JP2014119569A - Patterned retardation film and method for manufacturing the same - Google Patents

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Hiroya Inomata
裕哉 猪俣
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徳彦 大村
Kazuki Yamada
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve both prevention of mixing of defective products and manufacture with a high yield in the process of manufacturing a patterned retardation film 1 to be applied to a passive three-dimensional image display.SOLUTION: After a retardation layer 13 is formed by arranging a polymerizable liquid crystal composition along an alignment pattern, an alignment deviation angle is measured, which is defined by an absolute angle difference between an alignment axis that is set when the alignment pattern is formed and an alignment axis of the retardation layer, for each unit of the alignment pattern. A product is determined as non-defective if a standard deviation of the alignment deviation angles is equal to or smaller than a predetermined angle of 1 degree or less. The measurement is preferably carried out by using an optical axis measuring device that acquires a plurality of data on the alignment deviation angle for each one of widths smaller than the width of the alignment pattern. When forming the alignment pattern, it is more preferable to form a photo-alignment layer 12 on a substrate 11 and use a stripe mask in both of irradiation with first polarized light and irradiation with second polarized light.

Description

本発明は、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムの製造装置及び製造方法に関するものである。   The present invention relates to a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a pattern retardation film applied to a three-dimensional image display by a passive method.

フラットパネルディスプレイは、従来、2次元表示のものが主流であった。しかしながら、近年、3次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集めており、一部市販もされている。そして今後のフラットパネルディスプレイは3次元表示可能であることが当然に求められる傾向にあり、3次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。   Conventionally, flat panel displays have been mainly two-dimensional displays. However, in recent years, flat panel displays capable of three-dimensional display have attracted attention, and some are also commercially available. Further, there is a tendency that future flat panel displays are capable of three-dimensional display, and flat panel displays capable of three-dimensional display are being studied in a wide range of fields.

フラットパネルディスプレイにおいて3次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の映像と左目用の映像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の3次元表示方式について図を参照しながら説明する。図5は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の3次元表示の一例を示す概略図である。この図5の例では、垂直方向に連続する液晶表示パネルの画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。また液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなるめがねを装着して、右目用の映像と左目用の映像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。   In order to perform three-dimensional display on a flat panel display, it is usually necessary to selectively provide a right-eye image and a left-eye image in some manner, respectively, to the viewer's right eye and left eye. As a method for selectively providing a right-eye video and a left-eye video, for example, a passive method is known. This passive three-dimensional display method will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of a passive three-dimensional display using a liquid crystal display panel. In the example of FIG. 5, the pixels of the liquid crystal display panel that are continuous in the vertical direction are sequentially assigned to the right eye and the left eye, and are driven by the image data for the right eye and the left eye, respectively. And the image for the left eye are displayed simultaneously. In addition, a pattern retardation film is disposed on the panel surface of the liquid crystal display panel, and light emitted by linearly polarized light from the right-eye and left-eye pixels is converted into circularly polarized light having different directions for the right-eye and left-eye. As a result, in the passive method, glasses equipped with corresponding polarizing filters are attached, and a right eye image and a left eye image are selectively provided to the viewer's right eye and left eye, respectively.

このパッシブ方式は、応答速度の低い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で3次元表示することができる。このようなことから、パッシブ方式の液晶表示装置は今後の表示装置の中心的存在となるものとして非常に注目されている。   This passive method can also be applied to a liquid crystal display device having a low response speed, and can also perform three-dimensional display with a simple configuration using a pattern retardation film and circularly polarized glasses. For this reason, a passive liquid crystal display device has attracted much attention as a central presence of future display devices.

ところで、上述したようにパッシブ方式においてはパターン位相差フィルムを用いることが必須になるところ、このようなパターン位相差フィルムについてはまだ広く研究・開発が行われておらず、標準的な技術としても確立されているものがないのが現状である。   By the way, as described above, in the passive method, it is essential to use a pattern retardation film. However, such a pattern retardation film has not been widely researched and developed, and can be used as a standard technique. There is nothing that has been established.

例えば、欠陥検出に関し、輝線を有しない又は1つのみ有する光を、フィルムの一方の面側に設けられた第1偏光板を介して、フィルムに投光する投光器と、このフィルムから出た光を、フィルムの他方の面側に設けられ、上記第1偏光板に対してクロスニコルに配置された第2偏光板を介して受光する受光器と、この受光器で得られた受光信号に基づいて、フィルムの欠陥を検出する欠陥検出部とを備える装置が提案されている(特許文献1参照)。この装置によると、S/N比を低下させることなく精度の良い欠陥検出を行うことができる。   For example, with regard to defect detection, a projector that projects light having no bright line or only one light on a film through a first polarizing plate provided on one surface side of the film, and light emitted from the film Is received on the other surface side of the film and receives light through a second polarizing plate arranged in crossed Nicols with respect to the first polarizing plate, and based on a light reception signal obtained by the light receiving device. And the apparatus provided with the defect detection part which detects the defect of a film is proposed (refer patent document 1). According to this apparatus, accurate defect detection can be performed without reducing the S / N ratio.

特開2009−236826号公報JP 2009-236826 A

しかしながら、最終的な評価は、輝線の数、干渉縞の有無等によって行うが、これらの評価は官能評価によらざるを得ない。当業者は、不良品を市場に出すことができないため、評価が難しい場合、たとえ良品であったとしても不良品とせざるを得ない。そのため、主観的要素の入る余地のない客観的な評価によってパターン位相差フィルムを供給する仕組みを確立することが求められている。   However, although the final evaluation is performed based on the number of bright lines, the presence or absence of interference fringes, etc., these evaluations must be based on sensory evaluation. Since a person skilled in the art cannot put a defective product on the market, if evaluation is difficult, it must be regarded as a defective product even if it is a good product. Therefore, it is required to establish a mechanism for supplying a pattern retardation film by objective evaluation without room for subjective elements.

本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねたところ、配向パターンのそれぞれについて、配向パターンを形成する際に設定された配向軸と、位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度を測定し、この配向ズレ角度の標準偏差が所定の角度以下である場合、官能評価では不良品となり得る場合であっても実際の品質には問題ないことを見出し、本発明を完成するに至った。具体的に、本発明では、以下のようなものを提供する。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has made extensive studies, and for each of the alignment patterns, the angular difference between the alignment axis set when forming the alignment pattern and the alignment axis of the retardation layer. If the orientation deviation angle defined by the absolute value of is measured, and the standard deviation of this orientation deviation angle is less than the predetermined angle, there is no problem with the actual quality even if it may be a defective product in sensory evaluation As a result, the present invention has been completed. Specifically, the present invention provides the following.

(1)本発明は、基材と、この基材上に形成され、配向パターンが形成されているパターン配向層と、このパターン配向層上に形成され、重合性液晶組成物を含有する位相差層とを含むパターン位相差フィルムであって、前記パターン位相差フィルムの両面に偏光板をクロスニコル配置となるように貼り合わせ、貼り合わせた部材を液晶用バックライトに設置し、部材正面の白濁の程度を暗室下にて目視で評価するときに白濁が認められるものの、前記配向パターンのそれぞれについて、前記配向パターンを形成する際に設定された配向軸と、前記位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度の標準偏差が1度以内である、パターン位相差フィルムである。   (1) The present invention includes a substrate, a pattern alignment layer formed on the substrate and having an alignment pattern formed thereon, and a retardation formed on the pattern alignment layer and containing a polymerizable liquid crystal composition. A polarizing plate on both surfaces of the patterned retardation film so as to be in a crossed Nicol arrangement, and the bonded member is placed in a liquid crystal backlight, and the cloudiness on the front of the member Although white turbidity is observed when visually evaluating the degree of a dark room, for each of the alignment patterns, the alignment axis set when forming the alignment pattern and the alignment axis of the retardation layer It is a pattern retardation film in which the standard deviation of the orientation deviation angle defined by the absolute value of the angle difference is within 1 degree.

(2)また、本発明は、基材上に配向パターンを付与してパターン配向層を形成する工程と、このパターン配向層上に重合性液晶組成物からなる位相差層形成用層を形成する工程と、前記重合性液晶組成物を前記配向パターンに沿って配列させて位相差層を形成する工程と、前記配向パターンのそれぞれについて、前記配向パターンを形成する際に設定された配向軸と、前記位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度を測定する工程と、前記配向ズレ角度の標準偏差が1度以下の予め定めた角度以下である場合を良品と判別する工程と、を含む、パターン位相差フィルムの製造方法である。   (2) Moreover, this invention forms the phase difference layer formation layer which consists of a process which provides an orientation pattern on a base material, and forms a pattern orientation layer, and this pattern orientation layer from a polymerizable liquid crystal composition. A step of forming a retardation layer by aligning the polymerizable liquid crystal composition along the alignment pattern, and an alignment axis set when forming the alignment pattern for each of the alignment patterns; A step of measuring an orientation shift angle defined by an absolute value of an angle difference from the orientation axis of the retardation layer, and a case where a standard deviation of the orientation shift angle is equal to or less than a predetermined angle of 1 degree or less. And a step of discriminating the pattern retardation film.

(3)また、本発明は、前記配向ズレ角度の測定が前記配向パターンの幅よりも小さな幅ごとに前記配向ズレ角度のデータを複数取得する光軸測定器を用いて行われる、(2)に記載のパターン位相差フィルムの製造方法である。   (3) Further, in the present invention, the measurement of the orientation deviation angle is performed using an optical axis measuring device that acquires a plurality of pieces of data of the orientation deviation angle for each width smaller than the width of the orientation pattern. It is a manufacturing method of the pattern phase difference film of description.

(4)また、本発明は、前記パターン配向層を形成する工程が、前記基材上に光配向膜を形成する光配向膜形成工程と、前記光配向膜形成後の前記基材を流れ方向に連続又は不連続に移動して、前記流れ方向に沿ったストライプ状の第1マスクを介して第1偏光を露光してストライプ状の第1配向領域を形成する第1露光工程と、前記流れ方向に沿ったストライプ状の第2マスクを介して前記第1偏光とは異なる第2偏光を露光して、前記第1配向領域の間にストライプ状の第2配向領域を形成する第2露光工程と、を含む、(2)又は(3)に記載のパターン位相差フィルムの製造方法である。   (4) Further, in the present invention, the step of forming the pattern alignment layer includes a photo-alignment film forming step of forming a photo-alignment film on the substrate, and a flow direction of the substrate after the formation of the photo-alignment film. A first exposure step in which the first polarized light is exposed through a first mask in a stripe shape along the flow direction to form a first alignment region in a stripe shape. A second exposure step of exposing a second polarized light different from the first polarized light through a stripe-shaped second mask along a direction to form a stripe-shaped second alignment region between the first alignment regions; And a method for producing a patterned retardation film according to (2) or (3).

本発明によれば、品質に問題ないにもかかわらず不良品として除かれることが抑えられるため、パターン位相差フィルムを高歩留で提供できる。   According to the present invention, it is possible to suppress the removal as a defective product even though there is no problem in quality, and therefore it is possible to provide a pattern retardation film at a high yield.

本発明に係るパターン位相差フィルム1の概略図である。It is the schematic of the pattern phase difference film 1 which concerns on this invention. 図1のパターン位相差フィルム1の製造方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing method of the pattern phase difference film 1 of FIG. 光配向方式によって配向パターンを形成する手法を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the method of forming an alignment pattern by a photo-alignment system. 実施例及び比較例に係るパターン位相差フィルムにおける配向パターンごとの位相差相の配向相の角度と頻度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the angle and the frequency of the orientation phase of the phase difference phase for every orientation pattern in the pattern phase difference film which concerns on an Example and a comparative example. パッシブ方式による三次元画像表示の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the three-dimensional image display by a passive system.

以下、本発明の具体的な実施形態について、詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and may be implemented with appropriate modifications within the scope of the object of the present invention. can do.

<パターン位相差フィルム1>
図1は、本実施形態の製造方法によって得られるパターン位相差フィルム1を示す図である。なお、以下では「パターン位相差」を「位相差」と略記するが、特に断りがない限り、「位相差」は、「パターン位相差」と同義である。位相差フィルム1は、基材11上にパターン配向層12が形成され、このパターン配向層12上に、重合性液晶組成物を含む位相差層13が形成されることによって得られる。
<Pattern retardation film 1>
FIG. 1 is a diagram showing a pattern retardation film 1 obtained by the manufacturing method of the present embodiment. In the following, “pattern phase difference” is abbreviated as “phase difference”, but “phase difference” is synonymous with “pattern phase difference” unless otherwise specified. The retardation film 1 is obtained by forming a pattern alignment layer 12 on a substrate 11 and forming a retardation layer 13 containing a polymerizable liquid crystal composition on the pattern alignment layer 12.

[基材11]
基材11は、透明フィルム材であり、パターン配向層12を支持する機能を有し、長尺に形成されている。
[Substrate 11]
The base material 11 is a transparent film material, has a function of supporting the pattern alignment layer 12, and is formed in a long shape.

[パターン配向層12]
パターン配向層12は、2種類の配向パターンを交互に有する。本実施形態において、配向パターンは、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を用いて光照射によって配向させる光配向方式によって形成される。
[Pattern orientation layer 12]
The pattern alignment layer 12 has two types of alignment patterns alternately. In this embodiment, the alignment pattern is formed by a photo-alignment method in which alignment is performed by light irradiation using a photo-alignment material that exhibits photo-alignment by polarized light irradiation.

[位相差層13]
位相差層13は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する棒状化合物を含む。位相差層13は、上記配向パターンに沿って形成されるため、右目用の領域に対応する第1位相差領域13Aと、左目用の領域に対応する第2位相差領域13Bとを有する。
[Phase difference layer 13]
The retardation layer 13 contains a rod-like compound that exhibits liquid crystallinity and has a polymerizable functional group in the molecule. Since the retardation layer 13 is formed along the alignment pattern, the retardation layer 13 includes a first retardation region 13A corresponding to the region for the right eye and a second retardation region 13B corresponding to the region for the left eye.

<位相差フィルム1の製造方法>
以下では、光配向方式によって形成する場合における位相差フィルム1の製造方法について説明するが、位相差フィルム1は、賦型UV方式によって形成されたものであってもよい。
<Method for producing retardation film 1>
Below, although the manufacturing method of the retardation film 1 in the case of forming by a photo-alignment system is demonstrated, the retardation film 1 may be formed by the shaping UV system.

図2は、光配向方式による位相差フィルム1の製造方法を示す。まず、(A)ロール31に巻き取った長尺フィルムから基材11を提供し、この基材11上にパターン配向層用組成物32を塗工する組成物塗工処理を行う。続いて、(B)この組成物を乾燥機33で熱硬化させて薄膜状のパターン配向層形成用層12’を形成するパターン配向層形成用層形成処理を行う。続いて、(C)パターン配向層形成用層12’に対して紫外線照射装置34,35から紫外線を照射する紫外線照射処理を行う。これら(A)〜(C)の処理によってパターン配向層12が形成される。   FIG. 2 shows a method for producing the retardation film 1 by the photo-alignment method. First, (A) The base material 11 is provided from the long film wound up by the roll 31, and the composition coating process which coats the composition 32 for pattern orientation layers on this base material 11 is performed. Subsequently, (B) a pattern alignment layer forming layer forming process is performed in which the composition is thermally cured by a dryer 33 to form a thin film pattern alignment layer forming layer 12 ′. Subsequently, (C) the ultraviolet irradiation process of irradiating the pattern alignment layer forming layer 12 ′ with ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation devices 34 and 35 is performed. The pattern alignment layer 12 is formed by the processes (A) to (C).

続いて、(D)位相差層形成用の重合性液晶組成物を含有する位相差層形成用塗工液の供給装置36から位相差層形成用塗工液13’を塗工し、位相差層形成用層を形成する位相差層形成用塗工液塗工処理を行う。その後、(E)レベリング装置37を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。その後、(F)乾燥機38を用いて位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することで、上記パターン配向層12が有する、右目用の領域に対応する第1配向領域12Aと、左目用の領域に対応する第2配向領域12Bとの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる配向処理を行う。この配向処理によって位相差層形成用層は、位相差層13となる。   Subsequently, (D) a retardation layer forming coating solution 13 ′ is applied from a retardation layer forming coating solution supply device 36 containing a polymerizable liquid crystal composition for forming a retardation layer. A coating solution for forming a retardation layer for forming a layer forming layer is applied. Thereafter, (E) a leveling process is performed using the leveling device 37 to make the thickness of the retardation layer forming layer uniform. Then, the pattern alignment layer 12 has the above-mentioned pattern alignment layer 12 by heating the rod-shaped compound contained in the coating film of the retardation layer forming coating solution to a temperature higher than the liquid crystal phase forming temperature by using the dryer 38. An alignment process is performed in which rod-shaped compounds are arranged along different alignment directions of the first alignment region 12A corresponding to the region of the second region and the second alignment region 12B corresponding to the region for the left eye. By this alignment treatment, the retardation layer forming layer becomes the retardation layer 13.

その後、(G)冷却機39を用いて、基材11/パターン配向層12/位相差層13からなる積層体を冷却する冷却処理を行い、(H)紫外線照射装置40を用いて、重合性棒状化合物に紫外線を照射する。そして、(I)測定面内で複数の測定値を取得可能な光軸測定器41を用いて、配向パターンのそれぞれについて、配向パターンを形成する際に設定された配向軸と、位相差層13の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度を測定する。そして、(I)フィルムを巻き取りリール42に巻き取った後、所望の大きさに切り出す切断処理を行う。上記の工程を経て位相差フィルム1が作製される。   Then, the cooling process which cools the laminated body which consists of (G) cooler 39 and which consists of the base material 11 / pattern orientation layer 12 / retardation layer 13 is performed, (H) Polymerization property using the ultraviolet irradiation device 40 The rod-shaped compound is irradiated with ultraviolet rays. (I) Using the optical axis measuring device 41 capable of acquiring a plurality of measurement values in the measurement plane, the alignment axis set when forming the alignment pattern for each alignment pattern, and the retardation layer 13 The orientation deviation angle defined by the absolute value of the angle difference from the orientation axis is measured. Then, (I) after the film is taken up on the take-up reel 42, a cutting process for cutting it out to a desired size is performed. The retardation film 1 is produced through the above steps.

[(A)組成物塗工処理]
まず、ロール31に巻き取った長尺フィルムから基材11を提供し、この基材11上にパターン配向層用組成物32を塗工する組成物塗工処理を行う。
[(A) Composition coating treatment]
First, the base material 11 is provided from the long film wound up by the roll 31, and the composition coating process which coats the composition 32 for pattern orientation layers on this base material 11 is performed.

〔基材11〕
基材11は、透明フィルム材であり、パターン配向層12を支持する機能を有し、長尺に形成されている。
[Base material 11]
The base material 11 is a transparent film material, has a function of supporting the pattern alignment layer 12, and is formed in a long shape.

基材11は、位相差が小さいことが好ましく、面内位相差(面内レターデーション値、以下「Re値」ともいう。)が、0nm〜10nmの範囲内であることが好ましく、0nm〜5nmの範囲内であることがより好ましく、0nm〜3nmの範囲内であることがさらに好ましい。Re値が10nmを超えると、パターン配向膜を用いたフラットパネルディスプレイの表示品質が悪くなる可能性がある点で好ましくない。   The substrate 11 preferably has a small retardation, and an in-plane retardation (in-plane retardation value, hereinafter also referred to as “Re value”) is preferably in the range of 0 nm to 10 nm, and 0 nm to 5 nm. More preferably, it is in the range of 0 nm to 3 nm. If the Re value exceeds 10 nm, the display quality of the flat panel display using the pattern alignment film may be deteriorated, which is not preferable.

ここで、Re値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標をいい、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をNx、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をNy、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚さをdとした場合に、
Re[nm]=(Nx−Ny)×d[nm]
で表わされる値である。Re値は、例えば、位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用い、平行ニコル回転法により測定することができる。また、本明細書においては、特に別段の記載をしない限り、Re値は波長589nmにおける値を意味するものとする。
Here, the Re value is an index indicating the degree of birefringence in the in-plane direction of the refractive index anisotropic body. When the refractive index in the fast axis direction orthogonal to the axial direction is Ny, and the thickness in the direction perpendicular to the in-plane direction of the refractive index anisotropic body is d,
Re [nm] = (Nx−Ny) × d [nm]
It is a value represented by. The Re value can be measured by, for example, a parallel Nicol rotation method using a phase difference measuring device KOBRA-WR (manufactured by Oji Scientific Instruments). Further, in this specification, unless otherwise specified, the Re value means a value at a wavelength of 589 nm.

基材11の可視光領域における透過率は、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。ここで、透明フィルム基材の透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。   The transmittance of the substrate 11 in the visible light region is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. Here, the transmittance | permeability of a transparent film base material can be measured by JISK7361-1 (the test method of the total light transmittance of a plastic-transparent material).

基材11は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル材であることが好ましい。このようなフレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類等を例示することができる。中でも、光学的等方性に優れ、光学的特性に優れたパターン配向膜を製造できる点でセルロース誘導体を用いることが好ましい。   The substrate 11 is preferably a flexible material having flexibility that can be wound into a roll. Such flexible materials include cellulose derivatives, norbornene polymers, cycloolefin polymers, polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyimide, polyarylate, polyethylene terephthalate, polysulfone, polyethersulfone, amorphous polyolefin, modified acrylic polymer, polystyrene. And epoxy resins, polycarbonates, polyesters, and the like. Especially, it is preferable to use a cellulose derivative at the point which is excellent in optical isotropy and can manufacture the pattern orientation film excellent in the optical characteristic.

上記セルロース誘導体の中でも、工業的に広く用いられ、入手が容易である点で、セルロースエステルを用いることが好ましく、セルロースアシレート類を用いることがより好ましい。   Among the cellulose derivatives, cellulose esters are preferably used and cellulose acylates are more preferably used because they are widely used industrially and are easily available.

上記セルロースアシレート類としては、炭素数2〜4の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであってもよい。   As said cellulose acylates, C2-C4 lower fatty acid ester is preferable. The lower fatty acid ester may include only a single lower fatty acid ester such as cellulose acetate, and may include a plurality of fatty acid esters such as cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate. There may be.

低級脂肪酸エステルの中でも、セルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が57.5%〜62.5%(置換度:2.6〜3.0)のTACを用いることが最も好ましい。ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験方法)におけるアセチル化度の測定及び計算により求めることができる。なお、TACの酢化度は、フィルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。   Among the lower fatty acid esters, cellulose acetate can be particularly preferably used. As the cellulose acetate, it is most preferable to use TAC having an average degree of acetylation of 57.5% to 62.5% (substitution degree: 2.6 to 3.0). Here, the degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose. The degree of acetylation can be determined by measurement and calculation of the degree of acetylation in ASTM: D-817-91 (test method for cellulose acetate and the like). In addition, the acetylation degree of TAC can be calculated | required by said method, after removing impurities, such as a plasticizer contained in a film.

基材11の厚さは、パターン配向膜を用いて製造される位相差フィルムの用途等に応じて、当該位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、25μm〜125μmの範囲内であることが好ましく、40μm〜100μmの範囲内であることがより好ましく、60μm〜80μmの範囲内であることがさらに好ましい。25μm未満であると、位相差フィルムに必要な自己支持性を付与できない場合があり、好ましくない。125μmを超えると、位相差フィルムが長尺状である場合、長尺状の位相差フィルムを裁断加工し、枚葉の位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があり、好ましくない。   The thickness of the base material 11 is not particularly limited as long as it is within a range in which the necessary self-supporting property can be imparted to the retardation film, depending on the use of the retardation film produced using the pattern alignment film. Usually, it is preferably within the range of 25 μm to 125 μm, more preferably within the range of 40 μm to 100 μm, and even more preferably within the range of 60 μm to 80 μm. If it is less than 25 μm, the necessary self-supporting property may not be imparted to the retardation film, which is not preferable. When the retardation film is longer than 125 μm, when the retardation film is long, when the long retardation film is cut into a single-phase retardation film, the processing waste increases or the cutting blade is worn. May become faster, which is not preferable.

基材11は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。   The base material 11 is not restricted to the structure which consists of a single layer, You may have the structure by which the several layer was laminated | stacked. When it has the structure by which the several layer was laminated | stacked, the layer of the same composition may be laminated | stacked, and the several layer which has a different composition may be laminated | stacked.

〔基材11の提供〕
基材11の提供にあたっては、長尺フィルムを連続的に搬送できるものであれば、特に限定されるものではなく、一般的な搬送手段を用いる方法を用いることができる。具体的には、ロール状の長尺フィルムを供給する巻き出し機及び長尺フィルムを巻き取る巻き取り機等を用いる方法、ベルトコンベア、搬送用ロール等を用いる方法を挙げることができる。また、エアの吐出と吸引とを行うことにより、長尺配向膜形成用フィルムを浮上させた状態で搬送する浮上式搬送台を用いる方法であっても良い。
[Provision of Substrate 11]
In providing the base material 11, if a long film can be continuously conveyed, it will not specifically limit, The method using a general conveyance means can be used. Specific examples include a method using an unwinder that feeds a roll-shaped long film, a winder that winds the long film, and a method that uses a belt conveyor, a transport roll, and the like. Moreover, the method of using the floating-type conveyance stand which conveys in the state which floated the film for elongate alignment film formation by discharging and sucking | sucking air may be used.

また、搬送時の長尺フィルムへのテンション付与の有無については、長尺フィルムを安定的に連続搬送できる方法であれば特に限定されるものではないが、所定のテンションを加えた状態で搬送されることが好ましい。より安定的に連続搬送することができるからである。   In addition, the presence or absence of tension applied to the long film at the time of conveyance is not particularly limited as long as it is a method capable of stably and continuously conveying the long film, but the film is conveyed with a predetermined tension applied. It is preferable. This is because continuous conveyance can be performed more stably.

搬送手段の色としては、長尺フィルムに紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺フィルムを透過した紫外線を反射しない色であることが好ましい。具体的には、黒色であることが好ましい。このような黒色とする方法としては、例えば、表面をクロム処理する方法を挙げることができる。   The color of the conveying means is preferably a color that does not reflect the ultraviolet light that has passed through the long film when it is disposed at a site where the long film is irradiated with ultraviolet light. Specifically, black is preferable. Examples of such a black method include a method of chromium treatment of the surface.

ロール31の形状としては、安定的に長尺フィルムを搬送することができるものであれば特に限定されるものではないが、長尺フィルムに紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺フィルムの表面と、紫外線照射装置との距離を一定に保つことができるものであることが好ましく、通常、真円形状であることが好ましい。   The shape of the roll 31 is not particularly limited as long as it can stably convey a long film, but when it is arranged at a site where the long film is irradiated with ultraviolet rays, It is preferable that the distance between the surface of the long film and the ultraviolet irradiation device can be kept constant, and it is usually preferable to have a perfect circle shape.

〔パターン配向層用組成物〕
光配向方式によってパターン配向層12を形成する場合、パターン配向層12は、以下に説明するパターン配向層用組成物を含有する。このパターン配向層用組成物は、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を含有する。
[Composition for pattern alignment layer]
When forming the pattern alignment layer 12 by a photo-alignment method, the pattern alignment layer 12 contains the composition for pattern alignment layers demonstrated below. This composition for pattern alignment layers contains the photo-alignment material which exhibits photo-alignment property by polarized light irradiation.

光配向材料とは、偏光紫外線の照射により配向規制力を発現できる材料をいう。配向規制力とは、光配向材料を含む配向層を形成し、この配向層上に棒状化合物(本発明における位相差層形成用の重合性液晶組成物)からなる層を形成したとき、棒状化合物を所定の方向に配列させる機能をいう。   The photo-alignment material refers to a material that can exhibit an alignment regulating force by irradiation with polarized ultraviolet rays. The alignment regulating force means that when an alignment layer containing a photo-alignment material is formed and a layer made of a rod-shaped compound (polymerizable liquid crystal composition for forming a retardation layer in the present invention) is formed on this alignment layer, the rod-shaped compound Is a function of arranging the in a predetermined direction.

光配向材料は、偏光を照射することにより上記配向規制力を発現するものであれば特に限定されるものではない。このような光配向材料はシス−トランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本発明においては上記光異性化材料及び上記光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になる。したがって、光反応材料の方が配向規制力の経時安定性において優れるからである。   The photo-alignment material is not particularly limited as long as it exhibits the above-mentioned alignment regulating force by irradiating polarized light. Such photo-alignment materials include photoisomerization materials that reversibly change the alignment regulation force by changing only the molecular shape by cis-trans changes, and photoreaction materials that change the molecules themselves by irradiating polarized light. It can be divided roughly. In the present invention, any of the photoisomerization material and the photoreaction material can be preferably used, but the photoreaction material is more preferably used. Since the photoreactive material is one in which molecules react with each other when polarized light is irradiated to express the alignment regulating force, it is possible to irreversibly express the alignment regulating force. Therefore, the photoreactive material is superior in the temporal stability of the orientation regulating force.

上記光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、及び光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本発明においては上記光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、安定性及び反応性(感度)等の観点から光二量化型材料を用いることがより好ましい。   The photoreactive material can be further classified according to the type of reaction caused by polarized light irradiation. Specifically, a photodimerization type material that develops an alignment regulation force by causing a photodimerization reaction, a photodegradable material that produces an orientation regulation force by producing a photodecomposition reaction, an orientation regulation by producing a photobinding reaction It can be divided into a photocoupled material that develops force, and a photodecomposition-coupled material that develops alignment regulating force by causing a photodecomposition reaction and a photocoupled reaction. In the present invention, any of the above-mentioned photoreactive materials can be suitably used, but it is more preferable to use a photodimerization type material from the viewpoint of stability and reactivity (sensitivity).

光二量化型材料は、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されないが、配向規制力が良好である点から、光二量化反応を生じる光の波長が280nm以上であることが好ましく、280nm〜400nmの範囲内であることがより好ましく、300nm〜380nmの範囲内であることがさらに好ましい。   The photodimerization type material is not particularly limited as long as it is a material capable of expressing the alignment regulating force by causing the photodimerization reaction. However, from the point that the alignment regulating force is good, the wavelength of light causing the photodimerization reaction is 280 nm or more. It is preferable that it is within a range of 280 nm to 400 nm, and more preferably within a range of 300 nm to 380 nm.

このような光二量化型材料として、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、又はシンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーが挙げられる。中でも、配向規制力が良好である点で、シンナメート、クマリンの一方又は両方を有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平9−118717号公報、特表平10−506420号公報、特表2003−505561号公報及びWO2010/150748号公報に記載された化合物を挙げることができる。   Examples of such a photodimerization type material include polymers having cinnamate, coumarin, benzylidenephthalimidine, benzylideneacetophenone, diphenylacetylene, stilbazole, uracil, quinolinone, maleinimide, or a cinnamilidene acetic acid derivative. Among them, a polymer having one or both of cinnamate and coumarin is preferably used in that the orientation regulating force is good. Specific examples of such a photodimerization type material include compounds described in, for example, JP-A-9-118717, JP-T-10-506420, JP-T2003-505561, and WO2010 / 150748. Can be mentioned.

上記シンナメート及びクマリンは、下記式Ia、Ibで表されるものが好適に用いられる。

Figure 2014119569
As the cinnamate and coumarin, those represented by the following formulas Ia and Ib are preferably used.
Figure 2014119569

上記式中、Aは、ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイル、2,5−チオフェニレン、2,5−フラニレン、1,4−もしくは2,6−ナフチレンを表すか、非置換であるか、フッ素、塩素又は炭素原子1〜18個の環式、直鎖状もしくは分岐鎖状アルキル残基(非置換であるか、フッ素、塩素によって一又は多置換されており、1個以上の隣接しない−CH−基が独立して基Cによって置換されていてもよい)によって一又は多置換されているフェニレンを表す。 In the above formula, A represents pyrimidine-2,5-diyl, pyridine-2,5-diyl, 2,5-thiophenylene, 2,5-furylene, 1,4- or 2,6-naphthylene, Unsubstituted, fluorine, chlorine or cyclic, linear or branched alkyl residues of 1 to 18 carbon atoms (unsubstituted or mono- or polysubstituted by fluorine, chlorine, 1 Represents phenylene which is mono- or polysubstituted by two or more non-adjacent —CH 2 — groups which may be independently substituted by the group C.

上記式中、Bは、水素原子を表すか、第二の物質、例えばポリマー、オリゴマー、モノマー、光活性ポリマー、光活性オリゴマー及び/又は光活性モノマーもしくは表面と反応又は相互作用することができる基を表す。   In the above formula, B represents a hydrogen atom or a group capable of reacting or interacting with a second substance, such as a polymer, oligomer, monomer, photoactive polymer, photoactive oligomer and / or photoactive monomer or surface. Represents.

上記式中、Cは、−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−NR−、−NR−CO−、−CO−NR−、−NR−CO−O−、−O−CO−NR−、−NR−CO−NR−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−CO−O−及びSi(CH3)2−O−Si(CH3)2−(Rは水素原子又は低級アルキルを表す)から選択される基を表す。 In the above formula, C represents —O—, —CO—, —CO—O—, —O—CO—, —NR 1 —, —NR 1 —CO—, —CO—NR 1 —, —NR 1 —. CO—O—, —O—CO—NR 1 —, —NR 1 —CO—NR 1 —, —CH═CH—, —C≡C—, —O—CO—O— and Si (CH 3) 2 — A group selected from O—Si (CH 3) 2 — (wherein R 1 represents a hydrogen atom or lower alkyl).

上記式中、Dは、−O−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−NR−、−NR−CO−、−CO−NR−、−NR−CO−O−、−O−CO−NR−、−NR−CO−NR−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−CO−O−及びSi(CH3)2−O−Si(CH3)2−(Rは水素原子又は低級アルキルを表す)から選択される基、芳香族基又は脂環式基を表す。 In the above formula, D represents —O—, —CO—, —CO—O—, —O—CO—, —NR 1 —, —NR 1 —CO—, —CO—NR 1 —, —NR 1 —. CO—O—, —O—CO—NR 1 —, —NR 1 —CO—NR 1 —, —CH═CH—, —C≡C—, —O—CO—O— and Si (CH 3) 2 — A group selected from O—Si (CH 3) 2 — (R 1 represents a hydrogen atom or lower alkyl), an aromatic group or an alicyclic group.

上記式中、S及びSは、互いに独立して、単結合又はスペーサー単位、例えば炭素原子1〜40個の直鎖状もしくは分岐鎖状アルキレン基(非置換であるか、フッ素、塩素によって一又は多置換されており、1個以上の隣接しない−CH−基が独立して基Dによって置換されていてもよいが、酸素原子が互いに直接的には結合していない)を表す。 In the above formula, S 1 and S 2 are independently of each other a single bond or a spacer unit, for example a linear or branched alkylene group having 1 to 40 carbon atoms (unsubstituted, fluorine or chlorine One or more substituted and one or more non-adjacent —CH 2 — groups may be independently substituted by the group D, but the oxygen atoms are not directly bonded to each other).

上記式中、Qは、酸素原子又はNR−(Rは水素原子又は低級アルキルを表す)を表す。 In the above formula, Q represents an oxygen atom or NR 1 — (R 1 represents a hydrogen atom or lower alkyl).

上記式中、X及びYは、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、シアノ、炭素原子1〜12個のアルキル(場合によってはフッ素によって置換されており、場合によっては1個以上の隣接しないアルキル−CH−基が−O−、−CO−O−、−O−CO−及び/又はCH=CH−によって置換されている)を表す。 In the above formula, X and Y are independently of each other hydrogen, fluorine, chlorine, cyano, alkyl having 1 to 12 carbon atoms (optionally substituted by fluorine and optionally not one or more adjacent). alkyl -CH 2 - groups are -O -, - CO-O - , - O-CO- and / or CH = CH- represents a) are replaced by.

なお、本発明に用いられる光配向材料は、1種類のみであってもよく、2種類以上を用いてもよい。   In addition, the photo-alignment material used for this invention may be only 1 type, and may use 2 or more types.

〔パターン配向層用組成物32の塗工〕
パターン配向層用組成物32を塗工するにあたり、本実施形態では、グラビアコートの手法を適用してパターン配向層用組成物32を塗工しているが、これに限るものではない。具体的には、グラビアコート法のほか、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、E型塗布方法等を用いることができる。
[Coating of Composition 32 for Pattern Orientation Layer]
In applying the pattern alignment layer composition 32, in the present embodiment, the gravure coating method is applied to apply the pattern alignment layer composition 32. However, the present invention is not limited to this. Specifically, in addition to the gravure coating method, reverse coating method, knife coating method, dip coating method, spray coating method, air knife coating method, spin coating method, roll coating method, printing method, dip pulling method, curtain coating method A die coating method, a casting method, a bar coating method, an extrusion coating method, an E-type coating method, or the like can be used.

パターン配向層形成用層12’の厚さは、所望の平面性を達成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、0.5μm〜10μmの範囲内であることが好ましく、1μm〜5μmの範囲内であることがより好ましく、1.5μm〜3μmの範囲内であることがさらに好ましい。   The thickness of the pattern alignment layer forming layer 12 ′ is not particularly limited as long as the desired planarity can be achieved, but is preferably in the range of 0.5 μm to 10 μm, and preferably 1 μm to More preferably, it is in the range of 5 μm, and further preferably in the range of 1.5 μm to 3 μm.

[(B)パターン配向層形成用層形成処理]
パターン配向層形成用層形成処理では、乾燥機33を用いてパターン配向層用組成物を熱硬化させる。この処理では、図示しない反転ローラにより基材11の上下を逆転させた後、乾燥機33に導き、ここでパターン配向層用組成物を熱硬化させた後、半乾きの状態で次の工程に送出する。
[(B) Layer formation processing for pattern alignment layer formation]
In the pattern alignment layer forming layer forming process, the pattern alignment layer composition is thermally cured using the dryer 33. In this process, the substrate 11 is turned upside down by a reversing roller (not shown), and then guided to the dryer 33, where the pattern alignment layer composition is thermally cured, and then the next step is performed in a semi-dry state. Send it out.

パターン配向層用組成物の硬化温度は、100℃以上130℃以下であることが好ましい。100℃未満であると組成物を均一に熱硬化できず、薄膜が不均一になる可能性がある点で好ましくない。130℃を超えると、基材11や薄膜が収縮する可能性があるため、好ましくない。   The curing temperature of the pattern alignment layer composition is preferably 100 ° C. or higher and 130 ° C. or lower. When the temperature is lower than 100 ° C., the composition cannot be uniformly heat-cured, which is not preferable because the thin film may be non-uniform. If it exceeds 130 ° C., the substrate 11 and the thin film may shrink, which is not preferable.

パターン配向層用組成物の硬化時間は、1分以上10分未満であることが好ましい。1分未満であると、熱硬化できず、薄膜が不均一になる可能性がある点で好ましくない。10分を超えると、ハジキや欠点が発生する可能性や、基材11や薄膜が収縮する可能性があるため、好ましくない。   The curing time of the pattern alignment layer composition is preferably 1 minute or more and less than 10 minutes. If it is less than 1 minute, it cannot be thermally cured, and this is not preferable in that the thin film may become non-uniform. Exceeding 10 minutes is not preferable because repelling or defects may occur and the base material 11 or the thin film may shrink.

[(C)紫外線照射処理]
続いて、パターン配向層形成用層12’に対して紫外線を照射する紫外線照射処理について、図3を参照しながら詳しく説明する。
[(C) UV irradiation treatment]
Next, an ultraviolet irradiation process for irradiating the pattern alignment layer forming layer 12 'with ultraviolet rays will be described in detail with reference to FIG.

まず、図3の(A)に示すように、右目用の領域に対応する第1配向準備領域12’Aを遮光せず、左目用の領域に対応する第2配向準備領域12’Bだけを遮光した第1マスク21を介して、直線偏光による紫外線(偏光紫外線)を光配向膜形成用層12’に向けて照射することにより、遮光されていない第1配向準備領域12’Aを所望の方向に配向させる。続いて、図3の(B)に示すように、左目用の領域に対応する第1配向準備領域12’Bを遮光せず、右目用の領域に対応する第2配向準備領域12’Aだけを遮光した第2マスク22を介して、直線偏光による紫外線(偏光紫外線)を光配向膜形成用層12’に向けて照射することにより、遮光されていない第2配向準備領域12’Bを所望の方向に配向させる。これら2回の紫外線照射により、2種類の配向パターンが形成される。   First, as shown in FIG. 3A, the first alignment preparation region 12′A corresponding to the region for the right eye is not shielded, and only the second alignment preparation region 12′B corresponding to the region for the left eye is used. By irradiating the photo-alignment film forming layer 12 ′ with ultraviolet rays (polarized ultraviolet rays) by linearly polarized light through the light-shielded first mask 21, the first alignment preparation region 12′A that is not shielded is desired. Orient in the direction. Subsequently, as shown in FIG. 3B, the first alignment preparation region 12′B corresponding to the left-eye region is not shielded, but only the second alignment preparation region 12′A corresponding to the right-eye region. The second alignment preparation region 12′B that is not shielded is desired by irradiating the photo-alignment film forming layer 12 ′ with ultraviolet rays (polarized ultraviolet rays) by linearly polarized light through the second mask 22 that shields light. Orient in the direction. Two types of alignment patterns are formed by these two UV irradiations.

図3の例では、まず第1配向準備領域12’Aに偏光紫外線を照射し、その後、第2配向準備領域12’Bに偏光紫外線を照射しているが、この順番に限るものではなく、まず第2配向準備領域12’Bに偏光紫外線を照射し、その後、第1配向準備領域12’Aに偏光紫外線を照射してもよい。   In the example of FIG. 3, the first alignment preparation region 12′A is first irradiated with polarized ultraviolet light, and then the second alignment preparation region 12′B is irradiated with polarized ultraviolet light. However, the order is not limited to this, First, the second alignment preparation region 12′B may be irradiated with polarized ultraviolet light, and then the first alignment preparation region 12′A may be irradiated with polarized ultraviolet light.

マスク21,22のパターンは、基材11の搬送流れ方向に沿ったストライプ状であることが好ましい。より詳しくは、長尺の基材11の長手方向に互いに平行な帯状のパターンであること、すなわち、パターン照射が、長尺の基材11の長手方向に互いに平行な帯状のパターンに偏光紫外線を照射するものであることが好ましい。偏光紫外線の照射位置を固定し、長尺フィルムを長手方向に搬送することで容易に形成できるからである。また、精度良くパターン状に照射できるからである。また、位相差層13における、右目用の領域に対応する第1位相差領域13A及び左目用の領域に対応する第2位相差領域13Bが形成されているパターンと、表示装置に用いられるカラーフィルタ等において画素が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になるからである。   The patterns of the masks 21 and 22 are preferably striped along the direction of conveyance of the substrate 11. More specifically, it is a strip-like pattern parallel to the longitudinal direction of the long base material 11, that is, pattern irradiation is performed by applying polarized ultraviolet rays to the strip-like pattern parallel to the longitudinal direction of the long base material 11. It is preferable to irradiate. It is because it can form easily by fixing the irradiation position of polarized ultraviolet rays and conveying a long film in a longitudinal direction. Moreover, it is because it can irradiate with pattern shape with sufficient precision. In the retardation layer 13, a pattern in which a first retardation region 13A corresponding to the region for the right eye and a second retardation region 13B corresponding to the region for the left eye are formed, and a color filter used in the display device This is because it is easy to make the correspondence with the pattern in which the pixels are formed.

マスク21,22のパターン幅、すなわち、偏光紫外線の照射幅及び照射間隔(非照射幅)としては、同一であってもよく、あるいは異なっていてもよいが、右目用の領域に対応する領域の幅と左目用の領域に対応する領域との幅は同一であることが好ましい。位相差層13における第1位相差領域13A及び第2位相差領域13Bが形成されているパターンと、画素部が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になり、その結果、フラットパネルディスプレイを容易に製造できるからである。カラーフィルタのストライプラインと位置を合わせる場合は、右目用の領域に対応する領域及び左目用の領域に対応する領域が形成されたパターンと、上記カラーフィルタのストライプパターンとを対応関係となるような幅で照射されることが好ましい。   The pattern widths of the masks 21 and 22, that is, the irradiation width and irradiation interval (non-irradiation width) of polarized ultraviolet rays may be the same or different, but the region corresponding to the region for the right eye The width and the width corresponding to the left eye area are preferably the same. The pattern in which the first phase difference region 13A and the second phase difference region 13B are formed in the phase difference layer 13 and the pattern in which the pixel portion is formed can be easily associated with each other. This is because a panel display can be easily manufactured. When aligning the position with the stripe line of the color filter, the pattern in which the region corresponding to the region for the right eye and the region corresponding to the region for the left eye are formed and the stripe pattern of the color filter have a corresponding relationship. It is preferable to irradiate with a width.

三次元表示用途の場合、パターン幅は、50μm〜1000μmの範囲内であることが好ましく、100μm〜600μmの範囲内であることがより好ましい。なお、ここでいうパターン幅は、パターン位相差フィルム10(図4参照)に含まれる基材11が安定収縮状態での、光配向膜12のパターン幅を指す。   In the case of a three-dimensional display application, the pattern width is preferably in the range of 50 μm to 1000 μm, and more preferably in the range of 100 μm to 600 μm. In addition, the pattern width here refers to the pattern width of the photo-alignment film | membrane 12 in the base material 11 contained in the pattern phase difference film 10 (refer FIG. 4) in a stable contraction state.

マスク21,22を構成する材料としては、所望の開口部を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、紫外線による劣化がほとんどない金属や石英等を挙げることができる。具体的には、SUS等の金属基板をエッチング加工、レーザー加工、又は電鋳加工によりパターンニングし、さらに必要に応じてニッケルメッキ等の表面処理を施したものを用いることができる。また、ソーダライムガラスや石英からなる基板上に、エマルジョン(銀塩)や、クロムからなる遮光膜を有するものとすることができる。   The material constituting the masks 21 and 22 is not particularly limited as long as a desired opening can be formed, and examples thereof include metals and quartz that are hardly deteriorated by ultraviolet rays. Specifically, a metal substrate such as SUS that has been patterned by etching, laser processing, or electroforming, and further subjected to surface treatment such as nickel plating as necessary can be used. Further, a light shielding film made of emulsion (silver salt) or chromium can be provided on a substrate made of soda lime glass or quartz.

中でも、合成石英にCrをパターニングしたものであることが好ましい。温度・湿度変化等に対する寸法安定性と紫外線透過率とに優れ、光配向膜形成用組成物からなる光配向膜形成用層12’に精度良く紫外線を照射でき、結果として精度の高い光配向膜12を形成できるからである。   Among them, it is preferable that Cr is patterned on synthetic quartz. It is excellent in dimensional stability and ultraviolet transmittance with respect to temperature / humidity change, etc., and can accurately irradiate the photo-alignment film forming layer 12 ′ made of the photo-alignment film-forming composition with ultraviolet rays. This is because 12 can be formed.

合成石英マスクの厚さとしては、寸法精度良くパターンを形成できるものであれば特に限定されるものではないが、1mm〜20mmの範囲内であることが好ましく、3mm〜18mmの範囲内であることがより好ましく、5mm〜16mmの範囲内であることがさらに好ましい。厚さが上述の範囲内であることにより、たわまないものとすることができ、寸法精度の高いものとすることができるとともに、フォトマスクとしてハンドリングする際に重過ぎることがないからである。   The thickness of the synthetic quartz mask is not particularly limited as long as it can form a pattern with high dimensional accuracy, but is preferably in the range of 1 mm to 20 mm, and is in the range of 3 mm to 18 mm. Is more preferable and it is still more preferable that it exists in the range of 5 mm-16 mm. This is because when the thickness is within the above-mentioned range, the thickness can be reduced, the dimensional accuracy can be improved, and the photomask is not excessively heavy. .

偏光紫外線の偏光方向は、右目用の領域に対応する領域に対する偏光方向と、左目用の領域に対応する領域に対する偏光方向とが異なるものであれば特に限定されるものではないが、両者の間で90°異なるものであることが好ましい。第1位相差領域13Aと第2位相差領域13Bとの間で屈折率が最も大きくなる方向(遅相軸方向)を互いに直交する関係とすることができることから、三次元表示が可能な表示装置をより好適に製造できるためである。   The polarization direction of the polarized ultraviolet light is not particularly limited as long as the polarization direction with respect to the region corresponding to the region for the right eye and the polarization direction with respect to the region corresponding to the region for the left eye are different. It is preferable that the difference is 90 °. Since the direction (slow axis direction) in which the refractive index is maximum between the first phase difference region 13A and the second phase difference region 13B can be orthogonal to each other, a display device capable of three-dimensional display It is because it can manufacture more suitably.

90°異なる方向とは、パターン位相差フィルム10を用いて三次元表示が可能な表示装置を形成した際に、精度良く三次元表示を行うことができるものであれば特に限定されるものではないが、通常、90°±3°の範囲内であることが好ましく、90°±2°程度の範囲内であることがより好ましく、90°±1°程度の範囲内であることがさらに好ましい。高性能な三次元表示が可能な表示装置とすることができるからである。   The direction different by 90 ° is not particularly limited as long as it can accurately perform three-dimensional display when a display device capable of three-dimensional display is formed using the pattern retardation film 10. Is usually preferably in the range of 90 ° ± 3 °, more preferably in the range of about 90 ° ± 2 °, and still more preferably in the range of about 90 ° ± 1 °. This is because a display device capable of high-performance three-dimensional display can be obtained.

偏光紫外線は、集光されていても良いし、集光されていないものであっても良いが、パターン照射が搬送用ロール上の長尺フィルムに対して行われるような場合、すなわち、偏光紫外線が照射される領域内で、偏光紫外線の光源からの距離の差が生じる場合には、搬送方向に対して集光されていることが好ましい。光源からの距離による影響を低減し、パターン精度良く配向領域を形成することができるからである。   The polarized ultraviolet light may be collected or may not be collected. However, when the pattern irradiation is performed on the long film on the transport roll, that is, the polarized ultraviolet light. When there is a difference in the distance from the light source of polarized ultraviolet light within the region irradiated with, the light is preferably condensed with respect to the transport direction. This is because the influence of the distance from the light source can be reduced and the alignment region can be formed with high pattern accuracy.

集光方法としては、一般的に用いられる方法、例えば、所望の形状を有する集光リフレクターや集光レンズを用いる方法を挙げることができる。本発明においては、偏光紫外線が搬送方向と直交する方向(幅方向)に対して平行光となるものであることが好ましく、平行化方法としては一般的に用いられる方法、例えば、所望の形状を有する集光リフレクターや集光レンズを用いる方法を挙げることができる。   Examples of the condensing method include a generally used method, for example, a method using a condensing reflector or a condensing lens having a desired shape. In the present invention, it is preferable that the polarized ultraviolet light is parallel light with respect to the direction (width direction) orthogonal to the transport direction. As a parallelization method, a generally used method, for example, a desired shape is used. Examples thereof include a method using a condensing reflector or a condensing lens.

偏光紫外線の波長は、光配向材料等に応じて適宜設定されるものであり、一般的な光配向材料に配向規制力を発現させる際に用いられる波長とすることができ、具体的には、波長が210nm〜380nm、好ましくは230nm〜380nm、さらに好ましくは250nm〜380nmの照射光を用いることが好ましい。   The wavelength of the polarized ultraviolet light is appropriately set according to the photo-alignment material and the like, and can be a wavelength used when expressing the alignment regulating force in a general photo-alignment material. Specifically, It is preferable to use irradiation light having a wavelength of 210 nm to 380 nm, preferably 230 nm to 380 nm, more preferably 250 nm to 380 nm.

紫外線の光源としては、低圧水銀ランプ(殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト)、高圧放電ランプ(高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ)、ショートアーク放電ランプ(超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ)等が例示できる。中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等を好ましく用いることができる。   Low-pressure mercury lamps (sterilization lamps, fluorescent chemical lamps, black lights), high-pressure discharge lamps (high-pressure mercury lamps, metal halide lamps), short arc discharge lamps (super-high pressure mercury lamps, xenon lamps, mercury xenon lamps) Etc. can be illustrated. Of these, a metal halide lamp, a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, and the like can be preferably used.

偏光紫外線の生成方法としては、偏光紫外線を安定的に照射できる方法であれば特に限定されるものではないが、一定方向の偏光のみが通過できる偏光子を介して紫外線照射する方法を用いることができる。   The method for generating polarized ultraviolet rays is not particularly limited as long as it is a method capable of stably irradiating polarized ultraviolet rays, but a method of irradiating ultraviolet rays through a polarizer that can pass only polarized light in a certain direction is used. it can.

このような偏光子としては、偏光光の生成に一般的に用いられるものを使用することができ、例えば、スリット状の開口部を有するワイヤーグリッド型偏光子や、石英板を複数枚積層してブリュースター角を利用して偏光分離する方法や、屈折率の異なる蒸着多層膜のブリュースター角を利用して偏光分離する方法を用いるもの等を挙げることができる。   As such a polarizer, one that is generally used for generation of polarized light can be used. For example, a wire grid polarizer having a slit-shaped opening or a plurality of quartz plates are laminated. Examples thereof include a method of performing polarization separation using a Brewster angle, and a method of using a method of performing polarization separation using a Brewster angle of vapor-deposited multilayer films having different refractive indexes.

図3に示すように、1回目の露光時と2回目の露光時との両方においてスリットを有するマスク21,22を用いる場合は、1回目の露光時における偏光紫外線の照射量と、2回目の露光時における偏光紫外線の照射量とは同じであることが好ましい。照射量を同じにすることで、配向領域ごとの光配向膜12の配向規制力の程度を同じにすることができる。一方で、1回目の露光時のみスリットを有するマスク21を用い、2回目の露光時にはマスクを用いなくてもよい。この場合、マスク21の位置調整が簡便となり、不良品の発生頻度を抑えることができる。この場合は、1回目の露光時の照射量に比べ、2回目の露光時の照射量を低く抑える必要がある。照射量を同じにすると、1回目及び2回目の両方で光が照射される領域と、2回目だけ光が照射される領域との間でムラが配向状態にムラが生じ得るためである。   As shown in FIG. 3, when the masks 21 and 22 having slits are used in both the first exposure and the second exposure, the irradiation amount of the polarized ultraviolet rays in the first exposure and the second exposure It is preferable that the irradiation amount of polarized ultraviolet rays at the time of exposure is the same. By making the irradiation amount the same, the degree of alignment regulating force of the photo-alignment film 12 for each alignment region can be made the same. On the other hand, it is not necessary to use the mask 21 having the slit only at the first exposure and to use the mask at the second exposure. In this case, the position adjustment of the mask 21 is simplified, and the occurrence frequency of defective products can be suppressed. In this case, it is necessary to keep the irradiation amount at the second exposure low compared to the irradiation amount at the first exposure. This is because if the irradiation amount is the same, unevenness may occur in the alignment state between the region irradiated with light both in the first time and the second time and the region irradiated with light only in the second time.

偏光紫外線の照射量は、所望の配向規制力を有する配向領域を形成できる必要があり、波長310nmである場合、5mJ/cm〜500mJ/cmの範囲内であることが好ましく、5mJ/cm〜300mJ/cmの範囲内であることがより好ましく、5mJ/cm〜100mJ/cmの範囲内であることがさらに好ましい。 The irradiation amount of polarized ultraviolet rays needs to be able to form an alignment region having a desired alignment regulating force. When the wavelength is 310 nm, it is preferably within a range of 5 mJ / cm 2 to 500 mJ / cm 2. more preferably 2 ~300mJ / cm is in the range of 2, and still more preferably in the range of 5mJ / cm 2 ~100mJ / cm 2 .

偏光紫外線の照射距離、すなわち、偏光紫外線の照射を受ける長尺フィルムの搬送方向の距離としては、各露光処理で上述の照射量とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、ライン速度等に応じて適宜設定することができる。照射距離が短い場合には、パターン精度の高いものとすることが容易となり、照射距離が長い場合には、ライン速度の速い場合でも十分な配向規制力を有する配向領域とすることができるといった利点がある。なお、照射距離を長くする方法としては、各露光処理での偏光紫外線の照射回数を複数回としたり、搬送方向に照射面積を広くする方法を挙げることができる。   The irradiation distance of polarized ultraviolet rays, that is, the distance in the conveyance direction of the long film that receives irradiation of polarized ultraviolet rays is not particularly limited as long as it can be the above-mentioned irradiation amount in each exposure process, It can be set as appropriate according to the line speed or the like. When the irradiation distance is short, it becomes easy to achieve high pattern accuracy, and when the irradiation distance is long, the advantage is that an alignment region having a sufficient alignment regulating force can be obtained even when the line speed is high. There is. In addition, as a method of lengthening the irradiation distance, a method of increasing the number of irradiation times of polarized ultraviolet rays in each exposure process or increasing the irradiation area in the transport direction can be exemplified.

薄膜に対して偏光紫外線を照射する際、薄膜の温度が一定となるように温度調節することが好ましい。配向領域を精度良く形成することができるからである。薄膜の温度は、15℃〜90℃であることが好ましく、15℃〜60℃であることがより好ましい。温度調節の方法としては、一般的な加熱・冷却装置等の温度調節装置を用いる方法を挙げることができる。具体的には所定の温度の空気を送風することができる送風装置を用いる方法や、上記搬送手段として、温度調節可能なものを用いる方法、より具体的には、温度調節可能な搬送用ロールやベルトコンベア等を用いる方法を挙げることができる。   When irradiating the thin film with polarized ultraviolet light, it is preferable to adjust the temperature so that the temperature of the thin film becomes constant. This is because the alignment region can be formed with high accuracy. The temperature of the thin film is preferably 15 ° C to 90 ° C, and more preferably 15 ° C to 60 ° C. Examples of the temperature control method include a method using a temperature control device such as a general heating / cooling device. Specifically, a method using a blower capable of blowing air at a predetermined temperature, a method using a temperature-adjustable as the conveying means, more specifically, a temperature-adjustable conveying roll, The method using a belt conveyor etc. can be mentioned.

[(D)位相差層形成用塗工液塗工処理]
図2に戻り、位相差層形成用塗工液塗工処理について説明する。本実施形態では、位相差層形成用塗工液の供給装置36から位相差層形成用塗工液を塗工している。具体的な塗工の方法としては、パターン配向層12上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、(A)組成物塗工処理で説明したものと同じものを例示できる。
[(D) Retardation layer forming coating liquid coating treatment]
Returning to FIG. 2, the coating liquid coating process for forming the retardation layer will be described. In the present embodiment, the retardation layer forming coating solution is applied from the retardation layer forming coating solution supply device 36. A specific coating method is not particularly limited as long as it is a method capable of stably forming a coating film made of a retardation layer forming coating solution on the pattern alignment layer 12. The same thing as what was demonstrated by the material coating process can be illustrated.

〔位相差層形成用塗工液〕
位相差層形成用塗工液は、1種又は2種以上の重合性液晶化合物を含有する。以下、このことについて詳しく説明する。
[Phase difference layer forming coating solution]
The retardation layer forming coating solution contains one or more polymerizable liquid crystal compounds. This will be described in detail below.

(重合性液晶化合物)
重合性液晶化合物は、屈折率異方性を有し、賦型処理によって発現される配向パターンに沿って規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。重合性液晶化合物として、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す液晶化合物を用いることがより好ましい。
(Polymerizable liquid crystal compound)
The polymerizable liquid crystal compound has a refractive index anisotropy, and has a function of imparting a desired retardation by arranging regularly along an alignment pattern expressed by a shaping treatment. Examples of the polymerizable liquid crystal compound include materials exhibiting a liquid crystal phase such as a nematic phase and a smectic phase, but nematic is preferable in that it can be regularly arranged as compared with liquid crystal compounds exhibiting other liquid crystal phases. It is more preferable to use a liquid crystal compound exhibiting a phase.

上記ネマチック相を示す液晶化合物として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶化合物は柔軟性に優れるため、このような液晶化合物を用いることにより、パターン位相差フィルムを透明性に優れたものにすることができる。   As the liquid crystal compound exhibiting the nematic phase, a material having spacers at both ends of the mesogen is preferably used. Since the liquid crystal compound having spacers at both ends of the mesogen is excellent in flexibility, the use of such a liquid crystal compound can make the pattern retardation film excellent in transparency.

液晶化合物は、分子内に重合性官能基を有する。重合性官能基を有することにより、液晶化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくくなる。また、液晶化合物は、分子内に三次元架橋可能な重合性官能基を有することがより好ましい。三次元架橋可能な重合性官能基を有することにより、配列安定性をいっそう高めることができる。なお、「三次元架橋」とは、液晶性分子を互いに三次元に重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることをいう。   The liquid crystal compound has a polymerizable functional group in the molecule. By having a polymerizable functional group, it is possible to polymerize and fix the liquid crystal compound, so that the alignment stability is excellent and the phase change is less likely to occur over time. The liquid crystal compound more preferably has a polymerizable functional group capable of three-dimensional crosslinking in the molecule. By having a polymerizable functional group that can be cross-linked three-dimensionally, the sequence stability can be further enhanced. Note that “three-dimensional crosslinking” means that liquid crystal molecules are polymerized three-dimensionally to form a network structure.

上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、あるいはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも1つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基(アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称)等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和3重結合等が挙げられる。中でも、プロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。   Examples of the polymerizable functional group include polymerizable functional groups that are polymerized by the action of ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams, or heat. Representative examples of these polymerizable functional groups include radically polymerizable functional groups or cationic polymerizable functional groups. Further, representative examples of the radical polymerizable functional group include a functional group having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond, and specific examples include a vinyl group having or not having a substituent, An acrylate group (generic name including an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group) and the like can be given. Moreover, an epoxy group etc. are mentioned as a specific example of the said cation polymerizable functional group. In addition, examples of the polymerizable functional group include an isocyanate group and an unsaturated triple bond. Among these, from the viewpoint of the process, a functional group having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used.

さらにまた、液晶化合物は、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような液晶化合物を用いることにより、例えば、互いに三次元に重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記を形成できるからである。なお、本発明においては片末端に重合性官能基を有する液晶化合物を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。   Furthermore, it is particularly preferable that the liquid crystal compound has the polymerizable functional group at the terminal. By using such a liquid crystal compound, for example, they can be polymerized three-dimensionally to form a network structure, so that they have column stability and excellent optical properties. This is because the above can be formed. In the present invention, even when a liquid crystal compound having a polymerizable functional group at one end is used, the alignment can be stabilized by crosslinking with other molecules.

本発明に用いられる液晶化合物の具体例としては、下記式(1)〜(16)で表される化合物を例示できる。   Specific examples of the liquid crystal compound used in the present invention include compounds represented by the following formulas (1) to (16).

Figure 2014119569
Figure 2014119569
Figure 2014119569
Figure 2014119569

重合性液晶化合物の量は、パターン配向層12上に塗布する塗布方法に応じて、位相差層形成用塗工液の粘度を所望の値にできるものであれば特に限定されないが、上記塗工液中、5質量部〜40質量部の範囲内であることが好ましく、10質量部〜30質量部の範囲内であることがより好ましい。5質量部未満であると、重合性液晶化合物が少なすぎるために、位相差層13への入射光を適切に配向できない可能性があるため、好ましくない。30質量部を超えると、位相差層形成用塗工液の粘度が高くなりすぎるため、作業性が劣るため、好ましくない。   The amount of the polymerizable liquid crystal compound is not particularly limited as long as the viscosity of the coating liquid for forming the retardation layer can be set to a desired value depending on the coating method applied on the pattern alignment layer 12, but the above coating is not limited. In the liquid, it is preferably in the range of 5 to 40 parts by mass, and more preferably in the range of 10 to 30 parts by mass. If the amount is less than 5 parts by mass, the amount of the polymerizable liquid crystal compound is too small, and therefore, there is a possibility that the incident light to the retardation layer 13 may not be properly aligned. If the amount exceeds 30 parts by mass, the viscosity of the retardation layer forming coating solution becomes too high, and the workability is inferior.

重合性液晶化合物は、1種類のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。例えば、重合性液晶化合物として、両末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶化合物と、片末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶化合物とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度(架橋密度)及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。また、信頼性確保の観点からは、両末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶化合物が好ましいが、液晶配向の観点からは両末端の重合性官能基が1つであることが好ましい。   As the polymerizable liquid crystal compound, only one kind may be used, or two or more kinds may be mixed and used. For example, as a polymerizable liquid crystal compound, a mixture of a liquid crystal compound having one or more polymerizable functional groups at both ends and a liquid crystal compound having one or more polymerizable functional groups at one end is used. It is preferable because the polymerization density (crosslinking density) and the optical characteristics can be arbitrarily adjusted by adjusting. Further, from the viewpoint of ensuring reliability, a liquid crystal compound having one or more polymerizable functional groups at both ends is preferable, but from the viewpoint of liquid crystal alignment, it is preferable that one polymerizable functional group at both ends is provided.

(溶媒)
上記した重合性液晶化合物は、通常溶媒に溶かされている。溶媒は、重合性液晶化合物を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン(以下「CHN」という。)等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル(PGME)等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール(以下「IPA」という。)等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、1種類であってもよいし、2種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
(solvent)
The above polymerizable liquid crystal compound is usually dissolved in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as the polymerizable liquid crystal compound can be uniformly dispersed. For example, hydrocarbon solvents such as benzene and hexane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone (hereinafter referred to as “CHN”). ) And other ketone solvents, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, ether solvents such as propylene glycol monoethyl ether (PGME), halogenated alkyl solvents such as chloroform and dichloromethane, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, Ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, anone solvents such as cyclohexane, methanol, ethanol, isopropyl It can be exemplified an alcohol solvent such as alcohol (hereinafter referred to as "IPA".), But is not limited thereto. Moreover, one type of solvent may be sufficient and the mixed solvent of two or more types of solvents may be sufficient.

溶媒の量は、重合性液晶化合物100質量部に対して66質量部以上900質量部以下であることが好ましい。66質量部未満であると、重合性液晶化合物を均一に塗工溶かすことができない可能性がある点で好ましくない。900質量部を超えると、溶媒の一部が残存し、信頼性が低下する可能性、及び均一に塗工できない可能性がある点で好ましくない。   The amount of the solvent is preferably 66 parts by mass or more and 900 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. If it is less than 66 parts by mass, the polymerizable liquid crystal compound may not be uniformly coated and dissolved, which is not preferable. If it exceeds 900 parts by mass, a part of the solvent remains, which is not preferable in that reliability may be lowered and coating may not be performed uniformly.

(他の化合物)
重合性液晶組成物は、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。他の化合物は、上記した重合性液晶化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではなく、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤及びシランカップリング剤等を挙げることができる。
(Other compounds)
The polymerizable liquid crystal composition may contain other compounds as necessary. The other compound is not particularly limited as long as it does not impair the arrangement order of the polymerizable liquid crystal compound described above, and examples thereof include a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a surfactant, and a silane coupling agent. Can be mentioned.

(重合開始剤)
重合開始剤として、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンジルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n−フェニルチオアクリドン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製N1717、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本実施形態では、これらの光重合開始剤を1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Polymerization initiator)
Examples of the polymerization initiator include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamine) benzophenone, α-amino acetophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p-tert- Butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, benzylmethoxyethyl acetal, benzoin Ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzsuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzylacetophenone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) ) Cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadion-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2- ( o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) oxime, Hiller ketone, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, naphthalenesulfonyl chloride , Quinolinesulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, N1717 manufactured by Adeka, carbon tetrabromide, tribromophenyl Examples include a combination of a photoreductive dye such as sulfone, benzoin peroxide, eosin, and methylene blue with a reducing agent such as ascorbic acid or triethanolamine. In this embodiment, these photoinitiators can be used 1 type or in combination of 2 or more types.

光重合開始剤は、液晶の配向を大きく損なわない範囲で添加することが必要であり、重合性液晶組成物100質量部に対し、0.01〜15質量部であることが好ましく、0.1〜12質量部であることがより好ましく、0.1〜10質量部であることがさらに好ましく、0.5〜10質量部であることがよりさらに好ましい。   The photopolymerization initiator needs to be added within a range that does not significantly impair the alignment of the liquid crystal, and is preferably 0.01 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal composition. It is more preferably ˜12 parts by mass, further preferably 0.1 to 10 parts by mass, and further preferably 0.5 to 10 parts by mass.

また、重合開始剤のほか、重合開始助剤を併用してもよい。重合開始助剤として、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の3級アミン類や、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。   In addition to the polymerization initiator, a polymerization initiation assistant may be used in combination. Examples of polymerization initiation aids include tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine, and benzoic acid derivatives such as 2-dimethylaminoethylbenzoic acid and ethyl 4-dimethylamidebenzoate. It is not limited.

(重合禁止剤)
重合禁止剤は、重合性液晶組成物の保存安定性を高めるために用いられる。重合禁止剤として、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−p−ニトロフェニルメチル,p−ベンゾキノン、p−tert−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、tert−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、保存安定性の点から、ハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。
(Polymerization inhibitor)
The polymerization inhibitor is used to increase the storage stability of the polymerizable liquid crystal composition. As a polymerization inhibitor, for example, reaction of diphenylpicrylhydrazide, tri-p-nitrophenylmethyl, p-benzoquinone, p-tert-butylcatechol, picric acid, copper chloride, methylhydroquinone, methoquinone, tert-butylhydroquinone, etc. Although a polymerization inhibitor can be used, a hydroquinone polymerization inhibitor is preferable from the viewpoint of storage stability, and methylhydroquinone is particularly preferable.

(界面活性剤)
界面活性剤は、重合性液晶組成物の動的表面張力を調整し、位相差層の横スジムラを抑制するために用いられる。
(Surfactant)
The surfactant is used to adjust the dynamic surface tension of the polymerizable liquid crystal composition and suppress lateral stripe unevenness in the retardation layer.

界面活性剤の例として、フッ素系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基あるいはフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましく、その具体例としては、1,1,2,2−テトラフロロオクチル(1,1,2,2−テトラフルオロ−n−プロピル)エーテル、1,1,2,2−テトラフルオロ−n−オクチル(n−ヘキシル)エーテル、オクタエチレングリコールジ(1,1,2,2−テトラフルオロ−n−ブチル)エーテル、ヘキサエチレングリコール(1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロ−n−ペンチル)エーテル、オクタプロピレングリコールジ(1,1,2,2−テトラフルオロ−n−ブチル)エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ(1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロ−n−ペンチル)エーテル、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロ−n−デカン、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10−デカフルオロ−n−ドデカン、パーフルオロ−n−ドデシルスルホン酸ナトリウムや、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルホスホン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム等のアニオン系界面活性剤、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、ジグリセリンテトラキス(フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル)、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、フッ素系アルキルエステル等のノニオン系界面活性剤、フルオロアルキルアンモニウムヨージド等のカチオン系界面活性剤、フルオロアルキルベタイン等の両性界面活性剤を挙げることができる。このうち、位相差層を液晶表示素子に用いた場合の電圧保持率を良好に維持できるという観点から、特にノニオン系界面活性剤が好適に用いられる。   An example of the surfactant is a fluorine-based surfactant. As the fluorosurfactant, a compound having a fluoroalkyl group or a fluoroalkylene group at at least one of the terminal, main chain, and side chain is preferable, and specific examples thereof include 1,1,2,2-tetra Fluorooctyl (1,1,2,2-tetrafluoro-n-propyl) ether, 1,1,2,2-tetrafluoro-n-octyl (n-hexyl) ether, octaethylene glycol di (1,1,1, 2,2-tetrafluoro-n-butyl) ether, hexaethylene glycol (1,1,2,2,3,3-hexafluoro-n-pentyl) ether, octapropylene glycol di (1,1,2,2) -Tetrafluoro-n-butyl) ether, hexapropylene glycol di (1,1,2,2,3,3-hexafluoro-n-penty ) Ether, 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-n-decane, 1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-decafluoro-n-dodecane, par Anionic surfactants such as sodium fluoro-n-dodecyl sulfonate, sodium fluoroalkylbenzene sulfonate, sodium fluoroalkyl phosphonate, sodium fluoroalkyl carboxylate, fluoroalkyl polyoxyethylene ether, diglycerin tetrakis (fluoroalkyl polyoxy Ethylene ether), perfluoroalkyl polyoxyethanol, perfluoroalkyl alkoxylates, nonionic surfactants such as fluoroalkyl esters, cationic surfactants such as fluoroalkylammonium iodide, fluoroalkylbetaines, etc. It may be mentioned amphoteric surfactants. Among these, nonionic surfactants are particularly preferably used from the viewpoint that the voltage holding ratio when the retardation layer is used in a liquid crystal display element can be maintained satisfactorily.

フッ素系界面活性剤の市販品としては、商品名で、例えば、BM−1000、同−1100(以上、BM CHEMIE社製)、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183、同F178、同F191、同F444、同F471、同F475、同F476、同F477、同F553、同F554(以上、DIC社製)、フロラードFC−170C、同FC−171、同FC−430、同FC−431(以上、住友スリーエム社製)、サーフロンS−112、同S−113、同S−131、同S−141、同S−145、同S−382、同SC−101、同SC−102、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC−106(以上、旭硝子社製)、エフトップEF301、同EF303、同EF352(以上、新秋田化成社製)、フタージェントFT−100、同FT−110、同FT−140A、同FT−150、同FT−250、同FT−251、同FTX−251、同FTX−218、同FT−300、同FT−310、同FT−400S(以上、ネオス社製)等を挙げることができる。   Examples of commercially available fluorosurfactants include BM-1000, -1100 (manufactured by BM CHEMIE), MegaFuck F142D, F172, F173, F183, F183, F178, and the like. F191, F444, F471, F475, F476, F477, F477, F553, F554 (above, manufactured by DIC), Fluorard FC-170C, FC-171, FC-430, FC-431 ( Sumitomo 3M), Surflon S-112, S-113, S-131, S-141, S-145, S-382, SC-101, SC-102, SC -103, SC-104, SC-105, SC-106 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), F-top EF301, EF303, EF352 (hereinafter Manufactured by Shin-Akita Kasei Co., Ltd.), FT-100, FT-110, FT-140A, FT-150, FT-250, FT-251, FTX-251, FTX-218, FT-300, FT-310, FT-400S (manufactured by Neos) and the like.

フッ素系界面活性剤は、液晶の配向を大きく損なわない範囲で添加することが好ましく、重合性液晶組成物100質量部に対して0.01〜5質量部となるように添加することが好ましい。0.01質量部以上となる量を添加することにより液晶組成物に十分な塗工性を付与することができ、横スジムラの良好な防止効果が発揮される。また添加量を5質量部以下とすることによって、位相差層中の液晶に配向不良が生じることや、位相差層の電気信頼性が低下することを抑制できる。   The fluorine-based surfactant is preferably added in a range that does not significantly impair the alignment of the liquid crystal, and is preferably added in an amount of 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal composition. By adding an amount of 0.01 parts by mass or more, sufficient coating properties can be imparted to the liquid crystal composition, and a good effect of preventing horizontal stripe unevenness can be exhibited. Moreover, it can suppress that the orientation defect arises in the liquid crystal in a phase difference layer, and the electrical reliability of a phase difference layer falls by making addition amount into 5 mass parts or less.

〔位相差層形成用層の厚さ〕
位相差層13は棒状化合物が含有されることにより、位相差性を発現するものになっているところ、当該位相差性の程度は棒状化合物の種類及び位相差層13の厚さに依存して決定されるものである。したがって、位相差層形成用層の厚さは、所定の位相差性を達成できる範囲内とするものであれば特に限定されるものではなく、位相差フィルム1の用途等に応じて適宜決定されるものである。
[Thickness of layer for forming retardation layer]
The retardation layer 13 contains a rod-shaped compound, so that the retardation is developed. The degree of the retardation depends on the type of the rod-shaped compound and the thickness of the retardation layer 13. It is to be decided. Therefore, the thickness of the retardation layer forming layer is not particularly limited as long as it is within a range in which a predetermined retardation can be achieved, and is appropriately determined according to the use of the retardation film 1 and the like. Is.

[(E)レベリング処理]
続いて、レベリング装置37を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。位相差層形成用塗工液からなる位相差層形成用層の厚さは、その後に形成される位相差層13の面内位相差がλ/4分に相当するような範囲内となるように塗布することが好ましい。これにより、第1位相差領域13A及び第2位相差領域13Bを通過する直線偏光を、互いに直交関係にある円偏光にすることができ、結果として、より精度良く三次元映像を表示できるためである。
[(E) Leveling process]
Subsequently, the leveling device 37 is used to perform a leveling process for making the thickness of the retardation layer forming layer uniform. The thickness of the retardation layer forming layer made of the retardation layer forming coating liquid is in a range such that the in-plane retardation of the retardation layer 13 formed thereafter corresponds to λ / 4 minutes. It is preferable to apply to. As a result, the linearly polarized light passing through the first retardation region 13A and the second retardation region 13B can be made into circularly polarized light that is orthogonal to each other, and as a result, a three-dimensional image can be displayed with higher accuracy. is there.

位相差層13の厚さを位相差層13の面内位相差がλ/4分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、棒状化合物の種類により適宜決定されることになる。一般的な棒状化合物を用いる場合、当該距離は0.5μm〜2μmの範囲内となるが、これに限られるものではない。   When the thickness of the retardation layer 13 is set to a distance within a range in which the in-plane retardation of the retardation layer 13 corresponds to λ / 4 minutes, the specific distance is determined by the rod-shaped compound. It will be determined appropriately depending on the type. When a general rod-shaped compound is used, the distance is in the range of 0.5 μm to 2 μm, but is not limited thereto.

[(F)配向処理]
続いて、位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記パターン配向層12に含まれる第1配向領域12A及び第2配向領域12Bの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる。棒状化合物を配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、乾燥機38を用いて棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することが挙げられる。
[(F) Orientation treatment]
Subsequently, the rod-shaped compound contained in the coating film of the retardation layer forming coating solution is converted into a rod-shaped compound along different alignment directions of the first alignment region 12A and the second alignment region 12B included in the pattern alignment layer 12. Array. The method for arranging the rod-shaped compounds is not particularly limited as long as the rod-shaped compounds can be arranged in a desired direction. For example, the rod-shaped compounds are heated to a temperature higher than the liquid crystal phase formation temperature by using a dryer 38. Can be mentioned.

本処理によって形成される位相差層13のパターンは、パターン配向層12のパターンと同一となり、右目用の領域に対応する第1配向領域12A上には、右目用の領域に対応する第1位相差領域13Aが形成され、左目用の領域に対応する第2配向領域12B上には、左目用の領域に対応する第2位相差領域13Bが形成される。   The pattern of the retardation layer 13 formed by this process is the same as the pattern of the pattern alignment layer 12, and the first position corresponding to the right eye region is present on the first alignment region 12 A corresponding to the right eye region. A phase difference region 13A is formed, and a second phase difference region 13B corresponding to the region for the left eye is formed on the second alignment region 12B corresponding to the region for the left eye.

位相差層13に第1位相差領域13A及び第2位相差領域13Bが形成されているか否かは、例えば、偏光板クロスニコルの中にサンプルを入れて、サンプルを回転させた場合に明線と暗線が反転することを確認することにより評価することができる。このとき、右目用の領域A及び左目用の領域Bからなるパターンが細かい場合は偏光顕微鏡で観察するとよい。また、AXOMETRICS社(米国)製のAxoScanを用いて各パターン内の遅相軸の方向(角度)を測定しても良い。   Whether or not the first retardation region 13A and the second retardation region 13B are formed in the retardation layer 13 is determined, for example, when a sample is put in a polarizing plate crossed Nicol and the sample is rotated. It can be evaluated by confirming that the dark line is reversed. At this time, when the pattern composed of the area A for the right eye and the area B for the left eye is fine, it may be observed with a polarizing microscope. Alternatively, the direction (angle) of the slow axis in each pattern may be measured using an AxoScan manufactured by AXOMETRICS (USA).

位相差層13の面内位相差は、100nm〜160nmの範囲内であることが好ましく、110nm〜150nmの範囲内であることがより好ましく、120nm〜130nmの範囲内であることがさらに好ましい。なお、位相差層13において第1位相差領域13A及び第2位相差領域13Bが示す面内位相差は、遅相軸の方向が異なる以外はほぼ同一となる。   The in-plane retardation of the retardation layer 13 is preferably in the range of 100 nm to 160 nm, more preferably in the range of 110 nm to 150 nm, and still more preferably in the range of 120 nm to 130 nm. In the retardation layer 13, the in-plane retardations indicated by the first retardation region 13A and the second retardation region 13B are substantially the same except that the direction of the slow axis is different.

ところで、乾燥機38を用いて棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温する際、棒状化合物が所望の方向に配列されるだけでなく、位相差層形成用塗工液の塗膜が乾燥される。塗膜の乾燥は、残留する溶媒量に応じて適宜調整すればよいが、上記塗膜に当てる乾燥風の風速は、3m/秒以下であることが好ましく、特に0.5m/秒以下であることが好ましい。   By the way, when the rod-shaped compound is heated to the liquid crystal phase formation temperature or higher using the dryer 38, the rod-shaped compound is not only arranged in a desired direction, but also the coating film of the retardation layer forming coating liquid is dried. The The drying of the coating film may be appropriately adjusted according to the amount of solvent remaining, but the wind speed of the drying air applied to the coating film is preferably 3 m / second or less, particularly 0.5 m / second or less. It is preferable.

また、温度条件としては、用いた液晶の液晶→等方相転移温度にもよるが、40℃〜150℃の範囲内であることが好ましく、50℃〜120℃の範囲内であることがより好ましく、特に、55℃〜110℃の範囲内であることがさらに好ましい。また、乾燥時間としては、0.2〜30分の範囲内であることが好ましく、0.5分〜20分の範囲内であることがより好ましく、特に、1分〜10分の範囲内であることがさらに好ましい。この条件であることにより、安定的に溶媒を除去できるからである。   The temperature condition depends on the liquid crystal → isotropic phase transition temperature of the liquid crystal used, but is preferably in the range of 40 ° C. to 150 ° C., more preferably in the range of 50 ° C. to 120 ° C. In particular, it is more preferably in the range of 55 ° C to 110 ° C. The drying time is preferably in the range of 0.2 to 30 minutes, more preferably in the range of 0.5 to 20 minutes, and particularly in the range of 1 to 10 minutes. More preferably it is. This is because the solvent can be removed stably under these conditions.

[(G)冷却処理]
その後、冷却機39を用いて、基材11/パターン配向層12/位相差層13からなる積層体を冷却する冷却処理を行う。冷却処理は、積層体が室温になる程度まで行えばよい。
[(G) Cooling treatment]
Then, the cooling process which cools the laminated body which consists of the base material 11 / pattern orientation layer 12 / retardation layer 13 using the cooler 39 is performed. The cooling process may be performed until the stack reaches room temperature.

[(H)硬化処理]
続いて、重合性棒状化合物を重合し硬化させる硬化処理を行う。重合性棒状化合物を重合させる方法としては、重合性棒状化合物が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよいが、適量の重合開始剤を加えて、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性棒状化合物を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光又は可視光を使用することが好ましく、具体的には、パターン配向層12を形成する際に用いた紫外線と同様とすることができる。このような硬化処理を経ることにより、互いに重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた位相差層13を形成できる。
[(H) Curing treatment]
Subsequently, a curing treatment for polymerizing and curing the polymerizable rod-shaped compound is performed. The method for polymerizing the polymerizable rod-shaped compound may be arbitrarily determined according to the type of the polymerizable functional group possessed by the polymerizable rod-shaped compound. However, an appropriate amount of a polymerization initiator is added and cured by irradiation with actinic radiation. The method is preferred. The actinic radiation is not particularly limited as long as it is a radiation capable of polymerizing the polymerizable rod-like compound, but it is usually preferable to use ultraviolet light or visible light from the viewpoint of the ease of the apparatus. Specifically, it can be the same as the ultraviolet rays used when forming the pattern alignment layer 12. By undergoing such a curing treatment, they can be polymerized to form a network structure, so that the retardation layer 13 having column stability and excellent optical properties can be obtained. Can be formed.

[(I)配向ズレ角度測定処理]
続いて、光軸測定器41を用いて、配向パターンのそれぞれについて、配向パターンを形成する際に設定された配向軸と、位相差層13の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度を測定する配向ズレ角度測定処理を行う。光軸測定器41は、硬化後の積層体を搬送する搬送路の上方に設置されている。光軸測定器41は、積層体の幅方向にライン状に並べられた多数の受光素子を備えており、積層体が一定長搬送されるごとに、フィルムをその幅方向に1ラインずつ撮像する。
[(I) Orientation deviation angle measurement process]
Subsequently, the optical axis measuring device 41 is used to define each of the alignment patterns as an absolute value of an angular difference between the alignment axis set when forming the alignment pattern and the alignment axis of the retardation layer 13. An alignment shift angle measurement process for measuring the alignment shift angle is performed. The optical axis measuring device 41 is installed above the conveyance path for conveying the cured laminate. The optical axis measuring device 41 includes a large number of light receiving elements arranged in a line in the width direction of the laminate, and images the film one line in the width direction each time the laminate is conveyed for a certain length. .

光軸測定器41は、測定面内で複数の測定値を取得可能なものであればよく、例えば、Imaging Mueller Matrix Polarimeter(Axometrics社製)を挙げることができる。この測定器であれば、0.43mm×0.34mmの平面から8.6mm×6.9mmの平面までの範囲でデータを取得できるので、配向パターンのそれぞれについて、配向パターンを形成する際に設定された配向軸と、位相差層13の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度を測定でき、結果として配向ズレ角度の標準偏差を算出できる。   The optical axis measuring device 41 only needs to be capable of acquiring a plurality of measurement values within the measurement plane, and examples thereof include Imaging Mueller Matrix Polarimeter (manufactured by Axometrics). With this measuring instrument, data can be acquired in a range from a plane of 0.43 mm x 0.34 mm to a plane of 8.6 mm x 6.9 mm, so each orientation pattern is set when forming the orientation pattern. The orientation deviation angle defined by the absolute value of the angle difference between the orientation axis thus formed and the orientation axis of the retardation layer 13 can be measured, and as a result, the standard deviation of the orientation deviation angle can be calculated.

本実施形態では、配向ズレ角度の標準偏差が1度以下の予め定めた角度以下である場合を良品と判別し、そうでない場合を不良品と判別する。該標準偏差の閾値は1度以下であれば任意に定めることができるが、不良品が良品として混入することを防ぎ、かつ、高歩留を得るという観点では、閾値を0.5度以下に定めることが好ましい。従来、良品か否かの最終的な判断は官能評価によらざるを得ず、判断に悩む場合は、不良品が市場に流通するのを避けるため、たとえ良品であったとしても不良品とせざるを得なかった。本実施形態によると、主観的要素の入る余地のない客観的な評価によって製品を評価できるので、不良品の混入防止と高歩留での製造との両立を図ることができる。   In the present embodiment, a case where the standard deviation of the orientation deviation angle is not more than a predetermined angle of 1 degree or less is determined as a non-defective product, and a case where it is not is determined as a defective product. The threshold value of the standard deviation can be arbitrarily determined as long as it is 1 degree or less. However, from the viewpoint of preventing a defective product from being mixed as a non-defective product and obtaining a high yield, the threshold value is set to 0.5 degree or less. It is preferable to define. Conventionally, the final decision as to whether or not it is a good product must be based on a sensory evaluation. If you are troubled by a decision, in order to avoid the distribution of defective products to the market, even if they are good products, they must be considered defective products. Did not get. According to the present embodiment, the product can be evaluated by objective evaluation with no room for subjective elements, so that it is possible to achieve both prevention of mixing of defective products and production at a high yield.

<フラットパネルディスプレイ>
上記位相差フィルム1は、三次元表示用のフラットパネルディスプレイに用いることが好適であり、三次元表示用のフラットパネルディスプレイに用いることで、光配向性に優れるという格別の効果を奏する。
<Flat panel display>
The retardation film 1 is preferably used for a flat panel display for three-dimensional display, and has an exceptional effect that it has excellent photo-alignment properties when used for a flat panel display for three-dimensional display.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example.

<位相差フィルムの製造>
図2で説明した製造工程を経て位相差フィルムを得た。その際、基材は、表面に防眩処理が施されたTAC基材(商品名:TD60UL−P,厚さ:60μm,富士フィルム社製)を用い、搬送速度は10m/minとした。
<Manufacture of retardation film>
A retardation film was obtained through the manufacturing process described in FIG. At that time, a TAC base material (trade name: TD60UL-P, thickness: 60 μm, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) whose surface was subjected to an antiglare treatment was used as the base material, and the conveyance speed was 10 m / min.

まず、光二量化部位と熱架橋部位との両方を有する光配向材料(商品名:ROP−103,ロリック社製)100質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」という。)900質量部に溶解させてパターン配向層用組成物を得た。   First, 100 parts by mass of a photo-alignment material (trade name: ROP-103, manufactured by Lorick Co., Ltd.) having both a photodimerization site and a thermal crosslinking site is used in 900 masses of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as “PGMEA”). The composition for pattern orientation layers was obtained by making it melt | dissolve in a part.

その後、上記TAC基材の裏面に、上記パターン配向層用組成物を、硬化後の膜厚が200μmとなるようにグラビアコート法にて塗布した。そして、100℃に調整した乾燥機内に1分間流し、溶媒を蒸発させた。これによって、厚さ200μmの薄膜が形成された。   Then, the said composition for pattern orientation layers was apply | coated to the back surface of the said TAC base material by the gravure coating method so that the film thickness after hardening might be set to 200 micrometers. And it was made to flow for 1 minute in the dryer adjusted to 100 degreeC, and the solvent was evaporated. As a result, a thin film having a thickness of 200 μm was formed.

この薄膜に対して、ワイヤーグリッドを通した偏光紫外線(偏光軸がフィルムの搬送方向に対して45°の方向)を原反の搬送方向と平行な方向に幅500μmのストライプパターンをクロムで合成石英上に形成した第1マスクを介して照射した。続いて、ワイヤーグリッドを通した偏光紫外線(偏光軸がフィルムの搬送方向に対して−45°の方向)を原反の搬送方向と平行な方向に幅500μmのストライプパターンをクロムで合成石英上に形成した第2マスクを介して照射した。このとき、紫外線照射装置は、「Hバルブ」(フュージョン社製)を用いた。また、偏光紫外線の波長は313nmとし、積算光量は40mJ/cmとした。積算光量の測定は、紫外線光量計「UV−351」(オーク製作所社製)を用いて測定した。上記の工程を経てパターン配向膜を得た。 Synthetic quartz with a stripe pattern of width 500μm in the direction parallel to the transport direction of the original fabric with polarized ultraviolet rays (polarization axis is 45 ° with respect to the transport direction of the film) passed through the wire grid. Irradiation was performed through the first mask formed above. Subsequently, a striped pattern having a width of 500 μm in a direction parallel to the transport direction of the original fabric is applied on the synthetic quartz with a polarized ultraviolet ray (polarization axis is −45 ° direction with respect to the transport direction of the film) through a wire grid. Irradiation was performed through the formed second mask. At this time, “H bulb” (manufactured by Fusion) was used as the ultraviolet irradiation device. The wavelength of polarized ultraviolet light was 313 nm, and the integrated light quantity was 40 mJ / cm 2 . The integrated light quantity was measured using an ultraviolet light quantity meter “UV-351” (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.). A patterned alignment film was obtained through the above steps.

続いて、偏向紫外線の照射後、時間をおかずに、パターン配向膜のパターン配向層上に、上記PGMEAに溶かした液晶材料(商品名:licrivue(登録商標) RMS03−013C,メルク社製)をダイコート法にて塗布した。その後、位相差層形成用層の最終的な層厚が1μmとなるようにレベリングした。そして、60℃に調整した第1乾燥機内に1分間、95℃に調整した第2乾燥機内に0.5分間、105℃に調整した第3乾燥機内に0.5分間流し、室温近傍まで冷却した。   Subsequently, a liquid crystal material (trade name: licrive (registered trademark) RMS03-013C, manufactured by Merck & Co., Inc.) dissolved in the above PGMEA is die-coated on the pattern alignment layer of the pattern alignment film without losing time after irradiation with polarized ultraviolet rays. It was applied by the method. Then, leveling was performed so that the final layer thickness of the retardation layer forming layer was 1 μm. Then, it flows for 1 minute in the first dryer adjusted to 60 ° C., 0.5 minute in the second dryer adjusted to 95 ° C., and 0.5 minute in the third dryer adjusted to 105 ° C., and is cooled to near room temperature. did.

積層体を乾燥、冷却した後、上記の紫外線照射装置と同型の紫外線照射装置を用いて波長260nmの紫外線を積算光量が300mJ/cmとなるまで照射した。続いて、光軸測定器Imaging Mueller Matrix Polarimeter(Axometrics社製)を用い、3.4mm×2.7mm毎に、配向パターンを形成する際に設定された配向軸と、位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度を測定し、この配向ズレ角度の標準偏差を算出した。上記の工程を経て、パターン位相差フィルムを得た。 After drying and cooling the laminate, ultraviolet rays having a wavelength of 260 nm were irradiated using an ultraviolet irradiation device of the same type as the above-described ultraviolet irradiation device until the integrated light amount reached 300 mJ / cm 2 . Subsequently, using an optical axis measuring device Imaging Mueller Matrix Polarimeter (manufactured by Axometrics), an alignment axis set when forming an alignment pattern every 3.4 mm × 2.7 mm, an alignment axis of the retardation layer, and The orientation deviation angle defined by the absolute value of the angle difference was measured, and the standard deviation of this orientation deviation angle was calculated. Through the above steps, a pattern retardation film was obtained.

<官能評価>
まず、位相差フィルムの外観を官能評価した。官能評価は、位相差フィルムの両面に偏光板(商品名:HCL2−5618HCS,サンリッツ社製)をクロスニコルの消光位配置となるように貼り合わせ、貼り合わせた部材を液晶用バックライトに設置し、部材正面の白濁の程度を暗室下にて目視で観察した。白濁がほとんどなく、配向不良が認められない場合を“良”とし、白濁の程度が高く、配向不良が認められる場合を“不良”とした。結果を表2に示す。
<Sensory evaluation>
First, the appearance of the retardation film was subjected to sensory evaluation. For sensory evaluation, polarizing plates (trade name: HCL2-5618HCS, manufactured by Sanlitz Co., Ltd.) were bonded to both sides of the retardation film so that the crossed Nicol extinction position was arranged, and the bonded members were placed in a liquid crystal backlight. The degree of cloudiness on the front of the member was visually observed under a dark room. The case where there was almost no white turbidity and no alignment failure was determined as “good”, and the case where the degree of white turbidity was high and alignment failure was observed was determined as “bad”. The results are shown in Table 2.

<客観評価>
上記標準偏差の算出結果を表1に示す。また、位相差相における光軸の角度とその頻度との関係を図4に示す。
<Objective evaluation>
The calculation results of the standard deviation are shown in Table 1. Moreover, the relationship between the angle of the optical axis in a phase difference phase and its frequency is shown in FIG.

Figure 2014119569
Figure 2014119569

パターン位相差フィルムの両面に偏光板をクロスニコル配置となるように貼り合わせ、貼り合わせた部材を液晶用バックライトに設置し、部材正面の白濁の程度を暗室下にて目視で評価するときに白濁が認められる場合であっても、配向パターンのそれぞれについて、配向パターンを形成する際に設定された配向軸と、位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度の標準偏差が1度以内である場合があり、この場合、パターン位相差フィルムの品質として何ら問題がなく、上記配向ズレ角度の計測及びその標準偏差を算出する工程を経ることで、不良品の混入防止と高歩留での製造とを両立できることが確認された(実施例)。   When the polarizing plate is bonded to both sides of the pattern retardation film so that it is in a crossed Nicol arrangement, the bonded member is installed in a liquid crystal backlight, and the degree of white turbidity in front of the member is visually evaluated in a dark room Even when white turbidity is observed, for each of the alignment patterns, the alignment deviation angle defined by the absolute value of the angle difference between the alignment axis set when forming the alignment pattern and the alignment axis of the retardation layer In this case, there is no problem as a quality of the pattern retardation film, and through the process of measuring the orientation deviation angle and calculating the standard deviation, It was confirmed that it is possible to achieve both prevention of mixing and production at a high yield (Example).

1 パターン位相差フィルム
11 基材
12 パターン配向層
13 位相差層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pattern retardation film 11 Base material 12 Pattern orientation layer 13 Phase difference layer

Claims (4)

基材と、
この基材上に形成され、配向パターンが形成されているパターン配向層と、
このパターン配向層上に形成され、重合性液晶組成物を含有する位相差層とを含むパターン位相差フィルムであって、
前記パターン位相差フィルムの両面に偏光板をクロスニコル配置となるように貼り合わせ、貼り合わせた部材を液晶用バックライトに設置し、部材正面の白濁の程度を暗室下にて目視で評価するときに白濁が認められるものの、前記配向パターンのそれぞれについて、前記配向パターンを形成する際に設定された配向軸と、前記位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度の標準偏差が1度以内である、パターン位相差フィルム。
A substrate;
A pattern alignment layer formed on the substrate and having an alignment pattern formed thereon;
A pattern retardation film formed on the pattern alignment layer and including a retardation layer containing a polymerizable liquid crystal composition,
When polarizing plates are bonded to both sides of the pattern retardation film so as to have a crossed Nicol arrangement, the bonded members are installed in a liquid crystal backlight, and the degree of white turbidity in front of the members is evaluated visually in a dark room For each of the alignment patterns, the orientation deviation angle defined by the absolute value of the angle difference between the orientation axis set when forming the orientation pattern and the orientation axis of the retardation layer. A pattern retardation film having a standard deviation of 1 ° or less.
基材上に配向パターンを付与してパターン配向層を形成する工程と、
このパターン配向層上に重合性液晶組成物からなる位相差層形成用層を形成する工程と、
前記重合性液晶組成物を前記配向パターンに沿って配列させて位相差層を形成する工程と、
前記配向パターンのそれぞれについて、前記配向パターンを形成する際に設定された配向軸と、前記位相差層の配向軸との角度差の絶対値で定義される配向ズレ角度を測定する工程と、
前記配向ズレ角度の標準偏差が1度以下の予め定めた角度以下である場合を良品と判別する工程と、
を含む、パターン位相差フィルムの製造方法。
Providing an alignment pattern on the substrate to form a pattern alignment layer;
Forming a retardation layer forming layer comprising a polymerizable liquid crystal composition on the pattern alignment layer;
Arranging the polymerizable liquid crystal composition along the alignment pattern to form a retardation layer;
For each of the alignment patterns, measuring an alignment shift angle defined by an absolute value of an angle difference between an alignment axis set when forming the alignment pattern and an alignment axis of the retardation layer;
A step of discriminating a non-defective product when the standard deviation of the orientation deviation angle is not more than a predetermined angle of 1 degree or less;
A method for producing a patterned retardation film.
前記配向ズレ角度の測定は、前記配向パターンの幅よりも小さな幅ごとに前記配向ズレ角度のデータを複数取得する光軸測定器を用いて行われる、請求項2に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。   The measurement of the orientation shift angle is performed using an optical axis measuring instrument that acquires a plurality of pieces of data of the orientation shift angle for each width smaller than the width of the orientation pattern. Production method. 前記パターン配向層を形成する工程は、
前記基材上に光配向膜を形成する光配向膜形成工程と、
前記光配向膜形成後の前記基材を流れ方向に連続又は不連続に移動して、前記流れ方向に沿ったストライプ状の第1マスクを介して第1偏光を露光してストライプ状の第1配向領域を形成する第1露光工程と、
前記流れ方向に沿ったストライプ状の第2マスクを介して前記第1偏光とは異なる第2偏光を露光して、前記第1配向領域の間にストライプ状の第2配向領域を形成する第2露光工程と、
を含む、請求項2又は3に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
The step of forming the pattern alignment layer includes:
A photo-alignment film forming step of forming a photo-alignment film on the substrate;
The base material after forming the photo-alignment film is moved continuously or discontinuously in the flow direction, and the first polarized light is exposed through the first stripe-shaped mask along the flow direction, thereby forming the first stripe-shaped. A first exposure step for forming an alignment region;
A second polarized light different from the first polarized light is exposed through a second stripe-shaped mask along the flow direction to form a second alignment area having a stripe shape between the first alignment areas. An exposure process;
The manufacturing method of the pattern phase difference film of Claim 2 or 3 containing this.
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