KR20170132094A

KR20170132094A - 액정 조성물

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Publication number: KR20170132094A
Application number: KR1020170062567A
Authority: KR
Inventors: 다이치 후지모토; 노리유키 히다; 다츠아키 가사이
Original assignee: 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Priority date: 2016-05-23
Filing date: 2017-05-19
Publication date: 2017-12-01
Also published as: KR102145091B1; TWI701320B; US10407619B2; CN107418594B; JP6294536B2; JP2017210601A; US20170335191A1; CN107418594A; TW201816095A

Abstract

액정 화합물의 배향 결함의 발생을 억제하고, 또한, 용제에 대한 용해 시에 있어서의 보존 안정성이 우수하고, 바람직하게는 양호한 원 편광 변환 가능한 위상차 필름을 구성하는데 적합한 액정 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
주사슬에 고리 구조를 3 개 이상 갖는 중합성 액정 화합물 및 알루미늄을 포함하고, 상기 알루미늄의 함유량이 상기 중합성 액정 화합물에 대해 1 ppm 이상 170 ppm 이하인 액정 조성물.

Description

액정 조성물{LIQUID CRYSTAL COMPOSITION}

본 발명은, 액정 조성물, 그리고 상기 액정 조성물을 포함하는 위상차 필름, 편광판 및 광학 디스플레이에 관한 것이다.

플랫 패널 표시 장치 (FPD) 에 사용되는 위상차 필름 등의 광학 필름으로서, 예를 들어, 중합성 액정 화합물을 용제에 용해시켜 얻어지는 도공액을, 지지 기재에 도포 후, 중합하여 얻어지는 광학 필름이 있다. 종래, 중합성 액정 화합물로서는, 예를 들어, 6 원자 고리가 2 ∼ 4 개 연결된 봉상 구조의 네마틱 액정 화합물 등이 알려져 있다 (예를 들어, 비특허문헌 1).

한편, 위상차 필름으로서는, 그 특성의 하나로서 전체 파장 영역에 있어서 편광 변환 가능한 것이 요구되고 있고,［Re (450)/Re (550)］＜ 1 또한［Re (650)/Re (550)］＞ 1 의 역파장 분산성을 나타내는 파장역에서는, 이론 상, 균일한 편광 변환이 가능한 것이 알려져 있다. 이와 같은 위상차 필름을 구성할 수 있는 중합성 화합물로서는, 특허문헌 1 의 화합물이 알려져 있다.

일본 공개특허공보 2011-207765호

액정 편람, 액정 편람 편집 위원회 편, 2000 년, 제 312 페이지

상기 서술한 바와 같은 도공 타입의 광학 필름을 제조할 때에는, 용제에 대한 중합성 액정 화합물의 높은 용해성이 필요하게 된다. 그러나, 상기 중합성 액정 화합물은, 그 화학 구조에서 유래하여 여러 가지의 용제에 대한 용해성이 부족한 경우가 많아, 도공액의 보존 시에 중합성 액정 화합물이 결정화하여 석출되는 경우가 있고, 석출된 결정은 광학 필름의 결함의 원인이 된다. 또, 일반적으로 용제에 대한 용해성을 향상시키기 위해서, 고리형 구조를 다수 가지는 화합물에서는 장사슬의 알킬기를 도입하는 수법이 사용되지만, 중합성 액정 화합물에서는 장사슬 알킬기를 치환기로서 도입하면, 도입된 치환기에 의해 액정 화합물의 분자 배향이 흐트러져, 광학 필름에 있어서의 배향 결함을 일으키는 원인이 된다.

그래서, 본 발명은, 액정 화합물의 배향 결함의 발생을 억제하고, 또한, 용제에 대한 용해 시에 있어서의 보존 안정성이 우수하고, 바람직하게는 양호한 원 편광 변환 가능한 위상차 필름을 구성하는데 적합한 중합성 액정 화합물을 포함하는, 액정 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, 이하의 바람직한 양태［1］∼［12］를 제공하는 것이다.

［1］주사슬에 고리 구조를 3 개 이상 갖는 중합성 액정 화합물 및 알루미늄을 포함하고, 상기 알루미늄의 함유량이 상기 중합성 액정 화합물에 대해 1 ppm 이상 170 ppm 이하인 액정 조성물.

［2］아미드계 용제, 케톤계 용제, 에테르계 용제 및 에스테르계 용제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 유기 용제를 포함하는, 상기［1］에 기재된 액정 조성물.

［3］상기 중합성 액정 화합물은, 하기 식 (A) 로 나타내는 중합성 액정 화합물인, 상기［1］또는［2］에 기재된 액정 조성물.

〔식 (A) 중, m 및 n 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고,

B¹, B², D¹, D², E¹ 및 E²는, 각각 독립적으로, -CR¹R²-, -CH₂-CH₂-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -CO-NR¹-, -NR²-CO-, -O-CH₂-, -CH₂-O-, -S-CH₂-, -CH₂-S- 또는 단결합을 나타내고, R¹ 및 R²는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고,

A¹, A², G¹ 및 G²는, 각각 독립적으로, 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 그 지환식 탄화수소기 및 그 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, -R³, -OR³, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH₂- 는, -O-, -S-, -NH- 또는 -NR⁴- 로 치환되어 있어도 되고, 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH(-)- 는, -N(-)- 으로 치환되어 있어도 되고, R³ 및 R⁴는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 되고,

F¹ 및 F²는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, -OR³ 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH₂- 는, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 되고,

P¹ 및 P²는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고 (단 P¹ 및 P²중 적어도 1 개는 중합성기를 나타낸다),

Ar 은 치환되어 있어도 되는 2 가의 방향족기이며, 그 방향족기 중에, 적어도 1 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 포함한다.〕

［4］G¹ 및 G²의 양방이 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인, 상기［3］에 기재된 액정 조성물.

［5］상기 식 (A) 중의 Ar 은 π 전자를 10 개 이상 30 개 이하 갖는 방향족기인, 상기［3］또는［4］에 기재된 액정 조성물.

［6］상기 중합성 액정 화합물의 극대 흡수 파장 (λ_max) 이 300 ∼ 400 nm 인, 상기［1］∼［5］중 어느 한 항에 기재된 액정 조성물.

［7］상기 식 (A) 중의 Ar 은 복소 고리를 갖는 방향족기인, 상기［3］∼［6］중 어느 한 항에 기재된 액정 조성물.

［8］상기 복소 고리를 갖는 방향족기는 벤조티아졸기를 갖는 방향족기인, 상기［7］에 기재된 액정 조성물.

［9］상기［1］∼［8］중 어느 한 항에 기재된 액정 조성물로 구성되는 위상차 필름.

［10］하기 식 (1) 을 만족시키는, 상기［9］에 기재된 위상차 필름.

0.80 ≤ Re (450)/Re (550) ＜ 1.00 (1)

〔식 중, Re (λ) 는 파장 λnm 의 광에 대한 정면 위상차값을 나타낸다.〕

［11］상기［9］또는［10］에 기재된 위상차 필름을 포함하는 편광판.

［12］상기［11］에 기재된 편광판을 포함하는 광학 디스플레이.

본 발명에 의하면, 액정 화합물의 배향 결함의 발생을 억제하고, 또한, 용제에 대한 용해 시에 있어서의 보존 안정성이 우수한 액정 조성물을 제공할 수 있다.

본 발명의 액정 조성물은, 주사슬에 고리 구조를 3 개 이상 갖는 중합성 액정 화합물을 포함한다. 또한, 본 발명에 있어서 「주사슬」 이란, 중합성 액정 화합물의 분자 사슬에 있어서의 주요한 탄소 사슬이며, 탄소수가 최대가 되는 간(幹)에 해당하는 부분을 의미한다.

＜중합성 액정 화합물＞

본 발명의 액정 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물은, 주사슬에 3 개 이상의 고리 구조를 갖는다. 상기 중합성 액정 화합물의 주사슬에 포함될 수 있는 고리 구조로서는, 1 가 또는 2 가의 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기, 방향족 복소 고리기 등을 들 수 있다. 이들의 고리 구조는, 각각 단고리계여도 되고, 다고리계여도 된다. 또, 다고리계의 경우, 축합형의 다고리계 구조여도 되고, 집합형의 다고리계 구조여도 된다.

단고리계의 고리 구조로서는, 예를 들어 3 ∼ 20 원자 고리의 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 4 ∼ 10 원자 고리의, 보다 바람직하게는 5 원자 고리 또는 6 원자 고리의, 더욱 바람직하게는 6 원자 고리의 고리 구조의 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 벤젠 고리, 시클로헥산 고리, 피리미딘 고리, 피리다진 고리, 피라진 고리, 피리딘 고리, 피페리딘 고리, 테트라하이드로피란 고리, 디옥산 고리, 티아진 고리 등을 들 수 있다.

다고리계의 고리 구조로서는 다고리계 방향족기, 방향족 복소 고리기, 다고리계 지환식 탄화수소기 등을 들 수 있고, 복소 고리를 갖는 다고리계 방향족기가 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어 인돌기, 벤조이미다졸기, 벤조푸란기, 벤조티오펜기, 벤조티아졸기 등을 들 수 있다.

중합성 액정 화합물에 있어서의 고리 구조의 수는 3 개 이상이며, 바람직하게는 13 개 이하, 보다 바람직하게는 9 개 이하이며, 바람직하게는 5 개 이상, 더욱 바람직하게는 5 개 이상 7 개 이하이며, 특히 바람직하게는 5 개이다. 주사슬에 3 개 이상, 바람직하게는 5 개 이상의 고리 구조를 가짐으로써, 액정상의 열안정성이 높아진다. 또한, 본 발명에 있어서, 고리 구조가 다고리계의 기인 경우, 당해 기 전체를 1 개의 고리 구조로서 센다.

본 발명의 액정 화합물에 포함되는 중합성 액정 화합물은, 하기 식 (A) 로 나타내는 주사슬에 고리 구조를 3 개 이상, 나아가서는 5 개 이상 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 주사슬에는 2 고리 이상 단고리계의 고리 구조를 포함하고 있는 것이 바람직하고, 4 고리 이상 단고리계의 고리 구조를 포함하고 있는 것이 더욱 바람직하다. 중합성 액정 화합물이 하기 식 (A) 로 나타내는 화합물이면, 용제에 대한 용해성이 우수하고, 배향 결함을 발생하기 어려워, 본 발명의 원하는 효과를 보다 양호하게 발현할 수 있다.

식 (A) ：

[화학식 1]

식 (A) 중, m 및 n 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고, m 이 2 이상의 정수인 경우, 복수의 A¹ 및 B¹은, 서로 동일해도 되고 상이해도 되고, n 이 2 이상의 정수인 경우, 복수의 A² 및 B²는, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.

B¹, B², D¹, D², E¹ 및 E²는, 각각 독립적으로, -CR¹R²-, -CH₂-CH₂-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -CO-NR¹-, -NR²-CO-, -O-CH₂-, -CH₂-O-, -S-CH₂-, -CH₂-S- 또는 단결합을 나타내고, R¹ 및 R²는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.

A¹, A², G¹ 및 G²는, 각각 독립적으로, 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 그 지환식 탄화수소기 및 그 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, -R³, -OR³, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH₂- 는, -O-, -S-, -NH- 또는 -NR⁴- 로 치환되어 있어도 되고, 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH(-)- 는, -N(-)- 으로 치환되어 있어도 되고, R³ 및 R⁴는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.

F¹ 및 F²는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, -OR³ 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH₂- 는, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 된다.

P¹ 및 P²는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 중합성기를 나타낸다 (단 P¹ 및 P²중 적어도 1 개는 중합성기를 나타낸다).

Ar 은 치환되어 있어도 되는 2 가의 방향족기이며, 그 방향족기 중에, 적어도 1 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 포함한다.

식 (A) 중, m 및 n 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 중합성 액정 화합물이, 주사슬에 고리 구조를 5 개 이상 갖는 경우에, m 및 n 중 어느 일방이 0 일 때는, 타방은 2 또는 3 의 정수를 나타낸다. m 및 n 은, 바람직하게는 1 또는 2 이며, 보다 바람직하게는 1 이다. 또, 중합성 액정 화합물을 제조하기 쉽고, 제조 비용을 억제할 수 있다는 관점에서, m 및 n 은 서로 동일한 정수인 것이 바람직하다. 또한, m 및 n 이 2 또는 3 인 경우, 복수 존재하는 A 및 B 는, 각각 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 중합성 액정 화합물을 공업적으로 제조하기 쉽다는 관점에서는, 복수 존재하는 A 및 B 는, 각각 서로 동일한 것이 바람직하다.

식 (A) 중, B¹, B², D¹, D², E¹ 및 E²는, 각각 독립적으로, -CR¹R²-, -CH₂-CH₂-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -CO-NR¹-, -NR²-CO-, -O-CH₂-, -CH₂-O-, -S-CH₂-, -CH₂-S- 또는 단결합을 나타낸다. 상기 식 중, R¹ 및 R²는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.

B¹ 및 B²는, 액정상이 발현되기 쉬움의 관점에서, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -O-CH₂-, 또는 -CH₂-O- 인 것이 바람직하고, -O-, -O-CO- 또는 -CO-O- 인 것이 보다 바람직하다. 중합성 액정 화합물을 용이하게 제조하기 쉽고, 제조 비용을 억제할 수 있는 관점에서, B¹ 및 B²는 서로 동일한 것이 바람직하다. 또한, B¹ 및 B²가 서로 동일하다란, Ar 을 중심으로 하여 보았을 경우의 B¹ 및 B²의 구조가 서로 동일한 것을 의미하고, 예를 들어 B¹이 -O-CO- 인 경우에 있어서, B¹과 서로 동일한 B²란 -CO-O- 이다. 이하, D¹과 D², E¹과 E², A¹과 A², G¹과 G², F¹과 F² 및 P¹과 P² 에 있어서의 관계에 대해서도 동일하다.

D¹, D², E¹ 및 E²는, 액정상이 발현되기 쉬움의 관점에서, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -CO-NR¹- 또는 -NR²-CO- 인 것이 바람직하고, -O-, -O-CO-, 또는 -CO-O- 인 것이 보다 바람직하다. 중합성 액정 화합물을 용이하게 제조하기 쉽고, 제조 비용을 억제할 수 있는 관점에서, D¹과 D² 및 E¹과 E²가, 각각 서로 동일한 것이 바람직하다.

식 (A) 에 있어서, A¹, A², G¹ 및 G²는, 각각 독립적으로, 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 상기 2 가의 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 4 ∼ 15, 보다 바람직하게는 5 ∼ 10, 더욱 바람직하게는 5 또는 6 이다. 상기 2 가의 방향족 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 6 ∼ 18, 보다 바람직하게는 6 ∼ 16, 더욱 바람직하게는 5 또는 6 이다. 상기 지환식 탄화수소기 및 상기 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, -R³, -OR³, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 된다. 여기서, R³은, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.

탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1 또는 2 의 알킬기가 보다 바람직하고, 메틸기가 특히 바람직하다.

-OR³ 에 있어서의 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 3 의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1 또는 2 의 알콕시기가 보다 바람직하고, 메톡시기가 특히 바람직하다.

상기 2 가의 지환식 탄화수소기로서는, 시클로알칸디일기 등을 들 수 있다. 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH₂- (메틸렌기) 는, -O-, -S-, -NH- 또는 -NR⁴- 로 치환되어 있어도 되고, -CH(-)- 는, -N(-)- 으로 치환되어 있어도 된다. 여기서, R⁴는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.

2 가의 지환식 탄화수소기로서는, 하기 식 (g-1) ∼ 식 (g-4) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH₂- 가, -O-, -S-, -NH- 또는 -NR⁴- 로 치환된 2 가의 지환식 탄화수소기로서는, 하기 식 (g-5) ∼ 식 (g-8) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH(-)- 가, -N(-)- 으로 치환된 2 가의 지환식 탄화수소기로서는, 하기 식 (g-9) 및 식 (g-10) 으로 나타내는 기를 들 수 있다. 이들은, 5 원자 고리 또는 6 원자 고리의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하다.

[화학식 2]

2 가의 지환식 탄화수소기로서는, 식 (g-1) 로 나타내는 기인 것이 바람직하고, 시클로헥산-1,4-디일기인 것이 더욱 바람직하고, 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 것이 특히 바람직하다.

상기 2 가의 방향족 탄화수소기로서는, 예를 들어, 식 (a-1) ∼ 식 (a-8) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 2 가의 방향족 탄화수소기로서는, 1,4-페닐렌기가 바람직하다.

[화학식 3]

본 발명의 일실시 양태에 있어서, 본 발명의 화합물의 제조 상의 관점에서, A¹ 및 A²는, 각각 독립적으로, 2 가의 방향족 탄화수소기인 것이 바람직하다. 또, 본 발명의 일실시 양태에 있어서, 본 발명의 화합물의 제조 상의 관점에서, G¹ 및 G²는, 각각 독립적으로, 2 가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하고, 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 것이 보다 바람직하고, G¹ 및 G² 모두가 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 것이 특히 바람직하다. G¹ 및 G² 모두가 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 경우, 특히 양호한 액정성을 나타낸다. 또, 중합성 액정 화합물을 용이하게 제조하기 쉽고, 제조 비용을 억제할 수 있는 관점에서, A¹ 과 A² 및 G¹ 과 G²가, 각각 서로 동일한 것이 바람직하다.

식 (A) 에 있어서, F¹ 및 F²는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12, 바람직하게는 2 ∼ 15, 보다 바람직하게는 3 ∼ 12, 더욱 바람직하게는 4 ∼ 10 의 알칸디일기를 나타낸다. 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, -OR³ 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH₂- 는, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 된다. R³은, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다. 중합성 액정 화합물을 용이하게 제조하기 쉽고, 제조 비용을 억제할 수 있는 관점에서, F¹ 과 F²는 서로 동일한 것이 바람직하다.

식 (A) 에 있어서, P¹ 및 P²는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 중합성기를 나타낸다. 단, P¹ 및 P²중 적어도 1 개는 중합성기이며, P¹ 및 P² 모두가 중합성기인 것이 바람직하다. 중합성기란, 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 포함하는 기이다. 중합 반응에 관여할 수 있는 기로서는, 비닐기, p-(2-페닐에테닐)페닐기, 아크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일기, 메타크릴로일옥시기, 카르복실기, 메틸카르보닐기, 하이드록실기, 카르바모일기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬아미노기, 아미노기, 포르밀기, -N=C=O, -N=C=S, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다.

광 중합에 적합하다는 점에서는, 중합성기는, 라디칼 중합성기 또는 카티온 중합성기인 것이 바람직하다. 특히, 취급이나 제조가 용이하다는 점에서, 아크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일기 또는 메타크릴로일옥시기가 바람직하고, 중합성이 높다는 점에서, 아크릴로일기 또는 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.

식 (A) 에 있어서, Ar 로 나타내는 2 가의 방향족기는, 적어도 1 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 포함한다. 여기서, 본 발명에 있어서, Ar 로 나타내는 2 가의 방향족기가 「적어도 1 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 포함한다」 란, Ar 중에 이들의 헤테로 원자를 포함하고 있으면 되는 것을 의미하고, Ar 은 복소 고리를 가지고 있어도 되고, 복소 고리를 가지지 않아도 된다. Ar 로 나타내는 2 가의 방향족기는, 얻어지는 위상차 필름의 역파장 분산성 발현의 관점에서, 복소 고리를 갖는 방향족기인 것이 바람직하다. 이와 같은 방향족기로서는, 예를 들어 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 피롤 고리, 티오펜 고리, 피리딘 고리, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 페난트롤린 고리 등을 갖는 방향족기를 들 수 있다. 그 중에서도, 벤젠 고리, 티아졸 고리, 또는 벤조티아졸 고리를 갖는 방향족기가 보다 바람직하고, 벤조티아졸 고리를 갖는 방향족기가 더욱 바람직하다.

Ar 로 나타내는 방향족기는 π 전자를 갖는 것이 바람직하다. 그 방향족기에 포함되는 π 전자의 합계수 N_π는, 액정 조성물로부터 얻어지는 위상차 필름의 역파장 분산성 발현의 관점에서, 바람직하게는 10 개 이상, 보다 바람직하게는 12 개 이상, 더욱 바람직하게는 14 개 이상이며, 바람직하게는 30 개 이하, 보다 바람직하게는 25 개 이하이다.

Ar 로 나타내는 방향족기로서는, 예를 들어 이하의 기를 들 수 있다.

[화학식 4]

식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-20) 중, * 부는 연결부를 나타내고, Z^0', Z^1'및 Z^2'는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기를 나타낸다.

Q¹, Q² 및 Q³은, 각각 독립적으로, -CR⁵R⁶-, -S-, -NR⁷-, -CO- 또는 -O- 를 나타낸다.

R⁵, R⁶ 및 R⁷은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.

Y^1', Y^2'및 Y^3'는, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타낸다.

W^1'및 W^2'는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 시아노기, 메틸기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.

m 은, 0 ∼ 6 의 정수를 나타낸다.

할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 및 요오드 원자 등을 들 수 있고, 불소 원자, 염소 원자, 또는 브롬 원자가 바람직하다.

탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기 및 헥실기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 알킬기가 보다 바람직하고, 메틸기가 특히 바람직하다.

탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기로서는, 메틸술피닐기, 에틸술피닐기, 프로필술피닐기, 이소프로필술피닐기, 부틸술피닐기, 이소부틸술피닐기, sec-부틸술피닐기, tert-부틸술피닐기, 펜틸술피닐기, 헥실기 술피닐 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬술피닐기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 알킬술피닐기가 보다 바람직하고, 메틸술피닐기가 특히 바람직하다.

탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기로서는, 메틸술포닐기, 에틸술포닐기, 프로필술포닐기, 이소프로필술포닐기, 부틸술포닐기, 이소부틸술포닐기, sec-부틸술포닐기, tert-부틸술포닐기, 펜틸술포닐기, 헥실술포닐기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬술포닐기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 알킬술포닐기가 보다 바람직하고, 메틸술포닐기가 특히 바람직하다.

탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기로서는, 플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 플루오로에틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기, 노나플루오로부틸기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 플루오로알킬기가 보다 바람직하고, 트리플루오로메틸기가 특히 바람직하다.

탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 알콕시기가 보다 바람직하고, 메톡시기가 특히 바람직하다.

탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기로서는, 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 이소프로필티오기, 부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬티오기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 알킬티오기가 보다 바람직하고, 메틸티오기가 특히 바람직하다.

탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기로서는, N-메틸아미노기, N-에틸아미노기, N-프로필아미노기, N-이소프로필아미노기, N-부틸아미노기, N-이소부틸아미노기, N-sec-부틸아미노기, N-tert-부틸아미노기, N-펜틸아미노기, N-헥실아미노기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 N-알킬아미노기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 N-알킬아미노기가 보다 바람직하고, N-메틸아미노기가 특히 바람직하다.

탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기로서는, N,N-디메틸아미노기, N-메틸-N-에틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-디프로필아미노기, N,N-디이소프로필아미노기, N,N-디부틸아미노기, N,N-디이소부틸아미노기, N,N-디펜틸아미노기, N,N-디헥실아미노기 등을 들 수 있고, 탄소수 2 ∼ 8 의 N,N-디알킬아미노기가 바람직하고, 탄소수 2 ∼ 4 의 N,N-디알킬아미노기가 보다 바람직하고, N,N-디메틸아미노기가 특히 바람직하다.

탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기로서는, N-메틸술파모일기, N-에틸술파모일기, N-프로필술파모일기, N-이소프로필술파모일기, N-부틸술파모일기, N-이소부틸술파모일기, N-sec-부틸술파모일기, N-tert-부틸술파모일기, N-펜틸술파모일기, N-헥실술파모일기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 N-알킬술파모일기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 N-알킬술파모일기가 보다 바람직하고, N-메틸술파모일기가 특히 바람직하다.

탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기로서는, N,N-디메틸술파모일기, N-메틸-N-에틸술파모일기, N,N-디에틸술파모일기, N,N-디프로필술파모일기, N,N-디이소프로필술파모일기, N,N-디부틸술파모일기, N,N-디이소부틸술파모일기, N,N-디펜틸술파모일기, N,N-디헥실술파모일기 등을 들 수 있고, 탄소수 2 ∼ 8 의 N,N-디알킬술파모일기가 바람직하고, 탄소수 2 ∼ 4 의 N,N-디알킬술파모일기가 보다 바람직하고, N,N-디메틸술파모일기가 특히 바람직하다.

Z^0', Z^1'및 Z^2'는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 메틸기, 시아노기, 니트로기, 카르복실기, 메틸술포닐기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 메틸티오기, N-메틸아미노기, N,N-디메틸아미노기, N-메틸술파모일기 또는 N,N-디메틸술파모일기인 것이 바람직하다.

R⁵, R⁶ 및 R⁷ 에 있어서의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 및 2 의 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.

Q¹ 및 Q²는, 각각 독립적으로, -S-, -CO-, -NH-, -N(CH₃)- 인 것이 바람직하고, Q³은, -S-, -CO- 인 것이 바람직하다.

Y^1', Y^2'및 Y^3'에 있어서의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기 등의 탄소수 6 ∼ 20 의 방향족 탄화수소기를 들 수 있고, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다. 방향족 복소 고리기로서는, 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기 등의 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 적어도 1 개 포함하는, 탄소수 4 ∼ 20 의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 중에서도, 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기가 바람직하다.

이러한 방향족 탄화수소기 및 방향족 복소 고리기는, 적어도 1 개의 치환기를 가지고 있어도 된다. 치환기로서는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기 등을 들 수 있고, 할로겐 원자, 탄소수 1 및 2 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 및 2 의 알킬술포닐기, 탄소수 1 및 2 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 및 2 의 알콕시기, 탄소수 1 및 2 의 알킬티오기, 탄소수 1 및 2 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 4 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 및 2 의 알킬술파모일기가 바람직하다.

할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기 및 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기로서는, 앞에 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.

식 (Ar-14) ∼ (Ar-20) 중에서도, 식 (Ar-6) 및 식 (Ar-7) 이 분자의 안정성의 관점에서 바람직하다.

식 (Ar-14) ∼ (Ar-20) 에 있어서, Y^1'는, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z^0' 와 함께 방향족 복소 고리기를 형성하고 있어도 된다. 예를 들어, 피롤 고리, 이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피리미딘 고리, 인돌 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 푸린 고리, 피롤리딘 고리, 피페리딘 고리 등을 들 수 있다. 이 방향족 복소 고리기는, 치환기를 가지고 있어도 된다. 또, Y^1'는, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z^0'와 함께, 후술하는 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기여도 된다.

Y^1', Y^2'및 Y^3'는, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기여도 된다. 다고리계 방향족 탄화수소기는, 축합 다고리계 방향족 탄화수소기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다. 다고리계 방향족 복소 고리기는, 축합 다고리계 방향족 복소 고리기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다. 예를 들어, Y^1', Y^2'및 Y^3'는, 각각 독립적으로, 하기 식 (Y¹-1) ∼ 식 (Y¹-7) 로 나타내는 어느 기인 것이 바람직하고, 식 (Y¹-1) 또는 식 (Y¹-4) 로 나타내는 어느 기인 것이 보다 바람직하다.

[화학식 5]

상기 식 (Y¹-1) ∼ 식 (Y¹-7) 중, * 부는 연결부를 나타내고, Z³은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 니트록시드기, 술폰기, 술폭시드기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 티오알킬기, 탄소수 2 ∼ 8 의 N,N-디알킬아미노기 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 N-알킬아미노기를 나타낸다.

V¹ 및 V²는, 각각 독립적으로, -CO-, -S-, -NR⁸-, -O-, -Se- 또는 -SO₂- 를 나타낸다.

W¹ ∼ W⁵는, 각각 독립적으로, -C= 또는 -N= 을 나타낸다.

단, V¹, V² 및 W¹ ∼ W⁵중 적어도 하나는, S, N, O 또는 Se 를 포함하는 기를 나타낸다.

R⁸은, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.

a 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.

b 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.

식 (Y¹-1) ∼ 식 (Y¹-7) 로 나타내는 어느 기는, 하기 식 (Y²-1) ∼ 식 (Y²-16) 으로 나타내는 어느 기인 것이 바람직하고, 하기 식 (Y³-1) ∼ 식 (Y³-6) 으로 나타내는 어느 기인 것이 보다 바람직하고, 식 (Y³-1) 또는 식 (Y³-3) 으로 나타내는 기인 것이 특히 바람직하다. 또한, * 부는 연결부를 나타낸다.

[화학식 6]

식 (Y²-1) ∼ 식 (Y²-16) 중, Z³, a, b, V¹, V² 및 W¹ ∼ W⁵는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

[화학식 7]

식 (Y³-1) ∼ 식 (Y³-6) 중, Z³, a, b, V¹, V² 및 W¹은, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

Z³으로서는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 할로겐 원자, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 시아노기, 니트로기, 술폰기, 니트록시드기, 카르복실기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 티오메틸기, N,N-디메틸아미노기, N-메틸아미노기가 바람직하고, 할로겐 원자, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기가 보다 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 펜틸기, 헥실기가 특히 바람직하다.

할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기 및 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기로서는, 앞에 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.

V¹ 및 V²는, 각각 독립적으로, -S-, -NR⁸- 또는 -O- 인 것이 바람직하다.

W¹ ∼ W⁵는, 각각 독립적으로, -C= 또는 -N= 인 것이 바람직하다.

V¹, V² 및 W¹ ∼ W⁵중 적어도 하나는, S, N 또는 O 를 포함하는 기를 나타내는 것이 바람직하다.

a 는 0 또는 1 인 것이 바람직하다. b 는 0 인 것이 바람직하다.

Y^1' ∼ Y^3'의 구체예로서, 예를 들어, 하기 식 (ar-1) ∼ 식 (ar-846) 으로 나타내는 기를 들 수 있다. 또한, * 부는 연결부를 나타낸다.

[화학식 8]

[화학식 9]

[화학식 10]

[화학식 11]

[화학식 12]

[화학식 13]

[화학식 14]

[화학식 15]

[화학식 16]

[화학식 17]

[화학식 18]

[화학식 19]

[화학식 20]

[화학식 21]

[화학식 22]

[화학식 23]

[화학식 24]

[화학식 25]

[화학식 26]

[화학식 27]

[화학식 28]

[화학식 29]

[화학식 30]

[화학식 31]

[화학식 32]

[화학식 33]

[화학식 34]

[화학식 35]

[화학식 36]

[화학식 37]

[화학식 38]

[화학식 39]

[화학식 40]

[화학식 41]

[화학식 42]

[화학식 43]

[화학식 44]

[화학식 45]

[화학식 46]

[화학식 47]

[화학식 48]

[화학식 49]

[화학식 50]

[화학식 51]

[화학식 52]

[화학식 53]

[화학식 54]

[화학식 55]

[화학식 56]

[화학식 57]

[화학식 58]

[화학식 59]

[화학식 60]

[화학식 61]

[화학식 62]

[화학식 63]

[화학식 64]

[화학식 65]

[화학식 66]

[화학식 67]

[화학식 68]

[화학식 69]

[화학식 70]

[화학식 71]

[화학식 72]

[화학식 73]

[화학식 74]

[화학식 75]

[화학식 76]

[화학식 77]

[화학식 78]

[화학식 79]

[화학식 80]

[화학식 81]

[화학식 82]

[화학식 83]

[화학식 84]

[화학식 85]

[화학식 86]

[화학식 87]

[화학식 88]

[화학식 89]

[화학식 90]

[화학식 91]

[화학식 92]

[화학식 93]

[화학식 94]

[화학식 95]

[화학식 96]

[화학식 97]

[화학식 98]

[화학식 99]

[화학식 100]

[화학식 101]

[화학식 102]

[화학식 103]

[화학식 104]

[화학식 105]

[화학식 106]

[화학식 107]

[화학식 108]

[화학식 109]

[화학식 110]

[화학식 111]

[화학식 112]

[화학식 113]

[화학식 114]

[화학식 115]

[화학식 116]

[화학식 117]

[화학식 118]

[화학식 119]

[화학식 120]

[화학식 121]

[화학식 122]

[화학식 123]

[화학식 124]

[화학식 125]

[화학식 126]

[화학식 127]

[화학식 128]

식 (A) 로 나타내는 중합성 액정 화합물로서는, 구체적으로, 예를 들어 이하의 화합물을 들 수 있다. 또한, 본 발명의 액정 조성물은, 중합성 액정 화합물로서, 1 종의 중합성 액정 화합물만을 포함하고 있어도 되고, 2 종 이상의 중합성 액정 화합물을 포함하고 있어도 된다.

[화학식 129]

[화학식 130]

[화학식 131]

[화학식 132]

[화학식 133]

[화학식 134]

[화학식 135]

[화학식 136]

[화학식 137]

[화학식 138]

[화학식 139]

[화학식 140]

[화학식 141]

[화학식 142]

[화학식 143]

[화학식 144]

[화학식 145]

[화학식 146]

[화학식 147]

[화학식 148]

[화학식 149]

[화학식 150]

[화학식 151]

[화학식 152]

[화학식 153]

[화학식 154]

[화학식 155]

[화학식 156]

[화학식 157]

[화학식 158]

[화학식 159]

[화학식 160]

[화학식 161]

[화학식 162]

[화학식 163]

본 발명에 있어서, 중합성 액정 화합물의 극대 흡수 파장 (λ_max) 은, 바람직하게는 300 ∼ 400 nm, 보다 바람직하게는 315 ∼ 385 nm, 더욱 바람직하게는 320 ∼ 380 nm 이다. 중합성 액정 화합물의 극대 흡수 파장 (λ_max) 이 상기 하한치 이상이면, 액정 조성물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 구성되는 위상차 필름은 역파장 분산성을 나타내기 쉬운 경향이 있다. 중합성 액정 화합물의 극대 흡수 파장 (λ_max) 이 상기 상한치 이하이면, 가시 광역에서의 흡수가 억제되기 때문에 필름에 대한 착색을 억제할 수 있다.

상기 중합성 액정 화합물의 제조 방법은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, Methoden der Organischen Chemie, Organic Reactions, Organic Syntheses, Comprehensive Organic Synthesis, 신실험 화학 강좌 등에 기재되어 있는 공지된 유기 합성 반응 (예를 들어, 축합 반응, 에스테르화 반응, 윌리엄슨 반응, 울만 반응, 비티히 반응, 시프 염기 생성 반응, 벤질화 반응, 소노가시라 반응, 스즈키-미야우라 반응, 네기시 반응, 쿠마다 반응, 히야마 반응, 부흐발트-하트위그 반응, 프리델 크래프트 반응, 헥크 반응, 알돌 반응 등) 을, 그 구조에 따라, 적절히 조합함으로써 제조할 수 있다.

구체적으로는, 예를 들어, 상기 중합성 액정 화합물의 1 종인 하기 식 (A-1) ：

[화학식 164]

로 나타내는 중합성 액정 화합물 (식 중의 m = n 인 경우) 은,

식 (B) ：

[화학식 165]

로 나타내는 알코올 화합물 (B) 와,

식 (C) ：

[화학식 166]

로 나타내는 카르복실산 화합물 (C) 의 에스테르화 반응을 실시함으로써 제조할 수 있다. 또한, 상기 식 (A-1), (B) 및 (C) 에 있어서의 Ar, A¹, B¹, E¹, F¹, G¹, P¹, m, n 은, 상기에서 규정된 것과 동일하다.

알코올 화합물 (B) 로서는, 방향족기 Ar 에 대해 2 개의 하이드록실기가 결합한 화합물이면 된다. 방향족기 Ar 로서는, 앞에 규정한 것과 동일하고, 예를 들어, 상기 식 (Ar-1) ∼ (Ar-20) 에 있어서 2 개의 * 부가 하이드록실기인 화합물을 들 수 있다.

카르복실산 (C) 는, 단독으로 이용되어도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 2 종 이상의 카르복실산 화합물 (C) 를 사용하는 경우, Ar 을 중심으로 하여 좌우의 구조가 상이한 중합성 액정 화합물을 얻을 수 있다. 카르복실산 화합물 (C) 는, 예를 들어 이하의 식 (R-1) ∼ 식 (R-104) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.

식 (R-1) ∼ 식 (R-104) 에 있어서의 n 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타낸다. 또 시클로헥산 고리는 트랜스체인 것이 바람직하다.

[화학식 167]

[화학식 168]

[화학식 169]

[화학식 170]

[화학식 171]

[화학식 172]

[화학식 173]

[화학식 174]

알코올 화합물 (B) 와 카르복실산 화합물 (C) 의 에스테르화 반응은, 바람직하게는 축합제의 존재하에 있어서 이루어진다. 축합제의 존재하에서 에스테르화 반응을 실시함으로써, 에스테르화 반응을 효율적으로 신속하게 실시할 수 있다.

축합제로서는, 1-시클로헥실-3-(2-모르폴리노에틸)카르보디이미드메토-파라-톨루엔술포네이트, 디시클로헥실카르보디이미드, 디이소프로필카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염 (수용성 카르보디이미드 ： WSC 로서 시판), 비스(2,6-디이소프로필페닐)카르보디이미드 및, 비스(트리메틸실릴)카르보디이미드 등의 카르보디이미드 화합물, 2-메틸-6-니트로벤조산 무수물, 2,2'-카르보닐비스-1H-이미다졸, 1,1'-옥살릴디이미다졸, 디페닐포스포릴아지드, 1(4-니트로벤젠술포닐)-1H-1,2,4-트리아졸, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리피롤리디노포스포늄헥사플루오로포스페이트, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리스(디메틸아미노)포스포늄헥사플루오로포스페이트, N,N,N',N'-테트라메틸-O-(N-숙신이미딜)우로늄테트라플루오로보레이트, N-(1,2,2,2-테트라클로로에톡시카르보닐옥시)숙신이미드, N-카르보벤족시숙신이미드, O-(6-클로로벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄테트라플루오로보레이트, O-(6-클로로벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄헥사플루오로포스페이트, 2-브로모-1-에틸피리디늄테트라플루오로보레이트, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄헥사플루오로포스페이트, 2-클로로-1-메틸피리디늄아이오다이드, 2-클로로-1-메틸피리디늄파라-톨루엔술포네이트, 2-플루오로-1-메틸피리디늄파라-톨루엔술포네이트 그리고, 트리클로로아세트산펜타클로로페닐에스테르 등을 들 수 있다.

축합제는, 바람직하게는, 카르보디이미드 화합물, 2,2'-카르보닐비스-1H-이미다졸, 1,1'-옥살릴디이미다졸, 디페닐포스포릴아지드, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리피롤리디노포스포늄헥사플루오로포스페이트, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리스(디메틸아미노)포스포늄헥사플루오로포스페이트, N,N,N',N'-테트라메틸-O-(N-숙신이미딜)우로늄테트라플루오로보레이트, N-(1,2,2,2-테트라클로로에톡시카르보닐옥시)숙신이미드, O-(6-클로로벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄헥사플루오로포스페이트, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄헥사플루오로포스페이트, 2-클로로-1-메틸피리디늄아이오다이드 및, 2-클로로-1-메틸피리디늄파라-톨루엔술포네이트이다.

축합제는, 보다 바람직하게는, 카르보디이미드 화합물, 2,2'-카르보닐비스-1H-이미다졸, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리피롤리디노포스포늄헥사플루오로포스페이트, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리스(디메틸아미노)포스포늄헥사플루오로포스페이트, N,N,N',N'-테트라메틸-O-(N-숙신이미딜)우로늄테트라플루오로보레이트, O-(6-클로로벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄헥사플루오로포스페이트, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드 및, 2-클로로-1-메틸피리디늄아이오다이드이며, 더욱 바람직하게는, 경제성의 관점에서, 카르보디이미드 화합물이다.

카르보디이미드 화합물 중에서도, 바람직하게는, 디시클로헥실카르보디이미드, 디이소프로필카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염 (수용성 카르보디이미드 ： WSC 로서 시판) 및, 비스(2,6-디이소프로필페닐)카르보디이미드이다.

축합제의 사용량은, 알코올 화합물 (B) 1 몰에 대해, 통상적으로 2 ∼ 4 몰이다.

에스테르화 반응에서는, 추가로, N-하이드록시숙신이미드, 벤조트리아졸, 파라니트로페놀, 3,5-디부틸-4-하이드록시톨루엔 등을 첨가제로서 첨가하여 혼합해도 된다. 첨가제의 사용량은, 축합제 1 몰에 대해, 바람직하게는 0.01 ∼ 1.5 몰이다.

에스테르화 반응은, 촉매의 존재하에서 실시해도 된다. 촉매로서는, N,N-디메틸아미노피리딘, N,N-디메틸아닐린, 디메틸암모늄펜타플루오로벤젠술포네이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N,N-디메틸아미노피리딘 및, N,N-디메틸아닐린이 바람직하고, N,N-디메틸아미노피리딘이 보다 바람직하다. 촉매의 사용량은, 알코올 화합물 (B) 1 몰에 대해, 바람직하게는 0.01 ∼ 0.5 몰이다.

에스테르화 반응은, 통상적으로, 용제 중에서 이루어진다. 용제로서는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤 또는 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제 ； 펜탄, 헥산 또는 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제 ； 톨루엔, 자일렌, 벤젠 또는 클로로벤젠 등의 방향족 탄화수소 용제 ； 아세토니트릴 등의 니트릴계 용제 ； 테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르계 용제 ； 락트산에틸 등의 에스테르계 용제 ； 클로로포름, 디클로로메탄 등의 할로겐화 탄화수소 용제 ； 디메틸술폭시드, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 헥사메틸포스포릭트리아미드 등의 비프로톤성 극성 용제 ； 등을 들 수 있다. 이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합하여 사용해도 된다.

용제는, 반응 수율이나 생산성의 관점에서, 바람직하게는 펜탄, 헥산, 헵탄, 톨루엔, 자일렌, 벤젠, 클로로벤젠, 클로로포름, 디클로로메탄 등의 비극성 유기 용제이며, 보다 바람직하게는 톨루엔, 자일렌, 벤젠, 클로로벤젠, 클로로포름 및 디클로로메탄이다.

카르복실산 화합물 (C) 의 사용량은, 알코올 화합물 (B) 1 몰에 대해, 바람직하게는 2 ∼ 10 몰, 보다 바람직하게는 2 ∼ 5 몰이며, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 3 몰이다.

용제의 사용량은, 알코올 화합물 (B) 와 카르복실산 화합물 (C) 의 합계 1 질량부에 대해, 바람직하게는 0.5 ∼ 50 질량부이며, 보다 바람직하게는 1 ∼ 20 질량부이며, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 10 질량부이다.

에스테르화 반응의 온도는, 반응 수율이나 생산성의 관점에서, 바람직하게는 -20 ∼ 120 ℃ 이며, 보다 바람직하게는 -20 ∼ 60 ℃ 이며, 더욱 바람직하게는 -10 ∼ 20 ℃ 이다. 또, 에스테르화 반응의 시간은, 반응 수율이나 생산성의 관점에서, 바람직하게는 1 분 ∼ 72 시간이며, 보다 바람직하게는 1 ∼ 48 시간이며, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 24 시간이다. 얻어진 현탁액으로부터, 여과나 데칸테이션 등의 방법에 의해 중합성 액정 화합물을 얻을 수 있다.

＜액정 조성물＞

본 발명의 액정 조성물은, 상기 중합성 액정 화합물에 추가하여 알루미늄을 포함한다. 본 발명의 액정 조성물에 있어서, 알루미늄은 촉매로서 작용하고, 액정 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물에 기초하여 중합체가 형성된다. 이로써 본 발명의 액정 조성물은, 용제에 대한 용해 시, 중합성 액정 화합물 및 그 중합체가 용해된 용액에 있어서, 중합체가 중합성 액정 화합물의 용매화를 향상시켜 과포화 상태를 안정화시킬 수 있다고 생각된다. 이 때문에, 본 발명의 액정 조성물은, 장기 보존에 있어서도 중합성 액정 화합물의 석출을 억제할 수 있어, 보존 안정성이 우수하다.

일반적으로 용제에 대한 용해성을 향상시키기 위해서, 고리형 구조를 다수 가지는 화합물에서는 장사슬의 알킬기를 도입하는 수법이 사용되지만, 중합성 액정 화합물에 있어서 장사슬 알킬기를 치환기로서 도입하면, 도입되는 치환기의 존재에 의해 액정 화합물의 분자의 배향이 흐트러지기 때문에, 광학 필름에 있어서의 배향 결함의 원인이 된다. 본 발명의 액정 조성물에 있어서는, 장사슬 알킬기 등의 치환기를 도입하는 일 없이, 알루미늄을 촉매로 하여, 중합성 액정 화합물로부터 그 중합체가 형성되고, 단량체로서의 중합성 액정 화합물과 그 중합체가 존재함으로써 중합성 액정 화합물의 석출을 억제할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 액정 조성물은, 배향 결함을 발생하기 어렵고, 또한 높은 보존 안정성을 실현할 수 있다.

본 발명의 액정 조성물에 포함되는 알루미늄의 형태는, 특별히 한정되는 것이 아니고, 단체의 알루미늄이거나, 알루미늄 합금이거나, 3 가의 알루미늄 화합물이어도 된다. 알루미늄 합금으로서는, 예를 들어, 알루미늄-구리계 합금, 알루미늄-규소계 합금, 알루미늄-니켈계 합금, 알루미늄-철계 합금, 알루미늄-마그네슘계 합금 등을 들 수 있고, 3 가의 알루미늄 화합물로서는, 예를 들어, 염화알루미늄, 산화알루미늄, 인화알루미늄, 질산알루미늄, 수산화알루미늄, 인산알루미늄, 규산알루미늄, 황산알루미늄 등을 들 수 있다. 이들 알루미늄 화합물은, 단독으로 포함되어 있어도 되고, 2 종 이상이 포함되어 있어도 되고, 단체 알루미늄과 알루미늄 합금과 알루미늄 화합물이 포함되어 있어도 된다.

본 발명의 액정 조성물에 포함되는 알루미늄은, 액정 조성물을 조제할 때에 소정의 농도가 되도록 첨가된 것이어도 되고, 또, 중합성 액정 화합물이나 액정 조성물을 조제하는 과정에 있어서 사용한 알루미늄에서 유래하는 것이어도 되고, 사용한 원료 중에 함유되어, 이 원료를 통하여 반입되는 알루미늄에서 유래하는 것이어도 된다.

본 발명의 액정 조성물에 있어서, 알루미늄의 함유량은, 액정 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물에 대해 1 ppm 이상이며 170 ppm 이하이다. 알루미늄의 함유량이 1 ppm 미만이면, 알루미늄이 촉매로서 충분히 작용할 수 없어, 중합성 액정 화합물의 중합체를 생성하는 것이 곤란해질 우려가 있다. 한편, 알루미늄의 함유량이 170 ppm 을 초과하면, 중합 반응이 너무 진행되어, 액정 조성물이 겔상이 되는 경향이 있어, 지지 기재 등에 도포하는 것이 곤란해질 우려가 있다. 본 발명의 액정 조성물에 있어서, 알루미늄의 함유량의 하한치는, 바람직하게는 1 ppm 이상, 보다 바람직하게는 2 ppm 이상, 더욱 바람직하게는 5 ppm 이상이다. 또, 상한치는, 바람직하게는 170 ppm 이하, 보다 바람직하게는 160 ppm 이하, 더욱 바람직하게는 110 ppm 이하이다. 알루미늄의 함유량이 상기 범위 내에 있으면, 장기간의 보존 안정성이 우수한 액정 조성물을 얻을 수 있다. 알루미늄의 함유량은, 실시예의 난에 기재하는 ICP (유도 결합 플라즈마) 발광 분석법에 의해 알루미늄 원소의 함유량으로서 측정된다.

본 발명의 액정 조성물은, 중합 반응을 효율적으로 진행시키기 위해, 유기 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 본 발명의 액정 조성물에 함유할 수 있는 유기 용제로서는, 중합성 액정 화합물 등을 용해할 수 있는 유기 용제이며, 중합 반응에 불활성인 용제이면 된다.

이와 같은 유기 용제로서는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 또는 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 ； 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, 감마-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 또는 락트산에틸 등의 에스테르계 용제 ； 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤 또는 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제 ； 펜탄, 헥산 또는 헵탄 등의 비염소계 지방족 탄화수소 용제 ； 톨루엔, 자일렌 또는 페놀 등의 비염소계 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴계 용제 ； 테트라하이드로푸란 또는 디메톡시에탄 등의 에테르계 용제 ； 클로로포름 또는 클로로벤젠 등의 염소계 용제 ； N-메틸피롤리돈 (NMP) 또는 N,N-디메틸포름아미드 (DMF) 등의 아미드계 용제 등을 들 수 있고, 에스테르계 용제, 케톤계 용제, 비염소계 방향족 탄화수소 용제, 에테르계 용제 및 아미드계 용제가 바람직하고, 케톤계 용제 및 아미드계 용제가 보다 바람직하고, 아미드계 용제가 더욱 바람직하다. 이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합하여 사용해도 된다.

본 발명의 액정 조성물에 있어서의 유기 용제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해, 바람직하게는 100 ∼ 10000 질량부, 보다 바람직하게는 200 ∼ 5000 질량부, 더욱 바람직하게는 500 ∼ 2500 질량부이다. 유기 용제의 함유량이 상기 범위 내이면, 얻어지는 광학 필름 (위상차 필름) 이 지나치게 얇아지지 않아, 액정 패널의 광학 보상을 위해서 필요한 복굴절률을 갖는 광학 필름을 얻기 쉬운 경향이 있다.

또, 본 발명의 액정 조성물은 여러 가지의 유기 용제에 대한 용해성이 우수하다. 이 때문에, 본 발명의 액정 조성물은 용제에 대한 용해 시에 있어서의 보존 안정성이 우수함과 함께, 도공 시 및 보존 시 등에 사용하는 유기 용제의 양을 줄일 수 있는 점에 있어서도 유리하다. 예를 들어, 용제로서 N-메틸피롤리돈을 사용한 경우, 용제의 함유량이 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해, 예를 들어 2500 질량부 이하, 예를 들어 1500 질량부 이하, 특히 1000 질량부 이하여도 장기간 (예를 들어, 24 시간 이상, 바람직하게는 72 시간 이상) 에 걸쳐 중합성 액정 화합물의 석출을 억제할 수 있다.

본 발명의 액정 화합물은, 예를 들어, 중합성 액정 화합물, 알루미늄, 및 유기 용제를 혼합함으로써 얻을 수 있다. 중합성 액정 화합물을 용이하게 유기 용제에 용해시킬 수 있음과 함께, 알루미늄을 촉매로서 중합성 액정 화합물의 중합 반응이 효율적으로 진행되기 위해서, 중합성 액정 화합물, 알루미늄 및 유기 용제의 혼합 시 또는 혼합 후에 가열하는 것이 바람직하다. 이와 같은 가열을 실시하는 경우, 가열 온도나 가열 시간은, 소망하는 양이나 분자량의 중합체를 형성할 수 있도록 적절히 결정하면 된다. 본 발명의 일실시 양태에 있어서, 가열 온도는, 예를 들어 40 ∼ 200 ℃ 이며, 바람직하게는 45 ∼ 150 ℃, 보다 바람직하게는 50 ∼ 100 ℃ 이다. 또, 가열 시간은, 예를 들어 1 분 ∼ 24 시간, 바람직하게는 1 ∼ 12 시간, 보다 바람직하게는 1 ∼ 8 시간이다.

상기 가열은, 구체적으로는, 예를 들어, 바이알관에 액정 조성물, 용제, 교반자를 주입하고, 카루셀을 사용하여 교반함으로써 실시할 수 있다.

본 발명의 액정 조성물에 있어서, 알루미늄의 존재하, 중합성 액정 화합물로부터 형성되는 중합체는, 바람직하게는 5000 ∼ 100000 의, 보다 바람직하게는 8000 ∼ 80000 의, 더욱 바람직하게는 10000 ∼ 60000 의, 겔 침투 크로마토그래피 (GPC) 에 의해 측정된 중량 평균 분자량 (Mw) 을 갖는 것이 바람직하다. 중합성 액정 화합물로부터 형성되는 중합체의 중량 평균 분자량이 상기 범위 내에 있으면, 액정 조성물이 겔상이 되기 어렵고, 지지 기재 등에 대한 도포에 지장을 초래하기 어려워진다.

본 발명의 액정 조성물은, 겔 침투 크로마토그래피 (GPC) 에 의해 측정된 면적 백분율치에 있어서, 액정 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물과 형성된 중합체의 전체 피크 면적에 대해, 중합체의 면적 백분율치가 바람직하게는 0.1 ％ 이상 30 ％ 이하, 보다 바람직하게는 0.2 ％ 이상 25 ％ 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 ％ 이상 20 ％ 이하, 특히 바람직하게는 0.4 ％ 이상 16 ％ 이하가 되는 양의 중합체를 포함한다. 형성된 중합체의 면적 백분율치가 상기 하한치 이상이면, 보존 시에 중합성 액정 화합물이 석출되기 어려워져, 본 발명의 액정 조성물을 여러 가지의 용제에 용해시킨 경우에 있어서, 장기간 (예를 들어, 24 시간 이상, 바람직하게는 72 시간 이상) 에 걸쳐 중합성 액정 화합물의 석출을 억제할 수 있다. 또, 상기 상한치 이하이면, 액정 조성물이 겔상이 되기 어려워, 지지 기재 등에 대한 도포에 지장을 잘 초래하지 않는다. 또한, 상기 면적 백분율치는, GPC (폴리스티렌 표준) 를 사용하여, 하기 식에서 산출한 값이다.

본 발명의 액정 조성물의 극대 흡수 파장 (λ_max) 은, 바람직하게는 300 ∼ 400 nm, 보다 바람직하게는 315 ∼ 385 nm, 더욱 바람직하게는 320 ∼ 380 nm 이다. 액정 조성물의 극대 흡수 파장 (λ_max) 이 상기 하한치 이상이면, 액정 조성물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 구성되는 위상차 필름은 역파장 분산성을 나타내기 쉬운 경향이 있다. 액정 조성물의 극대 흡수 파장 (λ_max) 이 상기 상한치 이하이면, 가시광역에서의 흡수가 억제되기 때문에 필름에 대한 착색을 억제할 수 있다.

본 발명의 일실시 양태에 있어서, 상기 액정 조성물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 구성되는 위상차 필름 (이하, 「본 발명의 위상차 필름」 이라고도 한다) 이 제공된다. 본 발명의 위상차 필름은 하기 식 (1) 의 파장 분산도 Re (450 nm)/Re (550 nm) 를 만족시키는 것이 바람직하다.

0.80 ≤ Re (450)/Re (550) ＜ 1.00 (1)

[식 (1) 중, Re (λ) 는 파장 λnm 의 광에 대한 정면 위상차값을 나타낸다.]

본 발명의 위상차 필름의 파장 분산도 Re (450 nm)/Re (550 nm) 는, 보다 바람직하게는 0.8 이상 0.97 미만, 더욱 바람직하게는 0.8 이상 0.96 미만이다. 본 발명의 위상차 필름의 파장 분산도 Re (450 nm)/Re (550 nm) 가 상기 하한치 이상이면, 450 nm 부근의 단파장역에 있어서 원 편광 변환이 가능해지기 때문에 바람직하다. 본 발명의 위상차 필름의 파장 분산도 Re (450 nm)/Re (550 nm) 가 상기 상한치 미만이면, 얻어지는 위상차 필름이 역파장 분산성을 나타내기 때문에 바람직하다.

본 발명의 위상차 필름은, 투명성이 우수하고, 여러 가지 광학 디스플레이에 있어서 사용할 수 있다. 그 위상차 필름의 두께는, 0.1 ∼ 10 ㎛ 인 것이 바람직하고, 광 탄성을 작게 하는 점에서 0.5 ∼ 3 ㎛ 인 것이 더욱 바람직하다.

본 발명의 위상차 필름을 λ／4 판으로 사용하는 경우에는, 얻어지는 위상차 필름의, 파장 550 nm 에 있어서의 위상차값 (Re (550 nm)) 이 바람직하게는 113 ∼ 163 nm, 보다 바람직하게는 130 ∼ 150 nm, 특히 바람직하게는 약 135 nm ∼ 150 nm 이도록, 위상차 필름의 막두께를 조정하면 된다.

본 발명의 위상차 필름을 VA (Vertical Alignment) 모드용 광학 필름으로서 사용하기 위해서는, Re (550 nm) 를 바람직하게는 40 ∼ 100 nm, 보다 바람직하게는 60 ∼ 80 nm 정도가 되도록, 위상차 필름의 막두께를 조정하면 된다.

본 발명의 위상차 필름을 편광 필름과 조합함으로써, 편광판 (이하, 「본 발명의 편광판」 이라고도 한다), 특히 타원 편광판 및 원 편광판이 제공된다. 이들 타원 편광판 및 원 편광판에 있어서는, 편광 필름에 본 발명의 위상차 필름이 첩합(貼合)되어 있다. 또, 본 발명에 있어서는, 그 타원 편광판 또는 원 편광판에 추가로 본 발명의 위상차 필름을 광대역 λ／4 판으로서 첩합시킨 광대역 원 편광판도 제공할 수 있다.

본 발명의 일실시 양태에 있어서, 본 발명의 편광판을 포함하는 광학 디스플레이, 예를 들어, 반사형 액정 디스플레이 및 유기 일렉트로 루미네선스 (EL) 디스플레이에 사용할 수 있다. 상기 FPD 는, 특별히 한정되는 것이 아니고, 예를 들어 액정 표시 장치 (LCD) 나 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다.

본 발명에 있어서 광학 디스플레이는, 본 발명의 편광판을 구비하는 것이며, 예를 들어 본 발명의 편광판과 액정 패널이 첩합된 첩합품을 구비하는 액정 표시 장치나, 본 발명의 편광판과 발광층이 첩합된 유기 EL 패널을 구비하는 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다.

또한, 본 발명에 있어서 위상차 필름이란, 직선 편광을 원 편광이나 타원 편광으로 변환하거나, 반대로 원 편광 또는 타원 편광을 직선 편광으로 변환하거나 하기 위해서 사용되는 필름이다. 본 발명의 위상차 필름은, 본 발명의 액정 조성물의 중합체를 포함하는 것이다. 즉, 본 발명의 위상차 필름은, 중합성 액정 화합물에서 유래하는 구조 단위로 구성되는 중합체를 포함하는 것이다.

본 발명의 위상차 필름은, 예를 들어, 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다.

먼저, 본 발명의 액정 조성물에, 필요에 따라, 중합 개시제, 중합 금지제, 광 증감제 또는 레벨링제 등의 첨가제를 첨가하여, 혼합 용액을 조제한다.

〔중합 개시제〕

본 발명의 액정 조성물은, 얻어진 위상차 필름을 경화하는 기능을 갖는 점에서 중합 개시제를 포함하고 있어도 된다. 중합 개시제로서는, 중합성 액정 화합물의 중합을 개시하는 능력을 갖는 한 특별히 제한되는 것이 아니고, 공지된 중합 개시제 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서, 중합 개시제로서는, 광 중합 개시제 및 열 중합 개시제 등을 들 수 있고, 광 중합 개시제인 것이 바람직하다.

광 중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인류, 벤조페논류, 벤질케탈류, α-하이드록시케톤류, α-아미노케톤류, 요오드늄염 또는 술포늄염 등을 들 수 있고, 보다 구체적으로는, 이르가큐어 (Irgacure) 907, 이르가큐어 184, 이르가큐어 651, 이르가큐어 819, 이르가큐어 250, 이르가큐어 369 (이상, 모두 치바·재팬 주식회사 제조), 세이쿠오르 BZ, 세이쿠오르 Z, 세이쿠오르 BEE (이상, 모두 세이코 화학 주식회사 제조), 카야 큐어 (kayacure) BP100 (닛폰 화약 주식회사 제조), 카야 큐어 UVI-6992 (다우사 제조), 아데카옵토머 SP-152 또는 아데카옵토머 SP-170 (이상, 모두 주식회사 ADEKA 제조) 등을 들 수 있다.

본 발명의 액정 조성물에 있어서의 중합 개시제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해, 예를 들어 0.1 ∼ 30 질량부이며, 바람직하게는 0.5 ∼ 20 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부이다. 중합 개시제의 함유량이 상기 범위 내이면, 액정 화합물의 배향성을 흐트러뜨리지 않고, 중합성 액정 화합물을 중합시킬 수 있다.

〔중합 금지제〕

본 발명의 위상차 필름을 조제할 때에, 중합 금지제를 사용해도 된다. 중합 금지제로서는, 예를 들어 하이드로퀴논 또는 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 하이드로퀴논류, 부틸카테콜 등의 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 카테콜류, 피로갈롤류, 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시라디칼 등의 라디칼 포착제, 티오페놀류, β-나프틸아민류 또는 β-나프톨류 등을 들 수 있다.

중합 금지제를 사용함으로써, 중합성 액정 화합물의 중합을 제어할 수 있고, 얻어지는 위상차 필름의 안정성을 향상시킬 수 있다. 중합 금지제의 사용량은, 예를 들어 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해, 0.1 ∼ 30 질량부이며, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부이다. 상기 범위 내이면, 액정 화합물의 배향성을 흐트러뜨리지 않고, 중합성 액정 화합물을 중합시킬 수 있다.

〔광 증감제〕

또 본 발명의 위상차 필름을 조제할 때에, 광 증감제를 사용해도 된다. 광 증감제로서는, 예를 들어 크산톤 또는 티오크산톤 등의 크산톤류, 안트라센 또는 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 안트라센류, 페노티아진 혹은 루브렌을 들 수 있다.

광 증감제를 사용함으로써, 중합성 액정 화합물의 중합을 고감도화할 수 있다. 광 증감제의 사용량으로서는, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해, 예를 들어 0.1 ∼ 30 질량부이며, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부이다. 상기 범위 내이면, 액정 화합물의 배향성을 흐트러뜨리지 않고, 중합성 액정 화합물을 중합시킬 수 있다.

〔레벨링제〕

추가로 본 발명의 위상차 필름을 조제할 때에, 레벨링제를 사용해도 된다. 레벨링제로서는, 예를 들어 방사선 경화 도료용 첨가제 (빅케미 재팬 제조 ： BYK-352, BYK-353, BYK-361N), 도료 첨가제 (토오레·다우코닝 주식회사 제조 ： SH28PA, DC11PA, ST80PA), 도료 첨가제 (신에츠 화학공업 주식회사 제조 ： KP321, KP323, X22-161A, KF6001) 또는 불소계 첨가제 (다이닛폰 잉크 화학공업 주식회사 제조 ： F-445, F-470, F-479) 등을 들 수 있다.

레벨링제를 사용함으로써, 얻어지는 위상차 필름을 평활화할 수 있다. 또한 위상차 필름의 제조 과정에서, 액정 조성물을 함유하는 혼합 용액의 유동성을 제어하거나, 중합성 액정 화합물을 중합하여 얻어지는 위상차 필름의 가교 밀도를 조정하거나 할 수 있다. 또 레벨링제의 사용량의 구체적인 수치는, 예를 들어 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해, 0.1 ∼ 30 질량부이며, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부이다. 상기 범위 내이면, 액정 화합물의 배향성을 흐트러뜨리지 않고, 중합성 액정 화합물을 중합시킬 수 있다.

본 발명의 액정 조성물을 함유하는 혼합 용액의 점도는, 도포하기 쉽도록, 예를 들어 10 Pa·s 이하, 바람직하게는 0.1 ∼ 7 Pa·s 정도로 조정되는 것이 바람직하다. 또한, 혼합 용액의 점도는, 유기 용제의 함유량에 의해 조정할 수 있다.

또, 상기 혼합 용액에 있어서의 고형분의 농도는, 예를 들어 5 ∼ 50 질량％ 이며, 바람직하게는 5 ∼ 30 ％, 보다 바람직하게는 5 ％ ∼ 15 ％ 이다. 또한, 여기서 말하는 「고형분」 이란, 혼합 용액 (액정 조성물) 에서 용제를 제외한 성분을 말한다. 고형분의 농도가 5 ％ 이상이면, 위상차 필름이 지나치게 얇아지지 않아, 액정 패널의 광학 보상에 필요한 복굴절률이 부여되는 경향이 있다. 또 50 ％ 이하이면, 혼합 용액의 점도가 낮은 점에서, 위상차 필름의 막두께에 불균일이 생기기 어려워지는 경향이 있는 점에서 바람직하다.

계속해서 지지 기재에, 지지 기재 위에, 본 발명의 액정 조성물을 함유하는 혼합 용액을 도포하고, 건조시키면, 미중합 필름이 얻어진다. 미중합 필름이 네마틱상 등의 액정상을 나타내는 경우, 얻어지는 위상차 필름은, 모노 도메인 배향에 의한 복굴절성을 갖는다. 미중합 필름은 0 ∼ 120 ℃ 정도, 바람직하게는, 25 ∼ 80 ℃ 의 저온에서 배향하는 점에서, 배향막으로서 내열성에 관해서 반드시 충분한 것은 아닌 지지 기재를 사용할 수 있다. 또, 배향 후 다시 30 ∼ 10 ℃ 정도로 냉각시켜도 결정화되는 일이 없기 때문에, 취급이 용이하다.

또한, 혼합 용액의 도포량이나 농도를 적절히 조정함으로써, 원하는 위상차를 부여하도록 막두께를 조정할 수 있다. 중합성 액정 화합물의 양이 일정한 혼합 용액의 경우, 얻어지는 위상차 필름의 위상차값 (리타데이션값, Re (λ)) 은, 식 (I) 과 같이 결정되는 점에서, 원하는 Re (λ) 를 얻기 위해서, 막두께 d 를 조정해도 된다.

Re (λ) = d × Δn (λ) (I)

(식 중, Re (λ) 는, 파장 λnm 에 있어서의 위상차값을 나타내고, d 는 막두께를 나타내고, Δn (λ) 은 파장 λnm 에 있어서의 복굴절률을 나타낸다.)

지지 기재에 대한 도포 방법으로서는, 예를 들어 압출 코팅법, 다이렉트 그라비아 코팅법, 리버스 그라비아 코팅법, CAP 코팅법 또는 다이코팅법 등을 들 수 있다. 또 딥 코터, 바 코터 또는 스핀 코터 등의 코터를 사용하여 도포하는 방법 등을 들 수 있다.

상기 지지 기재로서는, 예를 들어 유리, 플라스틱 시트, 플라스틱 필름 또는 투광성 필름을 들 수 있다. 또한 상기 투광성 필름으로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 필름, 폴리비닐알코올 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리메타크릴산에스테르 필름, 폴리아크릴산에스테르 필름, 셀룰로오스에스테르 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리술폰 필름, 폴리에테르술폰 필름, 폴리에테르케톤 필름, 폴리페닐렌술파이드 필름 또는 폴리페닐렌옥사이드 필름 등을 들 수 있다.

예를 들어 본 발명의 위상차 필름의 첩합 공정, 운반 공정, 보관 공정 등, 위상차 필름의 강도가 필요한 공정에서도, 지지 기재를 사용함으로써, 찢어짐 등 없이 용이하게 취급할 수 있다.

또, 지지 기재 위에 배향막을 형성하여, 배향막 상에 본 발명의 액정 조성물을 포함하는 혼합 용액을 도공하는 것이 바람직하다. 배향막은, 본 발명의 액정 조성물 등을 함유하는 혼합 용액의 도공 시에, 혼합 용액에 용해되지 않는 용제 내성을 갖는 것, 용제의 제거나 액정 배향의 가열 처리 시에 내열성을 갖는 것, 러빙 시에 마찰 등에 의한 박리 등이 일어나지 않는 것이 바람직하고, 폴리머 또는 폴리머를 함유하는 조성물로 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 폴리머로서는, 예를 들어 분자 내에 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 분자 내에 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그 가수 분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알코올, 알킬 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 또는 폴리아크릴산에스테르류 등의 폴리머를 들 수 있다. 이들의 폴리머는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 혼합하거나 공중합체로 하거나 해도 된다. 이들의 폴리머는, 탈수나 탈아민 등에 의한 중축합이나, 라디칼 중합, 아니온 중합, 카티온 중합 등의 연쇄 중합, 배위 중합이나 개환 중합 등으로 용이하게 얻을 수 있다.

또 이들의 폴리머는, 용제에 용해하여, 도포할 수 있다. 용제는, 특별히 제한은 없지만, 구체적으로는, 물 ； 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 또는 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 ； 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, 감마-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 또는 락트산에틸 등의 에스테르계 용제 ； 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤 또는 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제 ； 펜탄, 헥산 또는 헵탄 등의 비염소계 지방족 탄화수소 용제 ； 톨루엔 또는 자일렌 등의 비염소계 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴계 용제 ； 테트라하이드로푸란 또는 디메톡시에탄 등의 에테르계 용제 ； 클로로포름 또는 클로로벤젠 등의 염소계 용제 ； 등을 들 수 있다. 이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합하여 사용해도 된다.

또 배향막을 형성하기 위해서, 시판되는 배향막 재료를 그대로 사용해도 된다. 시판되는 배향막 재료로서는, 산에바 (등록상표, 닛산 화학공업 주식회사 제조) 또는 옵토머 (등록상표, JSR 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.

이와 같은 배향막을 이용하면, 연신에 의한 굴절률 제어를 실시할 필요가 없기 때문에, 복굴절의 면내 편차가 작아진다. 그러므로, 지지 기재 위에 플랫 패널 표시 장치 (FPD) 의 대형화에도 대응 가능한 큰 위상차 필름을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.

상기 지지 기재 위에 배향막을 형성하는 방법으로서는, 예를 들어 상기 지지 기재 위에, 시판되는 배향막 재료나 배향막의 재료가 되는 화합물을 용액으로 하여 도포하고, 그 후, 어닐함으로써, 상기 지지 기재 위에 배향막을 형성할 수 있다.

이와 같이 하여 얻어지는 배향막의 두께는, 예를 들어 10 nm ∼ 10000 nm 이며, 바람직하게는 10 nm ∼ 1000 nm 이다. 상기 범위로 하면, 중합성 액정 화합물 등을 그 배향막 상에서 원하는 각도로 배향시킬 수 있다.

또 이들 배향막은, 필요에 따라 러빙 또는 편광 UV 조사를 실시할 수 있다. 배향막을 형성시킴으로써 중합성 액정 화합물 등을 원하는 방향으로 배향시킬 수 있다.

배향막을 러빙하는 방법으로서는, 예를 들어 러빙천이 감겨져 회전하고 있는 러빙 롤을, 스테이지에 올려져, 반송되고 있는 배향막에 접촉시키는 방법을 사용할 수 있다.

상기와 같이, 미중합 필름을 조제하는 공정에서는, 임의의 지지 기재 위에 적층한 배향막 상에 미중합 필름 (액정층) 을 적층해도 된다. 이 경우, 액정 셀을 제작하고, 그 액정 셀에 액정 조성물을 주입하는 방법에 비해, 생산 코스트를 저감할 수 있다. 또한 롤 필름에서의 필름의 생산이 가능하다.

용제의 건조는, 중합을 진행시킴과 함께 실시해도 되지만, 중합 전에 대부분의 용제를 건조시키는 것이, 성막성의 점에서 바람직하다.

용제의 건조 방법으로서는, 예를 들어 자연 건조, 통풍 건조, 감압 건조 등의 방법을 들 수 있다. 구체적인 가열 온도로서는, 10 ∼ 120 ℃ 인 것이 바람직하고, 25 ∼ 80 ℃ 인 것이 더욱 바람직하다. 또 가열 시간으로서는, 10 초간 ∼ 60 분간인 것이 바람직하고, 30 초간 ∼ 30 분간인 것이 보다 바람직하다. 가열 온도 및 가열 시간이 상기 범위 내이면, 상기 지지 기재로서 내열성이 반드시 충분한 것은 아닌 지지 기재를 사용할 수 있다.

다음으로, 상기에서 얻어진 미중합 필름을 중합하여, 경화시킨다. 이로써 중합성 액정 화합물의 배향성이 고정화된 필름, 즉 본 발명의 액정 조성물의 중합체를 포함하는 필름 (이하, 「중합 필름」 이라고도 한다) 이 된다. 이로써, 필름의 평면 방향으로 굴절률 변화가 작고, 필름의 법선 방향으로 굴절률 변화가 큰 중합 필름을 제조할 수 있다.

미중합 필름을 중합시키는 방법은, 중합성 액정 화합물의 종류에 따라, 결정되는 것이다. 중합성 액정 화합물에 포함되는 중합성기가 광 중합성이면 광 중합, 그 중합성기가 열 중합성이면 열 중합에 의해, 상기 미중합 필름을 중합시킬 수 있다. 본 발명에서는, 특히 광 중합에 의해 미중합 필름을 중합시키는 것이 바람직하다. 광 중합에 의하면 저온에서 미중합 필름을 중합시킬 수 있으므로, 지지 기재의 내열성의 선택폭이 넓어진다. 또 공업적으로도 제조가 용이해진다. 또 성막성의 관점에서도 광 중합이 바람직하다. 광 중합은, 미중합 필름에 가시광, 자외광 또는 레이저광을 조사함으로써 실시한다. 취급성의 관점에서, 자외광이 특히 바람직한 광 조사는, 중합성 액정 화합물이 액정상을 취하는 온도로 가온하면서 실시해도 된다. 이 때, 마스킹 등에 의해 중합 필름을 패터닝할 수도 있다.

또한 본 발명의 위상차 필름은, 폴리머를 연신함으로써 위상차를 부여하는 연신 필름과 비교해서, 박막이다.

본 발명의 위상차 필름의 제조 방법에 있어서, 추가로 지지 기재를 박리하는 공정을 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 얻어지는 적층체는, 배향막과 위상차 필름으로 이루어지는 필름이 된다. 또 상기 지지 기재를 박리하는 공정에 더하여, 배향막을 박리하는 공정을 추가로 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 위상차 필름을 얻을 수 있다.

실시예

이하, 실시예에 의해 본 발명을 한층 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「％」및 「부」 는, 특기하지 않는 한, 질량％ 및 질량부이다.

겔 침투 크로마토그래피 (GPC) 분석 조건을 이하에 나타낸다.

＜GPC 분석 조건＞

측정 장치 ： HLC-8220 (토소 주식회사)

칼럼 ： TSKgel Super Multipore HZ-N 3 개

칼럼 온도 ： 40 ℃

인렛 오븐 ： 40 ℃

이동상 ： 테트라하이드로푸란

분석 시간 ： 20 분

샘플 펌프 유량 ： 0.35 ㎖/분

레퍼런스 펌프 유량 ： 0.35 ㎖/분

주입량 ： 10 ㎛

검출 ： 자외 흡수 (파장 ： 254 nm)

알루미늄의 함유량은 이하의 방법에 따라, ICP 발광 분석에 의해 측정했다.

(i) 석영제 분해 용기에 시료를 측정해 놓는다.

(ii) 측정해 놓은 시료에, 황산, 및 질산을 첨가하여 핫 플레이트 상에서 가열 분해한다.

(iii) 시료의 색이 갈색에서 흑색이 된 시점에서 핫 플레이트에서 내려, 방랭한다.

(iv) 계속해서 순수(純水)와 염산을 첨가하여 핫 플레이트 상에서 가열 용해한다.

(v) 얻어진 용액을 순수로 정용(定容)하고, ICP 발광 분석 장치 (SPS5520, 히타치 하이테크 사이언스) 를 사용하여 Al 원소의 함유량으로서 측정한다.

1. 실시예 1 ∼ 5

(1) 중합성 액정 화합물의 합성

(1-1) 합성예 (1)

이하의 방법에 따라, 하기 식 (A-1) 로 나타내는 중합성 액정 화합물 (이하, 「화합물 (A-1)」 이라고도 한다) 과 알루미늄을 포함하는 중합성 액정 혼합물 (A-1a) 를 합성했다.

[화학식 175]

(i) 식 (C-1-1) 로 나타내는 화합물의 합성

식 (C-1-1) 로 나타내는 화합물은, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2015-157776) 을 참고로 합성했다.

[화학식 176]

짐로트 냉각관 및 온도계를 설치한 100 ㎖ - 4 구 플라스크 내를 질소 분위기로 하고, 상기 식 (B) 로 나타내는 트랜스-시클로헥산디카르복실산 36 g (시판품이며, 상기 ICP 발광 분석에 의해 측정한 알루미늄 원소 함유량은 3 ppm) 과, N-메틸-2-피롤리돈 (칸토 화학 (주) 제조) 72 g 을 혼합하여 용액을 얻었다. 얻어진 용액에 상기 식 (D) 로 나타내는 모노 알코올 화합물 9.9 g 과, 디부틸하이드록시톨루엔 (이하, 「BHT」 라고 생략한다. 와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 0.7 g 과, 4-디메틸아미노피리딘 (이하, 「DMAP」 라고 생략한다. 와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 0.055 g 을 첨가하여, 45 ℃ 로 온도 조절했다. 얻어진 혼합물에 디이소프로필카르보디이미드 (이하, 「IPC」 라고 생략한다. 와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 6.9 g 을 1 시간에 걸쳐 적하하고, 그 후 15 시간 교반함으로써 에스테르화 반응을 실시하여, 반응 혼합물 A 를 얻었다.

한편, 수산화나트륨 (칸토 화학 (주) 제조) 2.1 g 과, 물 145 g 을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 상기 반응 혼합물 A 에 적하하고, 2 시간 교반하여 현탁액을 얻었다. 얻어진 현탁액을 여과함으로써 얻어진 고형물을, 메탄올과 물의 혼합 용매 (질량비 1 ： 1) 로 6 회 세정하고, 또한, 30 ℃ 에서 감압 건조시킴으로써 상기 식 (C-1-1) 로 나타내는 화합물 (C-1-1a) 를 12.6 g 얻었다. 화합물 (D) 기준에서의 화합물 (C-1-1a) 의 수율은 77 ％ 였다. ICP 발광 분석에 의해 측정한 화합물 (C-1-1a) 중의 알루미늄의 함유량을 표 1 에 나타낸다.

(ii) 중합성 액정 혼합물 (A-1a) 의 합성

짐로트 냉각관 및 온도계를 설치한 100 ㎖ - 4 구 플라스크 내를 질소 분위기로 하고, 상기 합성 방법에 의해 합성한 화합물 (C-1-1a) 11.02 g, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2011-207765) 를 참고로 합성한 화합물 (F-1-1) 4.00 g, 디메틸아미노피리딘 (이하, 「DMAP」 라고 생략한다. 와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 0.02 g, 디부틸하이드록시톨루엔 (이하, 「BHT」 라고 생략한다. 와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 0.20 g, 및 클로로포름 (칸토 화학 (주) 제조) 58 g 을 혼합한 후, 디이소프로필카르보디이미드 (이하, 「IPC」 라고 생략한다. 와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 4.05 g 을 적하 깔때기로 첨가하여 0 ℃ 에서 하룻밤 반응시켰다. 반응 종료 후, 여과를 하여 불용 성분을 제거했다. 얻어진 클로로포름 용액을, 함유하는 클로로포름의 중량에 대해 3 배의 중량의 아세토니트릴 (와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 에 적하했다. 계속해서, 여과하여 석출된 고체를 꺼내고, 20 g 의 아세토니트릴로 3 회 세정한 후, 30 ℃ 에서 감압 건조시킴으로써 화합물 (A-1) 과 알루미늄을 함유하는 중합성 액정 혼합물 (A-1a) 를 얻었다. 표 1 에, 중합성 액정 혼합물 (A-1a) 의 득량, 중합성 액정 혼합물 (A-1a) 의 수율, 중합성 액정 혼합물 (A-1a) 중의 알루미늄 함유량, 화합물 (A-1) 의 극대 흡수 파장 (λ_max) 을 나타낸다. 또한, 중합성 액정 혼합물 (A-1a) 의 수율은, 화합물 (F-1-1) 을 기준으로 하여 산출했다.

(1-2) 합성예 (2)

(i) 식 (C-1-1) 로 나타내는 화합물의 합성

트랜스-시클로헥산디카르복실산으로서 로트가 상이한 것〔알루미늄 원소 함유량이 450 ppm (ICP 발광 분석) 의 시판품〕을 사용한 것 이외는, 합성예 1 의 (i) 과 동일한 방법에 의해, 상기 식 (C-1-1) 로 나타내는 화합물 (C-1-1b) 를 얻었다. 화합물 (D) 기준에서의 화합물 (C-1-1b) 의 수율은 77 ％ 였다. ICP 발광 분석에 의해 측정한 화합물 (C-1-1b) 중의 알루미늄의 함유량을 표 1 에 나타낸다.

(ii) 중합성 액정 혼합물 (A-1b) 의 합성

화합물 (C-1-1a) 대신에 화합물 (C-1-1b) 를 사용한 것 이외는 합성예 1 과 동일한 방법에 의해, 화합물 (A-1) 과 알루미늄을 함유하는 중합성 액정 혼합물 (A-1b) 를 얻었다. 중합성 액정 혼합물 (A-1b) 의 득량, 중합성 액정 혼합물 (A-1b) 의 수율, 중합성 액정 혼합물 (A-1b) 중의 알루미늄 함유량, 화합물 (A-1) 의 극대 흡수 파장 (λ_max) 을 표 1 에 나타낸다. 또한, 중합성 액정 혼합물 (A-1b) 의 수율은, 화합물 (F-1-1) 을 기준으로 하여 산출했다.

(2) 액정 조성물의 조제

표 2 에 나타내는 조성에 따라, 바이알관에, 합성예 1 및 합성예 2 에서 얻어진 중합성 액정 혼합물, 중합 개시제, 레벨링제, 중합 금지제 및 용제를 주입하고, 카루셀을 사용하여 80 ℃ 에서 5 시간 교반하여, 액정 조성물 (1) ∼ (5) 를 얻었다. 또한, 표 2 에 나타내는 조성은, 가열 전에 있어서의 각 성분의 질량％ 를 나타낸다. 또, 표 2 의 비율로 혼합한 경우에 있어서의 액정 조성물 중의 화합물 (A-1) 에 대한 알루미늄 함유량을 표 3 에 나타낸다.

또한, 하기 중합 개시제 (이르가큐어 369), 레벨링제 (BYK-361N), 중합 금지제 (BHT) 및 용제 (NMP) 의 알루미늄 함유량은 모두 0 (제로) ppm 이다.

중합 개시제 ： 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 (이르가큐어 369 ； BASF 재팬사 제조)

레벨링제 ： 폴리아크릴레이트 화합물 (BYK-361N ； 빅케미 재팬 제조)

중합 금지제 ： BHT (와코 준야쿠 공업 (주) 제조)

용제 ： N-메틸피롤리돈 (NMP ； 칸토 화학 (주) 제조)

얻어진 액정 조성물 (1) ∼ (5) 는, 각각, 중합성 액정 화합물 (A-1) 의 중합체를 포함한다. GPC 를 사용하여, 상기 중합체의 중량 평균 분자량 및 면적 백분율치를 측정했다. 그 결과를 표 3 에 나타낸다.

(3) 보존 안정성 평가

액정 조성물 (1) ∼ (5) 를, 각각 25 ℃ 에서 보관하고, 시간 경과적으로 육안으로 결정 석출의 유무를 확인하고, 이하의 평가 기준에 따라 보존 안정성을 평가했다. 결과를 표 4 에 나타낸다.

보존 안정성 평가 기준

1 ： 보관 후 즉시 석출

2 ： 보관 24 시간 후에 석출 없음

3 ： 보관 48 시간 후에 석출 없음

4 ： 보관 72 시간 후에 석출 없음

(4) 광학 필름 (위상차 필름) 의 제작

＜광 배향막 형성용 조성물의 조제＞

하기 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 광 배향막 형성용 조성물 (1) 을 얻었다.

광 배향성 재료 (5 부) ：

[화학식 177]

용제 (95 부) ： 시클로펜타논

＜광학 필름의 제조예＞

이하와 같이 광학 필름을 제조했다. 시클로올레핀폴리머 필름 (COP) (ZF-14, 닛폰 제온 주식회사 제조) 를, 코로나 처리 장치 (AGF-B10, 카스가 전기 주식회사 제조) 를 사용하여 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1 회 처리했다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 상기 광 배향막 형성용 조성물 (1) 을 바 코터 도포하고, 80 ℃ 에서 1 분간 건조시켜, 편광 UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ； 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 100 mJ/㎠ 의 적산 광량으로 편광 UV 노광을 실시했다. 얻어진 배향막의 막두께를 레이저 현미경 (LEXT, 올림푸스 주식회사 제조) 으로 측정한 결과 100 nm 였다.

계속해서, 상기 보존 안정성 평가와 동일한 순서로 조제한 액정 조성물 (1) ∼ (5) 를, 각각, 배향막 상에 바 코터를 사용하여 도포하고, 120 ℃ 에서 1 분간 건조시킨 후, 고압 수은 램프 (유니큐어 VB―15201BY-A, 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 자외선을 조사 (질소 분위기하, 파장 ： 365 nm, 파장 365 nm 에 있어서의 적산 광량 ： 1000 mJ/㎠) 함으로써 광학 필름을 제조했다. 또한, 얻어진 광학 필름의 Re (450)/Re (550) 의 값은 0.82 이며, 식 (1) ： 0.8 ≤ Re (450)/Re (550) ＜ 1.00 의 광학 특성을 만족시키고 있었다.

(5) 배향 결함의 확인

얻어진 광학 필름을, 각각 가로 세로 10 cm 로 잘라, 편광 현미경 (LEXT, 올림푸스사 제조) 을 사용하여 육안으로 화면 상의 배향 결함의 개수를 확인했다. 결과를 표 4 에 나타낸다.

배향 결함 평가 기준

1 ： 전체면에 배향 결함이 발생 (＞ 100 개)

2 ： 11 ∼ 100 개

3 ： 1 ∼ 10 개

4 ： 결함 없음

2. 실시예 6 ∼ 10

(1) 중합성 액정 화합물의 합성

(1-1) 합성예 (3)

이하의 방법에 따라, 하기 식 (A-2) 로 나타내는 중합성 액정 화합물 (이하, 「화합물 (A-2)」 라고도 한다) 과 알루미늄을 포함하는 중합성 액정 혼합물 (A-2a) 를 합성했다.

[화학식 178]

합성예 1 에서 사용한 화합물 (F-1-1) 을 화합물 (F-1-2) 로 변경한 것 이외에는, 합성예 (1) 과 동일한 조건으로 화합물 (A-2) 와 알루미늄을 함유하는 중합성 액정 혼합물 (A-2a) 를 얻었다. 또한, 화합물 (F-1-2) 는, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2010-31223) 을 참고로 합성했다. 표 5 에, 화합물 (C-1-1a) 중의 알루미늄 함유량, 중합성 액정 혼합물 (A-2a) 의 득량, 중합성 액정 혼합물 (A-2a) 의 수율, 중합성 액정 혼합물 (A-2a) 중의 알루미늄 함유량, 화합물 (A-2) 의 극대 흡수 파장 (λ_max) 을 나타낸다. 또한, 중합성 액정 혼합물 (A-2a) 의 수율은, 화합물 (F-1-2) 를 기준으로 하여 산출했다.

(1-2) 합성예 (4)

화합물 (F-1-1) 을 화합물 (F-1-2) 로 변경한 것 이외에는, 합성예 (2) 와 동일한 조건으로, 화합물 (A-2) 와 알루미늄을 함유하는 중합성 액정 혼합물 (A-2b) 를 얻었다. 화합물 (C-1-1b) 중의 알루미늄 함유량, 중합성 액정 혼합물 (A-2b) 의 득량, 중합성 액정 혼합물 (A-2b) 의 수율, 중합성 액정 혼합물 (A-2b) 중의 알루미늄 함유량, 화합물 (A-2) 의 극대 흡수 파장 (λ_max) 을 표 5 에 나타낸다. 또한, 중합성 액정 혼합물 (A-2b) 의 수율은, 화합물 (F-1-2) 를 기준으로 하여 산출했다.

(2) 액정 조성물의 조제

합성예 3 및 합성예 4 에서 얻어진 중합성 액정 혼합물을 사용하여, 표 6 에 나타내는 조성에 따라, 실시예 1 과 동일한 방법으로 액정 조성물 (6) ∼ (10) 을 조제했다. 또한, 표 6 에 나타내는 조성은, 가열 전에 있어서의 각 성분의 질량％ 를 나타낸다. 또, 표 6 의 비율로 혼합한 경우에 있어서의 액정 조성물 중의 화합물 (A-2) 에 대한 알루미늄 함유량을 표 7 에 나타낸다.

얻어진 액정 조성물 (6) ∼ (10) 은, 각각 중합성 액정 화합물 (A-2) 의 중합체를 포함한다. GPC 를 사용하여, 상기 중합체의 중량 평균 분자량 및 면적 백분율치를 측정했다. 그 결과를 표 7 에 나타낸다.

(3) 보존 안정성 평가, 광학 필름 (위상차 필름) 의 제작 및 배향 결함의 확인

얻어진 액정 조성물 (6) ∼ (10) 에 대해, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 보존 안정성을 평가했다. 또한, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 광학 필름을 제작하고, 얻어진 광학 필름의 배향 결함의 유무를 확인했다. 그 결과를 표 8 에 나타낸다.

3. 실시예 11 ∼ 15

(1) 중합성 액정 화합물의 합성

(1-1) 합성예 (5)

이하의 방법에 따라, 하기 식 (A-3) 으로 나타내는 중합성 액정 화합물 (이하, 「화합물 (A-3)」 이라고도 한다) 과 알루미늄을 포함하는 중합성 액정 혼합물 (A-3a) 를 합성했다.

[화학식 179]

합성예 1 에서 사용한 화합물 (F-1-1) 을 화합물 (F-1-3) 으로 변경한 것 이외에는, 합성예 1 과 동일한 조건으로 화합물 (A-3) 과 알루미늄을 포함하는 중합성 액정 혼합물 (A-3a) 를 얻었다. 또한, 화합물 (F-1-3) 은, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2011-207765) 를 참고로 합성했다. 표 9 에, (C-1-1a) 중의 알루미늄 함유량, 중합성 액정 혼합물 (A-3a) 의 득량, 중합성 액정 혼합물 (A-3a) 의 수율, 중합성 액정 혼합물 (A-3a) 중의 알루미늄 함유량, 화합물 (A-3) 의 극대 흡수 파장 (λ_max) 을 나타낸다. 또한, 중합성 액정 혼합물 (A-3a) 의 수율은, 화합물 (F-1-3) 을 기준으로 하여 산출했다.

(1-2) 합성예 (6)

화합물 (F-1-1) 을 화합물 (F-1-3) 으로 변경한 것 이외에는, 합성예 (2) 와 동일한 조건으로, 화합물 (A-3) 과 알루미늄을 함유하는 중합성 액정 혼합물 (A-3b) 를 얻었다. 화합물 (C-1-1b) 중의 알루미늄 함유량, 중합성 액정 혼합물 (A-3b) 의 득량, 중합성 액정 혼합물 (A-3b) 의 수율, 중합성 액정 혼합물 (A-3b) 중의 알루미늄 함유량, 화합물 (A-3) 의 극대 흡수 파장 (λ_max) 을 표 1 에 나타낸다. 또한, 중합성 액정 혼합물 (A-3b) 의 수율은, 화합물 (F-1-3) 을 기준으로 하여 산출했다.

(2) 액정 조성물의 조제

합성예 5 및 합성예 6 에서 얻어진 중합성 액정 혼합물을 사용하여, 표 10 에 나타내는 조성에 따라, 실시예 1 과 동일한 방법으로 액정 조성물 (11) ∼ (15) 를 조제했다. 또한, 표 10 에 나타내는 조성은, 가열 전에 있어서의 각 성분의 질량％ 를 나타낸다. 또, 표 10 의 비율로 혼합한 경우에 있어서의 액정 혼합물 중의 화합물 (A-3) 에 대한 알루미늄 함유량을 표 11 에 나타낸다.

얻어진 액정 조성물 (11) ∼ (15) 는, 각각, 중합성 액정 화합물 (A-3) 의 중합체를 포함한다. GPC 를 사용하여, 상기 중합체의 중량 평균 분자량 및 면적 백분율치를 측정했다. 그 결과를 표 11 에 나타낸다.

얻어진 액정 조성물 (11) ∼ (15) 에 대해, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 보존 안정성을 평가했다. 또한, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 광학 필름을 제작하고, 얻어진 광학 필름의 배향 결함의 유무를 확인했다. 그 결과를 표 12 에 나타낸다.

4. 비교예 1 ∼ 6

(1) 액정 조성물의 조제

합성예 (1) ∼ (6) 에서 얻은 중합성 액정 혼합물 (A-1a) ∼ (A-3b) 를 사용하여, 표 13 에 나타내는 조성에 따라, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 액정 조성물 (16) ∼ (21) 을 조제했다. 또한, 표 13 에 나타내는 조성은, 가열 전에 있어서의 각 성분의 질량％ 를 나타낸다. 또, 액정 조성물 중에 포함되는 중합성 액정 화합물에 대한 알루미늄 함유량을 표 14 에 나타낸다.

(2) 보존 안정성 평가

얻어진 액정 조성물 (16), (18) 및 (20) 에 대해, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 보존 안정성을 평가했다. 그 결과를 표 14 에 나타낸다. 또한, 액정 조성물 (17), (19) 및 (21) 에 대해서는, 액정 조성물을 구성하는 각 성분을 가열, 혼합 시에 겔화했기 때문에, 보존 안정성을 평가할 수 없었다.

표 4, 표 8 및 표 12 에 나타내는 바와 같이, 주사슬에 고리 구조를 3 개 이상 (나아가서는 5 개 이상) 갖는 중합성 액정 화합물과, 상기 중합성 액정 화합물에 대해 1 ppm 이상 170 ppm 이하의 알루미늄을 포함하는 실시예 1 ∼ 15 의 액정 조성물은, 보관 후 장시간에 걸쳐 결정의 석출이 억제되어, 보존 안정성이 우수했다. 또, 실시예 1 ∼ 15 의 액정 조성물을 사용하여 형성한 광학 필름은, 배향 결함이 없는 광학 필름이 되었다. 이에 대하여, 본 발명의 실시예에서 사용한 것과 동일한 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물이어도, 중합성 액정 화합물에 대한 알루미늄 함유량이 1 ppm 미만인 액정 조성물 (비교예 1, 3 및 5) 에서는 중합성 액정 화합물의 중합체를 얻을 수 없고, 보관 후 즉시 결정의 석출이 보여, 보존 안정성이 열등한 것이 확인되었다.

5. 실시예 16 ∼ 실시예 17 및 비교예 7

이하에, 중합성 액정 혼합물에 염화알루미늄을 첨가하여 조제한 액정 조성물을 사용한 경우의 보존 안정성 시험 결과를 나타낸다.

(1) 액정 조성물의 조제

합성예 (1) 에서 얻은 중합성 액정 혼합물 (A-1a) 를 사용하여, 표 15 에 나타내는 조성에 따라, 이 중합성 액정 혼합물 (A-1a), 염화알루미늄 (칸토 화학 (주) 제조), 중합 개시제 (이르가큐어 369), 레벨링제 (BYK-361N), 중합 금지제 (BHT) 및 용제 (NMP) 를 첨가하는 것 이외는, 실시예 1 과 동일한 방법으로 액정 조성물 (22), (23) 및 (24) 를 조제했다. 또한, 표 15 에 나타내는 조성은, 가열 전에 있어서의 액정 조성물〔중합성 액정 혼합물 (A-1a), 염화알루미늄, 중합 개시제, 레벨링제, 중합 금지제 및 용제〕의 합계량 (100 질량％) 에 대한 각 성분의 질량％ 를 나타낸다. 또, 표 15 의 비율로 혼합한 경우에 있어서의 액정 조성물 중의 화합물 (A-1) 에 대한 알루미늄 함유량 (IPC 분석법) 을 표 16 에 나타낸다. 또한, 사용한 중합 개시제 (이르가큐어 369), 레벨링제 (BYK-361N), 중합 금지제 (BHT) 및 용제 (NMP) 의 알루미늄 함유량은 모두 0 (제로) ppm 이다.

얻어진 액정 조성물 (22), (23) 및 (24) 는, 각각, 중합성 액정 화합물 (A-1) 의 중합체를 포함한다. GPC 를 사용하여, 상기 중합체의 중량 평균 분자량 및 면적 백분율치를 측정했다. 그 결과를 표 16 에 나타낸다. 또, 각 액정 조성물의 극대 흡수 파장을 측정한 결과를 아울러 나타낸다. 또한, 액정 조성물 (24) 의 중합체 분자량 (Mw), 중합체 면적 백분율 및 극대 흡수 파장은 가열 중의 겔화에 의해 측정할 수 없었다.

얻어진 액정 조성물 (22) 및 (23) 에 대해, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 보존 안정성을 평가했다. 또한, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 광학 필름을 제작하고, 얻어진 광학 필름의 배향 결함의 유무를 확인했다. 그 결과를 표 17 에 나타낸다. 또한, 액정 조성물 (24) 는 겔화되었으므로, 보존 안정성의 평가, 광학 필름의 제작은 실시할 수 없었다.

Claims

주사슬에 고리 구조를 3 개 이상 갖는 중합성 액정 화합물 및 알루미늄을 포함하고, 상기 알루미늄의 함유량이 상기 중합성 액정 화합물에 대해 1 ppm 이상 170 ppm 이하인 액정 조성물.
제 1 항에 있어서,
아미드계 용제, 케톤계 용제, 에테르계 용제 및 에스테르계 용제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 유기 용제를 포함하는, 액정 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 중합성 액정 화합물은, 하기 식 (A) 로 나타내는 중합성 액정 화합물인, 액정 조성물.

〔식 (A) 중, m 및 n 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고,
B¹, B², D¹, D², E¹ 및 E²는, 각각 독립적으로, -CR¹R²-, -CH₂-CH₂-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -CO-NR¹-, -NR²-CO-, -O-CH₂-, -CH₂-O-, -S-CH₂-, -CH₂-S- 또는 단결합을 나타내고, R¹ 및 R²는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고,
A¹, A², G¹ 및 G²는, 각각 독립적으로, 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 그 지환식 탄화수소기 및 그 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, -R³, -OR³, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH₂- 는, -O-, -S-, -NH- 또는 -NR⁴- 로 치환되어 있어도 되고, 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH(-)- 는, -N(-)- 으로 치환되어 있어도 되고, R³ 및 R⁴는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 되고,
F¹ 및 F²는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, -OR³ 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH₂- 는, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 되고,
P¹ 및 P²는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고 (단 P¹ 및 P²중 적어도 1 개는 중합성기를 나타낸다),
Ar 은 치환되어 있어도 되는 2 가의 방향족기이며, 그 방향족기 중에, 적어도 1 개의 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자를 포함한다.〕
제 3 항에 있어서,
G¹ 및 G²의 양방이 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인, 액정 조성물.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 식 (A) 중의 Ar 은 π 전자를 10 개 이상 30 개 이하 갖는 방향족기인, 액정 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 중합성 액정 화합물의 극대 흡수 파장 (λ_max) 이 300 ∼ 400 nm 인, 액정 조성물.
제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 식 (A) 중의 Ar 은 복소 고리를 갖는 방향족기인, 액정 조성물.
제 7 항에 있어서,
상기 복소 고리를 갖는 방향족기는 벤조티아졸기를 갖는 방향족기인, 액정 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 액정 조성물로 구성되는 위상차 필름.
제 9 항에 있어서,
하기 식 (1) 을 만족시키는, 위상차 필름.

〔식 중, Re (λ) 는 파장 λnm 의 광에 대한 정면 위상차값을 나타낸다.〕
제 9 항 또는 제 10 항에 기재된 위상차 필름을 포함하는 편광판.
제 11 항에 기재된 편광판을 포함하는 광학 디스플레이.