JP2018522810A - Method and apparatus for edge finishing glass substrates - Google Patents

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Abstract

ガラスエッジ仕上げ装置のためのガラス支持システムは、ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材を備える。その真空部材は、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体およびその圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を有する。その真空開口のアレイは、多数の並んだ行であって、その多数の行の各々に沿った真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する行で配列されている。A glass support system for a glass edge finishing apparatus comprises a vacuum member configured to extend longitudinally in the glass supply direction along the edge of the glass substrate. The vacuum member has a vacuum body including a pressure chamber disposed therein and a support surface having an array of vacuum openings in communication with the pressure chamber and extending therethrough. The array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows with substantially uniform spacing between the vacuum apertures along each of the multiple rows.

Description

優先権priority

本出願は、その内容が依拠され、ここに全て引用される、2015年7月21日に出願された米国仮特許出願第62/194952号の米国法典第35編第119条の下での優先権の恩恵を主張するものである。   This application is prioritized under 35 USC § 35, US Provisional Patent Application No. 62 / 194,952, filed July 21, 2015, the contents of which are relied upon and incorporated herein in full. Insist on the benefits of rights.

本開示は、ガラス基板をエッジ仕上げするための方法および装置に関し、より詳しくは、エッジの面取りの対称性を増すために使用される方法および装置に関する。   The present disclosure relates to a method and apparatus for edge finishing a glass substrate, and more particularly to a method and apparatus used to increase edge chamfer symmetry.

従来のガラスエッジ仕上げ装置は、主に、より薄いガラス基板と比べて剛性が比較的高い比較的厚いガラス基板のために開発されてきた。一例として、ガラス板は、機械的刻みおよび分割過程を使用して形成された後、典型的に、砥石車を使用して研磨されるエッジを有する。特定の用途において、例えば、自動車産業において、ガラス板の外周のプロファイルが丸まったガラス板のエッジを提供することが望ましいであろう。   Conventional glass edge finishing equipment has been developed primarily for relatively thick glass substrates that are relatively rigid compared to thinner glass substrates. As an example, a glass plate has an edge that is typically formed using a grinding wheel after being formed using a mechanical scoring and splitting process. In certain applications, for example, in the automotive industry, it would be desirable to provide a glass plate edge with a round profile on the periphery of the glass plate.

フラットパネルディスプレイおよび他の用途では、しばしば、自動車産業に用いられるよりもずっと薄いガラス板が使用される。より薄いガラス板は、より厚いガラス板と比べて、低下した剛性および増加した可撓性を有することができる。低下した剛性および増加した可撓性を有するそのような薄いガラス板をエッジ仕上げすると、少なくとも一部には、エッジ仕上げ過程に伴う力のために、難題がもたらされ得る。   Flat panel displays and other applications often use much thinner glass plates than are used in the automotive industry. Thinner glass plates can have reduced stiffness and increased flexibility compared to thicker glass plates. Edge finishing such thin glass plates with reduced stiffness and increased flexibility can pose challenges, at least in part, due to the forces associated with the edge finishing process.

したがって、比較的薄いガラス基板を含むガラス基板をエッジ仕上げするための方法および装置が必要とされている。   Accordingly, there is a need for a method and apparatus for edge finishing glass substrates, including relatively thin glass substrates.

可撓性ガラス基板の機械的信頼性を改善するための1つの技術は、例えば、所定のエッジ強度を達成するために、可撓性ガラス基板のエッジを研削し、研磨して、可撓性ガラス層における望ましくない亀裂および割れ目を除去することである。この目的を達成するために、ガラス基板を効果的に仕上げしつつ、ここで面取りと称される過程においてエッジに丸い形状を与えるために、エッジ仕上げ装置が使用される、ガラス基板を仕上げるための方法および装置がここに記載されている。   One technique for improving the mechanical reliability of a flexible glass substrate is to grind and polish the edge of the flexible glass substrate to achieve a predetermined edge strength, for example. Removing unwanted cracks and cracks in the glass layer. To achieve this objective, an edge finishing device is used to finish the glass substrate, effectively finishing the glass substrate while giving the edge a round shape in a process referred to herein as chamfering. Methods and apparatus are described herein.

1つの実施の形態によれば、ガラスエッジ仕上げ装置のためのガラス支持システムは、ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材、例えば、真空チャックを備える。その真空部材は、その中に配置された圧力チャンバを含む真空本体およびその圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を備える。その真空開口のアレイは、多数の並んだ行であって、その多数の行の各々に沿った真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する行で配列されている。   According to one embodiment, a glass support system for a glass edge finishing apparatus includes a vacuum member, eg, a vacuum chuck, configured to extend longitudinally along the edge of the glass substrate in the glass supply direction. Prepare. The vacuum member includes a vacuum body including a pressure chamber disposed therein and a support surface having an array of vacuum openings in communication with and extending through the pressure chamber. The array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows with substantially uniform spacing between the vacuum apertures along each of the multiple rows.

別の実施の形態によれば、ガラスエッジ仕上げ装置は、ガラス移送システムおよびそのガラス移送システムによってガラス供給方向に動かされるガラス支持システムを備える。そのガラス支持システムは、厚さが約0.7mm以下のガラス基板を支持するように構成できる。そのガラス基板は、略平面およびその略平面に対して垂直な面外方向を有する。ガラス供給方向はその面外方向に対して垂直である。そのガラス支持システムは、ガラス基板のエッジに沿って、ガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材、例えば、真空チャックを備え得る。その真空部材は、その中に配置された圧力チャンバを含む真空本体を備えており、さらに、その圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を含むことがある。その真空開口のアレイは、100cm2の支持表面積当たり少なくとも約25の開口を含み得る。 According to another embodiment, the glass edge finishing apparatus comprises a glass transfer system and a glass support system that is moved in the glass supply direction by the glass transfer system. The glass support system can be configured to support a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm or less. The glass substrate has a substantially plane and an out-of-plane direction perpendicular to the substantially plane. The glass supply direction is perpendicular to the out-of-plane direction. The glass support system may comprise a vacuum member, eg, a vacuum chuck, configured to extend longitudinally along the edge of the glass substrate in the glass supply direction. The vacuum member includes a vacuum body that includes a pressure chamber disposed therein, and may further include a support surface having an array of vacuum openings that communicate with and extend through the pressure chamber. The array of vacuum apertures can include at least about 25 apertures per 100 cm 2 of support surface area.

さらに別の実施の形態によれば、厚さが約0.7mm以下のガラス基板のエッジを仕上げる方法が提供される。その方法は、そのガラス基板をガラス支持システム上で支持する工程を有してなる。そのガラス基板は、略平面、その略平面に対して垂直な面外方向、およびその面外方向に対して垂直なガラス供給方向を有する。そのガラス支持システムは、ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材、例えば、真空チャックを備えることがある。その真空部材は、その中に配置された圧力チャンバを含む真空本体およびその圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を備え得る。その真空開口のアレイは、100cm2の支持表面積当たり少なくとも約25の開口を含むことがある。真空開口のアレイを通じて、負圧をその真空部材に面する略平面に印加することができる。ガラス基板のエッジは、砥石車アセンブリを使用して面取りされることがある。 According to yet another embodiment, a method is provided for finishing an edge of a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm or less. The method comprises the step of supporting the glass substrate on a glass support system. The glass substrate has a substantially plane, an out-of-plane direction perpendicular to the substantially plane, and a glass supply direction perpendicular to the out-of-plane direction. The glass support system may comprise a vacuum member, eg, a vacuum chuck, configured to extend longitudinally along the edge of the glass substrate in the glass supply direction. The vacuum member may comprise a vacuum body including a pressure chamber disposed therein and a support surface having an array of vacuum openings communicating with and extending through the pressure chamber. The array of vacuum openings may include at least about 25 openings per 100 cm 2 of support surface area. Through the array of vacuum openings, a negative pressure can be applied to a substantially flat surface facing the vacuum member. The edge of the glass substrate may be chamfered using a grinding wheel assembly.

さらに別の実施の形態によれば、ガラスエッジ仕上げ装置は、ガラス移送システムおよびそのガラス移送システムによってガラス供給方向に動かされるガラス支持システムを備える。そのガラス支持システムは、厚さが約0.7mm以下のガラス基板を支持するように構成されることがある。そのガラス基板は、略平面およびその略平面に対して垂直な面外方向を有する。ガラス供給方向はその面外方向に対して垂直である。そのガラス支持システムは、ガラス基板のエッジに沿って、ガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材、例えば、真空チャックを備え得る。その真空部材は、その中に配置された圧力チャンバを含む真空本体およびその圧力チャンバと連通し、中を延在する複数の真空開口を有する支持面を備えることがある。砥石車アセンブリも提供されることがあり、この砥石車アセンブリは、ガラス基板がガラス移送システムによってガラス供給方向に砥石車アセンブリにより動かされるときに、ガラス基板のエッジを面取りするように構成される。エッジ案内アセンブリが、砥石車アセンブリと真空部材との間に配置されることがあり、ガラス基板が移動できる経路を提供するために上側エッジ案内部材およびその上側エッジ案内部材から間隔が置かれた下側エッジ案内部材を備え得る。   According to yet another embodiment, the glass edge finishing apparatus comprises a glass transfer system and a glass support system that is moved in the glass supply direction by the glass transfer system. The glass support system may be configured to support a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm or less. The glass substrate has a substantially plane and an out-of-plane direction perpendicular to the substantially plane. The glass supply direction is perpendicular to the out-of-plane direction. The glass support system may comprise a vacuum member, eg, a vacuum chuck, configured to extend longitudinally along the edge of the glass substrate in the glass supply direction. The vacuum member may comprise a vacuum body including a pressure chamber disposed therein and a support surface having a plurality of vacuum openings in communication therewith and extending therethrough. A grinding wheel assembly may also be provided, and the grinding wheel assembly is configured to chamfer the edge of the glass substrate as the glass substrate is moved by the grinding wheel assembly in the glass supply direction by the glass transfer system. An edge guide assembly may be disposed between the grinding wheel assembly and the vacuum member and is spaced below the upper edge guide member and its upper edge guide member to provide a path through which the glass substrate can move. A side edge guide member may be provided.

ここに記載された追加の特徴および利点は、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から当業者に容易に明白となるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付図面を含む、ここに記載された実施の形態を実施することによって認識されるであろう。   Additional features and advantages described herein are set forth in the following detailed description, and some will be readily apparent to those skilled in the art from that description, or may be set forth in the following detailed description, claims, It will be appreciated by implementing the embodiments described herein, including the scope and accompanying drawings.

先の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方とも、様々な実施の形態を記載しており、請求項の主題の性質および特徴を理解するための概要または骨子を提供する目的であることが理解されよう。添付図面は、様々な実施の形態のさらなる理解を与えるために含まれ、本明細書に包含され、その一部を構成する。図面は、ここに記載された様々な実施の形態を示しており、説明と共に、請求項の主題の原理および作動を説明する働きをする。   Both the foregoing general description and the following detailed description set forth various embodiments and are intended to provide an overview or outline for understanding the nature and characteristics of the claimed subject matter. Will be understood. The accompanying drawings are included to provide a further understanding of the various embodiments, and are incorporated in and constitute a part of this specification. The drawings illustrate various embodiments described herein, and together with the description serve to explain the principles and operation of the claimed subject matter.

本開示のこれらと他の特徴、態様および利点は、本開示の以下の詳細な説明を、添付図面を参照して読んだときに、より良く理解される。   These and other features, aspects and advantages of the present disclosure will be better understood when the following detailed description of the present disclosure is read with reference to the accompanying drawings.

ガラス基板の面取りされたエッジの説明図Illustration of chamfered edge of glass substrate ガラスエッジの面外の垂直変位と結果として生じたエッジの面取り部非対称性との間の関係を示すグラフGraph showing the relationship between the out-of-plane vertical displacement of the glass edge and the resulting edge chamfer asymmetry ガラス仕上げ装置の説明図Illustration of glass finishing equipment 図3の仕上げ装置に使用するための真空部材およびガラス基板の詳細図Detailed view of vacuum member and glass substrate for use in the finishing apparatus of FIG. ガラスエッジの平坦性を示すグラフGraph showing flatness of glass edge 分離して示された図4の真空部材の上面図4 is a top view of the vacuum member of FIG. 4 shown separately. 例示の真空部材の斜視図A perspective view of an exemplary vacuum member 図7の真空部材の断面図Sectional view of the vacuum member of FIG. 別の例示の真空部材の断面図Sectional view of another exemplary vacuum member 別の例示の真空部材の断面図Sectional view of another exemplary vacuum member 別の例示の真空部材の上面図Top view of another exemplary vacuum member さらに別の例示の真空部材の上面図A top view of yet another exemplary vacuum member 別の例示の真空部材の上面図Top view of another exemplary vacuum member 多数の真空部材を含むガラス支持構造の説明図Explanatory drawing of glass support structure including many vacuum members 図3のガラス仕上げ装置に使用するための砥石車の詳細説明図Detailed explanatory drawing of a grinding wheel for use in the glass finishing apparatus of FIG. 規則的な分布の真空開口を使用することにより与えられる、減少したエッジ面取り部非対称性を示すグラフGraph showing reduced edge chamfer asymmetry given by using regularly distributed vacuum openings ガラス基板に沿った位置に対するガラスの剛性をプロットしたグラフGraph plotting the stiffness of the glass against the position along the glass substrate ガラス基板の厚さに対するガラス基板の曲げ剛性を示すグラフGraph showing bending rigidity of glass substrate against thickness of glass substrate エッジ案内アセンブリと砥石車の説明図Illustration of edge guide assembly and grinding wheel エッジ案内アセンブリの説明図Illustration of edge guide assembly ガラスエッジ仕上げ装置の説明図Illustration of glass edge finishing equipment 図21のガラスエッジ仕上げ装置の別の説明図Another explanatory view of the glass edge finishing apparatus of FIG. 別のガラスエッジ仕上げ装置の説明図Illustration of another glass edge finishing device 図23のガラスエッジ仕上げ装置の別の説明図Another explanatory view of the glass edge finishing apparatus of FIG. エッジ案内アセンブリの説明図Illustration of edge guide assembly エッジ案内アセンブリの別の説明図Another illustration of edge guide assembly エッジ案内アセンブリの別の説明図Another illustration of edge guide assembly エッジ案内アセンブリを使用することにより与えられる、減少したエッジ面取り部非対称性を示す代表的なグラフRepresentative graph showing reduced edge chamfer asymmetry provided by using edge guide assembly

ガラスは本質的に強い材料であるが、その強度と機械的信頼性は、表面欠陥または不具合のサイズ密度分布および時間経過による応力へのその材料の累積暴露の関数である。エッジ強度は、ガラス基板の機械的信頼性の重要な要因であり得る。製品ライフサイクル中ずっと、ガラス基板は、様々な種類の静的および動的機械的応力に暴露されるであろう。ここに記載された実施の形態は、広く、ガラス基板を効果的に仕上げ、ガラス基板のエッジ強度および機械的信頼性を改善するために、エッジ仕上げ装置が使用される、ガラス基板を仕上げるための方法および装置に関する。   Although glass is an inherently strong material, its strength and mechanical reliability are a function of the size density distribution of surface defects or defects and the cumulative exposure of the material to stress over time. Edge strength can be an important factor in the mechanical reliability of a glass substrate. Throughout the product life cycle, glass substrates will be exposed to various types of static and dynamic mechanical stresses. The embodiments described herein are widely used for finishing glass substrates, in which edge finishing equipment is used to effectively finish glass substrates and improve edge strength and mechanical reliability of glass substrates. It relates to a method and an apparatus.

ガラスリボンから、またはより大きいガラス基板から切り取られたガラス基板は、切取り操作中に形成された鋭いエッジを有する傾向にある。そのガラス基板の鋭いエッジは、取扱い中に損傷を受けやすい。エッジの不具合、例えば、切り屑、亀裂などは、ガラスの強度を低下させるであろう。ガラス基板のエッジは、損傷を受けやすい鋭いエッジをなくすために、研削および形削り、例えば、面取りによって、鋭いエッジを除去するために加工されることがある。ガラス基板から鋭いエッジを除去することにより、ガラス基板の不具合が最小になり、それによって、取扱い中のガラス板に対する損傷の傾向が低下するであろう。   Glass substrates cut from a glass ribbon or from a larger glass substrate tend to have sharp edges formed during the cutting operation. The sharp edges of the glass substrate are susceptible to damage during handling. Edge defects such as chips, cracks, etc. will reduce the strength of the glass. The edges of the glass substrate may be processed to remove the sharp edges by grinding and shaping, for example, chamfering, to eliminate the sharp edges that are susceptible to damage. By removing sharp edges from the glass substrate, glass substrate failure will be minimized, thereby reducing the tendency for damage to the glass plate being handled.

ガラス基板のエッジを研削し、形削りするために、「カップ」ホイールおよび「成形」ホイールの使用を含む、様々な砥石車が使用されることがある。カップホイールは、形状が略円形であり、カップホイールの外周から間隔が置かれた窪んだ中央領域を備える。このカップホイールはガラス基板と接触させられ、そこで、カップホイールの平坦面がガラス基板と接触する一方で、カップホイールの外周面はガラス基板から間隔が置かれている。成形ホイールは、その成形ホイールの外周面のエッジに配置された溝を備える。その溝は、基板のエッジの加工形状に対応するプロファイルを備える。成形ホイールの溝がガラス基板のエッジと接触させられて、そのエッジを研削し、形削りする。   Various grinding wheels may be used to grind and shape the edges of glass substrates, including the use of “cup” wheels and “form” wheels. The cup wheel is substantially circular in shape and includes a recessed central region spaced from the outer periphery of the cup wheel. The cup wheel is brought into contact with the glass substrate, where the flat surface of the cup wheel contacts the glass substrate, while the outer peripheral surface of the cup wheel is spaced from the glass substrate. The forming wheel includes a groove disposed at an edge of the outer peripheral surface of the forming wheel. The groove has a profile corresponding to the processed shape of the edge of the substrate. The groove of the forming wheel is brought into contact with the edge of the glass substrate to grind and shape the edge.

例示の基板のエッジ12を示している、図1を参照すると、「第一の表面」という用語およびその用語の他の変種は、ガラス基板10の第一の比較的平坦な領域を示すためにここに使用される。この第一の表面は図1に14で示されている。同様に、「第二の表面」という用語およびその用語の他の変種は、基板10の第二の比較的平坦な表面領域を示すためにここに使用され、これは、第一の表面14に対して実質的に平行である。この第二の表面は図1に16で示されている。   Referring to FIG. 1, which illustrates an exemplary substrate edge 12, the term “first surface” and other variations of the term are used to indicate a first relatively flat region of the glass substrate 10. Used here. This first surface is indicated at 14 in FIG. Similarly, the term “second surface” and other variations of that term are used herein to indicate the second relatively flat surface area of the substrate 10, which is applied to the first surface 14. It is substantially parallel to it. This second surface is shown at 16 in FIG.

「第一の面取り部」および「第一の面取り部分」という用語、並びにその用語の他の変種は、第一の表面14と基板のエッジ12の先端18との間に位置する、基板のエッジの第一の部分を示すためにここに用いられる。その第一の面取り部は図1に20で示されている。同様に、「第二の面取り部」および「第二の面取り部分」という用語、並びにその用語の他の変種は、第二の表面16と先端18との間に位置する、基板のエッジの第二の部分を示すためにここに用いられる。この第二面の取り部は図1に22で示されている。特定の実施の形態において、第一と第二の面取り部20および22は、図1に示されるように、湾曲していることがある;しかしながら、第一と第二の面取り部は、他の非限定的実施の形態において、比較的平らであってもよい。   The terms “first chamfer” and “first chamfer”, as well as other variants of the term, are the edge of the substrate located between the first surface 14 and the tip 18 of the edge 12 of the substrate. Is used here to show the first part of. The first chamfer is shown at 20 in FIG. Similarly, the terms “second chamfer” and “second chamfer”, as well as other variations of that term, may be applied to the first edge of the substrate located between the second surface 16 and the tip 18. Used here to show the second part. This second surface take-up is indicated at 22 in FIG. In certain embodiments, the first and second chamfers 20 and 22 may be curved as shown in FIG. 1; however, the first and second chamfers may be other In a non-limiting embodiment, it may be relatively flat.

「先端」という用語、およびその用語の他の変種は、第一と第二の面取り部20および22が収束する、基板のエッジ12の端部領域を示すためにここに用いられる。図1は、先端18を、所定の長さを有する平坦区域として示していることに留意されたい;しかしながら、先端18は、基板のエッジ12が表面14から表面16まで実質的に連続した曲面であるように、第一と第二の面取り部が合わさる有限点でもあり得る。   The term “tip” and other variations of that term are used herein to indicate the end region of the substrate edge 12 where the first and second chamfers 20 and 22 converge. Note that FIG. 1 shows the tip 18 as a flat area having a predetermined length; however, the tip 18 is a curved surface in which the substrate edge 12 is substantially continuous from surface 14 to surface 16. It can also be a finite point where the first and second chamfers meet.

「第一の面取り部と表面との界面」という用語、およびその用語の他の変種は、第一の面取り部分が比較的平坦な第一の表面14と合わさる領域を示すためにここに用いられる。この第一の面取り部と表面との界面は図1に26で示されている。同様に、「第二の面取り部と表面との界面」という用語、およびその用語の他の変種は、第二の面取り部分が比較的平坦な第二の表面16と合わさる領域を示すためにここに用いられる。この第二の面取り部と表面との界面は図1に28で示されている。   The term “first chamfer-surface interface” and other variations of that term are used herein to indicate the region where the first chamfered portion meets the relatively flat first surface 14. . The interface between the first chamfer and the surface is indicated at 26 in FIG. Similarly, the term “second chamfer-surface interface” and other variations of that term are used here to indicate the region where the second chamfered portion meets the relatively flat second surface 16. Used for. The interface between this second chamfer and the surface is shown at 28 in FIG.

ガラス基板10は、以下に限られないが、例えば、約0.01から約0.200mmの範囲、例えば、約0.05mmから約0.1mm、約0.1mmから約0.15mm、約0.15mmから約0.3mm、約0.100mmから約0.200mmの範囲と、それらの間の全ての範囲と部分的な範囲の厚さを含む約0.3mm以下の厚さ30を有する可撓性ガラス基板であることがある。例示の厚さとしては、0.3、0.275、0.25、0.225、0.2、0.19、0.18、0.17、0.16、0.15、0.14、0.13、0.12、0.11、0.10、0.09、0.08、0.07、0.06、0.05、0.04、0.03、0.02、または0.01mmが挙げられる。いくつかの実施の形態において、ガラス基板10の厚さ30は、約0.7mm以下であることがある。ガラス基板10は、ガラス、ガラスセラミックまたはその複合体から形成されることがある。高品質のガラス基板を形成するフュージョン法(例えば、ダウンドロー法)を様々な装置に使用することができ、そのような用途の1つはフラットパネルディスプレイである。フュージョン法で製造されるガラス基板は、他の方法で製造されるガラス基板と比べて、平坦性および平滑性が優れた表面を有する。そのフュージョン法は、米国特許第3338696号および同第3682609号の各明細書に記載されている。他の適切なガラス基板形成法としては、フロート法、アップドロー法およびスロットドロー法が挙げられる。   The glass substrate 10 is not limited to the following, for example, in the range of about 0.01 to about 0.200 mm, for example, about 0.05 mm to about 0.1 mm, about 0.1 mm to about 0.15 mm, about 0 A thickness 30 of about 0.3 mm or less, including a range of 15 mm to about 0.3 mm, a range of about 0.100 mm to about 0.200 mm, and a total range and a partial range of thicknesses therebetween. It may be a flexible glass substrate. Exemplary thicknesses include 0.3, 0.275, 0.25, 0.225, 0.2, 0.19, 0.18, 0.17, 0.16, 0.15, 0.14 , 0.13, 0.12, 0.11, 0.10, 0.09, 0.08, 0.07, 0.06, 0.05, 0.04, 0.03, 0.02, or 0.01 mm is mentioned. In some embodiments, the thickness 30 of the glass substrate 10 may be about 0.7 mm or less. The glass substrate 10 may be formed from glass, glass ceramic, or a composite thereof. A fusion method (eg, a downdraw method) that forms a high quality glass substrate can be used in a variety of devices, and one such application is a flat panel display. A glass substrate manufactured by the fusion method has a surface with excellent flatness and smoothness as compared with a glass substrate manufactured by another method. The fusion method is described in US Pat. Nos. 3,338,696 and 3,682,609. Other suitable glass substrate forming methods include the float method, the up draw method and the slot draw method.

理論で束縛する意図はないが、比較的薄いガラス基板10(約0.7mm以下)について、水平に向けられたガラス基板10の第一の面取り部と表面との界面26および第二の面取り部と表面との界面28に関する対称形状特徴には、ガラス基板10の曲げ中の塑性変形に対するエッジ抵抗に直接的な影響があり得る。「エッジ面取り部非対称性」とここに称されることもある、第一の面取り部分20と第二の面取り部分22との間のエッジの非対称性は、ガラス基板10のエッジ強度に直接関連する。エッジ面取り部非対称性は、基板の厚さ30の方向における先端18までの第一と第二の面取り部分20および22のそれぞれの幅W1およびW2により測定されることがある。面取り過程中のガラス基板10の面外の基板のエッジ12の撓みにより、エッジ面取り部非対称性が生じ得る。図2は、厚さ約0.5mmのガラス基板10に関する、基板のエッジ12の撓みと結果として生じたエッジ面取り部非対称性との間の例示の関係を示す。図から分かるように、位置範囲Rでは、基板のエッジ12の撓みが大幅に増し(線31で示されるように)、結果として、エッジ面取り部非対称性が増す(線32および40に示されるように)。 Although not intended to be bound by theory, for a relatively thin glass substrate 10 (about 0.7 mm or less), the first chamfered portion-surface interface 26 and the second chamfered portion of the glass substrate 10 oriented horizontally. The symmetric shape feature with respect to the surface-to-surface interface 28 can have a direct impact on edge resistance to plastic deformation during bending of the glass substrate 10. The edge asymmetry between the first chamfered portion 20 and the second chamfered portion 22, sometimes referred to herein as “edge chamfer asymmetry”, is directly related to the edge strength of the glass substrate 10. . Edge chamfer asymmetry may be measured by the respective widths W 1 and W 2 of the first and second chamfered portions 20 and 22 to the tip 18 in the direction of the substrate thickness 30. The edge chamfer asymmetry may occur due to the bending of the edge 12 of the substrate out of plane of the glass substrate 10 during the chamfering process. FIG. 2 shows an exemplary relationship between the deflection of the substrate edge 12 and the resulting edge chamfer asymmetry for a glass substrate 10 having a thickness of about 0.5 mm. As can be seen, in the position range R, the deflection of the edge 12 of the substrate is greatly increased (as indicated by line 31), resulting in increased edge chamfer asymmetry (as indicated by lines 32 and 40). To).

特に、薄いガラス基板10に関する、エッジ水平平坦性(すなわち、最小の垂直変位)は、面取り過程中の支持の有効性の影響を受け得る。図3を参照すると、面取り過程を実施するのに適したガラスエッジ仕上げ装置40は、ガラス移送システム44およびガラス支持システム46を含む支持装置42を備える。ガラス移送システム44は、ガラス支持システム46を供給方向に移動させる(例えば、平行移動させる)ことができ、この供給方向は、ガラス基板50のエッジ48と概略(平行に)揃えることができる。ガラス支持システム46は、ガラス移送システム44により供給方向に搬送されるか、または他の様式で動かされるであろう。ガラス支持システム46は、ガラス基板50の互いに反対のエッジ48および58に沿って、かついくつかの実施の形態において、供給方向にガラス基板50の実質的に全長に沿って延在する、エッジ真空部材54および56、例えば、真空チャックを含む真空システム52を備える。いくつかの実施の形態において、真空部材54および56は、単一の細長い真空部材から形成されることがある。他の実施の形態において、多数の真空部材が使用され、例えば、供給方向に並んで整列されることがある。エッジ真空部材54および56のみが示されているが、内側真空部材も利用してよい(図14参照)。   In particular, the edge horizontal flatness (ie, the minimum vertical displacement) for the thin glass substrate 10 can be affected by the effectiveness of the support during the chamfering process. With reference to FIG. 3, a glass edge finishing apparatus 40 suitable for performing the chamfering process comprises a support apparatus 42 including a glass transfer system 44 and a glass support system 46. The glass transfer system 44 can move (eg, translate) the glass support system 46 in the supply direction, and this supply direction can be approximately (parallel) aligned with the edge 48 of the glass substrate 50. The glass support system 46 may be transported in the feed direction by the glass transport system 44 or otherwise moved. The glass support system 46 is an edge vacuum that extends along opposite edges 48 and 58 of the glass substrate 50 and, in some embodiments, substantially along the entire length of the glass substrate 50 in the feed direction. Members 54 and 56 are provided, for example, a vacuum system 52 including a vacuum chuck. In some embodiments, the vacuum members 54 and 56 may be formed from a single elongated vacuum member. In other embodiments, multiple vacuum members may be used, eg, aligned side by side in the supply direction. Although only edge vacuum members 54 and 56 are shown, an inner vacuum member may also be utilized (see FIG. 14).

図4は、真空部材56およびガラス基板50の詳細図を示している。真空部材56は、面取り過程中にガラス基板50のエッジ48の動き(水平および垂直)を抑制するのに十分な真空吸引力を印加することができる。ここに用いたように、「真空吸引力」は、吸引圧力を乗じた真空部材56の全ての真空開口の累積面積を称する。図から分かるように、真空吸引力は、ガラス基板50のエッジ48の近くにそこから間隔が置かれた真空部材56によって印加することができる。真空部材56のこの位置により、突出部が始まる真空部材56の外縁62からエッジ48まで、エッジ48(または供給方向)に対して垂直な方向に測定される突出距離DOHを有する突出領域60がガラス基板50に形成される。いくつかの実施の形態において、突出距離DOHは、約10mm以上、約15mm以上、約20mm以上などの、約6mm以上であることがある。いくつかの実施の形態において、突出距離DOHは、約5mmと約30mmの間であることがある。 FIG. 4 shows a detailed view of the vacuum member 56 and the glass substrate 50. The vacuum member 56 can apply a vacuum suction force sufficient to suppress movement (horizontal and vertical) of the edge 48 of the glass substrate 50 during the chamfering process. As used herein, “vacuum suction force” refers to the cumulative area of all vacuum openings of the vacuum member 56 multiplied by the suction pressure. As can be seen, the vacuum suction force can be applied by a vacuum member 56 near and spaced from the edge 48 of the glass substrate 50. This position of the vacuum member 56 results in a protruding region 60 having a protruding distance D OH measured in a direction perpendicular to the edge 48 (or supply direction) from the outer edge 62 to the edge 48 of the vacuum member 56 where the protrusion begins. It is formed on the glass substrate 50. In some embodiments, the protrusion distance D OH may be about 6 mm or more, such as about 10 mm or more, about 15 mm or more, about 20 mm or more. In some embodiments, the protrusion distance D OH can be between about 5 mm and about 30 mm.

下記に記載されるように、真空部材56には、真空開口66のアレイ64が設けられており、そのアレイ64の1つ以上の領域は、真空開口66の規則的な、一定間隔のまたは均一な分布(例えば、行および/または列)を有することがある。真空開口66のアレイ64のそのような配列は、面取りまたは他のエッジ仕上げ過程中に自由にぶら下がるエッジに関して比較的平坦なエッジ48をガラス基板50に生じることができ、これにより、水平に向けられたガラス基板50に関する第一の面取り部と表面との界面26、および第二の面取り部と表面との界面28の間の対称性を改善することができる(図1)。例えば、図5は、異なる突出距離および圧力値での、厚さが0.5mmおよび0.3mmのガラス基板に関するエッジの平坦性を示す。図から分かるように、ガラス基板の長さの少なくとも一部、ほとんどまたは全てに亘り、約0.1mm未満などの最小化された垂直変位をガラスエッジに達成することができる。   As will be described below, the vacuum member 56 is provided with an array 64 of vacuum openings 66, where one or more regions of the array 64 are regularly, regularly spaced or uniform of the vacuum openings 66. May have a uniform distribution (eg, rows and / or columns). Such an arrangement of the array 64 of vacuum openings 66 can produce a relatively flat edge 48 in the glass substrate 50 with respect to an edge that freely hangs during a chamfering or other edge finishing process, thereby being oriented horizontally. The symmetry between the interface 26 between the first chamfered portion and the surface and the interface 28 between the second chamfered portion and the surface with respect to the glass substrate 50 can be improved (FIG. 1). For example, FIG. 5 shows edge flatness for glass substrates with thicknesses of 0.5 mm and 0.3 mm at different protrusion distances and pressure values. As can be seen, a minimized vertical displacement, such as less than about 0.1 mm, can be achieved at the glass edge over at least a portion, most or all of the length of the glass substrate.

図6を参照すると、真空部材56は、分離して示されており、中に配置された圧力チャンバおよび真空開口66のアレイ64を提供する真空本体70を備える。真空開口66は、真空部材56の支持面72から延在する通路67(図8)と連通し、真空本体70内に配置された圧力チャンバと連通している。図7および8を手短に参照すると、いくつかの実施の形態において、支持面72は、ガラス基板50と接触し、上にそのガラス基板を損傷せずに支持するのに適した柔軟材料(例えば、シリコーン、ゴム、軟質プラスチックなど)の層として形成される柔軟部材74により設けられることがある。柔軟部材74は、真空開口66と圧力チャンバ78との間に通路67を設けるために(図8)、真空本体70に設けられた開口のアレイ76にぴったり一致する真空開口66のアレイ64を備えることがある。他の実施の形態において、その真空本体は、支持面72の真空開口66のアレイ64と一致せず、それでも、圧力チャンバ78からそこに負圧を分配することができるスロットおよび/または開口を備えることがある。矢印75により示される排気口を、圧力チャンバ78から空気または他の適切な気体を吸い込むために設けてもよい。   Referring to FIG. 6, the vacuum member 56 is shown separated and includes a vacuum body 70 that provides an array 64 of pressure chambers and vacuum openings 66 disposed therein. The vacuum opening 66 communicates with a passage 67 (FIG. 8) extending from the support surface 72 of the vacuum member 56 and communicates with a pressure chamber disposed in the vacuum body 70. Referring briefly to FIGS. 7 and 8, in some embodiments, the support surface 72 is in contact with the glass substrate 50 and is a flexible material (eg, suitable for supporting the glass substrate without damage). , Silicone, rubber, soft plastic, etc.). The flexible member 74 includes an array 64 of vacuum openings 66 that closely matches the array of openings 76 provided in the vacuum body 70 to provide a passage 67 between the vacuum openings 66 and the pressure chamber 78 (FIG. 8). Sometimes. In other embodiments, the vacuum body does not match the array 64 of vacuum openings 66 in the support surface 72 and still comprises slots and / or openings that can distribute negative pressure from the pressure chamber 78 thereto. Sometimes. An exhaust port, indicated by arrow 75, may be provided to draw air or other suitable gas from pressure chamber 78.

前記真空部材は、単体または多部材構造であってもよい。例えば、図9を参照すると、真空部材81は、単体モノリス構造を有する真空本体83を有することがある。真空本体83は、中に設けられた圧力チャンバ85および真空部材81をガラス移送システムに接続できるようにする、圧力チャンバ85から離れた、真空本体83の一部として形成された接続手段87を備えることがある。吸気口77および排気口79は、圧力チャンバ85に正圧と負圧を供給することができる。図10は、真空部材91が、チャンバ筐体部材95およびキャップ部材97により形成された真空本体93を備える。真空部材91をガラス移送システムに接続するために、接続手段99が設けられることがある。   The vacuum member may be a single member or a multi-member structure. For example, referring to FIG. 9, the vacuum member 81 may have a vacuum body 83 having a single monolith structure. The vacuum body 83 comprises connecting means 87 formed as part of the vacuum body 83 remote from the pressure chamber 85, allowing the pressure chamber 85 and the vacuum member 81 provided therein to be connected to the glass transfer system. Sometimes. The intake port 77 and the exhaust port 79 can supply a positive pressure and a negative pressure to the pressure chamber 85. In FIG. 10, the vacuum member 91 includes a vacuum main body 93 formed by a chamber housing member 95 and a cap member 97. Connection means 99 may be provided to connect the vacuum member 91 to the glass transfer system.

再び図6を参照すると、アレイ64の真空開口66は、行R1〜Rxおよび列C1〜Cxの両方に配置され、それによって、局所的吸引点を与えることができる。この例において、特定の行Rの真空開口66は、実質的に同じ幅、またはこの例においては、半径(例えば、約2mm以下などの約5mm以下)を有し、各々が、特定の行Rに沿って互いから等間隔が空けられている。他の実施の形態において、その真空開口の1つ以上が1つまたは複数の異なる半径を有することがある。一例として、隣接する真空開口66に、特定の行Rに亘り約20mmで等間隔が空けられていることがある。他の実施の形態において、隣接する真空開口66の間の間隔は、例えば、ガラス基板のサイズ、仕上げ操作の種類などに応じて、約15mmまたは約10mmまたさらにはそれより小さい間隔などの20mm未満であることがある。図6の実施の形態において、真空開口66は、S1で示されるように、中心間が10mmで等間隔が空けられている。 Referring again to FIG. 6, the vacuum openings 66 of the array 64 can be located in both rows R 1 -R x and columns C 1 -C x , thereby providing local suction points. In this example, the vacuum openings 66 in a particular row R have substantially the same width, or in this example, a radius (eg, no more than about 5 mm, such as no more than about 2 mm), each of which is a particular row R. Are equally spaced from each other. In other embodiments, one or more of the vacuum openings may have one or more different radii. As an example, adjacent vacuum openings 66 may be equally spaced about 20 mm across a particular row R. In other embodiments, the spacing between adjacent vacuum openings 66 is less than 20 mm, such as about 15 mm or about 10 mm or even less, depending on the size of the glass substrate, the type of finishing operation, etc. It may be. In the embodiment of FIG. 6, the vacuum openings 66 are equally spaced with a center distance of 10 mm, as indicated by S 1 .

特定の列Cの真空開口66は、実質的に同じ半径(例えば、約2mm以下などの約5mm以下)を有し、各々が、特定の列Cに沿って互いから等間隔が空けられている。他の実施の形態において、その真空開口の1つ以上が1つまたは複数の異なる半径を有することがある。一例として、隣接する真空開口66に、特定の列Cに沿って約20mmで等間隔が空けられていることがある。他の実施の形態において、隣接する真空開口66の間の間隔は、例えば、ガラス基板のサイズ、仕上げ操作の種類などに応じて、約15mmまたは約10mmまたさらにはそれより小さい間隔などの20mm未満であることがある。図6の実施の形態において、真空開口66は、S2で示されるように、中心間が10mmで等間隔が空けられており、真空開口の矩形行列を形成している。 The vacuum openings 66 in a particular row C have substantially the same radius (eg, no more than about 5 mm, such as no more than about 2 mm), and each is equally spaced from each other along the particular row C. . In other embodiments, one or more of the vacuum openings may have one or more different radii. As an example, adjacent vacuum openings 66 may be equally spaced about 20 mm along a particular row C. In other embodiments, the spacing between adjacent vacuum openings 66 is less than 20 mm, such as about 15 mm or about 10 mm or even less, depending on the size of the glass substrate, the type of finishing operation, etc. It may be. In the embodiment of FIG. 6, vacuum opening 66, as indicated by S 2, and equal intervals are spaced by 10mm is between centers form a rectangular matrix of the vacuum opening.

局所的吸引点を形成する真空開口のどの適切なアレイを使用してもよい。いくつかの実施の形態において、4mm以下などの約10mm以下の幅(または直径)を有し、100cm2当たり約25の真空開口から約200の真空開口を有するアレイが設けられることがある。図6の実施の形態において、アレイ64は、100cm2当たり約100の真空開口66を有する。 Any suitable array of vacuum openings that form local suction points may be used. In some embodiments, an array having a width (or diameter) of about 10 mm or less, such as 4 mm or less, and from about 25 vacuum openings to about 200 vacuum openings per 100 cm 2 may be provided. In the embodiment of FIG. 6, the array 64 has about 100 vacuum openings 66 per 100 cm 2 .

図11〜13は、真空開口の他のアレイ配置を有する他の真空部材の実施の形態を示している。図11の実施の形態において、真空部材80は、真空部材56に関して上述した特徴の多くを備えている。この例示の実施の形態において、真空部材80は、行R1〜Rxおよび列C1〜Cxの両方に配置された真空開口84のアレイを備え、それによって、局所的吸引点を与える。しかしながら、この実施の形態において、行間隔S1は、列に沿った列間隔S2より大きい。図12は、行に沿った行間隔S1が、列に沿った列間隔S2より大きい真空部材81の別の例示の実施の形態を示す。図13は、行に沿った行間隔S1が、列に沿った列間隔S2より大きい真空部材86の別の例示の実施の形態を示す。この実施の形態において、行は互いからずれて、斜めの列を形成する。下記の表は、0.2mm厚のガラス基板を使用した、50kPaの圧力を印加した状態の図6および11〜13に示された真空部材の実施の形態の特定の性質を示している。これらの値は、例示に過ぎず、制限を意図しない。 FIGS. 11-13 illustrate other vacuum member embodiments having other array arrangements of vacuum openings. In the embodiment of FIG. 11, the vacuum member 80 includes many of the features described above with respect to the vacuum member 56. In this exemplary embodiment, the vacuum member 80 comprises an array of vacuum openings 84 disposed in both rows R 1 -R x and columns C 1 -C x , thereby providing a local suction point. However, in this embodiment, the row spacing S 1 is greater than the column spacing S 2 along the columns. FIG. 12 shows another exemplary embodiment of a vacuum member 81 in which the row spacing S 1 along the rows is greater than the column spacing S 2 along the columns. FIG. 13 illustrates another exemplary embodiment of a vacuum member 86 where the row spacing S 1 along the rows is greater than the column spacing S 2 along the columns. In this embodiment, the rows are offset from each other to form diagonal columns. The table below shows certain properties of the embodiment of the vacuum member shown in FIGS. 6 and 11-13 using a 0.2 mm thick glass substrate and applying a pressure of 50 kPa. These values are merely examples and are not intended to be limiting.

Figure 2018522810
Figure 2018522810

表から分かるように、有限要素解析(FEA)を使用して決定した最大主応力により、使用中に20MPa未満の応力が生じ得、それにより、ガラス基板のエッジでのまたはその近くでのガラス損傷の傾向が減少し得る。最大主応力は、ガラス基板への全引張応力効果の指標である。   As can be seen from the table, the maximum principal stress determined using finite element analysis (FEA) can produce stresses of less than 20 MPa during use, thereby causing glass damage at or near the edge of the glass substrate. The tendency of can be reduced. Maximum principal stress is an indicator of the effect of total tensile stress on the glass substrate.

図14を参照すると、多数の真空部材102、104、106および108を備えた例示のガラス支持システム100が示されている(例えば、図3の仕上げ装置に使用するための)。一例として、真空部材は、上述した真空部材のいずれか1つ以上であって差し支えない。図から分かるように、真空部材102および108は、ガラス基板114のエッジ110および112の最も近くにある最も外側の真空部材であり、真空部材104および106は、エッジ110および112から最も遠くにある最も内側の真空部材である。真空部材102、104、106および108は、全てが同じ寸法の(または異なる寸法の)ものであってよく、ガラス基板114の実質的に全長に沿って延在し得る。ガラス仕上げ操作のために、上述したように、突出領域116および118を設けてもよい。   Referring to FIG. 14, an exemplary glass support system 100 with multiple vacuum members 102, 104, 106 and 108 is shown (eg, for use with the finishing apparatus of FIG. 3). As an example, the vacuum member may be any one or more of the above-described vacuum members. As can be seen, the vacuum members 102 and 108 are the outermost vacuum members closest to the edges 110 and 112 of the glass substrate 114, and the vacuum members 104 and 106 are furthest from the edges 110 and 112. It is the innermost vacuum member. The vacuum members 102, 104, 106 and 108 may all be the same dimension (or different dimensions) and may extend along substantially the entire length of the glass substrate 114. Protruding regions 116 and 118 may be provided for glass finishing operations as described above.

図3に戻ると、ガラス基板50がガラス支持システム46により一旦支持されたら、ガラス基板50およびガラス支持システム46は、ガラス移送システム44によって、仕上げ装置40のエッジ研削システム120に平行移動される。エッジ研削システム120は、一般に、ガラス基板50の互いの反対のエッジ48および58に配置された砥石車アセンブリ122および124を備えることがある。他の実施の形態において、ただ1つの砥石車アセンブリだけを使用してもよい、または4つまでの砥石車アセンブリ、すなわち、ガラス基板50の各エッジ48、58、126および128に1つずつがあってもよい。   Returning to FIG. 3, once the glass substrate 50 is supported by the glass support system 46, the glass substrate 50 and the glass support system 46 are translated by the glass transfer system 44 to the edge grinding system 120 of the finishing device 40. The edge grinding system 120 may generally include grinding wheel assemblies 122 and 124 disposed on opposite edges 48 and 58 of the glass substrate 50. In other embodiments, only one grinding wheel assembly may be used, or up to four grinding wheel assemblies, one for each edge 48, 58, 126 and 128 of the glass substrate 50. There may be.

砥石車アセンブリ122および124の各々は、ガラス基板50のエッジ48および58を研削し形削りするために使用される砥石車127および砥石車127を回転させるために使用されるモータ129を備えることがある。いくつかの実施の形態において、砥石車アセンブリ122および124の各々は、それぞれのエッジ48および58に向かってとそれから離して砥石車127を動かすために使用できる駆動機構130をさらに備えることがある。砥石車アセンブリ122および124、ガラス支持システム46、並びにガラス移送システム44の操作を制御する制御装置135が設けられることがある。図示された実施の形態において、砥石車127は成形ホイールである。しかしながら、他の砥石車を使用してもよい。一時的に図15を参照すると、成形ホイール127は略円柱形状を有し、また成形ホイール127は、それぞれのエッジ48および58に望ましいプロファイルに相補的なプロファイルを有し、かつ成形ホイール127の研削面として働く1つ以上の凹部132を備える。他の実施の形態において、砥石車127の一方または両方は、それらの平面でガラス基板50のエッジと接触する一対のカップホイールを備えることがある。   Each of the grinding wheel assemblies 122 and 124 includes a grinding wheel 127 that is used to grind and shape the edges 48 and 58 of the glass substrate 50 and a motor 129 that is used to rotate the grinding wheel 127. is there. In some embodiments, each of the grinding wheel assemblies 122 and 124 may further include a drive mechanism 130 that can be used to move the grinding wheel 127 toward and away from the respective edges 48 and 58. A controller 135 that controls the operation of the grinding wheel assemblies 122 and 124, the glass support system 46, and the glass transfer system 44 may be provided. In the illustrated embodiment, the grinding wheel 127 is a forming wheel. However, other grinding wheels may be used. Referring temporarily to FIG. 15, the forming wheel 127 has a generally cylindrical shape, and the forming wheel 127 has a profile that is complementary to the desired profile at the respective edges 48 and 58, and grinding of the forming wheel 127. One or more recesses 132 serving as surfaces are provided. In other embodiments, one or both of the grinding wheels 127 may include a pair of cup wheels that contact the edges of the glass substrate 50 in their plane.

再び図3を参照すると、真空部材54および56を含むガラス支持システム46でガラス基板50を支持した状態で、ガラス移送システム44は、支持システム46およびガラス基板50を砥石車アセンブリ122および124に平行移動させ、そこで、砥石車127がガラス基板50のエッジ48および58と係合する。今度は図16を参照すると、表示されたグラフは、例えば、図6の真空部材56により示されるような、真空開口の規則的分布により与えられる、減少したエッジ面取り部非対称性を示す。図から分かるように、真空部材56はエッジ48をさらに安定化させ、これにより、第一の面取り部と表面との界面26(線140により示される)および第二の面取り部と表面との界面28(線142により示される)の間に比較的高度の対称性が維持される。線144により示されるように、非対称係数(FOA)は、第一の面取り部と表面との界面26および第二の面取り部と表面との界面28の間の対称性における比較的小さい変化を示す。このFOAは、ガラス基板50の厚さおよび第一の面取り部と表面との界面26および第二の面取り部と表面との界面28の間の面取り差分(面取り幅の差)と等しい。FOAが高いほど、第一の面取り部と表面との界面26および第二の面取り部と表面との界面28の間の対称性が低くなる。   Referring again to FIG. 3, with the glass substrate 50 supported by the glass support system 46 including the vacuum members 54 and 56, the glass transfer system 44 parallels the support system 46 and the glass substrate 50 to the grinding wheel assemblies 122 and 124. There, the grinding wheel 127 engages the edges 48 and 58 of the glass substrate 50. Referring now to FIG. 16, the displayed graph shows a reduced edge chamfer asymmetry provided by a regular distribution of vacuum openings, such as shown by the vacuum member 56 of FIG. As can be seen, the vacuum member 56 further stabilizes the edge 48 so that the first chamfer-surface interface 26 (indicated by line 140) and the second chamfer-surface interface. A relatively high degree of symmetry is maintained during 28 (indicated by line 142). As indicated by line 144, the asymmetry factor (FOA) indicates a relatively small change in symmetry between the first chamfer-surface interface 26 and the second chamfer-surface interface 28. . This FOA is equal to the thickness of the glass substrate 50 and the chamfering difference (difference in chamfering width) between the interface 26 between the first chamfered portion and the surface and the interface 28 between the second chamfered portion and the surface. The higher the FOA, the lower the symmetry between the first chamfered portion / surface interface 26 and the second chamfered portion / surface interface 28.

まだ図16を参照すると、FOAは、ガラス基板50の前方領域150および後方領域152で(すなわち、角で)増加する傾向にあるであろうことが分かる。図17を参照すると、エッジ48および58の剛性は、全般的な突き出たエッジ48および58と比べて、前縁と後縁の角154、156、158および160(図3)で比較的低い(例えば、60パーセントまで低い)。さらに、図18に示されるように、曲げ剛性(D)は、ガラス基板の厚さが約0.6mm未満では、比較的低いままである傾向にあり、約0.25mm以下では比較的平坦になる。曲げ剛性(D)は、ヤング率(E)、厚さ(t)およびポアソン比(ν)の関数であり、下記の式により与えられる:   Still referring to FIG. 16, it can be seen that the FOA will tend to increase in the front region 150 and the rear region 152 (ie, in the corners) of the glass substrate 50. Referring to FIG. 17, the stiffness of edges 48 and 58 is relatively low at leading and trailing edge corners 154, 156, 158 and 160 (FIG. 3) compared to general protruding edges 48 and 58 (FIG. 3). For example, as low as 60 percent). Further, as shown in FIG. 18, the bending stiffness (D) tends to remain relatively low when the glass substrate thickness is less than about 0.6 mm, and relatively flat below about 0.25 mm. Become. Flexural rigidity (D) is a function of Young's modulus (E), thickness (t) and Poisson's ratio (ν) and is given by the following formula:

Figure 2018522810
Figure 2018522810

より低い剛性を有することに加え、ガラス基板50の入ってくる前縁の角154および156(図3)は、冷却液(例えば、水)の直接噴射および砥石車127との急な衝突に曝されるであろう。これにより、面取り過程中にガラス基板50のより大きい垂直変位が生じ得る。角154、156、158および160に近いエッジの品質は、エッジ面取り部の非対称性のために、ある場合には、期待されるよりも低いことがあり、これにより、特に取扱い中に、ガラスの割れおよび破損の問題が生じ得る。 In addition to having lower stiffness, the leading edge corners 154 and 156 (FIG. 3) of the glass substrate 50 are subject to direct injection of coolant (eg, water) and sudden impact with the grinding wheel 127. Will be done. This can cause a greater vertical displacement of the glass substrate 50 during the chamfering process. Edge quality close to corners 154, 156, 158 and 160 may be lower than expected in some cases due to the asymmetry of the edge chamfers, which makes the glass particularly difficult during handling. Cracking and breakage problems can occur.

図3に戻ると、仕上げ装置40は、砥石車/ガラスの界面でガラス基板のエッジ48および58に局所的支持を与えるエッジ案内アセンブリ170を備えることがある。図から分かるように、エッジ案内アセンブリ170は、ガラスのエッジ48および58の垂直支持を増加させるために、真空部材54および56の外側に、ガラス移送システム44に対して静止しており、真空部材54および56と、それぞれの砥石車127との間に、配置されるまたは位置付けられることがある。図19は、砥石車127およびエッジ案内アセンブリ170の概略図を示している。この実施の形態において、ガラス基板と接触し、それを支持する案内長さLは、砥石車のホイール直径D以下である。ガラス基板50と接触したエッジ案内アセンブリ170と砥石車127との間の距離Tは、突出距離DOHを最小にするために、少なくとも一部には、ガラス基板の厚さに基づいて調節することができ、これにより、エッジの安定性を増すことができる。 Returning to FIG. 3, the finishing device 40 may include an edge guide assembly 170 that provides local support to the edges 48 and 58 of the glass substrate at the grinding wheel / glass interface. As can be seen, the edge guide assembly 170 is stationary relative to the glass transfer system 44 outside the vacuum members 54 and 56 to increase the vertical support of the glass edges 48 and 58, and the vacuum member 54 and 56 and the respective grinding wheel 127 may be placed or positioned. FIG. 19 shows a schematic view of grinding wheel 127 and edge guide assembly 170. In this embodiment, the guide length L that contacts and supports the glass substrate is less than or equal to the wheel diameter D of the grinding wheel. The distance T between the edge guide assembly 170 in contact with the glass substrate 50 and the grinding wheel 127 is adjusted based at least in part on the thickness of the glass substrate to minimize the protruding distance DOH. This can increase edge stability.

図20を参照すると、エッジ案内アセンブリ170の概略図は、下側エッジ案内部材172および上側エッジ案内部材174を備える。下側エッジ案内部材172は、ガラス基板50の広い表面178と接触するように配置された案内面176を備える。上側エッジ案内部材174も、ガラス基板50の広い表面182と接触するように配置された、案内面176に面する案内面180を備える。案内面176および180は、固体であっても、または以下に記載するように、ローラ、ベルトなどの移動部材から形成されてもよい。案内面176および180は、ガラス基板50と接触し、それを案内するためのどの適切な材料から形成されてもよい。そのエッジ案内アセンブリは、面取り過程中にガラス基板50を位置付けるために、上側エッジ案内部材174および下側エッジ案内部材172の一方または両方を、閉鎖位置と開放配置(点線により示される)との間で互いに向けて、また互いから離して動くことができる1つ以上の位置決めアクチュエータ184および186(例えば、空気圧シリンダ)をさらに備えることがある。他の実施の形態において、上側エッジ案内部材174および下側エッジ案内部材172の一方または両方が、他方に対する位置が固定されていてもよい。   Referring to FIG. 20, the schematic diagram of the edge guide assembly 170 includes a lower edge guide member 172 and an upper edge guide member 174. The lower edge guide member 172 includes a guide surface 176 disposed so as to contact the wide surface 178 of the glass substrate 50. The upper edge guide member 174 also includes a guide surface 180 facing the guide surface 176 that is arranged to contact the large surface 182 of the glass substrate 50. Guide surfaces 176 and 180 may be solid or formed from moving members such as rollers, belts, etc., as described below. Guide surfaces 176 and 180 may be formed from any suitable material for contacting and guiding the glass substrate 50. The edge guide assembly places one or both of the upper edge guide member 174 and the lower edge guide member 172 between a closed position and an open configuration (indicated by dotted lines) to position the glass substrate 50 during the chamfering process. May further comprise one or more positioning actuators 184 and 186 (eg, pneumatic cylinders) that can move toward and away from each other. In another embodiment, the position of one or both of the upper edge guide member 174 and the lower edge guide member 172 with respect to the other may be fixed.

図21および22を参照すると、砥石車204および図示された上昇した水平の向きに砥石車204を支持する支持構造206を含む砥石車アセンブリ202を備えた仕上げ装置200が示されている。仕上げ装置200はエッジ案内アセンブリ208をさらに備えることがある。エッジ案内アセンブリ208は下側エッジ案内部材210および上側エッジ案内部材212を備えることができる。下側エッジ案内部材210および上側エッジ案内部材212の両方とも、ガラス基板のエッジと接触し、それを案内するように構成された動的支持面を形成するローラ205、215(図21に205および図22に215)を備える。図21に示された例において、エッジ案内アセンブリ208は、上側エッジ案内部材212がアクチュエータアセンブリ214によって下側エッジ案内部材210から引っ込められている開放配置で示されている。下側エッジ案内部材210は位置が固定されていてもよい。いくつかの実施の形態において、エッジ案内アセンブリ208は、砥石車204を支持する支持構造206によって、少なくとも部分的に支持されることがある。いくつかの実施の形態において、エッジ案内アセンブリ208の少なくとも一部は、支持構造206から独立したそれ自体の支持構造を備える。アクチュエータアセンブリ214は、上述したようにガラス基板のエッジを支持するために、上側エッジ案内部材212を下側エッジ案内部材210により近い伸展位置に動かすことができる(図22)。   Referring to FIGS. 21 and 22, a finishing apparatus 200 is shown that includes a grinding wheel assembly 202 that includes a grinding wheel 204 and a support structure 206 that supports the grinding wheel 204 in the illustrated elevated horizontal orientation. The finishing device 200 may further comprise an edge guide assembly 208. The edge guide assembly 208 can include a lower edge guide member 210 and an upper edge guide member 212. Both the lower edge guide member 210 and the upper edge guide member 212 are in contact with the edges of the glass substrate and form rollers 205, 215 (205 and 215 in FIG. 21) that form dynamic support surfaces configured to guide them. FIG. 22 includes 215). In the example shown in FIG. 21, the edge guide assembly 208 is shown in an open configuration in which the upper edge guide member 212 is retracted from the lower edge guide member 210 by the actuator assembly 214. The position of the lower edge guide member 210 may be fixed. In some embodiments, the edge guide assembly 208 may be at least partially supported by a support structure 206 that supports the grinding wheel 204. In some embodiments, at least a portion of the edge guide assembly 208 comprises its own support structure that is independent of the support structure 206. Actuator assembly 214 can move upper edge guide member 212 to an extended position closer to lower edge guide member 210 to support the edge of the glass substrate as described above (FIG. 22).

図23および24を参照すると、別の仕上げ装置220は、砥石車224および図示された上昇した水平の向きに砥石車224を支持する支持構造226を含む砥石車アセンブリ222を備える。仕上げ装置220はエッジ案内アセンブリ228をさらに備える。エッジ案内アセンブリ228は下側エッジ案内部材230および上側エッジ案内部材232を備える。下側エッジ案内部材230および上側エッジ案内部材232の両方とも、ガラス基板236のエッジ234と接触し、それを案内するように構成された動的支持面を形成するローラ235を備える。図23および24に示された例において、エッジ案内アセンブリ228は、下側エッジ案内部材230がアクチュエータアセンブリ238によって上側エッジ案内部材232に向かって伸展されている閉鎖配置で示されている。上側エッジ案内部材232は位置が固定されていてもよい。   Referring to FIGS. 23 and 24, another finishing device 220 includes a grinding wheel assembly 222 that includes a grinding wheel 224 and a support structure 226 that supports the grinding wheel 224 in the illustrated elevated horizontal orientation. The finishing device 220 further comprises an edge guide assembly 228. The edge guide assembly 228 includes a lower edge guide member 230 and an upper edge guide member 232. Both the lower edge guide member 230 and the upper edge guide member 232 include a roller 235 that forms a dynamic support surface configured to contact and guide the edge 234 of the glass substrate 236. In the example shown in FIGS. 23 and 24, the edge guide assembly 228 is shown in a closed configuration in which the lower edge guide member 230 is extended by the actuator assembly 238 toward the upper edge guide member 232. The position of the upper edge guide member 232 may be fixed.

図25を参照すると、別のエッジ案内アセンブリ250が示されており、それは、下側案内部材252および上側案内部材254を備えることがある。この実施の形態において、下側と上側の案内部材252および254の両方とも、ベルトアセンブリ256および258を備える。下側案内部材252のベルトアセンブリ256は、ガラス基板と接触し、それを案内するのに適した案内面262を有するベルト260を備える。ベルト260は、それらの周りでベルト260が移動する端部ローラ264および266、並びに端部ローラ264および266の間のベルト260の部分を支持できる中間ローラ268によって駆動され、支持されることがある。上側案内部材254のベルトアセンブリ258は、ガラス基板と接触し、それを案内するのに適した案内面270を有するベルト269を備える。ベルト269は、中間ローラを使用せずに、それらの周りでベルト269が移動する端部ローラ272および274によって駆動され、支持される。エッジ案内アセンブリ250は、ローラ配置が異なる下側と上側の案内部材252および254を示しているが、それらのローラ配置が同じであってもよい。   Referring to FIG. 25, another edge guide assembly 250 is shown, which may include a lower guide member 252 and an upper guide member 254. In this embodiment, both lower and upper guide members 252 and 254 include belt assemblies 256 and 258. The belt assembly 256 of the lower guide member 252 comprises a belt 260 having a guide surface 262 suitable for contacting and guiding the glass substrate. The belt 260 may be driven and supported by end rollers 264 and 266 about which the belt 260 moves and an intermediate roller 268 that can support the portion of the belt 260 between the end rollers 264 and 266. . The belt assembly 258 of the upper guide member 254 includes a belt 269 having a guide surface 270 suitable for contacting and guiding the glass substrate. The belt 269 is driven and supported by end rollers 272 and 274 about which the belt 269 moves without using intermediate rollers. The edge guide assembly 250 shows lower and upper guide members 252 and 254 with different roller arrangements, but the roller arrangements may be the same.

図26を参照すると、別のエッジ案内アセンブリ280が示されており、それは、下側案内部材282および上側案内部材284を備える。この実施の形態において、下側と上側の案内部材282および284の両方とも、ガラス基板と接触するのに適した材料の固体バー286および288として形成することができる。下側案内部材282および上側案内部材284は、互いから間隔が空けられて、供給方向に延在し、ガラス基板の全厚を受け入れるようなサイズの溝290を形成することができる。いくつかの実施の形態において、溝290は、引き込み部分292および導出部分294を備えることがある。引き込み部分292および導出部分294は、ガラス基板をその溝に出入りするように案内するために、溝290の残りよりも幅広いことがある。   Referring to FIG. 26, another edge guide assembly 280 is shown, which includes a lower guide member 282 and an upper guide member 284. In this embodiment, both the lower and upper guide members 282 and 284 can be formed as solid bars 286 and 288 of material suitable for contacting the glass substrate. The lower guide member 282 and the upper guide member 284 can be spaced apart from each other to form a groove 290 sized to extend in the supply direction and receive the full thickness of the glass substrate. In some embodiments, the groove 290 may comprise a lead-in portion 292 and a lead-out portion 294. The lead-in portion 292 and the lead-out portion 294 may be wider than the remainder of the groove 290 to guide the glass substrate into and out of the groove.

図27を参照すると、別のエッジ案内アセンブリ300が示されており、それは、下側案内部材302および上側案内部材304を備える。この実施の形態において、上側案内部材304は、ガラス基板と接触するのに適した材料の固体バー306として形成されている。下側案内部材302は、ローラ310により形成された動的案内面308を有する。他の実施の形態において、上側および/または下側案内部材は、空気ベアリング、空気/圧力ベアリングまたは超音波非接触ベアリングを使用して形成されることがある。   Referring to FIG. 27, another edge guide assembly 300 is shown that includes a lower guide member 302 and an upper guide member 304. In this embodiment, the upper guide member 304 is formed as a solid bar 306 of a material suitable for contacting the glass substrate. The lower guide member 302 has a dynamic guide surface 308 formed by a roller 310. In other embodiments, the upper and / or lower guide members may be formed using air bearings, air / pressure bearings or ultrasonic non-contact bearings.

図28は、例えば、図27のエッジ案内アセンブリ300により示されるような、エッジ案内アセンブリの使用により与えられる、減少したエッジ面取り部非対称性を示す代表的なグラフを示している。図から分かるように、エッジ案内アセンブリ300はエッジをさらに安定化させ、これにより、第一の面取り部と表面との界面(線312により示される)および第二の面取り部と表面との界面(線314により示される)の間に比較的高度の対称性が維持される。線316により示されるように、FOAは、第一の面取り部と表面との界面および第二の面取り部と表面との界面の間に比較的小さい変化を示す。   FIG. 28 shows a representative graph illustrating the reduced edge chamfer asymmetry provided by the use of an edge guide assembly, for example, as shown by the edge guide assembly 300 of FIG. As can be seen, the edge guide assembly 300 further stabilizes the edge so that the first chamfer and surface interface (shown by line 312) and the second chamfer and surface interface ( A relatively high degree of symmetry is maintained during (shown by line 314). As indicated by line 316, the FOA exhibits a relatively small change between the first chamfer and surface interface and the second chamfer and surface interface.

上述したガラス支持システムおよび方法は、面取りまたは他の仕上げ過程中のガラスエッジの非対称性を減少させるために使用できる、規則的に間隔が空けられた局所的吸引点のアレイを有する真空部材およびエッジ案内アセンブリの一方または両方を提供することができる。ガラスエッジの非対称性の減少は、ガラス基板の面外の撓みを減少させ、平坦なエッジを砥石車に提示することによって達成できる。ガラスエッジの対称性を改善することにより、ガラスエッジの強度を改善することができ、これにより、ガラスの割れまたは破損の可能性を減少させることができる。   The glass support system and method described above provides a vacuum member and edge having an array of regularly spaced local suction points that can be used to reduce glass edge asymmetry during chamfering or other finishing processes. One or both of the guide assemblies can be provided. Reduction of glass edge asymmetry can be achieved by reducing out-of-plane deflection of the glass substrate and presenting a flat edge to the grinding wheel. By improving the symmetry of the glass edge, the strength of the glass edge can be improved, thereby reducing the possibility of glass breakage or breakage.

請求項に記載された主題の精神および範囲から逸脱せずに、ここに記載された実施の形態に、様々な改変および変更を行えることが、当業者に明白であろう。それゆえ、本明細書は、ここに記載された様々な実施の形態の改変および変更を、そのような改変および変更が、付随の特許請求の範囲およびその同等物の範囲に入るという条件で網羅することが意図されている。   It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made to the embodiments described herein without departing from the spirit and scope of the claimed subject matter. This specification is therefore intended to cover the modifications and variations of the various embodiments described herein, provided that such modifications and changes fall within the scope of the appended claims and their equivalents. Is intended to be.

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。   Hereinafter, preferable embodiments of the present invention will be described in terms of items.

実施形態1
ガラス支持システムにおいて、
ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であって、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を備える真空部材、
を備え、
前記真空開口のアレイは、多数の並んだ行で、該多数の行の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔で配列されている、ガラス支持システム。
Embodiment 1
In glass support system,
A vacuum member configured to extend longitudinally in a glass supply direction along an edge of a glass substrate, the vacuum member including a pressure chamber disposed therein, and communicates with and extends in the pressure chamber A vacuum member comprising a support surface having an array of vacuum apertures to
With
The glass support system, wherein the array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows with substantially uniform spacing between the vacuum apertures along each of the plurality of rows.

実施形態2
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ列であって、該多数の列の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する列で配置されている、実施形態1に記載のガラス支持システム。
Embodiment 2
Embodiment 1 wherein the array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows, with substantially uniform spacing between the vacuum openings along each of the plurality of rows. The glass support system as described.

実施形態3
前記真空開口のアレイが、100cm2の支持表面積当たり少なくとも約25の開口を有する、実施形態1に記載のガラス支持システム。
Embodiment 3
The glass support system of embodiment 1, wherein the array of vacuum openings has at least about 25 openings per 100 cm 2 of support surface area.

実施形態4
前記真空開口の幅が約10mm以下である、実施形態1に記載のガラス支持システム。
Embodiment 4
The glass support system of embodiment 1, wherein the vacuum opening has a width of about 10 mm or less.

実施形態5
前記真空開口の半径が約2mm以下である、実施形態1に記載のガラス支持システム。
Embodiment 5
The glass support system of embodiment 1, wherein the radius of the vacuum opening is about 2 mm or less.

実施形態6
前記支持面が柔軟材料から作られている、実施形態1に記載のガラス支持システム。
Embodiment 6
The glass support system of embodiment 1, wherein the support surface is made from a flexible material.

実施形態7
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリをさらに備える、実施形態1に記載のガラス支持システム。
Embodiment 7
2. The glass of embodiment 1, further comprising an edge guide assembly including an upper edge guide member and a lower edge guide member spaced from the upper edge guide member to provide a path through which the glass substrate can move. Support system.

実施形態8
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された動的支持面を形成するローラを含む、実施形態7に記載のガラス支持システム。
Embodiment 8
8. The glass support system of embodiment 7, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member includes a roller that forms a dynamic support surface configured to contact the glass substrate.

実施形態9
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された材料のバーを備える、実施形態7に記載のガラス支持システム。
Embodiment 9
8. The glass support system of embodiment 7, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member comprises a bar of material configured to contact the glass substrate.

実施形態10
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された案内面を備えたベルトを含むベルトアセンブリを備える、実施形態7に記載のガラス支持システム。
Embodiment 10
8. The glass support system of embodiment 7, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member comprises a belt assembly including a belt with a guide surface configured to contact the glass substrate. .

実施形態11
ガラスエッジ仕上げ装置において、
ガラス移送システム、および
前記ガラス移送システムによってガラス供給方向に動かされるガラス支持システムであって、厚さが約0.7mm以下であり、略平面および該略平面に対して垂直な面外方向を有するガラス基板を支持するように構成され、
前記ガラス基板のエッジに沿って、前記ガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であり、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体、および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する、100cm2の支持表面積当たり少なくとも約25の開口の開口密度を持つ真空開口のアレイを有する支持面を備えた真空部材、
を含むガラス支持システム、
を備えたガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 11
In glass edge finishing equipment,
A glass transfer system, and a glass support system moved in the glass supply direction by the glass transfer system, having a thickness of about 0.7 mm or less and having a substantially plane and an out-of-plane direction perpendicular to the substantially plane Configured to support a glass substrate,
A vacuum member configured to extend longitudinally in the glass supply direction along an edge of the glass substrate, the vacuum body including a pressure chamber disposed therein, and in communication with the pressure chamber; A vacuum member having a support surface with an array of vacuum apertures having an aperture density of at least about 25 apertures per 100 cm 2 of support surface area extending through
Glass support system, including
Glass edge finishing equipment equipped with.

実施形態12
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ列であって、該多数の列の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する列で配置されている、実施形態11に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 12
Embodiment 12. The embodiment wherein the array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows with substantially uniform spacing between the vacuum openings along each of the plurality of rows. The glass edge finishing apparatus as described.

実施形態13
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ行であって、該多数の行の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する行で配列されている、実施形態12に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 13
Embodiment 12 wherein the array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows with substantially uniform spacing between the vacuum apertures along each of the plurality of rows. The glass edge finishing apparatus as described.

実施形態14
前記真空開口の幅が約10mm以下である、実施形態11に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 14
The glass edge finishing apparatus according to embodiment 11, wherein the width of the vacuum opening is about 10 mm or less.

実施形態15
前記真空開口の幅が約4mm以下である、実施形態11に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 15
The glass edge finishing apparatus according to embodiment 11, wherein the width of the vacuum opening is about 4 mm or less.

実施形態16
前記支持面が柔軟材料から作られている、実施形態11に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 16
The glass edge finishing apparatus according to embodiment 11, wherein the support surface is made of a flexible material.

実施形態17
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリをさらに備える、実施形態11に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 17
12. The glass of embodiment 11, further comprising an edge guide assembly including an upper edge guide member and a lower edge guide member spaced from the upper edge guide member to provide a path through which the glass substrate can move. Edge finishing device.

実施形態18
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された動的支持面を形成するローラを含む、実施形態17に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 18
18. The glass edge finishing apparatus according to embodiment 17, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member includes a roller that forms a dynamic support surface configured to contact the glass substrate.

実施形態19
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された材料のバーを備える、実施形態17に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 19
The glass edge finishing device according to embodiment 17, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member comprises a bar of material configured to contact the glass substrate.

実施形態20
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された案内面を備えたベルトを含むベルトアセンブリを備える、実施形態17に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 20.
The glass edge finish of embodiment 17, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member comprises a belt assembly including a belt with a guide surface configured to contact the glass substrate. apparatus.

実施形態21
前記ガラス基板のエッジを面取りするように構成された砥石車アセンブリをさらに備える、実施形態17に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 21.
The glass edge finishing apparatus according to embodiment 17, further comprising a grinding wheel assembly configured to chamfer an edge of the glass substrate.

実施形態22
ガラス基板のエッジを仕上げる方法において、
前記ガラス基板をガラス支持システム上で支持する工程であって、該ガラス基板は、略平面、約0.7mm以下の厚さ、および前記略平面に対して垂直な面外方向を有し、前記ガラス支持システムは、
前記ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であり、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する、100cm2当たり少なくとも約25の開口の開口密度を持つ真空開口のアレイを有する支持面を備える真空部材、
を含むものである工程、
前記真空開口のアレイを通じて、負圧を前記略平面に印加する工程、および
砥石車アセンブリを使用して、前記ガラス基板のエッジを面取りする工程、
を有してなる方法。
Embodiment 22
In the method of finishing the edge of the glass substrate,
Supporting the glass substrate on a glass support system, the glass substrate having a substantially plane, a thickness of about 0.7 mm or less, and an out-of-plane direction perpendicular to the substantially plane; Glass support system
A vacuum member configured to extend longitudinally in a glass supply direction along an edge of the glass substrate, and communicates with and extends through a vacuum body including a pressure chamber disposed therein and the pressure chamber. A vacuum member comprising a support surface having an array of vacuum apertures having an aperture density of at least about 25 apertures per 100 cm 2 ;
A process that includes
Applying a negative pressure to the substantially planar surface through the array of vacuum openings, and chamfering the edge of the glass substrate using a grinding wheel assembly;
A method comprising:

実施形態23
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリを使用して、前記ガラス基板を支持する工程をさらに含む、実施形態22に記載の方法。
Embodiment 23
An edge guide assembly including an upper edge guide member and a lower edge guide member spaced from the upper edge guide member to provide a path through which the glass substrate can move is used to support the glass substrate. The method of embodiment 22, further comprising a step.

実施形態24
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ列であって、該多数の列の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する列で配置されている、実施形態22に記載の方法。
Embodiment 24.
Embodiment 22 wherein the array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows with substantially uniform spacing between the vacuum apertures along each of the plurality of rows. The method described.

実施形態25
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ行であって、該多数の行の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する行で配列されている、実施形態24に記載の方法。
Embodiment 25
Embodiment 25 wherein the array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows, with substantially uniform spacing between the vacuum apertures along each of the plurality of rows. The method described.

実施形態26
前記真空部材上に前記ガラス基板を位置決めして、該真空部材と該ガラス基板のエッジとの間に突出部を与える工程をさらに含む、実施形態22に記載の方法。
Embodiment 26.
23. The method of embodiment 22, further comprising positioning the glass substrate on the vacuum member to provide a protrusion between the vacuum member and an edge of the glass substrate.

実施形態27
ガラスエッジ仕上げ装置において、
ガラス移送システム、
前記ガラス移送システムによってガラス供給方向に可動であるガラス支持システムであって、厚さが約0.7mm以下であり、略平面およびその略平面に対して垂直な面外方向を有するガラス基板を支持するように構成され、
前記ガラス供給方向に前記ガラス基板のエッジに沿って長手に延在するように構成された真空部材であり、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する複数の真空開口を有する支持面を備えた真空部材、
を含むガラス支持システム、
砥石車アセンブリであって、前記ガラス基板が前記ガラス移送システムによって前記ガラス供給方向に該砥石車アセンブリにより動かされるときに、該ガラス基板のエッジを面取りするように構成された砥石車アセンブリ、および
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が置かれた下側エッジ案内部材を備えた、前記砥石車アセンブリと前記真空部材との間に配置されたエッジ案内アセンブリ、
を備えたガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 27.
In glass edge finishing equipment,
Glass transfer system,
A glass support system that is movable in the glass supply direction by the glass transfer system, and that supports a glass substrate having a thickness of about 0.7 mm or less and having a substantially plane and an out-of-plane direction perpendicular to the substantially plane. Configured to
A vacuum member configured to extend longitudinally along an edge of the glass substrate in the glass supply direction, and communicates with and extends through a vacuum body including a pressure chamber disposed therein and the pressure chamber. A vacuum member having a support surface having a plurality of existing vacuum openings;
Glass support system, including
A grinding wheel assembly configured to chamfer an edge of the glass substrate when the glass substrate is moved by the grinding wheel assembly in the glass supply direction by the glass transfer system; and Located between the grinding wheel assembly and the vacuum member, comprising an upper edge guide member and a lower edge guide member spaced from the upper edge guide member to provide a path through which the glass substrate can move. Edge guide assembly,
Glass edge finishing equipment equipped with.

実施形態28
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された動的支持面を形成するローラを含む、実施形態27に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 28.
28. The glass edge finishing apparatus according to embodiment 27, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member includes a roller that forms a dynamic support surface configured to contact the glass substrate.

実施形態29
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された材料のバーを備える、実施形態27に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 29.
28. The glass edge finishing apparatus according to embodiment 27, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member comprises a bar of material configured to contact the glass substrate.

実施形態30
前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された案内面を備えたベルトを含むベルトアセンブリを備える、実施形態27に記載のガラスエッジ仕上げ装置。
Embodiment 30.
28. The glass edge finish of embodiment 27, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member comprises a belt assembly including a belt with a guide surface configured to contact the glass substrate. apparatus.

10、50、114 ガラス基板
12、48、110、112 エッジ
14 第一の表面
16 第二の表面
18 先端
20 第一の面取り部分
22 第二の面取り部分
26 第一の面取り部と表面との界面
28 第二の面取り部と表面との界面
40、200、220 ガラスエッジ仕上げ装置
42 支持装置
44 ガラス移送システム
46、100 ガラス支持システム
54、56、80、81、86、91、102、104、106、108 真空部材
64 真空開口のアレイ
66 真空開口
70、83、93 真空本体
72 支持面
74 柔軟部材
76 開口のアレイ
78、85、99 圧力チャンバ
120 エッジ研削システム
122、124、202、222 砥石車アセンブリ
127、204、224 砥石車、成形ホイール、カップホイール
129 モータ
130 駆動機構
170、208、228、250、280、300 エッジ案内アセンブリ
172、210、230、252、282、302 下側エッジ案内部材
174、212、232、254、284、304 上側エッジ案内部材
176、180、262、270、308 案内面
184、186 位置決めアクチュエータ
205、215、264、266、268、310 ローラ
256、258 ベルトアセンブリ
260、269 ベルト
286、288、306 固体バー
290 溝
10, 50, 114 Glass substrate 12, 48, 110, 112 Edge 14 First surface 16 Second surface 18 Tip 20 First chamfered portion 22 Second chamfered portion 26 Interface between first chamfered portion and surface 28 Interface between second chamfer and surface 40, 200, 220 Glass edge finishing device 42 Support device 44 Glass transfer system 46, 100 Glass support system 54, 56, 80, 81, 86, 91, 102, 104, 106 , 108 Vacuum member 64 Array of vacuum openings 66 Vacuum openings 70, 83, 93 Vacuum body 72 Support surface 74 Flexible member 76 Array of openings 78, 85, 99 Pressure chamber 120 Edge grinding system 122, 124, 202, 222 Grinding wheel assembly 127, 204, 224 Grinding wheel, molding wheel, cup wheel 12 Motor 130 Drive mechanism 170, 208, 228, 250, 280, 300 Edge guide assembly 172, 210, 230, 252, 282, 302 Lower edge guide member 174, 212, 232, 254, 284, 304 Upper edge guide member 176 , 180, 262, 270, 308 Guide surface 184, 186 Positioning actuator 205, 215, 264, 266, 268, 310 Roller 256, 258 Belt assembly 260, 269 Belt 286, 288, 306 Solid bar 290 Groove

Claims (15)

ガラス支持システムにおいて、
ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であって、その中に配置された圧力チャンバを含む真空本体および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する真空開口のアレイを有する支持面を備える真空部材、
を備え、
前記真空開口のアレイは、多数の並んだ行で、該多数の行の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔で配列されている、ガラス支持システム。
In glass support system,
A vacuum member configured to extend longitudinally in a glass supply direction along an edge of the glass substrate, the vacuum member including a pressure chamber disposed therein and the pressure chamber; A vacuum member comprising a support surface having an array of existing vacuum openings;
With
The glass support system, wherein the array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows with substantially uniform spacing between the vacuum apertures along each of the plurality of rows.
前記真空開口のアレイが、多数の並んだ列であって、該多数の列の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する列で配置されている、請求項1記載のガラス支持システム。   The array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows with substantially uniform spacing between the vacuum openings along each of the plurality of rows. Glass support system. 前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリをさらに備える、請求項1または2記載のガラス支持システム。   The edge guide assembly of claim 1 or 2, further comprising an upper edge guide member and a lower edge guide member spaced from the upper edge guide member to provide a path through which the glass substrate can move. Glass support system. 前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された動的支持面を形成するローラを含む、請求項3記載のガラス支持システム。   The glass support system of claim 3, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member includes a roller that forms a dynamic support surface configured to contact the glass substrate. 前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された材料のバーを備える、請求項3記載のガラス支持システム。   The glass support system of claim 3, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member comprises a bar of material configured to contact the glass substrate. 前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された案内面を備えたベルトを含むベルトアセンブリを備える、請求項3記載のガラス支持システム。   The glass support system of claim 3, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member comprises a belt assembly including a belt with a guide surface configured to contact the glass substrate. ガラスエッジ仕上げ装置において、
ガラス移送システム、および
前記ガラス移送システムによってガラス供給方向に動かされるガラス支持システムであって、厚さが約0.7mm以下であり、略平面および該略平面に対して垂直な面外方向を有するガラス基板を支持するように構成され、
前記ガラス基板のエッジに沿って、前記ガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であり、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体、および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する、100cm2の支持表面積当たり少なくとも約25の開口の開口密度を持つ真空開口のアレイを有する支持面を備えた真空部材、
を含むガラス支持システム、
を備えたガラスエッジ仕上げ装置。
In glass edge finishing equipment,
A glass transfer system, and a glass support system moved in the glass supply direction by the glass transfer system, having a thickness of about 0.7 mm or less and having a substantially plane and an out-of-plane direction perpendicular to the substantially plane Configured to support a glass substrate,
A vacuum member configured to extend longitudinally in the glass supply direction along an edge of the glass substrate, the vacuum body including a pressure chamber disposed therein, and in communication with the pressure chamber; A vacuum member having a support surface with an array of vacuum apertures having an aperture density of at least about 25 apertures per 100 cm 2 of support surface area extending through
Glass support system, including
Glass edge finishing equipment equipped with.
前記ガラス基板が移動できる経路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリをさらに備える、請求項7記載のガラスエッジ仕上げ装置。   The glass edge of claim 7, further comprising an edge guide assembly including an upper edge guide member and a lower edge guide member spaced from the upper edge guide member to provide a path through which the glass substrate can move. Finishing equipment. 前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された動的支持面を形成するローラを含む、請求項8記載のガラスエッジ仕上げ装置。   The glass edge finishing apparatus according to claim 8, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member includes a roller that forms a dynamic support surface configured to contact the glass substrate. 前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された材料のバーを備える、請求項8記載のガラスエッジ仕上げ装置。   The glass edge finishing device according to claim 8, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member comprises a bar of material configured to contact the glass substrate. 前記上側エッジ案内部材および前記下側エッジ案内部材の少なくとも一方が、前記ガラス基板と接触するように構成された案内面を備えたベルトを含むベルトアセンブリを備える、請求項8記載のガラスエッジ仕上げ装置。   9. The glass edge finishing apparatus of claim 8, wherein at least one of the upper edge guide member and the lower edge guide member comprises a belt assembly including a belt with a guide surface configured to contact the glass substrate. . ガラス基板のエッジを仕上げる方法において、
前記ガラス基板をガラス支持システム上で支持する工程であって、該ガラス基板は、略平面、約0.7mm以下の厚さ、および前記略平面に対して垂直な面外方向を有し、前記ガラス支持システムは、
前記ガラス基板のエッジに沿ってガラス供給方向に長手に延在するように構成された真空部材であり、中に配置された圧力チャンバを含む真空本体および前記圧力チャンバと連通し、中を延在する、100cm2当たり少なくとも約25の開口の開口密度を持つ真空開口のアレイを有する支持面を備える真空部材、
を含むものである工程、
前記真空開口のアレイを通じて、負圧を前記略平面に印加する工程、および
砥石車アセンブリを使用して、前記ガラス基板のエッジを面取りする工程、
を有してなる方法。
In the method of finishing the edge of the glass substrate,
Supporting the glass substrate on a glass support system, the glass substrate having a substantially plane, a thickness of about 0.7 mm or less, and an out-of-plane direction perpendicular to the substantially plane; Glass support system
A vacuum member configured to extend longitudinally in a glass supply direction along an edge of the glass substrate, and communicates with and extends through a vacuum body including a pressure chamber disposed therein and the pressure chamber. A vacuum member comprising a support surface having an array of vacuum apertures having an aperture density of at least about 25 apertures per 100 cm 2 ;
A process that includes
Applying a negative pressure to the substantially planar surface through the array of vacuum openings, and chamfering the edge of the glass substrate using a grinding wheel assembly;
A method comprising:
前記ガラス基板が移動できる通路を提供するために、上側エッジ案内部材および該上側エッジ案内部材から間隔が空けられた下側エッジ案内部材を含むエッジ案内アセンブリを使用して、前記ガラス基板を支持する工程をさらに含む、請求項12記載の方法。   An edge guide assembly including an upper edge guide member and a lower edge guide member spaced from the upper edge guide member to provide a path through which the glass substrate can move is used to support the glass substrate. The method of claim 12, further comprising a step. 前記真空開口のアレイが、多数の並んだ列であって、該多数の列の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する列で配置されている、請求項12または13記載の方法。   13. The array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows, the rows having a substantially uniform spacing between the vacuum apertures along each of the plurality of rows. 13. The method according to 13. 前記真空開口のアレイが、多数の並んだ行であって、該多数の行の各々に沿った前記真空開口の間に実質的に均一な間隔を有する行で配列されている、請求項14記載の方法。   The array of vacuum apertures is arranged in a number of side-by-side rows, with substantially uniform spacing between the vacuum apertures along each of the plurality of rows. the method of.
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