KR20180099466A - 기판 처리 장치 및 기판 유지 장치 - Google Patents

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KR20180099466A
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Abstract

기판 유지부의 판상의 베이스부는, 중심축에 수직인 상면을 갖는다. 지지부는, 베이스부의 중앙부의 주위에서 둘레상으로 배치되고, 베이스부의 상면으로부터 상방으로 돌출된다. 지지부는, 기판의 하면을 지지한다. 가요성의 시일부는, 지지부의 주위에 전체 둘레에 걸쳐 배치된다. 시일부의 상단부는, 지지부보다 상측에 위치한다. 기판 유지부가 기판을 흡착할 때에는, 시일부의 상단부가 기판의 하면에 접촉한 상태에서, 베이스부와 기판 사이에 존재하는 가스가, 흡인 포트를 통하여 흡인된다. 이로써, 시일부를 하방향으로 휘게 하면서 기판이 베이스부에 가까워져 지지부에 접촉한다. 그 결과, 기판이 휘어져 있는 경우에 있어서도, 기판을 바람직하게 유지할 수 있다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 유지 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE HOLDING DEVICE}
본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 유지 장치에 관한 것이다.
종래, 반도체 기판 (이하, 간단히 「기판」이라고 한다) 의 제조 공정에서는, 기판을 흡착하여 유지하는 기구가 이용되고 있다. 기판을 흡착 유지하는 기구에서는, 기판이 휘어져 있는 경우, 기판을 바람직하게 흡착할 수 없는 경우가 있다.
그래서, 일본 공개특허공보 2012-119464호 (문헌 1) 에서는, 기판의 휨을 교정한 후에 흡착하는 웨이퍼 유지 장치가 제안되어 있다. 구체적으로는, 당해 웨이퍼 유지 장치에서는, 컵상의 흡인 가드의 상단부에 웨이퍼를 흡인 유지하고, 흡인 가드를 하강시켜 웨이퍼를 흡인 가드 내의 평판상의 교정부에 누른다. 이로써, 웨이퍼의 휨이 교정되어 평탄한 형상에 가까워진다. 그 후, 흡착 척이 상승하여 웨이퍼 하면에 접촉하고, 당해 흡착 척에 의해 웨이퍼가 흡착 유지된다.
그런데, 문헌 1 의 웨이퍼 유지 장치에서는, 웨이퍼의 휨을 교정한 후에 흡착하기 위한 여러 가지 구성이 필요해지고, 또, 당해 구성을 개별적으로 승강하는 기구도 필요해지기 때문에, 장치 구조가 복잡화될 우려가 있다. 또, 웨이퍼의 휨이 비교적 큰 경우, 교정부를 웨이퍼에 대고 눌러 휨을 교정하는 과정에서 웨이퍼가 파손될 우려도 있다.
본 발명은, 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 적합하고, 기판이 휘어져 있는 경우에 있어서도, 기판을 바람직하게 유지하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명에 관련된 기판 처리 장치는, 기판을 수평 상태에서 하측으로부터 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 유지부와 상기 기판 사이에 존재하는 가스를 흡인하여 상기 기판을 상기 기판 유지부에 흡착시키는 흡인부와, 상하 방향을 향하는 중심축을 중심으로 하여 상기 기판 유지부를 회전시키는 기판 회전 기구를 구비하고, 상기 기판 유지부가, 상기 중심축에 수직인 상면을 갖는 판상의 베이스부와, 상기 베이스부의 상기 상면에 배치되어 상기 흡인부에 접속되는 흡인 포트와, 상기 베이스부의 중앙부의 주위에서 둘레상으로 배치되고, 상기 베이스부의 상기 상면으로부터 상방으로 돌출되어 상기 기판의 하면을 지지하는 지지부와, 상기 지지부의 주위에 전체 둘레에 걸쳐 배치되고, 상단부가 상기 지지부보다 상측에 위치하는 가요성의 시일부를 구비하고, 상기 기판 유지부가 상기 기판을 흡착할 때, 상기 시일부의 상기 상단부가 상기 기판의 상기 하면에 접촉한 상태에서, 상기 베이스부와 상기 기판 사이에 존재하는 가스가 상기 흡인 포트를 통하여 흡인됨으로써, 상기 시일부를 하방향으로 휘게 하면서 상기 기판이 상기 베이스부에 가까워져 상기 지지부에 접촉한다. 이로써, 기판이 휘어져 있는 경우에 있어서도, 기판을 바람직하게 유지할 수 있다.
본 발명의 하나의 바람직한 실시형태에서는, 상기 시일부가, 상기 지지부로부터 멀어짐에 따라 상방으로 연장되는 환상 판 부재이다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 지지부가, 상기 베이스부의 상기 중앙부의 외주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 내측 지지부를 구비하고, 상기 내측 지지부가, 각각이 상기 중심축을 중심으로 하는 원호상인 복수의 선상부를 구비한다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 지지부가, 상기 베이스부의 상기 중앙부의 외주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 내측 지지부를 구비하고, 상기 내측 지지부가, 상기 기판의 상기 하면에 점접촉하는 복수의 돌기부를 구비한다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 지지부가, 상기 베이스부의 상기 중앙부의 외주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 내측 지지부와, 상기 시일부의 내주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 외측 지지부를 구비한다.
보다 바람직하게는, 상기 외측 지지부의 상단이, 상기 내측 지지부의 상단보다 상측에 위치한다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 시일부 중 상기 기판과의 접촉부의 표면이, 불소 수지제 또는 실리콘 수지제이다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 지지부 및 상기 베이스부가 도전성 재료제이다.
본 발명은, 기판을 수평 상태에서 하측으로부터 유지하는 기판 유지 장치에도 적합하다. 본 발명에 관련된 기판 유지 장치는, 상하 방향을 향하는 중심축에 수직인 상면을 갖는 판상의 베이스부와, 상기 베이스부의 상기 상면에 배치되고, 상기 베이스부와 기판 사이에 존재하는 가스를 흡인하는 흡인부에 접속되는 흡인 포트와, 상기 베이스부의 중앙부의 주위에서 둘레상으로 배치되고, 상기 베이스부의 상기 상면으로부터 상방으로 돌출되어 상기 기판의 하면을 지지하는 지지부와, 상기 지지부의 주위에 전체 둘레에 걸쳐 배치되고, 상단부가 상기 지지부보다 상측에 위치하는 가요성의 시일부를 구비하고, 상기 기판을 흡착할 때, 상기 시일부의 상기 상단부가 상기 기판의 상기 하면에 접촉한 상태에서, 상기 베이스부와 상기 기판 사이에 존재하는 가스가 상기 흡인 포트를 통하여 흡인됨으로써, 상기 시일부를 하방향으로 휘게 하면서 상기 기판이 상기 베이스부에 가까워져 상기 지지부에 접촉한다. 이로써, 기판이 휘어져 있는 경우에 있어서도, 기판을 바람직하게 유지할 수 있다.
상기 서술한 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 실시하는 이 발명의 상세한 설명에 의해 명확해진다.
도 1 은, 하나의 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2 는, 기판 유지부의 단면도이다.
도 3 은, 기판 유지부의 평면도이다.
도 4 는, 기판 유지부의 단면도이다.
도 5 는, 기판 유지부의 단면도이다.
도 6 은, 기판 유지부의 단면도이다.
도 7 은, 기판 유지부의 단면도이다.
도 8 은, 기판 유지부의 평면도이다.
도 1 은, 본 발명의 하나의 실시형태에 관련된 기판 처리 장치 (1) 의 구성을 나타내는 도면이다. 기판 처리 장치 (1) 는, 반도체 기판 (9) (이하, 간단히 「기판 (9)」이라고 한다) 을 1 장씩 처리하는 매엽식의 장치이다. 기판 처리 장치 (1) 는, 기판 (9) 에 처리액을 공급하여 처리를 실시한다. 도 1 에서는, 기판 처리 장치 (1) 의 구성의 일부를 단면으로 나타낸다.
기판 처리 장치 (1) 는, 챔버 (11) 와, 기판 유지부 (31) 와, 기판 회전 기구 (33) 와, 컵부 (4) 와, 처리액 공급부 (5) 와, 흡인부 (6) 를 구비한다. 챔버 (11) 의 내부에는, 기판 유지부 (31) 및 컵부 (4) 등이 수용된다.
기판 유지부 (31) 는, 상하 방향을 향하는 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 대략 원판상의 부위 및 대략 원기둥상의 부위를 구비하는 부재이다. 기판 (9) 은, 기판 유지부 (31) 의 상방에 배치된다. 기판 (9) 은, 챔버 (11) 내에 있어서 대략 수평 상태에서 기판 유지부 (31) 에 의해 하측으로부터 흡착 유지된다. 도 1 에 나타내는 예에서는, 기판 (9) 은 하방향으로 볼록상으로 휘어져 있다. 바꾸어 말하면, 기판 (9) 의 중앙부가 하방향으로 오목하다. 흡인부 (6) 는, 기판 유지부 (31) 에 접속된다. 흡인부 (6) 는, 기판 유지부 (31) 와 기판 (9) 사이에 존재하는 가스 (예를 들어, 공기) 를 흡인하여, 기판 (9) 을 기판 유지부 (31) 에 흡착시킨다.
기판 회전 기구 (33) 는, 기판 유지부 (31) 의 하방에 배치된다. 기판 회전 기구 (33) 는, 중심축 (J1) 을 중심으로 하여 기판 (9) 을 기판 유지부 (31) 와 함께 회전시킨다. 기판 회전 기구 (33) 는, 덮개가 있는 대략 원통상의 회전 기구 수용부 (331) 의 내부에 수용된다.
처리액 공급부 (5) 는, 기판 (9) 에 처리액을 공급한다. 처리액 공급부 (5) 는, 노즐 (51) 과, 노즐 회전 기구 (52) 를 구비한다. 노즐 (51) 은, 기판 (9) 의 상측의 주면인 상면 (91) 을 향하여 처리액을 토출한다. 노즐 회전 기구 (52) 는, 노즐 (51) 을 기판 (9) 의 상방에서 대략 수평으로 이동시킨다. 기판 처리 장치 (1) 에서는, 예를 들어, 기판 회전 기구 (33) 에 의해 회전하는 기판 (9) 에 대해 노즐 (51) 로부터 처리액이 토출되고 있는 상태에서, 노즐 회전 기구 (52) 에 의해, 노즐 (51) 이 기판 (9) 의 중앙부 상방과 외연부 상방 사이에서 계속적으로 왕복 이동된다. 이로써, 기판 (9) 의 상면 (91) 전체에 처리액이 공급된다. 기판 처리 장치 (1) 에서는, 예를 들어, 기판 (9) 의 중앙부 상방에서 정지하는 노즐 (51) 로부터, 기판 (9) 에 처리액이 공급되어도 된다. 또, 처리액 공급부 (5) 는, 기판 (9) 의 하방에 배치되어 기판 (9) 의 하측의 주면인 하면 (92) 에 처리액을 공급하는 하부 노즐을 구비하고 있어도 된다.
컵부 (4) 는, 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 환상의 부재이고, 기판 (9) 및 기판 유지부 (31) 의 주위에 배치된다. 컵부 (4) 는, 회전 중인 기판 (9) 으로부터 주위를 향하여 비산되는 처리액을 수용한다. 컵부 (4) 에 의해 수용된 처리액은, 컵부 (4) 의 하단부에 형성된 배액 포트 (도시 생략) 를 통하여, 챔버 (11) 의 외부로 배출된다.
도 2 는, 기판 유지부 (31) 를 확대하여 나타내는 단면도이다. 도 3 은, 기판 유지부 (31) 를 나타내는 평면도이다. 기판 유지부 (31) 는, 베이스부 (34) 와, 흡인 포트 (35) 와, 지지부 (36) 와, 시일부 (37) 와, 베이스 기부 (38) 를 구비한다. 베이스부 (34) 는, 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 대략 원판상의 부위이다. 베이스부 (34) 는, 중심축 (J1) 에 대략 수직인 상면 (341) 을 갖는다. 베이스부 (34) 의 직경은, 예를 들어, 기판 유지부 (31) 에 의해 유지되는 기판 (9) (도 1 참조) 의 직경의 20 ％ 이상 또한 100 ％ 이하이다. 도 1 및 도 2 에 나타내는 예에서는, 기판 (9) 의 직경은 약 300 ㎜ 이고, 베이스부 (34) 의 직경은 약 100 ㎜ 이다.
베이스 기부 (38) 는, 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 대략 원기둥상의 부위이다. 베이스 기부 (38) 는, 베이스부 (34) 의 하면에 접속되고, 베이스부 (34) 를 하측으로부터 지지한다. 베이스 기부 (38) 의 직경은, 베이스부 (34) 의 직경보다 작다. 도 2 에 나타내는 예에서는, 베이스 기부 (38) 와 베이스부 (34) 는 하나로 연결된 부재이다.
지지부 (36) 는, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 으로부터 상방으로 돌출되고, 기판 (9) 의 하면 (92) 을 하측으로부터 지지한다. 지지부 (36) 는, 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 의 주위에서 둘레상 (즉, 대략 환상) 으로 배치된다. 지지부 (36) 는, 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 를 피해 배치된다. 바꾸어 말하면, 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 에는, 상방으로 돌출되는 볼록부는 형성되지 않는다. 이로써, 휘어진 기판 (9) 이 당해 볼록부에 눌려 파손되는 것이 방지된다.
베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 는, 베이스부 (34) 에 있어서, 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 소정의 직경의 원 내의 부위이다. 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 의 직경은, 예를 들어, 베이스부 (34) 의 직경의 20 ％ 이상 또한 50 ％ 이하이다. 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 의 직경은, 예를 들어, 기판 (9) 의 직경의 5 ％ 이상 또한 20 ％ 이하이다. 도 2 에 나타내는 예에서는, 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 의 직경은 약 40 ㎜ 이다. 또, 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 의 직경은, 베이스 기부 (38) 의 직경과 대략 동등하다.
지지부 (36) 는, 제 1 지지부 (361) 와, 제 2 지지부 (362) 와, 제 3 지지부 (363) 를 구비한다. 제 1 지지부 (361), 제 2 지지부 (362) 및 제 3 지지부 (363) 는 각각, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 으로부터 상방으로 돌출되는 대략 원둘레상의 부위이다. 도 2 에 나타내는 예에서는, 제 1 지지부 (361), 제 2 지지부 (362) 및 제 3 지지부 (363) 의 각각의 상단의 상하 방향의 위치는, 대략 동일하다. 제 1 지지부 (361) 의 상단과, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 사이의 상하 방향의 거리는, 예를 들어 약 2 ㎜ 이다.
제 1 지지부 (361), 제 2 지지부 (362) 및 제 3 지지부 (363) 는, 중심축 (J1) 을 중심으로 하여 동심원상으로 배치된다. 제 1 지지부 (361) 는, 제 2 지지부 (362) 보다 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 직경 방향 (이하, 간단히 「직경 방향」이라고 한다) 의 내측에 위치한다. 제 2 지지부 (362) 는, 제 3 지지부 (363) 보다 직경 방향 내측에 위치한다. 바꾸어 말하면, 제 1 지지부 (361) 는, 지지부 (36) 에 있어서 가장 직경 방향 내측에 위치하는 내측 지지부이다. 제 3 지지부 (363) 는, 지지부 (36) 에 있어서 가장 직경 방향 외측에 위치하는 외측 지지부이다. 제 2 지지부 (362) 는, 제 1 지지부 (361) 와 제 3 지지부 (363) 사이에 위치하는 중간 지지부이다.
제 1 지지부 (361) 는, 베이스부 (34) 의 중앙부의 외주에 인접하여 대략 둘레상으로 배치된다. 바꾸어 말하면, 제 1 지지부 (361) 의 내경은, 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 의 외경과 동등하다. 제 1 지지부 (361) 는, 복수의 선상부 (364) 를 구비한다. 복수의 선상부 (364) 는 각각, 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 대략 원호상이다. 복수의 선상부 (364) 는 각각, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 으로부터 상방으로 돌출된다. 도 3 에 나타내는 예에서는, 4 개의 선상부 (364) 는, 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 둘레 방향 (이하, 간단히 「둘레 방향」이라고 한다) 에 있어서, 서로 이간되면서 대략 등각도 간격으로 배치된다. 각 선상부 (364) 의 둘레 방향의 길이는, 예를 들어, 둘레 방향에서 인접하는 2 개의 선상부 (364) 사이의 간극보다 크다. 도 3 에 나타내는 예에서는, 제 1 지지부 (361) 의 직경 방향의 폭 (즉, 각 선상부 (364) 의 폭) 은 약 2 ㎜ 이고, 제 1 지지부 (361) 의 외경은 약 40 ㎜ 이다.
제 2 지지부 (362) 는, 제 1 지지부 (361) 로부터 직경 방향 외측으로 이간되어 대략 둘레상으로 배치된다. 제 2 지지부 (362) 는, 복수의 선상부 (365) 를 구비한다. 복수의 선상부 (365) 는 각각, 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 대략 원호상이다. 복수의 선상부 (365) 는 각각, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 으로부터 상방으로 돌출된다. 도 3 에 나타내는 예에서는, 4 개의 선상부 (365) 는, 둘레 방향에 있어서 서로 이간되면서 대략 등각도 간격으로 배치된다. 각 선상부 (365) 의 둘레 방향의 길이는, 예를 들어, 둘레 방향에서 인접하는 2 개의 선상부 (365) 사이의 간극보다 크다. 도 3 에 나타내는 예에서는, 제 2 지지부 (362) 의 직경 방향의 폭 (즉, 각 선상부 (365) 의 폭) 은 약 2 ㎜ 이고, 제 2 지지부 (362) 의 외경은 약 60 ㎜ 이다.
제 3 지지부 (363) 는, 제 2 지지부 (362) 로부터 직경 방향 외측으로 이간되어 대략 둘레상으로 배치된다. 제 3 지지부 (363) 는, 복수의 선상부 (366) 를 구비한다. 복수의 선상부 (366) 는 각각, 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 대략 원호상이다. 복수의 선상부 (366) 는 각각, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 으로부터 상방으로 돌출된다. 도 3 에 나타내는 예에서는, 4 개의 선상부 (366) 는, 둘레 방향에 있어서 서로 이간되면서 대략 등각도 간격으로 배치된다. 각 선상부 (366) 의 둘레 방향의 길이는, 예를 들어, 둘레 방향에서 인접하는 2 개의 선상부 (366) 사이의 간극보다 크다. 도 3 에 나타내는 예에서는, 제 3 지지부 (363) 의 직경 방향의 폭 (즉, 각 선상부 (366) 의 폭) 은 약 2 ㎜ 이고, 제 3 지지부 (363) 의 외경은 약 80 ㎜ 이다.
도 2 에 예시하는 기판 유지부 (31) 에서는, 베이스부 (34) 중 제 3 지지부 (363) 를 포함하는 대략 원환판상의 부위가, 베이스부 (34) 의 다른 부위와는 별도의 부재로서 형성되어 있고, 당해 다른 부위 상에 배치되어 비스 등에 의해 당해 다른 부위에 고정되어 있다. 당해 제 3 지지부 (363) 를 포함하는 부위와, 당해 다른 부위 사이에는, 대략 원환상의 시일부 (37) 의 내주부가 상하 방향으로 끼워져 있다. 이로써, 시일부 (37) 가 베이스부 (34) 에 고정된다. 또한, 시일부 (37) 를 베이스부 (34) 에 고정하는 구조는, 여러 가지로 변경되어도 된다. 예를 들어, 시일부 (37) 의 내주부가, 비스 등에 의해 베이스부 (34) 에 직접적으로 고정되어도 된다.
베이스부 (34), 지지부 (36) 및 베이스 기부 (38) 는, 통상적인 하중에 의해 휘지 않는 경질의 재료에 의해 형성되어 있다. 또, 베이스부 (34), 지지부 (36) 및 베이스 기부 (38) 는 도전성 재료제이다. 예를 들어, 베이스부 (34), 지지부 (36) 및 베이스 기부 (38) 는, 도전성 PEEK (도전성 폴리에테르에테르케톤) 등의 도전성 수지에 의해 형성되어 있다. 베이스부 (34), 지지부 (36) 및 베이스 기부 (38) 는, 어스선 등을 통하여 전기적으로 접지되어 있다.
베이스부 (34) 의 상면 (341) 에는, 복수의 흡인 포트 (35) 가 배치된다. 도 3 에 나타내는 예에서는, 복수의 흡인 포트 (35) 는, 제 1 지지부 (361) 와 제 2 지지부 (362) 사이에 배치된다. 복수의 흡인 포트 (35) 는, 둘레 방향에 있어서 대략 등각도 간격으로 배열된다. 각 흡인 포트 (35) 는, 예를 들어, 평면에서 보았을 때 대략 원형이다. 흡인 포트 (35) 의 형상은, 여러 가지로 변경되어도 된다. 각 흡인 포트 (35) 는, 흡인부 (6) (도 1 참조) 에 접속된다. 도 2 에서는, 도면의 간략화를 위해서, 각 흡인 포트 (35) 와 흡인부 (6) 를 접속하는 유로의 도시를 생략하고 있다.
기판 유지부 (31) 에서는, 흡인 포트 (35) 의 수는 적절히 변경되어도 된다. 예를 들어, 흡인 포트 (35) 의 수는 1 이어도 된다. 또, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 상에 있어서의 흡인 포트 (35) 의 위치는, 시일부 (37) 보다 직경 방향 내측이면 적절히 변경되어도 된다.
시일부 (37) 는, 지지부 (36) 의 주위에 전체 둘레에 걸쳐 배치된다. 시일부 (37) 는, 가요성을 갖는 환상의 판 부재이다. 도 2 및 도 3 에 나타내는 예에서는, 시일부 (37) 는, 대략 원환판상이다. 시일부 (37) 는, 제 3 지지부 (363) 의 외주에 인접하여 배치된다. 바꾸어 말하면, 제 3 지지부 (363) 는, 시일부 (37) 의 내주에 인접하여 둘레상으로 배치된다. 따라서, 시일부 (37) 의 내경은 제 3 지지부 (363) 의 외경과 동등하다. 제 3 지지부 (363) 에 외접하는 시일부 (37) 의 내주부의 상단은, 제 3 지지부 (363) 의 상단과 상하 방향에 있어서 대략 동일한 위치에 위치한다. 제 3 지지부 (363) 보다 직경 방향 외측에서는, 시일부 (37) 는, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 으로부터 상방으로 멀어져 있다. 바꾸어 말하면, 제 3 지지부 (363) 보다 직경 방향 외측에 있어서, 시일부 (37) 는 베이스부 (34) 와는 비접촉이다.
도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 유지부 (31) 에 기판 (9) 이 흡착되어 있지 않은 상태 (즉, 시일부 (37) 가 변형되어 있지 않은 상태) 에서는, 시일부 (37) 는, 지지부 (36) 로부터 직경 방향으로 멀어짐에 따라 (즉, 직경 방향 외방을 향함에 따라) 상방으로 연장된다. 또, 시일부 (37) 의 상하 방향의 두께는, 지지부 (36) 로부터 멀어짐에 따라 점차 얇아진다. 시일부 (37) 의 상단부 (371) (도 2 에 나타내는 예에서는, 시일부 (37) 의 외주부) 는, 지지부 (36) 보다 상측에 위치한다. 구체적으로는, 시일부 (37) 의 상단부 (371) 는, 제 1 지지부 (361) 의 상단, 제 2 지지부 (362) 의 상단, 및, 제 3 지지부 (363) 의 상단보다 상측에 위치한다. 시일부 (37) 의 상단과, 제 1 지지부 (361), 제 2 지지부 (362) 및 제 3 지지부 (363) 의 상단 사이의 상하 방향의 거리는, 예를 들어, 0.5 ㎜ 이상 또한 3 ㎜ 이하이고, 본 실시형태에서는 약 1 ㎜ 이다.
시일부 (37) 는 가요성이 높고, 높은 내약품성 및 높은 내열성을 갖고, 또한 기판 (9) 의 하면 (92) 에 대한 점착성이 낮은 (즉, 기판 (9) 의 하면 (92) 에 대해 높은 박리 성능을 갖는) 재료에 의해 형성되는 것이 바람직하다. 시일부 (37) 는, 예를 들어, 불소 수지제 또는 실리콘 수지제이다. 본 실시형태에서는, 시일부 (37) 는, 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE) 제이다.
도 4 및 도 5 는, 기판 유지부 (31) 에 의한 기판 (9) 의 흡착 모습을 나타내는 도면이다. 도 4 및 도 5 에서는, 기판 유지부 (31) 의 오른쪽 반을 확대하여 나타낸다 (후술하는 도 6 및 도 7 에 있어서도 동일). 기판 유지부 (31) 에 의해 기판 (9) 이 흡착될 때에는, 먼저, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 기판 (9) 이 시일부 (37) 상에 재치 (載置) 되고, 시일부 (37) 의 상단부 (371) 가, 기판 (9) 의 하면 (92) 에 환상으로 접촉한다. 이로써, 기판 (9) 의 하면 (92) 과, 기판 유지부 (31) 의 베이스부 (34) 및 시일부 (37) 사이의 공간이 밀폐된다. 이 때, 지지부 (36) 및 베이스부 (34) 는, 기판 (9) 의 하면 (92) 으로부터 하방으로 멀어져 있어, 기판 (9) 과 비접촉이다.
계속해서, 흡인부 (6) (도 1 참조) 가 구동되어, 베이스부 (34) 및 시일부 (37) 와 기판 (9) 사이의 밀폐 공간에 존재하는 가스가, 흡인 포트 (35) 를 통하여 흡인되어 당해 밀폐 공간 외로 배출된다. 이로써, 도 5 에 나타내는 바와 같이, 기판 (9) 이, 시일부 (37) 를 하방향으로 휘게 하면서 하방으로 이동하여, 지지부 (36) 및 베이스부 (34) 에 가까워진다. 상세하게는, 기판 (9) 에 접촉하고 있는 시일부 (37) 의 상단부 (371) (즉, 외주부) 가 하방향으로 이동하여, 시일부 (37) 와 기판 (9) 의 하면 (92) 의 접촉 영역이, 시일부 (37) 의 외주부로부터 직경 방향 내방으로 확대된다. 시일부 (37) 는, 기판 (9) 의 하면 (92) 을 따라 변형된다. 또한, 시일부 (37) 의 주된 변형은, 시일부 (37) 중 베이스부 (34) 로부터 상방으로 멀어져 있는 부위의 휨으로, 시일부 (37) 가 베이스부 (34) 에 눌림으로써 변형되는 압축 변형은 아니다.
기판 (9) 의 하방으로의 이동, 및, 시일부 (37) 의 하방으로의 변형은, 기판 (9) 이 지지부 (36) 에 접촉할 때까지 계속된다. 그리고, 기판 (9) 이 지지부 (36) 에 접촉함으로써, 기판 (9) 의 하방으로의 이동, 및, 시일부 (37) 의 하방으로의 변형이 정지되고, 기판 (9) 이 기판 유지부 (31) 에 흡착 유지된다. 기판 (9) 이 기판 유지부 (31) 에 흡착 유지된 상태에 있어서, 기판 (9) 의 하면 (92) 은 베이스부 (34) 의 상면 (341) 보다 상방에 위치하고, 기판 (9) 과 베이스부 (34) 는 비접촉이다. 도 5 에 나타내는 예에서는, 제 3 지지부 (363) 보다 직경 방향 외측에 있어서, 시일부 (37) 는, 베이스부 (34) 로부터 상방으로 멀어져 있다. 또한, 기판 (9) 이 기판 유지부 (31) 에 흡착 유지된 상태에 있어서, 시일부 (37) 의 일부 또는 전부가, 베이스부 (34) 에 접촉해도 된다.
기판 (9) 이 기판 유지부 (31) 에 흡착 유지된 상태에 있어서, 기판 (9) 은, 제 1 지지부 (361), 제 2 지지부 (362) 및 제 3 지지부 (363) 전부와 접촉하고 있어도 되고, 제 1 지지부 (361), 제 2 지지부 (362) 및 제 3 지지부 (363) 의 일부와 접촉하고 있어도 된다. 도 5 에 나타내는 바와 같이, 기판 (9) 의 중앙부가 하방으로 오목한 경우, 기판 (9) 의 하면 (92) 은, 지지부 (36) 중 적어도 제 1 지지부 (361) 에 접촉한다. 또, 기판 유지부 (31) 에 흡착 유지된 기판 (9) 의 형상은, 기판 유지부 (31) 에 유지되기 전의 형상과 상이해도 되고, 동일해도 된다.
이상에서 설명한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 기판 유지부 (31) 와, 흡인부 (6) 와, 기판 회전 기구 (33) 를 구비한다. 기판 유지부 (31) 는, 기판 (9) 을 수평 상태에서 하측으로부터 유지한다. 흡인부 (6) 는, 기판 유지부 (31) 와 기판 (9) 사이에 존재하는 가스를 흡인하여, 기판 (9) 을 기판 유지부 (31) 에 흡착시킨다. 기판 회전 기구 (33) 는, 상하 방향을 향하는 중심축 (J1) 을 중심으로 하여 기판 유지부 (31) 를 회전시킨다. 기판 유지부 (31) 는, 베이스부 (34) 와, 흡인 포트 (35) 와, 지지부 (36) 와, 시일부 (37) 를 구비한다. 판상의 베이스부 (34) 는, 중심축 (J1) 에 수직인 상면 (341) 을 갖는다. 흡인 포트 (35) 는, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 에 배치되어, 흡인부 (6) 에 접속된다. 지지부 (36) 는, 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 의 주위에서 둘레상으로 배치되고, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 으로부터 상방으로 돌출된다. 지지부 (36) 는, 기판 (9) 의 하면 (92) 을 지지한다. 가요성의 시일부 (37) 는, 지지부 (36) 의 주위에 전체 둘레에 걸쳐 배치된다. 시일부 (37) 의 상단부 (371) 는, 지지부 (36) 보다 상측에 위치한다.
기판 유지부 (31) 가 기판 (9) 을 흡착할 때에는, 시일부 (37) 의 상단부 (371) 가 기판 (9) 의 하면 (92) 에 접촉한 상태에서, 베이스부 (34) 와 기판 (9) 사이에 존재하는 가스가, 흡인 포트 (35) 를 통하여 흡인된다. 이로써, 시일부 (37) 를 하방향으로 휘게 하면서 기판 (9) 이 베이스부 (34) 에 가까워져 지지부 (36) 에 접촉한다.
이와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 흡인부 (6) 의 흡인에 의한 기판 (9) 의 하강에 의해, 시일부 (37) 가 기판 (9) 의 하면 (92) 을 따라서 휜다. 이 때문에, 기판 (9) 과 베이스부 (34) 및 시일부 (37) 사이의 공간의 밀폐성을 유지할 수 있음과 함께, 시일부 (37) 에 의해 항상 기판 (9) 을 지지할 수 있다. 그 결과, 기판 (9) 이 휘어져 있는 경우에 있어서도, 간소한 구조로 기판 (9) 을 바람직하게 유지할 수 있다. 따라서, 기판 회전 기구 (33) 에 의해 기판 (9) 을 회전시킬 때, 기판 (9) 이 기판 유지부 (31) 상에서 어긋나는 것 등을 방지할 수 있다. 또, 기판 (9) 의 외주부를 향하여 처리액이 토출될 때, 처리액의 충돌에 의한 모멘트에 의해, 기판 (9) 이 기판 유지부 (31) 로부터 벗어나는 것 등을 방지할 수도 있다.
기판 유지부 (31) 에서는, 기판 (9) 이 베이스부 (34) 에 가까워질 때 시일부 (37) 가 휘기 때문에, 시일부 (37) 에 의해 기판 (9) 이 과잉으로 밀어 올려지는 것을 방지할 수도 있다. 그 결과, 기판 (9) 의 흡착 유지시에, 기판 (9) 이 파손되는 것을 방지할 수 있다.
시일부 (37) 는, 지지부 (36) 로부터 멀어짐에 따라 상방으로 연장되는 환상 판 부재이다. 이로써, 시일부 (37) 의 구조를 간소화할 수 있다. 또, 기판 (9) 이 기판 유지부 (31) 에 흡착될 때, 시일부 (37) 가 의도하지 않은 방향으로 변형되는 것을 억제하여, 시일부 (37) 를 바람직하게 휘게 할 수 있다. 상기 서술한 바와 같이, 시일부 (37) 의 상하 방향의 두께는, 지지부 (36) 로부터 멀어짐에 따라 얇아진다. 이로써, 시일부 (37) 가 기판 (9) 에 따라 용이하게 변형될 수 있다.
지지부 (36) 는, 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 의 외주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 제 1 지지부 (361) (즉, 내측 지지부) 를 구비한다. 제 1 지지부 (361) 는, 복수의 선상부 (364) 를 구비한다. 복수의 선상부 (364) 는, 각각이 중심축 (J1) 을 중심으로 하는 원호상이다. 이로써, 제 1 지지부 (361) 와 기판 (9) 의 하면 (92) 의 접촉 영역을 비교적 길게 할 수 있다. 그 결과, 기판 (9) 을 안정적으로 유지할 수 있다.
또, 지지부 (36) 는, 제 1 지지부 (361) 에 더하여, 시일부 (37) 의 내주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 제 3 지지부 (363) (즉, 외측 지지부) 를 구비한다. 이로써, 유지된 기판 (9) 의 안정성을 향상시킬 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 시일부 (37) 는, 불소 수지제 또는 실리콘 수지제이다. 이로써, 기판 (9) 에 대한 시일부 (37) 의 박리 성능을 높게 할 수 있다. 따라서, 기판 (9) 을 기판 유지부 (31) 상으로부터 이동시킬 때, 시일부 (37) 가 기판 (9) 에 첩부 (貼付) 되는 것을 억제할 수 있다. 그 결과, 기판 (9) 을 기판 유지부 (31) 로부터 용이하게 떼어낼 수 있다.
기판 유지부 (31) 에서는, 시일부 (37) 중, 기판 (9) 과의 접촉부의 표면이, 불소 수지제 또는 실리콘 수지제이면 된다. 이로써, 상기와 동일하게, 기판 (9) 에 대한 시일부 (37) 의 박리 성능을 높게 할 수 있고, 기판 (9) 을 기판 유지부 (31) 로부터 용이하게 떼어낼 수 있다. 이 경우, 시일부 (37) 중, 기판 (9) 과의 접촉부의 표면을 제외한 다른 부위는, 가요성을 갖는 여러 가지 재료에 의해 형성되어도 된다.
상기 서술한 바와 같이, 지지부 (36) 및 베이스부 (34) 는 도전성 재료제이다. 이로써, 기판 (9) 이 기판 유지부 (31) 에 유지된 상태에 있어서, 기판 (9) 의 전하가, 지지부 (36) 및 베이스부 (34) 를 통하여 제거된다. 그 결과, 기판 (9) 의 대전을 저감시킬 수 있다.
기판 유지부 (31) 에서는, 지지부 (36) 의 형상은 여러 가지로 변경되어도 된다. 예를 들어, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 제 3 지지부 (363) 의 상단이, 제 1 지지부 (361) 의 상단보다 상측에 위치해도 된다. 이로써, 제 1 지지부 (361) 및 제 3 지지부 (363) 의 쌍방이, 하방향으로 볼록상으로 휘어져 있는 기판 (9) 의 하면 (92) (도 2 참조) 에 접촉하기 쉬워진다. 그 결과, 기판 유지부 (31) 에 의한 기판 (9) 의 유지의 안정성을 향상시킬 수 있다. 또, 도 6 에 나타내는 예에서는, 제 2 지지부 (362) 의 상단은, 제 1 지지부 (361) 의 상단보다 상측, 또한, 제 3 지지부 (363) 의 상단보다 하측에 위치한다. 이로써, 제 2 지지부 (362) 도, 하방향으로 볼록상으로 휘어져 있는 기판 (9) 의 하면 (92) 에 접촉하기 쉬워진다. 그 결과, 기판 유지부 (31) 에 의한 기판 (9) 의 유지의 안정성을 더욱 향상시킬 수 있다.
기판 유지부 (31) 에서는, 도 7 및 도 8 에 나타내는 바와 같이, 제 1 지지부 (361) 가, 기판 (9) 의 하면 (92) 에 점접촉하는 복수의 돌기부 (367) 를 구비하고 있어도 된다. 이로써, 제 1 지지부 (361) 와 기판 (9) 의 하면 (92) 의 접촉부의 수를 비교적 많게 할 수 있다. 그 결과, 기판 (9) 을 안정적으로 유지할 수 있다. 도 7 및 도 8 에 나타내는 예에서는, 제 2 지지부 (362) 및 제 3 지지부 (363) 도 각각, 복수의 돌기부 (367) 를 구비한다. 제 1 지지부 (361), 제 2 지지부 (362) 및 제 3 지지부 (363) 에서는 각각, 복수의 돌기부 (367) 가 둘레 방향으로 대략 등각도 간격으로 배열된다. 각 돌기부 (367) 는 대략 반구상이다. 돌기부 (367) 의 형상은 여러 가지로 변경되어도 된다. 돌기부 (367) 는, 예를 들어, 중앙부가 주위에 비해 융기되어 있는 산형이어도 된다. 평면에서 보았을 때의 돌기부 (367) 의 형상은, 여러 가지로 변경되어도 되고, 예를 들어 대략 사각형이어도 된다.
상기 서술한 기판 처리 장치 (1) 에서는, 여러 가지 변경이 가능하다.
예를 들어, 기판 유지부 (31) 의 베이스부 (34) 의 형상은 원판상으로는 한정되지 않고, 대략 판상이면 된다. 베이스부 (34) 는, 예를 들어, 대략 사각형 판상이어도 된다.
지지부 (36) 에서는, 제 3 지지부 (363) 는, 반드시 시일부 (37) 의 내주에 인접하여 배치될 필요는 없고, 예를 들어, 시일부 (37) 의 내주연으로부터 직경 방향 내방으로 멀어진 위치에 형성되어도 된다. 또, 지지부 (36) 에서 제 2 지지부 (362) 는 생략되어도 된다. 제 3 지지부 (363) 도 지지부 (36) 에서 생략되어되도 된다.
시일부 (37) 의 형상은 여러 가지로 변경되어도 된다. 예를 들어, 시일부 (37) 는, 외주부가 베이스부 (34) 에 고정되고, 직경 방향 내측을 향함에 따라 상방으로 연장되는 원환상 판 부재여도 된다. 또는, 시일부 (37) 는, 지지부 (36) 의 주위에 전체 둘레에 걸쳐 배치되는 것이라면 원환상으로는 한정되지 않고, 예를 들어, 대략 사각형 환상이어도 된다.
베이스부 (34), 지지부 (36) 및 베이스 기부 (38) 의 재료는 적절히 변경되어도 된다. 또, 시일부 (37) 의 재료도 적절히 변경되어도 된다. 예를 들어, 시일부 (37) 는, 도전성 재료에 의해 형성되어도 된다. 이로써, 기판 (9) 의 대전을 더욱 저감시킬 수 있다.
기판 유지부 (31) 는, 기판 처리 장치 (1) 이외의 여러 가지 장치 (예를 들어, 기판 반송 장치) 에 있어서, 혹은, 단독으로, 기판 (9) 을 수평 상태에서 하측으로부터 유지하는 기판 유지 장치로서 이용되어도 된다. 당해 기판 유지 장치는, 상기 서술한 기판 유지부 (31) 와 동일하게, 베이스부 (34) 와, 흡인 포트 (35) 와, 지지부 (36) 와, 시일부 (37) 를 구비한다. 판상의 베이스부 (34) 는, 상하 방향을 향하는 중심축 (J1) 에 수직인 상면 (341) 을 갖는다. 흡인 포트 (35) 는, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 에 배치되고, 흡인부 (6) 에 접속된다. 흡인부 (6) 는, 베이스부 (34) 와 기판 (9) 사이에 존재하는 가스를 흡인한다. 지지부 (36) 는, 베이스부 (34) 의 중앙부 (342) 의 주위에서 둘레상으로 배치되고, 베이스부 (34) 의 상면 (341) 으로부터 상방으로 돌출된다. 지지부 (36) 는, 기판 (9) 의 하면 (92) 을 지지한다. 가요성의 시일부 (37) 는, 지지부 (36) 의 주위에 전체 둘레에 걸쳐 배치된다. 시일부 (37) 의 상단부 (371) 는, 지지부 (36) 보다 상측에 위치한다.
기판 (9) 을 흡착할 때에는, 시일부 (37) 의 상단부 (371) 가 기판 (9) 의 하면 (92) 에 접촉한 상태에서, 베이스부 (34) 와 기판 (9) 사이에 존재하는 가스가, 흡인 포트 (35) 를 통하여 흡인된다. 이로써, 시일부 (37) 를 하방향으로 휘게 하면서 기판 (9) 이 베이스부 (34) 에 가까워져 지지부 (36) 에 접촉한다. 이로써, 상기와 동일하게, 기판 (9) 이 휘어져 있는 경우에도, 기판 (9) 을 바람직하게 유지할 수 있다.
상기 서술한 기판 유지 장치, 및, 기판 처리 장치 (1) 의 기판 유지부 (31) 는, 휨이 없는 평탄한 기판 (9), 및, 상방향으로 볼록상으로 휘어져 있는 기판 (9) 의 유지에도 이용 가능하다.
상기 서술한 기판 처리 장치 (1) 는, 반도체 기판 이외에, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이, FED (field emission display) 등의 표시 장치에 사용되는 유리 기판의 처리에 이용되어도 된다. 혹은, 상기 서술한 기판 처리 장치 (1) 는, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 세라믹 기판 및 태양 전지용 기판 등의 처리에 이용되어도 된다. 또, 상기 서술한 기판 유지 장치도, 여러 가지 종류의 기판의 유지에 이용되어도 된다.
상기 실시형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합해도 된다.
발명을 상세하게 묘사하여 설명했지만, 이미 서술한 설명은 예시적으로 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다고 할 수 있다.
1 : 기판 처리 장치
6 : 흡인부
9 : 기판
31 : 기판 유지부
33 : 기판 회전 기구
35 : 흡인 포트
36 : 지지부
37 : 시일부
91 : (기판의) 상면
92 : (기판의) 하면
341 : (베이스부의) 상면
342 : (베이스부의) 중앙부
361 : 제 1 지지부
362 : 제 2 지지부
363 : 제 3 지지부
364, 365, 366 : 선상부
367 : 돌기부
371 : (시일부의) 상단부
J1 : 중심축

Claims (16)

  1. 기판을 처리하는 기판 처리 장치로서,
    기판을 수평 상태에서 하측으로부터 유지하는 기판 유지부와,
    상기 기판 유지부와 상기 기판 사이에 존재하는 가스를 흡인하여 상기 기판을 상기 기판 유지부에 흡착시키는 흡인부와,
    상하 방향을 향하는 중심축을 중심으로 하여 상기 기판 유지부를 회전시키는 기판 회전 기구를 구비하고,
    상기 기판 유지부가,
    상기 중심축에 수직인 상면을 갖는 판상의 베이스부와,
    상기 베이스부의 상기 상면에 배치되어 상기 흡인부에 접속되는 흡인 포트와,
    상기 베이스부의 중앙부의 주위에서 둘레상으로 배치되고, 상기 베이스부의 상기 상면으로부터 상방으로 돌출되어 상기 기판의 하면을 지지하는 지지부와,
    상기 지지부의 주위에 전체 둘레에 걸쳐 배치되고, 상단부가 상기 지지부보다 상측에 위치하는 가요성의 시일부를 구비하고,
    상기 기판 유지부가 상기 기판을 흡착할 때, 상기 시일부의 상기 상단부가 상기 기판의 상기 하면에 접촉한 상태에서, 상기 베이스부와 상기 기판 사이에 존재하는 가스가 상기 흡인 포트를 통하여 흡인됨으로써, 상기 시일부를 하방향으로 휘게 하면서 상기 기판이 상기 베이스부에 가까워져 상기 지지부에 접촉하는, 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 시일부가, 상기 지지부로부터 멀어짐에 따라 상방으로 연장되는 환상 판 부재인, 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지부가, 상기 베이스부의 상기 중앙부의 외주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 내측 지지부를 구비하고,
    상기 내측 지지부가, 각각이 상기 중심축을 중심으로 하는 원호상인 복수의 선상부를 구비하는, 기판 처리 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지부가, 상기 베이스부의 상기 중앙부의 외주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 내측 지지부를 구비하고,
    상기 내측 지지부가, 상기 기판의 상기 하면에 점접촉하는 복수의 돌기부를 구비하는, 기판 처리 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지부가,
    상기 베이스부의 상기 중앙부의 외주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 내측 지지부와,
    상기 시일부의 내주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 외측 지지부를 구비하는, 기판 처리 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 외측 지지부의 상단이, 상기 내측 지지부의 상단보다 상측에 위치하는, 기판 처리 장치.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시일부 중 상기 기판과의 접촉부의 표면이, 불소 수지제 또는 실리콘 수지제인, 기판 처리 장치.
  8. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지부 및 상기 베이스부가 도전성 재료제인, 기판 처리 장치.
  9. 기판을 수평 상태에서 하측으로부터 유지하는 기판 유지 장치로서,
    상하 방향을 향하는 중심축에 수직인 상면을 갖는 판상의 베이스부와,
    상기 베이스부의 상기 상면에 배치되고, 상기 베이스부와 기판 사이에 존재하는 가스를 흡인하는 흡인부에 접속되는 흡인 포트와,
    상기 베이스부의 중앙부의 주위에서 둘레상으로 배치되고, 상기 베이스부의 상기 상면으로부터 상방으로 돌출되어 상기 기판의 하면을 지지하는 지지부와,
    상기 지지부의 주위에 전체 둘레에 걸쳐 배치되고, 상단부가 상기 지지부보다 상측에 위치하는 가요성의 시일부를 구비하고,
    상기 기판을 흡착할 때, 상기 시일부의 상기 상단부가 상기 기판의 상기 하면에 접촉한 상태에서, 상기 베이스부와 상기 기판 사이에 존재하는 가스가 상기 흡인 포트를 통하여 흡인됨으로써, 상기 시일부를 하방향으로 휘게 하면서 상기 기판이 상기 베이스부에 가까워져 상기 지지부에 접촉하는, 기판 유지 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 시일부가, 상기 지지부로부터 멀어짐에 따라 상방으로 연장되는 환상 판 부재인, 기판 유지 장치.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 지지부가, 상기 베이스부의 상기 중앙부의 외주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 내측 지지부를 구비하고,
    상기 내측 지지부가, 각각이 상기 중심축을 중심으로 하는 원호상인 복수의 선상부를 구비하는, 기판 유지 장치.
  12. 제 9 항에 있어서,
    상기 지지부가, 상기 베이스부의 상기 중앙부의 외주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 내측 지지부를 구비하고,
    상기 내측 지지부가, 상기 기판의 상기 하면에 점접촉하는 복수의 돌기부를 구비하는, 기판 유지 장치.
  13. 제 9 항에 있어서,
    상기 지지부가,
    상기 베이스부의 상기 중앙부의 외주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 내측 지지부와,
    상기 시일부의 내주에 인접하여 둘레상으로 배치되는 외측 지지부를 구비하는, 기판 유지 장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 외측 지지부의 상단이, 상기 내측 지지부의 상단보다 상측에 위치하는, 기판 유지 장치.
  15. 제 9 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시일부 중 상기 기판과의 접촉부의 표면이, 불소 수지제 또는 실리콘 수지제인, 기판 유지 장치.
  16. 제 9 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지부 및 상기 베이스부가 도전성 재료제인, 기판 유지 장치.
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