KR20180072875A - 신발류를 위한 조건부로 보이는 바이트 라인 - Google Patents

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Abstract

조건부로 보이는 바이트 라인은 형광 물질과 적외선(IR) 물질 중 하나를 이용하여 신발 갑피 상에 경계 설정될 수 있다. 그러한 조건부로 보이는 바이트 라인은 자외선 광원 또는 IR 광원에 의해 적절하게 조명될 때와 같이 특별한 조건에서만 관찰 가능하게 될 수 있다. 광은 조건부로 보이는 바이트 라인을 검출할 수 있게 만드는 조건에서 조건부로 보이는 바이트 라인과 교차하도록 투사될 수 있다. 투사된 광과 조건부로 보이는 바이트 라인의 교차점(들)은 조건부로 보이는 바이트 라인에 의해 경계 설정되는 신발 갑피의 표면을 처리하기 위한 공구 경로를 발생시키는 데에 사용하기 위해 가상 바이트 라인을 생성하도록 사용될 수 있다.

Description

신발류를 위한 조건부로 보이는 바이트 라인{CONDITIONALLY VISIBLE BITE LINES FOR FOOTWEAR}
본 발명의 양태는 신발류 물품, 예컨대 신발과 관련된 가상 바이트 라인을 생성하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명의 양태는 신발 갑피와 신발 저부 유닛의 대표부 사이의 계면에서 조건부로 보이는 바이트 라인을 마킹하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것으로서, 조건부로 보이는 바이트 라인은 신발의 조립에 사용하도록 예정된 조명 조건에서 검출될 수 있다.
신발류 물품 및 특히 신발은, 자체가 하위 구성요소들로 구성될 수 있는 갑피와 저부 유닛 등의 구성요소들을 결합시킴으로써 제조될 수 있다. 예컨대, 신발 저부 유닛은 중창과 바깥창으로 구성될 수 있다. 접착제 및/또는 접합제의 사용과 같은 다양한 기법이 이용되어 신발 갑피 등의 하나의 구성요소를 신발 저부 유닛 등의 다른 구성요소에 결합시킬 수 있다. 신발류 물품의 다양한 구성요소들의 적절한 정렬은, 물품이 적절하게 기능하기 위해, 사용을 견디기 위해, 및/또는 물품이 심미적으로 만족스럽게 되기 위해 중요하다.
본 발명의 양태는 일반적으로 착화자의 발을 적어도 부분적으로 둘러싸는 갑피 부분과, 발을 보호하며 그리고 착화자가 서있고, 걸으며, 달리는 등을 할 때에 지면, 바닥, 또는 다른 표면과 접촉하는 밑창 부분을 통상적으로 포함할 수 있는 신발, 특히 운동화에 관한 것이다. 갑피는 흔히 가죽, 직물, 텍스타일 시트, 기타 가요성의 시트형 재료, 또는 만곡되고 3차원으로 형성될 수 있으며 착화자의 발에 대해 원하는 크기의 내구성, 지지력, 및 보호를 제공하면서 사람의 발을 수용하기에 충분한 유연성을 갖는 다른 유형의 재료로 제조된다. 밑창은 흔히 적어도 2개의 구성요소, 즉 바깥창과 중창을 포함한다. 바깥창은, 사용된다면, 지면 또는 다른 표면과 접촉하고, 이에 따라 걷기, 달리기 등의 동안에 마찰로 인한 열화 또는 마모 없이 신발의 소기의 수명을 지속하기에 충분한 탄성으로 임의의 원하는 정지 마찰 특성을 제공할 수 있다. 중창은, 사용된다면, 착화자의 발이 지면, 바닥, 또는 다른 표면과 반복적으로 및/또는 큰 힘으로 충돌하는 것을 흔히 수반하는 많은 스포츠 등의 활동에 특히 요망될 수 있는 완충 작용을 착화자의 발에 제공할 수 있다. 심지어 많은 비운동 활동에서도, 많은 스포츠 신발에서 발견되는 것과 유사한 중창과 바깥창의 결합 조립체로부터의 상당한 완충 작용을 제공하는 신발을 신는 것이 선호되고, 마찬가지로 스포츠 신발 갑피에 의해 흔히 제공되는 지지력 및/또는 보호가 선호될 수 있다.
갑피로부터의 보호 및 지지력, 중창으로부터의 완충 작용, 및 바깥창으로부터의 정지 마찰과 내구성에 대한 희망의 결과로서, 소정의 신발은 이들 상이한 구성요소에 대해 다양한 재료 및 구조 설계를 이용할 수 있다. 또한, 예컨대 특정한 충격 보호, 회내 또는 회외를 위한 움직임 제어, 다양한 지지도, 추가의 충격 보호 등을 제공하는 추가의 구성요소는 또한 신발의 전체 또는 부분 설계를 복잡하게 만들 수 있다. 그럼에도 불구하고, 이들 구성요소는 기능적이고 더할 나위 없이 매력적인 착용감 좋은 신발을 형성하도록 최종적으로 통합되어야 한다.
신발 구성요소 통합에 대한 한가지 방안은 하나 이상의 접착제를 이용하여 바깥창과 중창을 함께 고정시킨 다음에 상이한 또는 유사한 접착제를 이용하여 밑창 조립체(흔히 간단하게 "저부 유닛" 또는 "밑창"으로서 지칭됨)를 갑피에 고정시키는 것이다. 그러나, 그러한 방안을 이용할 때에, 용납 가능하게 강한 접합을 생성하도록 저부 유닛과 갑피 사이에 충분한 접착제 범위를 제공하는 데에 주의해야 한다. 그러나, 또한 신발이 조립된 후에 노출되는 신발, 특히 갑피의 구역에 대한 접착제의 도포에 주의를 기울어야 한다. 예컨대, 저부 유닛이 조립 시에 접합되는 갑피 부분을 넘어서 신발 갑피에 접착제를 지나치게 많이 도포하면, 접착제의 소비 외에, 변색, 용납되지 않는 마모, 먼지 및 기타 외부 물질의 부착, 또는 다른 문제가 생길 수 있다. 품질 제어 프로세스 중에 높은 거절율과 연계된 꼼꼼하고 시간 소모적인 수작업이 접착제를 지나치게 많이 도포하지 않으면서 갑피와 저부 유닛이 서로 양호하게 부착되는 신발을 달성할 수 있지만, 그러한 방안은 일반적으로 비용이 많이 들고 낭비가 심하다. 또한, 접착제의 꼼꼼한 수작업 도포는 흔히 신발 갑피 상에 눈에 보이게 배치되는 바이트 라인 경계에 의해 안내됨으로써 접합 후에 갑피와 저부 유닛 사이에 예상되는 결합을 보여줄 수 있다. 그러나, 신발 제작이 완료된 후에 소비자에게 보이는 바이트 라인은 통상적으로 신발을 용납할 수 없게 만든다. 따라서, 갑피 상에 형성된 모든 바이트 라인이 저부 유닛에 의해 덮이는 것을 보장하기 위해 신발 갑피와 신발 저부 유닛의 적절한 정렬을 장담하도록 더욱 더 주의를 해야 한다. 저부 유닛과의 조립 후에 신발 갑피 상에 남아 있는 눈에 보이는 바이트 라인은 때때로 소거에 의해 제거되거나 페인트 또는 염료의 도포에 의해 덮일 수 있지만, 이들 추가 제조 단계는 추가 자원을 소비한다. 신발 저부 유닛에 대한 신발 갑피의 조립에 관한 프로세스의 신중한 제어에도 불구하고, 신발 갑피에 눈에 보이는 바이트 라인을 사용하면, 눈에 보이게 인지 가능한 바이트 라인의 존재로 인해 품질 제어 중에 거절되어 다른 방식의 기능의 신발이 요구되리라는 것이 예상될 수 있다.
본 발명에 따른 시스템 및 방법은 조립 및 접합 시에 신발 갑피와 신발 저부 유닛 사이의 결합부를 나타내는 바이트 라인을 신발 갑피에 마킹하도록 조건부로 보이는 마킹제를 사용하고, 조건부로 보이는 바이트 라인은 특정한 조건에서만 보인다. 조건부로 보이는 바이트 라인의 예는 형광 바이트 라인과 적외선(IR) 바이트 라인을 포함하고, 이들 각각은 특정한 조명 조건에서만 사람 눈이든 카메라에 의해서든 검출 가능할 수 있다. 예컨대, 형광 바이트 라인을 검출될 수 있게 만드는 특정한 조명 조건은 흑색광으로서 흔히 지칭되는 자외선(UV) 광원, 또는 형광 바이트 라인이 관측되게 하지만 신발이 착용 및/또는 구매될 때에는 통상적으로는 존재하지 않는 유사한 광원의 사용을 포함할 수 있다. IR 바이트 라인을 검출될 수 있게 만드는 특정한 조명 조건은 IR 광원, 또는 IR 바이트 라인이 관측되게 하지만 신발이 착용 및/또는 구매될 때에는 통상적으로는 존재하지 않는 유사한 광원의 사용을 포함할 수 있다.
조건부로 보이는 바이트 라인은, 예컨대 신발 갑피가 라스팅되고 예정된 크기의 힘 또는 압력을 이용하여 저부 유닛, 또는 보다 가능하게는 저부 유닛의 대표부와 맞물려 있는 동안에 마킹 메카니즘을 이용하여 신발 갑피에 적용될 수 있다. 예컨대, 형광 마킹제 또는 IR 마킹제를 이용하여 생성될 수 있는, 조건부로 보이는 바이트 라인은 예정된 크기의 힘 또는 압력이 신발 갑피와 신발 저부 유닛을 정합시키도록 인가될 때에 신발 갑피와 저부 유닛 대표부 사이의 결합부를 나타낼 수 있다. 신발 갑피를 신발 저부 유닛 또는 그 대표부에 일시적으로 맞물리게 하는 동안에 인가되는 예정된 크기의 힘은 신발 갑피와 신발 저부 유닛을 접착제를 이용하여 함께 접합하는 데에 최종적으로 인가되는 힘의 크기와 동일하거나 상이할 수 있다.
본 발명에 따른 시스템 및 방법은 유리하게는 사람 작업자가 조건부로 보이는 바이트 라인을 인지하게 하는 조명 조건에서 조건부로 보이는 바이트 라인에 의해 형성되는 영역 내에서 사람 작업자가 접착제를 도포하게 할 수 있지만, 본 발명에 따른 시스템 및 방법은 또한 접착제를 도포하거나 조건부로 보이는 바이트 라인에 의해 경계 설정되는 표면을 달리 처리하도록 자동화된 공구 경로의 발생을 용이하게 할 수 있다. 예컨대, 조건부로 보이는 바이트 라인을 인지할 수 있게 만드는 조명 조건에서 마킹된 신발 갑피의 이미지를 얻기 위하여 하나 이상의 카메라를 포함하는 시스템이 사용될 수 있다. 예컨대, 자외선 스펙트럼 내의 광을 방출하는 흑색광이 사용되어 형광 바이트 라인이 적어도 하나의 카메라에게 보이게 만들 수 있다. 레이저 등의 광원은, 카메라가 신발 갑피의 이미지를 캡쳐하는 동안에 광원이 조건부로 보이는 바이트 라인과 교차하도록 마킹된 신발 갑피의 일부를 가로질러 투사될 수 있다. 카메라에 의해 캡쳐된 이미지는 광원으로부터 반사된 광이 조건부로 보이는 바이트 라인과 교차하는 신발 갑피의 표면 상의 포인트를 식별하도록 분석될 수 있다. 신발 갑피 및/또는 광원은, 광원으로부터 투사된 광에 의해 교차되는 조건부로 보이는 바이트 라인을 따른 복수 개의 포인트의 식별을 가능하게 하는 복수 개의 이미지를 카메라가 캡쳐하게 하도록 이동될 수 있다. 이들 복수 개의 지점은 가상 바이트 라인을 형성하도록 사용될 수 있다. 그후에, 결과적인 가상 바이트 라인은 실질적으로 바이트 라인에 의해 경계 설정되는 영역 내에서 접착제의 도포 또는 신발 갑피의 표면의 다른 처리를 위한 공구 경로를 발생시키도록 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 시스템 및 방법은 본 발명에 따른 시스템의 하나 이상의 구성요소의 작동을 제어하기 위해 및/또는 방법의 하나 이상의 단계를 수행하기 위해 소프트웨어 코드 형태로 컴퓨터 판독 가능한 매체에 저장된 컴퓨터 소프트웨어를 수행하도록 작동하는 하나 이상의 연산 시스템을 이용할 수 있다. 본 발명에 따른 시스템 및 방법은, 적어도 하나의 카메라와 함께 검출되는 가상 바이트 라인을 설명하는 데이터 등의 데이터를 저장할 수 있고, 가상 바이트 라인은 이어서 신발 갑피 상의 가상 바이트 라인에 의해 경계 설정되는 표면에 대한 공구의 물리적 이동 및 도포를 제어하는 공구 경로를 발생시키도록 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 시스템 및 방법은 최종 신발에서 눈에 보이는 바이트 라인으로 인한 품질 제어 이유로 신발류 물품이 거절되는 것을 방지하고, 가상 바이트 라인의 생성은, 접착제의 남용 없이 또는 접착제의 과도 도포로 인한 최종 신발의 품질 제어의 거절 우려 없이 신발 갑피와 신발 저부 유닛 간에 품질 접합을 달성하도록 접착제 도포 프로세스의 자동화를 가능하게 한다.
본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에서 상세하게 설명된다.
도 1은 본 발명의 양태에 따른, 조건부로 보이는 바이트 라인을 마킹하는 예를 예시하는 개략도이고;
도 2는 본 발명의 양태에 따른, 조건부로 보이는 바이트 라인의 예를 예시하는 개략도이며;
도 3a는 본 발명의 양태에 따른, 자외선 조건부로 보이는 경계와 관련된 가상 바이트 라인의 생성을 예시하는 개략도이고;
도 3b는 본 발명의 양태에 따른, 적외선 조건부로 보이는 경계와 관련된 가상 바이트 라인의 생성을 예시하는 개략도이며;
도 4는 본 발명의 양태에 따른, 가상 바이트 라인의 생성의 다른 예를 예시하는 개략도이고;
도 5a는 본 발명의 양태에 따른, 가상 바이트 라인의 생성의 다른 예를 예시하는 개략도이며;
도 5b는 본 발명의 양태에 따른, 적어도 하나의 카메라와 광원의 예시적인 타원형 이동 경로에 대해 라스팅된 갑피의 측면 사시도를 예시하는 개략도이고;
도 5c는 본 발명의 양태에 따른, 조건부로 보이는 바이트 라인을 캡쳐하기 위해 적어도 하나의 카메라가 이동할 수 있는 예시적인 이동 경로에 대해 라스팅된 갑피의 평면도를 예시하는 개략도이며;
도 6a는 본 발명의 양태에 따른, 조건부로 보이는 바이트 라인이 형광 마킹제를 이용하여 경계 설정되면 보이게 되는 복수 개의 교차점의 외관을 예시하는 개략도로서, 교차점은 UV 광원을 이용하여 검출될 수 있게 되어 있다;
도 6b는 본 발명의 양태에 따른, 조건부로 보이는 바이트 라인이 IR 마킹제를 이용하여 경계 설정되면 보이게 되는 복수 개의 교차점의 외관을 예시하는 개략도로서, 교차점은 IR 광원을 이용하여 검출될 수 있게 되어 있다;
도 7은 본 발명의 양태에 따른 조건부로 보이는 바이트 라인을 이용하여 가상 바이트 라인을 발생시키는 방법의 예를 예시하는 흐름도이고;
도 8은 본 발명의 양태에 따른 조건부로 보이는 바이트 라인을 이용하여 가상 바이트 라인을 발생시키는 방법의 예를 예시하는 흐름도이다.
본 발명의 양태는 신발 갑피의 차후의 처리를 안내하기 위해 신발 갑피 상에 바이트 라인을 마킹하는 시스템 및 방법을 제공한다. 예컨대, 본 발명에 따른 시스템 및 방법을 이용하여 생성되는 바이트 라인은 신발 갑피를 저부 유닛에 최종적으로 접합시키도록 신발 갑피에 대한 접착제의 도포를 안내하기 위해 사용될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 시스템 및 방법은 신발 갑피에 대한 접착제의 도포를 위해 또는 실질적으로 바이트 라인에 의해 경계 설정되는 영역 내에서 신발 갑피의 표면의 다른 처리를 위해 공구 경로의 발생에 사용되는 가상 바이트 라인을 마킹하도록 사용될 수 있다. 본 발명의 양태에 따른 바이트 라인을 이용하여 발생되는 공구 경로는 접착제의 도포 외에 바이트 라인에 의해 경계 설정되는 표면을 버핑, 세척, 프라이밍(priming), 도장, 또는 달리 처리하기 위한 공구 경로를 포함할 수 있다.
신발 갑피와 신발 저부 유닛의 예가 본 명세서에서의 예시적인 목적을 위해 단순한 형태로 묘사되어 있지만, 사실상 신발 갑피는 흔히 상이한 유형의 재료들로 형성되는 다수의 개별적인 부품들을 포함할 수 있다. 신발 갑피의 구성요소들은 다양한 접착제, 스티치, 및 다른 유형의 결합 구성요소를 이용하여 함께 결합될 수 있다. 신발 저부 유닛은 다수의 구성요소를 갖는 신발 밑창 조립체를 포함할 수 있다. 예컨대, 신발 저부 유닛은 바닥, 지면, 또는 다른 표면과 접촉하는, 고무와 같이 비교적 경질 및 내구성의 재료로 제조되는 바깥창을 포함할 수 있다. 신발 저부 유닛은 또한 일반적인 착화 및/또는 운동 훈련 또는 행위 중에 완충을 제공하고 힘을 흡수하는 재료로 형성되는 중창을 포함할 수 있다. 중창에 흔히 사용되는 재료의 예로는, 예컨대 에틸렌 비닐 아세테이트 폼, 폴리우레탄 폼 등이 있다. 신발 저부 유닛은 또한 추가 구성요소들, 예컨대 추가 완충 구성요소(스프링, 에어백, 그 유사물 등), 기능적 구성요소(회내 또는 회외를 처리하는 움직임 제어 요소 등), 보호 요소(지면 또는 바닥 상의 위험으로부터 발에 대한 손상을 방지하는 탄성판 등), 그 유사물을 구비할 수 있다. 신발 갑피 및/또는 신발 저부 유닛에 존재할 수 있는 이들 및 기타 구성요소는 본 명세서에 기재된 예에서 구체적으로 설명되지 않지만, 그러한 구성요소는 본 발명의 양태에 따른 시스템 및 방법을 이용하여 제조된 신발류 물품에 존재할 수 있다.
이제, 도 1을 참조하면, 본 발명의 양태에 따른 예시적인 시스템이 예시되어 있고 전체적으로 참조 번호 100으로 지정되어 있다. 예시된 시스템(100)에서, 신발 갑피(110)는 라스트(120)에 배치되어 있다. 라스트(120)는, 선택적으로, 라스팅된 갑피(100)를 대응하는 저부 유닛 또는 대응하는 저부 유닛 대표부(130)에 대해 유지하는 추가 부재(122)와 함께 예정된 크기의 힘을 인가할 수 있다. 처리 시에, 대응하는 유닛의 대표부(130)는 단일의 저부 유닛 대표부(130)가 복수 개의 신발 갑피를 처리하는 데에 사용될 수 있도록 저부 유닛 자체보다 흔히 사용될 수 있다는 점에 유념해야 한다. 저부 유닛 대표부(130)는 신발의 조립 시에 신발 갑피(110)에 부착되는 대응하는 저부 유닛의 실제 재료, 크기, 형상, 윤곽 등을 모방할 수 있다. 또한, 저부 유닛 대표부(130)는 저부 유닛에 통상적으로 사용되는 것과 상이한 재료로 형성될 수 있다는 점이 예상된다. 예컨대, 저부 유닛 대표부(130)의 기능이 반복된 제조 프로세스에서 바이트 라인 마킹을 적용하기 위한 안내부를 제공하기 위한 것일 때에, 더 내구성 및 강성의 재료가 저부 유닛 대표부의 적어도 일부를 형성할 수 있다. 이는 일반적으로 특히 충격 완화, 지지, 및 정지 마찰을 위해 제공되는 실제 저부 유닛의 기능적 목적과는 대조가 된다.
도 1에 예시된 예에서, 저부 유닛 대표부(130) 및 라스팅된 갑피(110)는, 라스팅된 갑피(110)와 저부 유닛 대표부(130) 사이의 결합부(112)에 마킹 팁(142)을 갖는 마킹 메카니즘(140)이 접촉되어 있는 동안에, 화살표(135)에 의해 지시된 바와 같이 회전될 수 있다. 예시된 예에서, 마킹 메카니즘(140)은 라스팅된 갑피(110)와 저부 유닛 대표부(130) 사이의 결합부에서 라스팅된 갑피(110) 상에 조건부로 보이는 표시를 적용하도록 마킹 팁(142)을 통해 조건부로 보이는 마킹제를 사용하는 마킹 메카니즘을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 마킹 메카니즘(140)은 조건부로 보이는 표시가 검출되게 하는 조명 조건 하에서만 관찰 가능한 조건부로 보이는 바이트 라인을 생성하도록 라스팅된 갑피(110)와 저부 유닛 대표부(130) 사이의 결합부(112)에 형광 표시 또는 IR 표시를 각각 적용하는 형광 마킹 팁과 IR 마킹 팁 중 하나를 갖는 마킹 메카니즘을 포함할 수 있다. 마킹 메카니즘(140)은 사람(예컨대, 펜형 장치로 마킹하는 사람)에 의해 라스팅된 갑피(110)에 대해 조작될 수 있다는 것이 예상된다.
라스팅된 갑피(110) 및/또는 대응하는 저부 유닛 대표부(130)는 흔히 유연성 및/또는 압축성 재료로 형성될 수 있기 때문에, 라스팅된 갑피(110)의 표면 상에 바이트 라인의 위치는 라스팅된 갑피(110)를 대응하는 저부 유닛 대표부(130)와 정합시키는 데에 사용되는 힘 또는 압력의 크기를 기초로 하여 변경될 수 있다. 마킹 메카니즘(140)을 이용한 조건부로 보이는 바이트 라인의 마킹 중에 시스템(100)에 의해 인가되는 예정된 크기의 힘은 라스팅된 갑피(110)를 저부 유닛 대표부(130)에 의해 대표되는 저부 유닛에 최종 접합할 때에 인가되는 힘과 동일할 수 있지만, 본 발명의 범위로부터 벗어남이 없이 접합 중에 인가되는 힘과 상이할 수 있다. 예컨대, 저부 유닛 대표부(130)가 소기의 저부 유닛과 상이한 재료로 형성되면, 인가되는 힘의 크기는 재료들 간에 상이한 크기의 압축성을 보정하도록 조절될 수 있다. 또한, 저부 유닛 대표부(130)의 크기는 실제로 적용될 저부 유닛의 크기로부터 변경될 수 있는데, 그 이유는 크기가 팁(142)의 압축성, 변형성, 또는 심지어는 두께의 변동을 보정할 수 있기 때문이다.
이제, 도 2를 참조하면, 라스팅된 갑피(110)는 대응하는 저부 유닛 대표부(130)로부터 제거되어 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)은 라스팅된 갑피(110) 상에 마킹되어 있다. 조건부로 보이는 바이트 라인(210)은 모든 조명 조건 동안에 인지 가능하지 않을 수 있고, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 인지 가능한 조명 조건은 바이트 라인(210)을 마킹하는 데에 사용되는 마킹제에 따라 좌우된다. 예컨대, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)은 UV 광원(예컨대, 흑색광(black light)), IR 광원, 또는 조건부로 보이는 바이트 라인(210)의 표시를 적용하도록 사용된 마킹제가 검출될 수 있게 하는 다른 조명원에 의해 조명될 때에만 보일 수 있다. 일례에서, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)은 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 흑색광을 이용하여 조명될 때에 인지될 수 있도록 형광 마킹제(예컨대, 잉크)로 형성되는 표시를 포함할 수 있다. 다른 예에서, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)은 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 IR 광원을 이용하여 조명될 때에 인지될 수 있도록 IR 마킹제로 형성되는 표시를 포함할 수 있다. 그러한 임의의 그리고 모든 변형, 및 그 임의의 조합은 본 발명의 양태의 범위 내에 있는 것으로 예상된다.
도 2를 계속 참조하면, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)은 라스팅된 신발 갑피(110)의 표면 상에 제1 영역(214)과 제2 영역(212)을 획정한다. 제1 영역(214)은, 라스팅된 갑피(110)가 예정된 크기의 힘으로 대응하는 저부 유닛 대표부(130)에 대해 유지될 때에 저부 유닛 대표부(130)에 의해 덮이는 라스팅된 갑피(110)의 표면 부분에 대응한다. 한편, 제2 영역(212)은, 라스팅된 갑피(110)가 예정된 크기의 힘으로 대응하는 저부 유닛 대표부(130)에 대해 압박될 때에 대응하는 저부 유닛 대표부(130)에 의해 덮이지 않는 라스팅된 갑피(110)의 표면 부분에 대응한다. 따라서, 저부 유닛 대표부(130)에 의해 대표되는 저부 유닛을 라스팅된 갑피(110)에 접합하도록 된 임의의 처리는 조건부로 보이는 바이트 라인(210)에 의해 경계 설정된 제1 영역(214) 내에서 수행되어야 한다. 또한, 제2 영역(212)에서 수행되는 라스팅된 갑피(110)의 표면의 외양을 변화시킬 수 있는 임의의 처리는 최종 신발에서 관찰될 수 있는 변화를 초래할 수 있고, 제1 영역(214) 내에서 수행되는 처리는 라스팅된 갑피(110)를 저부 유닛 대표부(130)에 의해 대표되는 대응하는 저부 유닛에 접합시킴으로써 신발이 조립된 후에 최종적으로 관찰될 수 없다.
도 2의 예는 신발 갑피(110)의 표면에서 조건부로 보이는 바이트 라인(210)의 위치의 오직 일례를 예시한다. 본 발명에 따른 조건부로 보이는 바이트 라인의 배향, 위치, 및 형태는 도 2의 예에 도시된 것에서 크게 변경될 수 있다. 몇몇의 신발 설계의 경우, 저부 유닛 대표부(130)에 의해 대표되는 저부 유닛은 저부 유닛(130)을 갑피(110)의 더 큰 부분에 걸쳐 연장시키는 방식으로 갑피(110)와 정합될 수 있어, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 갑피(110)의 저부로부터 더 멀리(예컨대, 전족 개구 및/또는 발목 개구에 더 가깝게) 배치되게 한다. 다른 신발 설계에서, 저부 유닛 대표부(130)에 의해 대표내는 저부 유닛 전부는 대체로 또는 전체적으로 갑피(110) 아래에 있을 수 있어, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 전체적으로 또는 대체로 갑피(110)의 저부면 상에(예컨대, 스트로벨(strobel) 구성 기법에서 스트로벨 보드에 가깝게) 있게 한다. 다른 예에서, 저부 유닛 대표부(130)에 의해 대표되는 저부 유닛이 정합될 때에 갑피(110) 위로 연장되는 범위는 갑피(110)와 저부 유닛 대표부(130)의 결합부를 따라 변경될 수 있어, 갑피(110)의 저부와 평행하지 않은 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 초래된다. 또한, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)가 발가락 구역 및/또는 뒤꿈치 구역 등의 특정 영역에서 저부 유닛으로부터 더 멀리 연장될 수 있다는 것이 예상된다. 이 예에서, 저부 유닛은 이들 영역에서 갑피(110)의 더 큰 부분을 덮어서 내마멸성 또는 개선된 지면 접촉 표면(예컨대, 정지 마찰) 등의 구조적 이점을 제공할 수 있다.
갑피(110)와 저부 유닛 대표부(130) 간의 결합부에서 갑피(110)의 형상은 도 2의 예에 도시된 것에서 변경될 수 있고, 이는 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 평탄하거나, 볼록하거나, 오목하거나, 또는 복잡한 3차원 곡률을 갖는 신발 갑피(110)의 부분에 생성될 수 있다는 것을 의미한다. 본 발명에 따른 시스템 및 방법은 신발 갑피 및/또는 저부 유닛의 이들 형태 및 기타 형태들 모두에서 조건부로 보이는 바이트 라인을 제공하고 이용할 수 있다.
이제, 도 3a를 참조하면, 본 발명의 양태에 따라 조건부로 보이는 바이트 라인이 마킹되어 있는 신발류 물품을 위한 가상 바이트 라인의 생성을 예시하는 개략도가 도시되어 있다. 제1 광원(370; 예컨대, 레이저)은 광(372)의 일부(374)가 라스팅되고 마킹된 갑피(110)의 표면의 적어도 일부를 가로질러 투사하도록 광(372)을 투사한다. 보다 구체적으로, 광원(370)으로부터 광(372)의 적어도 일부는 라스팅되고 마킹된 갑피(110)의 표면의 제1 영역(214)의 적어도 일부로부터 반사될 수 있다. 광원(370)은 갑피(110)로부터 일정 거리에서 정해진 기하학적 묘사를 제공하는 임의의 적절한 광원일 수 있다. 예컨대, 달리 비구조적인 광원으로부터 집속 슬릿형 광선을 생성하는 슬릿 램프(slit lamp)가 광과 조건부로 보이는 바이트 라인(210) 사이의 교차점을 특별히 확인하는 데에 요구되는 투사광을 생성할 수 있다. 다른 광원 선택으로는 구조적 레이저 광원을 포함한다. 구조적 레이저 광원은 라인 등의 구조적 광 패턴으로 레이저광을 투사하는 레이저이다. 광의 이러한 구조적 라인은 광 평면이 구조적 레이저 광원으로부터 방출되게 하도록 모든 다른 방향에서 광의 분산을 속박하면서 특정한 평면에서의 광이 광원으로부터 부채 모양으로 퍼지게 함으로써 형성될 수 있다. 광 평면이 표면과 접촉할 때에, 집속 물성과 광이 형성하는 평면에 직교하는 제어된 폭을 갖는 레이저 라인 묘사가 형성된다.
본 발명의 양태에서, 광원(370)으로부터 방출된 광(372)의 파장은 조건부로 보이는 바이트 라인(210)을 검출 가능하게 만든다. 예컨대, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 IR 마킹제를 이용하여 마킹되고 광원(370)이 IR 스펙트럼의 광(372)을 방출하는 IR 광원이면, 광원(370)으로부터의 광(372)은 조건부로 보이는 바이트 라인(210)을 광(735)과 바이트 라인(210)의 교차점(들)에서 검출 가능하게 만들어서, 이후에 도 3b에서 또한 설명되는 바와 같이, 임의의 추가 광원에 대한 필요성을 배제한다. 그러나, 다른 양태에서, 광원(370)으로부터 방출된 광(372)의 파장은 조건부로 보이는 바이트 라인(210)을 검출 가능하게 만들지 못한다. 예컨대, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 형광 마킹제를 이용하여 마킹되고 광원(370)으로부터 방출되는 광(372)이 UV 스펙트럼에 있지 않다면, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 검출될 수 없게 된다. 그러한 양태에서, 도 3a에 도시된 바와 같이, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)을 검출 가능하게 만들도록 추가 광원이 요구될 수 있다. 따라서, 도 3a는 는 UV 램프 등의 선택적인 광원(390)을 예시한다. 임의의 광 파장을 제공하는 임의의 갯수의 선택적인 광원(390)이 실시될 수 있다는 것이 예상된다. 예시된 바와 같이, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)을 검출 가능하게 만드는 파장의 광(392)을 방출하는 적어도 하나의 광원(390)이 활성화된 상태로 도시되어 있다.
조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 적절하게 적어도 하나의 광원(370 또는 390)에 의해 관찰 가능하게 되어 있으면서, 광원(370)으로부터의 광(372)이 조건부로 보이는 바이트 라인(210)과 교차하도록 라스팅된 갑피(110)의 적어도 일부를 가로질러 투사되는 동안에, 적어도 하나의 카메라가 라스팅된 갑피(110), 및 보다 구체적으로는 광(372)의 반사된 부분(374)과 조건부로 보이는 바이트 라인(210) 사이의 교차점(315)의 이미지를 캡쳐할 수 있다. 도 3a에 예시된 바와 같이, 적어도 하나의 카메라는 제1 카메라(380)와 제2 카메라(382)를 포함하고, 선택적으로 조건부로 보이는 바이트 라인(210)과 투사된 광(372)의 반사된 부분(374)의 교차점(315)을 캡쳐하도록 추가 카메라(도시 생략)를 포함할 수 있다. 적어도 제1 카메라(380)와 제2 카메라(382)의 사용은, 특히 갑피(110)가 만곡되어 있는 경우에, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)과 투사된 광(372)의 반사된 부분(374)의 교차점(315)을 정확하게 위치 결정하는 데에 일조할 수 있다.
다수의 카메라의 사용이 또한 상이한 시각으로부터 2개의 이미지를 갖는 입체 영상을 활용하도록 예상된다. 제1 카메라(380)로부터의 제1 이미지와 제2 카메라로부터의 제2 이미지 사이에 양안 부등(binocular disparity)은 동시에 캡쳐된 이미지에 캡쳐되어 있는 특징부에 대해 치수 결정이 이루어지게 한다. 이 양안 깊이 지각은 다양한 위치들로부터의 일련의 양안 이미지들이 캡쳐될 때에 라스팅된 갑피(110)의 3차원 모델이 발생되게 한다. 달리 말해서, 바이트 라인의 위치는 서로로부터 기지의 거리에서 2개의 카메라로부터의 입체 시각 데이터를 활용하고 이어서 카메라 위치로부터 레이저에 의해 교차되는 바이트 라인까지의 거리를 계산함으로써 3차원 공간에서 식별될 수 있다. 거리는 상이한 시각으로부터 공통의 시간에 교차점(315) 등의 특징을 각각 캡쳐할 때에 제1 카메라의 이미지와 제2 카메라의 이미지 사이의 거리를 기초로 하여 계산될 수 있다. 이렇게 계산된 거리 정보는 이미지들의 평면에서 캡쳐된 위치 정보와 결합되어 가상 바이트 라인을 발생시키도록 바이트 라인과 레이저의 교차점(315)을 X, Y 및 Z 좌표 공간에 정의할 수 있다. 달리 말해서, 교차점(315)의 3차원 위치는 각각의 카메라(380, 382)로부터 캡쳐된 3차원 이미지로부터 결정된다. 가상 바이트 라인을 형성하는 포인트들의 상대 위치는, 프로세서와, 디지털 바이트 라인을 캡쳐된 이미지로부터 결정하는 방법을 수행하기 위한 명령이 구현되는 컴퓨터 판독 가능 매체를 갖는 연산 시스템에 의해 수행된다.
또한, 이미지 매칭은 연산 시스템의 도움으로 라스팅된 갑피의 3차원 모델을 함께 구성하도록 연속적으로 캡쳐된 입체 영상들로부터 수행될 수 있다. 서로에 대한 카메라 또는 라스팅된 갑피의 이동은 달리 보이지 않는 부분을 캡쳐하는 데에 일조함으로써, 입체 영상이 3차원 모델링 프로그램에서 조작될 때에, 하나 이상의 카메라에 의해 캡쳐되는 바와 같은 라스팅된 갑피의 조건부로 보이는 바이트 라인을 나타내는 3차원 디지털 바이트 라인이 발생될 수 있다.
도 3a의 시스템은 예시적인 양태에서 조건부로 보이는 바이트 라인이 카메라(380, 382)에 인지될 수 있게 하도록 UV 광일 수 있는 광(390)을 활용한다. 이 예에서, 카메라(380, 382)에는 더 긴 파장의 광 스펙트럼을 투과시키면서(통과되게 하면서) 더 짧은 파장의 광을 약화시키는(선택적으로 차단하는) 장파장 필터 등의 필터가 또한 끼워질 수 있다. 게다가, 조건부로 보이는 바이트 라인 및/또는 라스팅된 갑피로부터 반사된 레이저 라인을 인지하는 카메라의 능력을 용이하게 하도록 또는 향상시키도록 단파장 또는 대역폭 필터가 대안으로 또는 추가적으로 이용될 수 있다는 것이 예상된다. 예컨대, 필터는 예시적인 양태에서 광(390) 등의 UV 소스를 이용하여 조명될 때에 조건부로 보이는 바이트 라인(210)의 캡쳐에 일조하도록 카메라(380, 382)에 고정될 수 있다.
광원 및/또는 이미지 캡쳐 장치(예컨대, 필터의 실시)를 조작하는 것 외에, 조건부로 보이는 마킹 물질(예컨대, 잉크)이 가상 바이트 라인을 발생시키는 효과를 향상시키기 위해 또한 조절될 수 있다는 것이 예상된다. 예컨대, 라스팅된 갑피의 구성에 사용되는 재료는 선택된 광원 또는 주변 광원에 반응할 수 있다는 것이 예상된다. 스티칭 재료 또는 스트로벨 재료는, 조건부로 보이는 바이트 라인을 강조하도록 된 적절한 광에 노출될 때에 시각적 노이즈를 발생할 수 있는 UV 또는 IR 광에 반응할 수 있다. 주변광 또는 광원의 광에 또한 반응하는 라스팅된 갑피 구성의 재료의 영향을 감소하기 위하여, 조건부로 보이는 마킹 재료의 칼라는 보통 발생하는 재료의 칼라(예컨대, 백색/흑색)로부터 황색 또는 다른 칼라로 조절될 수 있다. 조건부로 보이는 마킹 재료를 변화시키는 것 외에, 시각적 노이즈를 더욱 감소시키지만 조건부로 보이는 바이트 라인과 광원(예컨대, 레이저)이 카메라에 의해 여전히 캡쳐되게 하는 좌표 필터(coordinating filter)가 또한 선택될 수 있다. 예상되는 예로는 카메라에 황색 필터를 또한 설치하면서 UV 광에 반응하는 형광 옐로우의 조건부로 보이는 마킹 재료를 이용하는 것을 포함한다. 예시적인 양태에서, 예시적인 적색 레이저는 라스팅된 갑피의 자연 발생 재료로부터 시각적 노이즈를 차단하면서 황색 필터를 이용하는 경우에도 여전히 캡쳐되기에 충분한 세기를 갖는다. 게다가, 라스팅된 갑피, 카메라, 및 광원을 격리시키도록 사용될 수 있는 챔버 또는 실질적으로 폐쇄형 공간이 시스템이 배치되는 환경의 주변광으로부터 격리될 수 있다는 것이 예상된다. 이러한 격리는 하나 이상의 카메라에 의해 인지될 때에 조건부로 보이는 바이트 라인과 라스팅된 갑피 사이에 대조를 증가시키는 데에 효과적일 수 있다.
아래에서 더 자세하게 설명되는 바와 같이, 반사된 광(374)과 조건부로 보이는 바이트 라인(210)의 교차점은, 제1 영역(214)에서, 예컨대 접합, 프라이밍, 세척, 도장, 버핑 등에 의해 처리되는 라스팅된 갑피(110)의 저부 부분(215)을 포함하는 라스팅된 갑피(110)의 표면 부분을 확인하는 데에 일조하는 가상 바이트 라인(즉, 디지털 바이트 라인)을 생성하도록 사용될 수 있다.
도 3b는 본 발명의 양태에 따른, 적외선 조건부로 보이는 경계와 관련된 가상 바이트 라인의 생성을 예시하는 개략도이다. 도 3b는 이전에 설명된 도 3a와 유사하지만, 선택적인 광(390)이 사용되지 않는다. 대신에, 바이트 라인(210)은 적외선 레이저와 같이 특별한 광원에 노출될 때에 인지될 수 있는 조건부로 보이는 마킹 재료로 생성될 수 있다. 바이트 라인(210)은 광원(370)에 노출될 때에만 카메라(380, 382)에 의해 인지될 수 있기 때문에, 십자형 교차점(315)으로서 도 3a에 도시된 바와 같이 광원과 바이트 라인의 교차점을 확인하는 십자 대신에, 교차점(317)이 대신 도시되어 있다. 이미 제공된 바와 같이, 이 교차점(317)은 제1 카메라(380)로부터의 이미지를 제2 카메라(382)로부터의 이미지와 매칭하도록 연산 시스템에 의해 사용되어 교차점(317)의 깊이/거리를 결정하기 위한 입체 이미지 쌍을 형성할 수 있다. 일련의 결정된 3차원 교차점들이 결합되어 가상 바이트 라인을 발생시킬 수 있다.
적어도 하나의 카메라(380, 382), 광원(370), 및 임의의 추가 구성요소, 예컨대 광원(390)이 구성요소들 중 하나 이상을 서로에 대해 정적으로 유지하기 위한 기능의 유지 메카니즘과 커플링될 수 있다. 또한, 유지 메카니즘은 라스팅된 갑피(110)에 대해 하나 이상의 구성요소를 이동시키도록 이동 가능하게 될 수 있다. 예컨대, 유지 메카니즘이 라스팅된 갑피(110)의 주변 둘레에서 하나 이상의 구성요소를 회전시키기에 효과적인 회전 부재로 구성된다는 점이 예상된다. 또한, 유지 메카니즘이 하나 이상의 구성요소의 선형 이동에 효과적인 선형 부재로 구성된다는 점이 예상된다. 회전 부재와 선형 부재의 조합은 구성요소들의 타원형 이동 경로가 조건부로 보이는 바이트 라인을 캡쳐하게 하는 데에 합동하여 작용할 수 있다. 변형예에서, 유지 메카니즘이 구성요소들이 제1 방향 및 이 방향에 직교하는 제2 방향으로 이동하여 선형 이동 경로를 달성하게 하도록 직교 방향으로 배향된 이동 부재로 구성될 수 있다는 점이 예상된다. 유지 메카니즘은 커플링된 하나 이상의 구성요소들의 FOV를 재지향시키도록 직교 방향으로 배향된 이동 부재에 커플링되는 회전 부재로 또한 구성될 수 있다.
이제, 도 4를 참조하면, 투사된 광(372)의 반사된 부분(374)과 조건부로 보이는 바이트 라인(210) 사이의 복수 개의 교차점을 캡쳐하는 일례가 예시되어 있다. 도 4의 예에서, 투사된 광(372)의 반사된 부분(374)은 적어도 제1 영역(214) 및 제2 영역(212)의 일부에서 라스팅되고 마킹된 갑피(110)의 표면에 의해 반사된다. 조건부로 보이는 바이트 라인(210)은 검출 가능하게 만들어졌기 때문에, 광(372)의 반사된 부분과 조건부로 보이는 바이트 라인(210) 사이의 교차점(415)은 적어도 하나의 카메라[예시된 바와 같이, 제1 카메라(380)와 제2 카메라(382)]에 의해 캡쳐될 수 있다.
라스팅된 갑피(110) 및/또는 광원(370 및/또는 390)은 투사된 광(372)이 조건부로 보이는 바이트 라인(210)의 전체에 걸쳐서 실질적으로 이동하게 하도록 화살표(430)에 의해 지시되는 바와 같이 서로에 대해 적절하게 이동될 수 있고, 적어도 하나의 카메라(380, 382)는 조건부로 보이는 바이트 라인(210)의 실질적인 전체를 따라 교차점(415) 등의 교차점을 연속적으로 캡쳐한다. 추가 광원(390)이 도시되어 있지만, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 IR 반응성 마킹제를 이용하여 경계 설정되어 있을 때와 같은 예시적인 양태에서 추가 광원(390)은 생략될 수 있다. 투사된 광(372)의 반사된 부분(374)이 조건부로 보이는 바이트 라인(210)과 교차하는 복수 개의 포인트를 캡쳐함으로써, 적어도 하나의 카메라(380, 382)는 라스팅된 신발 갑피(110) 상에 조건부로 보이는 바이트 라인(210)의 위치를 나타내고 그 위치에 대응하는 가상 바이트 라인의 생성을 허용하는 정보를 연산 시스템(도시 생략)에 제공할 수 있다. 이에 따라 생성된 가상 바이트 라인은 조건부로 보이는 바이트 라인(210)에 의해 경계 설정되는 라스팅된 신발 갑피(110)의 표면의 제1 영역(214)의 처리를 위한 공구 경로를 발생시키도록 적어도 부분적으로 사용될 수 있다.
화살표(430)에 의해 지시되는 바와 같은 상대 운동의 방향은 적어도 하나의 카메라(380, 382)에 대해 실질적으로 선형 관계로 이동하는 라스팅된 갑피(110)를 고려한 것이다. 예컨대, 적어도 하나의 카메라(380, 382)는 라스팅된 갑피(110)의 안쪽 측부를 따라 선형 경로로 이동된 다음에 바깥쪽 측부를 따라 선형 경로로 이동된다. 적어도 하나의 카메라(380, 382)는 발가락 부분과 뒤꿈치 부분의 전면을 따라 횡단함으로써 안쪽 측부를 따른 선형 경로로부터 바깥쪽 측부를 따른 경로로 천이될 수 있다. 선형 이동은 적어도 하나의 카메라(380, 382)와 라스팅된 갑피(110)의 측부 사이에 비교적 일관된 거리가 유지되기 때문에 임의의 크기의 신발에 맞게 조정될 수 있는 것이 유리할 수 있다. 그러나, 천이가 발가락 단부와 뒤꿈치 단부에서 어떻게 수행되는 지에 따라, 라스팅된 갑피의 크기는 하나 이상의 부분이 적어도 하나의 카메라(380, 382)의 피사계 심도(depth of field; 후술됨)를 초과하게 할 수 있다. 또한, 발가락 단부와 뒤꿈치 단부를 따른 천이는 적어도 하나의 카메라(380, 382) 및 라스팅된 갑피(110)를 크기와 상관없이 적어도 하나의 카메라(380, 382)의 피사계 심도 내에 유지하도록 조절될 수 있다.
이제, 도 5a를 참조하면, 투사된 광(372)의 적어도 일부(374)가 라스팅된 갑피(110)의 표면의 적어도 제1 영역(214)으로부터 반사하도록 광(372)을 투사하는 광원(370)을 이용하는 다른 예가 예시되어 있다. 도 5a의 예에서, 도 4의 예와 같이, 적어도 하나의 카메라[예시된 바와 같이, 제1 카메라(380)와 제2 카메라(382)]는, 형광 바이트 라인이 흑색광[추가 광(390) 등]을 이용하여 조명되었거나 IR 바이트 라인이 IR 광원에 의해 조명되었을 때와 같이 조건부로 보이는 바이트 라인(210)을 검출될 수 있게 만드는 조건에서 라스팅된 갑피(110)의 표면의 이미지를 캡쳐할 수 있다. 이전에 제공된 바와 같이, 추가 광원(390)은 예시적인 양태에서 생략되거나 통전되지 않을 수 있다는 점이 예상된다. 적어도 하나의 카메라(380, 382)는 광(372)의 반사된 부분(374)과 조건부로 보이는 바이트 라인(210) 사이의 교차점을 적어도 캡쳐할 수 있다. 도 5a에 도시된 예에서, 광(372)의 반사된 부분(374)은 제1 포인트(515)에서 조건부로 보이는 바이트 라인(210)과 교차한다. 화살표(530)로 나타낸 바와 같이, 라스팅된 신발 갑피(110) 및/또는 광원(370), 적어도 하나의 카메라(380, 382) 및 다른 광원(390)은 서로에 대해 회전될 수 있어, 광(372)의 반사된 부분(374)은 실질적으로 조건부로 보이는 바이트 라인(210)의 전체를 따라 조건부로 보이는 바이트 라인(210)과 교차할 수 있고, 적어도 하나의 카메라(380, 382)는 신발 갑피(110) 상의 조건부로 보이는 바이트 라인(210)을 나타내고 바이트 라인에 대응하는 가상 바이트 라인을 발생시키기 위해 연산 시스템(도시 생략)과 함께 사용하도록 교차점(515) 등의 교차점의 위치를 적어도 나타내는 복수 개의 이미지를 캡쳐한다.
적어도 하나의 카메라(382)와 라스팅된 갑피(110)의 상대 회전 운동은 또한 이후에 도 5b에서 더 상세하게 설명되는 바와 같이 타원형 회전을 포함할 수 있다. 예컨대, 통상적인 신발류 물품은 폭보다 길이가 길기 때문에(예컨대, 발가락 대 뒤꿈치의 길이가 안쪽 대 바깥쪽 폭보다 큼), 초점이 라스팅된 갑피의 중간에 있는 일정한 회전 반경이 사용되면, 카메라는 안쪽 측부 및 바깥쪽 측부보다 발가락 단부 및 뒤꿈치 단부에 더 가깝게 된다. 카메라와 표적 피사체 간에 이러한 거리 불일치는 카메라의 피사계 심도(DOF)를 초과할 수 있다. 예컨대, 피사체가 카메라에 대해 충분한 초점에 유지될 수 있는 범위가 제한될 수 있고, 이에 따라 발가락/뒤꿈치 구역의 가까운 범위가 초점에 맞을 수 있거나 안쪽/바깥쪽 측부의 먼 범위가 초점에 맞을 수 있으며, 다른 하나는 카메라의 소정의 DOF에 맞지 않는다. 발가락/뒤꿈치 및 안쪽/바깥쪽 부분 사이에서 카메라로부터의 DOF의 잠재적인 불일치를 감소하기 위하여, 타원형 회전이 사용될 수 있다든 점이 예상된다(예컨대, 카메라와 광원이 라스팅된 갑피를 중심으로 타원형으로 회전될 수 있다) 타원형 회전은 장축이 라스팅된 갑피의 발가락 대 뒤꿈치 방향과 정렬되고 단축이 라스팅된 갑피의 안쪽 대 바깥쪽 방향과 정렬되는 상태로 정의된다. 타원형(또는 임의의 달걀형 패턴)은 다양한 라스팅된 갑피 크기와 형상(예컨대, 발 크기)에 걸쳐서 바이트 라인 검출 메카니즘을 효과적으로 조정하도록 사용될 수 있다.
도 5b는 본 발명의 양태에 따른, 광원(370)과 적어도 하나의 카메라(380, 382)의 예시적인 타원형 이동 경로(362)에 대한 라스팅된 갑피의 측면 사시도를 도시한다. 도시된 바와 같이, 적어도 하나의 카메라(380, 382)는 회전 부재(366)와 이동 가능하게 커플링되는 크로스 부재(368)가 고정될 수 있다. 따라서, 회전 부재(366)의 기능은 포인트(364)를 중심으로 회전하는 것이고 회전 부재(366)의 선형 축선을 따른 크로스 부재(368)의 이동은 적어도 하나의 카메라(380, 382)와 포인트(364) 사이에 가변적인 거리를 가능하게 한다. 이 회전 가능하게 가변적인 거리(예컨대, 반경)는 라스팅된 갑피(110) 둘레에서 적어도 하나의 카메라(380, 382)에 의해 타원형 이동 경로가 달성되게 한다. 대안적인 양태에서, 라스팅된 갑피(110)는 예컨대 회전 테이블 부분 상에서 회전될 수 있고, 크로스 부재 또는 다른 반경 가변적인 구조는 라스팅된 갑피로부터 적어도 하나의 카메라(380, 382)의 오프셋 및/또는 라스팅된 갑피(110)에 의한 회전점을 나타내는 포인트(364)를 조정한다는 점이 예상된다.
도 5c는 본 발명의 양태에 따른, 조건부로 보이는 바이트 라인을 캡쳐하기 위해 적어도 하나의 카메라(380, 382)가 이동할 수 있는 예시적인 이동 경로에 대한 라스팅된 갑피의 평면도를 도시한다. 예컨대, 도 5b에서 설명된 타원형 경로(362)에 추가하여 또는 그 대안으로, 이동 경로는 원형 경로(552), 직사각형 경로(또는 선형 경로 시리즈; 554), 또는 에지 오프셋 경로(556)를 추종할 수 있다. 원형 경로는 라스팅된 갑피(110) 또는 적어도 하나의 카메라(380, 382)가 고정되는 구조의 회전점으로부터 적어도 하나의 카메라(380, 382)를 고정 거리에 위치 설정되게 함으로써 달성될 수 있다. 직사각형 경로(554)는 라스팅된 갑피(110)의 치수를 기초로 하여 고정되거나 조절되는 일련의 선형 이동에 의해 형성될 수 있다. 에지 오프셋 경로(556)는, 적어도 하나의 카메라(380, 382) 또는 라스팅된 갑피(110)의 위치를 적어도 하나의 카메라(380, 382)에 대해 결정한 다음 적어도 하나의 카메라(380, 382)와 라스팅된 갑피(110)의 에지 사이에 비교적 일관된 거리를 유지하는 대안적인 공간 인지 시스템(예컨대, 다른 카메라 또는 공지된 위치 좌표)에 의해 달성될 수 있다. 상이한 경로 옵션은 DOF, FOV, 사이클 시간, 및 실시 복잡도에 관하여 다양한 제어 레벨을 제공한다.
이제, 도 6a 및 도 6b를 참조하면, 투사된 광(372)과 조건부로 보이는 바이트 라인(210) 사이에 복수 개의 교차점(610)의 예가 도시되어 있다. 도 6a는 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 형광 마킹제를 이용하여 경계 설정되고 교차점이 흑색광 등의 UV 광원을 이용하여 검출될 수 있게 된 경우에 보이게 되는 복수 개의 교차점(610)의 외관을 예시한다. 도 6a에서 확인될 수 있는 바와 같이, 다른 광원(390)이 있는 곳에서 조건부로 보이는 바이트 라인(210)과 투사된 광(372)의 반사된 부분(374) 사이에서 십자형인 복수 개의 교차점(610)은 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 다른 광원(390)으로부터의 광(392)에 의해 검출될 수 있게 되어 있는 동안에 이미지를 캡쳐하도록 적어도 하나의 카메라(380, 382)를 이용하여 기록될 수 있다. 이미 설명한 바와 같이, 교차점(610)는, 가상 바이트 라인을 형성하도록 사용되는, 교차점(610)의 위치의 3차원 이해를 위해 2개의 상이한 카메라로부터 동시에 캡쳐된 이미지들을 매칭하는 연상 시스템에 의해 사용될 수 있다.
도 6b는 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 IR 마킹제를 이용하여 경계 설정되고 교차점이 IR 광원을 이용하여 검출될 수 있게 된 경우에 보이게 되는 복수 개의 교차점(610)의 외관을 예시한다. 도 6b에서 확인될 수 있는 바와 같이, 조건부로 보이는 바이트 라인(210)과 투사된 광(372)의 반사된 부분(374) 사이에서 외관이 점 형상인 복수 개의 교차점(610)은 조건부로 보이는 바이트 라인(210)이 투사된 광(372)에 의해 보이게 되는 동안에 이미지를 캡쳐하도록 적어도 하나의 카메라(380, 382)를 이용하여 기록될 수 있다.
본 발명에 따른 시스템 및 방법의 임의의 특별한 용례를 위해 적어도 하나의 카메라(380, 382)에 의해 캡쳐되는 교차점(610)의 정확한 갯수는 제1 영역(214) 내에 수용되는 공구 경로의 발생을 위해 제1 영역(214) 등의 영역의 경계를 획정하도록 가상 바이트 라인의 생성에 요구되는 정확도 등의 고려 사항을 기초로 하여 변경될 수 있다. 본 발명의 양태에 따르면, 연산 시스템은 가상 바이트 라인을 발생시키도록 투사된 광원과 조건부로 보이는 바이트 라인의 검출된 교차점을 연결하는 일련의 세그먼트 및/또는 곡선을 발생시킬 수 있다.
이제, 도 7을 참조하면, 라스팅된 신발 갑피를 위한 가상 바이트 라인을 발생시키는 데에 사용하기 위해 조건부로 보이는 바이트 라인을 마킹하기 위한 방법(700)이 예시되어 있다. 단계(710)에서, 라스팅된 신발 갑피는 프레스에 의해 예정된 힘 또는 압력으로 대응하는 저부 유닛의 대표부와 맞물릴 수 있다. 단계(710)에서 라스팅된 신발 갑피를 대응하는 저부 유닛의 대표부와 맞물리게 하는 데에 사용되는 예정된 힘 또는 압력은 이후에 접착제를 이용하여 대응하는 저부 유닛에 신발 갑피를 접합하는 데에 사용되도록 된 힘 또는 압력과 동일할 수 있지만, 이들 힘들이 서로 다를 수도 있다. 단계(720)에서, 조건부로 보이는 표시가 라스팅된 갑피 상에 라스팅된 갑피와 저부 유닛의 대표부 사이의 결합부에서 경계 설정될 수 있다. 단계(720)는, 예컨대 바이트 라인에 조건부로 보이는 표시를 생성하도록 라스팅된 갑피와 대응하는 저부 유닛의 대표부 사이의 결합부에서 형광 마킹제 또는 IR 마킹제를 적용하는 마킹 마카니즘을 사용할 수 있다. 단계(730)에서, 라스팅된 신발 갑피는 대응하는 저부 유닛의 대표부로부터 맞물림 해제될 수 있다. 단계(740)에서, 조건부로 보이는 표시가 검출될 수 있는 동안에 맞물림 해제된 라스팅된 신발 갑피 위에 광이 투사되어 조건부로 보이는 표시와 교차할 수 있다. 예컨대, 단계(740)는 단계(720)에서 생성된 조건부로 보이는 표시가 사람 눈 및/또는 신발 갑피의 이미지를 캡쳐하는 카메라에 의해 인지되게 하는 흑색광, IR 광, 또는 다른 조명 소스를 이용할 수 있다. 단계(750)에서, 투사된 광원들 중 하나와 조건부로 보이는 표시 사이에 복수 개의 교차점을 생성하도록 광원(들), 카메라(들), 및/또는 라스팅된 갑피가 서로에 대해 이동될 수 있다. 단계(750)는 예컨대 신발 갑피 둘레에서 카메라(들) 및/또는 조명 소스를 회전시킬 수 있거나, 대안으로/추가적으로 신발 갑피가 회전될 수 있다. 단계(750)는 조건부로 보이는 표시가 검출되게 하는 조건에서 발생할 수 있다. 단계(760)에서, 단계(740과 750)에서 생성된 조건부로 보이는 표시와 투사된 광원 사이의 교차점이 검출될 수 있다. 단계(760)는 투사된 광원과 조건부로 보이는 표시 사이에서 교차점의 물리적 위치를 캡쳐하도록 연산 시스템과 함께 작동하는 카메라(들)를 이용할 수 있다. 단계(770)에서, 투사된 광원과 조건부로 보이는 표시의 검출된 교차점을 이용하여 가상 바이트 라인이 발생될 수 있다. 예컨대, 연산 시스템은 투사된 광원과 조건부로 보이는 바이트 라인의 검출된 교차점을 연결하는 일련의 세그먼트 및/또는 곡선을 발생시킬 수 있다. 단계(770)에서 발생된 그러한 가상 바이트 라인은 이후에 신발 갑피의 다른 처리를 위해 사용될 수 있다. 예컨대, 단계(770)에서 생성된 가상 바이트 라인은, 분사 접착제의 도포 한계를 구축하도록, 신발 갑피의 표면의 후속 스캐닝 범위를 획정하도록, 또는 다른 처리 용례 및/또는 공구 경로를 구축하도록 사용될 수 있다.
이제, 도 8을 참조하면, 본 발명에 따라 방법(800)의 다른 예가 예시되어 있다. 방법(800)은, 예컨대 흑색광 또는 IR 광원을 이용하여 적절하게 조명될 때에 형광 또는 IR 바이트 라인이 특정한 상황에서만 관찰 가능하게 될 수 있도록 신발 갑피와 대응하는 저부 유닛의 대표부의 결합부에 대응하는 신발 갑피의 표면 상에 형광 또는 IR 바이트 라인을 발생시킬 수 있다. 방법은 형광 또는 IR 마킹 메카니즘을 이용하여 신발 갑피에 바이트 라인을 생성하는 단계(810)에서 시작할 수 있고, 바이트 라인은 신발 갑피와 대응하는 저부 유닛 사이의 결합점을 나타낸다. 단계(810)는 선택적으로 후속하는 접합 단계 중에 사용되는 힘 또는 압력의 크기에 대응할 수 있는 예정된 크기의 힘 또는 압력으로 신발 갑피가 대응하는 저부 유닛의 대표부와 정합되었을 때에 수행될 수 있다. 단계(820)에서, 형광 또는 IR 바이트 라인을 드러내 보이는 조명 조건 하에서, 바이트 라인을 따른 복수 개의 지점에서 바이트 라인과 교차하도록 신발 갑피의 일부에 걸쳐 광이 투사될 수 있다. 단계(820)는, 예컨대 조립 시에 신발 저부 유닛에 의해 덮이게 되는 표면을 경계 설정하기 위해 생성되는, 투사된 광과 인지 가능한 형광 또는 IR 바이트 라인 사이의 교차점을 바이트 라인의 길이를 생성하도록 신발 갑피, 광원, 및/또는 임의의 카메라를 선형 및/또는 회전 방식으로 이동시키는 것을 포함할 수 있다. 단계(830)에서, 투사된 광이 바이트 라인과 교차하는 복수 개의 지점이 바이트 라인을 따라 검출될 수 있다. 단계(830)는 연산 시스템과 함께 작동할 수 있는 하나 이상의 카메라를 이용할 수 있다. 단계(840)에서, 단계(830)에서 검출된 복수 개의 지점을 기초로 하여 가상 바이트 라인이 발생될 수 있다. 단계(840)는 단계(830)에서 검출된 복수 개의 교차점들을 연결시키는 복수 개의 라인 세그먼트 및/또는 곡선을 발생시키는 것을 포함할 수 있다. 단계(830)에서 검출된 교차점의 갯수는 신발 갑피 및/또는 대응하는 저부 유닛(또는 그 대표부)의 복잡도, 공구 경로의 후속 발생에 요구되는 정밀도, 또는 임의의 다른 고려 사항을 기초로 하여 변경될 수 있다.
본 발명에 따른 시스템 및 방법을 본 명세서에서 특정한 예로 설명하였지만, 본 발명은 이들 예로 제한되지 않는다. 예컨대, 더 많거나 적은 구성요소들(예컨대, 카메라, 조명 소스 등)이 본 발명의 범위로부터 벗어남이 없이 사용될 수 있다. 예컨대, 다수의 카메라(들)가 본 발명에 따른 가상 바이트 라인의 효율적인 발생을 용이하게 하도록 투사된 광과 조건부로 보이는 바이트 라인 사이에 다수의 교차점을 동시에 검출할 수 있다. 또한, 형광 및 IR 재료 이외의 조건부로 보이는 재료가 조건부로 보이는 바이트 라인을 생성하도록 사용될 수 있다. 예컨대, 사람 눈을 이용하여 관찰될 수 없는 파장의 광을 반사하지만 본 발명에 따라 특별한 조명 조건 및/또는 카메라(들)를 이용하여 검출될 수 있는 임의의 재료가 조건부로 보이는 바이트 라인을 생성하도록 사용될 수 있다.

Claims (1)

  1. 신발류 물품을 위한 시각적 바이트 라인을 생성하는 시스템으로서,
    신발 갑피 및 저부 유닛이 일시적으로 결합될 때에 상기 신발 갑피와 상기 저부 유닛의 계면에서 신발 갑피의 표면에 조건부로 보이는 표시를 도포하는 마킹 메카니즘;
    상기 저부 유닛이 마킹된 신발 갑피로부터 제거되어 있을 때, 마킹된 신발 갑피의 적어도 일부를 가로질러 광을 투사하는 제1 광원으로서, 투사된 광은 교차점을 생성하도록 적어도 한 포인트에서 조건부로 보이는 표시와 교차하는 것인 제1 광원; 및
    투사된 광과 조건부로 보이는 표시 사이의 교차점을 검출하는 적어도 하나의 카메라
    를 포함하는 시각적 바이트 라인의 생성 시스템.
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