KR20170130517A - Copper alloy plate and heat dissipation parts for heat dissipation parts - Google Patents

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Abstract

고강도, 우수한 굽힘 가공성, 및 방열성을 갖는 방열 부품용 구리 합금판을 제공한다. Ni: 0.1∼1.0mass%, Fe: 0.01∼0.3mass%, P: 0.03∼0.2mass%를 포함하고, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어지는 구리 합금판. 압연 평행 방향의 인장 강도가 580MPa 이상, 내력이 560MPa 이상, 신도가 6% 이상, 압연 직각 방향의 인장 강도가 600MPa 이상, 내력이 580MPa 이상, 신도가 3% 이상이며, 도전율이 50% IACS 이상, 굽힘 반경 R과 판 두께 t의 비 R/t를 0.5로 하고 굽힘선의 방향을 압연 수직 방향으로 한 90도 굽힘을 행했을 때의 굽힘 가공 한계폭이 70mm 이상, 굽힘선의 방향을 압연 수직 방향으로 한 밀착 굽힘을 행했을 때의 굽힘 가공 한계폭이 20mm 이상이다.A copper alloy plate for heat dissipation parts having high strength, excellent bending workability, and heat radiation property is provided. 0.1 to 1.0 mass% of Ni, 0.01 to 0.3 mass% of Fe, and 0.03 to 0.2 mass% of P, and the balance of Cu and inevitable impurities. A tensile strength in the rolling direction of 580 MPa or more, a proof stress of 560 MPa or more, an elongation of 6% or more, a tensile strength of 600 MPa or more in the direction perpendicular to the rolling direction, a proof stress of 580 MPa or more, an elongation of 3% When the ratio R / t of the bending radius R to the plate thickness t is 0.5 and the 90 degree bending is performed in which the direction of the bending line is the rolling vertical direction, the bending limit width is 70 mm or more and the direction of the bending line is the rolling vertical direction The bending limit width when performing close bending is 20 mm or more.

Description

방열 부품용 구리 합금판 및 방열 부품Copper alloy plate and heat dissipation parts for heat dissipation parts

본 발명은 방열 부품용 구리 합금판 및 방열 부품에 관한 것이다.The present invention relates to a copper alloy plate for a heat dissipation part and a heat dissipation part.

퍼스널 컴퓨터, 태블릿 단말, 스마트폰, 휴대 전화, 디지털 카메라 및 디지털 비디오 카메라 등의 전자 기기에는, 탑재되어 있는 CPU, 액정 및 촬상 소자 등의 전자 부품으로부터 발생하는 열을 방산시키는 방열 부품이 사용되고 있다. 방열 부품은 전자 부품의 과도한 온도 상승을 방지하여, 전자 부품의 열폭주를 방지해서 정상적으로 기능시키기 위한 것이다. 방열 부품으로서, 열전도성이 높은 순구리, 강도와 내식성이 우수한 스테인리스 강 또는 경량의 알루미늄 합금 등의 소재를 가공한 것이 사용되고 있다. 이들 방열 부품은 방열 기능뿐만 아니라, 전자 기기에 가해지는 외력으로부터 탑재된 전자 부품을 보호하는 구조 부재로서의 역할도 담당하고 있다.BACKGROUND ART [0002] Heat dissipation parts for dissipating heat generated from electronic components such as a CPU, a liquid crystal, and an image pickup element mounted on electronic equipment such as a personal computer, a tablet terminal, a smart phone, a cellular phone, a digital camera, and a digital video camera are used. The heat dissipation component prevents an excessive increase in the temperature of the electronic component, thereby preventing thermal runaway of the electronic component and functioning normally. As heat dissipating parts, those made of pure copper with high thermal conductivity, stainless steel excellent in strength and corrosion resistance, or lightweight aluminum alloy have been used. These heat dissipation parts are not only a heat dissipation function but also a structural member for protecting electronic components mounted from external force applied to electronic equipment.

전자 기기에 탑재되는 전자 부품에는 고속화 및 고기능화가 요구되어, 전자 부품의 고밀도화가 지속적으로 진전되고 있다. 그 때문에, 전자 부품의 발열량은 급속하게 증대되고 있다. 또한, 전자 기기의 소형화, 박형화 및 경량화의 요구하에, 방열 부품에도 박육화가 요구되고 있다. 그러나, 방열 부품을 박육화한 경우라도, 방열 성능 및 구조 강도의 유지가 요구되고 있다.BACKGROUND ART [0002] Electronic components mounted on electronic devices are required to have higher speed and higher functionality, and the densification of electronic components is continuously being advanced. Therefore, the amount of heat generated by the electronic components is rapidly increasing. In addition, with the demand for downsizing, thinning, and weight reduction of electronic devices, heat dissipation parts are required to be thin. However, even when the heat dissipation parts are thinned, it is required to maintain the heat dissipation performance and the structural strength.

방열 부품의 소재인 판재는 헴(hem) 굽힘(밀착 굽힘), 90° 굽힘 또는 드로잉 등의 소성 가공을 거쳐 방열 부품으로 성형된다. 굽힘 가공에 있어서, 리드 프레임 및 단자에서는 굽힘부의 폭(굽힘선의 길이)은 수 밀리미터 정도 이하이지만, 방열 부품에 있어서는 굽힘부의 폭이 20mm 정도 이상의 큰 것도 있다. 굽힘폭이 커질수록, 판재의 굽힘 가공성이 급격하게 저하된다는 것이 알려져 있어, 방열 부품용 판재에는 단자 또는 리드 프레임용 판재와 비교해, 엄격한 굽힘 가공성이 요구된다.The plate material, which is the material of the heat dissipation part, is formed into a heat dissipation part through plastic working such as hem bending (close bending), 90 ° bending or drawing. In the bending process, the width of the bent portion (the length of the bent line) in the lead frame and the terminal is about several millimeters or less. However, in the heat dissipation component, the width of the bent portion is about 20 mm or more. It is known that the bending workability of the plate material sharply decreases as the bending width increases, and rigid bending workability is required in the plate material for a heat dissipation component as compared with a terminal or lead frame plate material.

방열 부품의 소재로 해서 순구리는 열전도성은 우수하지만 강도가 작아, 방열 부품을 박육화할 수 없다. 스테인리스 강은 열전도율이 낮아(2∼3% IACS), 방열량이 큰 전자 부품용 방열 부품으로서 적용할 수 없다. 알루미늄 합금은 강도와 열전도성이 모두 불충분하다. 한편, 구리 합금은 강도 및 도전성이 우수한 것은 많지만(예를 들면 특허문헌 1∼3 참조), 폭넓은 굽힘 가공이 가능한 것은 없었다.As a material for heat dissipation parts, pure copper has excellent thermal conductivity, but its strength is low and heat dissipation parts can not be made thin. Stainless steel has low thermal conductivity (2 to 3% IACS) and can not be used as a heat dissipation component for electronic components with large heat dissipation. Aluminum alloys are both insufficient in strength and thermal conductivity. On the other hand, copper alloys are excellent in strength and conductivity (see, for example, Patent Documents 1 to 3), but a wide range of bending can not be achieved.

일본 특허공개 2001-335864호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-335864 일본 특허공개 2013-204083호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-204083 일본 특허공개 2012-207261호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 20-207261

본 발명은 고강도, 우수한 굽힘 가공성, 및 방열성을 갖는 방열 부품용 구리 합금판을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a copper alloy plate for heat dissipation parts having high strength, excellent bending workability, and heat radiation.

본 발명에 따른 방열 부품용 구리 합금판은, Ni: 0.1∼1.0mass%, Fe: 0.01∼0.3mass%, P: 0.03∼0.2mass%를 포함하고, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어지고, 압연 평행 방향의 인장 강도가 580MPa 이상, 내력이 560MPa 이상, 신도가 6% 이상, 압연 직각 방향의 인장 강도가 600MPa 이상, 내력이 580MPa 이상, 신도가 3% 이상이며, 도전율이 50% IACS 이상, 굽힘 반경 R과 판 두께 t의 비 R/t를 0.5로 하고 굽힘선의 방향을 압연 수직 방향(즉, 압연 방향에 수직한 방향)으로 한 90도 굽힘을 행했을 때의 굽힘 가공 한계폭이 70mm 이상, 굽힘선의 방향을 압연 수직 방향으로 한 밀착 굽힘을 행했을 때의 굽힘 가공 한계폭이 20mm 이상인 것을 특징으로 한다.The copper alloy sheet for a heat dissipation component according to the present invention contains 0.1 to 1.0 mass% of Ni, 0.01 to 0.3 mass% of Fe and 0.03 to 0.2 mass% of P, the balance being Cu and inevitable impurities, Tensile strength in parallel direction of 580 MPa or more, proof stress of 560 MPa or more, elongation of 6% or more, tensile strength of 600 MPa or more in the direction perpendicular to the rolling direction, strength of 580 MPa or more, elongation of more than 3%, electrical conductivity of 50% When the bending line width is set to 70 mm or more when the ratio R / t between the radius R and the plate thickness t is set to 0.5 and the direction of the line of bending is 90 degrees bending in a direction perpendicular to the rolling direction (i.e., And a bending working width when the bending line is subjected to close contact bending in a direction perpendicular to the rolling direction is 20 mm or more.

상기 구리 합금은, 추가로 Si, Zn, Sn, Co, Al, Cr, Mg, Mn, Ca, Pb, Ti 및 Zr의 1종 또는 2종 이상을 합계로 0.3mass% 이하(0질량%를 포함하지 않음) 함유할 수 있다.The copper alloy preferably contains 0.3 mass% or less (0 mass% or less) of one or more of Si, Zn, Sn, Co, Al, Cr, Mg, Mn, Ca, Pb, Ti and Zr in total ).

상기 구리 합금판의 표면에, 필요에 따라서 도금 등에 의해 표면 피복층을 형성하여, 내식성을 향상시킬 수 있다. 표면 피복층으로서, Sn층, Cu-Sn 합금층, Ni층 또는 Ni-Co층 중 1층 또는 복수층이 생각된다.The surface coating layer may be formed on the surface of the copper alloy plate by plating or the like as needed, thereby improving the corrosion resistance. As the surface coating layer, one layer or a plurality of layers of a Sn layer, a Cu-Sn alloy layer, a Ni layer, or a Ni-Co layer is conceivable.

본 발명에 의하면, 구조 부재로서의 강도, 특히 변형 및 낙하 충격성에 견디는 강도, 복잡 형상으로의 가공에 견딜 수 있는 굽힘 가공성, 및 반도체 소자 등으로부터의 열에 대한 고방열성을 갖는 방열 부품용 구리 합금판을 제공할 수 있다. 또한, 이 구리 합금판에 상기 표면 피복층을 형성한 경우, 내식성이 향상되어, 과혹한 환경하에 있어서도 방열 부재로서의 성능이 저하되는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a copper alloy plate for a heat-dissipating component which has strength as a structural member, particularly strength against endurance against deformation and drop impact, bending workability for enduring a complicated shape, and high heat- . Further, when the surface coating layer is formed on the copper alloy plate, the corrosion resistance is improved, and the performance as a heat radiation member can be prevented from deteriorating even in a severe environment.

도 1은 실시예의 90도 굽힘 시험의 시험 방법을 설명하는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a view for explaining a test method of a 90-degree bend test of the embodiment. Fig.

이하, 본 발명에 따른 방열 부품용 구리 합금에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the copper alloy for a heat dissipation component according to the present invention will be described in detail.

<구리 합금판의 조성><Composition of copper alloy plate>

구리 합금의 조성은, Ni: 0.1∼1.0mass%, Fe: 0.01∼0.3mass%, P: 0.03∼0.2mass%를 포함하고, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어진다. 이 구리 합금은, 필요에 따라서 부성분으로서, Si, Zn, Sn, Co, Al, Cr, Mg, Mn, Ca, Pb, Ti 및 Zr의 1종 또는 2종 이상을 합계로 0.3mass% 이하(0질량%를 포함하지 않음) 포함한다. 이 조성은 특허문헌 1에 기재된 구리 합금 조성과 주요 부분에서 일치한다.The composition of the copper alloy includes 0.1 to 1.0% by mass of Ni, 0.01 to 0.3% by mass of Fe and 0.03 to 0.2% by mass of P, and the balance of Cu and inevitable impurities. The copper alloy may contain, as necessary, one or more of Si, Zn, Sn, Co, Al, Cr, Mg, Mn, Ca, Pb, Ti and Zr in an amount of 0.3 mass% Mass%). This composition is consistent with the main part of the copper alloy composition described in Patent Document 1.

Ni는 후술하는 P와의 금속간 화합물을 석출함으로써, 구리 합금을 고강도화한다. Ni 함유량이 0.1mass% 미만이면, Ni-P 화합물이 적기 때문에, 원하는 강도가 얻어지지 않는다. 한편, Ni 함유량이 1.0mass%를 초과하면, 주조 시에 조대한 Ni-P 화합물의 정출물이 다량으로 생성되어, 열간 가공성을 열화시킨다. 따라서, Ni 함유량은 0.1∼1.0mass%로 한다. Ni 함유량의 하한은 바람직하게는 0.3mass%, 보다 바람직하게는 0.4mass%, 상한은 바람직하게는 0.9mass%, 보다 바람직하게는 0.8mass%이다.Ni precipitates an intermetallic compound with P, which will be described later, thereby increasing the strength of the copper alloy. If the Ni content is less than 0.1% by mass, desired strength can not be obtained because Ni-P compound is small. On the other hand, when the Ni content exceeds 1.0 mass%, a large amount of precipitated Ni-P compound is formed at the time of casting to deteriorate hot workability. Therefore, the Ni content is set to 0.1 to 1.0 mass%. The lower limit of the Ni content is preferably 0.3 mass%, more preferably 0.4 mass%, and the upper limit is preferably 0.9 mass%, more preferably 0.8 mass%.

Fe는 Ni 및 P와의 금속간 화합물을 형성함으로써, 구리 합금을 고강도화시킨다. 또한, Ni-P 화합물의 정출물의 생성을 억제하여, 열간 가공성을 개선한다. Fe 함유량이 0.01mass% 미만이면, 상기 효과가 불충분하다. 한편, Fe 함유량이 0.3mass%를 초과하면, Fe-P 화합물의 석출이 우선이 되어, P와 화합물을 형성하지 않은 고용 Ni 및 Fe의 영향에 의해, 도전율이 저하된다. 따라서, Fe 함유량은 0.01∼0.3mass%로 한다. Fe 함유량의 하한은 바람직하게는 0.05mass%, 보다 바람직하게는 0.07mass%, 상한은 바람직하게는 0.2mass%, 보다 바람직하게는 0.15mass%이다.Fe forms an intermetallic compound with Ni and P, thereby increasing the strength of the copper alloy. Further, the production of the crystallized product of the Ni-P compound is suppressed, and the hot workability is improved. If the Fe content is less than 0.01% by mass, the above effects are insufficient. On the other hand, if the Fe content exceeds 0.3% by mass, the precipitation of the Fe-P compound takes precedence, and the conductivity is lowered due to the influence of the solid Ni and Fe not forming a compound with P. Therefore, the Fe content is set to 0.01 to 0.3 mass%. The lower limit of the Fe content is preferably 0.05 mass%, more preferably 0.07 mass%, and the upper limit is preferably 0.2 mass%, more preferably 0.15 mass%.

P는 Ni 및 Fe와의 금속간 화합물을 형성하여, Cu의 모상에 석출되어, 강도를 향상시킨다. P 함유량이 0.03mass% 미만이면, Ni-Fe-P 화합물의 석출이 충분하지 않아, 원하는 강도가 얻어지지 않는다. 한편, P 함유량이 0.2mass%를 초과하면, Ni-P 화합물의 정출물이 다량으로 발생하여, 열간 가공성이 열화된다. 따라서, P 함유량은 0.03∼0.2mass%로 한다. P 함유량의 하한은 바람직하게는 0.06mass%, 보다 바람직하게는 0.08mass%, 상한은 바람직하게는 0.17mass%, 보다 바람직하게는 0.15mass%이다.P forms an intermetallic compound with Ni and Fe and precipitates on the parent phase of Cu to improve the strength. When the P content is less than 0.03 mass%, precipitation of the Ni-Fe-P compound is not sufficient, and desired strength can not be obtained. On the other hand, when the P content exceeds 0.2 mass%, a large amount of the Ni-P compound is crystallized and the hot workability deteriorates. Therefore, the P content is set to 0.03 to 0.2 mass%. The lower limit of the P content is preferably 0.06% by mass, more preferably 0.08% by mass, and the upper limit is preferably 0.17% by mass, and more preferably 0.15% by mass.

부성분으로서 필요에 따라서 첨가되는 Si, Zn, Sn, Co, Al, Cr, Mg, Mn, Ca, Pb, Ti 및 Zr은 구리 합금의 강도를 향상시키고, 또 제조 시의 열간 압연성을 향상시키는 작용도 있다. 그러나, 상기 부성분의 1종 또는 2종 이상의 합계 함유량이 0.3mass%를 초과하면, 구리 합금의 강도는 향상되지만, 도전율 및 열전도성이 저하된다. 따라서, 상기 부성분의 합계 함유량은 0.3mass% 이하(0질량%를 포함하지 않음)로 한다.Si, Zn, Sn, Co, Al, Cr, Mg, Mn, Ca, Pb, Ti and Zr which are added as necessary as a subcomponent improve the strength of the copper alloy and improve the hot- There is also. However, when the total content of one or more subcomponents is more than 0.3% by mass, the strength of the copper alloy is improved but the conductivity and the thermal conductivity are lowered. Therefore, the total content of the subcomponent is 0.3 mass% or less (does not include 0 mass%).

<구리 합금판의 특성><Properties of copper alloy plate>

방열 부재에는, 구조 부재로서의 강도, 특히 변형 및 낙하 충격에 견디는 강도가 필요시 된다. 구리 합금판의 압연 평행 방향의 인장 강도가 580MPa 이상, 내력이 560MPa 이상, 또한 압연 직각 방향의 인장 강도가 600MPa 이상, 내력이 580MPa 이상이면, 방열 부재를 박육화하더라도 구조 부재로서 필요한 강도를 확보할 수 있다. 또한, 구리 합금판의 압연 평행 방향의 신도가 6% 이상, 또한 압연 직각 방향의 신도가 3% 이상이면, 구리 합금판으로부터 방열 부재를 드로잉 가공 또는 굽힘 가공으로 성형하는 경우의 성형 가공성에 특별히 문제가 생기지 않는다.The heat dissipating member is required to have strength as a structural member, particularly strength against deformation and falling impact. If the tensile strength of the copper alloy sheet in the rolling parallel direction is 580 MPa or more, the proof stress is 560 MPa or more, the tensile strength in the direction perpendicular to the rolling direction is 600 MPa or more, and the proof stress is 580 MPa or more, have. If the elongation in the rolling parallel direction of the copper alloy sheet is 6% or more and the elongation in the direction perpendicular to the rolling direction is 3% or more, there is a problem particularly in the molding workability in the case of forming the heat dissipating member from the copper alloy sheet by drawing or bending .

구리 합금판을 소재로 해서 방열 부재를 성형하는 경우, 일반적으로 구리 합금판에는 우수한 굽힘 가공성이 필요시 된다. 구리 합금판을, 굽힘 반경 R과 판 두께 t의 비 R/t를 0.5로 하고 굽힘선의 방향을 압연 수직 방향으로 한 90도 굽힘을 행했을 때의 굽힘 가공 한계폭이 70mm 이상, 굽힘선의 방향을 압연 수직 방향으로 한 밀착 굽힘을 행했을 때의 굽힘 가공 한계폭이 20mm 이상이면, 방열 부품의 제조에 지장이 생기지 않는다. 구리 합금판의 굽힘 가공 한계폭이 상기의 값에 도달하지 않는 경우, 방열 부품을 제조하는 프로세스에서 굽힘 가공부에 크랙 또는 파단이 발생하여, 복잡 형상으로의 성형이 곤란해진다.When a heat dissipating member is molded using a copper alloy sheet as a base material, generally, a copper alloy sheet requires excellent bending workability. The bending limit width of the copper alloy plate is 70 mm or more when the ratio R / t of the bending radius R to the plate thickness t is 0.5 and the direction of the bending line is the vertical direction of the bending, If the bending limit width in the case of performing close contact bending in the direction perpendicular to the rolling direction is 20 mm or more, there is no hindrance to the manufacture of the heat dissipation component. If the bending limit width of the copper alloy sheet does not reach the above value, cracking or fracture occurs in the bending portion in the process of manufacturing the heat-radiating component, making it difficult to form into a complicated shape.

반도체 소자 등으로부터 발생하는 열을 흡수하여, 외부에 방산시키기 위해서는, 방열 부재용 구리 합금판의 도전율이 50% IACS 이상, 열전도율이 220W/m·K 이상인 것이 바람직하다. 한편, 열전도율은, Wiedemann-Franz 법칙에 의해, 도전율로부터 환산할 수 있고, 도전율이 50% IACS 이상이면, 열전도율은 220W/m·K 이상이 된다.In order to absorb heat generated from a semiconductor element or the like and dissipate it to the outside, it is preferable that the copper alloy plate for a heat radiation member has a conductivity of 50% IACS or more and a thermal conductivity of 220 W / mK or more. On the other hand, the thermal conductivity can be converted from the conductivity by the Wiedemann-Franz rule, and if the conductivity is 50% IACS or more, the thermal conductivity becomes 220 W / m · K or more.

<구리 합금판의 제조 공정>&Lt; Production process of copper alloy plate >

본 발명에 따른 구리 합금판은 용해 주조, 균질화 처리, 열간 압연, 냉간 압연, 재결정 소둔, 냉간 압연, 복수회의 시효 소둔, 및 냉간 압연의 공정으로 제조할 수 있다. 한편, 이 공정은 시효 소둔을 복수회 반복해서 행하는 점을 제외하고, 종래의 제조 방법(특허문헌 1 참조)과 동일하다.The copper alloy sheet according to the present invention can be produced by a process of melt casting, homogenizing treatment, hot rolling, cold rolling, recrystallization annealing, cold rolling, aging annealing for a plurality of times, and cold rolling. On the other hand, this step is the same as the conventional manufacturing method (see Patent Document 1), except that aging annealing is repeated plural times.

균질화 처리에서는 주괴를 900∼1000℃에서 0.5∼5시간 가열하고, 그 온도에서 열간 압연을 개시하고, 열간 압연 후, 즉시 20℃/초 이상의 냉각 속도로 급냉(바람직하게는 수냉)하고, 필요에 따라서 양면을 면삭 후, 적절한 가공률로 냉간 압연을 행한다.In the homogenizing treatment, the ingot is heated at 900 to 1000 占 폚 for 0.5 to 5 hours, and hot rolling is started at that temperature. After the hot rolling, the ingot is quenched (preferably water-cooled) at a cooling rate of 20 占 폚 / Therefore, after both surfaces are ground, cold rolling is carried out at an appropriate processing rate.

계속해서 재결정 소둔은 650∼775℃의 온도 범위에서 10∼100초 가열한다. 이 재결정 소둔은 구리 합금판(제품)의 신도 및 굽힘 가공성을 개선하기 위해서 행해진다. 재결정 소둔의 온도가 650℃ 미만이거나 또는 유지 시간이 10초 미만이면, 재결정이 불충분해져, 구리 합금판(제품)의 굽힘 가공성이 열화된다. 한편, 재결정 소둔의 온도가 775℃를 초과하거나 또는 유지 시간이 100초를 초과하면, 재결정립이 조대화되어(평균 결정 입경이 10μm 이상으로 조대화), 구리 합금판(제품)에 있어서 충분한 강도가 얻어지지 않는다.Subsequently, the recrystallization annealing is performed in a temperature range of 650 to 775 캜 for 10 to 100 seconds. This recrystallization annealing is performed in order to improve elongation and bending workability of the copper alloy plate (product). If the temperature of the recrystallization annealing is less than 650 ° C or the holding time is less than 10 seconds, recrystallization becomes insufficient and the bending workability of the copper alloy plate (product) deteriorates. On the other hand, when the temperature of the recrystallization annealing exceeds 775 DEG C or the holding time exceeds 100 seconds, the recrystallized grains become coarser (coarsening with an average crystal grain size of 10 mu m or more) Is not obtained.

재결정 소둔 후, 필요에 따라서 냉간 압연을 행한다. 이 냉간 압연을 행하는 경우, 그 가공률은, 후술하는 마무리 냉간 압연에 있어서 소정의 가공률 및 제품 판 두께가 얻어지도록, 75% 이하의 범위 내에서 적절히 설정하면 된다.After the recrystallization annealing, cold rolling is carried out if necessary. When this cold rolling is carried out, the processing rate may be suitably set within a range of 75% or less so as to obtain a predetermined processing rate and a product plate thickness in a finish cold rolling to be described later.

계속해서 시효 소둔을 복수회 반복해서 행한다. 시효 소둔의 조건은 모두 350∼450℃에서 1∼10시간의 범위 내인 것이 바람직하다. 시효 처리의 온도가 350℃ 미만이거나 또는 유지 시간이 1시간 미만이면, 석출이 불충분하여, 구리 합금판(제품)의 도전율이 향상되지 않는다. 한편, 시효 처리의 온도가 450℃를 초과하거나 또는 유지 시간이 10시간을 초과하면, 석출물이 조대화되어, 구리 합금판(제품)에서 충분한 강도가 얻어지지 않는다. 각 시효 소둔 후에는, 구리 합금 판재는 실온까지 냉각된다. 이와 같이 제조 공정의 일부로서 시효 소둔을 복수회 반복함으로써, 조직(결정립 사이즈 및 방위 등)이 균일화되고, 굽힘 가공성이 향상되어, 90도 굽힘의 굽힘 가공 한계폭 및 밀착 굽힘의 가공 한계폭이 큰 본 발명에 따른 구리 합금판을 제조할 수 있다. 한편, 종래는 시효 소둔은 1회만 행해지고 있었다(특허문헌 1 참조).Successively, the aging annealing is repeated a plurality of times. The conditions of the aging annealing are all preferably in the range of 350 to 450 DEG C for 1 to 10 hours. If the temperature of the aging treatment is less than 350 占 폚 or the holding time is less than 1 hour, the precipitation is insufficient and the conductivity of the copper alloy sheet (product) is not improved. On the other hand, if the temperature of the aging treatment exceeds 450 DEG C or the holding time exceeds 10 hours, the precipitate becomes coarse, and sufficient strength can not be obtained in the copper alloy plate (product). After each aging annealing, the copper alloy sheet material is cooled to room temperature. By repeating the aging annealing a plurality of times as a part of the manufacturing process, the structure (grain size and orientation, etc.) is made uniform and the bending workability is improved, and the bending working width limit of 90 degree bending and the working limit width of close bending are large The copper alloy sheet according to the present invention can be produced. On the other hand, conventionally, aging annealing has been performed only once (see Patent Document 1).

시효 소둔 후, 목표 판 두께까지 마무리의 냉간 압연을 행한다. 가공률은 목표로 하는 제품 강도에 따라서 설정한다.After the aging annealing, finish cold rolling is performed to the target plate thickness. The processing rate is set according to the target product strength.

마무리 냉간 압연 후, 필요에 따라서 단시간 소둔을 행한다. 이 단시간 소둔의 조건은 250∼450℃에서 20∼40초간으로 한다. 이 조건에서 단시간 소둔을 행하는 것에 의해, 마무리 냉간 압연으로 도입된 변형이 제거된다. 또한, 이 조건이면 재료의 연화가 없어 강도의 저하가 적다.After finishing cold rolling, short-time annealing is carried out if necessary. The conditions of this short-time annealing are set at 250 to 450 DEG C for 20 to 40 seconds. By performing the short-time annealing under this condition, the deformation introduced by the finishing cold rolling is removed. Further, under this condition, there is no softening of the material, so that the decrease in strength is small.

<구리 합금판의 표면 피복층><Surface coating layer of copper alloy plate>

구리 합금판에 도금 등에 의해 표면 피복층을 형성하는 것에 의해, 방열 부재의 내식성이 향상되고, 과혹한 환경하에 있어서도 방열 부재로서의 성능이 저하되는 것을 방지할 수 있다.By forming the surface coating layer on the copper alloy plate by plating or the like, the corrosion resistance of the heat radiation member can be improved and the performance as a heat radiation member can be prevented from deteriorating even in a severe environment.

구리 합금판의 표면에 형성하는 표면 피복층으로서, Sn층이 바람직하다. Sn층의 두께가 0.2μm 미만이면, 내식성의 개선이 충분하지는 않고, 5μm를 초과하면 생산성이 저하되어, 비용 상승이 된다. 따라서, Sn층의 두께는 0.2∼5μm로 한다. Sn층은 Sn 금속 및 Sn 합금을 포함한다.As the surface coating layer formed on the surface of the copper alloy sheet, a Sn layer is preferable. If the thickness of the Sn layer is less than 0.2 占 퐉, the improvement of the corrosion resistance is not sufficient, and if it exceeds 5 占 퐉, the productivity is lowered and the cost is increased. Therefore, the thickness of the Sn layer is set to 0.2 to 5 mu m. The Sn layer includes a Sn metal and a Sn alloy.

두께 0.2∼5μm의 Sn층 아래에 Cu-Sn 합금층을 형성할 수 있다. Cu-Sn 합금층의 두께가 3μm를 초과하면, 굽힘 가공성이 저하되기 때문에, Cu-Sn 합금층의 두께는 3μm 이하로 한다. 이 경우, Cu-Sn 합금층 아래에 하지층으로서 추가로 Ni층 또는 Ni-Co 합금층을 형성할 수 있다. Ni층 또는 Ni-Co 합금층의 두께가 3μm를 초과하면, 굽힘 가공성이 저하되기 때문에, Ni층 또는 Ni-Co 합금층의 두께는 3μm 이하로 한다.A Cu-Sn alloy layer can be formed below the Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 m. If the thickness of the Cu-Sn alloy layer exceeds 3 탆, the bending workability is lowered, so that the thickness of the Cu-Sn alloy layer is 3 탆 or less. In this case, a Ni layer or a Ni-Co alloy layer can be further formed as a base layer below the Cu-Sn alloy layer. When the thickness of the Ni layer or the Ni-Co alloy layer exceeds 3 m, the bending workability is lowered, so that the thickness of the Ni layer or the Ni-Co alloy layer is 3 m or less.

표면 피복층으로서, Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 및 Cu-Sn 합금층을 이 순서로 형성할 수 있다. Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 및 Cu-Sn 합금층의 두께는, 굽힘 가공성의 열화를 방지한다는 관점에서, 모두 3μm 이하로 한다.As the surface coating layer, a Ni layer, a Ni-Co alloy layer, and a Cu-Sn alloy layer can be formed in this order. The thicknesses of the Ni layer, the Ni-Co alloy layer, and the Cu-Sn alloy layer are all 3 μm or less from the viewpoint of preventing the deterioration of the bending workability.

표면 피복층으로서, Ni층 또는 Ni-Co 합금층의 어느 1층을 형성할 수 있다. 이들 피복층은, 굽힘 가공성의 열화를 방지한다는 관점에서, 모두 3μm 이하로 한다.As the surface coating layer, any one layer of a Ni layer or a Ni-Co alloy layer can be formed. From the viewpoint of preventing the deterioration of the bending workability, these coating layers are all set to 3 μm or less.

상기 각 피복층은 전기 도금, 리플로 도금, 무전해 도금 또는 스퍼터 등에 의해 형성할 수 있다. Cu-Sn 합금층은, 구리 합금 모재에 Sn 도금을 하거나, 또는 구리 합금 모재에 Cu 도금 및 Sn 도금을 한 후 리플로 처리 등을 행하여, Cu와 Sn을 반응시켜 형성할 수 있다(예를 들면 일본 특허공개 2004-68026호 공보 참조). 리플로 처리의 가열 조건은 230∼600℃×5∼30초로 한다.Each of the coating layers may be formed by electroplating, reflow plating, electroless plating, sputtering or the like. The Cu-Sn alloy layer can be formed by performing Sn plating on a copper alloy base material or by performing copper plating and Sn plating on a copper alloy base material, followed by reflow treatment, etc., and reacting Cu with Sn (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-68026). The heating conditions for the reflow treatment are 230 to 600 ° C for 5 to 30 seconds.

실시예Example

표 1의 No. 1∼21에 나타내는 조성의 구리 합금을 용해시키고, 전기로에 의해 대기 중에서, 두께 50mm, 길이 80mm 및 폭 200mm의 주괴로 용제했다. 그 후, 이 주괴를 950℃에서 1시간 가열한 후, 두께 15mm까지 열간 압연하고, 즉시 수중에 침지하여 급냉했다. 다음으로, 열간 압연재의 표면을 면삭하여 산화막을 제거한 후, 두께 1.0mm까지 냉간 압연을 행했다. 계속해서, 750℃×60초간의 재결정 소둔을 행했다. 한편, 재결정 소둔 후에 판 표면에서 측정한 평균 결정 입경(JIS H 0501로 규정된 절단법으로 측정)은 모두 10μm 미만이었다.No. of Table 1 1 to 21 were melted and dissolved in an ingot with a thickness of 50 mm, a length of 80 mm and a width of 200 mm in the atmosphere by an electric furnace. Thereafter, the ingot was heated at 950 占 폚 for 1 hour, then hot-rolled to a thickness of 15 mm, immediately immersed in water and quenched. Next, the surface of the rolled material was ground to remove the oxide film, followed by cold rolling to a thickness of 1.0 mm. Subsequently, recrystallization annealing at 750 占 폚 for 60 seconds was performed. On the other hand, the average crystal grain size (measured by the cutting method defined by JIS H 0501) measured on the surface of the plate after the recrystallization annealing was less than 10 μm.

이어서 가공률 40%의 냉간 압연을 행한 후, No. 1∼18에 대해서는 시효 소둔을 2회 반복해서 행하고, No. 19∼21에 대해서는 시효 소둔을 1회만 행했다. No. 1∼18에 있어서, 1회째의 시효 소둔은 375℃×5시간의 조건에서 행하고, 일단 실온까지 냉각한 후, 2회째의 시효 소둔을 425℃×2시간의 조건에서 행했다. No. 19∼21의 시효 소둔은 400℃×5시간의 조건에서 행했다. 계속해서, 묽은 황산액으로 표면 산화물을 제거한 후, 가공률 67%로 목표 판 두께의 0.2mm까지 마무리 냉간 압연을 행했다.Subsequently, cold rolling was carried out at a machining rate of 40%. For 1 to 18, aging annealing was repeated twice. For ages 19 to 21, aging annealing was performed only once. No. 1 to 18, the first aging annealing was carried out under the conditions of 375 占 폚 for 5 hours, and after cooling to room temperature once, the second aging annealing was performed under the conditions of 425 占 폚 占 2 hours. No. The aging annealing of 19 to 21 was performed under conditions of 400 DEG C x 5 hours. Subsequently, the surface oxide was removed with a dilute sulfuric acid solution, and then subjected to finish cold rolling to a target plate thickness of 0.2 mm at a working rate of 67%.

마무리 냉간 압연 후, 350℃에서 30초간의 단시간 소둔을 행했다.After completion of the cold rolling, short-time annealing at 350 캜 for 30 seconds was carried out.

이상의 공정에서 얻어진 구리 합금조(제품판)와, 시판 중인 스테인리스 강판(SUS304) 및 알루미늄 합금(5052(H38))을 공시재로 해서, 기계적 특성, 도전율 및 굽힘 한계폭을 하기 요령으로 측정했다. 또한, Wiedemann-Franz 법칙에 의해, 도전율로부터 열전도율을 산출했다. 이들의 결과를 표 2에 나타낸다.The mechanical properties, the electric conductivity and the bending limit width of the copper alloy tank (product plate) obtained in the above process, the commercially available stainless steel plate (SUS304) and the aluminum alloy (5052 (H38)) were measured with the following procedure. Further, the thermal conductivity was calculated from the conductivity by the Wiedemann-Franz rule. The results are shown in Table 2.

Figure pct00001
Figure pct00001

Figure pct00002
Figure pct00002

<기계적 특성><Mechanical Properties>

각 공시재로부터, 길이 방향이 압연 방향에 평행 및 수직이 되도록 JIS 5호 시험편을 채취하고, JIS Z 2241의 규정에 기초해서 인장 시험을 행하여, 압연 방향에 평행 방향() 및 수직 방향(⊥)의 인장 강도, 내력 및 신도를 측정했다.From each disclosure material, a longitudinal direction is taken to JIS 5 test specimen parallel to and perpendicular to the rolling direction and, JIS Z subjected to a tensile test based on the regulations of 2241, a parallel direction (∥) in the rolling direction and the perpendicular direction (⊥ ) Were measured for tensile strength, proof stress and elongation.

<도전율><Conductivity>

도전율은 JIS H 0505의 규정에 기초해서 측정했다.The conductivity was measured based on the provisions of JIS H 0505.

<90도 굽힘의 굽힘 한계폭>&Lt; Bending limit width of 90 degree bending >

공시재로부터, 길이 30mm, 폭 10∼100mm(폭 10, 15, 20, 25…로 5mm 간격으로 100mm 폭까지)의 폭이 상이한 4각형의 시험편(각 폭마다 3개)을 작성했다. 시험편의 길이 30mm의 변의 방향이 공시재의 압연 방향에 평행해지도록 했다. 이 시험편을 이용하여, 도 1에 나타내는 V자 블록(1) 및 누름 금구(2)를 유압 프레스에 세팅하고, 굽힘 반경 R과 판 두께 t의 비 R/t를 0.5로 하고, 굽힘선(도 1의 지면에 수직 방향)의 방향을 시험편(3)의 폭 방향으로 해서(Good Way 굽힘), 90도 굽힘을 행했다. V자 블록(1) 및 누름 금구(2)의 폭(도 1의 지면에 수직 방향의 두께)은 120mm로 했다. 또한, 유압 프레스의 하중은 시험편의 폭 10mm당 1000kgf(9800N)로 했다.Four test pieces (three pieces for each width) having different lengths of 30 mm in length and 10 to 100 mm in width (widths of 10 mm, 15 mm, 20 mm, and 25 mm at intervals of 5 mm to 100 mm in width) were prepared. The direction of the side of the test piece 30 mm in length was parallel to the rolling direction of the specimen. Using this test piece, the V-shaped block 1 and the press fitting 2 shown in Fig. 1 were set in a hydraulic press, the ratio R / t of the bending radius R to the plate thickness t was set to 0.5, 1) in the direction of the width of the test piece 3 (Good Way bending) and bending at 90 degrees. The width of the V-shaped block 1 and the pressing metal 2 (thickness in the direction perpendicular to the paper surface of Fig. 1) was 120 mm. The load of the hydraulic press was set to 1000 kgf (9800 N) per 10 mm width of the test piece.

굽힘 시험 후, 시험편의 굽힘부 외측 전체 길이를 100배의 광학 현미경으로 관찰하여, 3개의 시험편 모두에서 1개소도 균열이 관찰되지 않은 경우를 합격, 그 이외를 불합격으로 판정했다. 합격한 시험편의 최대폭을 그 공시재의 굽힘 한계폭으로 했다.After the bending test, the entire length of the outer side of the bending portion of the test piece was observed with an optical microscope of 100 times, and the case where no crack was observed in one of the three test pieces was judged to be rejected. The maximum width of the passed test specimen was defined as the bending limit width of the specimen.

<밀착 굽힘의 굽힘 한계폭>&Lt; Bending limit width of contact bending >

90도 굽힘 시험과 마찬가지의 방법으로, 공시재로부터, 길이 30mm, 폭 5∼50mm(폭 5, 10, 15, 20…으로 5mm 간격으로 50mm 폭까지)의 폭이 상이한 4각형의 시험편(각 폭마다 3개)을 작성했다. 시험편의 길이 30mm의 변의 방향이 압연 방향에 평행해지도록 했다. 이 시험편을 이용하여, 굽힘 반경 R과 판 두께 t의 비 R/t를 2.0으로 하고, 굽힘선의 방향을 시험편의 폭 방향으로 해서(Good Way), JIS Z 2248의 규정을 따라, 대략 170도까지 굽힌 후, 밀착 굽힘을 행했다.A test piece of a quadrangle shape having different widths of 30 mm in length and 5 to 50 mm in width (5 mm wide, 5 mm wide, 10 mm wide, 15 mm wide and 20 mm wide at intervals of 5 mm) was prepared from the specimen in the same manner as in the 90- Three per each). And the direction of the side of the test piece 30 mm in length was parallel to the rolling direction. Using this test piece, the ratio R / t of the bending radius R to the plate thickness t was set to 2.0, and the direction of the bent line was set in the width direction of the test piece (Good Way), to about 170 degrees in accordance with JIS Z 2248 After bending, close bending was performed.

굽힘 시험 후, 굽힘부에 있어서의 균열의 유무를 100배의 광학 현미경으로 관찰하여, 3개의 시험편 모두에서 1개소도 균열이 관찰되지 않은 경우를 합격, 그 이외를 불합격으로 판정했다. 합격한 시험편의 최대폭을 그 공시재의 굽힘 한계폭으로 했다.After the bending test, the presence or absence of cracks in the bent portion was observed with an optical microscope of 100 times, and in the case where no cracks were observed at one portion in all three test pieces, the test was judged to be rejected. The maximum width of the passed test specimen was defined as the bending limit width of the specimen.

표 1 및 2에 나타내는 바와 같이, 본 발명에 규정된 합금 조성을 갖고, 제조 공정의 일부로서 시효 소둔을 2회 반복해서 행한 No. 1∼9는 인장 강도, 내력, 신도, 도전율, 90도 굽힘 및 밀착 굽힘의 굽힘 한계폭이 본 발명의 규정을 만족시킨다.As shown in Tables 1 and 2, the alloy composition having the alloy composition defined in the present invention and having the composition obtained by repeatedly performing the aging annealing twice as a part of the manufacturing process was evaluated. The tensile strength, the proof stress, the elongation, the conductivity, the bending limit widths of 90 degree bending and the close bending satisfy the requirements of the present invention.

한편, 본 발명에 규정된 합금 조성을 갖지 않는 No. 10∼18 및 제조 공정의 일부로서 시효 소둔을 1회만 행한 No. 19∼21은 인장 강도, 내력, 신도, 도전율, 90도 굽힘 및 밀착 굽힘의 굽힘 한계폭 중 어느 하나 이상이 본 발명의 규정을 만족시키지 않는다.On the other hand, the alloy having no alloy composition specified in the present invention, No. 10 to 18, and No. 1 subjected to the aging annealing only once as a part of the manufacturing process. 19 to 21 do not satisfy at least one of the tensile strength, the proof stress, the elongation, the conductivity, the 90 degree bending, and the bending limit width of the close bending.

No. 10은 Ni 함유량이 부족하여, 강도가 낮다.No. 10 had insufficient Ni content and had low strength.

No. 11은 Ni 함유량이 과잉이어서, Ni-P 화합물이 많이 정출되고, 열간 압연 시에 균열이 발생하여, 이후의 공정을 실시할 수 없었다.No. 11 had excessive Ni content, and a large amount of Ni-P compound was formed, and cracking occurred during hot rolling, and subsequent steps could not be carried out.

No. 12는 Fe 함유량이 부족하여, Ni-P 화합물이 많이 정출되고, 열간 압연 시에 균열이 발생하여, 이후의 공정을 실시할 수 없었다.No. 12 contained an insufficient amount of Fe, so that a large amount of Ni-P compound was formed, cracking occurred during hot rolling, and subsequent steps could not be carried out.

No. 13은 Fe 함유량이 과잉이기 때문에, 도전율 및 열전도율이 낮다.No. 13 has an excessive Fe content, and therefore has low conductivity and low thermal conductivity.

No. 14는 P 함유량이 과잉이어서, Ni-P 화합물이 많이 정출되고, 열간 압연 시에 균열이 발생하여, 이후의 공정을 실시할 수 없었다.No. 14 contained excessive amounts of P, so that a large amount of Ni-P compounds were formed, cracking occurred during hot rolling, and subsequent steps could not be carried out.

No. 15는 P 함유량이 부족하여, 강도가 낮다.No. 15 has insufficient P content and low strength.

No. 16∼18은 모두 부성분의 함유량이 과잉이어서, 도전율 및 열전도율이 낮고, 굽힘 한계폭이 작다.No. 16 to 18 all have an excessive content of the subcomponent, so that the electric conductivity and the thermal conductivity are low, and the bending limit width is small.

No. 19∼21은 시효 소둔을 1회만 행한 종래 공정재여서, 굽힘 한계폭이 부족하다.No. 19 to 21 are conventional processes that have been subjected to aging annealing only once, so that the bending limit width is insufficient.

또한, 시판 중인 스테인리스 강판인 No. 22는 도전율 및 열전도율이 낮고, 시판 중인 알루미늄 합금판인 No. 23은 강도가 낮고, 도전율 및 열전도율이 낮다.In addition, the commercially available stainless steel sheet No. 22 has a low electric conductivity and a low thermal conductivity, and is a commercially available aluminum alloy plate. 23 is low in strength and low in conductivity and thermal conductivity.

다음으로, 표 1의 No. 2의 구리 합금조(제품판)를 공시재로 하고, 표면에 Ni 도금, Cu 도금, Sn 도금, Cu-Sn 도금 및 Ni-Co 합금 도금의 1종 또는 2종 이상을 각각 소정의 두께로 실시했다. 각 도금의 도금욕 조성 및 도금 조건을 표 3에, 각 도금층의 두께를 표 4에 나타낸다. 한편, 표 4의 No. 24∼26, 29, 30 및 32∼35는 전기 도금 후 리플로 처리를 실시한 것이고, 각 도금층의 두께는 리플로 처리 후의 것이다. No. 24∼26, 29, 30 및 32∼35의 Cu-Sn층은 리플로 처리에 의해, Cu 도금의 Cu와 Sn 도금의 Sn이 반응하여 형성된 것이다. 한편, 이 Cu 도금은 리플로 처리에 의해 소멸했다.Next, as shown in Fig. Cu plating, Cu plating, Cu-Sn plating and Ni-Co alloy plating are applied to the surface of the copper alloy plate (product board) did. Table 3 shows the plating bath composition and plating condition of each plating, and Table 4 shows the thickness of each plating layer. On the other hand, in Table 4, No. 24 to 26, 29, 30 and 32 to 35 are those obtained by performing a reflow treatment after electroplating, and the thicknesses of the respective plating layers are those after the reflow treatment. No. The Cu-Sn layers 24 to 26, 29, 30 and 32 to 35 are formed by the reaction of Cu of Cu plating and Sn of Sn plating by a reflow treatment. On the other hand, this Cu plating was destroyed by the reflow treatment.

Figure pct00003
Figure pct00003

Figure pct00004
Figure pct00004

각 도금층의 두께는 하기 요령으로 측정했다.The thickness of each plating layer was measured in the following manner.

<Sn층><Sn layer>

우선, 형광 X선 막 두께계(세이코전자공업주식회사; 형식 SFT3200)를 이용하여 Sn층 합계 두께(Cu-Sn 합금층을 포함하는 Sn층 합계 두께)를 측정한다. 그 후, p-나이트로페놀 및 가성 소다를 주성분으로 하는 박리액에 10분간 침지하고, Sn층을 박리 후, 형광 X선 막 두께계를 이용하여, Cu-Sn 합금층 중의 Sn량을 측정한다. 이와 같이 해서 구한 Sn층 합계 두께로부터 Cu-Sn 합금층 중의 Sn량을 빼는 것에 의해, Sn층 두께를 산출했다.First, the total thickness of the Sn layer (the total thickness of the Sn layer including the Cu-Sn alloy layer) is measured using a fluorescent X-ray film thickness meter (Seiko Electronics Industry Co., Ltd., type SFT3200). Thereafter, the substrate was immersed in a peeling solution containing p-nitrophenol and caustic soda as a main component for 10 minutes, and the Sn layer was peeled off, and then the amount of Sn in the Cu-Sn alloy layer was measured using a fluorescent X-ray film thickness meter . The Sn layer thickness was calculated by subtracting the amount of Sn in the Cu-Sn alloy layer from the total thickness of the Sn layer thus obtained.

<Cu-Sn 합금층><Cu-Sn alloy layer>

p-나이트로페놀 및 가성 소다를 주성분으로 하는 박리액에 10분간 침지하고, Sn층을 박리 후, 형광 X선 막 두께계를 이용하여, Cu-Sn 합금층 중의 Sn량을 측정한다. Cu-Sn 합금층의 두께는 Sn 환산 두께이다.p-nitrophenol, and caustic soda for 10 minutes. After peeling off the Sn layer, the amount of Sn in the Cu-Sn alloy layer is measured using a fluorescent X-ray film thickness meter. The thickness of the Cu-Sn alloy layer is the Sn-converted thickness.

<Ni층, Co층, Ni-Co 합금층><Ni layer, Co layer, Ni-Co alloy layer>

Ni층, Co층 및 Ni-Co 합금층의 두께는 형광 X선 막 두께계를 이용하여 측정했다.The thicknesses of the Ni layer, the Co layer and the Ni-Co alloy layer were measured using a fluorescent X-ray film thickness meter.

No. 24∼36의 각 공시재로부터 시험편을 작성하고, 내식성 및 굽힘 가공성을 하기 요령으로 측정했다.No. Test specimens were prepared from the respective specimens 24 to 36, and the corrosion resistance and the bending workability were measured in the following manner.

<내식성><Corrosion resistance>

내식성은 염수 분무 시험으로 평가했다. 5질량%의 NaCl을 포함하는 99.0% 탈이온수(와코준야쿠공업주식회사제)를 이용하고, 시험 조건은 시험 온도: 35℃±1℃, 분무액 PH: 6.5∼7.2 및 분무 압력: 0.07∼0.17MPa(0.098±0.01MPa)로 하여, 72시간 분무 후에 수세 및 건조했다. 계속해서 실체 현미경으로 시험편의 표면을 관찰하여, 부식(모재 부식과 도금 표면의 점상 부식)의 유무를 관찰했다.The corrosion resistance was evaluated by a salt spray test. (Manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) containing 5% by mass of NaCl was used, and the test conditions were as follows: test temperature: 35 占 폚 占 1 占 폚, spray solution pH: 6.5 to 7.2 and spray pressure: 0.07 to 0.17 MPa (0.098 占 .01 MPa), sprayed for 72 hours, and then washed with water and dried. Subsequently, the surface of the test piece was observed with a stereoscopic microscope to observe whether or not there was corrosion (base material corrosion and spot corrosion on the surface of the plating).

<도금의 굽힘 가공성 평가>&Lt; Evaluation of bending workability of plating &

공시재로부터, 길이 30mm 및 폭 20mm의 4각형의 시험편(각 폭마다 3개)을 작성했다. 시험편의 길이 30mm의 변의 방향이 공시재(모재)의 압연 방향에 평행해지도록 했다. 이 시험편을 이용하여, 도 1에 나타내는 V자 블록(1) 및 누름 금구(2)를 유압 프레스에 세팅하고, 굽힘 반경 R과 판 두께 t의 비 R/t를 2.0으로 하고, 굽힘선의 방향을 모재의 압연 방향에 수직 방향을 향해, 90도 굽힘을 행했다. 유압 프레스의 하중은 시험편의 폭 10mm당 1000kgf(9800N)로 했다.Four test pieces (three pieces for each width) having a length of 30 mm and a width of 20 mm were prepared from the blank. The direction of the side of the test piece 30 mm in length was parallel to the rolling direction of the blank (base material). Using this test piece, the V-shaped block 1 and the press fitting 2 shown in Fig. 1 were set in a hydraulic press, and the ratio R / t of the bending radius R to the plate thickness t was set to 2.0, and the direction of the bent line 90 degrees bending was performed in a direction perpendicular to the rolling direction of the base material. The load of the hydraulic press was set to 1000 kgf (9800 N) per 10 mm width of the test piece.

굽힘 시험 후, 시험편의 굽힘부 외측 전체 길이를 100배의 광학 현미경으로 관찰하여, 3개의 시험편 모두에서 1개소도 균열이 관찰되지 않은 경우를 균열 없음, 1개소라도 균열이 관찰된 경우를 균열 있음으로 판정했다.After the bending test, the entire length of the outer side of the bending portion of the test piece was observed with an optical microscope at a magnification of 100, and no crack was observed in any one of the three test pieces, and no crack was observed in any of the three test pieces. .

표 4에 나타내는 바와 같이, 본 발명에 규정된 도금 구성 및 각 도금층 두께를 갖는 No. 24∼33은 염수 분무 시험에서 모재 부식이 관찰되지 않고, 굽힘 가공성 시험에서 균열이 발생하지 않았다. 한편, Ni층 또는 Ni-Co 합금층으로 이루어지는 하지층이 형성되어 있지 않은 No. 26, 및 Sn층이 잔류하지 않고 Cu-Sn 합금층이 표면에 노출된 No. 30은 모재 부식은 관찰되지 않았지만, 점상 부식(피복층 표면이 점상으로 부식되는 현상)이 관찰되었다.As shown in Table 4, the plating composition and the thickness of each plating layer specified in the present invention were measured. 24 to 33, no corrosion of the base material was observed in the salt spray test, and cracking did not occur in the bending workability test. On the other hand, the Ni layer or the Ni-Co alloy layer is not formed. 26, and No. 5, in which the Sn layer was not remained and the Cu-Sn alloy layer was exposed on the surface. 30 showed no erosion of the base material, but spot erosion (phenomenon that the surface of the coating layer was corroded) was observed.

한편, 도금층 두께가 본 발명의 규정을 벗어나는 No. 34∼36은 염수 분무 시험에서 모재 부식이 관찰되었거나, 굽힘 가공성 시험에서 도금에 균열이 발생했다.On the other hand, when the thickness of the plating layer is outside the range of the present invention, 34 to 36 showed corrosion of the base material in the salt spray test or cracking in the plating in the bending workability test.

No. 34는 Sn층의 두께가 얇아, 모재 부식이 발생했다.No. 34, the thickness of the Sn layer was thin, and corrosion of the base material occurred.

No. 35, 36은 Cu-Sn 합금층 또는 Ni층의 두께가 두꺼워, 굽힘 가공 시험에서 도금에 균열이 발생했다.No. 35, and 36, the thickness of the Cu-Sn alloy layer or the Ni layer was thick, and cracking occurred in the plating in the bending test.

본 명세서의 개시 내용은 이하의 태양을 포함한다.The disclosure of the present specification includes the following aspects.

태양 1: Sun 1:

Ni: 0.1∼1.0mass%, Fe: 0.01∼0.3mass%, P: 0.03∼0.2mass%를 포함하고, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어지고, 압연 평행 방향의 인장 강도가 580MPa 이상, 내력이 560MPa 이상, 신도가 6% 이상, 압연 직각 방향의 인장 강도가 600MPa 이상, 내력이 580MPa 이상, 신도가 3% 이상이며, 도전율이 50% IACS 이상, 굽힘 반경 R과 판 두께 t의 비 R/t를 0.5로 하고 굽힘선의 방향을 압연 수직 방향으로 한 90도 굽힘을 행했을 때의 굽힘 가공 한계폭이 70mm 이상, 굽힘선의 방향을 압연 수직 방향으로 한 밀착 굽힘을 행했을 때의 굽힘 가공 한계폭이 20mm 이상인 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.And a balance of Cu and inevitable impurities, wherein the tensile strength in the rolling parallel direction is at least 580 MPa, the proof stress is at least 560 MPa , The elongation is 6% or more, the tensile strength in the direction perpendicular to the rolling direction is 600 MPa or more, the proof strength is 580 MPa or more, the elongation is 3% or more, the conductivity is 50% IACS or more and the ratio R / t of the bending radius R to the plate thickness t 0.5, and the bending limit width when the 90 degree bend was performed in which the direction of the line of bending was set to the vertical direction of rolling was 70 mm or more, and the bending limit width when the bending line direction was the rolling vertical direction was 20 mm Or more of the copper alloy sheet for heat dissipation parts.

태양 2: Sun 2:

추가로, Si, Zn, Sn, Co, Al, Cr, Mg, Mn, Ca, Pb, Ti 및 Zr의 1종 또는 2종 이상을 합계로 0.3mass% 이하(0질량%를 포함하지 않음) 포함하는 것을 특징으로 하는 태양 1에 기재된 방열 부품용 구리 합금판.(Including 0 mass% or less) of one or more of Si, Zn, Sn, Co, Al, Cr, Mg, Mn, Ca, Pb, Ti and Zr in total The copper alloy sheet for a heat-dissipating component according to the first aspect of the present invention.

태양 3: Sun 3:

제조 공정의 일부로서 시효 소둔을 복수회 반복해서 행하는 것을 특징으로 하는 태양 1 또는 2에 기재된 방열 부품용 구리 합금판.A copper alloy plate for a heat dissipation component according to one of claims 1 to 3, characterized in that the aging annealing is repeated a plurality of times as a part of the manufacturing process.

태양 4: Sun 4:

표면에 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 태양 1∼3 중 어느 하나에 기재된 방열 부품용 구리 합금판.A copper alloy plate for a heat-dissipating component according to any one of claims 1 to 3, wherein a Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 占 퐉 is formed on the surface.

태양 5: Sun 5:

표면에 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층과 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 태양 1∼3 중 어느 하나에 기재된 방열 부품용 구리 합금판.A copper alloy plate for a heat dissipation component according to any one of the first to third aspects, wherein a Cu-Sn alloy layer having a thickness of 3 μm or less and a Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 μm are formed on the surface in this order.

태양 6: Sun 6:

표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층, 및 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 태양 1∼3 중 어느 하나에 기재된 방열 부품용 구리 합금판.Wherein a Ni layer or a Ni-Co alloy layer of 3 mu m or less in thickness, a Cu-Sn alloy layer of 3 mu m or less in thickness, and a Sn layer of 0.2 to 5 mu m in thickness are formed on the surface in this order The copper alloy plate for a heat dissipating component described in one of

태양 7: Sun 7:

표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 및 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 태양 1∼3 중 어느 하나에 기재된 방열 부품용 구리 합금판.A copper alloy for a heat dissipation component according to any one of the first to third aspects, wherein a Ni layer or a Ni-Co alloy layer with a thickness of 3 탆 or less and a Cu-Sn alloy layer with a thickness of 3 탆 or less are formed on the surface in this order plate.

태양 8: Sun 8:

표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층의 어느 1층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 태양 1∼3 중 어느 하나에 기재된 방열 부품용 구리 합금판.The copper alloy plate for a heat-dissipating component according to any one of the first to third aspects, wherein a single layer of a Ni layer or a Ni-Co alloy layer having a thickness of 3 탆 or less is formed on the surface.

태양 9: Sun 9:

태양 1∼8 중 어느 하나에 기재된 방열 부품용 구리 합금판을 가공하여 제작된 방열 부품.A heat-dissipating component produced by processing a copper alloy plate for a heat-dissipating component according to any one of the first to eighth aspects.

본 출원은, 출원일이 2015년 3월 30일인 일본 특허출원, 특원 제2015-068589호를 기초 출원으로 하는 우선권 주장을 수반한다. 특원 제2015-068589호는 참조하는 것에 의해 본 명세서에 원용된다.The present application is accompanied by a priority claim based on Japanese Patent Application No. 2015-068589 filed on March 30, 2015 as the filing date. Mentionee &lt; RTI ID = 0.0 &gt; 2015-068589 &lt; / RTI &gt;

1: V자 블록
2: 누름 금구
1: V-shaped block
2:

Claims (25)

Ni: 0.1∼1.0mass%, Fe: 0.01∼0.3mass%, P: 0.03∼0.2mass%를 포함하고, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어지고, 압연 평행 방향의 인장 강도가 580MPa 이상, 내력이 560MPa 이상, 신도가 6% 이상, 압연 직각 방향의 인장 강도가 600MPa 이상, 내력이 580MPa 이상, 신도가 3% 이상이며, 도전율이 50% IACS 이상, 굽힘 반경 R과 판 두께 t의 비 R/t를 0.5로 하고 굽힘선의 방향을 압연 수직 방향으로 한 90도 굽힘을 행했을 때의 굽힘 가공 한계폭이 70mm 이상, 굽힘선의 방향을 압연 수직 방향으로 한 밀착 굽힘을 행했을 때의 굽힘 가공 한계폭이 20mm 이상인 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.And a balance of Cu and inevitable impurities, wherein the tensile strength in the rolling parallel direction is at least 580 MPa, the proof stress is at least 560 MPa , The elongation is 6% or more, the tensile strength in the direction perpendicular to the rolling direction is 600 MPa or more, the proof strength is 580 MPa or more, the elongation is 3% or more, the conductivity is 50% IACS or more and the ratio R / t of the bending radius R to the plate thickness t 0.5, and the bending limit width when the 90 degree bend was performed in which the direction of the line of bending was set to the vertical direction of rolling was 70 mm or more, and the bending limit width when the bending line direction was the rolling vertical direction was 20 mm Or more of the copper alloy sheet for heat dissipation parts. 제 1 항에 있어서,
추가로, Si, Zn, Sn, Co, Al, Cr, Mg, Mn, Ca, Pb, Ti 및 Zr의 1종 또는 2종 이상을 합계로 0.3mass% 이하(0질량%를 포함하지 않음) 포함하는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method according to claim 1,
(Including 0 mass% or less) of one or more of Si, Zn, Sn, Co, Al, Cr, Mg, Mn, Ca, Pb, Ti and Zr in total Wherein the copper alloy plate for a heat dissipation component is a copper alloy plate for a heat dissipation component.
제 1 항에 있어서,
제조 공정의 일부로서 시효 소둔을 복수회 반복해서 행하는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method according to claim 1,
Characterized in that the aging annealing is repeated a plurality of times as a part of the manufacturing process.
제 2 항에 있어서,
제조 공정의 일부로서 시효 소둔을 복수회 반복해서 행하는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
3. The method of claim 2,
Characterized in that the aging annealing is repeated a plurality of times as a part of the manufacturing process.
제 1 항에 있어서,
표면에 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method according to claim 1,
And a Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 占 퐉 is formed on the surface of the copper alloy plate.
제 2 항에 있어서,
표면에 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
3. The method of claim 2,
And a Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 占 퐉 is formed on the surface of the copper alloy plate.
제 3 항에 있어서,
표면에 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method of claim 3,
And a Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 占 퐉 is formed on the surface of the copper alloy plate.
제 4 항에 있어서,
표면에 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
5. The method of claim 4,
And a Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 占 퐉 is formed on the surface of the copper alloy plate.
제 1 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층과 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method according to claim 1,
Wherein a copper-Sn alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less and a Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 占 퐉 are formed on the surface in this order.
제 2 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층과 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
3. The method of claim 2,
Wherein a copper-Sn alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less and a Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 占 퐉 are formed on the surface in this order.
제 3 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층과 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method of claim 3,
Wherein a copper-Sn alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less and a Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 占 퐉 are formed on the surface in this order.
제 4 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층과 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
5. The method of claim 4,
Wherein a copper-Sn alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less and a Sn layer having a thickness of 0.2 to 5 占 퐉 are formed on the surface in this order.
제 1 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층, 및 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method according to claim 1,
A Ni alloy layer, a Ni-Co alloy layer, a Cu-Sn alloy layer with a thickness of 3 탆 or less, and a Sn layer with a thickness of 0.2 to 5 탆 in a thickness of 3 탆 or less are formed on the surface in this order. .
제 2 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층, 및 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
3. The method of claim 2,
A Ni alloy layer, a Ni-Co alloy layer, a Cu-Sn alloy layer with a thickness of 3 탆 or less, and a Sn layer with a thickness of 0.2 to 5 탆 in a thickness of 3 탆 or less are formed on the surface in this order. .
제 3 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층, 및 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method of claim 3,
A Ni alloy layer, a Ni-Co alloy layer, a Cu-Sn alloy layer with a thickness of 3 탆 or less, and a Sn layer with a thickness of 0.2 to 5 탆 in a thickness of 3 탆 or less are formed on the surface in this order. .
제 4 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층, 및 두께 0.2∼5μm의 Sn층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
5. The method of claim 4,
A Ni alloy layer, a Ni-Co alloy layer, a Cu-Sn alloy layer with a thickness of 3 탆 or less, and a Sn layer with a thickness of 0.2 to 5 탆 in a thickness of 3 탆 or less are formed on the surface in this order. .
제 1 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 및 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method according to claim 1,
Wherein a Ni layer or a Ni-Co alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less and a Cu-Sn alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less are formed on the surface in this order.
제 2 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 및 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
3. The method of claim 2,
Wherein a Ni layer or a Ni-Co alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less and a Cu-Sn alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less are formed on the surface in this order.
제 3 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 및 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method of claim 3,
Wherein a Ni layer or a Ni-Co alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less and a Cu-Sn alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less are formed on the surface in this order.
제 4 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층, 및 두께 3μm 이하의 Cu-Sn 합금층이 이 순서로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
5. The method of claim 4,
Wherein a Ni layer or a Ni-Co alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less and a Cu-Sn alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less are formed on the surface in this order.
제 1 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층의 어느 1층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method according to claim 1,
Wherein one layer of a Ni layer or a Ni-Co alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less is formed on the surface of the copper alloy plate.
제 2 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층의 어느 1층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
3. The method of claim 2,
Wherein one layer of a Ni layer or a Ni-Co alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less is formed on the surface of the copper alloy plate.
제 3 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층의 어느 1층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
The method of claim 3,
Wherein one layer of a Ni layer or a Ni-Co alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less is formed on the surface of the copper alloy plate.
제 4 항에 있어서,
표면에 두께 3μm 이하의 Ni층 또는 Ni-Co 합금층의 어느 1층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열 부품용 구리 합금판.
5. The method of claim 4,
Wherein one layer of a Ni layer or a Ni-Co alloy layer having a thickness of 3 占 퐉 or less is formed on the surface of the copper alloy plate.
제 1 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 기재된 방열 부품용 구리 합금판을 가공하여 제작된 방열 부품.A heat-dissipating component produced by processing the copper alloy plate for a heat-dissipating component according to any one of claims 1 to 24.
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