KR20170133320A - Machining jig and method for manufacturing sputtering target member - Google Patents

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KR20170133320A
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Abstract

원통형 세라믹스의 외주면에 있어서의 흠집이나 균열의 발생을 억제하는 것을 과제로 한다. 이러한 과제를 해결하기 위해서, 실시형태의 일 양태에 관련된 가공 지그 (31, 131) 는, 회전체 (34, 134) 를 구비한다. 회전체 (34, 134) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 회전에 종동하여 회전한다. 회전체 (34, 134) 의 회전축 방향의 길이는 15 ㎜ 이상이고, 또한 회전체 (34, 134) 의 적어도 외주부 (39, 139) 의 재질이, 로크 웰 경도가 80 이상 125 이하인 수지, 혹은 고무 경도가 80 이상 95 이하인 고무이다.And the occurrence of scratches and cracks on the outer peripheral surface of the cylindrical ceramics is suppressed. In order to solve such a problem, the working jigs 31 and 131 according to an embodiment of the embodiment are provided with rotating bodies 34 and 134. [ The rotating bodies (34, 134) rotate following the rotation of the cylindrical ceramics (10). It is preferable that the length of the rotating bodies 34 and 134 in the direction of the rotational axis is 15 mm or more and the material of at least the outer circumferential portions 39 and 139 of the rotating bodies 34 and 134 is a resin having a Rockwell hardness of 80 to 125, And a hardness of 80 or more and 95 or less.

Description

가공 지그 및 스퍼터링 타깃재의 제조 방법{MACHINING JIG AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET MEMBER}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a machining jig and a manufacturing method of a sputtering target material,

개시된 실시형태는, 가공 지그 및 스퍼터링 타깃재의 제조 방법에 관한 것이다.The disclosed embodiments relate to a processing jig and a method of manufacturing a sputtering target material.

종래, 원통형의 타깃재의 내측에 자장 발생 장치가 배치되고, 이러한 타깃재를 내측으로부터 냉각시키며 회전시키면서 스퍼터링을 실시함으로써, 기판 상에 박막을 형성하는 스퍼터링 장치가 알려져 있다.Conventionally, there is known a sputtering apparatus in which a magnetic field generating device is disposed inside a cylindrical target member, and a thin film is formed on the substrate by sputtering while rotating and cooling the target material from the inside.

상기한 원통형 타깃재는, 예를 들어 소성체인 원통형 세라믹스를 연삭 가공하여 제조된다. 구체적으로는, 예를 들어 원통형 세라믹스를 회전시키면서, 내주면이나 외주면을 지석으로 연삭하고, 내경이나 외경의 치수를 조정하여 원통형 타깃재가 제조된다.The above-mentioned cylindrical target material is produced, for example, by grinding a cylindrical ceramics as a fired material. Specifically, for example, while rotating the cylindrical ceramics, a cylindrical target material is manufactured by grinding the inner peripheral surface and the outer peripheral surface with a grinding stone and adjusting the inner diameter and outer diameter.

상기한 종래 기술에 있어서는, 예를 들어 원통형 세라믹스의 내주면을 연삭 가공할 때, 원통형 세라믹스는, 일단측이 회전 기구에 의해 유지되어 회전된다. 한편, 원통형 세라믹스의 타단측은, 외주면이 가공 지그에 의해 회전 가능하게 유지되고, 이로 인해 회전에 의해 발생하는 원통형 세라믹스의 진동을 억제하여, 연삭 정밀도를 향상시키도록 하고 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).In the above conventional technique, for example, when the inner circumferential surface of the cylindrical ceramics is ground, the one end side of the cylindrical ceramics is held and rotated by the rotation mechanism. On the other hand, the other end side of the cylindrical ceramics is configured so that the outer circumferential surface thereof is rotatably held by the working jig, thereby suppressing the vibration of the cylindrical ceramics generated by the rotation and improving the grinding precision (see, for example, 1).

일본 공개특허공보 2014-148026호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-148026

그러나, 상기한 가공 지그에는, 원통형 세라믹스의 흠집이나 균열의 발생을 억제한다는 점에서 추가적인 개선의 여지가 있었다.However, there is room for further improvement in that the machining jig described above suppresses occurrence of scratches and cracks in the cylindrical ceramics.

즉, 원통형 세라믹스는, 기계적 강도가 비교적 낮아 무른 재료이기 때문에, 상기와 같이 외주면을 가공 지그로 유지한 경우, 가공 지그와의 접촉에 의해 외주면에 깊은 흠집이나 균열이 발생할 우려가 있었다.That is, since the cylindrical ceramics has a relatively low mechanical strength and is made of a soft material, when the outer circumferential surface is held by the working jig as described above, there is a possibility that deep scratches or cracks may occur on the outer circumferential surface due to contact with the working jig.

이러한 흠집이나 균열이 발생한 원통형 세라믹스는, 스퍼터링 타깃재로서 사용할 수 없기 때문에, 스퍼터링 타깃재용 원통형 세라믹스의 수율 저하로 이어진다는 문제가 있다.The cylindrical ceramics having such scratches or cracks can not be used as a sputtering target material, which leads to a problem that the yield of the cylindrical ceramics for the sputtering target material is lowered.

실시형태의 일 양태는, 상기를 감안하여 이루어진 것으로, 원통형 세라믹스에 있어서의 흠집이나 균열의 발생을 억제할 수 있는 가공 지그 및 스퍼터링 타깃재의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a machining jig and a manufacturing method of a sputtering target material which can suppress occurrence of scratches and cracks in a cylindrical ceramics.

실시형태의 일 양태에 관련된 가공 지그는, 원통형 세라믹스의 회전에 종동하여 회전하는 회전체를 구비한다. 또, 상기 회전체의 회전축 방향의 길이는 15 ㎜ 이상이고, 또한 상기 회전체의 적어도 외주부의 재질이, 로크 웰 경도가 80 이상 125 이하인 수지, 혹은 고무 경도가 80 이상 95 이하인 고무이다.The working jig according to one aspect of the embodiment includes a rotating body that rotates following rotation of the cylindrical ceramics. The material of the outer circumferential portion of the rotating body is a resin having a Rockwell hardness of 80 or more and 125 or less, or a rubber having a rubber hardness of 80 to 95. The length of the rotating body in the direction of the axis of rotation is 15 mm or more.

실시형태의 일 양태에 의하면, 원통형 세라믹스에 있어서의 흠집이나 균열의 발생을 억제할 수 있다.According to an aspect of the embodiment, occurrence of scratches and cracks in the cylindrical ceramics can be suppressed.

도 1 은, 제 1 실시형태에 관련된 가공 지그를 구비한 가공 장치의 구성예를 나타내는 단면도이다.
도 2 는, 도 1 에 나타내는 가공 지그 부근을 원통형 세라믹스의 길이 방향측으로부터 보았을 때의 단면도이다.
도 3 은, 도 1 에 나타내는 가공 지그의 확대 단면도이다.
도 4 는, 스퍼터링 타깃재를 제조하는 처리 순서를 나타내는 플로 차트이다.
도 5 는, 제 2 실시형태에 관련된 가공 지그를 나타내는 확대 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a configuration example of a machining apparatus provided with a machining jig according to the first embodiment.
Fig. 2 is a sectional view of the vicinity of the processing jig shown in Fig. 1 when viewed from the longitudinal direction side of the cylindrical ceramics. Fig.
3 is an enlarged sectional view of the processing jig shown in Fig.
Fig. 4 is a flowchart showing a processing procedure for manufacturing a sputtering target material.
5 is an enlarged sectional view showing a processing jig according to the second embodiment.

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본원이 개시하는 가공 지그 및 스퍼터링 타깃재의 제조 방법을 상세하게 설명한다. 또한, 이하에 나타내는 실시형태에 의해 이 발명이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a method of manufacturing a processing jig and a sputtering target material disclosed by the present application will be described in detail. The present invention is not limited to the following embodiments.

(제 1 실시형태)(First Embodiment)

도 1 은, 제 1 실시형태에 관련된 가공 지그를 구비한 가공 장치의 구성예를 나타내는 단면도이다. 또, 도 2 는, 도 1 에 나타내는 가공 지그 부근을 원통형 세라믹스의 길이 방향측으로부터 보았을 때의 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a configuration example of a machining apparatus provided with a machining jig according to the first embodiment. Fig. 2 is a sectional view of the vicinity of the processing jig shown in Fig. 1 when viewed from the longitudinal direction side of the cylindrical ceramics.

또한, 도 1 은, 정확하게는, 도 2 의 I-I 선으로 가공 장치를 절단했을 때의 단면을 나타내고 있다. 또, 도 2 에는, 설명을 알기 쉽게 하기 위해서, 서로 직교하는 X 축 방향, Y 축 방향 및 Z 축 방향을 규정하고, Z 축 정방향을 연직 상향 방향으로 한 3 차원의 직교 좌표계를 도시하고 있다.Fig. 1 shows a cross section exactly when the machining apparatus is cut along the line I-I in Fig. Fig. 2 shows a three-dimensional orthogonal coordinate system in which X-axis direction, Y-axis direction and Z-axis direction orthogonal to each other are defined and a Z-axis normal direction is a vertical upward direction for easy understanding.

또, 도 1, 2 및 후술하는 도 3, 5 에서는, 설명에 필요한 구성 요소만을 나타내고, 일반적인 구성 요소에 대한 기재를 생략하는 경우가 있다. 또, 도 1, 2 및 도 3, 5 는, 모두 모식도이다.In Figs. 1 and 2 and later-described Figs. 3 and 5, only constituent elements necessary for explanation are shown, and description of general constituent elements may be omitted. Figs. 1 and 2 and Figs. 3 and 5 are all schematic diagrams.

도 1 에 나타내는 가공 장치 (1) 는, 장척상의 원통형 세라믹스 (10) 를 가공하여 스퍼터링 타깃재를 제조하기 위한 장치이다. 또한, 가공 장치 (1) 를 사용하여 제조된 타깃재는, 도시되지 않은 스퍼터링 장치에 세트되어, 도시되지 않은 기판 상에 박막을 형성하는 스퍼터링이 실시된다.The machining apparatus 1 shown in Fig. 1 is a device for manufacturing a sputtering target material by processing a cylindrical ceramic 10 of a long-length phase. The target material produced by using the machining apparatus 1 is set in a sputtering apparatus (not shown), and sputtering for forming a thin film on a substrate not shown is performed.

도 1, 2 에 나타내는 바와 같이, 원통형 세라믹스 (10) 는, 중공부 (11) 를 갖는 통 형상으로 형성된다. 또한, 원통형 세라믹스 (10) 는, 조립 (造粒) 공정과 성형 공정과 소성 공정을 거쳐 제조된다.As shown in Figs. 1 and 2, the cylindrical ceramics 10 is formed into a cylindrical shape having a hollow portion 11. The cylindrical ceramics 10 is manufactured through a granulating step, a forming step and a baking step.

구체적으로는, 조립 공정에서는, 예를 들어 세라믹스 원료 분말 및 유기 첨가물을 함유하는 슬러리를 제조하고, 이러한 슬러리를 스프레이 드라이 처리에 의해 과립체를 제조한다. 성형 공정에서는, 과립체를 예를 들어 CIP (Cold Isostatic Pressing) 성형하여, 원통형의 성형체를 제조한다. 그리고, 소성 공정에서는, 성형체를 소성로 내에서 소성하여 소성체를 제조한다.Specifically, in the granulation step, for example, a slurry containing a ceramic raw material powder and an organic additive is prepared, and granules are prepared by spray-drying the slurry. In the molding step, a granular body is formed by, for example, CIP (Cold Isostatic Pressing) molding to produce a cylindrical molded body. In the firing step, the formed body is fired in a firing furnace to produce a fired body.

이와 같이 하여 제조된 소성체가 원통형 세라믹스 (10) 이고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 는 가공 장치 (1) 에 의해 회전되면서, 내주면 (10a) 에 대해 연삭 가공이 실시된다. 또한, 소성체인 원통형 세라믹스 (10) 의 제조 방법은, 상기한 것에 한정되지 않고, 어떠한 방법이어도 된다.The sintered body manufactured in this way is a cylindrical ceramics 10. The cylindrical ceramics 10 are rotated by the machining apparatus 1 and the inner peripheral surface 10a is subjected to grinding. The method of producing the cylindrical ceramics 10 as the firing is not limited to the above, and any method may be used.

즉, 예를 들어, 상기한 성형 공정에서는, CIP 성형을 사용하도록 했지만, 이것에 한정되지 않고, 압출 성형이나 사출 성형, 주입 (鑄入) 성형 등 그 밖의 성형 수법을 이용해도 된다.That is, for example, in the above-described molding step, CIP molding is used, but the present invention is not limited to this, and other molding techniques such as extrusion molding, injection molding, injection molding and the like may be used.

또, 원통형 세라믹스 (10) 의 세라믹스 원료로는, IGZO (In2O3-Ga2O3-ZnO), ITO (In2O3-SnO2) 및 AZO (Al2O3-ZnO) 등을 예시할 수 있지만, 이것들에 한정되지 않는다. 즉, 원통형 세라믹스 (10) 는, 예를 들어 In, Zn, Al, Ga, Zr, Ti, Sn, Mg 및 Si 중 1 종 이상을 함유하는 것이어도 된다.IGZO (In 2 O 3 -Ga 2 O 3 -ZnO), ITO (In 2 O 3 -SnO 2 ), AZO (Al 2 O 3 -ZnO) and the like are used as the ceramic raw material of the cylindrical ceramics 10 But are not limited to these. That is, the cylindrical ceramics 10 may contain at least one of In, Zn, Al, Ga, Zr, Ti, Sn, Mg and Si, for example.

이와 같이 하여 제조된 원통형 세라믹스 (10) 는, 전체 길이가 길수록, 가공 지그와 원통형 세라믹스 (10) 의 접촉 부분에 가해지는 힘이 커지기 때문에, 예를 들어 전체 길이가 500 ㎜ 이상, 바람직하게는 750 ㎜ 이상, 보다 바람직하게는 1000 ㎜ 이상인 경우에, 후술하는 가공 지그를 적용하는 것이 적당하다. 단, 전체 길이가 500 ㎜ 미만인 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 가공 지그를 사용해도 된다.The longer the total length of the cylindrical ceramics 10 manufactured in this way, the greater the force applied to the contact portion between the working jig and the cylindrical ceramics 10. For example, the total length is 500 mm or more, preferably 750 Mm or more, more preferably 1000 mm or more, it is appropriate to apply the processing jig described later. However, a machining jig may be used for the cylindrical ceramics 10 whose total length is less than 500 mm.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 가공 장치 (1) 는, 회전 기구 (20) 와, 진동 억제 기구 (30) 를 구비한다. 회전 기구 (20) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 을 유지하면서, 원통형 세라믹스 (10) 를 회전시킨다.As shown in Fig. 1, the machining apparatus 1 includes a rotation mechanism 20 and a vibration suppression mechanism 30. As shown in Fig. The rotating mechanism 20 rotates the cylindrical ceramics 10 while holding the one end 10c of the cylindrical ceramics 10. [

상세하게는, 회전 기구 (20) 는, 본체부 (21) 와, 회전부 (22) 와, 유지 클로우 (23) 를 구비한다. 본체부 (21) 에는, 회전부 (22) 를 회전 구동시키는 모터 등의 구동원 (도시 생략) 이 수용된다.More specifically, the rotating mechanism 20 includes a main body 21, a rotating portion 22, and a holding claw 23. As shown in Fig. A drive source (not shown) such as a motor for rotationally driving the rotation section 22 is accommodated in the main body section 21.

회전부 (22) 는, 상기한 구동원의 출력축에 접속됨과 함께, 구동원으로부터 회전력이 전달되면, 회전축 A 둘레로 회전한다. 유지 클로우 (23) 는, 회전부 (22) 에 접속됨과 함께, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 의 외주측에 복수 개 배치되어, 원통형 세라믹스 (10) 를 유지한다.The rotation section 22 is connected to the output shaft of the drive source and rotates about the rotation axis A when a rotational force is transmitted from the drive source. The holding claws 23 are connected to the rotating portion 22 and a plurality of the holding claws 23 are disposed on the outer peripheral side of the one end 10c of the cylindrical ceramics 10 to hold the cylindrical ceramics 10 therein.

구체적으로는, 예를 들어, 유지 클로우 (23) 는 3 개이고 (도 1 에 있어서 1 개 보이지 않음), 회전축 A 를 중심으로 하여 서로 120 도의 간격을 두고 배치된다. 또, 3 개의 유지 클로우 (23) 는 각각, X 축 방향에서 보았을 때 원통형 세라믹스 (10) 의 직경 방향으로 독립적으로 이동 가능하게 구성된다.Specifically, for example, the number of the retaining claws 23 is three (one is not seen in Fig. 1) and is disposed at an interval of 120 degrees with respect to the rotation axis A as a center. Each of the three retaining claws 23 is configured to be movable independently in the radial direction of the cylindrical ceramics 10 when viewed in the X-axis direction.

따라서, 예를 들어, 유지 클로우 (23) 에 의해 원통형 세라믹스 (10) 를 유지하는 경우, 먼저, X 축 방향에서 보았을 때 3 개의 유지 클로우 (23) 에 의해 둘러싸이는 스페이스가 미리 원통형 세라믹스 (10) 의 외경보다 커지도록 설정해 둔다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 이 3 개의 유지 클로우 (23) 에 의해 둘러싸이는 스페이스에 세트된 후, 3 개의 유지 클로우 (23) 를 각각 직경 방향 내측으로 이동시킨다.Therefore, for example, when the cylindrical ceramics 10 is held by the holding claws 23, first, the space surrounded by the three holding claws 23 when viewed in the X-axis direction is preliminarily held by the cylindrical ceramics 10, As shown in Fig. After one end 10c of the cylindrical ceramics 10 is set in the space surrounded by the three holding claws 23, the three holding claws 23 are moved radially inwardly.

이어서, 유지 클로우 (23) 를 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 소정의 압력으로 맞닿게 함으로써, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 은, 3 개의 유지 클로우 (23) 에 의해 유지되게 된다. 이로 인해, 회전 기구 (20) 는, 유지 클로우 (23) 에 의해 유지된 원통형 세라믹스 (10) 를, 회전부 (22) 의 회전에 수반하여 회전축 A 둘레로 회전시킬 수 있다.The one end 10c of the cylindrical ceramics 10 is held by the three holding claws 23 by bringing the holding claws 23 into contact with the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 at a predetermined pressure do. The rotation mechanism 20 can rotate the cylindrical ceramics 10 held by the holding claws 23 around the rotation axis A in accordance with the rotation of the rotation section 22. [

또한, 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축은, 회전 기구 (20) 의 회전축 A 와 거의 동축이 된다. 따라서, 도 1 등에서는, 도시의 간략화를 위해, 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축도 「회전축 A」로서 도시하였다. 또, 이하에 있어서는, 「회전축 A」를 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 의 의미로 사용하는 경우가 있다.The rotation axis of the cylindrical ceramics 10 is substantially coaxial with the rotation axis A of the rotation mechanism 20. [ 1 and so on, for the sake of simplicity, the rotational axis of the cylindrical ceramics 10 is also shown as " rotational axis A ". In the following description, the term " rotation axis A " may be used in the meaning of the rotation axis A of the cylindrical ceramics 10 in some cases.

또한, 상기에서는, 회전 기구 (20) 의 유지 클로우 (23) 를 3 개로 했지만, 개수는 이것에 한정되지 않는다. 또, 상기한 회전 기구 (20) 에서는, 원통형 세라믹스 (10) 를 유지 클로우 (23) 에 의해 유지하도록 했지만, 이것은 예시이지 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 회전 기구 (20) 가, 유지 클로우 (23) 대신에, 링 형상으로 형성된 유지부를 구비하고, 이러한 유지부에 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 을 삽입 통과시켜 고정시키는 등, 그 밖의 구성으로 원통형 세라믹스 (10) 를 유지해도 된다.In the above description, the number of the holding claws 23 of the rotating mechanism 20 is three, but the number of the holding claws 23 is not limited to this. In the above-described rotating mechanism 20, the cylindrical ceramics 10 is held by the holding claws 23, but this is not limitative. For example, the rotating mechanism 20 includes a holding portion formed in a ring shape instead of the holding claws 23, and one end 10c of the cylindrical ceramics 10 is inserted and fixed to the holding portion, The cylindrical ceramics 10 may be held by other configurations.

진동 억제 기구 (30) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 부근을 회전 가능하게 유지하고, 회전에 의해 발생하는 원통형 세라믹스 (10) 의 진동을 억제한다. 이로 인해, 회전하는 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 가 안정되기 때문에, 후술하는 연삭 가공시의 연삭 정밀도를 향상시킬 수 있다.The vibration suppression mechanism 30 rotatably holds the vicinity of the other end 10d of the cylindrical ceramic 10 and suppresses the vibration of the cylindrical ceramic 10 caused by the rotation. As a result, the rotation axis A of the rotating cylindrical ceramics 10 is stabilized, so that the grinding accuracy at the time of grinding to be described later can be improved.

상세하게는, 진동 억제 기구 (30) 는, 도시되지 않은 본체부와 가공 지그 (31) 를 구비한다. 가공 지그 (31) 는, 본체부에 형성되어, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 부근을 외주면 (10b) 측으로부터 회전 가능하게 유지한다.Specifically, the vibration damping mechanism 30 includes a body portion and a processing jig 31, which are not shown. The processing jig 31 is formed in the main body and rotatably holds the vicinity of the other end 10d of the cylindrical ceramics 10 from the outer peripheral surface 10b side.

그런데, 원통형 세라믹스 (10) 는, 기계적 강도가 비교적 낮아 무른 재료이다. 그 때문에, 예를 들어, 가공 지그 (31) 에 있어서 원통형 세라믹스 (10) 와 접촉하는 부분이 스테인리스 등의 금속제였던 경우, 가공 지그 (31) 와의 접촉에 의해 외주면 (10b) 에 깊은 흠집이나 균열이 발생할 우려가 있다.However, the cylindrical ceramics 10 is a material which is relatively soft and has a low mechanical strength. Therefore, for example, when the portion of the machining jig 31 that is in contact with the cylindrical ceramics 10 is made of metal such as stainless steel, deep scratches or cracks are formed on the outer circumferential surface 10b by contact with the machining jig 31 There is a possibility of occurrence.

그래서, 본 실시형태에 관련된 가공 지그 (31) 에 있어서는, 원통형 세라믹스 (10) 에 있어서의 흠집이나 균열의 발생을 억제할 수 있는 것과 같은 구성으로 하였다. 이하, 이러한 가공 지그 (31) 의 구성에 대하여, 더욱 상세하게 설명한다.Thus, in the working jig 31 according to the present embodiment, the occurrence of scratches and cracks in the cylindrical ceramics 10 can be suppressed. Hereinafter, the configuration of the processing jig 31 will be described in more detail.

도 3 은, 도 1 에 나타내는 가공 지그 (31) 의 확대 단면도이다. 도 2 등에 나타내는 바와 같이, 가공 지그 (31) 는, 복수 개의 롤러 (34) 와, 복수 개의 롤러 (34) 를 각각 지지하는 지지부 (35) 를 구비한다. 또한, 도 1 ∼ 도 3 에서는, 도시의 간략화를 위해, 지지부 (35) 를 상상선 (想像線) 으로 나타내었다.3 is an enlarged sectional view of the processing jig 31 shown in Fig. 2 and 3, the processing jig 31 includes a plurality of rollers 34 and a support portion 35 for supporting the plurality of rollers 34, respectively. 1 to 3, for the sake of simplicity, the supporting portion 35 is shown as an imaginary line.

롤러 (34) 는, 도 1 ∼ 도 3 에 나타내는 바와 같이, 예를 들어 원기둥상으로 형성된다. 또한, 롤러 (34) 는, 회전체의 일례이다.As shown in Figs. 1 to 3, the roller 34 is formed, for example, in a columnar shape. The roller 34 is an example of the rotating body.

복수 개의 롤러 (34) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 부근의 외주 측에 배치된다. 예를 들어, 롤러 (34) 는 3 개이고 (도 1 에서 1 개 보이지 않음), 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 를 중심으로 하여 서로 120 도의 간격을 두고 배치된다. 또한, 상기에서는, 롤러 (34) 를 등간격 (예를 들어 120 도의 간격) 으로 배치하도록 했지만, 이것은 예시이지 한정되는 것은 아니고, 복수의 롤러 (34) 끼리의 간격은 임의로 설정할 수 있다.The plurality of rollers 34 are disposed on the outer peripheral side of the cylindrical ceramics 10 near the other end 10d. For example, the number of the rollers 34 is three (one in FIG. 1 is not shown) and is disposed at an interval of 120 degrees from each other with respect to the rotational axis A of the cylindrical ceramics 10 as a center. In the above description, the rollers 34 are arranged at regular intervals (for example, at an interval of 120 degrees). However, this is not limitative and the intervals between the rollers 34 can be arbitrarily set.

또, 상기한 복수 개의 롤러 (34) 는 각각, 둘레 방향으로 회전하는 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 맞닿아 형성되고, 이로써 원통형 세라믹스 (10) 의 회전에 종동하여 회전축 B 둘레로 회전하도록 구성된다.The plurality of rollers 34 are formed so as to abut against the outer circumferential surface 10b of the cylindrical ceramics 10 rotating in the circumferential direction so as to rotate around the rotational axis B following the rotation of the cylindrical ceramics 10, .

상세하게는, 도 2 및 도 3 에 잘 나타내는 바와 같이, 롤러 (34) 는, 심재 (芯材) (36) 와, 베어링 (37) 과, 내주부 (38) 와, 외주부 (39) 를 구비한다.2 and 3, the roller 34 includes a core member 36, a bearing 37, an inner peripheral portion 38, and an outer peripheral portion 39 do.

심재 (36) 는, 예를 들어 원기둥상으로 형성됨과 함께, 지지부 (35) 의 적절한 위치에 고정된다. 또, 심재 (36) 로는, 예를 들어 철, 스테인리스, 티탄 및 티탄 합금 등의 금속 재료나 경질 고무, 수지를 사용할 수 있지만, 이것들에 한정되지 않는다.The core member 36 is formed, for example, in a columnar shape and fixed at a suitable position of the support portion 35. [ As the core material 36, for example, a metal material such as iron, stainless steel, titanium, and a titanium alloy, a hard rubber, and a resin may be used, but the present invention is not limited thereto.

내주부 (38) 는, 예를 들어 원통상으로 형성되어, 회전축 B 방향에서 보았을 때 심재 (36) 를 둘러싸는 것과 같은 위치에 형성된다. 또, 베어링 (37) 은, 심재 (36) 와 내주부 (38) 사이에 개재되어 삽입된다. 바꾸어 말하면, 베어링 (37) 은, 심재 (36) 의 직경 방향 외측, 또한 내주부 (38) 의 직경 방향 내측에 배치된다. 따라서, 베어링 (37) 은, 내주부 (38) 및 외주부 (39) 를 심재 (36) 에 대해 회전 가능하게 지지한다.The inner peripheral portion 38 is formed, for example, in a cylindrical shape and is formed at a position such that it surrounds the core member 36 when viewed in the direction of the rotation axis B. The bearing 37 is interposed between the core member 36 and the inner peripheral portion 38 and inserted. In other words, the bearing 37 is disposed radially outward of the core member 36, and radially inward of the inner circumferential portion 38. Therefore, the bearing 37 rotatably supports the inner peripheral portion 38 and the outer peripheral portion 39 with respect to the core member 36.

또한, 도 1, 3 등에 나타내는 예에서는, 베어링 (37) 은, 심재 (36) 의 양단 부근에 각각 배치되도록 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 베어링 (37) 의 배치 장소나 개수는 임의로 설정 가능하다.In the example shown in Figs. 1 and 3, the bearings 37 are disposed near the both ends of the core member 36, but the present invention is not limited thereto. The location and number of the bearings 37 can be arbitrarily set Do.

내주부 (38) 는, 예를 들어 철, 스테인리스, 티탄 및 티탄 합금 등의 금속 재료나 경질 고무, 수지를 사용할 수 있지만, 이것들은 예시이지 한정되는 것은 아니다.As the inner peripheral portion 38, for example, a metal material such as iron, stainless steel, titanium, and a titanium alloy, a hard rubber, and a resin may be used, but these are not limitative.

외주부 (39) 는, 내주부 (38) 의 직경 방향 외측의 면을 피복하도록 형성됨과 함께, 원통상으로 형성된다. 또, 외주부 (39) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 맞닿도록 배치된다.The outer peripheral portion 39 is formed so as to cover the radially outer surface of the inner peripheral portion 38 and is formed cylindrically. The outer circumferential portion 39 is disposed so as to abut the outer circumferential surface 10b of the cylindrical ceramics 10.

그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 맞닿는 외주부 (39) 의 재질은, 수지 혹은 고무이다. 또한, 상기한 수지로는, 폴리아미드 수지, ABS 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리프로필렌 수지 등 중 1 종 이상을 함유하는 수지 재료를 사용할 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 또, 상기한 고무로는, 클로로프렌 고무, 니트릴 고무, 천연 고무, 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 우레탄 고무 등 중 1 종 이상을 함유하는 고무 재료를 사용할 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다.The material of the outer circumferential portion 39 abutting on the cylindrical ceramics 10 is resin or rubber. As the resin, a resin material containing at least one of polyamide resin, ABS resin, polycarbonate resin, and polypropylene resin may be used, but the present invention is not limited thereto. The above-mentioned rubber may be a rubber material containing at least one kind selected from chloroprene rubber, nitrile rubber, natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, urethane rubber and the like, but is not limited thereto.

이와 같이, 본 실시형태에서는, 외주부 (39) 의 재질을 수지 혹은 고무로 한 점에서, 외주부 (39) 가 만일 금속제였던 경우에 비하여, 접촉시에 롤러 (34) 로부터 원통형 세라믹스 (10) 에 작용하는 부하를 경감시킬 수 있다. 이로 인해, 예를 들어, 취성 재료인 원통형 세라믹스 (10) 를 회전시켜 내주면 (10a) 을 가공하는 경우에도, 롤러 (34) 와의 접촉에 의해 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 것을 억제할 수 있다.As described above, in the present embodiment, the outer peripheral portion 39 acts on the cylindrical ceramic body 10 from the roller 34 at the time of contact, as compared with the case where the outer peripheral portion 39 is made of metal, Can be reduced. Therefore, even when the inner peripheral surface 10a is machined by rotating the cylindrical ceramic 10, for example, a brittle material, the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramic 10 can not be scratched or cracked Can be suppressed.

상기와 같이 구성된 롤러 (34) 의 회전축 B 방향의 길이 (L1) (도 1 참조) 는, 예를 들어 15 ㎜ 이상이 바람직하고, 30 ㎜ 이상이 보다 바람직하며, 50 ㎜ 이상이 더욱 바람직하다. 즉, 롤러 (34) 와 원통형 세라믹스 (10) 의 접촉 면적을 증가시키도록, 롤러 (34) 의 전체 길이 (L1) 를 설정함으로써, 접촉시에 롤러 (34) 로부터 원통형 세라믹스 (10) 에 작용하는 면압을 감소시킬 수 있다. 이로 인해, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.The length L1 of the roller 34 in the direction of the rotation axis B (see FIG. 1) is preferably 15 mm or more, more preferably 30 mm or more, and more preferably 50 mm or more. That is, by setting the entire length L1 of the roller 34 so as to increase the contact area between the roller 34 and the cylindrical ceramics 10, it is possible to increase the contact area between the roller 34 and the cylindrical ceramics 10 The surface pressure can be reduced. As a result, occurrence of scratches and cracks on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 can be effectively suppressed.

또, 롤러 (34) 의 회전축 B 방향의 길이 (L1) 의 상한은 특별히 제한되는 것은 아니지만, 롤러 (34) 를 사용한 공정에서의 작업 취급 상, 5000 ㎜ 이하인 것이 바람직하다.The upper limit of the length L1 of the roller 34 in the direction of the rotation axis B is not particularly limited. However, it is preferable that the upper limit of the length L1 in the direction of the rotation axis B of the roller 34 is 5000 mm or less.

또, 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 방향의 전체 길이 (L2) (도 1 참조) 에 대한 롤러 (34) 의 회전축 B 방향의 전체 길이 (L1) 의 비율은, 3 ％ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 ％ 이상이다. 이로 인해, 접촉시에 롤러 (34) 로부터 원통형 세라믹스 (10) 에 작용하는 면압을 감소시킬 수 있고, 이로써 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 것을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.The ratio of the total length L1 of the roller 34 in the direction of the rotation axis B to the entire length L2 of the cylindrical ceramic body 10 in the direction of the rotation axis A (see FIG. 1) is preferably 3% It is preferably at least 5%. This makes it possible to reduce the surface pressure acting on the cylindrical ceramics 10 from the roller 34 at the time of contact and thereby to prevent scratches and cracks from occurring on the outer circumferential surface 10b of the cylindrical ceramics 10 more effectively have.

또, 상기한 외주부 (39) 의 재질이 수지인 경우, 로크 웰 경도 (ASTM 규격, D785, R 스케일) 는, 예를 들어 80 이상 125 이하가 바람직하고, 80 이상 120 이하가 보다 바람직하다. 또, 상기한 외주부 (39) 의 재질이 고무인 경우, 고무 경도 (JIS 규격, K6253-3 : 2012) 는, 80 이상 95 이하가 바람직하고, 80 이상 90 이하가 보다 바람직하다.When the material of the outer peripheral portion 39 is resin, the hardness of the lock well (ASTM standard, D785, R scale) is preferably 80 or more and 125 or less, more preferably 80 or more and 120 or less. When the material of the outer peripheral portion 39 is rubber, the rubber hardness (JIS standard, K6253-3: 2012) is preferably 80 or more and 95 or less, more preferably 80 or more and 90 or less.

이로 인해, 외주부 (39) 가 만일 금속제였던 경우에 비하여, 접촉시에 롤러 (34) 로부터 원통형 세라믹스 (10) 에 작용하는 부하를 보다 한층 경감시킬 수 있어, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 경도가 상기 범위보다 높으면, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 경우가 있고, 상기 범위보다 낮으면 진동을 억제하지 못하여, 가공 정밀도가 악화되는 경우가 있다.This makes it possible to further reduce the load acting on the cylindrical ceramic body 10 from the roller 34 at the time of contact with the outer peripheral face 10b of the cylindrical ceramic body 10, Occurrence of scratches and cracks can be suppressed. If the hardness is higher than the above range, scratches or cracks may occur on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10. If the hardness is lower than the above range, the vibration can not be suppressed and the machining accuracy may be deteriorated.

또, 원통형 세라믹스 (10) 에 대해 롤러 (34) 가 맞닿는 위치는, 예를 들어 회전 기구 (20) 에 유지되는 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 으로부터 전체 길이 (L2) 의 1/2 의 위치 (C1) (도 1 참조) 보다 타단 (10d) 측이 바람직하다. 더욱 바람직한 예로는, 롤러 (34) 의 위치는, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 으로부터 전체 길이 (L2) 의 2/3 의 위치 (C2) (도 1 참조) 보다 타단 (10d) 측이다.The position at which the roller 34 abuts on the cylindrical ceramics 10 is set to be equal to 1/2 of the entire length L2 from one end 10c of the cylindrical ceramics 10 held by the rotation mechanism 20, It is preferable that the other end 10d side than the position C1 (see Fig. 1). A more preferable example is that the position of the roller 34 is closer to the other end 10d side than the position C2 of 2/3 of the total length L2 from the one end 10c of the cylindrical ceramic 10 .

이로 인해, 진동 억제 기구 (30) 에 있어서는, 원통형 세라믹스 (10) 를 안정적으로 유지할 수 있음과 함께, 원통형 세라믹스 (10) 의 진동을 보다 한층 억제할 수 있다. 또한, 회전하는 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 가 안정되기 때문에, 연삭 정밀도를 보다 한층 향상시킬 수 있다.Therefore, in the vibration suppressing mechanism 30, the cylindrical ceramics 10 can be stably held, and the vibration of the cylindrical ceramics 10 can be further suppressed. Further, since the rotation axis A of the rotating cylindrical ceramics 10 is stable, the grinding precision can be further improved.

지지부 (35) 는, 상기한 바와 같이, 3 개의 롤러 (34) 를 각각 지지한다. 3 개의 지지부 (35) 는 각각, 진동 억제 기구 (30) 의 도시되지 않은 본체부에 장착됨과 함께, X 축 방향에서 보았을 때 원통형 세라믹스 (10) 의 직경 방향으로 독립적으로 이동 가능하게 구성된다.The support portion 35 supports the three rollers 34, respectively, as described above. Each of the three support portions 35 is mounted on a body portion (not shown) of the vibration suppression mechanism 30 and is configured to be independently movable in the radial direction of the cylindrical ceramic 10 when viewed in the X-axis direction.

따라서, 예를 들어, 가공 전에 지지부 (35) 및 롤러 (34) 에 의해 원통형 세라믹스 (10) 를 유지하는 경우, 먼저, X 축 방향에서 보았을 때 3 개의 롤러 (34) 에 의해 둘러싸이는 스페이스가 미리 원통형 세라믹스 (10) 의 외경보다 커지도록 설정해 둔다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 부근이 3 개의 롤러 (34) 에 의해 둘러싸이는 스페이스에 세트된 후, 3 개의 지지부 (35) 및 롤러 (34) 를 각각 직경 방향 내측으로 이동시킨다.Therefore, for example, when the cylindrical ceramics 10 is held by the supporter 35 and the roller 34 before machining, the space surrounded by the three rollers 34 when seen in the X-axis direction, Is set to be larger than the outer diameter of the cylindrical ceramics (10). After the vicinity of the other end 10d of the cylindrical ceramics 10 is set in the space surrounded by the three rollers 34, the three support portions 35 and the rollers 34 are respectively moved radially inward.

이어서, 롤러 (34) 를 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 소정의 압력으로 맞닿게 함으로써, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 은, 3 개의 롤러 (34) 에 의해 회전 가능하게 유지되게 된다.The other end 10d of the cylindrical ceramics 10 is rotatably held by the three rollers 34 by causing the roller 34 to abut against the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramic 10 at a predetermined pressure .

가공 장치 (1) 는, 지석 (40) 을 구비한다 (도 1 및 도 2 참조). 지석 (40) 은, 도시되지 않은 이동 기구에 의해 원통형 세라믹스 (10) 의 중공부 (11) 내를 내주면 (10a) 에 맞닿게 하면서 이동한다. 즉, 가공 장치 (1) 에 있어서는, 원통형 세라믹스 (10) 의 내주면 (10a) 에 대해 트래버스 연삭이 실시된다. 또한, 원통형 세라믹스 (10) 의 내주면 (10a) 의 연삭 방법은, 트래버스 연삭에 한정되지 않고, 어떠한 방법이어도 된다.The machining apparatus 1 has a grindstone 40 (see Figs. 1 and 2). The grindstone 40 moves while abutting the inside of the hollow portion 11 of the cylindrical ceramics 10 with the inner peripheral surface 10a by a moving mechanism not shown. That is, in the machining apparatus 1, the inner peripheral surface 10a of the cylindrical ceramics 10 is subjected to traverse grinding. The grinding method of the inner peripheral surface 10a of the cylindrical ceramics 10 is not limited to the traverse grinding, and any method may be employed.

또한, 상기한 실시형태에서는, 롤러 (34) 를 3 개로 했지만, 개수는 이것에 한정되지 않는다. 또, 상기한 예에서는, 복수 개의 롤러 (34) 를 모두 동일한 구성으로 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 복수 개의 롤러 (34) 의 일부 또는 전부를 서로 상이한 구성으로 해도 된다.In the embodiment described above, the number of the rollers 34 is three, but the number is not limited to this. In the above-described example, the plurality of rollers 34 have the same configuration, but the present invention is not limited thereto. For example, a part or all of the rollers 34 may be different from each other.

이것에 대하여, 도 2 에 나타내는 예로 설명한다. 여기서는, 회전축 A 방향에서 보았을 때, 원통형 세라믹스 (10) 의 무게 중심 (G) 보다 Z 축 하방측에 위치하는 2 개의 롤러를 부호 34a, 무게 중심 (G) 보다 Z 축 상방측에 위치하는 롤러를 부호 34b 로 나타내는 것으로 한다.This will be described with reference to an example shown in Fig. Here, two rollers located on the lower side of the Z axis than the center of gravity G of the cylindrical ceramics 10 are denoted by the reference numeral 34a and the rollers located above the Z axis than the center of gravity G And denoted by reference numeral 34b.

상기한 롤러 (34a) 에는, 원통형 세라믹스 (10) 의 자중이 작용하는 점에서, 원통형 세라믹스 (10) 에 있어서 롤러 (34a) 와 접촉하는 부분은, 롤러 (34b) 와 접촉하는 부분에 비해 부하가 높아져, 흠집이나 균열이 생기기 쉽다.The portion of the cylindrical ceramics 10 that contacts the roller 34a has a load greater than that of the portion contacting the roller 34b because the weight of the cylindrical ceramic 10 acts on the roller 34a So that scratches and cracks are likely to occur.

그래서, 예를 들어, 2 개의 롤러 (34a) 의 외주부 (39) 만의 재질을 수지 혹은 고무로 하도록 구성해도 된다. 또, 예를 들어, 2 개의 롤러 (34a) 의 전체 길이 (L1) 를 롤러 (34b) 의 전체 길이 (L1) 보다 길게 하도록 구성해도 된다.Thus, for example, the material of only the outer peripheral portion 39 of the two rollers 34a may be made of resin or rubber. For example, the total length L1 of the two rollers 34a may be longer than the total length L1 of the roller 34b.

상기와 같이, 2 개의 롤러 (34a) 에 대하여, 외주부 (39) 의 재질을 수지 혹은 고무로 하거나, 전체 길이 (L1) 를 길게 하거나 하는 구성이라도, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 것을 억제할 수 있다.As described above, even if the outer circumferential portion 39 is made of resin or rubber or the entire length L1 is made longer with respect to the two rollers 34a, the outer circumferential surface 10b of the cylindrical ceramics 10 has a scratch And occurrence of cracks can be suppressed.

다음으로, 본 실시형태에 관련된 가공 지그 (31) 를 사용한, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법에 대하여, 도 4 를 참조하여 설명한다. 도 4 는, 스퍼터링 타깃재를 제조하는 처리 순서를 나타내는 플로 차트이다.Next, a manufacturing method of the sputtering target material using the working jig 31 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. Fig. 4 is a flowchart showing a processing procedure for manufacturing a sputtering target material.

도 4 에 나타내는 바와 같이, 먼저, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 을 회전 기구 (20) 의 유지 클로우 (23) 에 의해 유지시킴으로써, 원통형 세라믹스 (10) 를 회전 기구 (20) 에 장착한다 (스텝 S1).The cylindrical ceramics 10 is first attached to the rotating mechanism 20 by holding one end 10c of the cylindrical ceramics 10 with the holding claws 23 of the rotating mechanism 20 (Step S1).

이어서, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 을 가공 지그 (31) 의 롤러 (34) 로 회전 가능하게 유지한다 (스텝 S2). 또한, 스텝 S1, S2 의 처리의 순번은 상기에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어, 스텝 S2 의 처리 후에 스텝 S1 의 처리가 실시되어도 되고, 나아가서는 스텝 S1, S2 의 처리가 동일한 타이밍으로 실시되어도 된다.Next, the other end 10d of the cylindrical ceramics 10 is rotatably held by the roller 34 of the processing jig 31 (step S2). The order of the processing of the steps S1 and S2 is not limited to the above. For example, the processing of the step S1 may be performed after the processing of the step S2, and even if the processing of the steps S1 and S2 is performed at the same timing do.

계속해서, 원통형 세라믹스 (10) 를 회전 기구 (20) 에 의해 둘레 방향으로 회전시켜 내주면 (10a) 을 연삭 가공한다 (스텝 S3). 이상의 각 공정에 의해, 일련의 원통형 세라믹스 (10) 의 내주면 (10a) 의 가공이 종료된다.Subsequently, the cylindrical ceramics 10 is rotated in the circumferential direction by the rotating mechanism 20 to grind the inner circumferential surface 10a (step S3). By the above steps, machining of the inner peripheral surface 10a of the series of cylindrical ceramics 10 is completed.

또한, 스퍼터링 타깃재를 제조하는 데에 있어서, 상기한 스텝 S1 ∼ S3 이외의 처리를 실시하도록 해도 된다. 예를 들어, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 을 연삭 가공하는 처리를 실시하도록 해도 된다.Further, in manufacturing the sputtering target material, the processing other than the above-described steps S1 to S3 may be performed. For example, the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 may be subjected to a grinding process.

상기 서술해 온 바와 같이, 제 1 실시형태에 관련된 가공 지그 (31) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 회전에 종동하여 회전하는 롤러 (회전체) (34) 를 구비한다. 롤러 (34) 의 회전축 방향의 길이는 15 ㎜ 이상이고, 또한 롤러 (34) 의 적어도 외주부 (39) 의 재질이, 로크 웰 경도가 80 이상 125 이하인 수지, 혹은 고무 경도가 80 이상 95 이하인 고무이다. 이로 인해, 원통형 세라믹스 (10) 에 있어서의 흠집이나 균열의 발생을 억제할 수 있다.As described above, the working jig 31 according to the first embodiment has a roller (rotating body) 34 that rotates and follows the rotation of the cylindrical ceramics 10. The length of the roller 34 in the direction of the rotational axis is 15 mm or more and the material of at least the outer circumferential portion 39 of the roller 34 is a rubber having a Rockwell hardness of 80 or more and 125 or less or a rubber having a rubber hardness of 80 or more and 95 or less . As a result, occurrence of scratches and cracks in the cylindrical ceramics 10 can be suppressed.

또, 상기와 같이 흠집이나 균열의 발생이 억제된 원통형 세라믹스 (10) 는, 스퍼터링 타깃재로서 사용할 수 있기 때문에, 본 실시형태에 있어서는, 스퍼터링 타깃재용 원통형 세라믹스의 수율 저하도 억제할 수 있다.In addition, since the cylindrical ceramics 10 in which the occurrence of scratches and cracks are suppressed as described above can be used as a sputtering target material, the yield of the cylindrical ceramics for sputtering target material can be suppressed in the present embodiment.

실시예Example

[실시예 1][Example 1]

BET (Brunauer-Emmett-Teller) 법에 의해 측정된 비표면적 (BET 비표면적) 이 4 ㎡/g 인 ZnO 분말 25.9 질량％ 와, BET 비표면적이 7 ㎡/g 인 In2O3 분말 44.2 질량％ 와, BET 비표면적이 10 ㎡/g 인 Ga2O3 분말 29.9 질량％ 를 배합하고, 포트 중에서 지르코니아 볼에 의해 볼 밀 혼합하여, 원료 분말을 조제하였다.25.9% by mass of a ZnO powder having a specific surface area (BET specific surface area) of 4 m 2 / g as measured by a BET (Brunauer-Emmett-Teller) method, 44.2% by mass of In 2 O 3 powder having a BET specific surface area of 7 m 2 / g, and, BET specific surface area is blended with 10 ㎡ / g of Ga 2 O 3 powder of 29.9 mass%, were mixed in a ball mill by zirconia balls in a port, to prepare a material powder.

이 포트에, 원료 분말 100 질량％ 에 대해 0.3 질량％ 의 폴리비닐알코올과, 0.4 질량％ 의 폴리카르복실산암모늄과, 1.0 질량％ 의 폴리에틸렌글리콜과, 50 질량％ 의 물을 각각 첨가하고, 볼 밀 혼합하여 슬러리를 조제하였다.To this port, 0.3 mass% of polyvinyl alcohol, 0.4 mass% of ammonium polycarboxylate, 1.0 mass% of polyethylene glycol, and 50 mass% of water were added to 100 mass% of the raw material powder, Followed by milling to prepare a slurry.

다음으로, 이 슬러리를 스프레이 드라이 장치에 공급하고, 아토마이저 회전 수 14,000 rpm, 입구 온도 200 ℃, 출구 온도 80 ℃ 의 조건으로 스프레이 드라이를 실시하여, 과립체를 조제하였다.Next, this slurry was supplied to a spray dryer, and spray dried at conditions of an atomizer rotation number of 14,000 rpm, an inlet temperature of 200 DEG C and an outlet temperature of 80 DEG C to prepare granules.

이 과립체를, 외경 150 ㎜ 의 원기둥상의 중자 (中子) (심봉 (心俸)) 를 갖는 내경 220 ㎜ (두께 10 ㎜), 길이 1300 ㎜ 의 원통 형상의 우레탄 고무형에 탭핑시키면서 충전시키고, 고무형을 밀폐 후, 800 kgf/㎠ 의 압력으로 CIP 성형하여, 원통형의 성형체를 제조하였다.The granular material was filled into a cylindrical urethane rubber mold having an inner diameter of 220 mm (thickness of 10 mm) and a length of 1300 mm, which had a columnar core in the form of a cylinder having an outer diameter of 150 mm, The rubber mold was sealed, and CIP molding was performed at a pressure of 800 kgf / cm2 to produce a cylindrical molded article.

이 성형체를 상온으로부터의 승온 속도 300 ℃/h 로 1400 ℃ 까지 가열하고, 12 시간 유지한 후, 강온 속도 50 ℃/h 로 냉각시킴으로써 성형체의 소성을 실시하고, 소성체를 제조하였다. 그리고, 상기 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 500 ㎜ 가 되도록 절단하여 IGZO 의 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다.The molded body was heated to a temperature of 1400 占 폚 at a temperature raising rate of 300 占 폚 / hour from room temperature, held for 12 hours, and cooled at a temperature decreasing rate of 50 占 폚 / h to obtain a fired body. Then, the sintered body manufactured by the above method was cut so as to have a total length (L2) of 500 mm to obtain a cylindrical ceramics 10 of IGZO.

그리고, 상기한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리아미드 수지, 전체 길이 (L1) 가 15 ㎜, 로크 웰 경도가 120 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.4 ㎜ 였다.After the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 is ground, the outer peripheral portion 39 is made of a polyamide resin, a roller having an overall length L1 of 15 mm and a lockwell hardness of 120 The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding using the working jig 31 having the teeth 31 and 34 as shown in Fig. No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, and the depth of the scratches after the processing was 0.4 mm.

또한, 이 명세서에서는, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.5 ㎜ 미만인 경우, 가공이 양호하게 실시되어 원통형 세라믹스 (10) 로서의 품질 기준을 만족시키고 있는 것으로 판정되는 한편, 0.5 ㎜ 이상인 경우, 가공 불량으로 품질 기준을 만족시키고 있지 않은 것으로 판정되는 것으로 한다.In this specification, in the case where the depth of the scratches after machining is less than 0.5 mm, it is judged that the machining is satisfactorily performed to satisfy the quality standard as the cylindrical ceramics 10, while when it is 0.5 mm or more, Is not satisfied.

[실시예 2][Example 2]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리아미드 수지, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 로크 웰 경도가 120 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.2 ㎜ 였다.The sintered body produced by the same method as in Example 1 was cut so that the total length (L2) was 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. After the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 is ground, the outer peripheral portion 39 is made of a polyamide resin, a roller having an overall length L1 of 60 mm and a lockwell hardness of 120 , The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding. No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, and the depth of the scratches after the processing was 0.2 mm.

[실시예 3][Example 3]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리프로필렌 수지, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 로크 웰 경도가 81 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.3 ㎜ 였다.The sintered body produced by the same method as in Example 1 was cut so that the total length (L2) was 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. The outer peripheral portion 39 of the cylindrical ceramics 10 is ground with a polypropylene resin having a total length L1 of 60 mm and a lockwell hardness of 81 , The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding. No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramic 10 after processing, and the depth of the scratches after the processing was 0.3 mm.

[실시예 4][Example 4]

BET 법에 의해 측정된 비표면적 (BET 비표면적) 이 5 ㎡/g 인 SnO2 분말 10 질량％ 와, BET 비표면적이 5 ㎡/g 인 In2O3 분말 90 질량％ 를 배합하고, 포트 중에서 지르코니아 볼에 의해 볼 밀 혼합하여, 원료 분말을 조제하였다.10 mass% of SnO 2 powder having a specific surface area (BET specific surface area) of 5 m 2 / g as measured by the BET method and 90 mass% of In 2 O 3 powder having a BET specific surface area of 5 m 2 / g were blended, And mixed by ball milling with a zirconia ball to prepare a raw material powder.

이 포트에, 원료 분말 100 질량％ 에 대해 0.3 질량％ 의 폴리비닐알코올과, 0.2 질량％ 의 폴리카르복실산암모늄과, 0.5 질량％ 의 폴리에틸렌글리콜과, 50 질량％ 의 물을 각각 첨가하고, 볼 밀 혼합하여 슬러리를 조제하였다.To this port, 0.3 mass% of polyvinyl alcohol, 0.2 mass% of ammonium polycarboxylate, 0.5 mass% of polyethylene glycol, and 50 mass% of water were added to 100 mass% of the raw material powder, Followed by milling to prepare a slurry.

이 이후의 스프레이 드라이로부터 성형에 이르는 공정에 대해서는 실시예 1 과 동일한 순서로 하였다. 얻어진 성형체를 상온으로부터의 승온 속도 300 ℃/h 로 1600 ℃ 까지 가열하고, 12 시간 유지한 후, 강온 속도 50 ℃/h 로 냉각시킴으로써 성형체의 소성을 실시하여, 소성체를 제조하였다. 이 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여, ITO 의 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다.The subsequent steps from the spray drying to the molding were carried out in the same manner as in Example 1. The obtained molded body was heated to a temperature of 1600 占 폚 at a heating rate of 300 占 폚 / hour from room temperature, held for 12 hours, and cooled at a rate of temperature decrease of 50 占 폚 / hour to obtain a sintered body. The sintered body was cut so that the total length (L2) was 1000 mm to obtain a cylindrical ceramic 10 of ITO.

그리고, 상기 방법에 의해 얻어진 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리아미드 수지, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 로크 웰 경도가 120 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.1 ㎜ 였다.After the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramic 10 obtained by the above method is ground, the outer peripheral portion 39 is made of polyamide resin, the total length L1 is 60 mm, the lock well hardness is 120 The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding using the working jig 31 having the in-roller 34. [ No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, and the depth of the scratches after the processing was 0.1 mm.

[실시예 5][Example 5]

실시예 4 와 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리카보네이트 수지, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 로크 웰 경도가 125 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.2 ㎜ 였다.The sintered body produced by the same method as in Example 4 was cut to have a total length L2 of 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. After the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 is ground, the outer peripheral portion 39 is made of polycarbonate resin, a roller having an overall length L1 of 60 mm and a lockwell hardness of 125 , The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding. No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, and the depth of the scratches after the processing was 0.2 mm.

[실시예 6][Example 6]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 500 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 클로로프렌 고무, 전체 길이 (L1) 가 15 ㎜, 고무 경도가 90 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.4 ㎜ 였다.The sintered body produced by the same method as in Example 1 was cut to have a total length (L2) of 500 mm to obtain cylindrical ceramics (10). Then, after the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 is ground, the outer peripheral portion 39 is made of chloroprene rubber, a roller having an overall length L1 of 15 mm and a rubber hardness of 90 The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding by using the processing jig 31 having the above- No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, and the depth of the scratches after the processing was 0.4 mm.

[실시예 7][Example 7]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 클로로프렌 고무, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 고무 경도가 90 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.2 ㎜ 였다.The sintered body produced by the same method as in Example 1 was cut so that the total length (L2) was 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. The outer peripheral portion 39 of the cylindrical ceramics 10 is ground with the chloroprene rubber and the roller 34 having an overall length L1 of 60 mm and a rubber hardness of 90 The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding by using the processing jig 31 having the above- No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, and the depth of the scratches after the processing was 0.2 mm.

[실시예 8][Example 8]

실시예 4 와 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 부타디엔 고무, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 고무 경도가 82 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.2 ㎜ 였다.The sintered body produced by the same method as in Example 4 was cut to have a total length L2 of 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. After the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 is ground, the outer peripheral portion 39 is made of butadiene rubber, a roller 34 having an overall length L1 of 60 mm and a rubber hardness of 82 The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding by using the processing jig 31 having the above- No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramic 10 after processing, and the depth of the scratches after the processing was 0.2 mm.

[비교예 1][Comparative Example 1]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 500 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 SUS304, 전체 길이 (L1) 가 15 ㎜ 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 또한, SUS304 는, 본 발명에서 사용하는 수지나 고무에 비하여, 상당히 단단한 것이다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않았지만, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.9 ㎜ 였다.The sintered body produced by the same method as in Example 1 was cut to have a total length (L2) of 500 mm to obtain cylindrical ceramics (10). The cylindrical ceramics 10 is subjected to grinding of the outer peripheral surface 10b and then the working jig 31 having the outer peripheral portion 39 made of SUS304 and the roller 34 having the total length L1 of 15 mm , The inner peripheral surface 10a was subjected to grinding. In addition, SUS304 is considerably harder than the resin or rubber used in the present invention. No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, but the depth of the scratches after the processing was 0.9 mm.

[비교예 2][Comparative Example 2]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 SUS304, 전체 길이 (L1) 가 10 ㎜ 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 비교예 2 에서는, 가공 중에 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 균열이 발생하여, 가공할 수 없었다. 이 때문에 가공 후의 흠집의 깊이는 측정할 수 없었다.The sintered body produced by the same method as in Example 1 was cut so that the total length (L2) was 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. The cylindrical ceramics 10 is subjected to grinding the outer circumferential surface 10b and thereafter the working jig 31 having the roller 34 whose outer circumferential portion 39 is made of SUS304 and whose total length L1 is 10 mm , The inner peripheral surface 10a was subjected to grinding. In the comparative example 2, the outer circumferential surface 10b of the cylindrical ceramics 10 was cracked during machining, and machining was not possible. For this reason, the depth of the scratches after processing could not be measured.

[비교예 3][Comparative Example 3]

실시예 4 와 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 SUS304, 전체 길이 (L1) 가 10 ㎜ 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않았지만, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.6 ㎜ 였다.The sintered body produced by the same method as in Example 4 was cut to have a total length L2 of 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. The cylindrical ceramics 10 is subjected to grinding the outer circumferential surface 10b and thereafter the working jig 31 having the roller 34 whose outer circumferential portion 39 is made of SUS304 and whose total length L1 is 10 mm , The inner peripheral surface 10a was subjected to grinding. No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, but the depth of the scratches after the processing was 0.6 mm.

[비교예 4][Comparative Example 4]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 SUS304, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜ 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않았지만, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.9 ㎜ 였다.The sintered body produced by the same method as in Example 1 was cut so that the total length (L2) was 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. The cylindrical ceramics 10 is subjected to grinding of the outer peripheral surface 10b and then the working jig 31 having the roller 34 whose outer circumferential portion 39 is made of SUS304 and whose overall length L1 is 60 mm , The inner peripheral surface 10a was subjected to grinding. No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, but the depth of the scratches after the processing was 0.9 mm.

[비교예 5][Comparative Example 5]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리아미드 수지, 전체 길이 (L1) 가 10 ㎜, 로크 웰 경도가 120 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않았지만, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.6 ㎜ 였다.The sintered body produced by the same method as in Example 1 was cut so that the total length (L2) was 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. After the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 is ground, the outer peripheral portion 39 is made of a polyamide resin, a roller 34 having a total length L1 of 10 mm and a lockwell hardness of 120, The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding using the working jig 31 having the above- No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, but the depth of the scratches after the processing was 0.6 mm.

[비교예 6][Comparative Example 6]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 불소 수지, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 로크 웰 경도가 50 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 중에 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙은 발생하지 않았지만, 진동을 억제하지 못하여, 가공할 수 없었다.The sintered body produced by the same method as in Example 1 was cut so that the total length (L2) was 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. After the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 is ground, the outer peripheral portion 39 is made of a fluororesin, a roller having an overall length L1 of 60 mm and a lockwell hardness of 50 The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding by using the processing jig 31 having the above- Cracks and cracks did not occur on the outer peripheral face 10b of the cylindrical ceramic body 10 during machining, but the machining could not be performed because the vibration could not be suppressed.

[비교예 7][Comparative Example 7]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 클로로프렌 고무, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 고무 경도가 60 (실시예에서 사용한 것보다 연질인 클로로프렌 고무) 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 중에 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙은 발생하지 않았지만, 진동을 억제하지 못하여, 가공할 수 없었다.The sintered body produced by the same method as in Example 1 was cut so that the total length (L2) was 1000 mm to obtain cylindrical ceramics 10. After the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 is ground, the material of the outer peripheral portion 39 is chloroprene rubber, the total length L1 is 60 mm, the rubber hardness is 60 The inner circumferential surface 10a was subjected to grinding using the working jig 31 having the rollers 34 that are soft (chloroprene rubber). Cracks and cracks did not occur on the outer peripheral face 10b of the cylindrical ceramic body 10 during machining, but the machining could not be performed because the vibration could not be suppressed.

실시예 및 비교예에 있어서, 내주면 (10a) 의 연삭 가공 후에 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 발생한 흠집의 깊이는, 내주면 (10a) 의 연삭 가공 후에 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 을 연삭하여, 흠집이 사라지기까지 필요로 한 연삭 깊이로 평가하였다. 또한, 상기 실시예, 비교예에서는, 본 발명의 효과가 특히 현저한, IGZO 및 ITO 의 원통형 스퍼터링 타깃재에 대해서만 예시하였다. 그러나, 본 발명이 IGZO 및 ITO 의 원통형 스퍼터링 타깃재에만 효과를 발휘하는 것은 아니다.The depth of the scratches formed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramic 10 after the inner peripheral surface 10a was ground is set to be larger than the depth of the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramic 10 after grinding the inner peripheral surface 10a ) Was ground, and the required grinding depth was evaluated until the scratches disappeared. In the above-mentioned Examples and Comparative Examples, only the cylindrical sputtering target material of IGZO and ITO, in which the effect of the present invention is remarkable, is illustrated. However, the present invention is not limited to the cylindrical sputtering target material of IGZO and ITO.

Figure pct00001
Figure pct00001

(제 2 실시형태)(Second Embodiment)

다음으로, 제 2 실시형태에 관련된 가공 지그 (131) 에 대하여, 도 5 를 참조하여 설명한다. 도 5 는, 제 2 실시형태에 관련된 가공 지그 (131) 를 나타내는, 도 3 과 동일한 확대 단면도이다.Next, a processing jig 131 according to the second embodiment will be described with reference to Fig. Fig. 5 is an enlarged cross-sectional view showing the processing jig 131 according to the second embodiment, which is the same as Fig. 3.

도 5 에 나타내는 바와 같이, 제 2 실시형태에 있어서는, 제 1 실시형태에서 롤러 (34) 의 내부에 배치되어 있던 베어링 (37) 을 제거하고, 지지부 (35) 와 심재 (136) 사이에 베어링 (137) 을 개재하여 삽입하도록 하였다.5, in the second embodiment, the bearing 37 disposed inside the roller 34 is removed in the first embodiment, and a bearing (not shown) is inserted between the support portion 35 and the core member 136 137).

상세하게는, 가공 지그 (131) 의 롤러 (134) 에 있어서, 심재 (136) 는 양단이 돌출되도록 형성된다. 또한, 제 1 실시형태에 관련된 심재 (36) 는 지지부 (35) 에 고정되어 있었지만, 제 2 실시형태에 관련된 심재 (136) 는, 지지부 (35) 에 고정되어 있지 않고, 내주부 (138) 에 고정되어 있는 것으로 한다.Specifically, in the roller 134 of the processing jig 131, the core member 136 is formed so that both ends thereof protrude. The core member 36 according to the second embodiment is not fixed to the support portion 35 but is attached to the inner circumferential portion 138 It shall be fixed.

그리고, 돌출된 심재 (136) 의 양단과 지지부 (35) 의 적절한 위치 사이에, 베어링 (137) 이 개재되어 삽입된다. 이와 같이, 베어링 (137) 은, 심재 (136) 의 직경 방향 외측에 배치된다. 그리고, 베어링 (137) 은, 심재 (136), 내주부 (138) 및 외주부 (139) 를 지지부 (35) 에 대해 회전 가능하게 지지한다.A bearing 137 is interposed between both ends of the protruded core member 136 and a suitable position of the support portion 35. Thus, the bearing 137 is disposed radially outward of the core member 136. The bearing 137 rotatably supports the core member 136, the inner circumferential portion 138 and the outer circumferential portion 139 with respect to the support portion 35.

이로 인해, 제 2 실시형태에 관련된 가공 지그 (131) 에 있어서는, 롤러 (134) 의 직경을, 베어링을 내장하는 구성에 비해 작게 할 수 있어, 가공 지그 (131) 의 소형화를 도모할 수 있다.Therefore, in the processing jig 131 according to the second embodiment, the diameter of the roller 134 can be made smaller than that of the structure in which the bearing is embedded, and the size of the processing jig 131 can be reduced.

또한, 제 2 실시형태에 있어서, 상기에서는, 심재 (136) 와 내주부 (138) 가 별체가 되는 예를 나타냈지만, 이것들이 일체로 형성되도록 해도 된다.In the second embodiment, the core member 136 and the inner peripheral portion 138 are shown as separate members in the above embodiment, but they may be integrally formed.

또한, 상기한 실시형태에서는, 롤러 (34, 134) 의 형상을 원기둥상으로 했지만, 이것에 한정되지 않고, 외주측이 원통형 세라믹스 (10) 에 접촉 가능하면, 예를 들어 구 형상 등 어떠한 형상이어도 된다.In the above-described embodiment, the rollers 34 and 134 are formed in a columnar shape. However, the present invention is not limited thereto. If the outer periphery of the rollers 34 and 134 is in contact with the cylindrical ceramics 10, do.

또, 상기에서는, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 부근의 1 개 지점을 진동 억제 기구 (30) 로 유지하도록 했지만, 2 개 지점 이상을 진동 억제 기구 (30) 로 유지하도록 해도 된다.In the above example, one point near the other end 10d of the cylindrical ceramic 10 is held by the vibration suppression mechanism 30. However, two or more points may be held by the vibration suppression mechanism 30. [

또, 도 1 등에 나타내는 예에서는, 롤러 (34) 의 회전축 B 가 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 에 대해 평행 또는 거의 평행해지는 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않고, 예를 들어, 회전축 B 가 회전축 A 에 대해 교차 또는 비틀림의 위치여도 된다.In the example shown in Fig. 1 and the like, the rotational axis B of the roller 34 is parallel or nearly parallel to the rotational axis A of the cylindrical ceramics 10, but the present invention is not limited thereto. For example, It may be a position of intersection or twist with respect to the rotation axis A.

추가적인 효과나 변형예는, 당업자에 의해 용이하게 도출할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 보다 광범위한 양태는, 이상과 같이 나타내며 또한 기술한 특정한 상세 및 대표적인 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 첨부하는 청구의 범위 및 그 균등물에 의해 정의되는 총괄적인 발명의 개념의 정신 또는 범위로부터 일탈하지 않고, 다양한 변경이 가능하다.Additional advantages and modifications can readily be derived by those skilled in the art. Therefore, the broader aspects of the present invention are represented by the foregoing description and are not limited to the specific details and representative embodiments described above. Accordingly, various changes may be made without departing from the spirit or scope of the general inventive concept as defined by the appended claims and their equivalents.

1 : 가공 장치
10 : 원통형 세라믹스
20 : 회전 기구
30 : 진동 억제 기구
31, 131 : 가공 지그
34, 134 : 롤러
35 : 지지부
36, 136 : 심재
37, 137 : 베어링
38, 138 : 내주부
39, 139 : 외주부
40 : 지석1: Processing device
10: Cylindrical ceramics
20: Rotating mechanism
30: vibration suppression mechanism
31, 131: machining jig
34, 134: Rollers
35: Support
36, 136: core material
37, 137: Bearings
38, 138: My housewife
39, 139: outer periphery
40:

Claims (11)

원통형 세라믹스의 가공 지그로서,
상기 원통형 세라믹스의 회전에 종동하여 회전하는 회전체를 구비하고,
상기 회전체의 회전축 방향의 길이가 15 ㎜ 이상이고,
또한, 상기 회전체의 적어도 외주부의 재질이, 로크 웰 경도가 80 이상 125 이하인 수지, 혹은 고무 경도가 80 이상 95 이하의 고무인 가공 지그.As a machining jig for cylindrical ceramics,
And a rotating body that is rotated following the rotation of the cylindrical ceramics,
The length of the rotating body in the direction of the rotation axis is 15 mm or more,
Wherein at least the outer peripheral portion of the rotating body is made of a resin having a Rockwell hardness of 80 or more and 125 or less or a rubber having a rubber hardness of 80 or more and 95 or less. 제 1 항에 있어서,
상기 수지가, 폴리아미드 수지, ABS 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리프로필렌 수지 중 1 종 이상을 함유하는, 가공 지그.The method according to claim 1,
Wherein the resin contains at least one of a polyamide resin, an ABS resin, a polycarbonate resin and a polypropylene resin. 제 1 항에 있어서,
상기 고무가, 클로로프렌 고무, 니트릴 고무, 천연 고무, 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 우레탄 고무 중 1 종 이상을 함유하는, 가공 지그.The method according to claim 1,
Wherein the rubber contains at least one of chloroprene rubber, nitrile rubber, natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber and urethane rubber. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 회전체의 심재의 외측에, 상기 회전체를 회전 가능하게 하는 베어링이 배치되는, 가공 지그.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein a bearing capable of rotating the rotating body is disposed outside the core of the rotating body. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 회전체는,
둘레 방향으로 회전하는 상기 원통형 세라믹스의 내주면이 가공될 때에, 상기 원통형 세라믹스의 외주면에 맞닿아 상기 원통형 세라믹스를 유지하는, 가공 지그.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The rotating body includes:
Wherein the cylindrical ceramics abuts against an outer circumferential surface of the cylindrical ceramics to hold the cylindrical ceramics when the inner circumferential surface of the cylindrical ceramics rotated in the circumferential direction is machined. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 가공 지그를 사용하여 상기 원통형 세라믹스를 회전 가능하게 유지하는 유지 공정과,
상기 가공 지그로 유지되어 회전하는 상기 원통형 세라믹스의 내주면을 가공하는 가공 공정을 포함하는, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.A holding step of holding the cylindrical ceramics rotatably using the working jig as set forth in any one of claims 1 to 5,
And a machining step of machining the inner circumferential surface of the cylindrical ceramics held and rotated by the machining jig. 제 6 항에 있어서,
상기 원통형 세라믹스의 전체 길이가 500 ㎜ 이상인, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.The method according to claim 6,
Wherein the total length of the cylindrical ceramics is 500 mm or more. 제 6 항에 있어서,
상기 원통형 세라믹스의 전체 길이가 750 ㎜ 이상인, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.The method according to claim 6,
Wherein the total length of the cylindrical ceramics is 750 mm or more. 제 6 항에 있어서,
상기 원통형 세라믹스의 전체 길이가 1000 ㎜ 이상인, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.The method according to claim 6,
Wherein the total length of the cylindrical ceramics is 1000 mm or more. 제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 원통형 세라믹스가 In, Zn, Al, Ga, Zr, Ti, Sn, Mg 및 Si 중 1 종 이상을 함유하는, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.10. The method according to any one of claims 6 to 9,
Wherein the cylindrical ceramics contains at least one of In, Zn, Al, Ga, Zr, Ti, Sn, Mg and Si. 제 6 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유지 공정은, 복수의 상기 회전체로 상기 원통형 세라믹스를 유지하는, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.11. The method according to any one of claims 6 to 10,
Wherein the holding step holds the cylindrical ceramics with a plurality of the rotating bodies.
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