KR20170139564A - 투명 전도성 필름 - Google Patents

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KR20170139564A
KR20170139564A KR1020177032168A KR20177032168A KR20170139564A KR 20170139564 A KR20170139564 A KR 20170139564A KR 1020177032168 A KR1020177032168 A KR 1020177032168A KR 20177032168 A KR20177032168 A KR 20177032168A KR 20170139564 A KR20170139564 A KR 20170139564A
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KR
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nanowire
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tcf
conductive film
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KR1020177032168A
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로버트 에프. 주니어. 프라이노
신 피. 오써
데이비드 제이. 오써
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채슴 테크놀러지, 인코포레이티드
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Abstract

표면(14a, 14b)을 갖는 기재(14), 상기 기재(14) 표면(14a, 14b)의 하나 이상의 부분 위에 나노 와이어 층(12,12a), 그리고 상기 나노 와이어 층을 포함하는 부분 위의 전도성 층(16, 16a)을 포함하는 투명 전도성 필름(TCF)으로서, 상기 전도성 층(16, 16a)이 탄소 나노튜브(CMT) 그리고 바인더를 포함하는 투명 전도성 필름(TCF).

Description

투명 전도성 필름
본 발명은 투명 전도성 필름에 대한 것이다.
현재 일반적으로 사용되는 투명 전도성 필름의 대부분은 필요한 전도성을 제공하기 위해 무기 화합물을 사용한다. 원하는 투명성을 제공하기 위해 총 필름 두께는 약 50-100 nm로 제한된다. 일반적인 전도성 필름 화합물은 인듐 주석 산화물 (ITO)이다. ITO 계 필름은 전술한 투명성 범위에서 약 100 내지 약 300 옴/스퀘어의 시트 저항을 제공한다. 그러나 ITO 계 필름은 취성(brittleness) 및 고비용의 문제가 있다.
아래에 언급된 모든 예와 특징은 기술적으로 가능한 모든 방식으로 결합 될 수 있다.
한 특징에 따라, 투명 전도성 필름(TCF)은 표면을 갖는 기재(substrate), 기재 표면의 하나 이상의 부분 위에 나노 와이어 층, 및 나노 와이어 층을 포함하는 부분 위의 전도성 층을 포함하며, 상기 전도성 층은 탄소 나노 튜브(CNT) 및 바인더를 포함한다.
실시 예들은 다음 특징들 중 하나 또는 이들의 임의의 조합을 포함할 수 있다. 나노 와이어는 실버 또는 구리 나노 와이어 일 수 있다. 나노 와이어 층은 나노 와이어 바인더를 포함할 수 있다. 나노 와이어 층은 하나의 비한정적인 실시 예에서 광학 광택제(brightener광택제)인 나노 와이어 층의 광학 특성을 변형시키도록 된 첨가물을 포함할 수 있다. 나노 와이어 층은 약 10 mg/m² 내지 약 100 mg/m²나노 와이어를 가질 수 있다. 나노 와이어 층은 기재의 표면 모두보다 작은 부분을 포함하는 부분 위에 있을 수 있다.
실시 예들은 다음 특징들 중 하나 또는 이들의 임의의 조합을 포함할 수 있다. 전도성 층 바인더는 폴리머를 포함 할 수 있으며, 하나의 비 한정적인 실시 예에서 이오노머이다. 이오노머는 하나의 비 한정적인 예에서 술폰화 테트라 플루오르 에틸렌 기재 플루오르 폴리머-공중합체일 수 있다. 전도성 층 바인더는 약 1.5 이하의 굴절률을 가질 수 있다.
실시 예들은 다음 특징들 중 하나 또는 이들의 임의의 조합을 포함할 수 있다. 전도성 층은 점도 조절제를 더 포함할 수 있다. 전도성 층은 전도성 나노 입자 및 그래핀 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다. TCF는 또한 나노 와이어 및 CNT 중 적어도 하나의 기재에 대한 접착을 촉진시키는 기재상의 접합 층을 포함할 수 있다. 결합 층은 메타크릴산메틸(methylmethacrylate) 공중합체와 같은 폴리머를 포함할 수 있다. 접합 층은 접합 층의 광학 특성을 변경하도록 된 첨가물을 가질 수 있다. 기재는 2개의 대향 표면을 가질 수 있다. 상기 두 표면의 하나 이상의 부분 위의 하나씩 2개의 나노 와이어 층이 존재하며; 나노 와이어 층 모두 위에 전도성 층이 존재한다.
또한, 본 발명은 투명 전도성 필름(TCF)을 생산하는 방법으로서, 표면을 갖는 기재를 제공하는 단계, 기재 표면의 하나 이상의 부분 위에 나노 와이어 층을 증착하는 단계, 및 상기 나노 와이어 층을 포함하는 부분들 상에 전도성 층을 패터닝하는 단계를 포함하며, 상기 전도성 층은 탄소 나노 튜브(CNT) 및 바인더를 포함한다.
실시 예들은 다음 특징들 중 하나 또는 이들의 임의의 조합을 포함할 수 있다. 나노 와이어는 은 또는 구리 나노 와이어 일 수 있다. 나노 와이어 층은 나노 와이어 바인더를 가질 수 있다. 나노 와이어 층은 나노 와이어 층의 광학 특성을 변경 시키도록 배열된 첨가물을 포함할 수 있으며; 상기 첨가물은 광학 광택제 일 수있다. 나노 와이어 층은 약 10 mg/m² 내지 약 100 mg/m²나노 와이어를 가질 수 있다. 나노 와이어 층은 함께 기재의 표면 전체보다 적은 부분을 포함하는 부분 위에 있을 수 있다.
실시 예들은 다음 특징들 중 하나 또는 이들의 임의의 조합을 포함할 수 있다. 전도 층 바인더는 술폰화 테트라 플루오르 에틸렌 기재 플루오르 폴리머-공중합체(sulfonated tetrafluoroethylene based fluoropolymer-copolymer)와 같은 이오노머 일 수 있는 폴리머를 포함할 수 있지만 이에 국한되지는 않는다. 전도성 층 결합제는 약 1.5 이하의 굴절률을 가질 수 있다.
실시 예들은 다음 특징들 중 하나 또는 이들의 임의의 조합을 포함할 수 있다. 전도성 층은 점도 조절제를 더 포함할 수 있다. 점도 조절제는 일시적인 물질 일 수 있다. 전도성 층은 또한 전도성 나노 입자 및 그래핀 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 기재는 2개의 대향 표면을 가질 수 있고, 2개의 나노 와이어 층이 있을 수 있으며, 하나의 나노 와이터 층이 그와 같은 표면 모두의 하나 이상의 부분 위에 각각 있고 한 전도성 층이 두 나노 와이어 층 모두 위에 있다.
실시 예들은 다음 특징들 중 하나 또는 이들의 임의의 조합을 포함할 수 있다. 상기 방법은 상기 증착 단계 전에 상기 나노 와이어 및 상기 CNT 중 적어도 하나의 기재에 대한 접착을 촉진시키는 접합 층을 상기 기재의 상부 표면상에 생성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 접합 층은 접합 층의 광학 특성을 변경하도록 된 첨가물을 포함할 수 있다. 접합 층은 메타크릴산메틸 공중 합체와 같은 폴리머를 포함할 수 있다. 전도성 층은 모든 나노 와이어 층보다 적은 부분에서 패터닝 될 수 있으며, 노출된 나노 와이어를 남기고, 노출된 나노 와이어는 그 후 제거될 수 있다.
도 1은 탄소 나노 튜브(CNT) 및 바인더를 포함하는 전도성 층으로 오버코팅 된 제1 금속 나노-와이어 층으로 구성된 투명 전도성 필름의 평면도.
도 2는 도 1의 투명 전도성 필름의 측면도.
본원 명세서는 투명 전도성 필름(TCF)을 설명한다. 투명 전도성 필름은 다양한 기재가 지니고 있는 은 나노 와이어(AgNW) 및 탄소 나노 튜브(CNT)와 같은 금속 나노 와이어를 포함한다.
도면을 참조하면, 도 1 및 도 2의 TCF(10)는 전도성 CNT 층(16)으로 코팅된 기재 (14)의 하나 이상의 부분 위의 금속 나노 와이어 층(12)을 포함한다. TCF는 전형적으로 우수한 전기 전도성, 높은 가시광선 투과(VLT) 및 CNT 층(16)에 대한 나노-와이어 층(12)의 우수한 접착성을 포함한다. 도면은 매우 개략적이며 실제 축적에 맞지 않는다. 특히, 층 두께는 설명의 용이함을 위해 크게 과장되어있다.
도 1의 TCF(10)는 다음 방법에 의해 생산될 수 있다. 전형적으로, 메이어(Mayer) 로드, 스프레이, 그라비어, 롤, 슬롯 다이, 커튼, 슬라이드 등과 같은 코팅 공정에 의해 금속 나노 와이어(예를 들어, AgNW)가 기재(14)의 표면에 적용된다. 나노 와이어 층(12)은 랜덤 방식으로 기재(14) 상에 분포된 금속 나노 와이어를 포함한다. 하기 논의되는 선택적인 접합 층(tie layer)(18)은 스크린 인쇄 (회전 및 시트), 에어로졸 제트, 플 렉소 그래픽, 패드, 그라비어(gravure), 슬롯 다이 패치 및 슬라이드 패치와 같은(이에 한정되지 않음) 프린팅 처리에 의해, 원하는 패턴(영역 (21, 22, 23)과 같은 나노 와이어의 일부 또는 전부를 덮는 하나 이상의 영역을 포함함)으로, 금속 나노-와이어 층위에 함께 적용된 CNT 및 바인더로 달성된다. 후속적으로 적용되는 CNT의 패턴에 제한된 전도도를 갖는 TCF를 제공하기 위해, 노출된 금속 나노 와이어(존재한다면), 즉 CNT로 코팅되지 않은 나노 와이어는 원하는 전기 전도성 패턴을 갖는 TCF를 제공하기 위해 제거된다.
생성된 TCF는 전도성이 있고, 유연하며 신축성 있는 물질이다. 또한, 금속 나노 와이어 및 CNT로 코팅된 영역은 약 85% 내지 약 97% 범위의 가시광선 투과율(VLT)을 가질 수 있고, 가장 바람직하게는 98% 이상의 VLT를 가질 수 있다. 가시광선 투과율 값은 금속 나노 와이어와 CNT 코팅에만 관련이 있다. 가시광선 투과율은 기재를 포함하지 않는다.
TCF(10)에서 사용하기에 적합한 기재는 광학 투과성, 기계적 크기 안정성, 화학적 및 용매 저항성, 신축성, 열성형성, 표면 처리(친수성 또는 소수성), 표면 평활성, 온도 안정성을 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않는 속성을 갖는다. 기재의 예로는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리 에테르 술폰, 폴리올레핀 폴리에틸렌, 프로필렌(PP), 폴리-1-부텐(PB) 공중합체, 메틸 펜텐(TPX), 폴리 테트라 플루오로 에틸렌 (PTFE), 폴리노르보넨, 폴리이미드, 시클로알켄. 및 유리가 있다. 기재(substrate) 두께는 전형적으로 약 0.5 미크론 내지 약 20미크론의 범위 일 수 있으나 반드시 그러한 것은 아니다.
TCF(10)의 나노 와이어 층에 사용하기에 적합한 나노-와이어는 전기 전도성이며, 안정한 잉크 또는 코팅 유체의 제제화(formulation)를 가능하게 하기 위해 용제에서 디스퍼션 가능하고, 적어도 하나의 크기에서 서브-미크론 특징을 가지며, 종횡비가 1보다 크고, 고체 또는 중공일 수 있으며, 코팅시 기재상에 전기 전도성 네트워크를 형성하고, 가공을 위해 기재에 대한 적절한 접착력을 가지며(제형에 바인더(binder) 첨가를 포함할 수 있음), 기재으로부터 닦아 냄으로써 제거될 수 있다(오버 코팅되지 않는 다면). 적절한 나노 와이어는 AgNW, 구리 나노 와이어 또는 다른 적절한 금속 나노 와이어를 포함할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. TCF에서 사용되는 AgNW는 전형적으로 약 31nm 내지 약 50nm(더 일반적으로는 약 5nm 내지 약 150nm) 범위, 직경 약 11.4μm 내지 약 20μm의 통상적인 길이를 갖는다(보다 일반적으로 약 5미크론 내지 약 70미크론). 제곱미터당 금속 나노-와이어의 농도는 전형적으로 약 30mg/m² 내지 약 55mg/m², 또는 보다 일반적으로는 약 1mg/m² 내지 약 100mg/m²의 범위 일 수 있다. AgNW를 사용할 때, 나노 와이어 층을 프린팅하기 위한 용매 내 그의 농도는 전형적으로 약 0.1 mg/ml 내지 약 10mg/ml 일 것이다. 나노 와이어 층은 또한 나노 와이어를 기재에 결합시키는 것을 돕는 바인더를 포함할 수 있다. 후보 바인더로는 폴리 비닐 피롤리돈, 셀룰로오스 에스테르, 폴리 아크릴 폴리머 및 폴리 비닐 알코올과 같은 가용성 폴리머를 포함하지만 이에 한정되지는 않는다. 나노 와이어 층은 또한 AgNW와 관련될 수 있는 황색 색상을 감소시키기 위해 나노 와이어 층의 광학 특성을 변경시키는 광학 광택제를 포함할 수 있다. 후보 형광 광택제는 아래에서 설명된다.
TCF(10)의 전도성 층에서 사용하기에 적절한 탄소 나노 튜브는 전기적으로 전도성이며, 증착될 때 전기 전도성 네트워크를 형성하고, 안정한 잉크 또는 코팅 유체의 형성을 가능하게 하기 위해 용매에서 디스퍼션 가능하고, 적어도 하나의 크기에서 서브-미크론 특징을 가지며, 한 크기가 <2nm이고, 종횡비가 1보다 크며, 처리를 위한 나노 와이어 층 및 기재에 대하여 적절한 접착력을 가지며, 닦음으로써 기재으로부터 제거 가능하지 않을 것이다. 적합한 탄소 나노 튜브는 단일 벽, 소수 벽 및 다중 벽 튜브를 포함하며, 그래핀 또는 금속 나노-입자(은 또는 다른 금속 나노 입자와 같은)를 첨가하여 튜브들 사이의 접촉 저항을 줄일 수 있다. 본원 명세서에서 CNT는 단일 벽, 다중 벽 및 몇 안 되는 벽 튜브를 의미한다. 몇 안 되는 소수의 벽 튜브는 보통 2 내지 3개의 벽에 이르는 중간 벽 수를 갖는 CNT이다. 몇몇 벽 CNT 배치(batch)는 세 개 이상의 벽을 가진 CNT를 가질 수 있다. 그러나 벽 CNT의 주요 구성 요소는 2 ~ 3개의 벽을 갖는다. 본원 명세서의 실시 예에 사용된 CNT는 중간 직경이 약 0.84nm이고 직경 범위가 약 0.7nm 내지 약 1.4nm이며, 중간 길이가 약 1.1㎛이고 길이 범위는 제한되는 것은 아니지만 약 0.3 내지 약 3㎛이다. CNT/평방 미터의 농도는 전형적으로 약 1 내지 약 25mg/m²의 범위 일 수 있다. 전형적으로, CNT/평방 미터의 농도는 약 0.5 내지 약 5mg/m²일 것이다.
전도성 층은 또한 전형적으로 유기 또는 무기 폴리머 일 것이며, 전자 전달을 허용하고, 기계적으로 안정하며, 처리를 위해 나노 와이어 층 및 기재에 적절한 접착력을 제공하고, 전도성 층의 응집력을 강화시킬 수 있는 바인더를 포함할 수 있으며, 굴절률이 낮고 가시광선 투과율이 높고, 화학적으로 안정하며, 안정한 잉크 또는 코팅액을 얻기 위해 전도성 층에 배합될 수 있다. 적절한 바인더(binder)는 예를 들어, 이오노머와 같은 전도성 폴리머를 포함한다. 적절한 바인더는 "Nafion"(술폰화 테트라 플루오로 에틸렌 기재 플루오로 폴리머-공중합체 이오노머); 폴리(아릴렌 에테르 술폰) 또는 "BPS"; 술폰화 폴리(아릴렌 티오 에테르 술폰) 또는 "PATS"; 아연, 나트륨 등과 같은 금속염을 사용하여 부분적으로 중화된 산성 기를 함유하는 에틸렌 공중 합체 또는 듀퐁(DuPont)으로부터 입수 가능한 에틸렌 및 메타크릴산의 공중 합체 "수린(Surlyn)"을 포함한다. 당업자에게 공지된 바와 같이, Nafion은 DuPont의 Walther Grot에 의해 1960년대 후반에 CAS 등록 번호 66796-30-3으로 밝혀진 술폰화 테트라 플루오로 에틸렌 계 플루오로 폴리머 공중 합체이다. 나피온 바인더는 잉크 용액에 첨가하기 전에 이소프로판올 내에서 용해될 수 있다. 적절한 점도 조절제(예 : 아민-산 부가물)는 미국 공개 특허 출원 제2005/0276924 호에 기재되어 있으며, 그 개시 내용은 본원에 참고로 인용되어있다. 잉크 내에 디스퍼션된 CNT는 약 0.1 내지 약 1.5 g/L의 범위 일 수 있다. 바인더에 대한 CNT의 비는 약 1:0.5 내지 약 1:50 일수 있다. 단일 벽 CNT 약 0.3g/L를 사용할 때 CNT 함유 잉크의 점도는 LV4 스핀들을 갖는 Brookfield 점도계를 사용하여 측정했을 때 5 rpm에서 약 15,000cP이고 40rpm에서 9,000cP가 될 것이다. 잉크는 필요에 따라 1- 프로판올(이에 한정되는 것은 아님)과 같은 알코올로 희석되어 원하는 점도를 얻는다.
하나의 실시 예에서, 본원 명세서에 개시된 TCF는 상기 설명한 프린팅 공정에 의해 제조될 수 있다. 전형적으로, 금속 나노-와이어는 에탄올 또는 인쇄 공정에서 사용하기에 적합한 다른 용매(예: 메탄올, 이소프로판올, n-프로판올, 부탄올 또는 물)와 같은 용매 내에 디스퍼션될 것이다. 디스퍼션 중의 금속 나노 와이어의 양은 일반적으로 총 디스퍼션의 약 0.15 내지 약 1 중량 %이며, 보다 일반적으로는 약 0.05 내지 약 5 중량 %의 범위 일 수 있다. 한 비한정적인 실시 예에서, 에탄올 내 AgNW의 0.25 중량% 디스퍼션이 사용되었다. 금속 나노 와이어의 디스퍼션은 인쇄되거나 기재의 표면에 적용된다. 금속 나노 와이어의 디스퍼션을 적용하기 전에 기재가 클린되어 오염 물질을 제거하도록 한다. 클리닝 후, NW 디스퍼션은 기재의 표면에 도포되고 약 25μm 습윤 코팅 두께로 만들어진다. 드로 다운(draw down) 단계는 매끄러운 막대 코터 및 고정된 갭을 사용할 수 있다. 선택적으로 Mayer 로드를 사용할 수도 있다. 금속 나노 와이어의 디스퍼션은 통상적으로 실온 조건 하에서 수 초 동안 건조 시킨다. 이어서, 약 30초 동안 350℉의 출력을 갖는 휴대용 건조기로 가열함으로써 추가적인 건조가 수행된다.
CNT를 적용하기 전에, TCF 전도성 영역에 대한 원하는 패턴이 결정된다. 나노-와이어 층을 지니는(carrying) 기재의 하나 이상의 영역은 CNT로 코팅 될 영역만을 노출시키도록 테이프로 감싸거나 마스킹되어 최종 TCF 전도성 영역을 형성할 수 있다. 선택적으로, 잉크로서 적용된 CNT는 NW 층의 사전 마스킹 없이 금속 나노 와이어 위에 원하는 패턴으로 인쇄될 수 있다. 원하는 패턴은 나노 와이어로 코팅된 전체 영역을 포함할 수 있으며, 이는 기재의 전체 영역 일 수도 있고 아닐 수도 있다.
적절한 잉크 내에 분산된 CNT는 나노 와이어 층을 지니는(carrying) 기재의 노출 된 영역을 코팅하는데 사용된다. 금속 나노 와이어로 코팅된 기재에 CNT를 적용하는데 사용하기 적합한 잉크는 용제형(solvent-based), 계면 활성제가 없는 스크린 인쇄 가능한 잉크를 포함 하나 이에 한정되지는 않는다. 또한, 잉크는 접착을 촉진시키는 바인더 및 코팅 공정을 보조하는 점도 조절제를 함유하여야 한다.
나노 와이어 층을 지니는(carrying) 기재(substrate)의 원하는 영역에 CNT, 바인더(및 선택적으로 점도 조절제) 함유 잉크를 적용하는 것이 인쇄 공정을 통해 바람직하게 발생한다. 예를 들어, 하나의 적합한 공정은 3mm 스냅 오프 길이를 갖는 355 폴리 에스테르 메쉬 스크린을 이용한다. 나노-와이어 층을 지니는 기재는 매끄럽고 평탄한 표면을 제공하도록 고정된다. CNT를 지니는 잉크는 스크린에 잉크를 넘치게하고 원하는 패턴 위에 스퀴지(squeegee)로 유체를 드로잉(drawing) 방식으로 적용된다. 바람직하게는 75°의 스퀴지 각과 압력 및 속도를 사용하여 잉크가 스크린을 통해 기재으로 전단(sheared)된다. 잉크의 도포 후, TCF는 약 30초 동안 화씨 350°F로 설정된 공기 대류 건조기로 가열하여 건조시킨다. 최종 건조는 105℃의 조건하에 10분 동안 흐르는 공기 환경, 예를 들면, 105°C에서 10분간 대류 오븐에서 발생된다.
CNT 잉크를 나노 와이어 층의 원하는 영역에 도포하고 잉크를 건조시킨 후, 노출된 금속 나노 와이어를 제거하기 위해 CNT 잉크가 없는 영역이 처리되었다. 금속 나노 와이어의 제거는 물로 적신 천으로 표면을 닦아서 수행할 수 있다. 선택적으로 천은 이소 프로필 알코올로 적셔도 된다. 선택적으로 표면은 물/알코올 혼합액으로 적신 천으로 닦아 낼 수 있다. 선택적으로, 내피온(Nafion) 바인더의 충분한 농도로, CNF 성분의 유해한 제거없이 전체 TCF 표면을 닦아 낼 수 있다.
일부 장치 응용에서, 제2 기재상에서 유사하거나 상이한 전도성 필름 구조를 갖는 또 다른 기재과 결합 될 수 있는 기재의 한면 상에서 전도성 필름 구조를 가져서, 원하는 광전자 수행을 제공할 필요가 있다. 다른 장치 응용에서, 기재의 각면 상에 전도성 필름 구조를 갖는 것이 유리할 수 있으며, 그에 따라 2개의 전도성 필름 구조는 유사하거나 상이하여, 원하는 광전자 성능을 제공하도록 할 수 있다. 단순화된 비 제한적인 예가 도 2에 도시되어있다. 기재(14)는 상부 표면(14a) 및 대향 된 하부 표면(14b)을 갖는다. 선택적인 결합 층(18, 18a)이 이들 표면에 적용될 수 있다. 나노 와이어 층(12 및 12a)이 도포된 다음, 전도성 층(16 및 16a)이 도포된다. 이 예에서, 기재(14)의 한 측면(14a)에서 전도성 부(21-23)는 한 방향으로 나 있으며, 대향 측면(14b) 상의 전도성 영역(24)은 상이한(예컨대, 직각) 방향으로 나 있다. 본원 명세서 다른 곳에서 언급한 바와 같이, 기재의 양면에 전도성 영역(들)의 배치 및 패턴은 설계 선택의 문제이다.
양면 TCF를 만드는 공정은 기재의 각 면에 나노 와이어 층을 먼저 코팅 한 다음, 기재의 각 면에 전도성 CNT 층을 인쇄하는 단계를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지는 않는다. 상기 공정은 또한 일 측면 상에 제1 나노 와이어를 코팅 한 다음 상기 제1 나노 와이어 층 상에 상기 전도성 CNT 층을 인쇄하고, 다음에 상기 기재의 다른 면상에서 상기 공정을 반복하는 단계를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 적용된 CNT 층으로 코팅되지 않은 나노 와이어는 각 TCF 구조가 기재의 각 면에 코팅/인쇄되거나 또는 두 TCF 구조가 기재의 양면에 코팅/인쇄된 후에 제거될 수 있다.
하나의 비한정적인 실시 예에서, 기재는 잉크의 접착을 촉진시키는 접합 층을 형성하도록 처리된 PET이다. 적합한 PET는 'WI 53151 뉴 베를린, 16700 웨스트 링컨 애비뉴'에 소재하는 EIS, Inc의 한 디비젼 인 TEKRA로부터 입수할 수 있으며, PET ST505로 확인된다. PET ST505의 두께는 약 125㎛이다.
또 다른 비한정적인 경우에, 기재는 폴리카보네이트(PC) 필름이다. 적합한 PC는 '독일 Bayer AG, Kaiser-Wilhelm-Allee 1, 51368 레버쿠젠' 소재의 BAYER MaterialScience에서 구할 수 있으며, Makrofol DE-1-1HC이다. 상업적으로 이용 가능한 PC 필름은 일반적으로 접합합 층을 갖지 않기 때문에, 나노 와이어 층 이전에 추가의 층이 구조에 첨가될 수 있다. 접합 층은 하나의 비 한정적인 실시 예에서 적합한 용매에 용해된 메타크릴산메틸 공중합체를 포함할 수 있다. 상기 공중 합체의 농도는 전형적으로 0.25 중량 %이고, 전형적으로 0.1 중량% 내지 10 중량%의 범위 일 수 있다. 용매는 에틸 아세테이트 또는 프로필 아세테이트를 포함하지만 이에 한정되지는 않는다. 용매는 화학적으로 용해되거나 PC 기재에 흡수되어서는 안된다. 접합 층은 일례에서 7㎛ 습윤 두께의 메이어(Mayer) 막대로 코팅되고 5㎛ 내지 15미크론 범위로 코팅될 수 있다. 타이 코트 건조 두께는 전형적으로 0.018 미크론이고 0.01 ㎛ 내지 1미크론의 범위로 코팅될 수 있다. 접합 층 폴리머는 메타크릴산메틸 공중 합체, 에틸 메타 크릴 레이트 공중 합체, 이소 부틸/n-부틸 메타 크릴레이트 공중 합체, n-부틸 메타 크릴레이트 폴리머, 모노, 디- 및 다기능 아크릴레이트 단량체 그리고 올리고머를 포함할 수 있으나, 산, 아민, 히드록실, 멀티 관능 유기실란과 같은 기능기를 갖는 단량체를 포함한다.
접합 층은 또한 접합 층의 광학 특성을 변형시키도록 배열된 첨가물을 포함할 수 있다. 나노 와이어 층은 투과광에 약간의 황색 색상을 추가할 수 있다. 대상물로부터의 황색 톤의 영향을 최소화하기 위해 통상적으로 사용되는 방법은 광택제를 물질에 첨가하는 것이다. 일반적으로 알려진 바와 같이, 광학 광택제, 형광 광택제(FBA) 또는 형광 증백제(FWA)는 전자기 스펙트럼의 자외선 및 보라색 영역(일반적으로 340-370 nm)에서 빛을 흡수하는 화학 화합물이며, 형광에 의해 청색 영역 (전형적으로 420 내지 470 nm)에서 발광한다. 이러한 물질은 용제에 의해 용해되며 접합 층 내 OBA와 관련된 청색 추가를 혼합시키는 것은 황색 색상을 상쇄시키는 것으로 예상된다.
TCF의 중요한 특성에는 시트 저항(Rs), 광학 투명성(%VLT), 내 약품성, 환경 안정성, 기계적 견고성이 있다. 이러한 특성의 일반적인 값은 25옴/스퀘어 내지 450옴/스퀘어, 유기 용제 및 세정제에 대한 저항성, 90%에서 99%까지의 %VLT, 고온/건조(85C/<20 % RH) 안정성 그리고 고온 습식(65C/85% RH), 그리고 굽힘 시험(긴장 상태에서 1000회 반복 굽힘 시 2mm 또는 4mm 굽힘 반지름)을 포함한다.
다음은 테이프 테스트를 통과하기에 기재에 대한 충분한 접착을 가지지 않은 예를 포함하여 본 발명에 따른 TCF의 비 제한적인 몇 가지 예이다.
실시 예 1
PET ST505를 기재으로 사용하고 에탄올 중 AgNW가 0.5 중량%의 디스퍼션으로 코팅 된후, 0.3g/L 단일 벽 CNT, 그리고 상기 단일 벽 CNT과는 50:1의 비로 나피온 바인더를 함유하는 CNT 잉크로 코팅한다.
예제의 TCF는 두 가지 상이한 CNT 커버리지로 인쇄된다. 10mg/m²의 단일 벽 CNT 커버리지는 약 85%의 가시광 투과율(VLT)을 초래했다. 3mg/m²의 단일 벽 CNT 커버리지 적용 범위는 평균 95-97 %VLT를 나타낸다. 비 CNT 인쇄 영역에서 AgNW를 선택적으로 제거하면 CNT 인쇄 영역이 전기적으로 격리된다. CNT 인쇄된 부분 사이를 닦기 전에 저항은 40-100ohm/square 범위였다. 이 영역을 닦은 후에는 비저항 값이 판독되며, CNT 인쇄 영역이 분리된다.
약 95 내지 97% VLT의 3mg/㎡로 인쇄된(VLT 내에서 기재 값을 포함하지 않음) TCF에 대한 비저항 측정되었다. 코팅되지 않은 AgNW를 제거하기 전에, 이 영역의 시트 저항은 40 옴/스퀘어에서 무한대 까지 측정되었다(이 같은 영역을 테스트하는 데 어려움이 있음). 원하는 TCF와 CNT로만 코팅된 기재 사이의 비교를 제공하기 위해, CNT 처리된 기재를 또한 준비하였다. 이 기재의 저항은 10,000옴/스퀘어의 비저항이다. 대조적으로, 상기 기술한 단일 벽 CNT로 오버 코팅된 AgNW를 지니는 원하는 TCF는 VLT의 측정에서 기재를 포함할 때 약 40 내지 약 100 옴/스퀘어의 시트 저항 범위 및 약 88 내지 93%의 VLT를 가졌다.
또한, TCF는 CNT 코팅 영역의 안정성과 AgNW의 제거를 결정하기 위해 테스트 되었다. CNT 코팅된 영역의 접착력을 결정하기 위해, 3M(3M 510 테이프)으로부터 얻어진 접착 테이프를 CNT 코팅된 영역에 도포하고 제거 하였다. CNT 코팅된 영역은 양호한 접착성을 나타내었고, 즉 기재으로부터 제거되지 않았다. CNT가 코팅되지 않은 AgNW를 제거하기위한 메커니즘도 시험했다. 물, 이소 프로필 알콜 및 물/이소 프로필 알코올 만 사용한 접착 테이프 및 액체 세정으로는 AgNW가 제거되지 않았다. 물 또는 이소 프로필 알콜로 습식 세정으로 AgNW가 성공적으로 제거되었다. 습식 세정 동안 과도한 힘은 또한 CNT 코팅의 일부를 제거할 수 있다.
실시 예 2
폴리 에스테르(PET) 필름인 Melinex ST505 (125um)를 기재(substrate)로 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.55 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 55mg/m² AgNW)를 사용하여 PET 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 50:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 부드러운 펠트 직물로 닦았다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~98-99 %(기재 VLT를 뺀 값)이고, 헤이즈 값은 -0.7 %이며, ~ 100-150 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PET 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 99-100%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 50,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 99%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 75옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 통과되었다.
실시 예 3
폴리 에스테르(PET) 필름인 Melinex ST505 (125um)를 기재(substrate)로 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.55 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 55mg/m² AgNW)를 사용하여 PET 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 많지 않은 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 20:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 부드러운 펠트 직물로 닦았다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~98-99 %(기재 VLT를 뺀 값)이고, 예측된 헤이즈 값은 -0.7 %이며(시각적 비교), ~ 100-150 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PET 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 99-100%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 50,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 96%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 75옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 통과되었다.
실시 예 4
폴리 에스테르(PET) 필름인 Melinex ST505 (125um)를 기재(substrate)로 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.55 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 55mg/m² AgNW)를 사용하여 PET 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 10:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 부드러운 펠트 직물로 닦았다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~98-99 %(기재 VLT를 뺀 값)이고, 예측된 헤이즈 값은 -0.7 %이며(가시적인 비교), ~ 100-150 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PET 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 97-98%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 20,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 96%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 75옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 실패하였다.
실시 예 5
폴리 에스테르(PET) 필름인 Melinex ST505 (125um)를 기재(substrate)로 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.55 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #12 Mayer로드(~ 100mg/m² AgNW)를 사용하여 PET 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 50:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 부드러운 펠트 직물로 닦았다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~96-97 %(기재 VLT를 뺀 값)이고, 헤이즈 값은 -1.5 %이며, ~ 40 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PET 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 99-100%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 50,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 97%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 25옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 통과되었다.
실시 예 6
폴리 에스테르(PET) 필름인 Melinex ST505 (125um)를 기재(substrate)로 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.25 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 25mg/m² AgNW)를 사용하여 PET 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 50:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 부드러운 펠트 직물로 닦았다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~98-100%(기재 VLT를 뺀 값)이고, 예측된 헤이즈 값은 -0.3 %이며(가시적인 비교), ~ 700 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PET 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 99-100%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 50,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 99%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 450옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 통과되었다.
실시 예 7
폴리 에스테르(PET) 필름인 Melinex ST505 (125um)를 기재(substrate)로 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.55 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 55mg/m² AgNW)를 사용하여 PET 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.1g/리터로 재구성되고 50:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 부드러운 펠트 직물로 닦았다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~98-99 %(기재 VLT를 뺀 값)이고, 예측된 헤이즈 값은 -0.7 %이며, ~ 100-150 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PET 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 99-100%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 5,500옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 99%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 110옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 실패하였다.
실시 예 8
폴리 에스테르(PET) 필름인 Melinex ST505 (125um)를 기재(substrate)로 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.35 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 35mg/m² AgNW)를 사용하여 PET 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 3:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 5 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 부드러운 펠트 직물로 닦았다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~98-100%(기재 VLT를 뺀 값)이고, 예측된 헤이즈 값은 -0.5 %이며(가시적인 비교), ~ 150-300 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PET 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 90%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 2,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 90%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 100옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 통과되었다.
실시 예 9
폴리 에스테르(PET) 필름인 Melinex ST505 (125um)를 기재(substrate)로 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.55 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 35mg/m² AgNW)를 사용하여 PET 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 50:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 거친 펠트 직물로 닦았다. 코팅된 구조 내에 상당한 스크래치가 발생되었다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~98-99 %(기재 VLT를 뺀 값)이고, 예측된 헤이즈 값은 -0.7 %이며(가시적인 비교), ~ 100-150 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PET 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 99-100%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 50,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 99%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 스크래치로 인하여 측정될 수 없는 시트 저항을 가졌다.
실시 예 10
폴리 에스테르(PET) 필름인 Melinex ST505 (125um)를 기재(substrate)로 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.55 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 55mg/m² AgNW)를 사용하여 PET 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 50:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 딱딱한 펠트 직물로 닦았다. 상당한 스크래치가 코팅된 구조에서 발생 되었다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~98-99 %(기재 VLT를 뺀 값)이고, 예측된 헤이즈 값은 -0.7%이며(가시적인 비교), ~ 100-150 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PET 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 99-100%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 50,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 99%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 스크래치로 인하여 측정될 수 없는 시트 저항을 가졌다.
실시 예 11
폴리 카보네이트(PC) 필름인 Makrofol DE-1-1HC(175um)를 기재(substrate)로 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.55 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 55mg/m² AgNW)를 사용하여 PC 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 50:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 부드러운 펠트 직물로 닦았다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~99 %(기재 VLT를 뺀 값)이고, 예측된 헤이즈 값은 -0.7 %이며(가시적인 비교), ~ 100-150 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PC 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 99-100%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 50,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 99%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 75옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 실패하였다.
실시 예 12
기재로서 폴리 카보네이트(PC) 필름, Makrofol DE-1-1HC (175 ㎛)를 사용 하였다. 5 중량 %의 내피온 유체가 #6 메이어 (Mayer)로드를 사용하여 기재 표면 상에 코팅 되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조되었다. 코팅 된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 실패했다.
실시 예 13
기재로서 폴리 카보네이트(PC) 필름, Makrofol DE-1-1HC (175 ㎛)를 사용하였다. # 6 메이어 (Mayer)로드를 사용하여 5중량 % PSS(폴리(스티렌-란-에틸렌), 설 폰화 된 (Aldrich 659401) 유체를 기재 표면 상에 코팅하였다. 코팅은 177℃ 출구로 설정된 대류 건조기 공기 온도를 -30초간 유지 한 다음, 코팅된 구조물을 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 두었다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 3M 510 테이프를 사용하여 접착 시험을 통과했다.
실시 예 14
기재로서 폴리 카보네이트(PC) 필름, Makrofol DE-1-1HC (175 ㎛)를 사용하였다. AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.55 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 55mg/m² AgNW)를 사용하여 PC 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 50:1 비율의 PSS/CNT에 솔폰화 PSS(폴리(스티렌-란-에틸렌))(Aldrich 659401)가 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 부드러운 펠트 직물로 닦았다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~98-99 %(기재 VLT를 뺀 값)이고, 예측된 헤이즈 값은 -0.7 %이며(가시적인 비교), ~ 100-150 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PC 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 97-98%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 3,000,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 96%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 75옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 실패하였다.
실시 예 15
기재로서 폴리 카보네이트(PC) 필름, Makrofol DE-1-1HC (175 ㎛)를 사용하였다. 메타크릴산메틸 공중합체의 접합 층을 촉진하는 접착제(Elvacite 2028)가 프로필 아세테이트 내에 0.25 중량%로 준비되었다. #3 Mayer로드(~ 0.018 g/m²)를 사용하여 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다.
AgNW 대 바인더(폴리 비닐 피롤리돈(PVP):MW 40,000, Sigma Aldrich, CAS9003-39-8) 비율이 5.24:1인 AgNW를 갖는 이소 프로필 알콜(IPA) 내에 0.55 중량%의 AgNW 유체를 생성하기 위해 은 나노 와이어(AgNW)(~ 20nm 직경; 20㎛ 길이)가 준비되었다. AgNW 코팅은 ~ 5 인치 폭이었다. #6 Mayer로드(~ 55mg/m² AgNW)를 사용하여 PC/접합 층(tie layer) 필름에 유체가 코팅되었다. 코팅은 약 30초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. AgNW는 3인치 정사각형 블록 패턴을 갖는 355 메쉬 폴리에스테르 스크린을 사용하여 카본 나노 튜브 잉크 (Chasm Technologies Inc의 VC101 단일 벽 CNT 잉크)로 오버 프린트되었다. 잉크는 CNT 농도가 0.3g/리터로 재구성되고 50:1 비율의 내피온/CNT에 내피온(Aldrich 510211)이 포함되도록 재구성되었다. 인쇄된 CNT 층을 약 15 초 동안 177℃ 출구 공기 온도로 설정된 대류 건조기로 건조 시켰다. 다음에 코팅된 구조물이 105℃에서 10분 동안 표준 실험 대류 오븐에 놓였다. 샘플을 주위 온도(약 25℃)로 냉각시켰다. 샘플을 단일 패스 와이프(single pass wipe)로서 DI 물로 적신 부드러운 펠트 직물로 닦았다. 필름을 닦기 위해 최소 압력이 사용되었다. 필름을 대류 건조기로 177℃의 출구 온도로 30초 동안 건조시켜 물을 모두 제거하였다. AgNW 코팅 후 %VLT(가시광선 투과율)는 ~98-99 %(기재 VLT를 뺀 값)이고, 예측된 헤이즈 값은 -0.7 %이며(가시적인 비교), ~ 100-150 옴/스퀘어의 시트(sheet) 저항을 가진다. PC 기재 위에만 인쇄된 CNT 층은 99-100%의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가졌으며(기재 VLT를 뺀 값) 50,000옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. CNT 프린팅 및 습윤 와이핑이 완료된 후, 전체 구조는 99%(기재 VLT를 감산)의 %VLT(가시 광선 투과율)를 가지며 75옴/스퀘어의 시트 저항을 가졌다. 3M 510 테이프를 사용한 접착력 테스트가 통과되었다.
실시 예 16
시트 저항(Rs) 결과의 변화를 평가하기 위해 실시 예 2에 기재된 TCF를 상이한 환경 조건에서 유지하였다. 실온, 25℃/50% RH에서 300시간 동안 유지된 샘플은 Rs에서 어떠한 변화도 보이지 않았다. "고온/습윤" 조건, 65℃/85% RH에서 300시간 동안 유지된 샘플은 Rs가 2% 미만으로 증가하는 것을 보여 줬다. "고온/건식" 조건, 85℃/<20% RH에서 300시간 동안 유지된 샘플은 Rs가 200% 이상 증가한 것으로 나타났다. 이 샘플을 PET 필름 시트로 덮었을 때 Rs 값은 증가하지 않았다.
다수의 실시 예가 설명되었다. 그럼에도 불구하고, 여기에 설명된 발명 개념의 범위를 벗어나지 않고 추가의 변형이 이루어질 수 있으며, 따라서 다른 실시 예는 다음의 청구 범위의 범주 내에 속한다는 것이 이해될 것이다.

Claims (37)

  1. 표면을 갖는 기재(substrate); 상기 기재 표면의 하나 이상의 부분 위에 있는 나노 와이어 층; 그리고 상기 나노 와이어 층을 포함하는 부분 위의 전도성 층을 포함하고, 상기 전도성 층은 탄소 나노 튜브(CNT) 및 바인더를 포함하는 투명 전도성 필름(TCF).
  2. 제1항에 있어서, 나노와이어가 실버 또는 구리 나노 와이어를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  3. 제1항에 있어서, 나노 와이어 층이 나노 와이어 바인더를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  4. 제1항에 있어서, 나노 와이어 층이 나노 와이어 층의 광학 특성을 수정하도록 된 첨가물을 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  5. 제4항에 있어서, 상기 첨가물이 광학 광택제를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  6. 제1항에 있어서, 나노 와이어 층이 약 10 mg/m² 내지 약 100 mg/m²나노 와이어를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  7. 제1항에 있어서, 나노 와이어 층이 기재의 표면 모두 보다 작은 부분을 포함하는 부분 위에 있음을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  8. 제1항에 있어서, 전도성 층 바인더가 폴리머를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  9. 제8항에 있어서, 상기 전도성 층 바인더가 이오너머(ionomer)를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  10. 제9항에 있어서, 전도성 층 바인더가 술폰화 테트라 플루오르 에틸렌 기재 플루오르 폴리머-공중합체를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  11. 제1항에 있어서, 전도성 층 바인더가 약 1.5 이하의 굴절률를 가짐을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  12. 제1항에 있어서, 전도성 층이 점도 조절제를 더욱 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  13. 제1항에 있어서, 전도성 층이 전도성 나노 입자 및 그래핀 중 하나 이상을 더욱 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  14. 제1항에 있어서, 나노 와이어 및 CNT 중 적어도 하나의 기재에 대한 접착을 촉진시키는 기재 상의 접합 층(tie layer 접합 층)을 더욱 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  15. 제14항에 있어서, 접합 층이 접합 층의 광학 특성을 조절하도록 된 첨가물을 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  16. 제14항에 있어서, 접합 층이 폴리머를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  17. 제16항에 있어서, 폴리머가 메타크릴산메틸 공폴리머를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  18. 제1 항에 있어서, 상기 기재는 2개의 대향 표면을 갖고, 상기 두 표면의 하나 이상의 부분 위의 하나씩 2개의 나노 와이어 층이 존재하며; 두 나노 와이어 층 상에 전도성 층이 존재함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF).
  19. 표면을 갖는 기재를 제공하는 단계, 상기 기재 표면의 하나 이상의 부분 위에 나노 와이어 층을 증착시키는 단계, 그리고 상기 나노 와이어 층을 포함하는 부분 위의 전도성 층을 패터닝하는 단계를 포함하며, 상기 전도성 층은 탄소 나노 튜브(CNT) 및 바인더를 포함하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  20. 제19항에 있어서, 나노와이어가 실버 또는 구리 나노와이어를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  21. 제19항에 있어서, 나노 와이어 층이 나노 와이어 바인더를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  22. 제19항에 있어서, 나노 와이어 층이 나노 와이어 층의 광학 특성을 수정하도록 된 첨가물을 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  23. 제22항에 있어서, 상기 첨가물이 광학 광택제를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  24. 제19에 있어서, 나노 와이어 층이 약 10 mg/m²내지 약 100 mg/m²나노 와이어를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  25. 제19항에 있어서, 나노 와이어 층이 기재의 표면 모두 보다 작은 부분을 포함하는 부분 위에 있음을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  26. 제19항에 있어서, 전도성 층 바인더가 폴리머를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  27. 제26항에 있어서, 상기 전도성 층 바인더가 이오너머(ionomer)를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  28. 제27항에 있어서, 전도성 층 바인더가 술폰화 테트라 플루오르 에틸렌 기재 플루오르 폴리머-공중합체를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  29. 제19항에 있어서, 전도성 층 바인더가 약 1.5 이하의 굴절률를 가짐을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  30. 제19항에 있어서, 전도성 층이 점도 조절제를 더욱 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  31. 제30항에 있어서, 점도 조절제가 일시적인 물질임을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  32. 제19항에 있어서, 전도성 층이 전도성 나노 입자 및 그래핀 중 하나 이상을 더욱 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  33. 제19항에 있어서, 상기 기재의 상부 표면 상에, 상기 증착 단계 전에, 상기 나노 와이어 및 상기 CNT 중 적어도 하나의 기재에 대한 접착을 촉진시키는 접합 층을 생성시키는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  34. 제33항에 있어서, 접합 층이 접합 층의 광학 특성을 조절하도록 된 첨가물을 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  35. 제33항에 있어서, 접합 층이 폴리머를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  36. 제35항에 있어서, 폴리머가 메타크릴산메틸(methylmethacrylate) 공폴리머를 포함함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
  37. 제19항에 있어서, 상기 기재는 2개의 대향 표면을 갖고, 상기 두 표면의 하나 이상의 부분 위의 하나씩 2개의 나노 와이어 층이 존재하며; 두 나노 와이어 층 상에 전도성 층이 존재함을 특징으로 하는 투명 전도성 필름(TCF)을 제조하는 방법.
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