WO2013038718A1 - Transparent electrically-conductive film, and touch panel - Google Patents

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WO2013038718A1
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refractive index
film
transparent conductive
conductive film
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桐本高代志
北村豊
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東レフィルム加工株式会社
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    • G06F3/045—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact

Definitions

  • Patent Documents 1 to 6 do not sufficiently satisfy the effect of suppressing the bone appearance of the transparent conductive film pattern.
  • a transparent conductive film is used on the light incident surface side, so further improvement is required. ing.
  • oligomer examples include polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, alkit (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, and the like. Can be mentioned.
  • a raw material component of a resin containing a bromine atom for example, a compound obtained by brominating the ortho-para position of the phenyl group of acrylate can be used.
  • a commercially available product for example, BR-42 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. can be used.
  • Other commercially available products include BR-42M, BR-30M and BR-31 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. and RDX51027 manufactured by Daicel-Cytec.
  • the resin containing a chlorine atom N, N-dimethylaminoethyl methacrylate benzyl chloride salt or the like can be used, and two or more of these may be used in combination.
  • S, S ′-(thiodi-p-phenylene) bis (thiomethacrylate) (MPSMA manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.) is preferably used, which is 4,4′-thiodibenzenethiol and an alkali metal compound.
  • MPSMA manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.
  • the thickness (d2) of the SiO 2 film is preferably 3 nm or more, and more preferably 5 nm or more.
  • the upper limit is preferably 40 nm or less, more preferably 30 nm or less, particularly preferably 25 nm or less, and most preferably 20 nm or less.
  • Total optical thickness of high refractive index layer and optical thickness of SiO 2 film In the transparent conductive film of the present invention, it is important that the sum of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the SiO 2 film satisfies (1/4) ⁇ .
  • the optical thickness is the product of the refractive index and the actual film thickness, and ⁇ is 380 to 780 nm, which is the wavelength range of the visible light region.
  • the unit of actual film thickness and optical thickness is nm, and the optical thickness is rounded off after the decimal point.
  • Transparent conductive film As a material of the transparent conductive film, for example, a known material used for an electrode of a touch panel can be used. Examples thereof include metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO (indium tin oxide), and ATO (antimony tin oxide). Among these, ITO is preferably used.
  • the thickness of the transparent conductive film is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, and more preferably 20 nm or more from the viewpoint of ensuring good electrical conductivity of, for example, a surface resistance value of 10 3 ⁇ / ⁇ or less. It is particularly preferred. On the other hand, if the thickness of the transparent conductive film is too large, the effect of suppressing the bone appearance phenomenon may be reduced, and there may be a disadvantage that the transparency is lowered. Therefore, the upper limit of the thickness of the transparent conductive film is 60 nm or less. Preferably, 50 nm or less is more preferable, and 40 nm or less is particularly preferable.
  • the method for forming the transparent conductive film is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Specifically, for example, a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method can be used.
  • etching solution a conventionally known one is used.
  • inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof are used.
  • the thickness of the base film is suitably in the range of 20 to 300 ⁇ m, preferably in the range of 50 to 250 ⁇ m, and more preferably in the range of 50 to 200 ⁇ m.
  • the optical thickness of the easy adhesion layer satisfies the following relational expression 2. (380 nm / 4) ⁇ (np ⁇ dp) ⁇ (780 nm / 4) 95 nm ⁇ (np ⁇ dp) ⁇ 195 nm (Formula 2).
  • a polyester resin As such a resin, a polyester resin, an acrylic resin, or a urethane resin is preferably used. Among these resins, a polyester resin is preferable, and a polyester resin having a naphthalene ring in the molecule is more preferably used.
  • the content of the particles in the easy adhesion layer is preferably in the range of 0.05 to 8% by mass, more preferably in the range of 0.1 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the easy adhesion layer.
  • a coating method such as a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method, or an extrusion coating method can be used.
  • Biaxial stretching may be longitudinal, transverse sequential stretching, or simultaneous biaxial stretching, and may be re-stretched in either the longitudinal or transverse direction after longitudinal and transverse stretching.
  • the difference (nf ⁇ np) between the refractive index (nf) of the base film and the refractive index (np) of the easy adhesion layer, and the difference (np ⁇ nh) between the refractive index (np) and the refractive index (nh) of the hard coat layer is preferably 0.1 or less, more preferably 0.09 or less, and particularly preferably 0.08 or less.
  • the lower limit is preferably 0.03 or more, and more preferably 0.04 or more.
  • Coating composition for hard coat layer As active energy ray-curable resin, 40 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 55 parts by mass of urethane acrylate oligomer (“Art Resin UN901T” manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), and photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd. “Irgacure (registered trademark) 184”) 5 parts by mass dispersed or dissolved in an organic solvent. The refractive index of this coating composition was 1.51.
  • Example 42 to 50 Comparative Examples 11 to 15
  • a transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 41 except that the configuration was changed as shown in Tables 3 and 4.
  • the transparent conductive film pattern is not visually recognized in the examples of the present invention, but the transparent conductive film pattern is visually recognized in the comparative example. Further, in the examples of the present invention, interference fringes were hardly generated, but in Comparative Example 15, interference fringes were generated.

Abstract

A transparent electrically-conductive film according to the present invention comprises a high-refractive-index layer having a refractive index of 1.61 to 1.80, an SiO2 film and a patterned transparent electrically-conductive film which are arranged in this order on a base film, wherein the high-refractive-index layer has a thickness of 30 nm or more and the sum total of the optical thickness of the high-refractive-index layer and the optical thickness of the SiO2 film is (1/4)λ (wherein λ falls within the range from 380 to 780 nm). The present invention provides: a transparent electrically-conductive film in which the visual recognition of a transparent electrically-conductive film pattern (also called "hone-mie" (skeleton vision) in Japanese) is reduced satisfactorily; and a touch panel equipped with the transparent electrically-conductive film.

Description

透明導電性フィルムおよびタッチパネルTransparent conductive film and touch panel
　本発明は、視認性の良好な透明導電性フィルムおよびそれを備えたタッチパネルに関する。 The present invention relates to a transparent conductive film having good visibility and a touch panel provided with the transparent conductive film.
　近年、タッチパネル用途等にポリエステルフィルム等の基材フィルム上に透明導電膜を設けた透明導電性フィルムが用いられている。透明導電膜としては酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の金属酸化物の薄膜が一般的に用いられており、基材フィルム上にスパッタリング法や真空蒸着によって積層されている。 Recently, a transparent conductive film in which a transparent conductive film is provided on a base film such as a polyester film has been used for touch panel applications. As the transparent conductive film, a metal oxide thin film such as indium tin oxide (ITO) is generally used, and is laminated on a base film by sputtering or vacuum deposition.
　タッチパネルの動作方式として、抵抗膜式が主流であるが近年静電容量式が急速に拡大している。抵抗膜式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムは、一般的にパターン化されていない透明導電膜（基板上を一面に覆う透明導電性膜）で構成されている。一方、静電容量式タッチパネルは、通常、パターン化された透明導電膜が積層された透明導電性フィルムが用いられている。 Resistive film type is the mainstream for touch panel operation, but in recent years the capacitive type has been rapidly expanding. The transparent conductive film used for a resistive film type touch panel is generally composed of a transparent conductive film that is not patterned (a transparent conductive film that covers the entire surface of the substrate). On the other hand, a transparent conductive film in which a patterned transparent conductive film is laminated is usually used for a capacitive touch panel.
　静電容量式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムは、通常、フォトリソエッチング等によって透明導電膜がパターン化されており、平面視上透明導電膜のパターン部と非パターン部が存在する。 A transparent conductive film used for a capacitive touch panel is usually patterned with a transparent conductive film by photolithography etching or the like, and has a pattern portion and a non-pattern portion of the transparent conductive film in plan view.
　このような透明導電膜がパターン化された透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルは、透明導電膜のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」という現象が問題となっている。この「骨見え」現象は表示装置としての品質を低下させる。 Such a capacitive touch panel using a transparent conductive film in which a transparent conductive film is patterned has a problem of so-called “bone appearance” in which a pattern portion of the transparent conductive film is visually recognized. This “bone appearance” phenomenon deteriorates the quality of the display device.
　透明導電膜パターンの骨見えを抑制することが提案されている（例えば特許文献１～６）。 It has been proposed to suppress the appearance of the transparent conductive film pattern (for example, Patent Documents 1 to 6).
特開２０１１－８４０７５号公報JP 2011-84075 A 特開２０１０－２２８２９５号公報JP 2010-228295 A 特開２００９－７６４３２号公報JP 2009-76432 A 特開２００６－３０１５１０号公報JP 2006-301510 A 特許第４３６４９３８号公報Japanese Patent No. 4364938 特許第４６６１９９５号公報Japanese Patent No. 4661995
　しかしながら、特許文献１～６に開示されている技術では、透明導電膜パターンの骨見えの抑制効果が十分に満足するまでに至らない。特に、静電容量式のタッチパネルにおいては、透明導電膜が光の入射表面側に用いられているため、上記の骨見え現象は表示装置としての品質を低下させることから、更なる改善が求められている。 However, the techniques disclosed in Patent Documents 1 to 6 do not sufficiently satisfy the effect of suppressing the bone appearance of the transparent conductive film pattern. In particular, in a capacitive touch panel, since a transparent conductive film is used on the light incident surface side, the above-mentioned bone appearance phenomenon deteriorates the quality as a display device, so further improvement is required. ing.
　従って、本発明の目的は、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムを提供することにある。また、本発明の他の目的は、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムを備えたタッチパネルを提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a transparent conductive film in which the visibility (bone appearance) of the transparent conductive film pattern is sufficiently suppressed. Moreover, the other object of this invention is to provide the touch panel provided with the transparent conductive film in which the visual recognition (bone appearance) of the transparent conductive film pattern was fully suppressed.
　上記課題を達成できる本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルム上に、屈折率が１．６１～１．８０である高屈折率層、ＳｉＯ２膜、およびパターン化された透明導電膜をこの順に有し、前記高屈折率層の厚みが３０ｎｍ以上であり、かつ前記高屈折率層の光学厚みと前記ＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計が（１／４）λの透明導電性フィルムである。
但し、λは３８０～７８０ｎｍである。 The transparent conductive film of the present invention capable of achieving the above-described problems is obtained by forming a high refractive index layer having a refractive index of 1.61 to 1.80, a SiO 2 film, and a patterned transparent conductive film on a base film. A transparent conductive film having a thickness of the high refractive index layer of 30 nm or more in this order, and the total of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the SiO 2 film is (1/4) λ. It is.
However, λ is 380 to 780 nm.
　また、本発明のタッチパネルは、本発明の透明導電性フィルムを備えたタッチパネルである。 The touch panel of the present invention is a touch panel provided with the transparent conductive film of the present invention.
　本発明によれば、骨見え現象が十分に抑制された透明導電性フィルムを提供することができる。本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルに好適に用いられ、特に静電容量式のタッチパネルに好適に用いられる。 According to the present invention, it is possible to provide a transparent conductive film in which the bone appearance phenomenon is sufficiently suppressed. The transparent conductive film of the present invention is suitably used for a touch panel, and particularly suitably for a capacitive touch panel.
　本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルム上に、屈折率が１．６１～１．８０である高屈折率層、ＳｉＯ２膜、およびパターン化された透明導電膜がこの順に設けられている。 In the transparent conductive film of the present invention, a high refractive index layer having a refractive index of 1.61 to 1.80, a SiO 2 film, and a patterned transparent conductive film are provided in this order on a base film. Yes.
　以下、本発明の透明導電性フィルムを構成するそれぞれの構成要素について詳細に説明する。 Hereinafter, each component constituting the transparent conductive film of the present invention will be described in detail.
　［高屈折率層］
　高屈折率層は、その屈折率（ｎ１）が１．６１～１．８０である。高屈折率層の屈折率（ｎ１）は、１．６２～１．７９の範囲が好ましく、１．６３～１．７８の範囲がより好ましく、１．６５～１．７５の範囲が特に好ましい。 [High refractive index layer]
The high refractive index layer has a refractive index (n1) of 1.61 to 1.80. The refractive index (n1) of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.62 to 1.79, more preferably in the range of 1.63 to 1.78, and particularly preferably in the range of 1.65 to 1.75.
　高屈折率層の厚み（ｄ１）は３０ｎｍ以上である。高屈折率層の厚み（ｄ１）は３５ｎｍ以上が好ましく、４０ｎｍ以上がより好ましく、５０ｎｍ以上が特に好ましく、５５ｎｍ以上が最も好ましい。上限は９５ｎｍ以下が好ましく、９０ｎｍ以下がより好ましく、８５ｎｍ以下が特に好ましい。高屈折率層の厚み（ｄ１）が３０ｎｍ未満であると、骨見え現象が十分に抑制できない。また、高屈折率層をウェットコーティング法により積層する場合、均一な塗工面を得ることが難しくなる。 The thickness (d1) of the high refractive index layer is 30 nm or more. The thickness (d1) of the high refractive index layer is preferably 35 nm or more, more preferably 40 nm or more, particularly preferably 50 nm or more, and most preferably 55 nm or more. The upper limit is preferably 95 nm or less, more preferably 90 nm or less, and particularly preferably 85 nm or less. When the thickness (d1) of the high refractive index layer is less than 30 nm, the bone appearance phenomenon cannot be sufficiently suppressed. Moreover, when a high refractive index layer is laminated | stacked by the wet coating method, it becomes difficult to obtain a uniform coating surface.
　高屈折率層は、樹脂と金属酸化物を含む層、高屈折率樹脂を含む層、もしくは金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層であることが好ましく、樹脂と金属酸化物を含む層であることがより好ましい。 The high refractive index layer is preferably a layer containing a resin and a metal oxide, a layer containing a high refractive index resin, or a layer containing a metal oxide and a high refractive index resin. More preferably.
　さらに高屈折率層は、樹脂と金属酸化物を含む組成物、高屈折率樹脂を含む組成物、もしくは金属酸化物と高屈折率樹脂を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成された層であることが好ましい。即ち、高屈折率層は少なくとも樹脂を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成された層であることが好ましい。特に樹脂と金属酸化物を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成された層であることが好ましい。 Furthermore, the high refractive index layer was formed by wet coating and curing a composition containing a resin and a metal oxide, a composition containing a high refractive index resin, or a composition containing a metal oxide and a high refractive index resin. A layer is preferred. That is, the high refractive index layer is preferably a layer formed by wet coating and curing a composition containing at least a resin. In particular, a layer formed by wet coating and curing a composition containing a resin and a metal oxide is preferable.
　上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。 As the above wet coating method, for example, a coating method such as a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method, or an extrusion coating method can be used.
　以下、樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物について説明する。 Hereinafter, a composition for forming a layer containing a resin and a metal oxide will be described.
　樹脂としては、熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく、活性エネルギー線硬化性樹脂がより好ましい。 As the resin, a thermosetting resin or an active energy ray curable resin is preferable, and an active energy ray curable resin is more preferable.
　このような活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂であり、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーやオリゴマーが好ましく用いられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。 Such an active energy ray-curable resin is a resin that is cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and monomers and oligomers having at least one ethylenically unsaturated group in the molecule are preferably used. Here, examples of the ethylenically unsaturated group include an acryl group, a methacryl group, a vinyl group, and an allyl group.
　上記モノマーの例としては、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。 Examples of the monomer include methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, Monofunctional acrylates such as isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol Tetral (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate Polyfunctional acrylates such as tripentaerythritol hexa (meth) triacrylate, trimethylolpropane (meth) acrylic acid benzoate, trimethylolpropane benzoate, glycerin di (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate, pentaerythritol tri (meth) ) Urethane acrylates such as acrylate hexamethylene diisocyanate.
　上記オリゴマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。 Examples of the oligomer include polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, alkit (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, and the like. Can be mentioned.
　上記した、モノマーやオリゴマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、３官能以上の多官能モノマーを用いることが好ましい。 The above-mentioned monomers and oligomers may be used alone or in combination, but it is preferable to use a trifunctional or higher polyfunctional monomer.
　金属酸化物としては、屈折率が１．６５以上の金属酸化物微粒子が好ましく、屈折率が１．７～２．８の金属酸化物微粒子がより好ましく用いられる。このような金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに高屈折率層の屈折率を高めることができるので好ましい。 As the metal oxide, metal oxide fine particles having a refractive index of 1.65 or more are preferable, and metal oxide fine particles having a refractive index of 1.7 to 2.8 are more preferably used. Examples of such metal oxide fine particles include metal oxide particles such as titanium, zirconium, zinc, tin, antimony, cerium, iron, and indium. Specific examples of the metal oxide fine particles include, for example, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, tin oxide-doped indium oxide (ITO), and antimony-doped tin oxide. (ATO), phosphorus-doped tin oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, fluorine-doped tin oxide, and the like. These metal oxide fine particles may be used alone or in combination. Among the metal oxide fine particles, titanium oxide and zirconium oxide are particularly preferable because they can increase the refractive index of the high refractive index layer without reducing transparency.
　組成物における金属酸化物の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましく、５５質量％以上が最も好ましい。上限は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。 The content of the metal oxide in the composition is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, particularly preferably 50% by mass or more, and 55% by mass or more with respect to 100% by mass of the total solid content of the composition. Is most preferred. The upper limit is preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, and particularly preferably 85% by mass or less.
　組成物における樹脂成分と金属酸化物との含有比率は、樹脂成分１００質量部に対して金属酸化物を５０～９００質量部の範囲で含むことが好ましく、１００～８００質量部の範囲で含むことがより好ましい。 The content ratio of the resin component to the metal oxide in the composition preferably includes the metal oxide in the range of 50 to 900 parts by mass, and in the range of 100 to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. Is more preferable.
　組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ－イソプロピル－α－ヒドロキシイソブチルフェノン、α－ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。 The composition preferably contains a photopolymerization initiator. Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methylbenzoyl formate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2, Carbonyl compounds such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosulfide, teto Sulfur compounds such as lamethylthiuram disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone can be used. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
　上記光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。 The content of the photopolymerization initiator is suitably in the range of 0.1 to 10% by mass, preferably in the range of 0.5 to 8% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the composition.
　高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物について説明する。 A composition for forming a layer containing a high refractive index resin will be described.
　高屈折率樹脂としては、フッ素以外のハロゲン原子を含む樹脂（例えば臭素原子を含む樹脂、塩素原子を含む樹脂、ヨウ素原子を含む樹脂）、硫黄原子を含む樹脂、窒素原子を含む樹脂、燐原子を含む樹脂、芳香族環を含む樹脂（例えばフルオレン骨格を含む樹脂、フェニル基を含む樹脂等）が挙げられる。これらの樹脂は透明性を有するものであればよく、公知または市販のものを使用することができ、また他の樹脂と併用することもできる。 High refractive index resins include resins containing halogen atoms other than fluorine (for example, resins containing bromine atoms, resins containing chlorine atoms, resins containing iodine atoms), resins containing sulfur atoms, resins containing nitrogen atoms, phosphorus atoms And a resin containing an aromatic ring (for example, a resin containing a fluorene skeleton, a resin containing a phenyl group, etc.). These resins are only required to be transparent, and known or commercially available resins can be used, or they can be used in combination with other resins.
　フッ素以外のハロゲン原子、例えば臭素原子、塩素原子を含む樹脂としては、臭素化アクリル樹脂、臭素化ウレタン樹脂、臭素化ポリエステル樹脂、臭素化ポリエーテル樹脂、臭素化エポキシ樹脂、臭素化スピロアセタール樹脂、臭素化ポリブタジエン樹脂、臭素化ポリチオールポリエン樹脂、塩素化アクリル樹脂、塩素化ウレタン樹脂、塩素化ポリエステル樹脂、塩素化ポリエーテル樹脂、塩素化エポキシ樹脂等を用いることができる。臭素原子を含む樹脂の原料成分としては、例えばアクリレートのフェニル基のオルト・パラ位をブロモ化した化合物を用いることができる。これは、市販品としては例えば第一工業製薬社製のＢＲ－４２を用いることができる。その他の市販品としては第一工業製薬社製のＢＲ－４２Ｍ、ＢＲ－３０Ｍ、ＢＲ－３１等、ダイセル・サイテック社製のＲＤＸ５１０２７等を用いることができる。また塩素原子を含む樹脂としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチルメタクリレートのベンジルクロライド塩などを用いることができ、これらを２種以上混合して用いてもよい。 Examples of resins containing halogen atoms other than fluorine, such as bromine atoms and chlorine atoms, include brominated acrylic resins, brominated urethane resins, brominated polyester resins, brominated polyether resins, brominated epoxy resins, brominated spiroacetal resins, Brominated polybutadiene resins, brominated polythiol polyene resins, chlorinated acrylic resins, chlorinated urethane resins, chlorinated polyester resins, chlorinated polyether resins, chlorinated epoxy resins, and the like can be used. As a raw material component of a resin containing a bromine atom, for example, a compound obtained by brominating the ortho-para position of the phenyl group of acrylate can be used. As a commercially available product, for example, BR-42 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. can be used. Other commercially available products include BR-42M, BR-30M and BR-31 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. and RDX51027 manufactured by Daicel-Cytec. As the resin containing a chlorine atom, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate benzyl chloride salt or the like can be used, and two or more of these may be used in combination.
　硫黄原子を含む樹脂としては、例えばＳ，Ｓ’－エチレンビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－（チオジエチレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［チオビス（ジエチレンスルフィド）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－（オキシジエチレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）等を用いることができる。ここでチオ（メタ）アクリレートとはチオメタクリレートおよびチオアクリレートを示す。 Examples of the resin containing a sulfur atom include S, S′-ethylenebis (thio (meth) acrylate), S, S ′-(thiodiethylene) bis (thio (meth) acrylate), S, S ′-[thiobis ( Diethylene sulfide)] bis (thio (meth) acrylate), S, S ′-(oxydiethylene) bis (thio (meth) acrylate) and the like can be used. Here, thio (meth) acrylate refers to thiomethacrylate and thioacrylate.
　これらの中でもＳ，Ｓ’－エチレンビス（チオメタクリレート）、Ｓ，Ｓ’－（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート）が好適に用いられる。Ｓ，Ｓ’－エチレンビス（チオメタクリレート）は、１，２－エタンジチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる１，２－エタンジチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。またＳ，Ｓ’－（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート）は日本触媒社製の商品名Ｓ２ＥＧとして市販されているものを用いることができる。 Of these, S, S'-ethylenebis (thiomethacrylate) and S, S '-(thiodiethylene) bis (thiomethacrylate) are preferably used. S, S′-ethylenebis (thiomethacrylate) is obtained by reacting an alkali metal salt of 1,2-ethanedithiol obtained by reacting 1,2-ethanedithiol with an alkali metal compound and methacryloyl chloride in a nonpolar organic solvent. It can manufacture by the method of making it react with. As S, S ′-(thiodiethylene) bis (thiomethacrylate), those commercially available as trade name S2EG manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. can be used.
　また硫黄原子と芳香族環を含む樹脂としては、例えばＳ,Ｓ’－（チオジ－ｐ－フェニレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－クロロベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３,５－ジクロロベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－ブロモベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３,５－ジブロモベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－メチルベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３,５－ジメチルベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－メチルベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）等を用いることができる。これらの中でもＳ，Ｓ’－（チオジ－ｐ－フェニレン）ビス（チオメタクリレート）（住友精化社製ＭＰＳＭＡ）が好適に用いられるが、これは４,４’－チオジベンゼンチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる４,４’－チオジベンゼンチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。 Examples of the resin containing a sulfur atom and an aromatic ring include S, S ′-(thiodi-p-phenylene) bis (thio (meth) acrylate), S, S ′-[4,4′-thiobis (3- Chlorobenzene)] bis (thio (meth) acrylate), S, S ′-[4,4′-thiobis (3,5-dichlorobenzene)] (thio (meth) acrylate), S, S ′-[4,4 '-Thiobis (3-bromobenzene)] (thio (meth) acrylate), S, S'-[4,4'-thiobis (3,5-dibromobenzene)] (thio (meth) acrylate), S, S '-[4,4'-thiobis (3-methylbenzene)] bis (thio (meth) acrylate), S, S'-[4,4'-thiobis (3,5-dimethylbenzene)] (thio (meta ) Acrylate), S, S ′-[4,4′-thiobis 3-methyl benzene)] bis (thio (meth) acrylate), or the like can be used. Among these, S, S ′-(thiodi-p-phenylene) bis (thiomethacrylate) (MPSMA manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.) is preferably used, which is 4,4′-thiodibenzenethiol and an alkali metal compound. Can be produced by a method of reacting an alkali metal salt of 4,4′-thiodibenzenethiol obtained by reacting with methacryloyl chloride in a nonpolar organic solvent.
　芳香族環を含む樹脂としては、９，９－ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。例えば新中村化学社製９，９－ビス［４－（２－アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥＦ）、ｏ－フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート（ＮＫエステル４０１Ｐ）、ヒドロキシエチル化ｏ－フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＬＥＮ－１０）、ＪＦＥケミカル社製９，９－ビス（３－メチル－４－ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＢＣＦ）、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）、大阪ガスケミカル社製ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＥＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート（ＢＰＥＦ－Ａ）、オグソールＰＧシリーズ、オグソールＥＧシリーズ、オグソールＥＡシリーズ、オグソールＥＡ－Ｆシリーズ、長瀬産業社製オンコートＥＸシリーズ、共栄社化学社製ＨＩＣ－Ｇシリーズ、ＡＤＥＫＡ社製ＲＦ（Ｘ）シリーズ等を用いることができる。 As the resin containing an aromatic ring, an acrylic resin having a 9,9-bisphenoxyfluorene skeleton, an acrylic resin having a biphenyl group, an epoxy resin, or the like can be used. For example, 9,9-bis [4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene (NK ester A-BPEF), o-phenylphenol glycidyl ether acrylate (NK ester 401P), hydroxyethylated o-, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Phenylphenol acrylate (NK ester A-LEN-10), 9,9-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) fluorene (BCF), 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) manufactured by JFE Chemical ) Phenyl] fluorene (BPEF), bisphenol fluorenediglycidyl ether (BPFG), bisphenoxyethanol fluorenediglycidyl ether (BPFG), bisphenoxyethanol fluorenic acrylate (BPEF-A) manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd. Ogsol PG Series, Ogsol EG Series, Ogsol EA Series, Ogsol EA-F Series, Nagase Sangyo Co., Ltd. On Coat EX Series, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. HIC-G Series, ADEKA RF (X) Series, etc. .
　高屈折率樹脂としては、上記で例示したように、アクリル基やエポキシ基等の重合性基を含む重合性モノマーまたは重合性オリゴマーであることがより好ましい。 The high refractive index resin is more preferably a polymerizable monomer or polymerizable oligomer containing a polymerizable group such as an acrylic group or an epoxy group, as exemplified above.
　組成物は、高屈折率樹脂に加えて、前述した樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物に用いられる樹脂成分（好ましくは活性エネルギー線硬化性樹脂）を含むことが好ましい。この樹脂成分の含有量は、高屈折率樹脂１００質量部に対して、５～５０質量部の範囲が好ましく、１０～４０質量部の範囲がより好ましい。 The composition preferably contains a resin component (preferably an active energy ray-curable resin) used in the composition for forming a layer containing the above-described resin and metal oxide, in addition to the high refractive index resin. The content of the resin component is preferably in the range of 5 to 50 parts by mass, more preferably in the range of 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the high refractive index resin.
　組成物における高屈折率樹脂の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。上限は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。 The content of the high refractive index resin in the composition is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and particularly preferably 70% by mass or more with respect to 100% by mass of the total solid content of the composition. The upper limit is preferably 95% by mass or less, and more preferably 90% by mass or less.
　組成物はさらに、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。 It is preferable that the composition further contains a photopolymerization initiator. The content of the photopolymerization initiator is suitably in the range of 0.1 to 10% by weight, preferably in the range of 0.5 to 8% by weight, based on 100% by weight of the total solid content of the composition.
　次に、金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物について説明する。この組成物は、前述の金属酸化物と高屈折率樹脂を組み合わせて使用するものである。金属酸化物と高屈折率樹脂の含有比率（質量比）は、金属酸化物：高屈折率樹脂＝９：１～１：９の範囲が好ましく、８：２～２：８の範囲がより好ましく、特に７：３～３：７の範囲が好ましい。 Next, a composition for forming a layer containing a metal oxide and a high refractive index resin will be described. This composition is a combination of the aforementioned metal oxide and high refractive index resin. The content ratio (mass ratio) of the metal oxide and the high refractive index resin is preferably in the range of metal oxide: high refractive index resin = 9: 1 to 1: 9, more preferably in the range of 8: 2 to 2: 8. In particular, the range of 7: 3 to 3: 7 is preferable.
　組成物は、さらに前述した樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物に用いられる樹脂成分（好ましくは活性エネルギー線硬化性樹脂）を含むことが好ましい。この樹脂成分の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して、５～５０質量％の範囲が好ましく、１０～４０質量％の範囲がより好ましく、２０～４０質量％の範囲が特に好ましい。 The composition preferably further contains a resin component (preferably an active energy ray-curable resin) used in the composition for forming the layer containing the resin and the metal oxide described above. The content of the resin component is preferably in the range of 5 to 50% by mass, more preferably in the range of 10 to 40% by mass, and in the range of 20 to 40% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the composition. Particularly preferred.
　組成物はさらに、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。 It is preferable that the composition further contains a photopolymerization initiator. The content of the photopolymerization initiator is suitably in the range of 0.1 to 10% by weight, preferably in the range of 0.5 to 8% by weight, based on 100% by weight of the total solid content of the composition.
　［ＳｉＯ２膜］
　本発明において、ＳｉＯ２膜は高屈折率層と透明導電膜との間に設けられる。このＳｉＯ２膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等のドライプロセスを用いて積層する方法、あるいはシリカゾル等をウェットコーティング法により塗布し積層する方法などにより形成することができる。これらの中でも、ドライプロセス法が好ましい。 [SiO 2 film]
In the present invention, the SiO 2 film is provided between the high refractive index layer and the transparent conductive film. This SiO 2 film is formed by a method of laminating using a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plasma CVD method, or a method of laminating silica sol etc. by a wet coating method. Can do. Among these, the dry process method is preferable.
　ＳｉＯ２膜の屈折率（ｎ２）は、１．４０～１．５０の範囲が好ましく、１．４２～１．４９の範囲がより好ましく、１．４３～１．４９の範囲が特に好ましく、１．４４～１．４８の範囲が最も好ましい。 The refractive index (n2) of the SiO 2 film is preferably in the range of 1.40 to 1.50, more preferably in the range of 1.42 to 1.49, particularly preferably in the range of 1.43 to 1.49. The range of .44 to 1.48 is most preferred.
　ＳｉＯ２膜の厚み（ｄ２）は、３ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましい。上限は４０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２５ｎｍ以下が特に好ましく、２０ｎｍ以下が最も好ましい。 The thickness (d2) of the SiO 2 film is preferably 3 nm or more, and more preferably 5 nm or more. The upper limit is preferably 40 nm or less, more preferably 30 nm or less, particularly preferably 25 nm or less, and most preferably 20 nm or less.
　本発明において、高屈折率層と透明導電膜との間に設けられたＳｉＯ２膜は、骨見え現象を抑制するという効果に加えて、高屈折率層と透明導電膜との密着性向上に寄与する。本発明において、高屈折率層、ＳｉＯ２膜、および透明導電膜はこの順にそれぞれ隣接して積層されていることが好ましい。 In the present invention, the SiO 2 film provided between the high refractive index layer and the transparent conductive film improves the adhesion between the high refractive index layer and the transparent conductive film, in addition to the effect of suppressing the bone appearance phenomenon. Contribute. In the present invention, the high refractive index layer, the SiO 2 film, and the transparent conductive film are preferably laminated adjacently in this order.
　［高屈折率層の光学厚みとＳｉＯ２膜の光学厚みの合計］
　本発明の透明導電性フィルムは、高屈折率層の光学厚みとＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計が、（１／４）λを満足することが重要である。ここで、光学厚みは屈折率と実際の膜厚みの積であり、λは可視光領域の波長範囲である３８０～７８０ｎｍである。実際の膜厚みおよび光学厚みの単位はｎｍであり、光学厚みは小数点以下を四捨五入するものとする。 [Total optical thickness of high refractive index layer and optical thickness of SiO 2 film]
In the transparent conductive film of the present invention, it is important that the sum of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the SiO 2 film satisfies (1/4) λ. Here, the optical thickness is the product of the refractive index and the actual film thickness, and λ is 380 to 780 nm, which is the wavelength range of the visible light region. The unit of actual film thickness and optical thickness is nm, and the optical thickness is rounded off after the decimal point.
　本発明は、高屈折率層の厚み（ｄ１）を３０ｎｍ以上とし、かつ高屈折率層の光学厚みとＳｉＯ２膜の光学厚みの合計を（１／λ）とすることにより、骨見え現象を抑制する。 In the present invention, the thickness (d1) of the high refractive index layer is set to 30 nm or more and the total optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the SiO 2 film is set to (1 / λ). Suppress.
　つまり、本発明において、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は以下の関係式１を満足する必要がある。
（３８０ｎｍ／４）≦（ｎ１×ｄ１）＋（ｎ２×ｄ２）≦（７８０ｎｍ／４）
　　　　　９５ｎｍ≦（ｎ１×ｄ１）＋（ｎ２×ｄ２）≦１９５ｎｍ　・・・（式１）。 That is, in the present invention, the sum of the optical thickness (n1 × d1) of the high refractive index layer and the optical thickness (n2 × d2) of the SiO 2 film needs to satisfy the following relational expression 1.
(380 nm / 4) ≦ (n1 × d1) + (n2 × d2) ≦ (780 nm / 4)
95 nm ≦ (n1 × d1) + (n2 × d2) ≦ 195 nm (Formula 1).
　つまり、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は、９５ｎｍ以上１９５ｎｍ以下であることが必要である。 That is, the total of the optical thickness (n1 × d1) of the high refractive index layer and the optical thickness (n2 × d2) of the SiO 2 film needs to be 95 nm or more and 195 nm or less.
　上記式１の範囲内において、λの上限は７００ｎｍ以下であることが好ましい。つまり、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は、１７５ｎｍ（λ／４＝７００ｎｍ／４）以下であることが好ましい。 Within the range of the above formula 1, the upper limit of λ is preferably 700 nm or less. That is, the total of the optical thickness (n1 × d1) of the high refractive index layer and the optical thickness (n2 × d2) of the SiO 2 film is preferably 175 nm (λ / 4 = 700 nm / 4) or less.
　さらに、λの上限は６３５ｎｍ以下であることがより好ましい。つまり、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は、１５９ｎｍ（λ／４＝６３５ｎｍ／４）以下であることがより好ましい。 Furthermore, the upper limit of λ is more preferably 635 nm or less. That is, the total of the optical thickness (n1 × d1) of the high refractive index layer and the optical thickness (n2 × d2) of the SiO 2 film is more preferably 159 nm (λ / 4 = 635 nm / 4) or less.
　上記式１の範囲内において、λの下限は４５０ｎｍ以上であることが好ましい。つまり、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は、１１３ｎｍ（λ／４＝４５０ｎｍ／４）以上であることが好ましい。 Within the range of the above formula 1, the lower limit of λ is preferably 450 nm or more. That is, the sum of the optical thickness (n1 × d1) of the high refractive index layer and the optical thickness (n2 × d2) of the SiO 2 film is preferably 113 nm (λ / 4 = 450 nm / 4) or more.
　さらに、λの下限は５００ｎｍ以上であることがより好ましい。つまり、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は、１２５ｎｍ（λ／４＝５００ｎｍ／４）以上であることがより好ましい。 Furthermore, the lower limit of λ is more preferably 500 nm or more. That is, the total of the optical thickness (n1 × d1) of the high refractive index layer and the optical thickness (n2 × d2) of the SiO 2 film is more preferably 125 nm (λ / 4 = 500 nm / 4) or more.
　［透明導電膜］
　透明導電膜の材料としては、例えばタッチパネルの電極に用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）等の金属酸化物が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。 [Transparent conductive film]
As a material of the transparent conductive film, for example, a known material used for an electrode of a touch panel can be used. Examples thereof include metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO (indium tin oxide), and ATO (antimony tin oxide). Among these, ITO is preferably used.
　透明導電膜の厚みは、例えば表面抵抗値を１０３Ω／□以下の良好な導電性を確保するという観点から、１０ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましく、２０ｎｍ以上であることが特に好ましい。一方、透明導電膜の厚みが大きくなりすぎると骨見え現象の抑制効果が小さくなること、および透明性が低下するという不都合が生じることがあるので、透明導電膜の厚みの上限は、６０ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、４０ｎｍ以下が特に好ましい。 The thickness of the transparent conductive film is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, and more preferably 20 nm or more from the viewpoint of ensuring good electrical conductivity of, for example, a surface resistance value of 10 3 Ω / □ or less. It is particularly preferred. On the other hand, if the thickness of the transparent conductive film is too large, the effect of suppressing the bone appearance phenomenon may be reduced, and there may be a disadvantage that the transparency is lowered. Therefore, the upper limit of the thickness of the transparent conductive film is 60 nm or less. Preferably, 50 nm or less is more preferable, and 40 nm or less is particularly preferable.
　透明導電膜の屈折率（ｎｔ）は１．８１以上であることが好ましい。さらに透明導電膜の屈折率（ｎｔ）は１．８５以上が好ましく、１．９０以上がより好ましい。上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。 The refractive index (nt) of the transparent conductive film is preferably 1.81 or more. Furthermore, the refractive index (nt) of the transparent conductive film is preferably 1.85 or more, more preferably 1.90 or more. The upper limit is preferably 2.20 or less, and more preferably 2.10 or less.
　透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。 The method for forming the transparent conductive film is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Specifically, for example, a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method can be used.
　本発明の透明導電膜はパターン化されている。例えば、上記のようにして製膜した透明導電膜をパターン化する。パターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部の形状としては、例えば、ストライプ状、格子状等が挙げられる。 The transparent conductive film of the present invention is patterned. For example, the transparent conductive film formed as described above is patterned. The patterning can form various patterns depending on the application to which the transparent conductive film is applied. In addition, although a pattern part and a non-pattern part are formed by patterning of a transparent conductive film, as a shape of a pattern part, stripe shape, a lattice shape, etc. are mentioned, for example.
　透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上にパターン状のエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。 The patterning of the transparent conductive film is generally performed by etching. For example, a transparent conductive film is patterned by forming a patterned etching resist film on the transparent conductive film by a photolithography method, a laser exposure method, or a printing method and then performing an etching process.
　エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。 As the etching solution, a conventionally known one is used. For example, inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof are used.
　［基材フィルム］
　本発明の基材フィルムは、公知のプラスチックフィルムを用いることができる。このようなプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン－メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。これらの中でもポリエステルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。 [Base film]
A known plastic film can be used for the base film of the present invention. Examples of the resin constituting such a plastic film include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polymethyl methacrylate, acrylic resin, polycarbonate, polystyrene, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, poly Examples thereof include vinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, and cellophane. Among these, a polyester film is preferable, and polyethylene terephthalate is particularly preferable.
　基材フィルムの厚みは、２０～３００μｍの範囲が適当であり、５０～２５０μｍの範囲が好ましく、５０～２００μｍの範囲がより好ましい。 The thickness of the base film is suitably in the range of 20 to 300 μm, preferably in the range of 50 to 250 μm, and more preferably in the range of 50 to 200 μm.
　基材フィルムの屈折率（ｎｆ）は１．６１～１．７０の範囲が好ましく、１．６２～１．６９の範囲がより好ましく、１．６３～１．６８の範囲が特に好ましく、１．６４～１．６７の範囲が最も好ましい。 The refractive index (nf) of the base film is preferably in the range of 1.61 to 1.70, more preferably in the range of 1.62 to 1.69, particularly preferably in the range of 1.63 to 1.68. A range of 64 to 1.67 is most preferred.
　［易接着層］
　基材フィルムは、高屈折率層や後述するハードコート層との密着力を強化するための易接着層が積層されていることが好ましい。 [Easily adhesive layer]
It is preferable that the base film is laminated with an easy-adhesion layer for enhancing the adhesion with a high refractive index layer or a hard coat layer described later.
　易接着層は、その屈折率（ｎｐ）が１．５０～１．６０の範囲であることが好ましい。易接着層の屈折率（ｎｐ）は、１．５１～１．６０の範囲がより好ましく、１．５３～１．５９の範囲が特に好ましく、１．５５～１．５９の範囲が最も好ましい。 The easy-adhesion layer preferably has a refractive index (np) in the range of 1.50 to 1.60. The refractive index (np) of the easily adhesive layer is more preferably in the range of 1.51 to 1.60, particularly preferably in the range of 1.53 to 1.59, and most preferably in the range of 1.55 to 1.59.
　易接着層の光学厚みは、（１／４）λを満足することが好ましい。ここで、光学厚みは、易接着層の屈折率（ｎｐ）と実際の厚み（ｄｐ）との積であり、λは可視光領域の波長範囲である３８０～７８０ｎｍを意味する。易接着層の厚み（ｄｐ）および光学厚みの単位はｎｍであり、光学厚みは小数点以下を四捨五入するものとする。 The optical thickness of the easy-adhesion layer preferably satisfies (1/4) λ. Here, the optical thickness is a product of the refractive index (np) and the actual thickness (dp) of the easy-adhesion layer, and λ means a wavelength range of 380 to 780 nm in the visible light region. The unit of the thickness (dp) and the optical thickness of the easy adhesion layer is nm, and the optical thickness is rounded off after the decimal point.
　すなわち、易接着層の光学厚みは以下の関係式２を満足することが好ましい。
（３８０ｎｍ／４）≦（ｎｐ×ｄｐ）≦（７８０ｎｍ／４）
　　　　　９５ｎｍ≦（ｎｐ×ｄｐ）≦１９５ｎｍ　・・・（式２）。 That is, it is preferable that the optical thickness of the easy adhesion layer satisfies the following relational expression 2.
(380 nm / 4) ≦ (np × dp) ≦ (780 nm / 4)
95 nm ≦ (np × dp) ≦ 195 nm (Formula 2).
　さらに、λの範囲は４００～７００ｎｍであることがより好ましい。つまり、易接着層の光学厚みは以下の関係式３を満足することがより好ましい。
（４００ｎｍ／４）≦（ｎｐ×ｄｐ）≦（７００ｎｍ／４）
　　　　１００ｎｍ≦（ｎｐ×ｄｐ）≦１７５ｎｍ　・・・（式３）。 Further, the range of λ is more preferably 400 to 700 nm. That is, it is more preferable that the optical thickness of the easy adhesion layer satisfies the following relational expression 3.
(400 nm / 4) ≦ (np × dp) ≦ (700 nm / 4)
100 nm ≦ (np × dp) ≦ 175 nm (Formula 3).
　またさらに、λの範囲は４５０～６５０ｎｍであることが特に好ましい。つまり、易接着層の光学厚みは以下の関係式４を満足することが特に好ましい。
（４５０ｎｍ／４）≦（ｎｐ×ｄｐ）≦（６５０ｎｍ／４）　
　　　　１１３ｎｍ≦（ｎｐ×ｄｐ）≦１６３ｎｍ　・・・（式４）。 Furthermore, the range of λ is particularly preferably 450 to 650 nm. That is, it is particularly preferable that the optical thickness of the easy adhesion layer satisfies the following relational expression 4.
(450 nm / 4) ≦ (np × dp) ≦ (650 nm / 4)
113 nm ≦ (np × dp) ≦ 163 nm (Formula 4).
　易接着層は、樹脂を主成分とする層であることが好ましい。すなわち、易接着層の固形分総量１００質量％に対して樹脂を５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましく、７０質量％以上含むことが特に好ましく、８０質量％以上含むことが最も好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましく、９５質量％以下が特に好ましい。 The easy adhesion layer is preferably a layer mainly composed of a resin. That is, the resin content is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, particularly preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 80% by mass or more, based on 100% by mass of the total solid content of the easy-adhesion layer. The inclusion is most preferred. The upper limit is preferably 99% by mass or less, more preferably 98% by mass or less, and particularly preferably 95% by mass or less.
　かかる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。これらの樹脂の中でもポリエステル樹脂が好ましく、さらに分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂がより好ましく用いられる。 As such a resin, a polyester resin, an acrylic resin, or a urethane resin is preferably used. Among these resins, a polyester resin is preferable, and a polyester resin having a naphthalene ring in the molecule is more preferably used.
　易接着層は、後述する易接着機能を易接着層に付与するという観点から、架橋剤を含有することが好ましい。このような架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。 The easy-adhesion layer preferably contains a crosslinking agent from the viewpoint of imparting an easy-adhesion function described later to the easy-adhesion layer. Examples of such crosslinking agents include melamine crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, isocyanate crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, and epoxy crosslinking agents. Among these, melamine-based crosslinking agents, oxazoline-based crosslinking agents, and carbodiimide-based crosslinking agents are preferably used.
　易接着層における架橋剤の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して、１～４０質量％の範囲が好ましく、３～３５質量％の範囲がより好ましく、５～３０質量％の範囲が特に好ましい。 The content of the crosslinking agent in the easy-adhesion layer is preferably in the range of 1 to 40% by mass, more preferably in the range of 3 to 35% by mass, with respect to 100% by mass of the total solid content of the easy-adhesion layer. % Range is particularly preferred.
　易接着層は、さらに易滑性や耐ブロッキング性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては特に限定されないが、例えばコロイダルシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カーボンブラック、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの粒子の中でも、コロイダルシリカが好ましく用いられる。 The easy-adhesion layer preferably contains organic or inorganic particles in order to further improve the slipperiness and blocking resistance. Such particles are not particularly limited. For example, inorganic particles such as colloidal silica, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, carbon black, zeolite particles, acrylic particles, silicone particles, polyimide particles, Teflon (registered) Trademark) particles, crosslinked polyester particles, crosslinked polystyrene particles, crosslinked polymer particles, and core-shell particles. Among these particles, colloidal silica is preferably used.
　易接着層における粒子の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５～８質量％の範囲が好ましく、０．１～５質量％の範囲がより好ましい。 The content of the particles in the easy adhesion layer is preferably in the range of 0.05 to 8% by mass, more preferably in the range of 0.1 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the easy adhesion layer.
　易接着層は、基材フィルム上にウェットコーティング法により積層されていることが好ましい。特に易接着層を基材フィルムの製造工程内で積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されていることが好ましい。基材フィルム上に易接着層を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材フィルム表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。 The easy-adhesion layer is preferably laminated on the base film by a wet coating method. In particular, it is preferable that the easy-adhesion layer is laminated by a so-called “in-line coating method” in which the base film is laminated in the production process. When applying an easy-adhesion layer on a base film, corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, etc. may be applied to the surface of the base film as a preliminary treatment for improving coatability and adhesion. preferable.
　上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。 As the above wet coating method, for example, a coating method such as a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method, or an extrusion coating method can be used.
　上述のインラインコーティング法について、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略す）フィルムを用いた態様について以下に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 The above-described inline coating method will be described below with respect to an embodiment in which a polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) film is used as a base film, but the present invention is not limited to this.
　ＰＥＴフィルムの原料である極限粘度０．５～０．８ｄｌ／ｇのＰＥＴペレットを真空乾燥する。真空乾燥したペレットを押し出し機に供給し２６０～３００℃で溶融する。溶融したＰＥＴポリマーをＴ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度１０～６０℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて、冷却固化して未延伸ＰＥＴフィルムを作製する。この未延伸ＰＥＴフィルムを７０～１００℃に加熱されたロール間で縦方向（フィルムの進行方向を指し「長手方向」ともいう）に２．５～５倍延伸する。この延伸で得られた一軸延伸ＰＥＴフィルムの少なくとも片面に空気中でコロナ放電処理を施し、その表面の濡れ張力を４７ｍＮ／ｍ以上にする。その処理面に易接着層の塗布液を塗布する。 The PET pellet having an intrinsic viscosity of 0.5 to 0.8 dl / g, which is a raw material for the PET film, is vacuum dried. Vacuum dried pellets are fed into an extruder and melted at 260-300 ° C. The molten PET polymer is extruded into a sheet form from a T-shaped die, wound on a mirror casting drum having a surface temperature of 10 to 60 ° C. using an electrostatic application casting method, and cooled and solidified to produce an unstretched PET film. This unstretched PET film is stretched 2.5 to 5 times in the machine direction (referred to as the “longitudinal direction”, which refers to the traveling direction of the film) between rolls heated to 70 to 100 ° C. At least one surface of the uniaxially stretched PET film obtained by this stretching is subjected to corona discharge treatment in the air, and the wet tension of the surface is set to 47 mN / m or more. A coating solution for the easy adhesion layer is applied to the treated surface.
　次に、塗布液が塗布された一軸延伸ＰＥＴフィルムをクリップで把持して乾燥ゾーンに導き、一軸延伸ＰＥＴフィルムのＴｇ未満の温度で乾燥する。引き続きＴｇ以上の温度に上げ、再度Ｔｇ近傍の温度でフィルムを乾燥する。引き続き連続的に７０～１５０℃の加熱ゾーンでフィルムを横方向（フィルムの進行方向とは直交する方向を指し「幅方向」ともいう）に２．５～５倍延伸する。続いて１８０～２４０℃の加熱ゾーンでフィルムに５～４０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了したＰＥＴフィルムに易接着層が積層されたＰＥＴフィルムが得られる。なお、上記熱処理中に必要に応じて３～１２％の弛緩処理を施してもよい。二軸延伸は縦、横逐次延伸あるいは同時二軸延伸のいずれでもよく、また縦、横延伸後、縦、横いずれかの方向に再延伸してもよい。 Next, the uniaxially stretched PET film coated with the coating liquid is gripped with a clip, guided to a drying zone, and dried at a temperature lower than Tg of the uniaxially stretched PET film. Subsequently, the temperature is raised to Tg or higher, and the film is dried again at a temperature near Tg. Subsequently, the film is continuously stretched by 2.5 to 5 times in a transverse direction (referred to as a direction perpendicular to the traveling direction of the film and also referred to as “width direction”) in a heating zone of 70 to 150 ° C. Subsequently, the film is subjected to a heat treatment for 5 to 40 seconds in a heating zone of 180 to 240 ° C. to obtain a PET film in which an easy-adhesion layer is laminated on a PET film in which crystal orientation is completed. During the heat treatment, a 3 to 12% relaxation treatment may be performed as necessary. Biaxial stretching may be longitudinal, transverse sequential stretching, or simultaneous biaxial stretching, and may be re-stretched in either the longitudinal or transverse direction after longitudinal and transverse stretching.
　［ハードコート層］
　本発明において、基材フィルムと高屈折率層の間にハードコート層を設けることが好ましい。ハードコート層の屈折率（ｎｈ）は、１．４６～１．５５の範囲が好ましく、１．４８～１．５３の範囲がより好ましく、１．４８～１．５２の範囲が特に好ましい。 [Hard coat layer]
In the present invention, it is preferable to provide a hard coat layer between the base film and the high refractive index layer. The refractive index (nh) of the hard coat layer is preferably in the range of 1.46 to 1.55, more preferably in the range of 1.48 to 1.53, and particularly preferably in the range of 1.48 to 1.52.
　ハードコート層の厚みは０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。厚みの上限は１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が特に好ましく、３μｍ以下が最も好ましい。 The thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 μm or more, and more preferably 1 μm or more. The upper limit of the thickness is preferably 10 μm or less, more preferably 8 μm or less, particularly preferably 5 μm or less, and most preferably 3 μm or less.
　基材フィルムと高屈折率層の間にハードコート層を設ける場合は、前述の易接着層を介して基材フィルム上にハードコート層を設けることが好ましい。この場合、基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、易接着層の屈折率（ｎｐ）およびハードコート層の屈折率（ｎｈ）の関係は、透明導電性フィルムの干渉縞の発生を抑制するという観点から、ｎｆ＞ｎｐ＞ｎｈであることが好ましい。 When providing a hard-coat layer between a base film and a high refractive index layer, it is preferable to provide a hard-coat layer on a base film through the above-mentioned easily bonding layer. In this case, the relationship among the refractive index (nf) of the base film, the refractive index (np) of the easy-adhesion layer, and the refractive index (nh) of the hard coat layer is a viewpoint that suppresses the generation of interference fringes in the transparent conductive film. Therefore, it is preferable that nf> np> nh.
　さらに透明導電性フィルムの干渉縞の発生を抑制するという観点から、基材フィルムの屈折率（ｎｆ）と易接着層の屈折率（ｎｐ）との差（ｎｆ－ｎｐ）、および易接着層の屈折率（ｎｐ）とハードコート層の屈折率（ｎｈ）との差（ｎｐ－ｎｈ）は、いずれも０．１以下が好ましく、０．０９以下がより好ましく、特に０．０８以下が好ましい。下限は０．０３以上が好ましく、０．０４以上がより好ましい。 Furthermore, from the viewpoint of suppressing the occurrence of interference fringes in the transparent conductive film, the difference (nf−np) between the refractive index (nf) of the base film and the refractive index (np) of the easy adhesion layer, and the The difference (np−nh) between the refractive index (np) and the refractive index (nh) of the hard coat layer is preferably 0.1 or less, more preferably 0.09 or less, and particularly preferably 0.08 or less. The lower limit is preferably 0.03 or more, and more preferably 0.04 or more.
　本発明において、基材フィルムの片面にのみ、高屈折率層、ＳｉＯ２膜、透明導電膜、および必要に応じて易接着層やハードコート層を設ける場合は、反対面にハードコート層を設けることが好ましい。これにより、基材フィルムからのオリゴマーの析出を抑制することができる。この場合、透明導電性フィルムの干渉縞の発生を抑制するという観点から、基材フィルムとハードコート層との間に上記の屈折率の関係を満足するように易接着層を設けることが好ましい。 In the present invention, when a high refractive index layer, a SiO 2 film, a transparent conductive film, and an easy-adhesion layer or a hard coat layer are provided only on one side of the base film, a hard coat layer is provided on the opposite side. It is preferable. Thereby, precipitation of the oligomer from a base film can be suppressed. In this case, from the viewpoint of suppressing the occurrence of interference fringes in the transparent conductive film, it is preferable to provide an easy-adhesion layer so as to satisfy the above-described refractive index relationship between the base film and the hard coat layer.
　本発明において、基材フィルムからのオリゴマー析出の抑制と透明導電性フィルムの干渉縞発生の抑制の観点から、基材フィルムの両面に易接着層とハードコート層をこの順に設け、両面ともそれぞれ、基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、易接着層の屈折率（ｎｐ）およびハードコート層の屈折率（ｎｈ）が上記の関係を満足することが好ましい。この態様としては以下の（１）、（２）の構成が挙げられる。なお、下記構成例において、透明導電膜はパターン化された透明導電膜であり、透明導電膜以外の他の層はパターン化されていない。
（１）ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
（２）透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜。 In the present invention, from the viewpoint of suppression of oligomer precipitation from the base film and suppression of interference fringe generation of the transparent conductive film, an easy-adhesion layer and a hard coat layer are provided in this order on both sides of the base film. It is preferable that the refractive index (nf) of the base film, the refractive index (np) of the easy-adhesion layer, and the refractive index (nh) of the hard coat layer satisfy the above relationship. As this aspect, the following configurations (1) and (2) are exemplified. In the following configuration example, the transparent conductive film is a patterned transparent conductive film, and other layers other than the transparent conductive film are not patterned.
(1) Hard coat layer / easy adhesion layer / base film / easy adhesion layer / hard coat layer / high refractive index layer / SiO 2 film / transparent conductive film (2) transparent conductive film / SiO 2 film / high refractive index layer / Hard coat layer / easy adhesion layer / base film / easy adhesion layer / hard coat layer / high refractive index layer / SiO 2 film / transparent conductive film.
　ハードコート層は、着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより、着色することができる。これにより、透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することができる。 The hard coat layer can be colored by containing a coloring dye or coloring pigment. Thereby, the reflective color and transparent color of a transparent conductive film can be adjusted.
　ハードコート層は、熱硬化性あるいは活性エネルギー線硬化性の樹脂を含む組成物をウェットコーティング法により塗布後、必要に応じて乾燥した後、硬化させた層であることが好ましい。ハードコート層形成用組成物としては、特に活性エネルギー線硬化性樹脂を含む組成物が好ましい。ウェットコーティング法としては前述の塗布方法を用いることができる。 The hard coat layer is preferably a layer obtained by applying a composition containing a thermosetting or active energy ray-curable resin by a wet coating method, drying it if necessary, and then curing it. As the composition for forming a hard coat layer, a composition containing an active energy ray-curable resin is particularly preferable. As the wet coating method, the above-described coating method can be used.
　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述の高屈折率層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。また、活性エネルギー線硬化性樹脂と併せて用いることができる光重合開始剤も、前述の高屈折率層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。 As the active energy ray curable resin, the same material as that used in the above-described high refractive index layer is used, and the description thereof is omitted here. Moreover, since the photopolymerization initiator that can be used in combination with the active energy ray-curable resin is the same as that used for the high refractive index layer, the description thereof is omitted here.
　［透明導電性フィルム］
　本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルムの片面にのみ高屈折率層、ＳｉＯ２膜および透明導電膜を設けたものであってもよいし、基材フィルムの両面に高屈折率層、ＳｉＯ２膜および透明導電膜を設けたものであってもよい。基材フィルムの両面に高屈折率層、ＳｉＯ２膜および透明導電膜を設けた透明導電性フィルムの場合、前述した高屈折率層の光学厚みとＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計は、片面当たりの合計値である。 [Transparent conductive film]
The transparent conductive film of the present invention may be provided with a high refractive index layer, a SiO 2 film and a transparent conductive film only on one side of the base film, or a high refractive index layer on both sides of the base film, An SiO 2 film and a transparent conductive film may be provided. In the case of a transparent conductive film in which a high refractive index layer, a SiO 2 film and a transparent conductive film are provided on both surfaces of the base film, the total of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the SiO 2 film described above is The total value per hit.
　前述の易接着層および／またはハードコート層についても、基材フィルムの片面側にのみ設けてもよいし、両面に設けてもよい。 The above-mentioned easy adhesion layer and / or hard coat layer may also be provided only on one side of the base film, or may be provided on both sides.
　本発明の透明導電性フィルムの好ましい構成例の幾つかを以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されない。なお、下記構成例において、透明導電膜はパターン化された透明導電膜であり、透明導電膜以外の他の層はパターン化されていない。
ａ）基材フィルム／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｂ）ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｃ）基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｄ）ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｅ）透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／易接着層／基材フィルム／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｆ）透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜。 Some preferred structural examples of the transparent conductive film of the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto. In the following configuration example, the transparent conductive film is a patterned transparent conductive film, and other layers other than the transparent conductive film are not patterned.
a) Base film / easy adhesion layer / high refractive index layer / SiO 2 film / transparent conductive film b) Hard coat layer / easy adhesion layer / base film / easy adhesion layer / high refractive index layer / SiO 2 film / transparent Conductive film c) Base film / Easily adhesive layer / Hard coat layer / High refractive index layer / SiO 2 film / Transparent conductive film d) Hard coat layer / Easily adhesive layer / Base film / Easily adhesive layer / Hard coat layer / High refractive index layer / SiO 2 film / transparent conductive film e) transparent conductive film / SiO 2 film / high refractive index layer / adhesive layer / base film / easy adhesive layer / high refractive index layer / SiO 2 film / transparent conductive Film f) Transparent conductive film / SiO 2 film / high refractive index layer / hard coat layer / easy adhesion layer / base film / easy adhesion layer / hard coat layer / high refractive index layer / SiO 2 film / transparent conductive film.
　［各層の屈折率の関係］
　本発明の透明導電性フィルムにおいて、各層の屈折率の関係は以下の関係式５、関係式６を満足することが好ましい。これによって透明導電膜パターンの骨見え現象が一段と抑制される。
ｎｔ＞ｎ１≧ｎｆ＞ｎ２　・・・（式５）
ｎｔ＞ｎ１≧ｎｆ＞ｎｐ＞ｎｈ＞ｎ２　・・・（式６）
　式中、ｎｔは透明導電膜の屈折率、ｎ１は高屈折率層の屈折率、ｎｆは基材フィルムの屈折率、ｎｐは易接着層の屈折率、ｎ２はＳｉＯ２膜の屈折率を表す。 [Relationship of refractive index of each layer]
In the transparent conductive film of the present invention, the relationship between the refractive indexes of the respective layers preferably satisfies the following relational expressions 5 and 6. As a result, the visible bone phenomenon of the transparent conductive film pattern is further suppressed.
nt> n1 ≧ nf> n2 (Formula 5)
nt> n1 ≧ nf>np>nh> n2 (Formula 6)
In the formula, nt represents the refractive index of the transparent conductive film, n1 represents the refractive index of the high refractive index layer, nf represents the refractive index of the base film, np represents the refractive index of the easy adhesion layer, and n2 represents the refractive index of the SiO 2 film. .
　[視感反射率]
　本発明の透明導電性フィルムにおいて、透明導電膜のパターン部と非パターン部との視感反射率差は、３．０％以下が好ましく、２．５％以下がより好ましく、２．０％以下が特に好ましく、１．５％以下が最も好ましい。 [Visibility reflectance]
In the transparent conductive film of the present invention, the difference in luminous reflectance between the pattern portion and the non-pattern portion of the transparent conductive film is preferably 3.0% or less, more preferably 2.5% or less, and 2.0% or less. Is particularly preferable, and 1.5% or less is most preferable.
　[透明導電膜のパターン部と非パターン部の色差]
　透明導電膜パターンの視認（骨見え）を抑制するという観点から、透明導電膜のパターン部と非パターン部の反射色の色差ΔＥは７以下であることが好ましく、６以下であることがより好ましく、５以下であることが特に好ましい。ここで、ΔＥは、下記関係式７で表される。
・ΔＥ＝｛（ΔＬ）２＋（Δａ）２＋（Δｂ）２｝１／２　　　・・・（式７）
　式中
ΔＬ＝（非パターン部におけるＬ*値）－（パターン部におけるＬ*値）
Δａ＝（非パターン部におけるａ*値）－（パターン部におけるａ*値）
Δｂ＝（非パターン部におけるｂ*値）－（パターン部におけるｂ*値）。 [Color difference between patterned and non-patterned parts of transparent conductive film]
From the viewpoint of suppressing the visual recognition (bone appearance) of the transparent conductive film pattern, the color difference ΔE of the reflection color between the pattern portion and the non-pattern portion of the transparent conductive film is preferably 7 or less, and more preferably 6 or less. 5 or less is particularly preferable. Here, ΔE is expressed by the following relational expression 7.
ΔE = {(ΔL) 2 + (Δa) 2 + (Δb) 2 } 1/2 (Expression 7)
ΔL = (L * value in non-pattern part) − (L * value in pattern part)
Δa = (a * value in non-pattern part) − (a * value in pattern part)
Δb = (b * value in the non-pattern part) − (b * value in the pattern part).
　本発明の層構成を採用することにより、透明導電膜のパターン部と非パターン部との視感反射率差と色差を上記のようにバランス良く小さくすることができ、その結果、骨見え現象を十分に抑制することが可能になる。 By adopting the layer structure of the present invention, it is possible to reduce the luminous reflectance difference and the color difference between the pattern portion and the non-pattern portion of the transparent conductive film with a good balance as described above, and as a result, the bone appearance phenomenon can be reduced. It becomes possible to suppress sufficiently.
　[透明導電性フィルムの調色]
　基材フィルム、高屈折率層、およびＳｉＯ２膜の中から選ばれる少なくとも１層に着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより着色することができる。これにより、透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することができる。 [Toning of transparent conductive film]
At least one layer selected from the base film, the high refractive index layer, and the SiO 2 film can be colored by containing a coloring dye or a coloring pigment. Thereby, the reflective color and transparent color of a transparent conductive film can be adjusted.
　また、前述したようにハードコート層を設ける場合には、ハードコート層にも着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより着色することができる。 Further, when the hard coat layer is provided as described above, the hard coat layer can be colored by containing a coloring dye or a coloring pigment.
　上記のようにして本発明の透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することにより、透明導電膜パターンの骨見え現象をさらに抑制することができる。 By adjusting the reflection color and transmission color of the transparent conductive film of the present invention as described above, the bone appearance phenomenon of the transparent conductive film pattern can be further suppressed.
　[用途]
　本発明の透明導電性フィルムは、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイなどのディスプレイやタッチパネル等における透明電極、帯電防止性フィルム、あるいは電磁波シールドフィルム等に用いることができる。特に本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルに好適であり、中でも静電容量式タッチパネルに好適である。 [Usage]
The transparent conductive film of the present invention can be used for transparent electrodes, antistatic films, electromagnetic wave shielding films, etc. in displays such as liquid crystal displays and electroluminescence displays, touch panels and the like. In particular, the transparent conductive film of the present invention is suitable for a touch panel, and particularly suitable for a capacitive touch panel.
　以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、本実施例における、測定方法、評価方法および各層の塗布組成物を以下に示す。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the measuring method, the evaluation method, and the coating composition of each layer in this example are shown below.
　（１）屈折率の測定その１（易接着層、高屈折率層およびハードコート層の屈折率）
　易接着層、高屈折率層およびハードコート層のそれぞれの塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ－１０００）で６３３ｎｍの屈折率を測定した。 (1) Refractive index measurement 1 (refractive index of easy-adhesion layer, high refractive index layer and hard coat layer)
A coating film (dry thickness of about 2 μm) formed by coating each of the coating compositions of the easy-adhesion layer, the high refractive index layer and the hard coat layer on a silicon wafer with a spin coater under a temperature condition of 25 ° C. The refractive index at 633 nm was measured with a measuring device (Nikon Corporation: NPDM-1000).
　（２）屈折率の測定その２（基材フィルムの屈折率）
　基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じてアッベ屈折率計で測定した。 (2) Refractive index measurement 2 (refractive index of substrate film)
The refractive index of the base film (PET film) was measured with an Abbe refractometer according to JIS K7105 (1981).
　（３）屈折率の測定その３（透明導電膜およびＳｉＯ２膜の屈折率）
　透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜を、屈折率が既知のＰＥＴフィルム上に実際の積層条件と同条件で厚みが３３ｎｍとなるようにそれぞれ積層して屈折率測定用サンプルを作製する。次に、屈折率測定用サンプルの透明導電膜薄もしくはＳｉＯ２膜の反射率と厚みをそれぞれ測定する。このようにして得られた反射率、膜厚み、およびＰＥＴフィルムの屈折率とから、透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜の屈折率を算出する。
上記反射率は、透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜が積層された面とは反対側のＰＥＴフィルム面に＃３２０～４００の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料（黒マジックインキ（登録商標）液）を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ－３１５０を用いて５５０ｎｍの反射率を測定する。
透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜の厚みは、下記（４）の方法にて測定する。 (3) Refractive index measurement 3 (refractive index of transparent conductive film and SiO 2 film)
A transparent conductive film or SiO 2 film is laminated on a PET film having a known refractive index so as to have a thickness of 33 nm under the same conditions as the actual lamination conditions, thereby producing a sample for refractive index measurement. Next, the reflectance and thickness of the transparent conductive film thin or SiO 2 film of the sample for refractive index measurement are measured. The refractive index of the transparent conductive film or the SiO 2 film is calculated from the thus obtained reflectance, film thickness, and refractive index of the PET film.
The reflectance is determined by uniformly scratching the surface of the PET film opposite to the surface on which the transparent conductive film or the SiO 2 film is laminated with a water resistant sandpaper of # 320 to 400, followed by black paint (black magic ink ( (Registered Trademark) solution) is applied to completely eliminate reflection from the opposite surface, and the reflectance at 550 nm is measured using a spectrophotometer UV-3150 manufactured by Shimadzu Corporation.
The thickness of the transparent conductive film or SiO 2 film is measured by the following method (4).
　（４）それぞれの層および膜の厚みの測定
　サンプルの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ－７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて５万倍～３０万倍の倍率でサンプルの断面を観察し、それぞれ層、膜の厚みを測定した。なお、各層の境界が明確でない場合は必要に応じて染色処理を施した。 (4) Measurement of the thickness of each layer and film Cut the cross section of the sample into ultrathin sections and use a transmission electron microscope (H-7100FA model made by Hitachi) at an acceleration voltage of 100 kV at a magnification of 50,000 to 300,000 times. The cross section of the sample was observed, and the thickness of each layer and film was measured. In addition, when the boundary of each layer was not clear, the dyeing | staining process was performed as needed.
　（５）透明導電膜パターンの視認性
　黒い板の上に、サンプルを透明導電膜が上になるように置き、目視によりパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。
ＡＡ：パターン部が視認できない。
Ａ：パターン部が僅かに視認できる。
Ｃ：パターン部が明確に視認できる。 (5) Visibility of transparent conductive film pattern A sample was placed on a black plate with the transparent conductive film on top, and whether or not the pattern portion could be visually confirmed was evaluated according to the following criteria.
AA: The pattern portion cannot be visually recognized.
A: The pattern part is slightly visible.
C: A pattern part can be visually recognized clearly.
　（６）干渉縞の目視評価
　基材フィルムに対して透明導電膜が設けられた側とは反対面に黒粘着テープ（日東電工製“ビニルテープＮｏ．２１　トクハバ　黒”）を貼り付け、暗室三波長蛍光灯下にて目視にて干渉縞を観察し、以下の基準で行った。
Ａ：干渉縞が見えないか、あるいは僅かに見えるが気にならないレベルである。
Ｃ：干渉縞が比較的強く見えており、気になるレベルである。 (6) Visual evaluation of interference fringes A black adhesive tape (Nitto Denko “Vinyl Tape No. 21 Tokuhaba Black”) was applied to the opposite side of the base film from the side where the transparent conductive film was provided. Interference fringes were visually observed under a wavelength fluorescent lamp, and the following criteria were used.
A: The interference fringes are not visible or are slightly visible but not a concern.
C: Interference fringes appear to be relatively strong and are at a level of concern.
　（７）各層の塗布組成物の調製
　（易接着層の塗布組成物１ａ）
　ナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を５質量部、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製の「スノーテックスＯＬ」）を１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５８であった。 (7) Preparation of coating composition for each layer (Coating composition 1a for easy adhesion layer)
100 parts by weight of a naphthalene ring-containing polyester resin, 5 parts by weight of a melamine-based crosslinking agent (methylol-type melamine-based crosslinking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)), colloidal silica (Nissan Chemical Industries, Ltd.) ) Manufactured “Snowtex OL”) in an aqueous dispersion containing 1 part by mass. The refractive index of this coating composition was 1.58.
　（易接着層の塗布組成物１ｂ）
　アクリル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を５質量部、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製の「スノーテックスＯＬ」）を１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５２であった。 (Coating composition 1b for easy adhesion layer)
100 parts by mass of acrylic resin, 5 parts by mass of melamine-based crosslinking agent (methylol-type melamine-based crosslinking agent (“Nicarac MW12LF” manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)), colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) An aqueous dispersion containing 1 part by mass of Snowtex OL "). The refractive index of this coating composition was 1.52.
 （ハードコート層の塗布組成物）
　活性エネルギー線硬化性樹脂として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）５５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．５１であった。 (Coating composition for hard coat layer)
As active energy ray-curable resin, 40 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 55 parts by mass of urethane acrylate oligomer (“Art Resin UN901T” manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), and photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd. “Irgacure (registered trademark) 184”) 5 parts by mass dispersed or dissolved in an organic solvent. The refractive index of this coating composition was 1.51.
　（高屈折率層の塗布組成物２ａ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）２７質量部）３７質量部、酸化ジルコニウム６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．７０であった。 (Coating composition 2a for high refractive index layer)
37 parts by mass of active energy ray-curable resin (10 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate and 27 parts by mass of urethane acrylate oligomer (“Art Resin UN901T” manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.)), 60 parts by mass of zirconium oxide, and photopolymerization A coating composition in which 3 parts by weight of an initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) is dispersed or dissolved in an organic solvent. The refractive index of this coating composition was 1.70.
　（高屈折率層の塗布組成物２ｂ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレート２７質量部）３７質量部、酸化チタン６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．７５であった。 (Coating composition 2b for high refractive index layer)
Active energy ray curable resin (10 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate and 27 parts by mass of urethane acrylate), 37 parts by mass of titanium oxide, and photopolymerization initiator (Irgacure (Ciba Specialty Chemicals) (Registered trademark) 184 ") A coating composition in which 3 parts by mass are dispersed or dissolved in an organic solvent. The refractive index of this coating composition was 1.75.
　（高屈折率層の塗布組成物２ｃ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）１２質量部）２２質量部、五酸化アンチモン７５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．６５であった。 (Coating composition 2c for high refractive index layer)
Active energy ray curable resin (10 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate and 12 parts by mass of urethane acrylate oligomer (“Art Resin UN901T” manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.)) 22 parts by mass, 75 parts by mass of antimony pentoxide, and light A coating composition in which 3 parts by mass of a polymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) is dispersed or dissolved in an organic solvent. The refractive index of this coating composition was 1.65.
　（高屈折率層の塗布組成物２ｄ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１５質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）２２質量部）３７質量部、五酸化アンチモン６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．６２であった。 (Coating composition 2d for high refractive index layer)
37 parts by mass of active energy ray curable resin (15 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate and 22 parts by mass of “Art Resin UN901T” manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), 60 parts by mass of antimony pentoxide, and light A coating composition in which 3 parts by mass of a polymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) is dispersed or dissolved in an organic solvent. The refractive index of this coating composition was 1.62.
　（高屈折率層の塗布組成物２ｅ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）５７質量部）７７質量部、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）２０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．５４であった。 (Coating composition 2e for high refractive index layer)
Active energy ray-curable resin (dipentaerythritol hexaacrylate 20 parts by mass and urethane acrylate oligomer (“Art Resin UN901T” manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) 57 parts by mass) 77 parts by mass, ATO (antimony tin oxide) 20 parts by mass And 3 parts by mass of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark) 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) are dispersed or dissolved in an organic solvent. The refractive index of this coating composition was 1.54.
　［実施例１］
　下記の要領で透明導電性フィルムを作製した。この透明導電性フィルムは、「ハードコート層／易接着層／基材フィルム（ＰＥＴフィルム）／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜」の構成である。
＜易接着層の積層＞
　屈折率１．６５で厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に、ＰＥＴフィルムの製膜工程内（インライン）で上記の易接着層塗布組成物１ａを乾燥厚みが９０ｎｍとなるようにウェットコーティング法（バーコート法）により積層して、ＰＥＴフィルム上に易接着層を積層した。
＜ハードコート層の積層＞
　ＰＥＴフィルムの一方の面の易接着層上にハードコート層の塗布組成物をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化して、厚みが２μｍのハードコート層を積層した。
＜高屈折率層の積層＞
　ＰＥＴフィルムのハードコート層が積層されている面とは反対面の易接着層上に高屈折率層の塗布組成物２ａをウェットコーティング法（グラビアコート法）により硬化後の厚みが７０ｎｍとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて、高屈折率層を形成した。
＜ＳｉＯ２膜の積層＞
　上記の高屈折率層上に、厚みが１０ｎｍとなるようにＳｉＯ２膜（屈折率１．４６）をスパッタリング法により積層した。
＜透明導電膜の積層＞
　上記のＳｉＯ２膜に、透明導電膜としてＩＴＯ膜（屈折率２．００）を厚みが３３ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層した。
＜透明導電膜のパターン化＞
　上記で得られた積層体の透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。 [Example 1]
A transparent conductive film was produced in the following manner. This transparent conductive film has a configuration of “hard coat layer / easy adhesion layer / base film (PET film) / easy adhesion layer / high refractive index layer / SiO 2 film / transparent conductive film”.
<Lamination of easy adhesion layer>
On both surfaces of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 125 μm, the above easy-adhesion layer coating composition 1a is wet so that the dry thickness becomes 90 nm in the PET film formation process (inline). The easy adhesion layer was laminated | stacked on the PET film by laminating | stacking by the coating method (bar coat method).
<Lamination of hard coat layer>
The hard coat layer coating composition is applied onto the easy-adhesion layer on one side of the PET film by a wet coating method (gravure coating method), dried, irradiated with ultraviolet rays, and cured to a thickness of 2 μm. Were laminated.
<Lamination of high refractive index layer>
The coating composition 2a of the high refractive index layer is formed on the easy-adhesion layer opposite to the surface on which the hard coat layer of the PET film is laminated so that the thickness after curing by a wet coating method (gravure coating method) becomes 70 nm. The film was dried, irradiated with ultraviolet rays and cured to form a high refractive index layer.
<Lamination of SiO 2 film>
An SiO 2 film (refractive index: 1.46) was laminated on the high refractive index layer by a sputtering method so as to have a thickness of 10 nm.
<Lamination of transparent conductive film>
An ITO film (refractive index of 2.00) was laminated as a transparent conductive film on the SiO 2 film by a sputtering method so as to have a thickness of 33 nm.
<Patterning of transparent conductive film>
Only the transparent conductive film of the laminate obtained above was subjected to pattern processing (etching treatment) in a stripe shape to obtain a transparent conductive film.
　［実施例２～１４、比較例１～５］
　表１，２に示すような構成に変更する以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。 [Examples 2 to 14, Comparative Examples 1 to 5]
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the configuration was changed as shown in Tables 1 and 2.
　＜評価＞
　上記で作製したそれぞれの透明導電性フィルムについて、透明導電膜パターンの視認性を評価した。その結果を表１，２に示す。 <Evaluation>
About each transparent conductive film produced above, the visibility of a transparent conductive film pattern was evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
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　表１，２の結果から明らかなように、本発明の実施例は透明導電膜パターンが視認されないが、比較例は透明導電膜パターンが視認される。 As is clear from the results of Tables 1 and 2, the transparent conductive film pattern is not visually recognized in the examples of the present invention, but the transparent conductive film pattern is visually recognized in the comparative example.
　［実施例２１～３４］
　実施例１～１４において、ハードコート層を積層する代わりに、実施例１～１４と同様の高屈折率層、ＳｉＯ２膜、透明導電膜（ＩＴＯ膜）をそれぞれ積層して、実施例２１～３４の透明導電性フィルムを作製した。これらの実施例２１～３４の透明導電性フィルムは、「透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／易接着層／基材フィルム（ＰＥＴフィルム）／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜」の構成である。なお、実施例２１は実施例１に対応し、実施例２２は実施例２に対応し、以下同様にして、実施例２３～３４はそれぞれ実施例３～１４に対応する。 [Examples 21 to 34]
In Examples 1 to 14, instead of laminating the hard coat layer, the same high refractive index layer, SiO 2 film, and transparent conductive film (ITO film) as in Examples 1 to 14 were laminated, respectively. 34 transparent conductive films were produced. The transparent conductive films of Examples 21 to 34 were “transparent conductive film / SiO 2 film / high refractive index layer / easy adhesion layer / base film (PET film) / easy adhesion layer / high refractive index layer / SiO 2. 2 film / transparent conductive film ”. Note that Example 21 corresponds to Example 1, Example 22 corresponds to Example 2, and similarly, Examples 23 to 34 correspond to Examples 3 to 14, respectively.
　＜評価＞
　実施例２１～３４の透明導電性フィルムについて、両面それぞれの透明導電膜パターンの視認性を評価したところ、両面ともに実施例１～１４と同様に良好であった。 <Evaluation>
Regarding the transparent conductive films of Examples 21 to 34, the visibility of the transparent conductive film patterns on both surfaces was evaluated, and both surfaces were as good as in Examples 1 to 14.
　［実施例４１］
　下記の要領で透明導電性フィルムを作製した。この透明導電性フィルムは、「ハードコート層／易接着層／基材フィルム（ＰＥＴフィルム）／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜」の構成である。
＜易接着層の積層＞
　屈折率１．６５で厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に、ＰＥＴフィルムの製膜工程内（インライン）で上記の易接着層塗布組成物１ａを乾燥厚みが９０ｎｍとなるようにウェットコーティング法（バーコート法）により積層して、ＰＥＴフィルム上に易接着層を積層した。
＜ハードコート層の積層＞
　ＰＥＴフィルムの両面の易接着層上にそれぞれハードコート層の塗布組成物をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化して、厚みが２μｍのハードコート層を積層した。
＜高屈折率層の積層＞
　ＰＥＴフィルムの一方の面のハードコート層上に高屈折率層の塗布組成物２ａをウェットコーティング法（グラビアコート法）により硬化後の厚みが８５ｎｍとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて、高屈折率層を形成した。
＜ＳｉＯ２膜の積層＞
　上記の高屈折率層上、厚みが５ｎｍとなるようにＳｉＯ２膜（屈折率１．４６）をスパッタリング法により積層した。
＜透明導電膜の積層＞
　上記のＳｉＯ２膜に、透明導電膜としてＩＴＯ膜（屈折率２．００）を厚みが３３ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層した。
＜透明導電膜のパターン化＞
　上記で得られた積層体の透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。 [Example 41]
A transparent conductive film was produced in the following manner. This transparent conductive film has a configuration of “hard coat layer / easy adhesion layer / base film (PET film) / easy adhesion layer / hard coat layer / high refractive index layer / SiO 2 film / transparent conductive film”.
<Lamination of easy adhesion layer>
On both surfaces of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 125 μm, the above easy-adhesion layer coating composition 1a is wet so that the dry thickness becomes 90 nm in the PET film formation process (inline). The easy adhesion layer was laminated | stacked on the PET film by laminating | stacking by the coating method (bar coat method).
<Lamination of hard coat layer>
A hard coat layer coating composition is applied to each of the easy-adhesion layers on both sides of the PET film by a wet coating method (gravure coating method), dried, and cured by irradiating with ultraviolet rays to form a hard coat layer having a thickness of 2 μm. Laminated.
<Lamination of high refractive index layer>
The high refractive index layer coating composition 2a is applied on the hard coat layer on one side of the PET film by a wet coating method (gravure coating method) so that the thickness after curing is 85 nm, dried and irradiated with ultraviolet rays. And cured to form a high refractive index layer.
<Lamination of SiO 2 film>
On the above high refractive index layer, a SiO 2 film (refractive index 1.46) was laminated by a sputtering method so as to have a thickness of 5 nm.
<Lamination of transparent conductive film>
An ITO film (refractive index of 2.00) was laminated as a transparent conductive film on the SiO 2 film by a sputtering method so as to have a thickness of 33 nm.
<Patterning of transparent conductive film>
Only the transparent conductive film of the laminate obtained above was subjected to pattern processing (etching treatment) in a stripe shape to obtain a transparent conductive film.
　［実施例４２～５０、比較例１１～１５］
　表３，４に示すような構成に変更する以外は、実施例４１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。 [Examples 42 to 50, Comparative Examples 11 to 15]
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 41 except that the configuration was changed as shown in Tables 3 and 4.
　＜評価＞
　上記で作製したそれぞれの透明導電性フィルムについて、透明導電膜パターンの視認性と干渉縞を評価した。その結果を表３，４に示す。 <Evaluation>
About each transparent conductive film produced above, the visibility and interference fringe of a transparent conductive film pattern were evaluated. The results are shown in Tables 3 and 4.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
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　表３，４の結果から明らかなように、本発明の実施例は透明導電膜パターンが視認されないが、比較例は透明導電膜パターンが視認される。また、本発明の実施例は干渉縞の発生はほとんどなかったが、比較例１５は干渉縞の発生があった。 As is clear from the results of Tables 3 and 4, the transparent conductive film pattern is not visually recognized in the examples of the present invention, but the transparent conductive film pattern is visually recognized in the comparative example. Further, in the examples of the present invention, interference fringes were hardly generated, but in Comparative Example 15, interference fringes were generated.
　［実施例５１～６０］
　実施例４１～５０において、透明導電膜が積層された面とは反対面のハードコート層上に、実施例４１～５０と同様の高屈折率層、ＳｉＯ２膜、透明導電膜（ＩＴＯ膜）をそれぞれ積層して、実施例５１～６０の透明導電性フィルムを作製した。これらの実施例５１～６０の透明導電性フィルムは、「透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／ハードコート層／易接着層／基材フィルム（ＰＥＴフィルム）／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜」の構成である。なお、実施例５１は実施例４１に対応し、実施例５２は実施例４２に対応し、以下同様にして、実施例５３～６０はそれぞれ実施例４３～５０に対応する。 [Examples 51 to 60]
In Examples 41 to 50, the same high refractive index layer, SiO 2 film, and transparent conductive film (ITO film) as in Examples 41 to 50 are formed on the hard coat layer opposite to the surface on which the transparent conductive film is laminated. Were laminated to prepare transparent conductive films of Examples 51 to 60. The transparent conductive films of Examples 51 to 60 are “transparent conductive film / SiO 2 film / high refractive index layer / hard coat layer / easy adhesion layer / base film (PET film) / easy adhesion layer / hard coat. Layer / high refractive index layer / SiO 2 film / transparent conductive film ”. In addition, Example 51 corresponds to Example 41, Example 52 corresponds to Example 42, and similarly, Examples 53 to 60 correspond to Examples 43 to 50, respectively.
　＜評価＞
　実施例５１～６０の透明導電性フィルムについて、両面それぞれの透明導電膜パターンの視認性と干渉縞を評価したところ、両面ともに実施例４１～５０と同様に良好であった。 <Evaluation>
Regarding the transparent conductive films of Examples 51 to 60, the visibility and interference fringes of the transparent conductive film patterns on both sides were evaluated, and both sides were as good as in Examples 41 to 50.

Claims (13)

  1. 　基材フィルム上に、屈折率が１．６１～１．８０である高屈折率層、ＳｉＯ２膜、およびパターン化された透明導電膜をこの順に有し、前記高屈折率層の厚みが３０ｎｍ以上であり、かつ前記高屈折率層の光学厚みと前記ＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計が（１／４）λである、透明導電性フィルム。
    　但し、λは３８０～７８０ｎｍである。     On the base film, a high refractive index layer having a refractive index of 1.61 to 1.80, a SiO 2 film, and a patterned transparent conductive film are arranged in this order, and the thickness of the high refractive index layer is 30 nm. The transparent conductive film which is the above and the total of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the SiO 2 film is (1/4) λ.
    However, λ is 380 to 780 nm.
  2. 　前記高屈折率層の光学厚みと前記ＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計が９５ｎｍ以上１５９ｎｍ以下である、請求項１の透明導電性フィルム。 The sum of the optical thickness of the SiO 2 film and the optical thickness of the high refractive index layer is equal to or less than 159nm or more 95 nm, a transparent conductive film according to claim 1.
  3. 　前記高屈折率層が、少なくとも樹脂を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成されたものである、請求項１または２の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to claim 1 or 2, wherein the high refractive index layer is formed by wet coating and curing a composition containing at least a resin.
  4. 　前記高屈折率層が、活性エネルギー線硬化性樹脂と金属酸化物を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成されたものである、請求項１～３のいずれかの透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the high refractive index layer is formed by wet-coating and curing a composition containing an active energy ray-curable resin and a metal oxide.
  5. 　前記ＳｉＯ２膜の厚みが３ｎｍ以上２０ｎｍ以下である、請求項１～４のいずれかの透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 4, wherein the thickness of the SiO 2 film is 3 nm or more and 20 nm or less.
  6. 　前記基材フィルムがポリエステルフィルムである、請求項１～５のいずれかの透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 5, wherein the substrate film is a polyester film.
  7. 　前記基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、前記高屈折率層の屈折率（ｎ１）、前記ＳｉＯ２膜の屈折率（ｎ２）、および前記透明導電膜の屈折率（ｎｔ）の関係が、ｎｔ＞ｎ１≧ｎｆ＞ｎ２を満足する、請求項１～６のいずれかの透明導電性フィルム。 The relationship among the refractive index (nf) of the base film, the refractive index (n1) of the high refractive index layer, the refractive index (n2) of the SiO 2 film, and the refractive index (nt) of the transparent conductive film is nt The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 6, which satisfies>n1≥nf> n2.
  8. 　前記基材フィルムと高屈折率層との間にハードコート層を有する、請求項１～７のいずれかの透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 7, further comprising a hard coat layer between the base film and the high refractive index layer.
  9. 　前記基材フィルムとハードコート層との間に易接着層を有する、請求項８の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to claim 8, which has an easy adhesion layer between the base film and the hard coat layer.
  10. 　下記（１）または（２）の構成である、請求項９の透明導電性フィルム。
    　（１）ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
    　（２）透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜     The transparent conductive film of Claim 9 which is the structure of following (1) or (2).
    (1) Hard coat layer / easy adhesion layer / base film / easy adhesion layer / hard coat layer / high refractive index layer / SiO 2 film / transparent conductive film (2) transparent conductive film / SiO 2 film / high refractive index layer / Hard coat layer / Easily adhesive layer / Base film / Easily adhesive layer / Hard coat layer / High refractive index layer / SiO 2 film / Transparent conductive film
  11. 　前記基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、前記易接着層の屈折率（ｎｐ）、および前記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）の関係が、ｎｆ＞ｎｐ＞ｎｈを満足し、かつ前記基材フィルムの屈折率（ｎｆ）と前記易接着層の屈折率（ｎｐ）との差（ｎｆ－ｎｐ）、および前記易接着層の屈折率（ｎｐ）と前記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）との差（ｎｐ－ｎｈ）がいずれも０．１以下である、請求項９または１０の透明導電性フィルム。 The relationship among the refractive index (nf) of the base film, the refractive index (np) of the easy adhesion layer, and the refractive index (nh) of the hard coat layer satisfies nf> np> nh, and the base material The difference (nf−np) between the refractive index (nf) of the film and the refractive index (np) of the easy adhesion layer, and the refractive index (np) of the easy adhesion layer and the refractive index (nh) of the hard coat layer The transparent conductive film according to claim 9 or 10, wherein the difference (np-nh) is 0.1 or less.
  12. 　請求項１～１１のいずれかの透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。 A touch panel comprising the transparent conductive film according to any one of claims 1 to 11.
  13. 　前記タッチパネルが静電容量式タッチパネルである、請求項１２のタッチパネル。 The touch panel according to claim 12, wherein the touch panel is a capacitive touch panel.
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