KR20180091265A - 자가 복원성 지문 방지 조성물, 필름, 적층체 및 디바이스 - Google Patents

자가 복원성 지문 방지 조성물, 필름, 적층체 및 디바이스 Download PDF

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Abstract

폴리로타세인, 폴리헤드랄 실세스퀴옥산 및 불소화 아크릴 화합물을 포함하는 자가 복원성 지문 방지 조성물, 자가 복원성 지문 방지 필름, 적층체 및 디바이스에 관한 것이다.

Description

자가 복원성 지문 방지 조성물, 필름, 적층체 및 디바이스 {ANTI-FINGERPRINGING COMPOSITION WITH SELF-HEALING PROPERTY, FILM, LAMINATE AND DEVICE}
자가 복원성 지문 방지 조성물, 필름, 적층체 및 디바이스에 관한 것이다.
스마트 폰 또는 태블릿 PC와 같은 휴대용 전자기기의 사용 증대와 함께 얇고 가벼운 디스플레이 소재에 관한 수요가 증가하고 있다. 기존에는 디스플레이 등의 디바이스의 표면을 보호하기 위해 강화유리나 하드 코팅막이 사용되었으나, 이들은 외부 충격에 의해 깨지거나 찍히는 현상이 많이 나타나고, 외부 응력에 의한 스크래치 발생시 원래의 상태로 회복되기 어려우며, 가요성(flexibility)이 낮아 플렉서블 디바이스에 적용하기 어려운 문제가 있다. 이에, 스크래치 발생시 자가 복원 (self-healing)이 가능하고 가요성이 높은 보호 필름이 개발되고 있다.
그러나 상용되고 있는 대부분의 자가 복원성 보호 필름은 점착성이 높고 (sticky) 표면의 마찰계수가 높아 슬립성이 좋지 못하고 자가 복원 특성을 충분히 발휘하지 못하는 문제가 있다. 이에, 자가 복원성 보호 필름을 대신하여, 또는 자가 복원성 보호 필름의 표면에 추가적으로, 슬립성이 좋은 지문 방지 필름을 사용할 수 있다. 기존의 지문 방지 필름은 대부분 3차원의 가교 구조의 취성이 높은 코팅막으로, 가요성이 떨어지고 외부의 작은 응력에 의해 고분자 사슬이 절단되어 스크래치가 발생하고, 한번 스크래치가 나면 자가 복원되는 특성이 거의 나타나지 않아, 플렉서블하고 가벼우며 자가복원 특성이 요구되는 디바이스에 적용하기에 한계가 있다.
마찰계수가 낮아 슬립성이 좋고 발수성이 뛰어나며 경도 및 투명도가 높고, 스크래치 발생시 자가 복원이 가능하고, 가요성이 우수하여 플렉서블 디바이스 등에 적용 가능한 지문 방지 조성물 및 필름을 제공하고, 이를 포함하는 적층체 및 디바이스를 제공한다.
일 구현예에서는 폴리로타세인 (polyrotaxane), 폴리헤드랄 실세스퀴옥산 및 불소화 아크릴 화합물을 포함하는 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제공한다.
상기 폴리로타세인은 고리형 분자와 상기 고리형 분자의 고리를 통과하는 선형 분자 및 상기 선형 분자의 양 말단의 봉쇄기를 포함하는 화합물일 수 있다.
상기 고리형 분자는 (메타)아크릴기, 비닐기, 하이드록시기, 시아네이트기, 티올기, 및 이들의 조합에서 선택되는 경화성 관능기를 가지는 사이클로덱스트린계 화합물일 수 있다.
상기 선형 분자는 폴리에틸렌글리콜, 폴리이소프렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부타디엔, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라하이드로푸란, 폴리다이메틸실록산, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
상기 봉쇄기는 다이나이트로페닐류, 사이클로덱스트린류, 아다만탄류, 트리틸류, 플루오레세인류, 피렌류, 벤젠류, 다핵 방향족류, 스테로이드류 및 이들의 조합에서 선택되는 것일 수 있다.
상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 알킬기, 아릴기, (메타)아크릴기, 비닐기, 아미노기, 알콜기, 카복실기, 할로젠기, 또는 이들의 조합이 치환된 것일 수 있다.
상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 페닐기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산, (메타)아크릴기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산, 할로젠기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
상기 불소화 아크릴 화합물은 고리형 실록산 단위를 포함하고 2개 이상의 (메타)아크릴기를 가지는 퍼플루오로에테르계 화합물일 수 있다.
상기 자가 복원성 지문 방지 조성물은 경화제 및 용매를 더 포함할 수 있다.
상기 폴리로타세인은 상기 조성물의 전체 고형분 함량에 대하여 15 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있다.
상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 상기 조성물의 전체 고형분 함량에 대하여 25 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있다.
상기 불소화 아크릴 화합물은 상기 조성물의 전체 고형분 함량에 대하여 0.1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.
일 구현예에서는 상기 자가 복원성 지문 방지 조성물의 경화물을 포함하는 자가 복원성 지문 방지 필름을 제공한다.
상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 두께는 0.01 ㎛ 내지 50 ㎛일 수 있다.
상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 마찰계수는 0.01 내지 0.5일 수 있고, 연필 경도는 2H 이상일 수 있으며, 물 접촉각은 100도 내지 120도일 수 있다.
상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 광 투과도는 80 % 이상일 수 있고, 황색도는 3 이하일 수 있으며, 헤이즈는 3 이하일 수 있다.
일 구현예에서는 기재 필름 및 상기 기재 필름의 적어도 일면에 위치하는 상기 자가 복원성 지문 방지 필름을 포함하는 적층체를 제공한다.
상기 기재 필름은 폴리우레탄 화합물, 폴리실록산 화합물, 또는 이들의 조합을 포함하는 자가 복원성 필름일 수 있다.
상기 기재 필름의 두께는 10 ㎛ 내지 300 ㎛일 수 있다.
일 구현예에서는 상기 적층체를 포함하는 디바이스를 제공한다.
일 구현예에 따른 자가 복원성 지문 방지 조성물과 필름 및 적층체는 마찰계수가 낮아 슬립성이 좋고 발수성이 뛰어나며 경도 및 투명도가 높고, 스크래치 발생시 자가 복원이 가능하고, 가요성이 우수하여 플렉서블 디바이스 등에 적용 가능하다.
도 1은 일 구현예에 따른 적층체의 단면을 보여주는 개략도이다.
도 2는 일 구현예에 따른 적층체의 폴딩 형태를 보여주는 개략도이다.
도 3은 일 구현예에 따른 폴더블 디스플레이가 접힌 형상을 개략적으로 도시한 사시도이다.
이하, 구현예에 대하여 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 실제 적용되는 구조는 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 구현예에 한정되지 않는다.
명세서에 다른 정의가 없는 한 "이들의 조합"이란 구성물의 혼합물, 적층물, 복합체, 공중합체, 합금, 블렌드, 반응 생성물 등을 의미한다.
"(메타)아크릴레이트"는 메타크릴레이트 및/또는 아크릴레이트를 의미한다.
"알킬"은 포화 알킬과 불포화 알킬, 사슬형 알킬과 고리형 알킬을 모두 의미하고, 예를 들어 C1 내지 C20 알킬, C1 내지 C10 알킬, 또는 C1 내지 C6 알킬일 수 있고, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 등일 수 있다.
"방향족"는 고리를 이루는 원소가 모두 p-오비탈을 가지고 있으며, 이들 p-오비탈이 공액(conjugation)을 형성하고 있는 화합물을 의미하고, 구체적으로 아릴(aryl)기과 헤테로 고리가 있다.
"아릴"은 방향족의 단일고리 또는 융합고리를 포함한다.
"헤테로 고리"는 일 예로 헤테로아릴(heteroaryl)일 수 있고 아릴기 내에 N, O, S 및 P로 이루어진 군에서 선택되는 헤테로 원자를 1 이상 포함하는 것을 의미한다.
일 구현예에서는 폴리로타세인, 폴리헤드랄 실세스퀴옥산 및 불소화 아크릴 화합물을 포함하는 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제공한다. 상기 자가 복원성 지문 방지 조성물은 일종의 코팅제일 수 있고, 기재 필름 위에 또는 디바이스 표면에 코팅층의 형태 또는 필름 형태로 적용될 수 있다.
상기 자가 복원성 지문 방지 조성물은 일 예로 자외선에 의해 경화되는 자외선 경화형 조성물 (UV-curable composition)일 수 있고, 이 경우 열 경화형 조성물에 비하여 자가 복원 특성과 지문 방지 특성이 우수하고 공정 속도가 개선될 수 있으며, 경화물의 황변 발생이 억제될 수 있다.
상기 폴리로타세인은 고리형 분자에 덤벨 모양의 분자가 물리적으로 끼워져 있는 구조의 고분자 화합물 (A mechanically interlocked polymer architecture consisting of a dumbbell shaped molecule which is threaded through a macrocycle)을 의미할 수 있다. 구체적으로, 상기 폴리로타세인은 고리형 분자와 상기 고리형 분자의 고리를 통과하는 선형 분자 및 상기 선형 분자의 양 말단의 봉쇄기를 포함할 수 있다. 상기 폴리로타세인은 외부 압력에 대해 유연하게 움직일 수 있어 유연성이 좋고 고연신에 유리하며, 이를 포함하는 조성물은 우수한 자가 복원 특성과 가요성 및 적절한 경도를 나타낼 수 있다.
상기 폴리로타세인에서 상기 고리형 분자는 수산기를 함유하는 고리형 분자일 수 있고, 예를 들어 사이클로덱스트린계 화합물일 수 있으며 구체적으로 α-사이클로덱스트린, β-사이클로덱스트린, 또는 γ-사이클로덱스트린을 포함하는 화합물일 수 있다.
일 구현예에 따른 폴리로타세인은 상기 고리형 분자의 말단에 경화성 관능기를 가지는 것일 수 있다. 예를 들어 상기 고리형 분자는 사이클로덱스트린의 수산기 중 일부 또는 전부가 경화성 관능기를 포함하는 작용기로 치환된 구조의 사이클로덱스트린계 화합물일 수 있다. 이러한 고리형 분자를 포함하는 폴리로타세인은 적절한 경도와 가요성을 가질 수 있고 경화형 필름에 적용하기에 적합하다.
상기 경화성 관능기는 일 예로 빛에 의해 반응하여 경화되는 관능기일 수 있고, 예를 들어 (메타)아크릴기, 비닐기, 하이드록시기, 시아네이트기, 티올기, 또는 이들의 조합일 수 있다. 여기서 상기 (메타)아크릴기는 C1 내지 C20 (메타)아크릴기 또는 C1 내지 C10 (메타)아크릴기일 수 있고, 상기 에스터기는 C1 내지 C10 에스터기일 수 있으며, 상기 카복실기는 C1 내지 C10 카복실기일 수 있고, 상기 알콕시기는 C1 내지 C10 알콕시기일 수 있으며, 상기 헤테로 고리기는 C3 내지 C20 헤테로 고리기일 수 있다. 상기 고리형 분자는 경화성 관능기를 1개 이상 포함할 수 있고 2개 이상, 또는 6개 이하, 또는 4개 이하로 포함할 수 있다.
일 예로 상기 고리형 분자는 양 말단에 (메타)아크릴기를 가지는 사이클로덱스트린계 화합물일 수 있고, 이 경우 상기 폴리로타세인은 자외선 경화형 필름에 적용되기에 적합하고 경도와 광학 특성이 우수하며, 자가 복원 특성이 뛰어나다.
상기 경화성 관능기는 사이클로덱스트린에 직접 치환되어 있을 수도 있고, 또는 폴리알킬렌, 폴리알킬렌글리콜 또는 폴리카프로락톤 등을 연결기로 하여 치환되어 있을 수도 있다. 즉, 상기 고리형 분자는 말단에 경화성 관능기를 가지는 폴리알킬렌, 또는 말단에 경화성 관능기를 가지는 폴리알킬렌글리콜, 또는 말단에 경화성 관능기를 가지는 폴리카프로락톤이 치환된 사이클로덱스트린계 화합물일 수 있다. 일 예로 상기 고리형 분자는 말단에 (메타)아크릴기를 가지는 폴리카프로락톤이 치환되어 있는 사이클로덱스트린일 수 있다. 이러한 고리형 분자를 포함하는 폴리로타세인은 경화형 필름에 적용되기에 적합하고 경도 및 광학 특성이 우수하고 자가 복원 특성이 뛰어나다.
상기 폴리로타세인에서 상기 선형 분자는 예를 들어 폴리에틸렌글리콜, 폴리이소프렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부타디엔, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라하이드로푸란, 폴리다이메틸실록산, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있고, 이 경우 상기 폴리로타세인은 자외선에 대해 안정적이고 광학 특성이 우수하다. 상기 선형 분자의 분자량은 약 10,000 g/mol 이상, 또는 30,000 g/mol 이상일 수 있고 약 500,000 g/mol 이하일 수 있다.
상기 봉쇄기는 상기 고리형 분자가 이탈하지 않도록 상기 선형 분자의 양 말단에 배치된 것으로, 예를 들어 다이나이트로페닐류, 사이클로덱스트린류, 아다만탄류, 트리틸류, 플루오레세인류, 피렌류, 벤젠류, 다핵 방향족류, 스테로이드류 및 이들의 조합에서 선택되는 것일 수 있고, 이들은 알킬기, 하이드록시기, 할로젠기, 시아노기, 설포닐기, 카복실기, 아미노기, 페닐기, 또는 이들의 조합이 치환된 것이거나 비치환된 것일 수 있다.
일 구현예에 따른 폴리로타세인의 분자량은 100,000 g/mol 이상 5,000,000 g/mol 이하일 수 있고, 예를 들어 500,000 g/mol 이상 3,000,000 g/mol 이하, 또는 8000,000 g/mol 이상 2,000,000 g/mol 이하일 수 있다. 상기 폴리로타세인이 상기 범위의 분자량을 만족할 경우 이를 포함하는 조성물은 양호한 물성을 나타낼 수 있다. 상기 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 분석된 값일 수 있다.
상기 폴리로타세인의 신장률은 100 % 내지 1500 %일 수 있고, 예를 들어 300 % 이상 또는 600 % 이상일 수 있다. 상기 폴리로타세인이 상기 범위의 신장률을 가질 경우, 이를 포함하는 조성물 및 필름은 외부 응력 등에 의해 쉽게 부서지거나 상처나지 않으며 우수한 자가 복원 특성을 나타낼 수 있다.
상기 폴리로타세인은 상기 폴리로타세인, 폴리헤드랄 실세스퀴옥산 및 불소화 아크릴 화합물의 총 중량에 대하여 15 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있고 예를 들어 25 중량% 내지 60 중량%, 또는 30 중량% 내지 50 중량%로 포함될 수 있으며, 이 경우 상기 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 필름은 슬립성, 경도, 발수성, 자가 복원성 및 투명성 등 모든 물성에서 우수한 효과를 나타낼 수 있다.
일 구현예에 따른 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 유기실리콘 화합물로, 폴리헤드랄 올리고머릭 실세스퀴옥산 (polyhedral oligomeric silsesquioxane; 이하 POSS)이라고도 한다. POSS의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 알킬기, 아릴기, (메타)아크릴기, 비닐기, 아미노기, 알콜기, 카복실기, 할로젠기, 또는 이들의 조합이 치환된 POSS일 수 있다.
알킬기가 치환된 알킬 POSS는 예를 들어 옥타메틸 POSS, 옥타에틸 POSS, 옥타이소부틸 POSS, 옥타이소옥틸 POSS, 트리플루오로프로필 POSS 등일 수 있다. 상기 아릴기가 치환된 아릴 POSS는 예를 들어, 옥타페닐 POSS, 도데카페닐 POSS, 트리실라놀페닐 POSS, 테트라실라놀페닐 POSS, 아미노프로필페닐 POSS, 페닐이소부틸 POSS 등일 수 있다. 상기 (메타)아크릴기가 치환된 (메타)아크릴로일 POSS는 예를 들어 (메타)아크릴로 POSS, (메타)아크릴프로필 POSS, (메타)아크릴이소부틸 POSS, (메타)아크릴이소옥틸 POSS 등일 수 있다. 상기 할로젠기는 불소, 염소, 브롬, 요오드 등일 수 있고, 할로젠기가 치환된 POSS는 할로젠기가 직접 치환된 POSS일 수도 있고 할로젠화 알킬기, 할로젠화 아릴기, 할로젠화 (메타)아크릴기가 치환된 POSS일 수도 있다. 일 예로 불소화알킬 POSS를 사용할 수 있고 예를 들어 불소화프로필 POSS을 사용할 수 있다.
일 구현예에서 상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 페닐기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산, (메타)아크릴기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산, 할로젠기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 예를 들어 상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산 총 중량에 대하여, 페닐기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 0 % 내지 60 % 또는 10 내지 60 %로 포함될 수 있고, (메타)아크릴기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 30 % 내지 99 % 또는 40 % 내지 85 %로 포함될 수 있으며, 할로젠기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 0 % 내지 10 % 또는 0.1 % 내지 5 %로 포함될 수 있다. 이 경우 이를 포함하는 조성물 및 필름은 뛰어난 경도를 나타내면서 양호한 광학 특성과 자가 복원 특성을 나타낼 수 있다.
상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 상기 폴리로타세인, 폴리헤드랄 실세스퀴옥산 및 불소화 아크릴 화합물의 총 중량에 대하여 25 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있고, 예를 들어 35 중량% 내지 70 중량%, 또는 40 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있으며, 이 경우 상기 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 필름은 뛰어난 슬립성과 경도를 나타내면서, 발수성, 자가 복원성 및 투명성 등 모든 물성에서 우수한 효과를 나타낼 수 있다.
상기 불소화 아크릴 화합물은 (메타)아크릴기를 1개 이상 가지는 화합물일 수 있고, 예를 들어 (메타)아크릴기를 2개 이상, 또는 3개 이상 포함하는 화합물일 수 있고 이 경우 가교 결합이 가능하고 경화형 조성물에 적용되기에 적합하다. 또한 상기 불소화 아크릴 화합물은 일 예로 (메타)아크릴기를 1개 이상 가지는 퍼플루오로에테르계 화합물일 수 있고, 예를 들어 퍼플루오로에테르 부위의 양 말단에 (메타)아크릴기가 직접 또는 다른 작용기를 통하여 결합되어 있는 화합물일 수 있으며, 이 경우 이를 포함하는 조성물 및 필름은 우수한 슬립성과 발수성 등을 나타낼 수 있다. 이 때 퍼플루오로에테르 부분의 분자량은 약 500 g/mol 내지 30,000 g/mol일 수 있다.
또한 상기 불소화 아크릴 화합물을 실록산 단위를 포함하는 것일 수 있다. 이 경우 상기 불소화 아크릴 화합물은 상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산과 잘 혼합될 수 있고 이를 포함하는 조성물의 경도와 투명도 등의 물성을 향상시킬 수 있다. 상기 실록산 단위는 테트라메틸 사이클로테트라실록산, 또는 펜타메틸 사이클로펜타실록산 등에서 유래된 고리형 실록산 단위일 수 있다.
일 예로 상기 불소화 아크릴 화합물은 (메타)아크릴기 및 실록산 단위를 포함하는 퍼플루오로에테르계 화합물일 수 있고, 예를 들어 퍼플루오로에테르의 양 말단에 고리형 실록산 단위가 위치하고 양쪽의 실록산 단위에 (메타)아크릴기가 결합된 구조의 화합물일 수 있다. 이 경우 이를 포함하는 조성물 및 필름은 우수한 슬립성 및 발수성을 나타내면서 경도, 자가 복원 특성 및 광학 특성 등 모든 물성에서 우수한 효과를 나타낼 수 있다.
상기 불소와 아크릴 화합물은 상기 폴리로타세인, 폴리헤드랄 실세스퀴옥산 및 불소화 아크릴 화합물의 총 중량에 대하여 0.1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있고, 예를 들어 0.1 중량% 내지 8 중량%, 또는 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있으며, 이 경우 상기 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 필름은 슬립성과 경도가 개선될 수 있고, 발수성, 자가 복원성 및 투명성 등 모든 물성에서 우수한 효과를 나타낼 수 있다.
상기 자가 복원성 지문 방지 조성물은 경화제 및 용매를 더 포함할 수 있다.
경화제는 예컨대 광 개시제일 수 있으며, 자유 라디칼 광 개시제 및/또는 이온성 광 개시제일 수 있고 예를 들어, 벤조 페논, 케톤계 개시제, 벤조산, 안트라퀴논, 아실포스핀 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 경화제의 구체적인 예로는 디에톡시아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질다이메틸케탈, 1-하이드록시사이클로헥실-페닐케톤, 2-메틸-2-모르핀(4-티오메틸페닐)프로판-1-온 등의 아세토페논류; 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인에테르류; 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸다이페닐아황산, 4-벤조일-N,N-다이메틸-N-[2-(1-옥소-2-프로페닐옥시)에틸] 벤젠메타나미늄블로미드, (4-벤조일벤질)트리메틸암모늄클로라이드 등의 벤조페논류; 2,4-다이에틸티옥산톤, 1-클로로-4-다이클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류; 2,4,6-트리메틸벤조일다이페닐벤조일옥사이드 등을 들 수 있고, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 경화제는 상기 자가 복원성 지문 방지 조성물의 전체 고형분 함량에 대하여 약 0.01 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있고, 예를 들어 약 0.1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 경화제가 상기 범위로 포함될 경우 양호한 물성의 경화물을 얻을 수 있다.
용매는 상술한 성분들을 용해 또는 분산시킬 수 있으면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 헥산, 헵탄, 메틸렌클로라이드 등의 지방족 탄화수소 용매; 벤젠, 톨루엔, 피리딘, 퀴놀린, 아니솔, 메시틸렌(mesitylene), 자일렌 등의 방향족계 탄화수소 용매; 메틸 이소부틸 케톤, 1-메틸-2-피롤리디논(NMP), 시클로헥산온, 아세톤 등의 케톤계 용매; 테트라하이드로퓨란(THF), 이소프로필 에테르 등의 에테르계 용매; 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트 등의 아세테이트계 용매; 이소프로필 알코올, 부틸 알코올 등의 알코올계 용매; 다이메틸아세티아미드, 다이메틸포름아마이드(DMF) 등의 아미드계 용매; 아세트나이트릴, 벤조나이트릴 등의 나이트릴계 용매; 및 상기 용매들의 혼합물에서 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 폴리로타세인, 폴리헤드랄 실세스퀴옥산, 불소화 아크릴 화합물, 경화제 및 용매를 포함하는 자가 복원성 지문 방지 조성물에서, 전체 고형분 함량을 기준으로 하여, 상기 폴리로타세인은 15 중량% 내지 60 중량%, 또는 25 중량% 내지 60 중량%, 또는 30 중량% 내지 50 중량%로 포함될 수 있고, 상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 25 중량% 내지 80 중량%, 또는 35 중량% 내지 70 중량%, 또는 40 중량% 내지 70 중량%, 또는 50 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있으며, 상기 불소화 아크릴 화합물은 0.1 중량% 내지 10 중량%, 0.1 중량% 내지 8 중량%, 또는 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 각 성분들이 상기 함량 범위로 포함될 경우, 상기 조성물은 슬립성, 경도, 발수성, 자가 복원성 및 투명성 등 모든 물성에서 뛰어난 효과를 나타낼 수 있다.
일 구현예에서는 상기 자가 복원성 지문 방지 조성물의 경화물을 포함하는 자가 복원성 지문 방지 필름을 제공한다. 전술한 자가 복원성 지문 방지 조성물은 기재 필름 또는 디바이스의 표면에 도포되고 경화됨으로써 자가 복원성 지문 방지 필름으로 형성될 수 있다. 상기 자가 복원성 지문 방지 필름은 일종의 코팅막 또는 코팅층일 수 있고, 예를 들어 표시 장치의 윈도우를 보호하는 코팅막일 수 있다.
일 구현예에서는 기재 필름 및 기재 필름의 일면 또는 양면에 위치하는 상기 자가 복원성 지문 방지 필름을 포함하는 적층체를 제공한다. 상기 적층체는 디바이스의 표면을 보호하는 적층 필름일 수 있고 예를 들어 디스플레이의 표시 모듈을 보호하는 적층 필름일 수 있다. 상기 적층체는 디바이스 표면에 기재 필름 및 자가 복원성 지문 방지 필름의 순서대로 적층되어, 상기 자가 복원성 지문 방지 필름이 가장 바깥쪽 표면에 위치하는 구조일 수 있다.
상기 적층체는 무색 투명하여 광학 특성이 우수하고, 스크래치 발생시 스스로 회복되는 자가 복원 특성을 가지며, 경도가 높고, 가요성이 우수하여 폴더블, 벤더블 또는 롤러블 디스플레이 등의 코팅막으로 적용되기에 적합하고, 상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면은 슬립성과 발수성이 뛰어나 지문이 묻어나는 현상을 억제할 수 있다.
도 1은 일 구현예에 따른 적층체의 단면을 나타내는 개략도이고, 도 2는 상기 적층체의 폴딩 형태를 보여주는 개략도이다. 도 1 및 도 2에서 도면부호 11은 상기 자가 복원성 지문 방지 필름이고, 도면부호 12는 기재 필름이고, 도 2에서 r은 곡률 반경을 나타낸다.
상기 적층체에서 상기 기재 필름은 투명한 고분자로 이루어질 수 있으며, 예를 들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등의 폴리에스터, 폴리카보네이트, 폴리올레핀, 폴리이미드, 또는 폴리아미드 등으로 만들어질 수 있다. 혹은, 상기 기재 필름은 가요성이 높고 스크래치 발생시 스스로 치유되는 자가 복원성 기재 필름일 수 있다. 상기 기재 필름은 상용되는 자가 복원성 기재 필름이라면 제한 없이 적용될 수 있고, 일 예로 폴리우레탄 화합물, 폴리실록산 화합물, 또는 이들의 조합을 포함하는 자가 복원성 기재 필름일 수 있다.
전술한 자가 복원성 지문 방지 필름은 플렉서블하고 자가 복원 특성을 가지고 있어, 상용되는 자가 복원성 기재 필름 위에 코팅되어 지문 방지 역할 및 자가 복원 역할 등을 하기에 적합하다.
상용되는 자가 복원성 기재 필름은 점착성이 높고 표면의 마찰계수가 높아 슬립성 및 발수성이 좋지 못한 경우가 많다. 반면 일 구현예에 따른 적층체는 자가 복원성 기재 필름 위에 전술한 자가 복원성 지문 방지 필름이 코팅된 구조로, 슬립성 및 발수성이 좋고 지문 방지 기능을 할 수 있으며, 기재 필름의 자가 복원 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.
상기 폴리우레탄 화합물 및 폴리실록산 화합물은 자가 복원 특성을 나타내는 것이라면 종류에 제한 없이 적용 가능하다. 일 예로 폴리우레탄 화합물은 다이이소시아네이트 화합물과 알코올 화합물로부터 얻은 폴리우레탄 화합물일 수 있으며, 구체적인 예로, 말단에 (메타)아크릴기를 1개 이상 가지는 우레탄(메타)아크릴레이트 화합물일 수 있다. 상기 우레탄(메타)아크릴레이트는 공지된 다양한 방법으로 합성될 수 있으며, 예컨대 2개의 하이드록시기를 가지는 다이올 화합물과 2개의 이소시아네이트기를 가지는 다이이소시아네이트계 화합물로부터 폴리우레탄을 얻고 여기에 하이드록시기를 가지는 (메타)아크릴레이트를 반응시켜 얻을 수 있다.
일 예로, 상기 우레탄(메타)아크릴레이트는 양 말단에 총 2개의 (메타)아크릴기를 가지고, 상기 (메타)아크릴기 사이에 6개 이상의 우레탄기를 가지는 화합물일 수 있다. 이러한 구조의 우레탄(메타)아크릴레이트는 자가 복원 특성이 매우 뛰어나고 가요성이 높아 플렉서블 디바이스에 적용되기에 적합하다. 상기 우레탄(메타)아크릴레이트는 일 예로 우레탄기를 6개 이상, 8개 이상, 또는 12개 이하로 포함하는 화합물일 수 있다.
상기 기재 필름의 두께는 약 10 ㎛ 내지 300 ㎛일 수 있고, 예를 들어 40 ㎛ 내지 200 ㎛, 또는 50 ㎛ 내지 100 ㎛일 수 있다. 또한 상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 두께는 약 0.01 ㎛ 내지 50 ㎛일 수 있고, 예를 들어 0.01 ㎛ 내지 30 ㎛, 또는 0.1 ㎛ 내지 20 ㎛, 또는 0.1 ㎛ 내지 10 ㎛일 수 있다. 상기 자가 복원성 지문 방지 필름은 상기 기재 필름에 비하여 더 얇을 수 있다. 각 필름의 두께가 상기 범위를 만족할 경우 이를 포함하는 적층체는 자가 복원 특성, 슬립성, 발수성, 경도, 광학 특성 등 모든 물성에서 우수한 효과를 나타내면서 높은 가요성을 구현할 수 있다.
상기 적층체에서 상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면은 우수한 슬립성을 나타낼 수 있고, 구체적으로, 매우 낮은 마찰계수를 가질 수 있다. 상기 마찰계수는 마찰 측정 기기(예를 들어 Labthink, FPT-F1)를 이용하여 측정한 것일 수 있다. 예를 들어 상기 자가 복원성 지문 방지 필름 표면의 마찰계수는 0.5 이하 또는 0.3 이하일 수 있고, 예를 들어 0.01 내지 0.5, 0.01 내지 0.4, 0.01 내지 0.3, 또는 0.1 내지 0.2일 수 있다. 상기 마찰계수에는 정지 마찰계수 (static friction coefficient)와 운동 마찰계수 (kinetic friction coefficient)가 있는데 두 종류 모두 상기 범위를 만족할 수 있다.
상기 자가 복원성 지문 방지 필름 및 이를 포함하는 적층체는 높은 경도를 나타낼 수 있고, 예를 들어 2H 이상, 4H 이상, 또는 6H 이상의 연필 경도를 나타낼 수 있다. 상기 연필 경도는 연필경도 측정기 (야스다 세이키사제 전동연필 긁기 경도시험기 No. 553-M1)와 미쓰비시사의 연필을 이용하여 ASTM D3363 규격으로 측정할 수 있다. 예를 들어 두께 2mm의 유리판 위에 상기 적층체를 고정한 후 수직하중 1kg 하에 속도 60mm/min로 연필을 10mm 5회 왕복시켰을 때 흠집이 없는 최고 연필 경도 값으로 평가할 수 있다.
상기 자가 복원성 지문 방지 필름 및 이를 포함하는 적층체는 뛰어난 자가 복원 특성을 나타낼 수 있다. 예를 들어 상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면에 4H의 연필 경도로 스크래치를 발생시켰을 때 자가 복원되는 시간은 24시간 이하, 또는 12시간 이하 또는 6시간 이하일 수 있다.
또한 일종의 마커 테스트로서 상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면을 유성펜으로 그으면, 상처가 나지 않고 부드럽게 그려지는 특성을 나타낼 수 있고, 이에 따라 스마트폰 등의 전자기기를 포함한 각종 디바이스의 표면의 보호 필름으로 사용되기 적합하다.
또한 상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면은 우수한 발수성을 나타낼 수 있고, 구체적으로 높은 물 접촉각을 가질 수 있다. 예를 들어 상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면의 물 접촉각은 100도 이상일 수 있고, 105도 이상, 110도 이상, 또는 120도 이하일 수 있다. 상기 물 접촉각은 세실 드롭 기술 (Sessile drop technique) 방법으로 평가할 수 있고, 예를 들어 접촉각 측정기 (Drop shape analyzer; KRUSS사의 DSA100, 독일)를 사용하여 필름에 물을 떨어뜨린 후 측정할 수 있다.
상기 자가 복원성 지문 방지 필름 단독 또는 이를 포함하는 적층체는 우수한 광학 특성을 나타낼 수 있다. 예를 들어 상기 자가 복원성 지문 방지 필름 및 이를 포함하는 적층체의 광 투과도는 80% 이상, 예를 들어 90% 이상일 수 있고, 황색도는 3 이하 또는 1 이하일 수 있으며, 헤이즈는 3 이하 또는 1 이하일 수 있다. 상기 광 투과도, 황색도 및 헤이즈는 자외선 분광계 (Spectrophotometer, KONICA MINOLTA사, cm-3600d)을 사용하여 측정하고 ASTM E313 규격으로 측정할 수 있다.
일 구현예에서는 상기 자가 복원성 지문 방지 필름, 또는 상기 적층체를 포함하는 디바이스를 제공한다. 상기 디바이스는 자가 복구 특성과 슬립성이 요구되는 외장재 등일 수 있다. 예를 들어 상기 디바이스는 스마트 폰, 태블릿 PC, 카메라, 터치스크린 패널 등의 전자 기기일 수 있고, 또는 가전제품, 자동차의 내외장품, 전자부품, 각종 플라스틱 성형품 등일 수 있다. 또한 상기 디바이스는 폴더블, 벤더블 또는 롤러블 디바이스와 같은 플렉서블 디바이스일 수 있고, 일 예로 폴더블 디스플레이 또는 폴더블 스마트폰일 수 있다.
상기 적층체는 예를 들어, 윈도우가 부착된 표시 패널 위에 적용되어 있을 수 있다. 표시 패널의 윈도우 표면에, 기재 필름을 형성한 후 용액 형태의 자가 복원성 지문 방지 조성물을 도포하여 경화함으로써 필름 형태로 제조할 수도 있고, 또는 표시 패널의 윈도우 표면에 필름 형태의 상기 적층체를 부착할 수도 있다. 이때, 상기 디바이스와 적층체 사이에 접착층 또는 투명 기재층이 존재할 수도 있고, 상기 적층체의 외부 표면에 다른 보호층이나 코팅층이 존재할 수도 있다.
상기 적층체는 상기 디바이스의 물리적, 화학적 손상을 효과적으로 보호할 수 있고, 스크래치 발생시 자가 복원됨으로써 디바이스를 장기간 동안 효과적으로 보호할 수 있으며, 무색 투명하여 상기 디바이스의 외관에 영향을 미치지 않는다. 또한 상기 적층체는 슬립성과 발수성이 좋아 표면에 지문이 묻는 형상을 억제하고 방오 특성을 나타낼 수 있으며, 매우 유연하여 디바이스가 수만 번 접히고 펼쳐지더라도 상기 디바이스를 견고하게 보호할 수 있다.
도 3은 일 실시예에 따른 폴더블 디스플레이가 접힌 형상을 나타낸 개략도이다. 도 3의 폴더블 디스플레이는 표시 모듈이 외측을 향하도록 접히는 아웃 폴더블 디스플레이일 수 있다. 여기서 일 실시예에 따른 자가 복원성 지문 방지 필름, 또는 상기 적층체는 폴더블 디스플레이의 외측 표시 모듈의 표면에 위치할 수 있다.
이하 실시예를 통하여 상술한 구현예를 보다 상세하게 설명한다. 다만 하기의 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것이며 범위를 제한하는 것은 아니다.
실시예 및 비교예 : 자가 복원성 지문 방지 조성물의 제조
실시예 1
말단에 메타크릴레이트기를 가지는 폴리카프로락톤 작용기가 치환되어 있는 사이클로덱스트린 고리형 분자 및 상기 고리형 분자의 고리를 통과하는 폴리에틸렌글리콜계 선형 분자와 선형 분자의 양 말단의 아다만탄 봉쇄기로 이루어지고 분자량이 약 1,000,000 g/mol인 폴리로타세인 (Advanced Softmaterials사) 59 중량%와 아크릴 POSS (Hybrid Plastic사) 39 중량%, 불소화프로필 POSS (Hybrid Plastic사) 1 중량% 및 불소화 아크릴 화합물 (신에츠사, KY-1203) 1 중량%를 혼합하여 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
실시예 2
폴리로타세인을 49 중량% 사용하고, 아크릴 POSS 39 중량%, 불소화프로필 POSS 1 중량% 및 트리실라놀페닐 POSS (Hybrid Plastic사) 11 중량%를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
실시예 3
폴리로타세인을 40 중량% 사용하고, 아크릴 POSS 38 중량%, 불소화프로필 POSS 1 중량% 및 트리실라놀페닐 POSS 20 중량%를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
실시예 4
폴리로타세인을 30 중량% 사용하고, 아크릴 POSS 38 중량%, 불소화프로필 POSS 1 중량% 및 트리실라놀페닐 POSS 30 중량%를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
실시예 5
폴리로타세인을 20 중량% 사용하고, 아크릴 POSS 38 중량%, 불소화프로필 POSS 1 중량% 및 트리실라놀페닐 POSS 40 중량%를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
실시예 6
폴리로타세인을 38 중량% 사용하고, 아크릴 POSS 38 중량%, 불소화프로필 POSS 1 중량% 및 트리실라놀페닐 POSS 20 중량%를 사용하고, 불소화 아크릴 화합물을 3 중량% 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
실시예 7
폴리로타세인을 36 중량% 사용하고, 아크릴 POSS 38 중량%, 불소화프로필 POSS 1 중량% 및 트리실라놀페닐 POSS 20 중량%를 사용하고, 불소화 아크릴 화합물을 5 중량% 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
실시예 8
폴리로타세인을 31 중량% 사용하고, 아크릴 POSS 38 중량%, 불소화프로필 POSS 1 중량% 및 트리실라놀페닐 POSS 20 중량%를 사용하고, 불소화 아크릴 화합물을 10 중량% 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
실시예 9
폴리로타세인을 40 중량% 사용하고, 아크릴 POSS 39 중량% 및 트리실라놀페닐 POSS 20 중량%를 사용하고, 불소화 아크릴 화합물을 1 중량% 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
실시예 10
폴리로타세인을 40 중량% 사용하고, 아크릴 POSS 49 중량% 및 트리실라놀페닐 POSS 10 중량%를 사용하고, 불소화 아크릴 화합물을 1 중량% 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
실시예 11
폴리로타세인 40 중량%, 아크릴 POSS 59 중량% 및 불소화 아크릴 화합물 1 중량% 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
비교예 1
폴리로타세인을 99 중량% 사용하고, 불소화 아크릴 화합물을 1 중량% 사용하고 POSS를 사용하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
비교예 2
폴리로타세인을 41 중량% 사용하고, 아크릴 POSS 38 중량%, 불소화프로필 POSS 1 중량% 및 트리실라놀페닐 POSS 20 중량%를 사용하고, 불소화 아크릴 화합물을 사용하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 자가 복원성 지문 방지 조성물을 제조한다.
상기 실시예 1 내지 11, 비교예 1 및 2에서 제조한 조성물의 각 성분의 함량을 아래 표 1에 정리하였다.
폴리로타세인
(중량%)		 불소화 아크릴
화합물 (중량%)		 POSS (중량%) POSS 총 함량 (중량%)
페닐POSS 아크릴POSS 불소화POSS
실시예 1 59 1 0 39 1 40
실시예 2 49 1 10 39 1 50
실시예 3 40 1 20 38 1 59
실시예 4 30 1 30 38 1 69
실시예 5 20 1 40 38 1 79
실시예 6 38 3 20 38 1 59
실시예 7 36 5 20 38 1 59
실시예 8 31 10 20 38 1 59
실시예 9 40 1 20 39 0 59
실시예 10 40 1 10 49 0 59
실시예 11 40 1 0 59 0 59
비교예 1 99 1 0 0 0 0
비교예 2 41 0 20 38 1 59
제조예 및 비교제조예 : 필름 적층체의 제조
제조예 1
이소포론 다이이소시아네이트, 폴리카프로락톤다이올 및 하이드록시프로필아크릴레이트를 3:2:2의 몰비로 반응시켜 제조한, 양 말단의 아크릴기 사이에 6개의 우레탄기를 포함하는 구조의 우레탄아크릴레이트, 및 트리실라놀페닐 POSS 1 중량%와 광개시제 (Irgacure 184) 0.5 중량%를 에틸아세테이트 용매 하에 혼합하여 자가 복원성 조성물을 제조한다. 상기 POSS와 광개시제의 함량은 전체 고형분에 대한 함량이다. 제조한 자가 복원성 조성물을 80℃에서 약 10분동안 건조한 후 3초간 자외선을 조사하여 광경화시킴으로써 약 70 ㎛ 두께의 자가 복원성 기재 필름을 제조한다.
상기 필름 위에, 이소포론 다이이소시아네이트, 폴리카프로락톤다이올 및 하이드록시프로필아크릴레이트를 4:3:2의 몰비로 반응시켜 제조한, 양 말단의 아크릴기 사이에 8개의 우레탄기를 포함하는 구조의 우레탄아크릴레이트, 및 트리실라놀페닐 POSS 1 중량%와 광개시제 (Irgacure 184) 0.5 중량%를 에틸아세테이트 용매 하에 혼합하여 제조한 자가 복원성 조성물을 도포하고, 80℃에서 약 10분동안 건조한 후 2분간 자외선을 조사하여 광경화시킴으로써 약 80 ㎛ 두께의 자가 복원성 적층 필름을 제조하여총 150um 두께의 자가 복원성 기재 필름을 준비한다.
수득한 자가 복원성 기재 필름의 표면에 상기 실시예 1에서 제조한 자가 복원성 지문 방지 조성물을 도포하고 120 ℃에서 약 1분간 건조한 후 질소 환경에서 약 2분간 자외선을 조사하여 광경화시킴으로써 약 1 ㎛ 두께의 자가 복원성 지문 방지 필름을 형성하여, 최종적으로 자가 복원성 기재 필름 위에 자가 복원성 지문 방지 필름이 형성된 적층체를 제조한다.
제조예 2 내지 11
실시예 1의 자가 복원성 지문 방지 조성물을 사용하는 대신에 실시예 2 내지 8의 조성물을 각각 사용한 것을 제외하고는 상기 제조예 1과 동일한 방법으로 적층체를 제조한다.
비교 제조예 1
자가 복원성 지문 방지 필름을 적용하지 않고, 제조예 1에서 준비한 자가 복원성 기재 필름만을 사용하였다.
비교 제조예 2 및 3
실시예 1의 자가 복원성 지문 방지 조성물을 사용하는 대신에 각각 비교예 1 및 비교예 2의 조성물을 사용한 것을 제외하고는 상기 제조예 1과 동일한 방법으로 적층체를 제조한다.
평가예 1: 마찰계수
상기 제조예 1 내지 11 및 비교제조예 1 내지 3의 적층체에서 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면의 마찰계수를 측정하였고, 그 결과를 아래 표 2에 나타내었다. 상기 마찰계수는 마찰 측정 기기(Labthink, FPT-F1)를 이용하여 측정한 값이다.
평가예 2: 연필경도
상기 제조예 1 내지11 및 비교제조예 1 내지 3의 적층체에서 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면에 대하여 연필경도를 측정하였고, 그 결과를 아래 표 2에 나타내었다. 상기 연필경도는 ASTM D3363 규격으로, 연필경도 측정기 (야스다 세이키사제 전동연필 긁기 경도시험기 No. 553-M1)를 이용하여 측정한 값이다.
평가예 3: 자가 치유 특성
상기 제조예 1 내지 11 및 비교제조예 1 내지 3의 적층체에서 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면에 다양한 연필경도를 가진 연필로 스크래치를 형성시켰을 때, 자가 복원되는 연필 경도 와 그 때의 복원시간 평가하였고, 그 결과를 아래 표 2에 나타내었다.
평가예 4: 마커 테스트
상기 제조예 1 내지 11 및 비교제조예 1 내지 3의 적층체에서 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면을 유성펜으로 그어서 잉크 흔적이 쉽게 지워지는지 여부를 평가하여 아래 표 2에 나타내었다. 유성펜 잉크를 표면 손상 없이 지울 수 없으면 X로 표시하고 유성펜 잉크를 지울 수 있으면 O로 표시하였다.
평가예 5: 물 접촉각
상기 제조예 1 내지 11 및 비교제조예 1 내지 3의 적층체에서 자가 복원성 지문 방지 필름의 표면에 대한 물 접촉각을 측정하였고, 그 결과를 아래 표 2에 나타내었다. 상기 물 접촉각은 접촉각 측정기 (Drop shape analyzer; KRUSS사의 DSA100, Germany)를 사용하여 필름에 물을 떨어트려 측정한 값이다.
평가예 6: 광학 특성
제조예 1 내지 11 및 비교제조예 1 내지 3의 필름 적층체에 대하여 적외선 분광계 (Spectrophotometer, KONICA MINOLTA사, cm-3600d)를 사용하여 ASTM E313 규격으로 광 투과도, 황색도 및 헤이즈를 측정하였다. 그 결과 광 투과도는 91 % 이상으로 나타났고, 황색도는 0.1 내지 0.6의 범위로 측정되었으며, 헤이즈는 0.1 내지 0.5로 나타나, 광학 특성이 모두 양호한 것으로 평가되었다.
POSS
함량
(중량%)		 불소계
아크릴
화합물
함량(중량%)		 마찰계수 연필경도 자가
치유
시간
(hour)		 마커
테스트		 물
접촉각
(°)
정지 운동
비교
제조예1		 - - 1.6 1.1 <3B X X 76
비교
제조예2		 0 1 0.64 0.35 <3B X O 112
비교
제조예3		 59 0 >2.1 >2.1 <3B X X 87
제조예1 40 1 0.17 0.17 2H 24h O 113
제조예2 50 1 0.21 0.21 5H 24h O 111
제조예3 59 1 0.20 0.17 6H 24h O 114
제조예4 69 1 0.18 0.18 5H 24h O 111
제조예5 79 1 - - - - - -
제조예6 59 3 0.18 0.18 9H 24h O 114
제조예7 59 5 0.19 0.19 6H 24h O 114
제조예8 59 10 0.22 0.2 4H 24h O 112
제조예9 59 1 0.23 0.23 7H 24h O 113
제조예10 59 1 0.22 0.22 6H 24h O 113
제조예11 59 1 0.25 0.25 5H 24h O 114
상기 표 2를 참조하면, 일 구현예에 따른 자가 복원성 지문 방지 필름을 적용하지 않고 기재 필름만 사용한 비교제조예 1의 경우, 마찰계수가 높아 슬립성이 좋지 못하고 연필경도가 3B보다 낮은 수준이며, 스크래치가 자가 복원되는 시간이 24 시간을 초과하고, 마커 테스트에서 유성펜 자국을 지울 때 완전히 지워지지 않았고, 물 접촉각이 낮아 발수 특성이 좋지 못하며, 지문 방지 역할을 하지 못함을 알 수 있다.
반면, 일 구현예에 따른 자가 복원성 지문 방지 필름을 적용한 제조예 1 내지 제조예 11의 경우, 마찰계수가 0.25 이하 또는 0.2 이하 수준으로 낮아 슬립성이 좋고, 지문이 잘 묻지 않으며, 연필경도가 2H 이상으로 6H 또는 9H까지 나오는 수준이며, 스크래치 발생시 24 시간 이내에 자가 복원되고, 마커 테스트에서 유성펜에 의해 상처가 발생하지 않고 부드럽게 그려지며, 물 접촉각이 111도 이상으로 발수 특성이 매우 좋아 지문이 잘 묻지 않음을 확인할 수 있다.
비교제조예 2 및 제조예 1 내지 5를 참조하여 POSS의 함량에 따른 경향을 살펴보면, POSS를 함유하지 않는 자가 복원성 지문 방지 필름을 적용한 비교제조예 2의 경우 연필경도가 3B 미만으로 매우 낮고 자가 복원 특성을 거의 발휘하지 못하는 것으로 확인된다. 이에 비해 제조예 1 내지 4에서는 연필경도가 2H 이상 개선되었고, 24 시간 내 스크래치가 자가 복원되었으며, 모든 물성이 우수하게 나타났다. POSS의 함량이 약 50 중량% 내지 70 중량%인 제조예 2 내지 4의 경우 연필경도가 5H 이상으로 매우 높게 나타났고 다른 물성이 모두 우수하였다. 반면 POSS의 함량이 약 80 중량%인 제조예 5의 경우 필름에 분열이 생기는 현상 (crack)이 보였다.
비교제조예 3과 제조예 3 및 제조예 6 내지 8을 참조하여 불소화 아크릴 화합물의 함량에 따른 경향을 살펴보면, 불소화 아크릴 화합물이 첨가되지 않은 자가 복원성 지문 방지 필름을 적용한 비교제조예 3의 경우 마찰계수가 2.1 초과로 슬립성이 나쁘고, 연필경도가 3B 미만에 불과하며, 자가 복원 특성이 거의 발휘되지 못하고 마커 테스트에서 유성펜에 의해 상처가 발생하는 현상이 나타났으며, 물 접촉각이 87도 수준으로 매우 낮아 발수성이 나빠 지문 방지 필름으로 부적합한 것으로 나타났다. 반면 제조예 3과 제조예 6 내지 8의 경우 마찰계수, 연필경도, 자가 복원성, 마커 테스트 및 물 접촉각 평가에서 모두 우수한 결과가 나왔다. 불소화 아크릴 화합물이 약 1 중량% 내지 5 중량%로 포함되는 제조예 3, 6 및 7의 경우 연필경도가 6H 이상으로 매우 높게 나타났고 다른 모든 물성이 우수하였다.
폴리헤드랄 실세스퀴옥산의 종류에 따른 경향성을 살펴보면, 페닐 POSS와 아크릴 POSS 및 불소화 POSS를 혼합하여 사용한 제조예 2 내지 4, 그리고 페닐 POSS와 아크릴 POSS를 혼합하여 사용한 제조예 9 및 10의 경우 경도가 매우 우수하면서 마찰계수, 물 접촉각 등 다른 모든 특성도 양호하게 나타났음을 알 수 있다.
이상을 통해 실시예에 대하여 설명하였지만, 실제 구현되는 구조는 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 권리범위에 속하는 것은 당연하다.
11: 자가 복원성 지문 방지 필름
12: 기재 필름

Claims (19)

  1. 폴리로타세인, 폴리헤드랄 실세스퀴옥산 및 불소화 아크릴 화합물을 포함하는 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  2. 제1항에서, 상기 폴리로타세인은 고리형 분자와 상기 고리형 분자의 고리를 통과하는 선형 분자 및 상기 선형 분자의 양 말단의 봉쇄기를 포함하고,
    상기 고리형 분자는 (메타)아크릴기, 비닐기, 하이드록시기, 시아네이트기, 티올기, 및 이들의 조합에서 선택되는 경화성 관능기를 가지는 사이클로덱스트린계 화합물인 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  3. 제2항에서, 상기 선형 분자는 폴리에틸렌글리콜, 폴리이소프렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부타디엔, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라하이드로푸란, 폴리다이메틸실록산, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 또는 이들의 조합을 포함하는 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  4. 제2항에서, 상기 봉쇄기는 다이나이트로페닐류, 사이클로덱스트린류, 아다만탄류, 트리틸류, 플루오레세인류, 피렌류, 벤젠류, 다핵 방향족류, 스테로이드류 및 이들의 조합에서 선택되는 것인 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  5. 제1항에서, 상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 알킬기, 아릴기, (메타)아크릴기, 비닐기, 아미노기, 알콜기, 카복실기, 할로젠기, 또는 이들의 조합이 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산인 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  6. 제5항에서, 상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 페닐기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산, (메타)아크릴기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산, 할로젠기가 치환된 폴리헤드랄 실세스퀴옥산, 또는 이들의 조합을 포함하는 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  7. 제1항에서, 상기 불소화 아크릴 화합물은 2개 이상의 (메타)아크릴기를 가지는 퍼플루오로에테르계 화합물인 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  8. 제1항에서, 상기 자가 복원성 지문 방지 조성물은 경화제 및 용매를 더 포함하는 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  9. 제8항에서, 상기 폴리로타세인은 전체 고형분 함량에 대하여 15 중량% 내지 70 중량%로 포함되는 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  10. 제8항에서, 상기 폴리헤드랄 실세스퀴옥산은 전체 고형분 함량에 대하여 25 중량% 내지 80 중량%로 포함되는 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  11. 제8항에서, 상기 불소화 아크릴 화합물은 전체 고형분 함량에 대하여 0.1 중량% 내지 10 중량%로 포함되는 자가 복원성 지문 방지 조성물.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항의 자가 복원성 지문 방지 조성물의 경화물을 포함하는 자가 복원성 지문 방지 필름.
  13. 제12항에서, 상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 두께는 0.01 ㎛ 내지 50 ㎛인 자가 복원성 지문 방지 필름.
  14. 제12항에서, 상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 마찰계수는 0.01 내지 0.5이고, 연필 경도는 2H 이상이며, 물 접촉각은 100도 내지 120도인 자가 복원성 지문 방지 필름.
  15. 제12항에서, 상기 자가 복원성 지문 방지 필름의 광 투과도는 80 % 이상이고, 황색도는 3 이하이며, 헤이즈는 3 이하인 자가 복원성 지문 방지 필름.
  16. 기재 필름, 및
    상기 기재 필름의 적어도 일면에 위치하는 제12항의 자가 복원성 지문 방지 필름을 포함하는 적층체.
  17. 제16항에서, 상기 기재 필름은 폴리우레탄 화합물, 폴리실록산 화합물, 또는 이들의 조합을 포함하는 자가 복원성 기재 필름인 적층체.
  18. 제16항에서, 상기 기재 필름의 두께는 10 ㎛ 내지 200 ㎛인 적층체.
  19. 제16항 내지 제18항 중 어느 한 항에 따른 적층체를 포함하는 디바이스.
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Cited By (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102115798B1 (ko) * 2018-11-26 2020-05-27 한국생산기술연구원 자외선 감응형 자가치유 고분자 및 이의 제조방법 및 이를 이용한 필름
KR102542888B1 (ko) * 2022-01-11 2023-06-14 주식회사 한국씨앤에스 자가치유 고발수 코팅제 조성물 및 이에 의한 코팅막
KR102644505B1 (ko) * 2022-12-19 2024-03-07 주식회사 한국씨앤에스 자가치유 고경도 고발수 코팅제 조성물 및 이에 의한 코팅막

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11429195B2 (en) * 2017-07-06 2022-08-30 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Self-healing keyboards
US11529648B2 (en) * 2019-01-31 2022-12-20 Board Of Trustees Of Michigan State University Self-healing laminate composition, related articles and related methods
CN110283319B (zh) * 2019-07-01 2020-09-04 北京化工大学 一种具有自愈合功能的荧光防伪凝胶及其制备方法和应用
KR20210092873A (ko) * 2020-01-16 2021-07-27 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20220156808A (ko) * 2020-03-23 2022-11-28 도요보 가부시키가이샤 적층체
CN115232509A (zh) * 2022-08-15 2022-10-25 亚士漆(上海)有限公司 弹性体混合物及其应用以及包含其的自修复乳胶漆涂料

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102115798B1 (ko) * 2018-11-26 2020-05-27 한국생산기술연구원 자외선 감응형 자가치유 고분자 및 이의 제조방법 및 이를 이용한 필름
KR102542888B1 (ko) * 2022-01-11 2023-06-14 주식회사 한국씨앤에스 자가치유 고발수 코팅제 조성물 및 이에 의한 코팅막
KR102644505B1 (ko) * 2022-12-19 2024-03-07 주식회사 한국씨앤에스 자가치유 고경도 고발수 코팅제 조성물 및 이에 의한 코팅막

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