JP6008758B2 - Intermediate product of optical film, optical film, image display device, and method of manufacturing optical film - Google Patents

Intermediate product of optical film, optical film, image display device, and method of manufacturing optical film Download PDF

Info

Publication number
JP6008758B2
JP6008758B2 JP2013041001A JP2013041001A JP6008758B2 JP 6008758 B2 JP6008758 B2 JP 6008758B2 JP 2013041001 A JP2013041001 A JP 2013041001A JP 2013041001 A JP2013041001 A JP 2013041001A JP 6008758 B2 JP6008758 B2 JP 6008758B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
alignment
retardation
optical film
alignment layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013041001A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014170061A (en
Inventor
裕哉 猪俣
裕哉 猪俣
秀樹 臼杵
秀樹 臼杵
鹿島 啓二
啓二 鹿島
山田 一樹
一樹 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2013041001A priority Critical patent/JP6008758B2/en
Publication of JP2014170061A publication Critical patent/JP2014170061A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6008758B2 publication Critical patent/JP6008758B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム等に関するものである。   The present invention relates to a pattern retardation film applied to a passive three-dimensional image display.

近年、3次元表示可能なフラットパネルディスプレイが提供されている。ここでフラットパネルディスプレイにおいて3次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の画像と、左目用の画像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の画像と左目用の画像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の3次元表示方式について図を参照しながら説明する。図5は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の3次元表示の一例を示す概略図である。この図5の例では、液晶表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分け、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。なおこれにより液晶表示パネルの画面は、例えば短辺が垂直方向で長辺が水平方向となる帯状の領域により、右目用の画像を表示する領域と左目用の画像を表示する領域とに交互に区分される。   In recent years, flat panel displays capable of three-dimensional display have been provided. Here, in order to perform three-dimensional display on a flat panel display, it is usually necessary to selectively provide a right-eye image and a left-eye image to the viewer's right eye and left eye in some manner. . As a method for selectively providing a right-eye image and a left-eye image, for example, a passive method is known. This passive three-dimensional display method will be described with reference to the drawings. FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of a passive three-dimensional display using a liquid crystal display panel. In the example of FIG. 5, pixels that are continuous in the vertical direction of the liquid crystal display panel are sequentially and alternately distributed to a right-eye pixel that displays a right-eye image and a left-eye pixel that displays a left-eye image. And driving with the image data for the left eye, thereby displaying the image for the right eye and the image for the left eye simultaneously. As a result, the screen of the liquid crystal display panel is alternately switched into a region for displaying an image for the right eye and a region for displaying an image for the left eye, for example, by a band-shaped region in which the short side is vertical and the long side is horizontal. It is divided.

さらにパッシブ方式では、液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換する。このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける領域の設定に対応して、遅相軸方向(屈折率が最大となる方向)が直交する2種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、+45度と−45度、又は0度と+90度の組み合わせが採用される。なおこの図5の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。   Furthermore, in the passive method, a pattern retardation film is placed on the panel surface of the liquid crystal display panel, and light emitted from the linearly polarized light from the right-eye and left-eye pixels is converted into circularly polarized light with different rotation directions for the right-eye and left-eye. To do. Therefore, in the pattern retardation film, two types of band-like regions in which the slow axis direction (direction in which the refractive index is maximum) are orthogonal to each other are sequentially formed corresponding to the setting of the region in the liquid crystal display panel. Thus, in the passive method, glasses equipped with corresponding polarizing filters are worn, and a right-eye image and a left-eye image are selectively provided to the viewer's right eye and left eye, respectively. Here, as the slow axis direction of the adjacent band-like region, a combination of +45 degrees and −45 degrees, or 0 degrees and +90 degrees with respect to the horizontal direction is usually employed. In the example of FIG. 5, the long side direction of the screen is shown as the horizontal direction in accordance with the name in the normal image display device.

このパッシブ方式は、応答速度の遅い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で3次元表示することができる。   This passive method can also be applied to a liquid crystal display device with a slow response speed, and can also display three-dimensionally with a simple configuration using a pattern retardation film and circularly polarized glasses.

このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムに関して、特許文献1には、配向規制力を制御した光配向層をガラス基板上に形成し、この光配向層により液晶の配列をパターンニングして位相差層を作製する方法が開示されている。また特許文献2には、全面を露光処理した後、マスクを使用して露光処理することにより光配向層を作製し、この光配向層の配向規制力により液晶層を配向させて硬化させることにより、パターン位相差フィルムを作製する方法が開示されている。   The pattern phase difference film according to this passive method requires a pattern-like phase difference layer that gives a phase difference to transmitted light corresponding to the allocation of pixels. With respect to this pattern retardation film, Patent Document 1 discloses a method of forming a retardation layer by forming a photo-alignment layer on a glass substrate with controlled orientation regulating force and patterning the alignment of liquid crystals with this photo-alignment layer. Is disclosed. Further, in Patent Document 2, a photo-alignment layer is prepared by exposing the entire surface and then exposing using a mask, and aligning and curing the liquid crystal layer by the alignment regulating force of the photo-alignment layer. A method for producing a pattern retardation film is disclosed.

このパターン位相差フィルム等の光学補償シートに関して、特許文献3には、長尺の基材を搬送しながら配向層より液晶層を幅広に作製し、配向層を液晶層で覆うことが提案されている。   Regarding the optical compensation sheet such as this pattern retardation film, Patent Document 3 proposes that a liquid crystal layer is formed wider than an alignment layer while a long base material is conveyed, and the alignment layer is covered with the liquid crystal layer. Yes.

しかしながらこの特許文献3の方法により作製すると、パターン位相差フィルムでは、液晶層が部分的に剥離して欠点が発生することが判った。   However, when manufactured by the method of Patent Document 3, it was found that in the pattern retardation film, the liquid crystal layer was partially peeled to cause a defect.

特開2005−49865号公報JP 2005-49865 A 特開2012−042530号公報JP 2012-042530 A 特許第4239872号公報Japanese Patent No. 4239872

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して液晶層の部分的な剥離による欠点を防止することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a condition, and it aims at preventing the fault by the partial peeling of a liquid crystal layer regarding optical films, such as a pattern phase difference film.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、配向層より幅狭に液晶層を作製するとの知見を得、本発明を完成するに至った。   The present inventor has made extensive studies to solve the above-mentioned problems, and has obtained the knowledge that a liquid crystal layer is formed narrower than the alignment layer, and has completed the present invention.

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。     Specifically, the present invention provides the following.

(1) 透明基材上に配向層、位相差層が順次積層され、ロールに巻き取られた光学フィルムの中間製品であって、
前記配向層に比して、前記位相差層が幅狭に作製される。
(1) An intermediate product of an optical film in which an alignment layer and a retardation layer are sequentially laminated on a transparent substrate and wound on a roll,
The retardation layer is made narrower than the alignment layer.

(1)によれば、基材に位相差層が直接接触する部位の発生を防止できることにより、当該部位における部分的な位相差層の剥離を防止することができ、その結果、液晶層の部分的な剥離による欠点を防止することができる。   According to (1), it is possible to prevent the occurrence of a portion where the retardation layer is in direct contact with the substrate, thereby preventing partial separation of the retardation layer at the portion, and as a result, a portion of the liquid crystal layer It is possible to prevent drawbacks due to typical peeling.

(2) (1)において、
前記位相差層には、透過光に与える位相差が異なる第1及び第2の領域が順次交互に設けられる。
(2) In (1),
In the retardation layer, first and second regions having different phase differences given to transmitted light are alternately provided.

(2)によれば、パターン位相差フィルムに関して、液晶層の部分的な剥離による欠点を防止することができる。   According to (2), the defect by partial peeling of a liquid crystal layer can be prevented regarding a pattern phase difference film.

(3) (1)又は(2)に記載の光学フィルムの中間製品より光学フィルムが作製される。   (3) An optical film is produced from the intermediate product of the optical film as described in (1) or (2).

(3)によれば、液晶層の部分的な剥離による欠点を防止してなる光学フィルムを提供することができる。   According to (3), the optical film which prevents the fault by the partial peeling of a liquid crystal layer can be provided.

(4) (3)に記載の光学フィルムを画像表示パネルの表側面に配置した画像表示装置。   (4) An image display device in which the optical film according to (3) is disposed on the front side surface of the image display panel.

(4)によれば、液晶層の部分的な剥離による欠点を防止してなる光学フィルムを適用して画像表示装置を構成することができる。   According to (4), it is possible to configure an image display device by applying an optical film that prevents defects due to partial peeling of the liquid crystal layer.

(5) ロールより透明基材を引き出して搬送しながら、配向層作製工程において、前記透明基材に配向層を作製し、続く位相差層作製工程において、前記配向層の上に位相差層を作製する光学フィルムの製造方法において、
前記位相差層作製工程は、
前記配向層に比して、前記位相差層を幅狭に作製する。
(5) In the alignment layer preparation step, the alignment layer is formed on the transparent substrate while the transparent substrate is pulled out from the roll and conveyed. In the subsequent retardation layer preparation step, the retardation layer is formed on the alignment layer. In the manufacturing method of the optical film to be produced,
The retardation layer manufacturing step includes
The retardation layer is made narrower than the alignment layer.

(5)によれば、基材に位相差層が直接接触する部位の発生を防止できることにより、当該部位における部分的な位相差層の剥離を防止することができ、その結果、液晶層の部分的な剥離による欠点を防止することができる。   According to (5), it is possible to prevent the occurrence of a portion where the retardation layer is in direct contact with the substrate, thereby preventing partial separation of the retardation layer at the portion, and as a result, a portion of the liquid crystal layer It is possible to prevent drawbacks due to typical peeling.

本発明によれば、パッシブ方式の3次元画像表示に係るパターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して、パターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して液晶層の部分的な剥離による欠点を防止することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the fault by partial peeling of a liquid-crystal layer can be prevented regarding optical films, such as a pattern phase difference film, regarding optical films, such as a pattern phase difference film concerning a passive three-dimensional image display.

本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。It is a figure which shows the pattern phase difference film which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1のパターン位相差フィルムの製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the pattern phase difference film of FIG. 図1のパターン位相差フィルムの各部の幅の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the width | variety of each part of the pattern phase difference film of FIG. 実験結果を示す図である。It is a figure which shows an experimental result. パターン位相差フィルムの説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of a pattern phase difference film.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第1実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向(図1においては左右方向が対応する方向である)に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と、左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面(視聴者側面)に、パターン位相差フィルム1が配置され、このパターン位相差フィルム1により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram showing a pattern retardation film applied to the image display device according to the first embodiment of the present invention. In the image display device according to the first embodiment, the pixels of the liquid crystal display panel that are continuous in the vertical direction (the left-right direction is the corresponding direction in FIG. 1) sequentially and alternately display the right-eye image. The pixels are assigned to the left-eye pixels for displaying the left-eye image and the left-eye image, and are driven by the right-eye and left-eye image data, respectively. As a result, the image display device alternately divides the display screen into a band-like region for displaying an image for the right eye and a band-like region for displaying an image for the left eye. Display at the same time. In this image display device, a pattern phase difference film 1 is disposed on the panel surface (viewer side surface) of the liquid crystal display panel, and the pattern phase difference film 1 corresponds to light emitted from right-eye and left-eye pixels, respectively. To give the phase difference. Thereby, this image display apparatus displays a desired three-dimensional image by a passive method.

ここでパターン位相差フィルム1は、TAC(トリアセチルセルロース)、アクリル等の透明フィルムからなる基材2の一方の面上に、配向層3、位相差層4が順次作製される。パターン位相差フィルム1は、屈折率異方性を保持した状態で固化(硬化)された液晶材料により位相差層4が形成され、この液晶材料の配向を配向層3の配向規制力によりパターニングする。なおこの液晶分子の配向を図1では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム1は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域(第1の領域)Aと左目用の領域(第2の領域)Bとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。   Here, in the pattern retardation film 1, an orientation layer 3 and a retardation layer 4 are sequentially formed on one surface of a base material 2 made of a transparent film such as TAC (triacetyl cellulose) and acrylic. In the pattern retardation film 1, a retardation layer 4 is formed of a liquid crystal material solidified (cured) while maintaining refractive index anisotropy, and the alignment of the liquid crystal material is patterned by the alignment regulating force of the alignment layer 3. . In FIG. 1, the orientation of the liquid crystal molecules is exaggerated by an elongated ellipse. By this patterning, the pattern phase difference film 1 has a right width region (first region) A and a left eye region (second region) with a certain width corresponding to the pixel assignment in the liquid crystal display panel. ) B and B are sequentially formed in a band shape, and give phase differences corresponding to light emitted from the right-eye and left-eye pixels, respectively.

パターン位相差フィルム1は、光配向材料により光配向材料層が作製された後、この光配向材料層に直線偏光による紫外線を照射し、これにより光配向の手法により配向層3が形成される。ここでこの光配向材料層に照射する紫外線は、その偏光の方向が右目用の領域Aと左目用の領域Bとで90度異なるように設定され、これにより位相差層4に設けられる液晶材料に関して、右目用の領域A及び左目用の領域Bとで対応する向きに液晶分子を配向させ、透過光に対応する位相差を与える。なお光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができるものの、この実施形態では、一旦配向した後には、紫外線の照射によって配向が変化しない、例えば光2量化型の材料を使用する。なおこの光2量化型の材料については、「M.Schadt, K.Schmitt, V. Kozinkov and V. Chigrinov : Jpn. J. Appl.Phys., 31, 2155 (1992)」、「M. Schadt, H. Seiberle and A. Schuster : Nature, 381, 212 (1996)」等に開示されており、例えば「ROP-103」(Rolic technologies Ltd.社製)の商品名により既に市販されている。   In the patterned phase difference film 1, after a photo-alignment material layer is formed of a photo-alignment material, the photo-alignment material layer is irradiated with ultraviolet rays by linearly polarized light, whereby the alignment layer 3 is formed by a photo-alignment technique. Here, the ultraviolet light applied to the photo-alignment material layer is set so that the direction of polarization differs between the right-eye region A and the left-eye region B by 90 degrees, and thereby the liquid crystal material provided in the retardation layer 4 , Liquid crystal molecules are aligned in the corresponding directions in the right-eye region A and the left-eye region B, and a phase difference corresponding to transmitted light is given. In addition, although various materials to which the photo-alignment technique can be applied can be applied as the photo-alignment material, in this embodiment, the alignment is not changed by ultraviolet irradiation after the alignment, for example, a light dimerization type. Use materials. The light dimerization type material is described in “M. Schadt, K. Schmitt, V. Kozinkov and V. Chigrinov: Jpn. J. Appl. Phys., 31, 2155 (1992)”, “M. Schadt, H. Seiberle and A. Schuster: Nature, 381, 212 (1996), etc., and is already commercially available, for example, under the trade name “ROP-103” (Rolic technologies Ltd.).

さらにこの実施形態において、パターン位相差フィルム1は、基材2の他方の面に、AG(アンチグレア)層5が作製され、このAG層5により防眩性が図られる。なおAG層5は、基材2の表面を直接AG処理することにより作製するものの、防眩性機能を有するフィルムをラミネートして作製してもよい。また、AG層に代えていわゆるクリアーLR層を作製してもよい。   Furthermore, in this embodiment, the pattern retardation film 1 has an AG (antiglare) layer 5 formed on the other surface of the substrate 2, and the antiglare property is achieved by the AG layer 5. The AG layer 5 is produced by directly performing AG treatment on the surface of the substrate 2, but may be produced by laminating a film having an antiglare function. Further, a so-called clear LR layer may be fabricated instead of the AG layer.

図2は、このパターン位相差フィルム1の製造工程を示すフローチャートである。パターン位相差フィルム1の製造工程は、ロールに巻き取った長尺フィルムにより基材2が提供され、この基材2をロールより引き出して順次AG処理することによりAG層5が作製される(SP1−SP2)。続いてこの製造工程は、一旦、基材2をロールに巻き取って光配向層の成層工程に基材2を搬送し、又は直接に基材2を光配向層の成層工程に搬送し、光配向材料層が順次作製される(SP3)。ここで光配向材料層は、各種の製造方法を適用することができるものの、この実施の形態では、光配向材料をベンゼン等の溶媒に分散させた塗工液をダイ等により塗工した後、乾燥して作製される。   FIG. 2 is a flowchart showing manufacturing steps of the pattern retardation film 1. In the manufacturing process of the pattern retardation film 1, the base material 2 is provided by a long film wound around a roll, and the AG layer 5 is produced by pulling out the base material 2 from the roll and sequentially performing AG treatment (SP1). -SP2). Subsequently, in this manufacturing process, the substrate 2 is once wound on a roll, and the substrate 2 is conveyed to the layering step of the photo-alignment layer, or the substrate 2 is directly conveyed to the layering step of the photo-alignment layer, An alignment material layer is sequentially formed (SP3). Here, although various manufacturing methods can be applied to the photo-alignment material layer, in this embodiment, a coating liquid in which the photo-alignment material is dispersed in a solvent such as benzene is applied with a die or the like, Made by drying.

続いてこの製造工程は、露光工程により紫外線を照射して光配向層が作製される(SP4)。ここで露光工程では、マスクを使用した直線偏光による紫外線の照射により、右目用領域又は左目用領域に対応する領域を選択的に露光処理した後、偏光方向が直交する直線偏光による紫外線を全面に照射することにより、実行される。   Subsequently, in this manufacturing process, a photo-alignment layer is produced by irradiating ultraviolet rays in the exposure process (SP4). Here, in the exposure process, after selectively exposing the region corresponding to the right-eye region or the left-eye region by irradiating the ultraviolet light with the linearly polarized light using the mask, the ultraviolet light due to the linearly polarized light whose polarization direction is orthogonal to the entire surface. It is executed by irradiating.

続いてこの製造工程は、位相差層作製工程において、ダイ等により液晶材料の塗工液を塗工した後、紫外線の照射によりこの液晶材料を硬化させ、位相差層4が作製される(SP5)。続いて巻き取り工程(SP6)において、AG層5、配向層3、位相差層4を作製してなる基材2をロールに巻き取る。これにより光学フィルムであるパターン位相差フィルムの中間製品が完成する。   Subsequently, in this manufacturing process, in the retardation layer manufacturing process, after the liquid crystal material coating liquid is applied by a die or the like, the liquid crystal material is cured by irradiation with ultraviolet rays, and the retardation layer 4 is manufactured (SP5). ). Subsequently, in the winding process (SP6), the base material 2 formed by producing the AG layer 5, the alignment layer 3, and the retardation layer 4 is wound on a roll. Thereby, the intermediate product of the pattern retardation film which is an optical film is completed.

この製造工程は、この中間製品であるロールを切断工程に搬送し、所望の大きさに切り出してパターン位相差フィルム1が作製される(SP7)。なおパターン位相差フィルム1は、液晶表示パネルの出射面側に配置される直線偏光板と一体化して液晶表示パネルの製造工程に供給される場合もあり、この場合は、ロールから引き出された基材2に直線偏光板に係る光学機能層が設けられた後、切断工程により所望の大きさに切断される。また液晶表示パネルのパネル面への配置に係る粘着層等を設ける場合もあり、この場合もロールから引き出された基材2に粘着層、セパレータフィルムが設けられた後、切断工程により所望の大きさに切断される。この製造工程は、このようにして生産したパターン位相差フィルム1が、製品検査工程により検査されて出荷される(ステップSP8ーSP9)。   In this manufacturing process, the roll, which is an intermediate product, is conveyed to a cutting process and cut into a desired size to produce a pattern retardation film 1 (SP7). The pattern retardation film 1 may be supplied to the manufacturing process of the liquid crystal display panel by being integrated with a linearly polarizing plate disposed on the emission surface side of the liquid crystal display panel. In this case, the substrate drawn from the roll is used. After the optical functional layer related to the linearly polarizing plate is provided on the material 2, it is cut into a desired size by a cutting process. In some cases, an adhesive layer or the like according to the arrangement on the panel surface of the liquid crystal display panel may be provided. In this case, after the adhesive layer and the separator film are provided on the base material 2 drawn from the roll, the desired size is obtained by a cutting process. It will be severed. In this manufacturing process, the pattern retardation film 1 thus produced is inspected and shipped in the product inspection process (steps SP8-SP9).

〔部分剥離の防止〕
ところでこのようにして位相差層4を作製した状態で基材2をロールに巻き取って後工程で処理する場合、位相差層4が部分的に剥がれ、この剥がれた位相差層の材料が各部に付着して種々の欠点が発生することが判った。これを詳細に検討したところ、配向層3を介さずに、直接、基材2に位相差層4が作製されている場合に、基材2に対する位相差層4の密着力が弱いことにより、ロールに巻き取った後の後工程において、基材2に直接位相差層4が作製されている箇所で位相差層4が部分的に剥離し、これにより液晶層の部分的な剥離による欠点が発生することが判った。そこでこの実施形態では、配向層3に比して、位相差層4を幅狭に作製し、基材2に直接位相差層4が作製された部位が発生しないようにし、これにより欠点の発生を防止する。
(Prevention of partial peeling)
By the way, when the base material 2 is wound on a roll in a state where the retardation layer 4 is produced in this way and processed in a subsequent process, the retardation layer 4 is partially peeled, and the material of the peeled retardation layer is changed to each part. It has been found that various defects occur due to adhesion. When this was examined in detail, when the phase difference layer 4 was produced directly on the base material 2 without using the alignment layer 3, the adhesion of the phase difference layer 4 to the base material 2 was weak, In a post-process after winding on a roll, the retardation layer 4 is partially peeled off at the location where the retardation layer 4 is directly formed on the substrate 2, thereby causing a defect due to partial peeling of the liquid crystal layer. It was found to occur. Therefore, in this embodiment, the retardation layer 4 is made narrower than the alignment layer 3 so that a portion where the retardation layer 4 is directly formed on the base material 2 does not occur, thereby generating defects. To prevent.

図3は、基材2、配向層3、位相差層4の幅方向の関係を示す図である。ここで基材2の幅をW2、配向層3の幅をW3、位相差層4の幅をW4により示す。位相差層4は、光配向材料層の作製工程(SP3)において、搬送過程で発生する基材2の幅方向の蛇行量の最大値をΔW3(SP3)とおいたとき、W3+ΔW3(SP3)<W2となるように、光配向材料の塗工幅が設定され、これにより基材3が蛇行する場合であっても、基材2から幅方向にはみ出さないように作製される。   FIG. 3 is a diagram illustrating a relationship in the width direction of the base material 2, the alignment layer 3, and the retardation layer 4. Here, the width of the substrate 2 is indicated by W2, the width of the alignment layer 3 is indicated by W3, and the width of the retardation layer 4 is indicated by W4. The retardation layer 4 is W3 + ΔW3 (SP3) <W2 when the maximum value of the meandering amount in the width direction of the substrate 2 generated in the transport process is ΔW3 (SP3) in the photoalignment material layer manufacturing step (SP3). Thus, the coating width of the photo-alignment material is set so that the base material 3 does not protrude in the width direction even when the base material 3 meanders.

これに対して位相差層4は、位相差層の作製工程(SP5)における、搬送過程で発生する基材2の幅方向の蛇行量の最大値をΔW4(SP5)とおいたとき、W4+ΔW4(SP5)<W3となるように、液晶材料の塗工幅が設定され、これにより基材3が蛇行する場合であっても、配向層3から幅方向にはみ出さないように作製される。これにより位相差層4は、十分な密着力により基材2(配向層3)に保持され、部分的な剥離が防止される。   On the other hand, the retardation layer 4 has W4 + ΔW4 (SP5) when the maximum value of the meandering amount in the width direction of the substrate 2 generated in the conveyance process in the retardation layer production step (SP5) is ΔW4 (SP5). ) The coating width of the liquid crystal material is set so that <W3, and thus the base material 3 is produced so as not to protrude from the alignment layer 3 in the width direction even when the substrate 3 meanders. Thereby, the phase difference layer 4 is hold | maintained by the base material 2 (alignment layer 3) with sufficient adhesive force, and partial peeling is prevented.

図4は、この位相差層(液晶層)4及び配向層3の塗工幅W4、W3の試験結果を示す図である。この試験において、基材2は、TACフィルム(TD60UL−P:フジフィルム社製)であり、裏面にAG処理を施した。実施例1〜3及び比較例1〜4は、基材幅(原反幅)W2が1330mmの場合であり、実施例5、6は、それぞれ基材幅W2が1150mm、1490mmの場合である。この実験では、それぞれこの図3に示す幅W3により配向層3の塗工液をダイコーティングにより塗布した後、20mJ/cmの光量により直線偏光の紫外線を照射して光配向層3を作製した。またさらにこの図3に示す幅W4により塗工液をダイコーティングにより塗布し、紫外線の照射により硬化させることにより、位相差層4を作製した。位相差層4には、ネマチック液晶層を適用し、厚み1μmにより作製した。なお欠点数は、長さ10mによる試作品を目視により観察し、直径1000μm以上の欠陥を欠点として計測した。なおこの場合の後工程の処理は、ロールより引き出して所望の大きさに切断する切断工程であった。 FIG. 4 is a diagram showing test results of the coating widths W4 and W3 of the retardation layer (liquid crystal layer) 4 and the alignment layer 3. In this test, the base material 2 was a TAC film (TD60UL-P: manufactured by Fuji Film Co., Ltd.), and the back surface was subjected to AG treatment. Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 are cases where the substrate width (raw fabric width) W2 is 1330 mm, and Examples 5 and 6 are cases where the substrate width W2 is 1150 mm and 1490 mm, respectively. In this experiment, a coating liquid for the alignment layer 3 was applied by die coating with a width W3 shown in FIG. 3 and then irradiated with linearly polarized ultraviolet light with a light amount of 20 mJ / cm 2 to produce the photo-alignment layer 3. . Furthermore, the phase difference layer 4 was produced by apply | coating a coating liquid by die coating by width W4 shown in this FIG. 3, and making it harden | cure by ultraviolet irradiation. A nematic liquid crystal layer was applied to the retardation layer 4 and the thickness was 1 μm. The number of defects was measured by visually observing a prototype with a length of 10 m, and defects having a diameter of 1000 μm or more were measured as defects. In this case, the subsequent process was a cutting process in which the film was pulled out from the roll and cut into a desired size.

実施例1〜3、5、6に示すように、配向層3の幅W3に対して、位相差層4の幅W4が、30mm以上、40mm以下の範囲で小さい場合には、欠点数が1個又は2個であり、実用上十分な品質を確保できることが判った。なおこの傾向は、実施例1〜3と実施例4、5との対比により判るように、基材の幅W2が異なる場合であっても、同一であった。またさらに実施例4に示すように、配向層3に対して位相差層4を50mmだけ幅狭にすると、欠点数が0個となり、一段と品質が向上することが判った。これに対して比較例1〜4に示すように、配向層3の幅W3と位相差層4の幅W4が等しい場合、さらには配向層3の幅W3に対して位相差層4の幅W4が幅広の場合、欠点数が多くなり、これにより品質の低下が著しいことが判った。   As shown in Examples 1-3, 5, and 6, when the width W4 of the retardation layer 4 is smaller than the width W3 of the alignment layer 3 in the range of 30 mm or more and 40 mm or less, the number of defects is 1. It was found that the quality was sufficient for practical use. This tendency was the same even when the width W2 of the base material was different, as can be seen from the comparison between Examples 1 to 3 and Examples 4 and 5. Further, as shown in Example 4, it was found that when the retardation layer 4 was narrowed by 50 mm with respect to the alignment layer 3, the number of defects was reduced to zero and the quality was further improved. On the other hand, as shown in Comparative Examples 1 to 4, when the width W3 of the alignment layer 3 is equal to the width W4 of the retardation layer 4, the width W4 of the retardation layer 4 is further greater than the width W3 of the alignment layer 3. It was found that when the width was wide, the number of defects was increased, and the deterioration in quality was remarkable.

以上の構成によれば、配向層より幅狭に位相差層を作製することにより、液晶層の部分的な剥離による欠点を防止することができる。   According to the above configuration, a defect due to partial peeling of the liquid crystal layer can be prevented by forming the retardation layer narrower than the alignment layer.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
[Other Embodiments]
As mentioned above, although the specific structure suitable for implementation of this invention was explained in full detail, this invention can change the structure of the above-mentioned embodiment variously in the range which does not deviate from the meaning of this invention.

すなわち上述の実施形態では、基材2の幅方向の蛇行量だけ余裕を見て、幅狭に配向層、位相差層を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、パターン位相差フィルムの取り数を考慮して一段と幅狭に作製してもよい。   That is, in the above-described embodiment, the case where the alignment layer and the retardation layer are formed narrowly with a margin as much as the meandering amount in the width direction of the base material 2 has been described. In consideration of the number of phase difference films, the film may be made narrower.

また上述の実施形態では、垂直方向に順次右目用及び左目用の画素を設定して第1及び第2の領域を帯状に作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、右目用及び左目用の画素の割り当てを垂直方向及び水平方向に実行して、画素単位の市松模様の配置により第1及び第2の領域を設定する場合にも広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where the pixels for the right eye and the left eye are sequentially set in the vertical direction to produce the first and second regions in a strip shape has been described. However, the present invention is not limited to this, and the right eye is used. Also, it can be widely applied to the case where the allocation of the pixels for the left eye is executed in the vertical direction and the horizontal direction, and the first and second regions are set by the arrangement of the checkered pattern in pixel units.

また上述の実施形態では、光配向の手法により配向層を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、賦型処理により微細な凹凸形状を作製して配向層を作製する場合にも広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where the alignment layer is formed by the photo-alignment method is described. However, the present invention is not limited to this, and the case where the alignment layer is formed by forming a fine concavo-convex shape by a shaping process. Can also be widely applied.

また上述の実施形態では、パッシブ方式による画像表示装置に適用するパターン位相差フィルムに関して、本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、要は透過光に与える位相差が異なる第1及び第2の領域を密接して配置してなる光学フィルムの検査に広く適用することができ、さらには全面で位相差が均一な各種の光学フィルムに広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to the pattern retardation film applied to the passive type image display device has been described. However, the present invention is not limited to this, and the phase difference given to the transmitted light is important. The present invention can be widely applied to inspection of optical films formed by closely arranging different first and second regions, and can be widely applied to various optical films having a uniform phase difference over the entire surface.

1 パターン位相差フィルム
2 基材
3 配向層
4 位相差層
5 AG層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pattern retardation film 2 Base material 3 Orientation layer 4 Phase difference layer 5 AG layer

Claims (1)

ロールより透明基材を引き出して搬送しながら、配向層作製工程において、前記透明基材に配向層を作製し、続く位相差層作製工程において、前記配向層の上に位相差層を作製する光学フィルムの製造方法において、
前記配向層が光配向層であり、
前記位相差層作製工程は、
前記配向層に比して、前記位相差層を幅狭に作製し、
前記配向層作製工程は、
前記透明基材の幅をW2、前記配向層の幅をW3とし、前記配向層作製工程における搬送過程で発生する前記透明基材の幅方向の蛇行量の最大値をΔW3としたとき、
W3+ΔW3<W2により前記配向層を作製し、
前記位相差層作製工程は、
前記位相差層の幅をW4とし、前記位相差層作製工程における搬送過程で発生する前記透明基材の幅方向の蛇行量の最大値をΔW4としたとき、
W4+ΔW4<W3により前記位相差層を作製する
光学フィルムの製造方法
An optical device for producing an alignment layer on the transparent substrate in the alignment layer preparation step and drawing a retardation layer on the alignment layer in the subsequent retardation layer preparation step while pulling and transporting the transparent substrate from the roll. In the film manufacturing method,
The alignment layer is a photo-alignment layer;
The retardation layer manufacturing step includes
Compared to the alignment layer, the retardation layer is made narrower,
The alignment layer preparation step includes
When the width of the transparent substrate is W2, the width of the alignment layer is W3, and the maximum value of the meandering amount in the width direction of the transparent substrate generated in the conveying process in the alignment layer manufacturing step is ΔW3,
The alignment layer is manufactured by W3 + ΔW3 <W2,
The retardation layer manufacturing step includes
When the width of the retardation layer is W4, and the maximum value of the meandering amount in the width direction of the transparent substrate generated in the transport process in the retardation layer production step is ΔW4,
The retardation layer is manufactured by W4 + ΔW4 <W3.
Manufacturing method of optical film .
JP2013041001A 2013-03-01 2013-03-01 Intermediate product of optical film, optical film, image display device, and method of manufacturing optical film Active JP6008758B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013041001A JP6008758B2 (en) 2013-03-01 2013-03-01 Intermediate product of optical film, optical film, image display device, and method of manufacturing optical film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013041001A JP6008758B2 (en) 2013-03-01 2013-03-01 Intermediate product of optical film, optical film, image display device, and method of manufacturing optical film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014170061A JP2014170061A (en) 2014-09-18
JP6008758B2 true JP6008758B2 (en) 2016-10-19

Family

ID=51692503

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013041001A Active JP6008758B2 (en) 2013-03-01 2013-03-01 Intermediate product of optical film, optical film, image display device, and method of manufacturing optical film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6008758B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019003179A (en) * 2017-06-19 2019-01-10 住友化学株式会社 Method for manufacturing optical laminate
WO2020110816A1 (en) * 2018-11-28 2020-06-04 富士フイルム株式会社 Production method for optical laminate film roll, optical laminate film roll
WO2020110819A1 (en) * 2018-11-28 2020-06-04 富士フイルム株式会社 Production method for optical laminate film roll, optical laminate film roll

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0566396A (en) * 1991-09-06 1993-03-19 Nec Niigata Ltd Liquid crystal display device
JPH07245235A (en) * 1994-03-07 1995-09-19 Tdk Corp Manufacture of laminate by screen printing process
JP4239872B2 (en) * 2004-03-26 2009-03-18 富士フイルム株式会社 Optical compensation sheet manufacturing method and optical compensation sheet
JP2008185981A (en) * 2007-01-31 2008-08-14 Fujifilm Corp Rubbing method and device, method and apparatus for manufacturing optical film using the same
JP2011161887A (en) * 2010-02-15 2011-08-25 Nippon Zeon Co Ltd Roll body of long film
CN103003730A (en) * 2010-07-20 2013-03-27 日本瑞翁株式会社 Phase difference film layered body used in stereoscopic image device
JP5518628B2 (en) * 2010-08-13 2014-06-11 富士フイルム株式会社 Manufacturing method of long optical film and manufacturing method of long circularly polarizing plate
US20130309452A1 (en) * 2011-02-01 2013-11-21 Sharp Kabushiki Kaisha Laminate and method for producing laminate
JP2013011800A (en) * 2011-06-30 2013-01-17 Fujifilm Corp Pattern retardation film, method for manufacturing the same, method for manufacturing optical laminate, and 3d-image display device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014170061A (en) 2014-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5995085B2 (en) Laminated film for manufacturing optical filter, and method for manufacturing optical filter
JP2012014064A (en) Method for producing photo-alignment layer, method for producing retardation film, system for producing photo-alignment layer, photo-alignment layer, and retardation film
WO2013102981A1 (en) Optical-film-manufacturing apparatus, optical-film-manufacturing method, and optical film
JP6008758B2 (en) Intermediate product of optical film, optical film, image display device, and method of manufacturing optical film
JP2015184438A (en) Patterned retardation film, optical film, image display device, and production method of patterned retardation film
JP2014115604A (en) Optical film, image display device and manufacturing method of optical film
JP6107236B2 (en) Optical film manufacturing method, optical film, optical film substrate and image display device
KR101445521B1 (en) Method for producing pattern phase difference film
JP5810735B2 (en) Method for producing pattern retardation film and method for producing optical film
JP6064627B2 (en) Manufacturing method of optical film
JP2014182244A (en) Patterned phase difference film and image display device
JP2014219596A (en) Production method of optical film
JP2014182200A (en) Production method of optical film
JP2015184437A (en) Production method of patterned retardation film and production method of optical film
JP6136665B2 (en) Process for producing pattern retardation film, mask, and roll body of pattern retardation film
JP6154750B2 (en) Manufacturing method of optical film
JP5549717B2 (en) Optical film measuring method and optical film measuring mask
JP2016099540A (en) Optical film, image display device, and manufacturing method of optical film
JP6427867B2 (en) Method for producing pattern retardation film
JP2015049389A (en) Production method of optical film, exposure apparatus, and mask
JP2015060148A (en) Method for manufacturing retardation film
JP7018711B2 (en) Method for manufacturing polarizing plate
JP6024240B2 (en) Method for producing pattern retardation film
JP2015184436A (en) Patterned retardation film, optical film, and image display device
JP2016188961A (en) Production method of optical film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20141222

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20141222

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20150126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150203

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150407

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150424

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150630

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150727

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20150831

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20151106

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160624

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160913

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6008758

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150