KR20180021914A - Method and apparatus for edge finishing of glass substrates - Google Patents

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KR20180021914A
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glass
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제임스 윌리엄 브라운
유세프 카예드 쿼로우쉬
샤이 네게브 샤프리어
유인 탕
나이유에 조우
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코닝 인코포레이티드
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Abstract

유리 에지 마감 장치를 위한 유리 지지 시스템은, 유리 기판의 에지를 따라 유리 공급 방향으로 길게 연장되도록 구성된 진공 부재를 포함한다. 상기 진공 부재는 내부에 압력 챔버를 포함하는 진공 몸체 및 관통 연장되고 압력 챔버와 연통하는 진공 개구의 배열을 갖는 지지면을 갖는다. 상기 진공 개구의 배열은 다수의 나란한 행(row)으로 배치되고 다수의 행의 각각을 따른 진공 개구들 사이의 간격은 실질적으로 균일하다.A glass support system for a glass edge finishing apparatus includes a vacuum member configured to extend long in the glass feed direction along the edge of the glass substrate. The vacuum member has a vacuum body including a pressure chamber therein and a support surface extending therethrough and having an array of vacuum openings communicating with the pressure chambers. The arrangement of the vacuum openings is arranged in a plurality of parallel rows and the spacing between the vacuum openings along each of the plurality of rows is substantially uniform.

Description

유리 기판의 에지 마감을 위한 방법 및 장치Method and apparatus for edge finishing of glass substrates

이 출원은 35 U.S.C.§119하에서의 2015년 7월 21에 출원된 미국 가출원 제62/194,952호의 우선권을 주장하며, 이 출원의 내용에 의존하고 그 전문이 본원에 참조로 포함된다.This application claims priority to U.S. Provisional Application No. 62 / 194,952, filed July 21, 2015, under 35 U.S.C. §119, which is dependent upon the contents of this application and is incorporated herein by reference in its entirety.

본 개시는 유리 기판의 에지 마감을 위한 방법 및 장치, 보다 상세하게는 에지 베벨링(beveling)의 대칭을 증가시키는데 이용되는 방법 및 장치에 관한 것이다.This disclosure relates to methods and apparatus for edge finishing of glass substrates, and more particularly to methods and apparatus used to increase the symmetry of edge beveling.

종래 유리 에지 마감 장치는 대부분 얇은 유리 기판에 비해 상대적으로 높은 강성을 가지는 비교적 두꺼운 유리 기판을 위해 개발되었다. 일 예로, 유리 시트는, 기계적 스코어링(scoring) 및 절단(breaking) 과정을 거쳐 형성되고 나서, 일반적으로 연삭숫돌(abrasive grinding wheel)을 이용하여 연마되는 에지를 갖는다. 특정 적용에서, 예를 들어 자동차 산업에서, 유리 시트의 외주에서 유리 시트의 에지에 둥근 프로파일을 제공하는 것이 바람직할 수 있다.Conventional glass edge finishing devices have been developed for relatively thick glass substrates that have relatively high stiffness compared to mostly thin glass substrates. In one example, the glass sheet is formed through mechanical scoring and breaking processes and then has an edge that is generally polished using an abrasive grinding wheel. In certain applications, for example in the automotive industry, it may be desirable to provide a round profile on the edge of the glass sheet at the periphery of the glass sheet.

플랫 패널 디스플레이 및 다른 적용은 자동차 산업에서 사용되는 것보다 훨씬 더 얇은 유리 시트를 종종 사용한다. 얇은 유리 시트는 두꺼운 유리 시트에 비해 감소된 강성 및 증가된 가요성을 가질 수 있다. 감소된 강성 및 증가된 가요성을 가지는 이러한 얇은 유리 시트의 에지 마감은 적어도 부분적으로 에지 마감 공정에 수반되는 힘으로 인해 문제를 야기할 수 있다. 따라서, 상대적으로 얇은 유리 기판을 포함하는 유리 기판의 에지 마감을 위한 방법 및 장치에 대한 요구가 있다.Flat panel displays and other applications often use glass sheets that are much thinner than those used in the automotive industry. Thin glass sheets can have reduced stiffness and increased flexibility compared to thick glass sheets. The edge finishing of such a thin glass sheet with reduced stiffness and increased flexibility can cause problems at least in part due to the forces involved in the edge finishing process. Accordingly, there is a need for a method and apparatus for edge finishing of a glass substrate comprising a relatively thin glass substrate.

가요성 유리 기판의 기계적 신뢰성을 향상시키는 한 가지 기술은 예를 들어 소정의 에지 강도가 얻어지도록 가요성 유리 기판의 에지를 연삭하고 연마하여 가요성 유리층에서 예를 들어 원치 않은 크랙(crack) 및 파괴(fractures)를 제거하는 것이다. 이를 위해, 에지 마감 장치를 사용하여 유리 기판을 효과적으로 마감하면서 본 명세서에서 베벨링으로 지칭되는 공정에서 둥근 형상을 갖는 에지를 제공하는 유리 기판 마감을 위한 방법 및 장치를 본 명세서에 기재한다.One technique for improving the mechanical reliability of the flexible glass substrate is to grind and polish the edge of the flexible glass substrate so as to obtain a predetermined edge strength, for example, to prevent undesired cracks and cracks in the flexible glass layer It is to remove fractures. To this end, a method and apparatus for finishing a glass substrate that provides a rounded edge in a process referred to herein as a bevel ring, effectively terminating the glass substrate using an edge finishing apparatus, is described herein.

일 실시예에 따르면, 유리 에지 마감 장치를 위한 유리 지지 시스템은 진공 부재, 예를 들어 유리 공급 방향 및 유리 기판의 에지를 따라 길게 연장되도록 구성된 진공 척(vacuum chuck)을 포함한다. 진공 부재는 내부에 위치된 압력 챔버, 및 관통 연장되고 압력 챔버와 연통하는 진공 개구의 배열을 포함하는 지지면을 포함하는 진공 몸체(vacuum body)를 포함한다. 진공 개구의 배열은 다수의 나란한 행(row)으로 배치되며, 다수의 행의 각각의 행을 따른 진공 개구들 간의 간격은 실질적으로 균일하다.According to one embodiment, a glass support system for a glass edge finishing apparatus includes a vacuum member, for example a vacuum chuck configured to extend along the glass feed direction and the edge of the glass substrate. The vacuum member includes a vacuum body including a pressure chamber located therein and a support surface including an array of vacuum openings extending therethrough and communicating with the pressure chamber. The arrangement of the vacuum openings is arranged in a plurality of parallel rows and the spacing between the vacuum openings along each row of the plurality of rows is substantially uniform.

다른 실시예에 따르면, 유리 에지 마감 장치는 유리 운반 시스템 및 유리 운반 시스템에 의해 유리 공급 방향으로 이동되는 유리 지지 시스템을 포함한다. 유리 지지 시스템은 약 0.7 ㎜ 이하의 두께를 가지는 유리 기판을 지지하도록 구성될 수 있다. 유리 기판은 일반적으로 평평한 표면 및 일반적으로 평평한 표면에 수직인 면외(out-of-plane) 방향을 포함한다. 유리 공급 방향은 상기 면외 방향에 수직이다. 유리 지지 시스템은 진공 부재, 예를 들어 유리 공급 방향 및 유리 기판의 에지를 따라 길게 연장되도록 구성된 진공 척을 포함할 수 있다. 진공 부재는 내부에 위치된 압력 챔버를 포함하는 진공 몸체를 포함하며, 관통 연장되고 압력 챔버와 연통하는 진공 개구의 배열을 포함하는 지지면을 더 포함할 수 있다. 진공 개구 배열은 지지 표면적 100 ㎠ 당 적어도 약 25개의 개구를 포함할 수 있다.According to another embodiment, the glass edge finishing apparatus comprises a glass conveying system and a glass support system which is moved in the glass feeding direction by a glass conveying system. The glass support system may be configured to support a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm or less. The glass substrate generally includes a flat surface and an out-of-plane orientation that is generally perpendicular to the flat surface. The glass supply direction is perpendicular to the out-of-plane direction. The glass support system may include a vacuum member, for example a vacuum chuck configured to extend along the glass feed direction and the edge of the glass substrate. The vacuum member may include a vacuum body including a pressure chamber located therein, and may further include a support surface including an array of vacuum openings extending therethrough and communicating with the pressure chamber. The vacuum opening arrangement may include at least about 25 openings per 100 square centimeters of support surface area.

다른 실시예에 따르면, 약 0.7 ㎜ 이하의 두께를 가지는 유리 기판의 에지를 마감하는 방법이 제공된다. 상기 방법은 유리 지지 시스템 상에 유리 기판을 지지하는 것을 포함한다. 유리 기판은 일반적으로 평평한 표면, 일반적으로 평평한 표면에 대해 수직인 면외 방향, 및 면외 방향에 수직인 유리 공급 방향을 포함한다. 유리 지지 시스템은 진공 부재, 예를 들어, 유리 공급 방향 및 유리 기판의 에지를 따라 길게 연장되도록 구성된 진공 척을 포함할 수 있다. 진공 부재는 내부에 위치한 압력 챔버를 포함하는 진공 몸체를 포함할 수 있고, 지지면은 관통 연장되고 압력 챔버와 연통하는 진공 개구의 배열을 포함할 수 있다. 진공 개구의 배열은 지지 표면적 100 ㎠ 당 적어도 약 25개 개구를 포함할 수 있다. 부압이 진공 개구의 배열을 통해 진공 부재를 마주보는 일반적으로 평평한 표면에 가해질 수 있다. 유리 기판의 에지는 연마휠 조립체(abrasive wheel assembly)을 사용하여 베벨링될 수 있다.According to another embodiment, a method of finishing an edge of a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm or less is provided. The method includes supporting a glass substrate on a glass support system. The glass substrate generally includes a flat surface, an out-of-plane direction that is generally perpendicular to the flat surface, and a glass feed direction that is perpendicular to the out-of-plane direction. The glass support system may include a vacuum member, for example, a vacuum chuck configured to extend along a glass feed direction and an edge of the glass substrate. The vacuum member may include a vacuum body including a pressure chamber disposed therein, and the support surface may include an array of vacuum openings extending therethrough and in communication with the pressure chambers. The arrangement of the vacuum openings may comprise at least about 25 openings per 100 square centimeters of support surface area. A negative pressure can be applied to the generally flat surface facing the vacuum member through the arrangement of vacuum openings. The edge of the glass substrate may be beveled using an abrasive wheel assembly.

또 다른 실시예에 따르면, 유리 에지 마감 장치는 유리 운반 시스템 및 유리 운반 시스템에 의해 유리 공급 방향으로 이동되는 유리 지지 시스템을 포함한다. 유리 지지 시스템은 약 0.7 ㎜ 이하의 두께를 가지는 유리 기판을 지지하도록 구성될 수 있다. 유리 기판은 일반적으로 평평한 표면 및 일반적으로 평평한 표면에 수직인 면외 방향을 포함한다. 유리 공급 방향은 면외 방향에 수직이다. 유리 지지 시스템은 진공 부재, 예를 들어 유리 공급 방향 및 유리 기판의 에지를 따라 길게 연장되도록 구성된 진공 척을 포함할 수 있다. 진공 부재는 내부에 위치한 압력 챔버를 포함하는 진공 몸체, 및 관통하여 연장되고 압력 챔버와 연통하는 복수 개의 진공 개구를 가지는 지지면을 포함할 수 있다. 연마휠 조립체가 또한 제공될 수 있으며, 연마휠 조립체는 유리 기판이 유리 운반 시스템에 의해 유리 공급 방향으로 이동되는 동안 유리 기판의 에지를 베벨링하도록 구성된다. 에지 유도 조립체가 연마휠 조립체와 진공 부재 사이에 위치할 수 있고, 이것은 상부 에지 유도 부재 및 유리 기판이 이동할 수 있는 통로가 제공되도록 상부 에지 유도 부재로부터 이격된 하부 에지 유도 부재를 포함할 수 있다.According to yet another embodiment, a glass edge finishing apparatus includes a glass delivery system and a glass support system that is moved in a glass feed direction by a glass delivery system. The glass support system may be configured to support a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm or less. The glass substrate generally includes a planar surface and an out-of-plane orientation that is generally perpendicular to the planar surface. The glass supply direction is perpendicular to the out-of-plane direction. The glass support system may include a vacuum member, for example a vacuum chuck configured to extend along the glass feed direction and the edge of the glass substrate. The vacuum member may include a vacuum body including a pressure chamber disposed therein, and a support surface extending through and having a plurality of vacuum openings in communication with the pressure chamber. A grinding wheel assembly may also be provided, wherein the grinding wheel assembly is configured to bevel the edges of the glass substrate while the glass substrate is being moved in the glass feeding direction by the glass delivery system. An edge guiding assembly may be positioned between the polishing wheel assembly and the vacuum member and may include a lower edge guiding member spaced from the upper edge guiding member such that a passage through which the upper edge guiding member and the glass substrate can be provided is provided.

본 명세서에 기술된 추가 특징 및 장점은 이하의 발명의 상세한 설명에 기재될 것이며, 부분적으로는 그 설명으로부터 통상의 기술자에게 자명하거나 또는 이하의 발명의 상세한 설명, 청구 범위, 및 첨부 도면을 포함하여 본 명세서에 기술된 실시양태들을 실시함으로써 인식될 것이다.Additional features and advantages described herein will be set forth in part in the description which follows, and in part will become apparent to those skilled in the art from the description, or may be learned by practice of the invention, including the following detailed description of the invention, And will be recognized by practicing the embodiments described herein.

상술한 일반적인 설명 및 이하 상세한 설명은 다양한 실시양태를 기술하며, 청구 대상의 속성 및 특징의 이해를 위한 개요 또는 체계를 제공하기 위한 것으로 이해하여야 한다. 첨부된 도면은 다양한 실시양태의 추가적인 이해를 제공하기 위해 포함되고, 본 명세서에 통합되어 그 일부를 구성한다. 도면은 본 명세서에 기재된 다양한 실시양태를 나타내고, 발명의 설명과 함께 청구 대상의 원리 및 운용을 설명하는 역할을 한다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are intended to provide further explanation of the nature and characteristic of the claimed subject matter. The accompanying drawings are included to provide a further understanding of the various embodiments, and are incorporated in and constitute a part of this specification. The drawings illustrate various embodiments described herein and serve to explain the principles and operation of the claimed subject matter in conjunction with the description of the invention.

본 개시의 상기 및 다른 특징, 측면 및 장점은 이하 본 개시의 상세한 설명을 첨부된 도면을 참조하여 읽을 때 더욱 잘 이해되며, 도면에서:
도 1은 유리 기판의 베벨링된 에지를 도시하고;
도 2는 유리 에지의 면외 수직 변위와 그에 따른 에지 베벨 비대칭 사이 관계를 보여주는 플롯을 도시하고;
도 3은 유리 마감 장치의 개략도이고;
도 4는 도 3의 마감 장치에 사용되는 진공 부재 및 유리 기판의 상세도이고;
도 5는 유리 에지 평탄도를 보여주는 플롯을 도시하고;
도 6은 별도로 도시된 도 4의 진공 부재의 평면도이고;
도 7은 예시적인 진공 부재의 사시도이고;
도 8은 도 7의 진공 부재의 단면도이고;
도 9는 다른 예시적인 진공 부재의 단면도이고;
도 10은 또 다른 예시적인 진공 부재의 단면도이고;
도 11은 또 다른 예시적인 진공 부재의 평면도이고;
도 12는 또 다른 예시적인 진공 부재의 평면도이고;
도 13은 또 다른 예시적인 진공 부재의 평면도이고;
도 14는 다수의 진공 부재를 포함하는 유리 지지 구조의 개략도이고;
도 15는 도 3의 유리 마감 장치에 사용되는 연마휠의 개략적인 상세도이고;
도 16은 진공 개구의 규칙적인 분포를 통해 제공된 감소된 에지 베벨 비대칭을 나타내는 플롯이고;
도 17은 유리 기판을 따른 위치에 대한 유리 강성의 플롯이고;
도 18은 유리 기판 두께에 대한 유리 기판의 휨 강성(flexural rigidity)의 플롯이고;
도 19는 에지 유도 조립체 및 연마휠의 개략도이고;
도 20은 에지 유도 조립체의 개략도이고;
도 21은 유리 에지 마감 장치를 도시하고;
도 22는 다른 방향에서 바라본 도 21의 유리 에지 마감 장치를 도시하고;
도 23은 다른 유리 에지 마감 장치를 도시하고;
도 24는 다른 방향에서 바라본 도 23의 유리 에지 마감 장치를 도시하고;
도 25는 에지 유도 조립체의 개략도이고;
도 26은 에지 유도 조립체의 다른 도면이고;
도 27은 에지 유도 조립체의 또 다른 도면이고;
도 28은 에지 유도 조립체 사용을 통해 제공되는 감소된 에지 베벨 비대칭을 나타내는 대표적인 플롯을 도시한다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS These and other features, aspects and advantages of the present disclosure will become better understood when the following detailed description of the present disclosure is read with reference to the accompanying drawings,
Figure 1 shows a beveled edge of a glass substrate;
Figure 2 shows a plot showing the relationship between the out-of-plane vertical displacement of the glass edge and the resulting edge bevel asymmetry;
Figure 3 is a schematic view of a glass finishing apparatus;
4 is a detailed view of a vacuum member and a glass substrate used in the finishing apparatus of Fig. 3;
Figure 5 shows a plot showing the glass edge flatness;
Figure 6 is a top view of the vacuum member of Figure 4 shown separately;
Figure 7 is a perspective view of an exemplary vacuum member;
Figure 8 is a cross-sectional view of the vacuum member of Figure 7;
9 is a cross-sectional view of another exemplary vacuum member;
10 is a cross-sectional view of yet another exemplary vacuum member;
11 is a top view of yet another exemplary vacuum member;
12 is a plan view of another exemplary vacuum member;
13 is a top view of yet another exemplary vacuum member;
Figure 14 is a schematic view of a glass support structure comprising a plurality of vacuum members;
Figure 15 is a schematic detail view of a polishing wheel used in the glass finishing apparatus of Figure 3;
16 is a plot showing reduced edge bevel asymmetry provided through a regular distribution of vacuum openings;
17 is a plot of glass stiffness for a position along a glass substrate;
18 is a plot of the flexural rigidity of the glass substrate against the glass substrate thickness;
19 is a schematic view of an edge induction assembly and a grinding wheel;
20 is a schematic view of an edge guiding assembly;
21 shows a glass edge finishing apparatus;
Figure 22 shows the glass edge finishing apparatus of Figure 21 as viewed in a different direction;
Figure 23 shows another glass edge finishing apparatus;
Figure 24 shows the glass edge finishing apparatus of Figure 23 as viewed in a different direction;
25 is a schematic view of an edge guiding assembly;
Figure 26 is another view of an edge guiding assembly;
Figure 27 is another view of an edge guiding assembly;
Figure 28 shows an exemplary plot showing reduced edge bevel asymmetry provided through use of an edge induction assembly.

유리는 본질적으로 강한 재료이지만, 그의 강도 및 기계적 안정성은 그의 표면 결함 또는 결함 크기 밀도 분포, 및 시간 경과에 따른 재료의 응력에의 누적된 노출의 함수이다. 에지 강도는 유리 기판의 기계적 안정성을 위한 중요한 인자일 수 있다. 전체 제품 수명 주기 동안, 유리 기판은 다양한 종류의 정적 및 동적 기계적 응력을 받을 수 있다. 본 명세서에서 기술되는 실시예들은 일반적으로 에지 마감 장치를 사용하여 효율적으로 유리 기판을 마감하고 유리 기판의 에지 강도 및 기계적 안정성을 높이는, 유리 기판 마감을 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.Glass is an intrinsically strong material, but its strength and mechanical stability are a function of its surface defect or defect size density distribution, and cumulative exposure to stress of material over time. The edge strength may be an important factor for the mechanical stability of the glass substrate. During the entire product life cycle, glass substrates can undergo a variety of static and dynamic mechanical stresses. Embodiments described herein generally relate to a method and apparatus for glass substrate finishing that efficiently finishes a glass substrate using an edge finishing apparatus and increases the edge strength and mechanical stability of the glass substrate.

유리 리본 또는 더 큰 유리 기판으로부터 트리밍(tri㎜ing)된 유리 기판은 트리밍 작업 동안 형성된 날카로운 에지를 갖는 경향이 있다. 유리 기판들의 날카로운 에지는 취급 중에 손상되기 쉽다. 에지 결함, 예를 들어 칩(chip), 크랙 등은 유리의 강도를 감소시킬 수 있다. 유리 기판의 에지는 쉽게 손상되는 날카로운 에지를 제거하기 위한 연삭 및 성형, 예를 들어 베벨링에 의해 날카로운 에지를 제거하도록 처리될 수 있다. 유리 기판으로부터 날카로운 에지를 제거함으로써, 유리 기판의 결함이 최소화될 수 있고, 이에 따라 취급하는 동안 유리판이 손상될 가능성이 감소된다.Glass substrates trimmed from glass ribbons or larger glass substrates tend to have sharp edges formed during trimming operations. The sharp edges of the glass substrates are susceptible to damage during handling. Edge defects, such as chips, cracks, etc., can reduce the strength of the glass. The edges of the glass substrate can be treated to remove sharp edges by grinding and forming, e.g., beveling, to remove sharp edges that are easily damaged. By removing the sharp edges from the glass substrate, defects in the glass substrate can be minimized, thereby reducing the possibility of damage to the glass plate during handling.

다양한 연마휠이 유리 기판의 에지를 연마 및 성형하기 위해 사용될 수 있고, "컵" 휠 및 "성형된" 휠의 사용을 포함한다. 컵 휠은 일반적으로 원형이고 컵 휠의 원주로부터 이격된 리세스된(recessed) 중심 영역을 포함한다. 컵 휠은 유리 기판과 접촉할 때 컵 휠의 평평한 면이 유리 기판과 접촉하고 컵 휠의 원주면은 유리 기판으로부터 이격된다. 성형된 휠은 성형된 휠의 원주면의 에지에 위치하는 홈(groove)을 포함한다. 홈은 기판 에지의 가공되는 형상에 대응하는 프로파일을 포함한다. 성형된 휠의 홈은 에지를 연마 및 성형하기 위해 유리 기판의 에지와 접촉한다.A variety of grinding wheels can be used to polish and shape the edges of the glass substrate and include the use of "cup" wheels and "molded" wheels. The cup wheel is generally circular and includes a recessed central area spaced from the circumference of the cup wheel. When the cup wheel contacts the glass substrate, the flat surface of the cup wheel contacts the glass substrate and the circumferential surface of the cup wheel is spaced from the glass substrate. The formed wheel includes a groove located at the edge of the circumferential surface of the formed wheel. The grooves include a profile corresponding to the shape in which the substrate edge is to be machined. The grooves of the molded wheel come into contact with the edges of the glass substrate to polish and shape the edges.

예시적인 기판 에지(12)을 도시하는 도 1을 참조하면, "제1 표면"이라는 용어 및 그의 다른 변형은 유리 기판(10)의 상대적으로 평평한 제1 영역을 나타내기 위해 본 명세서에서 사용된다. 제1 표면은 도 1에서 14로 나타낸다. 마찬가지로, “제2 표면”이라는 용어 및 그의 다른 변형은 제1 표면(14)에 실질적으로 평행한 기판(10)의 상대적으로 평평한 제2 영역을 표시하기 위해 본 명세서에서 사용된다. 제2 표면은 도 1에서 16으로 나타낸다.1, which shows an exemplary substrate edge 12, the term "first surface" and other variations thereof are used herein to denote a relatively flat first region of the glass substrate 10. [ The first surface is represented by 14 in Fig. Similarly, the term " second surface " and other variations thereof are used herein to denote a relatively flat second region of the substrate 10 that is substantially parallel to the first surface 14. The second surface is represented by 16 in Fig.

"제1 베벨", "제1 베벨부" 및 그의 다른 변형은 기판 에지(12)의 제1 표면(14)과 정점(apex)(18) 사이에 위치한 기판 에지의 제1 부분을 표시하기 위해 본 명세서에서 사용된다. 제1 베벨은 도 1에서 20으로 나타낸다. 마찬가지로, "제2 베벨", "제2 베벨부" 및 그의 다른 변형은 제2 표면(16)과 정점(18) 사이에 위치한 기판 에지의 제2 부분을 표시하기 위해 본 명세서에서 사용된다. 제2 베벨은 도 1에서 22로 나타낸다. 특정 실시예에 있어서, 도 1에 도시된 바와 같이 제1 및 제2 베벨(20, 22)은 만곡될 수 있다. 하지만, 제1 및 제2 베벨은 다른 비제한적인 실시예에 있어서 상대적으로 평평한 상태일 수 있다.The first bevel, the "first bevel" and other variations thereof are used to indicate a first portion of the substrate edge located between the first surface 14 of the substrate edge 12 and the apex 18 Is used herein. The first bevel is indicated by 20 in Fig. Likewise, "second bevel "," second beveled portion "and other variations thereof are used herein to denote a second portion of the substrate edge located between the second surface 16 and the vertex 18. The second bevel is indicated by 22 in Figs. In certain embodiments, the first and second bevels 20, 22 may be curved as shown in Fig. However, the first and second bevels may be relatively flat in other, non-limiting embodiments.

"정점"이란 용어 및 그의 다른 변형은 제1 및 제2 베벨(20, 22)이 수렴하는 기판 에지(12)의 단부 영역을 나타내기 위해 본 명세서에서 사용된다. 도 1은 정점(18)을 소정의 길이를 가지는 평평한 구역으로 도시하나 정점(18)은 기판 에지(12)가 표면(14)으로부터 표면(16)까지 실질적으로 연속적인 곡선이 되도록 제1 및 제2 베벨이 만나는 유한한 점일 수도 있다.The term "vertex" and other variations thereof are used herein to refer to the end regions of the substrate edge 12 where the first and second bevels 20,22 converge. Figure 1 shows the apex 18 as a flat area with a predetermined length but the apex 18 has a first and a second edge 18 so that the substrate edge 12 is a substantially continuous curve from the surface 14 to the surface 16. [ 2 It may be a finite point where the bevel meets.

"제1 베벨면 인터페이스"라는 용어 및 그의 다른 변형은 제1 베벨부가 상대적으로 평평한 제1 표면(14)을 만나는 영역을 나타내기 위해 본 명세서에서 사용된다. 제1 베벨면 인터페이스는 도 1에서 26으로 나타낸다. 마찬가지로, "제2 베벨면 인터페이스"라는 용어 및 그의 다른 변형은 제2 베벨부가 상대적으로 평평한 제 2 표면(16)을 만나는 영역을 나타내기 위해 본 명세서에서 사용된다. 제2 베벨면 인터페이스는 도 1에서 28로 나타낸다.The term "first beveled surface interface" and other variations thereof are used herein to denote the region in which the first beveled portion meets the relatively flat first surface 14. The first bevel plane interface is represented by 26 in FIG. Similarly, the term "second bevel surface interface" and other variations thereof are used herein to denote a region in which the second bevel portion meets a relatively flat second surface 16. The second bevel surface interface is represented by 28 in FIG.

유리 기판(10)은 약 0.3 ㎜ 이하의 두께(30), 예를 들어 약 0.01 내지 약 0.200 ㎜ 범위, 예를 들어 약 0.05 ㎜ 내지 약 0.1 ㎜ 범위, 예를 들어 약 0.1 내지 약 0.15 ㎜ 범위, 약 0.15 내지 약 0.3 ㎜, 약 0.100 내지 약 0.200 ㎜ 및 그 사이의 모든 범위 및 하위 범위를 포함하나 이에 한정되지 않은 두께를 가지는 가요성 유리 기판일 수 있다. 예시적인 두께는 0.3, 0.275, 0.25, 0.225, 0.2, 0.19, 0.18, 0.17, 0.16, 0.15, 0.14, 0.13, 0.12, 0.11, 0.10, 0.09, 0.08, 0.07, 0.06, 0.05, 0.04, 0.03, 0.02, 또는 0.01 ㎜를 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 유리 기판(10)은 약 0.7 ㎜ 이하의 두께(30)를 가질 수 있다. 유리 기판(10)은 유리, 유리 세라믹 또는 그의 합성물로 형성될 수 있다. 고품질 유리 기판을 형성하는 퓨전 공정(즉, 다운드로우 공정(downdraw process))이 다양한 장치에서 사용될 수 있고 이러한 적용 중 하나는 플랫 패널 디스플레이다. 퓨전 공정으로 제조된 유리 기판은 다른 방법으로 제조된 유리 기판과 비교할 때 탁월한 평탄도 및 평활도를 갖는 표면을 가진다. 퓨전 공정은 미국 특허 제3,338,696호 및 제3,682,609호에 기술되어 있다. 다른 적합한 유리 기판 형성 방법은 플로트 공정(float process), 업드로우(updraw) 및 슬롯 드로우(slot draw) 방법을 포함한다.The glass substrate 10 may have a thickness 30 of less than about 0.3 mm, for example in the range of about 0.01 to about 0.200 mm, such as in the range of about 0.05 mm to about 0.1 mm, for example in the range of about 0.1 to about 0.15 mm, About 0.15 to about 0.3 mm, about 0.100 to about 0.200 mm, and all ranges and subranges therebetween. Exemplary thicknesses are in the range of 0.3, 0.275, 0.25, 0.225, 0.2, 0.19, 0.18, 0.17, 0.16, 0.15, 0.14, 0.13, 0.12, 0.11, 0.10, 0.09, 0.08, 0.07, 0.06, 0.05, 0.04, 0.03, Or 0.01 mm. In some embodiments, the glass substrate 10 may have a thickness 30 of about 0.7 mm or less. The glass substrate 10 may be formed of glass, glass ceramic, or a composite thereof. A fusion process (i.e., a downdraw process) to form high quality glass substrates can be used in a variety of devices, one of which is a flat panel display. The glass substrate produced by the fusion process has a surface with excellent flatness and smoothness compared to glass substrates produced by other methods. Fusion processes are described in U.S. Patent Nos. 3,338,696 and 3,682,609. Other suitable methods of glass substrate formation include float processes, updraw and slot draw methods.

이론(theory)에 구속됨 없이, 상대적으로 얇은 유리 기판(10)(약 0.7 ㎜ 이하)에 대해, 수평으로 배향된 유리 기판(10)에 대한 제1 베벨면 인터페이스(26)와 제2 베벨면 인터페이스(28)의 대칭 형상 특성은 유리 기판(10)의 벤딩 동안의 소성 변형에 대한 에지 저항에 직접적인 효과를 가질 수 있다. 때때로 본 명세서에서 "에지 베벨 비대칭"으로 지칭되는 제1 베벨부(20)와 제2 베벨부(22) 간의 에지 비대칭은 유리 기판(10)의 에지 강도와 직접적으로 관련이 있다. 에지 베벨 비대칭은 기판 두께(30) 방향으로 제1 및 제2 베벨부(20, 22)의 정점(18)까지의 각각의 폭(W1, W2)에 의해 측정할 수 있다. 베벨링 공정 동안 유리 기판(10)의 면 밖으로의 기판 에지(12)의 처짐(수직 변위)이 에지 베벨 비대칭을 발생시킬 수 있다. 도 2는 약 0.5 ㎜의 두께를 갖는 유리 기판(10)에서 기판 에지(12)의 처짐과 이에 따른 에지 베벨 비대칭 간의 예시적인 관계를 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 위치 범위(R)에서 기판 에지(12)의 처짐은 실질적으로 증가하여(라인 31으로 나타냄) 그 결과 에지 베벨 비대칭을 증가시킨다(라인 32 및 40으로 나타냄). For a relatively thin glass substrate 10 (about 0.7 mm or less), the first bevel surface interface 26 for the horizontally oriented glass substrate 10 and the second bevel surface < RTI ID = 0.0 > The symmetrical shape characteristic of the interface 28 may have a direct effect on the edge resistance to plastic deformation during bending of the glass substrate 10. [ The edge asymmetry between the first bevel portion 20 and the second bevel portion 22, sometimes referred to herein as "edge bevel asymmetry ", is directly related to the edge strength of the glass substrate 10. The edge bevel asymmetry can be measured by the respective widths (W 1 , W 2 ) of the first and second bevel portions 20, 22 to the vertex 18 in the direction of the substrate thickness 30. The deflection (vertical displacement) of the substrate edge 12 out of the plane of the glass substrate 10 during the beveling process can cause edge bevel asymmetry. Figure 2 shows an exemplary relationship between the deflection of the substrate edge 12 and the resulting edge bevel asymmetry in a glass substrate 10 having a thickness of about 0.5 mm. As can be seen, deflection of the substrate edge 12 in the positional range R substantially increases (indicated by line 31), resulting in increased edge bevel asymmetry (indicated by lines 32 and 40).

에지 수평 평탄도(예를 들어, 최소 수직 변위)는 특히 얇은 유리 기판(10)의 경우, 베벨링 공정 동안 지지의 유효성에 의해 영향을 받을 수 있다. 도 3을 참조하면, 베벨링 공정을 수행하기에 적합한 유리 에지 마감 장치(40)는 유리 운반 시스템(44) 및 유리 지지 시스템(46)을 포함하는 지지 장치(42)를 포함한다. 유리 운반 시스템(44)은 유리 기판(50)의 에지(48)와 일반적으로 정렬(평행)할 수 있는 공급 방향으로 유리 지지 시스템(46)을 이동(즉, 병진 운동)시킬 수 있다. 유리 지지 시스템(46)은 유리 운반 시스템(44)에 의해 공급 방향으로 운반되거나 또는 다른 방법으로 이동될 수 있다. 유리 지지 시스템(46)은 유리 기판(50)의 양쪽 에지(48, 58)를 따라 일부 실시예에서는 유리 기판(50)의 실질적으로 전체 길이를 따라 공급 방향으로 연장되는 진공 척과 같은 에지 진공 부재(54, 56)를 포함하는 진공 시스템(52)을 포함한다. 일부 실시예에 있어서, 진공 부재(54, 56)는 하나의 연장된 진공 부재로 형성될 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 예를 들어 다수 개의 진공 부재가 사용되고 공급 방향으로 나란하게 정렬될 수 있다. 에지 진공 부재(54, 56)만 도시되어 있지만, 내측 진공 부재도 이용될 수 있다(도 14 참조)The edge horizontal flatness (e.g., minimum vertical displacement) can be affected by the effectiveness of the support during the beveling process, especially for thin glass substrates 10. 3, a glass edge finishing apparatus 40 suitable for performing a beveling process includes a support apparatus 42 including a glass conveying system 44 and a glass support system 46. As shown in FIG. The glass delivery system 44 may move (i.e., translate) the glass support system 46 in a dispensing direction that may be generally aligned with the edge 48 of the glass substrate 50. The glass support system 46 may be transported in the feed direction by the glass delivery system 44 or otherwise moved. The glass support system 46 may include an edge vacuum member such as a vacuum chuck extending along the substantially entire length of the glass substrate 50 in the feed direction along both edges 48 and 58 of the glass substrate 50 54, 56). In some embodiments, the vacuum member 54, 56 may be formed of one elongated vacuum member. In other embodiments, for example, a plurality of vacuum members may be used and aligned in the feed direction. Although only the edge vacuum members 54, 56 are shown, an inner vacuum member may also be used (see Figure 14)

도 4는 진공 부재(56) 및 유리 기판(50)의 상세도를 도시한다. 진공 부재(56)는 베벨링 공정 동안 유리 기판(50)의 에지(48)의 움직임(수평 및 수직)을 억제하는 데 충분한 진공 흡입력을 가할 수 있다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, "진공 흡입력"은 진공 부재(56)의 모든 진공 개구의 누적 면적에 흡입 압력을 곱한 것을 지칭한다. 알 수 있는 바와 같이, 진공 흡입력은 유리 기판(50)의 에지(48)에 가깝고 그로부터 이격된 진공 부재(56)에 의해 가해질 수 있다. 진공 부재(56)의 이러한 위치는 진공 부재(56)의 외측 에지(62)로부터 측정된 오버행(overhang) 거리(DOH)를 가지는 유리 기판(50)의 돌출 영역(60)을 형성하고, 여기서 오버행은 에지(48)(또는 공급 방향)에 수직인 방향으로 에지(48)에서 시작한다. 일부 실시예에서, 오버행 거리(DOH)는 약 6 ㎜ 이상, 예를 들어 약 10 ㎜ 이상, 예를 들어 약 15 ㎜ 이상, 예를 들어 약 20 ㎜ 이상 일 수 있다. 일부 실시예에서, 오버행 거리(DOH)는 약 5 ㎜ 내지 30 ㎜일 수 있다.Fig. 4 shows a detailed view of the vacuum member 56 and the glass substrate 50. Fig. The vacuum member 56 may apply sufficient vacuum suction force to suppress movement (horizontal and vertical) of the edge 48 of the glass substrate 50 during the beveling process. As used herein, "vacuum suction force" refers to the cumulative area of all vacuum openings of the vacuum member 56 multiplied by the suction pressure. As can be seen, the vacuum suction force may be applied by a vacuum member 56 close to and spaced from the edge 48 of the glass substrate 50. This position of the vacuum member 56 forms a protruding area 60 of the glass substrate 50 having an overhang distance D OH measured from the outer edge 62 of the vacuum member 56, The overhang begins at edge 48 in a direction perpendicular to edge 48 (or feed direction). In some embodiments, the overhang distance D OH may be greater than about 6 mm, such as greater than about 10 mm, such as greater than about 15 mm, such as greater than about 20 mm. In some embodiments, the overhang distance D OH may be between about 5 mm and 30 mm.

아래에서 설명되는 바와 같이, 진공 부재(56)는 진공 개구(66)의 배열(64)을 구비하며, 배열(64)의 하나 이상의 영역은 진공 개구(66)의 정연하거나 규칙적이거나 또는 균일한 분포(예를 들어 행 및/또는 열)을 가질 수 있다. 이러한 진공 개구(66)의 배열(64)의 배치는 베벨링 또는 다른 에지 마감 공정 동안 자유단 에지(48)에서 유리 기판(50)의 상대적으로 평평한 에지(48)를 생성하고, 이는 수평으로 배향된 유리 기판(50)에서 제1 베벨면 인터페이스(26)와 제2 베벨면 인터페이스(28) 사이의 대칭을 향상시킬 수 있다(도 1). 예를 들어, 도 5는 다양한 오버행 거리와 압력 값에서 0.5 ㎜ 및 0.3 ㎜ 두께를 가지는 유리 기판에 대한 에지 평탄도를 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 유리 에지의 최소화된 수직 변위가 예를 들어 유리 기판 길이의 적어도 일부, 대부분 또는 전부에 걸쳐 약 0.1 ㎜ 미만으로 달성될 수 있다.As described below, the vacuum member 56 has an array 64 of vacuum openings 66, and one or more areas of the array 64 may have a square, regular, or even distribution of vacuum openings 66 (E.g., rows and / or columns). The placement of the array 64 of vacuum openings 66 creates a relatively flat edge 48 of the glass substrate 50 at the free end edge 48 during beveling or other edge finishing operations, (FIG. 1) between the first bevel surface interface 26 and the second bevel surface interface 28 on the glass substrate 50 (FIG. 1). For example, Figure 5 shows edge flatness for a glass substrate having 0.5 mm and 0.3 mm thickness at various overhang distances and pressure values. As can be seen, the minimized vertical displacement of the glass edge can be achieved for example at less than about 0.1 mm over at least a portion, most or all of the length of the glass substrate.

도 6을 참조하면, 진공 부재(56)는 별도로 도시되고, 내부에 배치된 압력 챔버 및 진공 개구(66)의 배열(64)을 제공하는 진공 몸체(70)를 포함한다. 진공 개구(66)는 진공 부재(56)의 지지면(72)으로부터 연장되는 채널(67)과 연통하고, 진공 몸체(70) 내부에 위치된 압력 챔버에 연통한다(도 8). 도 7 및 8을 잠시 참조하면, 일부 실시예에서, 지지면(72)은 유연성 부재(74)에 의해 제공될 수 있고, 이는 유연성 부재(예를 들어 실리콘, 고무, 연질 플라스틱 등)의 층으로 형성되고 유리 기판(50)에 접촉하고 손상없이 그 위의 유리 기판을 지지하는데 적합하다. 유연성 부재(74)는 진공 개구(66)와 압력 챔버(78) 사이에 채널(67)을 제공하기 위해 진공 몸체(70)에 의해 제공되는 개구의 배열(76)과 정합되는 진공 개구(66)의 배열(64)를 포함할 수 있다(도 8). 다른 실시예에서, 진공 몸체는 지지면(72)의 진공 개구(66)의 배열(64)과 일치하지 않지만 압력 챔버(78)로부터 부압을 상기 배열에 분배할 수 있는 슬롯(slot) 및/또는 개구를 포함할 수 있다. 화살표(75)로 나타낸 배출구는 공기 또는 다른 적합한 기체를 압력 챔버(78)로부터 배출하기 위해 제공될 수 있다.Referring to Figure 6, the vacuum member 56 is shown separately and includes a vacuum body 70 that provides an arrangement 64 of pressure chambers and vacuum openings 66 disposed therein. The vacuum opening 66 communicates with the channel 67 extending from the support surface 72 of the vacuum member 56 and into the pressure chamber located within the vacuum body 70 (Fig. 8). 7 and 8, in some embodiments, the support surface 72 may be provided by a flexible member 74, which may be a layer of a flexible member (e.g., silicone, rubber, soft plastic, etc.) And is suitable for supporting the glass substrate thereon without contact and being in contact with the glass substrate 50. The compliant member 74 includes a vacuum opening 66 that mates with an array of openings 76 provided by the vacuum body 70 to provide a channel 67 between the vacuum opening 66 and the pressure chamber 78. [ (Fig. 8). The vacuum body does not coincide with the array 64 of vacuum openings 66 of the support surface 72 but may be a slot that can distribute negative pressure from the pressure chamber 78 to the arrangement and / And may include openings. The vent shown by arrow 75 may be provided to vent air or other suitable gas from the pressure chamber 78.

진공 부재는 단편(single-piece) 또는 다편(multi-piece) 구성일 수 있다. 도 9를 참조하면, 예를 들어, 진공 부재(81)는 단편 모놀리식(monolithic) 구성을 가지는 진공 몸체(83)를 구비할 수 있다. 진공 몸체(83)는 내부에 제공된 압력 챔버(85), 및 압력 챔버(85)로부터 독립된 진공 몸체(83)의 일부로서 형성되고 진공 부재(82)가 유리 운반 시스템에 연결될 수 있게 하는 커넥트 배열(87)을 포함할 수 있다. 유입구(77) 및 배출구(79)는 압력 챔버(85)에 정압과 부압을 공급할 수 있다. 도 10은 진공 부재(91)가 챔버 하우징 부재(95) 및 캡 부재(97)에 의해 형성된 진공 몸체(93)를 포함하는 다편 구성을 도시한다. 커넥트 배열(99)이 유리 운반 시스템에 진공 부재(91)를 연결하기 위해 제공될 수 있다.The vacuum member may be a single-piece or multi-piece construction. Referring to FIG. 9, for example, the vacuum member 81 may have a vacuum body 83 having a monolithic configuration. The vacuum body 83 is formed as a part of a pressure chamber 85 provided therein and a vacuum body 83 separate from the pressure chamber 85 and connected to the vacuum chamber 82 via a connect arrangement 87). The inlet port 77 and the outlet port 79 can supply positive pressure and negative pressure to the pressure chamber 85. 10 shows a multi-piece configuration in which a vacuum member 91 includes a vacuum body 93 formed by a chamber housing member 95 and a cap member 97. Fig. A connect arrangement 99 may be provided for connecting the vacuum member 91 to the glass delivery system.

도 6을 다시 참조하면, 배열(64)의 진공 개구(66)는 R1-Rx행 및 C1-Cx열 모두에 위치함으로써 국소화된 흡입 지점을 제공할 수 있다. 이 예에서는, 특정 R행의 진공 개구(66)는 실질적으로 동일한 폭, 또는 이 예에서는 반경(예를 들어, 약 5 ㎜ 이하, 예를 들어, 약 2 ㎜ 이하)을 가지고 특정 R행을 따라 서로 각각 동일한 간격으로 이격된다. 다른 실시예에서, 하나 이상의 진공 개구는 하나 이상의 상이한 반경을 가질 수 있다. 일 예로, 인접한 진공 개구(66)들은 특정 R행을 가로질러 약 20 ㎜로 동일하게 이격될 수 있다. 다른 실시예에서, 인접한 진공 개구(66)들 사이의 간격은 예를 들어 유리 기판의 크기, 마감 작업의 유형에 따라 20 ㎜ 미만, 예를 들어 약 15 ㎜ 또는 약 10 ㎜ 또는 심지어 그 미만일 수 있다. 도 6의 실시예에서, 진공 개구(66)들은 S1로 나타낸 바와 같이 중심간 거리 10 ㎜로 동일하게 이격된다.6, the vacuum opening 66 of the array 64 can provide a localized suction point by being located in both the R 1 -R x row and the C 1 -C x column. In this example, the vacuum openings 66 in a particular R row have substantially the same width or, in this example, a radius (e.g., about 5 mm or less, e.g., about 2 mm or less) And are spaced apart from each other at equal intervals. In other embodiments, the one or more vacuum openings may have one or more different radii. In one example, adjacent vacuum openings 66 may be equally spaced about 20 millimeters across a particular R row. In other embodiments, the spacing between adjacent vacuum openings 66 may be less than 20 mm, for example about 15 mm or about 10 mm, or even less, depending on the size of the glass substrate, the type of finishing operation . In the embodiment of Figure 6, the vacuum openings 66 are equally spaced apart by a center-to-center distance of 10 mm, as indicated by S 1 .

특정 C열의 진공 개구(66)들은 실질적으로 동일한 반경(예를 들어, 약 5 ㎜ 이하, 예를 들어 약 2 ㎜ 이하)을 가지고 각각 특정 C열을 따라 서로 동일하게 이격된다. 다른 실시예에서, 하나 이상의 진공 개구는 하나 이상의 상이한 반경을 가진다. 일 예로, 인접한 진공 개구(66)들은 특정 C열을 따라 약 20 ㎜로 동일하게 이격될 수 있다. 다른 실시예에서, 특정 C열을 따라 인접한 진공 개구(66)들 사이의 간격은 예를 들어 유리 기판의 크기, 마감 작업의 유형 등에 따라 20 ㎜ 미만, 예를 들어 약 15 ㎜ 또는 약 10㎜ 또는 심지어 그 미만일 수 있다. 도 6의 실시예에서, 진공 개구(66)들은 S2로 나타낸 바와 같이 중심간 거리 10 ㎜로 동일하게 이격되어, 진공 개구들의 장방 행렬(rectangular matrix)를 형성한다.The vacuum openings 66 in a particular row of columns have substantially the same radius (e.g., less than or equal to about 5 mm, e.g., less than or equal to about 2 mm) and are spaced equally from one another along a particular C row. In another embodiment, the at least one vacuum opening has at least one different radius. In one example, adjacent vacuum openings 66 may be equally spaced along a particular row of C by about 20 mm. In other embodiments, the spacing between adjacent vacuum openings 66 along a particular row C may be less than 20 mm, for example about 15 mm or about 10 mm, depending on the size of the glass substrate, the type of finishing operation, It may even be less than that. In the embodiment of Figure 6, the vacuum openings 66 are equally spaced by a center-to-center distance of 10 mm, as indicated by S 2 , to form a rectangular matrix of vacuum openings.

국소화된 흡입 지점을 형성하는 진공 개구의 임의의 적합한 배열이 사용될 수 있다. 일부 실시예에서, 약 10 ㎜ 이하, 예를 들어 4 ㎜ 또는 그 이하의 폭(또는 직경)을 가지는 100 ㎠ 당 약 25개의 진공 개구 내지 약 200개의 진공 개구를 갖는 배열이 제공될 수 있다. 도 6의 실시예에서, 배열(64)은 100 ㎠ 당 약 100개의 진공 개구(66)를 가진다.Any suitable arrangement of vacuum openings forming a localized suction point may be used. In some embodiments, an arrangement with about 25 vacuum openings to about 200 vacuum openings per 100 cm2 with a width (or diameter) of about 10 mm or less, e.g., 4 mm or less, may be provided. In the embodiment of Figure 6, the array 64 has about 100 vacuum openings 66 per 100 square centimeters.

도 11 내지 13은 진공 개구에 대한 다른 배열 구성을 가지는 다른 진공 부재 실시예를 도시한다. 도 11의 실시예에서, 진공 부재(80)가 진공 부재(56)에 관련하여 상술한 많은 특징을 포함한다. 이 예시적인 실시예에서, 진공 부재(80)는 R1-Rx행과 C1-Cx열 모두에 위치한 진공 개구(84)의 배열을 포함함으로써 국소화된 흡입 지점을 제공한다. 그러나 이 실시예에서, 행 간격(S1)은 열을 따른 열 간격(S2)보다 크다. 도 12는 행을 따른 행 간격(S1)이 열을 따른 열 간격(S2)보다 큰 진공 부재(81)의 또 다른 예시적인 실시예를 도시한다. 도 13은 행을 따른 행 간격(S1)이 열을 따른 열 간격(S2)보다 큰 진공 부재(86)의 또 다른 예시적인 실시예를 도시한다. 이 실시예에서는, 행들이 서로 오프셋되어 대각선 방향의 열을 형성한다. 아래 표는 도 5 및 도 11 내지 도 13에 도시된 진공 부재 실시예의 50 ㎪의 인가 압력 하에서 두께 0.2 ㎜의 유리 기판 사용시의 몇몇 특성을 보여준다. 이러한 값들은 단지 예시적인 것으로 이에 한정되지 않는다.Figures 11-13 illustrate another vacuum member embodiment having a different arrangement for a vacuum opening. In the embodiment of Figure 11, the vacuum member 80 includes many of the features described above with respect to the vacuum member 56. [ In this exemplary embodiment, the vacuum member 80 provides a localized suction point by including an array of vacuum openings 84 located in both the R 1 -R x row and the C 1 -C x column. In this embodiment, however, the row spacing S 1 is greater than the column spacing S 2 along the row. Figure 12 line spacing along the line (S 1) it is shown another exemplary embodiment of a large vacuum member 81 than row spacing (S 2) along the column. Figure 13 line spacing along the line (S 1) it is shown another exemplary embodiment of a large vacuum member 86 than row spacing (S 2) along the column. In this embodiment, the rows are offset from each other to form a row in the diagonal direction. The table below shows some characteristics when using a glass substrate with a thickness of 0.2 mm under an applied pressure of 50 kPa of the vacuum member embodiment shown in Figs. 5 and 11-13. These values are by way of example only and not by way of limitation.

진공 부재 실시예Example of Vacuum Member 실시예Example 설명Explanation 흡입 슬롯 전체 면적(㎟)Overall suction slot area (㎟) 진공 흡입력(N)Vacuum suction force (N) 반력
(N)
Reaction force
(N)
최대 주응력(㎫)Maximum principal stress (MPa)
도 55 R개구= 2 ㎜
간격 = 10 ㎜ (S1) 및 10 ㎜ (S2)
유리 치수 = 0.2 ㎜ x 925 ㎜ x 225 ㎜
R aperture = 2 mm
Spacing = 10 mm (S 1 ) and 10 mm (S 2 )
Glass dimensions = 0.2 mm x 925 mm x 225 mm
4551.04551.0 364.1364.1 360.1360.1 13.713.7
도 1111 R개구= 2 ㎜
간격 = 15 ㎜ (S1) 및 10 ㎜ (S2)
유리 치수 = 0.2 ㎜ x 925 ㎜ x 225 ㎜
R aperture = 2 mm
Spacing = 15 mm (S 1 ) and 10 mm (S 2 )
Glass dimensions = 0.2 mm x 925 mm x 225 mm
3050.03050.0 244.0244.0 241.8241.8 14.814.8
도 1212 R개구= 2 ㎜
간격 = 20 ㎜ (S1) 및 10 ㎜ (S2)
유리 치수 = 0.2 ㎜ x 925 ㎜ x 225 ㎜
R aperture = 2 mm
Spacing = 20 mm (S 1 ) and 10 mm (S 2 )
Glass dimensions = 0.2 mm x 925 mm x 225 mm
2312.12312.1 185.0185.0 182.1182.1 17.317.3
도 1313 R개구= 2 ㎜
간격 = 20 ㎜ (S1) 및 10 ㎜ (S2)
유리 치수 = 0.2 ㎜ x 925 ㎜ x 225 ㎜
R aperture = 2 mm
Spacing = 20 mm (S 1 ) and 10 mm (S 2 )
Glass dimensions = 0.2 mm x 925 mm x 225 mm
2263.02263.0 181.0181.0 159.0159.0 17.317.3

상기 표에서 알 수 있듯이, 유한 요소 해석(FEA)을 이용하여 계산된 최대 주응력은 사용 중에 20 ㎫ 미만의 응력일 수 있고, 이는 유리 기판의 에지 또는 그 근방에서 유리 손상의 가능성을 줄일 수 있다. 최대 주응력은 유리 기판에 대한 전체 인장 응력 효과를 나타낸다.As can be seen from the above table, the maximum principal stress calculated using a finite element analysis (FEA) can be less than 20 MPa stress during use, which can reduce the possibility of glass damage at or near the edge of the glass substrate. The maximum principal stress shows the total tensile stress effect on the glass substrate.

도 14를 참조하면, 다수의 진공 부재(102, 104, 106, 108)를 포함하는 예시적인 유리 지지 시스템(100)(예를 들어, 도 3의 마감 장치에서 사용할 수 있는 것)이 도시된다. 일 예로, 진공 부재는 상술한 진공 부재 중 어느 하나 이상일 수 있다. 알 수 있는 바와 같이, 진공 부재(102, 108)는 유리 기판(114)의 에지(110, 112)에 가장 근접하는 최외측 진공 부재이고, 진공 부재(104, 106)는 에지(110, 112)로부터 가장 먼 최내측 진공 부재이다. 진공 부재들(102, 104, 106, 108)은 모두 동일한 치수(또는 상이한 치수)일 수 있고 실질적으로 유리 기판(114)의 전체 길이를 따라 연장될 수 있다. 상술한 바와 같이 오버행 영역(116, 118)이 유리 마감 작업을 위해 제공될 수 있다.14, there is shown an exemplary glass support system 100 (e.g., that can be used in the finishing apparatus of FIG. 3) that includes a plurality of vacuum members 102,104, 106,108. In one example, the vacuum member may be any one or more of the above-described vacuum members. As can be seen, the vacuum members 102 and 108 are the outermost vacuum members closest to the edges 110 and 112 of the glass substrate 114 and the vacuum members 104 and 106 are the edges 110 and 112, Is the innermost vacuum member. The vacuum members 102, 104, 106, and 108 may all be the same size (or different dimensions) and may extend substantially along the entire length of the glass substrate 114. Overhang areas 116 and 118 may be provided for a glass finishing operation as described above.

도 3을 다시 참조하면, 유리 기판(50)이 유리 지지 시스템(46)에 의해 지지되면, 유리 기판(50)과 유리 지지 시스템(46)은 유리 운반 시스템(44)에 의해 마감 장치(40)의 에지 연마 시스템(120)으로 병진 이동된다. 에지 연마 시스템(120)은 일반적으로 유리 기판(50)의 양쪽 에지(48, 58)에 위치한 연마휠 조립체(122, 124)를 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 하나의 연마휠 조립체만을 사용할 수도 있고 또는 4개까지의 연마휠 조립체가 존재하거나, 또는 유리 기판(50)의 각각의 에지(48, 58, 126, 128)에 하나씩 존재할 수도 있다.3, once the glass substrate 50 is supported by the glass support system 46, the glass substrate 50 and the glass support system 46 are transferred to the finisher 40 by the glass transport system 44, To the edge polishing system 120 of FIG. The edge polishing system 120 may include a polishing wheel assembly 122, 124 generally located at the edges 48, 58 of the glass substrate 50. In another embodiment, only one abrasive wheel assembly may be used, or up to four abrasive wheel assemblies may be present, or one at each edge 48, 58, 126, 128 of the glass substrate 50 .

연마휠 조립체(122, 124)는 각각 유리 기판(50)의 에지(48, 58)를 연마하고 성형하는데 사용되는 각각 연마휠(127) 및 연마휠(127)을 회전시키는데 사용되는 모터(129)를 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 연마휠 조립체(122, 124)는 각각의 에지(48, 58)에 가까이 또는 그로부터 멀리 연마휠(127)을 이동시키는데 사용될 수 있는 구동 장치(130)를 더 포함할 수 있다. 제어부(135)가 연마휠 조립체(122, 124), 유리 지지 시스템(46) 및 유리 운반 시스템(44)의 동작을 제어하도록 제공될 수 있다. 도시된 실시예에서, 연마휠(127)은 성형된 휠이다. 그러나 다른 연마휠이 사용될 수도 있다. 도 15를 잠시 참조하면, 성형된 휠(127)은 일반적으로 원통 형상을 가지고 각각의 에지(48, 58)에 대해 요구되는 프로파일에 상보적인 프로파일을 가지며 성형된 휠(127)의 연마 표면으로서 역할을 하는 하나 이상의 리세스(132)를 포함한다. 다른 실시예에서, 연마휠(127) 중 하나 또는 모두는 그의 평평한 면에서 유리 기판(50)의 에지와 접촉하는 한 쌍의 컵 휠을 포함할 수 있다.The grinding wheel assemblies 122 and 124 each include a grinding wheel 127 and a motor 129 used to rotate the grinding wheel 127, respectively, used to grind and shape the edges 48 and 58 of the glass substrate 50, . ≪ / RTI > In some embodiments, the polishing wheel assemblies 122 and 124 may further include a driving device 130 that may be used to move the polishing wheel 127 close to or away from each edge 48 and 58. A control 135 may be provided to control the operation of the polishing wheel assemblies 122, 124, the glass support system 46, and the glass delivery system 44. In the illustrated embodiment, the grinding wheel 127 is a molded wheel. However, other grinding wheels may be used. 15, molded wheel 127 has a generally cylindrical shape and has a profile that is complementary to the profile desired for each edge 48, 58 and serves as the abrasive surface of molded wheel 127 (Not shown). In another embodiment, one or both of the abrasive wheels 127 may include a pair of cup wheels in contact with the edge of the glass substrate 50 on its flat side.

도 3을 다시 참조하면, 유리 기판(50)이 진공 부재(54, 56)를 포함하는 유리 지지 시스템(46)에 의해 지지된 상태에서, 유리 운반 시스템(44)은 지지 시스템(46)과 유리 기판(50)을 연마휠 조립체(122, 124)로 병진 이동시키며 연마휠(127)은 유리 기판(50)의 에지(48, 58)와 맞물린다. 이제 도 16을 참조하면, 예를 들어 도 6의 진공 부재(56)에 의해 나타낸 바와 같은 진공 개구의 규칙적인 분포에 의해 제공된 감소되는 에지 베벨 비대칭을 나타내는 대표적인 플롯이 도시된다. 알 수 있는 바와 같이, 진공 부재(56)는 에지(48)를 더욱 안정시키고, 이는 제1 베벨면 인터페이스(26)(라인 140으로 나타냄)와 제2 베벨면 인터페이스(28)(라인 142로 나타냄) 사이에서 상대적으로 높은 정도의 대칭을 유지한다. 라인(144)로 표시된 비대칭 인자(FOA)는 제1 베벨면 인터페이스(26)와 제2 베벨면 인터페이스(28) 간의 대칭에서 비교적 작은 변화를 나타낸다. FOA는 제1 베벨면 인터페이스(26)와 제2 베벨면 인터페이스(28) 간의 베벨 델타(베벨 폭의 차이) 및 유리 기판(50)의 두께와 동일하다. FOA가 높을수록 제1 베벨면 인터페이스(26)와 제2 베벨면 인터페이스(28) 간의 대칭은 낮아진다.3, with the glass substrate 50 supported by the glass support system 46 including the vacuum members 54, 56, the glass delivery system 44 is supported by the support system 46 and the glass The substrate 50 translates to the polishing wheel assemblies 122 and 124 and the polishing wheel 127 engages the edges 48 and 58 of the glass substrate 50. Referring now to FIG. 16, there is shown a representative plot showing the reduced edge bevel asymmetry provided by the regular distribution of vacuum openings, for example, as shown by the vacuum member 56 of FIG. As can be seen, the vacuum member 56 further stabilizes the edge 48, which allows the first bevel surface interface 26 (shown by line 140) and the second bevel surface interface 28 ) In a relatively high degree of symmetry. The asymmetry factor (FOA) indicated by line 144 represents a relatively small change in the symmetry between the first bevel plane interface 26 and the second bevel plane interface 28. The FOA is equal to the bevel delta (difference in bevel width) between the first bevel plane interface 26 and the second bevel plane interface 28 and the thickness of the glass substrate 50. The higher the FOA, the lower the symmetry between the first bevel plane interface 26 and the second bevel plane interface 28.

도 16을 참조하면, FOA가 유리 기판(50)의 전방 영역(150) 및 후방 영역(152)(예를 들어, 코너에서)에서 증가하는 경향을 알 수 있다. 도 17을 참조하면, 전체 오버행 에지(48, 58)(도 3)와 비교하여 상대적으로 선두 및 후미 코너(154, 156, 158, 160)에서 에지(48, 58)의 강성이 상대적으로 낮기(예를 들어, 60%까지 낮음) 때문일 수 있다. 또한, 도 18에 도시된 바와 같이, 휨 강성(D)은 약 0.6 ㎜ 미만의 유리 기판 두께에 대해 상대적으로 낮게 유지되는 경향이 있고, 약 0.25 ㎜ 이하에서는 상대적으로 평평해진다. 휨 강성(D)은 영률(Young’s modulus)(E), 두께(t) 및 포아송비(υ)의 함수이며 다음 수학식으로 주어진다.16, it can be seen that the FOA tends to increase in the front region 150 and the rear region 152 (e.g., at the corners) of the glass substrate 50. 17, the rigidity of the edges 48, 58 at the leading and trailing corners 154, 156, 158, 160 relative to the total overhang edges 48, 58 (FIG. 3) For example, as low as 60%). In addition, as shown in Fig. 18, flexural rigidity D tends to remain relatively low for a glass substrate thickness of less than about 0.6 mm, and relatively flat at about 0.25 mm or less. Flexural stiffness (D) is a function of Young's modulus (E), thickness (t) and Poisson's ratio (v)

Figure pct00001
Figure pct00001

낮은 강성을 갖는 것에 더하여, 유리 기판(50)(도 3)의 유입 선두 코너(154, 156)는 냉각제 유체(예를 들어, 물)의 직접 분사 및 연마휠(127)에 의한 갑작스런 충격을 받으며, 이것이 베벨링 공정 동안 유리 기판(50)의 더 큰 수직 변위를 초래할 수 있다. 코너(154, 156, 158, 160)에 근방의 에지 품질은 에지 베벨 비대칭으로 인하여 일부 경우에 예상보다 낮을 수 있고, 이는 특히 취급 중에 유리 균열 및 파손 문제로 이어질 수 있다.In addition to having low stiffness, the inlet leading corners 154 and 156 of the glass substrate 50 (Figure 3) are subject to a sudden impact of coolant fluid (e.g., water) and abrasive wheel 127 , Which may result in a greater vertical displacement of the glass substrate 50 during the beveling process. The edge quality near corners 154, 156, 158, 160 may be lower than expected in some cases due to edge bevel asymmetry, which can lead to glass cracking and breakage problems, especially during handling.

다시 도 3을 참조하면, 마감 장치(40)는 휠/유리 인터페이스에서 유리 에지(48, 58)에 국소적 지지를 제공하는 에지 유도 조립체(170)를 포함할 수 있다. 알 수 있는 바와 같이, 에지 유도 조립체(170)는 유리 에지(48, 58)의 증가된 수직 지지를 위해 진공 부재(54, 56)의 외측에 유리 운반 시스템(44)에 대해 정지된 상태로, 및 진공 부재(54, 56)과 그의 각각의 연마휠(127)의 사이에 위치 또는 배치될 수 있다. 도 19는 연마휠(127) 및 에지 유도 조립체(170)의 개략도를 도시한다. 이 실시예에서는, 유리 기판과 접촉하고 지지하는 유도 길이(L)가 연마휠의 휠 직경(D) 이하이다. 유리 기판(50)과 접촉하는 에지 유도 조립체(170)와 연마휠(127) 사이의 거리(T)는 적어도 부분적으로는 유리 두께에 기초하여 오버행 거리(DOH)을 최소화하도록 조정될 수 있으며, 증가된 에지 안정성을 제공할 수 있다.Referring again to FIG. 3, the finisher 40 may include an edge guide assembly 170 that provides local support to the glass edges 48, 58 at the wheel / glass interface. As can be seen, the edge guide assembly 170 is stationary relative to the glass delivery system 44 outside the vacuum member 54, 56 for increased vertical support of the glass edges 48, 58, And between the vacuum members 54,56 and their respective abrasive wheels 127, as shown in FIG. 19 shows a schematic view of a grinding wheel 127 and an edge guiding assembly 170. Fig. In this embodiment, the induction length L that is in contact with and supported by the glass substrate is not more than the wheel diameter D of the grinding wheel. The distance T between the edge guide assembly 170 and the grinding wheel 127 in contact with the glass substrate 50 can be adjusted to minimize the overhang distance D OH based at least in part on the glass thickness, Lt; RTI ID = 0.0 > stability. ≪ / RTI >

도 20을 참조하면, 에지 유도 조립체(170)의 개략도는 하부 에지 유도 부재(172) 및 상부 에지 유도 부재(174)를 포함한다. 하부 에지 유도 부재(172)는 유리 기판(50)의 넓은 표면(178)과 접촉하도록 배치된 유도면(176)을 포함한다. 상부 에지 유도 부재(174)는 유리 기판(50)의 넓은 표면(182)과 접촉하도록 배치되는 유도면(176)을 마주보는 유도면(180)을 또한 포함한다. 유도면(176, 180)은 후술되는 바와 같이 견고하거나 또는 롤러, 벨트 등과 같은 운동 요소들로 형성될 수 있다. 유도면(176, 180)은 유리 기판(50)과 접촉하고 그를 유도하기 위해 적합한 임의의 재료로 형성될 수 있다. 에지 유도 조립체는 베벨링 공정 동안 유리 기판(50)의 위치 설정을 위해 폐쇄 및 개방 상태(파선으로 도시됨) 사이에서 상부 에지 유도 부재(174)와 하부 에지 유도 부재(172) 중 하나 또는 둘 다를 서로를 향하거나 멀어지게 이동시킬 수 있는 하나 이상의 포이셔닝 액츄에이터(184 및 186)(예를 들어, 기압식 실린더)를 더 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 상부 에지 유도 부재(174)와 하부 에지 유도 부재(172) 중 하나 또는 전부는 다른 것에 대해 소정의 위치에 고정될 수 있다.Referring to FIG. 20, a schematic diagram of an edge guide assembly 170 includes a lower edge guide member 172 and a top edge guide member 174. The lower edge guide member 172 includes a guide surface 176 disposed to contact a wide surface 178 of the glass substrate 50. The upper edge guiding member 174 also includes a guiding surface 180 facing the guiding surface 176 disposed to contact the broad surface 182 of the glass substrate 50. The guide surfaces 176, 180 may be rigid or formed of motion elements such as rollers, belts, etc., as described below. The guide surfaces 176 and 180 may be formed of any material suitable for contacting and guiding the glass substrate 50. One or both of the upper edge guiding member 174 and the lower edge guiding member 172 between the closed and open states (shown in phantom) for positioning the glass substrate 50 during the beveling process One or more positioning actuators 184 and 186 (e.g., pneumatic cylinders) that can move toward or away from each other. In other embodiments, one or both of the upper and lower edge guide members 174 and 172 may be fixed in position relative to one another.

도 21 및 22를 참조하면, 연마휠(204) 및 도시된 상승된 수평 배향으로 연마휠(204)을 지지하는 지지 구조체(206)를 포함하는 연마휠 조립체(202)를 포함하는 마감 장치(200)를 도시한다. 마감 장치(200)는 에지 유도 조립체(208)를 더 포함할 수 있다. 에지 유도 조립체(208)는 하부 에지 유도 부재(210)와 상부 에지 유도 부재(212)를 포함할 수 있다. 하부 에지 유도 부재(210)와 상부 에지 유도 부재(212) 둘 다 유리 기판의 에지와 접촉하고 그를 유도하도록 구성되는 동적 지지면을 형성하는 롤러(205, 215)(도 21의 205 및 도 22의 215)를 포함한다. 도 21의 도시된 예에서, 에지 유도 조립체(208)는 상부 에지 유도 부재(212)가 액츄에이터 조립체(214)에 의해 하부 에지 유도 부재(210)로부터 후퇴된 개방 상태로 도시되어 있다. 하부 에지 유도 부재(210)는 소정의 위치에 고정될 수 있다. 일부 실시예에서, 에지 유도 조립체(208)는 적어도 부분적으로 연마휠(204)를 지지하는 지지 구조체(206)에 의해 지지될 수 있다. 일부 실시예에서, 에지 유도 조립체(208)의 적어도 일부는 지지 구조체(206)에 대해 독립적인 자체 지지구조체를 포함한다. 상술한 바와 같이 액츄에이터 조립체(214)는 상부 에지 유도 부재(212)를 하부 에지 유도 부재(210)에 더 가까운 연장된 위치로 이동시켜 유리 기판의 에지를 지지하도록 할 수 있다(도 22).21 and 22, a dressing apparatus 200 including a polishing wheel assembly 202 that includes a polishing wheel 204 and a support structure 206 that supports the polishing wheel 204 in the illustrated elevated horizontal orientation ). The finishing apparatus 200 may further include an edge guiding assembly 208. The edge guiding assembly 208 may include a lower edge guiding member 210 and a upper edge guiding member 212. The rollers 205 and 215 (205 and 215 in Figs. 21 and 22) that form the dynamic support surface configured to contact and guide the edge of the glass substrate both the lower edge guide member 210 and the upper edge guide member 212 215). 21, the edge guide assembly 208 is shown in an open state in which the upper edge guide member 212 is retracted from the lower edge guide member 210 by the actuator assembly 214. As shown in FIG. The lower edge guide member 210 may be fixed at a predetermined position. In some embodiments, the edge guide assembly 208 may be supported at least partially by a support structure 206 that supports the polishing wheel 204. In some embodiments, at least a portion of the edge guide assembly 208 includes a self supporting structure that is independent of the support structure 206. The actuator assembly 214 may move the upper edge guide member 212 to an extended position that is closer to the lower edge guide member 210 to support the edge of the glass substrate (FIG. 22).

도 23 및 24를 참조하면, 다른 마감 장치(220)는 연마휠(224) 및 도시된 상승된 수평 배향으로 연마휠(224)을 지지하는 지지 구조체(226)를 포함하는 연마휠 조립체(222)를 포함한다. 마감 장치(220)는 에지 유도 조립체(228)를 더 포함한다. 에지 유도 조립체(228)는 하부 에지 유도 부재(230)와 상부 에지 유도 부재(232)를 포함한다. 하부 에지 유도 부재(230)와 상부 에지 유도 부재(232) 둘 다 유리 기판(236)의 에지(234)와 접촉하고 그를 유도하도록 구성되는 동적 지지면을 형성하는 롤러(235)를 포함한다. 도 23 및 24에 도시된 예에서, 에지 유도 조립체(234)는 하부 에지 유도 부재(230)가 액츄에이터 조립체(238)에 의해 상부 에지 유도 부재(232)를 향하여 연장된 폐쇄되거나 폐쇄되는 상태로 도시된다. 상부 에지 유도 부재(232)는 소정의 위치에 고정될 수 있다.23 and 24, another finishing device 220 includes a polishing wheel assembly 222 that includes a polishing wheel 224 and a support structure 226 that supports the polishing wheel 224 in the elevated horizontal orientation shown, . The finishing device 220 further includes an edge guidance assembly 228. The edge guiding assembly 228 includes a lower edge guiding member 230 and a top edge guiding member 232. Both the lower edge guiding member 230 and the upper edge guiding member 232 include a roller 235 that forms a dynamic support surface that is configured to contact and guide the edge 234 of the glass substrate 236. 23 and 24, the edge guiding assembly 234 is configured such that the lower edge guiding member 230 is pivoted by the actuator assembly 238 toward the upper edge guiding member 232 in a closed or closed state do. The upper edge guiding member 232 can be fixed at a predetermined position.

도 25를 참조하면, 다른 에지 유도 조립체(250)가 도시되어 있으며, 하부 유도 부재(252)와 상부 유도 부재(254)를 포함할 수 있다. 이 실시예에서, 하부 및 상부 유도 부재(252, 254) 둘 다 벨트 조립체(256, 258)를 포함한다. 하부 유도 부재(252)의 벨트 조립체(256)는 유리 기판에 접촉하고 그를 유도하기에 적합한 유도면(262)를 가지는 벨트(260)를 포함한다. 벨트(260)는 벨트(260)가 감겨도는 종단 롤러(264, 266) 및 종단 롤러들(264, 266) 사이에서 벨트(260)의 영역을 지지할 수 있는 중간 롤러(268)에 의해 지지되고 구동될 수 있다. 상부 유도 부재(254)의 벨트 조립체(258)는 유리 기판에 접촉하고 그를 유도하기에 적합한 유도면(270)을 가지는 벨트(269)를 포함한다. 벨트(269)는 중간 롤러의 사용없이 벨트(260)가 감겨도는 종단 롤러(272, 274)에 의해 지지되고 구동된다. 에지 유도 조립체(250)는 상이한 롤러 배열을 갖는 하부 및 상부 유도 부재(252, 254)를 나타내지만, 그들은 동일한 롤러 배치를 가질 수도 있다.25, another edge guiding assembly 250 is shown and may include a lower guiding member 252 and an upper guiding member 254. In this embodiment, both the lower and upper guide members 252, 254 include belt assemblies 256, 258. The belt assembly 256 of the lower guide member 252 includes a belt 260 having an inductive surface 262 suitable to contact and guide the glass substrate. The belt 260 is supported by intermediate rollers 268 which can support the area of the belt 260 between the end rollers 264 and 266 and the end rollers 264 and 266, And can be driven. The belt assembly 258 of the upper guide member 254 includes a belt 269 having a guide surface 270 suitable to contact and guide the glass substrate. The belt 269 is supported and driven by terminating rollers 272 and 274 on which the belt 260 can be wound without the use of intermediate rollers. The edge guide assemblies 250 show lower and upper guide members 252, 254 having different roller arrangements, but they may have the same roller arrangement.

도 26을 참조하면, 다른 에지 유도 조립체(280)가 도시되어 있으며 하부 유도 부재(282)와 상부 유도 부재(284)를 포함한다. 이 실시예에서, 하부 및 상부 유도 부재(282, 284) 모두는 유리 기판과 접촉하기에 적합한 재질의 견고한 막대(bar)(286, 288)로 형성될 수 있다. 하부 유도 부재(282)와 상부 유도 부재(284)는 서로 이격되어 공급 방향으로 연장되고 유리 기판의 전체 두께를 수용하는 크기의 홈(290)을 형성할 수 있다. 일부 실시예에서, 홈(290)은 리드인(lead-in)부(292) 및 리드아웃(lead-out)부(294)를 포함할 수 있다. 리드인부(292)와 리드아웃부(294)는 그들 사이의 홈(290)의 나머지보다 넓어서 유리 기판을 홈의 내외로 유도할 수 있다.Referring to Figure 26, another edge guide assembly 280 is shown and includes a lower guide member 282 and an upper guide member 284. In this embodiment, both lower and upper guide members 282, 284 may be formed of rigid rods 286, 288 of material suitable for contacting the glass substrate. The lower guide member 282 and the upper guide member 284 may be spaced apart from each other to form a groove 290 of a size that extends in the feeding direction and accommodates the entire thickness of the glass substrate. In some embodiments, the groove 290 may include a lead-in portion 292 and a lead-out portion 294. The lead-in portion 292 and the lead-out portion 294 are wider than the rest of the groove 290 between them, so that the glass substrate can be guided to the inside and the outside of the groove.

도 27을 참조하면, 다른 에지 유도 조립체(300)가 도시되어 있으며 하부 유도 부재(302)및 상부 유도 부재(304)를 포함한다. 이 실시예에 있어서, 상부 유도 부재(304)는 유리 기판과 접촉하기에 적합한 재질의 견고한 막대(306)로 형성된다. 하부 유도 부재(302)는 롤러(310)에 의해 형성된 동적 유도면(308)을 구비한다. 다른 실시예에서, 상부 및/또는 하부 유도 부재는 공기 베어링, 공기/압력 베어링 또는 초음파 비접촉 베어링을 사용하여 형성될 수 있다.27, another edge guiding assembly 300 is shown and includes a lower guiding member 302 and an upper guiding member 304. In this embodiment, the upper guide member 304 is formed of a rigid rod 306 of material suitable for contacting the glass substrate. The lower guide member 302 has a dynamic guide surface 308 formed by the roller 310. In other embodiments, the upper and / or lower guide member may be formed using air bearings, air / pressure bearings, or ultrasonic non-contact bearings.

도 28은 예를 들어 도 27의 에지 유도 조립체(300)에 의해 나타난 바와 같이 에지 유도 조립체의 사용을 통해 제공되는 감소된 에지 베벨 비대칭을 보여주는 대표적인 플롯을 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 에지 유도 조립체(300)는 에지를 더욱 안정화시키며, 이는 제1 베벨면 인터페이스(라인 312로 나타냄)와 제2 베벨면 인터페이스(라인 314로 나타냄) 사이에 상대적으로 높은 정도의 대칭을 유지한다. 라인(316)으로 표시된 FOA는 제1 베벨면 인터페이스와 제2 베벨면 인터페이스 간의 대칭에서 비교적 작은 변화를 나타낸다.28 illustrates a representative plot showing reduced edge bevel asymmetry provided through use of an edge guiding assembly, as shown by, for example, the edge guiding assembly 300 of FIG. As can be seen, the edge inducing assembly 300 further stabilizes the edge, which provides a relatively high degree of freedom between the first bevel plane interface (represented by line 312) and the second bevel plane interface (represented by line 314) Keep symmetry. The FOA indicated by line 316 represents a relatively small change in symmetry between the first bevel plane interface and the second bevel plane interface.

상술한 유리 지지 시스템 및 방법은 규칙적으로 이격되고 국소화된 흡입 지점의 배열을 가진 진공 부재 및 베벨링 또는 다른 마감 공정 동안 유리 에지 비대칭을 감소시키기 위해 사용될 수 있는 에지 유도 조립체 중 하나 또는 둘 다를 제공할 수 있다. 유리 에지 비대칭의 감소는 유리 기판의 면외 처짐을 감소시키고 연마휠에 평평한 에지를 제공함으로써 달성할 수 있다. 유리 에지 대칭의 향상은 유리 에지 강도를 향상시킬 수 있고, 이는 유리 파괴 또는 파손의 가능성을 줄일 수 있다.The glass support systems and methods described above provide one or both of a vacuum member with an array of regularly spaced and localized suction points and an edge guiding assembly that can be used to reduce glass edge asymmetry during beveling or other finishing operations . The reduction in glass edge asymmetry can be achieved by reducing the out-of-plane deflection of the glass substrate and by providing a flat edge on the grinding wheel. Improvement of glass edge symmetry can improve glass edge strength, which can reduce the possibility of glass breakage or breakage.

청구 대상의 정신 및 범위를 벗어남 없이 다양한 변형 및 변경이 본 명세서에 기술된 실시예에 대해 이루어질 수 있음은 통상의 기술자에게 자명할 것이다. 따라서, 본 명세서는 본 명세서에 기재된 다양한 실시예의 변형 및 변경이 첨부된 청구 범위 및 그 등가물의 범위 내에 있는 한 그러한 변형 및 변경을 포함하는 것으로 한다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made to the embodiments described herein without departing from the spirit and scope of the claimed subject matter. Accordingly, this specification is intended to cover such modifications and changes as come within the scope of the appended claims and their equivalents as are the modifications and variations of the various embodiments described herein.

Claims (30)

유리 지지 시스템으로서,
유리 기판의 에지를 따라 유리 공급 방향으로 길게 연장되도록 구성되고, 내부에 위치한 압력 챔버를 포함하는 진공 몸체(vacuum body) 및 관통 연장되고 압력 챔버와 연통하는 진공 개구의 배열을 포함하는 지지면을 포함하는 진공 부재를 포함하며,
상기 진공 개구의 배열은 다수의 나란한 행(row)으로 배치되고, 다수의 행의 각각을 따른 진공 개구들 사이의 간격이 실질적으로 균일한 유리 지지 시스템.
As a glass support system,
A vacuum body configured to extend in the glass feed direction along the edge of the glass substrate and including a pressure chamber disposed therein and a support surface including an array of vacuum openings extending therethrough and communicating with the pressure chamber And a vacuum member,
Wherein the array of vacuum openings is arranged in a plurality of parallel rows and the spacing between vacuum openings along each of the plurality of rows is substantially uniform.
제1항에 있어서,
진공 개구의 배열은 다수의 나란한 열(column)로 배치되고, 다수의 열의 각각을 따른 진공 개구들 사이의 간격이 실질적으로 균일한 유리 지지 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the arrangement of the vacuum openings is arranged in a plurality of parallel rows and the spacing between the vacuum openings along each of the plurality of rows is substantially uniform.
제1항에 있어서,
진공 개구의 배열은 지지 표면적 100 ㎠ 당 적어도 약 25개의 개구를 가지는 유리 지지 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the arrangement of vacuum openings has at least about 25 openings per 100 square centimeters of support surface area.
제1항에 있어서,
진공 개구는 약 10 ㎜ 이하의 폭을 가지는 유리 지지 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the vacuum opening has a width of about 10 mm or less.
제1항에 있어서,
진공 개구는 약 2 ㎜ 이하의 반경을 가지는 유리 지지 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the vacuum opening has a radius of about 2 mm or less.
제1항에 있어서,
지지면은 유연성 재료를 포함하는 유리 지지 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the support surface comprises a flexible material.
제1항에 있어서,
상부 에지 유도 부재, 및 유리 기판이 이동할 수 있는 통로가 제공되도록 상기 상부 에지 부재로부터 이격된 하부 에지 유도 부재를 포함하는 에지 유도 조립체를 더 포함하는 유리 지지 시스템.
The method according to claim 1,
An upper edge guiding member and a lower edge guiding member spaced from the upper edge member such that a passage through which the glass substrate can move is provided.
제7항에 있어서,
상부 에지 유도 부재 및 하부 에지 유도 부재 중 적어도 하나는 유리 기판과 접촉하도록 구성된 동적 지지면을 형성하는 롤러를 포함하는 유리 지지 시스템.
8. The method of claim 7,
Wherein at least one of the upper edge guiding member and the lower edge guiding member comprises a roller forming a dynamic support surface configured to contact the glass substrate.
제7항에 있어서,
상부 에지 유도 부재 및 하부 에지 유도 부재 중 적어도 하나는 유리 기판과 접촉하도록 구성된 재질의 바(bar)를 포함하는 유리 지지 시스템.
8. The method of claim 7,
Wherein at least one of the upper edge guiding member and the lower edge guiding member comprises a bar of material configured to contact a glass substrate.
제7항에 있어서,
상부 에지 유도 부재 및 하부 에지 유도 부재 중 적어도 하나는 유리 기판과 접촉하도록 구성된 유도면을 포함하는 벨트를 포함하는 벨트 조립체를 포함하는 유리 지지 시스템.
8. The method of claim 7,
Wherein at least one of the upper edge guiding member and the lower edge guiding member comprises a belt assembly including a belt including a guiding surface configured to contact a glass substrate.
유리 에지 마감 장치로서,
유리 운반 시스템; 및
상기 유리 운반 시스템에 의해 유리 공급 방향으로 이동되는 유리 지지 시스템으로서, 상기 유리 지지 시스템은 약 0.7 ㎜ 이하의 두께를 가지는 유리 기판을 지지하도록 구성되고, 상기 유리 기판은 일반적으로 평평한 표면 및 상기 일반적으로 평평한 표면에 대해 수직인 면외(out-of-plane) 방향을 포함하며, 상기 유리 지지 시스템은 유리 기판의 에지를 따라 유리 공급 방향으로 길게 연장되도록 구성된 진공 부재를 포함하고, 상기 진공 부재는 내부에 위치한 압력 챔버를 포함하는 진공 몸체 및 관통 연장되고 압력 챔버와 연통하는 지지 표면적 100 ㎠ 당 적어도 약 25개의 개구의 개구 밀도를 가지는 진공 개구 배열을 포함하는 지지면을 포함하는, 유리 지지 시스템
을 포함하는 유리 에지 마감 장치.
As a glass edge finishing apparatus,
Glass transport system; And
Wherein the glass support system is configured to support a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm or less, the glass substrate having a generally planar surface and the generally Wherein the glass support system comprises a vacuum member configured to extend long in the glass feed direction along an edge of the glass substrate, the vacuum member having an out-of-plane orientation perpendicular to the flat surface, A support body including a vacuum body including a pressure chamber located therein and a support surface including a vacuum opening arrangement having an aperture density of at least about 25 apertures per 100 square centimeters of support surface area communicating with the pressure chamber,
The glass edge finishing device comprising:
제11항에 있어서,
진공 개구의 배열은 다수의 나란한 열로 배치되고, 다수의 열의 각각을 따른 진공 개구들 사이의 간격이 실질적으로 균일한 유리 에지 마감 장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the arrangement of the vacuum openings is arranged in a plurality of parallel rows and the spacing between the vacuum openings along each of the plurality of rows is substantially uniform.
제12항에 있어서,
진공 개구의 배열은 다수의 나란한 행으로 배치되고, 다수의 행의 각각을 따른 진공 개구들 사이의 간격이 실질적으로 균일한 유리 에지 마감 장치.
13. The method of claim 12,
Wherein the arrangement of vacuum openings is arranged in a plurality of side by side rows and the spacing between vacuum openings along each of the plurality of rows is substantially uniform.
제11항에 있어서,
진공 개구는 약 10 ㎜ 이하의 폭을 가지는 유리 에지 마감 장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the vacuum opening has a width of about 10 mm or less.
제11항에 있어서,
진공 개구는 약 4 ㎜ 이하의 폭을 가지는 유리 에지 마감 장치.
12. The method of claim 11,
The vacuum opening has a width of about 4 mm or less.
제11항에 있어서,
지지면은 유연성 재료를 포함하는 유리 에지 마감 장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the support surface comprises a flexible material.
제11항에 있어서,
상부 에지 유도 부재, 및 유리 기판이 이동할 수 있는 통로가 제공되도록 상기 상부 에지 부재로부터 이격된 하부 에지 유도 부재를 포함하는 에지 유도 조립체를 더 포함하는 유리 에지 마감 장치.
12. The method of claim 11,
An upper edge guiding member and a lower edge guiding member spaced from the upper edge member such that a passage through which the glass substrate can move is provided.
제17항에 있어서,
상부 에지 유도 부재 및 하부 에지 유도 부재 중 적어도 하나는 유리 기판과 접촉하도록 구성되는 동적 지지면을 형성하는 롤러를 포함하는 유리 에지 마감 장치.
18. The method of claim 17,
Wherein at least one of the upper edge guiding member and the lower edge guiding member comprises a roller forming a dynamic support surface configured to contact the glass substrate.
제17항에 있어서,
상부 에지 유도 부재 및 하부 에지 유도 부재 중 적어도 하나는 유리 기판과 접촉하도록 구성되는 재질의 바를 포함하는 유리 에지 마감 장치.
18. The method of claim 17,
Wherein at least one of the upper edge guiding member and the lower edge guiding member comprises a bar of material configured to contact the glass substrate.
제17항에 있어서,
상부 에지 유도 부재 및 하부 에지 유도 부재 중 적어도 하나는 유리 기판과 접촉하도록 구성된 유도면을 포함하는 벨트를 포함하는 벨트 조립체를 포함하는 유리 에지 마감 장치.
18. The method of claim 17,
Wherein at least one of the upper edge guiding member and the lower edge guiding member comprises a belt assembly including a belt including a guiding surface configured to contact a glass substrate.
제17항에 있어서,
유리 기판의 에지를 베벨링(bevel)하도록 구성되는 연마휠 조립체를 더 포함하는 유리 에지 마감 장치.
18. The method of claim 17,
Further comprising a polishing wheel assembly configured to bevel the edge of the glass substrate.
유리 기판의 에지를 마감하는 방법으로서,
유리 지지 시스템 상에 유리 기판을 지지하는 단계로서, 상기 유리 기판은 일반적으로 평평한 표면, 약 0.7 ㎜ 이하의 두께, 및 상기 일반적으로 평평한 표면에 대해 수직인 면외 방향을 포함하고, 상기 유리 지지 시스템은 유리 기판의 에지를 따라 유리 공급 방향으로 길게 연장되도록 구성된 진공 부재를 포함하고, 상기 진공 부재는 내부에 위치한 압력 챔버를 포함하는 진공 몸체 및 관통 연장되고 압력 챔버와 연통하는 100 ㎠ 당 적어도 약 25개의 개구의 개구 밀도를 가지는 진공 개구 배열을 포함하는 지지면을 포함하는 것인 단계;
진공 개구의 배열을 통해 상기 일반적으로 평평한 표면에 부압(negative pressure)을 인가하는 단계; 및
연마휠 조립체를 사용하여 유리 기판의 에지를 베벨링하는 단계
를 포함하는 방법.
CLAIMS 1. A method for closing an edge of a glass substrate,
Supporting a glass substrate on a glass support system, said glass substrate comprising a generally planar surface, a thickness of about 0.7 mm or less, and an out-of-plane orientation normal to said generally planar surface, And a vacuum member configured to extend along the edge of the glass substrate in a glass feeding direction, the vacuum member having a vacuum body including an internal pressure chamber and at least about 25 < RTI ID = 0.0 > Comprising a support surface comprising a vacuum aperture arrangement having an aperture density of the aperture;
Applying a negative pressure to the generally flat surface through an array of vacuum openings; And
Beveling the edge of the glass substrate using the abrasive wheel assembly
≪ / RTI >
제22항에 있어서,
상부 에지 유도 부재, 및 유리 기판이 이동할 수 있는 통로가 제공되도록 상부 에지 유도 부재로부터 이격된 하부 에지 유도 부재를 포함하는 에지 유도 조립체를 사용하여 유리 기판을 지지하는 단계를 더 포함하는 방법.
23. The method of claim 22,
Further comprising the step of supporting the glass substrate using an edge guiding assembly comprising an upper edge guiding member and a lower edge guiding member spaced from the upper edge guiding member such that a passage through which the glass substrate can be moved is provided.
제22항에 있어서,
진공 개구의 배열이 다수의 나란한 열로 배치되고, 다수의 열 각각을 따른 진공 개구들 사이의 간격이 실질적으로 균일한 방법.
23. The method of claim 22,
Wherein the array of vacuum openings is arranged in a plurality of parallel rows and the spacing between the vacuum openings along each of the plurality of rows is substantially uniform.
제24항에 있어서,
진공 개구의 배열이 다수의 나란한 행으로 배치되고, 다수의 행 각각을 따른 진공 개구들 사이의 간격이 실질적으로 균일한 방법.
25. The method of claim 24,
Wherein the array of vacuum openings is arranged in a plurality of parallel rows and the spacing between the vacuum openings along each of the plurality of rows is substantially uniform.
제22항에 있어서,
진공 부재와 유리 기판의 에지 사이에 오버행(overhang)이 제공되도록 진공 부재 상에 유리 기판을 위치시키는 단계를 더 포함하는 방법.
23. The method of claim 22,
Further comprising positioning the glass substrate on the vacuum member such that an overhang is provided between the vacuum member and the edge of the glass substrate.
유리 에지 마감 장치로서,
유리 운반 시스템;
상기 유리 운반 시스템에 의해 유리 공급 방향으로 이동 가능한 유리 지지 시스템으로서, 상기 유리 지지 시스템은 약 0.7 ㎜ 이하의 두께를 가지는 유리 기판을 지지하도록 구성되고, 상기 유리 기판은 일반적으로 평평한 표면 및 상기 일반적으로 평평한 표면에 대해 수직인 면외 방향을 가지며, 상기 유리 지지 시스템은 유리 기판의 에지를 따라 유리 공급 방향으로 길게 연장되도록 구성된 진공 부재를 포함하고, 상기 진공 부재는 내부에 위치한 압력 챔버를 포함하는 진공 몸체 및 관통 연장되고 압력 챔버와 연통하는 복수의 진공 개구를 포함하는 지지면을 포함하는 유리 지지 시스템;
유리 기판이 유리 운반 시스템에 의해 유리 공급 방향으로 이동될 때 유리 기판의 에지를 베벨링하도록 구성된 연마휠 조립체; 및
상기 연마휠 조립체와 진공 부재 사이에 위치하고, 상부 에지 유도 부재, 및 유리 기판이 이동할 수 있는 통로가 제공되도록 상기 상부 에지 유도 부재로부터 이격된 하부 에지 유도 부재를 포함하는 에지 유도 조립체
를 포함하는 유리 에지 마감 장치.
As a glass edge finishing apparatus,
Glass transport system;
Wherein the glass support system is configured to support a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm or less, the glass substrate having a generally planar surface and the generally Said glass support system comprising a vacuum member configured to extend long in the glass feed direction along the edge of the glass substrate, said vacuum member comprising a vacuum body including an internally located pressure chamber, And a support surface including a plurality of vacuum openings extending therethrough and communicating with the pressure chambers;
An abrasive wheel assembly configured to bevel the edges of the glass substrate as the glass substrate is moved in the glass feed direction by the glass transport system; And
A lower edge guiding member located between the abrasive wheel assembly and the vacuum member and spaced from the upper edge guiding member such that a top edge guiding member and a passage through which the glass substrate can be moved are provided,
And the glass edge finishing device.
제27항에 있어서,
상부 에지 유도 부재 및 하부 에지 유도 부재 중 적어도 하나는 유리 기판과 접촉하도록 구성되는 동적 지지면을 형성하는 롤러를 포함하는 유리 에지 마감 장치.
28. The method of claim 27,
Wherein at least one of the upper edge guiding member and the lower edge guiding member comprises a roller forming a dynamic support surface configured to contact the glass substrate.
제27항에 있어서,
상부 에지 유도 부재 및 하부 에지 유도 부재 중 적어도 하나는 유리 기판과 접촉하도록 구성되는 재료의 바를 포함하는 유리 에지 마감 장치.
28. The method of claim 27,
Wherein at least one of the upper edge guiding member and the lower edge guiding member comprises a bar of material configured to contact a glass substrate.
제27항에 있어서,
상부 에지 유도 부재 및 하부 에지 유도 부재 중 적어도 하나는 유리 기판과 접촉하도록 구성된 유도면을 갖는 벨트를 포함하는 벨트 조립체를 포함하는 유리 에지 마감 장치.
28. The method of claim 27,
Wherein at least one of the upper edge guiding member and the lower edge guiding member comprises a belt assembly including a belt having a guiding surface configured to contact a glass substrate.
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