KR20180068304A - 경사진 양각 구역들 및 경사진 중공 구역들을 포함하는 가열조리판 - Google Patents

경사진 양각 구역들 및 경사진 중공 구역들을 포함하는 가열조리판 Download PDF

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Abstract

본 발명은 거의 직선인 방향으로 연장되고 가열조리할 음식물을 수용하게 되어 있고 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)를 향하여 음식물 즙을 수거하고 배출하게 되어 있는 중공 구역들(35)이 에지에 배치된 양각 구역들(25)을 포함하는 가열조리용 그릴을 위한 가열조리판에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 상기 양각 구역들(25)은 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)의 방향으로 증가하는 제1경사도를 가지고, 상기 중공 구역(35)들은 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)의 방향으로 증가하는 제2경사도를 거지며, 상기 제2경사도는 상기 제1 경사도보다 크다.

Description

경사진 양각 구역들 및 경사진 중공 구역들을 포함하는 가열조리판{COOKING PLATE COMPRISING INCLINED RELIEF ZONES AND INCLINED HOLLOW ZONES}
본 발명은 가열조리 할 음식물을 수용하는 적어도 하나의 가열조리판을 포함하는 그릴, 또는 가열조리용 그릴 유형의 가열조리용 기기에 관한 것이다. 그 유형의 기기는 바비큐, 즉, 고기, 야채 등의 다양한 종류의 음식물 구이를 위하여 사용된다.
특히 본 발명은 양각된 구역들을 포함하는 가열조리판에 관한 것이다. 그 양각 구역들은 즙의 배출을 위하여 음식물 하부에 중공 구역들을 마련하도록, 가열조리 할 음식물들을 들어올리는 것을 목적으로 한다. 그 양각 구역들은 또한 가열조리 할 음식에 석쇠 자국을 구현하는 것을 목표로 한다. 본 발명은 또한 가열조리판을 포함하는 가열조리용 그릴 및 그러한 가열조리판의 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 통상의 가열조리용 그릴을 위하여, 가열조리판 및 양각 구역들의 정점은 상기 그릴이 상부에 배치되는 평면 지지대와 평행한 평면 내에 내접한다. 평면 지지대의 표면은 예를 들어 테이블 또는 작업 평면의 수평 표면이다. 그러나 통상의 가열조리판은 가열조리 되고 있는 음식물, 특히 돼지고기와 같이 지방질을 다량 함유한 고기 유형들로부터 유출된 즙의 배출에 대하여 장애가 있음이 확인되었다. 그 결과, 가열조리판 상에 고인 즙이 타게 되어 연기를 발생시키고, 이는 가열조리판의 사용 중과 사용 후에 연기로 가득하게 되어 사용자를 불쾌하게 한다. 한편, 완전히 소각되지 않은 나머지 즙은 가열조리판에 점착된 고형 퇴적물로 변환된다. 따라서 이는 사용 후 판의 세척을 곤란하게 한다.
그러한 이유로, 즙이 가열조리판 상에서 타거나 캐러멜화 되기 전에 최대한의 즙을 가능한 한 속히 배출시킬 필요가 있다. 그 필요성은 가열조리 할 음식물이 다량의 지방질을 함유하는 경우 더욱 중요하다.
이를 위하여, 현재 다수의 가열조리용 그릴은 즙 수집장치를 향하여 즙을 유도하도록 평면 지지대에 대하여 경사진 가열조리판을 포함한다. 그러한 판은 예를 들어 문헌 DE202013003030에 개시되어 있다.
그러나 그러한 가열조리판의 즙 배출이 완전히 만족스럽지는 않다. 사실은, 가열조리중인 음식물에 의해 유출된 즙이 가열조리판의 최고지점에서 방출될 때는 즙의 배출 경로가 최장거리이다. 따라서 그 경로의 종반에서 즙이 타거나 캐러멜화 되고 그것이 가열조리판 상에서 굳어질 위험이 있다. 그러므로 통상적 그릴에서의 문제들이 경사진 가열조리판을 갖는 그릴에 대하여도 동일하게 제기된다.
또한, 문헌 US6087634에서는 거의 직선인 방향을 따라 연장되고 가열조리 할 음식물을 수용하게 되어있고 음식물 즙을 수거하고 적어도 하나의 배출용 오리피스를 향하여 배출하게 되어 있는 중공 구역들이 에지에 배치된 양각 구역들을 포함하는 가열조리용 그릴을 위한 가열조리판이 공지되어 있다.
나아가, 양각 구역들은 제1경사도를 가지고, 중공 구역들은 제2경사도를 가지며, 제2 경사도는 제1 경사도보다 크다.
그러나 그러한 판은 연기 발생 및 판 위의 캐러멜화 된 퇴적물의 생성을 감소시키기에는 만족스럽지 못하다.
본 발명의 목적은, 연기 발생을 최소화하고 특히 판 위의 캐러멜화 된 퇴적물의 생성을 감소시킴으로써 사용 후 상기 판의 세척을 용이하게 하기 위하여 가열조리 중인 음식물에 의해 유출되는 즙의 배출을 최적화할 수 있게 하는 가열조리판을 제안하는 것이다.
그러한 목적으로, 본 발명은 거의 직선인 방향을 따라 연장되고 가열조리 할 음식물을 수용하게 되어있고, 적어도 하나의 배출용 오리피스를 향하여 음식물 즙을 수거하고 배출하게 되어 있는 중공 구역들이 에지에 배치된 양각 구역들을 포함하는 가열조리용 그릴을 위한 가열조리판을 제안하며, 그 양각 구역들은 적어도 하나의 배출용 오리피스 방향으로 제1 경사도를 가지고, 중공 구역들은 적어도 하나의 배출용 오리피스 방향으로 제2 경사도를 가지며, 제2 경사도는 제1 경사도보다 크다.
본 발명에 따르면, 양각 구역들 및 중공 구역들은 적어도 하나의 배출용 오리피스를 향하여 증가하는 경사도를 갖는다.
그에 따라, 가열조리판은 가열조리 할 음식물을 위한 지지대를 한정하기 위한 양각 구역들의 변동하는 제1 경사도 및 즙의 순환 방향을 한정하기 위한 중공 구역들의 변동하는 제2 경사도를 갖는다. 그 2개의 경사도는 적어도 하나의 배출용 오리피스 방향으로 증가하고 양각 구역들과 즙의 접촉 시간을 감소시키면서 중공 구역들을 따른 즙의 배출 속도를 최적화하도록 제2 경사도가 제1 경사도보다 크다. 그 결과, 연기 발생 및 캐러멜화된 퇴적물의 생성이 감소된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 양각 구역들의 증가하는 제1 경사도는 적어도 하나의 배출용 오리피스에서 먼 제1 기울기 및 적어도 하나의 배출용 오리피스에서 가까운 제2 기울기에 의해 형성되고, 제2 기울기는 제1 기울기를 초과한다. 그와 같이, 제1 기울기와 제2 기울기 사이의 차이는 즙의 유속을 변화시킨다. 그러한 방식으로, 제1 기울기보다 큰 제2 기울기를 가짐으로써, 즙이 배출용 오리피스로 접근할 때 양각 구역들 위치에서 즙의 유속이 가속된다. 그 결과, 즙과 양각 구역들의 접촉 시간이, 특히 즙의 유출 여정의 말기에 감소된다.
상술한 단락에 따르면, 양각 구역의 제1 경사도의 제1 기울기는 상기 양각 구역 길이의 적어도 2분의 1 상으로 연장된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 중공 구역들의 제2 경사도는 적어도 하나의 배출용 오리피스에서 먼 제1 기울기 및 적어도 하나의 배출용 오리피스에서 가까운 제 2 기울기에 의해 형성되고, 제2 기울기는 제1 기울기를 초과한다. 따라서, 중공 구역들은 특히 즙이 배출용 오리피스로 접근할 때 더욱 신속히 즙을 배출할 수 있게 한다.
상술한 단락에 따르면, 중공 구역의 제2 경사도의 제1 기울기는 상기 중공 구역 길이의 적어도 2분의 1 상으로 연장된다.
일 실시예에 따르면, 제2 경사도의 제2 기울기는 상기 제2 경사도의 제1 기울기를 1도 초과한다. 중공 구역들의 2개의 기울기의 1도 차이는 배출용 오리피스를 향한 즙의 배출을 최적화할 수 있게 한다.
일 실시예에 따르면, 가열조리판의 기준 표면에 대하여 한정되는 양각 구역들의 높이는 양각 구역들이 적어도 하나의 배출용 오리피스로 점차 접근함에 따라 증가한다. 양각 구역들의 높이는 음식물이 가열조리판의 표면, 즉 중공 구역들의 표면에 닿는 것을 방지하기 위하여 필요하다. 따라서, 통로가 음식물의 하부에서 중공 구역들 내에 형성되고, 이로써 그 중공 구역들이 즙을 수거하고 그것을 배출용 오리피스를 향하여 배출할 수 있게 한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 양각 구역들은 서로 평행하고 한정된 거리로 규칙적인 간격을 두고 있다. 양각 구역들 사이의 거리는 즙이 가열조리판과 접촉하는 시간에 영향을 준다.
즙과 가열조리판과의 접촉 시간을 최적화하기 위하여 양각 구역들 간의 한정된 거리와 각 양각 구역의 폭 사이의 비율은 1 내지 1.5일 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 적어도 하나의 배출용 오리피스는 즙의 유동 방향을 따른 양각 구역들 및 중공 구역들의 상류에 배치된 도랑 내에 구현된다. 그 실시예에 따르면, 도랑은, 적어도 하나의 배출용 오리피스의 방향으로 경사도를 가질 수 있다. 따라서, 도랑 내의 즙의 모든 도착 지점에서 즙은 신속히 배출용 오리피스를 향하게 된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 적어도 하나의 배출용 오리피스는 가열조리판의 외곽부 상에 배치된다.
본 발명은 또한 적어도 하나의 상술한 특성을 갖는 가열조리판을 포함하는 가열조리용 그릴에 관한 것이다.
상술한 단락에 따르면, 가열조리용 그릴은 적어도 하나의 배출용 오리피스 맞은 편 측부 위치에 적어도 하나의 상승용 단자를 포함하고, 가열조리판은 그 상승용 단자 상에 놓인다. 그 상승용 단자는 가열조리판이 원하는 경사도에 이르도록 조절된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 양각 구역들의 제1 경사도는 그 상부에 가열조리용 그릴이 배치될 수 있는 평면 지지대에 대하여 제1 각도를 갖는 제1 기울기 및 제2 각도를 갖는 제2 기울기로 형성되고, 제2 각도는 제1 각도를 초과한다.
변형예 또는 상술한 특성들의 조합으로서, 중공 구역들의 제2경사도는 평면 지지대에 대하여 제3 각도를 갖는 제1 기울기 및 제4 각도를 갖는 제2 기울기로 형성되고, 그 제4 각도는 제3 각도를 초과한다.
본 발명은 그 외에 적어도 하나의 상술한 특성을 포함하는 가열조리판의 제조방법에 관한 것으로서, 그 방법에 따르면 양각 구역들 및 중공 구역들은 설정된 기준 표면을 따라 펼쳐지는 판을 각인작업함으로써 제조된다.
그 기술은 단순한 판으로부터 양각 구역들 및 중공 구역들의 다양한 경사도를 용이하게 생성할 수 있게 한다.
다른 장점들 또한 첨부된 도면을 참조하여 예시로서 제공된 이하 상세한 설명을 숙독함으로써 통상의 기술자에게 명백해질 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 가열조리판을 포함하는 가열조리용 그릴의 사시도이다.
도 2는 2개의 배출용 오리피스를 포함하는 도 1의 가열조리판의 상부도이다.
도 3은 도 2에 도시된 구역(III)의 상부도이다.
도 4는 그릴의 내부가 생략된 도 3의 선(A-A)을 따른 단면도이다.
도 5는 그릴의 내부가 생략된 도 2의 선(B-B)을 따른 단면도이다.
도 6은 그릴의 내부가 생략된 도 2의 선(C-C)을 따른 단면도이다.
도 7 및 도 8은 각각 도 6에 도시된 구역(VII)의 확대도 및 구역(VIII)의 확대도이다.
도 9는 가열조리판이 생략된 도 1의 가열조리용 그릴의 상부도이다.
도 10 및 도 11은 각각 배출용 오리피스의 측부 및 상기 배출용 오리피스의 맞은 편 측부의 도 2의 선(D-D)을 따른 부분 단면도이다.
도 12는 가열조리용 그릴의 내부와 함께 도시된 도 6과 동일한 도면이다.
도 1을 참조하면, 가열조리용 그릴(G)은 받침대(4)에 의해 지지 되는 가열조리판(1)을 포함한다. 가열조리판(1)은 수평 제1 축(X) 방향으로 연장되는 길이(l) 및 그 제1 축(X)과 수직인 수평 제2 축(Y) 방향으로 연장되는 폭(e)을 갖는다. 한편, 상기 2개의 나머지 축과 수직인 수직 제3 축(Z)은 도 1의 하부에서 상부로 향한다. 가열조리용 그릴의 높이(H)는 그 수직 제3 축(Z)을 따라 연장된다. 본 명세서에서, "상부", "하부", "미만", "초과", 등의 용어는 수직 제3 축(Z)을 기준으로 한다. "길이"라는 용어는 수평 제1 축(X)을 기준으로 정의되고 "폭"이라는 용어는 수평 제2 축(Y)을 기준으로 정의된다.
받침대(4)는 횡단면이 만곡된 형태인 본체(41) 및 평면 지지대(S)를 디디는 족부(42)들로 구성된다. 예를 들어, 평면 지지대(S)는 테이블 또는 작업대의 표면과 같은 평평하고 수평한 표면을 갖는다.
받침대의 본체(41)는 도 9에 도시된 전기 저항(7) 및 반사판(6)을 포함한다. 전기 저항(7)은 가열조리판(1)과 반사판(6) 사이에 배치된다. 받침대의 본체(41)는 그 외에, 도 12에 도시된 즙 수집장치(5)를 수용하는 하우징(43)을 포함한다. 그와같이 즙 수집장치(5)는 탈부착 가능하며, 이는 그릴의 사용 후 세척을 용이하게 한다.
하우징(43)은 반사판(6) 하부에 위치한다. 그 반사판은 하우징(43)을 부분적으로 덮으며, 이로써 즙 수집장치(5)가 일단 가열조리용 그릴 상에 장착되면 그 즙 수집장치(5)에 직접적인 통로(52)를 제공할 수 있게 한다. 여기서, 하우징(43)은 가열조리판(1)의 폭 중간 부근에 위치한다. 본 발명의 다른 실시예에서 그 하우징은 다른 부분에 배치될 수 있다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 가열조리판(1)은 직선이고 서로 평행한 양각 구역들(2)을 가지고 있다. 도시된 실시예에서, 양각 구역들(2)은 수평 제1 축(X)을 따라 연장된다. 그 구역들은, 예를 들어, 26 mm의 거리로 서로 간격을 두고 있다.
한편, 중공 구역들(3)은 양각 구역들(2)의 에지에 구현된다. 도시된 실시예에서, 중공 구역(35)은 양각 구역(25)의 양측에 배치된다. 다시 말하자면, 중공 구역(35)은 인접한 2개의 양각 구역(25) 사이에 위치한다.
가열조리판(1)은 특정 용도의 2개의 구역, 즉 가열조리판 좌측 상에 위치한 제1 구역(13) 및 가열조리판 우측 상에 위치한 제2 구역(14)을 포함한다. 여기서, "우측", "좌측"이라는 용어는 수평 제2 축(Y)을 기준으로 정의되며, 도 2의 우측 및 좌측에 각각 해당한다.
제1 구역(13)은 가열조리판의 온도변화를 표시하기 위한 감온성 안료 조성물(예를 들어, 등록상표 "THERMOSPOT®"의 상품)을 포함하는 패턴(131)을 포함한다. 돌출 아치(141)에 의해 한정되는 제2 구역(14)은 매끄러운 표면을 포함한다. 그 제2 구역(14)은 가열조리판(1)의 기준 표면(18) 상에 배치된 음식물과 다른 유형의 음식물을 수용할 수 있다. 예를 들어, 고기와 동시에 익히기 위하여 제2 구역(14) 내에 쪽마늘들을 놓을 수 있다.
도 2 내지 도 5를 참조하면, 도랑(8)이 양각 구역들(2)과 수직으로 가열조리판(1)의 외곽부(11) 또는 측부에 형성된다. 도랑(8)은 수평 제2 축(Y)과 평행하다. 2개의 배출용 오리피스(81)는 즙 수집장치(5)로의 통로(52) 상부에서 도랑 내에 구현된다. 따라서, 일단 즙이 2개의 오리피스(81) 위치에 도달하면 수집장치(5)로 직접 낙하한다.
개시된 실시예에서, 그 2개의 배출용 오리피스(81)는 크기가 동일하다. 각각의 그 오리피스는 예를 들어 40 mm의 길이(l1) 및 4 mm의 폭(e1)을 갖는다.
도 5에 도시된 바와 같이, 도랑(8)은 배출용 오리피스(81)들의 양측에서 경사져 있는데, 이는 즙을 신속히 상기 오리피스(81)들 내로 유동시키기 위함이다. 예를 들어, 평면 지지대에 대하여 한정된 도랑의 경사각(K)은 3°이다.
한편, 가열조리판(1)의 중심을 잡을 수 있게 하고 상기 판이 수평면 내에서 이동하는 것을 방지할 수 있도록 하기 위하여, 도 9에 도시된 바와 같이 반사판(6) 상에 배치된 돌기부(62)들이 구비된다. 개시된 실시예에서, 돌기부(62)들은 4개의 모서리, 즉 도 9의 좌측 하부(93) 및 우측 하부(94), 좌측 상부(91) 및 우측 상부(92)에 위치한다. 그 돌기부들은 각인작업에 의해 수득된다.
도 10에서, 배출용 오리피스(81)의 측부(11)에서, 가열조리판(1)은 첨단부(12)를 통하여 반사판(6) 상에 놓인다.
도 6 내지 도 8은 본 실시예에서 개시된 양각 구역들(2) 및 중공 구역들(3) 중에서 하나의 양각 구역(25) 및 하나의 중공 구역(35)을 도시한다. 그 양각 구역(25)에 대한 상세한 설명은 모든 양각 구역들(2)에 동일하게 적용된다. 마찬가지로 중공 구역(35)에 대한 상세한 설명은 모든 중공 구역들(3)에 동일하게 적용된다.
양각 구역(25)은 배출용 오리피스(81)의 방향으로 증가하도록 제1경사도를 갖는다. 본 실시예에서, 양각 구역(25)은 수평 제1 축(X)을 따라 연장된다.
양각 구역(25)의 경사도는 2개의 기울기, 즉 제1 기울기(21) 및 제2 기울기(22)로 형성된다. 양각 구역(25)의 제1 기울기(21)는 배출용 오리피스(81)에서 이격되어 있다. 제1 각도(A)는 제1 기울기(21)와 평면 지지대(S) 사이에서 한정된다. 유사한 방식으로, 배출용 오리피스(81)와 근접한 양각 구역(25)의 제2 기울기(22)는 평면 지지대(S)와 제2 각도(B)를 한정한다.
제2 기울기(22)는 제1 기울기(21)보다 크며, 이는 본 실시예에서, 제2 각도(B)가 제1 각도(A)를 초과함을 의미한다. 예를 들어, 제1 각도(A)는 1.2°, 제2 각도(B)는 3.7°이다.
바람직하게는, 제1 각도(A)는 1° 내지 1.2°, 제2 각도(B)는 3° 내지 3.7°이다.
한편, 양각 구역(25)의 제1 기울기(21)는 상기 양각 구역(25)의 길이(l2)의 적어도 2분의 1, 예를 들어 3분의 2길이 상으로 연장되는 반면, 제2 기울기(22)는 배출용 오리피스(81)의 방향으로 나머지 부분 상으로 연장된다.
또한 가열조리판(1)의 기준 표면(18)에 대하여 한정된 양각 구역(25)의 높이(F)는 그 양각 구역이 배출용 오리피스(81)에 근접함에 따라 점차 변동됨을 주목해야 한다. 높이(F)는 음식물이 가열조리판(1)의 기준 표면(18)에 닿게 되지 않도록 충분한 값이어야 한다. 본 실시예에서, 각각의 양각 구역(25)의 높이(F)는 배출용 오리피스의 맞은 편 측(10)에서의 0.5 mm부터 배출용 오리피스측(11)의 5mm까지 변동한다.
양각 구역(25)들은 각인작업 실시 이전에 기준 표면(18)을 따라 펼쳐져 있던 판을 각인작업 함으로써 수득된다.
양각 구역(25)과 마찬가지로, 중공 구역(35)은 배출용 오리피스(81)의 방향으로 증가하는 경사도를 갖는다. 그와 같은 방식으로, 중공 구역(35)의 경사도는 가열조리중인 음식물로부터 유출된 즙을 즙의 유동 방향(F2)을 따라 배출용 오리피스(81)를 향하여 유도할 수 있게 한다. 본 실시예에서, 즙의 유동 방향(F2)은 수평 제1 축(X)과 평행하다.
중공 구역(35)의 경사도는 2개의 다른 기울기로 형성된다. 중공 구역(35)의 제1 기울기(31)는 그 중공 구역(35) 길이(l3)의 적어도 2분의 1, 예를 들어 3분의 2 길이 상으로 배출용 오리피스(81)의 맞은 편 측부(10)에서부터 연장된다. 그 제1 기울기(31)는 평면 지지대(S)와 예를 들어 2.7°의 제3 각도(A')를 한정한다.
제1 기울기(31)와 연속되는 중공 구역(35)의 제2 기울기(32)는 상기 중공 구역(35)의 길이(l3)의 나머지 3분의 1부분 상으로 연장된다. 제4 각도(B')는 중공 구역(35)의 제2 기울기(32)와 평면 지지대(S) 사이에서 한정된다. 그 제4 각도(B')는 예를 들어 3.7°이다. 제3 각도(A')와 제4 각도(B') 사이의 각도 차이는 배출용 오리피스(81)를 향한 즙의 유동을 최적화할 수 있게 한다.
바람직하게는, 제3 각도(A')는 1.2° 내지 2.7°, 제4 각도(B')는 3° 내지 3.7°이다.
물론, 양각 구역들(2) 및 중공 구역들(3)의 기울기들의 경사각도는 다른 값들을 가질 수 있다. 바람직하게는, 배출용 오리피스들과 가장 멀리 있는 기울기의 경사 각도는 상기 오리피스들과 가장 가까운 기울기의 경사각도 미만이다.
가열조리판(1)이 상술한 경사도를 가질 수 있도록 하기 위하여, 상기 판(1)은 도 11에 그 중 하나가 도시된 상승용 단자(61)에 기댐으로써 배출용 오리피스(81)의 맞은 편 측(10)에서 상승된다. 그 상승용 단자(61)들은 예를 들어 도 9의 좌측 상부(91) 및 우측 상부(92)의 모서리에 각각 설치된다. 그 상승용 단자(61)들은 반사판(6)을 기준으로 한정되는, 예를 들어 12 mm의 높이(h)를 갖는다.
다른 실시예에서, 상승용 단자들의 높이는 조절될 수 있는데, 즉, 가열조리판에 대하여 원하는 각도에 따라 변동 가능하다.
요약하자면, 양각 구역(25)은 증가하는, 즉 배출용 오리피스(81)의 방향으로 하부를 향하는 제1경사도를 갖는다. 제1경사도는 각도(A)의 제1 기울기(21) 및 각도(B)의 제2 기울기(22)로 구성된다. 각도(B)는 각도(A)를 초과한다.
양각 구역(25)과 유사한 방식으로, 중공 구역(35)은 증가하는, 즉 배출용 오리피스(81)의 방향으로 하부를 향하는 제2경사도를 갖는다. 제2경사도는 각도(A')의 제1 기울기(31) 및 각도(B')의 제2 기울기(32)로 구성된다. 각도(B')는 각도(A')를 초과한다.
그와 같이, 도시된 실시예에서, 양각 구역(2, 25)들의 제1경사도 및 중공 구역(3, 35)들의 제2경사도는 수평 제1 축(X)을 따라 연속되는 2개의 기울기로 각각 형성된다. 물론, 본 발명의 다른 실시예에서, 각 경사도의 기울기 개수는 상이할 수 있으며, 예를 들어 2개를 초과할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에서, 양각 구역들의 제1경사도 및 중공 구역들의 제2경사도는 배출용 오리피스의 방향으로 하부를 향하여 더욱 연속적이고 점진적으로 변동한다. 그 경우, 제1경사도 및 제2경사도는 배출용 오리피스를 향하는 연속적인 유한 또는 무한의 기울기로 구성된다. 그 기울기들은 배출용 오리피스들에 근접함에 따라 더욱 커진다.

Claims (17)

  1. 거의 직선인 방향을 따라 연장되고 가열조리 할 음식물을 수용하게 되어 있고 그 에지에는 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)를 향하여 음식물의 즙을 수거하고 배출하게 되어있는 중공 구역(3, 35)들이 배치된 양각 구역(2, 25)들을 포함하는 가열조리용 그릴(G)을 위한 가열조리판(1)으로서, 상기 양각 구역(2, 25)들은 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)의 방향으로 제1경사도를 가지고, 상기 중공 구역(3, 35)들은 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스(81) 방향으로 제2경사도를 가지며, 상기 제2경사도는 상기 제1경사도보다 큰 가열조리판(1)에 있어서,
    상기 양각 구역(2, 25)들 및 상기 중공 구역(3, 35)들이 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)의 방향으로 증가하는 경사도를 갖는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  2. 제1항에서, 상기 양각 구역(2, 25)들의 증가하는 제1경사도는 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)에서 먼 제1 기울기(21) 및 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)와 가까운 제2 기울기(22)로 형성되고, 상기 제2 기울기는 상기 제1 기울기(21)를 초과하는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  3. 제2항에서, 양각 구역(25)의 제1경사도의 제1 기울기(21)는 상기 양각 구역(25) 길이의 적어도 2분의 1길이 상으로 연장되는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에서, 상기 중공 구역(3, 35)들의 제2경사도는 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스에서 먼 제1 기울기(31) 및 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스와 가까운 제2 기울기(32)로 형성되고, 상기 제2 기울기는 상기 제1 기울기를 초과하는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  5. 제4항에서, 중공 구역(35)의 제2경사도의 제1 기울기(31)는 상기 중공 구역(35) 길이의 적어도 2분의 1길이 상으로 연장되는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  6. 제4항 또는 제5항에서, 상기 제2경사도의 제2 기울기(32)는 상기 제2 경사도의 상기 제1 기울기(31)에 대하여 1도를 초과하는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에서, 상기 가열조리판(1)의 기준 표면(18)에 대하여 한정되는 상기 양각 구역(2, 25)들의 높이(F)는 상기 양각 구역들(2, 25)이 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)에 근접함에 따라서 증가하는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에서, 상기 양각 구역(2, 25)들은 서로 평행하고 한정된 거리(d)로 규칙적으로 간격을 두고 있는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  9. 제8항에서, 상기 양각 구역들(2, 25) 사이에 한정된 거리(d)와 각 양각 구역(25)의 폭과의 비율은 1 내지 1.5인 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에서, 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)는 즙의 유동 방향을 따른 상기 양각 구역들 및 상기 중공 구역들의 상류에 배치된 도랑(8) 내에 구현되는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  11. 제10항에서, 상기 도랑(8)은 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스(81) 방향으로 경사도(K)를 갖는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에서, 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)는 상기 가열조리판(1)의 외곽부(11)에 배치되는 것을 특징으로 하는, 가열조리판(1).
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 가열조리판(1)을 포함하는 것을 특징으로 하는, 가열조리용 그릴(G).
  14. 제13항에서, 상기 가열조리용 그릴(G)은 상기 적어도 하나의 배출용 오리피스(81)의 맞은 편 측부(10) 위치에 적어도 하나의 상승용 단자(61)를 포함하고, 상기 가열조리판(1)은 상기 상승용 단자(61) 상에 놓이는 것을 특징으로 하는, 가열조리용 그릴(G).
  15. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 가열조리용 그릴은 평면 지지대(S) 상에 배치되도록 구성되고, 상기 양각 구역(2, 25)들의 제1경사도는 상기 평면 지지대(S)에 대한 제1 각도(A)를 갖는 제1 기울기(21) 및 제2 각도(B)를 갖는 제2 기울기(22)로 형성되고, 상기 제2 각도(B)는 상기 제1 각도(A)를 초과하는 것을 특징으로 하는, 가열조리용 그릴(G).
  16. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가열조리용 그릴은 평면 지지대(S) 상에 배치되도록 구성되고, 상기 중공 구역(3, 35)들의 제2경사도는 상기 평면 지지대(S)에 대한 제3 각도(A')를 갖는 제1 기울기(31) 및 제4 각도(B')를 갖는 제2 기울기(32)로 형성되고, 상기 제4 각도(B')는 상기 제3 각도(A')를 초과하는 것을 특징으로 하는, 가열조리용 그릴(G).
  17. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 가열조리판의 제조 방법이며, 상기 양각 구역(2, 25)들 및 상기 중공 구역(3, 35)들은 설정된 기준 표면(18)을 따라 펼쳐진 판을 각인작업함으로써 제조되는, 가열조리판의 제조 방법.
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