JP5578166B2 - Manufacturing method of laminate - Google Patents

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Description

本発明は、積層体の製造方法、より詳しくは、パターン位相差フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a laminate, and more particularly to a method for producing a pattern retardation film.

近年、三次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集め始めており、市販も始まっている。そして、今後のフラットパネルディスプレイにおいては三次元表示可能であることが、その性能として当然に求められることが予想され、三次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。   In recent years, flat panel displays capable of three-dimensional display have begun to attract attention, and are also commercially available. In addition, it is expected that the future flat panel display is capable of three-dimensional display, and it is expected that the performance is naturally required, and a flat panel display capable of three-dimensional display is being studied in a wide range of fields.

フラットパネルディスプレイにおいて三次元表示をするには、通常、視聴者に対して何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを別個に表示することが必要とされる。右目用の映像と左目用の映像とを別個に表示する方法としては、例えば、パッシブ方式というものが知られている。このようなパッシブ方式の三次元表示方式について図を参照しながら説明する。図7はパッシブ方式の三次元表示の一例を示す概略図である。図7に示すようにこの方式では、まず、フラットパネルディスプレイを構成する画素を、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の2種類の複数の画素にパターン状に分割し、一方のグループの画素では右目用の映像を表示させ、他方のグループの画素では左目用の映像を表示させる。また、直線偏光板と当該画素の分割パターンに対応したパターン状の位相差層が形成されたパターン位相差フィルムとを用い、右目用の映像と、左目用の映像とを互いに直交関係にある円偏光に変換する。さらに、視聴者には右目用レンズと左目用レンズとに互いに直交する円偏光レンズを採用した円偏光メガネを装着させ、右目用の映像が右目用レンズのみを通過し、かつ左目用の映像が左目用のレンズのみを通過するようにする。このようにして右目用の映像が右目のみに届き、左目用の映像が左目のみに届くようにすることによって三次元表示を可能とするものがパッシブ方式である。   In order to perform three-dimensional display on a flat panel display, it is usually necessary to display a right-eye image and a left-eye image separately for the viewer in some way. As a method for separately displaying the right-eye video and the left-eye video, for example, a passive method is known. Such a passive three-dimensional display method will be described with reference to the drawings. FIG. 7 is a schematic view showing an example of a passive three-dimensional display. As shown in FIG. 7, in this method, first, the pixels constituting the flat panel display are divided into a plurality of types of pixels, a right-eye video display pixel and a left-eye video display pixel, in a pattern, and one group The pixel displays a right-eye image, and the other group of pixels displays a left-eye image. Also, using a linearly polarizing plate and a patterned retardation film on which a patterned retardation layer corresponding to the division pattern of the pixel is formed, a right-eye image and a left-eye image are orthogonal to each other. Convert to polarized light. In addition, the viewer wears circular polarizing glasses that employ circular polarizing lenses that are orthogonal to each other for the right-eye lens and the left-eye lens, so that the right-eye image passes only through the right-eye lens and the left-eye image is displayed. Pass only through the lens for the left eye. In this way, the passive method enables three-dimensional display by allowing the right-eye image to reach only the right eye and the left-eye image to reach only the left eye.

このようなパッシブ方式では、上記パターン位相差フィルムと、対応する円偏光メガネとを用いることにより容易に三次元表示が可能なものにできるという利点がある。   Such a passive method has an advantage that three-dimensional display can be easily performed by using the pattern retardation film and the corresponding circular polarizing glasses.

ところで、上述したようにパッシブ方式においてはパターン位相差フィルムを用いることが必須になるところ、このようなパターン位相差フィルムについてはまだ広く研究・開発が行われておらず、標準的な技術としても確立されているものがないのが現状である。その一例として、−C(CF−又は−SO−を有する化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させることによって、光学異方性を有する重合体フィルムを形成し、この重合体フィルムを位相差板として用いることが提案されている(特許文献1参照)。 By the way, as described above, in the passive method, it is essential to use a pattern retardation film. However, such a pattern retardation film has not been widely researched and developed, and can be used as a standard technique. There is nothing that has been established. As an example, a polymer film having optical anisotropy is formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal composition containing a compound having —C (CF 3 ) 2 — or —SO 2 —, and this polymer It has been proposed to use a film as a retardation plate (see Patent Document 1).

特開2007−16213号公報JP 2007-16213 A

しかし、位相差層の研究・開発は発展途上であり、位相差層を構成する重合性液晶組成物の組成のほか、製法を含めた種々の観点から、配向方向のより厳密な制御、帯電による外観不良の改善等、種々の特性を改良することが求められている。   However, research and development of the retardation layer is in the process of development. In addition to the composition of the polymerizable liquid crystal composition constituting the retardation layer, from various viewpoints including the manufacturing method, more precise control of the orientation direction, by charging There is a need to improve various properties such as improvement of appearance defects.

本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねたところ、基材に、重合性液晶組成物からなる層を形成した後、重合性液晶組成物が塗布された塗布基材を除電してから重合性液晶組成物を乾燥させるようにすることで、配向方向をより厳密に制御できること、また、帯電による外観不良を改善できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has made extensive studies, and after forming a layer made of a polymerizable liquid crystal composition on a substrate, an application substrate on which the polymerizable liquid crystal composition is applied is formed. It has been found that the orientation direction can be controlled more strictly and the appearance defect due to electrification can be improved by drying the polymerizable liquid crystal composition after removing the charge, and the present invention has been completed. Specifically, the present invention provides the following.

(1)本発明は、基材に、重合性液晶組成物からなる層を形成する工程と、前記重合性液晶組成物を重合することによって前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程とを含む積層体の製造方法であって、前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程において、前記重合性液晶組成物を塗布した後であって乾燥前に、前記重合性液晶組成物が塗布された塗布基材を除電する工程を備える、積層体の製造方法である。   (1) The present invention includes a step of forming a layer made of a polymerizable liquid crystal composition on a substrate, and a step of curing the layer made of the polymerizable liquid crystal composition by polymerizing the polymerizable liquid crystal composition. In the step of curing a layer comprising the polymerizable liquid crystal composition, the polymerizable liquid crystal composition is applied after the polymerizable liquid crystal composition is applied and before drying. It is a manufacturing method of a laminated body provided with the process of neutralizing the apply | coated application base material.

(2)また、本発明は、前記除電が塗布面側から行われる、(1)に記載の積層体の製造方法である。   (2) Moreover, this invention is a manufacturing method of the laminated body as described in (1) by which the said static elimination is performed from the application surface side.

(3)また、本発明は、前記除電が、前記重合性液晶組成物を塗布した後であって、最初の搬送ローラを通過するまでの間に行われる、(1)又は(2)に記載の積層体の製造方法である。   (3) The present invention is also described in (1) or (2), in which the charge removal is performed after applying the polymerizable liquid crystal composition and before passing through the first transport roller. It is a manufacturing method of this laminated body.

(4)また、本発明は、前記除電が、導電性繊維を紐状又は糸状とした導電繊維線を電極支持体に直線状に張架して除電電極とし、これに交流高電圧を印加するとともに、この導電繊維線に対し、前記積層体を非接触で交差させることによって行われ、前記重合性液晶組成物からなる層の表面と前記導電繊維線との距離は20mm以下である、(1)から(3)のいずれかに記載の積層体の製造方法である。   (4) Further, according to the present invention, in the static elimination, a conductive fiber wire in which conductive fibers are string-like or thread-like is linearly stretched on an electrode support to form a static elimination electrode, and an AC high voltage is applied thereto. In addition, the conductive fiber is crossed in a non-contact manner with respect to the conductive fiber wire, and the distance between the surface of the layer made of the polymerizable liquid crystal composition and the conductive fiber wire is 20 mm or less. ) To (3).

(5)また、本発明は、前記積層体は、パターン位相差フィルムであり、前記重合性液晶組成物からなる層を形成する工程は、基材上に配向パターンを付与してパターン配向層を形成する工程の後、このパターン配向層上に重合性液晶組成物からなる位相差層形成用層を形成することによって行われ、前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程は、前記重合性液晶組成物を前記配向パターンに沿って配列させて位相差層を形成することによって行われる、(1)から(4)のいずれかに記載の積層体の製造方法である。   (5) Further, in the present invention, the laminate is a pattern retardation film, and the step of forming a layer composed of the polymerizable liquid crystal composition includes providing a pattern alignment layer by applying an alignment pattern on a substrate. After the forming step, the step of forming a retardation layer forming layer made of a polymerizable liquid crystal composition on the pattern alignment layer is performed, and the step of curing the layer made of the polymerizable liquid crystal composition is performed by the polymerization. It is a manufacturing method of the laminated body in any one of (1) to (4) performed by arranging a liquid crystalline composition along the said alignment pattern, and forming a phase difference layer.

(6)また、本発明は、前記配向パターンを形成する際に設定した配向軸と、前記位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度が2度以内である、(5)に記載の積層体の製造方法である。   (6) Further, according to the present invention, an alignment deviation angle defined by an absolute value of an angle difference between an alignment axis set when forming the alignment pattern and an alignment axis of the retardation layer is within 2 degrees. (5) is a manufacturing method of the layered product.

本発明によれば、パターン位相差フィルムに適用することで、配向方向がより厳密に制御され、また、帯電による外観不良が改善された積層体を提供できる。   According to the present invention, by applying it to a pattern retardation film, it is possible to provide a laminate in which the orientation direction is more strictly controlled and the appearance defect due to charging is improved.

本発明に係る積層体の概略図である。It is the schematic of the laminated body which concerns on this invention. 図1のパターン位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing method of the pattern phase difference film of FIG. 積層体を除電してからレベリング装置41に移動するまでの積層体の搬送状態を示す概略図である。It is the schematic which shows the conveyance state of a laminated body until it moves to the leveling apparatus 41 after static elimination of a laminated body. パターン配向層12に重合性液晶組成物を塗布したときの重合性液晶組成物の状態を示す概略図である。It is the schematic which shows the state of a polymerizable liquid crystal composition when a polymerizable liquid crystal composition is apply | coated to the pattern orientation layer. 従来技術において、基材11/パターン配向層12/位相差層形成用層13’を含む積層体を搬送した後の重合性液晶組成物の状態を示す概略図である。In prior art, it is the schematic which shows the state of the polymeric liquid crystal composition after conveying the laminated body containing the base material 11 / pattern alignment layer 12 / layer 13 for phase difference layer formation. 除電装置40を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic view showing a static eliminator 40. パッシブ方式による三次元画像表示の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the three-dimensional image display by a passive system.

以下、本発明の具体的な実施形態について、詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and may be implemented with appropriate modifications within the scope of the object of the present invention. can do.

<積層体>
図1は、本実施形態の製造方法によって得られる積層体1を示す図である。この積層体1は、パターン位相差フィルムであり、以下「パターン位相差フィルム1」ともいう。なお、以下では「パターン位相差」を「位相差」と略記するが、特に断りがない限り、「位相差」は、「パターン位相差」と同義である。位相差フィルム1は、基材11上にパターン配向層12が形成され、このパターン配向層12上に、重合性液晶組成物を含む位相差層13が形成されることによって得られる。
<Laminated body>
FIG. 1 is a view showing a laminate 1 obtained by the manufacturing method of the present embodiment. This laminate 1 is a pattern retardation film, and is hereinafter also referred to as “pattern retardation film 1”. In the following, “pattern phase difference” is abbreviated as “phase difference”, but “phase difference” is synonymous with “pattern phase difference” unless otherwise specified. The retardation film 1 is obtained by forming a pattern alignment layer 12 on a substrate 11 and forming a retardation layer 13 containing a polymerizable liquid crystal composition on the pattern alignment layer 12.

[基材11]
基材11は、透明フィルム材であり、パターン配向層12を支持する機能を有し、長尺に形成されている。
[Substrate 11]
The base material 11 is a transparent film material, has a function of supporting the pattern alignment layer 12, and is formed in a long shape.

[パターン配向層12]
パターン配向層12は、2種類の配向パターンを交互に有する。この配向パターンは、凹凸形状を有する金型を用いて当該凹凸形状を転写する賦型UV方式よって形成されてもよいし、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を用いて光照射によって配向させる光配向方式によって形成されてもよい。賦型UV方式によってパターン配向層12を形成する場合、パターン配向層12は、広く一般に用いられるエネルギー線硬化性樹脂(紫外線硬化樹脂等)を含有するものであれば、どのようなものであってもよい。一方、光配向方式によってパターン配向層12を形成する場合、パターン配向層12は、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を含有する必要がある。
[Pattern orientation layer 12]
The pattern alignment layer 12 has two types of alignment patterns alternately. This alignment pattern may be formed by a molding UV method in which a concavo-convex shape is used to transfer the concavo-convex shape, or by light irradiation using a photo-alignment material that exhibits photo-alignment properties by polarized light irradiation. You may form by the photo-alignment system to orient. In the case where the pattern alignment layer 12 is formed by the shaping UV method, the pattern alignment layer 12 may be any material as long as it contains a widely used energy ray curable resin (such as an ultraviolet curable resin). Also good. On the other hand, when forming the pattern alignment layer 12 by a photo-alignment method, the pattern alignment layer 12 needs to contain the photo-alignment material which exhibits photo-alignment property by polarized light irradiation.

[位相差層13]
図1に戻り、位相差層13は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する棒状化合物を含む。位相差層13は、上記配向パターンに沿って形成されるため、右目用の領域に対応する第1位相差領域13Aと、左目用の領域に対応する第2位相差領域13Bとを有する。
[Phase difference layer 13]
Returning to FIG. 1, the retardation layer 13 includes a rod-like compound that exhibits liquid crystallinity and has a polymerizable functional group in the molecule. Since the retardation layer 13 is formed along the alignment pattern, the retardation layer 13 includes a first retardation region 13A corresponding to the region for the right eye and a second retardation region 13B corresponding to the region for the left eye.

<位相差フィルム1の製造方法>
以下では、賦型UV方式によって形成する場合における位相差フィルム1の製造方法について説明するが、位相差フィルム1は、光配向方式によって形成されたものであってもよい。
<Method for producing retardation film 1>
Below, although the manufacturing method of the phase difference film 1 in the case of forming by a shaping UV system is demonstrated, the phase difference film 1 may be formed by the photo-alignment method.

図2は、賦型UV方式による位相差フィルム1の製造方法を示す。まず、(A)ロール31に巻き取った長尺フィルムから基材11を提供し、この基材11上にパターン配向層用組成物32を塗工する組成物塗工処理を行う。続いて、(B)この組成物を乾燥機33で乾燥させて溶剤除去する溶剤除去処理を行う。続いて、(C)転写用金型の表面に形成された微細な凹凸形状をパターン配向層形成用層12’の表面に転写する賦型処理を行う。これら(A)〜(C)の処理によってパターン配向層12が形成される。   FIG. 2 shows a method for producing the retardation film 1 by the shaped UV method. First, (A) The base material 11 is provided from the long film wound up by the roll 31, and the composition coating process which coats the composition 32 for pattern orientation layers on this base material 11 is performed. Subsequently, (B) a solvent removal treatment is performed in which the composition is dried with a dryer 33 to remove the solvent. Subsequently, (C) a molding process is performed to transfer the fine uneven shape formed on the surface of the transfer mold to the surface of the pattern alignment layer forming layer 12 '. The pattern alignment layer 12 is formed by the processes (A) to (C).

続いて、(D)位相差層形成用の重合性液晶組成物を含有する位相差層形成用塗工液の供給装置39から位相差層形成用塗工液を塗工し、位相差層形成用層を形成する位相差層形成用塗工液塗工処理を行う。その後、(E)除電装置40を用いて、基材11を除電する除電処理を行う。その後、(F)レベリング装置41を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。その後、(G)乾燥機42を用いて位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することで、上記パターン配向層12が有する、右目用の領域に対応する第1配向領域12Aと、左目用の領域に対応する第2配向領域12Bとの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる配向処理を行う。この配向処理によって位相差層形成用層は、位相差層13となる。その後、(H)冷却機43を用いて、基材11/パターン配向層12/位相差層13からなる積層体を冷却する冷却処理を行い、(I)紫外線照射装置44を用いて、重合性棒状化合物を重合し硬化させる硬化処理を行う。そして、(J)フィルムを巻き取りリール45に巻き取った後、所望の大きさに切り出す切断処理を行う。上記の工程を経て位相差フィルム1が作製される。   Subsequently, (D) a retardation layer forming coating solution is applied from a retardation layer forming coating solution supply device 39 containing a polymerizable liquid crystal composition for forming a retardation layer to form a retardation layer. A coating solution for forming a retardation layer for forming a coating layer is applied. Thereafter, (E) using the static eliminator 40, a static elimination process for neutralizing the substrate 11 is performed. Thereafter, (F) a leveling process is performed by using the leveling device 41 to make the thickness of the retardation layer forming layer uniform. Then, the pattern alignment layer 12 has the above-mentioned pattern alignment layer 12 by heating the rod-shaped compound contained in the coating film of the retardation layer forming coating solution to a temperature higher than the liquid crystal phase formation temperature by using the dryer 42 (G). An alignment process is performed in which rod-shaped compounds are arranged along different alignment directions of the first alignment region 12A corresponding to the region of the second region and the second alignment region 12B corresponding to the region for the left eye. By this alignment treatment, the retardation layer forming layer becomes the retardation layer 13. Thereafter, (H) the cooling machine 43 is used to perform a cooling process for cooling the laminate composed of the substrate 11 / pattern alignment layer 12 / retardation layer 13, and (I) the ultraviolet irradiation device 44 is used for polymerization. A curing process for polymerizing and curing the rod-shaped compound is performed. Then, after the film (J) is taken up on the take-up reel 45, a cutting process of cutting out to a desired size is performed. The retardation film 1 is produced through the above steps.

[(A)組成物塗工処理]
まず、ロール31に巻き取った長尺フィルムから基材11を提供し、この基材11上にパターン配向層用組成物32を塗工する組成物塗工処理を行う。
[(A) Composition coating treatment]
First, the base material 11 is provided from the long film wound up by the roll 31, and the composition coating process which coats the composition 32 for pattern orientation layers on this base material 11 is performed.

〔基材11〕
基材11は、透明フィルム材であり、パターン配向層12を支持する機能を有し、長尺に形成されている。
[Base material 11]
The base material 11 is a transparent film material, has a function of supporting the pattern alignment layer 12, and is formed in a long shape.

基材11は、位相差が小さいことが好ましく、面内位相差(面内レターデーション値、以下「Re値」ともいう。)が、0nm〜10nmの範囲内であることが好ましく、0nm〜5nmの範囲内であることがより好ましく、0nm〜3nmの範囲内であることがさらに好ましい。Re値が10nmを超えると、パターン配向膜を用いたフラットパネルディスプレイの表示品質が悪くなる可能性がある点で好ましくない。   The substrate 11 preferably has a small retardation, and an in-plane retardation (in-plane retardation value, hereinafter also referred to as “Re value”) is preferably in the range of 0 nm to 10 nm, and 0 nm to 5 nm. More preferably, it is in the range of 0 nm to 3 nm. If the Re value exceeds 10 nm, the display quality of the flat panel display using the pattern alignment film may be deteriorated, which is not preferable.

ここで、Re値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標をいい、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をNx、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をNy、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚さをdとした場合に、
Re[nm]=(Nx−Ny)×d[nm]
で表わされる値である。Re値は、例えば、位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用い、平行ニコル回転法により測定することができる。また、本明細書においては、特に別段の記載をしない限り、Re値は波長589nmにおける値を意味するものとする。
Here, the Re value is an index indicating the degree of birefringence in the in-plane direction of the refractive index anisotropic body. When the refractive index in the fast axis direction orthogonal to the axial direction is Ny, and the thickness in the direction perpendicular to the in-plane direction of the refractive index anisotropic body is d,
Re [nm] = (Nx−Ny) × d [nm]
It is a value represented by. The Re value can be measured by, for example, a parallel Nicol rotation method using a phase difference measuring device KOBRA-WR (manufactured by Oji Scientific Instruments). Further, in this specification, unless otherwise specified, the Re value means a value at a wavelength of 589 nm.

基材11の可視光領域における透過率は、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。ここで、透明フィルム基材の透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。   The transmittance of the substrate 11 in the visible light region is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. Here, the transmittance | permeability of a transparent film base material can be measured by JISK7361-1 (the test method of the total light transmittance of a plastic-transparent material).

基材11は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル材であることが好ましい。このようなフレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類等を例示することができる。中でも、光学的等方性に優れ、光学的特性に優れたパターン配向膜を製造できる点でセルロース誘導体を用いることが好ましい。   The substrate 11 is preferably a flexible material having flexibility that can be wound into a roll. Such flexible materials include cellulose derivatives, norbornene polymers, cycloolefin polymers, polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyimide, polyarylate, polyethylene terephthalate, polysulfone, polyethersulfone, amorphous polyolefin, modified acrylic polymer, polystyrene. And epoxy resins, polycarbonates, polyesters, and the like. Especially, it is preferable to use a cellulose derivative at the point which is excellent in optical isotropy and can manufacture the pattern orientation film excellent in the optical characteristic.

上記セルロース誘導体の中でも、工業的に広く用いられ、入手が容易である点で、セルロースエステルを用いることが好ましく、セルロースアシレート類を用いることがより好ましい。   Among the cellulose derivatives, cellulose esters are preferably used and cellulose acylates are more preferably used because they are widely used industrially and are easily available.

上記セルロースアシレート類としては、炭素数2〜4の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。   As said cellulose acylates, C2-C4 lower fatty acid ester is preferable. The lower fatty acid ester may include only a single lower fatty acid ester such as cellulose acetate, and may include a plurality of fatty acid esters such as cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate. There may be.

低級脂肪酸エステルの中でも、セルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が57.5%〜62.5%(置換度:2.6〜3.0)のTACを用いることが最も好ましい。ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験方法)におけるアセチル化度の測定及び計算により求めることができる。なお、TACの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。   Among the lower fatty acid esters, cellulose acetate can be particularly preferably used. As the cellulose acetate, it is most preferable to use TAC having an average degree of acetylation of 57.5% to 62.5% (substitution degree: 2.6 to 3.0). Here, the degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose. The degree of acetylation can be determined by measurement and calculation of the degree of acetylation in ASTM: D-817-91 (test method for cellulose acetate and the like). In addition, the acetylation degree of TAC can be calculated | required by said method, after removing impurities, such as a plasticizer contained in a film.

基材11の厚さは、パターン配向膜を用いて製造される位相差フィルムの用途等に応じて、当該位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、25μm〜125μmの範囲内であることが好ましく、40μm〜100μmの範囲内であることがより好ましく、60μm〜80μmの範囲内であることがさらに好ましい。25μm未満であると、位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があり、好ましくない。125μmを超えると、位相差フィルムが長尺状である場合、長尺状の位相差フィルムを裁断加工し、枚葉の位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があり、好ましくない。   The thickness of the base material 11 is not particularly limited as long as it is within a range in which the necessary self-supporting property can be imparted to the retardation film, depending on the use of the retardation film produced using the pattern alignment film. Usually, it is preferably within the range of 25 μm to 125 μm, more preferably within the range of 40 μm to 100 μm, and even more preferably within the range of 60 μm to 80 μm. If it is less than 25 μm, the necessary self-supporting property may not be imparted to the retardation film, which is not preferable. When the retardation film is longer than 125 μm, when the retardation film is long, when the long retardation film is cut into a single-phase retardation film, the processing waste increases or the cutting blade is worn. May become faster, which is not preferable.

基材11は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。   The base material 11 is not restricted to the structure which consists of a single layer, You may have the structure by which the several layer was laminated | stacked. When it has the structure by which the several layer was laminated | stacked, the layer of the same composition may be laminated | stacked, and the several layer which has a different composition may be laminated | stacked.

〔基材11の提供〕
基材11の提供にあたっては、長尺フィルムを連続的に搬送できるものであれば、特に限定されるものではなく、一般的な搬送手段を用いる方法を用いることができる。具体的には、ロール状の長尺フィルムを供給する巻き出し機及び長尺フィルムを巻き取る巻き取り機等を用いる方法、ベルトコンベア、搬送用ロール等を用いる方法を挙げることができる。また、エアの吐出と吸引とを行うことにより、長尺配向膜形成用フィルムを浮上させた状態で搬送する浮上式搬送台を用いる方法であっても良い。
[Provision of Substrate 11]
In providing the base material 11, if a long film can be continuously conveyed, it will not specifically limit, The method using a general conveyance means can be used. Specific examples include a method using an unwinder that feeds a roll-shaped long film, a winder that winds the long film, and a method that uses a belt conveyor, a transport roll, and the like. Moreover, the method of using the floating-type conveyance stand which conveys in the state which floated the film for elongate alignment film formation by discharging and sucking | sucking air may be used.

また、搬送時の長尺フィルムへのテンション付与の有無については、長尺フィルムを安定的に連続搬送できる方法であれば特に限定されるものではないが、所定のテンションを加えた状態で搬送されることが好ましい。より安定的に連続搬送することができるからである。   In addition, the presence or absence of tension applied to the long film at the time of conveyance is not particularly limited as long as it is a method capable of stably and continuously conveying the long film, but the film is conveyed with a predetermined tension applied. It is preferable. This is because continuous conveyance can be performed more stably.

搬送手段の色としては、長尺フィルムに紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺フィルムを透過した紫外線を反射しない色であることが好ましい。具体的には、黒色であることが好ましい。このような黒色とする方法としては、例えば、表面をクロム処理する方法を挙げることができる。   The color of the conveying means is preferably a color that does not reflect the ultraviolet light that has passed through the long film when it is disposed at a site where the long film is irradiated with ultraviolet light. Specifically, black is preferable. Examples of such a black method include a method of chromium treatment of the surface.

ロール31の形状としては、安定的に長尺フィルムを搬送することができるものであれば特に限定されるものではないが、長尺フィルムに紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺フィルムの表面と、紫外線照射装置との距離を一定に保つことができるものであることが好ましく、通常、真円形状であることが好ましい。   The shape of the roll 31 is not particularly limited as long as it can stably convey a long film, but when it is arranged at a site where the long film is irradiated with ultraviolet rays, It is preferable that the distance between the surface of the long film and the ultraviolet irradiation device can be kept constant, and it is usually preferable to have a perfect circle shape.

〔パターン配向層用組成物32〕
賦型UV方式によってパターン配向層12を形成する場合、パターン配向層12は、広く一般に用いられるエネルギー線硬化性樹脂(紫外線硬化樹脂等)であれば、どのようなものであってもよく、例えば、紫外線硬化型のポリオール(メタ)アクリレート類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類が挙げられる。
[Composition 32 for pattern alignment layer]
When the pattern alignment layer 12 is formed by the shaping UV method, the pattern alignment layer 12 may be any energy ray curable resin (such as an ultraviolet curable resin) that is widely used in general, for example, UV curable polyol (meth) acrylates, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates.

多官能モノマーとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−ジ(メタ)アクリロイルオキシプロピオネート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、2,3−ビス(メタ)アクリロイルオキシルエチルオキシメチル「2,2,1」ヘプタン、ポリ1,2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、1,2−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、3,8−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルトリシクロ「5,2,10」デカン、水素添加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、1,4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテル(メタ)アクリレート、エポキシ変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the polyfunctional monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexadiol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, Ethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β-di (meth) acryloyloxypropionate , Trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri (2-hydroxyethyl) isocyanate di (meth) Acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxylethyloxymethyl "2,2,1" heptane, poly 1,2-butadiene di (meth) acrylate, 1,2-bis ( (Meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecane ethylene glycol di (meth) acrylate, 10-decandiol di (meth) acrylate, 3,8-bis (meth) acryloyloxymethyltricyclo "5" , 2,10 "decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 1,4-bis ((meth) acryloyloxymethyl) cyclohexane , Hydroxypivalin Acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether (meth) acrylate, epoxy-modified bisphenol A di (meth) acrylate, and the like are exemplified, but not limited thereto.

また、必要に応じて上記多官能モノマーに単官能モノマーを併用して共重合させても良い。単官能モノマーとしては、例えば、N−ビニルピロリドン、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類、エチル(メタ)メタクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ノニルフェニル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル等、テトラフルフリル(メタ)アクリレート。及びそのカプロラクトン変性物などの誘導体、スチレン、α−メチルスチレン、(メタ)アクリル酸等及びそれらの混合物が挙げられる。   Further, if necessary, a monofunctional monomer may be used in combination with the polyfunctional monomer for copolymerization. Examples of the monofunctional monomer include (meth) acrylic acid esters such as N-vinylpyrrolidone, ethyl (meth) acrylate, and propyl (meth) acrylate, ethyl (meth) methacrylate, propyl (meth) acrylate, and isopropyl (meth). (Meth) acrylic acid esters such as acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, nonylphenyl (meth) acrylate, etc. , Tetrafurfuryl (meth) acrylate. And derivatives thereof such as caprolactone-modified products thereof, styrene, α-methylstyrene, (meth) acrylic acid, and the like, and mixtures thereof.

〔パターン配向層用組成物32の塗工〕
パターン配向層用組成物32を塗工するにあたり、本実施形態では、グラビアコートの手法を適用してパターン配向層用組成物32を塗工しているが、これに限るものではない。具体的には、グラビアコート法のほか、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、E型塗布方法等を用いることができる。
[Coating of Composition 32 for Pattern Orientation Layer]
In applying the pattern alignment layer composition 32, in the present embodiment, the gravure coating method is applied to apply the pattern alignment layer composition 32. However, the present invention is not limited to this. Specifically, in addition to the gravure coating method, reverse coating method, knife coating method, dip coating method, spray coating method, air knife coating method, spin coating method, roll coating method, printing method, dip pulling method, curtain coating method A die coating method, a casting method, a bar coating method, an extrusion coating method, an E-type coating method, or the like can be used.

パターン配向層形成用層12’の厚さは、所望の平面性を達成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、0.5μm〜10μmの範囲内であることが好ましく、1μm〜5μmの範囲内であることがより好ましく、1.5μm〜3μmの範囲内であることがさらに好ましい。   The thickness of the pattern alignment layer forming layer 12 ′ is not particularly limited as long as the desired planarity can be achieved, but is preferably in the range of 0.5 μm to 10 μm, and preferably 1 μm to More preferably, it is in the range of 5 μm, and further preferably in the range of 1.5 μm to 3 μm.

[(B)溶剤除去処理]
溶剤除去処理では、乾燥機33を用いてパターン配向層用組成物32を乾燥させて溶剤除去する。この処理では、図示しない反転ローラにより基材11の上下を逆転させた後、乾燥機33に導き、ここでパターン配向層用組成物32を溶剤除去した後、半乾きの状態で次の工程に送出する。
[(B) Solvent removal treatment]
In the solvent removal treatment, the pattern alignment layer composition 32 is dried using a dryer 33 to remove the solvent. In this process, the substrate 11 is turned upside down by a reversing roller (not shown), and then guided to a dryer 33, where the solvent for removing the pattern alignment layer composition 32 is removed, and the next step is performed in a semi-dry state. Send it out.

乾燥温度は、60℃以上150℃以下であることが好ましい。60℃未満であると溶剤除去できず、耐久性悪化の原因になる点で好ましくない。150℃を超えると、基材11や薄膜が収縮する可能性があるため、好ましくない。   The drying temperature is preferably 60 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. When the temperature is lower than 60 ° C., the solvent cannot be removed, which is not preferable in terms of causing deterioration in durability. If it exceeds 150 ° C., the substrate 11 and the thin film may shrink, which is not preferable.

乾燥時間は、0.5分以上10分未満であることが好ましい。0.5分未満であると、溶剤除去できず、耐久性悪化の原因になる点で好ましくない。10分を超えると、ハジキや欠点が発生する可能性や、基材11や薄膜が収縮する可能性があるため、好ましくない。   The drying time is preferably 0.5 minutes or more and less than 10 minutes. If it is less than 0.5 minutes, the solvent cannot be removed, which is not preferable in terms of causing deterioration in durability. Exceeding 10 minutes is not preferable because repelling or defects may occur and the base material 11 or the thin film may shrink.

[(C)賦型処理]
続いて、転写用金型の表面に形成された微細な凹凸形状をパターン配向層形成用層12’の表面に転写する賦型処理を行う。賦型処理において、円筒形状によるロール版34が転写用金型であり、このロール版34の表面に転写に供する微細な凹凸形状が形成されている。ここでこの転写用金型の微細な凹凸形状は、ラビング等の手法により原盤の表面にスジ状の模様を密に作製して形成され、このスジの延長方向が、右目用及び左目用の領域A及びBで、90度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向に対して45度傾くように形成される。なおこの各領域の延長方向に対する傾きにあっては、基材2のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。賦型処理では、押圧ローラ35を用いてパターン配向層形成用層12’をロール版20に押圧し、この状態で紫外線照射装置36から紫外線を基材11側から照射し、パターン配向層用組成物32を硬化させる。また剥離ローラ37によりロール版20から基材11を剥離した後、紫外線照射装置38から紫外線をパターン配向層形成用層12’側より照射し、未硬化のパターン配向層用組成物32を硬化させる。
[(C) Molding process]
Subsequently, a molding process is performed to transfer the fine irregularities formed on the surface of the transfer mold to the surface of the pattern alignment layer forming layer 12 ′. In the forming process, a roll plate 34 having a cylindrical shape is a transfer mold, and a fine concavo-convex shape to be used for transfer is formed on the surface of the roll plate 34. Here, the fine concavo-convex shape of the transfer mold is formed by densely forming a streaky pattern on the surface of the master by a method such as rubbing, and the extension direction of the streaks is a region for the right eye and the left eye. A and B are formed so as to be different from each other by 90 degrees and inclined by 45 degrees with respect to the extending direction of each region. In addition, in the inclination with respect to the extension direction of each area | region, when the retardation of the base material 2 is so large that it cannot disregard, it is increased / decreased suitably according to the retardation value. In the forming process, the pattern alignment layer forming layer 12 ′ is pressed against the roll plate 20 using the pressing roller 35, and in this state, ultraviolet rays are irradiated from the substrate 11 side from the ultraviolet irradiation device 36, and the pattern alignment layer composition is formed. The object 32 is cured. Moreover, after peeling the base material 11 from the roll plate 20 with the peeling roller 37, ultraviolet rays are irradiated from the pattern alignment layer forming layer 12 ′ side from the ultraviolet irradiation device 38 to cure the uncured pattern alignment layer composition 32. .

紫外線の波長は、パターン配向層用組成物32の組成等に応じて適宜設定されるものであり、具体的には、波長が210nm〜380nm、好ましくは230nm〜380nm、さらに好ましくは250nm〜380nmの照射光を用いることが好ましい。   The wavelength of the ultraviolet light is appropriately set according to the composition of the pattern alignment layer composition 32 and the like. Specifically, the wavelength is 210 nm to 380 nm, preferably 230 nm to 380 nm, more preferably 250 nm to 380 nm. It is preferable to use irradiation light.

紫外線の光源としては、低圧水銀ランプ(殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト)、高圧放電ランプ(高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ)、ショートアーク放電ランプ(超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ)等が例示できる。中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等を好ましく用いることができる。   Low-pressure mercury lamps (sterilization lamps, fluorescent chemical lamps, black lights), high-pressure discharge lamps (high-pressure mercury lamps, metal halide lamps), short arc discharge lamps (super-high pressure mercury lamps, xenon lamps, mercury xenon lamps) Etc. can be illustrated. Of these, a metal halide lamp, a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, and the like can be preferably used.

紫外線の照射量は、パターン配向層用組成物32を硬化できる量であれば特に限定されるものではないが、例えば、波長310nmである場合には、5mJ/cm〜500mJ/cmの範囲内であることが好ましく、7mJ/cm〜300mJ/cmの範囲内であることがより好ましく、10mJ/cm〜100mJ/cmの範囲内であることがさらに好ましい。 The irradiation amount of ultraviolet rays is not particularly limited as long as the composition 32 for pattern alignment layer can be cured. For example, when the wavelength is 310 nm, the range is 5 mJ / cm 2 to 500 mJ / cm 2 . preferably the inner is, more preferably in the range of 7mJ / cm 2 ~300mJ / cm 2 , and still more preferably in the range of 10mJ / cm 2 ~100mJ / cm 2 .

紫外線の照射距離、すなわち、紫外線の照射を受ける長尺フィルムの搬送方向の距離としては、各露光処理で上述の照射量とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、ライン速度等に応じて適宜設定することができる。照射距離が短い場合には、パターン精度の高いものとすることが容易となり、照射距離が長い場合には、ライン速度の速い場合でも十分に硬化できるといった利点がある。なお、照射距離を長くする方法としては、各露光処理での紫外線の照射回数を複数回としたり、搬送方向に照射面積を広くする方法を挙げることができる。   The irradiation distance of the ultraviolet rays, that is, the distance in the transport direction of the long film that is irradiated with the ultraviolet rays is not particularly limited as long as it can be the above-mentioned irradiation amount in each exposure process, and the line speed It can set suitably according to etc. When the irradiation distance is short, it becomes easy to achieve high pattern accuracy, and when the irradiation distance is long, there is an advantage that it can be sufficiently cured even when the line speed is high. In addition, as a method of increasing the irradiation distance, a method of increasing the number of irradiation times of ultraviolet rays in each exposure process or increasing the irradiation area in the transport direction can be exemplified.

薄膜に対して紫外線を照射する際、薄膜の温度が一定となるように温度調節することが好ましい。配向領域を精度良く形成することができるからである。薄膜の温度は、15℃〜90℃であることが好ましく、15℃〜60℃であることがより好ましい。温度調節の方法としては、一般的な加熱・冷却装置等の温度調節装置を用いる方法を挙げることができる。具体的には所定の温度の空気を送風することができる送風装置を用いる方法や、上記搬送手段として、温度調節可能なものを用いる方法、より具体的には、温度調節可能な搬送用ロールやベルトコンベア等を用いる方法を挙げることができる。   When irradiating the thin film with ultraviolet rays, it is preferable to adjust the temperature so that the temperature of the thin film becomes constant. This is because the alignment region can be formed with high accuracy. The temperature of the thin film is preferably 15 ° C to 90 ° C, and more preferably 15 ° C to 60 ° C. Examples of the temperature control method include a method using a temperature control device such as a general heating / cooling device. Specifically, a method using a blower capable of blowing air at a predetermined temperature, a method using a temperature-adjustable as the conveying means, more specifically, a temperature-adjustable conveying roll, The method using a belt conveyor etc. can be mentioned.

パターン配向層12の厚さは、所望のパターンを形成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、100nm〜1000nmの範囲内であることが好ましい。100nm未満であると、所望のパターンを形成できない可能性があるため、好ましくない。1000nmを超えると、密着力が低減する可能性があるため、好ましくない。   Although the thickness of the pattern orientation layer 12 will not be specifically limited if it is in the range which can form a desired pattern, It is preferable to exist in the range of 100 nm-1000 nm. If it is less than 100 nm, a desired pattern may not be formed. If it exceeds 1000 nm, the adhesion may be reduced, which is not preferable.

[(D)位相差層形成用塗工液塗工処理]
図2に戻り、位相差層形成用塗工液塗工処理について説明する。本実施形態では、位相差層形成用塗工液の供給装置39から位相差層形成用塗工液を塗工している。具体的な塗工の方法としては、パターン配向層12上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、(A)組成物塗工処理で説明したものと同じものを例示できる。
[(D) Retardation layer forming coating liquid coating treatment]
Returning to FIG. 2, the coating liquid coating process for forming the retardation layer will be described. In the present embodiment, the retardation layer forming coating solution is applied from the retardation layer forming coating solution supply device 39. A specific coating method is not particularly limited as long as it is a method capable of stably forming a coating film made of a retardation layer forming coating solution on the pattern alignment layer 12. The same thing as what was demonstrated by the material coating process can be illustrated.

〔位相差層形成用塗工液〕
位相差層形成用塗工液は、1種又は2種以上の重合性液晶化合物を含有する。以下、このことについて詳しく説明する。
[Phase difference layer forming coating solution]
The retardation layer forming coating solution contains one or more polymerizable liquid crystal compounds. This will be described in detail below.

(重合性液晶化合物)
重合性液晶化合物は、屈折率異方性を有し、賦型処理によって発現される配向パターンに沿って規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。重合性液晶化合物として、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す液晶化合物を用いることがより好ましい。
(Polymerizable liquid crystal compound)
The polymerizable liquid crystal compound has a refractive index anisotropy, and has a function of imparting a desired retardation by arranging regularly along an alignment pattern expressed by a shaping treatment. Examples of the polymerizable liquid crystal compound include materials exhibiting a liquid crystal phase such as a nematic phase and a smectic phase, but nematic is preferable in that it can be regularly arranged as compared with liquid crystal compounds exhibiting other liquid crystal phases. It is more preferable to use a liquid crystal compound exhibiting a phase.

上記ネマチック相を示す液晶化合物として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶化合物は柔軟性に優れるため、このような液晶化合物を用いることにより、パターン位相差フィルムを透明性に優れたものにすることができる。   As the liquid crystal compound exhibiting the nematic phase, a material having spacers at both ends of the mesogen is preferably used. Since the liquid crystal compound having spacers at both ends of the mesogen is excellent in flexibility, the use of such a liquid crystal compound can make the pattern retardation film excellent in transparency.

液晶化合物は、分子内に重合性官能基を有する。重合性官能基を有することにより、液晶化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくくなる。また、液晶化合物は、分子内に三次元架橋可能な重合性官能基を有することがより好ましい。三次元架橋可能な重合性官能基を有することにより、配列安定性をいっそう高めることができる。なお、「三次元架橋」とは、液晶性分子を互いに三次元に重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることをいう。   The liquid crystal compound has a polymerizable functional group in the molecule. By having a polymerizable functional group, it is possible to polymerize and fix the liquid crystal compound, so that the alignment stability is excellent and the phase change is less likely to occur over time. The liquid crystal compound more preferably has a polymerizable functional group capable of three-dimensional crosslinking in the molecule. By having a polymerizable functional group that can be cross-linked three-dimensionally, the sequence stability can be further enhanced. Note that “three-dimensional crosslinking” means that liquid crystal molecules are polymerized three-dimensionally to form a network structure.

上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、あるいはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも1つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基(アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称)等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和3重結合等が挙げられる。中でも、プロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。   Examples of the polymerizable functional group include polymerizable functional groups that are polymerized by the action of ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams, or heat. Representative examples of these polymerizable functional groups include radically polymerizable functional groups or cationic polymerizable functional groups. Further, representative examples of the radical polymerizable functional group include a functional group having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond, and specific examples include a vinyl group having or not having a substituent, An acrylate group (generic name including an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group) and the like can be given. Moreover, an epoxy group etc. are mentioned as a specific example of the said cation polymerizable functional group. In addition, examples of the polymerizable functional group include an isocyanate group and an unsaturated triple bond. Among these, from the viewpoint of the process, a functional group having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used.

さらにまた、液晶化合物は、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような液晶化合物を用いることにより、例えば、互いに三次元に重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記を形成できるからである。なお、本発明においては片末端に重合性官能基を有する液晶化合物を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。   Furthermore, it is particularly preferable that the liquid crystal compound has the polymerizable functional group at the terminal. By using such a liquid crystal compound, for example, they can be polymerized three-dimensionally to form a network structure, so that they have column stability and excellent optical properties. This is because the above can be formed. In the present invention, even when a liquid crystal compound having a polymerizable functional group at one end is used, the alignment can be stabilized by crosslinking with other molecules.

本発明に用いられる液晶化合物の具体例としては、下記式(1)〜(16)で表される化合物を例示できる。   Specific examples of the liquid crystal compound used in the present invention include compounds represented by the following formulas (1) to (16).

Figure 0005578166
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なお、重合性液晶化合物は、酸素原子以外の孤立電子対を有する原子を有さない孤立電子対非含有化合物のみで構成されていると、より好ましい。このようにすることで、所望の位相差性を発揮すること、また、帯電による外観不良を抑えることに寄与できる。また、孤立電子対非含有化合物は、分子中に電子吸引性基を有さないことが好ましい。具体的に、孤立電子対非含有化合物は、分子中にシアノ基又はハロゲン基を有さないことが好ましく、分子末端にシアノ基又はハロゲン基を有さないことが好ましく、フェニル基のパラ位をシアノ基又はハロゲン基で置換したp−置換フェニル基を分子末端に有さないことが好ましい。   In addition, it is more preferable that the polymerizable liquid crystal compound is composed of only a lone electron pair-free compound that does not have an atom having a lone electron pair other than an oxygen atom. By doing in this way, it can contribute to exhibiting desired phase difference, and suppressing the appearance defect by charge. Moreover, it is preferable that a lone electron pair non-containing compound does not have an electron withdrawing group in a molecule | numerator. Specifically, the lone pair-free compound preferably does not have a cyano group or a halogen group in the molecule, preferably does not have a cyano group or a halogen group at the molecular end, and has a phenyl group in the para position. It is preferred not to have a p-substituted phenyl group substituted with a cyano group or a halogen group at the molecular end.

重合性液晶化合物の量は、パターン配向層12上に塗布する塗布方法に応じて、位相差層形成用塗工液の粘度を所望の値にできるものであれば特に限定されないが、上記塗工液中、5質量部〜40質量部の範囲内であることが好ましく、10質量部〜30質量部の範囲内であることがより好ましい。5質量部未満であると、重合性液晶化合物が少なすぎるために、位相差層13への入射光を適切に配向できない可能性があるため、好ましくない。30質量部を超えると、位相差層形成用塗工液の粘度が高くなりすぎるため、作業性が劣るため、好ましくない。   The amount of the polymerizable liquid crystal compound is not particularly limited as long as the viscosity of the coating liquid for forming the retardation layer can be set to a desired value depending on the coating method applied on the pattern alignment layer 12, but the above coating is not limited. In the liquid, it is preferably in the range of 5 to 40 parts by mass, and more preferably in the range of 10 to 30 parts by mass. If the amount is less than 5 parts by mass, the amount of the polymerizable liquid crystal compound is too small, and therefore, there is a possibility that the incident light to the retardation layer 13 may not be properly aligned. If the amount exceeds 30 parts by mass, the viscosity of the retardation layer forming coating solution becomes too high, and the workability is inferior.

重合性液晶化合物は、1種類のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。例えば、重合性液晶化合物として、両末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶化合物と、片末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶化合物とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度(架橋密度)及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。また、信頼性確保の観点からは、両末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶化合物が好ましいが、液晶配向の観点からは両末端の重合性官能基が1つであることが好ましい。   As the polymerizable liquid crystal compound, only one kind may be used, or two or more kinds may be mixed and used. For example, as a polymerizable liquid crystal compound, a mixture of a liquid crystal compound having one or more polymerizable functional groups at both ends and a liquid crystal compound having one or more polymerizable functional groups at one end is used. It is preferable because the polymerization density (crosslinking density) and the optical characteristics can be arbitrarily adjusted by adjusting. Further, from the viewpoint of ensuring reliability, a liquid crystal compound having one or more polymerizable functional groups at both ends is preferable, but from the viewpoint of liquid crystal alignment, it is preferable that one polymerizable functional group at both ends is provided.

(溶媒)
上記した重合性液晶化合物は、通常溶媒に溶かされている。溶媒は、重合性液晶化合物を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン(以下「CHN」という。)等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル(PGME)等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール(以下「IPA」という。)等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、1種類であってもよいし、2種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
(solvent)
The above polymerizable liquid crystal compound is usually dissolved in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as the polymerizable liquid crystal compound can be uniformly dispersed. For example, hydrocarbon solvents such as benzene and hexane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone (hereinafter referred to as “CHN”). ) And other ketone solvents, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, ether solvents such as propylene glycol monoethyl ether (PGME), halogenated alkyl solvents such as chloroform and dichloromethane, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, Ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, anone solvents such as cyclohexane, methanol, ethanol, isopropyl It can be exemplified an alcohol solvent such as alcohol (hereinafter referred to as "IPA".), But is not limited thereto. Moreover, one type of solvent may be sufficient and the mixed solvent of two or more types of solvents may be sufficient.

溶媒の量は、重合性液晶化合物100質量部に対して66質量部以上900質量部以下であることが好ましい。66質量部未満であると、重合性液晶化合物を均一に塗工溶かすことができない可能性がある点で好ましくない。900質量部を超えると、溶媒の一部が残存し、信頼性が低下する可能性、及び均一に塗工できない可能性がある点で好ましくない。   The amount of the solvent is preferably 66 parts by mass or more and 900 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. If it is less than 66 parts by mass, the polymerizable liquid crystal compound may not be uniformly coated and dissolved, which is not preferable. If it exceeds 900 parts by mass, a part of the solvent remains, which is not preferable in that reliability may be lowered and coating may not be performed uniformly.

(他の化合物)
重合性液晶組成物は、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。他の化合物は、上記した重合性液晶化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではなく、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤及びシランカップリング剤等を挙げることができる。
(Other compounds)
The polymerizable liquid crystal composition may contain other compounds as necessary. The other compound is not particularly limited as long as it does not impair the arrangement order of the polymerizable liquid crystal compound described above, and examples thereof include a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a surfactant, and a silane coupling agent. Can be mentioned.

(重合開始剤)
重合開始剤として、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンジルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n−フェニルチオアクリドン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製N1717、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本実施形態では、これらの光重合開始剤を1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Polymerization initiator)
Examples of the polymerization initiator include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamine) benzophenone, α-amino acetophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p-tert- Butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, benzylmethoxyethyl acetal, benzoin Ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzsuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzylacetophenone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) ) Cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadion-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2- ( o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) oxime, Hiller ketone, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, naphthalenesulfonyl chloride , Quinolinesulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, N1717 manufactured by Adeka, carbon tetrabromide, tribromophenyl Examples include a combination of a photoreductive dye such as sulfone, benzoin peroxide, eosin, and methylene blue with a reducing agent such as ascorbic acid or triethanolamine. In this embodiment, these photoinitiators can be used 1 type or in combination of 2 or more types.

光重合開始剤は、液晶の配向を大きく損なわない範囲で添加することが必要であり、重合性液晶組成物100質量部に対し、0.01〜15質量部であることが好ましく、0.1〜12質量部であることがより好ましく、0.1〜10質量部であることがさらに好ましく、0.5〜10質量部であることがよりさらに好ましい。   The photopolymerization initiator needs to be added within a range that does not significantly impair the alignment of the liquid crystal, and is preferably 0.01 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal composition. It is more preferably ˜12 parts by mass, further preferably 0.1 to 10 parts by mass, and further preferably 0.5 to 10 parts by mass.

また、重合開始剤のほか、重合開始助剤を併用してもよい。重合開始助剤として、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の3級アミン類や、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。   In addition to the polymerization initiator, a polymerization initiation assistant may be used in combination. Examples of polymerization initiation aids include tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine, and benzoic acid derivatives such as 2-dimethylaminoethylbenzoic acid and ethyl 4-dimethylamidebenzoate. It is not limited.

(重合禁止剤)
重合禁止剤は、重合性液晶組成物の保存安定性を高めるために用いられる。重合禁止剤として、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−p−ニトロフェニルメチル,p−ベンゾキノン、p−tert−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、tert−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、保存安定性の点から、ハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。
(Polymerization inhibitor)
The polymerization inhibitor is used to increase the storage stability of the polymerizable liquid crystal composition. As a polymerization inhibitor, for example, reaction of diphenylpicrylhydrazide, tri-p-nitrophenylmethyl, p-benzoquinone, p-tert-butylcatechol, picric acid, copper chloride, methylhydroquinone, methoquinone, tert-butylhydroquinone, etc. Although a polymerization inhibitor can be used, a hydroquinone polymerization inhibitor is preferable from the viewpoint of storage stability, and methylhydroquinone is particularly preferable.

(界面活性剤)
界面活性剤は、重合性液晶組成物の動的表面張力を調整し、位相差層の横スジムラを抑制するために用いられる。
(Surfactant)
The surfactant is used to adjust the dynamic surface tension of the polymerizable liquid crystal composition and suppress lateral stripe unevenness in the retardation layer.

界面活性剤の例として、フッ素系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基あるいはフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましく、その具体例としては、1,1,2,2−テトラフロロオクチル(1,1,2,2−テトラフルオロ−n−プロピル)エーテル、1,1,2,2−テトラフルオロ−n−オクチル(n−ヘキシル)エーテル、オクタエチレングリコールジ(1,1,2,2−テトラフルオロ−n−ブチル)エーテル、ヘキサエチレングリコール(1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロ−n−ペンチル)エーテル、オクタプロピレングリコールジ(1,1,2,2−テトラフルオロ−n−ブチル)エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ(1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロ−n−ペンチル)エーテル、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロ−n−デカン、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10−デカフルオロ−n−ドデカン、パーフルオロ−n−ドデシルスルホン酸ナトリウムや、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルホスホン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム等のアニオン系界面活性剤、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、ジグリセリンテトラキス(フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル)、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、フッ素系アルキルエステル等のノニオン系界面活性剤、フルオロアルキルアンモニウムヨージド等のカチオン系界面活性剤、フルオロアルキルベタイン等の両性界面活性剤を挙げることができる。このうち、位相差層を液晶表示素子に用いた場合の電圧保持率を良好に維持できるという観点から、特にノニオン系界面活性剤が好適に用いられる。   An example of the surfactant is a fluorine-based surfactant. As the fluorosurfactant, a compound having a fluoroalkyl group or a fluoroalkylene group at at least one of the terminal, main chain, and side chain is preferable, and specific examples thereof include 1,1,2,2-tetra Fluorooctyl (1,1,2,2-tetrafluoro-n-propyl) ether, 1,1,2,2-tetrafluoro-n-octyl (n-hexyl) ether, octaethylene glycol di (1,1,1, 2,2-tetrafluoro-n-butyl) ether, hexaethylene glycol (1,1,2,2,3,3-hexafluoro-n-pentyl) ether, octapropylene glycol di (1,1,2,2) -Tetrafluoro-n-butyl) ether, hexapropylene glycol di (1,1,2,2,3,3-hexafluoro-n-penty ) Ether, 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-n-decane, 1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-decafluoro-n-dodecane, par Anionic surfactants such as sodium fluoro-n-dodecyl sulfonate, sodium fluoroalkylbenzene sulfonate, sodium fluoroalkyl phosphonate, sodium fluoroalkyl carboxylate, fluoroalkyl polyoxyethylene ether, diglycerin tetrakis (fluoroalkyl polyoxy Ethylene ether), perfluoroalkyl polyoxyethanol, perfluoroalkyl alkoxylates, nonionic surfactants such as fluoroalkyl esters, cationic surfactants such as fluoroalkylammonium iodide, fluoroalkylbetaines, etc. It may be mentioned amphoteric surfactants. Among these, nonionic surfactants are particularly preferably used from the viewpoint that the voltage holding ratio when the retardation layer is used in a liquid crystal display element can be maintained satisfactorily.

フッ素系界面活性剤の市販品としては、商品名で、例えば、BM−1000、同−1100(以上、BM CHEMIE社製)、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183、同F178、同F191、同F444、同F471、同F475、同F476、同F477、同F553、同F554(以上、DIC社製)、フロラードFC−170C、同FC−171、同FC−430、同FC−431(以上、住友スリーエム社製)、サーフロンS−112、同S−113、同S−131、同S−141、同S−145、同S−382、同SC−101、同SC−102、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC−106(以上、旭硝子社製)、エフトップEF301、同EF303、同EF352(以上、新秋田化成社製)、フタージェントFT−100、同FT−110、同FT−140A、同FT−150、同FT−250、同FT−251、同FTX−251、同FTX−218、同FT−300、同FT−310、同FT−400S(以上、ネオス社製)等を挙げることができる。   Examples of commercially available fluorosurfactants include BM-1000, -1100 (manufactured by BM CHEMIE), MegaFuck F142D, F172, F173, F183, F183, F178, and the like. F191, F444, F471, F475, F476, F477, F477, F553, F554 (manufactured by DIC), Fluorard FC-170C, FC-171, FC-430, FC-431 ( Sumitomo 3M), Surflon S-112, S-113, S-131, S-141, S-145, S-382, SC-101, SC-102, SC -103, SC-104, SC-105, SC-106 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), F-top EF301, EF303, EF352 (hereinafter Manufactured by Shin-Akita Kasei Co., Ltd.), FT-100, FT-110, FT-140A, FT-150, FT-250, FT-251, FTX-251, FTX-218, FT-300, FT-310, FT-400S (manufactured by Neos) and the like.

フッ素系界面活性剤は、液晶の配向を大きく損なわない範囲で添加することが好ましく、重合性液晶組成物100質量部に対して0.01〜5質量部となるように添加することが好ましい。0.01質量部以上となる量を添加することにより液晶組成物に十分な塗工性を付与することができ、横スジムラの良好な防止効果が発揮される。また添加量を5質量部以下とすることによって、位相差層中の液晶に配向不良が生じることや、位相差層の電気信頼性が低下することを抑制できる。   The fluorine-based surfactant is preferably added in a range that does not significantly impair the alignment of the liquid crystal, and is preferably added in an amount of 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal composition. By adding an amount of 0.01 parts by mass or more, sufficient coating properties can be imparted to the liquid crystal composition, and a good effect of preventing horizontal stripe unevenness can be exhibited. Moreover, it can suppress that the orientation defect arises in the liquid crystal in a phase difference layer, and the electrical reliability of a phase difference layer falls by making addition amount into 5 mass parts or less.

〔位相差層形成用層の厚さ〕
位相差層13は棒状化合物が含有されることにより、位相差性を発現するものになっているところ、当該位相差性の程度は棒状化合物の種類及び位相差層13の厚さに依存して決定されるものである。したがって、位相差層形成用層の厚さは、所定の位相差性を達成できる範囲内とするものであれば特に限定されるものではなく、位相差フィルム1の用途等に応じて適宜決定されるものである。
[Thickness of layer for forming retardation layer]
The retardation layer 13 contains a rod-shaped compound, so that the retardation is developed. The degree of the retardation depends on the type of the rod-shaped compound and the thickness of the retardation layer 13. It is to be decided. Therefore, the thickness of the retardation layer forming layer is not particularly limited as long as it is within a range in which a predetermined retardation can be achieved, and is appropriately determined according to the use of the retardation film 1 and the like. Is.

[(E)除電処理]
続いて、除電装置40を用いて、基材11を除電する除電処理を行う。従来、基材11、パターン配向層12及び位相差層形成用層13’を含む積層体は、例えば図3に示すように、複数のゴムローラ50A,50B,50C,・・・を用いてレベリング装置41に搬送されている。しかし、位相差層形成用層13’に含まれる重合性液晶組成物は誘電率異方性を有し、電圧を加えられると配向が変化する。そのため、図4に示すように、パターン配向層12で規定された配向方向に沿って配向していた位相差層形成用層13’中の重合性液晶組成物14が、図3に示す基材11と複数のゴムローラ50A,50B,50C,・・・との摩擦による静電気によって、図5に示すように、電界方向に沿って配向される。
[(E) Static elimination treatment]
Subsequently, using the static eliminator 40, a static elimination process for neutralizing the base material 11 is performed. Conventionally, a laminate including a base material 11, a pattern alignment layer 12, and a retardation layer forming layer 13 ′ is a leveling device using a plurality of rubber rollers 50A, 50B, 50C,... As shown in FIG. 41. However, the polymerizable liquid crystal composition contained in the retardation layer forming layer 13 ′ has a dielectric anisotropy, and its orientation changes when a voltage is applied. Therefore, as shown in FIG. 4, the polymerizable liquid crystal composition 14 in the retardation layer forming layer 13 ′ aligned along the alignment direction defined by the pattern alignment layer 12 is converted into the base material shown in FIG. 3. 11 and the plurality of rubber rollers 50 </ b> A, 50 </ b> B, 50 </ b> C,...

本発明では、位相差層形成用層13’の形成後、次工程に移るのに先立って基材11を除電することから、基材11が複数のゴムローラ50A,50B,50C,・・・と接触しても、基材11と、複数のゴムローラ50A,50B,50C,・・・との摩擦によって静電気が発生することを抑えることができ、結果として、重合前の重合性液晶組成物14の配向が乱れることを防止できる。   In the present invention, after the formation of the retardation layer forming layer 13 ′, the base material 11 is neutralized prior to moving to the next step, so that the base material 11 has a plurality of rubber rollers 50A, 50B, 50C,. Even if it contacts, it can suppress that static electricity generate | occur | produces by friction with the base material 11 and several rubber roller 50A, 50B, 50C, ..., As a result, the polymerizable liquid crystal composition 14 before superposition | polymerization It is possible to prevent the orientation from being disturbed.

除電は、位相差層形成用層13’を形成した後、この位相差層形成用層13’の層厚を均一にするまでの間に行えばよいが、基材11がゴムローラ50A,50B,50C,・・・に接触し始めるまでの間に行うことがより好ましい。   The neutralization may be performed after the phase difference layer forming layer 13 ′ is formed and before the layer thickness of the phase difference layer forming layer 13 ′ is made uniform, but the base 11 is made of the rubber rollers 50A, 50B, It is more preferable to carry out until the contact with 50C,.

図6は、除電装置40の概略図を示す。除電装置40は、導電線37aと、基材11を幅方向で挟むように設けられ、上記導電線37aを支持する2本の支持体37bとにより構成され、2本の支持体37bのうち1本は、交流高電圧HVに接続されている。   FIG. 6 shows a schematic diagram of the static eliminator 40. The static eliminator 40 includes a conductive wire 37a and two supports 37b that are provided so as to sandwich the substrate 11 in the width direction and support the conductive wire 37a, and one of the two supports 37b. The book is connected to an alternating high voltage HV.

導電線37aは、タングステンやステンレス等の金属製ワイヤーであっても、導電性繊維を紐状又は糸状とした導電繊維線であってもよいが、全体を均一に除電する能力に優れる点で導電繊維線を用いることが好ましい。導電繊維線は、従来用いられているものを用いればよいが、例えば、硫化銅を含む導電性材料をアクリル繊維に混合した混紡糸や、ステンレス繊維とポリエステル繊維との混紡糸等が知られている。また、導電繊維線の市販品として、自己放電式除電紐ベキスタット(ベカルト東網メタルファイバー社製)、TSJO4100(トスコ社製)、除電のれん紐(商品名:SPS305-B71S B−100,矢崎化工社製)、防爆型除電バー(ヒューグルエレクトロニクス社製)、除電バー(商品名:N10−1600−1800,直径:20mm,富士機工社製)等が知られている。   The conductive wire 37a may be a metal wire such as tungsten or stainless steel, or may be a conductive fiber wire in which conductive fibers are string-like or thread-like. However, the conductive wire 37a is conductive in that it has an excellent ability to remove static electricity uniformly. It is preferable to use a fiber wire. Conventionally used conductive fiber wires may be used. For example, blended yarns in which conductive materials containing copper sulfide are mixed with acrylic fibers, and blended yarns of stainless fibers and polyester fibers are known. Yes. Moreover, as a commercial item of a conductive fiber wire, self-discharge type static elimination string Bequistat (manufactured by Bekaert Toami Metal Fiber Co., Ltd.), TSJO4100 (manufactured by Tosco Corporation), static elimination string (trade name: SPS305-B71S B-100, Yazaki Kako Co., Ltd.) Manufactured), explosion-proof static elimination bar (manufactured by Hugle Electronics), static elimination bar (trade name: N10-1600-1800, diameter: 20 mm, manufactured by Fuji Kiko Co., Ltd.), and the like.

導電線37aの太さは、1mm以上100mm以下であることが好適である。1mm未満であると、切断してしまう恐れがある点で好ましくない。100mmを超えると、取り扱いが難しくなる点で好ましくない。   The thickness of the conductive wire 37a is preferably 1 mm or more and 100 mm or less. If it is less than 1 mm, it is not preferable in that it may be cut. If it exceeds 100 mm, it is not preferable in that handling becomes difficult.

除電装置40を用いた除電は、導電線37aを2本の支持体37bに直線状に張架した。導電線37aに対し、基材11、パターン配向層12及び位相差層形成用層13’を含む積層体を非接触で交差させることによって行う。この際、位相差層形成用層13’の表面と導電線37aとの距離は20mm以下であることが好適であり、10mm以下であることがより好適である。20mmを超えると、除電性能が劣り、重合性液晶組成物14の配向に乱れが生じ得る点で好ましくない。   In the static elimination using the static eliminator 40, the conductive wire 37a was stretched linearly on the two supports 37b. The conductive line 37a is crossed in a non-contact manner with a laminate including the substrate 11, the pattern alignment layer 12, and the retardation layer forming layer 13 '. At this time, the distance between the surface of the retardation layer forming layer 13 ′ and the conductive wire 37 a is preferably 20 mm or less, and more preferably 10 mm or less. If it exceeds 20 mm, the static elimination performance is inferior, and the orientation of the polymerizable liquid crystal composition 14 may be disturbed, which is not preferable.

[(F)レベリング処理]
続いて、レベリング装置41を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。位相差層形成用塗工液からなる位相差層形成用層の厚さは、その後に形成される位相差層13の面内位相差がλ/4分に相当するような範囲内となるように塗布することが好ましい。これにより、第1位相差領域13A及び第2位相差領域13Bを通過する直線偏光を、互いに直交関係にある円偏光にすることができ、結果として、より精度良く三次元映像を表示できるためである。
[(F) Leveling process]
Subsequently, a leveling process for making the thickness of the retardation layer forming layer uniform is performed using the leveling device 41. The thickness of the retardation layer forming layer made of the retardation layer forming coating liquid is in a range such that the in-plane retardation of the retardation layer 13 formed thereafter corresponds to λ / 4 minutes. It is preferable to apply to. As a result, the linearly polarized light passing through the first retardation region 13A and the second retardation region 13B can be made into circularly polarized light that is orthogonal to each other, and as a result, a three-dimensional image can be displayed with higher accuracy. is there.

位相差層13の厚さを位相差層13の面内位相差がλ/4分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、棒状化合物の種類により適宜決定されることになる。一般的な棒状化合物を用いる場合、当該距離は0.5μm〜2μmの範囲内となるが、これに限られるものではない。なお、λは波長500nmである。これにより、位相差層13を通過する直線偏光を互いに直交関係にある円偏光にすることができるため、より精度良く3次元映像を表示できる。   When the thickness of the retardation layer 13 is set to a distance within a range in which the in-plane retardation of the retardation layer 13 corresponds to λ / 4 minutes, the specific distance is determined by the rod-shaped compound. It will be determined appropriately depending on the type. When a general rod-shaped compound is used, the distance is in the range of 0.5 μm to 2 μm, but is not limited thereto. Note that λ is a wavelength of 500 nm. As a result, the linearly polarized light passing through the retardation layer 13 can be made into circularly polarized light orthogonal to each other, so that a three-dimensional image can be displayed with higher accuracy.

[(G)配向処理]
続いて、位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記パターン配向層12に含まれる第1配向領域12A及び第2配向領域12Bの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる。棒状化合物を配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、乾燥機42を用いて棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することが挙げられる。
[(G) Orientation treatment]
Subsequently, the rod-shaped compound contained in the coating film of the retardation layer forming coating solution is converted into a rod-shaped compound along different alignment directions of the first alignment region 12A and the second alignment region 12B included in the pattern alignment layer 12. Array. The method for arranging the rod-shaped compounds is not particularly limited as long as the rod-shaped compounds can be arranged in a desired direction. For example, the rod-shaped compounds are heated to a temperature higher than the liquid crystal phase formation temperature using the dryer 42. Can be mentioned.

本処理によって形成される位相差層13のパターンは、パターン配向層12のパターンと同一となり、右目用の領域に対応する第1配向領域12A上には、右目用の領域に対応する第1位相差領域13Aが形成され、左目用の領域に対応する第2配向領域12B上には、左目用の領域に対応する第2位相差領域13Bが形成される。   The pattern of the retardation layer 13 formed by this process is the same as the pattern of the pattern alignment layer 12, and the first position corresponding to the right eye region is present on the first alignment region 12 A corresponding to the right eye region. A phase difference region 13A is formed, and a second phase difference region 13B corresponding to the region for the left eye is formed on the second alignment region 12B corresponding to the region for the left eye.

位相差層13に第1位相差領域13A及び第2位相差領域13Bが形成されているか否かは、例えば、偏光板クロスニコルの中にサンプルを入れて、サンプルを回転させた場合に明線と暗線が反転することを確認することにより評価することができる。このとき、右目用の領域A及び左目用の領域Bからなるパターンが細かい場合は偏光顕微鏡で観察するとよい。また、AXOMETRICS社(米国)製のAxoScanを用いて各パターン内の遅相軸の方向(角度)を測定しても良い。   Whether or not the first retardation region 13A and the second retardation region 13B are formed in the retardation layer 13 is determined, for example, when a sample is put in a polarizing plate crossed Nicol and the sample is rotated. It can be evaluated by confirming that the dark line is reversed. At this time, when the pattern composed of the area A for the right eye and the area B for the left eye is fine, it may be observed with a polarizing microscope. Alternatively, the direction (angle) of the slow axis in each pattern may be measured using an AxoScan manufactured by AXOMETRICS (USA).

位相差層13の面内位相差は、100nm〜160nmの範囲内であることが好ましく、110nm〜150nmの範囲内であることがより好ましく、120nm〜130nmの範囲内であることがさらに好ましい。なお、位相差層13において第1位相差領域13A及び第2位相差領域13Bが示す面内位相差は、遅相軸の方向が異なる以外はほぼ同一となる。   The in-plane retardation of the retardation layer 13 is preferably in the range of 100 nm to 160 nm, more preferably in the range of 110 nm to 150 nm, and still more preferably in the range of 120 nm to 130 nm. In the retardation layer 13, the in-plane retardations indicated by the first retardation region 13A and the second retardation region 13B are substantially the same except that the direction of the slow axis is different.

ところで、乾燥機42を用いて棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温する際、棒状化合物が所望の方向に配列されるだけでなく、位相差層形成用塗工液の塗膜が乾燥される。塗膜の乾燥は、残留する溶媒量に応じて適宜調整すればよいが、上記塗膜に当てる乾燥風の風速は、3m/秒以下であることが好ましく、特に0.5m/秒以下であることが好ましい。   By the way, when heating the rod-shaped compound to the liquid crystal phase formation temperature or higher using the dryer 42, the rod-shaped compound is not only arranged in a desired direction, but also the coating film of the retardation layer forming coating liquid is dried. The The drying of the coating film may be appropriately adjusted according to the amount of solvent remaining, but the wind speed of the drying air applied to the coating film is preferably 3 m / second or less, particularly 0.5 m / second or less. It is preferable.

また、温度条件としては、用いた液晶の液晶→等方相転移温度にもよるが、40℃〜150℃の範囲内であることが好ましく、50℃〜120℃の範囲内であることがより好ましく、特に、55℃〜110℃の範囲内であることがさらに好ましい。また、乾燥時間としては、0.2〜30分の範囲内であることが好ましく、0.5分〜20分の範囲内であることがより好ましく、特に、1分〜10分の範囲内であることがさらに好ましい。この条件であることにより、安定的に溶媒を除去できるからである。   The temperature condition depends on the liquid crystal → isotropic phase transition temperature of the liquid crystal used, but is preferably in the range of 40 ° C. to 150 ° C., more preferably in the range of 50 ° C. to 120 ° C. In particular, it is more preferably in the range of 55 ° C to 110 ° C. The drying time is preferably in the range of 0.2 to 30 minutes, more preferably in the range of 0.5 to 20 minutes, and particularly in the range of 1 to 10 minutes. More preferably it is. This is because the solvent can be removed stably under these conditions.

[(H)冷却処理]
その後、冷却機43を用いて、基材11/パターン配向層12/位相差層13からなる積層体を冷却する冷却処理を行う。冷却処理は、積層体が室温になる程度まで行えばよい。
[(H) Cooling treatment]
Then, the cooling process which cools the laminated body which consists of the base material 11 / pattern orientation layer 12 / retardation layer 13 using the cooler 43 is performed. The cooling process may be performed until the stack reaches room temperature.

[(I)硬化処理]
続いて、重合性棒状化合物を重合し硬化させる硬化処理を行う。重合性棒状化合物を重合させる方法としては、重合性棒状化合物が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよいが、適量の重合開始剤を加えて、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性棒状化合物を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光又は可視光を使用することが好ましく、具体的には、パターン配向層12を形成する際に用いた紫外線と同様とすることができる。このような硬化処理を経ることにより、互いに重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた位相差層13を形成できる。
[(I) Curing treatment]
Subsequently, a curing treatment for polymerizing and curing the polymerizable rod-shaped compound is performed. The method for polymerizing the polymerizable rod-shaped compound may be arbitrarily determined according to the type of the polymerizable functional group possessed by the polymerizable rod-shaped compound. However, an appropriate amount of a polymerization initiator is added and cured by irradiation with actinic radiation. The method is preferred. The actinic radiation is not particularly limited as long as it is a radiation capable of polymerizing the polymerizable rod-like compound, but it is usually preferable to use ultraviolet light or visible light from the viewpoint of the ease of the apparatus. Specifically, it can be the same as the ultraviolet rays used when forming the pattern alignment layer 12. By undergoing such a curing treatment, they can be polymerized to form a network structure, so that the retardation layer 13 having column stability and excellent optical properties can be obtained. Can be formed.

配向パターンを形成する際に設定した配向軸と、位相差層13の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度は、3度以内であることが好ましく、2度以内であることがより好ましい。3度を超えると、均一な配向を得られない可能性があるため、好ましくない。   The orientation deviation angle defined by the absolute value of the angle difference between the orientation axis set when forming the orientation pattern and the orientation axis of the retardation layer 13 is preferably within 3 degrees, preferably within 2 degrees. It is more preferable. If it exceeds 3 degrees, there is a possibility that uniform orientation cannot be obtained.

<フラットパネルディスプレイ>
上記位相差フィルム1は、三次元表示用のフラットパネルディスプレイに用いることが好適であり、三次元表示用のフラットパネルディスプレイに用いることで、光配向性に優れるという格別の効果を奏する。
<Flat panel display>
The retardation film 1 is preferably used for a flat panel display for three-dimensional display, and has an exceptional effect that it has excellent photo-alignment properties when used for a flat panel display for three-dimensional display.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example.

<実施例及び比較例>

Figure 0005578166
<Examples and Comparative Examples>
Figure 0005578166

<位相差フィルムの製造>
図2で説明した製造工程を経て実施例及び比較例に係る位相差フィルムを得た。その際、基材は、表面に防眩処理が施されたTAC基材(商品名:TD60UL−P,厚さ:60μm,富士フィルム社製)を用い、搬送速度は12m/minとした。
<Manufacture of retardation film>
The retardation film which concerns on an Example and a comparative example was obtained through the manufacturing process demonstrated in FIG. In that case, the base material used was a TAC base material (trade name: TD60UL-P, thickness: 60 μm, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) whose surface was antiglare-treated, and the conveyance speed was 12 m / min.

まず、ウレタンアクリレート(商品名:UV1700B,固形分:100%,日本合成化学社製)100質量部と、ペンタエリスリトールトリアクリレート(商品名:ライトアクリレートPE−3A,固形分100%,共栄化学社製)100質量部と、光重合開始剤(商品名:ルシリンTPO,BASF社製)8質量部とを、固形分45%、粘度2500mPa・sになるように希釈液に溶解させて、パターン配向層用組成物を得た。希釈液は、メチルエチルケトン80質量部とメチルイソブチルケトン20質量部との混合溶液を用いた。   First, 100 parts by mass of urethane acrylate (trade name: UV1700B, solid content: 100%, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) and pentaerythritol triacrylate (trade name: light acrylate PE-3A, solid content: 100%, manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.) ) 100 parts by mass and 8 parts by mass of a photopolymerization initiator (trade name: Lucillin TPO, manufactured by BASF) are dissolved in a diluent so as to have a solid content of 45% and a viscosity of 2500 mPa · s. A composition was obtained. As a diluent, a mixed solution of 80 parts by mass of methyl ethyl ketone and 20 parts by mass of methyl isobutyl ketone was used.

その後、上記TAC基材の裏面に、上記パターン配向層用組成物を、硬化後の膜厚が5μmとなるようにグラビアコート法にて塗布した。そして、100℃に調整した乾燥機内に1分間流し、溶媒を蒸発させた。これによって、厚さ5μmの薄膜が形成された。   Then, the said composition for pattern orientation layers was apply | coated to the back surface of the said TAC base material by the gravure coating method so that the film thickness after hardening might be set to 5 micrometers. And it was made to flow for 1 minute in the dryer adjusted to 100 degreeC, and the solvent was evaporated. As a result, a thin film having a thickness of 5 μm was formed.

この薄膜に対し、押圧ローラを用いて、表面に微細な凹凸形状が形成されたロール版に押圧し、この状態で基材側から紫外線を照射した。このとき、紫外線照射装置は、「Hバルブ」(フュージョン社製)を用いた。また、紫外線の波長は350nmとし、積算光量は350mJ/cmとした。積算光量の測定は、紫外線光量計「UV−351」(オーク製作所社製)を用いて測定した。 The thin film was pressed against a roll plate having a fine concavo-convex shape formed on the surface using a pressing roller, and ultraviolet rays were irradiated from the substrate side in this state. At this time, “H bulb” (manufactured by Fusion) was used as the ultraviolet irradiation device. The wavelength of the ultraviolet light was 350 nm, and the integrated light amount was 350 mJ / cm 2 . The integrated light quantity was measured using an ultraviolet light quantity meter “UV-351” (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.).

続いて、剥離ローラを用いてロール版から基材を剥離した後、薄膜側から紫外線を再度照射した。紫外線の波長は300nmとし、積算光量は300mJ/cmとした。 Then, after peeling a base material from a roll plate using a peeling roller, ultraviolet rays were again irradiated from the thin film side. The wavelength of the ultraviolet light was 300 nm, and the integrated light quantity was 300 mJ / cm 2 .

続いて、表1に示す2種類の重合性液晶組成物を50質量部:50質量部で混合した混合物を、パターン配向膜のパターン配向層上にダイコート法にて塗布した。その後、実施例について、基材、パターン配向層及び位相差層形成用層を含む積層体がこの積層体を搬送する搬送ローラを通過するまでの間に、除電を行った。比較例については、除電を行わなかった。   Subsequently, a mixture obtained by mixing two kinds of polymerizable liquid crystal compositions shown in Table 1 at 50 parts by mass: 50 parts by mass was applied onto the pattern alignment layer of the pattern alignment film by a die coating method. Then, about the Example, static elimination was performed until the laminated body containing a base material, a pattern orientation layer, and a phase difference layer forming layer passes the conveyance roller which conveys this laminated body. About the comparative example, static elimination was not performed.

除電は、次のようにして行った。自己放電式除電紐(商品名:ベキスタット,ベカルト東網メタルファイバー社製)を図6に示すように両側の支持体に直線状に張架した。除電紐の長さは1500mmであり、位相差層形成用層の表面と導電線との距離は、表1に示す通りであった。   The charge removal was performed as follows. A self-discharge type static eliminator string (trade name: Bequistat, manufactured by Bekarto Toami Metal Fiber Co., Ltd.) was stretched in a straight line on the supports on both sides as shown in FIG. The length of the static elimination cord was 1500 mm, and the distance between the surface of the phase difference layer forming layer and the conductive wire was as shown in Table 1.

除電の後、位相差層形成用層の最終的な層厚が1μmとなるようにレベリングした。そして、60℃に調整した第1乾燥機内に1分間、95℃に調整した第2乾燥機内に0.5分間、105℃に調整した第3乾燥機内に0.5分間流し、室温近傍まで冷却した後、上記の紫外線照射装置と同型の紫外線照射装置を用いて波長260nmの紫外線を積算光量が300mJ/cmとなるまで照射した。上記の工程を経て、実施例及び比較例に係る位相差フィルムを得た。 After neutralization, leveling was performed so that the final layer thickness of the retardation layer forming layer was 1 μm. Then, it flows for 1 minute in the first dryer adjusted to 60 ° C., 0.5 minute in the second dryer adjusted to 95 ° C., and 0.5 minute in the third dryer adjusted to 105 ° C., and is cooled to near room temperature. After that, ultraviolet rays having a wavelength of 260 nm were irradiated using the same type of ultraviolet irradiation apparatus as the above-described ultraviolet irradiation apparatus until the integrated light amount reached 300 mJ / cm 2 . The retardation film which concerns on an Example and a comparative example was obtained through said process.

<ウェブ上の帯電の評価>
まず、除電直後の積層体について、ウェブ上の帯電量を測定した。帯電量は、デジタル静電電位測定器MODEL KSD−2000(春日電機社製)を用い、添付の取扱説明書の指示に従い、帯電量を測定した。結果を表2に示す。
<Evaluation of charging on the web>
First, the amount of charge on the web was measured for the laminate immediately after neutralization. The charge amount was measured using a digital electrostatic potential measuring device MODEL KSD-2000 (Kasuga Denki Co., Ltd.) according to the instructions in the attached instruction manual. The results are shown in Table 2.

<外観の評価>
また、位相差フィルムの外観を評価した。外観の評価は、位相差フィルムの両面に偏光板(商品名:HCL2−5618HCS,サンリッツ社製)をクロスニコル配置となるように貼り合わせ、貼り合わせた部材を液晶用バックライトに設置し、部材正面の白濁の程度を暗室下にて目視で観察した。白濁がほとんどなく、配向不良が認められない場合を“○”とし、少し白濁はあるが、配向不良が認められるほどではない場合を“△”とし、白濁の程度が高く、配向不良が認められる場合を“×”とした。結果を表2に示す。
<Appearance evaluation>
Moreover, the external appearance of the retardation film was evaluated. Appearance evaluation is carried out by attaching polarizing plates (trade name: HCL2-5618HCS, manufactured by Sanlitz) on both sides of the retardation film so as to be in a crossed Nicol arrangement, and placing the bonded members on a liquid crystal backlight. The degree of cloudiness on the front was visually observed in a dark room. “O” indicates that there is almost no cloudiness and no alignment failure is observed, and “Δ” indicates that there is a little cloudiness but is not so high that alignment failure is observed. The degree of cloudiness is high and alignment failure is recognized. The case was set to “x”. The results are shown in Table 2.

Figure 0005578166
Figure 0005578166

位相差層形成用層を形成した後、重合性液晶組成物が塗布された塗布基材を除電してから塗布基材を乾燥させた場合、除電しない場合に比べ、所望の配向状態であり、外観も優れるパターン位相差フィルムを提供できることが確認された(実施例1〜6)。中でも、位相差層形成用層の表面と除電紐との距離は20mm以下であることが好適であり(実施例1〜6)、10mm以下であることがより好適であることが確認された(実施例1、2、4、5)。これは、除電した結果、位相差フィルムの製造工程全体において、ウェブ上の帯電が低い値で推移したためと思われる。   After forming the phase difference layer forming layer, if the coating substrate coated with the polymerizable liquid crystal composition is neutralized and then dried, the coated substrate is in a desired orientation state compared to the case where it is not neutralized, It was confirmed that the pattern phase difference film which is excellent also in an external appearance can be provided (Examples 1-6). Especially, it was confirmed that the distance between the surface of the phase difference layer forming layer and the neutralization string is preferably 20 mm or less (Examples 1 to 6), and more preferably 10 mm or less ( Examples 1, 2, 4, 5). This is probably because the charge on the web changed at a low value in the entire manufacturing process of the retardation film as a result of the charge removal.

また、酸素原子以外の孤立電子対を有する原子を有さない孤立電子対非含有化合物のみで構成されている1種又は2種以上の重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を用いたパターン位相差フィルムは、ウェブ上の帯電がより低い値で推移することが確認された(実施例4〜6)。   Moreover, the polymeric liquid crystal composition containing the 1 type, or 2 or more types of polymeric liquid crystal compound comprised only with the lone electron pair non-containing compound which does not have an atom which has a lone electron pair other than an oxygen atom was used. It was confirmed that the charge on the web of the pattern retardation film transitioned at a lower value (Examples 4 to 6).

一方、除電工程を経ない場合、実施例に比べて外観が劣ることが確認された(比較例1)。これは、実施例に比べてウェブ上の帯電が高い結果、その後の工程においても、ウェブ上の帯電量が高く推移することが一因であると考えられる。   On the other hand, when not passing through the static elimination process, it was confirmed that the external appearance was inferior compared with the Example (Comparative Example 1). This is considered to be due to the fact that the charge on the web is higher than in the examples, and the charge amount on the web also changes in the subsequent steps.

1 パターン位相差フィルム
11 基材
12 パターン配向層
13 位相差層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pattern retardation film 11 Base material 12 Pattern orientation layer 13 Phase difference layer

Claims (4)

基材に、重合性液晶組成物からなる層を形成する工程と、
前記重合性液晶組成物を重合することによって前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程とを含む積層体の製造方法であって、
前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程において、前記重合性液晶組成物を塗布した後であって乾燥前に、前記重合性液晶組成物が塗布された塗布基材を除電する工程を備え、
前記除電は、塗布面側から行われ、かつ前記重合性液晶組成物を塗布した後であって、最初の搬送ローラを通過するまでの間に行われ、
前記重合性液晶組成物からなる層を形成する工程は、基材上に配向層を形成する工程の後、この配向層上に重合性液晶組成物からなる位相差層形成用層を形成することによって行われ、
前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程により硬化した前記重合性液晶組成物からなる層が、透過光に位相差を付与する位相差層である
積層体の製造方法。
Forming a layer comprising a polymerizable liquid crystal composition on a substrate;
A step of curing the layer made of the polymerizable liquid crystal composition by polymerizing the polymerizable liquid crystal composition,
In the step of curing the layer composed of the polymerizable liquid crystal composition, after applying the polymerizable liquid crystal composition and before drying, removing the coating substrate on which the polymerizable liquid crystal composition is applied Prepared,
The static elimination is performed from the coating surface side and after the application of the polymerizable liquid crystal composition and before passing through the first transport roller,
In the step of forming a layer made of the polymerizable liquid crystal composition, a phase difference layer forming layer made of the polymerizable liquid crystal composition is formed on the alignment layer after the step of forming the alignment layer on the substrate. Made by
The method for producing a laminate, wherein the layer made of the polymerizable liquid crystal composition cured by the step of curing the layer made of the polymerizable liquid crystal composition is a retardation layer that imparts a retardation to transmitted light.
前記積層体は、パターン位相差フィルムであり、
前記重合性液晶組成物からなる層を形成する工程は、基材上に配向パターンを付与してパターン配向層により前記配向層を作成し、
前記重合性液晶組成物からなる層を硬化する工程は、前記重合性液晶組成物を前記配向パターンに沿って配列させて位相差層を形成することによって行われる
請求項1に記載の積層体の製造方法。
The laminate is a pattern retardation film,
The step of forming a layer composed of the polymerizable liquid crystal composition includes providing an alignment pattern on a substrate and creating the alignment layer with a pattern alignment layer,
The process of hardening the layer which consists of the said polymeric liquid crystal composition is performed by arranging the said polymeric liquid crystal composition along the said alignment pattern, and forming a phase difference layer. The laminated body of Claim 1 characterized by the above-mentioned. Production method.
前記配向パターンを形成する際に設定した配向軸と、前記位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度が2度以内である、請求項2に記載の積層体の製造方法。 And the orientation axis is set at the time of forming the alignment pattern, the orientation deviation angle defined by the absolute value of the angular difference between the orientation axis of the phase difference layer is Ru der within 2 degrees, according to Motomeko 2 A manufacturing method of a layered product. 前記除電は、導電性繊維を紐状又は糸状とした導電繊維線を電極支持体に直線状に張架して除電電極とし、これに交流高電圧を印加するとともに、この導電繊維線に対し、前記積層体を非接触で交差させることによって行われ、
前記重合性液晶組成物からなる層の表面と前記導電繊維線との距離は20mm以下である、請求項1から3のいずれかに記載の積層体の製造方法。
The static elimination is a static elimination electrode by stretching a conductive fiber wire in the form of a string or a string of conductive fibers on an electrode support, and applying an alternating high voltage to this, and for this conductive fiber wire, Performed by crossing the laminate without contact;
The manufacturing method of the laminated body in any one of Claim 1 to 3 whose distance of the surface of the layer which consists of the said polymeric liquid crystal composition, and the said conductive fiber wire is 20 mm or less.
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