KR20180002277A - 폴리머 비드, 폴리머 비드의 제조방법 및 이를 이용한 광학용 필름 - Google Patents

폴리머 비드, 폴리머 비드의 제조방법 및 이를 이용한 광학용 필름 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 우수한 광학적 특성 및 내열성을 가지며, 자외선 영역의 빛을 조사함에 따라 변색성을 갖는 마이크론 사이즈의 폴리머 비드, 그 제조방법, 그리고 이를 이용한 광학용 필름에 관한 것이다.

Description

폴리머 비드, 폴리머 비드의 제조방법 및 이를 이용한 광학용 필름{POLYMERIC BEADS, PROCESS FOR PREPARING POLYMERIC BEADS AND OPTICAL FILM USING THE SAME}
본 발명은 폴리머 비드, 폴리머 비드의 제조방법 및 광학용 필름에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 우수한 광학적 특성 및 내열성을 가지며, 자외선 영역의 빛을 조사함에 따라 변색성을 갖는 마이크론 사이즈의 폴리머 비드, 폴리머 비드의 제조방법 및 광학용 필름에 관한 것이다.
폴리머 비드는 에멀전 중합이나 현탁 중합 등에 의하여 제조된 입경 분포가 균일한 구형의 입자를 총칭한다. 폴리머 비드의 용도는 매우 다양하여 액정 모니터의 광확산 필름, 보호 필름용 및 건축용으로 사용되고 있을 뿐 아니라, 칼라 잉크용 투명 필름의 코팅시에도 널리 사용되고 있다.
이러한 용도로 사용되는 폴리머 비드는 일반적으로 현탁중합(Suspension Polymerization), 분산중합(Dispersion Polymerization) 및 유화중합(Emulsion Polymerization) 등의 방법들로 제조되고 있다.
종래의 현탁 중합에 있어서, 폴리머 비드는 기계적 힘에 의하여 수용액상에 존재하는 단량체를 분산시켜 제조한다. 이 방법에 의하여 제조된 폴리머 비드는 적어도 100 ㎛ 이상의 비드 크기를 가지며, 기계적 힘에 의하여 비드들이 분산되어 있기 때문에 비드분포가 넓은 경향이 있다.
이같이 종래의 중합 공정을 통해 제조된 폴리머 비드는 기존 수지와 굴절율이 다르기 때문에 은폐력을 제공할 수 있으며, 이에 따라, 광확산판이나 조명용 등기구를 압출하여 제조할 때 많이 사용되고 있다. 이처럼 압출로 제품을 만들 시는 고온에서 제품을 혼련(Mixing)하여 사용하기 때문에 우수한 열안정성이 요구된다.
그러나, 이러한 종래의 폴리머 비드는 고온에서 30분 이상 정체하였을 때, 중량 변화 감량폭이 커서 비드가 사용되는 환경에 물리, 화학적 변화를 초래할 수 있다. 즉, 상용성 저하, 흄(fume) 또는 부산물 생성으로 인한 최종 제품의 물성 변화 등이 일어날 수 있으며, SEM사진으로 판독하였을 때 비드의 모양이 심하게 변형되는 등 물성 변화가 크게 나타나는 문제점이 있다.
따라서, 광확산 필름 등 다양한 용도로 적용시 제조 공정에서 고온의 열 처리 단계를 수행할 경우에도 흄(fume) 발생이 최소화되고 물성 변화가 없도록, 우수한 광학적 특정과 함께 고온에서의 향상된 열안정성이 부여된 폴리머 비드를 제조할 수 있는 조성 및 공정 개발에 대한 연구가 필요하다.
이와 동시에, 특정 파장의 빛에 대해서만 민감하게 반응할 수 있는 재료에 대한 산업의 요구를 충족시킬 수 있는 폴리머 비드를 제조할 수 있는 조성 및 공정 개발에 대한 연구 또한 필요하다.
본 발명은 우수한 광학적 특성 및 내열성을 가지며, 자외선 영역의 빛을 조사함에 따라 변색성을 갖는 마이크론 사이즈의 폴리머 비드를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 폴리머 비드를 제조하는 방법을 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 폴리머 비드를 이용한 광학용 필름을 제공하기 위한 것이다.
본 명세서에서는, 비닐계 반복 단위를 포함한 고분자 수지; 및 상기 고분자 수지에 결합한 발광체;를 포함하고, 380 ㎚ 미만의 파장에서 최대 광흡수 이후, 380 nm 내지 600 nm 파장의 가시광선을 방출하는 폴리머 비드가 제공된다.
본 명세서에서는 또한, 비닐계 단량체, 발광체 및 개시제를 포함한 반응액을 현탁 중합하는 단계를 포함하고, 상기 발광체는 380 ㎚ 미만의 파장에서 최대 광흡수 이후, 380 nm 내지 600 nm 파장의 가시광선을 방출하는 폴리머 비드의 제조 방법이 제공된다.
본 명세서에서는 또한, 상기 폴리머 비드; 및 바인더 수지;를 포함하는 광학용 필름이 제공된다.
이하 발명의 구체적인 구현예에 따른 폴리머 비드, 폴리머 비드의 제조방법 및 광학용 필름에 대하여 보다 상세하게 설명하기로 한다.
본 명세서에서, (메트)아크릴산은 아크릴산 및 메타크릴산을 모두 포함하는 의미이다.
본 명세서에서 또한, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 모두 포함하는 의미이다.
발명의 일 구현예에 따르면, 비닐계 반복 단위를 포함한 고분자 수지; 및 상기 고분자 수지에 결합한 발광체;를 포함하고, 380 ㎚ 미만의 파장에서 최대 광흡수 이후, 380 nm 내지 600 nm 파장의 가시광선을 방출하는 폴리머 비드가 제공될 수 있다.
본 발명자들은 상술한 폴리머 비드를 이용하면, 열안정성이 향상되어 우수한 내열성을 가질 수 있을 뿐 아니라, 자외선을 흡수하여 가시광선의 형태로 방출하는 발광체의 광학적 특성이, 폴리머 비드 내에서도 동일하게 구현되어 자외선 영역의 빛을 조사함에 따라 상기 폴리머 비드의 색상이 변할 수 있다는 점을 실험을 통하여 확인하고 발명을 완성하였다.
구체적으로, 상기 발광체는 400 ㎚ 내지 800 ㎚ 파장의 가시광선을 거의 흡수하지 않아, 평상시에 우리 눈에는 흰색 내지 아이보리색으로 보이지만, 자외선을 조사하게 되면 이를 흡수한 다음 380 nm 내지 600 nm 파장의 가시광선 형태로 방출하여, 다양한 색상, 구체적으로 청색 또는 녹색 등을 띨 수 있다.
이러한 발광체의 광학적 특성은, 상술한 바와 같이 고분자 수지와 혼합된 폴리머 비드 내에서도 그대로 구현될 수 있다. 따라서, 상기 고분자 수지 및 발광체를 포함하는 폴리머 비드는, 자외선을 조사하기 전까지 발광체가 포함되지 않은 폴리머 비드 내지 고분자 수지와 혼합되었을 때, 육안상 쉽게 구별되지 않을 수 있다. 반면, 자외선을 조사한 이후에는 상기 발광체가 포함된 폴리머 비드가 특정의 색을 띠면서 선명하게 구별될 수 있다.
이처럼 평소에는 육안상 색상의 차이를 나타내지 않다가, 특정 파장대의 자외선을 조사함에 따라 색상의 차이를 나타내는 폴리머 비드의 특성은, 보안 용품 등에서 활용이 가능하다.
또한, 상기 폴리머 비드는 내부에 발광체가 함유되어 있어, 필름 등에 발광체를 적용하는 과정에서, 발광체가 이행하는 현상을 방지하여 우수한 내후성 및 내구성을 확보할 수 있다. 또한, 고온 또는 고압에서의 혼련, 압출 공정에서 고분자 수지의 물성 변화를 방지하고, 발광체의 감도가 온도에 따라 변하거나 발광체 자체가 열에 의해 분해되는 것 또한 방지하여, 우수한 내열성을 확보할 수 있다.
상기 폴리머 비드는 380 ㎚ 미만, 또는 300 ㎚ 내지 370 ㎚의 파장에서 최대 광흡수 파장을 가질 수 있다. 상기 최대 광흡수 파장이란, 파장에 따른 광흡수를 측정한 결과, 가장 높은 광흡수율을 나타낸 파장 값을 의미한다. 광흡수율이란, 측정 가능한 최대 흡광도에 대한 실제 측정된 흡광도의 퍼센트 비율을 의미하며, 하기 표2에 기재한 바와 같이, 측정 가능한 최대 흡광도는 2.0이다.
또한, 상기 폴리머 비드는 400 ㎚ 내지 800 ㎚ 파장에서 광흡수율이 0.02% 이하일 수 있다. 상술한 바와 같이, 광흡수율이란, 측정 가능한 최대 흡광도에 대한 실제 측정된 흡광도의 퍼센트 비율을 의미하며, 하기 표2에 기재한 바와 같이, 측정 가능한 최대 흡광도는 2.0이다.
즉, 상기 폴리머 비드는 400 ㎚ 내지 800 ㎚ 파장에서 흡광도가 0.05미만으로, 하기 도2 및 도3에 나타난 바와 같이 거의 0에 가까운 매우 낮은 값을 나타내고 있으며, 이로부터 상기 폴리머 비드가 가시광선 영역에 빛을 거의 흡수하지 않는 것을 확인할 수 있다.
이로 인해, 상기 폴리머 비드는 자외선 영역의 빛에 대해 선택적인 흡수능을 가질 수 있고, 400 ㎚ 내지 800 ㎚ 파장의 가시광선을 거의 흡수하지 않아, 평상시에 우리 눈에는 흰색 내지 아이보리색으로 보이게 된다. 따라서, 상기 고분자 수지 및 발광체를 포함하는 폴리머 비드는, 자외선을 조사하기 전까지 발광체가 포함되지 않은 폴리머 비드 내지 고분자 수지와 혼합되었을 때, 육안상 쉽게 구별되지 않을 수 있다.
또한, 상기 폴리머 비드는 비닐계 반복 단위를 포함한 고분자 수지를 포함할 수 있다. 상기 비닐계 반복단위는 분자내에 탄소-탄소 이중결합을 포함한 화합물인 비닐계 단량체의 단독중합체에 포함된 반복단위, 즉 비닐계 단량체로부터 유래한 반복단위를 의미한다.
상기 비닐계 단량체의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 방향족 비닐계 화합물, 탄소수 1 내지 20의 (메트)아크릴산 알킬에스테르 화합물, 탄소수 1 내지 20의 (메트)아크릴산 플루오로알킬에스테르 화합물 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 포함할 수 있다.
상기 방향족 비닐계 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 스티렌 또는 디비닐 벤젠을 사용할 수 있다.
상기 탄소수 1 내지 20의 (메트)아크릴산 에스테르 화합물의 예 또한 크게 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 트리메틸올메탄 테트라아크릴레이트, 트리메틸올메탄 트리아크릴레이트, 트리메틸올부탄 트리아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트로 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 탄소수 1 내지 20의 아크릴산 또는 메타크릴산 플루오로알킬에스테르 화합물의 예를 들면, 플루오로메틸(메트)아크릴레이트, 플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 플루오로부틸 (메트)아크릴레이트 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
한편, 상기 고분자 수지는 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물 유래 반복 단위를 더 포함할 수 있다. 상기 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물 유래 반복 단위는 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 단독중합체에 포함된 반복단위를 의미하며, 상기 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 1,2-에탄디올디아크릴레이트, 1,3-프로판디올디아크릴레이트, 1,3-부탄디올디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,5-펜탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 디비닐벤젠, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 부틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜디아크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 1,2-에탄디올디메타크릴레이트, 1,3-프로판디올디메타크릴레이트, 1,3-부탄디올디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,5-펜탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 부틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜디메타크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 디알릴말레이트 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물 유래 반복 단위의 함량은 전체 폴리머 비드에 대하여 10 내지 95 중량부일 수 있다.
상기 폴리머 비드는 발광체를 포함할 수 있다. 상기 발광체란 빛을 방출하는 물질을 의미할 수 있다. 상기 발광체는 염료(Dye) 또는 안료(Pigment) 등을 사용할 수 있고, 바람직하게는 염료를 사용할 수 있다.
상기 발광체는 이소퀴놀린계 화합물, 시아졸계 화합물, 스쿠라렌계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 아크리돈계 화합물, 시아닌계 화합물, 아조계 화합물, 포마즌계 화합물 또는 이들의 2 종 이상의 혼합물을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 상기 발광체로 이소퀴놀린계 화합물, 시아졸계 화합물 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 이소퀴놀린계 화합물은 이소퀴놀린 화합물 또는 상기 이소퀴놀린 화합물에 다양한 치환기가 도입된 화합물을 포함한다. 상기 "치환"이라는 용어는 화합물 내의 수소 원자 대신 다른 작용기가 결합하는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정되지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
상기 치환기의 예로는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 2 내지 20의 알케닐기, 탄소수 2 내지 20의 알키닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 탄소수 2 내지 20의 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20의 아릴알킬기, 할로겐 원자, 시아노기, 아미노기, 아미디노기, 니트로기, 아마이드기, 카보닐기, 히드록시기, 술포닐기, 카바메이트기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기 등을 들 수 있다.
구체적으로, 상기 이소퀴놀린계 화합물은 벤조이소퀴놀린의 유도체 화합물을 포함할 수 있다. 상기 유도체란 어떤 화합물의 일부를 화학적으로 변화시켜서 얻어지는 유사한 화합물을 의미하며, 대개 화합물 중의 수소원자 또는 특정 원자단이 다른 원자 또는 원자단에 의하여 치환된 화합물을 말한다. 즉, 상기 벤조이소퀴놀린의 유도체 화합물은 벤조이소퀴놀린 화합물로부터 화학적 반응을 통해 얻어지는 화합물로서, 본 발명의 일실시예에 따르면 예를 들어, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 알콕시기로 치환된 벤조[de]이소퀴놀린-1,3-다이온이 사용될 수 있다.
상기 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 알콕시기로 치환된 벤조[de]이소퀴놀린-1,3-다이온에서, 탄소수 1 내지 10의 알킬기는 알케인(alkane)으로부터 유래한 1가의 작용기로, 예를 들어, 직쇄형, 분지형 또는 고리형으로서, 바람직하게는 분지형의 탄소수 5 내지 10의 알킬기를 사용할 수 있다. 상기 탄소수 1 내지 10의 알킬기는 상기 벤조[de]이소퀴놀린-1,3-다이온에 포함된 질소 원자에 결합할 수 있다.
상기 탄소수 1 내지 10의 알콕시기는 상기 알콕시기는 상기 정의된 알킬기와 산소 원자가 결합된 형태로서, 예를 들어, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 부톡시, 펜톡시, 헥실옥시, 헵실옥시, 옥틸옥시, 노닐옥시, 데실옥시, 운데실옥시, 도데실옥시, 트리데실옥시, 테트라데실옥시, 펜타데실옥시, 헥사데실옥시, 헵타데실옥시, 옥타데실옥시, 노나데실옥시, 에이코사닐옥시, 또는 이들의 가능한 모든 이성질체를 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 바람직하게는 직쇄의 탄소수 1 내지 5의 알킬기와 산소 원자가 결합한 작용기를 사용할 수 있다. 상기 탄소수 1 내지 10의 알콕시기는 상기 벤조[de]이소퀴놀린-1,3-다이온에 포함된 탄소 원자에 결합할 수 있다.
상기 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 알콕시기로 치환된 벤조[de]이소퀴놀린-1,3-다이온의 구체적인 예를 들면, 하기 화학식1로 표시되는 BL Blue 염료[6,7-dimethoxy-2-(octan-3-yl)-1H-benzo[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione]를 들 수 있다.
[화학식1]
Figure pat00001
상기 화학식1로 표시되는 BL Blue 염료[6,7-dimethoxy-2-(octan-3-yl)-1H-benzo[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione]는 400 ㎚ 미만의 파장, 구체적으로 375 ㎚ 내지 385 ㎚ 에서 최대 광흡수 이후, 390 nm 내지 450 nm 파장의 가시광선을 방출하여 청색을 띨 수 있다.
한편, 상기 시아졸계 화합물은 시아졸 화합물 또는 상기 시아졸 화합물에 다양한 치환기가 도입된 유도체 화합물을 포함한다. 구체적으로, 상기 시아졸계 화합물은 벤조시아졸의 유도체 화합물을 포함할 수 있다. 상기 벤조시아졸의 유도체 화합물은 벤조시아졸 화합물로부터 화학적 반응을 통해 얻어지는 화합물로서, 본 발명의 일실시예에 따르면 예를 들어, 페놀기로 치환된 벤조[d]시아졸이 사용될 수 있다.
상기 페놀기로 치환된 벤조[d]시아졸의 구체적인 예를 들면, 하기 화학식2로 표시되는 BL Green 염료[2-(benzo[d]thiazol-2-yl)phenol]를 들 수 있다.
[화학식2]
Figure pat00002
상기 화학식2로 표시되는 BL Green 염료[2-(benzo[d]thiazol-2-yl)phenol]는 400 ㎚ 미만의 파장, 구체적으로 320 ㎚ 내지 330 ㎚ 에서 최대 광흡수 이후, 520 nm 내지 570 nm 파장의 가시광선을 방출하여 녹색을 띨 수 있다.
한편, 상기 발광체의 광학 특성을 향상시키기 위해, 추가적으로 산화철, CrCu 또는 Carbon Balck 의 금속 화합물이나, 프탈로시아닌 (phthalocyanine) 블루, 프탈로시아닌 그린, 디아릴리드 (diarylide) 옐로우, 디아릴리드 AAOT 옐로우, 및 퀸아크리돈 (quinacridone), 아조(azo), 로다민 (rhodamine), 페릴렌 (perylene) 안료 시리즈 또는 Hansa yellow G 입자의 유색 안료 화합물을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 발광체의 표면에는 아미드기, 아민기, 티올기, 에스테르기, 비닐기, 히드록시기, 페놀기, (메트)아크릴계 작용기 및 카복실기로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 반응성 작용기가 치환 또는 비치환될 수 있다. 상기 발광체의 표면이란 발광체 화합물 분자구조의 말단을 의미하며, 상기 (메트)아크릴계는 아크릴계 또는 메타크릴계를 의미한다. 이에 따라, 상기 발광체는 폴리머 비드의 코어부, 쉘층 및 보호층에 포함된 고분자 수지를 비롯한 범용 수지와 효과적으로 결합하여, 고색채 구현력, 고대조비, 광 전환 효율을 구현할 수 있다.
상기 폴리머 비드가 상기 고분자 수지 및 이에 결합한 발광체를 함께 포함하여 보다 높은 내열성을 가질 수 있으며, 예를 들어 소정의 용매와 혼합한 이후 고온에서 가열하여 흡광도를 측정하였을 때 열처리 전후에 변화가 그리 크지 않다는 점을 확인할 수 있다. 또한, 상기 발광체의 표면에는 아미드기, 아민기, 티올기, 에스테르기, 비닐기, 히드록시기, 페놀기, (메트)아크릴계 작용기 및 카복실기 (예를 들어, (메트)아크릴산이 도입되어 폴리머 비드 상에 결합 및 형성된 (메트)아크릴계 작용기)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 반응성 작용기가 치환되는 경우, 보다 높은 내열성을 확보할 수 있으며 열처리에 따른 염료의 물성 변화를 보다 효과적으로 방지할 수 있다.
상기 폴리머 비드에 대한 발광체의 함량은 0.01 중량% 내지 20중량%, 또는 0.1 중량% 내지 10중량일 수 있다. 상기 폴리머 비드에 대한 발광체의 함량이 지나치게 증가하면, 발광체의 용해도가 감소할 수 있고, 폴리머 비드 표면으로 이행(migration)현상이 발생할 수 있다.
상기 발광체는 내열 특성이 우수한 고분자 수지에 결합하여, 상술한 바와 같이 우수한 내열성 및 내구성을 나타낼 수 있다. 또한, 고분자 수지에 결합하여 비드를 형성한 이후에도, 본래 발광체의 광학적 특성인 광흡수 파장피크과 동일한 광흡수 파장피크를 나타낼 수 있다.
구체적으로, 상기 발광체는 380 ㎚ 미만, 또는 300 ㎚ 내지 370 ㎚의 파장에서 최대 광흡수 파장을 가질 수 있다. 또한, 상기 발광체는 400 ㎚ 내지 800 ㎚ 파장에서 광흡수율이 0.02% 이하, 또는 0.001% 내지 0.02%일 수 있다.
상기 폴리머 비드의 형태의 예가 크게 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 구형, 타구형, 다면체 등을 들 수 있고, 바람직하게는 하기 도1에 나타난 바와 같이, 구형일 수 있다. 이에 따라, 상기 폴리머 비드의 단면은 원형, 타원형, 3 내지 50의 다각형일 수 있다. 상기 폴리머 비드의 평균입경이 1 ㎛ 내지 500 ㎛, 또는 2 ㎛ 내지 400 ㎛, 또는 3 ㎛ 내지 300 ㎛, 또는 10 ㎛ 내지 30 ㎛일 수 있다.
상기 폴리머 비드는 하기 수학식1에 의해 얻어지는 변동계수가 10% 내지 50%, 또는 15% 내지 30%일 수 있다. 이에 따라, 상기 폴리머 비드는 균일한 크기로 구형의 형태를 유지할 수 있다.
[수학식1]
변동계수(%) = (입경의 표준편차/비드의 평균입경) X 100
상기 폴리머 비드는 액정 모니터의 광확산 필름, 광확산 판, 보호 필름용 및 건축용으로 사용되고 있을 뿐 아니라, 칼라 잉크용 필름, LCD 및 OLED 소자를 포함하는 디스플레이용 염료 또는 칼라 플라스틱의 소재, 3D 프린팅 소재 등에 널리 사용될 수 있다.
상기 폴리머 비드는 유화제, 사슬이동제, 개시제 및 경화제를 포함한 군에서 선택된 1종 이상의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 유화제는 계면활성제를 포함하는 의미일 수 있고, 예를 들면 탄소수 4 내지 30의 알킬설페이트의 나트륨, 암모늄 또는 칼륨염 등의 음이온계 유화제, 동일계의 반응성 유화제 또는 양친성 유화제를 들 수 있다. 구체적으로, 상기 유화제는 나트륨 도데실설페이트, 나트륨 디옥틸설포석시네이트 또는 나트륨 도데실벤젠설페이트 등을 사용할 수 있다.
상기 사슬 이동제는 250전후에서의 열분해를 억제시키기 역할을 할 수 있으며, 고분자 사슬의 종결반응에 있어서 성장 중인 사슬의 말단의 라디칼을 다른 단량체로 전달해줌으로써, 종결반응시의 사슬 성장 중의 불균등 반응을 감소시켜 주는 역할을 할 수 있다. 상기 사슬 이동제의 예로는 1-도데칸티올, t-도데실머켑탄, t-헥사데실머켑탄 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 개시제는 수용성 개시제 또는 지용성 개시제를 포함할 수 있고, 상기 수용성 개시제의 예로는 칼륨퍼설페이트, 나트륨퍼설페이트, 아모늄퍼설페이트, 아조계 수용성 개시제 또는 이들의 2 종 이상의 혼합물을, 상기 지용성 개시제의 예로는 벤조일퍼옥사이드, 아조비스이소부티로니트릴, 아조비스페닐부티로니트릴 및 아조비스시클로헥산카르보니트릴 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 경화제의 예가 크게 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 1,2-에탄디올디메타크릴레이트, 1,3-프로판디올디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,5-펜탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 디비닐벤젠, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 부틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜디메타크릴레이트 및 알릴메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다.
한편, 상기 폴리머 비드는 하기 수학식2로 표시되는 200℃ 내지 300℃, 또는 200℃ 내지 250℃ 온도로 열처리 전후의 최대 흡광도 감소율이 1% 내지 9%일 수 있다.
[수학식 1]
열처리 전후의 최대 흡광도 감소율(%)= [(열처리 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도 - 열처리 후의 폴리머 비드의 최대 흡광도)/ 열처리 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도] X 100
구체적으로, 상기 수학식 2에서 열처리 전후의 최대 흡광도는, 상기 폴리머 비드를 220℃에서 30분간 가열한 후, 상기 열처리 전, 후의 폴리머 비드를 각각 DMSO용매에 0.01% 함량으로 혼합한 후 흡광도 측정 기기(UV-Vis Spectroscopy, Thermo Fisher Scientific사 EVOLUTION 600)를 이용하여 측정하였다.
이와 같이, 상기 폴리머 비드가 상기 수학식2로 표시되는 200℃ 내지 300℃ 온도로 열처리 전후의 최대 흡광도 감소율이 1% 내지 9%의 낮은 값을 가짐에 따라, 상기 폴리머 비드는 고분자 구조내에 염료를 포함시켜, 고온의 가열처리 조건에 염료를 안정적으로 유지시킬 수 있음을 확인할 수 있다.
또한, 상기 폴리머 비드는 하기 수학식3으로 표시되는 40 내지 60시간 동안 자외선 조사 전후의 최대 흡광도 감소율이 1% 내지 10%일 수 있다.
[수학식 3]
자외선 조사 전후의 최대 흡광도 감소율(%)= [(자외선 조사 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도 - 자외선 조사 후의 폴리머 비드의 최대 흡광도)/ 자외선 조사 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도] X 100
구체적으로, 상기 수학식 3에서 자외선 조사 전후의 최대 흡광도는, 상기 폴리머 비드를 3.0T(1mm)의 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)판으로 사출한 시편을 형광 램프가 구비된 Q-UV 실험기를 사용하여 50시간 동안 자외선 조사하고, 자외선 조사 전후의 흡광도를 흡광도 측정 기기(UV-Vis Spectroscopy, Thermo Fisher Scientific사 EVOLUTION 600)를 통해 측정하는 방법으로 구하였다.
이와 같이, 상기 폴리머 비드가 상기 수학식2로 표시되는 40 내지 60시간 동안 자외선 조사 전후의 최대 흡광도 감소율이 1% 내지 10%의 낮은 값을 가짐에 따라, 상기 폴리머 비드는 고분자 구조내에 염료를 포함시켜, 고에너지의 자외선 처리 조건에서 염료를 안정적으로 유지시킬 수 있음을 확인할 수 있다.
한편, 발명의 다른 구현예에 따르면 비닐계 단량체, 발광체 및 개시제를 포함한 반응액을 현탁 중합하는 단계를 포함하고, 상기 발광체는 380 ㎚ 미만의 파장에서 최대 광흡수 이후, 380 nm 내지 600 nm 파장의 가시광선을 방출하는 폴리머 비드의 제조 방법이 제공될 수 있다.
상기 반응액은 비닐계 단량체, 발광체 및 개시제를 포함할 수 있다. 상기 발광체 및 개시제에 관한 구체적인 내용은 상기 일 구현예에서 상술한 내용을 그대로 포함한다. 상기 발광체란 빛을 방출하는 물질을 의미할 수 있다. 상기 발광체는 염료(Dye) 또는 안료(Pigment) 등을 사용할 수 있고, 바람직하게는 염료를 사용할 수 있다.
상기 발광체는 비닐계 단량체에 대한 용해도가 60% 이상, 또는 60% 내지 100%일 수 있다. 이처럼, 상기 발광체는 비닐계 단량체에 대하여 높은 용해도를 가질 수 있으므로, 상기 반응액 내에서 비닐계 단량체에 용해되어 우수한 광학 특성 및 내구성을 구현할 수 있다.
상기 발광체의 비닐계 단량체에 대한 용해도가 60% 미만이면, 상기 발광체가 반응액 내에서 안정적으로 고르게 분산되기 어렵고, 최종 제조되는 비드 표면으로 이행하는 현상이 발생할 수 있다.
상기 비닐계 단량체는 방향족 비닐계 화합물, 탄소수 1 내지 20의 아크릴산 또는 메타크릴산 알킬에스테르 화합물, 및 탄소수 1 내지 20의 아크릴산 또는 메타크릴산 플루오로알킬에스테르 화합물 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 포함할 수 있다.
상기 방향족 비닐계 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 스티렌 또는 디비닐 벤젠을 사용할 수 있다.
상기 탄소수 1 내지 20의 (메트)아크릴산 에스테르 화합물의 예 또한 크게 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 트리메틸올메탄 테트라아크릴레이트, 트리메틸올메탄 트리아크릴레이트, 트리메틸올부탄 트리아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트로 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 탄소수 1 내지 20의 아크릴산 또는 메타크릴산 플루오로알킬에스테르 화합물의 예를 들면, 플루오로메틸(메트)아크릴레이트, 플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 플루오로부틸 (메트)아크릴레이트 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.
상기 비닐계 단량체 100 중량부에 대하여 발광체 함량이 0.1 중량부 내지 10 중량부, 또는 1 중량부 내지 5 중량부일 수 있다. 상기 폴리머 비드 합성시 비닐계 단량체 대비 발광체의 함량이 지나치게 증가하면, 상기 비닐계 단량체에 대한 발광체의 용해도가 감소할 수 있고, 이로 인해 최종 제조되는 폴리머 비드 표면으로 이행(migration)현상이 발생할 수 있다.
상기 반응액은 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물, 현탁안정제, 수계 용매 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 더 포함할 수 있다.
상기 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 1,2-에탄디올디아크릴레이트, 1,3-프로판디올디아크릴레이트, 1,3-부탄디올디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,5-펜탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 디비닐벤젠, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 부틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜디아크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 1,2-에탄디올디메타크릴레이트, 1,3-프로판디올디메타크릴레이트, 1,3-부탄디올디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,5-펜탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 부틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜디메타크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 디알릴말레이트 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 비닐계 단량체 100 중량부에 대하여 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 함량이 0.1 중량부 내지 10 중량부, 또는 5 중량부 내지 10 중량부일 수 있다. 상기 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 함량이 지나치게 증가할 경우, 상기 비닐계 단량체의 중합으로 얻어지는 고분자 수지의 물성에 영향을 미칠 우려가 있고, 발열이 높아져 공정 제어의 문제와 폴리머비드 간 응집현상이 발생할 수 있다.
상기 현탁안정제의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리비닐 메틸에테르, 폴리에틸렌이민, 폴리메틸메타크릴레이트 아크릴산 공중합체, 폴리비닐알코올, 비닐아세테이트 공중합체, 에틸셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 수계 용매는 물 또는 친수성 용매를 포함할 수 있고, 바람직하게는 이온교환수(ion exchanged water)를 사용할 수 있다. 상기 이온교환수는 주로 이온교환법으로 정제한 순수(water)를 의미하며, 바람직하게는 양이온 함량이 적고, 이온 교환기를 거쳐 생성된 질소기류 하에서 저항치가 5MΩ이상의 초순수를 사용할 수 있다.
상기 폴리머 비드 제조방법은 상기 반응액을 현탁 중합하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 현탁 중합하는 단계의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 상기 반응액을 교반하여 현탁액을 제조하는 단계; 및 상기 현택액을 중합반응시키는 단계;를 포함할 수 있다. 상기 현탁액(suspension)이란 고체 미립자가 분산된 액체를 의미한다.
구체적으로, 상기 반응액의 교반단계는 500rpm 내지 1,000rpm의 속도로 20분 내지 60분간 교반하는 제1교반 단계; 및 5,000rpm 내지10,000rpm의 속도로 10분 내지 60분간 교반하는 제2교반 단계;를 포함할 수 있다.
상기 반응액을 500rpm 내지 1,000rpm, 또는 600rpm 내지 800rpm의 속도로 10분 내지 60분, 또는 20분 내지 40분간 교반하는 제1교반단계에서, 교반속도가 충분히 높지 않으면, 입자끼리의 응집 또는 융착으로 안정적인 입자 형성이 어려울 수 있다.
상기 제1교반단계를 진행하는 구체적인 교반방법의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 상기 반응액을 반응기에 넣고, 미케니컬 스터러를 이용하여 교반하는 방법을 사용할 수 있다.
상기 제1교반단계이후, 5,000rpm 내지 10,000rpm, 또는 6,000rpm 내지 8,000rpm 의 속도로 10분 내지 60분, 또는 20분 내지 40분간 교반하는 제2교반 단계를 진행할 수 있다.
상기 제2교반단계 없이, 제1교반단계이후 바로 중합시킬 경우 응집현상이 발생할 뿐 아니라 입자분포가 매우 넓은 폴리머 비드가 제조될 수 있다.
상기 제2교반단계를 진행하는 구체적인 교반방법의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 제1교반단계를 거친 반응액을 반응기에서 토출하고 호모믹서(Homomixer)를 통해 교반하는 방법을 사용할 수 있다.
상기 현탁액의 중합 단계는 50℃ 내지 90℃의 온도에서 6 시간 내지 10 시간 동안 진행될 수 있다. 이때 중합 반응 시 생성되는 폴리머 비드가 가라앉지 않을 정도로 적절하게 교반속도를 유지시켜야 한다. 바람직하게, 상기 교반속도는 100 내지 300 rpm으로 수행할 수 있다.
또한, 상기 현택액을 중합반응시키는 단계 이후, 여과, 세척 및 건조 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 여과, 세척 및 건조의 방법은 통상적으로 사용되는 다양한 방법을 제한없이 사용할 수 있다.
또한, 상기 건조 단계 이후, 필요에 따라서는 분쇄 단계를 더 포함할 수도 있으며, 상기 분쇄방법의 예로는 제트밀, 볼밀 아토마이저 또는 해머밀 등과 같은 분쇄기를 이용할 수 있다.
한편, 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 일구현예의 폴리머 비드; 및 바인더 수지;를 포함하는 광학용 필름이 제공될 수 있다.
상기 광학용 필름에서, 상기 폴리머 비드는 상기 바인더 수지 내에서 고분자 비드성을 유지할 수도 있고, 비드의 형태가 깨질 수도 있다.
구체적으로, 상기 폴리머 비드는 압출, 가압, 가온 등의 성형 과정을 통해서 상기 바인더 수지에 분산된 분리상(separated phase)으로 존재할 수 있으며, 또는 상기 바인더 수지와 결합한 연속상(continuous phase)으로 존재할 수 있다.
상기 분리상(separated phase)에서 상기 폴리머 비드는 하기 도1에 나타난 바와 같이, 구형, 타구형, 다면체의 비드 형태를 유지하면서 바인더 수지내에 분산될 수 있다. 이와 같이, 상기 폴리머 비드가 광학용 필름 내에서 분리상으로 존재함에 따라, 비드 내에 포함된 발광체가 광학용 필름 내에서도 높은 내열성 및 내구성을 구현할 수 있다.
한편, 상기 연속상(continuous phase)에서 상기 폴리머 비드는 구형, 타구형, 다면체 등의 비드 형태가 사라지고, 바인더 수지와 함께 연속된 하나의 상태로서 존재할 수 있다.
상기 폴리머 비드에 관한 내용은 상기 일 구현예에서 상술한 내용을 포함한다.
상기 바인더 수지의 예가 크게 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리염화비닐 등을 들 수 있지만, 폴리머 비드와의 상용성과 단량체에 대한 용해도를 고려할 때, 폴리(메트)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다.
상기 폴리머 비드 및 바인더 수지의 중량비는 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 1:0.5 내지 1:10, 또는 1:1.2 내지 1:5, 또는 1:1.5 내지 1:4일 수 있다.
상기 광학용 필름을 제조하는 구체적인 방법의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 상기 폴리머 비드 및 바인더 수지를 혼합하고, 필름 형상으로 성형하는 방법을 사용할 수 있다. 상기 성형방법의 예로는, 코팅, 압출, 사출, 캐스팅 성형 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 코팅 방법을 사용할 수 있다.
구체적으로, 상기 코팅방법의 예로는 기재필름 상에 메이어 바를 이용하여 코팅하는 방법을 들 수 있고, 상기 기재필름으로는 다양한 고분자 필름이 제한없이 적용될 수 있다.
상기 폴리머 비드 및 바인더 수지의 혼합물은 경화제 또는 유기 용매를 더 포함할 수 있다.
상기 경화제의 예는 크게 한정되지 않으며, 예를 들어, (2,2'-아조-비스(이소부틸로나이트릴)) (AIBN, 2,2'-azo-bis(isobutyronitrile)) 또는 (2,2'-아조-비스(2-메틸부틸로나이트릴))(ABN, 2,2'-azo-bis(2-methylbutyronitrile)) 등을 사용할 수 있다.
상기 유기 용매로는 광학용 필름 제조에 사용될 수 있는 것으로 알려진 것이면 별다른 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류(셀로솔브); 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 아세트산에스테르류; 에탄올, 프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 카르비톨 등의 알코올류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소; 석유에테르, 석유나프타, 수소 첨가 석유나프타, 용매나프타 등의 석유계 용제; 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸포름아미드(DMF) 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다.
본 발명에 따르면, 우수한 광학적 특성 및 내열성을 가지며, 자외선 영역의 빛을 조사함에 따라 변색성을 갖는 폴리머 비드가 제공될 수 있다.
도1은 실시예1 폴리머 비드의 SEM사진을 측정한 결과를 나타낸 것이다.
도2은 실시예1 폴리머 비드의 내열 흡광도 측정시 광흡수 스펙트럼을 측정한 결과를 나타낸 것이다.
도3은 실시예2 폴리머 비드의 내열 흡광도 측정시 광흡수 스펙트럼을 측정한 결과를 나타낸 것이다.
발명을 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1 내지 4: 폴리머 비드의 제조>
실시예1
이온교환수 4.94kg, 메틸메타아크릴레이트(MMA) 1.92kg, 메틸메타아크릴산 0.21kg, 1,6-헥산디올디아크릴레이트 0.11kg, 도데실 황산 나트륨 0.07kg, 아조비스이소부티로니트릴 0.02kg 및 BL Blue 염료(ICB사, 이소퀴놀린계; 6,7-dimethoxy-2-(octan-3-yl)-1H-benzo[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione) 0.05kg을 혼합하여, 반응기에 넣고 700rpm 속도로 30분간 교반시켰다. 이후, 반응기로부터 토출하여 호모믹서에서 7,000rpm 속도로 30분간 강력교반시켰다. 상기 강력교반으로 제조된 현탁액을 다시 20L 반응기에 투입하여 질소기류 하에서 250rpm 속도로 교반하면서 내부온도가 60℃ 되도록 가열한 후, 60에서 7시간 반응시킨 후 현탁액으로부터 고체를 여과하고, 이온교환수를 사용해 3회 세척하고, 탈수한 후 70℃에서 24시간 진공건조하여 폴리머 비드를 제조하였다.
실시예2
BL Blue 염료 대신 BL Green 염료(ICB사, 벤조시아졸계; [2-(benzo[d]thiazol-2-yl)phenol])를 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예1과 동일한 방법으로 폴리머 비드를 제조하였다.
실시예3
BL Blue 염료 대신 BL Blue-OH 염료(ICB사, 말단기 히드록시기, 이소퀴놀린계; 6-hydroxy-7-methoxy-2-(octan-3-yl)-1H-benzo[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione)0.05kg을 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예1과 동일한 방법으로 폴리머 비드를 제조하였다.
실시예4
BL Blue 염료 대신 BL Green-Methacryl(ICB사, 말단기 메타크릴기, 벤조시아졸계; 2-(benzo[d]thiazol-2-yl)phenyl methacrylate)를 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예1과 동일한 방법으로 폴리머 비드를 제조하였다.
<비교예 1: 폴리머 비드의 제조>
비교예1
BL Blue 염료(ICB사)를 사용하지 않은 점을 제외하고, 상기 실시예1과 동일한 방법으로 폴리머 비드를 제조하였다.
비교예2
상기 비교예1을 통해 만들어진 폴리머 비드와 BL Blue 염료(ICB사)를 97.5:2.5의 중량비로 혼합하여 폴리머 비드 혼합물을 제조하였다
<실험예 : 실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리머 비드의 물성 측정>
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리머 비드의 물성을 하기 방법으로 측정하였으며, 그 결과를 표1 내지 표3에 각각 나타내었다.
실험예1. 폴리머 비드의 구조
실시예1에서 얻은 폴리머 비드에 대해 통상의 방법으로 SEM사진을 측정하였고, 그 결과를 도 1에 나타내었다. 도 1에서 보면, 본 발명의 폴리머 비드는 그 표면이 구형을 나타냄을 알 수 있다.
실험예2. 평균입경 및 변동계수(C.V.: Coefficient of variation)
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리머 비드에 대하여, 입도분포 측정장치(콜터 일렉트로닉스사, Multisizer3)를 이용하여 평균입경 및 변동계수를 측정하고, 그 결과를 하기 표1에 기재하였다. 상기 변동계수(C.V)는 하기 수학식 1에 의해 구하였다.
[수학식 1]
변동계수 (%) = (입경의 표준편차/비드의 평균입경) X 100.
실험예 2의 결과
구분 염료 평균입경 C.V 수율
실시예1 BL Blue 21.3㎛ 15% 86%
실시예2 BL Green 20.9㎛ 30% 78%
실시예3 BL Blue-OH 13.9㎛ 20% 91%
실시예4 BL Green- Methacryl 14.2㎛ 26% 85%
비교예1 - 14.9㎛ 23% 94%
비교예2 BL Blue 14.9㎛ 23% -
상기 표1에 나타난 바와 같이, 실시예1 내지 4에서 제조한 폴리머 비드는 13 ㎛ 내지 22㎛의 마이크론 사이즈의 평균입경을 갖는 비드로써, 변동계수(C.V)가 15% 내지 50%인 입도 분포를 갖는 것을 확인할 수 있었다.
실험예3. 폴리머 비드의 내열 흡광도 측정
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리머 비드에 대하여, 220℃에서 30분간 가열한 후 내열도 차이를 측정하였다. 이를 위해, 열처리 전, 후의 폴리머 비드를 DMSO용매에 0.01% 함량으로 혼합한 후 흡광도 측정 기기(UV-Vis Spectroscopy, Thermo Fisher Scientific사 EVOLUTION 600)를 이용하여 최대 흡광도와 최대 흡광 파장을 측정하였고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다. 또한, 실시예1의 측정결과는 하기 도2, 실시예2의 측정결과는 하기 도3에 각각 나타내었다.
이때 열처리 전후의 최대 흡광도 감소율은 하기 수학식 2에 의해 구하였다.
[수학식 2]
열처리 전후의 최대 흡광도 감소율(%)= [(열처리 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도 - 열처리 후의 폴리머 비드의 최대 흡광도)/ 열처리 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도] X 100.
실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리머 비드의 내열 흡광도 측정 결과[측정 가능한 최대 흡광도는 2.0임]
구분 열처리 전 최대 흡광도
(최대 흡광 파장[㎚])		 열처리 후 최대 흡광도
(최대 흡광 파장[㎚])		 열처리 전후 최대 흡광도 감소율(%)
실시예1 1.424(366) 1.352(366) 5.1
실시예2 1.275(326) 1.205(326) 5.5
실시예3 1.464(367) 1.417(367) 3.2
실시예4 1.293(325) 1.256(325) 2.9
비교예1 - - -
비교예2 1.378(365) 1.235(365) 10.4
상기 표 2에 나타난 바와 같이, 상기 실시예 1 내지 4에서 제조된 폴리머 비드는 열처리 전후 최대 흡광도 감소율이 7% 미만으로 상기 비교예 2 에 비해 상대적으로 작게 나타남에 따라, 폴리머 비드 내부에 염료를 함유시킴으로서 상기 염료의 내열성이 향상되었음을 확인하였다.
실험예4. 폴리머 비드의 내광 흡광도 측정
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리머 비드를 이용하여, 3T(3㎜) 두께의 PMMA 시편을 제작하였다. 상기 시편에 형광 램프가 구비된 Q-UV 실험기를 사용하여 50시간 동안 자외선을 조사하고, 자외선 조사 전후의 흡광도를 흡광도 측정 기기(UV-Vis Spectroscopy, Thermo Fisher Scientific사 EVOLUTION 600)를 통해 측정하였고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.
이때 자외선 조사 전후의 최대 흡광도 감소율은 하기 수학식 3에 의해 구하였다.
[수학식 3]
자외선 조사 전후의 최대 흡광도 감소율(%)= [(자외선 조사 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도 - 자외선 조사 후의 폴리머 비드의 최대 흡광도)/ 자외선 조사 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도] X 100.
실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리머 비드의 내광 흡광도 측정 결과[측정 가능한 최대 흡광도는 2.0임]
구분 자외선 조사 전 최대 흡광도
(최대 흡광 파장[㎚])		 자외선 조사 후 최대 흡광도
(최대 흡광 파장[㎚])		 자외선 전후 최대 흡광도 감소율(%)
실시예1 1.844 (366) 1.752 (366) 5.0
실시예2 1.795 (326) 1.705 (326) 5.0
실시예3 1.914 (366) 1.857 (366) 3.0
실시예4 1.903 (326) 1.846 (326) 3.0
비교예1 - - -
비교예2 1.783 (365) 1.551 (365) 13.0
상기 표 3에 나타난 바와 같이, 상기 실시예 1 내지 4에서 제조된 폴리머 비드는 자외선 조사 전후 최대 흡광도 감소율이 10% 미만으로 상기 비교예 2에 비해 상대적으로 작게 나타남에 따라, 폴리머 비드 내부에 염료를 함유시킴으로서 상기 염료의 내광성이 향상되었을 확인하였다.

Claims (20)

  1. 비닐계 반복 단위를 포함한 고분자 수지; 및 상기 고분자 수지에 결합한 발광체;를 포함하고, 380 ㎚ 미만의 파장에서 최대 광흡수 이후, 380 nm 내지 600 nm 파장의 가시광선을 방출하는 폴리머 비드.
  2. 제1항에 있어서,
    400 ㎚ 내지 800 ㎚ 파장에서 광흡수율이 0.02% 이하인, 폴리머 비드.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 폴리머 비드의 평균입경이 1 ㎛ 내지 500 ㎛인, 폴리머 비드.
  4. 제1항에 있어서,
    하기 수학식1에 의해 얻어지는 상기 폴리머 비드의 변동계수가 10% 내지 50%인, 폴리머 비드:
    [수학식1]
    변동계수(%) = (입경의 표준편차/비드의 평균입경) X 100.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 폴리머 비드는 하기 수학식2로 표시되는 200℃ 내지 300℃ 온도로 열처리 전후의 최대 흡광도 감소율이 1% 내지 9%인 폴리머 비드:
    [수학식 2]
    열처리 전후의 최대 흡광도 감소율(%)= [(열처리 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도 - 열처리 후의 폴리머 비드의 최대 흡광도)/ 열처리 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도] X 100.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 폴리머 비드는 하기 수학식2로 표시되는 200℃ 내지 300℃ 온도로 열처리 전후의 최대 흡광도 감소율이 1% 내지 9%인 폴리머 비드:
    [수학식 2]
    열처리 전후의 최대 흡광도 감소율(%)= [(열처리 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도 - 열처리 후의 폴리머 비드의 최대 흡광도)/ 열처리 전의 폴리머 비드의 최대 흡광도] X 100.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 비닐계 반복단위는 방향족 비닐계 화합물, 탄소수 1 내지 20의 (메트)아크릴산 알킬에스테르 화합물 및 탄소수 1 내지 20의 (메트)아크릴산 플루오로알킬에스테르 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물로부터 유래한 반복 단위를 포함하는, 폴리머 비드.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 발광체는 이소퀴놀린계 화합물, 시아졸계 화합물, 스쿠라렌계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 아크리돈계 화합물, 시아닌계 화합물, 아조계 화합물, 및 포마즌계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 폴리머 비드.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 이소퀴놀린계 화합물은 벤조이소퀴놀린의 유도체 화합물을 포함하는, 폴리머 비드.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 시아졸계 화합물은 벤조시아졸의 유도체 화합물을 포함하는, 폴리머 비드.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 발광체의 표면에는 아미드기, 아민기, 티올기, 에스테르기, 비닐기, 히드록시기, 페놀기, (메트)아크릴계 작용기 및 카복실기로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 반응성 작용기가 치환 또는 비치환된, 폴리머 비드.
  12. 비닐계 단량체, 발광체 및 개시제를 포함한 반응액을 현탁 중합하는 단계를 포함하고, 상기 발광체는 380 ㎚ 미만의 파장에서 최대 광흡수 이후, 380 nm 내지 600 nm 파장의 가시광선을 방출하는 폴리머 비드의 제조 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 발광체의 표면에는 아미드기, 아민기, 티올기, 에스테르기, 비닐기, 히드록시기, 페놀기, (메트)아크릴계 작용기 및 카복실기로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 반응성 작용기가 치환 또는 비치환된, 폴리머 비드의 제조방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 비닐계 단량체는 방향족 비닐계 화합물, 탄소수 1 내지 20의 (메트)아크릴산 알킬에스테르 화합물 및 탄소수 1 내지 20의 (메트)아크릴산 플루오로알킬에스테르 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는, 폴리머 비드의 제조방법.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 비닐계 단량체 100 중량부에 대하여 발광체 함량이 0.1 중량부 내지 10 중량부인, 폴리머 비드의 제조방법.
  16. 제12항에 있어서,
    상기 반응액은 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물, 현탁안정제 및 수계 용매로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 더 포함하는, 폴리머 비드의 제조방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 비닐계 단량체 100 중량부에 대하여 다관능 (메트)아크릴레이트계 화합물의 함량이 0.1 중량부 내지 10 중량부인, 폴리머 비드의 제조방법.
  18. 제12항에 있어서,
    상기 현탁 중합 단계는 50℃ 내지 90℃의 온도에서 6 시간 내지 10 시간 동안 진행되는, 폴리머 비드의 제조 방법.
  19. 제1항의 폴리머 비드; 및 바인더 수지;를 포함하는, 광학용 필름.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 폴리머 비드는 바인더 수지에 분산된 분리상 또는 바인더 수지와 결합한 연속상인, 광학용 필름.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3418782B1 (en) * 2016-12-26 2023-05-03 LG Chem, Ltd. Polarizer protection film, polarizing plate comprising the same, liquid crystal display comprising the polarizing plate, and coating composition for polarizer protecting film
WO2021250358A1 (fr) * 2020-06-10 2021-12-16 Crime Science Technology Composition fluorescente comprenant au moins un compose de type benzazole pour la securisation de produits
FR3111354A1 (fr) * 2020-06-10 2021-12-17 Crime Science Technology Composition fluorescente comprenant au moins un composé de type benzazole pour la sécurisation de produits

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