KR20180111381A - Steam cleaning system and steam cleaning method using the same - Google Patents

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KR20180111381A
KR20180111381A KR1020170042281A KR20170042281A KR20180111381A KR 20180111381 A KR20180111381 A KR 20180111381A KR 1020170042281 A KR1020170042281 A KR 1020170042281A KR 20170042281 A KR20170042281 A KR 20170042281A KR 20180111381 A KR20180111381 A KR 20180111381A
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steam
cleaning
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KR1020170042281A
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최대규
이국환
황인수
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(주) 엔피홀딩스
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Abstract

According to one embodiment of the present invention, a steam cleaning system without making a scratch comprises: a steam generator generating steam and controlling the pressure and temperature of steam; a steam transfer pipe transferring the steam to a cleaning nozzle; and the cleaning nozzle jetting the steam to perform steam cleaning. The cleaning nozzle includes a body separating the inner space from the outer space, a steam inlet pipe introducing the steam into the body, and at least one jet orifice linearly jetting the steam to an object to be cleaned.

Description

스팀세정시스템 및 이를 이용한 스팀세정방법{STEAM CLEANING SYSTEM AND STEAM CLEANING METHOD USING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a steam cleaning system and a steam cleaning method using the steam cleaning system.

본 발명은 평판표시패널의 세정에 관한 것이다. 보다 상세하게는 대면적인 글라스 기판의 세정에 이용되는 스팀세정시스템 및 이를 이용한 스팀세정방법에 관한 것이다. The present invention relates to cleaning of flat panel display panels. And more particularly, to a steam cleaning system used for cleaning a glass substrate in a wide area and a steam cleaning method using the same.

일반적으로, 평판표시패널에는 LCD(lipuid crystal display), PDP(plasma display panel), ELD(electro luminescent display), VFD(vacuum fluorescent display)등이 있다. LCD 패널은 화질이 우수하며 저전력을 사용한다는 점에서 많이 사용되고 있다. 또한, 근래에는 OLED 패널의 사용도 증가하고 있다.Generally, flat panel display panels include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electro luminescent display (ELD), and a vacuum fluorescent display (VFD). LCD panels are widely used because of their excellent image quality and low power consumption. In recent years, the use of OLED panels is also increasing.

LCD 패널 및 OLED 패널은 많은 공정들을 거쳐 제작된다. 이 공정들은 패널을 이루는 대면적 기판상에 존재하는 구리 조각 및 글라스 조각을 포함하는 파티클이나 부산물(폴리머) 및 미생물 등을 포함하는 유기물을 제거하기 위하여 스팀세정 공정을 포함한다.LCD panels and OLED panels are fabricated through many processes. These processes include a steam cleaning process to remove organic matter including particles and byproducts (polymer) and microorganisms, including copper pieces and glass pieces present on a large-area substrate constituting the panel.

이러한 세정을 위한 방법은 브러쉬(brush), 고압 스프레이 및 울트라 소닉(ultra sonic) 등과 같은 방법이 있어 왔다.Methods for such cleaning have been available such as brushes, high pressure sprays, and ultra sonic.

그러나, 위와 같은 일반적인 세정방법은, 대면적 기판 표면에 미세한 스크레치(scratch)가 발생할 소지가 크고, 정기적으로 브러시를 교체해야 하므로 유지보수가 번거롭다는 문제가 있다. 이러한 문제들은 평판표시패널의 전체적 제작에 있어서 효율을 저하시키는 요인으로 작용한다.However, the general cleaning method as described above has a problem in that a minute scratch is likely to occur on the surface of a large-area substrate, and the maintenance of the brush is troublesome because the brush must be replaced periodically. These problems are factors that degrade the efficiency of the overall fabrication of the flat panel display panel.

본 발명의 목적은 대면적 기판의 세정공정에 있어서, 스크레치를 발생시키지 않는 스팀세정시스템 및 이를 이용한 스팀세정방법을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a steam cleaning system that does not generate scratches in a cleaning process of a large area substrate, and a steam cleaning method using the same.

본 발명의 다른 목적은 대면적 기판의 세정공정에 있어서, 정기적인 유지보수를 최소화시킨 스팀세정시스템 및 이를 이용한 스팀세정방법을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a steam cleaning system and a steam cleaning method using the same that minimize periodic maintenance in a cleaning process of a large area substrate.

상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 일 실시 예에 따른 스팀세정시스템은 스팀을 발생시키고 상기 스팀의 압력과 온도를 조절하는 스팀발생장치, 상기 스팀을 세정노즐로 이동시키는 스팀이송관, 및 상기 스팀을 분사하여, 스팀세정을 수행하는 상기 세정노즐을 포함하고, 상기 세정노즐은, 외부공간으로부터 내부공간을 분리시키는 몸체, 상기 몸체 내부로 상기 스팀을 들이는 스팀유입관, 및 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 적어도 하나 이상의 분사구를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a steam cleaning system including a steam generator for generating steam and controlling a pressure and a temperature of the steam, a steam generator for moving the steam to the cleaning nozzle, And a cleaning nozzle for spraying the steam to perform steam cleaning, wherein the cleaning nozzle comprises: a body separating an inner space from an outer space; a steam inlet pipe for introducing the steam into the body; And at least one jetting port for jetting the steam linearly to the object to be cleaned.

실시 예에 있어서, 상기 대상은 글라스(glass)를 포함할 수 있다. In an embodiment, the object may comprise a glass.

실시 예에 있어서, 상기 세정노즐은 상기 몸체 내부로 액체를 들이는 액체유입관 및 기체를 들이는 기체유입관 중 적어도 하나 이상을 더 포함하고, 상기 액체 및 상기 기체 중 적어도 하나 이상과 상기 스팀을 함께 상기 분사구를 통하여 분사할 수 있다. The cleaning nozzle may further include at least one or more of a liquid inlet pipe for injecting liquid into the body and a gas inlet pipe for introducing gas into the body, and at least one of the liquid and the gas, Can be injected together through the injection port.

실시 예에 있어서, 상기 액체는 순수 또는 오존수를 포함할 수 있다. In an embodiment, the liquid may comprise pure water or ozonated water.

실시 예에 있어서, 상기 순수는 탈이온수(DIW, deionized water) 및 초순수(UPW, ultrapure water) 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. In an embodiment, the pure water may include at least one of deionized water (DIW) and ultrapure water (UPW).

실시 예에 있어서, 상기 기체는 청정공기(CDA, clean dry air), 질소(N2), 산소(O2) 및 스팀 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. In an embodiment, the gas may include at least one of clean dry air (CDA), nitrogen (N 2 ), oxygen (O 2 ), and steam.

실시 예에 있어서, 상기 분사구는 상기 스팀세정 진행방향과 수직한 방향으로 상기 대상의 폭을 모두 덮도록 가상의 선상에 일렬 또는 다중 배열할 수 있다. In an embodiment, the jetting ports may be arranged in a line or on a virtual line so as to cover the entire width of the object in a direction perpendicular to the steam cleaning progressing direction.

실시 예에 있어서, 상기 분사구는 상기 스팀세정 진행방향과 수직한 방향에 해당하는 상기 대상의 폭에 따라, 크기가 조절 할 수 있다. In an embodiment, the size of the jetting port can be adjusted according to the width of the object corresponding to the direction perpendicular to the steam cleaning progressing direction.

실시 예에 있어서, 상기 세정노즐은 상기 분사구를 통하여 분사되기 전, 상기 몸체 내부로 들여진 상기 스팀, 상기 액체 및 상기 기체 중 적어도 하나 이상을 가속시키는 가속유로를 더 포함 할 수 있다. In an embodiment, the cleaning nozzle may further include an acceleration flow path for accelerating at least one of the steam, the liquid, and the gas introduced into the body before being injected through the injection port.

실시 예에 있어서, 상기 스팀세정 후 비산된 상기 스팀, 상기 액체 및 상기 기체 중 적어도 하나 이상을 흡입하는 석션부(suction)를 상기 몸체의 외부에, 더 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, a suction may be provided outside the body for sucking at least one of the steam, the liquid, and the gas scattered after the steam cleaning.

상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 다른 일 실시 예에 따른 스팀세정방법은 스팀발생장치가 스팀을 발생시키고 상기 스팀의 압력과 온도를 조절하는 단계, 스팀이송관이 상기 스팀을 세정노즐로 이동시키는 단계; 및 상기 세정노즐이 스팀세정을 수행하는 단계를 포함하고, 상기 세정노즐이 스팀세정을 수행하는 단계는 스팀유입관이 외부공간으로부터 내부공간을 분리시키는 몸체 내부로 스팀을 들이는 단계, 및 분사구가 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a steam cleaning method including generating steam and controlling a pressure and a temperature of the steam, Moving to a nozzle; And the cleaning nozzle performing steam cleaning, wherein the cleaning nozzle performs steam cleaning, the steam cleaning step includes a step of supplying steam into the body from which the steam inlet pipe separates the inner space from the outer space, And linearly injecting the steam to the object to be cleaned.

실시 예에 있어서, 상기 스팀발생창치가 스팀을 발생시키고 상기 스팀의 압력과 온도를 조절하는 단계는 상기 스팀발생장치가 0.1Mpa 이상 0.6Mpa 이하의 압력에 해당하는 상기 스팀을 발생시키는 단계를 포함할 수 있다.In an embodiment, the step of generating the steam by the steam generating window and controlling the pressure and the temperature of the steam includes the step of generating the steam corresponding to a pressure of not less than 0.1 Mpa and not more than 0.6 Mpa .

실시 예에 있어서, 상기 스팀발생창치가 스팀을 발생시키고 상기 스팀의 압력과 온도를 조절하는 단계는 상기 스팀발생장치가 100o 이상 160o 이하의 온도에 해당하는 상기 스팀을 발생시키는 단계를 포함할 수 있다. In an embodiment, the step of generating the steam by the steam generating window and controlling the pressure and the temperature of the steam includes the step of generating the steam corresponding to a temperature of 100 ° C. to 160 ° C. .

실시 예에 있어서, 상기 세정노즐이 스팀세정을 수행하는 단계는 상기 몸체 내부로, 액체유입관이 액체를 들이는 단계 및 기체유입관이 기체를 들이는 단계 중 적어도 하나 이상의 단계를 포함하고, 상기 분사구가 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 단계는 상기 분사구가 상기 액체 및 상기 기체 중 적어도 하나 이상과 상기 스팀을 함께 분사하는 단계를 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the step of cleaning the cleaning nozzle includes at least one of a step of injecting a liquid into the body, a step of injecting liquid into the body, and a step of injecting gas into the gas inflow pipe, The step of linearly injecting the steam into the object to be cleaned by the jetting port may include the step of jetting the steam and the at least one of the liquid and the gas with the jetting port.

실시 예에 있어서, 상기 몸체 내부로, 액체유입관이 액체를 들이는 단계는 상기 액체유입관이 상기 분사구의 장축의 길이 150mm 당, 0.5 ℓ/min 이상 25 ℓ/min 이하의 부피에 해당하는 액체를 들이는 단계를 포함할 수 있다. In the embodiment, the step of injecting the liquid into the body by the liquid inlet pipe may include a step of injecting the liquid into the body, wherein the liquid inlet tube is a liquid having a volume corresponding to 0.5 l / min to 25 l / min or less per 150 mm long long axis of the injection port And < / RTI >

실시 예에 있어서, 상기 몸체 내부로, 기체유입관이 기체를 들이는 단계는 상기 기체유입관이 상기 분사구의 장축의 길이 150mm 당, 50 ℓ/min 이상 1000 ℓ/min 이하의 부피에 해당하는 기체를 들이는 단계를 포함할 수 있다. In an embodiment, the step of injecting gas into the gas inlet pipe may include injecting gas into the body, the gas inlet pipe having a volume corresponding to a volume of not less than 50 L / min and not more than 1000 L / min per 150 mm long long axis of the injection port And < / RTI >

실시 예에 있어서, 상기 분사구가 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 단계는 상기 분사구가 100o 이상 160o 이하의 온도에 해당하는 상기 스팀을 분사하는 단계를 포함 할 수 있다. In an embodiment, the step of linearly injecting the steam into the object to be cleaned by the injection port may include the step of injecting the steam at a temperature of 100 ° C to 160 ° C.

실시 예에 있어서, 상기 분사구가 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 단계는 상기 분사구가 상기 대상으로부터 5mm 이상 30mm 이하의 거리에서, 상기 스팀을 구비하는 분사유체를 분사하는 단계를 포함할 수 있다. In the embodiment, the step of linearly injecting the steam into the object to be cleaned by the jetting port may include the step of jetting the jetting fluid having the steam at a distance of 5 mm or more and 30 mm or less from the object .

본 발명에 따른 스팀세정시스템 및 이를 이용한 스팀세정방법의 효과에 대해 설명하면 다음과 같다.Effects of the steam cleaning system and the steam cleaning method using the same according to the present invention will be described as follows.

본 발명의 실시 예들 중 적어도 하나에 의하면, 스팀을 분사하는 세정을 통하여, 대면적 기판에 스크레치를 내지 않고 세정할 수 있고, 이로 인해, 반도체 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.According to at least one of the embodiments of the present invention, it is possible to clean the large-area substrate without scratching through cleaning for spraying steam, thereby improving the yield of the semiconductor process.

또한, 본 발명의 실시 예들 중 적어도 하나에 의하면, 스팀을 분사하는 세정을 통하여, 브러쉬를 정기적으로 교체하는 등의 유지보수가 제거된 세정을 할 수 있고, 이로 인해, 반도체 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.Further, according to at least one embodiment of the present invention, it is possible to perform cleaning without maintenance, such as regular replacement of the brush, through cleaning for spraying steam, thereby improving the yield of the semiconductor process .

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템에 포함된 세정노즐의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템에 포함된 세정노즐의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템의 세정노즐과 세정하고자 하는 대상까지의 거리를 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템의 세정노즐이 가상의 선상에 복수로 배열될 때, 세정노즐의 분사구를 나타내는 저면도이다.
도 6는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템의 세정노즐의 가속유로를 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템의 세정노즐이, 세정노즐의 몸체 외부에 석션부를 더 포함하는 것을 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정방법을 나타내는 순서도이다.1 is a schematic representation of a steam cleaning system, in accordance with an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a cleaning nozzle included in a steam cleaning system, according to another embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view of a cleaning nozzle included in a steam cleaning system, in accordance with another embodiment of the present invention.
4 is a view showing a distance between a cleaning nozzle of a steam cleaning system and a target to be cleaned according to another embodiment of the present invention.
5 is a bottom view showing an ejection port of a cleaning nozzle when a plurality of cleaning nozzles of a steam cleaning system are arranged on a virtual line, according to another embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating an acceleration flow path of a cleaning nozzle of a steam cleaning system according to another embodiment of the present invention.
7 is a sectional view showing that the cleaning nozzle of the steam cleaning system according to another embodiment of the present invention further includes a suction portion outside the body of the cleaning nozzle.
8 is a flowchart showing a steam cleaning method according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals are used to designate identical or similar elements, and redundant description thereof will be omitted. The suffix "module" and " part "for the components used in the following description are given or mixed in consideration of ease of specification, and do not have their own meaning or role. In the following description of the embodiments of the present invention, a detailed description of related arts will be omitted when it is determined that the gist of the embodiments disclosed herein may be blurred. It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are intended to provide further explanation of the invention as claimed. , ≪ / RTI > equivalents, and alternatives.

제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms including ordinals, such as first, second, etc., may be used to describe various elements, but the elements are not limited to these terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

본 출원에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대해 상세히 설명하기로 한다. 본 발명은 본 발명의 정신 및 필수적 특징을 벗어나지 않는 범위에서 다른 특정한 형태로 구체화될 수 있음은 당업자에게 자명하다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템을 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 8은 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정방법을 나타내는 순서도이다.FIG. 1 is a schematic diagram of a steam cleaning system according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a flowchart illustrating a steam cleaning method according to another embodiment of the present invention.

도 1 및 도 8을 참조하면, 스팀세정시스템은 스팀발생장치(1), 스팀이송관(2) 및 세정노즐(3)을 포함할 수 있다. 여기서, 스팀발생장치(1)는 스팀을 발생시키고, 발생시키는 스팀의 압력과 온도를 조절할 수 있다(S100).Referring to Figs. 1 and 8, the steam cleaning system may include a steam generator 1, a steam pipe 2, and a cleaning nozzle 3. Here, the steam generator 1 generates steam, and can regulate the pressure and temperature of steam to be generated (S100).

온도 및 압력이 조절된 스팀은 스팀이송관(2)을 통하여 세정노즐로 이동될 수 있다(S200). 이후, 세정노즐(3)이 해당 스팀을 몸체 내부로 들이고(S310) 세정하고자 하는 대상(40)에 선형으로 분사함(S320)으로써 스팀세정을 수행할 수 있다.The steam with controlled temperature and pressure can be transferred to the cleaning nozzle through the steam pipe 2 (S200). Thereafter, the washing nozzle 3 can perform steam cleaning by moving the steam into the body (S310) and injecting the steam linearly to the object 40 to be cleaned (S320).

이상과 같은 본 발명의 스팀세정시스템 및 이를 이용한 스팀세정방법은 일반적인 세정방법과 견주었을 때 얻을 수 있는 두 가지 이점이 있다.The steam cleaning system of the present invention and the steam cleaning method using the same have the two advantages that can be obtained when compared with the general cleaning method.

첫째로, 세정하고자 하는 대상에 위치하는 패턴의 무너짐과 뭉개짐을 회피할 수 있는 것 이다. 일반적인 세정방법에서는, 세정하고자 하는 기판상의 패턴이 충격을 받아 무너지거나 뭉개질 수 있었다. 그러나, 본 발명의 스팀세정시스템 및 이를 이용한 스팀세정방법은, 패턴에 고압의 마찰을 인가하지 않음으로써 기판상의 패턴의 무너짐과 뭉개짐을 회피할 수 있다.First, it is possible to avoid collapsing and crushing of the pattern located on the object to be cleaned. In a general cleaning method, a pattern on a substrate to be cleaned may be crushed or crushed by impact. However, the steam cleaning system and the steam cleaning method using the same according to the present invention can prevent the pattern on the substrate from being crushed and crushed by applying no high-pressure friction to the pattern.

둘째로, 세정하고자 하는 대상에 위치하는 패턴이 미세 패턴을 포함하는 경우에도, 해당 미세 패턴의 사이사이까지 세정할 수 있는 것이다. 최근의 패턴은 점점 더 미세화되고 있다. 그러나, 일반적인 세정방법에서 사용되는 브러쉬의 솔 및 순수의 물방울은 미세 패턴의 사이사이를 침투하기에 충분히 작지 않다. 그러나, 본 발명인 스팀세정시스템 및 이를 이용한 스팀세정방법의 스팀 크기는 미세 패턴 사이사이에 침투할 수 있을 만큼 충분히 작다. 따라서, 본 발명의 스팀세정시스템 및 이를 이용한 스팀세정방법은, 미세 패턴의 사이사이까지 세정 할 수 있다.Second, even when the pattern positioned on the object to be cleaned includes a fine pattern, it can be cleaned between the fine patterns. Recent patterns are becoming more and more refined. However, the bristles of the brush used in general cleaning methods and the water droplets of pure water are not small enough to penetrate between the fine patterns. However, the steam size of the steam cleaning system and the steam cleaning method using the steam cleaning system of the present invention is small enough to penetrate between fine patterns. Therefore, the steam cleaning system and the steam cleaning method using the same of the present invention can be cleaned up to the interval between fine patterns.

도 2는 본 발명의 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템에 포함된 세정노즐의 단면도이고, 도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템에 포함된 세정노즐의 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of a cleaning nozzle included in a steam cleaning system according to another embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view of a cleaning nozzle included in a steam cleaning system according to another embodiment of the present invention .

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른, 스팀세정시스템의 세정노즐은 외부공간으로부터 내부공간을 분리시키는 몸체(100), 해당 몸체 내부로 스팀을 들이는 스팀유입관(204), 및 들여온 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 분사구(222)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the cleaning nozzle of the steam cleaning system according to the present invention includes a body 100 separating an inner space from an outer space, a steam inlet pipe 204 for introducing steam into the body, And may include a jetting port 222 for jetting linearly to an object to be cleaned.

이때, 분사구(222)는 스팀세정의 진행방향과 수직한 방향에 해당하는 대상의 폭에 따라, 크기가 조절될 수 있다. 또한, 스팀세정의 진행방향과 수직한 방향으로 대상의 폭을 모두 덮도록 가상의 선상에 일렬 또는 다중 배열될 수 있다(도 5를 참조하여 후술한다).At this time, the size of the jet opening 222 can be adjusted according to the width of the object corresponding to the direction perpendicular to the progress direction of the steam cleaning. Further, they may be arranged in a line or on a virtual line so as to cover the entire width of the object in a direction perpendicular to the direction of the steam cleaning (to be described later with reference to FIG. 5).

본 발명의 일 실시 예에 따른 해당 세정노즐을 상세히 설명하자면 다음과 같다. 우선, 스팀(20)이 스팀유입관(204)을 통하여 몸체 내부(101)로 들여진다. 이어서, 몸체 내부(101)에 위치되는 스팀(20)은 분사유체(30)로서 분사관(220) 및 분사구(222)를 통해서 세정하고자 하는 대상에 분사된다. 이때, 분사되는 분사유체(30)는 100o 이상 160o 이하인 온도범위에 속할 수 있다.The cleaning nozzle according to an embodiment of the present invention will be described in detail as follows. First, the steam 20 is introduced into the inside of the body 101 through the steam inlet pipe 204. The steam 20 located in the inside of the body 101 is sprayed to the object to be cleaned through the injection pipe 220 and the injection port 222 as the injection fluid 30. At this time, the jetting fluid 30 to be sprayed may be in a temperature range of 100 o to 160 o .

도 3을 참조하면, 스팀세정시스템의 세정노즐은 몸체 내부(101)로 액체(5)를 들이는 액체유입관(202) 및 기체(22)를 들이는 기체유입관(206)을 더 포함하여, 스팀(20), 액체(5) 및 기체(22) 중 적어도 하나 이상을 포함하는 분사유체(30)를 분사구(222)를 통하여 분사할 수 있다.3, the cleaning nozzle of the steam cleaning system further includes a gas inlet pipe 206 which surrounds the gas inlet 22 and the liquid inlet pipe 202 for filling the liquid 5 into the inside of the body 101 The injection fluid 30 including at least one of the steam 22, the steam 20, the liquid 5 and the gas 22 may be injected through the injection port 222.

여기서, 액체(5)는 순수 또는 오존수일 수 있고, 순수는 이온을 포함하지 않는 탈이온수(DIW, deionized water) 및 이온과 이온 이외의 불순물들을 포함하지 않는 초순수(UPW, ultrapure water) 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다.Here, the liquid 5 may be pure water or ozonated water, and pure water may be deionized water (DIW) not containing ions and at least one of ultrapure water (UPW) containing no impurities other than ions and ions Or more.

또한, 기체(22)는 청정공기(CDA, clean dry air), 질소(N2), 산소(O2) 및 스팀 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. 도 3에 도시된 바와 같이 스팀세정시스템이 액체(5) 및 기체(22)를 더 포함하는 분사유체(30)를 분사하여 세정하는 경우, 스팀만을 분사유체로 분사하는 것보다 효과적인 세정을 할 수 있다.In addition, the base 22 may include at least one of clean air (CDA), nitrogen (N 2 ), oxygen (O 2 ), and steam. As shown in FIG. 3, when the steam cleaning system sprays the jetting fluid 30 further including the liquid 5 and the gas 22, it is possible to perform cleaning more effectively than spraying only steam with the jetting fluid have.

또한, 도 3의 경우, 스팀(20)만을 몸체 내부(101)로 들이는 경우보다, 분사유체(30)의 부피가 증가할 수 있다. 이에 따라, 분사유체(30)는 부피가 증가하기 전과 동일한 시간비율로 배출되기 위해서, 전보다 증가된 속력으로 대상에 분사될 수 있다. 여기서, 증가된 속력은 세정하고자 하는 대상 표면의 오염물을 밀어내는 압력으로 작용하여 스팀세정의 효율을 높일 수 있다.3, the volume of the injection fluid 30 may be increased as compared with a case where only the steam 20 is injected into the inside of the body 101. Thus, the injecting fluid 30 can be injected into the object at an increased speed than before, in order to be discharged at the same time rate as before the volume was increased. Here, the increased speed can act as a pressure to push out contaminants on the surface of the object to be cleaned, thereby increasing the efficiency of steam cleaning.

이때, 액체유입관이 들여오는 액체(5)는, 분사구(222)의 장축의 길이 150mm 당, 0.5 ℓ/min 이상 25 ℓ/min 이하인 부피범위에 속할 수 있고, 기체유입관이 들여오는 기체(22)는, 분사구(222)의 장축의 길이 150mm 당, 50 ℓ/min 이상 1000 ℓ/min 이하인 부피범위에 속할 수 있다. 이는 스팀세정시스템에 가장 최적의 효율을 내는 스팀의 조건이다.At this time, the liquid 5 to be introduced into the liquid inflow pipe may fall within a volume range of not less than 0.5 l / min and not more than 25 l / min per 150 mm long long axis of the jet opening 222, 22 can be in a volume range of not less than 50 L / min and not more than 1000 L / min per 150 mm long long axis of the injection port 222. This is the condition of the steam which gives the most efficient efficiency to the steam cleaning system.

도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템의 세정노즐과 세정하고자 하는 대상까지의 거리를 나타내는 도면이다.4 is a view showing a distance between a cleaning nozzle of a steam cleaning system and a target to be cleaned according to another embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 분사유체를 분사하는 분사구(222)로부터 세정하고자 하는 대상(40)까지는 일정한 거리(225)가 있을 수 있다. 특히, 해당 거리(225)는 5mm 이상 30mm 이하에 속할 수 있다. 이는 해당 거리(225)가 너무 짧으면 해당 대상(40)의 긁힘이나 깨짐의 위험이 있고, 해당 거리(225)가 너무 길면 세정률이 현저히 감소하는 것을 고려한, 스팀세정시스템에 가장 최적의 효율을 내는 스팀의 조건이다.Referring to FIG. 4, there may be a certain distance 225 from the jetting port 222 for jetting the jetting fluid to the object 40 to be cleaned. In particular, the distance 225 may be in a range of 5 mm or more and 30 mm or less. This is because, if the distance 225 is too short, there is a risk of scratching or breaking the object 40, and if the distance 225 is too long, the cleaning efficiency is remarkably reduced. It is a condition of steam.

본 발명의 일 실시 예에 있어서, 분사구(222)로부터 분사되는 분사유체는 선형으로 분사될 수 있고, 이로 인해, 일순간에 대상(40) 표면의 선형 형태 영역을 세정할 수 있다. 따라서 이와 같은 세정을 수행하는, 슬릿(slit)형태의 분사구(222)를 포함한 세정노즐이, 시간의 흐름에 따라 분사구(222)의 장축과 수직한 방향으로, 세정하고자 하는 대상(40)에 대해 상대속도를 가지고 이동한다면, 일순간에 한 스팟을 세정하는 세정노즐과 비교하여, 같은 시간 동안에, 상대적으로 더 넓은 면적을 세정할 수 있다. 이때, 대상(40)은 대면적의 글라스(glass)를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the jetting fluid injected from the jetting orifice 222 may be injected in a linear fashion, thereby allowing the instantaneous cleaning of the linear shaped area of the object 40 surface. Therefore, the cleaning nozzle including the slit-shaped injection port 222, which performs the cleaning as described above, moves with respect to the object 40 to be cleaned in the direction perpendicular to the long axis of the injection port 222 If moving at a relative speed, a relatively larger area can be cleaned during the same time period compared to a cleaning nozzle that rinses a spot in an instant. At this time, the object 40 may include a large-area glass.

한편, 본 스팀세정시스템의 스팀발생장치에서 발생하는 스팀은 0.1Mpa 이상 0.6Mpa 이하인 압력의 범위에 속할 수 있고, 100o 이상 160o 이하인 온도의 범위에 속할 수 있다. 이는 스팀의 압력이 낮아지면 세정률이 감소하고, 스팀의 압력을 높이기 위해서는 더 높은 전력이 소모되는 것을 고려한, 스팀세정시스템에 가장 최적의 효율을 내는 스팀의 조건이다.On the other hand, the steam generated in the steam generator of the present steam cleaning system may fall within a range of a pressure of 0.1 Mpa or more and 0.6 Mpa or less, and may be in a range of 100 o to 160 o . This is the most efficient steam condition for a steam cleaning system, considering that the lower the steam pressure, the lower the cleaning rate, and the higher the power consumption for increasing the steam pressure.

도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템의 세정노즐이 가상의 선상에 복수로 배열될 때, 세정노즐의 분사구를 나타내는 저면도이다.5 is a bottom view showing an ejection port of a cleaning nozzle when a plurality of cleaning nozzles of a steam cleaning system are arranged on a virtual line, according to another embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 세정노즐의 분사구(222)는 (a) 및 (b)와 같이 하나의 가상의 선상에 일렬로 배열되거나, (c)와 같이 두 개 이상의 가상의 선상에 다중으로 배열될 수 있다. 특히, 분사구(222)를 (b) 및 (c)와 같이 배열하면, (a)와 같이 배열할 때와 비교하여, 분사구(222)가 끊어지는 구간 없이 연속됨으로 보다 높은 세정을 구현할 수 있다.Referring to FIG. 5, the ejection openings 222 of the cleaning nozzles are arranged in a line on one imaginary line as shown in (a) and (b), or arranged in multiple on two or more imaginary lines as shown in (c) . Particularly, arranging the jetting ports 222 as shown in (b) and (c) can achieve higher cleaning as the jetting ports 222 are continuous without a section where the jetting ports 222 are broken as compared with the arrangement as shown in (a).

도 6은 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템의 세정노즐의 가속유로를 나타내는 단면도이다.6 is a cross-sectional view showing an acceleration flow path of a cleaning nozzle of a steam cleaning system according to another embodiment of the present invention.

분사유체의 흐름을 나타내는 제 1 내지 제 3 화살표(32, 34, 36) 각각의 면적은 분사유체의 부피를 나타내고, 길이는 분사유체의 속도를 나타낼 수 있다. 제 1 화살표(32)에서 제 3 화살표(36)으로 갈수록 화살표의 면적은 동일하지만, 폭은 좁아지고 길이는 증가한다. 즉, 일정한 부피의 분사유체가 동일한 시간 동안 더 좁은 공간을 통과하기 위하여 증가된 속력으로 이동할 수 있다. 특히, 분사유체의 속력은 분사관(220)을 통과할 때 가장 크게 증대되어 분사구(222)로부터 분사될 수 있다. 증가된 속력은 곧 스팀세정 대상으로부터 오염물을 밀어내는 추가적인 힘으로 작용하여, 세정효율을 증대시킬 수 있다.The area of each of the first through third arrows 32, 34, 36 representing the flow of the injected fluid represents the volume of the injected fluid and the length may represent the velocity of the injected fluid. The areas of the arrows from the first arrow 32 to the third arrow 36 are the same, but the width is narrowed and the length is increased. That is, a constant volume of the injected fluid can move at an increased speed to pass through a narrower space for the same amount of time. In particular, the speed of the jetting fluid can be maximized and increased from the jetting port 222 as it passes through the jetting tube 220. The increased speed will soon act as an additional force to push out contaminants from the steam cleaning object, thereby increasing the cleaning efficiency.

도 7은 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른, 스팀세정시스템의 세정노즐이, 세정노즐의 몸체 외부에 석션부를 더 포함하는 것을 나타내는 단면도이다.7 is a sectional view showing that the cleaning nozzle of the steam cleaning system according to another embodiment of the present invention further includes a suction portion outside the body of the cleaning nozzle.

도 7를 참조하면, 세정노즐은 분사유체 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상을 포함하여 흡입하는 석션부(suction)(600)를 몸체(100)의 외부에 포함할 수 있다. 해당 석션부(600)는 셕션후드(610) 및 배기관(602)을 포함할 수 있다. 이로써, 석션후드(610)는 지속적으로 분사유체 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상을 지속적으로 흡입하고 배기관(602)을 통하여 배기할 수 있다.Referring to FIG. 7, the cleaning nozzle may include at least one suction fluid including at least one of a jetting fluid and a contaminant separated from an object to be cleaned, and may include a suction 600 outside the body 100. The suction unit 600 may include a suction hood 610 and an exhaust pipe 602. Thus, the suction hood 610 can continuously suck at least one or more of the jetting fluid and the contaminants separated from the object to be cleaned and exhaust through the exhaust pipe 602.

이로 인해서, 세정하고자 하는 대상의 세정을 수행한 후에, 분사유체 및 세정하고자 하는 대상으로부터 분리된 오염물 중 적어도 하나 이상이, 이미 세정이 완료된 해당 대상으로 비산되지 않고 해당 대상으로부터 효과적으로 제거될 수 있다.Thus, after cleaning the object to be cleaned, at least one or more of the jetting fluid and the contaminants separated from the object to be cleaned can be effectively removed from the object without being scattered to the object that has already been cleaned.

따라서, 이상의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다.Accordingly, the foregoing detailed description should not be construed in any way as limiting and should be considered illustrative. The scope of the present invention should be determined by rational interpretation of the appended claims, and all changes within the scope of equivalents of the present invention are included in the scope of the present invention.

1: 스팀발생장치
2: 스팀이송관
3: 세정노즐
5: 액체
20: 스팀
22: 기체
30: 분사유체
32, 34, 36: 제 1 내지 제 3 화살표
40: 대상
100: 몸체
101: 몸체 내부
102: 상부몸체
104: 하부제1몸체
106: 하부제2몸체
202: 액체수유입관
204: 스팀유입관
206: 기체유입관
220: 분사관
222: 분사구
600: 석션부
610: 석션후드
602: 배기관
1: Steam generator
2: Steam pipe
3: Cleaning nozzle
5: liquid
20: Steam
22: Gas
30: Injection fluid
32, 34, 36: first to third arrows
40: Target
100: Body
101: inside of the body
102: upper body
104: lower first body
106: lower second body
202: Liquid feeding infusion
204: steam inlet pipe
206: gas inlet pipe
220: Distributor
222:
600: Suction part
610: Suction hood
602: Exhaust pipe

Claims (18)

스팀을 발생시키고 상기 스팀의 압력과 온도를 조절하는 스팀발생장치;
상기 스팀을 세정노즐로 이동시키는 스팀이송관; 및
상기 스팀을 분사하여, 스팀세정을 수행하는 상기 세정노즐을 포함하고,
상기 세정노즐은,
외부공간으로부터 내부공간을 분리시키는 몸체;
상기 몸체 내부로 상기 스팀을 들이는 스팀유입관; 및
상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 적어도 하나 이상의 분사구를 포함하는 스팀세정시스템.
A steam generator for generating steam and regulating the pressure and temperature of the steam;
A steam delivery pipe for moving the steam to the cleaning nozzle; And
And a cleaning nozzle for spraying the steam to perform steam cleaning,
In the cleaning nozzle,
A body separating the inner space from the outer space;
A steam inlet pipe for introducing the steam into the body; And
And at least one jetting port for linearly jetting the steam to an object to be cleaned.
제 1 항에 있어서,
상기 대상은,
글라스(glass)를 포함하는 스팀세정시스템.
The method according to claim 1,
The object may comprise:
A steam cleaning system comprising glass.
제 1 항에 있어서,
상기 세정노즐은,
상기 몸체 내부로 액체를 들이는 액체유입관 및 기체를 들이는 기체유입관 중 적어도 하나 이상을 더 포함하고, 상기 액체 및 상기 기체 중 적어도 하나 이상과 상기 스팀을 함께 상기 분사구를 통하여 분사하는 스팀세정시스템.
The method according to claim 1,
In the cleaning nozzle,
A liquid inflow pipe for injecting liquid into the body, and a gas inflow pipe for introducing the gas, wherein at least one of the liquid and the gas and the steam are jetted together with the steam through the jetting port system.
제 3 항에 있어서,
상기 액체는,
순수 또는 오존수를 포함하는 스팀세정시스템.
The method of claim 3,
The liquid,
A steam cleaning system comprising pure water or ozonated water.
제 4 항에 있어서,
상기 순수는,
탈이온수(DIW, deionized water) 및 초순수(UPW, ultrapure water) 중 적어도 하나 이상을 포함하는 스팀세정시스템.
5. The method of claim 4,
The pure water,
Wherein the steam cleaning system comprises at least one of deionized water (DIW) and ultrapure water (UPW).
제 3 항에 있어서,
상기 기체는,
청정공기(CDA, clean dry air), 질소(N2), 산소(O2) 및 스팀 중 적어도 하나 이상을 포함하는 스팀세정시스템.
The method of claim 3,
The gas,
Wherein the steam cleaning system comprises at least one of clean air (CDA), nitrogen (N 2 ), oxygen (O 2 ), and steam.
제 1 항에 있어서,
상기 분사구는,
상기 스팀세정 진행방향과 수직한 방향으로 상기 대상의 폭을 모두 덮도록 가상의 선상에 일렬 또는 다중 배열되는 스팀세정시스템.
The method according to claim 1,
The jetting port
And arranged in a line or on an imaginary line so as to cover the width of the object in a direction perpendicular to the steam cleaning progressing direction.
제 1 항에 있어서,
상기 분사구는,
상기 스팀세정 진행방향과 수직한 방향에 해당하는 상기 대상의 폭에 따라, 크기가 조절되는 스팀세정시스템.
The method according to claim 1,
The jetting port
And the size of the steam washing system is adjusted according to a width of the object corresponding to a direction perpendicular to the steam cleaning progressing direction.
제 3 항에 있어서,
상기 세정노즐은,
상기 분사구를 통하여 분사되기 전, 상기 몸체 내부로 들여진 상기 스팀, 상기 액체 및 상기 기체 중 적어도 하나 이상을 가속시키는 가속유로를 더 포함하는 스팀세정시스템.
The method of claim 3,
In the cleaning nozzle,
And an acceleration flow path for accelerating at least one of the steam, the liquid, and the gas introduced into the body before being injected through the injection port.
제 1 항에 있어서,
상기 세정노즐은,
상기 스팀세정 후 비산된 상기 스팀, 상기 액체 및 상기 기체 중 적어도 하나 이상을 흡입하는 석션부(suction)를 상기 몸체의 외부에, 더 포함하는 스팀세정시스템.
The method according to claim 1,
In the cleaning nozzle,
Further comprising: a suction portion for sucking at least one of the steam, the liquid, and the gas scattered after the steam cleaning, outside the body.
스팀발생장치가 스팀을 발생시키고 상기 스팀의 압력과 온도를 조절하는 단계;
스팀이송관이 상기 스팀을 세정노즐로 이동시키는 단계; 및
상기 세정노즐이 스팀세정을 수행하는 단계를 포함하고,
상기 세정노즐이 스팀세정을 수행하는 단계는,
스팀유입관이 외부공간으로부터 내부공간을 분리시키는 몸체 내부로 스팀을 들이는 단계; 및
분사구가 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 단계를 포함하는 스팀세정방법.
The steam generator generating steam and adjusting the pressure and temperature of the steam;
Moving the steam to the cleaning nozzle; And
The cleaning nozzle performing steam cleaning,
Wherein the cleaning nozzle performs steam cleaning,
The steam inlet pipe introducing steam into the body separating the inner space from the outer space; And
Wherein the jet nozzle linearly injects the steam to an object to be cleaned.
제 11 항에 있어서,
상기 스팀발생창치가 스팀을 발생시키고 상기 스팀의 압력과 온도를 조절하는 단계는,
상기 스팀발생장치가 0.1Mpa 이상 0.6Mpa 이하의 압력에 해당하는 상기 스팀을 발생시키는 단계를 포함하는 것을 하는 스팀세정방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the steam generating window generates steam and the pressure and temperature of the steam are controlled,
Wherein the steam generating device generates the steam corresponding to a pressure of not less than 0.1 Mpa and not more than 0.6 Mpa.
제 11 항에 있어서,
상기 스팀발생창치가 스팀을 발생시키고 상기 스팀의 압력과 온도를 조절하는 단계는,
상기 스팀발생장치가 100o 이상 160o 이하의 온도에 해당하는 상기 스팀을 발생시키는 단계를 포함하는 스팀세정방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the steam generating window generates steam and the pressure and temperature of the steam are controlled,
Wherein the steam generator generates steam at a temperature of 100 ° C to 160 ° C.
제 11 항에 있어서,
상기 세정노즐이 스팀세정을 수행하는 단계는,
상기 몸체 내부로, 액체유입관이 액체를 들이는 단계 및 기체유입관이 기체를 들이는 단계 중 적어도 하나 이상의 단계를 포함하고,
상기 분사구가 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 단계는,
상기 분사구가 상기 액체 및 상기 기체 중 적어도 하나 이상과 상기 스팀을 함께 분사하는 단계를 포함하는 스팀세정방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the cleaning nozzle performs steam cleaning,
A step of injecting liquid into the body, and a step of drawing gas into the gas inlet pipe,
Wherein the jetting nozzle linearly injects the steam to an object to be cleaned,
Wherein the jetting port injects the steam and at least one of the liquid and the gas together.
제 14 항에 있어서,
상기 몸체 내부로, 액체유입관이 액체를 들이는 단계는,
상기 액체유입관이 상기 분사구의 장축의 길이 150mm 당, 0.5 ℓ/min 이상 25 ℓ/min 이하의 부피에 해당하는 액체를 들이는 단계를 포함하는 스팀세정방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the step of introducing the liquid into the body,
Wherein the liquid inflow tube contains a liquid having a volume corresponding to 0.5 l / min to 25 l / min per 150 mm length of the long axis of the injection port.
제 14 항에 있어서,
상기 몸체 내부로, 기체유입관이 기체를 들이는 단계는,
상기 기체유입관이 상기 분사구의 장축의 길이 150mm 당, 50 ℓ/min 이상 1000 ℓ/min 이하의 부피에 해당하는 기체를 들이는 단계를 포함하는 스팀세정방법.
15. The method of claim 14,
The step of introducing the gas into the body,
Wherein the gas inlet pipe includes a step of injecting gas corresponding to a volume of not less than 50 L / min and not more than 1000 L / min per 150 mm long long axis of the injection port.
제 11 항에 있어서,
상기 분사구가 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 단계는,
상기 분사구가 100o 이상 160o 이하의 온도에 해당하는 상기 스팀을 분사하는 단계를 포함하는 스팀세정방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the jetting nozzle linearly injects the steam to an object to be cleaned,
And spraying the steam at a temperature equal to or higher than 100 o and lower than 160 o .
제 11 항에 있어서,
상기 분사구가 상기 스팀을 세정하고자 하는 대상에 선형으로 분사하는 단계는,
상기 분사구가 상기 대상으로부터 5mm 이상 30mm 이하의 거리에서, 상기 스팀을 구비하는 분사유체를 분사하는 단계를 포함하는 스팀세정방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the jetting nozzle linearly injects the steam to an object to be cleaned,
And spraying the jetting fluid having the steam at a distance of 5 mm or more and 30 mm or less from the object.
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