KR101894035B1 - Multilayer film, preparation method thereof and transparent electrode film - Google Patents

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Abstract

실시예는 다층 필름, 이의 제조방법 및 이를 포함함으로써 컬 발생이 방지된 투명 전극 필름에 관한 것으로서, 상기 다층 필름은 기재필름의 위치별 열수축률과 보호필름의 위치별 열수축률이 서로 대응되는 위치에서 일정한 차이를 갖는다. 또한, 상기 투명 전극 필름은 ITO 증착 및 결정화 후에도 종방향, 횡방향 및 트위스트(경사 방향) 컬을 갖지 않는다.The present invention relates to a multilayer film, a method of manufacturing the same, and a transparent electrode film which is prevented from being curled by including the multilayer film, wherein the multilayer film has a multilayered structure in which a heat shrinkage rate There is a certain difference. Further, the transparent electrode film does not have longitudinal, transverse, and twisted (oblique) curls after ITO deposition and crystallization.

Description

다층 필름, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 투명 전극 필름{MULTILAYER FILM, PREPARATION METHOD THEREOF AND TRANSPARENT ELECTRODE FILM}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a multi-layer film, a method of manufacturing the same, and a transparent electrode film including the multi-

실시예는 다층 필름, 이의 제조방법 및 이를 포함함으로써 컬(curl) 발생이 방지된 투명 전극 필름에 관한 것이다.
An embodiment of the present invention relates to a multilayer film, a method of manufacturing the same, and a transparent electrode film with curl generation prevented by the method.

터치 패널(touch panel)용 전극 필름은 기재필름 위에 인듐주석산화물(ITO) 층, 은 나노와이어층, 또는 금속 메쉬층 등이 적층된 구조를 갖는다.The electrode film for a touch panel has a structure in which an indium tin oxide (ITO) layer, a silver nanowire layer, a metal mesh layer, or the like is laminated on a base film.

ITO층을 포함하는 ITO 필름은 일반적으로 ITO층/고굴절률층/제1 하드코팅층/기재필름/제2 하드코팅층/점착층/보호필름의 구조를 갖는다. 이와 같은 ITO 필름을 제조하기 위해서는, 먼저 기재필름의 일면에 제2 하드코팅층을 코팅하고, 보호필름의 일면에 점착층을 코팅한 후 제2 하드코팅층과 점착층이 접하도록 합지하여 적층체를 제조한다. 이어, 기재필름의 타면에 제1 하드코팅층 및 고굴절률층을 순차적으로 코팅한 후, 고굴절률층의 타면에 ITO층을 증착시키고 150 내지 160 ℃의 오븐에서 어닐링(annealing)하여 ITO의 결정화 공정을 수행하였다. 그러나, 상기 합지에 의해 적층체를 제조한 후 하드코팅층 코팅시, 또는 하드코팅층 코팅 후 ITO층 증착 및 결정화시, 기재필름과 보호필름 사이의 열수축률 편차로 인하여 ITO 필름에 컬이 발생하는 문제가 있었다. 특히, 트위스트(twist) 컬(경사 방향의 컬)이 발생한 경우에는 ITO 필름으로의 적용이 불가능하였다.The ITO film including the ITO layer generally has a structure of ITO layer / high refractive index layer / first hard coat layer / base film / second hard coat layer / adhesive layer / protective film. In order to produce such an ITO film, first, a second hard coating layer is coated on one surface of a base film, an adhesive layer is coated on one surface of the protective film, and the second hard coating layer and the adhesive layer are brought into contact with each other to form a laminate do. Next, a first hard coating layer and a high refractive index layer are sequentially coated on the other surface of the base film, an ITO layer is deposited on the other surface of the high refractive index layer, and annealing is performed in an oven at 150 to 160 ° C to crystallize ITO Respectively. However, there is a problem in that curling of the ITO film occurs due to a difference in heat shrinkage ratio between the base film and the protective film when the ITO layer is coated on the hard coat layer after the laminate is prepared, or after the hard coating layer is coated and crystallized there was. In particular, when twist curls (curls in an oblique direction) are generated, application to an ITO film is impossible.

이에, 기재필름의 컬 발생을 억제하고 표면결함을 방지하고자, 대한민국 등록특허 제 10-1051226 호는 기재필름의 일면에 하드코팅층을 형성하기에 앞서, 기재필름의 일면에 2관능 우레탄아크릴레이트계 올리고머 유래 경화수지를 포함하는 경화수지층을 형성하여 광학용 필름을 제조하는 방법을 개시하고 있다.
Thus, in order to suppress the generation of curl of the base film and prevent surface defects, Korean Patent No. 10-1051226 discloses a method for producing a base film, which comprises forming a hard coat layer on one surface of a base film using a bifunctional urethane acrylate oligomer And a cured resin layer containing the derived cured resin is formed to produce an optical film.

대한민국 등록특허 제 10-1051226 호Korean Patent No. 10-1051226

그러나, 상기 등록특허의 광학용 필름은 기재필름과 보호필름의 열수축률 편차에 의한 컬의 발생을 완전히 방지할 수 없었다.However, the optical film of the above patent can not completely prevent the curling due to the heat shrinkage rate difference between the base film and the protective film.

따라서, 실시예는 기재필름의 위치별 열수축률과 보호필름의 위치별 열수축률이 서로 대응되는 위치에서 일정한 차이를 갖는 다층 필름, 이의 제조방법 및 이를 포함함으로써 컬 발생이 방지된 투명 전극 필름을 제공하고자 한다.
Accordingly, the embodiment provides a multilayer film having a certain difference in the positions where the heat shrinkage rate of the base film is different from the heat shrinkage rate of the protective film according to the positions thereof, a method for manufacturing the same, and a transparent electrode film I want to.

일 실시예에 따르면, 기재필름, 하드코팅층, 점착층 및 보호필름을 순차적으로 적층된 형태로 포함하는 다층 필름으로서,According to one embodiment, there is provided a multilayer film comprising a substrate film, a hard coat layer, a pressure-sensitive adhesive layer and a protective film sequentially laminated,

상기 기재필름 및 보호필름이 각각 폴리에스테르 수지를 포함하며, 종방향 및 횡방향 각각에 대해서 두 필름 간에 0.05 내지 0.15 %의 열수축률 차이를 갖는, 다층 필름이 제공된다.Wherein the base film and the protective film each comprise a polyester resin and have a heat shrinkage difference of 0.05 to 0.15% between the two films in the longitudinal and transverse directions, respectively.

다른 실시예에 따르면, 인듐주석산화물(ITO)층, 고굴절률층 및 상술한 바와 같은 다층 필름을 순차적으로 적층된 형태로 포함하는, 투명 전극 필름이 제공된다.According to another embodiment, there is provided a transparent electrode film comprising an indium tin oxide (ITO) layer, a high refractive index layer and a multilayer film as described above in a sequentially laminated form.

또 다른 실시예에 따르면, (a) 코팅에 의해서 기재필름의 일면에 하드코팅층을 형성하는 단계;(A) forming a hard coat layer on one side of the substrate film by coating;

(b) 코팅에 의해서 보호필름의 일면에 점착층을 형성하는 단계; 및(b) forming an adhesive layer on one side of the protective film by coating; And

(c) 상기 하드코팅층과 상기 점착층이 접하도록 합지하여 다층 필름을 제조하는 단계를 포함하고,(c) preparing a multilayered film by laminating the hard coat layer and the adhesive layer so as to be in contact with each other,

상기 기재필름 및 보호필름이 종방향 및 횡방향 각각에 대해서 두 필름 간에 0.05 내지 0.15 %의 열수축률 차이를 갖는, 다층 필름의 제조방법이 제공된다.
Wherein the base film and the protective film have a heat shrinkage difference of 0.05 to 0.15% between the two films in the longitudinal and transverse directions, respectively.

상기 다층 필름은 구성층인 기재필름과 보호필름 간에 서로 대응되는 위치에서 일정한 열수축률의 차이를 가짐으로써, 투명 전극 필름의 제조를 위해 추가로 하드코팅층이 코팅되거나 또는 하드코팅층 코팅 후 ITO 층이 증착되고 결정화될 경우에도 종방향, 횡방향 및 트위스트(경사 방향) 컬을 발생시키지 않아 투명 전극 필름의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
The multilayered film has a constant difference in heat shrinkage ratio between the base film and the protective film, so that the hard coating layer is further coated for the production of the transparent electrode film, or the ITO layer is deposited after the hard coating layer is coated And even when crystallized, it is not generated in the longitudinal direction, the transverse direction, and the twist (warp direction) curl, and thus can be usefully used for manufacturing the transparent electrode film.

도 1 및 2는 일례에 따른 다층 필름의 모식도이다.
도 3 및 4는 일례에 따른 투명 전극 필름의 모식도이다.
도 5는 롤 상으로 제조된 기재필름 및 보호필름을 4등분으로 절단하는 일례를 모식적으로 나타낸 것이다.
1 and 2 are schematic views of a multilayer film according to an example.
3 and 4 are schematic views of a transparent electrode film according to an example.
5 schematically shows an example of cutting a base film and a protective film produced in roll form into quarters.

실시예의 설명에 있어서, 각 필름, 막, 패널, 또는 층 등이 각 필름, 막, 패널, 또는 층 등의 "상(on)" 또는 "하(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상(on)"과 "하(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 구성요소를 개재하여(indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 구성요소의 상/하에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. 도면에서의 각 구성요소들의 크기는 설명을 위하여 과장될 수 있으며, 실제로 적용되는 크기를 의미하는 것은 아니다.
In the description of the embodiments, in the case where each film, film, panel or layer is described as being formed "on" or "under" of each film, film, panel, , "On" and "under" all include being formed "directly" or "indirectly" through "another element". In addition, the upper and lower standards for each component are described with reference to the drawings. The size of each component in the drawings may be exaggerated for the sake of explanation and does not mean the size actually applied.

실시예의 다층 필름은 기재필름, 하드코팅층, 점착층 및 보호필름을 순차적으로 적층된 형태로 포함하며, 상기 기재필름 및 보호필름은 각각 폴리에스테르 수지를 포함하며, 종방향 및 횡방향 각각에 대해서 두 필름 간에 0.05 내지 0.15 %의 열수축률 차이를 갖는다. 상기 기재필름 및 보호필름은 종방향의 45 °방향 및 횡방향의 45 °방향(종방향의 135 °방향) 각각에 대해서 두 필름 간에 0.05 내지 0.15 %의 열수축률 차이를 가질 수 있다. 즉, 기재필름의 전체적인 열수축률과 보호필름의 전체적인 열수축률 차이가 0.05 내지 0.15% 일 때, 종방향, 횡방향, 경사방향을 비롯한 각 위치별 열수축률 차이가 일정하여, 투명 전극 필름의 제조를 위해 추가로 하드코팅층이 코팅되거나 또는 하드코팅층 코팅 후 ITO층이 증착되고 결정화될 경우에도 컬을 발생시키지 않는다.
The multilayer film of the embodiment includes a base film, a hard coat layer, a pressure-sensitive adhesive layer and a protective film sequentially laminated, wherein the base film and the protective film each comprise a polyester resin, And has a heat shrinkage difference of 0.05 to 0.15% between the films. The base film and the protective film may have a difference in heat shrinkage ratio of 0.05 to 0.15% between the two films in the 45 ° direction in the longitudinal direction and the 45 ° direction in the transverse direction (135 ° in the longitudinal direction). That is, when the difference between the overall heat shrinkage ratio of the base film and the overall heat shrinkage percentage of the protective film is 0.05 to 0.15%, the difference in thermal shrinkage ratio at each position including the longitudinal direction, the transverse direction and the oblique direction is constant, Or even when the ITO layer is deposited and crystallized after the hard coating layer coating, it does not generate curl.

다층 필름Multilayer film

도 1을 참조하면, 일례에 따른 다층 필름(100)은 기재필름(110), 하드코팅층(120), 점착층(130) 및 보호필름(140)이 순차적으로 적층된 구조를 포함한다.Referring to FIG. 1, a multilayer film 100 according to an exemplary embodiment includes a structure in which a base film 110, a hard coating layer 120, an adhesive layer 130, and a protective film 140 are sequentially laminated.

도 2를 참조하면, 다른 예에 따른 다층 필름(100')은 하드코팅층(210), 기재필름(110), 하드코팅층(120), 점착층(130) 및 보호필름(140)이 순차적으로 적층된 구조를 포함한다.
Referring to FIG. 2, a multilayer film 100 'according to another example includes a hard coat layer 210, a base film 110, a hard coat layer 120, an adhesive layer 130, and a protective film 140 sequentially laminated Lt; / RTI >

상기 기재필름(110)은 폴리에스테르 수지를 포함한다. 구체적으로, 상기 폴리에스테르 수지는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리카보네이트(PC) 수지 및 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 수지로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 기재필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지를 포함할 수 있다.The base film 110 includes a polyester resin. Specifically, the polyester resin includes at least one selected from the group consisting of a polyethylene terephthalate (PET) resin, a polybutylene terephthalate resin, a polycarbonate (PC) resin and a polymethyl methacrylate (PMMA) resin . More specifically, the base film may include a polyethylene terephthalate resin.

상기 기재필름은 20 내지 500 ㎛의 두께를 가질 수 있으며, 구체적으로 50 내지 150 ㎛의 두께를 가질 수 있다.The base film may have a thickness of 20 to 500 탆, and specifically may have a thickness of 50 to 150 탆.

상기 기재필름은 기계적 강도 또는 광학적 기능을 높이기 위해 필요에 따라 필름에 1축 연신 또는 2축 연신된 것일 수 있다.The base film may be uniaxially or biaxially stretched to a film as necessary to enhance mechanical strength or optical function.

상기 기재필름은 0.3 내지 0.6 %의 종방향 열수축률 및 -0.15 내지 0.20 %의 횡방향 열수축률을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 기재필름은 0.3 내지 0.5 %의 종방향 열수축률 및 0 내지 0.1 %의 횡방향 열수축률을 가질 수 있다.The base film may have a longitudinal heat shrinkage of 0.3 to 0.6% and a lateral heat shrinkage of -0.15 to 0.20%. Specifically, the base film may have a longitudinal heat shrinkage of 0.3 to 0.5% and a lateral heat shrinkage of 0 to 0.1%.

상기 기재필름은 0.05 내지 0.40 %의 종방향의 45 °방향 열수축률 및 0.05 내지 0.40 %의 횡방향의 45 °방향 열수축률을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 기재필름은 0.07 내지 0.35 %의 종방향의 45 °방향 열수축률 및 0.07 내지 0.35 %의 횡방향의 45 °방향 열수축률을 가질 수 있다.
The base film may have a heat shrinkage ratio in the longitudinal direction of 45 DEG of 0.05 to 0.40% and a heat shrinkage direction of 45 DEG in the transverse direction of 0.05 to 0.40%. Specifically, the base film may have a heat shrinkage ratio in the longitudinal direction of 45 DEG of 0.07 to 0.35% and a heat shrinkage direction of 45 DEG in the transverse direction of 0.07 to 0.35%.

상기 하드코팅층(120, 210)은 기재필름의 일면 또는 양면에 형성되어, 필름 표면의 올리고머 용출을 방지하고 필름의 내열성 및 광학적 특성을 향상시킨다.The hard coating layers 120 and 210 are formed on one side or both sides of the base film to prevent elution of oligomers on the surface of the film and improve heat resistance and optical characteristics of the film.

상기 하드코팅층은 열가소성 수지, 열경화성 수지, 전리방사선 경화성 수지 등을 포함할 수 있으며, 구체적으로, 표면 경도를 높여 높은 하드코팅성을 발휘할 수 있도록 전리방사선(자외선 또는 전자선) 경화성 수지를 포함할 수 있다.The hard coating layer may include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, and the like. Specifically, the hard coating layer may include ionizing radiation (ultraviolet ray or electron beam) curable resin so as to exhibit high hard coating properties by increasing the surface hardness .

상기 열가소성 수지 및 열경화성 수지는 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 아크릴 우레탄계 수지, 폴리에스테르 아크릴레이트계 수지, 폴리우레탄 아크릴레이트계 수지, 에폭시 아크릴레이트계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지, 아세탈계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 멜라민계 수지, 페놀계 수지, 실리콘계 수지 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.The thermoplastic resin and the thermosetting resin may be selected from the group consisting of a polyester resin, an acrylic resin, an acrylic urethane resin, a polyester acrylate resin, a polyurethane acrylate resin, an epoxy acrylate resin, a urethane resin, an epoxy resin, a polycarbonate resin , A resin selected from the group consisting of a cellulose resin, an acetal resin, a polyethylene resin, a polystyrene resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a melamine resin, a phenol resin, a silicone resin and a mixture thereof.

상기 전리방사선 경화성 수지는 전리방사선의 조사에 의해 가교 및 경화되는 광중합성 프리폴리머일 수 있으며, 상기 광중합성 프리폴리머는 양이온 중합형 또는 라디칼 중합형 광중합성 프리폴리머일 수 있다. 상기 양이온 중합형 광중합성 프리폴리머는 에폭시계 수지 또는 비닐 에스테르계 수지 등을 들 수 있다. 상기 에폭시계 수지는 비스페놀계 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 지방족 에폭시 수지 및 이의 혼합물 등을 들 수 있다. 상기 라디칼 중합형 광중합성 프리폴리머는 아크릴계 프리폴리머(경질 프리폴리머)일 수 있다. 상기 아크릴계 프리폴리머는 1 분자 중 2 개 이상의 아크릴로일기를 갖고, 가교 경화를 통해 3 차원 망목 구조를 포함하여 하드코팅성의 관점에서 바람직하다. 상기 아크릴계 프리폴리머는 우레탄 아크릴레이트계 프리폴리머, 폴리에스테르 아크릴레이트계 프리폴리머, 에폭시 아크릴레이트계 프리폴리머, 멜라민 아크릴레이트계 프리폴리머, 폴리플루오로알킬 아크릴레이트계 프리폴리머, 실리콘 아크릴레이트계 프리폴리머 및 이의 혼합물 등을 들 수 있다. The ionizing radiation curable resin may be a photopolymerizable prepolymer crosslinked and cured by irradiation with ionizing radiation, and the photopolymerizable prepolymer may be a cationic polymerizable or radical polymerizable photopolymerizable prepolymer. Examples of the cationic polymerization type photopolymerizable prepolymer include an epoxy resin and a vinyl ester resin. Examples of the epoxy resin include a bisphenol-based epoxy resin, a novolak-type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, and a mixture thereof. The radically polymerizable photopolymerizable prepolymer may be an acrylic prepolymer (hard prepolymer). The acryl-based prepolymer has two or more acryloyl groups per molecule and is preferable from the viewpoint of hard coatability including a three-dimensional network structure through crosslinking curing. The acrylic prepolymer may be a urethane acrylate prepolymer, a polyester acrylate prepolymer, an epoxy acrylate prepolymer, a melamine acrylate prepolymer, a polyfluoroalkyl acrylate prepolymer, a silicone acrylate prepolymer, or a mixture thereof have.

상기 하드코팅층은 가교 경화성의 향상 또는 경화 수축의 조정 등 각종 성능을 부여하기 위해, 광중합성 모노머를 추가로 포함할 수 있다. 상기 광중합성 모노머는 단관능 (메트)아크릴 모노머(예: 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 부톡시에틸(메트)아크릴레이트 등), 2관능 (메트)아크릴 모노머(예: 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 히드록시피발산에스테르네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 등), 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴 모노머(예: 디펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리메틸프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트 등)일 수 있다. 이들 광중합성 모노머는 단독 또는 2 종 이상을 조합해서 사용할 수 있다.The hard coat layer may further comprise a photopolymerizable monomer for imparting various performances such as improvement of crosslinking curability or adjustment of curing shrinkage. The photopolymerizable monomer may be selected from the group consisting of monofunctional (meth) acryl monomers such as 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate and the like), bifunctional (meth) acryl monomers such as 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) (Meth) acrylate such as polyethylene glycol di (meth) acrylate and hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate), polyfunctional (meth) acrylic monomers having three or more functional groups such as dipentaerythritol hexa Propane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, etc.). These photopolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.

상기 하드코팅층을 자외선 조사에 의해 경화시켜서 형성하는 경우, 하드코팅층은 전술한 광중합성 프리폴리머 및 광중합성 모노머 외에 광중합 개시제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 광중합 개시제는 자외선 경화 수지의 경화에 범용으로 쓰이는 통상적인 개시제를 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기 광중합 개시제는 옥심에스터계, 아세토페논계, 벤조페논계, 벤조인계, 벤조일계, 크산톤계, 트리아진계, 할로메틸옥사디아졸계, 로핀다이머류 등의 광개시제를 사용할 수 있다. 이들은 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.When the hard coat layer is formed by curing by ultraviolet irradiation, the hard coat layer may further include a photopolymerization initiator in addition to the photopolymerizable prepolymer and the photopolymerizable monomer. The photopolymerization initiator may be a conventional initiator generally used for curing the ultraviolet curing resin. For example, the photopolymerization initiator may be selected from photoinitiators such as oxime ester, acetophenone, benzophenone, benzoin, benzoyl, xanthone, triazine, halomethyloxadiazole, and triphenylmethane. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 하드코팅층은 10 ㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 하드코팅층은 0.1 내지 10 ㎛, 0.5 내지 5 ㎛, 또는 1 내지 2 ㎛의 두께를 가질 수 있다.
The hard coat layer may have a thickness of 10 [mu] m or less. Specifically, the hard coating layer may have a thickness of 0.1 to 10 mu m, 0.5 to 5 mu m, or 1 to 2 mu m.

상기 점착층(130)은 통상적인 점착제 수지를 이용하여 형성될 수 있다.The adhesive layer 130 may be formed using a conventional adhesive resin.

상기 점착제 수지는 아크릴 단량체 및 카복실기 함유 불포화 단량체 중에서 선택된 1종 이상이 중합되어 형성될 수 있다. 상기 아크릴 단량체의 구체적인 예로는 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 에틸헥실(메트)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메트)아크릴레이트, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 글리세롤(메트)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸아크릴레이트, 부틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메트)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜)메틸에테르(메트)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메트)아크릴레이트, 이소보닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트 및 그 혼합물을 들 수 있고, 구체적으로, 메틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트 및 그 혼합물을 들 수 있다. 상기 카복실기 함유 불포화 단량체의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시 아세트산, 3-(메트)아크릴로일옥시 프로필산, 4-(메트)아크릴로일옥시 부틸산, 아크릴산 이중체, 이타콘산, 말레산, 말레산 무수물 및 그 혼합물을 들 수 있고, 구체적으로, 메타크릴산, 아크릴산 및 그 혼합물을 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive resin may be formed by polymerization of at least one selected from an acrylic monomer and a carboxyl group-containing unsaturated monomer. Specific examples of the acrylic monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, ) Acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, tetrahydroperfuryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, methyl? -Hydroxymethylacrylate, ethyl? -Hydroxymethylacrylate (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl (Meth) acrylate, propyl [alpha] -hydroxymethyl acrylate, butyl [alpha] -hydroxymethyl acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (Meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1,1,1-trimethylolpropane tri (meth) acrylate, methoxytripropylene glycol (Meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, dicyclopentyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl , Methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and mixtures thereof. Specific examples of the carboxyl group-containing unsaturated monomer include acrylic acid, methacrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyacetic acid, 3- (meth) acryloyloxypropyl acid, 4- (meth) acryloyloxybutyric acid , Acrylic acid dimer, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, and mixtures thereof, and specifically, methacrylic acid, acrylic acid, and mixtures thereof.

상기 점착층은 5 내지 20 ㎛의 두께를 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 점착층은 7 내지 18 ㎛, 8 내지 15 ㎛, 또는 8 내지 12 ㎛의 두께를 가질 수 있다.
The adhesive layer may have a thickness of 5 to 20 mu m. Specifically, the adhesive layer may have a thickness of 7 to 18 占 퐉, 8 to 15 占 퐉, or 8 to 12 占 퐉.

상기 보호필름(140)은 폴리에스테르 수지를 포함한다. 상기 보호필름을 구성하는 폴리에스테르 수지는 상기 기재필름을 구성하는 폴리에스테르 수지에서 설명한 바와 같다.The protective film 140 includes a polyester resin. The polyester resin constituting the protective film is as described for the polyester resin constituting the base film.

상기 보호필름은 20 내지 500 ㎛의 두께를 가질 수 있으며, 구체적으로 50 내지 150 ㎛의 두께를 가질 수 있다. The protective film may have a thickness of 20 to 500 탆, and may have a thickness of 50 to 150 탆.

상기 보호필름은 기계적 강도 또는 광학적 기능을 높이기 위해 필요에 따라 필름에 1축 연신 또는 2축 연신된 것일 수 있다.The protective film may be uniaxially stretched or biaxially stretched to a film as necessary to enhance mechanical strength or optical function.

상기 보호필름은 0.4 내지 0.7 %의 종방향 열수축률 및 -0.05 내지 0.30 %의 횡방향 열수축률을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 보호필름은 0.5 내지 0.7 %의 종방향 열수축률 및 0 내지 0.2 %의 횡방향 열수축률을 가질 수 있다.The protective film may have a longitudinal heat shrinkage of 0.4 to 0.7% and a transverse heat shrinkage of -0.05 to 0.30%. Specifically, the protective film may have a longitudinal heat shrinkage of 0.5 to 0.7% and a lateral heat shrinkage of 0 to 0.2%.

상기 보호필름은 0.10 내지 0.45 %의 종방향의 45 °방향 열수축률 및 0.10 내지 0.45 %의 횡방향의 45 °방향 열수축률을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 보호필름은 0.10 내지 0.35 %의 종방향의 45 °방향 열수축률 및 0.10 내지 0.35 %의 횡방향의 45 °방향 열수축률을 가질 수 있다.
The protective film may have a heat shrinkage rate in the longitudinal direction of 45 DEG of 0.10 to 0.45% and a heat shrinkage rate in the direction of 45 DEG of the transverse direction of 0.10 to 0.45%. Specifically, the protective film may have a heat shrinkage ratio in the longitudinal direction of 45 DEG of 0.10 to 0.35% and a heat shrinkage direction of 45 DEG in the transverse direction of 0.10 to 0.35%.

상기 기재필름과 상기 보호필름의 열수축율 차이는 0.05 내지 0.15 % 범위 이내이어야 한다. 구체적으로, 상기 기재 필름과 상기 보호 필름의 열수축율 차이는 종방향으로 약 0.05 내지 0.15 %, 횡방향으로 약 0.05 내지 0.15 %, 종방향의 45 °방향으로 약 0.05 내지 0.15 %, 횡방향의 45 °방향으로 약 0.05 내지 0.15 %일 수 있다.The difference in heat shrinkage between the base film and the protective film should be within the range of 0.05 to 0.15%. Specifically, the heat shrinkage difference between the base film and the protective film is about 0.05 to 0.15% in the longitudinal direction, about 0.05 to 0.15% in the transverse direction, about 0.05 to 0.15% in the longitudinal direction in the 45 ° direction, And about 0.05 to about 0.15% in the? Direction.

상기 다층 필름은 상기 기재필름의 타면에 하드코팅층을 더 포함하여 기재필름의 양면에 하드코팅층을 포함할 경우에도 편평한 바닥을 기준으로 측정시 10 mm 이하의 가장자리 들뜸을 가질 수 있다.The multi-layer film may further include a hard coating layer on the other surface of the base film so that the base film may have edge peeling of 10 mm or less when measured on the basis of the flat bottom, even when the hard coating layer is included on both sides of the base film.

상기 다층 필름은 터치 패널용 전극 필름의 제조에 사용될 수 있다.
The multilayer film can be used for manufacturing an electrode film for a touch panel.

투명 전극 필름Transparent electrode film

도 3을 참조하면, 일례에 따른 투명 전극 필름(300)은 인듐주석산화물(ITO)층(310), 고굴절률층(320), 기재필름(110), 하드코팅층(120), 점착층(130) 및 보호필름(140)이 순차적으로 적층된 구조를 포함한다.3, a transparent electrode film 300 according to an exemplary embodiment includes an indium tin oxide (ITO) layer 310, a high refractive index layer 320, a base film 110, a hard coat layer 120, an adhesive layer 130 And a protective film 140 are sequentially laminated.

도 4를 참조하면, 다른 예에 따른 투명 전극 필름(300')은 인듐주석산화물(ITO)층(310), 고굴절률층(320), 하드코팅층(210), 기재필름(110), 하드코팅층(120), 점착층(130) 및 보호필름(140)이 순차적으로 적층된 구조를 포함한다.
Referring to FIG. 4, the transparent electrode film 300 'according to another exemplary embodiment includes an indium tin oxide (ITO) layer 310, a high refractive index layer 320, a hard coating layer 210, a base film 110, (120), an adhesive layer (130), and a protective film (140).

상기 기재필름, 하드코팅층, 점착층 및 보호필름 각각은 상기 다층 필름의 구성에서 설명한 바와 같다.
Each of the base film, the hard coating layer, the adhesive layer and the protective film are as described in the constitution of the multilayer film.

상기 인듐주석산화물(ITO)층(310)은 전도성을 부여하는 역할을 수행한다.The indium tin oxide (ITO) layer 310 serves to impart conductivity.

상기 ITO층은 주석산화물을 2 내지 15 중량%로 포함할 수 있다. 주석산화물의 함량이 상기 범위 내일 때, 투명성이 보다 우수하고 터치스크린 패널의 센서층에 보다 적합한 면저항을 얻을 수 있다.The ITO layer may contain 2 to 15% by weight of tin oxide. When the content of the tin oxide is within the above range, transparency is better and sheet resistance suitable for the sensor layer of the touch screen panel can be obtained.

상기 ITO층은 결정화도를 높이기 위해 열처리된 것일 수 있다.The ITO layer may have been heat-treated to increase the degree of crystallization.

상기 ITO층은 10 내지 60 nm의 두께를 가질 수 있고, 구체적으로 20 내지 45 nm의 두께를 가질 수 있다. ITO층의 두께가 상기 범위일 때 광학 투과율이 보다 우수할 수 있다. 또는 사용목적에 따라 두께를 조정하여 면저항을 변화시킬 수 있다.
The ITO layer may have a thickness of 10 to 60 nm, and may have a thickness of 20 to 45 nm. When the thickness of the ITO layer is in the above range, the optical transmittance can be more excellent. Alternatively, the sheet resistance can be changed by adjusting the thickness according to the purpose of use.

상기 고굴절률층(320)은 굴절률을 조절하여 필름의 반사도를 낮추고 투과도를 높이는 역할을 한다.The high refractive index layer 320 functions to adjust the refractive index to lower the reflectivity of the film and increase the transmittance.

상기 고굴절률층은 550 nm 파장에 대한 굴절률이 -1.6 내지 1.7일 수 있다.The high refractive index layer may have a refractive index of -1.6 to 1.7 for a wavelength of 550 nm.

상기 고굴절률층은 열가소성 수지, 열경화성 수지, 전리방사선 경화성 수지 등의 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 수지를 포함할 수 있다. 상기 열가소성 수지, 열경화성 수지, 전리방사선 경화성 수지는 다층 필름에서 설명한 바와 같다.The high refractive index layer may include at least one resin selected from the group consisting of a resin such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ionizing radiation curable resin. The thermoplastic resin, the thermosetting resin and the ionizing radiation curable resin are as described for the multilayer film.

상기 고굴절률층은 60 내지 90 nm의 두께를 가질 수 있다.
The high refractive index layer may have a thickness of 60 to 90 nm.

상기 투명 전극 필름은 ITO층과 고굴절률층 사이에 SiOx층을 더 포함할 수 있다.The transparent electrode film may further include an SiO x layer between the ITO layer and the high refractive index layer.

상기 SiOx층은 필름의 굴절률을 조절하여 반사도를 낮추고 투과도를 높이는 역할을 하며, 예를 들어, SiO2, SiO4 등의 무기 입자를 증착시킨 것일 수 있다.The SiO x layer serves to lower the reflectivity and increase the transmittance by adjusting the refractive index of the film. For example, the SiO x layer may be formed by depositing inorganic particles such as SiO 2 and SiO 4 .

상기 SiOx층은 15 내지 20 nm의 두께를 가질 수 있다.
The SiO x layer may have a thickness of 15-20 nm.

상기 투명 전극 필름은 편평한 바닥을 기준으로 측정시 10 mm 이하의 가장자리 들뜸을 가질 수 있다.
The transparent electrode film may have an edge lift of 10 mm or less when measured based on a flat bottom.

다층 필름의 제조방법Method for manufacturing multilayer film

일 실시예에 따른 다층 필름의 제조방법은 A method of manufacturing a multilayered film according to an embodiment includes:

(a) 코팅에 의해서 기재필름의 일면에 하드코팅층을 형성하는 단계;(a) forming a hard coat layer on one side of the base film by coating;

(b) 코팅에 의해서 보호필름의 일면에 점착층을 형성하는 단계; 및(b) forming an adhesive layer on one side of the protective film by coating; And

(c) 상기 하드코팅층과 상기 점착층이 접하도록 합지하여 다층 필름을 제조하는 단계를 포함하고,(c) preparing a multilayered film by laminating the hard coat layer and the adhesive layer so as to be in contact with each other,

상기 기재필름 및 보호필름이 종방향 및 횡방향 각각에 대해서 두 필름 간에 0.05 내지 0.15 %의 열수축률 차이를 갖는다.
The base film and the protective film have a heat shrinkage difference of 0.05 to 0.15% between the two films in the longitudinal and transverse directions, respectively.

단계 (a)Step (a)

본 단계는 코팅에 의해서 기재필름의 일면에 하드코팅층을 형성하는 단계이다.This step is a step of forming a hard coating layer on one side of the base film by coating.

상기 기재필름 상에 하드코팅층 수지 조성물을 코팅한 후 가열 건조하고, 필요에 따라 경화시킴으로써 하드코팅층을 형성시킬 수 있다. 상기 코팅은 하드코팅층 수지 조성물을 기재필름 상에 스핀 또는 슬릿 코팅법, 롤 코팅법(롤-투-롤 코팅법), 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여, 원하는 코팅 두께로 수행될 수 있다. 상기 코팅 후에는 100 내지 150 ℃의 온도에서 10 초 이상, 구체적으로 1 내지 2 분 동안 가열하여 용매를 제거하고 건조시킬 수 있다. 이때, 기재필름에 걸리는 장력을 5 내지 25 kgf, 구체적으로 10 내지 20 kgf 범위에서 제어하여 기재필름의 열수축률을 조정할 수 있다. The hard coat layer may be formed by coating the hard coat layer resin composition on the base film, followed by drying by heating and, if necessary, curing. The coating can be performed by coating the hard coat layer resin composition on the base film using a spin or slit coating method, a roll coating method (roll-to-roll coating method), a screen printing method, an applicator method, . After the coating, the solvent may be removed by drying at a temperature of 100 to 150 ° C. for 10 seconds or more, specifically, for 1 to 2 minutes, followed by drying. At this time, the heat shrinkage rate of the base film can be adjusted by controlling the tension applied to the base film in the range of 5 to 25 kgf, specifically 10 to 20 kgf.

즉, 기재필름에 100 내지 150 ℃에서 10 초 이상 5 내지 25 kgf의 장력을 가해 기재필름의 열수축률을 제어할 수 있다. 구체적으로, 상기 기재필름에 100 내지 150 ℃에서 1 내지 2 분 동안 10 내지 20 kgf의 장력을 가해 기재필름의 열수축률을 제어할 수 있다. 상기 기재필름의 제어된 열수축률은 상기 다층 필름에서 설명한 바와 같다.
That is, it is possible to control the heat shrinkage rate of the base film by applying a tension of 5 to 25 kgf to the base film at 100 to 150 ° C for 10 seconds or more. Specifically, a tensile force of 10 to 20 kgf may be applied to the base film at 100 to 150 ° C for 1 to 2 minutes to control the heat shrinkage rate of the base film. The controlled heat shrinkage of the base film is as described for the multilayer film.

단계 (b)Step (b)

본 단계는 코팅에 의해서 보호필름의 일면에 점착층을 형성하는 단계이다.This step is a step of forming an adhesive layer on one side of the protective film by coating.

상기 보호필름 상에 점착층 조성물을 코팅한 후 가열 건조하고, 필요에 따라 경화시킴으로써 점착층을 형성시킬 수 있다. 상기 코팅은 점착층 조성물을 보호필름 상에 스핀 또는 슬릿 코팅법, 롤 코팅법(롤-투-롤 코팅법), 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여, 원하는 코팅 두께로 수행될 수 있다. 상기 코팅 후에는 100 내지 150 ℃의 온도에서 10 초 이상, 구체적으로 1 내지 2 분 동안 가열하여 용매를 제거하고 건조시킬 수 있다. 이때, 보호필름에 걸리는 장력을 5 내지 25 kgf, 구체적으로 10 내지 20 kgf 범위에서 제어하여 보호필름의 열수축률을 조정할 수 있다.The adhesive layer composition may be coated on the protective film, followed by heating and drying, and if necessary, curing the adhesive layer. The coating can be carried out on the protective film with a desired coating thickness using a spin or slit coating method, a roll coating method (roll-to-roll coating method), a screen printing method, an applicator method or the like have. After the coating, the solvent may be removed by drying at a temperature of 100 to 150 ° C. for 10 seconds or more, specifically, for 1 to 2 minutes, followed by drying. At this time, the heat shrinkage rate of the protective film can be adjusted by controlling the tension applied to the protective film in the range of 5 to 25 kgf, specifically 10 to 20 kgf.

즉, 보호필름에 100 내지 150 ℃에서 10 초 이상 5 내지 25 kgf의 장력을 가해 보호필름의 열수축률을 제어할 수 있다. 구체적으로, 상기 보호필름에 100 내지 150 ℃에서 1 내지 2 분 동안 10 내지 20 kgf의 장력을 가해 보호필름의 열수축률을 제어할 수 있다. 상기 보호필름의 제어된 열수축률은 상기 다층 필름에서 설명한 바와 같다.
That is, the heat shrinkage rate of the protective film can be controlled by applying a tension of 5 to 25 kgf to the protective film at 100 to 150 ° C for 10 seconds or more. Specifically, the heat shrinkage of the protective film may be controlled by applying a tensile force of 10 to 20 kgf to the protective film at 100 to 150 ° C for 1 to 2 minutes. The controlled heat shrinkage of the protective film is as described for the multilayer film.

상기 기재필름 및 보호필름은 각각 장폭의 롤 상으로 제조된 것을 절단한 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 기재필름 및 보호필름은 각각 다층 필름의 폭의 2 이상의 정수 배이면서 서로 동일한 폭의 롤 상으로 제조된 후 다층 필름과 동일한 폭으로 등분되도록 절단된 것이고, 상기 롤 상일 때 서로 대응되는 부위의 것일 수 있다.The base film and the protective film may be those cut into long rolls. Specifically, the base film and the protective film are each formed into a roll having the same width as the multi-layer film, the width being equal to or greater than 2 and an integer equal to or greater than 2, and then cut to have the same width as that of the multilayer film. It may be of the site.

도 5를 참조하면, 상기 기재필름 및 보호필름은 각각 다층 필름의 폭의 4배이면서 서로 동일한 폭의 롤 상으로 제조된 후 4 등분되도록 절단된 것으로서, 상기 롤 상일 때 서로 대응되는 부위의 것일 수 있다. Referring to FIG. 5, the base film and the protective film are each cut four times as wide as the width of the multi-layer film and divided into four equal parts, have.

본원에서 서로 대응되는 부위라 함은, 동일한 폭의 롤 상으로 제조한 후 롤로부터 필름이 풀리는 방향으로 두었을 때 서로 겹쳐지는 동일한 부위를 지칭하며, 도 5에서 볼 수 있는 바와 같이, 순서대로 #1, #2, #3, #4로 번호를 매겼을 때, 예를 들면, 기재필름이 #1일 경우 보호필름도 #1일 수 있으며, 기재필름이 #2일 경우 보호필름도 #2일 수 있고, 기재필름이 #3일 경우 보호필름도 #3일 수 있으며, 기재필름이 #4일 경우 보호필름도 #4일 수 있다.
The parts corresponding to each other in this description refer to the same parts overlapping each other when they are placed in the direction of unwinding the film from the rolls after being made into rolls of the same width and as shown in Figure 5, For example, when the base film is # 1, the protective film may be # 1, and when the base film is # 2, the protective film may be # 2, # 3, When the base film is # 3, the protective film may be # 3. When the base film is # 4, the protective film may be # 4.

단계 (c)Step (c)

본 단계는 상기 하드코팅층과 상기 점착층이 접하도록 합지하여 다층 필름을 제조하는 단계이다.In this step, the hard coat layer and the adhesive layer are in contact with each other to produce a multilayered film.

상기 합지는 롤 상일 때의 기재필름과 보호필름의 서로 대응되는 위치가 맞닿도록 하드코팅층과 점착층을 합지하는 것일 수 있다. 예를 들어, 도 5를 참조하면, 서로 대응되는 위치가 맞닿도록 합지하는 것은 기재필름이 #1이고 보호필름이 #1일 경우, 기재필름의 #1과 #2 사이의 절단면(i)과 보호필름의 #1과 #2 사이의 절단면(i)이 맞닿도록 합지할 수 있다.
The laminate may be a laminate of a hard coat layer and an adhesive layer so that the positions of the base film and the protective film are matched with each other in the roll-like state. For example, referring to FIG. 5, when the substrate film is # 1 and the protective film is # 1, the mutually facing positions are interlocked with each other so that the cut surface (i) between # 1 and # 2 of the base film and the protection (I) between the # 1 and the # 2 of the film may be in contact with each other.

일 실시예에 따르면, 상기 제조방법은 단계 (c)에서 얻어진 다층 필름의 기재필름의 타면에 코팅에 의해 하드코팅층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.According to one embodiment, the manufacturing method may further include forming a hard coating layer on the other side of the base film of the multilayer film obtained in step (c) by coating.

상기 하드코팅층 형성 단계는 단계 (a)에서 설명한 바와 같다.
The hard coat layer forming step is as described in step (a).

다른 실시예에 따른 다층 필름의 제조방법은 A method of manufacturing a multilayer film according to another embodiment

(1) 일면에 하드코팅층을 포함하는 제1 필름 롤을 절단하여 기재필름을 제조하는 단계; (1) preparing a base film by cutting a first film roll including a hard coating layer on one surface thereof;

(2) 일면에 점착층을 포함하고 상기 제1 필름 롤과 동일한 폭을 갖는 제2 필름 롤을 절단하여 보호필름을 제조하는 단계; 및(2) preparing a protective film by cutting a second film roll having an adhesive layer on one surface and having the same width as the first film roll; And

(3) 상기 기재필름의 하드코팅층과 상기 보호필름의 점착층을 합지하여 다층 필름을 제조하는 단계를 포함하고,(3) laminating a hard coat layer of the base film and an adhesive layer of the protective film to produce a multilayer film,

상기 기재필름 및 보호필름이 종방향 및 횡방향 각각에 대해서 두 필름 간에 0.05 내지 0.15 %의 열수축률 차이를 가지고, 상기 제1 필름 롤에서의 기재필름의 부위와 상기 제2 필름 롤에서의 보호필름의 부위가 서로 대응된다.
Wherein the base film and the protective film have a heat shrinkage difference of 0.05 to 0.15% between the two films in the longitudinal direction and the transverse direction, respectively, and a portion of the base film in the first film roll and a protective film Are associated with each other.

상기 단계 (1)의 하드코팅층은 상기 단계 (a)에서 설명한 바와 같은 방법 및 하드코팅층 수지 조성물을 사용하여 형성될 수 있다.The hard coat layer in step (1) may be formed using the hard coat layer resin composition and the method as described in step (a) above.

상기 단계 (2)의 점착층은 상기 단계 (b)에서 설명한 바와 같은 방법 및 점착층 조성물을 사용하여 형성될 수 있다.The adhesive layer of step (2) may be formed using the method and adhesive layer composition as described in step (b) above.

상기 제1 필름 롤 및 제2 필름 롤은 각각 장폭의 롤일 수 있다. 또한, 제1 필름 롤과 제2 필름 롤은 서로 동일한 폭을 갖는다.The first film roll and the second film roll may each be a long roll. Further, the first film roll and the second film roll have the same width.

상기 제1 필름 롤에서의 기재필름의 부위와 상기 제2 필름 롤에서의 보호필름의 부위가 서로 대응된다. 도 5를 참조하면, 상기 기재필름 및 보호필름은 각각 다층 필름의 폭의 4배이면서 서로 동일한 폭의 제1 필름 롤 및 제2 필름 롤로 제조된 후 4 등분되도록 절단된 것으로서, 상기 롤 상일 때 서로 대응되는 부위의 것이다.The portions of the base film in the first film roll and the portions of the protective film in the second film roll correspond to each other. Referring to FIG. 5, the base film and the protective film are made of a first film roll and a second film roll having the same width and four times the width of the multilayer film, respectively, It corresponds to the corresponding part.

본원에서 서로 대응되는 부위라 함은, 동일한 폭의 롤 상으로 제조한 후 롤로부터 필름이 풀리는 방향으로 두었을 때 서로 겹쳐지는 동일한 부위를 지칭하며, 도 5에서 볼 수 있는 바와 같이, 순서대로 #1, #2, #3, #4로 번호를 매겼을 때, 예를 들면, 기재필름이 #1일 경우 보호필름도 #1일 수 있으며, 기재필름이 #2일 경우 보호필름도 #2일 수 있고, 기재필름이 #3일 경우 보호필름도 #3일 수 있으며, 기재필름이 #4일 경우 보호필름도 #4일 수 있다.
The parts corresponding to each other in this description refer to the same parts overlapping each other when they are placed in the direction of unwinding the film from the rolls after being made into rolls of the same width and as shown in Figure 5, For example, when the base film is # 1, the protective film may be # 1, and when the base film is # 2, the protective film may be # 2, # 3, When the base film is # 3, the protective film may be # 3. When the base film is # 4, the protective film may be # 4.

상기 단계 (3)의 합지는 상기 단계 (c)에서 설명한 바와 같은 방법으로 수행할 수 있다.
The joining of the step (3) may be carried out in the same manner as described in the step (c).

서로 대응되는 부위의 기재필름과 보호필름이 서로 합지되어, 상기 다층 필름을 형성하기 때문에, 상기 다층 필름은 구성층인 기재필름과 보호필름 간에 서로 대응되는 위치에서 일정한 열수축률의 차이를 가진다. 즉, 상기 기재필름과 상기 보호필름이 서로 합지되었을 때, 서로 마주보는 부위에서 일정한 열수축률 차이를 가질 수 있다. 이에 따라서, 투명 전극 필름의 제조를 위해 추가로 하드코팅층이 코팅되거나 또는 하드코팅층 코팅 후 ITO 층이 증착되고 결정화될 경우에도 종방향, 횡방향 및 트위스트(경사 방향) 컬을 발생시키지 않아 투명 전극 필름의 제조에 유용하게 사용될 수 있다. 즉, 실시예에 따른 다층 필름은 상기 기재필름과 상기 보호필름의 부위별 열수축률 불균일을 해소하고, 열수축률 불균일에 의해서 발생될 수 있는 불량을 방지할 수 있다.
The multilayered film has a constant heat shrinkage difference at positions corresponding to each other between the base film and the protective film as the constituent layers because the base film and the protective film of the parts corresponding to each other are laminated together to form the multilayer film. That is, when the base film and the protective film are laminated to each other, a difference in heat shrinkage rate may exist at a portion facing each other. Accordingly, even when a hard coating layer is further coated or a ITO layer is deposited and crystallized after coating the hard coating layer for the production of the transparent electrode film, no longitudinal, transverse, and twisted (curved) curls are generated, . ≪ / RTI > That is, the multilayered film according to the embodiment can solve the heat shrinkage rate unevenness of each of the base film and the protective film, and prevent defects that may be caused by uneven heat shrinkage.

이하, 하기 실시예에 의하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the following examples are intended to illustrate the present invention, but the scope of the present invention is not limited thereto.

[[ 실시예Example ]]

제조예Manufacturing example 1. 기재필름 1. Base film

5,600 mm의 폭 및 50 ㎛ 두께를 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 롤(SKC(주) 제품, 열수축률 평균: 종방향(MD) 0.82 %, 종?향의 45°방향 0.53 %, 횡방향(TD) 0.27 %, 종방향의 135°방향 0.52 %)을 동일한 폭으로 4 등분하였다(기재필름 #1, #2, #3, #4). 이어, 절단된 PET 필름 각각에 롤 코팅법(롤-투-롤 코팅법)으로 하드코팅층 수지 조성물(제조사: SKC(주), 제품명: AD01)을 코팅한 후 120 ℃의 건조기(dryer)를 90 초 동안 통과시켰으며, 이때 기재필름에 걸리는 장력을 10 내지 20 kgf 범위에서 제어하여 기재필름의 열수축률을 조정하였다. 형성된 하드코팅층의 두께는 1 ㎛이었으며, 조정된 기재필름의 열수축률은 하기 표 1에 나타내었다.
A polyethylene terephthalate film roll having a width of 5,600 mm and a thickness of 50 占 퐉 (product of SKC Co., average thermal shrinkage: 0.82% in longitudinal direction, 0.53% in longitudinal direction, 0.53% in longitudinal direction and 0.27 %, 0.52% in the 135 ° direction in the longitudinal direction) were equally divided into four equal parts (base films # 1, # 2, # 3 and # 4). Subsequently, each of the cut PET films was coated with a hard coat layer resin composition (manufactured by SKC Co., Ltd., product name: AD01) by a roll coating method (roll-to-roll coating method) The tension applied to the base film was controlled in the range of 10 to 20 kgf to adjust the heat shrinkage rate of the base film. The thickness of the formed hard coating layer was 1 mu m, and the heat shrinkage percentage of the adjusted base film was shown in Table 1 below.

제조예Manufacturing example 2. 보호필름 2. Protective film

5,600 mm의 폭 및 125 ㎛ 두께를 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 롤(SKC(주) 제품, 열수축률 평균: 종방향(MD) 0.82 %, 종?향의 45°방향 0.53 %, 횡방향(TD) 0.27 %, 종방향의 135°방향 0.52 %)을 동일한 폭으로 4 등분하였다(보호필름 #1, #2, #3, #4). 이어, 절단된 PET 필름 각각에 롤 코팅법(롤-투-롤 코팅법)으로 점착층 수지 조성물(제조사: SKC(주), 제품명: AD03)을 코팅한 후 120 ℃의 건조기(dryer)를 90 초 동안 통과시켰으며, 이때 보호필름에 걸리는 장력을 10 내지 20 kgf 범위에서 제어하여 보호필름의 열수축률을 조정하였다. 형성된 점착층의 두께는 10 ㎛이었으며, 조정된 보호필름의 열수축률은 하기 표 1에 나타내었다.
A polyethylene terephthalate film roll having a width of 5,600 mm and a thickness of 125 탆 (product of SKC Co., average thermal shrinkage: 0.82% in longitudinal direction, 0.53% in longitudinal direction, 0.53% in longitudinal direction, %, 0.52% in the 135 ° direction in the longitudinal direction) were equally divided into four equal parts (protective films # 1, # 2, # 3, and # 4). Subsequently, each of the cut PET films was coated with an adhesive layer resin composition (manufacturer: SKC Co., Ltd., product name: AD03) by a roll coating method (roll-to-roll coating method) Sec, and the heat shrinkage rate of the protective film was adjusted by controlling the tension applied to the protective film in the range of 10 to 20 kgf. The thickness of the formed pressure-sensitive adhesive layer was 10 占 퐉, and the heat shrinkage rate of the prepared protective film is shown in Table 1 below.

제조예Manufacturing example 3. 3.

보호필름 #1을 이용하여, 보호필름에 걸리는 장력을 10 내지 20 kgf 범위에서 제어하여 보호필름의 열수축률을 하기 표 1에 기재된 값으로 조정한 것을 제외하고는, 제조예 2와 동일한 방법으로 보호필름 #1-a를 제조하였다.
The same procedure as in Production Example 2 was carried out except that the protective film # 1 was used to control the tension applied to the protective film in the range of 10 to 20 kgf to adjust the heat shrinkage rate of the protective film to the values shown in Table 1 below. Film # 1-a was prepared.

제조예Manufacturing example 4. 4.

보호필름 #1을 이용하되, 보호필름에 장력을 가하여 열수축률을 제어하는 공정을 수행하지 않은 것을 제외하고는, 제조예 2와 동일한 방법으로 보호필름 #1-b를 제조하였다.
Protective film # 1-b was produced in the same manner as in Production Example 2 except that the process of controlling the heat shrinkage by applying tension to the protective film was not performed.

기재필름Base film 기재필름 열수축률(%)
(MD/45°/TD/135°)
Heat shrinkage percentage of base film (%)
(MD / 45 DEG / TD / 135 DEG)
보호필름Protective film 보호필름 열수축률(%)
(MD/45°/TD/135°)
Protective Film Heat Shrinkage (%)
(MD / 45 DEG / TD / 135 DEG)
제조예 1Production Example 1 #1#One 0.44 / 0.27 / 0.02 / 0.180.44 / 0.27 / 0.02 / 0.18 제조예 2Production Example 2 #1#One 0.55 / 0.34 / 0.07 / 0.240.55 / 0.34 / 0.07 / 0.24 #2#2 0.42 / 0.22 / 0.06 / 0.210.42 / 0.22 / 0.06 / 0.21 #2#2 0.56 / 0.28 / 0.15 / 0.260.56 / 0.28 / 0.15 / 0.26 #3# 3 0.42 / 0.23 / 0.06 / 0.190.42 / 0.23 / 0.06 / 0.19 #3# 3 0.54 / 0.29 / 0.13 / 0.250.54 / 0.29 / 0.13 / 0.25 #4#4 0.44 / 0.12 / 0.02 / 0.250.44 / 0.12 / 0.02 / 0.25 #4#4 0.54 / 0.17 / 0.10 / 0.300.54 / 0.17 / 0.10 / 0.30 -- -- -- 제조예 3Production Example 3 #1-a# 1-a 0.65 / 0.42 / 0.15 / 0.320.65 / 0.42 / 0.15 / 0.32 -- -- -- 제조예 4Production Example 4 #1-b# 1-b 0.82 / 0.57 / 0.27 / 0.470.82 / 0.57 / 0.27 / 0.47

참고예Reference example . . 열수축률Heat shrinkage 측정 Measure

필름을 300 mm × 300 mm (가로 × 세로)로 절단한 후 편평한 바닥을 기준으로 필름의 사면의 길이를 0.1 mm 단위까지 수축 전 길이를 측정하였다. 이후 상기 필름을 150 ℃의 컨벡션 오븐(Convection Oven)에서 30 분 동안 열처리한 후 상술한 바와 같은 방법으로 필름의 사면의 길이를 측정하여 수축 후 길이를 측정하였다. 하기 수학식 1을 이용하여 열수축률(%)을 계산하였다.The film was cut into 300 mm × 300 mm (width × length), and the length of the slope of the film was measured to a length of 0.1 mm based on the flat bottom. Thereafter, the film was heat treated in a convection oven at 150 ° C for 30 minutes, and then the length of the slope of the film was measured by the method described above to measure the length after shrinkage. The heat shrinkage percentage (%) was calculated using the following equation (1).

[수학식 1][Equation 1]

(수축 전 길이- 수축 후 길이)/(수축 전 길이)×100
(Length before shrinkage - length after shrinkage) / (length before shrinkage) x 100

실시예Example 1. One.

제조예 1에서 얻은 하드코팅층이 형성된 기재필름 #1 및 제조예 2에서 얻은 점착층이 형성된 보호필름 #1을 사용하였다. 기재필름과 보호필름의 서로 대응되는 위치가 맞닿도록 상기 점착층과 하드코팅층을 직접 합지하였다. 기재필름의 타면에 제조예 1과 동일한 방법으로 두께 1 ㎛의 하드코팅층을 형성하여 다층 필름을 제조하였다.
Base film # 1 having the hard coat layer obtained in Production Example 1 and protective film # 1 having the adhesive layer obtained in Production Example 2 were used. The pressure-sensitive adhesive layer and the hard coat layer were laminated directly so that the positions of the base film and the protective film corresponded to each other. A hard coat layer having a thickness of 1 占 퐉 was formed on the other surface of the base film in the same manner as in Production Example 1 to prepare a multilayer film.

실시예Example 2 내지 4 및  2 to 4 and 비교예Comparative Example 1 내지 4. 1-4.

하기 표 2에서 기재된 조합으로 기재필름 및 보호필름을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 다층 필름을 제조하였다.
A multilayer film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the base film and the protective film were used in the combination described in Table 2 below.

실험예Experimental Example

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 4에서 제조한 다층 필름을 대상으로 하기 기재된 바에 따라 물성을 측정하였으며, 측정 결과는 하기 표 2에 나타냈다.
The properties of the multilayer films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were measured as described below. The measurement results are shown in Table 2 below.

(1) 컬 발생(1) curl generation

편평한 바닥을 기준으로 다층 필름의 가장자리의 들뜸을 측정하여, 들뜸이 10 mm 이하일 경우 컬 발생 없음으로 평가하였으며, 들뜸이 10 mm를 초과할 경우 컬 발생으로 평가하였다. 컬 발생이 10 mm 이하일 때에는 ITO 층을 포함하는 투명 전극 필름으로 적용 가능하나, 트위스트 컬 발생시에는 투명 전극 필름으로 적용이 불가하다.
The edge of the multilayered film was measured based on the flat bottom, and it was evaluated as no curl when the lifting was 10 mm or less, and curling when the lifting exceeded 10 mm. When the occurrence of curl is 10 mm or less, it can be applied as a transparent electrode film including an ITO layer, but it can not be applied as a transparent electrode film when twist curls are generated.

  기재필름Base film 보호필름Protective film 열수축률 차이(%)
(MD/45°/TD/135°)
Heat shrinkage difference (%)
(MD / 45 DEG / TD / 135 DEG)
컬 발생Curl occurrence 비고
(적용가능성)
Remarks
(Applicability)
실시예 1Example 1 #1#One #1#One 0.11 / 0.07 / 0.05 / 0.060.11 / 0.07 / 0.05 / 0.06 없음none 적용가능Applicable 실시예 2Example 2 #2#2 #2#2 0.14 / 0.06 / 0.09 / 0.050.14 / 0.06 / 0.09 / 0.05 없음none 적용가능Applicable 실시예 3Example 3 #3# 3 #3# 3 0.12 / 0.06 / 0.07 / 0.050.12 / 0.06 / 0.07 / 0.05 없음none 적용가능Applicable 실시예 4Example 4 #4#4 #4#4 0.10 / 0.05 / 0.08 / 0.050.10 / 0.05 / 0.08 / 0.05 없음none 적용가능Applicable 비교예 1Comparative Example 1 #1#One #4#4 0.10 / -0.10 / 0.08 / 0.120.10 / -0.10 / 0.08 / 0.12 발생Occur 트위스트(Twist) 컬 발생,
적용 불가
Twist Curl generation,
Not applicable
비교예 2Comparative Example 2 #4#4 #1#One 0.11 / 0.22 / 0.05 / -0.010.11 / 0.22 / 0.05 / -0.01 발생Occur 트위스트(Twist) 컬 발생,
적용 불가
Twist Curl generation,
Not applicable
비교예 3Comparative Example 3 #1#One #1-a# 1-a 0.21 / 0.15 / 0.13 / 0.140.21 / 0.15 / 0.13 / 0.14 발생Occur 10 mm 이하의 컬 발생,
적용 가능
Curling of less than 10 mm,
Applicable
비교예 4Comparative Example 4 #1#One #1-b# 1-b 0.42 / 0.36 / 0.2 / 0.250.42 / 0.36 / 0.2 / 0.25 발생Occur 10 mm 초과의 컬 발생,
적용불가
A curl of more than 10 mm,
Not applicable

표 2에서 보는 바와 같이, 실시예 1 내지 4의 다층 필름은 비교예 1 내지 4와 비교해볼 때, 종방향, 횡방향 및 트위스트 컬이 전혀 발생하지 않았다. 따라서, 실시예 1 내지 4의 다층 필름은 추가로 ITO층을 증착시키고 결정화시킬 경우에도 컬을 발생시키지 않을 것으로 예상되어, ITO 필름의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
As shown in Table 2, the multilayer films of Examples 1 to 4 had no longitudinal, transverse, and twist curls when compared with Comparative Examples 1 to 4. Therefore, the multilayer films of Examples 1 to 4 are expected not to generate curl even when the ITO layer is additionally deposited and crystallized, and thus can be usefully used in the production of ITO films.

100, 100': 다층 필름 110: 기재필름
120, 210: 하드코팅층 130: 점착층
140: 보호필름 300, 300': 투명 전극 필름
310: 인듐주석산화물(ITO)층 320: 고굴절률층
100, 100 ': multilayer film 110: substrate film
120, 210: hard coating layer 130: adhesive layer
140: protective film 300, 300 ': transparent electrode film
310: indium tin oxide (ITO) layer 320: high refractive index layer

Claims (19)

기재필름, 하드코팅층, 점착층 및 보호필름을 순차적으로 적층된 형태로 포함하는 다층 필름으로서,
상기 기재필름 및 보호필름이 각각 폴리에스테르 수지를 포함하며, 종방향 및 횡방향 각각에 대해서 상기 보호필름의 열수축률이 상기 기재필름의 열수축률보다 크고, 두 필름 간에 0.05 내지 0.15 %의 열수축률 차이를 갖는, 다층 필름.
A multilayer film comprising a base film, a hard coat layer, a pressure-sensitive adhesive layer and a protective film sequentially laminated,
Wherein the base film and the protective film each comprise a polyester resin and the heat shrinkage rate of the protective film is larger than the heat shrinkage rate of the base film in the longitudinal direction and the transverse direction respectively and the heat shrinkage rate difference Lt; / RTI >
제1항에 있어서,
상기 기재필름 및 보호필름이 종방향의 45 °방향 및 횡방향의 45 °방향 각각에 대해서 두 필름 간에 0.05 내지 0.15 %의 열수축률 차이를 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the base film and the protective film have a heat shrinkage difference of 0.05 to 0.15% between the two films in the 45 占 direction in the longitudinal direction and the 45 占 direction in the transverse direction, respectively.
제1항에 있어서,
상기 다층 필름이 상기 기재필름의 타면에 하드코팅층을 더 포함하는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the multilayer film further comprises a hard coating layer on the other side of the base film.
제3항에 있어서,
상기 다층 필름이 편평한 바닥을 기준으로 측정시 10 mm 이하의 가장자리 들뜸을 갖는, 다층 필름.
The method of claim 3,
Wherein the multilayer film has an edge lift of 10 mm or less as measured with respect to a flat bottom.
제1항에 있어서,
상기 기재필름이 0.3 내지 0.6 %의 종방향 열수축률 및 -0.15 내지 0.20 %의 횡방향 열수축률을 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the base film has a longitudinal heat shrinkage ratio of 0.3 to 0.6% and a transverse heat shrinkage ratio of -0.15 to 0.20%.
제2항에 있어서,
상기 기재필름이 0.05 내지 0.40 %의 종방향의 45 °방향 열수축률 및 0.05 내지 0.40 %의 횡방향의 45 °방향 열수축률을 갖는, 다층 필름.
3. The method of claim 2,
Wherein the base film has a heat shrinkage in the longitudinal direction of 45 DEG of 0.05 to 0.40% and a heat shrinkage in the direction of 45 DEG of the transverse direction of 0.05 to 0.40%.
제1항에 있어서,
상기 보호필름이 0.4 내지 0.7 %의 종방향 열수축률 및 -0.05 내지 0.30 %의 횡방향 열수축률을 갖는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the protective film has a longitudinal heat shrinkage of 0.4 to 0.7% and a transverse heat shrinkage of -0.05 to 0.30%.
제2항에 있어서,
상기 보호필름이 0.10 내지 0.45 %의 종방향의 45 °방향 열수축률 및 0.10 내지 0.45 %의 횡방향의 45 °방향 열수축률을 갖는, 다층 필름.
3. The method of claim 2,
Wherein the protective film has a heat shrinkage in the longitudinal direction of 45 DEG of 0.10 to 0.45% and a heat shrinkage in the direction of 45 DEG of the transverse direction of 0.10 to 0.45%.
제1항에 있어서,
상기 다층 필름이 터치 패널용 전극 필름의 제조에 사용되는, 다층 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the multilayer film is used for manufacturing an electrode film for a touch panel.
인듐주석산화물(ITO)층, 고굴절률층 및 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 다층 필름을 순차적으로 적층된 형태로 포함하는, 투명 전극 필름.
A transparent electrode film, an indium tin oxide (ITO) layer, a high-refractive-index layer, and a multilayered film according to any one of claims 1 to 9 in a laminated form.
제10항에 있어서,
상기 투명 전극 필름이 상기 ITO층과 고굴절률층 사이에 SiOx층을 더 포함하는, 투명 전극 필름.
11. The method of claim 10,
Wherein the transparent electrode film further comprises an SiO x layer between the ITO layer and the high refractive index layer.
제10항에 있어서,
상기 투명 전극 필름이 편평한 바닥을 기준으로 측정시 10 mm 이하의 가장자리 들뜸을 갖는, 투명 전극 필름.
11. The method of claim 10,
Wherein the transparent electrode film has an edge lift of 10 mm or less as measured with respect to a flat bottom.
(a) 코팅에 의해서 기재필름의 일면에 하드코팅층을 형성하는 단계;
(b) 코팅에 의해서 보호필름의 일면에 점착층을 형성하는 단계; 및
(c) 상기 하드코팅층과 상기 점착층이 접하도록 합지하여 다층 필름을 제조하는 단계를 포함하고,
상기 기재필름 및 보호필름이 종방향 및 횡방향 각각에 대해서 상기 보호필름의 열수축률이 상기 기재필름의 열수축률보다 크고, 두 필름 간에 0.05 내지 0.15 %의 열수축률 차이를 갖는, 다층 필름의 제조방법.
(a) forming a hard coat layer on one side of the base film by coating;
(b) forming an adhesive layer on one side of the protective film by coating; And
(c) preparing a multilayered film by laminating the hard coat layer and the adhesive layer so as to be in contact with each other,
Wherein the heat shrinkage ratio of the protective film of the base film and the protective film in each of the longitudinal direction and the transverse direction is larger than the heat shrinkage ratio of the base film and the heat shrinkage difference of 0.05 to 0.15% .
제13항에 있어서,
상기 단계 (a)에서, 기재필름에 100 내지 150 ℃에서 1 내지 2 분 동안 5 내지 25 kgf의 장력을 가해 기재필름의 열수축률을 제어하고,
상기 단계 (b)에서, 보호필름에 100 내지 150 ℃에서 1 내지 2 분 동안 5 내지 25 kgf의 장력을 가해 보호필름의 열수축률을 제어하는, 다층 필름의 제조방법.
14. The method of claim 13,
In the step (a), the base film is subjected to a tensile force of 5 to 25 kgf at 100 to 150 ° C for 1 to 2 minutes to control the heat shrinkage rate of the base film,
In the step (b), the heat shrinkage ratio of the protective film is controlled by applying a tension of 5 to 25 kgf to the protective film at 100 to 150 ° C for 1 to 2 minutes.
제14항에 있어서,
상기 단계 (a)에서, 기재필름에 100 내지 150 ℃에서 1 내지 2 분 동안 10 내지 20 kgf의 장력을 가해 기재필름의 열수축률을 제어하고,
상기 단계 (b)에서, 보호필름에 100 내지 150 ℃에서 1 내지 2 분 동안 10 내지 20 kgf의 장력을 가해 보호필름의 열수축률을 제어하는, 다층 필름의 제조방법.
15. The method of claim 14,
In the step (a), a tensile force of 10 to 20 kgf is applied to the base film at 100 to 150 ° C for 1 to 2 minutes to control the heat shrinkage rate of the base film,
In the step (b), a tensile force of 10 to 20 kgf is applied to the protective film at 100 to 150 ° C for 1 to 2 minutes to control the heat shrinkage ratio of the protective film.
제13항에 있어서,
상기 기재필름 및 보호필름이 각각 다층 필름의 폭의 2 이상의 정수 배이면서 서로 동일한 폭의 롤 상으로 제조된 후 다층 필름과 동일한 폭으로 등분되도록 절단된 것이고, 상기 롤 상일 때 서로 대응되는 부위의 것인, 다층 필름의 제조방법.
14. The method of claim 13,
Wherein the base film and the protective film are each formed into a roll having the same width as the width of the multilayer film and being equal to the width of the multilayer film, and then cut to be equally divided into the same width as the multilayer film, By weight based on the total weight of the film.
제16항에 있어서,
상기 단계 (c)에서, 롤 상일 때의 기재필름과 보호필름의 서로 대응되는 위치가 맞닿도록 하드코팅층과 점착층을 합지하는, 다층 필름의 제조방법.
17. The method of claim 16,
Wherein in the step (c), the hard coat layer and the pressure-sensitive adhesive layer are laminated so that the position corresponding to the base film and the protective film are in contact with each other in the roll-up state.
제13항에 있어서,
상기 방법이 단계 (c)에서 얻어진 다층 필름의 기재필름의 타면에 코팅에 의해 하드코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 다층 필름의 제조방법.
14. The method of claim 13,
Further comprising the step of forming a hard coat layer on the other side of the base film of the multilayer film obtained in step (c) by coating.
(1) 일면에 하드코팅층을 포함하는 제1 필름 롤을 절단하여 기재필름을 제조하는 단계;
(2) 일면에 점착층을 포함하고 상기 제1 필름 롤과 동일한 폭을 갖는 제2 필름 롤을 절단하여 보호필름을 제조하는 단계; 및
(3) 상기 기재필름의 하드코팅층과 상기 보호필름의 점착층을 합지하여 다층 필름을 제조하는 단계를 포함하고,
상기 기재필름 및 보호필름이 종방향 및 횡방향 각각에 대해서 상기 보호필름의 열수축률이 상기 기재필름의 열수축률보다 크고, 두 필름 간에 0.05 내지 0.15 %의 열수축률 차이를 가지고,
상기 제1 필름 롤에서의 기재필름의 부위와 상기 제2 필름 롤에서의 보호필름의 부위가 서로 대응되는, 다층 필름의 제조방법.
(1) preparing a base film by cutting a first film roll including a hard coating layer on one surface thereof;
(2) preparing a protective film by cutting a second film roll having an adhesive layer on one surface and having the same width as the first film roll; And
(3) laminating a hard coat layer of the base film and an adhesive layer of the protective film to produce a multilayer film,
Wherein the heat shrinkage rate of the protective film is larger than the heat shrinkage rate of the base film in both the longitudinal direction and the transverse direction of the base film and the protective film, and the heat shrinkage rate difference between the two films is 0.05 to 0.15%
Wherein a portion of the base film in the first film roll and a portion of the protective film in the second film roll correspond to each other.
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