JP6496681B2 - Target material for cylindrical sputtering target and cylindrical sputtering target - Google Patents
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Description
開示の実施形態は、円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材および円筒形スパッタリングターゲットに関する。 The disclosed embodiment relates to a target material for a cylindrical sputtering target and a cylindrical sputtering target .
円筒形のターゲット材の内側に磁場発生装置を有し、このターゲット材を内側から冷却しつつ、さらにこのターゲット材を回転させながらスパッタリングを行うマグネトロン型回転カソードスパッタリング装置が知られている。このようなスパッタリング装置では、ターゲット材の外周表面の全面がエロージョンとなり均一に削られる。このため、従来の平板型マグネトロンスパッタリング装置では使用効率が20〜30%であるのに対し、マグネトロン型回転カソードスパッタリング装置では70%以上の格段に高い使用効率が得られる。 2. Description of the Related Art There is known a magnetron rotary cathode sputtering apparatus that has a magnetic field generator inside a cylindrical target material, and performs sputtering while rotating the target material while cooling the target material from the inside. In such a sputtering apparatus, the entire outer peripheral surface of the target material becomes erosion and is uniformly cut. For this reason, in the conventional flat plate type magnetron sputtering apparatus, the usage efficiency is 20 to 30%, whereas in the magnetron type rotary cathode sputtering apparatus, an extremely high usage efficiency of 70% or more is obtained.
また、マグネトロン型回転カソードスパッタリング装置では、ターゲット材を回転させながらスパッタリングを行うことにより、平板型マグネトロンスパッタリング装置に比べて単位面積当たりに大きなパワーを投入できることから、高い成膜速度が得られる。 Further, in the magnetron type rotary cathode sputtering apparatus, by performing sputtering while rotating the target material, a larger power can be input per unit area than in the flat plate type magnetron sputtering apparatus, so that a high deposition rate can be obtained.
このような回転カソードスパッタリング方式は、円筒形状への加工が容易で機械的強度が強い金属製のターゲット材で広く普及している。これに対し、セラミックス製のターゲット材は、金属製のターゲット材に比べて機械的強度が低くて脆いという特性を有している。 Such a rotary cathode sputtering method is widely used as a metal target material that can be easily processed into a cylindrical shape and has high mechanical strength. On the other hand, a ceramic target material has a characteristic that its mechanical strength is low and brittle compared to a metal target material.
さらに、セラミックス材料の熱膨張係数は、円筒形バッキングチューブとして使用される金属材料の熱膨張係数よりも小さいので、スパッタ中に円筒形ターゲット材とバッキングチューブとの熱膨張量の違いに起因してターゲット材に割れが発生しやすくなる。このため、セラミックス製の円筒形ターゲット材に関しては、これらの課題を克服する対策が検討されてきた(例えば、特許文献1、2参照)。 Furthermore, since the thermal expansion coefficient of ceramic materials is smaller than that of metal materials used as cylindrical backing tubes, it is due to the difference in thermal expansion between the cylindrical target material and the backing tube during sputtering. Cracks are likely to occur in the target material. For this reason, measures for overcoming these problems have been studied for ceramic cylindrical target materials (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
しかしながら、上記した従来技術では依然として、割れに十分に強いターゲット材が得られておらず、さらなる改善の余地がある。 However, the above-described conventional technology still does not provide a target material that is sufficiently strong against cracking, and there is room for further improvement.
実施形態の一態様は、上記に鑑みてなされたものであって、作製中の割れの発生をさらに抑制し得る円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材および円筒形スパッタリングターゲットを提供することを目的とする。 One aspect of the embodiments has been made in view of the above, and an object thereof is to provide a target material for a cylindrical sputtering target and a cylindrical sputtering target that can further suppress the occurrence of cracks during fabrication.
実施形態に係る円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材は、セラミックス製のスパッタリングターゲット材の外周面および内周面の少なくとも一方に、研削方向が異なる2以上の研削スジを有する。 Cylindrical sputtering target target material according to the embodiment, at least one of the outer and inner peripheral surfaces of ceramic sputtering target material to have a 2 or more grinding streaks grinding direction are different.
実施形態の一態様によれば、作製中の割れの発生をさらに抑制し得る円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材および円筒形スパッタリングターゲットを提供することができる。 According to one aspect of the embodiment, it is possible to provide a target material for a cylindrical sputtering target and a cylindrical sputtering target that can further suppress generation of cracks during production.
以下、添付図面を参照して、本願の開示する円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材および円筒形スパッタリングターゲットの実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。 Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the cylindrical sputtering target target material disclosed in the present application and the embodiment of a cylindrical sputtering target will be described in detail. In addition, this invention is not limited by embodiment shown below.
まず、実施形態に係る円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材を適用し得る円筒形スパッタリングターゲットについて、図1A、図1Bを用いて説明する。 First, a cylindrical sputtering target to which the target material for a cylindrical sputtering target according to the embodiment can be applied will be described with reference to FIGS. 1A and 1B.
図1Aは、円筒形スパッタリングターゲットの構成の概要を示す模式図であり、図1Bは、図1AのA−A’断面図である。なお、説明を分かりやすくするために、図1Aおよび図1Bには、鉛直上向きを正方向とし、鉛直下向きを負方向とするZ軸を含む3次元の直交座標系を図示している。かかる直交座標系は、後述の説明に用いる他の図面でも示す場合がある。 FIG. 1A is a schematic diagram illustrating an outline of a configuration of a cylindrical sputtering target, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 1A. For ease of explanation, FIGS. 1A and 1B illustrate a three-dimensional orthogonal coordinate system including a Z-axis having a vertically upward direction as a positive direction and a vertically downward direction as a negative direction. Such an orthogonal coordinate system may also be shown in other drawings used in the following description.
図1Aおよび図1Bに示すように、円筒形スパッタリングターゲット(以下、「円筒形ターゲット」と称する)1は、セラミック製の円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材(以下、「円筒形ターゲット材」と称する)2と、バッキングチューブ3とを備える。円筒形ターゲット材2およびバッキングチューブ3は、接合材4により接合される。
As shown in FIGS. 1A and 1B, a cylindrical sputtering target (hereinafter referred to as “cylindrical target”) 1 is a ceramic target material for cylindrical sputtering target (hereinafter referred to as “cylindrical target material”). 2 and a
ここで、円筒形ターゲット材2は、円筒形状に加工されたセラミックス製材料で構成されており、後述する製造方法により作製される。かかる円筒形ターゲット材2を作製することができるセラミックス製材料としては、ITO(In2O3−SnO2)、IGZO(In2O3−Ga2O3−ZnO)およびAZO(Al2O3−ZnO)などを例示することができるが、これらに限定されない。
Here, the
また、バッキングチューブ3としては、従来使用されているものを適宜選択して使用することができる。たとえば、ステンレス、チタン、チタン合金等を適用することができるが、これらに限定されない。
Moreover, as the
また、接合材4としては、従来使用されているものを適宜選択して使用することができる。たとえば、インジウムやインジウム−スズ合金等が挙げられるが、これらに限定されない。
Moreover, as the
なお、上記では、円筒形ターゲット1は、1つのバッキングチューブ3の外側に、1つの円筒形ターゲット材2が接合された例について説明したが、これに限定されない。たとえば、1または2以上のバッキングチューブ3の外側に2以上の円筒形ターゲット材2を同一軸線上に並べて接合されたものを円筒形ターゲット1として使用してもよい。
In addition, although the cylindrical target 1 demonstrated the example in which the one
次に、セラミックス製の円筒形ターゲット材2の製造方法の一例について説明する。円筒形ターゲット材2は、セラミックス原料粉末および有機添加物を含有するスラリーを造粒し、顆粒体を作製する造粒工程と、この顆粒体を成形し、円筒形の成形体を作製する成形工程と、この成形体を焼成して焼成体を作製する焼成工程とを経て作製される。なお、焼成体の作製方法は、上記したものに限定されず、いかなる方法であってもよい。
Next, an example of a method for manufacturing the ceramic
上記した焼成工程において得られる焼成体は、円筒形ターゲット材2として予め設計された寸法よりも長さおよび外径は大きく、また内径は小さくなるように作製される。そして、焼成体の長さ方向についてはたとえば切断により、外径および内径については研削により、それぞれ設計された寸法となるように加工される。
The fired body obtained in the firing step described above is produced so that the length and the outer diameter are larger and the inner diameter is smaller than the dimensions designed in advance as the
また、実施形態に係る円筒形ターゲット材2の製造方法は、外周面研削工程と、内周面研削工程と、仕上研削工程と、端面加工工程と、をさらに含む。かかる各工程により、焼成体の外径、内径および長さが、予め設計された寸法に加工される。以下では、まず、外周面研削工程および内周面研削工程の一例について、図2A、図2Bを用いて順に説明する。
Moreover, the manufacturing method of the
図2A、図2Bは、実施形態に係る円筒形ターゲット材2の製造方法のうち、特に研削工程の概要を示す説明図である。まず、外周面研削工程について以下に説明する。
FIG. 2A and FIG. 2B are explanatory views showing an outline of a grinding process, in particular, in the manufacturing method of the
外周面研削工程は、円筒形ターゲット材2を製造するためのセラミックス製の焼成体(ターゲット材)12の外周面を研削して外径を予め定められた寸法に調整する工程である。図2A、図2Bに示すように、焼成体12は、円筒軸(図示せず)を回転軸として回転可能に支持される。また、外周面12aを研削するための砥石5aが、焼成体12の外周面12aに向かい合うように配置されている。
The outer peripheral surface grinding step is a step of grinding the outer peripheral surface of a ceramic fired body (target material) 12 for manufacturing the
砥石5aは、焼成体12の円筒軸と平行となるように配置されたシャフト5bを回転軸として回転しつつ、このシャフト5bに対して平行、すなわち、焼成体12の円筒軸に平行な方向への進退移動が可能となるように構成される。なお、以下の説明では、便宜上、砥石5aが、焼成体12の端部e1側から端部e2側に向かって移動することを「前進」、端部e2側から端部e1側に向かって移動することを「後退」と規定する。
The
このような構成において、円筒軸を回転軸としてある一定の速度で回転する焼成体12の外周面12aに対し、砥石5aによる焼成体12の外周面12aの研削は、次のようにして行われる。すなわち、シャフト5bを回転軸として高速回転する砥石5aを焼成体12側に移動させて、焼成体12の円筒軸との距離が狭くなるように調整すると、調整された砥石5aの配置に応じて焼成体12の外周面12a側がある定められた厚み(深さ)だけ研削される。このとき研削される焼成体12の厚みを、切り込み量(または切り込み深さ)という。
In such a configuration, grinding of the outer
ところで、円筒形ターゲット材2となる焼成体12の外周面12aを研削する手法として、トラバース研削およびプランジ研削の2つの方式がある。以下ではまず、トラバース研削について、図3A〜図4Bを用いて説明する。
By the way, there are two methods of grinding the outer
図3Aは、トラバース研削の一例を示す説明図である。なお、図3Aにおける焼成体12および砥石5aの配置や回転方向については、図2Aおよび図2Bと同様である。
FIG. 3A is an explanatory diagram illustrating an example of traverse grinding. In addition, about arrangement | positioning and the rotation direction of the sintered compact 12 and the
トラバース研削とは、焼成体12の円筒軸と平行な方向に砥石5aを移動させながら研削する方式である。図3Aに示すように、焼成体12に対する切り込み量を一定にして砥石5aを前進移動させると、円筒軸を回転軸として回転する焼成体12の外周面12aは、焼成体12の回転および砥石5aの前進移動に対応して研削される。
Traverse grinding is a method of grinding while moving the
このとき、焼成体12の外周面12aに、砥石5aによる焼成体12の研削に伴う研削スジdが残される。この研削スジdは、砥石5aによる研削方向を示す痕跡であるとみなすことができる。すなわち、焼成体12の回転速度および砥石5aの前進移動の速度をそれぞれ一定にして研削を行うと、焼成体12の外周面12aに研削スジdとして残される研削方向は直線状となる。以下に、この点について図3Bを用いてさらに説明する。
At this time, the grinding streak d accompanying the grinding of the fired
図3Bは、図3Aに示す領域6を拡大視した図である。図3Bに示すように、焼成体12の外周面12aの一部である領域6を拡大視すると、研削スジdは、円筒軸に平行な直線L1と垂直な直線L2に対し、プラスの角度θ1(ただし、0°<θ1<90°)を有する。ここで「プラスの角度」とは、図3Bに示すように、領域6において、円筒軸に平行な直線L1を横軸とし、この直線L1と研削スジdとの交点Pを通り、直線L1に垂直な直線L2を縦軸とする平面を規定したときに、研削スジdが右回り(時計回り)の傾きを有することをいう。これに対し、円筒軸に平行な直線L1と垂直な直線L2に対して研削スジdが「マイナスの角度」、すなわち左回り(反時計回り)を有するように形成させることもできる。かかる場合の一例について、図4A、図4Bを用いて以下に説明する。
FIG. 3B is an enlarged view of the region 6 shown in FIG. 3A. As shown in FIG. 3B, when the region 6 that is a part of the outer
図4Aは、トラバース研削の別の一例を示す説明図であり、図4Bは、図4Aに示す領域6を拡大視した図である。図4A、図4Bの構成は、砥石5aを後退移動させたことを除き、図3Aおよび図3Bと同じ構成を有している。
FIG. 4A is an explanatory view showing another example of traverse grinding, and FIG. 4B is an enlarged view of the region 6 shown in FIG. 4A. The configuration of FIGS. 4A and 4B has the same configuration as FIGS. 3A and 3B except that the
図4Aに示すように、砥石5aを後退移動させながら焼成体12の外周面12aを研削させると、焼成体12の回転および砥石5aの後退移動に対応して研削される。このとき、焼成体12の回転速度および砥石5aの後退移動の速度をそれぞれ一定にして研削を行うと、円筒軸に平行な直線L1に垂直な直線L2に対し研削スジdのなす角がマイナスの角度θ1(ただし、−90°<θ1<0°)となる。
As shown in FIG. 4A, when the outer
このように、トラバース研削では、焼成体12を一定の方向および速度で回転させた場合であっても、砥石5aの進退移動の方向および/または速度を変更することにより、円筒軸に平行な直線L1に垂直な直線L2と研削スジdとのなす角を変更させることができる。
In this way, in traverse grinding, even if the fired
次に、プランジ研削について説明する。プランジ研削とは、砥石5aの進退移動を行わずに切り込み方向の運動だけを与えて研削する手法である。この手法では、焼成体12の外表面12aは、円筒軸と平行な直線L1とのなす角度が90°、すなわち、直線L1に垂直な直線L2に平行な研削方向で研削される。
Next, plunge grinding will be described. Plunge grinding is a technique in which grinding is performed by giving only movement in the cutting direction without moving the
図2Bに戻り、内周面研削工程について説明する。内周面研削工程は、焼成体12の内周面12bを研削する工程である。図2Bに示すように、焼成体12の内周面12b側には、内周面12bを研削するための砥石6aが配置されている。
Returning to FIG. 2B, the inner peripheral surface grinding step will be described. The inner peripheral surface grinding step is a step of grinding the inner
砥石6aは、焼成体12の円筒軸と平行となるように配置されたシャフト6bを回転軸として回転しつつ、このシャフト6bに対して平行、すなわち、焼成体12の円筒軸に平行な方向への進退移動が可能となるように構成される。なお、以下の説明では、上記した砥石5aの説明と同様に、砥石6aが、焼成体12の端部e1側から端部e2側に向かって移動することを「前進」、端部e2側から端部e1側に向かって移動することを「後退」と規定する。
The
このような構成を有する砥石6aによって研削された焼成体12の内周面12bには、砥石6aによる研削方向に対応して、砥石5aにより焼成体12の外周面12aに形成されるものと同様の研削スジdが形成される。すなわち、砥石6aの切り込み量を一定にして焼成体12の円筒軸に平行な方向へ進退移動させると、焼成体12の内周面12bは、焼成体12の回転および砥石6aの進退移動に対応してトラバース研削され、内周面12bに研削スジdが形成される。
The inner
一方、砥石6aの進退移動を行わずに切り込み方向の運動だけを与えてプランジ研削を行うと、焼成体12の内表面12bは、円筒軸と平行な直線L1とのなす角度が90°となるように研削される。
On the other hand, when plunge grinding is performed by giving only the movement in the cutting direction without moving the
このように、焼成体12は、外周面12aが砥石5aにより、内周面12bが砥石6aにより、それぞれ設定された切り込み量や研削方向に応じて研削される。なお、焼成体12を研削する研削装置としては、たとえば砥石5aおよび6aの両方を配置させた1つの研削盤を使用してもよく、また、たとえば砥石5aを配置した円筒研削盤と、砥石6aを配置した内面研削盤とを、それぞれ別々に使用してもよい。
In this way, the fired
ここで、焼成体12の回転速度は、焼成体12の強度および大きさに応じて設定することができ、たとえば10rpm〜150rpmとすることができる。焼成体12の回転速度が10rpm以下だと、研削時間が長くなり、また、焼成体12の回転速度が150rpmを超えると、焼成体12への負荷が大きくなり、たとえば研削中に焼成体12が割れ易くなることがある。
Here, the rotational speed of the fired
また、砥石5a,6aの移動速度はそれぞれ、たとえば、3000mm/min以下とすることが好ましく、トラバース研削の場合は、たとえば、1mm/min以上3000mm/min以下とすることが好ましい。砥石5a,6aの移動速度が3000mm/minを超えると、砥石5a,6aによる焼成体12の切り込み深さによっては砥石5a,6aへの負荷が大きくなり、砥石が欠けやすくなる。
Further, the moving speeds of the
また、上記では、砥石5a,6aはいずれも、焼成体12の円筒軸方向へ進退可能な構成として説明したが、焼成体12に対して砥石5a,6aが相対的に進退可能な構成であればよく、たとえば焼成体12が円筒軸方向に進退可能な構成であってもよい。さらに、焼成体12および砥石5a,6aの両方が円筒軸方向に進退可能な構成としてもよい。
In the above description, the
次に、仕上研削工程について説明する。仕上研削工程とは、焼成体12の外周面12aおよび内周面12bの各研削工程の最後に行われる、焼成体12の外周面12aおよび内周面12bを研削する工程をいう。実施形態に係る研削処理工程では、焼成体12の外周面12aおよび内周面12bは、2以上の研削方向で研削される。この点について、図5を用いて以下に説明する。
Next, the finish grinding process will be described. The finish grinding step refers to a step of grinding the outer
図5は、実施形態1に係る円筒形ターゲット材2の製造方法の概要を示す説明図であり、図3A、図4Aに示す領域6で示される焼成体12の外周面12aを拡大視したものに相当する。図5中、ラインd2は、仕上研削工程における最後の研削で焼成体12の外周面12aに形成された研削スジdを示している。また、ラインd1は、ラインd2の研削スジdが形成される研削の直前の仕上研削で焼成体12の外周面12aに形成された研削スジdを示している。
FIG. 5 is an explanatory view showing the outline of the method for manufacturing the
図5に示すように、焼成体12の外周面12aは、ラインd1,d2の2つの研削方向で研削されている。このため、仕上工程において焼成体12が同じ研削方向のみで研削されて得られた円筒形ターゲット材2と比較して円筒形ターゲット1作製時における割れの発生が抑制される。この理由については、概ね次のようなものであると考えられる。
As shown in FIG. 5, the outer
すなわち、セラミック製の円筒形ターゲット材2の外周面12aには、繰り返し行われる研削によりダメージが蓄積する。このとき、特に仕上研削工程において同じ研削方向となるように研削が繰り返されると、特定の方向に研削ダメージが蓄積し、円筒形ターゲット材2の表面が脆くなってしまうため、円筒形ターゲット材2が割れ易くなる。これに対し、実施形態に係る円筒形ターゲット材2の製造方法では、仕上研削工程における研削方向を2以上とすることで、研削ダメージが分散されるため、特定方向に沿った割れの発生を抑制することができる。
That is, damage accumulates on the outer
ここで、「仕上研削工程」とは、作製された円筒形ターゲット材2の強度に影響が及ぶ程度の、円筒形ターゲット材2の表面にごく近い部分を研削する工程をいう。具体的には、たとえば、焼成体12の外周面12aのうち、最後の20μm以下の研削のことをいう。すなわち、少なくとも最後の20μmの研削を2つの研削方向となるように焼成体12の外周面12aを研削することにより、円筒形ターゲット材2の割れの発生を抑制することができる。
Here, the “finish grinding step” refers to a step of grinding a portion very close to the surface of the
図5に示すように、第1の研削スジdであるラインd1は、円筒形ターゲット材2の円筒軸に平行な直線L1と垂直な直線L2に対し、プラスの角度θ1を有するように形成されている。また、第2の研削スジdであるラインd2は、円筒形ターゲット材2の円筒軸に平行な直線L1と垂直な直線L2に対し、マイナスの角度θ2(ただし、−90°<θ2<0°)を有するように形成されている。
As shown in FIG. 5, the line d1 that is the first grinding line d is formed to have a positive angle θ1 with respect to the straight line L1 that is parallel to the cylindrical axis of the
ここで、ラインd1を研削スジdとする研削方向への仕上研削は、たとえば、砥石5aを前進移動させるトラバース研削により行うことができる(図3A、図3B参照)。また、ラインd2を研削スジdとする研削方向への仕上研削は、たとえば、砥石5aを後退移動させるトラバース研削により行うことができる(図4A、図4B参照)。すなわち、砥石5aを円筒軸と平行な方向へ進退移動させ、その両方向で仕上研削を行うことにより実現することができる。
Here, the finish grinding in the grinding direction using the line d1 as the grinding line d can be performed by, for example, traverse grinding in which the
図5の場合、ラインd1およびd2が交差する角度θ3(ただし、0°<θ3<180°)は、θ3=|θ1−θ2|と表すことができる。ラインd1およびd2が交差する角度θ3は、少なくとも0でないことが要求されるが、好ましくは0.3°≦θ3≦15°であり、より好ましくは0.3°≦θ3≦6°である。角度θ3が0.3°未満だと、円筒形ターゲット材2の割れの発生を抑制する効果が明確でない場合がある。また、角度θ3が15°を超えると、そもそも作製が困難であり、焼成体12の研削時に外周面12aに傷や欠損が生じ易くなる。なお、前述の角度θ1およびθ2は、焼成体12の研削時における砥石5aの移動速度や焼成体12の回転速度、また円筒形ターゲット材2の外径、内径の寸法等から算出することができる。
In the case of FIG. 5, the angle θ3 (where 0 ° <θ3 <180 °) at which the lines d1 and d2 intersect can be expressed as θ3 = | θ1-θ2 |. The angle θ3 at which the lines d1 and d2 intersect is required to be at least non-zero, but is preferably 0.3 ° ≦ θ3 ≦ 15 °, and more preferably 0.3 ° ≦ θ3 ≦ 6 °. If the angle θ3 is less than 0.3 °, the effect of suppressing the occurrence of cracks in the
また、上記した仕上研削工程後の外周面12aの表面粗度Raは、1.5μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.1μm以上1.5μm以下である。外周面12aの表面粗度Raが1.5μmを超えると、円筒形ターゲット1の作製中に割れが発生し易くなることがある。ここで、表面粗度Raとは、JIS B0601:2013の「算術平均粗さRa」に相当する値である。なお、表面粗度Raは、仕上研削に用いる砥石5aの番手を変更することにより制御することができる。
Further, the surface roughness Ra of the outer
ところで、上記した実施形態1では、砥石5aを進退移動させる両方向で焼成体12の外周面12aを仕上研削することで2つの研削方向で研削する例を示したが、別の方法で仕上研削をした場合であっても2つの研削方向で研削することができる。この点につき、図6を用いて以下に説明する。
By the way, in above-mentioned Embodiment 1, although the example grind | polished in two grinding directions was shown by finish-grinding the outer
図6は、実施形態2に係る円筒形ターゲット材2の製造方法の概要を示す説明図であり、図5と同様、図3A、図4Aに示す領域6で示される焼成体12の外周面12aを拡大視したものに相当する。図6中、図5と共通するものには同じ符号を付し、その説明は省略する。
FIG. 6 is an explanatory view showing an outline of the method for manufacturing the
図6に示すように、ラインd1は、直線L2に対し、プラスの角度θ1を有するように形成されている。また、ラインd2は、直線L2に対し、θ1とは異なるプラスの角度θ2を有するように形成されている。 As shown in FIG. 6, the line d1 is formed to have a positive angle θ1 with respect to the straight line L2. The line d2 is formed so as to have a positive angle θ2 different from θ1 with respect to the straight line L2.
ラインd1およびラインd2を研削スジdとする研削方向への仕上研削は、たとえば、砥石5aを前進移動させるトラバース研削を、1パスごとに移動速度を異ならせて行うことにより実現することができる。図6の場合、ラインd1およびd2が交差する角度θ3は、図5の場合と同様に、θ3=|θ1−θ2|と表すことができる。以下、この角度θ3を「研削スジdの交差角度θ3」、または単に「交差角度θ3」とも称する。
Finish grinding in the grinding direction using the lines d1 and d2 as the grinding stripes d can be realized, for example, by performing traverse grinding in which the
このように、実施形態に係る円筒形ターゲット材2の製造方法では、2つの研削方向で外周面12aの仕上研削を行うことにより、円筒形ターゲット1作製時の割れの発生を抑制することができる。
Thus, in the manufacturing method of the
最後に、端面加工工程について説明する。端面加工工程は、端面を加工して所定の長さの円筒形ターゲット材2を作製する工程である。端面の加工は、たとえば切断によるものであっても、切削または研削によるものであってもよい。また、切断または切削と研削とを組み合わせてもよく、加工方法に制限はない。
Finally, the end face processing step will be described. The end face processing step is a step of manufacturing the
なお、上記した実施形態では、焼成体12の外周面12aを2つの研削方向で仕上研削する例について説明したが、2以上の研削方向で仕上研削してもよい。かかる場合、最も交差角が大きくなった2本の研削スジdがなす角を、図5および図6で説明したラインd1およびd2が交差する角度θ3に相当する研削方向のなす角として規定することができる。
In the above-described embodiment, the example in which the outer
また、上記した実施形態では、焼成体12の外周面12aを仕上研削する例について説明したが、代わりに内周面12bを仕上研削してもよく、また外周面12aおよび内周面12bの双方について仕上研削してもよい。内周面12b側は、スパッタリングを行っても消耗しないため、円筒形ターゲット材2または円筒形ターゲット1の特に長期的な機械的強度に寄与すると考えられる。なお、内周面12bの仕上研削は、図2Bに示す砥石5aに代えて砥石6aを用いることを除き、外周面12aの仕上研削と同様の方法により行うことができるため、詳細な説明は省略する。
In the above-described embodiment, the example in which the outer
また、上記した実施形態では、仕上研削における砥石5aの移動を一定の速度で行う例について説明したが、途中で変更してもよい。
In the above-described embodiment, an example in which the
また、上記した実施形態では、仕上研削をトラバース研削により行う例について説明したが、プランジ研削を組み合わせてもよい。ただし、プランジ研削を適用する場合であっても、仕上工程にはトラバース研削を含めることが好ましい。 In the above-described embodiment, an example in which finish grinding is performed by traverse grinding has been described, but plunge grinding may be combined. However, even when plunge grinding is applied, it is preferable to include traverse grinding in the finishing process.
次に、実施形態に係る円筒形ターゲット材2を製造する方法について、図7を用いて詳細に説明する。図7は、実施形態に係る円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材2を製造する処理手順を示すフローチャートである。
Next, a method for manufacturing the
図7に示すように、まず、ターゲット材12の外周面12aを研削し(ステップS11)、次いで、ターゲット材12の内周面12bを研削する(ステップS12)。ターゲット材12としては、セラミックス製の焼成体を使用することができる。
As shown in FIG. 7, first, the outer
続いて、ターゲット材12の内周面12bを仕上研削し(ステップS13)、次いで、ターゲット材12の外周面12aを仕上研削する(ステップS14)。最後に、ターゲット材12の端面を端面加工する(ステップS15)。
Subsequently, the inner
以上の各工程により、実施形態に係る一連の円筒形ターゲット材2の製造が終了する。なお、ステップS11およびステップS12は、順序を入れ替えてもよい。また、ステップS13およびステップS14は、順序を入れ替えてもよい。さらに、ステップS13は、ステップS12に含まれてもよく、同様に、ステップS14は、ステップS11に含まれてもよい。
Through the above steps, the production of a series of
[実施例1]
(ITO円筒形ターゲット。内周面、外周面ともに往復トラバース仕上研削)
BET(Brunauer−Emmett−Teller)法により測定された比表面積(BET比表面積)が5m2/gのSnO2粉末10質量%と、BET比表面積が5m2/gのIn2O3粉末90質量%とを配合し、ポット中でジルコニアボールによりボールミル混合して、原料粉末を調製した。
[Example 1]
(ITO cylindrical target. Reciprocating traverse finish grinding for inner and outer peripheral surfaces)
10 mass% of SnO 2 powder having a specific surface area (BET specific surface area) measured by BET (Brunauer-Emmett-Teller) method of 5 m 2 / g and 90 mass of In 2 O 3 powder having a BET specific surface area of 5 m 2 / g %, And ball mill mixing with zirconia balls in a pot to prepare a raw material powder.
このポットに、上記原料粉末100質量部に対し、0.3質量部のポリビニルアルコールと、0.2質量部のポリカルボン酸アンモニウムと、0.5質量部のポリエチレングリコールと、50質量部の水とをそれぞれ加え、ボールミル混合してスラリーを調製した。次に、このスラリーをスプレードライ装置に供給し、アトマイズ回転数14,000rpm、入口温度200℃、出口温度80℃の条件でスプレードライを行い、顆粒体を調製した。 In this pot, 0.3 parts by mass of polyvinyl alcohol, 0.2 parts by mass of ammonium polycarboxylate, 0.5 parts by mass of polyethylene glycol, and 50 parts by mass of water with respect to 100 parts by mass of the raw material powder. Were added to each other and mixed with a ball mill to prepare a slurry. Next, this slurry was supplied to a spray drying apparatus, and spray drying was performed under the conditions of an atomizing rotation number of 14,000 rpm, an inlet temperature of 200 ° C., and an outlet temperature of 80 ° C. to prepare granules.
この顆粒体を、外径150mmの円柱状の中子(心棒)を有する内径220mm(肉厚10mm)、長さ450mmの円筒形状のウレタンゴム型にタッピングさせながら充填し、ゴム型を密閉後、800kgf/cm2の圧力でCIP(Cold Isostatic Pressing)成形して、略円筒形の成形体を作製した。 The granules were filled while tapping into a cylindrical urethane rubber mold having an inner diameter of 220 mm (thickness 10 mm) having a cylindrical core (mandrel) with an outer diameter of 150 mm and a length of 450 mm, and the rubber mold was sealed, CIP (Cold Isostatic Pressing) molding was performed at a pressure of 800 kgf / cm 2 to produce a substantially cylindrical shaped body.
この成形体を600℃で10時間加熱して有機成分を除去した。昇温速度は、400℃までの温度範囲では20℃/h、400℃より高い温度範囲では50℃/hとした。さらに、加熱した成形体を焼成して、焼成体12を作製した。焼成は、酸素雰囲気中で、焼成温度1550℃、焼成時間12時間、昇温速度300℃/hの条件で行った。また、降温速度は1550℃から800℃までを50℃/h、800℃以降を30℃/hとして行った。
This molded body was heated at 600 ° C. for 10 hours to remove organic components. The rate of temperature increase was 20 ° C./h in the temperature range up to 400 ° C. and 50 ° C./h in the temperature range higher than 400 ° C. Furthermore, the heated molded body was fired to produce a fired
次に、得られた焼成体12を研削加工した。まず、プランジ研削により焼成体12の外径が153.2mmとなるまで外周面12aを加工した後、プランジ研削により焼成体12の内径が134.8mmとなるまで内周面12bを加工した。
Next, the obtained fired
続いて、トラバース研削により焼成体12の内周面12bの仕上研削を行った。砥石6aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#170のものを使用した。砥石6aを端部e1から端部e2まで前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの円筒軸方向(前進方向)への移動速度300mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the inner
次いで、砥石6aを端部e2から端部e1まで後退方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの円筒軸方向(後退方向)への移動速度300mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Next, one pass for moving the
砥石6aを前進方向および後退方向に移動させる上記したトラバース研削を、焼成体12の内径が135mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、切り込み量0で砥石6aを前進方向および後退方向に移動させるスパークアウトを2パス(すなわち、1往復)行った。
The traverse grinding for moving the
続いて、トラバース研削により焼成体12の外周面12aの仕上研削を行った。砥石5aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#600のものを使用した。砥石5aを端部e1から端部e2まで前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度150mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the outer
次いで、砥石5aを端部e2から端部e1まで後退方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの円筒軸方向への移動速度150mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Next, one pass for moving the
砥石5aを前進方向および後退方向に移動させるトラバース研削を、焼成体12の外径が153mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、切り込み量0で砥石5aを円筒軸方向に移動させるスパークアウトを2パス行った。最後に、焼成体12の両端を切断して長さを300mmに加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。
After traverse grinding for moving the
上記した円筒形ターゲット材2を9本用意し、外径133mm、内径123mm、長さ3200mmのチタン製のバッキングチューブ3に、接合材4としてIn半田を用いて9本の円筒形ターゲット材2をそれぞれ接合し、円筒形ターゲット1を作製した。各ターゲット材2間の間隔(分割部の長さ)は、0.5mmとした。
Nine
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。2本の研削スジdの交差角度θ3は砥石の移動速度、焼成体12の回転速度、円筒形ターゲット材2の寸法により算出した。内周面12bのプラス方向を例にすると、焼成体12が1回転する間に砥石6aが4.3mm前進する。円筒形ターゲット材2の内周面12bの内径は135mmであるため、底辺が135mm、高さが4.3mmの直角三角形から研削スジdのプラス方向の角度θ1=1.8°と算出することができる。同様にもう一方の角度θ2=−1.8°を算出した。これらの結果から上記した交差角度θ3の算出式|θ1−θ2|に当てはめ、交差角度θ3=3.6°が得られた。以下、交差角度θ3の算出方法は同様である。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、いずれも割れは認められなかった。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例2]
(IGZO円筒形ターゲット。内周面、外周面ともに往復トラバース仕上研削)
BET比表面積が4m2/gのZnO粉末44.2質量%と、BET比表面積が7m2/gのIn2O3粉末25.9質量%と、BET比表面積が10m2/gのGa2O3粉末29.9質量%とを配合し、ポット中でジルコニアボールによりボールミル混合して、原料粉末を調製した。
[Example 2]
(IGZO cylindrical target. Reciprocating traverse finish grinding for both inner and outer peripheral surfaces)
And ZnO powder 44.2 wt% of the BET specific surface area of 4m 2 / g, and In 2 O 3 powder 25.9 wt% of the BET specific surface area of 7m 2 / g, a BET specific surface area of 10m 2 / g Ga 2 O 3 blended powder 29.9 wt%, and mixed in a ball mill with zirconia balls in a pot, to prepare a raw material powder.
このポットに、上記原料粉末100質量部に対し、0.3質量部のポリビニルアルコールと、0.4質量部のポリカルボン酸アンモニウムと、1.0質量部のポリエチレングリコールと、50質量部の水とをそれぞれ加え、ボールミル混合してスラリーを調製した。 In this pot, 0.3 parts by weight of polyvinyl alcohol, 0.4 parts by weight of ammonium polycarboxylate, 1.0 part by weight of polyethylene glycol, and 50 parts by weight of water with respect to 100 parts by weight of the raw material powder. Were added to each other and mixed with a ball mill to prepare a slurry.
次いで、実施例1と同様の方法で顆粒体の調製、成形体の作製および成形体からの有機成分の除去を行った。さらに、焼成温度1400℃、焼成時間10時間、昇温速度300℃/h、降温速度50℃/hの条件下で成形体の焼成を行い、焼成体12を作製した。
Next, granules were prepared in the same manner as in Example 1, a molded body was produced, and organic components were removed from the molded body. Furthermore, the molded body was fired under the conditions of a firing temperature of 1400 ° C., a firing time of 10 hours, a temperature increase rate of 300 ° C./h, and a temperature decrease rate of 50 ° C./h, thereby producing a fired
そして、得られた焼成体12の研削および切断による円筒形ターゲット材2の製造ならびに円筒形ターゲット材2とバッキングチューブ3との接合を実施例1と同様に行い、円筒形ターゲット1を作製した。
And manufacture of the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、いずれも割れは認められなかった。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例3]
(AZO円筒形ターゲット。内周面、外周面ともに往復トラバース仕上研削)
BET法比表面積が4m2/gのZnO粉末95質量%と、BET比表面積が5m2/gのAl2O3粉末5質量%とを配合し、ポット中でジルコニアボールによりボールミル混合してセラミックス原料粉末を調製した。
[Example 3]
(AZO cylindrical target. Reciprocating traverse finish grinding for both inner and outer peripheral surfaces)
And 95 wt% ZnO powder BET specific surface area of 4m 2 / g, BET specific surface area is blended with Al 2 O 3 powder 5% by weight of 5 m 2 / g, and mixed in a ball mill with zirconia balls in a pot ceramics Raw material powder was prepared.
このポットに、上記原料粉末100質量部に対し、0.3質量部のポリビニルアルコールと、0.4質量部のポリカルボン酸アンモニウムと、1.0質量部のポリエチレングリコールと、50質量部の水とをそれぞれ加え、ボールミル混合してスラリーを調製した。 In this pot, 0.3 parts by weight of polyvinyl alcohol, 0.4 parts by weight of ammonium polycarboxylate, 1.0 part by weight of polyethylene glycol, and 50 parts by weight of water with respect to 100 parts by weight of the raw material powder. Were added to each other and mixed with a ball mill to prepare a slurry.
次いで、実施例1と同様の方法で顆粒体の調製、成形体の作製および成形体からの有機成分の除去を行った。さらに、焼成温度1400℃、焼成時間10時間、昇温速度300℃/h、降温速度50℃/hの条件下で成形体の焼成を行い、焼成体12を作製した。
Next, granules were prepared in the same manner as in Example 1, a molded body was produced, and organic components were removed from the molded body. Furthermore, the molded body was fired under the conditions of a firing temperature of 1400 ° C., a firing time of 10 hours, a temperature increase rate of 300 ° C./h, and a temperature decrease rate of 50 ° C./h, thereby producing a fired
そして、得られた焼成体12の研削および切断加工による円筒形ターゲット材2の製造ならびに円筒形ターゲット材2とバッキングチューブ3との接合を実施例1と同様に行い、円筒形ターゲット1を作製した。
Then, the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、いずれも割れは認められなかった。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例4]
(実施例1の交差角度変更)
実施例1と同様にして得られた焼成体12(ITO)を加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。まず、外径をプランジ研削により153.2mmまで加工した後、内径をプランジ研削により134.8mmまで加工した。
[Example 4]
(Changing the crossing angle in Example 1)
The fired body 12 (ITO) obtained in the same manner as in Example 1 was processed to produce a
続いて、トラバース研削により焼成体12の内周面12bの仕上研削を行った。砥石6aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#170のものを使用した。砥石6aを前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの前進方向への移動速度70mm/min、焼成体12の回転速度150rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the inner
次いで、砥石6aを後退方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの後退方向への移動速度70mm/min、焼成体12の回転速度150rpmとして仕上研削を行った。
Next, finish grinding was performed with one pass for moving the
砥石6aを前進方向および後退方向に移動させる上記したトラバース研削を、焼成体12の内径が135mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、スパークアウトを2パス行った。
The traverse grinding for moving the
続いて、トラバース研削により焼成体12の外周面12aの仕上研削を行った。砥石5aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#600のものを使用した。砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度50mm/min、焼成体12の回転速度100rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the outer
次いで、砥石5aを後退方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの後退方向への移動速度50mm/min、焼成体12の回転速度100rpmとして仕上研削を行った。
Next, finish grinding was performed with one pass for moving the
砥石5aを前進方向および後退方向に移動させるトラバース研削を、焼成体12の外径が153mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、スパークアウトを2パス行った。最後に、焼成体12の両端を切断して長さを300mmに加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。
Traverse grinding for moving the
そして、円筒形ターゲット材2とバッキングチューブ3との接合を実施例1と同様に行い、円筒形ターゲット1を作製した。
Then, the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、いずれも割れは認められなかった。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例5]
(実施例2の交差角度変更)
実施例2と同様にして得られた焼成体12(IGZO)を使用したことを除き、実施例4と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 5]
(Changing the crossing angle in Example 2)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける、交差角度θ3と表面粗度Raとを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、いずれも割れは認められなかった。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例6]
(実施例3の交差角度変更)
実施例3と同様にして得られた焼成体12(AZO)を使用したことを除き、実施例4と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 6]
(Changing the crossing angle in Example 3)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、いずれも割れは認められなかった。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例7]
(内周面、外周面ともに砥石の移動速度を変更した一方向トラバース仕上研削)
実施例1と同様にして得られた焼成体12(ITO)を加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。まず、外径をプランジ研削により153.2mmまで加工した後、内径をプランジ研削により134.8mmまで加工した。
[Example 7]
(One-way traverse finish grinding with the moving speed of the grinding wheel changed on both the inner and outer peripheral surfaces)
The fired body 12 (ITO) obtained in the same manner as in Example 1 was processed to produce a
続いて、トラバース研削により焼成体12の内周面12bの仕上研削を行った。砥石6aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#170のものを使用した。砥石6aを前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの前進方向への移動速度400mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the inner
次いで、砥石6aを前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの前進方向への移動速度200mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Next, finish grinding was performed with one pass for moving the
砥石6aの前進方向への移動速度を変更させる上記したトラバース研削を、焼成体12の内径が135mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、切り込み量0で砥石6aを前進方向および後退方向に移動させるスパークアウトを2パス行った。
The traverse grinding for changing the moving speed of the
続いて、トラバース研削により焼成体12の外周面12aの仕上研削を行った。砥石5aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#600のものを使用した。砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度300mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the outer
次いで、砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度150mm/min、焼成体12の回転速度200rpmとして仕上研削を行った。
Next, finish grinding was performed with one pass for moving the
砥石5aの前進方向への移動速度を変更させる上記したトラバース研削を、焼成体12の外径が153mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、スパークアウトを1パス行った。最後に、焼成体12の両端を切断して長さを300mmに加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。
The traverse grinding for changing the moving speed of the
そして、円筒形ターゲット材2とバッキングチューブ3との接合を実施例1と同様に行い、円筒形ターゲット1を作製した。
Then, the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向に2方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、いずれも割れは認められなかった。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例8]
(内周面、外周面ともに砥石の移動速度を変更した一方向トラバース仕上研削)
実施例2と同様にして得られた焼成体12(IGZO)を使用したことを除き、実施例7と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 8]
(One-way traverse finish grinding with the moving speed of the grinding wheel changed on both the inner and outer peripheral surfaces)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向に2方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、いずれも割れは認められなかった。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例9]
(内周面、外周面ともに砥石の移動速度を変更した一方向トラバース仕上研削)
実施例3と同様にして得られた焼成体12(AZO)を使用したことを除き、実施例7と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 9]
(One-way traverse finish grinding with the moving speed of the grinding wheel changed on both the inner and outer peripheral surfaces)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向に2方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、いずれも割れは認められなかった。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例10]
(実施例1の交差角度変更)
実施例1と同様にして得られた焼成体12(ITO)を加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。まず、外径をプランジ研削により153.2mmまで加工した後、内径をプランジ研削により134.8mmまで加工した。
[Example 10]
(Changing the crossing angle in Example 1)
The fired body 12 (ITO) obtained in the same manner as in Example 1 was processed to produce a
続いて、トラバース研削により焼成体12の内周面12bの仕上研削を行った。砥石6aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#170のものを使用した。砥石6aを前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの前進方向への移動速度50mm/min、焼成体12の回転速度150rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the inner
次いで、砥石6aを後退方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの後退方向への移動速度50mm/min、焼成体12の回転速度150rpmとして仕上研削を行った。
Next, finish grinding was performed with one pass for moving the
砥石6aを前進方向および後退方向に移動させる上記したトラバース研削を、焼成体12の内径が135mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、スパークアウトを2パス行った。
The traverse grinding for moving the
続いて、トラバース研削により焼成体12の外周面12aの仕上研削を行った。砥石5aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#600のものを使用した。砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度30mm/min、焼成体12の回転速度100rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the outer
次いで、砥石5aを後退方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの後退方向への移動速度30mm/min、焼成体12の回転速度100rpmとして仕上研削を行った。
Next, finish grinding was performed with one pass for moving the
砥石5aを前進方向および後退方向に移動させるトラバース研削を、焼成体12の外径が153mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、スパークアウトを1パス行った。最後に、焼成体12の両端を切断して長さを300mmに加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。
Traverse grinding for moving the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、1本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例11]
(実施例2の交差角度変更)
実施例2と同様にして得られた焼成体12(IGZO)を使用したことを除き、実施例10と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 11]
(Changing the crossing angle in Example 2)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、1本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例12]
(実施例3の交差角度変更)
実施例3と同様にして得られた焼成体12(AZO)を使用したことを除き、実施例10と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 12]
(Changing the crossing angle in Example 3)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、2本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例13]
(実施例7の交差角度変更)
実施例1と同様にして得られた焼成体12(ITO)を加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。まず、外径をプランジ研削により153.2mmまで加工した後、内径をプランジ研削により134.8mmまで加工した。
[Example 13]
(Changing the crossing angle in Example 7)
The fired body 12 (ITO) obtained in the same manner as in Example 1 was processed to produce a
続いて、トラバース研削により焼成体12の内周面12bの仕上研削を行った。砥石6aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#170のものを使用した。砥石6aを前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの前進方向への移動速度300mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the inner
次いで、砥石6aを前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの前進方向への移動速度330mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Next, finish grinding was performed with one pass for moving the
砥石6aの前進方向への移動速度を変更させる上記したトラバース研削を、焼成体12の内径が135mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、切り込み量0で砥石6aを前進方向および後退方向に移動させるスパークアウトを2パス行った。
The traverse grinding for changing the moving speed of the
続いて、トラバース研削により焼成体12の外周面12aの仕上研削を行った。砥石5aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#600のものを使用した。砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度150mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the outer
次いで、砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度165mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Next, finish grinding was performed with one pass for moving the
砥石5aの前進方向への移動速度を変更させる上記したトラバース研削を、焼成体12の外径が153mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、スパークアウトを1パス行った。最後に、焼成体12の両端を切断して長さを300mmに加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。
The traverse grinding for changing the moving speed of the
そして、円筒形ターゲット材2とバッキングチューブ3との接合を実施例1と同様に行い、円筒形ターゲット1を作製した。
Then, the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向に2方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、2本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例14]
(実施例8の交差角度変更)
実施例2と同様にして得られた焼成体12(IGZO)を使用したことを除き、実施例13と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 14]
(Changing the crossing angle in Example 8)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向に2方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、1本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例15]
(実施例9の交差角度変更)
実施例3と同様にして得られた焼成体12(AZO)を使用したことを除き、実施例13と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 15]
(Changing the crossing angle in Example 9)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向に2方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、1本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例16]
(実施例1の表面粗度Ra変更)
焼成体12(ITO)の内周面12bを研削する砥石6aの砥粒粒度を#80とし、外周面12aを研削する砥石5aの砥粒粒度を#140としたことを除き、実施例1と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 16]
(Surface roughness Ra change of Example 1)
Example 1 except that the abrasive grain size of the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、1本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例17]
(実施例2の表面粗度Ra変更)
実施例2と同様にして得られた焼成体12(IGZO)を使用したことを除き、実施例16と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 17]
(Surface roughness Ra change of Example 2)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、1本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例18]
(実施例3の表面粗度Ra変更)
実施例3と同様にして得られた焼成体12(AZO)を使用したことを除き、実施例16と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Example 18]
(Surface roughness Ra change of Example 3)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、2本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例19]
(内周面のみ往復トラバース仕上研削)
実施例1と同様にして得られた焼成体12(ITO)を加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。まず、外径をプランジ研削により153.2mmまで加工した後、内径をプランジ研削により134.8mmまで加工した。
[Example 19]
(Only the inner peripheral surface is reciprocating traverse finish grinding)
The fired body 12 (ITO) obtained in the same manner as in Example 1 was processed to produce a
続いて、トラバース研削により焼成体12の内周面12bの仕上研削を行った。砥石6aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#170のものを使用した。砥石6aを端部e1から端部e2まで前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの円筒軸方向(前進方向)への移動速度300mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the inner
次いで、砥石6aを端部e2から端部e1まで後退方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの円筒軸方向(後退方向)への移動速度300mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Next, one pass for moving the
砥石6aを前進方向および後退方向に移動させる上記したトラバース研削を、焼成体12の内径が135mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、切り込み量0で砥石6aを前進方向および後退方向に移動させるスパークアウトを2パス(すなわち、1往復)行った。
The traverse grinding for moving the
続いて、トラバース研削により焼成体12の外周面12aの仕上研削を行った。砥石5aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#600のものを使用した。砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度150mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the outer
砥石5aの前進方向への、移動方向および移動速度が一定の上記したトラバース研削を、焼成体12の外径が153mmとなるまで繰り返し行った後、スパークアウトを2パス行った。最後に、焼成体12の両端を切断して長さを300mmに加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。
The traverse grinding with the moving direction and moving speed constant in the forward direction of the
そして、円筒形ターゲット材2とバッキングチューブ3との接合を実施例1と同様に行い、円筒形ターゲット1を作製した。
Then, the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bにのみプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、2本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例20]
(外周面のみ往復トラバース仕上研削)
実施例1と同様にして得られた焼成体12(ITO)を加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。まず、外径をプランジ研削により153.2mmまで加工した後、内径をプランジ研削により134.8mmまで加工した。
[Example 20]
(Only the outer peripheral surface is reciprocating traverse finish grinding)
The fired body 12 (ITO) obtained in the same manner as in Example 1 was processed to produce a
続いて、トラバース研削により焼成体12の内周面12bの仕上研削を行った。砥石6aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#170のものを使用した。砥石6aを前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの前進方向への移動速度300mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the inner
砥石5aの前進方向への、移動方向および移動速度が一定の上記したトラバース研削を、焼成体12の内径が135mmとなるまで繰り返し行った後、スパークアウトを2パス行った。
The traverse grinding with a constant moving direction and moving speed in the forward direction of the
続いて、トラバース研削により焼成体12の外周面12aの仕上研削を行った。砥石5aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#600のものを使用した。砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度150mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the outer
次いで、砥石5aを後退方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの後退方向への移動速度150mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Next, finish grinding was performed with one pass for moving the
砥石5aを前進方向および後退方向に移動させる上記したトラバース研削を、焼成体12の外径が153mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、スパークアウトを2パス行った。最後に、焼成体12の両端を切断して長さを300mmに加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。
The traverse grinding for moving the
そして、円筒形ターゲット材2とバッキングチューブ3との接合を実施例1と同様に行い、円筒形ターゲット1を作製した。
Then, the
得られた円筒形ターゲット材2には、外周面12aにのみプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ1方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、2本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[実施例21]
(内周面、外周面ともに砥石の移動速度を変更してトラバース研削)
実施例1と同様にして得られた焼成体12(ITO)を加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。まず、外径をプランジ研削により153.2mmまで加工した後、内径をプランジ研削により134.8mmまで加工した。
[Example 21]
(Traverse grinding by changing the moving speed of the grinding wheel on both the inner and outer peripheral surfaces)
The fired body 12 (ITO) obtained in the same manner as in Example 1 was processed to produce a
続いて、トラバース研削により焼成体12の内周面12bの仕上研削を行った。砥石6aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#170のものを使用した。砥石6aを端部e1から端部e2まで前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの円筒軸方向(前進方向)への移動速度300mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the inner
次いで、砥石6aを端部e2から端部e1まで後退方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの円筒軸方向(後退方向)への移動速度300mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Next, one pass for moving the
続いて、砥石6aを端部e1から端部e2まで前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの円筒軸方向(前進方向)への移動速度70mm/min、焼成体12の回転速度150rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, one pass for moving the
さらに、砥石6aを端部e2から端部e1まで後退方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの円筒軸方向(後退方向)への移動速度70mm/min、焼成体12の回転速度150rpmとして仕上研削を行った。
Further, one pass for moving the
砥石6aの移動速度と焼成体12の回転速度とを変更させつつ、砥石6aを前進方向および後退方向に移動させて行う上記したトラバース研削を、焼成体12の内径が135mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、スパークアウトを2パス(すなわち、1往復)行った。
The traverse grinding performed by moving the
続いて、トラバース研削により焼成体12の外周面12aの仕上研削を行った。砥石5aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#600のものを使用した。砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度150mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the outer
次いで、砥石5aを後退方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの後退方向への移動速度150mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Next, finish grinding was performed with one pass for moving the
続いて、砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの後退方向への移動速度50mm/min、焼成体12の回転速度100rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding was performed with one pass for moving the
さらに、砥石5aを後退方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの後退方向への移動速度50mm/min、焼成体12の回転速度100rpmとして仕上研削を行った。
Further, finish grinding was performed with one pass for moving the
砥石5aの移動速度と焼成体12の回転速度とを変更させつつ、砥石5aを前進方向および後退方向に移動させて行う上記したトラバース研削を、焼成体12の外径が153mmとなるまで1パスずつ繰り返し行った後、スパークアウトを2パス行った。最後に、焼成体12の両端を切断して長さを300mmに加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。
The traverse grinding performed by moving the
そして、円筒形ターゲット材2とバッキングチューブ3との接合を実施例1と同様に行い、円筒形ターゲット1を作製した。
Then, the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向およびマイナス方向にそれぞれ2方向の研削スジdが形成された。交差角度θ3は実施例1と同様にθ3=|θ1−θ2|から算出した。また、9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、いずれも割れは認められなかった。結果を表1に示す。
In the obtained
[比較例1]
(プランジ仕上研削)
実施例1と同様にして得られた焼成体12(ITO)を加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。まず、外径をプランジ研削により153.2mmまで加工した後、内径をプランジ研削により134.8mmまで加工した。
[Comparative Example 1]
(Plunge finish grinding)
The fired body 12 (ITO) obtained in the same manner as in Example 1 was processed to produce a
次いで、プランジ研削により焼成体12の内周面12bの仕上研削を行った。砥石6aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#170のものを使用した。砥石6aの切り込み速度0.03mm/分、焼成体12の回転速度70rpmとして、焼成体12の内径が135mmとなるまで仕上研削を行った後、切り込み量0で5秒間研削した。
Next, finish grinding of the inner
続いて、プランジ研削により焼成体12の外周面12aの仕上研削を行った。砥石5aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#600のものを使用した。砥石5aの切り込み速度0.04mm/分、焼成体12の回転速度20rpmとして、焼成体12の外径が153mmとなるまで仕上研削を行った後、切り込み量0で5秒間研削した。最後に、焼成体12の両端を切断して長さを300mmに加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。
Subsequently, finish grinding of the outer
そして、円筒形ターゲット材2とバッキングチューブ3との接合を実施例1と同様に行い、円筒形ターゲット1を作製した。
Then, the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともに直線L2と同方向の研削スジdが形成された。9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、4本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[比較例2]
(プランジ仕上研削)
実施例2と同様にして得られた焼成体12(IGZO)を使用したことを除き、比較例1と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Comparative Example 2]
(Plunge finish grinding)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともに直線L2と同方向の研削スジdが形成された。9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、4本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[比較例3]
(プランジ仕上研削)
実施例3と同様にして得られた焼成体12(AZO)を使用したことを除き、比較例1と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Comparative Example 3]
(Plunge finish grinding)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともに直線L2と同方向の研削スジdが形成された。9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、5本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[比較例4]
(内周面、外周面ともに一方向トラバース仕上研削)
実施例1と同様にして得られた焼成体12(ITO)を加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。まず、外径をプランジ研削により153.2mmまで加工した後、内径をプランジ研削により134.8mmまで加工した。
[Comparative Example 4]
(One-way traverse finish grinding for both inner and outer peripheral surfaces)
The fired body 12 (ITO) obtained in the same manner as in Example 1 was processed to produce a
続いて、トラバース研削により焼成体12の内周面12bの仕上研削を行った。砥石6aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#170のものを使用した。砥石6aを前進方向に移動させる1パスを、砥石6aの切り込み量0.01mm、砥石6aの前進方向への移動速度300mm/min、焼成体12の回転速度70rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the inner
砥石6aの前進方向への、移動方向および速度が一定の上記したトラバース研削を、焼成体12の内径が135mmとなるまで繰り返し行った後、スパークアウトを2パス行った。
The traverse grinding with the moving direction and speed constant in the forward direction of the
続いて、トラバース研削により焼成体12の外周面12aの仕上研削を行った。砥石5aには、ビトリファイドを結合剤とする、砥粒粒度が#600のものを使用した。砥石5aを前進方向に移動させる1パスを、砥石5aの切り込み量0.002mm、砥石5aの前進方向への移動速度150mm/min、焼成体12の回転速度20rpmとして仕上研削を行った。
Subsequently, finish grinding of the outer
砥石5aの前進方向への、移動方向および速度が一定の上記したトラバース研削を、焼成体12の外径が153mmとなるまで繰り返し行った後、スパークアウトを2パス行った。最後に、焼成体12の両端を切断して長さを300mmに加工し、外径153mm、内径135mm、長さ300mmの円筒形ターゲット材2を製造した。
The traverse grinding with the moving direction and speed constant in the forward direction of the
そして、円筒形ターゲット材2とバッキングチューブ3との接合を実施例1と同様に行い、円筒形ターゲット1を作製した。
Then, the
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向に1方向の研削スジdが形成された。9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、4本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[比較例5]
(内周面、外周面ともに一方向トラバース仕上研削)
実施例2と同様にして得られた焼成体12(IGZO)を使用したことを除き、比較例4と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Comparative Example 5]
(One-way traverse finish grinding for both inner and outer peripheral surfaces)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向に1方向の研削スジdが形成された。9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、3本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
[比較例6]
(内周面、外周面ともに一方向トラバース仕上研削)
実施例3と同様にして得られた焼成体12(AZO)を使用したことを除き、比較例4と同様にして円筒形ターゲット材2および円筒形ターゲット1を作製した。
[Comparative Example 6]
(One-way traverse finish grinding for both inner and outer peripheral surfaces)
A
得られた円筒形ターゲット材2には、内周面12bおよび外周面12aともにプラス方向に1方向の研削スジdが形成された。9本の円筒形ターゲット材2において、内周面12bおよび外周面12aにおける表面粗度Raを測定し、その平均をそれぞれ算出した。また、接合した9本の円筒形ターゲット材2を目視にて評価したところ、5本に割れが認められた。結果を表1に示す。
In the obtained
さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。このため、本発明のより広範な態様は、以上のように表しかつ記述した特定の詳細および代表的な実施形態に限定されるものではない。したがって、添付の請求の範囲およびその均等物によって定義される総括的な発明の概念の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。 Further effects and modifications can be easily derived by those skilled in the art. Thus, the broader aspects of the present invention are not limited to the specific details and representative embodiments shown and described above. Accordingly, various modifications can be made without departing from the spirit or scope of the general inventive concept as defined by the appended claims and their equivalents.
1 円筒形スパッタリングターゲット(円筒形ターゲット)
2 円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材(円筒形ターゲット材)
3 バッキングチューブ
4 接合材
5a,6a 砥石
5b,6b シャフト
6 領域
12 焼成体(ターゲット材)
12a 外周面
12b 内周面
1 Cylindrical sputtering target (cylindrical target)
2 Target material for cylindrical sputtering target (cylindrical target material)
3
12a Outer
Claims (10)
接合材を介して前記円筒形スパッタリングターゲット用ターゲット材と接合されるバッキングチューブと、
を備える、円筒形スパッタリングターゲット。 A target material for a cylindrical sputtering target according to any one of claims 1 to 9,
A backing tube bonded to the target material for the cylindrical sputtering target via a bonding material;
A cylindrical sputtering target.
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