KR20170095127A - 도광판용 조성물 및 도광판 - Google Patents

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KR20170095127A
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케이스케 츠키마와시
토모타카 시노다
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제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

(과제) 빛을 보다 높은 휘도로 광 출사면측에 균질하게 출사할 수 있는 도광판을 제작할 수 있고, 또한, 보존 안정성도 우수한 도광판용 조성물을 제공한다.
(해결 수단) 본 발명에 따른 도광판용 조성물은, 광 확산 입자(A)와, 분산 매체(B)와, 물(C)을 함유하는 도광판용 조성물로서, 상기 광 확산 입자(A)의 함유량을 Ma질량부, 상기 물(C)의 함유량을 Mc질량부로 했을 때에, 양자의 비 Ma/Mc가 5∼500인 것을 특징으로 한다.

Description

도광판용 조성물 및 도광판{COMPOSITION FOR USE IN LIGHT GUIDE PLATE AND LIGHT GUIDE PLATE}
본 발명은, 도광판용 조성물 및, 특히 엣지 라이트형 면 발광 장치에 적합한 도광판에 관한 것이다.
액정 표시 패널이나 간판 등에 이용되는 면 발광 장치는, 광원을 면 형상으로 배치하여 확산판 등에 의해 면 균일 발광을 형성하는 직하형과, 광원을 도광판의 단면에 배치한 엣지 라이트형이 알려져 있다.
엣지 라이트형 면 발광 장치는, 광원과 도광판을 구비한다. 도광판은, 도광 기판과 광 확산부를 구비하여, 광원으로부터의 빛은 도광판 내부를 전파하고, 도광 기판 표면에 배치된 광 확산부에 의해 면 형상으로 출사된다. 이러한 도광판은, 특허문헌 1∼4에 기재되어 있는 바와 같이, 광 확산 입자를 함유하는 도광판용 조성물을 도광 기판에 도포하여 광 확산부를 제작하여, 제조된다.
일본공개특허공보 평09-145937호 일본공개특허공보 2010-146771호 일본공개특허공보 2012-216528호 일본공개특허공보 2012-178345호
이러한 면 발광 장치에는 더 한층의 에너지 효율의 향상이 요구되고 있고, 광원으로부터 도광 기판에 공급된 빛을, 보다 효율 좋게 도광 기판의 광 출사면측으로 충분히 취출하는 기술이 요구되고 있다. 그러기 위해서는, 도광 기판 표면에 배치된 광 확산부가 충분히 기능할 필요가 있다. 그러나, 종래의 광 확산부를 형성하기 위한 도광판용 조성물은, 외부로부터의 수분의 흡수 등에 의해 보존 안정성이 손상되는 경우가 있었다. 그리고, 이러한 도광판용 조성물을 이용하여 광 확산부를 제작하면, 광 확산 기능에 불균일이 발생해 버리는 문제가 있었다.
그래서, 본 발명에 따른 몇 가지의 태양은, 상기 과제의 적어도 일부를 해결함으로써, 빛을 보다 높은 휘도로 광 출사면측에 균질하게 출사할 수 있는 도광판을 제작할 수 있고, 또한, 보존 안정성도 우수한 도광판용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명은 전술의 과제의 적어도 일부를 해결하기 위해 이루어진 것이고, 이하의 태양 또는 적용예로서 실현할 수 있다.
[적용예 1]
본 발명에 따른 도광판용 조성물의 일 태양은,
광 확산 입자(A)와,
분산 매체(B)와,
물(C)을, 함유하는 도광판용 조성물로서,
상기 광 확산 입자(A)의 함유량을 Ma질량부, 상기 물(C)의 함유량을 Mc질량부로 했을 때에, 양자의 비(比) Ma/Mc가 5∼500인 것을 특징으로 한다.
[적용예 2]
적용예 1의 도광판용 조성물에 있어서,
상기 광 확산 입자(A)의 입자경 분포의 표준 편차를 수 평균 입자경으로 나눈 값(입자 변동 계수)이 0.01∼0.2일 수 있다.
[적용예 3]
적용예 1 또는 적용예 2의 도광판용 조성물에 있어서,
상기 광 확산 입자(A)의 장경(Rmax)과 단경(Rmin)의 비율(Rmax/Rmin)이 1.01∼1.2의 범위에 있을 수 있다.
[적용예 4]
적용예 1 내지 적용예 3 중 어느 일 예의 도광판용 조성물에 있어서,
상기 분산 매체(B)로서 광 중합성 성분을 포함할 수 있다.
[적용예 5]
적용예 1 내지 적용예 4 중 어느 일 예의 도광판용 조성물에 있어서,
추가로, 라디칼 포착제(D)를 함유할 수 있다.
[적용예 6]
적용예 5의 도광판용 조성물에 있어서,
상기 광 확산 입자(A)의 함유량을 Ma질량부, 상기 라디칼 포착제(D)의 함유량을 Md질량부로 했을 때에, 양자의 비 Ma/Md가 20∼500일 수 있다.
[적용예 7]
적용예 1 내지 적용예 6 중 어느 일 예의 도광판용 조성물에 있어서,
추가로, 이소티아졸린계 화합물(E)을 함유할 수 있다.
[적용예 8]
적용예 7의 도광판용 조성물에 있어서,
상기 광 확산 입자(A)의 함유량을 Ma질량부, 상기 이소티아졸린계 화합물(E)의 함유량을 Me질량부로 했을 때에, 양자의 비 Ma/Me가 50∼600일 수 있다.
[적용예 9]
본 발명에 따른 도광판의 일 태양은,
적용예 1 내지 적용예 8 중 어느 일 예의 도광판용 조성물을 이용하여 제작된 것인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 도광판용 조성물에 의하면, 당해 조성물을 도광 기판에 도포하여 광 확산부를 형성함으로써, 휘도 불균일이나 색도 불균일을 억제할 수 있기 때문에, 빛을 보다 높은 휘도로 광 출사면측에 균질하게 출사할 수 있는 도광판을 제작할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 도광판용 조성물은, 보존 안정성도 우수하다.
도 1은 엣지 라이트형 면 발광 장치의 일 예를 나타내는 단면 개념도이다.
도 2는 도광판의 광 확산부가 형성되어 있는 측의 평면도이다.
도 3은 광 확산 입자(A)의 장경 및 단경의 개념을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
도 4는 광 확산 입자(A)의 장경 및 단경의 개념을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
도 5는 광 확산 입자(A)의 장경 및 단경의 개념을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
도 6은 이형 입자의 개념을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
도 7은 이형 입자의 개념을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
도 8은 이형 입자의 개념을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
도 9는 이형 입자의 개념을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
도 10은 이형 입자의 개념을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
도 11은 이형 입자의 개념을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
(발명을 실시하기 위한 형태)
이하, 본 발명에 따른 적합한 실시 형태에 대해서 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은, 하기의 실시 형태에만 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위에 있어서 실시되는 각종의 변형예도 포함하는 것으로서 이해되어야 한다. 또한, 본 명세서에 있어서의 「(메타)아크릴산∼」이란, 「아크릴산∼」 및 「메타크릴산∼」의 쌍방을 포괄하는 개념이다. 또한, 「∼(메타)아크릴레이트」란, 「∼아크릴레이트」 및 「∼메타크릴레이트」의 쌍방을 포괄하는 개념이다. 또한, 「(메타)아크릴로일」이란, 「아크릴로일」 및 「메타크릴로일」의 쌍방을 포괄하는 개념이다.
또한, 본 명세서 중에서는, 광 확산 입자(A)를 「(A) 성분」, 분산 매체(B)를 「(B) 성분」, 물(C)을 「(C) 성분」으로 약기하여 이용하는 경우가 있다.
1. 도광판용 조성물
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물(이하, 단순히 「조성물」이라고도 함)은, 도광판의 광 확산부를 형성하기 위해 이용되는 조성물이다. 본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물은, 광 확산 입자(A)와, 분산 매체(B)와, 물(C)을 함유한다. 이하, 본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물에 포함될 수 있는 성분에 대해서 상세하게 설명한다.
1.1. 광 확산 입자(A)
광 확산 입자(A)로서, 무기 입자나 유기 입자를 사용할 수 있다. 무기 입자로서는, 탄산 칼슘 입자, 황산 바륨 입자, 이산화티탄 입자 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 유기 입자로서는, 코어셸형의 유기 입자, 중공상의 유기 입자, 구형이 아닌 형상의 이형 유기 입자 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 본 발명에 이용되는 광 확산 입자(A)는, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
이러한 광 확산 입자(A)의 수 평균 입자경(Dn)은, 광 확산 입자(A)가 유기 입자인 경우에는, 0.3∼2㎛가 바람직하고, 0.4∼1.8㎛가 보다 바람직하다. 한편, 광 확산 입자(A)가 무기 입자인 경우에는, 0.5∼3㎛가 바람직하고, 0.8∼2.8㎛가 보다 바람직하다. 광 확산 입자(A)의 수 평균 입자경(Dn)은, 동적 광 산란법을 측정 원리로 하는 입도 분포 측정 장치를 이용함으로써 측정할 수 있다.
「동적 광산란법에 의해 측정된 수 평균 입자경」이란, 동적 광산란법을 측정 원리로 하는 입도 분포 측정 장치를 이용하여 산란광 강도의 흔들림을 관측하여, 광자 상관법에 의해 자기 상관 함수를 구하고, 큐뮬런트법 및 히스토그램법 해석을 적용함으로써 구한 수 평균 입자경을 말한다.
동적 광산란법을 측정 원리로 하는 입도 분포 측정 장치로서는, 벡크만·쿨터사 제조의 나노 입자 애널라이저 「DelsaNano S」, Malvern사 제조의 「Zetasizer nano zs」, 오츠카덴시 가부시키가이샤 제조의 「ELSZ-1000ZS」 등을 들 수 있다.
수 평균 입자경(Dn)이 상기 범위 내에 있는 무기 입자는, 시판품으로부터 입도 분포에 기초하여 적절히 선택함으로써 입수가 가능하다. 또한, 코어셸 입자, 중공 입자, 이형 입자 등은, 국제공개공보 제2005/071014호나 일본공개특허공보 2013-93205호에 기재된 방법에 의해 제작할 수 있다.
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물에 포함되는 광 확산 입자(A)의 입자 변동 계수(CV값)는, 0.01∼0.2의 범위에 있는 것이 바람직하고, 0.02∼0.15의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 도광판에 있어서는 광 출사면측에 빛을 균질하게 확산시킬 필요가 있지만, 광 확산 입자(A)의 입자 변동 계수가 상기 범위 내에 있으면, 이 입자경의 분포 정도가 빛을 균질하게 확산시키기 쉬운 상태를 만들어 내어, 빛의 난반사를 저감할 수 있는 것이 밝혀졌다. 이에 따라, 도광판의 광 취출 효율이 향상한다.
또한, 입자 변동 계수(CV값)는, 하기식 (1)에 의해 구할 수 있다.
CV값＝(입자경 분포의 표준 편차(σ)/수 평균 입자경(Dn))…(1)
광 확산 입자(A)에 있어서의 장경(Rmax)과 단경(Rmin)의 비율(Rmax/Rmin)은, 1.01∼1.2의 범위에 있는 것이 바람직하고, 1.02∼1.15의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 비율(Rmax/Rmin)이 상기 범위에 있으면, 광 확산 입자(A)의 표면적이 증대하고 또한 광 확산 입자(A)의 표면이 진구(眞球)의 곡면이 아니게 되기 때문에, 빛의 산란 효율이 커져, 도광판의 평균 휘도가 커진다.
광 확산 입자(A)의 장경(Rmax)이란, 투과형 전자 현미경에 의해 촬영된 하나의 독립한 광 확산 입자의 상(像)에 대해서, 상의 단부와 단부를 연결한 직선 중 가장 긴 직선의 거리를 의미하는 것으로 한다. 광 확산 입자(A)의 단경(Rmin)이란, 투과형 전자 현미경에 의해 촬영된 하나의 독립한 광 확산 입자의 상에 대해서, 상의 단부와 단부를 연결한 직선 중 가장 짧은 직선의 거리를 의미하는 것으로 한다.
예를 들면, 도 3에 나타내는 바와 같이 투과형 전자 현미경에 의해 촬영된 하나의 독립한 광 확산 입자(40a)의 상이 타원 형상인 경우, 그 타원 형상의 장축 a를 광 확산 입자의 장경(Rmax)으로 판단하고, 단축 b를 광 확산 입자의 단경(Rmin)으로 판단한다. 도 4에 나타내는 바와 같이, 투과형 전자 현미경에 의해 촬영된 하나의 독립한 광 확산 입자(40b)의 상이 2개의 1차 입자의 응집체인 경우, 상의 단부와 단부를 연결한 직선 중 가장 긴 거리 c를 광 확산 입자의 장경(Rmax)으로 판단하고, 상의 단부와 단부를 연결한 직선 중 가장 짧은 지름 d를 광 확산 입자의 단경(Rmin)으로 판단한다. 도 5에 나타내는 바와 같이, 투과형 전자 현미경에 의해 촬영된 하나의 독립한 광 확산 입자(40c)의 상이 3개 이상의 1차 입자의 응집체인 경우, 상의 단부와 단부를 연결한 직선 중 가장 긴 거리 e를 광 확산 입자의 장경(Rmax)으로 판단하고, 상의 단부와 단부를 연결한 직선 중 가장 짧은 지름 f를 광 확산 입자의 단경(Rmin)으로 판단한다.
상기와 같은 판단 수법에 의해, 예를 들면 20개의 광 확산 입자(A)의 장경(Rmax)과 단경(Rmin)을 측정하여, 장경(Rmax) 및 단경(Rmin)의 평균값을 산출한 후, 그 장경의 평균값과 단경의 평균값의 비율(Rmax/Rmin)을 계산함으로써 구할 수 있다.
또한, 광 확산 입자(A)는, 예를 들면 제1 광 확산 입자와 제2 광 확산 입자가 밀착된 구조인 바와 같은 「이형 입자」라도 좋다. 이 경우에 있어서, 광 확산 입자(A)는, 어느 한쪽의 광 확산 입자(A)의 표면의 적어도 일부에 다른 한쪽의 광 확산 입자(A)가 배치되어 있는 구조일 수 있다. 여기에서, 본 명세서에 말하는 「이형」이란, 2개의 입자가 입자 전체의 중심점에 대하여 비대칭으로 배치되어 있는 것을 말한다.
도 6∼도 11은, 이형 입자의 개념을 개략적으로 나타내는 설명도이다. 「이형 입자」로서는, 예를 들면 도 6∼도 11에 나타내는 구조를 들 수 있다.
도 6에 나타내는 이형 입자(50a)는, 제1 광 확산 입자(52a)의 표면의 일부에 제2 광 확산 입자(54a)가 밀착하고 있어, 제2 광 확산 입자(54a)가 제1 광 확산 입자(52a)의 표면으로부터 돌출하고 있는 구조를 갖고 있다.
도 7에 나타내는 이형 입자(50b)는, 제1 광 확산 입자(52b)의 내부에 제2 광 확산 입자(54b)가 완전하게 포함되어 있고, 제1 광 확산 입자(52b)의 표면의 일점으로 제2 광 확산 입자(54b)와 접하고 있어, 전체적으로는 대략 구 형상의 구조를 갖고 있다.
도 8에 나타내는 이형 입자(50c)는, 제1 광 확산 입자(52c)와 제2 광 확산 입자(54c)가 밀착하여, 전체적으로는 대략 구 형상의 구조를 갖고 있다. 또한, 도 8에 나타내는 이형 입자(50c)에서는, 제1 광 확산 입자(52c) 및 제2 광 확산 입자(54c)는 동(同) 정도의 표면적을 갖고 있지만, 이 점에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니다.
도 9에 나타내는 이형 입자(50d)는, 제1 광 확산 입자(52d)의 내부에 제2 광 확산 입자(54d)가 포함되고, 제2 광 확산 입자(54d)의 곡면이 이형 입자(50d)의 표면에 나타나 있고, 전체적으로는 대략 구 형상의 구조를 갖고 있다.
도 10에 나타내는 이형 입자(50e)는, 도 8에 나타내는 이형 입자(50c)가 전체적으로 럭비공과 같은 타원 구 형상의 구조를 갖고 있다. 또한, 도 10에 나타내는 이형 입자(50e)에서는, 제1 광 확산 입자(52e) 및 제2 광 확산 입자(54e)는 동 정도의 표면적을 갖고 있지만, 이 점에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니다.
도 11에 나타내는 이형 입자(50f)는, 대략 구 형상의 제1 광 확산 입자(52f)와 대략 구 형상의 제2 광 확산 입자(54f)가 면에서 밀착하고 있고, 전체적으로는 쌍둥이 구 형상의 구조를 갖고 있다.
이형 입자가 유기 입자인 경우, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 제1 광 확산 입자와 제2 광 확산 입자의 2개의 입자로 구성되는 것인 것이 바람직하다. 이러한 경우, 제1 광 확산 입자의 조성과 제2 광 확산 입자의 조성이, 동일해도 상이해도 좋지만, 제1 광 확산 입자에 포함되는 단량체 단위 중 적어도 1종이, 제2 광 확산 입자에 포함되는 단량체 단위와는 상이한 것이 바람직하다. 즉, 이 경우에는, 이형 유기 입자를 구성하는 단량체 단위 중 적어도 1종이, 제1 광 확산 입자와 제2 광 확산 입자 중 어느 한쪽의 광 확산 입자에만 포함되어 있게 된다. 이에 따라, 도 6∼도 11에 나타내는 바와 같이, 제1 광 확산 입자와 제2 광 확산 입자를 비대칭으로 분리시킬 수 있다.
광 확산 입자(A)가 이형 입자인 경우, 이형 입자가 실질적으로 1개의 입자를 구성하고 있는 점에서, 이형 입자의 장경 및 단경은 이하와 같이 하여 측정한다. 예를 들면 광 확산 입자(A)가 도 6에 나타내는 구 형상 돌기를 갖는 대략 구 형상의 입자(50a)인 경우, 장경(Rmax)은 제1 광 확산 입자(52a)의 단부로부터 제2 광 확산 입자(54a)의 단부까지의 거리로 나타낸다. 또한, 단경(Rmin)은 보다 큰 쪽의 입자(도 6에 있어서는 제1 광 확산 입자(52a))의 직경으로 나타낸다.
광 확산 입자(A)가 이형 입자이고, 당해 이형 입자가 유기 입자인 경우에는, 예를 들면 일본공개특허공보 2013-098123호 등에 기재되어 있는 방법으로 제작할 수 있다. 또한, 이형 입자가 무기 입자인 경우, 분쇄 방법, 분쇄 후의 분급 작업 등의 공지의 방법에 의해 적절히 제작할 수 있다.
광 확산 입자(A)와, 중합 후의 후술하는 광 중합성 성분의 굴절률 차의 절대값 ｜Δn｜는, 0.02≤｜Δn｜≤1.3이 바람직하다. 예를 들면 광 중합성 성분으로서, 광 중합성 모노머나 광 중합성 올리고머를 사용했을 때에는, 광 확산 입자(A)로서 탄산 칼슘 입자(굴절률: n＝1.59), 황산 바륨 입자(굴절률: n＝1.64) 및 이산화티탄 입자(굴절률: n＝2.7) 중 적어도 어느 하나를 사용하면, 상기의 조건을 만족한다.
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물은, 전술한 바와 같은 광 확산 입자(A)가 분산 매체(B) 중에 분산한 상태로 되어 있다. 본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물 중의 광 확산 입자(A)의 함유량은, 광 확산 입자(A)가 무기 입자인 경우에는, 조성물의 전체 질량을 100질량％로 했을 때에, 바람직하게는 0.5∼20질량％, 보다 바람직하게는 1∼15질량％, 특히 바람직하게는 3∼12질량％이다. 또한, 광 확산 입자(A)가 유기 입자인 경우에는, 조성물의 전체 질량을 100질량％로 했을 때에, 바람직하게는 0.5∼40질량％, 보다 바람직하게는 5∼35질량％, 특히 바람직하게는 10∼30질량％이다. 광 확산 입자(A)의 함유량이 상기 범위에 있으면, 조성물의 보존 안정성이 양호해지고, 또한, 조성물의 도공성이 양호해지기 때문에, 도광 기판의 표면에 균질한 광 확산부가 형성되기 쉽다.
1.2. 분산 매체(B)
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물은, 분산 매체(B)를 함유한다. 광 경화형의 도광판용 조성물을 이용하여 광 확산부를 제작하는 경우, 분산 매체(B)로서는, 광 중합성 성분을 이용하는 것이 바람직하다. 광 중합성 성분을 이용함으로써, 후술하는 광 확산부의 공극의 발생을 억제할 수 있고, 공극의 발생에 의한 난반사를 보다 억제할 수 있다. 이러한 광 중합성 성분은, 비닐기 등의 광 중합성 관능기를 갖는 것이 바람직하고, 광 중합성 단량체나 감광성 중합체를 이용하는 것이 바람직하다. 이러한 성분으로서는, 예를 들면 국제공개공보 제2005/071014호나 일본공개특허공보 2013-93205호에 기재된 화합물을 적시 사용할 수 있다.
광 중합성 단량체로서는, 예를 들면 방향족 비닐, 불포화 니트릴, 불포화 카본산 에스테르, 불포화 아미드 등을 사용할 수 있다.
방향족 비닐로서는, 예를 들면 스티렌, α-메틸스티렌, o-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, o-에틸스티렌, m-에틸스티렌, p-에틸스티렌, p-tert-부틸스티렌, m-디비닐벤젠, p-디비닐벤젠, m-디이소프로페닐벤젠, p-디이소프로페닐벤젠, o-클로로스티렌, m-클로로스티렌, p-클로로스티렌, 1,1-디페닐에틸렌, p-메톡시스티렌, N,N-디메틸-p-아미노스티렌, N,N-디에틸-p-아미노스티렌, 2-비닐피리딘, 3-비닐피리딘, 4-비닐피리딘 등을 들 수 있다.
불포화 니트릴로서는, 예를 들면 (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, α-클로로메틸아크릴로니트릴, α-메톡시아크릴로니트릴, α-에톡시아크릴로니트릴, 크로톤산 니트릴, 신남산 니트릴, 이타콘산 디니트릴, 말레산 디니트릴, 푸마르산 디니트릴 등을 들 수 있다.
불포화 카본산 에스테르로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산 에스테르; 크로톤산 메틸, 크로톤산 에틸, 크로톤산 프로필, 크로톤산 부틸 등의 크로톤산 에스테르; 신남산 메틸, 신남산 에틸, 신남산 프로필, 신남산 부틸 등의 신남산 에스테르 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, (메타)아크릴산 에스테르가 바람직하다.
(메타)아크릴산 에스테르로서는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, n-아밀(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-(n-프로폭시)에틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 에스테르;
2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, [4-(하이드록시메틸)사이클로헥실]메틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트 등의 수산기 함유 (메타)아크릴산 에스테르; 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리알킬렌글리콜의 (메타)아크릴산 모노에스테르;
시아노에틸(메타)아크릴레이트, 시아노프로필(메타)아크릴레이트 등의 시아노기 함유 (메타)아크릴산 에스테르류; 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 아릴옥시알킬에스테르;
메톡시폴리에틸렌글리콜, 에톡시폴리에틸렌글리콜, 메톡시폴리프로필렌글리콜, 에톡시폴리프로필렌글리콜 등의 알콕시폴리알킬렌글리콜의 (메타)아크릴산 모노에스테르류; 페녹시폴리에틸렌글리콜, 페녹시폴리프로필렌글리콜 등의 아릴옥시폴리알킬렌글리콜의 (메타)아크릴산 모노에스테르류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 네오펜틸글리콜 등의 알킬렌글리콜의 (메타)아크릴산 디에스테르;
폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리알킬렌글리콜(알킬렌글리콜 단위수는 예를 들면 2∼23)의 (메타)아크릴산 디에스테르, 양 말단 하이드록시폴리부타디엔, 양 말단 하이드록시폴리이소프렌, 양 말단 하이드록시부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체, 양 말단 하이드록시폴리카프로락톤 등의 양 말단에 수산기를 갖는 중합체의 (메타)아크릴산 디에스테르;
글리세린, 1,2,4-부탄트리올, 트리메틸올알칸(알칸의 탄소수는 예를 들면 1∼3), 테트라메틸올알칸(알칸의 탄소수는 예를 들면 1∼3), 펜타에리트리톨과 같은 3가 이상의 다가 알코올의 (메타)아크릴산 디에스테르, (메타)아크릴산 트리에스테르 또는 (메타)아크릴산 테트라에스테르 등의 (메타)아크릴산 올리고에스테르;
3가 이상의 다가 알코올의 폴리알킬렌글리콜 부가물의 (메타)아크릴산 트리에스테르 또는 (메타)아크릴산 테트라에스테르 등의 (메타)아크릴산 올리고에스테르; 등을 들 수 있다.
불포화 아미드로서는, 예를 들면 (메타)아크릴아미드, N-하이드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-(2-하이드록시에틸)(메타)아크릴아미드, N,N-비스(2-하이드록시에틸)(메타)아크릴아미드, N,N'-메틸렌비스(메타)아크릴아미드, N,N'-에틸렌비스(메타)아크릴아미드, N,N'-헥사메틸렌비스(메타)아크릴아미드, 아크릴로일모르폴린, 크로톤산 아미드, 신남산 아미드 등을 들 수 있다.
감광성 중합체로서는, 중합체 골격에 광 중합성기가 도입된 것이면, 특별히 제한 없이 공지의 것을 사용할 수 있다. 이러한 중합체 골격으로서는, 폴리에테르 골격, 폴리우레탄 골격, 폴리에틸렌 골격, 폴리에스테르 골격, 폴리아미드 골격, 폴리이미드 골격, 폴리페닐렌 골격 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 폴리에테르 골격, 폴리우레탄 골격이다. 광 중합성기로서는, 예를 들면 (메타)아크릴로일기, 알케닐기, 신나모일기, 신나밀리덴아세틸기, 벤잘아세토페논기, 스티릴피리딘기, α-페닐말레이미드기, 페닐아지드기, 술포닐아지드기, 카보닐아지드기, 디아조기, o-퀴논디아지드기, 푸릴아크릴로일기, 쿠마린기, 피론기, 안트라센기, 벤조페논기, 벤조인기, 스틸벤기, 디티오카바메이트기, 잔테이트기, 1,2,3-티아디아졸기, 사이클로프로펜기, 아자디옥사바이사이클로기 등을 들 수 있고, 바람직한 광 중합성기는 (메타)아크릴로일기 및 신나모일기이고, 특히 바람직하게는 (메타)아크릴로일기이다.
또한, 분산 매체(B)로서 지방족 우레탄(메타)아크릴레이트를 첨가함으로써, 도광판용 조성물의 점도나 광 경화성을 용이하게 제어할 수 있다.
본 발명에 이용되는 분산 매체(B)는, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
분산 매체(B)가 광 중합성 성분을 포함하는 경우, 본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물 중의 광 중합성 성분의 함유량은, 조성물의 전체 질량을 100질량％로 했을 때에, 바람직하게는 50∼95질량％, 보다 바람직하게는 60∼80질량％이다. 광 중합성 성분의 함유량이 상기 범위에 있으면, 도광 기판의 표면에 형성된 광 확산부에 포함되는 광 확산 입자(A)를 충분한 강도로 보존유지할 수 있고, 제조 공정에 있어서 광 확산 입자(A)가 박리하는 등 하여 이물이 발생하는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.
1.3. 물(C)
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물은, 물(C)을 함유한다. 또한, 본원 발명에 있어서는, 물(C)은, 분산 매체(B)와는 상이한 성분으로서 취급한다. 즉, 분산 매체(B)에는, 물(C)이 포함되지 않는 것으로 한다.
조성물 중의 광 확산 입자(A)의 함유량을 Ma질량부, 물(C)의 함유량을 Mc질량부로 했을 때에, 양자의 비 Ma/Mc가 5∼500이 되는 바와 같은 비율인 것이 필요하고, 7∼450인 것이 바람직하고, 8∼200인 것이 보다 바람직하고, 10∼100인 것이 특히 바람직하다. 물(C)을 상기의 범위에서 사용함으로써, 도광판용 조성물의 저장 안정성을 향상시킴과 함께, 광 확산부의 휘도 불균일이나 색도 불균일을 억제하여 도광판의 면 발광의 균질성을 보다 향상시키는 것이 밝혀졌다.
물(C)을 함유시킴으로써, 도광판용 조성물의 저장 안정성을 향상시킴과 함께, 광 확산부의 휘도 불균일이나 색도 불균일을 억제하여 도광판의 면 발광의 균질성을 보다 향상시키는 효과의 발현 기구는 명백하지 않지만, 이하와 같이 생각된다. 도광판용 조성물을 사용함에 있어서, 도광판용 조성물은 항상 수분을 함유하는 외기 등에 폭로된다. 예를 들면, 광 확산부를 인쇄에 의해 제작하는 경우, 도광 기재 상에 인쇄를 개시하고 나서 종료까지에는 일정의 시간이 필요하다. 그 후, 인쇄된 도광판용 조성물에 광 조사를 행하는 등의 경화 공정이 행해지고, 광 확산부가 제작된다. 이 때, 인쇄의 초기에 제작된 광 확산부 전구부(경화되어 광 확산부가 되기 전의 도광판용 조성물 인쇄부를 말함)는, 인쇄 종료시의 광 확산부 전구부보다도 경화 공정 전에 장시간 대기에 폭로된다. 이 대기의 폭로 시간의 차이에 의해, 광 확산부 전구부가 대기 중으로부터 흡수하는 수분량에 차이가 발생한다고 생각된다. 그 결과, 그 후의 경화 공정에 있어서 도광판용 조성물의 경화 상태에 어떠한 변화가 발생하고, 이 경화 상태의 차이가 각 광 확산부의 광 확산 상태의 차이가 되어, 도광판의 면 발광의 균질성의 열화를 조장한다고 추측된다.
그러나, 본원 발명의 도광판용 조성물은, 특정량의 물(C)을 미리 함유함으로써, 이 대기 폭로 시간에 있어서 대기로부터 흡수되는 수분량의 증가의 상대량을 낮게 할 수 있다. 그 결과, 광 확산부 전구부 제작 초기와 제작 후기에서 각 광 확산부 전구부에 함유되는 수분의 상대 비율의 차이를 낮게 할 수 있다고 생각된다. 그 결과, 보다 균질한 수분 함유량을 갖는 광 확산부 전구부를 경화할 수 있어, 도광판의 면 발광의 균질성을 보다 향상시킬 수 있었다고 추측된다.
또한, 무기 입자는, 일반적으로 표면적이 크고, 표면이 친수성이기 때문에, 수분을 흡착하기 쉬운 경향이 있다. 한편, 유기 입자는, 무기 입자에 비해 표면적이 작고, 표면이 소수성이기 때문에, 수분 흡착을 억제할 수 있다. 따라서, 도광판용 조성물 중의 물(C)의 함유량을 엄밀하게 제어하기 위해서는, 광 확산 입자(A)는 유기 입자인 것이 바람직하다.
1.4. 광 중합 개시제
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물은, 광 중합 개시제를 함유해도 좋다. 특히 분산 매체(B)가 광 중합성 성분인 경우에는, 광 경화성을 높이기 위해, 광 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다.
이러한 광 중합 개시제로서는, 방사선 경화형 수지의 분야에 있어서 통상 이용되고 있는 것으로부터 적절히 선택할 수 있고, 예를 들면 국제공개공보 제2005/071014호나 일본공개특허공보 2013-93205호에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.
광 중합 개시제의 구체예로서는, 디아세틸, 메틸벤조일포메이트, 벤질 등의α-디케톤 화합물; 벤조인, 피발로인 등의 아실로인류; 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 아실로인에테르류; 안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-tert-부틸안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논의 다핵 퀴논류; 아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시페닐아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 트리클로로아세토페논 등의 아세토페논류; 벤조페논, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 미힐러케톤 등의 벤조페논류; 잔톤, 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤 등의 잔톤류를 들 수 있다. 본 발명에 이용되는 광 중합 개시제는, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물 중의 광 중합 개시제의 함유량은, 조성물의 전체 질량을 100질량％로 했을 때에, 바람직하게는 0.1∼20질량％, 보다 바람직하게는 0.5∼10질량％이다. 광 중합 개시제의 함유량이 상기 범위 내에 있으면, 도광판용 조성물의 광 경화성이 향상하기 때문에, 택 프리의 광 확산부를 제작할 수 있다.
1.5. 그 외의 성분
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물은, 상기의 성분 이외의 성분, 예를 들면 라디칼 포착제(D), 이소티아졸린계 화합물(E), 인산 에스테르, 계면활성제, 바인더 등을 함유해도 좋다.
<라디칼 포착제(D)>
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물은, 라디칼 포착제(D)를 함유함으로써, 도광판용 조성물의 저장 단계에서의 광 중합성 성분의 중합을 효과적으로 방지할 수 있다.
조성물 중의 광 확산 입자(A)의 함유량을 Ma질량부, 라디칼 포착제(D)의 함유량을 Md질량부로 했을 때에, 양자의 비 Ma/Md는, 바람직하게는 20∼500이고, 보다 바람직하게는 25∼300이다. 라디칼 포착제(D)를 상기 범위 내에서 사용함으로써, 도광판용 조성물의 저장 단계에서의 광 중합성 성분의 중합을 효과적으로 방지할 수 있고, 또한 광 확산부의 휘도 불균일이나 색도 불균일을 억제하여 도광판의 면 발광의 균질성을 보다 향상시키는 것이 밝혀졌다.
라디칼 포착제(D)를 함유시킴으로써, 광 확산부의 휘도 불균일이나 색도 불균일을 억제하여 도광판의 면 발광의 균질성을 보다 향상시키는 효과의 발현 기구는 명백하지 않지만, 이하와 같이 생각된다.
도광판용 조성물을 사용함에 있어서, 도광판용 조성물은 항상 산소를 함유하는 외기 등에 폭로된다. 예를 들면 광 확산부를 인쇄에 의해 제작하는 경우, 도광 기판 상에 인쇄를 개시하고 나서 종료까지는 일정의 시간이 필요하다. 그 후, 인쇄된 도광판용 조성물에 광 조사를 행하는 등의 경화 공정이 행해지고, 광 확산부가 제작된다. 이 때, 인쇄의 초기에 제작된 광 확산부 전구부는, 인쇄 종료시의 광 확산부 전구부보다도 경화 공정 전에 장시간 대기에 폭로된다. 이 대기의 폭로 시간의 차이에 의해, 광 확산부 전구부가 대기 중으로부터 흡수하는 산소량에 차이가 발생한다고 생각된다. 그 결과, 그 후의 경화 공정에 있어서 도광판용 조성물의 경화 상태에 어떠한 변화가 발생한다고 추측된다. 이 경화 상태의 차이가 각 광 확산부의 광 확산 상태의 차이가 되어, 도광판의 면 발광의 균질성의 열화를 조장한다고 추측된다.
그러나, 도광판용 조성물이 라디칼 포착제(D)를 함유하는 경우, 이 대기 폭로 시간에 있어서 대기로부터 흡수되는 산소량에 차이가 발생하여, 그 결과, 광 확산부 전구부 제작 초기와 제작 후기에서 각 광 확산부 전구부에 함유되는 산소량에 차이가 발생해도, 또한 그 후의 경화 과정에 있어서 흡수된 산소로부터 발생한 산소 라디칼량에 차이가 발생했다고 해도, 라디칼 포착제(D)가 이들을 포착하여, 그들의 작용을 억제한다. 그 결과, 보다 균질한 조성의 광 확산부 전구부를 경화할 수 있어, 도광판의 면 발광의 균질성을 보다 향상시킬 수 있었다고 추측된다.
라디칼 포착제(D)로서는, 예를 들면 페놀 유도체가 바람직하다. 페놀 유도체를 사용함으로써, 광 확산부의 백색도가 보다 향상한다. 페놀 유도체로서는, 예를 들면 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 모노-tert-부틸하이드로퀴논, 카테콜, 4-tert-부틸카테콜, p-메톡시페놀, 2,5-디-tert-부틸하이드로퀴논, 2,6-디-tert-부틸-m-크레졸, 피로갈롤, β-나프톨 등의 하이드록시 방향족 화합물, 벤조퀴논, 2,5-디페닐-p-벤조퀴논, p-톨루퀴논, p-자일로퀴논 등을 들 수 있다. 본 발명에 이용되는 라디칼 포착제(D)는, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물 중의 라디칼 포착제(D)인 페놀 유도체의 함유량은, 조성물의 전체 질량을 100질량％로 했을 때에, 바람직하게는 0.001∼2질량％, 보다 바람직하게는 0.01∼1질량％, 특히 바람직하게는 0.05∼0.5질량％이다. 라디칼 포착제(D)인 페놀 유도체의 함유량이 상기 범위 내에 있으면, 도광판용 조성물의 저장 단계에서의 광 중합성 성분의 중합을 효과적으로 방지할 수 있다. 또한, 광 확산부의 백색도를 보다 향상시킬 수 있다.
<이소티아졸린계 화합물(E)>
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물에 이소티아졸린계 화합물(E)을 첨가함으로써, 이소티아졸린계 화합물(E)이 방부제로서 작용하여, 도광판용 조성물을 저장했을 때에, 세균이나 곰팡이 등이 증식하여 이물이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 광 확산부의 휘도 불균일이나 색도 불균일을 억제하여 도광판의 면 발광의 균질성을 보다 향상시키는 것이 밝혀졌다.
이소티아졸린계 화합물(E)을 함유시킴으로써, 광 확산부의 휘도 불균일이나 색도 불균일을 억제하여 도광판의 면 발광의 균질성을 보다 향상시키는 효과의 발현 기구는 명백하지 않지만, 이하와 같이 생각된다. 도광판용 조성물을 사용함에 있어서, 도광판용 조성물은 항상 산소를 함유하는 외기 등에 폭로된다. 예를 들면, 광 확산부를 인쇄에 의해 제작하는 경우, 도광 기판 상에 인쇄를 개시하고 나서 종료까지는 일정의 시간이 필요하다. 그 후, 인쇄된 도광판용 조성물에 광 조사를 행하는 등의 경화 공정이 행해지고, 광 확산부가 제작된다. 이 때, 인쇄의 초기에 제작된 광 확산부 전구부는, 인쇄 종료시의 광 확산부 전구부보다도 경화 공정 전에 장시간 대기에 폭로된다. 이 대기의 폭로 시간의 차이에 의해, 광 확산부 전구부가 대기 중으로부터 흡수하는 휘발성 유기물 양에 차이가 발생한다고 생각된다. 그 결과, 그 후의 경화 공정에 있어서 도광판용 조성물의 경화 상태에 어떠한 변화가 발생하여, 이 경화 상태의 차이가 각 광 확산부의 광 확산 상태의 차이가 되어, 도광판의 면 발광의 균질성의 열화를 조장한다고 추측된다.
한편, 본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물에 있어서, 이소티아졸린계 화합물(E)은 광 확산 입자(A)에 흡착되는 등 하여 보존유지되는 경향이 있다. 그 결과, 광 확산 입자(A) 표면이 이소티아졸린계 화합물(E)에 의해 보호되고, 전술의 대기 중으로부터 흡수되는 휘발성 유기물이 광 확산 입자(A) 표면에 흡착하는 것을 억제할 수 있다고 생각된다. 그 결과, 광 확산부 전구부 제작 초기와 제작 후기에서 각 광 확산부 전구부에 함유되는 휘발성 유기물 양에 차이가 발생해도, 이들 휘발성 유기물이 강하게 광 확산 입자(A) 표면에 흡착되지 않게 된다. 이 작용에 의해, 그 후의 경화 공정에 있어서 광 확산부에 보존유지되지 않고 재차 대기 중에 방출되기 때문에, 보다 균질한 조성의 광 확산부 전구부를 경화할 수 있어, 도광판의 면 발광의 균질성을 보다 향상시킬 수 있었다고 추측된다.
이소티아졸린계 화합물(E)로서는, 이소티아졸린 골격을 갖는 화합물이면 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 하기 일반식 (2)로 나타나는 화합물이나 하기 일반식 (3)으로 나타나는 화합물을 들 수 있다.
Figure pat00001
상기 일반식 (2) 중, R1은 수소 원자 또는 탄화수소기이고, R2, R3은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄화수소기를 나타낸다. R1, R2, R3이 탄화수소기인 경우, 직쇄 혹은 분기쇄와 같은 쇄상의 탄소 골격을 갖고 있어도 좋고, 환상의 탄소 골격을 갖고 있어도 좋다. 또한, 탄화수소기의 탄소수는 1∼12인 것이 바람직하고, 1∼10인 것이 보다 바람직하고, 1∼8인 것이 특히 바람직하다. 이러한 탄화수소기의 구체예로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 헥실기, 사이클로헥실기, 옥틸기, 2-에틸헥실기 등을 들 수 있다.
Figure pat00002
상기 일반식 (3) 중, R4는 수소 원자 또는 탄화수소기이고, R5는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다. R4가 탄화수소기인 경우, 상기 일반식 (2)에서 설명한 탄화수소기와 동일한 탄화수소기를 들 수 있다. 또한, R5가 유기기인 경우, 이 유기기에는 알킬기나 사이클로알킬기인 지방족기나 방향족기가 포함되지만, 지방족기인 것이 바람직하다. 알킬기의 탄소수는 1∼12인 것이 바람직하고, 1∼10인 것이 보다 바람직하고, 1∼8인 것이 특히 바람직하다. 이들 알킬기 및 사이클로 알킬기는, 할로겐 원자, 알콕실기, 디알킬아미노기, 아실기, 알콕시카보닐기 등의 치환기를 갖고 있어도 좋다. 상기 지방족기의 구체예로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 헥실기, 사이클로헥실기, 옥틸기, 2-에틸헥실기 등을 들 수 있다. 상기식 (3) 중, n은 0∼4의 정수를 나타낸다.
이소티아졸린계 화합물(E)의 구체예로서는, 1,2-벤조이소티아졸린-3-온, 2-메틸-4,5-트리메틸렌-4-이소티아졸린-3-온, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, N-n-부틸-1,2-벤조이소티아졸린-3-온, 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온, 4,5-디클로로-2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온 등을 들 수 있고, 이들의 1종 또는 2종 이상을 이용할 수 있다. 이들 중에서도, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온, 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, 1,2-벤조이소티아졸린-3-온이 바람직하다.
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물 중의 이소티아졸린계 화합물(E)의 함유량은, 조성물의 전체 질량을 100질량％로 했을 때에, 바람직하게는 0.01∼0.5질량％, 보다 바람직하게는 0.015∼0.2질량％, 특히 바람직하게는 0.015∼0.1질량％이다. 이소티아졸린계 화합물(E)을 상기 범위 내에서 사용함으로써, 도광판용 조성물의 저장 안정성을 향상시킬 수 있다.
또한, 조성물 중의 광 확산 입자(A)의 함유량을 Ma질량부, 이소티아졸린계 화합물(E)의 함유량을 Me질량부로 했을 때에, 양자의 비 Ma/Me가 50∼600이 되는 바와 같은 비율인 것이 바람직하고, 100∼500인 것이 보다 바람직하다. 이소티아졸린계 화합물(E)을 상기의 범위에서 사용함으로써, 도광판용 조성물의 저장 안정성을 향상시킴과 함께, 광 확산부의 휘도 불균일이나 색도 불균일을 억제하여 도광판의 면 발광의 균질성을 보다 향상시킬 수 있다.
<인산 에스테르>
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물에 인산 에스테르를 첨가함으로써, 도광 기판과 광 확산부의 밀착성을 높일 수 있다. 또한, 도광판용 조성물을 경화 도막으로 했을 때의, 경도, 내찰상성 및 내마모성과 저(低)컬의 균형을 향상시킬 수도 있다.
인산 에스테르로서는, 하기 일반식 (4)로 나타나는 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 인산 에스테르가 광 중합성 성분에 해당하는 경우라도, 본원 발명에 있어서는 인산 에스테르와 분산 매체(B)는 상이한 성분으로서 취급한다.
Figure pat00003
(식 (4) 중, R6은 수소 원자 또는 메틸기, R7는 2가의 유기기, n은 1 또는 2의 정수를 나타냄)
인산 에스테르로서는, 예를 들면 모노 또는 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)인산 에스테르, 모노 또는 비스(2-(메타)아크릴로일옥시프로필)인산 에스테르, 모노 또는 비스(3-(메타)아크릴로일옥시프로필)인산 에스테르, 모노 또는 비스(6-(메타)아크릴로일옥시헥실)인산 에스테르, 모노 또는 비스(10-(메타)아크릴로일옥시데실)인산 에스테르, 모노 또는 비스(1-클로로메틸-2-(메타)아크릴로일옥시에틸)인산 에스테르, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸페닐인산 에스테르 등 및, 이들의 락톤 변성물, 폴리옥시알킬렌 변성물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 도광 기판과의 밀착성 및 경도가 우수한 광 확산부를 얻는다고 하는 관점에서, 모노 또는 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)인산 에스테르가 바람직하다. 본 발명에 이용되는 인산 에스테르는, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
인산 에스테르의 시판품으로서는, 예를 들면, 쿄에이샤카가쿠 가부시키가이샤 제조 상품명: 라이트에스테르 P-1M, P-2M, 닛폰카야쿠 가부시키가이샤 제조 상품명: KAYAMER PM-2, PM-21 등을 들 수 있다.
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물 중의 인산 에스테르의 함유량은, 조성물의 전체 질량을 100질량％로 했을 때에, 바람직하게는 0.07∼5질량％, 보다 바람직하게는 0.2∼2질량％이다.
<계면활성제>
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물에 계면활성제를 첨가함으로써, 도광판용 조성물의 표면 장력이나 도광 기판의 젖음성을 제어할 수 있다. 계면활성제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 실리콘계 계면활성제 및 불소계 계면활성제가 바람직하다.
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물 중의 계면활성제의 함유량은, 조성물의 전체 질량을 100질량％로 했을 때에, 바람직하게는 0.01∼2질량％, 보다 바람직하게는 0.05∼1질량％이다.
<바인더>
본 실시 형태에 따른 도광판용 조성물에 바인더를 첨가함으로써, 도광 기판과 광 확산부의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 바인더로서는, 특별히 한정되지 않지만, 국제공개공보 제2005/071014호나 일본공개특허공보 2013-93205호에 기재된 바인더를 사용할 수 있다.
2. 도광판
본 실시 형태에 따른 도광판은, 전술의 도광판용 조성물을 이용하여 제작된 것인 것을 특징으로 한다. 구체적으로는, 표면 거칠기 Ra<1㎚의 도광 기판에 전술의 도광판용 조성물을 도포 또는 인쇄하여 광 확산부를 제작한다.
도 1은, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 도광판을 구비하는 투과형 화상 표시 장치를 나타내는 단면도이다. 도 1에 나타내는 투과형 화상 표시 장치(100)는, 면 광원 장치(20)와, 투과형 화상 표시부(30)로 주로 구성된다. 면광원 장치(20)는, 도광 기판(11) 및 광 확산부(12)를 구비한 도광판(1)과, 도광판(1)의 측방에 형성되어 있고 도광판(1)에 빛을 공급하는 광원(3)을 구비하는 엣지 라이트형 면광원 장치이다. 또한, 도 1에 있어서 광 확산부(12)는 다수의 도트 형상이다.
도광 기판(11)은 대략 직방체 형상을 나타내고 있고, 출사면(S1)과, 출사면(S1)의 반대측의 출사면(S2)과, 출사면(S1) 및 출사면(S2)에 교차하는 4개의 단면(S31∼S34)을 갖는다. 본 실시 형태에 있어서, 4개의 단면(S31∼S34)은, 출사면(S1) 및 출사면(S2)에 대략 직교한다.
도광판(1)은, 출사면(S2)측에 형성된 복수의 광 확산부(12)를 갖는다. 복수의 광 확산부(12)는, 도 2에 나타내는 바와 같이, 출사면(S2) 상에 서로 이간하여 배치되어 있다. 도 2는, 도광 기판을 출사면(S2)측으로부터 보았을 경우의 평면도이다. 도 2에서는, 설명의 편의를 위해, 광원(3)도 함께 나타내고 있다. 도 2에서는, 광 확산부(12)는 서로 이간하여 배치되어 있다. 광 확산부(12)의 개수 및 배치 패턴은, 균일한 면 형상의 빛이 효율적으로 출사면(S1)이나 필요에 따라 출사면(S2)으로부터 출사되도록 조정된다.
광원(3)은, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 서로 대향하는 한 쌍의 단면(S31, S32)의 측방에 배치된다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 도광 기판(11)의 예를 들면 직사각형의 출사면(S2)을 구성하는 4변 중 서로 대향하는 2변을 따라, 복수의 점 형상 광원이 배열되어도 좋다.
상기 구성에 있어서, 광원(3)으로부터 출력된 빛은, 단면(S31, S32)으로부터 도광 기판(11)으로 입사한다. 도광 기판(11)으로 입사한 빛은, 광 확산부(12)에 있어서 난반사하여, 균일한 면 형상의 빛이 효율적으로 출사면(S1)이나 출사면(S2)으로부터 출사되도록, 광 확산부(12)의 형상을 조정할 수 있다. 예를 들면 도 1의 경우, 출사면(S1)으로부터 출사한 빛은 투과형 화상 표시부(30)에 공급된다.
이하, 도광판을 구성하는 부재, 도광판의 제조 방법에 대해서 상세하게 설명한다.
2.1. 도광 기판
도광판(1)은, 도광 기판(11)을 구비한다. 도광 기판(11)의 표면 거칠기 Ra는, 출사면(S1) 및 출사면(S2)으로부터의 광 취출 효율을 고려하면, Ra<1㎚이면 충분하고, Ra<0.5㎚인 것이 바람직하다. 또한, 후술하는 광 확산부와 도광 기판의 밀착성 등을 고려하면, Ra>0.1㎚인 것이 바람직하고, Ra>0.2㎚인 것이 보다 바람직하다.
도광 기판(11)의 단면의 표면 거칠기 Ra는, 광원으로부터의 빛이 도광 기판의 단면에서 산란을 억제하기 위해서는, 2㎛ 이하이면 실용할 수 있는 정도의 빛을 광원으로부터 도광 기판(11)의 내부로 입사시킬 수 있다.
또한, 본원 발명에 있어서의 도광 기판(11)의 「표면 거칠기 Ra」란, JIS B0601-2001에 준거하여 측정한 「산술 평균 거칠기」를 말한다.
일반적으로, 엣지 라이트형 면 발광 장치에서는, 광원으로부터 빛이 발생하면, 열이 발생하고, 그에 수반하여, 도광 기판의 온도도 상승한다. 도광 기판으로서 수지판을 이용하는 경우, 수지판의 열 팽창 계수가 높기 때문에 도광 기판의 열에 의한 치수 변화는 액정 패널의 치수 변화보다도 커진다. 그러나, 액정 표시 장치의 협(狹)액자화에 의해, 도광 기판의 치수 변화를 액정 표시 장치의 테두리 부분에서 보정하기 어려워지고 있다. 이 때문에, 도광 기판(11)의 재질은, 열에 의한 치수 변화가 작은 수지판을 사용해도 좋지만, 유리 기판인 것이 바람직하다. 도광 기판(11)이 유리 기판인 경우, 유리 기판의 광로 길이 100㎜, 파장 범위 350∼750㎚에 있어서의 최대 투과율은 50％ 이상인 것이 바람직하다.
유리 기판의 열팽창 계수는, 120×10-7/℃ 이하인 것이 바람직하다. 열팽창 계수가 상기 범위를 초과하면, 표시 패널과 도광 기판의 열에 의한 치수 변화의 차가 커지기 쉬워진다. 또한, 유리 기판의 변형점은, 550℃ 이상인 것이 바람직하다. 변형점이 상기 범위 미만이면, 유리 기판의 내열성이 저하하기 쉬워지고, 예를 들면 유리 기판의 표면에 고온에서 반사막이나 확산막 등을 성막하면, 유리 기판이 열 변형하기 쉬워진다. 여기서, 「변형점」은, JIS R3103에 기초하여 측정할 수 있다.
2.1.1. 유리 조성
유리 기판을 구성하는 유리 조성으로서는, SiO2를 40∼70질량％, Al2O3을 2∼25질량％, B2O3을 0∼20질량％, R2O(R은 Li, Na, K의 1종 또는 2종 이상)를 0∼25질량％, MgO를 0∼10질량％, CaO를 0∼15질량％, SrO를 0∼10질량％, BaO를 0∼15질량％, ZnO를 0∼10질량％, ZrO2를 0∼10질량％를 함유하는 것이 바람직하다.
SiO2는, 유리의 네트워크 포머가 되는 성분이고, 열팽창 계수를 저하시켜, 열에 의한 치수 변화를 저감하는 성분이다. 또한 내산성, 변형점을 높이는 성분이다. SiO2의 함유량이 많아지면, 고온 점성이 높아져, 용해성이 저하함과 함께, 성형시에 크리스토발라이트의 실투물이 석출하기 쉬워진다. 한편, SiO2의 함유량이 적어지면, 열팽창 계수가 높아져, 열에 의한 치수 변화가 커지는 경향이 있다. 또한 내산성, 변형점이 저하하기 쉬워진다.
Al2O3은, 열팽창 계수를 저하시켜, 열에 의한 치수 변화를 저감하는 성분이다. 또한, 변형점을 높이거나, 성형시에 크리스토발라이트의 실투물의 석출을 억제하는 효과도 있다. Al2O3의 함유량이 상기 범위이면, 액상 온도가 상승하여, 유리 기판에 성형하기 어려워진다. 한편, Al2O3의 함유량이 적어지면, 열팽창 계수가 높아지고, 열에 의한 치수 변화가 커지는 경향이 있다. 또한 변형점이 저하하기 쉬워진다.
B2O3은, 융제(融劑)로서 작용하여, 고온 점성을 내려, 용해성을 개선하는 성분이다. 또한 열팽창 계수를 저하시켜, 열에 의한 치수 변화를 저감하는 성분이다. B2O3의 함유량이 상기 범위이면, 열에 의한 치수 변화를 억제할 수 있고, 용해성을 향상시켜 가공성을 향상시킬 수 있다.
R2O는, 고온 점성을 저하시켜, 용해성을 개선하는 성분이다. R2O의 함유량이 상기 범위이면, 변형점을 향상시킬 수 있고, 또한 파장 550㎚ 부근의 최대 투과율을 향상시킬 수 있다.
MgO는, 변형점을 저하시키지 않고 고온 점성만을 저하시켜, 용해성을 개선하는 성분이다. MgO의 함유량이 상기 범위이면, 성형시에 실투물이 석출하는 것을 억제할 수 있다.
CaO는, 변형점을 저하시키지 않고 고온 점성만을 저하시켜, 용해성을 개선하는 성분이다. CaO의 함유량이 상기 범위이면, 성형시에 실투물이 석출하는 것을 억제할 수 있다.
SrO는, 내약품성, 내실투성을 높이는 성분이다. SrO의 함유량이 상기 범위이면, 열팽창 계수를 저하시켜, 열에 의한 치수 변화를 억제할 수 있다.
BaO는, SrO와 동일하게 하여, 내약품성, 내실투성을 높이는 성분이다. BaO의 함유량이 상기 범위이면, 열팽창 계수를 저하시켜, 열에 의한 치수 변화를 억제할 수 있다.
ZnO는, 용해성을 개선하는 성분이다. ZnO의 함유량이 상기 범위이면, 내실투성을 향상시킬 수 있다.
ZrO2는, 변형점을 높이는 성분이다. ZrO2의 함유량이 상기 범위이면, 성형시에 실투물이 석출하는 것을 억제할 수 있다.
또한, Fe2O3, Cr2O3, V2O5, NiO, MnO2, Nd2O3, CeO2, Er2O3 등의 전이 금속 산화물의 함유량은 0.1질량％ 이하인 것이 바람직하다. 전이 금속 산화물의 함유량이 지나치게 많으면, 광 취출 효율이 저하하는 경우가 있다.
상기 성분 이외에도, 다른 성분을 도입해도 좋다. 예를 들면, 액상 온도를 저하시키기 위해, Y2O3, La2O3, Nb2O5, P2O5를 각 3질량％까지, 청징제로서 As2O3, Sb2O3, SnO2, SO3, F, Cl 등을 합량(合量)으로 2질량％까지 도입해도 좋다.
2.1.2. 유리 기판의 제조 방법
유리 기판은, 오버플로우 다운드로우법, 슬롯 다운드로우법, 플로트법, 롤 아웃법, 리드로우법 등으로 제작할 수 있다. 또한, 플로트법에서는, 성형시에 유리 리본의 표리면의 온도차, 조성차가 발생하기 쉽지만, 성형시의 온도 제어를 엄밀하게 행하면, 그 온도차, 조성차를 저감할 수 있다. 오버플로우 다운드로우법에서는, 성형시에 유리 리본의 표리면의 온도차, 조성차가 발생하기 어려움과 함께, 미(未)연마로 표면 품위가 양호한 유리 기판을 성형하기 쉬워진다.
또한, 유리 기판은, 표시 패널에 사용되는 유리 기판에 적용하여, 도광 기판의 기능을 병유시킬 수도 있다. 이와 같이 하면, 표시 장치의 부재 구성을 간략화할 수 있다.
2.2. 광 확산부
본 실시 형태에 따른 도광판(1)은, 광 확산 입자(A)를 함유하는 광 확산부(12)를 구비한다. 광 확산 입자(A)의 수 평균 입자경 Dn(㎚)은, 도광 기판(11)의 표면 거칠기 Ra(㎚)에 대하여 200<Dn/Ra<5000의 관계에 있는 것이 바람직하고, 300<Dn/Ra<4000인 것이 보다 바람직하다. Dn/Ra의 값이 상기 범위이면, 도광 기판(11)과 광 확산부(12)의 계면에 공극이 혼입하는 것을 억제할 수 있고, 광 취출 효율을 향상시켜 균질한 면 발광을 실현할 수 있다고 생각된다.
앞서 설명한 도 2에서는, 광 확산부(12)가 대략 원형인 복수개의 도트 형상이고, 서로 이간하여 배치되어 있지만, 적시 출사면(S1) 및 출사면(S2)으로부터의 필요로 하는 광 취출 효율을 고려하여 형상 등을 조정할 수 있다. 도 2에 나타낸 광 확산부(12)의 형상은 설명의 편의를 위함이고, 출사면(S1) 및 출사면(S2)으로부터의 필요로 하는 광 취출 효율을 고려하여 조정할 수 있다.
광 확산부(12)는, 전술의 도광판용 조성물을 이용하여 제작한다. 도광 기판(11)에 광 확산부(12)를 형성하는 방법으로서는, 스크린 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 상기 도광판용 조성물을 노즐로부터 분무시키는 스프레이 도공법 등에 의해 제작할 수 있다. 예를 들면, 국제공개공보 제2005/071014호, 일본공개특허공보 2013-93205호, 일본공개특허공보 2012-178345호 등에 기재되어 있는 방법에 의해 도광판을 제작할 수 있다.
이러한 도광판용 조성물로서는, 열 경화형 혹은 광 경화형의 도광판용 조성물이 바람직하다. 열 처리에 의한 도광 기재의 변형을 효과적으로 억제하기 위해서는 광 경화형의 도광판용 조성물을 이용하여 광 확산부를 제작하는 것이 보다 바람직하다. 광 확산부(12)를 형성하기 위한 도광판용 조성물은, 광 경화성의 도광판용 조성물에서는, 광 중합성 성분과, 광 중합 개시제를 함유하는 방사선 경화형의 도광판용 조성물인 것이 바람직하다.
도광 기판(11)의 면적 100％에 대하여, 광 확산부(12)의 면적은 5％ 이상 95％ 이하인 것이 바람직하다. 상기 광원으로부터 떨어짐에 따라, 도광 기판(11)의 도공면에 있어서의 광 확산부(12)가 차지하는 평면적과 상기 도광판용 조성물의 도포 면적의 비율 또는 상기 도광판용 조성물의 도포 면적과 상기 도광 기판(11)의 도공면의 면적의 도공 면적 비율이 높아지는 것이 바람직하다. 이에 따라, 도광판의 휘도를 대략 균일하게 할 수 있다.
2.3. 광원
광원(3)은, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 단면(S31이나 S32)의 측방에 배치된다. 광원(3)은, 냉음극 형광 램프(CCFL) 등의 선상(線狀) 광원이라도 좋지만, LED 등의 점 형상 광원인 것이 바람직하다. 이 경우, 도 2에 나타내는 바와 같이, 도광판(1)의 예를 들면 직사각형의 출사면(S2)을 구성하는 4변 중 서로 대향하는 2변을 따라 복수의 점 형상 광원이 배열되도록 하여 광 확산부(12)와 광원(3)을 조합하는 것이 바람직하다.
상기 구성에 있어서, 광원(3)으로부터 출력된 빛은, 단면(S31이나 S32)으로부터 도광판(1)으로 입사한다. 도광판(1)으로 입사한 빛은, 광 확산부(12)에 있어서 난반사나 확산함으로써, 출사면(S1이나 S2)으로부터 출사된다. 출사면(S1이나 S2)으로부터 출사된 빛은 투과형 화상 표시부(30) 등에 공급된다. 균일한 면 형상의 빛이 효율적으로 출사면으로부터 출사되도록, 광 확산부(12)의 개수 및 배치 패턴은 적시 조정할 수 있다.
2.4. 투과형 화상 표시부
도 1에 나타내는 바와 같이, 투과형 화상 표시부(30)는, 도광판(1)의 출사면(S1)측에 있어서 도광판(1)과 대향 배치되어 있고, 출사면(S1)으로부터 사출된 빛이 투과형 화상 표시부(30)를 조명하고 있다. 투과형 화상 표시부(30)는, 예를 들면, 액정 셀을 갖는 액정 표시부 등을 이용할 수 있다.
3. 실시예
이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 실시예, 비교예 중의 「부」 및 「％」는, 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다.
3.1. 광 확산 입자(A)의 제작
3.1.1. 중공 입자 1의 제작
용량 2리터의 반응 용기에, 물 194부, 메타크릴산 메틸 9부, 메타크릴산 1부, 분자량 조정제로서 옥틸티오글리콜레이트 0.92부, 유화제로서 도데실벤젠술폰산 나트륨 0.04부를 투입했다. 그 한편으로, 메타크릴산 메틸 71부, 메타크릴산 19부, 옥틸티오글리콜레이트 0.5부, 도데실벤젠술폰산 나트륨 0.5부 및 물 45부를 혼합 교반하여 모노머 혼합물의 수성 분산체를 조제했다.
상기 반응 용기를 교반하면서 온도 85℃로 가열하고, 중합 개시제로서 5％ 과황산 나트륨 수용액 6부를 투입했다. 그 직후부터, 상기 반응 용기를 교반하면서 온도 90℃로 유지하면서 상기 모노머 혼합물의 수성 분산체를 연속적으로 4시간에 걸쳐 투입했다. 또한 2시간의 숙성을 행하고, 입자경 0.200㎛의 시드 입자 A의 수성 분산체(고형분 29.3％)를 얻었다.
용량 2리터의 반응 용기에, 물 143부, 상기 시드 입자 A의 수성 분산체를 고형분으로 10부(수성 분산체로 34부), 80％ 아크릴산 수용액 1.2부를 투입했다. 그 한편으로, 스티렌 77.2부, 디비닐벤젠(m,p-혼합물, 순도 81％) 0.8부, 80％ 아크릴산 수용액 1.3부, 도데실벤젠술폰산 나트륨 0.5부 및 물 46.7부를 혼합 교반하여 모노머 혼합물의 수성 분산체를 조제했다.
상기 반응 용기를 교반하면서 온도 80℃로 가열하고, 중합 개시제로서 5％ 과황산 나트륨 수용액 8부를 투입했다. 상기 반응 용기를 교반하면서 온도 80℃로 유지하면서, 상기 모노머 혼합물의 수성 분산체를 연속적으로 2시간에 걸쳐 투입했다. 또한 상기 모노머의 수성 분산체를 모두 반응 용기에 투입한 직후에, 스티렌 19.6부, 디비닐벤젠(m,p-혼합물, 순도 81％) 0.4부, 6％ 수산화 암모늄 20부를 일괄 투입했다. 그 후 온도를 85℃로 올리고, 2시간 교반 숙성하여, 입자경 0.487㎛, 내공경 0.312㎛, 용적 공공율 26％의 단일의 공공을 갖는 구 형상의 중공 시드 입자 B의 수성 분산체(고형분 30.9％)를 얻었다.
용량 2리터의 반응 용기에, 물 569부, 상기 중공 시드 입자 B의 수성 분산체를 고형분으로 100부(수성 분산체로 324부), 스티렌 20부, 디비닐벤젠(m,p-혼합물, 순도 81％) 80부, 도데실벤젠술폰산 나트륨 4부를 투입했다. 상기 반응 용기를 교반하면서 40℃에서 3시간 보존유지한 후, 65℃까지 가열하고, 중합 개시제로서 과황산 나트륨의 5％ 수용액 6부를 투입했다. 또한 반응 용기를 가열하여 80℃를 보존유지하면서 교반을 계속하여, 80℃ 도달 후 1시간 후에 과황산 나트륨의 5％ 수용액 2부를 투입하고, 추가로 1시간 교반을 계속했다. 그 후, 온도를 85℃로 올리고, 1시간 후에 과황산 나트륨의 5％ 수용액 2부를 투입하고, 추가로 1시간 교반 숙성했다. 그 후, 반응 용기를 40℃까지 냉각하고, 내용물을 눈금 간격 50㎛의 나일론제 메시를 이용하여 여과하고, 추가로 여과 정밀도 10㎛의 폴리프로필렌제 카트리지 필터를 이용하여 가압 여과를 행하여, 중공 입자 1의 수성 분산체(고형분 20.5％)를 얻었다. 얻어진 수성 분산체를, 니혼뷰히사 제조 미니 스프레이 드라이어 B-290형을 이용하여 분무 건조법(온도 110∼220℃)에 의해 건조하여, 입자경 0.609㎛, 내공경 0.381㎛, 용적 공공율 24％의 단일의 공공을 갖는 구 형상의 중공 입자 1을 얻었다.
또한, 투과형 전자 현미경(가부시키가이샤 히타치하이테크놀로지즈사 제조, 형식 「H-7650」)에 의해 임의의 20개의 중공 입자 1에 대해서 장경(Rmax) 및 단경(Rmin)을 측정하여, 그의 평균값을 산출한 결과, 장경이 0.615㎛, 단경이 0.604㎛이고, 장경과 단경의 비율(Rmax/Rmin)이 1.02였다.
또한, 상기에서 얻어진 중공 입자 1의 수성 분산체를 시료로 하고, 동적 광산란법을 측정 원리로 하는 입도 분포 측정 장치(오츠카덴시 가부시키가이샤 제조, 형식 「ELSZ-1000ZS」)를 이용하여, 중공 입자 1의 수 평균 입자경(Dn) 및 입자경 분포의 표준 편차(σ)를 구한 결과, 수 평균 입자경(Dn)이 0.609㎛, 표준 편차(σ)가 0.034㎛였다. 이들 값으로부터, 하기식 (1)에 의해 입자 변동 계수(CV값)를 산출한 결과, CV값은 0.056이었다.
CV값＝(입자경 분포의 표준 편차(σ)/수 평균 입자경(Dn))…(1)
3.1.2. 코어셸 입자의 제작
용량 2리터의 반응 용기에, 물 947부, 상기 시드 입자 A의 수성 분산체를 고형분으로 1.6부(수성 분산체로 5.5부), 도데실벤젠술폰산 나트륨 0.5부를 투입하고, 교반하면서 온도 85℃로 가열하고, 중합 개시제로서 3％ 과황산 칼륨 수용액 10부를 투입했다. 온도를 85℃로 유지하면서, 스티렌 80부와 디비닐벤젠(m,p-혼합물, 순도 81％) 20부로 이루어지는 모노머 혼합물을 연속적으로 3시간에 걸쳐 투입했다. 그 후 2시간의 숙성을 행한 후, 반응 용기를 40℃까지 냉각하고, 내용물을 눈금 간격 50㎛의 나일론제 메시를 이용하여 여과하고, 추가로 여과 정밀도 10㎛의 폴리프로필렌제 카트리지 필터를 이용하여 가압 여과를 행하여, 밀실 입자 1의 수성 분산체(고형분 10.0％)를 얻었다.
이어서, 비스(3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드(상품명 「퍼로일(등록상표) 355」, 니치유(주) 제조, 물 용해도: 0.01％) 2부, 도데실벤젠술폰산 나트륨 0.1부 및, 물 17.9부를 교반하여 유화 후, 초음파 호모게나이저((주)에스엠티 제조)로 추가로 미립자화 하여, 중합 개시제의 수성 분산체를 얻었다. 제작한 중합 개시제의 수성 분산체에, 코어 입자로서 상기 밀실 입자 1의 수성 분산체를 고형분으로 15부(수성 분산체로 150부) 첨가하고, 16시간 교반했다. 그 후, 물 680부, 메타크릴산 메틸 90부, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트 10부, BASF사 제조 존크릴(등록상표) 62의 10％ 수용액 50부를 더하여 온도를 40℃로 유지하면서 3시간 교반하고, 추가로 온도를 80℃로 유지하면서 3시간 교반함으로써, 상기 밀실 입자 1의 표면이 폴리머 피복된 코어셸 입자를 합성했다. 그 후, 반응 용기를 40℃까지 냉각하고, 내용물을 눈금 간격 50㎛의 나일론제 메시를 이용하여 여과하고, 추가로 여과 정밀도 10㎛의 폴리프로필렌제 카트리지 필터를 이용하여 가압 여과를 행하여, 코어셸 입자의 수성 분산체(고형분 12.2％)를 얻었다. 얻어진 수성 분산체를, 니혼뷰히사 제조 미니 스프레이 드라이어 B-290형을 이용하여 분무 건조법(온도 110∼220℃)에 의해 건조하여, 입자경 1.54㎛의 코어셸 입자를 얻었다.
중공 입자 1과 동일하게 코어셸 입자의 장경(Rmax) 및 단경(Rmin)을 측정하여, 그의 평균값을 산출한 결과, 장경이 1.560㎛, 단경이 1.510㎛이고, 장경과 단경의 비율(Rmax/Rmin)이 1.03이었다. 또한, 중공 입자 1과 동일하게 코어셸 입자의 수 평균 입자경, 표준 편차, 입자 변동 계수를 구한 결과, 수 평균 입자경이 1.540㎛, 표준 편차가 0.154㎛, 입자 변동 계수가 0.100이었다.
3.1.3. 이형 입자의 제작
용량 2리터의 반응 용기에, 물 947부, 상기 시드 입자 A의 수성 분산체를 고형분으로 1.6부(수성 분산체로 5.5부), 스티렌 80부, 디비닐벤젠(m,p-혼합물, 순도 81％) 15부, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트 5부, 도데실벤젠술폰산 나트륨 0.5부를 투입하여, 교반하면서 온도 85℃로 가열하고, 중합 개시제로서 3％ 과황산 칼륨 수용액 10부를 투입했다. 온도를 85℃로 유지하면서 6시간의 숙성을 행함으로써, 입경 0.809㎛의 제1 중합체 입자의 수성 분산체(고형분 10.0％)를 얻었다.
비스(3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드(상품명 「퍼로일(등록상표) 355」, 니치유(주) 제조, 물 용해도: 0.01％) 2부, 도데실벤젠술폰산 나트륨 0.1부 및, 물 17.9부를 교반하여 유화 후, 초음파 호모게나이저((주) 에스엠티 제조)로 추가로 미립자화하여, 중합 개시제의 수성 분산체를 얻었다. 제작한 중합 개시제의 수성 분산체에, 상기 제1 중합체 입자의 수성 분산체를 고형분으로 15부(수성 분산체로 150부) 첨가하여, 16시간 교반했다. 그 후, 물 680부, 메타크릴산 메틸 90부, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트 10부, BASF사 제조 존크릴(등록상표) 62의 10％ 수용액 50부를 더하여 온도를 40℃로 유지하면서 3시간 교반하고, 추가로 온도를 80℃로 유지하면서 3시간 교반함으로써, 이형 입자를 합성했다. 그 후, 반응 용기를 40℃까지 냉각하고, 내용물을 눈금 간격 50㎛의 나일론제 메시를 이용하여 여과하고, 추가로 여과 정밀도 10㎛의 폴리프로필렌제 카트리지 필터를 이용하여 가압 여과를 행하여, 이형 입자의 수성 분산체(고형분 12.2％)를 얻었다. 얻어진 수성 분산체를, 니혼뷰히사 제조 미니 스프레이 드라이어 B-290형을 이용하여 분무 건조법(온도 110∼220℃)에 의해 건조하여, 입자경 1.67㎛의 이형 입자를 얻었다.
중공 입자 1과 동일하게 이형 입자의 장경(Rmax) 및 단경(Rmin)을 측정하여, 그의 평균값을 산출한 결과, 장경이 1.810㎛, 단경이 1.530㎛이고, 장경과 단경의 비율(Rmax/Rmin)이 1.180이었다. 또한, 중공 입자 1과 동일하게 이형 입자의 수 평균 입자경, 표준 편차, 입자 변동 계수를 구한 결과, 수 평균 입자경이 1.670㎛, 표준 편차가 0.147㎛, 입자 변동 계수가 0.088이었다.
3.1.4. 탄산 칼슘 입자 A의 제작
와코준야쿠코교 가부시키가이샤로부터 구입한 탄산 칼슘을 마노 유발로 분쇄하고, 추가로 수사(水篩)에 의한 분급을 행한 후, 니혼뷰히사 제조 미니 스프레이 드라이어 B-290형을 이용하여 분무 건조법(온도 110∼220℃)을 사용하여 건조함으로써, 표 1에 기재된 입자 장경/단경비를 갖는 광 확산 입자를 제작했다. 얻어진 탄산 칼슘 입자 A를 초음파 분산기를 사용하여 수중에 분산시킨 수성 분산체를 시료로 하여, 중공 입자 1과 동일하게 탄산 칼슘 입자 A의 수 평균 입자경, 표준 편차, 입자 변동 계수를 구한 결과, 수 평균 입자경이 2.230㎛, 표준 편차가 0.443㎛, 입자 변동 계수가 0.199였다. 또한, 중공 입자 1과 동일하게 탄산 칼슘 입자 A의 장경(Rmax) 및 단경(Rmin)을 측정하여, 그의 평균값을 산출한 결과, 장경이 2.320㎛, 단경이 2.130㎛이고, 장경과 단경의 비율(Rmax/Rmin)이 1.09였다.
3.1.5. 황산 바륨 입자 A의 제작
와코준야쿠코교 가부시키가이샤로부터 구입한 황산 바륨을 마노 유발로 분쇄하고, 추가로 수사에 의한 분급을 행한 후, 니혼뷰히사 제조 미니 스프레이 드라이어 B-290형을 이용하여 분무 건조법(온도 110∼220℃)을 사용하여 건조함으로써, 표 1에 기재된 입자 장경/단경비를 갖는 광 확산 입자를 제작했다. 얻어진 황산 바륨 입자 A를 초음파 분산기를 사용하여 수중에 분산시킨 수성 분산체를 시료로 하여, 중공 입자 1과 동일하게 황산 바륨 입자 A의 수 평균 입자경, 표준 편차, 입자 변동 계수를 구한 결과, 수 평균 입자경이 1.970㎛, 표준 편차가 0.355㎛, 입자 변동 계수가 0.180이었다. 또한, 중공 입자 1과 동일하게 황산 바륨 입자 A의 장경(Rmax) 및 단경(Rmin)을 측정하여, 그의 평균값을 산출한 결과, 장경이 2.140㎛, 단경이 1.800㎛이고, 장경과 단경의 비율(Rmax/Rmin)이 1.19였다.
3.1.6. 이산화티탄 입자 A의 제작
와코준야쿠코교 가부시키가이샤로부터 구입한 이산화티탄을 마노 유발로 분쇄하고, 추가로 수사에 의한 분급을 행한 후, 니혼뷰히사 제조 미니 스프레이 드라이어 B-290형을 이용하여 분무 건조법(온도 110∼220℃)을 사용하여 건조함으로써, 표 1에 기재된 입자 장경/단경비를 갖는 광 확산 입자를 제작했다. 얻어진 이산화티탄 입자 A를 초음파 분산기를 사용하여 수중에 분산시킨 수성 분산체를 시료로 하여, 중공 입자 1과 동일하게 이산화티탄 입자 A의 수 평균 입자경, 표준 편차, 입자 변동 계수를 구한 결과, 수 평균 입자경이 2.670㎛, 표준 편차가 0.400㎛, 입자 변동 계수가 0.150이었다. 또한, 중공 입자 1과 동일하게 이산화티탄 입자 A의 장경(Rmax) 및 단경(Rmin)을 측정하여, 그의 평균값을 산출한 결과, 장경이 2.730㎛, 단경이 2.600㎛이고, 장경과 단경의 비율(Rmax/Rmin)이 1.05였다.
3.2. 실시예 1
상기에서 제작한 중공 입자 1 20질량부, 비스페놀 A 에폭시디아크릴레이트(아르케마(주) 제조, 상품명 「CN104」) 33.1질량부, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트(다이이치코교세야쿠(주) 제조, 상품명 「뉴프론티어 PGA」) 40.1질량부, 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)인산 에스테르(닛폰카야쿠(주) 제조, 상품명 「KAYAMER PM-2」) 0.4질량부, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤(BASF 재팬(주) 제조, 상품명 「이르가큐어 184」) 6.3질량부, 하이드로퀴논모노메틸에테르(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.08질량부, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.04질량부를 혼합하고, 추가로 조성분 중의 수분이 0.4질량부가 되도록 조제했다. 또한 유성식 교반 장치(쿠라시키보세키 가부시키가이샤 제조, 형식 「KK-50S」)를 사용하여 혼련하고, 광 확산 입자(A)로서 중공 입자 1을 함유하는 도광판용 조성물을 조제했다.
이어서, 작업 스테이지 상에 유리제의 도광 기판(닛폰덴키가라스 가부시키가이샤 제조, 제품명 「OA-10G」, 오버플로우법으로 제조된 표면 거칠기 Ra＝0.5㎚의 유리 기판)을 올려놓고, 상방으로부터 상기에서 얻어진 도광판용 조성물을 도트 형상으로 스크린 인쇄하고, 그 후, 자외선 조사에 의해 경화시킴으로써, 광 확산부가 형성된 도광판을 제작했다.
또한, 도광판용 조성물의 도포 조건, 자외선의 조사 조건 및, 평가방법은, 이하와 같다.
<도포 조건>
이하의 조건에 따라, 도트를 스크린 인쇄했다. 도트 지름은 300㎛, 도트 막두께 15㎛, 도트 패턴은 피치 500∼2000㎛의 피치그라데이션 설계로 했다.
·도광 기판의 치수: 길이(도광 방향의 길이) 718㎜, 폭 413㎜, 두께 2㎜
·도공면: 출사면(도광 기판의 표면)
·도포 수단: 스크린 인쇄
·메시: 420메시/인치
·스키지 각도: 50°
·스키지 속도: 65㎜/s
·스키지압: 0.198kgf/㎠
·클리어런스: 1.1㎜
<자외선 조사 조건>
·램프: 초고압 수은 램프(조사 파장 280㎚ 이상 500㎚ 이하)
·조사량: 550mJ/㎠(365㎚)
<평가 방법>
(1) 경화성의 평가
상기와 같이 하여 도광판용 조성물을 자외선 조사에 의해 경화시킨 후, 형성된 광 확산부를 촉진(觸診)하여, 택을 인식할 수 있는 경우는 경화 불량으로 판단하여 「×」, 택을 인식할 수 없는 경우는 경화성 양호로 판단하여 「○」로 표 중에 표기했다.
(2) 도광판의 휘도 불균일 및 색도 불균일의 평가
제작한 도광판의 양 단부에 백색 LED를 선상으로 배치한 광원을 설치하고, 당해 도광판의 이면측에 백색 확산 반사 시트, 표면측이 되는 도공면에 광 확산 필름을 적층하여, 사이드라이트식 백라이트를 제작했다. 당해 사이드라이트식 백라이트를 정면 2m 떨어진 위치로부터 육안에 의해 관찰하여, 전체 면에서 균일한 휘도이며 휘도 불균일을 인식할 수 없어, 매우 양호로 판단할 수 있는 경우는 「◎」, 근소한 휘도 불균일이 인정되지만, 엄밀하게 균질의 휘도가 요구되지 않는 용도로는 사용 가능으로 판단할 수 있는 경우는 「○」, 명백하게 휘도 불균일이 인정되고, 사용 곤란한 경우에는 불량으로 판단하여 「×」로 표 중에 표기했다.
또한, 당해 사이드 라이트식 백라이트를 정면 2m 떨어진 위치로부터 육안에 의해 관찰하여, 색도 불균일을 인식할 수 없고 발색이 백색이고, 매우 양호로 판단할 수 있는 경우는 「◎」, 약간 색도 불균일을 인식할 수 있지만, 엄밀한 백색 발광이 요구되지 않는 용도로는 사용 가능으로 판단할 수 있는 경우는 「○」, 면 내의 색도 불균일이 크고, 사용 곤란한 경우는 불량으로 판단하여 「×」로 표 중에 표기했다.
(3) 보존 안정성
상기에서 조제한 도광판용 조성물을 실온에 있어서 차광 환경하에서 보존하고, 1개월마다 도광판을 상기 방법에 의해 제작하여, 상기 휘도 불균일 평가 및 색도 불균일 평가를 행함으로써, 도광판용 조성물의 보존 안정성을 평가했다. 도광판의 휘도 불균일 및 색도 불균일이 조제 직후의 도광판용 조성물을 사용한 경우와 비교하여 동등한 경우에는 「◎」, 약간 변화가 보이지만 도광판으로서의 사용 가부의 판단에 영향을 주지 않는 정도인 경우는 「○」, 사용 가부의 판단이 상이한 경우에는 「×」로 표 중에 표기했다.
3.3. 실시예 2∼3, 비교예 1∼2
물(C)의 함유량을 표 1에 기재된 바와 같이 하고, 각 재료의 사용량을 미(微)조정한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 도광판용 조성물을 제작하고, 평가를 행했다.
3.4. 실시예 4
상기에서 제작한 코어셸 입자 10질량부, 비스페놀 A　에폭시디아크릴레이트(아르케마(주) 제조, 상품명 「CN104」) 36.6질량부, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트(다이이치코교세야쿠(주) 제조, 상품명 「뉴프론티어 PGA」) 44.4질량부, 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)인산 에스테르(닛폰카야쿠(주) 제조, 상품명 「KAYAMER PM-2」) 0.44질량부, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤(BASF 재팬(주) 제조, 상품명 「이르가큐어 184」) 7.0질량부, 하이드로퀴논모노메틸에테르(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.05질량부, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.1질량부를 혼합하고, 추가로 조성분 중의 수분이 1.5질량부가 되도록 조제했다. 또한 유성식 교반 장치(쿠라시키보세키 가부시키가이샤 제조, 형식 「KK-50S」)를 사용하여 혼련함으로써 광 확산 입자(A)로서 코어셸 입자를 함유하는 도광판용 조성물을 제작하고, 실시예 1과 동일하게 하여 평가를 행했다.
3.5. 실시예 5
상기에서 제작한 이형 입자 30질량부, 비스페놀 A 에폭시디아크릴레이트(아르케마(주) 제조, 상품명 「CN104」) 28.8질량부, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트(다이이치코교세야쿠(주) 제조, 상품명 「뉴프론티어 PGA」) 34.8질량부, 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)인산 에스테르(닛폰카야쿠(주) 제조, 상품명 「KAYAMER PM-2」) 0.35질량부, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤(BASF 재팬(주) 제조, 상품명 「이르가큐어 184」) 5.45질량부, 하이드로퀴논모노메틸에테르(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.1질량부, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.1질량부를 혼합하고, 추가로 조성분 중의 수분이 0.4질량부가 되도록 조제했다. 또한 유성식 교반 장치(쿠라시키보세키 가부시키가이샤 제조, 형식 「KK-50S」)를 사용하여 혼련함으로써 광 확산 입자(A)로서 이형 입자를 함유하는 도광판용 조성물을 제작하고, 실시예 1과 동일하게 하여 평가를 행했다.
3.6. 실시예 6
상기에서 제작한 탄산 칼슘 입자 A 9질량부, 비스페놀 A 에폭시디아크릴레이트(아르케마(주) 제조, 상품명 「CN104」) 37.6질량부, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트(다이이치코교세야쿠(주) 제조, 상품명 「뉴프론티어 PGA」) 45.6질량부, 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)인산 에스테르(닛폰카야쿠(주) 제조, 상품명 「KAYAMER PM-2」) 0.45질량부, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤(BASF 재팬(주) 제조, 상품명 「이르가큐어 184」) 7.17질량부, 하이드로퀴논모노메틸에테르(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.06질량부, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.02질량부를 혼합하고, 추가로 조성분 중의 수분이 0.02질량부가 되도록 조제했다. 또한 유성식 교반 장치(쿠라시키보세키 가부시키가이샤 제조, 형식 「KK-50S」)를 사용하여 혼련함으로써 광 확산 입자(A)로서 탄산 칼슘 입자 A를 함유하는 도광판용 조성물을 제작하고, 실시예 1과 동일하게 하여 평가를 행했다.
3.7. 실시예 7
상기에서 제작한 황산 바륨 입자 A 9질량부, 비스페놀 A 에폭시디아크릴레이트(아르케마(주) 제조, 상품명 「CN104」) 37.6질량부, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트(다이이치코교세야쿠(주) 제조, 상품명 「뉴프론티어 PGA」) 45.6질량부, 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)인산 에스테르(닛폰카야쿠(주) 제조, 상품명 「KAYAMER PM-2」) 0.45질량부, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤(BASF 재팬(주) 제조, 상품명 「이르가큐어 184」) 7.17질량부, 하이드로퀴논모노메틸에테르(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.05질량부, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.03질량부를 혼합하고, 추가로 조성분 중의 수분이 0.03질량부가 되도록 조제했다. 또한 유성식 교반 장치(쿠라시키보세키 가부시키가이샤 제조, 형식 「KK-50S」)를 사용하여 혼련함으로써 광 확산 입자(A)로서 황산 바륨 입자 A를 함유하는 도광판용 조성물을 제작하고, 실시예 1과 동일하게 하여 평가를 행했다.
3.8. 실시예 8
상기에서 제작한 이산화티탄 입자 A 9질량부, 비스페놀 A 에폭시디아크릴레이트(아르케마(주) 제조, 상품명 「CN104」) 37.6질량부, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트(다이이치코교세야쿠(주) 제조, 상품명 「뉴프론티어 PGA」) 45.6질량부, 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)인산 에스테르(닛폰카야쿠(주) 제조, 상품명 「KAYAMER PM-2」) 0.45질량부, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤(BASF 재팬(주) 제조, 상품명 「이르가큐어 184」) 7.17질량부, 하이드로퀴논모노메틸에테르(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.3질량부, 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온(와코준야쿠코교 가부시키가이샤 제조) 0.03질량부를 혼합하고, 추가로 조성분 중의 수분이 0.04질량부가 되도록 조제했다. 또한 유성식 교반 장치(쿠라시키보세키 가부시키가이샤 제조, 형식 「KK-50S」)를 사용하여 혼련함으로써 광 확산 입자(A)로서 이산화티탄 입자 A를 함유하는 도광판용 조성물을 제작하고, 실시예 1과 동일하게 하여 평가를 행했다.
3.9. 평가 결과
하표 1에 각 실시예 및 비교예에 이용한 도광판용 조성물의 조성, 물성, 그리고 평가 결과를 나타낸다.
Figure pat00004
또한, 표 1 중에 기재한 각 재료는, 이하에 기재된 상품 또는 화합물을 사용했다.
분산 매체(B)
·B1: 비스페놀 A 에폭시디아크릴레이트, 아르케마(주) 제조, 상품명 「CN104」
·B2: 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 다이이치코교세야쿠(주) 제조, 상품명 「뉴프론티어 PGA」
물(C): 이온 교환수
라디칼 포착제(D): 하이드로퀴논모노메틸에테르, 와코준야쿠코교(주) 제조
이소티아졸린계 화합물(E):
·E1: 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, 와코준야쿠코교(주) 제조
·E2: 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온, 와코준야쿠코교(주) 제조
광 중합 개시제: 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, BASF 재팬(주) 제조, 상품명 「이르가큐어 184」
인산 에스테르: 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)인산 에스테르, 닛폰카야쿠(주) 제조, 상품명 「KAYAMER PM-2」)
실시예 1∼8의 물(C)을 특정량 함유하는 도광판용 조성물은, 경화성이 양호하고, 또한, 보존 안정성이 우수한 것을 알 수 있다. 또한, 실시예 1∼8의 물(C)을 특정량 함유하는 도광판용 조성물을 이용하여 제작된 도광판은, 휘도 불균일이나 색도 불균일을 효과적으로 억제할 수 있기 때문에, 도광판의 면 발광의 균질성이 우수하고, 양호한 발광 특성을 나타내는 것을 알 수 있다.
본 발명은, 상기의 실시 형태에 한정되는 것이 아니고, 여러 가지의 변형이 가능하다. 본 발명은, 실시 형태에서 설명한 구성과 실질적으로 동일한 구성(예를 들면, 기능, 방법 및 결과가 동일한 구성, 혹은 목적 및 효과가 동일한 구성)을 포함한다. 또한 본 발명은, 상기의 실시 형태에서 설명한 구성의 본질적이지 않은 부분을 다른 구성으로 치환한 구성을 포함한다. 또한 본 발명은, 상기의 실시 형태에서 설명한 구성과 동일한 작용 효과를 가져오는 구성 또는 동일한 목적을 달성할 수 있는 구성도 포함한다. 또한 본 발명은, 상기의 실시 형태에서 설명한 구성에 공지 기술을 부가한 구성도 포함한다.
1 : 도광판
3 : 광원
11 : 도광 기판
12 : 광 확산부
20 : 면 광원 장치
30 : 투과형 화상 표시부
40a, 40b, 40c : 광 확산 입자
50a, 50b, 50c, 50d, 50e, 50f : 이형 입자
52a, 52b, 52c, 52d, 52e, 52f : 제1 광 확산 입자
54a, 54b, 54c, 54d, 54e, 54f : 제2 광 확산 입자
100 : 투과형 화상 표시 장치(액정 표시 장치)
S1, S2 : (도광 기판의)출사면
S31, S32, S33, S34 : (도광 기판의)단면

Claims (9)

  1. 광 확산 입자(A)와,
    분산 매체(B)와,
    물(C)을 함유하는 도광판용 조성물로서,
    상기 광 확산 입자(A)의 함유량을 Ma질량부, 상기 물(C)의 함유량을 Mc질량부로 했을 때에, 양자의 비 Ma/Mc가 5∼500인, 도광판용 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 광 확산 입자(A)의 입자경 분포의 표준 편차를 수 평균 입자경으로 나눈 값(입자 변동 계수)이 0.01∼0.2인, 도광판용 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 광 확산 입자(A)의 장경(Rmax)과 단경(Rmin)의 비율(Rmax/Rmin)이 1.01∼1.2의 범위에 있는, 도광판용 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 분산 매체(B)로서 광 중합성 성분을 포함하는, 도광판용 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    추가로, 라디칼 포착제(D)를 함유하는, 도광판용 조성물.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 광 확산 입자(A)의 함유량을 Ma질량부, 상기 라디칼 포착제(D)의 함유량을 Md질량부로 했을 때에, 양자의 비 Ma/Md가 20∼500인, 도광판용 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    추가로, 이소티아졸린계 화합물(E)을 함유하는, 도광판용 조성물.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 광 확산 입자(A)의 함유량을 Ma질량부, 상기 이소티아졸린계 화합물(E)의 함유량을 Me질량부로 했을 때에, 양자의 비 Ma/Me가 50∼600인, 도광판용 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 도광판용 조성물을 이용하여 제작된 도광판.
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