KR20180109673A - Resinoid grinding wheel, method for manufacturing resinoid grinding wheel, and processing device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 레지노이드 지석, 레지노이드 지석의 제조 방법 및 가공 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a resinoid grindstone, a resinoid grindstone, and a machining apparatus.
종래 기술로서, 예를 들어 특허문헌 1에는, CBN 입자 혹은 다이아몬드 입자를 레진 본드 중에 산재시킨 레진 본드 초지립 지석(본 출원 서류에서 사용되는 「레지노이드 지석」과 동일 의미)이며, CBN 입자 혹은 다이아몬드 입자의 외표면 근방에 단섬유를 마련하여 이루어지는 레진 본드 초지립 지석이 개시되어 있다. 단섬유로서는, 예를 들어 유리 섬유, 탄소 섬유 및 각종 위스커 등의 파이버(섬유) 조직을 갖는 것이 개시된다(이상에 대해서는 특허문헌 1의 제2 페이지 좌측 상란 제7∼16행을 참조).As a conventional technique, for example,
특허문헌 1에 개시된 레진 본드 초지립 지석은, 초지립의 탈락이 억제된다고 하는 효과를 발휘한다(특허문헌 1의 제3 페이지 좌측 상란 제5∼8행을 참조). 따라서, 개시된 레진 본드 초지립 지석은 장수명을 갖는다. 레진 본드 초지립 지석에 대해서는 더한층의 장수명화가 요구되고 있다.The resin-bonded-paper-based-lip grinding wheel disclosed in
본 발명은 상기한 과제를 해결하는 것으로, 한층 더 장수명화된 레지노이드 지석, 레지노이드 지석의 제조 방법 및 가공 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for manufacturing a resinoid grindstone, a resinoid grindstone, and the like, which have been further improved in longevity.
상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 레지노이드 지석은, 수지 재료가 경화됨으로써 성형된 경화 수지와, 경화 수지 내에 혼입된 지립과, 경화 수지 내에 혼입된 생물 유래의 섬유상 부재를 구비한다.In order to solve the above problems, a resinoid grindstone according to the present invention comprises a cured resin molded by curing a resin material, abrasive grains mixed in the cured resin, and a fibrous member derived from the organism mixed in the cured resin.
상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 레지노이드 지석의 제조 방법은, 지립과 생물 유래의 섬유상 부재와 수지 재료를 혼합하여 혼합 재료를 제작하는 공정과, 혼합 재료를 성형 형에 채워 혼합 재료를 가압하면서 가열하는 공정과, 수지 재료를 경화시켜 경화 수지를 성형하는 공정을 포함한다.In order to solve the above problems, a method for producing a resinoid grindstone according to the present invention comprises the steps of: preparing a mixed material by mixing a fibrous member derived from abrasive grains and a biorhythm and a resin material; And a step of curing the resin material to mold the cured resin.
상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 레지노이드 지석의 제조 방법은, 지립과 생물 유래의 섬유상 부재와 용제를 혼합하여 혼합 재료를 제작하는 공정과, 혼합 재료를 건조시킨 후에, 유동성을 갖는 수지 재료를 상기 혼합 재료에 함침시킴으로써 함침 재료를 제작하는 공정과, 함침 재료를 성형 형에 채워 상기 함침 재료를 가압하면서 가열하는 공정과, 수지 재료를 경화시킴으로써 경화 수지를 성형하는 공정을 포함한다.In order to solve the above problems, a method for producing a resinoid grindstone according to the present invention comprises the steps of: preparing a mixed material by mixing an abrasive grain and a fibrous member derived from a biomolecule and a solvent; A step of impregnating the resin material with the mixed material to produce an impregnation material; a step of filling the impregnation material into the mold to heat the impregnated material while pressurizing; and a step of molding the cured resin by curing the resin material.
상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 가공 장치는, 수지 재료가 경화됨으로써 성형된 경화 수지와, 경화 수지 내에 혼입된 지립과, 경화 수지 내에 혼입된 생물 유래의 섬유상 부재를 구비하는 레지노이드 지석을 사용하여 가공 대상물을 연마한다.In order to solve the above-described problems, a processing apparatus according to the present invention is a processing apparatus comprising a cured resin molded by curing a resin material, abrasive grains mixed in the cured resin, and a biocompatible fibrous member Polishing the workpiece using a grinding wheel.
본 발명에 따르면, 레지노이드 지석의 장수명화가 도모된다.According to the present invention, the life of the Resinoid grinding wheel is increased.
도 1의 (a)는 본 발명에 관한 레지노이드 지석의 정면도 및 측면도이고, (b) 및 (c)는 각각 다른 실시예에 관한, (a)에 도시된 A부의 확대 개략도이다.
도 2는 본 발명에 관한 레지노이드 지석의 제조 방법을 공정 순으로 도시하는 개략도이다.
도 3의 (a)는 본 발명에 관한 가공 장치를, (b) 및 (c)는 연마 모듈 이외의 기능 모듈의 예를 각각 도시하는 개략 평면도이다.Fig. 1 (a) is a front view and a side view of a resinoid grindstone according to the present invention, and Figs. 2 (b) and 2 (c) are enlarged schematic views of part A shown in Fig.
2 is a schematic view showing a process for producing a resinoid grindstone according to the present invention in the order of steps.
Fig. 3 (a) is a schematic plan view showing a machining apparatus according to the present invention, and Figs. 3 (b) and 3 (c) are schematic plan views showing examples of function modules other than the polishing module.
(실시예 1)(Example 1)
(레지노이드 지석의 구성)(Constitution of resinoid grindstone)
도 1을 참조하여, 본 발명의 실시예 1에 관한 레지노이드 지석의 구성에 대해 설명한다. 레지노이드 지석이라 함은, 지석을 구성하는 요소 중 하나인 결합재(본드)에 수지(레진)를 사용한 지석의 총칭이다. 레지노이드 지석은, 그 목적에 따라서 절단 가공, 연삭 가공 및 연마 가공에 사용된다. 가공 대상물을 가공하는 경우에는, 통상 가공되는 장소에 가공수 등의 가공액이 공급된다.Referring to Fig. 1, the configuration of the resinoid grindstone according to the first embodiment of the present invention will be described. Resinoid grinding stone is a collective name of a grinding stone using resin (resin) as a binder (bond) which is one of the elements constituting a grinding stone. Resinoid grindstones are used for cutting, grinding and polishing according to their purpose. In the case of machining an object to be processed, a machining fluid such as machining water is usually supplied to a place to be machined.
본 출원 서류에 있어서 「연마」라고 하는 문언은, 「연삭, 연마의 총칭」이라고 하는 의미로 사용된다(JIS 공업 용어 대사전 제4판, (재)일본 규격 협회, 1995년 11월 20일, 제533 페이지). 본 출원 서류에 있어서 「가공 대상물(work piece)을 연마한다」라고 하는 문언은, 「가공 대상물에 있어서의 두께 방향의 일부분을 연마하는(가공 대상물의 표면으로부터 일부분을 깎아내는)」것과, 「가공 대상물에 있어서의 두께 방향의 모든 부분을 연마하는(가공 대상물을 완전히 절단하는)」 것의 양쪽을, 의미한다.In the present application document, the term "polishing" is used to mean "general term of grinding and polishing" (JIS Industrial Terms Encyclopedia, Fourth Edition, Japan Society for Standardization, November 20, 1995 533). The phrase " polishing a work piece " in the present application document is based on the phrase " polishing a part in the thickness direction of the object to be processed (cutting a part from the surface of the object to be processed) (Completely cutting the object to be processed) " in all directions in the thickness direction of the object.
도 1의 (a)는, 본 발명에 관한 레지노이드 지석의 정면도 및 측면도이다. 레지노이드 지석(1A)은, 본 발명의 실시예 1에 관한 레지노이드 지석이고, 레지노이드 지석(1B)은, 본 발명의 다른 실시예(후술)에 관한 레지노이드 지석이다.1 (a) is a front view and a side view of a resinoid grindstone according to the present invention. The
본 출원 서류에 있어서의 모든 도면은, 이해하기 쉽게 하는 것을 목적으로 하여, 적절하게 생략하거나 또는 과장하여 모식적으로 그려져 있다. 동일한 구성 요소에는 동일한 부호를 붙이고, 설명을 적절하게 생략한다.All drawings in the present application document are drawn schematically, omitting appropriately or exaggeratingly, for the sake of easy understanding. The same components are denoted by the same reference numerals and the description thereof is appropriately omitted.
도 1의 (a)에 도시된 바와 같이, 레지노이드 지석(1A)은, 원판상(원형)의 외형과 그 원형과 동심원상의 둥근 구멍(2)을 갖는다. 가공 장치의 회전축(도시하지 않음)이 둥근 구멍(2)에 끼워 넣어진다. 레지노이드 지석(1A)은, 양측의 측면부(3)와, 주위면부(4)를 갖는다. 레지노이드 지석(1A)은, 회전축이 둥근 구멍(2)에 끼워 넣어진 상태에서, 양측의 측면부(3) 중 둥근 구멍(2)의 외측의 부분이, 2개의 서로 대향하는 지그(도시하지 않음)에 의해 끼워 넣어진다. 2개의 서로 대향하는 지그가 나사 고정됨으로써, 가공 장치의 회전축에 레지노이드 지석(1A)이 고정된다. 일반적으로, 레지노이드 지석(1A)을 연마용으로서 사용하는 경우에는 큰 두께(t)를 갖는 레지노이드 지석이 사용되고, 레지노이드 지석(1A)을 절단용으로서 사용하는 경우에는 작은 두께(t)를 갖는 레지노이드 지석이 사용된다.As shown in Fig. 1 (a), the
레지노이드 지석(1A)의 가상적인 중심(C)은, 가공 장치의 회전축의 중심선에 일치한다. 가공 장치의 회전축은, 예를 들어 서보 모터 등의 모터(도시하지 않음)의 회전축에 연결된다. 모터의 회전축이 회전함으로써, 가공 장치의 회전축이 회전한다. 이것에 의해, 가공 장치의 회전축에 고정된 레지노이드 지석(1A)이, 일정 회전수(예를 들어, 15000∼30000rpm)로 회전한다. 회전하는 레지노이드 지석(1A)의 주위면부(4)가 가공 대상물에 접촉함으로써 가공 대상물이 연마된다.The virtual center C of the
도 1의 (b)를 참조하면서, 본 발명의 실시예 1에 관한 레지노이드 지석(1A)이 갖는 미세 구조를 설명한다. 도 1의 (b)에 도시된 바와 같이, 레지노이드 지석(1A)은, 경화 수지로 이루어지는 수지부(5)와, 지립(6)과, 생물 유래의 섬유상 부재(7)를 포함한다. 바꾸어 말하면, 지립(6)과, 생물 유래의 섬유상 부재(7)가, 경화 수지로 이루어지는 수지부(5)에 분산되어(혼입되어) 레지노이드 지석(1A)이 구성된다. 수지부(5)와 지립(6)과 생물 유래의 섬유상 부재(7)가 균등하게 혼합되는 것이 바람직하다. 레지노이드 지석(1A)의 용도에 따라서, 수지부(5)에 기공(8)이 형성되는 경우가 있다.The microstructure of the
수지부(5)는, 합성 수지이며, 예를 들어 페놀 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지 등으로 이루어지는 열경화성 수지에 의해 구성된다.The
지립(6)은, 크게 구별하여 일반 지립과 초지립으로 분류된다. 일반 지립으로서는, 예를 들어 알루미나계, 탄화규소계 등의 세라믹계의 경질의 물질이 사용된다. 초지립으로서는, 예를 들어 일반 지립보다 더욱 단단한 물질인 다이아몬드, cBN(입방정 질화붕소) 등이 사용된다.The abrasive grains (6) are roughly classified into general abrasive grains and grass grains. As the general abrasive grains, for example, ceramics hard materials such as alumina-based and silicon carbide-based materials are used. As the grass grains, diamond, cBN (cubic boron nitride) or the like, which is a harder material than general grains, is used.
생물 유래의 섬유상 부재(7)는, 예를 들어 친수성을 갖는 식물성의 섬유상 부재이다. 식물성의 섬유상 부재(7)는 셀룰로오스를 포함하는 것이 바람직하다. 섬유상 부재(7)는, 높은 친수성을 갖는 셀룰로오스 나노파이버(Cellulose nanofiber: CNF)인 것이 한층 더 바람직하다. 셀룰로오스 나노파이버는, 「식물 섬유에 포함되는 셀룰로오스를 원료로 하여, 기계적 해섬으로 제조된 나노파이버」를 의미한다("일본 최초! 바이오매스 나노파이버를 대량 생산·판매! ", [online], 가부시끼가이샤 스기노머신, [2016년 9월 16일 검색], 인터넷 <URL: http://www.sugino.com/site/biomass-nanofiber/guidance.html>).The
셀룰로오스 나노파이버는 다음 특징을 갖는다(가부시끼가이샤 니혼 세이사꾸 토시 긴꼬 산업 조사부, 「이달의 토픽 No.254-2」, 2016년 3월 17일, 도표 2-3 셀룰로오스 나노파이버의 특징 및 기대되는 용도).Cellulose nanofibers have the following characteristics (Table 3-2, March 17, 2016, "Issue No. 254-2 of the Month, Industry Research Division, Nippon Seisakusho Co., Ltd., Japan)" Table 2-3 Characteristics and Expectations of Cellulose Nanofibers Use).
(1) 경량(강철의 5분의 1)이면서 고강도(강철의 5배 이상).(1) lightweight (one fifth of steel) and high strength (more than five times that of steel).
(2) 열에 의한 변형이 적다(유리의 50분의 1 정도).(2) Less heat distortion (about one-fiftieth of glass).
(3) 비표면적이 크다(250㎡/g 이상).(3) The specific surface area is large (not less than 250
실시예 1에 있어서 사용되는 셀룰로오스 나노파이버는, 예를 들어 다음의 직경(길이 방향에 수직인 단면의 직경)의 값과 길이의 값을 갖는다. 셀룰로오스 나노파이버의 직경 값은 φ 수 10(수십)∼200㎚ 정도이고, 길이의 값은 1∼10㎛ 정도 혹은 그 이상이다. 따라서, 사용되는 셀룰로오스 나노파이버의 애스펙트비(길이/직경의 값)는, 수 10(수십)∼수 100(수백) 혹은 그 이상이다.The cellulose nanofibers used in Example 1 have, for example, a value of the diameter and a length of the following diameter (diameter of the cross section perpendicular to the longitudinal direction). The diameter of the cellulose nanofiber is about 10 (several tens) to 200 nm in diameter, and the length is about 1 to 10 m or more. Therefore, the aspect ratio (length / diameter value) of the cellulose nanofibers to be used is several tens (several tens) to several hundred (several hundreds) or more.
도 1의 (b), (c)는, 사용 전에 드레싱(날세움)이 행해진 상태의 레지노이드 지석(1A, 1B)에 있어서, 섬유상 부재(7)의 선단의 일부분이 수지부(5)의 표면으로부터 돌출된 상태를 나타낸다. 수지부(5)의 내부에는, 수지부(5)의 표면으로부터 돌출된 각각의 섬유상 부재(7)로부터 신장되는 부분이 서로 얽혀 존재한다. 수지부(5)의 내부에 있어서, 서로 얽혀 존재하는 복수의 섬유상 부재(7) 사이에, 지립(6)이 존재한다. 이 구성에 의해, 레지노이드 지석(1A)의 기계적 강도, 예를 들어 탄성률, 굽힘 강도, 인장 강도 등이 증가한다.1 (b) and 1 (c) show a state in which a part of the distal end of the
실시예 1에 관한 레지노이드 지석(1A)에 있어서, 지립(6)과 생물 유래의 섬유상 부재(7)(예를 들어, 셀룰로오스 나노파이버)가 경화 수지로 이루어지는 수지부(5)에 분산된다(혼입된다). 생물 유래의 섬유상 부재(7)가 친수성을 가지므로, 레지노이드 지석(1A)의 주위면부(4) 및 측면부(3)에 있어서의 표면 부근에 수분을 유지하기 쉬워진다. 따라서, 레지노이드 지석(1A)의 주위면부(4) 및 측면부(3)와 가공 대상물 사이에 있어서의 마찰이 저감된다. 이것에 의해, 레지노이드 지석을 사용하여 가공 대상물을 연마하는 경우에 발생하는 마찰열이 저감된다. 따라서, 레지노이드 지석의 연마 능력을 향상시킬 수 있어, 레지노이드 지석의 수명을 연장시킬 수 있다.The
실시예 1에 관한 레지노이드 지석(1A)에 있어서, 섬유상 부재(7)의 비율(배합율)이 0.5체적% 이상인 것이 바람직하다. 0.5체적% 정도의 배합율로 섬유상 부재(7)가 포함됨으로써, 레지노이드 지석(1A)의 주위면부(4) 및 측면부(3)와 가공 대상물 사이에 있어서의 마찰을 저감시키는 효과가 발생하기 시작하기 때문이다. 이 효과는, 높은 친수성을 갖는 섬유상 부재(7)가 레지노이드 지석(1A)에 포함되는 것에 기인한다고 추정된다. 본 출원 서류에 있어서 추정되는 내용은, 권리 범위의 해석에는 영향을 미치지 않는다.In the
실시예 1에 관한 레지노이드 지석(1A)에 있어서, 섬유상 부재(7)의 배합율이 3체적% 이상인 것이 한층 더 바람직하다. 3체적% 정도의 배합율로 섬유상 부재(7)가 포함됨으로써, 레지노이드 지석(1A)의 기계적 강도가 증가한다고 하는 효과가 현저하게 발생하기 시작하기 때문이다. 셀룰로오스 나노파이버를 포함하는 복합 재료로 함으로써, 레지노이드 지석(1A)의 기계적 강도가 향상된다.In the
실시예 1에 관한 레지노이드 지석(1A)에 있어서, 섬유상 부재(7)의 배합율이 30체적% 이하인 것이 바람직하다. 레지노이드 지석(1A)의 제조 방법(후술하는 실시예 2)에 의하면, 섬유상 부재(7)의 배합율이 30체적%를 초과하는 경우에는, 지립(6)과 생물 유래의 섬유상 부재(7)와 수지 재료를 교반하여 혼련시키는 것이 곤란해지기 때문이다. 상술한 수지 재료는, 수지부(5)를 구성하는 경화 수지의 원재료이다. 이 수지 재료는, 상온에 있어서 분말상, 입상 또는 액상을 나타낸다. 「상온에서 액상을 나타낸다」라고 하는 문언은, 상온에서 유동성을 갖는 것을 의미하고 있고, 점도의 고저를 따지지 않는다.In the
(작용 효과)(Action effect)
실시예 1에 관한 레지노이드 지석(1A)에 의하면, 다음 효과가 얻어진다. 첫 번째로, 수지부(5)에 지립(6)과 함께 분산된(혼입된), 생물 유래의, 친수성을 갖는 섬유상 부재(7)가 레지노이드 지석(1A)의 주위면부(4)에 있어서의 표면 부근 및 측면부(3)에 있어서의 표면 부근에 수분을 유지하기 쉽게 한다. 이들 표면 부근에 있어서 유지된 수분이, 레지노이드 지석(1A)의 주위면부(4)의 표면 및 측면부(3)의 표면과 가공 대상물 사이에 있어서의 마찰을 저감한다. 이것에 의해, 레지노이드 지석을 사용하여 절삭 대상물을 연마하는 경우에 발생하는 마찰열이 저감된다. 따라서, 레지노이드 지석(1A)의 연마 능력을 향상시킬 수 있어, 레지노이드 지석의 수명을 연장시킬 수 있다. 덧붙여, 레지노이드 지석(1A)의 회전수를 증가시킬 수 있으므로, 가공 대상물을 연마하는 효율이 향상된다. 게다가, 레지노이드 지석(1A)을 사용하여 가공 대상물을 연마하는 경우에, 연마 품질을 양호하게 유지할 수 있다. 이들 효과는, 높은 친수성을 갖는 식물성의 섬유상 부재(7)(예를 들어, 셀룰로오스 나노파이버)를 사용함으로써 한층 더 현저해진다.According to the
두 번째로, 레지노이드 지석(1A)에 생물 유래의 섬유상 부재(7)가 포함됨으로써, 레지노이드 지석(1A)의 기계적 강도, 예를 들어 탄성률, 굽힘 강도, 인장 강도 등이 증가한다. 이것에 기인하여 레지노이드 지석(1A)을 사용하여 판상 부재를 연마하는 경우에, 레지노이드 지석(1A)의 진동, 사행, 변형 등이 저감되므로, 레지노이드 지석(1A)의 수명을 연장시킬 수 있다. 이 효과는, 얇게 형성된 레지노이드 지석(1A)을 사용하여 판상 부재를 절단하는 경우에 특히 현저하다. 게다가, 레지노이드 지석(1A)의 진동, 사행, 변형 등이 억제되므로, 연마 품질(절단 품질)을 양호하게 유지할 수 있다.Secondly, the
또한, 레지노이드 지석(1A)의 기계적 강도가 증가하는 것에 기인하여 레지노이드 지석(1A)의 두께를 한층 더 줄이는 것이 가능해진다. 이에 의해, 가공 대상물의 절취부인 커프(kerf)의 폭을 줄일 수 있다. 따라서, 1개의 가공 대상물로부터 생산되는 제품의 수(취출 수)를 증가시킬 수 있다.Further, the thickness of the
덧붙여, 레지노이드 지석(1A)의 두께를 얇게 한 경우라도, 레지노이드 지석(1A)의 기계적 강도가 증가하는 것에 기초하여 레지노이드 지석(1A)의 외경을 크게 함으로써, 이하의 효과가 얻어진다. 먼저, 레지노이드 지석(1A)의 수명을 연장시킬 수 있다. 다음으로, 레지노이드 지석(1A)의 주속이 증가하므로, 레지노이드 지석(1A)이 가공 대상물을 연마하는 효율을 향상시킬 수 있다. 다음으로, 큰 두께를 갖는 가공 대상물을, 두께 방향으로 완전히 연마할(절단할) 수 있다. 큰 두께를 갖는 가공 대상물로서는, 전력 제어용 반도체 소자(IC, 트랜지스터 등), 수송 기기 등을 대상으로 한 내연 기관 제어용 IC, 전동기 제어용 IC, 구동 시스템 제어용 IC, 제동 시스템 제어용 IC 등이 수지 밀봉된 밀봉 완료 기판을 들 수 있다.In addition, even when the thickness of the
세 번째로, 높은 친수성을 갖는 생물 유래의 섬유상 부재(7)가 레지노이드 지석(1A)에 포함됨으로써, 레지노이드 지석(1A)의 주위면부(4) 및 측면부(3)에 있어서 포함되는 수분이 증가한다. 따라서, 이 수분에 의해 레지노이드 지석(1A)과 가공 대상물을 냉각하는 효과가 향상되므로, 가공에 의한 열의 축적을 저감할 수 있다. 이들의 것에 기인하여, 레지노이드 지석(1A)을 사용하여 가공 대상물을 연마하는 경우에, 레지노이드 지석(1A)의 연마 능력을 향상시킬 수 있어, 레지노이드 지석의 수명을 연장시킬 수 있다. 게다가, 연마 품질을 양호하게 유지할 수 있다.Third, since the biologically-derived
네 번째로, 레지노이드 지석(1A)에 섬유상 부재(7)가 포함됨으로써, 레지노이드 지석(1A)이 가공 대상물을 연마하는 것에 수반하여 레지노이드 지석(1A)의 주위면부(4)의 표면 및 측면부(3)의 표면으로부터 복수의 섬유상 부재(7)(섬유상 부재(7)의 일부분을 포함함)가 순차 탈락한다. 높은 친수성을 갖는 식물성의 섬유상 부재(7)를 사용하는 경우에는, 서로 얽힌 복수의 섬유상 부재(7)와 수지부(5)를 포함하는 괴상의 부분이 탈락하는 경우도 있다고 추정된다. 이들의 것에 의해, 새로운 지립(6)이 주위면부(4)의 표면 및 측면부(3)의 표면에 나타나기 쉬워진다. 따라서, 마모된 지립(6) 대신 새로운 지립(6)이 연마에 기여하기 쉬워지므로, 가공 대상물을 연마하는 효율이 향상된다. 게다가, 레지노이드 지석(1A)을 사용하여 가공 대상물을 연마하는 경우에, 연마 품질을 양호하게 유지할 수 있다.Fourth, since the
또한, 레지노이드 지석(1A)을 절삭용으로서 사용하는 경우에는, 수지부(5)에 기공(8)을 형성해도 된다. 기공(8)을 형성함으로써 레지노이드 지석(1A)의 내부를 다공질로 할 수 있다. 기공(8)을 형성함으로써, 다음 효과가 얻어진다. 첫 번째로, 가공 대상물을 절삭 중에 절삭 칩이 기공(8)의 내부로 들어가기 쉬워진다. 이에 의해, 레지노이드 지석(1A)의 표면에 있어서의 지립(6)끼리의 사이에 칩이 축적되기 어려워진다. 따라서, 칩에 의한 지석의 눈 막힘이 억제된다.In addition, when the
두 번째로, 기공(8)의 내부에 가공수가 들어가기 쉬워진다. 기공(8)의 내부로 들어간 가공수는, 가공 대상물을 연마 중에 레지노이드 지석(1A)의 표면 온도가 상승하는 것을 억제한다. 따라서, 레지노이드 지석(1A)의 주위면부(4)의 표면 및 측면부(3)의 표면과 가공 대상물 사이에 있어서 발생하는 마찰열을 한층 더 저감할 수 있다. 기공(8)은, 가공 대상물을 황삭하는 경우에는 특히 유용하다.Secondly, processing water easily enters the pores 8. The processing water which has entered the inside of the pores 8 suppresses the surface temperature of the
또한, 레지노이드 지석(1A)을 절단용으로서 사용하는 경우에는, 수지부(5)에 골재를 첨가해도 된다. 레지노이드 지석(1A)의 두께가 얇은 경우에는, 골재를 첨가함으로써 레지노이드 지석(1A)의 강도가 향상된다. 골재로서는, 텅스텐 카바이드(WC), 알루미나(Al2O3), 탄화규소(SiC) 등의 재료가 사용된다. 레지노이드 지석(1A)은, 목적에 따라서 다른 첨가제를 포함해도 된다. 다른 첨가제로서, 카본 블랙, 실란 커플링재 등의 재료가 사용된다.In addition, when the
(실시예 2)(Example 2)
(레지노이드 지석의 제조 방법)(Manufacturing method of resinoids grits)
도 1의 (b) 및 도 2를 참조하여, 본 발명의 실시예 1에 관한 레지노이드 지석(1A)을 제조하는, 레지노이드 지석의 제조 방법을 설명한다. 본 출원 서류에 있어서 기재되는 제조 조건은 일례이다. 레지노이드 지석의 제조 방법에 있어서의 제조 조건은, 본 출원 서류에 있어서 기재되는 제조 조건에 한정되지 않는다.1 (b) and Fig. 2, a method of manufacturing a resinoid grindstone for manufacturing the
먼저, 도 1의 (b)에 도시되는 지립(6)과, 생물 유래의 섬유상 부재(예를 들어, 셀룰로오스 나노파이버)(7)와, 수지 재료를 준비한다. 필요에 따라서, 골재 등을 포함하는 다른 첨가제를 준비해도 된다. 수지 재료는, 상온에 있어서 분말상, 입상 또는 액상을 나타내는 것이 바람직하다. 수지 재료는, 합성 수지이며, 예를 들어 페놀 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지 등을 주재료로 하여 포함하는 열경화성 수지이다.First, an
다음으로, 지립(6)과 섬유상 부재(7)와 골재와 다른 첨가제와 수지 재료를 각각 계량한다. 각각 계량된 지립(6)과 섬유상 부재(7)와 골재와 다른 첨가제와 수지 재료를, 분쇄기를 사용하여 갈아 으깨면서 섞는다. 그 후에, 혼련기를 사용하여, 지립(6)과 섬유상 부재(7)와 골재와 다른 첨가제와 수지 재료에 전단력을 가하면서, 그들 재료를 혼련한다. 이것에 의해, 지립(6)과 섬유상 부재(7)와 골재와 다른 첨가제를 수지 재료에 혼입시킨다. 지립(6)과 섬유상 부재(7)와 골재와 다른 첨가제와 수지 재료를 가능한 한 균등하게 혼합하여, 혼합 재료를 제작하는 것이 바람직하다. 그 혼합 재료를 건조시킨다. 그 후에, 혼합 재료를 압연함으로써 판상의 혼합 재료를 제작한다. 적정한 압연을 행하기 위해, 혼련된 재료(혼련물)에 알코올 등의 용제를 적절히 첨가하고, 다시 혼련한 후에, 적절히 건조시킴으로써 혼련물의 경도를 조정해도 된다.Next, the
다음으로, 판상의 혼합 재료를 펀칭함으로써, 도 2의 (a), (b)에 도시되는, 둥근 구멍(2)을 갖는 원판상의 혼합 재료(9A)를 제작한다. 도 2의 (a), (b)는 원판상의 혼합 재료(9A)의 평면도 및 정면도를 각각 도시한다. 원판상의 혼합 재료(9A)는, 둥근 구멍(2)과 측면부(3)와 주위면부(4)를 갖는다. 원판상의 혼합 재료(9B)는, 본 발명의 다른 실시예(후술하는 실시예 4)에 관한 레지노이드 지석(1B)의 원재료이며, 혼합 재료(9A)와는 상이한 성분을 갖는다.Next, by punching the plate-like mixed material, a disk-shaped
다음으로, 도 2의 (c)에 도시된 바와 같이, 1세트의 성형 형(10)을 준비한다. 성형 형(10)은 하형(11)과 상형(12)을 갖는다. 성형 형(10)을 구성하는 재료는, 공구강 등으로 이루어지는 금속계 재료여도 되고, 세라믹스계 재료여도 된다. 성형 형(10)은, 금속계 재료 또는 세라믹스계 재료로 이루어지는 모재 위에, 산화이트륨(Y2O3)을 포함하는 세라믹스계 재료가 코팅되어 구성되어도 된다.Next, as shown in Fig. 2 (c), a set of molding dies 10 is prepared. The
하형(11)에는, 원판상의 혼합 재료(9A)가 수용되는 오목부(13)가 마련된다. 하형(11)의 오목부(13)의 바닥을 구성하는 하형(11)의 내저면에는, 혼합 재료(9A)의 둥근 구멍(2)에 대응하는 상향의 볼록부(14)가 마련된다. 상형(12)의 저면(하면)에는, 혼합 재료(9A)의 평면 형상에 대응하는 하향의 볼록부(15)가 마련된다.The
다음으로, 도 2의 (c)에 도시된 바와 같이, 원판상의 혼합 재료(9A)를 성형 형(10)에 수용한다. 도 2의 (c)에는, 2개의 원판상의 혼합 재료(9A)가 성형 형(10)에 수용되는 예를 도시한다. 도면의 깊이 방향으로도 복수 개(예를 들어, 도면의 깊이 방향을 따르는 1열당 3개)의 원판상의 혼합 재료(9A)를 수용해도 된다. 이 경우에는, 1세트의 성형 형(10)을 사용하여 6(=2×3)개의 레지노이드 지석(1A)을, 1회의 성형 공정에 의해 일괄적으로 제조할 수 있다. 1회의 성형 공정에 의해 일괄적으로 제조할 수 있는 개수를 더 많게 할 수도 있다.Next, as shown in Fig. 2 (c), the
다음으로, 도 2의 (c)에 도시된 상태로부터, 하형(11)과 상형(12)을 형 체결한다. 원판상의 혼합 재료(9A)는, 오목부(13)에 있어서의 하형(11)의 내저면과 상형(12)에 있어서의 하향의 볼록부(15)의 하면에 의해 끼워진다.Next, the
다음으로, 도 2의 (d)에 도시된 가열로(16)를 준비한다. 이하에, 가열로(16)의 구성을 설명한다.Next, the
가열로(16)는, 외곽부(17)와, 가열부(18)를 갖는다. 또한, 가열로(16)는 성형 형(10)이 배치되는 다이(19)와, 다이(19)를 지지하는 지지부(20)와, 지지부(20)를 승강시키는 승강부(21)를 갖는다. 다이(19)는 높은 열전도성을 갖는 재료(예를 들어, 금속계 재료)에 의해 구성되는 것이 바람직하다. 지지부(20)는 낮은 열전도성을 갖는 재료(예를 들어, 시멘트계 재료)에 의해 구성되는 것이 바람직하다. 가열부(18)에는, 복수의 히터(22)가 설치된다. 도 2의 (d)에는, 일례로서, 통 형상의 복수의 히터(22)가 도시된다. 히터(22)로서, 전자기 유도 가열을 사용하는 히터를 사용해도 된다.The
가열부(18)는, 하방에 개구(23)를 갖는 덮개상의 형상을 갖는다. 가열로(16)에는, 개구(23)를 개폐하기 위한 셔터(도시하지 않음)가 설치되는 것이 바람직하다. 승강부(21)가 승강함으로써, 지지부(20)에 의해 지지된 다이(19)가 가열부(18)의 개구(23)를 경유하여 가열부(18)의 내부의 공간에 대해 진퇴한다.The
다음으로, 도 2의 (d)에 도시된 가열로(16)에 있어서, 승강부(21)를 하강시킴으로써 다이(19)와 지지부(20)를 개구(23)의 하방에 위치시킨다. 복수의 히터(22)에 전력을 공급함으로써, 가열부(18)의 내부의 공간을 일정 온도(예를 들어, 150℃∼160℃)로 가열한다.Next, in the
다음으로, 도 2의 (d)에 도시된 바와 같이, 2개의 원판상의 혼합 재료(9A)가 수용된 성형 형(10)을 가열로(16)에 수용한다. 구체적으로는, 먼저, 지지부(20)에 의해 지지된 다이(19) 상에, 2개의 원판상의 혼합 재료(9A)가 수용된 성형 형(10)을 배치한다.Next, as shown in Fig. 2 (d), the
다음으로, 도 2의 (d)에 도시된 바와 같이, 승강부(21)를 사용하여, 성형 형(10)을 가열부(18)의 내부 공간에 진입시켜, 성형 형(10)을 가열부(18)의 상부 부재(24)에 압박 접촉시킨다. 승강부(21)를 사용하여, 가열부(18)의 상부 부재(24)에 대해 성형 형(10)을 일정한 압력으로 압박 접촉시켜, 그 상태를 유지한다. 가열부(18)에 의해 생성된 열이, 성형 형(10)을 경유하여 2개의 원판상의 혼합 재료(9A)에 전달된다. 이 상태에 있어서, 2개의 원판상의 혼합 재료(9A)가, 일정한 압력(예를 들어, 800kgf/㎠)에 의해 가압되면서, 일정 온도(예를 들어, 155℃)에 의해 가열된다. 일련의 공정에 있어서, 다이(19)는 열전도 부재로서 기능하고, 지지부(20)는 단열 부재로서 기능한다.2 (d), the
다음으로, 도 2의 (d)에 도시된 상태를, 일정 온도(예를 들어, 155℃)하에 있어서 일정 시간(예를 들어, 3∼5분간) 유지한다. 이에 의해, 2개의 원판상의 혼합 재료(9A)에 포함되는 수지 재료가 경화되어, 경화 수지로 이루어지는 수지부(5)(도 1의 (b) 참조)가 성형된다.Next, the state shown in Fig. 2 (d) is maintained for a predetermined time (for example, 3 to 5 minutes) at a constant temperature (for example, 155 占 폚). As a result, the resin material contained in the
다음으로, 도 2의 (d)에 도시된 상태로부터, 승강부(21)를 사용하여, 가열부(18)의 내부 공간으로부터 가열부(18)의 하방에 성형 형(10)을 취출한다. 취출된 성형 형(10)을 처리실(도시하지 않음)로 옮긴다. 처리실은, 가열로(16)의 내부에 설치되어도 되고, 가열로(16)의 외부에 설치되어도 된다.2 (d), the
다음으로, 200℃ 또는 그 이하의 적당한 처리 온도이며 일정 분위기하에, 일정 시간만큼, 2개의 원판상의 혼합 재료(9A)가 수용된 성형 형(10)을 방치한다. 예를 들어, 성형 형(10)을 180℃의 처리 온도하에 있어서 2시간 방치한 후에, 200℃의 처리 온도하에 있어서 1시간 방치한다. 이와 같이 하여 열처리(후경화)를 행함으로써, 원판상의 혼합 재료(9A)에 포함되는 수지 재료가 경화되는 경화 반응을 충분히 진행시킨다. 원판상의 혼합 재료(9A)에 포함되는 수지 재료가 경화되어 경화 수지가 성형됨으로써, 레지노이드 지석(1A)(도 2의 (e) 참조)이 제작된다.Next, the
열처리에 있어서의 분위기로서, 다음 분위기가 채용된다. 수지부(경화 수지)(5)(도 1의 (b) 참조)를 구성하는 수지 재료가 열화되는 온도 범위에 처리 온도가 포함되는 경우에는, 불활성 가스(예를 들어, 질소 가스)의 분위기(불활성 분위기)가 채용된다. 이 경우에는, 저산소 분위기(감압 분위기)가 채용되어도 된다. 수지부(5)를 구성하는 수지 재료가 열화되는 온도 범위에 처리 온도가 포함되지 않는 경우에는, 대기 분위기가 채용된다.As the atmosphere in the heat treatment, the following atmosphere is employed. When the processing temperature is included in the temperature range where the resin material constituting the resin portion (cured resin) 5 (see FIG. 1 (b)) is deteriorated, an atmosphere of an inert gas (for example, nitrogen gas) Inert atmosphere) is employed. In this case, a low-oxygen atmosphere (reduced-pressure atmosphere) may be employed. When the processing temperature is not included in the temperature range in which the resin material constituting the
다음으로, 2개의 레지노이드 지석(1A)이 수용된 성형 형(10)을, 처리실로부터 취출하여 방치한다. 이에 의해, 성형 형(10)과, 성형 형(10)의 내부에 수용된 2개의 레지노이드 지석(1A)을 자연 냉각한다. 처리실 외부에 있어서, 성형 형(10)에 저온의 기체를 분사해도 된다. 이에 의해, 성형 형(10)과, 성형 형(10)의 내부에 수용된 2개의 레지노이드 지석(1A)을 강제 냉각할 수 있다. 따라서, 레지노이드 지석(1A)을 제조하는 시간을 단축할 수 있다.Next, the
다음으로, 도 2의 (e)에 도시된 바와 같이, 하형(11)과 상형(12)을 형 개방한다. 하형(11)에 형성된 2개의 오목부(13)로부터, 2개의 레지노이드 지석(1A)을 취출한다. 필요에 따라서, 각각의 레지노이드 지석(1A)에 마무리 가공(연마, 연삭 등의 기계 가공)을 실시할 수도 있다. 예를 들어, 도 2의 (e)에 도시된 레지노이드 지석(1A)의 주위면부(4) 및 내주부(둥근 구멍(2)의 외측 부분)에 대해 선반, 연삭반 등을 사용하여 기계 가공한다. 여기까지의 공정에 의해, 2개의 레지노이드 지석(1A)이 최종적으로 완성된다.Next, as shown in Fig. 2 (e), the
(작용 효과)(Action effect)
실시예 2에 관한 레지노이드 지석의 제조 방법에 의하면, 실시예 1에 관한 레지노이드 지석(1A)을 제조할 수 있다. 성형 형(10)을 복수 개 취출의 구성으로 함으로써, 1회의 성형 공정에 의해 복수 개의 레지노이드 지석(1A)을 일괄적으로 제조할 수 있다.According to the method for manufacturing a resinoid grindstone according to the second embodiment, the
덧붙여, 가열부(18)의 개구(23)를 경유하여 가열부(18)의 내부의 공간에 대해 진퇴하는 승강부(21)를 가열로(16)에 설치한다. 이에 의해, 레지노이드 지석(1A)을 제조하는 경우에 있어서의 가압하면서 가열하는 공정의 자동화가 가능해진다. 이들 효과에 대해서는, 레지노이드 지석의 제조 방법에 관한 다른 실시예에 있어서도 마찬가지이다.The elevating
실시예 2에 관한 레지노이드 지석의 제조 방법에 있어서는, 둥근 구멍(2)을 갖는 원판상의 혼합 재료(9A)를 사용하였다. 이 대신에, 둥근 구멍(2)을 갖지 않는 원판상의 혼합 재료를 사용할 수도 있다. 이 경우에는, 가압되면서 가열됨으로써 경화된 원판상의 성형품을 기계 가공하여, 둥근 구멍(2)을 형성한다. 이것에 대해서는, 다른 실시예에 있어서도 마찬가지이다.In the manufacturing method of the resinoidal grindstone according to the second embodiment, a disc-shaped
(실시예 3)(Example 3)
본 발명의 실시예 3에 관한 레지노이드 지석(1B)이 갖는 전체 구조는, 실시예 1에 관한 레지노이드 지석(1A)이 갖는 전체 구조와 동일하다. 따라서, 레지노이드 지석(1B)이 갖는 전체 구조에 관한 설명을 생략한다.The overall structure of the
도 1의 (c)을 참조하여, 레지노이드 지석(1B)이 갖는 미세 구조를 설명한다. 도 1의 (c)에 도시된 바와 같이, 레지노이드 지석(1B)은, 경화 수지로 이루어지는 수지부(5)와, 지립(6)과, 생물 유래의 섬유상 부재(7)(예를 들어, 셀룰로오스 나노파이버)를 포함한다. 레지노이드 지석(1B)을 구성하는 재료의 종류라고 하는 점에 대해서는, 레지노이드 지석(1B)은 레지노이드 지석(1A)과 동일하다.The microstructure of the
레지노이드 지석(1B)에 있어서는, 섬유상 부재(7)의 비율(배합율)이 30체적% 이상인 것이 바람직하다. 섬유상 부재(7)의 배합율이 30체적% 미만인 경우에는, 레지노이드 지석의 제조 방법(후술하는 실시예 4)에 있어서, 지립(6)과 섬유상 부재(7)가 용제에 혼합된 혼합 재료를 뜸으로써 원판상의 혼합 재료를 제작하는 것이 곤란하기 때문이다.In the
레지노이드 지석(1B)에 있어서는, 섬유상 부재(7)의 배합율이 80체적% 이하인 것이 바람직하다. 섬유상 부재(7)의 배합율이 80체적%를 초과하는 혼합 재료를 사용하는 경우에는, 레지노이드 지석에 포함되는 지립(6)의 배합율이 감소한다. 따라서, 레지노이드 지석(1B)이 가공 대상물을 연마하는 효율이 저하되므로, 바람직하지 않기 때문이다.In the
실시예 3에 관한 레지노이드 지석(1B)에 의하면, 레지노이드 지석(1A)에 의한 효과와 마찬가지의 효과가 얻어진다. 덧붙여, 이하의 이유로부터, 레지노이드 지석(1B)에 의해 얻어지는 각 효과는, 레지노이드 지석(1A)에 의해 얻어지는 각 효과보다 크다. 레지노이드 지석(1B)에 있어서, 섬유상 부재(7)의 배합율은 30체적% 이상이고 80체적% 이하이다. 레지노이드 지석(1A)에 있어서, 섬유상 부재(7)의 배합율은 0.5체적% 이상이고 30체적% 이하이다. 레지노이드 지석(1B)은, 레지노이드 지석(1A)과 비교하여 섬유상 부재(7)의 배합율로서 큰 값을 갖는다. 따라서, 레지노이드 지석(1B)에 의해 얻어지는 각 효과는, 레지노이드 지석(1A)에 의해 얻어지는 각 효과보다 크다.According to the
(실시예 4)(Example 4)
도 1의 (c) 및 도 2를 참조하여, 본 발명의 실시예 3에 관한 레지노이드 지석(1B)을 제조하는, 레지노이드 지석의 제조 방법을 설명한다. 지립(6)과, 생물 유래의 섬유상 부재(예를 들어, 셀룰로오스 나노파이버)(7)와, 수지 재료를 준비하는 공정으로부터, 그들 재료를 계량하는 공정까지는, 실시예 2의 경우와 동일하다.1 (c) and Fig. 2, a method of manufacturing a resinoid grindstone for manufacturing the
다음으로, 지립(6)과 섬유상 부재(7)를 용제에 녹임으로써, 혼합 재료를 제작한다. 바꾸어 말하면, 수지 재료 이외의 재료를 용제에 녹임으로써 혼합 재료를 제작한다. 지립(6)과 섬유상 부재(7)를 가능한 한 균등하게 혼합하여, 혼합 재료를 제작하는 것이 바람직하다. 용제로서는, 수계의 용제, 알코올계의 용제 등을 사용한다. 용제에 녹이는 재료로서, 바인더 및 분산제를 첨가해도 되고, 분말상의 수지 재료를 소량만 첨가해도 된다. 제작된 혼합 재료에 있어서, 섬유상 부재(7)의 비율(배합율)이 30체적% 이상이고 80체적% 이하인 것이 바람직하다. 제작된 혼합 재료에 있어서, 섬유상 부재(7)가 갖는 섬유가 지립(6), 바인더 등의 재료에 얽힌 상태로 되어 있다.Next, the
다음으로, 제작된 혼합 재료를 뜬다. 이 공정에 있어서는, 초지기와 마찬가지의 기능을 갖는 기계를 사용한다. 이에 의해, 혼합 재료를 원형으로 성형한다. 원형으로 성형된 혼합 재료를 건조시킴으로써 원판상의 혼합 재료를 제작한다.Next, the produced mixed material is floated. In this process, a machine having the same function as the paper machine is used. Thereby, the mixed material is formed into a circular shape. The mixed material formed on the circular plate is dried to produce the mixed material on the disk.
다음으로, 수지 함침기를 사용하여, 원판상의 혼합 재료에 유동성 수지(유동성을 갖는 수지 재료)를 함침시킨다. 이 공정에 있어서는, 원판상의 혼합 재료가 포함되는 공간을 감압하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 원판상의 혼합 재료에 유동성 수지를 함침시켜, 원판상의 혼합 재료를 제작한다.Next, using a resin impregnator, the mixed material on the disk is impregnated with a fluid resin (a resin material having fluidity). In this step, it is preferable to reduce the space containing the mixed material on the disk. Thereby, the mixed material on the disk is impregnated with the fluid resin to prepare the mixed material on the disk.
다음으로, 도 2의 (c)에 도시된 바와 같이, 원판상의 혼합 재료(9B)를 성형 형(10)에 수용한다. 이하의 공정은, 실시예 2에 있어서 설명한 공정과 동일하므로, 그들 공정에 관한 설명을 생략한다.Next, as shown in Fig. 2 (c), the
실시예 4에 관한 레지노이드 지석의 제조 방법에 의하면, 실시예 3에 관한 레지노이드 지석(1B)을 제조할 수 있다. 또한, 실시예 2에 관한 레지노이드 지석의 제조 방법에 의한 효과와 마찬가지의 효과가 얻어진다.According to the method for producing a resinoid grindstone according to the fourth embodiment, the
(실시예 5)(Example 5)
(가공 장치의 구성)(Construction of Processing Apparatus)
도 3을 참조하여, 본 발명의 실시예 5에 관한 가공 장치를 설명한다. 도 3에 도시된 가공 장치는, 레지노이드 지석(1A, 1B)의 주위면부를 사용하여, 가공 대상물에 있어서의 두께 방향의 모든 부분을 연마하는(가공 대상물을 완전히 절단하는) 가공 장치이다. 따라서, 레지노이드 지석으로서는, 두께가 얇은 레지노이드 지석이 사용된다.Referring to Fig. 3, the machining apparatus according to the fifth embodiment of the present invention will be described. The machining apparatus shown in Fig. 3 is a machining apparatus that polishes all portions in the thickness direction of the object to be processed (completely cuts the object) using the peripheral surface portions of the
가공 장치(25)는, 수취 모듈(26)과, 연마 기능을 갖는 기능 모듈(27)과, 불출 모듈(28)을 적어도 갖는다. 수취 모듈(26)과 기능 모듈(27)과 불출 모듈(28)은, 도 3의 (a)에 도시된 X 방향을 따라 배열되어, 서로 고정된다.The
수취 모듈(26)과 기능 모듈(27)은, 탈착될 수 있다. 기능 모듈(27)과 불출 모듈(28)은, 탈착될 수 있다. 기능 모듈(27)에 대해, 다른 기능 모듈이 탈착될 수 있다. 따라서, 첫 번째로, 수취 모듈(26)과 기능 모듈(27) 사이에 다른 기능 모듈이 탈착될 수 있다. 두 번째로, 기능 모듈(27)과 불출 모듈(28) 사이에, 다른 기능 모듈이 탈착될 수 있다.The receiving
수취 모듈(26)은, 가공 장치(25)의 외부로부터 가공 대상물(29)을 수취한다. 기능 모듈(27)은, 수취 모듈(26)로부터 수취한 가공 대상물(29)을 연마한다. 기능 모듈(27)은, 가공 대상물(29)을 두께 방향으로 부분적으로 연마하는 것, 및 가공 대상물(29)을 두께 방향으로 완전히 연마(절단)하는 것의 양쪽을 실행할 수 있다. 이 경우에는, 가공 대상물(29)을 두께 방향으로 완전히 연마(절단)하여, 가공 대상물(29)을 개편화하는 예를 나타낸다.The receiving
불출 모듈(28)은, 가공 대상물(29)이 개편화되어 제작된 제품(P)의 집합체인 제품군(30)을 기능 모듈(27)로부터 수취한다. 제품군(30)은 트레이(31)에 수납된다. 제품군(30)이 수납된 트레이(31)는, 가공 장치(25)의 외부로 불출된다. 불출 모듈(28)에, 각 제품(P)을 광학적으로 검사하는 카메라(32)를 설치해도 된다.The dispensing
기능 모듈(27)은, 스핀들(회전 기구)(33)을 갖는다. 스핀들(33)은, 회전축(34)을 갖는 서보 모터(35)를 갖는다. 회전축(34)에, 레지노이드 지석(1A) 또는 레지노이드 지석(1B) 중 어느 하나가 설치된다. 레지노이드 지석(1A, 1B)은, 도면에 있어서의 Y 방향과 Z 방향을 포함하는 면 내에 있어서 회전한다.The
기능 모듈(27)은, 가공 대상물(29)이 고정되는 다이인 스테이지(고정 기구)(36)를 갖는다. 가공 대상물(29)이 일시적으로 고정되는 수단의 일례로서, 스테이지(36)의 상면에 부착된 점착 시트가 채용된다.The
기능 모듈(27)은, 스테이지(36)를 회전시키는 회전부(37)를 갖는다. 스테이지(36)가 회전부(37)에 설치된다. 회전부(37)의 하방에는, 예를 들어 다이렉트 드라이브 모터(DD 모터)로 이루어지는 모터(도시하지 않음)가 설치된다. 모터의 회전축에 회전부(37)가 고정된다. DD 모터가 회전함으로써, 회전부(37)에 설치된 스테이지(36)가 θ 방향으로 회전한다.The
기능 모듈(27)은, 스테이지(36)와 스핀들(33)을 상대적으로 이동시키는 이동 기구(38)를 갖는다. 기능 모듈(27)은, 예를 들어 서보 모터(39)와, 서보 모터의 회전축에 접속된 볼 나사(40)와, 볼 나사(40)에 끼워 넣어진 볼 너트(도시하지 않음)를 갖는다. 볼 너트에 이동 기구(38)가 설치된다. 서보 모터를 구동함으로써, 스테이지(36)가 Y 방향을 따라 이동한다. 스테이지(36)와 스핀들(33)을 상대적으로 이동시킴으로써, 가공 대상물(29)을 연마한다.The
가공 장치(25)는, 제어부(CTL)를 갖는다. 제어부(CTL)는, 수취 모듈(26)에 설치된다. 제어부(CTL)가 다른 모듈에 설치되어도 된다. 제어부(CTL)는, 적어도 레지노이드 지석(1A) 또는 레지노이드 지석(1B)의 회전 방향 및 회전수와, 스테이지(36)와 스핀들(33)의 상대적인 이동 방향 및 이동 속도(이동에는 회전을 포함함. 이하 동일함)를 제어한다.The
수취 모듈(26)과 기능 모듈(27) 사이, 또는 기능 모듈(27)과 불출 모듈(28) 사이에는, 특정 기능을 갖는 기능 모듈이 탈착될 수 있다. 특정 기능은, 상술한 연마 외에, 제품군(30)을 대상으로 한 세정, 건조, 제품(P)의 측정, 검사 등이다. 특정 기능은, 연마되기 전의 가공 대상물(29) 또는 연마된 가공 대상물(제품(P)의 집합체인 제품군(30))을 대상으로 한 절삭, 절단(이하 적절하게 「절삭 등」이라고 함)이어도 된다. 기능 모듈은, 이들 복수의 기능 중 적어도 하나를 실행할 수 있다. 수취 모듈(26), 기능 모듈(27) 및 불출 모듈(28)도, 기능 모듈에 포함된다.The function module having the specific function can be detached between the receiving
특정 기능이, 레지노이드 지석(1A, 1B) 이외를 사용하는 연마 기능이어도 된다. 이들 연마 기능을 갖는 연마 기구를 사용함으로써, 예를 들어 워터 제트에 의한 연마, 지립을 사용하는 블라스트에 의한 연마 등이 가능해진다.A specific function may be a polishing function using other than the
특정 기능이 절삭 등인 경우에는, 회전 지석에 의한 절삭 등, 와이어 소를 사용하는 절삭 등, 레이저광에 의한 절삭 등이 가능해진다. 이들 절삭 등 기구와 레지노이드 지석(1A, 1B)을 조합함으로써, 선분과 곡선을 조합한 선을 따라 가공 대상물(29)을 절삭할 수 있다. 이러한 절삭 등은, 예를 들어 SD 메모리 카드와 같은, 선분과 곡선을 조합한 형상을 갖는 제품을 제조할 때에 유용하다.When the specific function is cutting or the like, it is possible to perform cutting with a rotary grindstone, cutting using a wire rod, cutting with laser light, and the like. By combining these cutting tool mechanisms and the resinoid grindstones 1A, 1B, the
도 3의 (b)에는, 세정 기능 및 건조 기능을 갖는 기능 모듈(41)이 도시된다. 기능 모듈(41)은, 기능 모듈(27)과 불출 모듈(28) 사이에 삽입되어 장착되는 것이 바람직하다.Fig. 3 (b) shows a
기능 모듈(41)은, 세정 건조 기구(42)를 갖는다. 세정 건조 기구(42)는, 세정부(43) 및 건조부(44)를 갖는다. 세정부(43)에는, 세정액을 분사하는 세정액 분사 기구가 설치된다. 세정부(43)에는, 세정액을 포함하는 스펀지를 사용하여 제품군의 상면을 문지르는 스크럽 기구가 설치되어도 된다. 세정부(43)에, 분사 기구와 스크럽 기구가 병설되어도 된다. 건조부(44)에는, 청정 가스를 분사하는 가스 분사 기구가 설치된다. 도 3의 (b)에 도시된 기능 모듈(41)은 세정부(43)에 의한 세정 기능과, 건조부(44)에 의한 건조 기능 외에도, 카메라(32)에 의한 검사 기능을 갖는다.The
도 3의 (c)에는, 연마 기능을 갖는 기능 모듈(27)과는 상이한 연마 기능을 갖는 기능 모듈(45)이 도시된다. 기능 모듈(45)은, 수취 모듈(26)과 기능 모듈(27) 사이, 또는 기능 모듈(27)과 불출 모듈(28) 사이에 삽입되어 장착된다. 기능 모듈(27)에 있어서의 절삭 시간을 단축하기 위해서는, 수취 모듈(26)과 기능 모듈(27) 사이에 기능 모듈(45)이 삽입되어 장착되는 것이 바람직하다. 이 구성에 의하면, 가공 대상물(29)은 기능 모듈(45)에 있어서 연마됨으로써 박형화된 후에, 기능 모듈(27)에 있어서 절삭됨으로써 개편화된다.3 (c) shows a
기능 모듈(45)에는 연마 기구(46)가 설치된다. 연마 기구(46)는, 회전할 수 있는 연마 지석(47)을 갖는다. 연마 지석(47)은, 레지노이드 지석(1A, 1B)과 마찬가지인 지석이며, 측면부(3)를 사용하여 가공 대상물(29)을 연마하는 것이어도 된다. 연마 기구(46)가 갖는 회전하는 연마 지석(47)을 사용하여, 밀봉 완료 기판이 갖는 밀봉 수지의 상면, 반도체 칩 등의 상면을 연마할 수 있다. 이것에 의해, 전자 부품 등으로 이루어지는 제품(P)을 얇게 할 수 있다. 기능 모듈(45)에 두께 측정 기구(48)가 설치되어도 된다. 두께 측정 기구(48)가 갖는 변위 센서(49)에 의해, 연마되는 밀봉 수지의 상면, 반도체 칩의 상면 등의 높이 방향(Z 방향)의 위치를, 연마 가공 중 또는 연마 가공 후에 측정할 수 있다. 기능 모듈(45)은, 연마 지석(47)에 의한 연마 기능과 변위 센서(49)에 의한 두께 측정 기능을 아울러 갖는다.The
도 3의 (c)에 도시된 기능 모듈(27)이 연마 기능을 가져도 된다. 기능 모듈(45)은 수취 모듈(26)과 기능 모듈(27) 사이, 또는 기능 모듈(27)과 불출 모듈(28) 사이에 삽입되어 장착된다. 수취 모듈(26)에 장착된 연마 모듈이 조연마를 행하고, 불출 모듈(28)에 장착된 연마 모듈이 마무리 연마를 행한다. 이 경우에 사용되는 레지노이드 지석(1A, 1B)은, 측면부(3)를 사용하여 가공 대상물(29)을 연마하는 것이어도 된다.The
(작용 효과)(Action effect)
실시예 5에 관한 가공 장치(25)는, 레지노이드 지석(1A) 또는 레지노이드 지석(1B) 중 어느 것을 사용하여, 가공 대상물(29)을 연마한다. 따라서, 실시예 1에 있어서 설명한 효과와 마찬가지의 효과가 얻어진다.The
또한, 실시예 5에 관한 가공 장치(25)에 의하면, 다음 효과가 얻어진다. 첫 번째로, 가공 장치(25)가 제조된 후에, 또는 유저의 공장에 설치된 후에, 필요에 따라서 연마 기능을 갖는 기능 모듈을 가공 장치(25)에 사후적으로 증설할 수 있다. 유저가 가공 장치(25)의 사용을 개시한 후에, 연마 기능을 갖는 기능 모듈을 가공 장치(25)에 사후적으로 증설할 수도 있다. 따라서, 가공 장치(25)에 있어서의 가공 대상물(29)을 연마하는 능력을, 사후적으로 증가시킬 수 있다.Further, according to the
두 번째로, 가공 장치(25)가 제조된 후에, 또는 유저의 공장에 설치된 후에, 필요에 따라서 연마 이외의 기능을 갖는 기능 모듈을 가공 장치(25)에 사후적으로 추가할 수 있다. 유저가 가공 장치(25)의 사용을 개시한 후에, 연마 이외의 기능을 갖는 기능 모듈을 가공 장치(25)에 사후적으로 추가할 수도 있다. 따라서, 가공 장치(25)에 있어서의 연마 이외의 기능을, 가공 장치(25)에 사후적으로 추가할 수 있다.Secondly, after the
또한, 지금까지 설명한 실시예 1∼5에 있어서 기재된 가공 대상물(29)에는, 각각 전자 회로가 만들어진 격자상의 복수의 영역이 형성된 회로 기판이 포함된다. 회로 기판은, 실리콘, 실리콘 카바이드 등으로 이루어지는 반도체 기판(semiconductor wafer)이어도 된다. 이들 가공 대상물은, 실질적으로 원형의 평면 형상을 갖는다.The object to be processed 29 described in the first to fifth embodiments described above includes a circuit board on which a plurality of regions in a lattice-like pattern in which electronic circuits are formed are formed. The circuit board may be a semiconductor wafer made of silicon, silicon carbide or the like. These objects to be processed have a substantially circular planar shape.
가공 대상물(29)에는, 각각 전자 회로가 만들어진 격자상의 복수의 영역이 형성된 반도체 웨이퍼(semiconductor wafer)이며, 한쪽 면이 수지 밀봉된 반도체 웨이퍼가 포함된다. 한쪽 면에는, 돌기상 전극, 전기 배선 등이 형성되어 있어도 된다.The object to be processed 29 is a semiconductor wafer having a plurality of lattice-like regions in which electronic circuits are formed, and includes a semiconductor wafer in which one surface is resin-sealed. On one side, protruding electrodes, electric wiring, and the like may be formed.
가공 대상물(29)에는, 각각 기능을 갖는 격자상의 복수의 영역이 형성된 판상 부재가 포함된다. 판상 부재는, 복수의 영역의 각각에 마이크로렌즈 어레이가 형성된 판상 부재여도 된다. 판상 부재는, 복수의 영역 각각에 도광판이 형성된 판상 부재여도 된다. 이들의 경우에는, 복수의 영역 각각이 갖는 기능은, 광의 집광, 확산, 도광 등의 광학적 기능이다.The object to be processed 29 includes a plate-like member having a plurality of lattice-like regions each having a function. The plate-shaped member may be a plate-like member having a microlens array formed in each of a plurality of regions. The plate-shaped member may be a plate-shaped member having a light-guide plate formed on each of a plurality of regions. In these cases, the functions of each of the plurality of regions are optical functions such as light focusing, diffusion, and light guiding.
가공 대상물(29)의 일례인 밀봉 완료 기판은, 회로 기판과, 회로 기판이 갖는 격자상의 복수의 영역에 장착된 복수의 칩상 부품과, 복수의 영역이 일괄적으로 덮이도록 하여 판상으로 형성된 밀봉 수지를 갖는다. 회로 기판에는, 구리, 철계 합금 등으로 이루어지는 리드 프레임(lead frame), 유리 에폭시 적층판, 동장 폴리이미드 필름 등을 기재로 하는 프린트 기판(프린트 배선판; Printed Wiring Board)이 포함된다. 회로 기판에는, 알루미나, 실리콘 카바이드, 사파이어 등을 기재로 하는 세라믹스 기판, 구리, 알루미늄 등의 금속을 기재로 하는 금속 베이스 기판, 폴리이미드 필름 등을 기재로 하는 필름 베이스 기판 등이 포함된다.The sealed substrate, which is an example of the object to be processed 29, includes a circuit board, a plurality of chip-like parts mounted on a plurality of lattice-shaped areas of the circuit board, and a sealing resin . The circuit board includes a printed board (Printed Wiring Board) made of a lead frame, a glass epoxy laminate, a copper polyimide film or the like made of copper, an iron-based alloy, or the like. The circuit board includes a ceramics substrate made of alumina, silicon carbide, sapphire or the like, a metal base substrate made of a metal such as copper or aluminum, a film base substrate made of a polyimide film or the like, and the like.
가공 대상물(29)의 일례인 밀봉 완료 기판의 전체 형상으로서는, IC, 표면 실장형 트랜지스터, 표면 실장형 콘덴서 등을 제조하는 경우에 있어서의 판상(평판상)이 대표적이다. 이것에 한정하지 않고, 수지 밀봉체의 전체 형상이, 광 반도체 소자를 제조하는 경우에 있어서의, 볼록 렌즈 등으로서 기능하는 복수의 돌기를 갖는 형상 등이어도 된다.The entire shape of the sealed substrate, which is an example of the object to be processed 29, is typically a plate (flat plate) in the case of manufacturing an IC, a surface mount transistor, a surface mount capacitor, and the like. The overall shape of the resin encapsulant may be a shape having a plurality of protrusions functioning as a convex lens or the like in the case of manufacturing an optical semiconductor element.
칩상 부품에는, 각각 칩상의, 반도체 집적 회로(semiconductor integrated circuit; IC), 광 반도체 소자, 트랜지스터, 다이오드, 수정 진동자, 필터, 캐패시터, 인덕터, 저항, 서미스터, 센서 등의 전자 부품이 포함된다. 칩상 부품에는, MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 등의 기구 부품이 포함된다. 기판에 있어서의 1개의 영역에는 1개의 칩상 부품이 장착되어 있어도 되고, 복수 개의 칩상 부품이 장착되어 있어도 된다. 1개의 영역에 장착된 복수 개의 칩상 부품은, 동종이어도 되고, 이종이어도 된다. 밀봉 수지로서는, 예를 들어 에폭시 수지, 실리콘 수지 등의 열경화성 수지가 경화되어 형성된 경화 수지가 사용된다.Chip components include electronic components such as semiconductor integrated circuits (ICs), optical semiconductor elements, transistors, diodes, crystal oscillators, filters, capacitors, inductors, resistors, thermistors and sensors on a chip. Chip parts include mechanical parts such as MEMS (Micro Electro Mechanical Systems). One chip component may be mounted on one region of the substrate, or a plurality of chip components may be mounted on one region of the substrate. A plurality of chip components mounted on one area may be the same type or different types. As the sealing resin, for example, a cured resin formed by curing a thermosetting resin such as an epoxy resin or a silicone resin is used.
각 실시예에 있어서, 도면의 X 방향, Y 방향 및 Z 방향을 따라 스테이지(36)를 이동시켰다. 이 대신에, 레지노이드 지석(1A, 1B)이 설치되어 있는 스핀들(33)을 도면의 X 방향, Y 방향 및 Z 방향을 따라 이동시켜도 된다. 또한, 스테이지(36)와 스핀들(33)의 양쪽을 도면의 X 방향, Y 방향 및 Z 방향을 따라 이동시켜도 된다. 이들 양태에 의해, 스테이지(36)와 스핀들(33)을 X 방향, Y 방향 및 Z 방향을 따라 상대적으로 이동시키면 된다.In each embodiment, the
가공 대상물(29)을 구성하는 재료에 따라서, 또는 가공 대상물(29)을 구성하는 재료의 조합에 따라서, 스테이지(36)와 스핀들(33)을 X 방향, Y 방향 및 Z 방향을 따라 상대적으로 이동시키는 속도를 바꿀 수도 있다.The
가공 대상물(29)을 스테이지(36)에 일시적으로 고정하는 방식으로서, 점착 테이프를 사용하지 않고, 스테이지(36)의 상면에 가공 대상물(29)을 흡착해도 된다. 이 경우에는, 절단되는 부분인 각 경계선에 평면에서 보아서 겹치도록 하여, 레지노이드 지석(1A, 1B)의 주위면부(4)가 수용되는 홈이 스테이지(36)의 상부에 형성된다.As a method of temporarily fixing the
지금까지 설명한 실시예에 있어서는, 경화 수지로 이루어지는 수지부(5) 내에 혼입된 생물 유래의 섬유상 부재(7)로서, 셀룰로오스를 포함하는 식물 유래의 섬유상 부재(7)를 사용하였다. 생물 유래의 섬유상 부재(7)로서, 식물 유래의 섬유상 부재(7) 대신에, 동물 유래의, 친수성을 갖는 섬유상 부재(7)를 사용할 수 있다. 바꾸어 말하면, 레지노이드 지석(1A, 1B)에 있어서, 섬유상 부재는 동물 유래여도 된다.In the embodiment described so far, a plant-derived
경화 수지로 이루어지는 수지부(5) 내에 혼입된 동물 유래의 섬유상 부재(7)의 일례로서, 키틴 또는 키토산을 포함하는 재료를 들 수 있다. 키틴, 키토산은, 게, 새우의 갑각, 물오징어의 기관 등 많은 생물에 포함되는 천연 다당류이다(상술한 가부시끼가이샤 스기노머신의 웹페이지를 참조). 지금까지 설명한 제조 방법에 의해, 동물 유래의 섬유상 부재(7)를 사용하여, 실시예 1, 3에서 설명한 레지노이드 지석(1A, 1B)과 마찬가지의 레지노이드 지석을 제조할 수 있다.As an example of the animal-derived
본 발명은, 상술한 각 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명은, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위 내에서, 필요에 따라서, 각 구성 요소가 임의로, 또한 적절하게 조합되고, 변경되거나 또는 선택되어 채용된다. 예를 들어, 가공 장치(25)가 갖는 기능 모듈(27)에, 1개의 스테이지(36)에 대해 2개의 스핀들(회전 기구)(33)을 조합하는 구성을 채용해도 된다. 1개의 스테이지(36)에 대해 1개의 스핀들(회전 기구)(33)을 조합하여 연마 기구를 구성하여, 1대의 가공 장치(25)가 갖는 1개의 기능 모듈(27)에 복수 세트(예를 들어, 2세트)의 연마 기구를 설치해도 된다.The present invention is not limited to the above-described embodiments. The present invention may be embodied in various forms as needed without departing from the spirit of the present invention. For example, a configuration may be adopted in which two spindles (rotation mechanisms) 33 are combined with respect to one
레지노이드 지석의 형상은 원판상에 한정되지 않는다. 가늘고 긴 직육면체의 형상을 갖는 레지노이드 지석을 복수 개 준비하여, 원판상의 회전 지그의 외주를 따라 복수 개의 레지노이드 지석을 설치해도 된다. 가공 대상물과 레지노이드 지석이 접촉한 상태에서 회전 지그를 회전시킴으로써, 가공 대상물이 연마된다. 직육면체의 형상을 갖는 레지노이드 지석과 가공 대상물이 접촉한 상태에서, 작업자가 수동으로 레지노이드 지석과 가공 대상물을 상대적으로 이동시켜도 된다.The shape of the resinoid grindstone is not limited to the disc shape. A plurality of resinoid grindstones having a shape of a rectangular parallelepiped may be provided and a plurality of resinoid grindstones may be provided along the periphery of the rotary jig on the disk. The object is polished by rotating the rotary jig in a state in which the object to be processed and the resinoid grindstone are in contact with each other. The operator may manually move the resinoid grindstone and the object to be processed relatively in a state in which the resinoid grindstone having a rectangular parallelepiped shape and the object to be processed are in contact with each other.
특허문헌 1에 기재된 단섬유 중 유리 섬유에 대해서는, 인체에 악영향을 미칠 가능성이 지적되어 있다(예를 들어, 일본 특허 공개 평3-287381호 공보의 제2 페이지 좌측 상란 제16행∼우측 상란 제5행을 참조). 본 발명에 관한 레지노이드 지석은, 유리 섬유 대신에 생물 유래의 섬유상 부재를 포함한다. 따라서, 본 발명에 따르면, 인체에 악영향을 미칠 가능성은 작다고 추정된다.It is pointed out that the glass fiber of the short fibers described in
1A, 1B : 레지노이드 지석
2 : 둥근 구멍
3 : 측면부
4 : 주위면부
5 : 수지부(경화 수지)
6 : 지립
7 : 섬유상 부재
8 : 기공
9A, 9B : 원판상의 혼합 재료
10 : 성형 형
11 : 하형
12 : 상형
13 : 오목부
14 : 상향의 볼록부
15 : 하향의 볼록부
16 : 가열로
17 : 외곽부
18 : 가열부
19 : 다이
20 : 지지부
21 : 승강부
22 : 히터
23 : 개구
24 : 상부 부재
25 : 가공 장치
26 : 수취 모듈
27, 41, 45 : 기능 모듈
28 : 불출 모듈
29 : 가공 대상물
30 : 제품군
31 : 트레이
32 : 카메라
33 : 스핀들(회전 기구)
34 : 회전축
35, 39 : 서보 모터
36 : 스테이지(고정 기구)
37 : 회전부
38 : 이동 기구
40 : 볼 나사
42 : 세정 건조 기구
43 : 세정부
44 : 건조부
46 : 연마 기구
47 : 연마 지석
48 : 두께 측정 기구
49 : 변위 센서
t : 두께
C : 중심
CTL : 제어부
P : 제품1A, 1B: Resinoid stone
2: round hole
3:
4:
5: Resin part (hardened resin)
6: abrasive grain
7: fibrous member
8: Groundwork
9A, 9B: mixed material on disc
10: Molding type
11: Lower mold
12: HYPER
13:
14: Upward convex
15: downward convex portion
16: heating furnace
17:
18:
19: Die
20: Support
21:
22: heater
23: aperture
24:
25: Processing device
26: Receiving module
27, 41, 45: function module
28: dispensing module
29: object to be processed
30: Products
31: Tray
32: Camera
33: spindle (rotating mechanism)
34:
35, 39: Servo motor
36: stage (stationary mechanism)
37:
38:
40: Ball Screw
42: Cleaning and drying apparatus
43: Three governments
44:
46: Polishing tool
47: abrasive stone
48: Thickness measuring instrument
49: Displacement sensor
t: Thickness
C: Center
CTL:
P: Products
Claims (15)
상기 경화 수지 내에 혼입된 지립과,
상기 경화 수지 내에 혼입된 생물 유래의 섬유상 부재를 구비하는, 레지노이드 지석.A cured resin formed by curing the resin material,
An abrasive grain mixed into the hardening resin,
And a fibrous member derived from the organism mixed in the cured resin.
상기 레지노이드 지석에 포함되는 상기 섬유상 부재의 비율은 0.5체적% 이상이고 30체적% 이하인, 레지노이드 지석.The method according to claim 1,
Wherein the ratio of the fibrous member contained in the resinoid grindstone is not less than 0.5% by volume and not more than 30% by volume.
상기 레지노이드 지석에 포함되는 상기 섬유상 부재의 비율은 30체적% 이상이고 80체적% 이하인, 레지노이드 지석.The method according to claim 1,
Wherein the ratio of the fibrous member contained in the resinoid grindstone is 30 vol% or more and 80 vol% or less.
상기 섬유상 부재는 식물 유래인, 레지노이드 지석.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The fibrous member is a plant-derived, resinoidal grits.
상기 섬유상 부재는 셀룰로오스를 포함하는, 레지노이드 지석.5. The method of claim 4,
Wherein the fibrous member comprises cellulose.
상기 섬유상 부재는 동물 유래인, 레지노이드 지석.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the fibrous member is derived from an animal.
상기 섬유상 부재는 키틴 또는 키토산을 포함하는, 레지노이드 지석.The method according to claim 6,
Wherein the fibrous member comprises chitin or chitosan.
상기 혼합 재료를 성형 형에 채워 상기 혼합 재료를 가압하면서 가열하는 공정과,
상기 수지 재료를 경화시켜 경화 수지를 성형하는 공정을 포함하는, 레지노이드 지석의 제조 방법.A step of mixing a fibrous member derived from abrasive grains and a biomolecule with a resin material to produce a mixed material,
Filling the mixed material with a molding die to pressurize the mixed material,
And curing the resin material to mold the cured resin.
상기 혼합 재료를 제작하는 공정에 있어서는, 상기 혼합 재료에 포함되는 상기 섬유상 부재의 비율을 0.5체적% 이상이고 30체적% 이하로 하는, 레지노이드 지석의 제조 방법.9. The method of claim 8,
Wherein the ratio of the fibrous member contained in the mixed material is 0.5 volume% or more and 30 volume% or less in the step of manufacturing the mixed material.
상기 혼합 재료를 건조시킨 후에, 유동성을 갖는 수지 재료를 상기 혼합 재료에 함침시킴으로써 함침 재료를 제작하는 공정과,
상기 함침 재료를 성형 형에 채워 상기 함침 재료를 가압하면서 가열하는 공정과,
상기 수지 재료를 경화시킴으로써 경화 수지를 성형하는 공정을 포함하는, 레지노이드 지석의 제조 방법.A step of mixing a fibrous member derived from abrasive grains and a biomolecule with a solvent to produce a mixed material,
A step of drying the mixed material and then impregnating the mixed material with a resin material having fluidity to prepare an impregnated material;
Heating the impregnated material while pressurizing the impregnated material to fill the mold,
And forming the cured resin by curing the resin material.
상기 혼합 재료를 제작하는 공정에 있어서는, 상기 혼합 재료에 포함되는 상기 섬유상 부재의 비율을 30체적% 이상이고 80체적% 이하로 하는, 레지노이드 지석의 제조 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the ratio of the fibrous member contained in the mixed material is 30% by volume or more and 80% by volume or less in the step of producing the mixed material.
상기 레지노이드 지석이 고정되는 회전축과,
상기 회전축을 회전시키는 회전 기구와,
상기 가공 대상물이 고정되는 고정 기구와,
상기 회전 기구와 상기 고정 기구를 상대적으로 이동시키는 이동 기구를 구비하는, 가공 장치.13. The method of claim 12,
A rotary shaft to which the resinoid grindstone is fixed,
A rotating mechanism for rotating the rotating shaft,
A fixing mechanism for fixing the object to be processed,
And a moving mechanism for relatively moving the rotating mechanism and the fixing mechanism.
상기 레지노이드 지석은 주위면부와 측면부를 갖고,
상기 가공 대상물과 상기 레지노이드 지석을 상대적으로 이동시킴으로써, 상기 가공 대상물에 대해 다음 중 어느 하나의 가공을 행하는, 가공 장치.
(1) 상기 측면부에 의한 연마.
(2) 상기 주위면부에 의한 연마.
(3) 상기 주위면부에 의한 홈의 형성.
(4) 상기 주위면부에 의한 절단.13. The method of claim 12,
Wherein the resinoid grindstone has a peripheral surface portion and a side surface portion,
Wherein the machining apparatus performs one of the following operations with respect to the object by relatively moving the object to be processed and the resinoid grindstone.
(1) Polishing by the side portion.
(2) Polishing by the peripheral surface portion.
(3) Formation of a groove by the peripheral surface portion.
(4) Cutting by the peripheral surface portion.
상기 회전축과 상기 회전 기구와 상기 고정 기구와 상기 이동 기구를 적어도 갖고 연마 기능을 갖는 기능 모듈과,
적어도 상기 기능 모듈의 동작을 제어하는 제어부를 구비하고,
상기 기능 모듈은 특정 기능을 갖는 다른 기능 모듈에 대해 착탈할 수 있고,
상기 특정 기능은 절삭, 세정, 건조, 측정, 검사 및 연마 중 적어도 하나를 포함하는, 가공 장치.14. The method of claim 13,
A function module having at least the rotating shaft, the rotating mechanism, the fixing mechanism, and the moving mechanism and having a polishing function;
And a control unit for controlling at least an operation of the functional module,
The function module may be detachable with respect to another function module having a specific function,
Wherein the specific function comprises at least one of cutting, cleaning, drying, measuring, inspection and polishing.
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