KR20180114133A - 광학 필름, 편광판, 및 화상 표시 장치 - Google Patents

광학 필름, 편광판, 및 화상 표시 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명에 의하여, 기재와 하드 코트층을 갖는 광학 필름으로서, 기재의 파장 550nm에 있어서의 굴절률이 1.60 이상이고, 기재의 파장 435nm에 있어서의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 굴절률의 차가 0.11 이상이며, 광학 필름의 반사율 스펙트럼을 고속 푸리에 변환하여 얻어진 파워 스펙트럼의 피크 강도 PV값이 0.3 이하인, 광학 필름, 상기 광학 필름을 갖는 편광판, 및 화상 표시 장치가 제공된다.

Description

광학 필름, 편광판, 및 화상 표시 장치
본 발명은 광학 필름, 편광판, 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.
음극선관(CRT)을 이용한 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 형광 표시 디스플레이(VFD), 필드 이미션 디스플레이(FED), 및 액정 디스플레이(LCD)와 같은 화상 표시 장치에서는, 표시면에 대한 스크래치를 방지하기 위하여, 기재 상에 하드 코트층을 갖는 광학 필름을 마련하는 것이 적합하다.
기재 상에 하드 코트층을 갖는 광학 필름은, 기재와 하드 코트층의 계면에 의한 반사광과, 하드 코트층 표면으로부터의 반사광의 간섭에 의하여 색감이 변한 간섭 불균일이 발생하는 경우가 있다. 간섭 불균일은, 화상 표시 장치의 표시 화상의 시인성이나 화상 품위를 손상시키기 때문에, 그 개선이 요구되고 있다.
예를 들면, 특허문헌 1에는, 셀룰로스아실레이트를 함유하는 기재에 대한 용해능을 갖는 용매를 이용하여, 하드 코트층으로부터 기재에 걸쳐 굴절률이 완만하게 변화한 그라데이션층을 마련함으로써 간섭 불균일을 억제하는 기술이 개시되어 있다.
광학 필름의 기재로서는, 셀룰로스아실레이트, 아크릴계 수지, 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트를 함유하는 필름 등이 일반적으로 이용되고 있지만, 최근 화상 표시 장치의 사용 환경, 및 사용 형태의 다양화에 따라, 다양한 소재를 기재에 이용하는 것이 검토되고 있다. 예를 들면, 특허문헌 2에는 특정 폴리아마이드 수지가 개시되어 있고, 이 수지를 광학 필름에 성형하는 것도 기재되어 있다.
또, 특허문헌 3에는, 특정 아크릴계 수지와 특정 지방족 폴리아마이드를 이용함으로써, 내굴곡성을 부여한 광학 필름이 기재되어 있다.
또한, 특허문헌 4에는, 플라스틱 기재에 앵커 코트층과 증착 박막층이 적층된 투명 가스 배리어 적층체가 기재되어 있고, 앵커 코트층에 금속 산화물 입자로 이루어지는 굴절률 조정제를 첨가하는 것이 기재되어 있다.
특허문헌 5에는, 플루오렌 골격을 갖는 모노머를 함유하는 하드 코트성 수지 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2012-78541호 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2014-208767호 특허문헌 3: 일본 공개특허공보 2016-23232호 특허문헌 4: 일본 공개특허공보 2013-91290호 특허문헌 5: 일본 특허공보 제5779039호
본 발명자들은, 경도가 높고, 또한 내굴곡성이 우수한 광학 필름의 개발을 검토하며, 특히 아라마이드(방향족 폴리아마이드)를 함유하는 기재를 갖는 광학 필름에 착안했다. 그러나, 아라마이드를 함유하는 기재는, 가시광 영역(380~780nm)에 있어서의 굴절률이 높고, 또한 단파장에 있어서의 굴절률과 장파장에 있어서의 굴절률의 차가 커서(즉 굴절률의 파장 분산이 커서), 이 기재 상에 종래의 하드 코트층을 마련한 경우, 기재와 하드 코트층의 굴절률 차가 커져, 간섭 불균일이 발생하는 것을 알 수 있었다.
또한, 특허문헌 4에 기재되어 있는 바와 같이, 앵커 코트층에 금속 산화물 입자를 함유시킴으로써 앵커 코트층과 플라스틱 기재의 굴절률 차를 작게 하여, 그 계면에서의 반사를 적게 하여 색불균일을 감소시키는 기술, 및 특허문헌 5에 기재되어 있는 바와 같이, 플루오렌 골격을 갖는 모노머를 포함하는 하드 코트성 수지 조성물을 이용함으로써, 굴절률이 높은 경화물을 얻는 기술은 알려져 있지만, 아라마이드를 함유하는 기재는 단파장에 있어서의 굴절률이 매우 높고, 단순히 이들 기술을 적용한 것만으로는 간섭 불균일을 억제할 수 없는 것을 알 수 있었다.
따라서, 본 발명의 과제는, 내굴곡성이 우수하고, 또한 간섭 불균일의 발생이 억제된 광학 필름, 상기 광학 필름을 갖는 편광판, 및 화상 표시 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해소하기 위하여 예의 검토한 결과, 하기 수단에 의하여 달성할 수 있는 것을 발견했다.
<1>
기재와 하드 코트층을 갖는 광학 필름으로서,
상기 기재의 파장 550nm에 있어서의 굴절률이 1.60 이상이고,
상기 기재의 파장 435nm에 있어서의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 굴절률의 차가 0.11 이상이며,
상기 광학 필름의 반사율 스펙트럼을 고속 푸리에 변환하여 얻어진 파워 스펙트럼의 피크 강도 PV값이 0.3 이하인, 광학 필름.
<2>
상기 기재와 상기 하드 코트층의 사이에, 중간층을 더 갖고,
상기 하드 코트층이 무기 입자를 함유하며,
파장 435nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
파장 435nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하이며,
파장 610nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
파장 610nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하인, <1>에 기재된 광학 필름.
<3>
상기 기재와 상기 하드 코트층의 사이에, 중간층을 더 갖고,
상기 하드 코트층이 플루오렌 골격, 다이나프토싸이오펜 골격, 나프탈렌 골격, 안트라센 골격, 벤조트라이아졸 골격, 트라이아진 골격, 벤조페논 골격, 메로사이아닌 골격, 벤즈옥사졸 골격, 벤조싸이올 골격, 트라이페닐렌 골격, 신나모일 골격, 비스페놀 S 골격, 및 톨레인 골격으로부터 선택되는 적어도 1종의 골격을 갖는 모노머의 중합체를 함유하며,
파장 435nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
파장 435nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하이며,
파장 610nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
파장 610nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하인, <1>에 기재된 광학 필름.
<4>
상기 기재와 상기 하드 코트층이 접하고 있고,
상기 하드 코트층이, 무기 입자와, 플루오렌 골격, 다이나프토싸이오펜 골격, 나프탈렌 골격, 안트라센 골격, 벤조트라이아졸 골격, 트라이아진 골격, 벤조페논 골격, 메로사이아닌 골격, 벤즈옥사졸 골격, 벤조싸이올 골격, 트라이페닐렌 골격, 신나모일 골격, 비스페놀 S 골격, 및 톨레인 골격으로부터 선택되는 적어도 1종의 골격을 갖는 모노머의 중합체를 함유하며,
파장 435nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
파장 610nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하인, <1>에 기재된 광학 필름.
<5>
상기 기재가 아라마이드를 함유하는, <1> 내지 <4> 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름.
<6>
상기 하드 코트층의 파장 550nm에 있어서의 굴절률이 1.56 이상인, <1> 내지 <5> 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름.
<7>
상기 광학 필름이, JIS P8115(2001)에 따라 MIT 시험기에 의하여 측정한 내절 횟수가 1000회 이상인, <1> 내지 <6> 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름.
<8>
<1> 내지 <7> 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 갖는 편광판.
<9>
<1> 내지 <7> 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름 또는 <8>에 기재된 편광판을 갖는 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 내굴곡성이 우수하고, 또한 간섭 불균일의 발생이 억제된 광학 필름, 상기 광학 필름을 갖는 편광판, 및 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 있어서, 수치가 물성값, 특성값 등을 나타내는 경우에, "(수치 1)~(수치 2)"라는 기재는 "(수치 1) 이상 (수치 2) 이하"의 의미를 나타낸다. 또, 본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴레이트"라는 기재는, "아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중 적어도 어느 하나"의 의미를 나타낸다. "(메트)아크릴산", "(메트)아크릴로일" 등도 동일하다.
또한, 본 발명에 있어서는, "모노머에 상당하는 반복 단위", 및 "모노머에서 유래하는 반복 단위"란, 모노머의 중합 후에 얻어지는 성분이 반복 단위가 되는 것을 의미하고 있다.
[광학 필름]
본 발명의 광학 필름은,
기재와 하드 코트층을 갖는 광학 필름으로서,
기재의 파장 550nm에 있어서의 굴절률이 1.60 이상이고,
기재의 파장 435nm에 있어서의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 굴절률의 차(기재의 파장 435nm에 있어서의 굴절률-기재의 파장 610nm에 있어서의 굴절률)가 0.11 이상이며,
광학 필름의 반사율 스펙트럼을 고속 푸리에 변환하여 얻어진 파워 스펙트럼의 피크 강도 PV값이 0.3 이하인, 광학 필름이다.
[PV값]
본 발명의 광학 필름은, 반사율 스펙트럼을 푸리에 변환하여 얻어진 파워 스펙트럼의 피크 강도 PV값(간단히 "PV값"이라고도 부름)이 0.3 이하이다.
PV값이란 계면의 반사의 크기를 나타내는 값이며, 반사율 스펙트럼의 박막 간섭에서 유래한 변동을 고속 푸리에 변환하여 얻은 파워 스펙트럼의 피크 강도를 말한다. 계면에서의 굴절률 차가 작으면 강도는 작고, 굴절률 차가 커지면 강도는 커진다.
광학 필름이 중간층을 갖는 경우에는, 상기 파워 스펙트럼에 있어서의 기재와 중간층 및 중간층과 하드 코트층의 2개의 계면에 대응하는 피크 강도 중 값이 큰 쪽을 PV값으로 하여, 간섭 불균일의 지표로 한다. 이 값이 작을수록 간섭 불균일이 보다 억제된 것을 의미한다.
본 발명의 광학 필름의 PV값은 0.3 이하이지만, 0.25 이하인 것이 바람직하고, 0.2 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.15 이하인 것이 더 바람직하고, 0.1 이하인 것이 특히 바람직하며, 0.05 이하인 것이 가장 바람직하다. PV값은 작으면 작을수록 바람직하다.
상기의 PV값의 범위를 달성하기 위하여, 본 발명의 광학 필름은, 하기 양태 (A), (B) 또는 (C)의 광학 필름인 것이 바람직하다.
(A):
기재와 하드 코트층의 사이에, 중간층을 더 갖고,
하드 코트층이 무기 입자를 함유하며,
파장 435nm에 있어서의 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
파장 435nm에 있어서의 중간층의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하이며,
파장 610nm에 있어서의 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
파장 610nm에 있어서의 중간층의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하인 양태.
(B):
기재와 하드 코트층의 사이에, 중간층을 더 갖고,
하드 코트층이 플루오렌 골격, 다이나프토싸이오펜 골격, 나프탈렌 골격, 안트라센 골격, 벤조트라이아졸 골격, 트라이아진 골격, 벤조페논 골격, 메로사이아닌 골격, 벤즈옥사졸 골격, 벤조싸이올 골격, 트라이페닐렌 골격, 신나모일 골격, 비스페놀 S 골격, 및 톨레인 골격으로부터 선택되는 적어도 1종의 골격을 갖는 모노머의 중합체를 함유하며,
파장 435nm에 있어서의 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
파장 435nm에 있어서의 중간층의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하이며,
파장 610nm에 있어서의 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
파장 610nm에 있어서의 중간층의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하인 양태.
(C):
기재와 하드 코트층이 접하고 있고,
하드 코트층이, 무기 입자와, 플루오렌 골격, 다이나프토싸이오펜 골격, 나프탈렌 골격, 안트라센 골격, 벤조트라이아졸 골격, 트라이아진 골격, 벤조페논 골격, 메로사이아닌 골격, 벤즈옥사졸 골격, 벤조싸이올 골격, 트라이페닐렌 골격, 신나모일 골격, 비스페놀 S 골격, 및 톨레인 골격으로부터 선택되는 적어도 1종의 골격을 갖는 모노머의 중합체를 함유하며,
파장 435nm에 있어서의 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
파장 610nm에 있어서의 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하인 양태.
상기 양태 (A) 및 (B)는, 기재와 하드 코트층의 사이에, 기재 및 하드 코트층의 각각에 대하여 파장 435nm과 파장 610nm에 있어서의 굴절률의 차가 각각 작은 중간층을 가짐으로써, 하드 코트층, 중간층, 기재의 순으로 단계적으로 굴절률이 변화하기 때문에, 간섭 불균일의 발생을 억제할 수 있다.
상기 양태 (A) 및 (B)에 있어서,
파장 435nm에 있어서의 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 중간층의 굴절률의 차는 0.03 이하인 것이 바람직하고,
파장 435nm에 있어서의 중간층의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 하드 코트층의 굴절률의 차는 0.03 이하인 것이 바람직하며,
파장 610nm에 있어서의 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 중간층의 굴절률의 차는 0.03 이하인 것이 바람직하고,
파장 610nm에 있어서의 중간층의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 하드 코트층의 굴절률의 차는 0.03 이하인 것이 바람직하다.
상기 양태 (C)는, 기재와 하드 코트층의 파장 435nm 및 파장 610nm에 있어서의 굴절률 차가 각각 작기 때문에, 간섭 불균일의 발생을 억제할 수 있다.
상기 양태 (C)에 있어서,
파장 435nm에 있어서의 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 하드 코트층의 굴절률의 차는 0.03 이하인 것이 바람직하고,
파장 610nm에 있어서의 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 하드 코트층의 굴절률의 차는 0.03 이하인 것이 바람직하다.
[기재]
본 발명의 광학 필름의 기재는, 파장 550nm에 있어서의 굴절률이 1.60 이상이며, 파장 435nm에 있어서의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 굴절률의 차가 0.11 이상이다.
기재는, 가시광 영역의 투과율이 70% 이상인 것이 바람직하고, 80% 이상인 것이 보다 바람직하다.
기재로서는, 아라마이드를 함유하는 기재인 것이 바람직하다.
기재의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 3μm~100μm가 바람직하고, 5μm~80μm가 보다 바람직하며, 15μm~50μm가 더 바람직하다.
[하드 코트층]
상술한 양태 (A) 및 (B)의 경우의 하드 코트층의 굴절률에 대하여 이하에 설명한다.
하드 코트층의 파장 550nm에 있어서의 굴절률은 1.56 이상인 것이 바람직하고, 1.63 이상 1.79 이하인 것이 바람직하며, 1.66 이상 1.76 이하인 것이 보다 더 바람직하다. 하드 코트층의 파장 550nm에 있어서의 굴절률은 1.56 이상이면, 기재와의 굴절률 차가 작아져, 간섭 불균일의 발생이 억제되기 쉽다.
하드 코트층의 파장 435nm에 있어서의 굴절률은, 1.73 이상 1.89 이하인 것이 바람직하고, 1.76 이상 1.86 이하인 것이 보다 바람직하다.
하드 코트층의 파장 610nm에 있어서의 굴절률은, 1.60 이상 1.76 이하인 것이 바람직하고, 1.63 이상 1.73 이하인 것이 보다 바람직하다.
상술한 양태 (C)의 경우의 하드 코트층의 굴절률에 대하여 이하에 설명한다.
하드 코트층의 파장 550nm에 있어서의 굴절률은 1.56 이상인 것이 바람직하고, 1.68 이상 1.84 이하인 것이 바람직하며, 1.71 이상 1.81 이하인 것이 보다 더 바람직하다. 하드 코트층의 파장 550nm에 있어서의 굴절률은 1.56 이상이면, 기재와의 굴절률 차가 작아져, 간섭 불균일의 발생이 억제되기 쉽다.
하드 코트층의 파장 435nm에 있어서의 굴절률은, 1.78 이상 1.93 이하인 것이 바람직하고, 1.81 이상 1.91 이하인 것이 보다 바람직하다.
하드 코트층의 파장 610nm에 있어서의 굴절률은, 1.65 이상 1.81 이하인 것이 바람직하고, 1.68 이상 1.78 이하인 것이 보다 바람직하다.
[무기 입자]
상술한 양태 (A) 및 (C)에 있어서는, 하드 코트층은 무기 입자를 함유한다. 또한, 상술한 양태 (B)에 있어서도 하드 코트층이 무기 입자를 더 함유해도 된다.
무기 입자로서는, 금속(예를 들면, Ti, Zr, In, Zn, Sn, Sb, 및 Al 등)의 산화물의 입자인 것이 바람직하고, 굴절률의 관점에서, 산화 지르코늄 입자 또는 산화 타이타늄 입자인 것이 보다 바람직하며, 산화 타이타늄 입자를 평균 1차 입경 10nm 미만으로 하면 광활성이 강해져, 주위의 유기물을 분해하기 쉬워질 수 있는 관점에서, 산화 지르코늄 입자(지르코니아 입자)가 가장 바람직하다.
하드 코트층 중의 무기 입자의 함유율을 변화시킴으로써 굴절률을 조정할 수 있다.
하드 코트층 중의 무기 입자의 함유율은, 하드 코트층 전체에 대하여, 5~80체적%인 것이 바람직하고, 10~60체적%인 것이 보다 바람직하며, 20~50체적%인 것이 더 바람직하다. 무기 입자의 함유율이 5체적% 이상이면, 하드 코트층의 굴절률을 높게 할 수 있고, 80체적% 이하이면 막을 형성하기 쉽다.
하드 코트층 중의 무기 입자의, 질량%로 환산했을 때의 적합 함유율은, 무기 입자의 비중에 따라 변경되며, 예를 들면 무기 입자로서 비중 6의 산화 지르코늄 입자를 이용하는 경우의 함유율은, 하드 코트층 전체에 대하여, 21~95질량%인 것이 바람직하고, 36~88질량%인 것이 보다 바람직하며, 56~83질량%인 것이 더 바람직하다.
무기 입자의 평균 1차 입경은, 1~80nm인 것이 바람직하고, 1~40nm인 것이 보다 바람직하며, 2~20nm인 것이 더 바람직하다.
또, 무기 입자는 후술하는 수지를 바인더 성분으로서 하드 코트층 중에 함유시키는 것이 바람직하고, 하드 코트층 중의 바인더 성분과의 밀착성을 향상시키기 위하여, 중합성기를 갖는 화합물로 수식하여, 무기 입자의 표면에 중합성기를 부여하는 것이 바람직하다.
[수지]
상술한 양태 (A)~(C)에 있어서, 하드 코트층은 수지를 함유하는 것이 바람직하고, 상기 수지는 모노머(중합성 화합물)의 중합체인 것이 바람직하다.
모노머는 1종이어도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.
모노머는 (메트)아크릴로일기, 바이닐기, 스타이릴기, 알릴기 등의 불포화의 중합성 관능기를 갖는 것이 바람직하고, 그 중에서도, (메트)아크릴로일기를 갖는 것이 바람직하다.
[모노머 (a)]
상술한 양태 (B) 및 (C)에 있어서는, 상기 모노머로서, 플루오렌 골격, 다이나프토싸이오펜 골격, 나프탈렌 골격, 안트라센 골격, 벤조트라이아졸 골격, 트라이아진 골격, 벤조페논 골격, 메로사이아닌 골격, 벤즈옥사졸 골격, 벤조싸이올 골격, 트라이페닐렌 골격, 신나모일 골격, 비스페놀 S 골격, 및 톨레인 골격으로부터 선택되는 적어도 1종의 골격을 갖는 화합물("모노머 (a)"라고도 부름)을 포함하는 것이 바람직하다.
모노머 (a)를 이용함으로써, 하드 코트층의 굴절률을 높게 할 수 있다. 모노머 (a)의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2007-91876호의 단락 0029~0046에 기재된 일반식 (I)~(VI)로 나타나는 화합물, 일본 공개특허공보 2014-34596호의 단락 0113~0115에 기재된 플루오렌 화합물, 일본 공개특허공보 2014-80572호의 일반식 (1)로 나타나는 축합환 함유 화합물(바람직하게는 동일 공보의 일반식 (3)으로 나타나는 축합환 함유 화합물), 일본 공개특허공보 2013-253161호의 단락 0016에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2006-301614호의 단락 0025~0153에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2007-108732호의 단락 0020~0122에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2010-244038호의 단락 0012~0108에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.
모노머 (a)로서는, 특히 플루오렌 골격, 다이나프토싸이오펜 골격, 나프탈렌 골격, 및 안트라센 골격으로부터 선택되는 적어도 1종의 골격을 갖는 화합물이 바람직하고, 플루오렌 골격을 갖는 화합물이 가장 바람직하다.
또한, 상술한 양태 (A)에 있어서도 하드 코트층이 모노머 (a)를 더 포함하는 모노머의 중합체를 함유해도 된다.
[모노머 (b)]
상술한 양태 (A) 및 (B)에 있어서는, 하드 코트층의 수지를 형성하기 위한 모노머로서, 상기 모노머 (a) 이외의 모노머("모노머 (b)"라고도 부름)를 이용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 모노머의 구체예로서는, 네오펜틸글라이콜아크릴레이트, 1,6-헥세인다이올(메트)아크릴레이트, 프로필렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트 등의 알킬렌글라이콜의 (메트)아크릴산 다이에스터류;
트라이에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 다이프로필렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트 등의 폴리옥시알킬렌글라이콜의 (메트)아크릴산 다이에스터류;
펜타에리트리톨다이(메트)아크릴레이트 등의 다가 알코올의 (메트)아크릴산 다이에스터류;
2,2-비스{4-(아크릴옥시·다이에톡시)페닐}프로페인, 2-2-비스{4-(아크릴옥시·폴리프로폭시)페닐}프로페인 등의 에틸렌옥사이드 혹은 프로필렌옥사이드 부가물의 (메트)아크릴산 다이에스터류 등을 들 수 있다.
나아가서는 에폭시(메트)아크릴레이트류, 유레테인(메트)아크릴레이트류, 폴리에스터(메트)아크릴레이트류도 이용할 수 있다.
그 중에서도, 다가 알코올과 (메트)아크릴산의 에스터류가 바람직하다. 더 바람직하게는, 1분자 중에 3개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 모노머가 바람직하다. 즉, 하드 코트층은, 1분자 중에 3개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 모노머의 경화물을 함유하는 것이 바람직하다.
예를 들면, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드(EO) 변성 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드(PO) 변성 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, EO 변성 인산 트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올에테인트라이(메트)아크릴레이트, 다이트라이메틸올프로페인테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 1,2,3-클로헥세인테트라메타크릴레이트, 폴리유레테인폴리아크릴레이트, 폴리에스터폴리아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리스(아크릴옥시에틸)아이소사이아누레이트 등을 들 수 있다.
또한, 상술한 양태 (C)에 있어서도 하드 코트층의 수지를 형성하기 위한 모노머로서, 모노머 (b)를 병용해도 된다.
본 발명의 광학 필름의 하드 코트층의 막두께는 특별히 한정되지 않지만, 1μm~10μm인 것이 바람직하고, 1.5μm~8μm인 것이 보다 바람직하며, 2μm~5μm인 것이 더 바람직하다.
[중간층]
상기 양태 (A) 및 (B)의 중간층에 대하여 설명한다.
중간층은, 파장 435nm에 있어서의 굴절률 및 파장 610nm에 있어서의 굴절률이 상술한 관계를 충족시키는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 기재 중의 성분(바람직하게는 아라마이드)과 하드 코트층 중의 성분(상기 양태 (A)에서는 바람직하게는 모노머의 중합체, 상기 양태 (B)에서는 바람직하게는 모노머 (a)를 포함하는 모노머의 중합체)의 양쪽 모두를 함유하는 층인 것이 바람직하다.
중간층은, 기재 및 하드 코트층에 접하고 있는 것이 바람직하다.
중간층의 막두께는 특별히 한정되지 않지만, 1μm~10μm인 것이 바람직하고, 3μm~8μm인 것이 보다 바람직하며, 5μm~7μm인 것이 더 바람직하다.
하드 코트층 및 중간층의 막두께는 이하와 같이 하여 구한다.
접촉식 두께계로 하드 코트층 형성 전의 기재의 두께와, 제작한 광학 필름 시료의 두께를 측정한다. 또, 광학 필름 시료를 마이크로톰으로 절삭하여 단면을 내고, 광학 현미경으로 관찰하여 하드 코트층의 막두께를 산출한다.
중간층의 막두께는 하기 식에 의하여 산출된다.
(중간층의 막두께)=(광학 필름 시료의 두께)-(하드 코트층 형성 전의 기재의 두께)-(하드 코트층의 막두께)
기재, 하드 코트층 및 중간층의 굴절률은 이하와 같이 하여 구한다.
광학 필름의 하드 코트층을 마련하지 않은 쪽의 면에 흑색으로 전부 칠한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 첩합하여 측정 시료를 제작한다. 측정 시료를 반사 분광 막후계(오쓰카 덴시(주)제 상품명 FE-3000)에 세팅하고, D2 램프 광원을 이용하여, 반사 스펙트럼을 구한다. 부속의 소프트웨어로 기판 해석을 행하고, 350~800nm의 파장 범위를 n-Cauchy로 연산을 행하여, 굴절률을 산출한다. 하드 코트층의 굴절률은, 광학 필름 표면의 측정을 행하고, 중간층의 굴절률은, 광학 필름의 막두께 방향의 절단면을 마이크로톰으로 경사 절삭하여, 중간층 부분의 측정을 행한다. 기재의 굴절률은 하드 코트층 형성 전의 기재 또는 경사 절삭에 의하여 기재 부분의 측정을 행해도 된다.
본 발명의 광학 필름은, 일본 공업 규격(JIS) P8115(2001)에 따라 MIT 시험기에 의하여 측정한 내절 횟수가 1000회 이상인 것이 바람직하다.
[광학 필름의 제조 방법]
상기 양태 (A)의 광학 필름은, 기재 상에, 무기 입자와 모노머와 기재를 팽윤시키는 용제를 함유하는 하드 코트층 형성용 조성물을 도포하는 공정, 및 모노머를 중합시키는 공정을 포함하는 광학 필름의 제조 방법에 의하여 제조되는 것이 바람직하다.
상기 양태 (B)의 광학 필름은, 기재 상에, 모노머 (a)를 포함하는 모노머와 기재를 팽윤시키는 용제를 함유하는 하드 코트층 형성용 조성물을 도포하는 공정, 및 모노머를 중합시키는 공정을 포함하는 광학 필름의 제조 방법에 의하여 제조되는 것이 바람직하다.
상기 양태 (C)의 광학 필름은, 기재 상에, 무기 입자와 모노머 (a)를 포함하는 모노머와 용제를 함유하는 하드 코트층 형성용 조성물을 도포하는 공정, 및 모노머를 중합시키는 공정을 포함하는 광학 필름의 제조 방법에 의하여 제조되는 것이 바람직하다.
상기 양태 (A) 및 (B)의 광학 필름을 제조하는 경우는, 하드 코트층 형성용 조성물의 용제는, 기재를 팽윤시키는 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 기재를 팽윤시키는 용제를 함유하는 하드 코트층 형성용 조성물을, 기재 상에 도포하면, 기재가 팽윤하고, 하드 코트층 형성용 조성물 중의 모노머의 일부가 기재 중에 침투하며, 그 후 모노머를 중합시킴으로써, 기재 중의 성분과 하드 코트층 중의 성분의 양쪽 모두를 함유하는 중간층이 형성된다.
기재를 팽윤시키는 용제로서는, 비점이 180℃ 이하인 용제가 바람직하고, 예를 들면 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 메틸아이소뷰틸케톤, 메틸에틸케톤, 아세톤, 에탄올, 메탄올, 1-메톡시-2-프로판올, 및 사이클로헥산온을 들 수 있다.
기재를 팽윤시키는 용제란, 25℃의 용제에 평방 5cm의 기재를 5분간 침지시키고, 이어서 120℃에서 5분간 건조시킨 후, 기재를 평평한 면에 둔 경우에, 그 투영도가 평방 4.5cm의 프레임 내에 들어가지 않는 용제, 및/또는 기재의 질량이 원래 질량의 99.0% 이하가 되는 용제이다.
상기 양태 (C)의 광학 필름을 제조하는 경우는, 용제로서, 기재를 팽윤시키는 용제 이외의 용제를 이용할 수 있고, 예를 들면 톨루엔, 아세트산 프로필, 1-헥산올, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 등을 들 수 있다.
또, 상기 양태 (A) 및 (B)의 광학 필름을 제조하는 경우에는, 기재를 팽윤시키는 용제에 더하여, 상기 용제를 이용해도 된다.
[중합 개시제]
하드 코트층 형성용 조성물은 중합 개시제를 포함하고 있어도 된다.
모노머가 광중합성 화합물인 경우는, 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.
광중합 개시제로서는, 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀옥사이드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 싸이오잔톤류, 아조 화합물, 과산화물류, 2,3-다이알킬다이온 화합물류, 다이설파이드 화합물류, 플루오로아민 화합물류, 방향족 설포늄류, 로핀 다이머류, 오늄염류, 보레이트염류, 활성 에스터류, 활성 할로젠류, 무기 착체, 쿠마린류 등을 들 수 있다. 광중합 개시제의 구체예, 및 바람직한 양태, 시판품 등은, 일본 공개특허공보 2009-098658호의 단락 [0133]~[0151]에 기재되어 있고, 본 발명에 있어서도 마찬가지로 적합하게 이용할 수 있다.
"최신 UV 경화 기술"{(주)기주쓰 조호 교카이}(1991년), p. 159, 및 "자외선 경화 시스템" 가토 기요미 저(헤이세이 원년, 소고 기주쓰 센터 발행), p. 65~148에도 다양한 예가 기재되어 있어 본 발명에 유용하다.
하드 코트층 형성용 조성물 중의 중합 개시제의 함유율은, 하드 코트층 형성용 조성물 중의 전체 고형분에 대하여, 0.5~8질량%가 바람직하고, 1~5질량%가 보다 바람직하다.
하드 코트층 형성용 조성물은 상기 이외의 성분을 함유하고 있어도 되고, 예를 들면 레벨링제, 또는 분산제 등을 들 수 있다.
하드 코트층 형성용 조성물의 도포 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 딥 코트법, 에어 나이프 코트법, 커튼 코트법, 롤러 코트법, 와이어 바 코트법, 그라비어 코트법, 다이 코트법 등을 들 수 있다.
하드 코트층 형성용 조성물을 기재 상에 도포한 후, 가열하는 공정을 마련해도 된다. 기재를 팽윤시키는 용제를 이용하고 있는 경우는, 가열함으로써, 효과적으로 모노머의 일부를 기재에 침투시킬 수 있다. 가열할 때의 온도는, 기재의 유리 전이 온도보다 작은 것이 바람직하고, 구체적으로는, 60~180℃인 것이 바람직하며, 80~130℃인 것이 보다 바람직하다.
모노머가 광중합성 모노머인 경우, 모노머의 중합은 전리 방사선을 조사함으로써 행할 수 있다. 전리 방사선의 종류에 대해서는, 특별히 제한은 없고, X선, 전자선, 자외선, 가시광, 적외선 등을 들 수 있지만, 자외선이 널리 이용된다. 조사량은 특별히 한정되지 않지만, 10mJ/cm2~1000mJ/cm2가 바람직하다. 조사 시에는, 상기 에너지를 한 번에 조사해도 되고, 분할하여 조사할 수도 있다. 자외선 램프 종류로서는, 메탈할라이드 램프나 고압 수은 램프 등이 적합하게 이용된다.
본 발명의 광학 필름은, 편광판 보호 필름으로서 적합하게 이용할 수 있다.
본 발명의 광학 필름을 이용한 편광판 보호 필름은, 편광자와 첩합하여 편광판으로 할 수 있고, 액정 표시 장치 등에 적합하게 이용할 수 있다.
[편광판]
편광판은, 편광자와, 편광자를 보호하는 적어도 1매의 보호 필름을 갖는 편광판이며, 보호 필름의 적어도 1매가 본 발명의 광학 필름인 것이 바람직하다.
편광자에는, 아이오딘계 편광막, 2색성 염료를 이용하는 염료계 편광막이나 폴리엔계 편광막이 있다. 아이오딘계 편광막 및 염료계 편광막은, 일반적으로 폴리바이닐알코올계 필름을 이용하여 제조할 수 있다.
[화상 표시 장치]
본 발명의 광학 필름 또는 편광판을 화상 표시 장치에 적용할 수도 있다.
화상 표시 장치로서는, 음극선관(CRT)을 이용한 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 형광 표시 디스플레이(VFD), 필드 이미션 디스플레이(FED), 및 액정 디스플레이(LCD)를 들 수 있고, 특히 액정 표시 장치가 바람직하다.
일반적으로, 액정 표시 장치는, 액정 셀 및 그 양측에 배치된 2매의 편광판을 갖고, 액정 셀은, 2매의 전극 기판의 사이에 액정을 담지하고 있다. 또한, 광학 이방성층이, 액정 셀과 한쪽의 편광판의 사이에 1매 배치되거나, 또는 액정 셀과 쌍방의 편광판의 사이에 2매 배치되는 경우도 있다. 액정 셀은, TN(Twisted Nematic) 모드, VA(Vertically Aligned) 모드, OCB(Optically Compensatory Bend) 모드, IPS(In-Plane Switching) 모드 등 다양한 구동 방식의 액정 셀을 적용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의하여 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이에 한정되어 해석되는 것은 아니다. 또한, 특별한 설명이 없는 한, "부" 및 "%"는 질량 기준이다.
〔광학 필름의 제작〕
하기에 나타내는 바와 같이, 하드 코트층 형성용 조성물(도포액)을 조제하고, 각각의 하드 코트층 형성용 조성물을 이용하여 하드 코트층을 형성하여, 광학 필름 시료를 제작했다.
(하드 코트층 형성용 조성물의 조제)
하기 표 1에 기재된 조성(질량부)으로 각 성분을 믹싱 탱크에 투입하여, 교반하고, 구멍 직경 0.4μm의 폴리프로필렌제 필터로 여과하여 도포액 A~H를 조제했다.
[표 1]
Figure pct00001
DPHA: 다이펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 혼합물(닛폰 가야쿠(주)제)
PET30: 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트와 펜타에리트리톨트라이아크릴레이트의 혼합물(닛폰 가야쿠(주)제)
OGSOL EA-0200: 플루오렌 골격을 갖는 아크릴레이트 모노머(오사카 가스 케미컬(주)제) 지르코니아 입자(톨루엔 30% 용액): 평균 1차 입경 20nm(CIK 나노 텍(주)제)
이르가큐어 184: 광중합 개시제(BASF제)
(광학 필름 A의 제작)
두께 40μm의 기재로서의 트라이아세틸셀룰로스 필름(후지탁 TD40UL, 후지필름(주)제) 상에, 도포액 A를 그라비어 코터를 이용하여 도포했다. 100℃에서 건조시킨 후, 산소 농도가 100ppm 이하의 분위기가 되도록 질소 퍼지하면서 160W/cm의 공랭 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 이용하여, 조사량 300mJ/cm2의 자외선을 조사하고 도포층을 경화시켜, 하드 코트층을 형성하여, 광학 필름 A를 제작했다. 하드 코트층의 두께는 3μm가 되도록 도포량을 조정했다.
(광학 필름 B~H의 제작)
기재 S-4 상에, 도포액 B~H를 각각 그라비어 코터를 이용하여 도포했다. 120℃에서 건조시킨 후, 산소 농도가 100ppm 이하의 분위기가 되도록 질소 퍼지하면서 160W/cm의 공랭 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 이용하여, 조사량 300mJ/cm2의 자외선을 조사하고 도포층을 경화시켜, 하드 코트층을 형성하여, 광학 필름 B~H를 제작했다. 하드 코트층의 두께는 3μm가 되도록 도포량을 조정했다.
(기재 S-4의 제작)
[방향족 폴리아마이드의 합성]
교반기를 구비한 중합조(槽)에 N-메틸-2-피롤리돈 674.7kg, 무수 브로민화 리튬 10.6g(씨그마 알드리치 재팬사제), 2,2'-다이트라이플루오로메틸-4,4'-다이아미노바이페닐(도레이 파인 케미컬사제 "TFMB") 33.3g, 4,4'-다이아미노다이페닐설폰(와카야마 세이카 가부시키가이샤제 "44DDS") 2.9g을 넣고 질소 분위기하, 15℃로 냉각, 교반하면서 300분 동안 테레프탈산 다이클로라이드(도쿄 가세이사제) 18.5g, 4,4'-바이페닐다이카보닐 클로라이드(도레이 파인 케미컬사제 "4BPAC") 6.4g을 4회로 나누어 첨가했다. 60분간 교반한 후, 반응으로 발생한 염화 수소를 탄산 리튬으로 중화시켜 폴리머 용액을 얻었다.
상기에서 얻어진 폴리머 용액의 일부를 최종의 필름 두께가 40μm가 되도록 T 다이를 이용하여 120℃의 엔드리스 벨트 상에 유연(流延)하고, 폴리머 농도가 40질량%가 되도록 건조시켜 엔드리스 벨트로부터 박리했다. 다음으로 용매를 포함한 필름을 40℃의 대기 중에서 MD(Machine Direction) 방향으로 1.1배 연신시키고, 50℃의 물로 수세하여 용매를 제거했다. 또한 340℃의 건조로(乾燥爐)에서 TD(Transverse Direction) 방향으로 1.2배 연신시켜, 방향족 폴리아마이드로 이루어지는, 두께 40μm의 기재 S-4를 얻었다.
(간섭 불균일 평가)
광학 필름의 하드 코트층을 마련하고 있지 않은 쪽의 면에 흑색으로 전부 칠한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 첩합하여 측정 시료를 제작했다. 측정 시료를 반사 분광 막후계(오쓰카 덴시(주)제 상품명 FE-3000)에 세팅하고, D2 램프 광원을 이용하여, 반사 스펙트럼을 구했다. 얻어진 스펙트럼을 고속 푸리에 해석하여, 간섭 불균일에서 유래하는 피크 강도 PV값을 구했다. 또, 복수의 PV값을 유지하는 경우는, 가장 큰 것을 PV값으로서 채용했다.
재료 카테고리: Standard
알고리즘: FFT(Fast Fourier Transform)
FFT 해석 연산 파장 범위: 400.00~750.00nm
(내굴곡성 평가)
내절도 시험기(테스터 산교(주)제, MIT, BE-201형, 절곡 곡률 반경 0.38mm)를 이용하여, 온도 25℃, 상대 습도 65% 상태에 1시간 이상 정치시킨, 폭 15mm, 길이 150mm의 시료 필름을 사용하여, 하중 500g의 조건에서, JIS P8115(2001)에 준거하여 측정하고, 파단될 때까지의 횟수로 평가했다. 파단될 때까지의 횟수가 많을수록 내굴곡성이 우수한 것을 나타내고, 반복의 절곡 내성이 우수한 것을 나타낸다.
파단될 때까지의 횟수가 1000회 미만인 것을 "뒤떨어짐"이라고 하고, 1000회 이상인 것을 "우수"라고 했다.
[표 2]
Figure pct00002
산업상 이용가능성
본 발명에 의하면, 내굴곡성이 우수하고, 또한 간섭 불균일의 발생이 억제된 광학 필름, 상기 광학 필름을 갖는 편광판, 및 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
본 발명을 상세하게 또 특정 실시형태를 참조하여 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않고 다양한 변경이나 수정을 추가할 수 있는 것은 당업자에게 있어 명확하다.
본 출원은, 2016년 3월 25일에 출원된 일본 특허출원(특원 2016-062131)에 근거하는 것이며, 그 내용은 여기에 참조로서 원용된다.

Claims (9)

  1. 기재와 하드 코트층을 갖는 광학 필름으로서,
    상기 기재의 파장 550nm에 있어서의 굴절률이 1.60 이상이고,
    상기 기재의 파장 435nm에 있어서의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 굴절률의 차가 0.11 이상이며,
    상기 광학 필름의 반사율 스펙트럼을 고속 푸리에 변환하여 얻어진 파워 스펙트럼의 피크 강도 PV값이 0.3 이하인, 광학 필름.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 기재와 상기 하드 코트층의 사이에, 중간층을 더 갖고,
    상기 하드 코트층이 무기 입자를 함유하며,
    파장 435nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
    파장 435nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하이며,
    파장 610nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
    파장 610nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하인, 광학 필름.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 기재와 상기 하드 코트층의 사이에, 중간층을 더 갖고,
    상기 하드 코트층이 플루오렌 골격, 다이나프토싸이오펜 골격, 나프탈렌 골격, 안트라센 골격, 벤조트라이아졸 골격, 트라이아진 골격, 벤조페논 골격, 메로사이아닌 골격, 벤즈옥사졸 골격, 벤조싸이올 골격, 트라이페닐렌 골격, 신나모일 골격, 비스페놀 S 골격, 및 톨레인 골격으로부터 선택되는 적어도 1종의 골격을 갖는 모노머의 중합체를 함유하며,
    파장 435nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
    파장 435nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하이며,
    파장 610nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률의 차가 0.05 이하이며,
    파장 610nm에 있어서의 상기 중간층의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하인, 광학 필름.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 기재와 상기 하드 코트층이 접하고 있고,
    상기 하드 코트층이, 무기 입자와, 플루오렌 골격, 다이나프토싸이오펜 골격, 나프탈렌 골격, 안트라센 골격, 벤조트라이아졸 골격, 트라이아진 골격, 벤조페논 골격, 메로사이아닌 골격, 벤즈옥사졸 골격, 벤조싸이올 골격, 트라이페닐렌 골격, 신나모일 골격, 비스페놀 S 골격, 및 톨레인 골격으로부터 선택되는 적어도 1종의 골격을 갖는 모노머의 중합체를 함유하며,
    파장 435nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 435nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하이고,
    파장 610nm에 있어서의 상기 기재의 굴절률과 파장 610nm에 있어서의 상기 하드 코트층의 굴절률의 차가 0.05 이하인, 광학 필름.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기재가 아라마이드를 함유하는, 광학 필름.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 하드 코트층의 파장 550nm에 있어서의 굴절률이 1.56 이상인, 광학 필름.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 필름이, JIS P8115(2001)에 따라 MIT 시험기에 의하여 측정한 내절 횟수가 1000회 이상인, 광학 필름.
  8. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 갖는 편광판.
  9. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름 또는 청구항 8에 기재된 편광판을 갖는 화상 표시 장치.
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