KR20180079698A - Multilayer film, preparation method thereof and transparent electrode film - Google Patents

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KR20180079698A KR1020170000201A KR20170000201A KR20180079698A KR 20180079698 A KR20180079698 A KR 20180079698A KR 1020170000201 A KR1020170000201 A KR 1020170000201A KR 20170000201 A KR20170000201 A KR 20170000201A KR 20180079698 A KR20180079698 A KR 20180079698A
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Abstract

An embodiment of the present invention relates to a multilayer film which adjusts a width of each layer and prevents bubbles from being occurred between a hard coating layer and an adhesive layer, a manufacturing method thereof, and a transparent electrode film including the same. The multilayer film adjusts the width of a composition layer and does not generate the bubbles on a side surface between the hard coating layer and the adhesive layer even in vacuum deposition of an ITO layer. Also, the transparent electrode film does not generate the bubbles on the side surface between the hard coating layer and the adhesive layer even in the vacuum deposition of the ITO layer. The multilayer film sequentially comprises a substrate film, a first hard coating layer, the adhesive layer, a second hard coating layer and a protective film in a laminated form.

Description

다층 필름, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 투명 전극 필름{MULTILAYER FILM, PREPARATION METHOD THEREOF AND TRANSPARENT ELECTRODE FILM}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a multi-layer film, a method of manufacturing the same, and a transparent electrode film including the multi-

실시예는 구성층의 폭이 조절된 다층 필름, 이의 제조방법 및 이를 포함함으로써 층 간에 기포를 갖지 않는 투명 전극 필름에 관한 것이다.
Embodiments relate to a multilayer film having a controlled width of a constituent layer, a method for producing the multilayer film, and a transparent electrode film having no bubbles between the layers by the method.

터치 패널(touch panel)용 전극 필름은 기재필름 위에 인듐주석산화물(ITO) 층, 은 나노와이어층, 또는 금속 메쉬층 등이 적층된 구조를 갖는다.The electrode film for a touch panel has a structure in which an indium tin oxide (ITO) layer, a silver nanowire layer, a metal mesh layer, or the like is laminated on a base film.

ITO층을 포함하는 ITO 필름은 일반적으로 ITO층/고굴절률층/제1 하드코팅층/기재필름/제2 하드코팅층/점착층/제3 하드코팅층/보호필름의 구조를 갖는다. 이와 같은 ITO 필름을 제조하기 위해서는, 기재필름의 양면에 제1 및 제2 하드코팅층을 코팅하고, 제1 하드코팅층의 타면에 고굴절률층을 코팅하여 기재필름 적층체를 제조하고, 보호필름의 일면에 제3 하드코팅층 및 점착층을 순차적으로 코팅하여 보호필름 적층체를 제조한 다음, 제2 하드코팅층과 점착층이 접하도록 합지하였다. 이어, 고굴절률층의 타면에 ITO층을 증착시키고 150 내지 160 ℃의 오븐에서 어닐링(annealing)하여 ITO의 결정화 공정을 수행하였다. 이때, ITO층의 증착을 진공에서 수행함에 따라 제2 하드코팅층과 점착층 사이 측면에, 그리고 점착층과 제3 하드코팅층 사이 측면에 기포가 발생하는 문제가 있었다.The ITO film including the ITO layer generally has a structure of ITO layer / high refractive index layer / first hard coat layer / base film / second hard coat layer / adhesive layer / third hard coat layer / protective film. In order to produce such an ITO film, first and second hard coating layers are coated on both sides of a base film and a high refractive index layer is coated on the other side of the first hard coating layer to produce a base film laminate, A third hard coat layer and a pressure-sensitive adhesive layer were sequentially coated to prepare a protective film laminate, and then the second hard coat layer and the pressure-sensitive adhesive layer were brought into contact with each other. Then, an ITO layer was deposited on the other surface of the high refractive index layer and annealed in an oven at 150 to 160 ° C to carry out the crystallization process of ITO. At this time, there is a problem that bubbles are generated on the side between the second hard coating layer and the adhesive layer and on the side surface between the adhesive layer and the third hard coating layer by performing the deposition of the ITO layer in vacuum.

대한민국 공개특허 제 2001-0078862 호는 적외선 히터를 사용한 열처리를 통해 ITO 증착 전에는 필름의 내부에 있던 잔류 가스를 방출하고, 증착 후에는 증착된 ITO 박막의 내부응력을 제거하고 비저항을 향상시키는 것을 개시하고 있다.
Korean Patent Laid-Open Publication No. 2001-0078862 discloses that after heat treatment using an infrared heater, residual gas inside the film is released before ITO deposition and internal stress of the deposited ITO thin film is removed after deposition and the resistivity is improved have.

대한민국 공개특허 제 2001-0078862 호Korean Patent Publication No. 2001-0078862

그러나, 상기 공개특허의 방법은 ITO 증착 전 적외선 히터를 이용한 열처리 공정을 추가로 수행해야 하는 단점이 있었으며, ITO 증착 후 발생하는 필름 내부의 기포 발생을 방지할 수 없었다.However, the method disclosed in the above patent has a disadvantage in that a heat treatment process using an infrared heater is additionally performed before ITO deposition, and bubbles generated in the film after ITO deposition can not be prevented.

따라서, 실시예는 구성층의 폭이 조절되어 추후 ITO층의 진공 증착시에도 하드코팅층과 점착층 사이 측면에 기포를 발생시키지 않는 다층 필름, 이의 제조방법 및 이를 포함함으로써 층 간에 기포를 갖지 않는 투명 전극 필름을 제공하고자 한다.
Accordingly, the embodiment is a multilayer film in which the width of a constituent layer is controlled so that bubbles are not generated on the side between the hard coating layer and the pressure-sensitive adhesive layer even when the ITO layer is later vacuum-deposited, and a method for producing the same, Electrode film.

일 실시예에 따르면, 기재필름, 제1 하드코팅층, 점착층, 제2 하드코팅층 및 보호필름을 순차적으로 적층된 형태로 포함하는 다층 필름으로서,According to one embodiment, there is provided a multilayer film comprising a substrate film, a first hard coat layer, a pressure-sensitive adhesive layer, a second hard coat layer, and a protective film sequentially laminated,

상기 점착층이 제1 하드코팅층의 폭보다 좁고 제2 하드코팅층의 폭보다 넓은 폭을 가지되, 각 층의 폭 중간부가 서로 대응되게 위치하며,Wherein the adhesive layer is narrower than the width of the first hard coat layer and has a width larger than the width of the second hard coat layer,

상기 점착층이 제2 하드코팅층과 양쪽 각각 5 mm 이상의 폭 차이를 가지고, 상기 폭 차이만큼 제2 하드코팅층의 양쪽 측면 테두리를 실링하는, 다층 필름이 제공된다.Wherein the adhesive layer has a width difference of 5 mm or more on both sides of the second hard coat layer, and seals both side edges of the second hard coat layer by the width difference.

다른 실시예에 따르면, 인듐주석산화물(ITO)층 및 상술한 바와 같은 다층 필름을 적층된 형태로 포함하는, 투명 전극 필름이 제공된다.According to another embodiment, there is provided a transparent electrode film comprising a layer of indium tin oxide (ITO) and a multilayer film as described above in a laminated form.

또 다른 실시예에 따르면, (a-1) 코팅에 의해서 기재필름의 일면에 제1 하드코팅층을 형성하는 단계;According to another embodiment, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: (a-1) forming a first hard coat layer on one side of a base film by coating;

(b-1) 코팅에 의해서 보호필름의 일면에 제2 하드코팅층을 형성하고, 상기 제2 하드코팅층의 타면에 점착층을 형성하는 단계; 및(b-1) forming a second hard coat layer on one side of the protective film by coating and forming an adhesive layer on the other side of the second hard coat layer; And

(c-1) 상기 제1 하드코팅층과 점착층이 접하도록 합지하는 단계를 포함하는 다층 필름의 제조방법으로서,(c-1) a step of laminating the first hard coat layer and the adhesive layer so as to be in contact with each other,

상기 점착층이 제1 하드코팅층의 폭보다 좁고 제2 하드코팅층의 폭보다 넓은 폭을 가지되, 각 층의 폭 중간부가 서로 대응되게 위치하며,Wherein the adhesive layer is narrower than the width of the first hard coat layer and has a width larger than the width of the second hard coat layer,

상기 점착층이 제2 하드코팅층과 양쪽 각각 5 mm 이상의 폭 차이를 가지고, 상기 폭 차이만큼 제2 하드코팅층의 양쪽 측면 테두리를 실링하는, 다층 필름의 제조방법이 제공된다.Wherein the adhesive layer has a width difference of 5 mm or more on both sides of the second hard coat layer, and seals both side edges of the second hard coat layer by the width difference.

또 다른 실시예에 따르면, (a-2) 코팅에 의해서 기재필름의 양면에 제1 및 제3 하드코팅층을 형성하는 단계;According to still another embodiment, there is provided a method of manufacturing a hard coating, comprising: (a-2) forming first and third hard coating layers on both sides of a base film by coating;

(b-2) 코팅에 의해서 제3 하드코팅층의 타면에 고굴절률층을 형성하는 단계;(b-2) forming a high refractive index layer on the other surface of the third hard coat layer by coating;

(c-2) 코팅에 의해서 보호필름의 양면에 제2 및 제4 하드코팅층을 형성하는 단계;(c-2) forming second and fourth hard coating layers on both sides of the protective film by coating;

(d-2) 코팅에 의해서 제2 하드코팅층의 타면에 점착층을 형성하는 단계; 및(d-2) forming an adhesive layer on the other surface of the second hard coat layer by coating; And

(e-2) 상기 제1 하드코팅층과 점착층이 접하도록 합지하는 단계를 포함하는 다층 필름의 제조방법으로서,(e-2) a step of laminating the first hard coat layer and the adhesive layer so as to be in contact with each other,

상기 점착층이 제1 하드코팅층의 폭보다 좁고 제2 하드코팅층의 폭보다 넓은 폭을 가지되, 각 층의 폭 중간부가 서로 대응되게 위치하며,Wherein the adhesive layer is narrower than the width of the first hard coat layer and has a width larger than the width of the second hard coat layer,

상기 점착층이 제2 하드코팅층과 양쪽 각각 5 mm 이상의 폭 차이를 가지고, 상기 폭 차이만큼 제2 하드코팅층의 양쪽 측면 테두리를 실링하는, 다층 필름의 제조방법이 제공된다.
Wherein the adhesive layer has a width difference of 5 mm or more on both sides of the second hard coat layer, and seals both side edges of the second hard coat layer by the width difference.

상기 다층 필름은 구성층의 폭이 조절됨으로써, 추후 ITO층의 진공 증착시에도 하드코팅층과 점착층 사이 측면에 기포를 발생시키지 않아 투명 전극 필름의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
By controlling the width of the constituent layer, the multilayer film does not generate bubbles on the side surface between the hard coating layer and the adhesive layer even when the ITO layer is vacuum-deposited thereafter, so that the multilayer film can be usefully used in the production of a transparent electrode film.

도 1 및 2는 일례에 따른 다층 필름의 모식도이다.
도 3은 일례에 따른 투명 전극 필름의 모식도이다.
도 4 내지 6은 각각 실시예 1, 및 비교예 1 및 2의 다층 필름에 ITO층을 스퍼터링 증착한 후 점착층과 하드코팅층 간 기포 발생여부를 확인한 사진이다.
도 7은 일례에 따른 다층 필름 제조공정 모식도이다.1 and 2 are schematic views of a multilayer film according to an example.
3 is a schematic view of a transparent electrode film according to an example.
FIGS. 4 to 6 are photographs showing the occurrence of air bubbles between the adhesive layer and the hard coat layer after sputtering an ITO layer on the multilayer films of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2, respectively.
7 is a schematic diagram of a multilayer film manufacturing process according to an example.

실시예의 설명에 있어서, 각 필름, 막, 패널, 또는 층 등이 각 필름, 막, 패널, 또는 층 등의 "상(on)" 또는 "하(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상(on)"과 "하(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 구성요소를 개재하여(indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 구성요소의 상/하에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. 도면에서의 각 구성요소들의 크기는 설명을 위하여 과장될 수 있으며, 실제로 적용되는 크기를 의미하는 것은 아니다.
In the description of the embodiments, in the case where each film, film, panel or layer is described as being formed "on" or "under" of each film, film, panel, , "On" and "under" all include being formed "directly" or "indirectly" through "another element". In addition, the upper and lower standards for each component are described with reference to the drawings. The size of each component in the drawings may be exaggerated for the sake of explanation and does not mean the size actually applied.

실시예의 다층 필름은 기재필름, 제1 하드코팅층, 점착층, 제2 하드코팅층 및 보호필름을 순차적으로 적층된 형태로 포함하며, 상기 점착층은 제1 하드코팅층의 폭보다 좁고 제2 하드코팅층의 폭보다 넓은 폭을 가지되, 각 층의 폭 중간부가 서로 대응되게 위치하며, 상기 점착층은 제2 하드코팅층과 양쪽 각각 5 mm 이상의 폭 차이를 가지고, 상기 폭 차이만큼 제2 하드코팅층의 양쪽 측면 테두리를 실링한다(도 1 참조). 즉, 구성층 중 제1 하드코팅층, 점착층 및 제2 하드코팅층이 순서대로 좁아지는 폭을 가지면서 점착층과 제2 하드코팅층의 폭 차이(5 mm 이상, 구체적으로 5 내지 15 mm)만큼 점착층이 제2 하드코팅층의 양쪽 측면 테두리를 실링하여, 투명 전극 필름의 제조를 위해 상기 다층 필름 상에 ITO층을 진공 증착한 후에도 층 간에, 특히 점착층과 하드코팅층 간에 기포를 발생시키지 않는다.
The multilayer film of the embodiment includes a substrate film, a first hard coat layer, a pressure-sensitive adhesive layer, a second hard coat layer and a protective film sequentially laminated, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is narrower than the width of the first hard coat layer, Wherein the adhesive layer has a width difference of 5 mm or more on both sides of the second hard coat layer, and the width of the opposite sides of the second hard coat layer on both sides And the frame is sealed (see Fig. 1). That is, the first hard coating layer, the adhesive layer, and the second hard coating layer in the constituent layers are adhered to each other by a width difference (5 mm or more, specifically 5 to 15 mm) between the adhesive layer and the second hard coating layer, Layer does not generate air bubbles between the layers, especially between the adhesive layer and the hard coating layer, even after the ITO layer is vacuum-deposited on the multilayer film for the production of the transparent electrode film by sealing both side edges of the second hard coat layer.

상기 제2 하드코팅층은 점착층의 폭의 90.0 내지 99.7 %의 폭을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 제2 하드코팅층은 점착층의 폭의 95.0 내지 99.6 %의 폭을 가질 수 있다.The second hard coat layer may have a width of 90.0 to 99.7% of the width of the adhesive layer. Specifically, the second hard coat layer may have a width of 95.0 to 99.6% of the width of the adhesive layer.

상기 점착층은 제1 하드코팅층의 폭의 99.0 내지 99.7 %의 폭을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 점착층은 제1 하드코팅층의 폭의 99.1 내지 99.6 %의 폭을 가질 수 있다.The adhesive layer may have a width of 99.0 to 99.7% of the width of the first hard coat layer have. Specifically, the adhesive layer may have a width of 99.1 to 99.6% of the width of the first hard coat layer.

상기 다층 필름은 제1 하드코팅층, 점착층 및 제2 하드코팅층이 순서대로 좁아지는 폭을 가지고, 제1 하드코팅층과 점착층, 및 점착층과 제2 하드코팅층은 양쪽 각각 5 mm 이상의 폭 차를 가짐으로써, 투명 전극 필름의 제조를 위해 상기 다층 필름 상에 ITO층을 진공 증착한 후에도 층 간에, 특히 점착층과 하드코팅층 간에 기포를 발생시키지 않는다.
Wherein the multilayer film has a width in which the first hard coating layer, the adhesive layer and the second hard coating layer are narrowed in order, the first hard coating layer and the adhesive layer, and the adhesive layer and the second hard coating layer have widths of 5 mm or more , So that air bubbles are not generated between the layers, particularly between the adhesive layer and the hard coating layer, even after the ITO layer is vacuum-deposited on the multilayer film for the production of the transparent electrode film.

다층 필름Multilayer film

도 1을 참조하면, 일례에 따른 다층 필름(100)은 기재필름(110), 제1 하드코팅층(120), 점착층(130), 제2 하드코팅층(140) 및 보호필름(150)이 순차적으로 적층된 구조를 포함한다.Referring to FIG. 1, a multilayer film 100 according to an exemplary embodiment includes a substrate 110, a first hard coating layer 120, an adhesive layer 130, a second hard coating layer 140, and a protective film 150 sequentially As shown in FIG.

도 2를 참조하면, 다른 예에 따른 다층 필름(100')은 고굴절률층(210), 제3 하드코팅층(160), 기재필름(110), 제1 하드코팅층(120), 점착층(130), 제2 하드코팅층(140), 보호필름(150) 및 제4 하드코팅층(170)이 순차적으로 적층된 구조를 포함한다.
Referring to FIG. 2, a multilayer film 100 'according to another example includes a high refractive index layer 210, a third hard coat layer 160, a base film 110, a first hard coat layer 120, ), A second hard coating layer 140, a protective film 150, and a fourth hard coating layer 170 are sequentially stacked.

상기 기재필름(110)은 투명한 고분자 필름일 수 있으며, 구체적으로, 폴리에스테르 수지를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 폴리에스테르 수지는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리카보네이트(PC) 수지 및 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 수지로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 더욱 구체적으로, 상기 기재필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지를 포함할 수 있다.The base film 110 may be a transparent polymer film, and may specifically include a polyester resin. More specifically, the polyester resin includes at least one selected from the group consisting of a polyethylene terephthalate (PET) resin, a polybutylene terephthalate resin, a polycarbonate (PC) resin and a polymethyl methacrylate (PMMA) resin can do. More specifically, the base film may include a polyethylene terephthalate resin.

상기 기재필름은 50 내지 200 ㎛의 두께를 가질 수 있으며, 구체적으로 50 내지 150 ㎛의 두께를 가질 수 있다. The base film may have a thickness of 50 to 200 탆, and specifically may have a thickness of 50 to 150 탆.

상기 기재필름은 기계적 강도 또는 광학적 기능을 높이기 위해 필요에 따라 1축 연신 또는 2축 연신된 것일 수 있다.
The base film may be uniaxially or biaxially stretched if necessary to enhance mechanical strength or optical function.

상기 하드코팅층(120, 140, 160, 170)은 기재필름 또는 보호필름의 일면 또는 양면에 형성되어, 필름 표면의 올리고머 용출을 방지하고 필름의 내열성 및 광학적 특성을 향상시킨다.The hard coating layers 120, 140, 160, and 170 are formed on one side or both sides of a base film or a protective film to prevent elution of oligomers on the surface of the film and improve heat resistance and optical characteristics of the film.

상기 하드코팅층은 열가소성 수지, 열경화성 수지, 전리방사선 경화성 수지 등을 포함할 수 있으며, 구체적으로, 표면 경도를 높여 높은 하드코팅성을 발휘할 수 있도록 전리방사선(자외선 또는 전자선) 경화성 수지를 포함할 수 있다.The hard coating layer may include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, and the like. Specifically, the hard coating layer may include ionizing radiation (ultraviolet ray or electron beam) curable resin so as to exhibit high hard coating properties by increasing the surface hardness .

구체적으로, 상기 열가소성 수지 및 열경화성 수지는 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 아크릴 우레탄계 수지, 폴리에스테르 아크릴레이트계 수지, 폴리우레탄 아크릴레이트계 수지, 에폭시 아크릴레이트계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지, 아세탈계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 멜라민계 수지, 페놀계 수지, 실리콘계 수지 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.Specifically, the thermoplastic resin and the thermosetting resin may be selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, an acryl urethane resin, a polyester acrylate resin, a polyurethane acrylate resin, an epoxy acrylate resin, a urethane resin, The resin may be selected from the group consisting of a carbonate resin, a cellulose resin, an acetal resin, a polyethylene resin, a polystyrene resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a melamine resin, a phenol resin, have.

상기 전리방사선 경화성 수지는 전리방사선의 조사에 의해 가교 및 경화되는 광중합성 프리폴리머일 수 있으며, 상기 광중합성 프리폴리머는 양이온 중합형 또는 라디칼 중합형 광중합성 프리폴리머일 수 있다. 구체적으로, 상기 양이온 중합형 광중합성 프리폴리머는 에폭시계 수지 또는 비닐 에스테르계 수지 등을 들 수 있다. 상기 에폭시계 수지는 비스페놀계 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 지방족 에폭시 수지 및 이의 혼합물 등을 들 수 있다. 구체적으로, 상기 라디칼 중합형 광중합성 프리폴리머는 아크릴계 프리폴리머(경질 프리폴리머)일 수 있다. 하드코팅성의 관점에서, 상기 아크릴계 프리폴리머는 1 분자 중 2 개 이상의 아크릴로일기를 갖고, 가교 경화를 통해 3 차원 망목 구조를 포함할 수 있다. 상기 아크릴계 프리폴리머는 우레탄 아크릴레이트계 프리폴리머, 폴리에스테르 아크릴레이트계 프리폴리머, 에폭시 아크릴레이트계 프리폴리머, 멜라민 아크릴레이트계 프리폴리머, 폴리플루오로알킬 아크릴레이트계 프리폴리머, 실리콘 아크릴레이트계 프리폴리머 및 이의 혼합물 등을 들 수 있다. The ionizing radiation curable resin may be a photopolymerizable prepolymer crosslinked and cured by irradiation with ionizing radiation, and the photopolymerizable prepolymer may be a cationic polymerizable or radical polymerizable photopolymerizable prepolymer. Specifically, the cationic polymerization type photopolymerizable prepolymer includes an epoxy resin and a vinyl ester resin. Examples of the epoxy resin include a bisphenol-based epoxy resin, a novolak-type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, and a mixture thereof. Specifically, the radical polymerization type photopolymerizable prepolymer may be an acrylic prepolymer (hard prepolymer). From the viewpoint of hard coatability, the acryl-based prepolymer has two or more acryloyl groups in one molecule and can include a three-dimensional network structure through crosslinking curing. The acrylic prepolymer may be a urethane acrylate prepolymer, a polyester acrylate prepolymer, an epoxy acrylate prepolymer, a melamine acrylate prepolymer, a polyfluoroalkyl acrylate prepolymer, a silicone acrylate prepolymer, or a mixture thereof have.

상기 하드코팅층은 가교 경화성의 향상 또는 경화 수축의 조정 등 각종 성능을 부여하기 위해, 광중합성 모노머를 추가로 포함할 수 있다. 상기 광중합성 모노머는 단관능 (메트)아크릴 모노머(예: 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 부톡시에틸(메트)아크릴레이트 등), 2관능 (메트)아크릴 모노머(예: 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 히드록시피발산에스테르네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 등), 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴 모노머(예: 디펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리메틸프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트 등)일 수 있다. 이들 광중합성 모노머는 단독 또는 2 종 이상을 조합해서 사용할 수 있다.The hard coat layer may further comprise a photopolymerizable monomer for imparting various performances such as improvement of crosslinking curability or adjustment of curing shrinkage. The photopolymerizable monomer may be selected from the group consisting of monofunctional (meth) acryl monomers such as 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate and the like), bifunctional (meth) acryl monomers such as 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) (Meth) acrylate such as polyethylene glycol di (meth) acrylate and hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate), polyfunctional (meth) acrylic monomers having three or more functional groups such as dipentaerythritol hexa Propane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, etc.). These photopolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.

상기 하드코팅층을 자외선 조사에 의해 경화시켜서 형성하는 경우, 하드코팅층은 전술한 광중합성 프리폴리머 및 광중합성 모노머 외에 광중합 개시제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 광중합 개시제는 자외선 경화 수지의 경화에 범용으로 쓰이는 통상적인 개시제를 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기 광중합 개시제는 옥심에스터계, 아세토페논계, 벤조페논계, 벤조인계, 벤조일계, 크산톤계, 트리아진계, 할로메틸옥사디아졸계, 로핀다이머류 등의 광개시제를 사용할 수 있다. 이들은 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.When the hard coat layer is formed by curing by ultraviolet irradiation, the hard coat layer may further include a photopolymerization initiator in addition to the photopolymerizable prepolymer and the photopolymerizable monomer. The photopolymerization initiator may be a conventional initiator generally used for curing the ultraviolet curing resin. For example, the photopolymerization initiator may be selected from photoinitiators such as oxime ester, acetophenone, benzophenone, benzoin, benzoyl, xanthone, triazine, halomethyloxadiazole, and triphenylmethane. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 제1 내지 제4 하드코팅층은 각각 10 ㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 내지 제4 하드코팅층은 각각 0.1 내지 10 ㎛, 0.5 내지 5 ㎛, 0.8 내지 1.5 ㎛ 또는 1 내지 2 ㎛의 두께를 가질 수 있다.
The first to fourth hard coating layers may each have a thickness of 10 [mu] m or less. Specifically, each of the first to fourth hard coating layers may have a thickness of 0.1 to 10 μm, 0.5 to 5 μm, 0.8 to 1.5 μm, or 1 to 2 μm.

상기 점착층(130)은 통상적인 점착제 수지를 이용하여 형성될 수 있다.The adhesive layer 130 may be formed using a conventional adhesive resin.

상기 점착제 수지는 아크릴 단량체 및 카복실기 함유 불포화 단량체 중에서 선택된 1종 이상이 중합되어 형성될 수 있다. 상기 아크릴 단량체의 구체적인 예로는 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 에틸헥실(메트)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메트)아크릴레이트, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 글리세롤(메트)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸아크릴레이트, 부틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메트)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜)메틸에테르(메트)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메트)아크릴레이트, 이소보닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트 및 그 혼합물을 들 수 있고, 구체적으로, 메틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트 및 그 혼합물을 들 수 있다. 상기 카복실기 함유 불포화 단량체의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시 아세트산, 3-(메트)아크릴로일옥시 프로필산, 4-(메트)아크릴로일옥시 부틸산, 아크릴산 이중체, 이타콘산, 말레산, 말레산 무수물 및 그 혼합물을 들 수 있고, 구체적으로, 메타크릴산, 아크릴산 및 그 혼합물을 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive resin may be formed by polymerization of at least one selected from an acrylic monomer and a carboxyl group-containing unsaturated monomer. Specific examples of the acrylic monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, ) Acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, tetrahydroperfuryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, methyl? -Hydroxymethylacrylate, ethyl? -Hydroxymethylacrylate (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl (Meth) acrylate, propyl [alpha] -hydroxymethyl acrylate, butyl [alpha] -hydroxymethyl acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (Meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1,1,1-trimethylolpropane tri (meth) acrylate, methoxytripropylene glycol (Meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, dicyclopentyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl , Methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and mixtures thereof. Specific examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer include acrylic acid, methacrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyacetic acid, 3- (meth) acryloyloxypropyl acid, 4- (meth) acryloyloxybutyric acid , Acrylic acid dimer, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, and mixtures thereof, and specifically, methacrylic acid, acrylic acid, and mixtures thereof.

상기 점착층은 5 내지 20 ㎛의 두께를 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 점착층은 7 내지 18 ㎛, 8 내지 15 ㎛, 10 내지 20 ㎛ 또는 8 내지 12 ㎛의 두께를 가질 수 있다.
The adhesive layer may have a thickness of 5 to 20 mu m. Specifically, the adhesive layer may have a thickness of 7 to 18 占 퐉, 8 to 15 占 퐉, 10 to 20 占 퐉, or 8 to 12 占 퐉.

상기 보호필름(150)은 투명한 고분자 필름일 수 있으며, 구체적으로, 폴리에스테르 수지를 포함할 수 있다. 상기 보호필름을 구성하는 폴리에스테르 수지는 상기 기재필름을 구성하는 폴리에스테르 수지에서 설명한 바와 같다.The protective film 150 may be a transparent polymer film, and may specifically include a polyester resin. The polyester resin constituting the protective film is as described for the polyester resin constituting the base film.

상기 보호필름은 50 내지 200 ㎛의 두께를 가질 수 있으며, 구체적으로 50 내지 150 ㎛의 두께를 가질 수 있다. The protective film may have a thickness of 50 to 200 탆, and may have a thickness of 50 to 150 탆.

상기 보호필름은 기계적 강도 또는 광학적 기능을 높이기 위해 필요에 따라 필름에 1축 연신 또는 2축 연신된 것일 수 있다.
The protective film may be uniaxially stretched or biaxially stretched to a film as necessary to enhance mechanical strength or optical function.

상기 기재필름 및 보호필름은 동일한 폭을 가질 수 있고, 제1 하드코팅층의 폭보다 큰 폭을 가질 수 있다. 상기 제1 하드코팅층은 기재필름의 폭의 97.0 내지 99.0 %의 폭을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 하드코팅층은 기재필름의 폭의 98.0 내지 99.0 %의 폭을 가질 수 있다. 제1 하드코팅층의 폭이 상기 조건을 만족할 경우, 필름의 파단을 억제하고 컬 생성을 방지하는 효과를 수득할 수 있다.The base film and the protective film may have the same width and may have a width larger than the width of the first hard coat layer. The first hard coat layer may have a width of 97.0 to 99.0% of the width of the substrate film. Specifically, the first hard coat layer may have a width of 98.0 to 99.0% of the width of the base film. When the width of the first hard coat layer satisfies the above condition, it is possible to obtain an effect of suppressing breakage of the film and preventing curling.

상기 제2 하드코팅층은 점착층의 폭의 90.0 내지 99.7 %의 폭을 가지고, 상기 점착층은 제1 하드코팅층의 폭의 99.0 내지 99.7 %의 폭을 가지며, 상기 기재필름 및 보호필름은 동일한 폭을 가지며 제1 하드코팅층의 폭보다 큰 폭을 가지고, 상기 제1 하드코팅층은 기재필름의 폭의 97.0 내지 99.0 %의 폭을 가질 수 있다.
The second hard coat layer has a width of 90.0 to 99.7% of the width of the adhesive layer, the adhesive layer has a width of 99.0 to 99.7% of the width of the first hard coat layer, and the base film and the protective film have the same width And has a width greater than the width of the first hard coat layer, and the first hard coat layer may have a width of 97.0 to 99.0% of the width of the substrate film.

상기 다층 필름은 기재필름의 타면에 제3 하드코팅층(160)을 포함하고, 상기 제3 하드코팅층은 제1 하드코팅층의 폭과 동일한 폭을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 다층 필름은 제3 하드코팅층(160)의 타면에 고굴절률층(210)을 포함하고, 상기 고굴절률층은 제3 하드코팅층의 폭과 동일한 폭을 가질 수 있다(도 2 참조).The multi-layer film may include a third hard coating layer 160 on the other side of the base film, and the third hard coating layer may have a width equal to the width of the first hard coating layer. Specifically, the multilayer film may include a high refractive index layer 210 on the other surface of the third hard coating layer 160, and the high refractive index layer may have a width equal to the width of the third hard coating layer (see FIG. 2) .

상기 고굴절률층(210)은 필름의 굴절률을 조절하여 반사도를 낮추고 투과도를 높이는 역할을 한다. 구체적으로, 상기 고굴절률층은 550 nm 파장에 대한 굴절률이 -1.6 내지 1.7일 수 있다.The high refractive index layer 210 serves to lower the reflectivity and increase the transmittance by adjusting the refractive index of the film. Specifically, the refractive index of the high refractive index layer may be -1.6 to 1.7 for a wavelength of 550 nm.

상기 고굴절률층은 열가소성 수지, 열경화성 수지, 전리 방사선 경화성 수지 등의 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 수지를 포함할 수 있다. 상기 열가소성 수지, 열경화성 수지, 전리방사선 경화성 수지는 다층 필름에서 설명한 바와 같다.The high refractive index layer may include at least one resin selected from the group consisting of a resin such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ionizing radiation curable resin. The thermoplastic resin, the thermosetting resin and the ionizing radiation curable resin are as described for the multilayer film.

상기 고굴절률층은 60 내지 90 nm의 두께를 가질 수 있다.
The high refractive index layer may have a thickness of 60 to 90 nm.

상기 다층 필름은 보호필름(150)의 타면에 제4 하드코팅층(170)을 포함하고, 상기 제4 하드코팅층은 제2 하드코팅층의 폭과 동일한 폭을 가질 수 있다(도 2 참조).
The multi-layer film may include a fourth hard coating layer 170 on the other side of the protective film 150, and the fourth hard coating layer may have a width equal to the width of the second hard coating layer (see FIG. 2).

상기 다층 필름은 터치 패널용 전극 필름의 제조에 사용될 수 있다.
The multilayer film can be used for manufacturing an electrode film for a touch panel.

투명 전극 필름Transparent electrode film

도 3을 참조하면, 일례에 따른 투명 전극 필름(300)은 인듐주석산화물(ITO)층(310), 고굴절률층(210), 제3 하드코팅층(160), 기재필름(110), 제1 하드코팅층(120), 점착층(130), 제2 하드코팅층(140), 보호필름(150) 및 제4 하드코팅층(170)이 순차적으로 적층된 구조를 포함한다.
3, the transparent electrode film 300 according to an exemplary embodiment includes an indium tin oxide (ITO) layer 310, a high refractive index layer 210, a third hard coat layer 160, a base film 110, The hard coat layer 120, the adhesive layer 130, the second hard coat layer 140, the protective film 150, and the fourth hard coat layer 170 are sequentially stacked.

상기 기재필름, 하드코팅층, 점착층 및 보호필름 각각은 상기 다층 필름의 구성에서 설명한 바와 같다.
Each of the base film, the hard coating layer, the adhesive layer and the protective film are as described in the constitution of the multilayer film.

상기 인듐주석산화물(ITO)층(310)은 다층 필름의 고굴절률층(210) 상에 진공 증착을 통해 형성될 수 있으며, 전도성을 부여하는 역할을 수행한다. 구체적으로는, 상기 ITO층은 진공 조건 하에서, 예컨대 10-3 ~ 10-9 torr의 압력하 100 ℃ 이상의 온도에서 스퍼터링 증착되어 형성될 수 있다.The indium tin oxide (ITO) layer 310 may be formed on the high refractive index layer 210 of the multi-layer film through vacuum deposition to provide conductivity. Specifically, the ITO layer may be formed by sputtering under a vacuum condition, for example, at a temperature of 100 ° C or higher at a pressure of 10 -3 to 10 -9 torr.

상기 ITO층은 주석산화물을 2 내지 15 중량%로 포함할 수 있다. 주석산화물의 함량이 상기 범위 내일 때, 투명성이 보다 우수하고 터치스크린 패널의 센서층에 보다 적합한 면저항을 얻을 수 있다.The ITO layer may contain 2 to 15% by weight of tin oxide. When the content of the tin oxide is within the above range, transparency is better and sheet resistance suitable for the sensor layer of the touch screen panel can be obtained.

상기 ITO층은 결정화도를 높이기 위해 열처리된 것일 수 있다.The ITO layer may have been heat-treated to increase the degree of crystallization.

상기 ITO층은 10 내지 60 nm의 두께를 가질 수 있고, 구체적으로 20 내지 45 nm의 두께를 가질 수 있다. ITO층의 두께가 상기 범위일 때 광학 투과율이 보다 우수할 수 있다. 또는 사용목적에 따라 두께를 조정하여 면저항을 변화시킬 수 있다.
The ITO layer may have a thickness of 10 to 60 nm, and may have a thickness of 20 to 45 nm. When the thickness of the ITO layer is in the above range, the optical transmittance can be more excellent. Alternatively, the sheet resistance can be changed by adjusting the thickness according to the purpose of use.

다층 필름의 제조방법Method for manufacturing multilayer film

일 실시예에 따른 다층 필름의 제조방법은 A method of manufacturing a multilayered film according to an embodiment includes:

(a-1) 코팅에 의해서 기재필름의 일면에 제1 하드코팅층을 형성하는 단계;(a-1) forming a first hard coat layer on one side of the base film by coating;

(b-1) 코팅에 의해서 보호필름의 일면에 제2 하드코팅층을 형성하고, 상기 제2 하드코팅층의 타면에 점착층을 형성하는 단계; 및(b-1) forming a second hard coat layer on one side of the protective film by coating and forming an adhesive layer on the other side of the second hard coat layer; And

(c-1) 상기 제1 하드코팅층과 점착층이 접하도록 합지하는 단계를 포함하는 다층 필름의 제조방법으로서,(c-1) a step of laminating the first hard coat layer and the adhesive layer so as to be in contact with each other,

상기 점착층이 제1 하드코팅층의 폭보다 좁고 제2 하드코팅층의 폭보다 넓은 폭을 가지되, 각 층의 폭 중간부가 서로 대응되게 위치하며,Wherein the adhesive layer is narrower than the width of the first hard coat layer and has a width larger than the width of the second hard coat layer,

상기 점착층이 제2 하드코팅층과 양쪽 각각 5 mm 이상의 폭 차이를 가지고, 상기 폭 차이만큼 제2 하드코팅층의 양쪽 측면 테두리를 실링한다.
The adhesive layer has a width difference of 5 mm or more on both sides of the second hard coat layer and seals both side edges of the second hard coat layer by the width difference.

단계 (a-1)Step (a-1)

본 단계는 코팅에 의해서 기재필름의 일면에 제1 하드코팅층을 형성한다.This step forms a first hard coat layer on one side of the base film by coating.

상기 기재필름 상에 하드코팅층 수지 조성물을 코팅한 후 가열 건조하고, 필요에 따라 경화시킴으로써 제1 하드코팅층을 형성시킬 수 있다. 상기 코팅은 하드코팅층 수지 조성물을 기재필름 상에 스핀 또는 슬릿 코팅법, 롤 코팅법(롤-투-롤 코팅법), 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여, 원하는 코팅 두께로 수행될 수 있다. 상기 코팅 후에는 50 내지 150 ℃의 온도에서 1 내지 10 분 동안 가열하여 용매를 제거하고 건조시킬 수 있다.
The first hard coat layer can be formed by coating the hard coat layer resin composition on the base film, then drying by heating, and curing if necessary. The coating can be performed by coating the hard coat layer resin composition on the base film using a spin or slit coating method, a roll coating method (roll-to-roll coating method), a screen printing method, an applicator method, . After the coating, the solvent may be removed by heating at a temperature of 50 to 150 ° C for 1 to 10 minutes, followed by drying.

단계 (b-1)Step (b-1)

본 단계는 코팅에 의해서 보호필름의 일면에 제2 하드코팅층을 형성하고, 상기 제2 하드코팅층의 타면에 점착층을 형성한다.In this step, a second hard coat layer is formed on one surface of the protective film by coating, and an adhesive layer is formed on the other surface of the second hard coat layer.

상기 보호필름 상에 하드코팅층 수지 조성물을 코팅한 후 가열 건조하고, 필요에 따라 경화시킴으로써 제2 하드코팅층을 형성시킬 수 있다. 상기 코팅은 하드코팅층 수지 조성물을 기재필름 상에 스핀 또는 슬릿 코팅법, 롤 코팅법(롤-투-롤 코팅법), 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여, 원하는 코팅 두께로 수행될 수 있다. 상기 코팅 후에는 50 내지 150 ℃의 온도에서 1 내지 10 분 동안 가열하여 용매를 제거하고 건조시킬 수 있다.The second hard coat layer may be formed by coating the hard coat layer resin composition on the protective film, then drying by heating and optionally curing. The coating can be performed by coating the hard coat layer resin composition on the base film using a spin or slit coating method, a roll coating method (roll-to-roll coating method), a screen printing method, an applicator method, . After the coating, the solvent may be removed by heating at a temperature of 50 to 150 ° C for 1 to 10 minutes, followed by drying.

상기 제2 하드코팅층의 타면에 점착층 조성물을 코팅한 후 가열 건조하고, 필요에 따라 경화시킴으로써 점착층을 형성시킬 수 있다. 상기 코팅은 점착층 조성물을 제2 하드코팅층 상에 스핀 또는 슬릿 코팅법, 롤 코팅법(롤-투-롤 코팅법), 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여, 원하는 코팅 두께로 수행될 수 있다. 상기 코팅 후에는 50 내지 150 ℃의 온도에서 1 내지 10 분 동안 가열하여 용매를 제거하고 건조시킬 수 있다.
The adhesive layer composition may be coated on the other surface of the second hard coat layer, followed by heating and drying, and optionally curing the adhesive layer. The coating is carried out on the second hard coat layer with a desired coating thickness by a spin or slit coating method, a roll coating method (roll-to-roll coating method), a screen printing method, an applicator method or the like . After the coating, the solvent may be removed by heating at a temperature of 50 to 150 ° C for 1 to 10 minutes, followed by drying.

단계 (c-1)Step (c-1)

본 단계는 상기 제1 하드코팅층과 점착층이 접하도록 합지하여 다층 필름을 제조한다.
In this step, the first hard coat layer and the adhesive layer are brought into contact with each other to produce a multilayer film.

다른 실시예에 따른 다층 필름의 제조방법(도 7 참조)은The method of manufacturing a multilayer film according to another embodiment (see FIG. 7)

(a-2) 코팅에 의해서 기재필름의 양면에 제1 및 제3 하드코팅층을 형성하는 단계;(a-2) forming first and third hard coating layers on both sides of the base film by coating;

(b-2) 코팅에 의해서 제3 하드코팅층의 타면에 고굴절률층을 형성하는 단계;(b-2) forming a high refractive index layer on the other surface of the third hard coat layer by coating;

(c-2) 코팅에 의해서 보호필름의 양면에 제2 및 제4 하드코팅층을 형성하는 단계;(c-2) forming second and fourth hard coating layers on both sides of the protective film by coating;

(d-2) 코팅에 의해서 제2 하드코팅층의 타면에 점착층을 형성하는 단계; 및(d-2) forming an adhesive layer on the other surface of the second hard coat layer by coating; And

(e-2) 상기 제1 하드코팅층과 점착층이 접하도록 합지하는 다층 필름의 제조방법으로서,(e-2) A method for producing a multilayered film in which the first hard coat layer and the adhesive layer are in contact with each other,

상기 점착층이 제1 하드코팅층의 폭보다 좁고 제2 하드코팅층의 폭보다 넓은 폭을 가지되, 각 층의 폭 중간부가 서로 대응되게 위치하며,Wherein the adhesive layer is narrower than the width of the first hard coat layer and has a width larger than the width of the second hard coat layer,

상기 점착층이 제2 하드코팅층과 양쪽 각각 5 mm 이상의 폭 차이를 가지고, 상기 폭 차이만큼 제2 하드코팅층의 양쪽 측면 테두리를 실링한다.
The adhesive layer has a width difference of 5 mm or more on both sides of the second hard coat layer and seals both side edges of the second hard coat layer by the width difference.

상기 단계 (a-2)의 층 형성공정은 상기 단계 (a-1)에서 설명한 바와 동일하게 수행할 수 있다.
The layer forming process of step (a-2) may be performed in the same manner as described in step (a-1).

상기 단계 (b-2)는 제3 하드코팅층의 타면에 고굴절률층 수지 조성물을 코팅한 후 가열 건조하고, 필요에 따라 경화시킴으로써 고굴절률층을 형성시킬 수 있다. 상기 코팅은 고굴절률층 수지 조성물을 제3 하드코팅층 상에 스핀 또는 슬릿 코팅법, 롤 코팅법(롤-투-롤 코팅법), 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여, 원하는 코팅 두께로 수행될 수 있다. 상기 코팅 후에는 50 내지 150 ℃의 온도에서 1 내지 10 분 동안 가열하여 용매를 제거하고 건조시킬 수 있다.
In the step (b-2), the high refractive index layer may be formed by coating the other surface of the third hard coat layer with a high refractive index layer resin composition, followed by heating and drying and curing if necessary. The coating can be carried out by coating a high refractive index layer resin composition on a third hard coat layer using a spin or slit coating method, a roll coating method (roll-to-roll coating method), a screen printing method, Lt; / RTI > After the coating, the solvent may be removed by heating at a temperature of 50 to 150 ° C for 1 to 10 minutes, followed by drying.

상기 단계 (c-2) 및 (d-2)의 층 형성공정은 상기 단계 (b-1)에서 설명한 바와 동일하게 수행할 수 있다.The layer forming process of steps (c-2) and (d-2) may be performed in the same manner as described in step (b-1).

상기 단계 (e-2)의 합지공정은 상기 단계 (c-1)에서 설명한 바와 동일하게 수행할 수 있다.
The lapping process of the step (e-2) may be performed in the same manner as described in the step (c-1).

상기 다층 필름은 구성층의 폭이 조절됨으로써, 추후 ITO층의 진공 증착시에도 하드코팅층과 점착층 사이 측면에 기포를 발생시키지 않아 투명 전극 필름의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
By controlling the width of the constituent layer, the multilayer film does not generate bubbles on the side surface between the hard coating layer and the adhesive layer even when the ITO layer is vacuum-deposited thereafter, so that the multilayer film can be usefully used in the production of a transparent electrode film.

이하, 하기 실시예에 의하여 보다 상세하게 설명하고자 한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the following examples are intended to illustrate the present invention, but the scope of the present invention is not limited thereto.

[[ 실시예Example ]]

실시예Example 1.  One.

1-1: 기재필름 1-1: base film 적층체의Of the laminate 제조 Produce

1,320 mm 폭 및 50 ㎛ 두께를 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(SKC(주) 제품)의 양면에 슬롯다이 방식으로 하드코팅층 수지 조성물(제조사: SKC(주), 제품명: AD01)을 코팅한 후 120 ℃에서 90 초 동안 건조시켜 1,305 mm 폭 및 1.2 ㎛ 두께의 제1 및 제3 하드코팅층을 형성하였다. 이후 제3 하드코팅층의 타면에 고굴절률층 수지 조성물(제조사: SKC(주), 제품명: AD02)을 슬롯다이 방식으로 코팅한 후 120 ℃에서 90 초 동안 건조시켜 1,305 mm 폭 및 70 nm 두께의 고굴절률층을 형성하여, 기재필름 적층체를 제조하였다.
A hard coat layer resin composition (manufactured by SKC Co., Ltd., product name: AD01) was coated on both sides of a polyethylene terephthalate (PET) film (product of SKC Co., Ltd.) having a width of 1,320 mm and a thickness of 50 탆 by a slot die method And dried at 120 DEG C for 90 seconds to form first and third hard coating layers having a thickness of 1,305 mm and a thickness of 1.2 mu m. Thereafter, a high refractive index layer resin composition (product name: ADC02, product name: AD02) was coated on the other surface of the third hard coat layer by a slot die method and dried at 120 DEG C for 90 seconds to form a film having a thickness of 1,305 mm and a thickness of 70 nm A refractive index layer was formed to produce a base film laminate.

1-2: 보호필름 1-2: Protective film 적층체의Of the laminate 제조 Produce

1,320 mm 폭 및 125 ㎛ 두께를 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(SKC(주) 제품)의 양면에 슬롯다이 방식으로 하드코팅층 수지 조성물(제조사: SKC(주), 제품명: AD01)을 코팅한 후 120 ℃에서 90 초 동안 건조시켜 1,240 mm 폭 및 1 ㎛ 두께의 제2 및 제4 하드코팅층을 코팅하였다. 이후 제2 하드코팅층의 타면에 점착층 수지 조성물(제조사: SKC(주), 제품명: AD03)을 슬롯다이 방식으로 코팅한 후 120 ℃에서 90 초 동안 건조시켜 1,295 mm 폭 및 10 ㎛ 두께의 점착층을 형성하여, 보호필름 적층체를 제조하였다.
A hard coat layer resin composition (manufacturer: SKC, product name: AD01) was coated on both sides of a polyethylene terephthalate (PET) film (product of SKC Co., Ltd.) having a width of 1,320 mm and a thickness of 125 탆 by a slot die method And dried at 120 DEG C for 90 seconds to coat the second and fourth hard coat layers having a width of 1,240 mm and a thickness of 1 mu m. Thereafter, a pressure-sensitive adhesive layer resin composition (manufacturer: SKC Co., Ltd., product name: AD03) was coated on the other surface of the second hard coat layer by a slot die method and dried at 120 DEG C for 90 seconds to form an adhesive layer having a width of 1,295 mm and a thickness of 10 mu m To form a protective film laminate.

1-3: 다층 필름의 제조1-3: Preparation of multilayer film

상기 기재필름 적층체의 제1 하드코팅층과 상기 보호필름 적층체의 점착층이 접하도록 합지하여 다층 필름을 제조하였다.
The first hard coat layer of the base film laminate and the adhesive layer of the protective film laminate were brought into contact with each other to produce a multilayer film.

비교예Comparative Example 1 내지 3. 1-3.

하기 표 1에 기재된 바와 같이 기재필름, 보호필름, 점착층 및 하드코팅층의 폭을 변화시킨 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 다층 필름을 제조하였다.
A multilayer film was produced in the same manner as in Example 1, except that the widths of the base film, the protective film, the adhesive layer and the hard coat layer were changed as shown in Table 1 below.

실험예Experimental Example . 기포 . bubble 발생여부Occurrence 확인 Confirm

상기 실시예 1 및 비교예 1 내지 3에서 제조한 다층 필름의 고굴절률층 상에 하기 기재된 바에 따라 ITO층을 증착 형성한 후 기포 발생여부를 관찰하였으며, 측정 결과는 하기 표 1 및 도 4 내지 6에 나타냈다. 도 4는 실시예 1, 도 5는 비교예 1, 도 6은 비교예 2의 다층 필름에 ITO층을 형성한 후 점착층과 하드코팅층 간 기포 발생여부를 확인한 결과이다.
The ITO layer was deposited and formed on the high refractive index layer of the multilayer film prepared in Example 1 and Comparative Examples 1 to 3, and then bubbles were observed. The measurement results are shown in Table 1 and Figs. 4 to 6 Respectively. FIG. 4 shows the results of checking whether bubbles are formed between the adhesive layer and the hard coat layer after forming the ITO layer on the multilayer film of Example 1, FIG. 5, and Comparative Example 1. FIG.

상기 실시예 1 및 비교예 1 내지 3에서 제조한 다층 필름의 고굴절률층 상에 10-6 torr의 압력 및 120 ℃의 스퍼터 존(sputter zone)에서 ITO를 증착하고, 10 ℃의 냉각롤(드럼-스틸)을 1 분 동안 통과시켜 20 nm 두께의 ITO층을 형성하였다. 이후 필름 내 기포 발생여부를 관찰하였다.
ITO was deposited on the high refractive index layer of the multilayer film prepared in Example 1 and Comparative Examples 1 to 3 at a pressure of 10 -6 torr and a sputter zone of 120 ° C, -Steel) was passed for 1 minute to form a 20 nm thick ITO layer. Then, bubbles were observed in the film.

　 기재필름의 폭The width of the base film 보호필름의 폭Width of protective film 제1 및 제3 하드코팅층의 폭The widths of the first and third hard coating layers 점착층의 폭The width of the adhesive layer 제2 및 제4 하드코팅층의 폭The widths of the second and fourth hard coating layers 기포발생
여부Bubble generation
Whether 실시예 1Example 1 1,320 ㎜1,320 mm 1,320 ㎜1,320 mm 1,305 ㎜1,305 mm 1,295 ㎜1,295 mm 1,240 ㎜1,240 mm 無No 비교예 1Comparative Example 1 1,320 ㎜1,320 mm 1,320 ㎜1,320 mm 1,295 ㎜1,295 mm 1,305 ㎜1,305 mm 1,240 ㎜1,240 mm 有Yes 비교예 2Comparative Example 2 1,320 ㎜1,320 mm 1,320 ㎜1,320 mm 1,305 ㎜1,305 mm 1,295 ㎜1,295 mm 1,305 ㎜1,305 mm 有Yes 비교예 3Comparative Example 3 1,320 ㎜1,320 mm 1,320 ㎜1,320 mm 1,240 ㎜1,240 mm 1,295 ㎜1,295 mm 1,305 ㎜1,305 mm 有Yes

표 1 및 도 4 내지 6에서 보는 바와 같이, 실시예 1의 다층 필름은 ITO 증착 후에도 기포가 전혀 발생하지 않음을 확인할 수 있었다. As shown in Table 1 and Figs. 4 to 6, it was confirmed that the multilayer film of Example 1 did not cause any air bubbles even after ITO deposition.

반면, 도 5 및 6에서 보는 바와 같이, 제1 하드코팅층의 폭보다 점착층의 폭이 넓은 비교예 1, 점착층의 폭보다 제2 하드코팅층의 폭이 넓은 비교예 2 및 점착층의 폭보다 제1 하드코팅층의 폭이 좁고 제2 하드코팅층의 폭이 넓은 비교예 3의 다층 필름은 ITO 증착 후 점착층과 하드코팅층 사이 측면에 기포가 발생하여 투명 전극 필름으로 적합하지 않았다.
On the other hand, as shown in FIGS. 5 and 6, Comparative Example 1 in which the width of the adhesive layer is larger than the width of the first hard coating layer, Comparative Example 2 in which the width of the second hard coating layer is wider than the width of the adhesive layer, The multilayer film of Comparative Example 3 in which the width of the first hard coating layer was narrow and the width of the second hard coating layer was wide, bubbles were generated on the side surface between the adhesive layer and the hard coating layer after ITO deposition,

100, 100': 다층 필름 110: 기재필름
120: 제1 하드코팅층 130: 점착층
140: 제2 하드코팅층 150: 보호필름
160: 제3 하드코팅층 170: 제4 하드코팅층
210: 고굴절률층 300: 투명 전극 필름
310: 인듐주석산화물(ITO)층100, 100 ': multilayer film 110: substrate film
120: first hard coating layer 130: adhesive layer
140: second hard coating layer 150: protective film
160: third hard coating layer 170: fourth hard coating layer
210: high refractive index layer 300: transparent electrode film
310: indium tin oxide (ITO) layer

Claims (14)

기재필름, 제1 하드코팅층, 점착층, 제2 하드코팅층 및 보호필름을 순차적으로 적층된 형태로 포함하는 다층 필름으로서,
상기 점착층이 제1 하드코팅층의 폭보다 좁고 제2 하드코팅층의 폭보다 넓은 폭을 가지되, 각 층의 폭 중간부가 서로 대응되게 위치하며,
상기 점착층이 제2 하드코팅층과 양쪽 각각 5 mm 이상의 폭 차이를 가지고, 상기 폭 차이만큼 제2 하드코팅층의 양쪽 측면 테두리를 실링하는, 다층 필름.
A multilayer film comprising a substrate film, a first hard coat layer, a pressure-sensitive adhesive layer, a second hard coat layer, and a protective film sequentially laminated,
Wherein the adhesive layer is narrower than the width of the first hard coat layer and has a width larger than the width of the second hard coat layer,
Wherein the adhesive layer has a width difference of at least 5 mm on both sides of the second hard coat layer and seals both side edges of the second hard coat layer by the width difference.
제1항에 있어서,
상기 제2 하드코팅층이 점착층의 폭의 90.0 내지 99.7 %의 폭을 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
And the second hard coat layer has a width of 90.0 to 99.7% of the width of the adhesive layer.
제1항에 있어서,
상기 점착층이 제1 하드코팅층의 폭의 99.0 내지 99.7 %의 폭을 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the adhesive layer has a width of 99.0 to 99.7% of the width of the first hard coat layer.
제1항에 있어서,
상기 기재필름 및 보호필름이 동일한 폭을 가지며, 제1 하드코팅층의 폭보다 큰 폭을 가지고,
상기 제1 하드코팅층이 기재필름의 폭의 97.0 내지 99.7 %의 폭을 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the base film and the protective film have the same width, have a width larger than the width of the first hard coat layer,
Wherein the first hard coat layer has a width of 97.0 to 99.7% of the width of the substrate film.
제1항에 있어서,
상기 제2 하드코팅층이 점착층의 폭의 90.0 내지 99.7 %의 폭을 가지고,
상기 점착층이 제1 하드코팅층의 폭의 99.0 내지 99.7 %의 폭을 가지며,
상기 기재필름 및 보호필름이 동일한 폭을 가지며, 제1 하드코팅층의 폭보다 큰 폭을 가지고,
상기 제1 하드코팅층이 기재필름의 폭의 97.0 내지 99.0 %의 폭을 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
The second hard coat layer has a width of 90.0 to 99.7% of the width of the adhesive layer,
The adhesive layer has a width of 99.0 to 99.7% of the width of the first hard coat layer,
Wherein the base film and the protective film have the same width, have a width larger than the width of the first hard coat layer,
Wherein the first hard coat layer has a width of 97.0 to 99.0% of the width of the substrate film.
제1항에 있어서,
상기 다층 필름이 기재필름의 타면에 제3 하드코팅층을 포함하고,
상기 제3 하드코팅층이 제1 하드코팅층의 폭과 동일한 폭을 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the multilayer film comprises a third hard coat layer on the other side of the substrate film,
Wherein the third hard coat layer has a width equal to the width of the first hard coat layer.
제6항에 있어서,
상기 다층 필름이 제3 하드코팅층의 타면에 고굴절률층을 포함하고,
상기 고굴절률층이 제3 하드코팅층의 폭과 동일한 폭을 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 6,
Wherein the multilayer film includes a high refractive index layer on the other side of the third hard coat layer,
Wherein the high refractive index layer has the same width as the width of the third hard coating layer.
제1항에 있어서,
상기 다층 필름이 보호필름의 타면에 제4 하드코팅층을 포함하고,
상기 제4 하드코팅층이 제2 하드코팅층의 폭과 동일한 폭을 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the multilayered film comprises a fourth hard coat layer on the other side of the protective film,
Wherein the fourth hard coat layer has a width equal to the width of the second hard coat layer.
제1항에 있어서,
상기 기재필름 및 보호필름이 각각 폴리에스테르 수지를 포함하는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the base film and the protective film each comprise a polyester resin.
제1항에 있어서,
상기 기재필름 및 보호필름이 각각 50 내지 200 ㎛의 두께를 가지며,
상기 제1 하드코팅층 및 제2 하드코팅층이 각각 0.8 내지 1.5 ㎛의 두께를 가지고,
상기 점착층이 10 내지 20 ㎛의 두께를 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the base film and the protective film each have a thickness of 50 to 200 mu m,
Wherein the first hard coating layer and the second hard coating layer each have a thickness of 0.8 to 1.5 占 퐉,
Wherein the adhesive layer has a thickness of 10 to 20 占 퐉.
제1항에 있어서,
상기 다층 필름이 터치 패널용 전극 필름의 제조에 사용되는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the multilayer film is used for manufacturing an electrode film for a touch panel.
인듐주석산화물(ITO)층 및 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항의 다층 필름을 적층된 형태로 포함하는, 투명 전극 필름.
A transparent electrode film comprising an indium tin oxide (ITO) layer and a multilayer film as claimed in any one of claims 1 to 11 in laminated form.
(a-1) 코팅에 의해서 기재필름의 일면에 제1 하드코팅층을 형성하는 단계;
(b-1) 코팅에 의해서 보호필름의 일면에 제2 하드코팅층을 형성하고, 상기 제2 하드코팅층의 타면에 점착층을 형성하는 단계; 및
(c-1) 상기 제1 하드코팅층과 점착층이 접하도록 합지하는 단계를 포함하는 다층 필름의 제조방법으로서,
상기 점착층이 제1 하드코팅층의 폭보다 좁고 제2 하드코팅층의 폭보다 넓은 폭을 가지되, 각 층의 폭 중간부가 서로 대응되게 위치하며,
상기 점착층이 제2 하드코팅층과 양쪽 각각 5 mm 이상의 폭 차이를 가지고, 상기 폭 차이만큼 제2 하드코팅층의 양쪽 측면 테두리를 실링하는, 다층 필름의 제조방법.
(a-1) forming a first hard coat layer on one side of the base film by coating;
(b-1) forming a second hard coat layer on one side of the protective film by coating and forming an adhesive layer on the other side of the second hard coat layer; And
(c-1) a step of laminating the first hard coat layer and the adhesive layer so as to be in contact with each other,
Wherein the adhesive layer is narrower than the width of the first hard coat layer and has a width larger than the width of the second hard coat layer,
Wherein the adhesive layer has a width difference of at least 5 mm on both sides of the second hard coat layer and seals both side edges of the second hard coat layer by the width difference.
(a-2) 코팅에 의해서 기재필름의 양면에 제1 및 제3 하드코팅층을 형성하는 단계;
(b-2) 코팅에 의해서 제3 하드코팅층의 타면에 고굴절률층을 형성하는 단계;
(c-2) 코팅에 의해서 보호필름의 양면에 제2 및 제4 하드코팅층을 형성하는 단계;
(d-2) 코팅에 의해서 제2 하드코팅층의 타면에 점착층을 형성하는 단계; 및
(e-2) 상기 제1 하드코팅층과 점착층이 접하도록 합지하는 단계를 포함하는 다층 필름의 제조방법으로서,
상기 점착층이 제1 하드코팅층의 폭보다 좁고 제2 하드코팅층의 폭보다 넓은 폭을 가지되, 각 층의 폭 중간부가 서로 대응되게 위치하며,
상기 점착층이 제2 하드코팅층과 양쪽 각각 5 mm 이상의 폭 차이를 가지고, 상기 폭 차이만큼 제2 하드코팅층의 양쪽 측면 테두리를 실링하는, 다층 필름의 제조방법.
(a-2) forming first and third hard coating layers on both sides of the base film by coating;
(b-2) forming a high refractive index layer on the other surface of the third hard coat layer by coating;
(c-2) forming second and fourth hard coating layers on both sides of the protective film by coating;
(d-2) forming an adhesive layer on the other surface of the second hard coat layer by coating; And
(e-2) a step of laminating the first hard coat layer and the adhesive layer so as to be in contact with each other,
Wherein the adhesive layer is narrower than the width of the first hard coat layer and has a width larger than the width of the second hard coat layer,
Wherein the adhesive layer has a width difference of at least 5 mm on both sides of the second hard coat layer and seals both side edges of the second hard coat layer by the width difference.
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