KR102417294B1 - Machining jig and method for manufacturing sputtering target member - Google Patents

Machining jig and method for manufacturing sputtering target member Download PDF

Info

Publication number
KR102417294B1
KR102417294B1 KR1020177022816A KR20177022816A KR102417294B1 KR 102417294 B1 KR102417294 B1 KR 102417294B1 KR 1020177022816 A KR1020177022816 A KR 1020177022816A KR 20177022816 A KR20177022816 A KR 20177022816A KR 102417294 B1 KR102417294 B1 KR 102417294B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cylindrical ceramics
cylindrical
rubber
ceramics
peripheral surface
Prior art date
Application number
KR1020177022816A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20170133320A (en
Inventor
교스케 데라무라
마사노리 시바오
도모야 다케우치
Original Assignee
미쓰이금속광업주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쓰이금속광업주식회사 filed Critical 미쓰이금속광업주식회사
Publication of KR20170133320A publication Critical patent/KR20170133320A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102417294B1 publication Critical patent/KR102417294B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/06Work supports, e.g. adjustable steadies
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

원통형 세라믹스의 외주면에 있어서의 흠집이나 균열의 발생을 억제하는 것을 과제로 한다. 이러한 과제를 해결하기 위해서, 실시형태의 일 양태에 관련된 가공 지그는, 회전체를 구비한다. 회전체는, 원통형 세라믹스의 회전에 종동하여 회전한다. 회전체의 회전축 방향의 길이는 15 ㎜ 이상이고, 또한 회전체의 적어도 외주부의 재질이, 로크 웰 경도가 80 이상 125 이하인 수지, 혹은 고무 경도가 80 이상 95 이하인 고무이다.It is made into a subject to suppress generation|occurrence|production of the flaw or crack in the outer peripheral surface of cylindrical ceramics. In order to solve such a subject, the processing jig which concerns on one aspect of embodiment is provided with a rotating body. The rotating body rotates according to the rotation of the cylindrical ceramics. The length of the rotating body in the direction of the rotation axis is 15 mm or more, and the material of at least the outer periphery of the rotating body is a resin having a Rockwell hardness of 80 or more and 125 or less, or a rubber having a rubber hardness of 80 or more and 95 or less.

Description

가공 지그 및 스퍼터링 타깃재의 제조 방법{MACHINING JIG AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET MEMBER}A processing jig and the manufacturing method of a sputtering target material TECHNICAL FIELD

개시된 실시형태는, 가공 지그 및 스퍼터링 타깃재의 제조 방법에 관한 것이다.The disclosed embodiment relates to a processing jig and a method for manufacturing a sputtering target material.

종래, 원통형의 타깃재의 내측에 자장 발생 장치가 배치되고, 이러한 타깃재를 내측으로부터 냉각시키며 회전시키면서 스퍼터링을 실시함으로써, 기판 상에 박막을 형성하는 스퍼터링 장치가 알려져 있다.DESCRIPTION OF RELATED ART Conventionally, the sputtering apparatus which forms a thin film on a board|substrate by sputtering while a magnetic field generating apparatus is arrange|positioned inside a cylindrical target material, rotates this target material from inside, is known.

상기한 원통형 타깃재는, 예를 들어 소성체인 원통형 세라믹스를 연삭 가공하여 제조된다. 구체적으로는, 예를 들어 원통형 세라믹스를 회전시키면서, 내주면이나 외주면을 지석으로 연삭하고, 내경이나 외경의 치수를 조정하여 원통형 타깃재가 제조된다.Said cylindrical target material grinds and manufactures cylindrical ceramics which are a sintered body, for example. A cylindrical target material is manufactured by grinding an inner peripheral surface and an outer peripheral surface with a grindstone, for example, rotating cylindrical ceramics, specifically, adjusting the dimension of an inner diameter and an outer diameter.

상기한 종래 기술에 있어서는, 예를 들어 원통형 세라믹스의 내주면을 연삭 가공할 때, 원통형 세라믹스는, 일단측이 회전 기구에 의해 유지되어 회전된다. 한편, 원통형 세라믹스의 타단측은, 외주면이 가공 지그에 의해 회전 가능하게 유지되고, 이로 인해 회전에 의해 발생하는 원통형 세라믹스의 진동을 억제하여, 연삭 정밀도를 향상시키도록 하고 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).In the above-mentioned prior art, for example, when grinding the inner peripheral surface of cylindrical ceramics, one end side of cylindrical ceramics is hold|maintained by a rotating mechanism and it is rotated. On the other hand, on the other end side of the cylindrical ceramics, the outer peripheral surface is rotatably held by the processing jig, thereby suppressing the vibration of the cylindrical ceramics caused by rotation to improve the grinding accuracy (for example, Patent Literature see 1).

일본 공개특허공보 2014-148026호Japanese Patent Laid-Open No. 2014-148026

그러나, 상기한 가공 지그에는, 원통형 세라믹스의 흠집이나 균열의 발생을 억제한다는 점에서 추가적인 개선의 여지가 있었다.However, the above processing jig has room for further improvement in that it suppresses the occurrence of scratches and cracks in the cylindrical ceramics.

즉, 원통형 세라믹스는, 기계적 강도가 비교적 낮아 무른 재료이기 때문에, 상기와 같이 외주면을 가공 지그로 유지한 경우, 가공 지그와의 접촉에 의해 외주면에 깊은 흠집이나 균열이 발생할 우려가 있었다.That is, since cylindrical ceramics is a soft material with relatively low mechanical strength, when the outer peripheral surface is maintained with a processing jig as described above, there is a fear that deep scratches or cracks may occur on the outer peripheral surface due to contact with the processing jig.

이러한 흠집이나 균열이 발생한 원통형 세라믹스는, 스퍼터링 타깃재로서 사용할 수 없기 때문에, 스퍼터링 타깃재용 원통형 세라믹스의 수율 저하로 이어진다는 문제가 있다.Since the cylindrical ceramics in which such a flaw and a crack generate|occur|produced cannot be used as a sputtering target material, there exists a problem of leading to the fall of the yield of the cylindrical ceramics for sputtering target materials.

실시형태의 일 양태는, 상기를 감안하여 이루어진 것으로, 원통형 세라믹스에 있어서의 흠집이나 균열의 발생을 억제할 수 있는 가공 지그 및 스퍼터링 타깃재의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.One aspect of embodiment is made in view of the above, and it aims at providing the manufacturing method of the processing jig and sputtering target material which can suppress generation|occurrence|production of the flaw and crack in cylindrical ceramics.

실시형태의 일 양태에 관련된 가공 지그는, 원통형 세라믹스의 회전에 종동하여 회전하는 회전체를 구비한다. 또, 상기 회전체의 회전축 방향의 길이는 15 ㎜ 이상이고, 또한 상기 회전체의 적어도 외주부의 재질이, 로크 웰 경도가 80 이상 125 이하인 수지, 혹은 고무 경도가 80 이상 95 이하인 고무이다.The processing jig which concerns on one aspect of embodiment is equipped with the rotating body which follows the rotation of cylindrical ceramics and rotates. In addition, the length of the rotating body in the direction of the axis of rotation is 15 mm or more, and the material of at least the outer periphery of the rotating body is a resin having a Rockwell hardness of 80 or more and 125 or less, or a rubber having a rubber hardness of 80 or more and 95 or less.

실시형태의 일 양태에 의하면, 원통형 세라믹스에 있어서의 흠집이나 균열의 발생을 억제할 수 있다.According to one aspect of embodiment, generation|occurrence|production of the flaw and the crack in cylindrical ceramics can be suppressed.

도 1 은, 제 1 실시형태에 관련된 가공 지그를 구비한 가공 장치의 구성예를 나타내는 단면도이다.
도 2 는, 도 1 에 나타내는 가공 지그 부근을 원통형 세라믹스의 길이 방향측으로부터 보았을 때의 단면도이다.
도 3 은, 도 1 에 나타내는 가공 지그의 확대 단면도이다.
도 4 는, 스퍼터링 타깃재를 제조하는 처리 순서를 나타내는 플로 차트이다.
도 5 는, 제 2 실시형태에 관련된 가공 지그를 나타내는 확대 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows the structural example of the processing apparatus provided with the processing jig which concerns on 1st Embodiment.
It is sectional drawing when the processing jig vicinity shown in FIG. 1 is seen from the longitudinal direction side of cylindrical ceramics.
Fig. 3 is an enlarged cross-sectional view of the processing jig shown in Fig. 1 .
It is a flowchart which shows the process procedure which manufactures a sputtering target material.
5 is an enlarged cross-sectional view showing the processing jig according to the second embodiment.

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본원이 개시하는 가공 지그 및 스퍼터링 타깃재의 제조 방법을 상세하게 설명한다. 또한, 이하에 나타내는 실시형태에 의해 이 발명이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, with reference to an accompanying drawing, the manufacturing method of the processing jig and sputtering target material which this application discloses is demonstrated in detail. In addition, this invention is not limited by embodiment shown below.

(제 1 실시형태)(First embodiment)

도 1 은, 제 1 실시형태에 관련된 가공 지그를 구비한 가공 장치의 구성예를 나타내는 단면도이다. 또, 도 2 는, 도 1 에 나타내는 가공 지그 부근을 원통형 세라믹스의 길이 방향측으로부터 보았을 때의 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows the structural example of the processing apparatus provided with the processing jig which concerns on 1st Embodiment. Moreover, FIG. 2 is sectional drawing when the processing jig vicinity shown in FIG. 1 is seen from the longitudinal direction side of cylindrical ceramics.

또한, 도 1 은, 정확하게는, 도 2 의 I-I 선으로 가공 장치를 절단했을 때의 단면을 나타내고 있다. 또, 도 2 에는, 설명을 알기 쉽게 하기 위해서, 서로 직교하는 X 축 방향, Y 축 방향 및 Z 축 방향을 규정하고, Z 축 정방향을 연직 상향 방향으로 한 3 차원의 직교 좌표계를 도시하고 있다.In addition, FIG. 1 has shown the cross section when the processing apparatus is cut|disconnected by line I-I of FIG. 2 precisely. 2 shows a three-dimensional orthogonal coordinate system in which the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction orthogonal to each other are defined, and the positive Z-axis direction is the vertically upward direction for easy explanation.

또, 도 1, 2 및 후술하는 도 3, 5 에서는, 설명에 필요한 구성 요소만을 나타내고, 일반적인 구성 요소에 대한 기재를 생략하는 경우가 있다. 또, 도 1, 2 및 도 3, 5 는, 모두 모식도이다.In addition, in FIGS. 1 and 2 and FIGS. 3 and 5 mentioned later, only the components necessary for description are shown, and description about general components may be abbreviate|omitted. In addition, all of FIG. 1, 2 and FIG. 3, 5 are schematic diagrams.

도 1 에 나타내는 가공 장치 (1) 는, 장척상의 원통형 세라믹스 (10) 를 가공하여 스퍼터링 타깃재를 제조하기 위한 장치이다. 또한, 가공 장치 (1) 를 사용하여 제조된 타깃재는, 도시되지 않은 스퍼터링 장치에 세트되어, 도시되지 않은 기판 상에 박막을 형성하는 스퍼터링이 실시된다.The processing apparatus 1 shown in FIG. 1 is an apparatus for processing the elongate cylindrical ceramics 10, and manufacturing a sputtering target material. In addition, the target material manufactured using the processing apparatus 1 is set in the sputtering apparatus (not shown), and sputtering which forms a thin film on the board|substrate (not shown) is performed.

도 1, 2 에 나타내는 바와 같이, 원통형 세라믹스 (10) 는, 중공부 (11) 를 갖는 통 형상으로 형성된다. 또한, 원통형 세라믹스 (10) 는, 조립 (造粒) 공정과 성형 공정과 소성 공정을 거쳐 제조된다.1, 2, the cylindrical ceramics 10 is formed in the cylindrical shape which has the hollow part 11. As shown in FIG. Moreover, the cylindrical ceramics 10 is manufactured through a granulation process, a shaping|molding process, and a baking process.

구체적으로는, 조립 공정에서는, 예를 들어 세라믹스 원료 분말 및 유기 첨가물을 함유하는 슬러리를 제조하고, 이러한 슬러리를 스프레이 드라이 처리에 의해 과립체를 제조한다. 성형 공정에서는, 과립체를 예를 들어 CIP (Cold Isostatic Pressing) 성형하여, 원통형의 성형체를 제조한다. 그리고, 소성 공정에서는, 성형체를 소성로 내에서 소성하여 소성체를 제조한다.Specifically, in a granulation process, the slurry containing ceramic raw material powder and an organic additive is manufactured, for example, and this slurry is spray-dried, and granule is manufactured. In a shaping|molding process, the granule is shape|molded, for example by CIP (Cold Isostatic Pressing), and a cylindrical molded object is manufactured. And in a baking process, a molded object is baked in a kiln, and a sintered object is manufactured.

이와 같이 하여 제조된 소성체가 원통형 세라믹스 (10) 이고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 는 가공 장치 (1) 에 의해 회전되면서, 내주면 (10a) 에 대해 연삭 가공이 실시된다. 또한, 소성체인 원통형 세라믹스 (10) 의 제조 방법은, 상기한 것에 한정되지 않고, 어떠한 방법이어도 된다.The sintered body produced in this way is cylindrical ceramics 10 , and while this cylindrical ceramics 10 is rotated by the processing device 1 , grinding processing is performed on the inner peripheral surface 10a. In addition, the manufacturing method of the cylindrical ceramics 10 which is a sintered body is not limited to an above-mentioned thing, Any method may be sufficient.

즉, 예를 들어, 상기한 성형 공정에서는, CIP 성형을 사용하도록 했지만, 이것에 한정되지 않고, 압출 성형이나 사출 성형, 주입 (鑄入) 성형 등 그 밖의 성형 수법을 이용해도 된다.That is, for example, although CIP molding was used in the above-mentioned molding process, it is not limited to this, You may use other molding methods, such as extrusion molding, injection molding, and injection molding.

또, 원통형 세라믹스 (10) 의 세라믹스 원료로는, IGZO (In2O3-Ga2O3-ZnO), ITO (In2O3-SnO2) 및 AZO (Al2O3-ZnO) 등을 예시할 수 있지만, 이것들에 한정되지 않는다. 즉, 원통형 세라믹스 (10) 는, 예를 들어 In, Zn, Al, Ga, Zr, Ti, Sn, Mg 및 Si 중 1 종 이상을 함유하는 것이어도 된다.Moreover, as a ceramic raw material of the cylindrical ceramics 10, IGZO (In 2 O 3 -Ga 2 O 3 -ZnO), ITO (In 2 O 3 -SnO 2 ), AZO (Al 2 O 3 -ZnO), etc. Although it can be illustrated, it is not limited to these. That is, the cylindrical ceramics 10 may contain 1 or more types of In, Zn, Al, Ga, Zr, Ti, Sn, Mg, and Si, for example.

이와 같이 하여 제조된 원통형 세라믹스 (10) 는, 전체 길이가 길수록, 가공 지그와 원통형 세라믹스 (10) 의 접촉 부분에 가해지는 힘이 커지기 때문에, 예를 들어 전체 길이가 500 ㎜ 이상, 바람직하게는 750 ㎜ 이상, 보다 바람직하게는 1000 ㎜ 이상인 경우에, 후술하는 가공 지그를 적용하는 것이 적당하다. 단, 전체 길이가 500 ㎜ 미만인 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 가공 지그를 사용해도 된다.As the overall length of the cylindrical ceramics 10 produced in this way increases, the force applied to the contact portion between the processing jig and the cylindrical ceramics 10 increases. For example, the total length is 500 mm or more, preferably 750 mm or more, more preferably 1000 mm or more, it is suitable to apply the processing jig mentioned later. However, you may use a processing jig with respect to the cylindrical ceramics 10 whose total length is less than 500 mm.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 가공 장치 (1) 는, 회전 기구 (20) 와, 진동 억제 기구 (30) 를 구비한다. 회전 기구 (20) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 을 유지하면서, 원통형 세라믹스 (10) 를 회전시킨다.As shown in FIG. 1 , the processing apparatus 1 includes a rotation mechanism 20 and a vibration suppression mechanism 30 . The rotation mechanism 20 rotates the cylindrical ceramics 10 while holding the one end 10c of the cylindrical ceramics 10 .

상세하게는, 회전 기구 (20) 는, 본체부 (21) 와, 회전부 (22) 와, 유지 클로우 (23) 를 구비한다. 본체부 (21) 에는, 회전부 (22) 를 회전 구동시키는 모터 등의 구동원 (도시 생략) 이 수용된다.In detail, the rotation mechanism 20 is equipped with the main-body part 21, the rotation part 22, and the holding claw 23. As shown in FIG. A drive source (not shown), such as a motor which rotationally drives the rotating part 22, is accommodated in the main body part 21. As shown in FIG.

회전부 (22) 는, 상기한 구동원의 출력축에 접속됨과 함께, 구동원으로부터 회전력이 전달되면, 회전축 A 둘레로 회전한다. 유지 클로우 (23) 는, 회전부 (22) 에 접속됨과 함께, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 의 외주측에 복수 개 배치되어, 원통형 세라믹스 (10) 를 유지한다.While being connected to the output shaft of an above-described drive source, the rotation part 22 will rotate around the rotation shaft A when rotational force is transmitted from a drive source. A plurality of holding claws 23 are disposed on the outer peripheral side of one end 10c of the cylindrical ceramics 10 while being connected to the rotating part 22 to hold the cylindrical ceramics 10 .

구체적으로는, 예를 들어, 유지 클로우 (23) 는 3 개이고 (도 1 에 있어서 1 개 보이지 않음), 회전축 A 를 중심으로 하여 서로 120 도의 간격을 두고 배치된다. 또, 3 개의 유지 클로우 (23) 는 각각, X 축 방향에서 보았을 때 원통형 세라믹스 (10) 의 직경 방향으로 독립적으로 이동 가능하게 구성된다.Specifically, for example, there are three holding claws 23 (one is not visible in FIG. 1), and is arranged with an interval of 120 degrees from each other centering on the rotation axis A. Moreover, each of the three holding claws 23 is comprised so that movement is possible independently in the radial direction of the cylindrical ceramics 10 when it sees from the X-axis direction.

따라서, 예를 들어, 유지 클로우 (23) 에 의해 원통형 세라믹스 (10) 를 유지하는 경우, 먼저, X 축 방향에서 보았을 때 3 개의 유지 클로우 (23) 에 의해 둘러싸이는 스페이스가 미리 원통형 세라믹스 (10) 의 외경보다 커지도록 설정해 둔다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 이 3 개의 유지 클로우 (23) 에 의해 둘러싸이는 스페이스에 세트된 후, 3 개의 유지 클로우 (23) 를 각각 직경 방향 내측으로 이동시킨다.Therefore, for example, when holding the cylindrical ceramics 10 by the holding claws 23, first, when viewed in the X-axis direction, the space surrounded by the three holding claws 23 is in advance of the cylindrical ceramics 10. Set it to be larger than the outer diameter of And after the one end 10c of the cylindrical ceramics 10 is set in the space surrounded by the three holding claws 23, the three holding claws 23 are respectively moved radially inward.

이어서, 유지 클로우 (23) 를 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 소정의 압력으로 맞닿게 함으로써, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 은, 3 개의 유지 클로우 (23) 에 의해 유지되게 된다. 이로 인해, 회전 기구 (20) 는, 유지 클로우 (23) 에 의해 유지된 원통형 세라믹스 (10) 를, 회전부 (22) 의 회전에 수반하여 회전축 A 둘레로 회전시킬 수 있다.Next, by bringing the holding claw 23 into contact with the outer circumferential surface 10b of the cylindrical ceramics 10 with a predetermined pressure, one end 10c of the cylindrical ceramics 10 is held by the three holding claws 23 . do. For this reason, the rotating mechanism 20 can rotate the cylindrical ceramics 10 hold|maintained by the holding claw 23 around the rotating shaft A with rotation of the rotating part 22. As shown in FIG.

또한, 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축은, 회전 기구 (20) 의 회전축 A 와 거의 동축이 된다. 따라서, 도 1 등에서는, 도시의 간략화를 위해, 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축도 「회전축 A」로서 도시하였다. 또, 이하에 있어서는, 「회전축 A」를 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 의 의미로 사용하는 경우가 있다.Moreover, the rotation axis of the cylindrical ceramics 10 becomes substantially coaxial with the rotation axis A of the rotation mechanism 20 . Accordingly, in FIG. 1 and the like, the rotation axis of the cylindrical ceramics 10 is also shown as "rotation axis A" for the sake of simplification of illustration. In addition, below, "rotation shaft A" may be used in the meaning of the rotation shaft A of the cylindrical ceramics 10.

또한, 상기에서는, 회전 기구 (20) 의 유지 클로우 (23) 를 3 개로 했지만, 개수는 이것에 한정되지 않는다. 또, 상기한 회전 기구 (20) 에서는, 원통형 세라믹스 (10) 를 유지 클로우 (23) 에 의해 유지하도록 했지만, 이것은 예시이지 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 회전 기구 (20) 가, 유지 클로우 (23) 대신에, 링 형상으로 형성된 유지부를 구비하고, 이러한 유지부에 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 을 삽입 통과시켜 고정시키는 등, 그 밖의 구성으로 원통형 세라믹스 (10) 를 유지해도 된다.In addition, in the above, although the holding claw 23 of the rotation mechanism 20 was made into three pieces, the number of objects is not limited to this. Moreover, in the rotation mechanism 20 mentioned above, although the cylindrical ceramics 10 was hold|maintained by the holding claw 23, this is an illustration and is not limited. For example, the rotation mechanism 20 is provided with a holding part formed in a ring shape instead of the holding claw 23, and the one end 10c of the cylindrical ceramics 10 is inserted through this holding part to fix it, etc. You may hold the cylindrical ceramics 10 with another structure.

진동 억제 기구 (30) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 부근을 회전 가능하게 유지하고, 회전에 의해 발생하는 원통형 세라믹스 (10) 의 진동을 억제한다. 이로 인해, 회전하는 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 가 안정되기 때문에, 후술하는 연삭 가공시의 연삭 정밀도를 향상시킬 수 있다.The vibration suppression mechanism 30 maintains the vicinity of the other end 10d of the cylindrical ceramics 10 rotatably, and suppresses the vibration of the cylindrical ceramics 10 generated by rotation. For this reason, since the rotating shaft A of the rotating cylindrical ceramics 10 is stabilized, the grinding precision at the time of the grinding process mentioned later can be improved.

상세하게는, 진동 억제 기구 (30) 는, 도시되지 않은 본체부와 가공 지그 (31) 를 구비한다. 가공 지그 (31) 는, 본체부에 형성되어, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 부근을 외주면 (10b) 측으로부터 회전 가능하게 유지한다.In detail, the vibration suppression mechanism 30 is equipped with the main body part and the processing jig 31 which are not shown in figure. The processing jig 31 is formed in the body part, and hold|maintains the vicinity of the other end 10d of the cylindrical ceramics 10 rotatably from the outer peripheral surface 10b side.

그런데, 원통형 세라믹스 (10) 는, 기계적 강도가 비교적 낮아 무른 재료이다. 그 때문에, 예를 들어, 가공 지그 (31) 에 있어서 원통형 세라믹스 (10) 와 접촉하는 부분이 스테인리스 등의 금속제였던 경우, 가공 지그 (31) 와의 접촉에 의해 외주면 (10b) 에 깊은 흠집이나 균열이 발생할 우려가 있다.By the way, the cylindrical ceramics 10 is a soft material with comparatively low mechanical strength. Therefore, for example, when the portion of the processing jig 31 that comes into contact with the cylindrical ceramics 10 is made of metal such as stainless steel, a deep flaw or crack is formed on the outer peripheral surface 10b by contact with the processing jig 31 . may occur.

그래서, 본 실시형태에 관련된 가공 지그 (31) 에 있어서는, 원통형 세라믹스 (10) 에 있어서의 흠집이나 균열의 발생을 억제할 수 있는 것과 같은 구성으로 하였다. 이하, 이러한 가공 지그 (31) 의 구성에 대하여, 더욱 상세하게 설명한다.Then, in the processing jig 31 which concerns on this embodiment, it was set as the structure which can suppress generation|occurrence|production of the flaw and the crack in the cylindrical ceramics 10. Hereinafter, the structure of such a processing jig 31 is demonstrated in more detail.

도 3 은, 도 1 에 나타내는 가공 지그 (31) 의 확대 단면도이다. 도 2 등에 나타내는 바와 같이, 가공 지그 (31) 는, 복수 개의 롤러 (34) 와, 복수 개의 롤러 (34) 를 각각 지지하는 지지부 (35) 를 구비한다. 또한, 도 1 ∼ 도 3 에서는, 도시의 간략화를 위해, 지지부 (35) 를 상상선 (想像線) 으로 나타내었다.3 : is an enlarged sectional view of the processing jig 31 shown in FIG. As shown in FIG. 2 etc., the processing jig 31 is equipped with the some roller 34 and the support part 35 which supports the some roller 34, respectively. In addition, in FIGS. 1-3, for the simplification of illustration, the support part 35 was shown with the imaginary line.

롤러 (34) 는, 도 1 ∼ 도 3 에 나타내는 바와 같이, 예를 들어 원기둥상으로 형성된다. 또한, 롤러 (34) 는, 회전체의 일례이다.As shown in FIGS. 1-3, the roller 34 is formed in the cylindrical shape, for example. In addition, the roller 34 is an example of a rotating body.

복수 개의 롤러 (34) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 부근의 외주 측에 배치된다. 예를 들어, 롤러 (34) 는 3 개이고 (도 1 에서 1 개 보이지 않음), 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 를 중심으로 하여 서로 120 도의 간격을 두고 배치된다. 또한, 상기에서는, 롤러 (34) 를 등간격 (예를 들어 120 도의 간격) 으로 배치하도록 했지만, 이것은 예시이지 한정되는 것은 아니고, 복수의 롤러 (34) 끼리의 간격은 임의로 설정할 수 있다.The plurality of rollers 34 are arranged on the outer peripheral side of the vicinity of the other end 10d of the cylindrical ceramics 10 . For example, there are three rollers 34 (one is not visible in FIG. 1 ), and is disposed with an interval of 120 degrees from each other about the rotation axis A of the cylindrical ceramics 10 as a center. In addition, in the above, although the rollers 34 were arrange|positioned at equal intervals (for example, an interval of 120 degrees), this is an example and is not limited, The space|interval of several roller 34 comrades can be set arbitrarily.

또, 상기한 복수 개의 롤러 (34) 는 각각, 둘레 방향으로 회전하는 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 맞닿아 형성되고, 이로써 원통형 세라믹스 (10) 의 회전에 종동하여 회전축 B 둘레로 회전하도록 구성된다.In addition, the plurality of rollers 34 described above are each formed in contact with the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 rotating in the circumferential direction, and thereby follow the rotation of the cylindrical ceramics 10 and rotate around the rotational axis B. is configured to

상세하게는, 도 2 및 도 3 에 잘 나타내는 바와 같이, 롤러 (34) 는, 심재 (芯材) (36) 와, 베어링 (37) 과, 내주부 (38) 와, 외주부 (39) 를 구비한다.In detail, as shown well in FIG.2 and FIG.3, the roller 34 is equipped with the core 36, the bearing 37, the inner peripheral part 38, and the outer peripheral part 39. do.

심재 (36) 는, 예를 들어 원기둥상으로 형성됨과 함께, 지지부 (35) 의 적절한 위치에 고정된다. 또, 심재 (36) 로는, 예를 들어 철, 스테인리스, 티탄 및 티탄 합금 등의 금속 재료나 경질 고무, 수지를 사용할 수 있지만, 이것들에 한정되지 않는다.The core 36 is fixed to the appropriate position of the support part 35 while being formed in column shape, for example. Moreover, as the core material 36, although metal materials, such as iron, stainless steel, titanium, and a titanium alloy, hard rubber, and resin, can be used, it is not limited to these, for example.

내주부 (38) 는, 예를 들어 원통상으로 형성되어, 회전축 B 방향에서 보았을 때 심재 (36) 를 둘러싸는 것과 같은 위치에 형성된다. 또, 베어링 (37) 은, 심재 (36) 와 내주부 (38) 사이에 개재되어 삽입된다. 바꾸어 말하면, 베어링 (37) 은, 심재 (36) 의 직경 방향 외측, 또한 내주부 (38) 의 직경 방향 내측에 배치된다. 따라서, 베어링 (37) 은, 내주부 (38) 및 외주부 (39) 를 심재 (36) 에 대해 회전 가능하게 지지한다.The inner peripheral portion 38 is formed in a cylindrical shape, for example, and is formed in a position that surrounds the core material 36 when viewed from the rotation axis B direction. Moreover, the bearing 37 is interposed between the core material 36 and the inner peripheral part 38, and is inserted. In other words, the bearing 37 is arrange|positioned radial direction outer side of the core material 36, and the radial direction inner side of the inner peripheral part 38. As shown in FIG. Accordingly, the bearing 37 rotatably supports the inner periphery 38 and the outer periphery 39 with respect to the core 36 .

또한, 도 1, 3 등에 나타내는 예에서는, 베어링 (37) 은, 심재 (36) 의 양단 부근에 각각 배치되도록 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 베어링 (37) 의 배치 장소나 개수는 임의로 설정 가능하다.In addition, in the example shown in FIGS. 1, 3, etc., although the bearing 37 was made to be arrange|positioned respectively near the both ends of the core material 36, it is not limited to this, The arrangement place and number of bearing 37 can be set arbitrarily. do.

내주부 (38) 는, 예를 들어 철, 스테인리스, 티탄 및 티탄 합금 등의 금속 재료나 경질 고무, 수지를 사용할 수 있지만, 이것들은 예시이지 한정되는 것은 아니다.For the inner peripheral part 38, although metal materials, such as iron, stainless steel, titanium, and a titanium alloy, hard rubber, and resin, can be used, these are examples and are not limited, for example.

외주부 (39) 는, 내주부 (38) 의 직경 방향 외측의 면을 피복하도록 형성됨과 함께, 원통상으로 형성된다. 또, 외주부 (39) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 맞닿도록 배치된다.The outer peripheral portion 39 is formed in a cylindrical shape while being formed so as to cover the surface of the inner peripheral portion 38 outside in the radial direction. Moreover, the outer peripheral part 39 is arrange|positioned so that it may contact|abut against the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10. As shown in FIG.

그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 맞닿는 외주부 (39) 의 재질은, 수지 혹은 고무이다. 또한, 상기한 수지로는, 폴리아미드 수지, ABS 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리프로필렌 수지 등 중 1 종 이상을 함유하는 수지 재료를 사용할 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 또, 상기한 고무로는, 클로로프렌 고무, 니트릴 고무, 천연 고무, 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 우레탄 고무 등 중 1 종 이상을 함유하는 고무 재료를 사용할 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다.And the material of the outer peripheral part 39 which contact|abuts the cylindrical ceramics 10 is resin or rubber. In addition, although the resin material containing 1 or more types of polyamide resin, ABS resin, polycarbonate resin, polypropylene resin, etc. can be used as said resin, it is not limited to these. Moreover, as said rubber, although the rubber material containing 1 or more types of chloroprene rubber, nitrile rubber, natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, urethane rubber, etc. can be used, it is not limited to these.

이와 같이, 본 실시형태에서는, 외주부 (39) 의 재질을 수지 혹은 고무로 한 점에서, 외주부 (39) 가 만일 금속제였던 경우에 비하여, 접촉시에 롤러 (34) 로부터 원통형 세라믹스 (10) 에 작용하는 부하를 경감시킬 수 있다. 이로 인해, 예를 들어, 취성 재료인 원통형 세라믹스 (10) 를 회전시켜 내주면 (10a) 을 가공하는 경우에도, 롤러 (34) 와의 접촉에 의해 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 것을 억제할 수 있다.Thus, in this embodiment, since the material of the outer peripheral part 39 is resin or rubber, compared with the case where the outer peripheral part 39 was made of metal, the roller 34 acts on the cylindrical ceramics 10 at the time of contact. load can be reduced. For this reason, for example, even when rotating the cylindrical ceramics 10 which is a brittle material and processing the inner peripheral surface 10a, the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 is scratched or cracked by contact with the roller 34, for example. This can be prevented from occurring.

상기와 같이 구성된 롤러 (34) 의 회전축 B 방향의 길이 (L1) (도 1 참조) 는, 예를 들어 15 ㎜ 이상이 바람직하고, 30 ㎜ 이상이 보다 바람직하며, 50 ㎜ 이상이 더욱 바람직하다. 즉, 롤러 (34) 와 원통형 세라믹스 (10) 의 접촉 면적을 증가시키도록, 롤러 (34) 의 전체 길이 (L1) 를 설정함으로써, 접촉시에 롤러 (34) 로부터 원통형 세라믹스 (10) 에 작용하는 면압을 감소시킬 수 있다. 이로 인해, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.The length L1 in the direction of the rotation axis B of the roller 34 configured as described above (see FIG. 1 ) is, for example, preferably 15 mm or more, more preferably 30 mm or more, and still more preferably 50 mm or more. That is, by setting the overall length L1 of the roller 34 so as to increase the contact area between the roller 34 and the cylindrical ceramics 10, the action acting on the cylindrical ceramics 10 from the roller 34 at the time of contact surface pressure can be reduced. For this reason, it can suppress effectively that a flaw and a crack generate|occur|produce in the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10. As shown in FIG.

또, 롤러 (34) 의 회전축 B 방향의 길이 (L1) 의 상한은 특별히 제한되는 것은 아니지만, 롤러 (34) 를 사용한 공정에서의 작업 취급 상, 5000 ㎜ 이하인 것이 바람직하다.Moreover, although the upper limit in particular of the length L1 of the rotation axis B direction of the roller 34 is not restrict|limited, From the viewpoint of operation handling in the process using the roller 34, it is preferable that it is 5000 mm or less.

또, 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 방향의 전체 길이 (L2) (도 1 참조) 에 대한 롤러 (34) 의 회전축 B 방향의 전체 길이 (L1) 의 비율은, 3 % 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 % 이상이다. 이로 인해, 접촉시에 롤러 (34) 로부터 원통형 세라믹스 (10) 에 작용하는 면압을 감소시킬 수 있고, 이로써 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 것을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.In addition, the ratio of the total length L1 in the rotational axis B direction of the roller 34 to the total length L2 in the rotational axis A direction of the cylindrical ceramics 10 (see Fig. 1) is preferably 3% or more, more Preferably it is 5 % or more. For this reason, it is possible to reduce the surface pressure acting on the cylindrical ceramics 10 from the rollers 34 at the time of contact, thereby more effectively suppressing the occurrence of scratches or cracks on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10. have.

또, 상기한 외주부 (39) 의 재질이 수지인 경우, 로크 웰 경도 (ASTM 규격, D785, R 스케일) 는, 예를 들어 80 이상 125 이하가 바람직하고, 80 이상 120 이하가 보다 바람직하다. 또, 상기한 외주부 (39) 의 재질이 고무인 경우, 고무 경도 (JIS 규격, K6253-3 : 2012) 는, 80 이상 95 이하가 바람직하고, 80 이상 90 이하가 보다 바람직하다.Further, when the material of the outer peripheral portion 39 is resin, the Rockwell hardness (ASTM standard, D785, R scale) is, for example, preferably 80 or more and 125 or less, and more preferably 80 or more and 120 or less. Moreover, when the material of the said outer peripheral part 39 is rubber, 80 or more and 95 or less are preferable and, as for rubber hardness (JIS standard, K6253-3:2012), 80 or more and 90 or less are more preferable.

이로 인해, 외주부 (39) 가 만일 금속제였던 경우에 비하여, 접촉시에 롤러 (34) 로부터 원통형 세라믹스 (10) 에 작용하는 부하를 보다 한층 경감시킬 수 있어, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 경도가 상기 범위보다 높으면, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 경우가 있고, 상기 범위보다 낮으면 진동을 억제하지 못하여, 가공 정밀도가 악화되는 경우가 있다.For this reason, compared with the case where the outer peripheral portion 39 is made of metal, the load acting on the cylindrical ceramics 10 from the rollers 34 at the time of contact can be further reduced, and the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 It can suppress the occurrence of scratches or cracks. In addition, when the hardness is higher than the above range, scratches or cracks may occur on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10. If the hardness is lower than the above range, vibration cannot be suppressed and processing precision may deteriorate.

또, 원통형 세라믹스 (10) 에 대해 롤러 (34) 가 맞닿는 위치는, 예를 들어 회전 기구 (20) 에 유지되는 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 으로부터 전체 길이 (L2) 의 1/2 의 위치 (C1) (도 1 참조) 보다 타단 (10d) 측이 바람직하다. 더욱 바람직한 예로는, 롤러 (34) 의 위치는, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 으로부터 전체 길이 (L2) 의 2/3 의 위치 (C2) (도 1 참조) 보다 타단 (10d) 측이다.Moreover, the position where the roller 34 abuts with respect to the cylindrical ceramics 10 is 1/2 of the total length L2 from the end 10c of the cylindrical ceramics 10 hold|maintained by the rotating mechanism 20, for example. The other end 10d side is more preferable than the position C1 (see Fig. 1). As a more preferable example, the position of the roller 34 is on the other end 10d side rather than the position C2 (see FIG. 1) at 2/3 of the total length L2 from the one end 10c of the cylindrical ceramics 10 .

이로 인해, 진동 억제 기구 (30) 에 있어서는, 원통형 세라믹스 (10) 를 안정적으로 유지할 수 있음과 함께, 원통형 세라믹스 (10) 의 진동을 보다 한층 억제할 수 있다. 또한, 회전하는 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 가 안정되기 때문에, 연삭 정밀도를 보다 한층 향상시킬 수 있다.For this reason, in the vibration suppression mechanism 30, while being able to hold|maintain the cylindrical ceramics 10 stably, the vibration of the cylindrical ceramics 10 can be suppressed further. Moreover, since the rotation axis A of the rotating cylindrical ceramics 10 is stabilized, grinding precision can be improved further.

지지부 (35) 는, 상기한 바와 같이, 3 개의 롤러 (34) 를 각각 지지한다. 3 개의 지지부 (35) 는 각각, 진동 억제 기구 (30) 의 도시되지 않은 본체부에 장착됨과 함께, X 축 방향에서 보았을 때 원통형 세라믹스 (10) 의 직경 방향으로 독립적으로 이동 가능하게 구성된다.The support part 35 supports the three rollers 34, respectively, as mentioned above. The three support portions 35 are each mounted to a body portion (not shown) of the vibration suppression mechanism 30 and are configured to be independently movable in the radial direction of the cylindrical ceramics 10 when viewed in the X-axis direction.

따라서, 예를 들어, 가공 전에 지지부 (35) 및 롤러 (34) 에 의해 원통형 세라믹스 (10) 를 유지하는 경우, 먼저, X 축 방향에서 보았을 때 3 개의 롤러 (34) 에 의해 둘러싸이는 스페이스가 미리 원통형 세라믹스 (10) 의 외경보다 커지도록 설정해 둔다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 부근이 3 개의 롤러 (34) 에 의해 둘러싸이는 스페이스에 세트된 후, 3 개의 지지부 (35) 및 롤러 (34) 를 각각 직경 방향 내측으로 이동시킨다.Therefore, for example, in the case of holding the cylindrical ceramics 10 by the support part 35 and the rollers 34 before processing, first, the space surrounded by the three rollers 34 when viewed in the X-axis direction is preliminarily formed. It sets so that it may become larger than the outer diameter of the cylindrical ceramics 10. And after the vicinity of the other end 10d of the cylindrical ceramics 10 is set in the space surrounded by the three rollers 34, the three support parts 35 and the roller 34 are respectively moved radially inward.

이어서, 롤러 (34) 를 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 소정의 압력으로 맞닿게 함으로써, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 은, 3 개의 롤러 (34) 에 의해 회전 가능하게 유지되게 된다.Next, by bringing the roller 34 into contact with the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 at a predetermined pressure, the other end 10d of the cylindrical ceramics 10 is rotatably held by the three rollers 34 . will become

가공 장치 (1) 는, 지석 (40) 을 구비한다 (도 1 및 도 2 참조). 지석 (40) 은, 도시되지 않은 이동 기구에 의해 원통형 세라믹스 (10) 의 중공부 (11) 내를 내주면 (10a) 에 맞닿게 하면서 이동한다. 즉, 가공 장치 (1) 에 있어서는, 원통형 세라믹스 (10) 의 내주면 (10a) 에 대해 트래버스 연삭이 실시된다. 또한, 원통형 세라믹스 (10) 의 내주면 (10a) 의 연삭 방법은, 트래버스 연삭에 한정되지 않고, 어떠한 방법이어도 된다.The processing apparatus 1 is equipped with the grindstone 40 (refer FIGS. 1 and 2). The grindstone 40 moves while making the inside of the hollow part 11 of the cylindrical ceramics 10 abut against the inner peripheral surface 10a by a moving mechanism (not shown). That is, in the processing apparatus 1, traverse grinding is performed with respect to the inner peripheral surface 10a of the cylindrical ceramics 10. In addition, the grinding method of the inner peripheral surface 10a of the cylindrical ceramics 10 is not limited to traverse grinding, What kind of method may be sufficient.

또한, 상기한 실시형태에서는, 롤러 (34) 를 3 개로 했지만, 개수는 이것에 한정되지 않는다. 또, 상기한 예에서는, 복수 개의 롤러 (34) 를 모두 동일한 구성으로 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 복수 개의 롤러 (34) 의 일부 또는 전부를 서로 상이한 구성으로 해도 된다.In addition, in said embodiment, although the roller 34 was made into three pieces, the number of objects is not limited to this. Moreover, in the above-mentioned example, although all the some roller 34 was made into the same structure, it is not limited to this, For example, it is good also considering a part or all of the some roller 34 mutually different structure.

이것에 대하여, 도 2 에 나타내는 예로 설명한다. 여기서는, 회전축 A 방향에서 보았을 때, 원통형 세라믹스 (10) 의 무게 중심 (G) 보다 Z 축 하방측에 위치하는 2 개의 롤러를 부호 34a, 무게 중심 (G) 보다 Z 축 상방측에 위치하는 롤러를 부호 34b 로 나타내는 것으로 한다.This is demonstrated by the example shown in FIG. Here, when viewed from the rotation axis A direction, the two rollers located below the Z axis of the cylindrical ceramics 10 are located below the center of gravity (G) by reference numeral 34a, and the rollers located above the center of gravity (G) are located above the Z axis. It is assumed that it is represented by the code|symbol 34b.

상기한 롤러 (34a) 에는, 원통형 세라믹스 (10) 의 자중이 작용하는 점에서, 원통형 세라믹스 (10) 에 있어서 롤러 (34a) 와 접촉하는 부분은, 롤러 (34b) 와 접촉하는 부분에 비해 부하가 높아져, 흠집이나 균열이 생기기 쉽다.Since the weight of the cylindrical ceramics 10 acts on the roller 34a described above, the portion in contact with the roller 34a of the cylindrical ceramics 10 has a load compared to the portion in contact with the roller 34b. high, and scratches and cracks are likely to occur.

그래서, 예를 들어, 2 개의 롤러 (34a) 의 외주부 (39) 만의 재질을 수지 혹은 고무로 하도록 구성해도 된다. 또, 예를 들어, 2 개의 롤러 (34a) 의 전체 길이 (L1) 를 롤러 (34b) 의 전체 길이 (L1) 보다 길게 하도록 구성해도 된다.Then, you may comprise so that the material of only the outer peripheral part 39 of the two rollers 34a may be made into resin or rubber, for example. Moreover, you may comprise so that the full length L1 of the two rollers 34a may be made longer than the full length L1 of the roller 34b, for example.

상기와 같이, 2 개의 롤러 (34a) 에 대하여, 외주부 (39) 의 재질을 수지 혹은 고무로 하거나, 전체 길이 (L1) 를 길게 하거나 하는 구성이라도, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 흠집이나 균열이 발생하는 것을 억제할 수 있다.As described above, with respect to the two rollers 34a, even if the material of the outer peripheral portion 39 is made of resin or rubber or the overall length L1 is lengthened, the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 is damaged. It can suppress the occurrence of cracks or cracks.

다음으로, 본 실시형태에 관련된 가공 지그 (31) 를 사용한, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법에 대하여, 도 4 를 참조하여 설명한다. 도 4 는, 스퍼터링 타깃재를 제조하는 처리 순서를 나타내는 플로 차트이다.Next, the manufacturing method of the sputtering target material using the processing jig 31 which concerns on this embodiment is demonstrated with reference to FIG. It is a flowchart which shows the process procedure which manufactures a sputtering target material.

도 4 에 나타내는 바와 같이, 먼저, 원통형 세라믹스 (10) 의 일단 (10c) 을 회전 기구 (20) 의 유지 클로우 (23) 에 의해 유지시킴으로써, 원통형 세라믹스 (10) 를 회전 기구 (20) 에 장착한다 (스텝 S1).As shown in FIG. 4 , first, the cylindrical ceramics 10 is attached to the rotary mechanism 20 by holding the one end 10c of the cylindrical ceramics 10 by the holding claws 23 of the rotary mechanism 20 . (Step S1).

이어서, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 을 가공 지그 (31) 의 롤러 (34) 로 회전 가능하게 유지한다 (스텝 S2). 또한, 스텝 S1, S2 의 처리의 순번은 상기에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어, 스텝 S2 의 처리 후에 스텝 S1 의 처리가 실시되어도 되고, 나아가서는 스텝 S1, S2 의 처리가 동일한 타이밍으로 실시되어도 된다.Next, the other end 10d of the cylindrical ceramics 10 is rotatably held by the roller 34 of the processing jig 31 (step S2). In addition, the order of the process of steps S1 and S2 is not limited to the above, For example, even if the process of step S1 may be implemented after the process of step S2, and further, even if the process of steps S1 and S2 is performed at the same timing do.

계속해서, 원통형 세라믹스 (10) 를 회전 기구 (20) 에 의해 둘레 방향으로 회전시켜 내주면 (10a) 을 연삭 가공한다 (스텝 S3). 이상의 각 공정에 의해, 일련의 원통형 세라믹스 (10) 의 내주면 (10a) 의 가공이 종료된다.Then, the cylindrical ceramics 10 is rotated in the circumferential direction by the rotating mechanism 20, and the inner peripheral surface 10a is grind-processed (step S3). The processing of the inner peripheral surface 10a of the series of cylindrical ceramics 10 is complete|finished by each of the above processes.

또한, 스퍼터링 타깃재를 제조하는 데에 있어서, 상기한 스텝 S1 ∼ S3 이외의 처리를 실시하도록 해도 된다. 예를 들어, 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 을 연삭 가공하는 처리를 실시하도록 해도 된다.In addition, in manufacturing a sputtering target material, you may make it process other than said step S1-S3 performed. For example, you may make it perform the process which grind-processes the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10.

상기 서술해 온 바와 같이, 제 1 실시형태에 관련된 가공 지그 (31) 는, 원통형 세라믹스 (10) 의 회전에 종동하여 회전하는 롤러 (회전체) (34) 를 구비한다. 롤러 (34) 의 회전축 방향의 길이는 15 ㎜ 이상이고, 또한 롤러 (34) 의 적어도 외주부 (39) 의 재질이, 로크 웰 경도가 80 이상 125 이하인 수지, 혹은 고무 경도가 80 이상 95 이하인 고무이다. 이로 인해, 원통형 세라믹스 (10) 에 있어서의 흠집이나 균열의 발생을 억제할 수 있다.As mentioned above, the processing jig 31 which concerns on 1st Embodiment is equipped with the roller (rotating body) 34 which follows the rotation of the cylindrical ceramics 10 and rotates. The length in the direction of the rotation axis of the roller 34 is 15 mm or more, and the material of at least the outer peripheral portion 39 of the roller 34 is a resin having a Rockwell hardness of 80 or more and 125 or less, or a rubber having a rubber hardness of 80 or more and 95 or less. . For this reason, generation|occurrence|production of the flaw and crack in the cylindrical ceramics 10 can be suppressed.

또, 상기와 같이 흠집이나 균열의 발생이 억제된 원통형 세라믹스 (10) 는, 스퍼터링 타깃재로서 사용할 수 있기 때문에, 본 실시형태에 있어서는, 스퍼터링 타깃재용 원통형 세라믹스의 수율 저하도 억제할 수 있다.Moreover, since the cylindrical ceramics 10 by which generation|occurrence|production of a flaw or crack was suppressed as mentioned above can be used as a sputtering target material, in this embodiment, the fall of the yield of the cylindrical ceramics for sputtering target materials can also be suppressed.

실시예Example

[실시예 1][Example 1]

BET (Brunauer-Emmett-Teller) 법에 의해 측정된 비표면적 (BET 비표면적) 이 4 ㎡/g 인 ZnO 분말 25.9 질량% 와, BET 비표면적이 7 ㎡/g 인 In2O3 분말 44.2 질량% 와, BET 비표면적이 10 ㎡/g 인 Ga2O3 분말 29.9 질량% 를 배합하고, 포트 중에서 지르코니아 볼에 의해 볼 밀 혼합하여, 원료 분말을 조제하였다.25.9 mass % of a ZnO powder having a specific surface area (BET specific surface area) of 4 m 2 /g, and 44.2 mass % of an In 2 O 3 powder having a BET specific surface area of 7 m 2 /g, measured by the Brunauer-Emmett-Teller (BET) method And 29.9 mass % of Ga2O3 powder whose BET specific surface area is 10 m< 2 >/g was mix|blended, it ball mill-mixed with a zirconia ball in a pot, and prepared raw material powder.

이 포트에, 원료 분말 100 질량% 에 대해 0.3 질량% 의 폴리비닐알코올과, 0.4 질량% 의 폴리카르복실산암모늄과, 1.0 질량% 의 폴리에틸렌글리콜과, 50 질량% 의 물을 각각 첨가하고, 볼 밀 혼합하여 슬러리를 조제하였다.0.3 mass % of polyvinyl alcohol, 0.4 mass % of ammonium polycarboxylate, 1.0 mass % of polyethylene glycol, and 50 mass % of water are added to this pot with respect to 100 mass % of raw material powder, respectively, Mill mixing was performed to prepare a slurry.

다음으로, 이 슬러리를 스프레이 드라이 장치에 공급하고, 아토마이저 회전 수 14,000 rpm, 입구 온도 200 ℃, 출구 온도 80 ℃ 의 조건으로 스프레이 드라이를 실시하여, 과립체를 조제하였다.Next, this slurry was supplied to the spray-drying apparatus, atomizer rotation speed 14,000 rpm, 200 degreeC inlet temperature, and spray-drying were performed on the conditions of 80 degreeC of outlet temperature, and the granule was prepared.

이 과립체를, 외경 150 ㎜ 의 원기둥상의 중자 (中子) (심봉 (心俸)) 를 갖는 내경 220 ㎜ (두께 10 ㎜), 길이 1300 ㎜ 의 원통 형상의 우레탄 고무형에 탭핑시키면서 충전시키고, 고무형을 밀폐 후, 800 kgf/㎠ 의 압력으로 CIP 성형하여, 원통형의 성형체를 제조하였다.The granules are filled while tapping into a cylindrical urethane rubber mold having an inner diameter of 220 mm (thickness of 10 mm) and a length of 1300 mm having a cylindrical core (central rod) having an outer diameter of 150 mm, After sealing the rubber mold, CIP molding was performed at a pressure of 800 kgf/cm 2 to prepare a cylindrical molded article.

이 성형체를 상온으로부터의 승온 속도 300 ℃/h 로 1400 ℃ 까지 가열하고, 12 시간 유지한 후, 강온 속도 50 ℃/h 로 냉각시킴으로써 성형체의 소성을 실시하고, 소성체를 제조하였다. 그리고, 상기 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 500 ㎜ 가 되도록 절단하여 IGZO 의 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다.The molded body was heated from room temperature to 1400°C at a temperature increase rate of 300°C/h, held for 12 hours, and then cooled at a temperature-fall rate of 50°C/h to perform firing of the molded body to prepare a fired body. And the sintered body manufactured by the said method was cut|disconnected so that full length L2 might be set to 500 mm, and the cylindrical ceramics 10 of IGZO was obtained.

그리고, 상기한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리아미드 수지, 전체 길이 (L1) 가 15 ㎜, 로크 웰 경도가 120 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.4 ㎜ 였다.Then, after grinding the outer circumferential surface 10b of the above-described cylindrical ceramics 10, a roller having a material of the outer circumferential portion 39 made of polyamide resin, a total length L1 of 15 mm, and a Rockwell hardness of 120 ( 34), the inner peripheral surface 10a was subjected to grinding processing using the processing jig 31 . No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, and the depth of the flaw after processing was 0.4 mm.

또한, 이 명세서에서는, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.5 ㎜ 미만인 경우, 가공이 양호하게 실시되어 원통형 세라믹스 (10) 로서의 품질 기준을 만족시키고 있는 것으로 판정되는 한편, 0.5 ㎜ 이상인 경우, 가공 불량으로 품질 기준을 만족시키고 있지 않은 것으로 판정되는 것으로 한다.In addition, in this specification, when the depth of the flaw after processing is less than 0.5 mm, processing is performed well and it is judged that the quality standard as cylindrical ceramics 10 is satisfied, whereas, when it is 0.5 mm or more, it is a quality standard with poor processing. It is judged that it does not satisfy

[실시예 2][Example 2]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리아미드 수지, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 로크 웰 경도가 120 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.2 ㎜ 였다.The fired body manufactured by the method similar to Example 1 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, with respect to this cylindrical ceramics 10, after grinding the outer peripheral surface 10b, the material of the outer peripheral portion 39 is polyamide resin, the overall length L1 is 60 mm, and the roller 34 has a Rockwell hardness of 120. ), the inner peripheral surface 10a was subjected to grinding processing using a processing jig 31 having . In the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after a process, generation|occurrence|production of a crack or a crack was not recognized, but the depth of the flaw after a process was 0.2 mm.

[실시예 3][Example 3]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리프로필렌 수지, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 로크 웰 경도가 81 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.3 ㎜ 였다.The fired body manufactured by the method similar to Example 1 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, with respect to this cylindrical ceramics 10, after grinding the outer peripheral surface 10b, the material of the outer peripheral portion 39 is polypropylene resin, the total length L1 is 60 mm, and the roller 34 having a Rockwell hardness of 81. ), the inner peripheral surface 10a was subjected to grinding processing using a processing jig 31 having . No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, and the depth of the flaw after processing was 0.3 mm.

[실시예 4][Example 4]

BET 법에 의해 측정된 비표면적 (BET 비표면적) 이 5 ㎡/g 인 SnO2 분말 10 질량% 와, BET 비표면적이 5 ㎡/g 인 In2O3 분말 90 질량% 를 배합하고, 포트 중에서 지르코니아 볼에 의해 볼 밀 혼합하여, 원료 분말을 조제하였다.10 mass % of SnO 2 powder having a specific surface area (BET specific surface area) measured by the BET method of 5 m 2 /g and 90 mass % of In 2 O 3 powder having a BET specific surface area of 5 m 2 /g are blended, and in a pot It was ball mill-mixed with a zirconia ball, and the raw material powder was prepared.

이 포트에, 원료 분말 100 질량% 에 대해 0.3 질량% 의 폴리비닐알코올과, 0.2 질량% 의 폴리카르복실산암모늄과, 0.5 질량% 의 폴리에틸렌글리콜과, 50 질량% 의 물을 각각 첨가하고, 볼 밀 혼합하여 슬러리를 조제하였다.In this pot, 0.3 mass % of polyvinyl alcohol, 0.2 mass % of ammonium polycarboxylate, 0.5 mass % of polyethylene glycol, and 50 mass % of water with respect to 100 mass % of raw material powder are added, respectively, Mill mixing was performed to prepare a slurry.

이 이후의 스프레이 드라이로부터 성형에 이르는 공정에 대해서는 실시예 1 과 동일한 순서로 하였다. 얻어진 성형체를 상온으로부터의 승온 속도 300 ℃/h 로 1600 ℃ 까지 가열하고, 12 시간 유지한 후, 강온 속도 50 ℃/h 로 냉각시킴으로써 성형체의 소성을 실시하여, 소성체를 제조하였다. 이 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여, ITO 의 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다.About the process from spray drying after this to shaping|molding, it was set as the procedure similar to Example 1. The resulting molded body was heated from room temperature to 1600°C at a temperature increase rate of 300°C/h, held for 12 hours, and then cooled at a temperature-fall rate of 50°C/h to perform firing of the molded body to prepare a fired body. This fired body was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 of ITO were obtained.

그리고, 상기 방법에 의해 얻어진 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리아미드 수지, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 로크 웰 경도가 120 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.1 ㎜ 였다.Then, after grinding the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 obtained by the above method, the material of the outer peripheral portion 39 is polyamide resin, the total length L1 is 60 mm, and the Rockwell hardness is 120 The inner peripheral surface 10a was grinded using the processing jig 31 which has the phosphor roller 34. As shown in FIG. In the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after a process, generation|occurrence|production of a crack or a crack was not recognized, but the depth of the flaw after a process was 0.1 mm.

[실시예 5][Example 5]

실시예 4 와 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리카보네이트 수지, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 로크 웰 경도가 125 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.2 ㎜ 였다.The fired body manufactured by the method similar to Example 4 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, with respect to the cylindrical ceramics 10, after grinding the outer peripheral surface 10b, the material of the outer peripheral portion 39 is polycarbonate resin, the total length L1 is 60 mm, and the roller 34 has a Rockwell hardness of 125. ), the inner peripheral surface 10a was subjected to grinding processing using a processing jig 31 having . In the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after a process, generation|occurrence|production of a crack or a crack was not recognized, but the depth of the flaw after a process was 0.2 mm.

[실시예 6][Example 6]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 500 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 클로로프렌 고무, 전체 길이 (L1) 가 15 ㎜, 고무 경도가 90 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.4 ㎜ 였다.The fired body manufactured by the method similar to Example 1 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 500 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, with respect to this cylindrical ceramics 10, after grinding the outer peripheral surface 10b, the material of the outer peripheral portion 39 is chloroprene rubber, the total length L1 is 15 mm, and a roller 34 having a rubber hardness of 90 The inner peripheral surface 10a was grinded using the processing jig 31 which has. No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, and the depth of the flaw after processing was 0.4 mm.

[실시예 7][Example 7]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 클로로프렌 고무, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 고무 경도가 90 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.2 ㎜ 였다.The fired body manufactured by the method similar to Example 1 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, after grinding the outer peripheral surface 10b of this cylindrical ceramics 10, a roller 34 having a chloroprene rubber material, an overall length L1 of 60 mm, and a rubber hardness of 90, of the outer peripheral portion 39 The inner peripheral surface 10a was grinded using the processing jig 31 which has. In the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after a process, generation|occurrence|production of a crack or a crack was not recognized, but the depth of the flaw after a process was 0.2 mm.

[실시예 8][Example 8]

실시예 4 와 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 이러한 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 부타디엔 고무, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 고무 경도가 82 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않고, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.2 ㎜ 였다.The fired body manufactured by the method similar to Example 4 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, with respect to this cylindrical ceramics 10, after grinding the outer peripheral surface 10b, the material of the outer peripheral portion 39 is butadiene rubber, the total length L1 is 60 mm, and a roller 34 having a rubber hardness of 82 The inner peripheral surface 10a was grinded using the processing jig 31 which has. No cracks or cracks were observed on the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, and the depth of the flaw after processing was 0.2 mm.

[비교예 1][Comparative Example 1]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 500 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 SUS304, 전체 길이 (L1) 가 15 ㎜ 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 또한, SUS304 는, 본 발명에서 사용하는 수지나 고무에 비하여, 상당히 단단한 것이다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않았지만, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.9 ㎜ 였다.The fired body manufactured by the method similar to Example 1 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 500 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, with respect to the cylindrical ceramics 10, after grinding the outer peripheral surface 10b, the material of the outer peripheral portion 39 is SUS304, the overall length L1 is a processing jig 31 having a roller 34 of 15 mm Grinding of the inner peripheral surface 10a was performed. In addition, SUS304 is considerably harder than the resin or rubber used in the present invention. Although generation|occurrence|production of a crack or a crack was not confirmed in the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, the depth of the flaw after processing was 0.9 mm.

[비교예 2][Comparative Example 2]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 SUS304, 전체 길이 (L1) 가 10 ㎜ 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 비교예 2 에서는, 가공 중에 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 균열이 발생하여, 가공할 수 없었다. 이 때문에 가공 후의 흠집의 깊이는 측정할 수 없었다.The fired body manufactured by the method similar to Example 1 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, with respect to the cylindrical ceramics 10, after grinding the outer peripheral surface 10b, the material of the outer peripheral portion 39 is SUS304, the total length L1 is a processing jig 31 having a roller 34 of 10 mm Grinding of the inner peripheral surface 10a was performed. In Comparative Example 2, cracks occurred in the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 during processing, and processing was not possible. For this reason, the depth of the flaw after processing could not be measured.

[비교예 3][Comparative Example 3]

실시예 4 와 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 SUS304, 전체 길이 (L1) 가 10 ㎜ 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않았지만, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.6 ㎜ 였다.The fired body manufactured by the method similar to Example 4 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, with respect to the cylindrical ceramics 10, after grinding the outer peripheral surface 10b, the material of the outer peripheral portion 39 is SUS304, the total length L1 is a processing jig 31 having a roller 34 of 10 mm Grinding of the inner peripheral surface 10a was performed. Although generation|occurrence|production of a crack or a crack was not confirmed in the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, the depth of the flaw after processing was 0.6 mm.

[비교예 4][Comparative Example 4]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 SUS304, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜ 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않았지만, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.9 ㎜ 였다.The fired body manufactured by the method similar to Example 1 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, with respect to the cylindrical ceramics 10, after grinding the outer peripheral surface 10b, the material of the outer peripheral portion 39 is SUS304, the overall length L1 is a processing jig 31 having a roller 34 of 60 mm Grinding of the inner peripheral surface 10a was performed. Although generation|occurrence|production of a crack or a crack was not confirmed in the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, the depth of the flaw after processing was 0.9 mm.

[비교예 5][Comparative Example 5]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 폴리아미드 수지, 전체 길이 (L1) 가 10 ㎜, 로크 웰 경도가 120 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 후의 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙의 발생은 확인되지 않았지만, 가공 후의 흠집의 깊이가 0.6 ㎜ 였다.The fired body manufactured by the method similar to Example 1 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, after grinding the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10, the material of the outer peripheral portion 39 is a polyamide resin, the total length L1 is 10 mm, and a roller 34 having a Rockwell hardness of 120. The inner peripheral surface 10a was grinded using the processing jig 31 which has. Although generation|occurrence|production of a crack or a crack was not confirmed in the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after processing, the depth of the flaw after processing was 0.6 mm.

[비교예 6][Comparative Example 6]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 불소 수지, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 로크 웰 경도가 50 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 중에 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙은 발생하지 않았지만, 진동을 억제하지 못하여, 가공할 수 없었다.The fired body manufactured by the method similar to Example 1 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, after grinding the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10, a roller 34 having a material of the outer peripheral portion 39 made of fluororesin, a total length L1 of 60 mm, and a Rockwell hardness of 50 The inner peripheral surface 10a was grinded using the processing jig 31 which has. No cracks or cracks occurred in the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 during processing, but the vibration could not be suppressed and processing could not be performed.

[비교예 7][Comparative Example 7]

실시예 1 과 동일한 방법에 의해 제조한 소성체를, 전체 길이 (L2) 가 1000 ㎜ 가 되도록 절단하여 원통형 세라믹스 (10) 를 얻었다. 그리고, 원통형 세라믹스 (10) 에 대하여, 외주면 (10b) 을 연삭 가공한 후, 외주부 (39) 의 재질이 클로로프렌 고무, 전체 길이 (L1) 가 60 ㎜, 고무 경도가 60 (실시예에서 사용한 것보다 연질인 클로로프렌 고무) 인 롤러 (34) 를 갖는 가공 지그 (31) 를 사용하여, 내주면 (10a) 의 연삭 가공을 실시하였다. 가공 중에 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에는, 균열이나 크랙은 발생하지 않았지만, 진동을 억제하지 못하여, 가공할 수 없었다.The fired body manufactured by the method similar to Example 1 was cut|disconnected so that the total length L2 might be set to 1000 mm, and the cylindrical ceramics 10 was obtained. Then, after grinding the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10, the material of the outer peripheral portion 39 is chloroprene rubber, the total length L1 is 60 mm, and the rubber hardness is 60 (than that used in the example) The inner peripheral surface 10a was grinded using the processing jig 31 which has the roller 34 which is soft chloroprene rubber). No cracks or cracks occurred in the outer peripheral surface 10b of the cylindrical ceramics 10 during processing, but the vibration could not be suppressed and processing could not be performed.

실시예 및 비교예에 있어서, 내주면 (10a) 의 연삭 가공 후에 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 에 발생한 흠집의 깊이는, 내주면 (10a) 의 연삭 가공 후에 원통형 세라믹스 (10) 의 외주면 (10b) 을 연삭하여, 흠집이 사라지기까지 필요로 한 연삭 깊이로 평가하였다. 또한, 상기 실시예, 비교예에서는, 본 발명의 효과가 특히 현저한, IGZO 및 ITO 의 원통형 스퍼터링 타깃재에 대해서만 예시하였다. 그러나, 본 발명이 IGZO 및 ITO 의 원통형 스퍼터링 타깃재에만 효과를 발휘하는 것은 아니다.In Examples and Comparative Examples, the depth of the flaw generated on the outer circumferential surface 10b of the cylindrical ceramics 10 after the grinding of the inner circumferential surface 10a is, after the grinding of the inner circumferential surface 10a, the outer circumferential surface 10b of the cylindrical ceramics 10 ) was ground and evaluated as the grinding depth required until the scratches disappeared. In addition, in the said Example and a comparative example, the effect of this invention was illustrated only about the cylindrical sputtering target material of IGZO and ITO in which the especially remarkable. However, this invention does not exhibit an effect only to the cylindrical sputtering target material of IGZO and ITO.

Figure 112017078807372-pct00001
Figure 112017078807372-pct00001

(제 2 실시형태)(Second embodiment)

다음으로, 제 2 실시형태에 관련된 가공 지그 (131) 에 대하여, 도 5 를 참조하여 설명한다. 도 5 는, 제 2 실시형태에 관련된 가공 지그 (131) 를 나타내는, 도 3 과 동일한 확대 단면도이다.Next, the processing jig 131 which concerns on 2nd Embodiment is demonstrated with reference to FIG. FIG. 5 : is an enlarged cross-sectional view similar to FIG. 3 which shows the processing jig 131 which concerns on 2nd Embodiment.

도 5 에 나타내는 바와 같이, 제 2 실시형태에 있어서는, 제 1 실시형태에서 롤러 (34) 의 내부에 배치되어 있던 베어링 (37) 을 제거하고, 지지부 (35) 와 심재 (136) 사이에 베어링 (137) 을 개재하여 삽입하도록 하였다.As shown in FIG. 5, in the second embodiment, the bearing 37 disposed inside the roller 34 in the first embodiment is removed, and a bearing ( 137) was interposed.

상세하게는, 가공 지그 (131) 의 롤러 (134) 에 있어서, 심재 (136) 는 양단이 돌출되도록 형성된다. 또한, 제 1 실시형태에 관련된 심재 (36) 는 지지부 (35) 에 고정되어 있었지만, 제 2 실시형태에 관련된 심재 (136) 는, 지지부 (35) 에 고정되어 있지 않고, 내주부 (138) 에 고정되어 있는 것으로 한다.In detail, in the roller 134 of the processing jig 131, the core material 136 is formed so that both ends may protrude. In addition, although the core material 36 which concerns on 1st Embodiment was being fixed to the support part 35, the core material 136 which concerns on 2nd Embodiment is not fixed to the support part 35, but to the inner peripheral part 138. assumed to be fixed.

그리고, 돌출된 심재 (136) 의 양단과 지지부 (35) 의 적절한 위치 사이에, 베어링 (137) 이 개재되어 삽입된다. 이와 같이, 베어링 (137) 은, 심재 (136) 의 직경 방향 외측에 배치된다. 그리고, 베어링 (137) 은, 심재 (136), 내주부 (138) 및 외주부 (139) 를 지지부 (35) 에 대해 회전 가능하게 지지한다.And between the both ends of the protruding core material 136 and the appropriate position of the support part 35, the bearing 137 is interposed and inserted. In this way, the bearing 137 is disposed on the radially outer side of the core 136 . And the bearing 137 supports the core material 136, the inner peripheral part 138, and the outer peripheral part 139 with respect to the support part 35 rotatably.

이로 인해, 제 2 실시형태에 관련된 가공 지그 (131) 에 있어서는, 롤러 (134) 의 직경을, 베어링을 내장하는 구성에 비해 작게 할 수 있어, 가공 지그 (131) 의 소형화를 도모할 수 있다.For this reason, in the processing jig 131 which concerns on 2nd Embodiment, the diameter of the roller 134 can be made small compared with the structure which incorporates a bearing, and size reduction of the processing jig 131 can be achieved.

또한, 제 2 실시형태에 있어서, 상기에서는, 심재 (136) 와 내주부 (138) 가 별체가 되는 예를 나타냈지만, 이것들이 일체로 형성되도록 해도 된다.In addition, in 2nd Embodiment, although the example in which the core material 136 and the inner peripheral part 138 become a separate body was shown in the above, you may make it form these integrally.

또한, 상기한 실시형태에서는, 롤러 (34, 134) 의 형상을 원기둥상으로 했지만, 이것에 한정되지 않고, 외주측이 원통형 세라믹스 (10) 에 접촉 가능하면, 예를 들어 구 형상 등 어떠한 형상이어도 된다.In addition, in the above embodiment, although the shape of the rollers 34 and 134 was cylindrical, it is not limited to this, As long as the outer peripheral side can contact the cylindrical ceramics 10, for example, it may be any shape, such as a spherical shape. do.

또, 상기에서는, 원통형 세라믹스 (10) 의 타단 (10d) 부근의 1 개 지점을 진동 억제 기구 (30) 로 유지하도록 했지만, 2 개 지점 이상을 진동 억제 기구 (30) 로 유지하도록 해도 된다.Moreover, although it was made to hold|maintain one point in the vicinity of the other end 10d of the cylindrical ceramics 10 by the vibration suppression mechanism 30 in the above, you may make it hold|maintain two or more points by the vibration suppression mechanism 30.

또, 도 1 등에 나타내는 예에서는, 롤러 (34) 의 회전축 B 가 원통형 세라믹스 (10) 의 회전축 A 에 대해 평행 또는 거의 평행해지는 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않고, 예를 들어, 회전축 B 가 회전축 A 에 대해 교차 또는 비틀림의 위치여도 된다.In addition, in the example shown in FIG. 1 etc., although the example in which the rotation axis B of the roller 34 becomes parallel or substantially parallel with respect to the rotation axis A of the cylindrical ceramics 10 was shown, it is not limited to this, For example, the rotation axis B It may be a position of intersection or twist with respect to the axis of rotation A.

추가적인 효과나 변형예는, 당업자에 의해 용이하게 도출할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 보다 광범위한 양태는, 이상과 같이 나타내며 또한 기술한 특정한 상세 및 대표적인 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 첨부하는 청구의 범위 및 그 균등물에 의해 정의되는 총괄적인 발명의 개념의 정신 또는 범위로부터 일탈하지 않고, 다양한 변경이 가능하다.Additional effects and modifications can be easily derived by those skilled in the art. For this reason, the broader aspect of this invention is not limited to the specific detail and typical embodiment shown and described as mentioned above. Accordingly, various modifications are possible without departing from the spirit or scope of the overall inventive concept defined by the appended claims and their equivalents.

1 : 가공 장치
10 : 원통형 세라믹스
20 : 회전 기구
30 : 진동 억제 기구
31, 131 : 가공 지그
34, 134 : 롤러
35 : 지지부
36, 136 : 심재
37, 137 : 베어링
38, 138 : 내주부
39, 139 : 외주부
40 : 지석
1: processing device
10: cylindrical ceramics
20: rotation mechanism
30: vibration suppression mechanism
31, 131: processing jig
34, 134: roller
35: support
36, 136: heartwood
37, 137: bearing
38, 138: inner housewife
39, 139: Outsourcing
40: grindstone

Claims (11)

스퍼터링 타깃재로서 사용되는 원통형 세라믹스의 가공 지그로서,
상기 원통형 세라믹스의 회전에 종동하여 회전하는 회전체를 구비하고,
상기 회전체의 회전축 방향의 길이가 15 ㎜ 이상이고,
또한, 상기 회전체의 적어도 외주부의 재질이, 로크 웰 경도가 80 이상 125 이하인 수지, 혹은 고무 경도가 80 이상 95 이하의 고무인 가공 지그.
A processing jig for cylindrical ceramics used as a sputtering target material, comprising:
and a rotating body that rotates according to the rotation of the cylindrical ceramics,
The length in the direction of the axis of rotation of the rotating body is 15 mm or more,
In addition, the material of at least the outer periphery of the rotating body is a resin having a Rockwell hardness of 80 or more and 125 or less, or a rubber having a rubber hardness of 80 or more and 95 or less.
제 1 항에 있어서,
상기 수지가, 폴리아미드 수지, ABS 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리프로필렌 수지 중 1 종 이상을 함유하는, 가공 지그.
The method of claim 1,
The processing jig in which the said resin contains 1 or more types of a polyamide resin, an ABS resin, a polycarbonate resin, and a polypropylene resin.
제 1 항에 있어서,
상기 고무가, 클로로프렌 고무, 니트릴 고무, 천연 고무, 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 우레탄 고무 중 1 종 이상을 함유하는, 가공 지그.
The method of claim 1,
The processing jig, wherein the rubber contains at least one of chloroprene rubber, nitrile rubber, natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, and urethane rubber.
제 1 항에 있어서,
상기 회전체의 심재의 외측에, 상기 회전체를 회전 가능하게 하는 베어링이 배치되는, 가공 지그.
The method of claim 1,
A processing jig is disposed on the outer side of the core of the rotating body, the bearing for enabling the rotating body to rotate.
제 1 항에 있어서,
상기 회전체는,
둘레 방향으로 회전하는 상기 원통형 세라믹스의 내주면이 가공될 때에, 상기 원통형 세라믹스의 외주면에 맞닿아 상기 원통형 세라믹스를 유지하는, 가공 지그.
The method of claim 1,
The rotating body is
A processing jig for holding the cylindrical ceramics in contact with the outer peripheral surface of the cylindrical ceramics when the inner circumferential surface of the cylindrical ceramics rotating in the circumferential direction is machined.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 가공 지그를 사용하여, 스퍼터링 타깃재로서 사용되는 상기 원통형 세라믹스를 회전 가능하게 유지하는 유지 공정과,
상기 가공 지그로 유지되어 회전하는 상기 원통형 세라믹스의 내주면을 가공하는 가공 공정을 포함하는, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.
A holding step of rotatably holding the cylindrical ceramics used as a sputtering target material using the processing jig according to any one of claims 1 to 5;
The manufacturing method of the sputtering target material including the processing process of processing the inner peripheral surface of the said cylindrical ceramics which is hold|maintained and rotated by the said processing jig|tool.
제 6 항에 있어서,
상기 원통형 세라믹스의 전체 길이가 500 ㎜ 이상인, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.
7. The method of claim 6,
The manufacturing method of the sputtering target material whose total length of the said cylindrical ceramics is 500 mm or more.
제 6 항에 있어서,
상기 원통형 세라믹스의 전체 길이가 750 ㎜ 이상인, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.
7. The method of claim 6,
The manufacturing method of the sputtering target material whose total length of the said cylindrical ceramics is 750 mm or more.
제 6 항에 있어서,
상기 원통형 세라믹스의 전체 길이가 1000 ㎜ 이상인, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.
7. The method of claim 6,
The manufacturing method of the sputtering target material whose total length of the said cylindrical ceramics is 1000 mm or more.
제 6 항에 있어서,
상기 원통형 세라믹스가 In, Zn, Al, Ga, Zr, Ti, Sn, Mg 및 Si 중 1 종 이상을 함유하는, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.
7. The method of claim 6,
The manufacturing method of the sputtering target material in which the said cylindrical ceramics contains 1 or more types of In, Zn, Al, Ga, Zr, Ti, Sn, Mg, and Si.
제 6 항에 있어서,
상기 유지 공정은, 복수의 상기 회전체로 상기 원통형 세라믹스를 유지하는, 스퍼터링 타깃재의 제조 방법.
7. The method of claim 6,
The said holding process holds the said cylindrical ceramics with the some said rotating body, The manufacturing method of the sputtering target material.
KR1020177022816A 2015-03-31 2015-12-21 Machining jig and method for manufacturing sputtering target member KR102417294B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2015-073454 2015-03-31
JP2015073454A JP6585913B2 (en) 2015-03-31 2015-03-31 Processing jig and method of manufacturing sputtering target material
PCT/JP2015/085687 WO2016157648A1 (en) 2015-03-31 2015-12-21 Machining jig and method for manufacturing sputtering target member

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170133320A KR20170133320A (en) 2017-12-05
KR102417294B1 true KR102417294B1 (en) 2022-07-05

Family

ID=57006867

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020177022816A KR102417294B1 (en) 2015-03-31 2015-12-21 Machining jig and method for manufacturing sputtering target member

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6585913B2 (en)
KR (1) KR102417294B1 (en)
CN (1) CN107208258B (en)
TW (1) TWI720962B (en)
WO (1) WO2016157648A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7165071B2 (en) * 2019-02-19 2022-11-02 トーヨーエイテック株式会社 Honing machine

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003170345A (en) * 2001-12-03 2003-06-17 Nisshin Seisakusho:Kk Honing work method, grindstone slitting device of honing machine and honing machine
JP2003334755A (en) * 2002-05-14 2003-11-25 Yuzuriha Seisakusho:Kk Machining device of fixing roll
JP2008023624A (en) 2006-07-19 2008-02-07 Ntn Corp Workpiece support device and machine structure worked thereby
JP2014148026A (en) 2013-02-04 2014-08-21 Okamoto Machine Tool Works Ltd Workpiece vibration suppression device for cylindrical grinding apparatus

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58154029U (en) * 1982-04-06 1983-10-14 豊田工機株式会社 3-point steady rest device
JPS6017949U (en) * 1983-02-21 1985-02-06 豊田工機株式会社 Jig for processing the inner surface of thin-walled sleeves
KR20010097296A (en) * 2000-04-21 2001-11-08 임성순 Material supporting construction for centerless grinder
KR20060043427A (en) * 2004-03-05 2006-05-15 토소가부시키가이샤 Cylindrical sputtering target, ceramic sintered body, and process for producing sintered body
JP4961672B2 (en) * 2004-03-05 2012-06-27 東ソー株式会社 Cylindrical sputtering target, ceramic sintered body, and manufacturing method thereof
US20050279630A1 (en) * 2004-06-16 2005-12-22 Dynamic Machine Works, Inc. Tubular sputtering targets and methods of flowforming the same
JP5467735B2 (en) * 2007-07-02 2014-04-09 東ソー株式会社 Cylindrical sputtering target
JP5743031B2 (en) * 2013-03-27 2015-07-01 東レ株式会社 Sweeper roller, plastic film manufacturing apparatus and manufacturing method using the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003170345A (en) * 2001-12-03 2003-06-17 Nisshin Seisakusho:Kk Honing work method, grindstone slitting device of honing machine and honing machine
JP2003334755A (en) * 2002-05-14 2003-11-25 Yuzuriha Seisakusho:Kk Machining device of fixing roll
JP2008023624A (en) 2006-07-19 2008-02-07 Ntn Corp Workpiece support device and machine structure worked thereby
JP2014148026A (en) 2013-02-04 2014-08-21 Okamoto Machine Tool Works Ltd Workpiece vibration suppression device for cylindrical grinding apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016194096A (en) 2016-11-17
CN107208258B (en) 2019-06-28
JP6585913B2 (en) 2019-10-02
CN107208258A (en) 2017-09-26
TW201634179A (en) 2016-10-01
KR20170133320A (en) 2017-12-05
TWI720962B (en) 2021-03-11
WO2016157648A1 (en) 2016-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101688293B (en) Tubular sputtering target
TWI573890B (en) Method for making a target material for sputtering target and claw member
KR20160074577A (en) Method for manufacturing target material for cylindrical sputtering target and cylindrical sputtering target
KR102417294B1 (en) Machining jig and method for manufacturing sputtering target member
CN102233535A (en) Grinding process method of ultra-light narrow bearing sleeve ring
CN107335972B (en) The processing method and special equipment of the special-shaped curved revolution cavity parts of ultra-deep
KR101409635B1 (en) Method for Manufacturing Cylinder of Mold Injection Machine
CN103921203B (en) The Honing process method of Steam Turbine&#39;s Main Vaper Valve control valve endoporus
CN113752094B (en) Semiconductor insulating ring processing method
CN105397415A (en) Precision machining method for thin plane of core column assembly
CN105218107B (en) A kind of ceramic rotor class part manufacturing process method
KR102057406B1 (en) Ceramic roller guide and lift pin assembly for large display glass process and manufacturing method thereof
KR20170122732A (en) Hollow cylindrical ceramic target material, and hollow cylindrical sputtering target
TW200503883A (en) Processing method of mold insert hole
CN105290897A (en) Grinding device and grinding method for inner bores of thin-wall parts
CN107309440A (en) A kind of thin-wall bearing ferrule lathe in machining method
CN107877274B (en) Method and equipment for processing inner circle of magnet of perforated pipe
KR102661946B1 (en) Manufacturing method of a silicon carbide bearing shaft or bearing, cylinder type silicon carbide bearing shaft, and round tube type silicon carbide bearing
CN115286398B (en) Large thin-wall silicon nitride structural member and sintering method thereof
CN101890617B (en) Method for manufacturing precision pins by drawing seamless steel tubes
CN114589455B (en) Processing technology of non-magnetic bearing steel ball
CN105081894A (en) Machining process for deep holes and blind holes
JP2008246627A (en) Chamfering device, chamfering method and sintered magnet
CN109262870A (en) Diamond wire saw method for crystal bar
CN109158962A (en) Milling process

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant