by application of a composition for forming an optically anisotropic layer containing the polymerizable liquid crystal compound, and is heated for removal of the solvent or alignment of the polymerizable liquid crystal compound. It is preferable to have heat resistance in processing. Examples of the alignment layer include an alignment layer containing an alignment polymer, a photo-alignment layer, and a groove alignment layer having an uneven pattern or a plurality of grooves on the surface.

배향성 폴리머를 포함하는 경우, 배향성 폴리머로는, 예컨대, 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그 가수 분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알코올, 알킬 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 및 폴리아크릴산에스테르류를 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리비닐알코올이 바람직하다. 2종 이상의 배향성 폴리머를 조합하여도 좋다.When the orientation polymer is included, examples of the orientation polymer include polyamide or gelatin having an amide bond, polyimide having an imide bond, and a hydrolyzate thereof such as polyamic acid, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, poly Acrylamide, polyoxazole, polyethyleneimine, polystyrene, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid and polyacrylic acid esters are mentioned. Among them, polyvinyl alcohol is preferred. You may combine two or more types of orientation polymers.

배향성 폴리머를 포함하는 배향층은, 통상, 배향성 폴리머가 용제에 용해된 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하거나 또는 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하며, 상기 도포막을 러빙함으로써 얻어진다.The alignment layer containing the alignment polymer is usually applied by applying an alignment polymer composition in which the alignment polymer is dissolved in a solvent to a substrate and removing the solvent to form a coating film or applying the alignment polymer composition to the substrate and removing the solvent. It is obtained by forming a film and rubbing the coating film.

배향성 폴리머 조성물 중의 배향성 폴리머의 농도는, 배향성 폴리머가 용제에 완전히 용해되는 범위이면 좋다. 배향성 폴리머 조성물에 대한 배향성 폴리머의 함유량은, 바람직하게는 0.1∼20 질량%이고, 보다 바람직하게는 0.1∼10 질량%이다.The concentration of the oriented polymer in the oriented polymer composition may be within a range in which the oriented polymer is completely dissolved in a solvent. The content of the oriented polymer with respect to the oriented polymer composition is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass.

배향성 폴리머 조성물은, 시장에서 입수할 수 있다. 시판되고 있는 배향성 폴리머 조성물로는, 산에바[등록상표, 닛산카가쿠고교(주) 제조], 옵토머[등록상표, JSR(주) 제조] 등을 들 수 있다.The orientation polymer composition can be obtained from the market. As a commercially available oriented polymer composition, Saneva (registered trademark, manufactured by Nissan Chemical Industry Co., Ltd.), optomer (registered trademark, manufactured by JSR Corporation), etc. are mentioned.

배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법으로는, 후술하는 광학 이방성 층 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다. 배향성 폴리머 조성물에 포함되는 용제를 제거하는 방법으로는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법 등을 들 수 있다.As a method of applying the oriented polymer composition to the substrate, the same method as the method of applying the composition for forming an optically anisotropic layer to the substrate to be described later can be mentioned. As a method of removing the solvent contained in the oriented polymer composition, a natural drying method, a ventilation drying method, a heat drying method, a vacuum drying method, and the like may be mentioned.

배향성 폴리머 조성물로부터 형성된 도포막에는, 러빙 처리를 행하여도 좋다. 러빙 처리를 행함으로써, 상기 도포막에 배향 규제력을 부여할 수 있다.The coating film formed from the oriented polymer composition may be subjected to a rubbing treatment. By performing the rubbing treatment, it is possible to impart an orientation regulating force to the coating film.

러빙 처리의 방법으로는, 예컨대, 러빙 천이 권취되어, 회전하고 있는 러빙 롤에, 상기 도포막을 접촉시키는 방법을 들 수 있다. 러빙 처리를 행할 때에, 마스킹을 행하면, 배향의 방향이 상이한 복수의 영역(패턴)을 배향막에 형성할 수도 있다.As a method of the rubbing treatment, for example, a method of bringing the rubbing cloth into contact with the rotating rubbing roll by winding the rubbing cloth into contact with the coating film is exemplified. When performing the rubbing treatment, if masking is performed, a plurality of regions (patterns) having different orientation directions may be formed in the alignment film.

광배향막은, 통상, 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 광배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거 후에 편광(바람직하게는, 편광 UV)을 조사함으로써 얻어진다. 광배향막은, 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써, 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있다.The photo-alignment film is usually obtained by applying a composition for forming a photo-alignment film containing a polymer or monomer having a photoreactive group and a solvent to a substrate, removing the solvent, and then irradiating polarized light (preferably polarized UV). The photo-alignment film can arbitrarily control the direction of the orientation regulating force by selecting the polarization direction of the polarized light to be irradiated.

광반응성 기란, 광조사함으로써 배향능을 발생시키는 기를 말한다. 구체적으로는, 광조사에 의해 생기는 분자의 배향 유기 반응, 이성화 반응, 광이량화 반응, 광가교 반응 혹은 광분해 반응 등의 배향능의 기원이 되는 광반응에 관여하는 기를 들 수 있다. 광반응성 기로는, 불포화 결합, 특히 이중 결합을 갖는 기가 바람직하고, 탄소-탄소 이중 결합(C=C 결합), 탄소-질소 이중 결합(C=N 결합), 질소-질소 이중 결합(N=N 결합) 및 탄소-산소 이중 결합(C=O 결합)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 갖는 기가 특히 바람직하다.The photoreactive group refers to a group that generates orientation ability by irradiation with light. Specifically, a group involved in a photoreaction that is the origin of the orientation ability, such as an orientation organic reaction, isomerization reaction, photodimerization reaction, photocrosslinking reaction, or photodecomposition reaction of molecules generated by light irradiation can be mentioned. As the photoreactive group, a group having an unsaturated bond, particularly a double bond, is preferable, and a carbon-carbon double bond (C=C bond), a carbon-nitrogen double bond (C=N bond), a nitrogen-nitrogen double bond (N=N Bonds) and a group having at least one selected from the group consisting of carbon-oxygen double bonds (C=O bonds).

C=C 결합을 갖는 광반응성 기로는, 예컨대, 비닐기, 폴리엔기, 스틸벤기, 스틸바졸기, 스틸바졸륨기, 칼콘기 및 신나모일기를 들 수 있다. C=N 결합을 갖는 광반응성 기로는, 예컨대, 방향족 시프 염기, 방향족 히드라존 등의 구조를 갖는 기를 들 수 있다. N=N 결합을 갖는 광반응성 기로는, 예컨대, 아조벤젠기, 아조나프탈렌기, 방향족 복소환 아조기, 비스아조기, 포르마잔기 및 아족시벤젠 구조를 갖는 기를 들 수 있다. C=O 결합을 갖는 광반응성 기로는, 예컨대, 벤조페논기, 쿠마린기, 안트라퀴논기 및 말레이미드기를 들 수 있다. 이들 기는, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 알릴옥시기, 시아노기, 알콕시카르보닐기, 히드록실기, 술폰산기, 할로겐화 알킬기 등의 치환기를 갖고 있어도 좋다.The photoreactive group having a C=C bond includes, for example, a vinyl group, a polyene group, a stilbene group, a stilbazole group, a stilbazolium group, a chalcone group, and a cinnamoyl group. As a photoreactive group having a C=N bond, a group having a structure such as an aromatic cipro base and an aromatic hydrazone may be mentioned. Examples of the photoreactive group having an N=N bond include an azobenzene group, an azonaphthalene group, an aromatic heterocyclic azo group, a bisazo group, a formazane group, and a group having an azoxybenzene structure. As a photoreactive group which has a C=O bond, a benzophenone group, a coumarin group, an anthraquinone group, and a maleimide group are mentioned, for example. These groups may have substituents such as an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an allyloxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, and a halogenated alkyl group.

광이량화 반응 또는 광가교 반응에 관여하는 기가, 배향성이 우수하다는 점에서 바람직하다. 그 중에서도, 광이량화 반응에 관여하는 광반응성 기가 바람직하고, 배향에 필요한 편광 조사량이 비교적 적고, 또한 열 안정성이나 경시 안정성이 우수한 광배향막이 얻어지기 쉽다고 하는 점에서, 신나모일기 및 칼콘기가 바람직하다. 광반응성 기를 갖는 폴리머로는, 상기 폴리머 측쇄의 말단부가 계피산 구조가 되는 신나모일기를 갖는 것이 특히 바람직하다.The group involved in the photo-dimerization reaction or the photo-crosslinking reaction is preferable from the viewpoint of excellent orientation. Among them, a photoreactive group involved in the photodimerization reaction is preferable, and a cinnamoyl group and a chalcone group are preferable in that the amount of polarization irradiation required for orientation is relatively small, and a photo-alignment film excellent in thermal stability and aging stability is easily obtained. Do. As the polymer having a photoreactive group, it is particularly preferable to have a cinnamoyl group in which the terminal portion of the side chain of the polymer has a cinnamic acid structure.

광배향막 형성용 조성물 중의 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 함유량은, 폴리머 또는 모노머의 종류나 목적으로 하는 광배향막의 두께에 따라 조절할 수 있고, 적어도 0.2 질량% 이상으로 하는 것이 바람직하며, 0.3∼10 질량%의 범위가 보다 바람직하다. 광배향막의 특성이 현저히 손상되지 않는 범위에서, 광배향막 형성용 조성물은, 폴리비닐알코올이나 폴리이미드 등의 고분자 재료나 광증감제를 포함하고 있어도 좋다.The content of the polymer or monomer having a photoreactive group in the composition for forming a photo-alignment film can be adjusted according to the type of the polymer or monomer or the thickness of the target photo-alignment film, and is preferably at least 0.2% by mass, and 0.3 to 10 The range of mass% is more preferable. As long as the characteristics of the photo-alignment film are not significantly impaired, the composition for forming a photo-alignment film may contain a polymer material such as polyvinyl alcohol or polyimide, or a photosensitizer.

광배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법으로는, 후술하는 광학 이방성 층 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다. 도포된 광배향막 형성용 조성물로부터, 용제를 제거하는 방법으로는, 배향성 폴리머 조성물로부터 용제를 제거하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다.As a method of applying the composition for forming a photo-alignment film to the substrate, the same method as the method of applying the composition for forming an optically anisotropic layer to the substrate to be described later may be mentioned. As a method of removing the solvent from the applied composition for forming a photo-alignment film, the same method as the method of removing the solvent from the oriented polymer composition may be mentioned.

편광을 조사하기 위해서는, 기재 상에 도포된 광배향막 형성용 조성물로부터, 용제를 제거한 것에 직접, 편광을 조사하는 형식이어도 좋고, 기재측으로부터 편광을 조사하고, 편광을 기재에 투과시켜 조사하는 형식이어도 좋다. 또한, 상기 편광은, 실질적으로 평행광이면 바람직하다. 조사하는 편광의 파장은, 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 광반응성 기가, 빛에너지를 흡수할 수 있는 파장역의 것이 좋다. 구체적으로는, 파장 250 ㎚∼400 ㎚ 범위의 UV(자외선)가 특히 바람직하다. 상기 편광을 조사하는 광원으로는, 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가, 파장 313 ㎚의 자외선의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다. 상기 광원으로부터의 빛을, 적당한 편광층을 통과시켜 조사함으로써, 편광 UV를 조사할 수 있다. 편광층으로는, 편광 필터, 글랜 톰슨, 및 글랜 테일러 등의 편광 프리즘, 및 와이어 그리드 타입의 편광층을 들 수 있다.In order to irradiate polarized light, a form in which the solvent is removed from the composition for forming a photo-alignment film applied on the substrate may be directly irradiated with polarized light, or a form in which polarized light is irradiated from the substrate side and the polarized light is transmitted through the substrate to be irradiated. good. Further, the polarized light is preferably substantially parallel light. The wavelength of polarized light to be irradiated is preferably in a wavelength range in which the photoreactive group of a polymer or monomer having a photoreactive group can absorb light energy. Specifically, UV (ultraviolet rays) in the wavelength range of 250 nm to 400 nm is particularly preferable. Examples of the light source for irradiating polarized light include a xenon lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and an ultraviolet laser such as KrF and ArF. Among them, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, and a metal halide lamp are preferable because of their large luminous intensity of ultraviolet rays having a wavelength of 313 nm. Polarized UV can be irradiated by irradiating light from the light source through an appropriate polarizing layer. Examples of the polarizing layer include polarizing filters, polarizing prisms such as Glen Thompson, and Glenn Taylor, and polarizing layers of wire grid type.

기재 필름(5) 또는 배향층(8) 상에 광학 이방성 층 형성용 조성물을 도포하는 방법으로는, 압출 코팅법, 다이렉트 그라비아 코팅법, 리버스 그라비아 코팅법, CAP 코팅법, 슬릿 코팅법, 다이 코팅법 등을 들 수 있다. 또한, 딥 코터, 바 코터, 스핀 코터 등의 코터를 이용하여 도포하는 방법 등도 들 수 있다. CAP 코팅법, 잉크젯법, 딥 코팅법, 슬릿 코팅법, 다이 코팅법 및 바 코터에 의한 도포 방법을 채용함으로써, 롤투롤 형식으로 연속적으로 도포할 수 있다. 롤투롤 형식으로 도포하는 경우, 기재 필름(5)에 광배향막 형성용 조성물 등을 도포하여 배향층(8)을 형성하고, 또한 얻어진 배향층(8) 상에 광학 이방성 층 형성용 조성물을 연속적으로 도포할 수도 있다.As a method of applying the composition for forming an optically anisotropic layer on the base film 5 or the alignment layer 8, extrusion coating, direct gravure coating, reverse gravure coating, CAP coating, slit coating, and die coating And the law. Further, a method of applying using a coater such as a dip coater, a bar coater, and a spin coater may be mentioned. By adopting a CAP coating method, an ink jet method, a dip coating method, a slit coating method, a die coating method, and a coating method using a bar coater, it is possible to continuously apply in a roll-to-roll format. In the case of applying in a roll-to-roll format, an alignment layer 8 is formed by applying a composition for forming a photo-alignment layer on the base film 5, and the composition for forming an optically anisotropic layer is successively applied on the obtained alignment layer 8 It can also be applied.

광학 이방성 층 형성용 조성물에 포함되는 용제를 제거하는 건조 방법으로는, 예컨대, 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조, 감압 건조 및 이들을 조합한 방법을 들 수 있다. 광배향막 형성용 조성물 및 배향성 폴리머 조성물도 마찬가지로 건조할 수 있다.Examples of the drying method for removing the solvent contained in the composition for forming an optically anisotropic layer include natural drying, air drying, heat drying, drying under reduced pressure, and a combination thereof. The composition for forming a photo-alignment film and the oriented polymer composition can be similarly dried.

중합성 액정 화합물의 중합은, 예컨대, 기재 필름(5) 상 또는 배향층(8) 상에 중합성 액정 화합물을 포함하는 광학 이방성 층 형성용 조성물이 도포된 적층체에 활성 에너지선을 조사함으로써 실시된다. 조사하는 활성 에너지선은, 건조 피막에 포함되는 중합성 액정 화합물의 종류(특히, 중합성 액정 화합물이 갖는 광중합성 작용기의 종류), 광중합개시제를 포함하는 경우에는 광중합개시제의 종류, 및 이들 양에 따라 적절하게 선택하면 좋다. 구체적으로는, 가시광, 자외광, 적외광, X선, α선, β선, 및 γ선 등의 광을 들 수 있다.The polymerization of the polymerizable liquid crystal compound is carried out, for example, by irradiating an active energy ray on the laminate to which the composition for forming an optically anisotropic layer containing the polymerizable liquid crystal compound is applied on the base film 5 or on the alignment layer 8 do. The active energy ray to be irradiated depends on the kind of the polymerizable liquid crystal compound contained in the dry film (particularly, the kind of the photopolymerizable functional group of the polymerizable liquid crystal compound), the kind of the photopolymerization initiator, and the amount of the photopolymerization initiator. It is good to choose accordingly. Specifically, light such as visible light, ultraviolet light, infrared light, X-ray, α-ray, β-ray, and γ-ray can be mentioned.

본 발명의 방법에 있어서, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합되는 광학 필름(1)은, 화상 표시(표시 화면 등)를 위해 기능하는 필름(예컨대, 화상의 보기 쉬움을 향상시키기 위해 기능하는 필름)으로서, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 삽입될 수 있는 각종 광학 특성을 갖는 필름을 의미한다. 본 발명의 방법에 있어서 이용할 수 있는 광학 필름으로는, 예컨대, 편광자, 위상차 필름, 휘도 향상 필름, 방현 필름, 반사 방지 필름, 확산 필름, 집광 필름 등의 광학 기능성 필름, 편광판, 위상차판 등을 들 수 있다.In the method of the present invention, the optical film 1 bonded with the polymer layer 6 with a base film is a film that functions for image display (display screen, etc.) (e.g., to improve the ease of viewing of an image). As a film), it means a film having various optical properties that can be inserted into an image display device such as a liquid crystal display device. As the optical film that can be used in the method of the present invention, for example, a polarizer, a retardation film, a brightness enhancing film, an antiglare film, an antireflection film, an optical functional film such as a diffusion film, a condensing film, a polarizing plate, a retardation plate, etc. I can.

본 발명의 방법에 있어서, 기재 필름 부착 중합체층(6) 또는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 구성하는 중합체층(2)과 광학 필름(1)을 접합하기 위한 점착제 또는 접착제층(3)을 구성하는 점착제 또는 접착제는, 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 점착제 및 접착제를 특별히 제한 없이 이용할 수 있다. 점착제로는, 예컨대, 아크릴계, 고무계, 우레탄계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계 등의 베이스 폴리머를 갖는 점착제를 들 수 있다. 또한, 에너지선 경화형 점착제, 열경화형 점착제 등이어도 좋다. 접착제로는, 활성 에너지선 경화형 접착제, 수계 접착제, 유기 용제계 접착제, 및 무용제계 접착제를 들 수 있다.In the method of the present invention, a pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) for bonding the polymer layer (2) constituting the polymer layer (6) with a base film or the optical laminate (7) with a base film (1) and the optical film (1) The pressure-sensitive adhesive or adhesive constituting the is not particularly limited, and conventionally known pressure-sensitive adhesives and adhesives can be used without particular limitation. Examples of the pressure-sensitive adhesive include pressure-sensitive adhesives having a base polymer such as acrylic, rubber, urethane, silicone, and polyvinyl ether. Moreover, an energy ray-curable adhesive, a thermosetting adhesive, etc. may be sufficient. Examples of the adhesive include an active energy ray-curable adhesive, a water-based adhesive, an organic solvent-based adhesive, and a solvent-free adhesive.

1: 광학 필름 2: 중합체층
2a: 중합체층 잔존 영역 3: 점착제 또는 접착제층
4: 광학 적층체 5: 기재 필름
5a: 중합체층 미적층 영역 5b: 기재 필름-중합체층 경계
6: 기재 필름 부착 중합체층 7: 기재 필름 부착 광학 적층체
8: 배향층 11: 권출롤 1
12: 반송용 롤러 13: 제전 장치
14: 권출롤 2 15: 닙롤
16: 박리용 롤 17: 권취롤
20: 클린룸 21: 슬리터 장치
31: 윗날 32: 아랫날
33: 장척 시트 34: 샤프트
35: 랩 36: 홀더
37: 홀더 38: 베어링
39: 감속기 40: 모터
1: optical film 2: polymer layer
2a: polymer layer remaining area 3: pressure-sensitive adhesive or adhesive layer
4: optical laminate 5: base film
5a: polymer layer unlaminated region 5b: base film-polymer layer boundary
6: Polymer layer with base film 7: Optical laminate with base film
8: alignment layer 11: unwinding roll 1
12: conveyance roller 13: antistatic device
14: unwinding roll 2 15: nip roll
16: peeling roll 17: winding roll
20: clean room 21: slitter device
31: upper day 32: lower day
33: long seat 34: shaft
35: wrap 36: holder
37: holder 38: bearing
39: reducer 40: motor

Claims (13)

광학 필름(1)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)을 구비하고, 상기 중합체층(2)이 상기 광학 필름(1)과 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 적층되어 이루어지는 광학 적층체(4)를 제조하는 방법으로서,
장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A),
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)에 대하여, 상기 중합체층(2) 측에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 접합 공정 (B), 및
상기 접합 공정 (B)에서 얻어지는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정 (C)와 함께,
상기 박리 공정 (C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 제전 반송 공정 (D)를 포함하고,
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)가, 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 중합체층 슬릿 공정 (SA)를 포함하거나,
상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합하기 전의 상기 광학 필름(1)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 광학 필름 슬릿 공정 (SB1)을 포함하거나, 또는
상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합한 후의 상기 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)를 포함하고,
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하이거나, 또는 상기 기재 필름 제전 반송 공정 (D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인
광학 적층체의 제조 방법.
An optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound are provided, and the polymer layer (2) is laminated through the optical film (1) and an adhesive or adhesive layer (3). As a method of manufacturing the optical laminate 4 made,
Attaching a long base film comprising a long base film 5 and the polymer layer 2 laminated on the base film 5, the base film 5 being peelable from the polymer layer 2 The polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A) which conveys the polymer layer 6 in the longitudinal direction while antistatic,
With respect to the polymer layer with a base film 6 conveyed by the said polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A), a long optical film through an adhesive or an adhesive layer 3 on the side of the polymer layer 2 ( 1) a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded on the polymer layer (2) through the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) A bonding step (B) for obtaining an optical laminate 7 with a long base film in which the base film 5 is peelable from the polymer layer 2, and
Along with the peeling process (C) of peeling the said base film 5 from the optical laminated body 7 with a base film obtained in said bonding process (B), and obtaining the said optical laminated body 4,
Including a base film static elimination conveyance process (D) conveying in the longitudinal direction while static electricity elimination of the base film 5 after peeling off in the said peeling process (C),
The said polymer layer with base film antistatic conveyance process (A) includes a polymer layer slit process with a base film (SA) which cuts and cuts the end part of the said polymer layer with base film 6 in a conveyance direction, or,
The bonding step (B) includes an optical film slit step (SB1) in which the end portion of the optical film 1 before bonding with the polymer layer 6 with a base film is cut in the conveyance direction and cut out, or
The bonding step (B) cuts the end of the optical layered body 7 with the base film after bonding with the polymer layer 6 with a base film in the conveyance direction, and cuts it out. ), and
The absolute value of the charge amount of the polymer layer with a base film 6 after static elimination in the polymer layer with base film antistatic transfer step (A) is 0.01 kV or more and 6 kV or less, or the base film antistatic transfer step (D ), the absolute value of the charge amount of the base film 5 after antistatic is 0.01 kV or more and 6 kV or less
Method for producing an optical laminate.
광학 필름(1)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)을 구비하고, 상기 중합체층(2)이 상기 광학 필름(1)과 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 적층되어 이루어지는 광학 적층체(4)를 제조하는 방법으로서,
장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A),
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)에 대하여, 상기 중합체층(2) 측에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 접합 공정 (B), 및
상기 접합 공정 (B)에서 얻어지는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정 (C)와 함께,
상기 박리 공정 (C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 제전 반송 공정 (D)를 포함하고,
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)가, 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 중합체층슬릿 공정 (SA)를 포함하고,
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인
광학 적층체의 제조 방법.
An optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound are provided, and the polymer layer (2) is laminated through the optical film (1) and an adhesive or adhesive layer (3). As a method of manufacturing the optical laminate 4 made,
Attaching a long base film comprising a long base film 5 and the polymer layer 2 laminated on the base film 5, the base film 5 being peelable from the polymer layer 2 The polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A) which conveys the polymer layer 6 in the longitudinal direction while antistatic,
With respect to the polymer layer with a base film 6 conveyed by the said polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A), a long optical film through an adhesive or an adhesive layer 3 on the side of the polymer layer 2 ( 1) a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded on the polymer layer (2) through the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) A bonding step (B) for obtaining an optical laminate 7 with a long base film in which the base film 5 is peelable from the polymer layer 2, and
Along with the peeling process (C) of peeling the said base film 5 from the optical laminated body 7 with a base film obtained in said bonding process (B), and obtaining the said optical laminated body 4,
Including a base film static elimination conveyance process (D) conveying in the longitudinal direction while static electricity elimination of the base film 5 after peeling off in the said peeling process (C),
The said polymer layer with base film antistatic conveyance process (A) includes a polymer layer slit process (SA) with a base film in which an end portion of the polymer layer with base film 6 is cut out in a conveyance direction,
The absolute value of the charge amount of the polymer layer 6 with the base film after static elimination in the antistatic transfer step (A) of the polymer layer with a base film is 0.01 kV or more and 6 kV or less
Method for producing an optical laminate.
제2항에 있어서, 상기 기재 필름 제전 반송 공정 (D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인 제조 방법.The manufacturing method according to claim 2, wherein the absolute value of the amount of charge of the base film (5) after the static elimination in the base film antistatic transfer step (D) is 0.01 kV or more and 6 kV or less. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 기재 필름 부착 중합체층 슬릿 공정 (SA)에 있어서 잘라내어지는 단부에 중합체층(2)이 포함되는 제조 방법.The manufacturing method according to claim 2 or 3, wherein the polymer layer (2) is included at the end cut out in the polymer layer slit step (SA) with a base film. 광학 필름(1)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)을 구비하고, 상기 중합체층(2)이 상기 광학 필름(1)과 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 적층되어 이루어지는 광학 적층체(4)를 제조하는 방법으로서,
장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A),
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)에 대하여, 상기 중합체층(2) 측에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 접합 공정 (B), 및
상기 접합 공정 (B)에서 얻어지는 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정 (C)와 함께,
상기 박리 공정 (C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 제전 반송 공정 (D)를 포함하고,
상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합하기 전의 상기 광학 필름(1)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 광학 필름 슬릿 공정 (SB1)을 포함하거나, 또는
상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합한 후의 상기 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)를 포함하고,
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하이거나, 또는 상기 기재 필름 제전 반송 공정 (D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인
광학 적층체의 제조 방법.
An optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound are provided, and the polymer layer (2) is laminated through the optical film (1) and an adhesive or adhesive layer (3). As a method of manufacturing the optical laminate 4 made,
Attaching a long base film comprising a long base film 5 and the polymer layer 2 laminated on the base film 5, the base film 5 being peelable from the polymer layer 2 The polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A) which conveys the polymer layer 6 in the longitudinal direction while antistatic,
With respect to the polymer layer with a base film 6 conveyed by the said polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A), a long optical film through an adhesive or an adhesive layer 3 on the side of the polymer layer 2 ( 1) a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded on the polymer layer (2) through the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) A bonding step (B) for obtaining an optical laminate 7 with a long base film in which the base film 5 is peelable from the polymer layer 2, and
Along with the peeling process (C) of peeling the said base film 5 from the optical laminated body 7 with a base film obtained in said bonding process (B), and obtaining the said optical laminated body 4,
Including a base film static elimination conveyance process (D) conveying in the longitudinal direction while static electricity elimination of the base film 5 after peeling off in the said peeling process (C),
The bonding step (B) includes an optical film slit step (SB1) in which the end portion of the optical film 1 before bonding with the polymer layer 6 with a base film is cut in the conveyance direction and cut out, or
The bonding step (B) cuts the end of the optical layered body 7 with the base film after bonding with the polymer layer 6 with a base film in the conveyance direction, and cuts it out. ), and
The absolute value of the charge amount of the polymer layer with a base film 6 after static elimination in the polymer layer with base film antistatic transfer step (A) is 0.01 kV or more and 6 kV or less, or the base film antistatic transfer step (D ), the absolute value of the charge amount of the base film 5 after antistatic is 0.01 kV or more and 6 kV or less
Method for producing an optical laminate.
제5항에 있어서, 상기 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)를 포함하고,
이 공정 (SB2)에 있어서 절단되는 단부에 중합체층(2)이 포함되는 제조 방법.
The method according to claim 5, comprising the optical laminate slit step (SB2) with the base film,
The manufacturing method in which the polymer layer 2 is included in the end cut|disconnected in this process (SB2).
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)에 있어서, 상기 중합체층(2)이 이 중합체층(2)의 폭 방향의 전체에 걸쳐 상기 기재 필름(5) 상에 구비되고, 상기 기재 필름(5)의 폭이 상기 중합체층(2)의 폭보다 넓은 제조 방법.The polymer layer with a base film (6) provided in the polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A) according to any one of claims 1 to 6, wherein the polymer layer (2) is the polymer layer ( It is provided on the base film 5 over the entire width direction of 2), and the width of the base film 5 is wider than that of the polymer layer 2. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)에 있어서, 상기 기재 필름(5) 상에 상기 중합체층(2)이 배향층(8)을 통해 적층되어 있고, 상기 배향층(8)이 폭 방향의 전체에 걸쳐 상기 기재 필름(5) 상에 적층되어 있으며, 상기 기재 필름(5)의 폭이 상기 배향층(8)의 폭보다 넓은 제조 방법.The polymer layer with a base film (6) provided in the polymer layer with a base film in an antistatic conveyance process (A) according to any one of claims 1 to 7, wherein the polymer layer is on the base film (5). (2) is laminated through the orientation layer 8, the orientation layer 8 is laminated on the base film 5 over the entire width direction, and the width of the base film 5 is A manufacturing method wider than the width of the alignment layer 8. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 접합 공정 (B)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)의 중합체층(2) 폭이, 이 접합 공정 (B)에 있어서 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)과 광학 필름(1)을 접합하기 위해 형성되는 점착제 또는 접착제층(3)의 폭보다 넓은 제조 방법.The width of the polymer layer (2) of the polymer layer (6) with a base film provided in the bonding step (B) is the base film according to any one of claims 1 to 8 in the bonding step (B). A manufacturing method wider than the width of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer 3 formed to bond the adhesive polymer layer 6 and the optical film 1. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 접합 공정 (B)에 제공되는 기재 필름 부착 중합체층(6)에 있어서, 상기 기재 필름(5) 상에 상기 중합체층(2)이 배향층(8)을 통해 적층되어 있고, 상기 배향층(8)의 폭이 이 접합 공정 (B)에 있어서 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)과 광학 필름(1)을 접합하기 위해 형성되는 점착제 또는 접착제층(3)의 폭보다 넓은 제조 방법.The polymer layer (6) with a base film provided in the bonding step (B) according to any one of claims 1 to 9, wherein the polymer layer (2) is an alignment layer on the base film (5). A pressure-sensitive adhesive or adhesive that is laminated through (8) and is formed to bond the polymer layer 6 with the base film and the optical film 1 in this bonding step (B) in which the width of the alignment layer 8 is A manufacturing method that is wider than the width of the layer (3). 장척의 기재 필름(5)과, 상기 기재 필름(5) 상에 적층된, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 방법으로서,
상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 중합체층 슬릿 공정 (SA)를 포함하고,
제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 기재 필름 부착 중합체층의 반송 방법.
A long base film (5) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound laminated on the base film (5) is provided, and the base film (5) comprises the polymer layer (2). As a method of conveying the polymer layer 6 with a base film which can be peeled off from) in the longitudinal direction while being charged,
A polymer layer with a base film slit step (SA) in which an end portion of the polymer layer 6 with a base film is cut and cut in a conveyance direction,
The conveying method of the polymer layer with a base film, wherein the absolute value of the charge amount of the polymer layer 6 with a base film after antistatic is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
장척의 기재 필름(5)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 제조하는 방법으로서,
상기 장척의 기재 필름(5)과, 이 기재 필름(5) 상에 적층된 상기 중합체층(2)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 중합체층(6)을, 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A), 및
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 의해 반송되는 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)에 대하여, 상기 중합체층(2) 측에 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 장척의 광학 필름(1)을 접합하여, 장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)를 얻는 공정 (B)
를 포함하고,
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)가, 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 중합체층 슬릿 공정 (SA)를 포함하거나,
상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합하기 전의 상기 광학 필름(1)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 광학 필름 슬릿 공정 (SB1)을 포함하거나, 또는
상기 접합 공정 (B)가, 기재 필름 부착 중합체층(6)과 접합한 후의 상기 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)를 포함하고,
상기 기재 필름 부착 중합체층 제전 반송 공정 (A)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름 부착 중합체층(6)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 기재 필름 부착 광학 적층체의 제조 방법.
A long base film (5), a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, and a long optical film (1) bonded to the polymer layer (2) through an adhesive or adhesive layer (3) ), and the base film 5 is a method for producing an optical layered body 7 with a base film in which the base film 5 is peelable from the polymer layer 2,
A long base film comprising the long base film 5 and the polymer layer 2 laminated on the base film 5, and the base film 5 is peelable from the polymer layer 2 The polymer layer with a base film static elimination conveyance process (A) which conveys the adhesion polymer layer 6 in the longitudinal direction while static electricity, and
With respect to the polymer layer with a base film 6 conveyed by the said polymer layer with a base film antistatic conveyance process (A), a long optical film through an adhesive or an adhesive layer 3 on the side of the polymer layer 2 ( 1) a long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded on the polymer layer (2) through the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3) Step (B) of providing an optical laminate 7 with a long base film in which the base film 5 is peelable from the polymer layer 2
Including,
The said polymer layer with base film antistatic conveyance process (A) includes a polymer layer slit process with a base film (SA) which cuts and cuts the end part of the said polymer layer with base film 6 in a conveyance direction, or,
The bonding step (B) includes an optical film slit step (SB1) in which the end portion of the optical film 1 before bonding with the polymer layer 6 with a base film is cut in the conveyance direction and cut out, or
The bonding step (B) cuts the end of the optical layered body 7 with the base film after bonding with the polymer layer 6 with a base film in the conveyance direction, and cuts it out. ), and
The method for producing an optical layered product with a base film, wherein the absolute value of the charge amount of the polymer layer with a base film 6 after static electricity in the polymer layer with a base film is not less than or equal to 0.01 kV and less than or equal to 6 kV in the antistatic transfer step (A).
장척의 광학 필름(1)과, 중합성 액정 화합물의 중합체로 구성되는 중합체층(2)을 구비하고, 상기 중합체층(2)이 상기 광학 필름(1)과 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 적층되어 있는 광학 적층체(4)를 제조하는 방법으로서,
장척의 기재 필름(5)과, 상기 중합체층(2)과, 이 중합체층(2) 상에 상기 점착제 또는 접착제층(3)을 통해 접합된 장척의 광학 필름(1)을 구비하고, 상기 기재 필름(5)이 상기 중합체층(2)으로부터 박리 가능한 장척의 기재 필름 부착 광학 적층체(7)의 단부를 반송 방향으로 절단하여 잘라내는 기재 필름 부착 광학 적층체 슬릿 공정 (SB2)와, 단부를 잘라낸 후의 상기 기재 필름 부착 광학 적층체(7)로부터 상기 기재 필름(5)을 박리하여 상기 광학 적층체(4)를 얻는 박리 공정 (C)와 함께,
상기 박리 공정 (C)에서 박리된 후의 상기 기재 필름(5)을 제전하면서 길이 방향으로 반송하는 기재 필름 제전 반송 공정 (D)를 구비하고,
상기 기재 필름 제전 반송 공정 (D)에 있어서의 제전 후의 상기 기재 필름(5)의 대전량의 절대값이 0.01 kV 이상 6 kV 이하인, 광학 적층체의 제조 방법.
A long optical film (1) and a polymer layer (2) composed of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound is provided, and the polymer layer (2) is formed through the optical film (1) and an adhesive or adhesive layer (3). As a method of manufacturing the laminated optical laminate 4,
A long base film (5), the polymer layer (2), and a long optical film (1) bonded on the polymer layer (2) through the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer (3), the base material The optical laminated body slit step (SB2) with a base film in which the end of the optical laminate 7 with a long base film capable of being peeled off from the polymer layer 2 is cut in the conveying direction, and the end Along with the peeling step (C) of peeling the said base film 5 from the said optical laminated body 7 with a base film after cutting out, and obtaining the said optical laminated body 4,
A base film static elimination conveyance process (D) which conveys in the longitudinal direction while static electricity elimination of the said base material film 5 after peeling in said peeling process (C) is provided,
The method for manufacturing an optical laminate, wherein the absolute value of the amount of charge of the base film 5 after the static elimination in the base film antistatic conveyance step (D) is 0.01 kV or more and 6 kV or less.
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