KR20170056424A - 약액 혼합 공급장치 및 방법 - Google Patents

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KR20170056424A
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Abstract

본 발명은 반도체 웨이퍼 제조 공정에 있어서 웨이퍼 표면의 불순물을 제거하는 반도체 제조를 위한 약액 혼합 공급장치 및 방법을 개시한다. 본 발명은 공급되는 복수의 약액을 혼합 유닛에서 혼합하여 웨이퍼의 표면을 세척하는데 제공하는 약액 혼합 공급장치에 있어서, 펌프에 의해 공급되는 과산화수소 약액의 압력과 유량을 측정하여 상기 혼합 유닛으로 공급량을 제어하는 과산화수소 버퍼 유닛; 및 펌프에 의해 공급되는 황산 약액을 예비 혼합시켜 상기 혼합 유닛으로 공급하는 황산 희석 유닛을 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.

Description

약액 혼합 공급장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR MIXING AND SUPPLYING CHEMICAL}
본 발명은 약액 혼합 공급장치 및 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 웨이퍼 제조 공정에 사용되는 약액 혼합 공급장치 및 방법에 관한 것이다.
도 1a는 종래의 반도체 제조를 위한 약액 혼합 공급장치의 공정순서를 나타내는 공정도이고, 도 1b는 종래의 반도체 제조를 위한 약액 혼합 공급장치의 혼합공정을 나타내는 공정도이며, 도 1c는 종래의 일반적인 반도체 전공정을 나타내는 공정 순서도이다.
도 1c의 반도체 전공정에서 보는 바와 같이 반도체 웨이퍼 세정은 웨이퍼 상에 부착된 유기물, 입자, 금속이온 및 산화물 등의 세정을 수반한다. 이러한 오염입자들이 적절히 제거되지 않을 경우에는 제조되는 반도체의 품질이나 수율에 막대한 손실을 가져오게 되므로 반도체 전체 공정에서 오염도의 관리는 매우 엄격히 이루어지고 있다.
더구나, 반도체 웨이퍼에서 상기한 오염입자의 세정공정은 반도체 전체 공정에서 약 40%를 차지할 정도로 가장 빈번하게 사용되는 공정일 뿐만 아니라, 극초대형집적회로(ULSI) 기술에서 요구되는 초청정(ultra-clean) 웨이퍼 상태를 유지하는 데 필수 불가결한 중요 공정이다.
상기 오염입자의 제거를 위한 세정방법으로는 크게 기계적 방법, 화학적 방법 그리고 초음파 방법 등이 사용되는데, 그 중에 근래에는 세정효율이 좋으면서 작업성이 좋아 화학적 세정방법이 주로 사용되고 있다.
이러한 화학적 세정방법은 약액을 사용하여 웨이퍼 표면에 불순물을 제거하도록 구성된다. 이러한 화학적 세정방법으로 이루어지는 공정에서는 사용한 약액을 전량 폐기하지 않고 리사이클링(재사용)함으로써, 전체적인 반도체 생산 수율을 1%이상 상승시키고 있다. 만일 약액을 리사이클링하지 않고 신액으로 충당하는 경우에는 리사이클링하는 경우보다 소요 약액량이 적어도 5~7배 증가될 것으로 예상된다.
구체적으로, 도 1a는 종래의 반도체 제조를 위한 약액 혼합 공급장치의 공정순서를 나타내는 공정도이고, 도 1b는 종래의 반도체 제조를 위한 약액 혼합 공급장치의 혼합공정을 나타내는 공정도이다. 도 1a를 참조해 보면, 종래의 약액혼합공정은 탱크로리로부터 ACQC 유닛 및 이송유닛을 통해 혼합유닛으로 복수의 약액이 공급되어 혼합유닛에서 혼합이 이루어지고 혼합된 약액은 혼합 저장소에 저장되며, 이 혼합 약액을 공급유닛을 통해 POU(Point Of Use; 수요장비)로 공급하거나 공급 저장소에 저장하도록 구성된다. 이때 혼합공정에 따른 약액은 도 1b와 같이 통상적으로 원액 약액에 대해 50wt%의 플루오린화수소(HF) 약액, 31wt%의 과산화수소(H2O2), 및 96wt%의 황산(H2SO4)을 공급하여 혼합공정이 이루어진다. 이때 상기 원액 약액의 나머지는 각각 물로 이루어진다. 예를 들어 전체 약액에 대해 과산화수소의 31wt%일 때 물이 69wt%로 이루어질 수 있다.
한편, 종래의 약액 혼합 공급장치의 혼합공정에서는 약액의 혼합시 황산(H2SO4)에 의한 온도상승으로 인해 별도의 열교환기를 이용하여 상온까지 냉각시키고, 농도계를 통해 적정 농도 여부를 판단하는 작업이 요구된다.
따라서 종래의 약액혼합공정은 96wt%로의 황산을 혼합함으로써 혼합 반응열로 인해 40~50℃ 정도의 열이 상승한다. 이를 냉각하기 위해서 혼합기 내부에 열교환기를 설치하여 냉각이 이루어지게 하지만, 냉각을 위한 시간의 증가로 혼합효율이 저하되고 이로 인해 전체적으로 생산효율을 저해시키는 문제점이 있었다.
- 선행문헌 : 대한민국 특허공개 제2002-0022545호(공개일자 : 2002년 03월 27일)
본 발명은 위와 같은 문제점을 해소하기 위해 창안된 것으로서, 반도체 웨이퍼의 세정공정에 사용되는 약액의 혼합시 황산의 반응열로 인해 상승된 온도를 냉각시키는데 소요되는 시간을 대폭 줄여 생산효율을 향상시킬 수 있는 약액 혼합 공급장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일실시 형태에 따르면, 과산화 수소 약액, 황산 약액, 및 HF 약액을 혼합하여 웨이퍼의 표면을 세척하는데 제공하는 약액 혼합 공급장치에 있어서, 상기 과산화 수소 약액, 상기 황산 약액, 및 상기 HF 약액을 혼합하는 혼합유닛; 및 상기 과산화수소 약액의 압력과 유량을 측정하여 상기 혼합 유닛으로 공급량을 제어하는 과산화수소 버퍼 유닛; 및 상기 혼합유닛으로 공급되기 이전의 상기 황산 약액에 초정수를 혼합하여 황산 함유율이 40wt% 이하로 희석시키는 황산 희석 유닛을 포함하여 이루어진 약액 혼합 공급장치를 제공한다.
상기 혼합유닛은, 공급되는 약액들의 유량을 조절하도록 배관 상에 설치된 유량 컨트롤러, 상기 유량 컨트롤러와 연결되어 공급되는 상기 약액들을 배관 상에서 혼합하는 라인 혼합기, 상기 라인 혼합기에 연결되어 혼합 약액을 순환시키는 것으로 기설정 온도까지 냉각시키는 열교환기; 및 상기 혼합 약액이 저장되는 혼합탱크를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 열교환기의 주변에 배관되어 순환과정에서 상승된 혼합 약액의 온도를 낮추는 보조 열교환기를 더 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 황산 희석 유닛은, 상기 황산 약액이 공급되는 황산 공급부, 상기 황산을 희석시키기 위한 초정수가 공급되는 초정수 공급부, 상기 황산 공급부와 상기 초정수 공급부의 각 유량을 제어하는 유량 컨트롤러, 상기 유량 컨트롤러와 연결되어 희석된 황산 약액을 냉각시키는 다단의 열교환기로 이루어질 수 있다.
상기 열교환기와 연결되고 희석된 황산 약액이 저장되는 혼합탱크; 및 상기 혼합탱크와 상기 열교환기 사이에 배치되어 상기 황산 약액을 황산 함유율이 40wt% 이하가 되도록 낮추는 동시에 상기 황산 약액의 온도를 기설정 온도에 도달하도록 순환시키는 펌프를 포함하여 이루어질 수 있다.
또한 본 발명은 과산화 수소 약액, 황산 약액, 및 HF 약액을 혼합하여 웨이퍼의 표면을 세척하는데 제공하는 약액 혼합 공급방법으로서, 상기 황산 약액에 초정수를 혼합하여 황산 함유율이 40wt% 이하로 희석시키는 황산 희석 공정; 및 상기 황산 희석 공정에 의해 희석된 황산 약액에 상기 과산화 수소 약액과 HF 약액을 혼합하는 혼합 공정을 포함하여 이루어진 약액 혼합 공급방법이 제공된다.
상기 혼합 공정은, 공급되는 상기 과산화 수소 약액, HF 약액 및 희석된 황산 약액을 공급배관에 설치된 라인 혼합기에 의해 혼합시키고 열교환기를 거쳐 냉각이 이루어진 다음 혼합탱크에 저장할 수 있다.
상기 열교환기와 상기 혼합탱크의 사이에는 보조 열교환기 설치되어 상기 혼합 약액의 순환시 펌프에 의한 상승된 상기 혼합 약액의 온도를 냉각시킬 수 있다.
본 발명에 따르면, 반도체 웨이퍼의 세정공정에 사용되는 약액의 혼합장치에 황산 희석 유닛을 설치하여 예비 희석시킴으로써, 황산의 반응열로 인해 상승된 온도를 냉각시키는데 소요되는 시간을 대폭 줄일 수 있으며, 과산화수소 버퍼 유닛을 통해 과산화수소 약액의 공급을 원활하게 함으로써 생산효율을 향상시키는 효과가 있다.
도 1a는 종래의 반도체 제조를 위한 약액 혼합 공급장치의 공정순서를 나타내는 공정도,
도 1b는 종래의 반도체 제조를 위한 약액 혼합 공급장치의 혼합공정을 나타내는 공정도,
도 1c는 종래의 일반적인 반도체 전공정을 나타내는 공정 순서도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 혼합 공급장치의 혼합 공정설비를 나타내는 구성도, 및
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 혼합 공급장치의 혼합 공정설비를 나타내는 계통도,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 혼합 공급장치와의 비교를 위한 종래의 약액 혼합 공급장치를 나타내는 구성도,
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 약액 혼합 공급장치의 공정설비도, 및
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 약액 혼합 공급장치의 황산 희석 유닛의 구성도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 예시도면에 의거하여 상세히 설명한다.
<제1 실시예>
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 혼합 공급장치를 나타내는 구성도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 혼합 공급장치를 나타내는 계통도이다.
먼저, 본 발명의 약액 혼합 공급장치는 앞서 설명한 종래의 장치를 기본으로 하며, 각각의 약액 저장 탱크(10,11,12)로부터 황산 약액, 과산화수소 약액, 및 HF 약액을 제공받아 혼합 유닛(50)에서 혼합하기 전에 과산화 수소 버퍼 유닛(30)과 황산 희석 유닛(20)을 거쳐서 혼합이 이루어지도록 구성된다.
일반적으로 웨이퍼 세척에 사용되는 혼합 약액은 HF 약액 50wt%, 과산화 수소 약액 31wt%, 황산 약액 96wt%를 공급받아 혼합 유닛(50)에서 혼합시켜 사용하게 된다. 이때 혼합 유닛(50)은 도 3과 같이 복수의 혼합 유닛(50a,50b)으로 이루어질 수 있다.
Figure pat00001
여기서 HF 약액은 약액 저장 탱크(12)와 혼합 유닛(50) 사이에 VMB(40; Valve Manifold Box)를 통해 연결된다. VMB(40)는 약액의 공급을 배분하여 공급하는 장치로서 공급 배관의 수량을 감소시키면서도 약액의 공급은 원활하게 할 수 있도록 한다.
본 발명은 과산화수소 버퍼 유닛(30)을 약액 저장 탱크(11)와 혼합 유닛(50)의 공급라인에 배치하였다. 여기서 과산화수소 버퍼 유닛(30)은 압력 센서와 전자 유량계를 통해 과산화수소 약액의 공급량을 측정하고 이를 근거로 펌프유닛(P1)을 제어함으로써 과산화수소 약액의 공급량을 조절할 수 있다. 또한 과산화수소 버퍼 유닛(30)은 혼합 유닛(50)으로 과산화수소 약액을 안정적으로 공급해주는 역할을 하는 것으로 마그네틱 펌프의 인버터를 가변제어하는 방식으로 과산화수소 약액을 혼합 유닛(50)에 원활하게 공급하는 기능을 한다. 이를 통해 과산화수소의 공급량을 안정적으로 공급시킬 수 있어 생산효율을 개선할 수 있다.
또한 본 발명은 황산 약액의 저장 탱크(11)와 혼합 유닛(50) 사이의 공급라인에 황산 희석 유닛(20)을 설치한다. 즉, 황산 희석 유닛(20)을 통해 황산 약액의 저장 탱크(11)의 수용된 96wt%의 황산에 초정수(DIW)를 혼합하여 40wt%이하까지 희석되도록 예비 혼합공정이 이루어진다.
Figure pat00002
Figure pat00003
표 2 및 표 3과 같이, 혼합시 발생하는 총열량은 황산 약액이 60wt%일 때 이상적이나 혼합 탱크 내의 발열 온도나 탱크 내의 온도 상승폭이 커져 안정성이 떨어지며, 혼합 유닛(50)에서 처리해야 하는 열량도 높아짐을 알 수 있다. 반면, 황산 약액이 40wt%일 때는 총 열량도 작고, 온도의 변화 폭도 작아지는 것을 알 수 있다.
이와 같은 구성을 통해 혼합 유닛(50)에서 황산 약액의 혼합시 발생된 열을 냉각시키기 위해 요구된 시간을 줄일 수 있다. 즉 황산 희석 유닛(20)을 통한 예비 혼합 공정을 통해 혼합 유닛(50)으로 공급된 황산의 농도를 낮출 수 있어 혼합 유닛(50)의 혼합시 황산에 의한 발열을 낮추고, 이로 인해 냉각에 소요되는 시간 및 비용을 줄일 수 있어 생산효율을 개선할 수 있다.
이와 같이 본 발명은 약액(과산화수소, 황산, HF)들이 혼합되기 전에 공급량을 제어하는 공정을 통해 과산화 수소 약액의 원활한 공급이 이루어지게 할 수 있으며, 또한 약액들의 혼합공정 이전에 황산 농도를 희석시키는 공정이 이루어지게 함으로써 황산의 혼합에 따른 상승된 온도를 낮추기 위해 소요되는 비용 및 시간을 현저하게 줄일 수 있어 생산효율을 개선할 수 있다.
<제2 실시예>
도 4는 본 발명의 약액 혼합 공급장치와의 비교를 위한 종래의 약액 혼합 공급장치를 나타내는 구성도이고, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 약액 혼합 공급장치의 공정 설비도이며, 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 약액 혼합 공급장치의 황산 희석 유닛의 구성도이다.
도 4를 참조하면, 종래의 약액 혼합 공급장치는 과산화수소, HF, 황산이 각각 로드셀(1,2)이나 유량 측정기(3)에 공급량이 제어된다. 또한 초순수(DIW)는 별도로 제공되오 황산의 농도를 일정농도로 희석하게 된다. 이와 같이 4가지 약액들(과산화수소, HF, 황산, 초순수)가 혼합된 상태로 혼합탱크(5,6)에 저장되고, 펌프(P)에 의해 열교환기(8,9)에 각각 순환시키면서 혼합시 상승된 온도를 낮춰서 상온까지 냉각시키는 공정이 이루어진다. 또한 별도의 농도계(4)를 배관 상에 배치하여 황산 농도가 설정된 농도인지 확인한 후에 최종 반도체 제조설비로 제공하게 된다.
도 5를 참조하면, 각각의 공급부를 통해 초정수(DIW)와 과산화 수소 약액, 희석된 황산 약액, 및 HF 약액이 공급된다.
이때 각각의 약액들은 압력 조정기(410)와 유량 컨트롤러(420)에 의해 적정량이 배관을 통해 공급된다. 이들 약액들은 하나의 배관으로 유입되고 이 배관에 연결된 라인 혼합기(510,520)를 통과하면서 서로 혼합된다. 이때 약액 중에 황산 약액은 40wt%이하로 희석된 상태로서 혼합되며, 이 과정에서 화학적 반응에 의해 상승된 온도는 열교환기(610,620)를 통과하면서 냉각되고, 펌프(p)에 의해 적정온도까지 순환되면서 혼합 탱크(210,220)에 저장된다. 열교환기(610,620)와 혼합 탱크(210,220) 사이에는 농도계(300)가 장착되어 설정된 농도에 도달되었는지를 확인하게 된다. 또한 펌프(p) 대용량으로 약액을 순환시키도록 마그네틱 펌프가 채용되는 것이 바람직하다.
그러나 이러한 마그네틱 펌프는 작동시 발열이 크고, 이 펌프의 발열은 순환하는 약액의 온도를 상승시키게 된다. 이를 위해 열교환기(610,620)의 주변에는 외부로 공급되는 배관 라인 상에 보조 열교환기(710,720)가 제공된다. 이에 따라 약액의 혼합시 화학적 온도 상승에 대한 냉각이외에 펌프(P)의 순환 작동에 의한 온도상승에 대한 냉각도 실시함으로써 종래에 황산 혼합에 따른 온도상승으로 인해 대용량으로 약액혼합이 어려웠던 문제점을 해소할 수 있다.
한편, 도 5에서 미설명 부호 400은 HF 베슬로서, 소량으로 공급되는 HF 약액을 정밀하게 공급할 수 있도록 하는 구성요소이다.
도 6을 참조하면, 황산 희석 유닛(20)은 황산을 40wt% 이하로 희석시키는 장치로서, 이 황산 희석 유닛(20)에서 희석된 황산 약액이 도 5의 약액 혼합 공급장치로 제공된다.
구체적으로, 황산 희석 유닛(20)은 초정수(DIW)와 황산 약액이 공급된다. 이때 황산 약액은 황산용기(140)에 의해 저장되었다가 유량 컨트롤러(160)에 의해 정량이 공급된다. 마찬가지로 초정수(DIW)도 유량 컨트롤러(160)에 의해 기설정된 정량이 공급된다. 이와 같이 유량 컨트롤러(160)를 통해 황산 약액에 초정수를 혼합비율을 조절함으로써 황산 함유율이 40wt% 이하의 황산 약액이 되도록 희석공정이 이루어지게 된다.
이와 같이 희석된 황산 약액은 다단의 열교환기(151~154; 150)를 혼합시 상승된 온도를 낮추는 공정이 이루어진다. 즉 유량 컨트롤러(160)에 의해 정해진 혼합비로 공급되는 황산 약액과 초정수는 열교환기(150)와 혼합탱크(110)를 순환하면서 상승된 온도가 냉각되고, 농도계(170)를 통해 농도확인을 거친 후 약액 혼합 공급장치(DSP 300)로 제공된다.
이와 같이 구성된 본 발명은 40wt%로 희석된 황산 약액을 약액 혼합 공급장치로 공급함으로써 열교환기(610,620)를 통한 냉각시간을 대폭 줄일 수 있고, 이에 따라 대량의 약액 혼합이 가능하게 된다. 아울러 대량의 혼합 약액을 순환시키기 위해서는 마그네틱 펌프가 채용되고, 이 마그네틱 펌프에서 발생된 열이 순환 약액에 전달됨으로써 발생되는 온도상승을 보조 열교환기(710,720)를 통해 낮춤으로써 혼합약액를 적정온도로 유지할 수 있다.
또한 혼합 탱크(110,120 또는 210,220)에 각각의 농도계(170 또는 300)를 적용하여 탱크별로 독립적인 혼합 순환 플로우를 구현할 수 있다.
아울러 희석된 혼합 황산약액을 사용하여 혼합이 이루어짐으로써 약액 혼합공급장치의 용량을 기존보다 크게 설정할 수 있고, 이에 따라 혼합 탱크(210,220)의 용량을 크게 설정하여 탱크 내에 저장한 상태로 혼합약액의 순환이 가능함으로써 혼합공정시 농도 안정화가 가능하고, 약액 혼합에 따른 냉각(열교환기 부하)도 줄일 수 있다.
이상에서는 본 발명을 특정의 실시예에 대해서 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상의 요지를 벗어나지 않는 범위에서 얼마든지 다양하게 변경하여 실시할 수 있을 것이다.
10,11,12: 약액 저장 탱크
20: 황산 희석 유닛
30: 과산화수소 버퍼 유닛
50: 혼합 유닛
50a: 제1 혼합 유닛
50b: 제2 혼합 유닛
P1, P2, P3: 펌프 유닛

Claims (7)

  1. 과산화 수소 약액, 황산 약액, 및 HF 약액을 혼합하여 웨이퍼의 표면을 세척하는데 제공하는 약액 혼합 공급장치에 있어서,
    상기 과산화 수소 약액, 상기 황산 약액, 및 상기 HF 약액을 혼합하는 혼합유닛; 및
    상기 과산화수소 약액의 압력과 유량을 측정하여 상기 혼합 유닛으로 공급량을 제어하는 과산화수소 버퍼 유닛; 및
    상기 혼합유닛으로 공급되기 이전의 상기 황산 약액에 초정수를 혼합하여 황산 함유율이 40wt% 이하로 희석시키는 황산 희석 유닛을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 약액 혼합 공급장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 혼합유닛은,
    공급되는 약액들의 유량을 조절하도록 배관 상에 설치된 유량 컨트롤러,
    상기 유량 컨트롤러와 연결되어 공급되는 상기 약액들을 배관 상에서 혼합하는 라인 혼합기,
    상기 라인 혼합기에 연결되어 혼합 약액을 순환시키는 것으로 기설정 온도까지 냉각시키는 열교환기; 및
    상기 혼합 약액이 저장되는 혼합탱크를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 약액 혼합 공급장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 열교환기의 주변에 배관되어 순환과정에서 상승된 혼합 약액의 온도를 낮추는 보조 열교환기를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 약액 혼합 공급장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 황산 희석 유닛은,
    상기 황산 약액이 공급되는 황산 공급부,
    상기 황산을 희석시키기 위한 초정수가 공급되는 초정수 공급부,
    상기 황산 공급부와 상기 초정수 공급부의 각 유량을 제어하는 유량 컨트롤러,
    상기 유량 컨트롤러와 연결되어 희석된 황산 약액을 냉각시키는 다단의 열교환기,
    상기 열교환기와 연결되고 희석된 황산 약액이 저장되는 혼합탱크; 및
    상기 혼합탱크와 상기 열교환기 사이에 배치되어 상기 황산 약액을 황산 함유율이 40wt% 이하가 되도록 낮추는 동시에 상기 황산 약액의 온도를 기설정 온도에 도달하도록 순환시키는 펌프를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 약액 혼합 공급장치.
  5. 과산화 수소 약액, 황산 약액, 및 HF 약액을 혼합하여 웨이퍼의 표면을 세척하는데 제공하는 약액 혼합 공급방법으로서,
    상기 황산 약액에 초정수를 혼합하여 황산 함유율이 40wt% 이하로 희석시키는 황산 희석 공정; 및
    상기 황산 희석 공정에 의해 희석된 황산 약액에 상기 과산화 수소 약액과 HF 약액을 혼합하는 혼합 공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 약액 혼합 공급방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 혼합 공정은,
    공급되는 상기 과산화 수소 약액, HF 약액 및 희석된 황산 약액을 공급배관에 설치된 라인 혼합기에 의해 혼합시키고 열교환기를 거쳐 냉각이 이루어진 다음 혼합탱크에 저장하는 것을 특징으로 하는 약액 혼합 공급방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 열교환기와 상기 혼합탱크의 사이에는 보조 열교환기 설치되어 상기 혼합 약액의 순환시 펌프에 의한 상승된 상기 혼합 약액의 온도를 냉각시키는 것을 특징으로 하는 약액 혼합 공급방법.
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