KR20170041118A - 스피로형 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 - Google Patents
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Abstract
본 명세서는 스피로형 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자에 관한 것이다.
Description
본 출원은 2015년 10월 6일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제 10-2015-0140423호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
본 명세서는 스피로형 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자에 관한 것이다.
일반적으로 유기 발광 현상이란 유기 물질을 이용하여 전기에너지를 빛에너지로 전환시켜주는 현상을 말한다. 유기 발광 현상을 이용하는 유기 발광 소자는 통상 양극과 음극 및 이 사이에 유기물층을 포함하는 구조를 가진다. 여기서 유기물층은 유기 발광 소자의 효율과 안정성을 높이기 위하여 각기 다른 물질로 구성된 다층의 구조로 이루어진 경우가 많으며, 예컨대 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 등으로 이루어 질 수 있다. 이러한 유기 발광 소자의 구조에서 두 전극 사이에 전압을 걸어주게 되면 양극에서는 정공이, 음극에서는 전자가 유기물층에 주입되게 되고, 주입된 정공과 전자가 만났을 때 엑시톤(exciton)이 형성되며, 이 엑시톤이 다시 바닥상태로 떨어질 때 빛이 나게 된다.
상기와 같은 유기 발광 소자를 위한 새로운 재료의 개발이 계속 요구되고 있다.
본 명세서는 스피로형 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면 하기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에 있어서,
X1은 O 또는 S이고,
R1 내지 R12 중 어느 하나는 하기 화학식 B이고, 나머지 및 R13 내지 R16은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; 카르보닐기; 에스테르기; 이미드기; 아미드기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 아릴옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬티옥시기; 치환 또는 비치환된 아릴티옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬술폭시기; 치환 또는 비치환된 아릴술폭시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 실릴기; 치환 또는 비치환된 붕소기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 아릴포스핀기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
[화학식 B]
L1은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌이기고,
Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이거나, 서로 결합하여, 치환 또는 비치환된 고리를 형성한다.
또한, 본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 제1 전극; 상기 제1 전극에 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1 층 이상은 상기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 스피로형 화합물은 유기 발광 소자의 유기물층의 재료로서 사용될 수 있고, 이를 사용함으로써 유기 발광 소자에서 효율의 향상, 낮은 구동전압 및/또는 수명 특성의 향상이 가능하다.
도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따르는 유기 발광 소자(10)를 도시한 것이다.
도 2는 본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르는 유기 발광 소자(11)를 도시한 것이다.
도 2는 본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르는 유기 발광 소자(11)를 도시한 것이다.
이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 명세서는 상기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물을 제공한다.
본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 명세서에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.
본 명세서에 있어서 치환기의 예시들은 아래에서 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 "치환"이라는 용어는 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
본 명세서에서 "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 니트릴기; 니트로기; 이미드기; 아미드기; 카르보닐기; 에스테르기; 히드록시기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 아릴옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬티옥시기; 치환 또는 비치환된 아릴티옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬술폭시기; 치환 또는 비치환된 아릴술폭시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 실릴기; 치환 또는 비치환된 붕소기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 아릴포스핀기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택된 1 또는 2 이상의 치환기로 치환되었거나 상기 예시된 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환기로 치환되거나, 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다. 예컨대, "2 이상의 치환기가 연결된 치환기"는 바이페닐기일 수 있다. 즉, 바이페닐기는 아릴기일 수도 있고, 2개의 페닐기가 연결된 치환기로 해석될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 할로겐기는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드가 될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 이미드기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적으로 하기와 같은 구조의 화합물이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 아미드기는 아미드기의 질소가 수소, 탄소수 1 내지 30의 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄 알킬기 또는 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 치환될 수 있다. 구체적으로, 하기 구조식의 화합물이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 카르보닐기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적으로 하기와 같은 구조의 화합물이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 에스테르기는 에스테르기의 산소가 탄소수 1 내지 25의 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄 알킬기 또는 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 치환될 수 있다. 구체적으로, 하기 구조식의 화합물이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 메틸, 에틸, 프로필, n-프로필, 이소프로필, 부틸, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, sec-부틸, 1-메틸-부틸, 1-에틸-부틸, 펜틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸, 헥실, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 4-메틸-2-펜틸, 3,3-디메틸부틸, 2-에틸부틸, 헵틸, n-헵틸, 1-메틸헥실, 시클로펜틸메틸, 시클로헥실메틸, 옥틸, n-옥틸, tert-옥틸, 1-메틸헵틸, 2-에틸헥실, 2-프로필펜틸, n-노닐, 2,2-디메틸헵틸, 1-에틸-프로필, 1,1-디메틸-프로필, 이소헥실, 2-메틸펜틸, 4-메틸헥실, 5-메틸헥실 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 시클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 30인 것이 바람직하며, 구체적으로 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 3-메틸시클로펜틸, 2,3-디메틸시클로펜틸, 시클로헥실, 3-메틸시클로헥실, 4-메틸시클로헥실, 2,3-디메틸시클로헥실, 3,4,5-트리메틸시클로헥실, 4-tert-부틸시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 알콕시기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄일 수 있다. 알콕시기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적으로, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, i-프로필옥시, n-부톡시, 이소부톡시, tert-부톡시, sec-부톡시, n-펜틸옥시, 네오펜틸옥시, 이소펜틸옥시, n-헥실옥시, 3,3-디메틸부틸옥시, 2-에틸부틸옥시, n-옥틸옥시, n-노닐옥시, n-데실옥시, 벤질옥시, p-메틸벤질옥시 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 아민기는 -NH2; 알킬아민기; N-알킬아릴아민기; 아릴아민기; N-아릴헤테로아릴아민기; N-알킬헤테로아릴아민기 및 헤테로아릴아민기로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있으며, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 1 내지 30인 것이 바람직하다. 아민기의 구체적인 예로는 메틸아민기, 디메틸아민기, 에틸아민기, 디에틸아민기, 페닐아민기, 나프틸아민기, 바이페닐아민기, 안트라세닐아민기, 9-메틸-안트라세닐아민기, 디페닐아민기, N-페닐나프틸아민기, 디톨릴아민기, N-페닐톨릴아민기, 트리페닐아민기, N-페닐바이페닐아민기; N-페닐나프틸아민기; N-바이페닐나프틸아민기; N-나프틸플루오레닐아민기; N-페닐페난트레닐아민기; N-바이페닐페난트레닐아민기; N-페닐플루오레닐아민기; N-페닐터페닐아민기; N-페난트레닐플루오레닐아민기; N-바이페닐플루오레닐아민기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, N-알킬아릴아민기는 아민기의 N에 알킬기 및 아릴기가 치환된 아민기를 의미한다.
본 명세서에 있어서, N-아릴헤테로아릴아민기는 아민기의 N에 아릴기 및 헤테로아릴기가 치환된 아민기를 의미한다.
본 명세서에 있어서, N-알킬헤테로아릴아민기는 아민기의 N에 알킬기 및 헤테로아릴아민기가 치환된 아민기를 의미한다.
본 명세서에 있어서, 알킬아민기, N-아릴알킬아민기, 알킬티옥시기, 알킬술폭시기, N-알킬헤테로아릴아민기 중의 알킬기는 전술한 알킬기의 예시와 같다. 구체적으로 알킬티옥시기로는 메틸티옥시기, 에틸티옥시기, tert-부틸티옥시기, 헥실티옥시기, 옥틸티옥시기 등이 있고, 알킬술폭시기로는 메실, 에틸술폭시기, 프로필술폭시기, 부틸술폭시기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 2 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 비닐, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-펜테닐, 2-펜테닐, 3-펜테닐, 3-메틸-1-부테닐, 1,3-부타디에닐, 알릴, 1-페닐비닐-1-일, 2-페닐비닐-1-일, 2,2-디페닐비닐-1-일, 2-페닐-2-(나프틸-1-일)비닐-1-일, 2,2-비스(디페닐-1-일)비닐-1-일, 스틸베닐기, 스티레닐기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 실릴기는 구체적으로 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, t-부틸디메틸실릴기, 비닐디메틸실릴기, 프로필디메틸실릴기, 트리페닐실릴기, 디페닐실릴기, 페닐실릴기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 붕소기는 -BR100R101일 수 있으며, 상기 R100 및 R101은 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 니트릴기; 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 단환 또는 다환의 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴기; 및 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 단환 또는 다환의 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 포스핀옥사이드기는 구체적으로 디페닐포스핀옥사이드기, 디나프틸포스핀옥사이드 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 아릴기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 6 내지 30인 것이 바람직하며, 상기 아릴기는 단환식 또는 다환식일 수 있다.
상기 아릴기가 단환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 6 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적으로 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 아릴기가 다환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나. 탄소수 10 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적으로 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기, 트리페닐기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 플루오레닐기는 치환될 수 있으며, 인접한 기들이 서로 결합하여 고리를 형성할 수 있다.
부재가 존재하는 경우도 포함한다.
본 명세서에 있어서, "인접한" 기는 해당 치환기가 치환된 원자와 직접 연결된 원자에 치환된 치환기, 해당 치환기와 입체구조적으로 가장 가깝게 위치한 치환기, 또는 해당 치환기가 치환된 원자에 치환된 다른 치환기를 의미할 수 있다. 예컨대, 벤젠고리에서 오르토(ortho)위치로 치환된 2개의 치환기 및 지방족 고리에서 동일 탄소에 치환된 2개의 치환기는 서로 "인접한" 기로 해석될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 아릴옥시기, 아릴티옥시기, 아릴술폭시기, N-아릴알킬아민기, N-아릴헤테로아릴아민기 및 아릴포스핀기 중의 아릴기는 전술한 아릴기의 예시와 같다. 구체적으로 아릴옥시기로는 페녹시기, p-토릴옥시기, m-토릴옥시기, 3,5-디메틸-페녹시기, 2,4,6-트리메틸페녹시기, p-tert-부틸페녹시기, 3-바이페닐옥시기, 4-바이페닐옥시기, 1-나프틸옥시기, 2-나프틸옥시기, 4-메틸-1-나프틸옥시기, 5-메틸-2-나프틸옥시기, 1-안트릴옥시기, 2-안트릴옥시기, 9-안트릴옥시기, 1-페난트릴옥시기, 3-페난트릴옥시기, 9-페난트릴옥시기 등이 있고, 아릴티옥시기로는 페닐티옥시기, 2-메틸페닐티옥시기, 4-tert-부틸페닐티옥시기 등이 있으며, 아릴술폭시기로는 벤젠술폭시기, p-톨루엔술폭시기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 아릴아민기의 예로는 치환 또는 비치환된 모노아릴아민기, 치환 또는 비치환된 디아릴아민기, 또는 치환 또는 비치환된 트리아릴아민기가 있다. 상기 아릴아민기 중의 아릴기는 단환식 아릴기일 수 있고, 다환식 아릴기일 수 있다. 상기 아릴기가 2 이상을 포함하는 아릴아민기는 단환식 아릴기, 다환식 아릴기, 또는 단환식 아릴기와 다환식 아릴기를 동시에 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 아릴아민기 중의 아릴기는 전술한 아릴기의 예시 중에서 선택될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 헤테로아릴기는 탄소가 아닌 원자, 이종원자를 1 이상 포함하는 것으로서, 구체적으로 상기 이종 원자는 O, N, Se 및 S 등으로 이루어진 군에서 선택되는 원자를 1 이상 포함할 수 있다. 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 2 내지 30인 것이 바람직하며, 상기 헤테로아릴기는 단환식 또는 다환식일 수 있다. 헤테로고리기의 예로는 티오펜기, 퓨라닐기, 피롤기, 이미다졸릴기, 티아졸릴기, 옥사졸릴기, 옥사디아졸릴기, 피리딜기, 바이피리딜기, 피리미딜기, 트리아지닐기, 트리아졸릴기, 아크리딜기, 피리다지닐기, 피라지닐기, 퀴놀리닐기, 퀴나졸리닐기, 퀴녹살리닐기, 프탈라지닐기, 피리도 피리미딜기, 피리도 피라지닐기, 피라지노 피라지닐기, 이소퀴놀리닐기, 인돌릴기, 카바졸릴기, 벤즈옥사졸릴기, 벤즈이미다졸릴기, 벤조티아졸릴기, 벤조카바졸릴기, 벤조티오펜기, 디벤조티오펜기, 벤조퓨라닐기, 페난쓰롤리닐기(phenanthroline), 티아졸릴기, 이소옥사졸릴기, 옥사디아졸릴기, 티아디아졸릴기, 벤조티아졸릴기, 페노티아지닐기 및 디벤조퓨라닐기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 헤테로아릴아민기의 예로는 치환 또는 비치환된 모노헤테로아릴아민기, 치환 또는 비치환된 디헤테로아릴아민기, 또는 치환 또는 비치환된 트리헤테로아릴아민기가 있다. 상기 헤테로아릴기가 2 이상을 포함하는 헤테로아릴아민기는 단환식 헤테로아릴기, 다환식 헤테로아릴기, 또는 단환식 헤테로아릴기와 다환식 헤테로아릴기를 동시에 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 헤테로아릴아민기 중의 헤테로아릴기는 전술한 헤테로아릴기의 예시 중에서 선택될 수 있다.
본 명세서에 있어서, N-아릴헤테로아릴아민기 및 N-알킬헤테로아릴아민기 중의 헤테로아릴기의 예시는 전술한 헤테로아릴기의 예시와 같다.
본 명세서에 있어서, 아릴렌기는 아릴기에 결합 위치가 두 개 있는 것 즉 2가기를 의미한다. 이들은 각각 2가기인 것을 제외하고는 전술한 아릴기의 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 헤테로아릴렌기는 헤테로아릴기에 결합 위치가 두 개 있는 것 즉 2가기를 의미한다. 이들은 각각 2가기인 것을 제외하고는 전술한 헤테로아릴기의 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 인접한 기가 서로 결합하여 형성되는 치환 또는 비치환된 고리에서, "고리"는 치환 또는 비치환된 탄화수소고리; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리를 의미한다.
본 명세서에 있어서, 고리는 치환 또는 비치환된 탄화수소고리; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리를 의미한다.
본 명세서에 있어서, 탄화수소고리는 방향족, 지방족 또는 방향족과 지방족의 축합고리일 수 있으며, 상기 1가가 아닌 것을 제외하고 상기 시클로알킬기 또는 아릴기의 예시 중에서 선택될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 방향족고리는 단환 또는 다환일 수 있으며, 1가가 아닌 것을 제외하고 상기 아릴기의 예시 중에서 선택될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 헤테로고리는 탄소가 아닌 원자, 이종원자를 1 이상 포함하는 것으로서, 구체적으로 상기 이종 원자는 O, N, Se 및 S 등으로 이루어진 군에서 선택되는 원자를 1 이상 포함할 수 있다. 상기 헤테로고리는 단환 또는 다환일 수 있으며, 방향족, 지방족 또는 방향족과 지방족의 축합고리일 수 있으며, 1가가 아닌 것을 제외하고 상기 헤테로아릴기의 예시 중에서 선택될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-1 내지 1-6 중 어느 하나로 표시된다.
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
[화학식 1-4]
[화학식 1-5]
[화학식 1-6]
상기 화학식 1-1 내지 1-6에 있어서,
X1 및 R1 내지 R16의 정의는 상기 화학식 1과 동일하고,
L1, Ar1 및 Ar2의 정의는 상기 화학식 B와 동일하며,
R101 내지 R103은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; 카르보닐기; 에스테르기; 이미드기; 아미드기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 아릴옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬티옥시기; 치환 또는 비치환된 아릴티옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬술폭시기; 치환 또는 비치환된 아릴술폭시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 실릴기; 치환 또는 비치환된 붕소기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 아릴포스핀기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
r101, r102 및 r103은 각각 1 내지 3의 정수이며,
r101, r102 및 r103이 각각 2 이상인 경우, 2 이상의 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-7 내지 1-18 중 어느 하나로 표시된다.
[화학식 1-7]
[화학식 1-8]
[화학식 1-9]
[화학식 1-10]
[화학식 1-11]
[화학식 1-12]
[화학식 1-13]
[화학식 1-14]
[화학식 1-15]
[화학식 1-16]
[화학식 1-17]
[화학식 1-18]
상기 화학식 1-7 내지 1-18에 있어서,
R1 내지 R16의 정의는 상기 화학식 1과 동일하고,
L1, Ar1 및 Ar2의 정의는 상기 화학식 B와 동일하며,
R101 내지 R103은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; 카르보닐기; 에스테르기; 이미드기; 아미드기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 아릴옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬티옥시기; 치환 또는 비치환된 아릴티옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬술폭시기; 치환 또는 비치환된 아릴술폭시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 실릴기; 치환 또는 비치환된 붕소기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 아릴포스핀기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
r101, r102 및 r103은 각각 1 내지 3의 정수이며,
r101, r102 및 r103이 각각 2 이상인 경우, 2 이상의 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R13 내지 R16은 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1 내지 R12 중 어느 하나는 상기 화학식 B이고, 나머지는 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R1은 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R2는 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R3은 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R4는 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R5는 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R6은 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R7은 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R8은 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R9는 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R10은 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R11은 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1에 있어서, R12는 상기 화학식 B이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 B에 있어서, L1은 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 B에 있어서, L1은 직접결합; 또는 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 B에 있어서, L1은 직접결합; 치환 또는 비치환된 페닐렌기; 치환 또는 비치환된 바이페닐릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 나프틸렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 B에 있어서, L1은 직접결합; 페닐렌기; 바이페닐릴렌기; 또는 나프틸렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 B에 있어서, Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 알킬기로 치환 또는 비치환된 아릴기, 및 알킬기 및 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 이상으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 아릴기로 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 B에 있어서, Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 치환 또는 비치환된 터페닐기; 치환 또는 비치환된 쿼터페닐기; 치환 또는 비치환된 나프틸기; 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 치환 또는 비치환된 스피로비플루오레닐기; 치환 또는 비치환된 트리페닐레닐기; 치환 또는 비치환된 페난트레닐렌기; 치환 또는 비치환된 카바졸릴기; 치환 또는 비치환된 디벤조퓨라닐기; 또는 치환 또는 비치환된 디벤조티오펜기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 B에 있어서, Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 알킬기로 치환 또는 비치환된 아릴기, 또는 아민기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 아릴기로 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 아릴기로 치환 또는 비치환된 터페닐기; 쿼터페닐기; 나프틸기; 알킬기 및 아릴기로 이루어진 군으로부터 1 이상으로 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 스피로비플루오레닐기; 트리페닐레닐기; 페난트레닐렌기; 아릴기로 치환 또는 비치환된 카바졸릴기; 디벤조퓨라닐기; 또는 디벤조티오펜기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 B에 있어서, Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기,나프틸기, 페난트레닐기, 메틸기로 치환된 플루오레닐기 또는 디페닐아민기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 페닐기 또는 바이페닐기로 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 터페닐기; 쿼터페닐기; 나프틸기; 메틸기, 페닐기 및 나프틸기로 이루어진 군으로부터 1 이상으로 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 스피로비플루오레닐기; 트리페닐레닐기; 페난트레닐렌기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 카바졸릴기; 디벤조퓨라닐기; 또는 디벤조티오펜기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 B에 있어서, Ar1 및 Ar2는 서로 결합하여, 치환 또는 비치환된 헤테로고리를 형성한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 B에 있어서, Ar1 및 Ar2는 서로 결합하여, 하기 화학식 C의 구조로 표시되는 고리를 형성한다.
[화학식 C]
상기 화학식 C에 있어서,
X2는 CRR', NR", O 또는 S이고,
R, R', R", R201 및 R202는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이고,
r201 및 r202는 각각 1 내지 4의 정수이고,
상기 r201 및 r202가 각각 2 이상인 경우, 2 이상의 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하며,
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 C에 있어서, R 및 R'는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 알킬기이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 C에 있어서, R 및 R'는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 알킬기이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 C에 있어서, R 및 R'는 메틸기이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 C에 있어서, R"는 치환 또는 비치환된 아릴기이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 C에 있어서, R"는 아릴기이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 C에 있어서, R"는 페닐기이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 C에 있어서, R201 및 R202는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 C에 있어서, R201 및 R202는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 아릴기이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 C에 있어서, R201 및 R202는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 페닐기이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 화학식 C는 하기 구조 중 어느 하나로 표시된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화합물 중에서 선택된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 제1 전극; 상기 제1 전극에 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1 층 이상은 전술한 스피로형 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 본 명세서의 유기 발광 소자의 유기물층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나, 2층 이상의 유기물층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다. 예컨대, 본 발명의 유기 발광 소자는 유기물층으로서 정공주입층, 정공수송층, 전자차단층, 발광층, 정공 차단층, 전자수송층, 전자전자주입층 등을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나 유기 발광 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적거나 많은 수의 유기층을 포함할 수 있다.
예컨대, 본 명세서의 유기 발광 소자의 구조는 도 1 및 도 2에 나타난 것과 같은 구조를 가질 수 있으나 이에만 한정되는 것은 아니다.
도 1에는 기판(20) 위에 제1 전극(30), 발광층(40) 및 제2 전극(50)이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자(10)의 구조가 예시 되어 있다. 상기 도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자의 예시적인 구조이며, 다른 유기물층을 더 포함할 수 있다.
도 2에는 기판(20) 위에 제1 전극(30), 정공주입층(60), 정공수송층(70), 발광층(40), 전자수송층(80), 전자주입층(90) 및 제2 전극(50)이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자의 구조가 예시되어 있다. 상기 도 2는 본 명세서의 실시상태에 따른 예시적인 구조이며, 다른 유기물층을 더 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 정공주입층을 포함하고, 상기 정공주입층은 상기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물을 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 정공수송층을 포함하고, 상기 정공수송층은 상기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물을 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 정공조절층을 포함하고, 상기 정공조절층은 상기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물을 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물을 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물을 발광층의 도펀트로서 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 하기 화학식 1-A로 표시되는 화합물을 포함한다.
[화학식 1-A]
상기 화학식 1-A에 있어서,
n1은 1 이상의 정수이고,
Ar3은 치환 또는 비치환된 1가 이상의 벤조플루오렌기; 치환 또는 비치환된 1가 이상의 플루오란텐기; 치환 또는 비치환된 1가 이상의 파이렌기; 또는 치환 또는 비치환된 1가 이상의 크라이센기이고,
L1은 직접결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 실릴기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이거나, 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있으며,
n1이 2 이상인 경우, 2 이상의 괄호 안의 구조는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화학식 1-A로 표시되는 화합물을 발광층의 도펀트로서 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L1은 직접결합이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 n1은 2 이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar3은 중수소, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, 또는 tert-부틸기로 치환 또는 비치환된 2가의 파이렌기; 또는 중수소, 메틸기, 에틸기 또는 tert-부틸기로 치환 또는 비치환된 2가의 크라이센기이다
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, tert-부틸기, 니트릴기 또는 알킬기로 치환된 실릴기로 치환 또는 비치환된 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 알킬기로 치환된 실릴기로 치환 또는 비치환된 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 트리메틸실릴기로 치환 또는 비치환된 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 비페닐기; 또는 치환 또는 비치환된 터페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, tert-부틸기, 니트릴기 또는 트리메틸실릴기로 치환 또는 비치환된 페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 니트릴기 또는 트리메틸실릴기로 치환 또는 비치환된 비페닐기기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 니트릴기 또는 트리메틸실릴기로 치환 또는 비치환된 터페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 니트릴기, 알킬기로 치환된 실릴기 또는 페닐기로 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기, 에틸기, tert-부틸기, 니트릴기, 트리메틸실릴기 또는 페닐기로 치환 또는 비치환된 디벤조퓨란기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1-A는 하기 화합물 중에서 선택된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 하기 화학식 2-A로 표시되는 화합물을 포함한다.
[화학식 2-A]
상기 화학식 2-A에 있어서,
Ar11 및 Ar12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 단환의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 다환의 아릴기이고,
G1 내지 G8은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 단환의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 다환의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화학식 2-A로 표시되는 화합물을 발광층의 호스트로서 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar11 및 Ar12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 다환의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar11 및 Ar12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 10 내지 30의 다환의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar11 및 Ar12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 나프틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar11 및 Ar12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 1-나프틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar11 및 Ar12는 1-나프틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 G1 내지 G8은 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2-A는 하기 화합물 중에서 선택된다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화학식 1-A로 표시되는 화합물을 발광층의 도펀트로서 포함하며, 상기 화학식 2-A로 표시되는 화합물을 발광층의 호스트로서 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기물층은 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1층 이상을 더 포함할 수 있다.
본 명세서의 유기 발광 소자는 유기물층 중 1층 이상이 본 명세서의 스피로형 화합물, 즉, 상기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물을 포함하는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려져 있는 재료와 방법으로 제조될 수 있다.
상기 유기 발광 소자가 복수개의 유기물층을 포함하는 경우, 상기 유기물층은 동일한 물질 또는 다른 물질로 형성될 수 있다.
예컨대, 본 명세서의 유기 발광 소자는 기판 상에 제1 전극, 유기물층 및 제2 전극을 순차적으로 적층시킴으로써 제조할 수 있다. 이 때 스퍼터링법(sputtering)이나 전자빔 증발법(e-beam evaporation)과 같은 물리 증착 방법(PVD: physical Vapor Deposition)을 이용하여, 기판 상에 금속 또는 전도성을 가지는 금속 산화물 또는 이들의 합금을 증착시켜 제1 전극을 형성하고, 그 위에 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층을 포함하는 유기물층을 형성한 후, 그 위에 제2 전극으로 사용할 수 있는 물질을 증착시킴으로써 제조될 수 있다. 이와 같은 방법 외에도, 기판 상에 제2 전극 물질부터 유기물층, 제1 전극 물질을 차례로 증착시켜 유기 발광 소자를 만들 수 있다. 또한, 상기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물은 유기 발광 소자의 제조시 진공 증착법 뿐만 아니라 용액 도포법에 의하여 유기물층으로 형성될 수 있다. 여기서, 용액 도포법이라 함은 스핀 코팅, 딥코팅, 닥터 블레이딩, 잉크젯프린팅, 스크린 프린팅, 스프레이법, 롤 코팅 등을 의미하지만, 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 전극은 양극이고, 상기 제2 전극은 음극이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 제1 전극은 음극이고, 상기 제2 전극은 양극이다.
상기 양극 물질로는 통상 유기물층으로 정공 주입이 원활할 수 있도록 일함수가 큰 물질이 바람직하다. 본 발명에서 사용될 수 있는 양극 물질의 구체적인 예로는 바나듐, 크롬, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연 산화물, 인듐 산화물, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO)과 같은 금속 산화물; ZnO:Al 또는 SnO2 : Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDOT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 음극 물질로는 통상 유기물층으로 전자 주입이 용이하도록 일함수가 작은 물질인 것이 바람직하다. 음극 물질의 구체적인 예로는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 티타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 LiO2/Al, Mg/Ag과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 정공주입층은 정공 주입 물질로는 전극으로부터 정공을 주입하는 층으로, 정공 주입 물질로는 정공을 수송하는 능력을 가져 양극에서의 정공 주입효과, 발광층 또는 발광재료에 대하여 우수한 정공 주입 효과를 갖고, 발광층에서 생성된 여기자의 전자주입층 또는 전자주입재료에의 이동을 방지하며, 또한, 박막 형성 능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 정공 주입 물질의 HOMO(highest occupied molecular orbital)가 양극 물질의 일함수와 주변 유기물층의 HOMO 사이인 것이 바람직하다. 정공 주입 물질의 구체적인 예로는 금속 포피린(porphyrin), 올리고티오펜, 아릴아민 계열의 유기물, 헥사니트릴헥사아자트리페닐렌 계열의 유기물, 퀴나크리돈(quinacridone)계열의 유기물, 페릴렌(perylene) 계열의 유기물, 안트라퀴논 및 폴리아닐린과 폴리티오펜 계열의 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정 되는 것은 아니다.
상기 정공수송층은 정공주입층으로부터 정공을 수취하여 발광층까지 정공을 수송하는 층으로, 정공 수송 물질로는 양극이나 정공 주입층으로부터 정공을 수송받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로 정공에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 아릴아민 계열의 유기물, 전도성 고분자, 및 공액 부분과 비공액 부분이 함께 있는 블록 공중합체 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 정공조절층은 정공수송층으로부터 정공을 효과적으로 전달 받고, 정공 이동도를 조절하는 역할을 하여 발광층으로 전달되는 정공의 양을 조절하는 역할을 한다. 또한, 발광층으로부터 공급되는 전자가 정공수송층으로 넘어가지 않도록 하는 전자장벽 역할을 동시에 수행할 수 있다. 이는 발광층에서 정공과 전자의 균형을 극대화시켜 발광 효율을 증가시킬 수 있고, 정공조절층의 전자 안정성을 통하여 소자의 수명을 향상시킬 수 있으며, 당 기술 분야에 알려진 재료를 사용할 수 있다.
상기 발광층의 발광 물질로는 정공 수송층과 전자 수송층으로부터 정공과 전자를 각각 수송받아 결합시킴으로써 가시광선 영역의 빛을 낼 수 있는 물질로서, 형광이나 인광에 대한 양자 효율이 좋은 물질이 바람직하다. 구체적인 예로는 8-히드록시-퀴놀린 알루미늄 착물(Alq3); 카르바졸 계열 화합물; 이량체화 스티릴(dimerized styryl) 화합물; BAlq; 10-히드록시벤조 퀴놀린-금속 화합물; 벤즈옥사졸, 벤조티아졸 및 벤즈이미다졸 계열의 화합물; 폴리(p-페닐렌비닐렌)(PPV) 계열의 고분자; 스피로(spiro) 화합물; 폴리플루오렌, 루브렌 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 발광층은 호스트 재료 및 도펀트 재료를 포함할 수 있다. 호스트 재료는 축합 방향족환 유도체 또는 헤테로 고리 함유 화합물 등이 있다. 구체적으로 축합 방향족환 유도체로는 안트라센 유도체, 피렌 유도체, 나프탈렌 유도체, 펜타센 유도체, 페난트렌 화합물, 플루오란텐 화합물 등이 있고, 헤테로 고리 함유 화합물로는 카바졸 유도체, 디벤조퓨란 유도체, 래더형 퓨란 화합물, 피리미딘 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 도펀트 재료로는 방향족 아민 유도체, 스트릴아민 화합물, 붕소 착체, 플루오란텐 화합물, 금속 착체 등이 있다. 구체적으로 방향족 아민 유도체로는 치환 또는 비치환된 아릴아미노기를 갖는 축합 방향족환 유도체로서, 아릴아미노기를 갖는 피렌, 안트라센, 크리센, 페리플란텐 등이 있으며, 스티릴아민 화합물로는 치환 또는 비치환된 아릴아민에 적어도 1개의 아릴비닐기가 치환되어 있는 화합물로, 아릴기, 실릴기, 알킬기, 시클로알킬기 및 아릴아미노기로 이루어진 군에서 1 또는 2 이상 선택되는 치환기가 치환 또는 비치환된다. 구체적으로 스티릴아민, 스티릴디아민, 스티릴트리아민, 스티릴테트라아민 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또한, 금속 착체로는 이리듐 착체, 백금 착체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 전자수송층의 전자 수송 물질로는 전자주입층으로부터 전자를 수취하여 발광층까지 전자를 수송하는 층으로 전자 수송 물질로는 음극으로부터 전자를 잘 주입 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로서, 전자에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 8-히드록시퀴놀린의 Al착물; Alq3를 포함한 착물; 유기 라디칼 화합물; 히드록시플라본-금속 착물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 전자 수송층은 종래기술에 따라 사용된 바와 같이 임의의 원하는 캐소드 물질과 함께 사용할 수 있다. 특히, 적절한 캐소드 물질의 예는 낮은 일함수를 가지고 알루미늄층 또는 실버층이 뒤따르는 통상적인 물질이다. 구체적으로 세슘, 바륨, 칼슘, 이테르븀 및 사마륨이고, 각 경우 알루미늄 층 또는 실버층이 뒤따른다.
상기 전자주입층은 전극으로부터 전자를 주입하는 층으로, 전자를 수송하는 능력을 갖고, 음극으로부터의 전자주입 효과, 발광층 또는 발광 재료에 대하여 우수한 전자주입 효과를 가지며, 발광층에서 생성된 여기자의 정공 주입층에의 이동을 방지하고, 또한, 박막형성능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 구체적으로는 플루오레논, 안트라퀴노다이메탄, 다이페노퀴논, 티오피란 다이옥사이드, 옥사졸, 옥사다이아졸, 트리아졸, 이미다졸, 페릴렌테트라카복실산, 프레오레닐리덴 메탄, 안트론 등과 그들의 유도체, 금속 착체 화합물 및 함질소 5원환 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 금속 착체 화합물로서는 8-하이드록시퀴놀리나토 리튬, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)아연, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)구리, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)망간, 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토)갈륨, 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)베릴륨, 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)아연, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)클로로갈륨, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(o-크레졸라토)갈륨, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(1-나프톨라토)알루미늄, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(2-나프톨라토)갈륨 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 따른 유기 발광 소자는 사용되는 재료에 따라 전면 발광형, 후면 발광형 또는 양면 발광형일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물은 유기 발광 소자 외에도 유기 태양 전지 또는 유기 트랜지스터에 포함될 수 있다.
이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.
제조예
제조예 A-1. 화합물 A-1의 제조
벤조퓨란-2-보로닉산 ( 30g, 185 mmol)과 1-브로모-2-아이오도벤젠 ( 53.2 g, 189 mmol)을 디옥산( 300ml)에 첨가한 후 2M 포타슘카보네이트 수용액( 100ml)을 첨가하고, 테트라키스트리페닐-포스피노팔라듐( 4.28 g, 2mol%)을 넣은 후, 4시간동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 반응을 종결한 후, 포타슘카보네이트 용액을 제거하여 층분리하였다. 용매 제거 후 헥산으로 컬럼하여 상기 화합물 A-1 , 무색 오일(42.7 g, 85 %)을 제조하였다.
MS[M+H]+= 272.98
제조예 A-2. 화합물 A-2의 제조
상기 제조예 A-1에서 벤조퓨란-2-보로닉산 대신 벤조퓨란-3-보로닉산을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 A-2를 제조하였다.
MS[M+H]+= 272.98
제조예 A-3. 화합물 A-3의 제조
상기 제조예 A-2에서 1-브로모-2-아이오도벤젠 대신 1-브로모―3-클로로-2-아이오도벤젠을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 A-3를 제조하였다.
MS[M+H]+= 306.94
제조예 A-4. 화합물 A-4의 제조
상기 제조예 A-1에서 벤조퓨란-2-보로닉산 대신 벤조티오펜-2-보로닉산을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 A-4를 제조하였다.
MS[M+H]+= 288.96
제조예 A-5. 화합물 A-5의 제조
상기 제조예 A-1에서 벤조퓨란-2-보로닉산 대신 벤조티오펜-3-보로닉산을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 A-5를 제조하였다.
MS[M+H]+= 288.96
제조예 B-1. 화합물 B-1의 제조
화합물 A-1 (30g, 110 mmol) 을 THF (250ml) 에 용해한 후 온도를 -78도로 낮춘 후 2.5M n-BuLi (57ml) 을 적가하고 30분 후 2-브로모-9H-플루오레-9-온 (28.3g, 109mmol) 을 넣어주고 RT로 올린 후 1시간동안 교반하였다. 1N HCl (ml)를 넣어주고 30분간 교반한 후 층분리하여 용매제거 후 헥산으로 재결정하여 화합물 B-1 (47.2g, 95%)를 제조하였다.
MS[M+H]+= 453.04
제조예 B-2. 화합물 B-2의 제조
상기 제조예 B-1에서 2-브로모-9H-플루오레-9-온 대신 4-브로모-9H-플루오레-9-온 을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 B-2를 제조하였다.
MS[M+H]+= 453.04
제조예 B-3. 화합물 B-3의 제조
상기 제조예 B-1에서 화합물 A-1 대신 화합물 A-2 을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 B-3를 제조하였다.
MS[M+H]+= 453.04
제조예 B-4. 화합물 B-4의 제조
상기 제조예 B-3의 합성에서 2-브로모-9H-플루오레-9-온 대신 4-브로모-9H-플루오레-9-온을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 B-4를 제조하였다.
MS[M+H]+= 453.04
제조예 B-5. 화합물 B-5의 제조
상기 제조예 B-1에서 화합물 A-1 대신 화합물 A-3 을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 B-5를 제조하였다.
MS[M+H]+= 453.04
제조예 B-6. 화합물 B-6의 제조
상기 제조예 B-1에서 화합물 A-1 대신 화합물 A-4 을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 B-6를 제조하였다.
MS[M+H]+= 469.02
제조예 B-7. 화합물 B-7의 제조
상기 제조예 B-6에서 2-브로모-9H-플루오레-9-온 대신 4-브로모-9H-플루오레-9-온을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 B-7를 제조하였다.
MS[M+H]+= 469.02
제조예 B-8. 화합물 B-8의 제조
상기 제조예 B-1에서 화합물 A-1 대신 화합물 A-5 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 B-8를 제조하였다
MS[M+H]+= 469.02
제조예 B-9. 화합물 B-9의 제조
상기 제조예 B-8에서 2-브로모-9H-플루오레-9-온 대신 4-브로모-9H-플루오레-9-온을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 B-9를 제조하였다.
MS[M+H]+= 469.02
제조예 B-10. 화합물 B-10의 제조
상기 제조예 B-8에서 2-브로모-9H-플루오레-9-온 대신 1-브로모-9H-플루오레-9-온을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 B-10를 제조하였다.
MS[M+H]+= 469.02
제조예 C-1. 화합물 C-1의 제조
화합물 B-1 (30g, 66.4 mmol) 을 아세트산(250ml) 에 넣은 후 트리플루오로아세트산 10ml를 적가하고 교반 환류하였다. 상온으로 온도를 낮추고 물로 중화한 후 걸러진 고체를 에틸아세테이트로 재결정하여 화합물 C-1 (20g, 70%)를 제조하였다.
MS[M+H]+= 435.03
제조예 C-2. 화합물 C-2의 제조
상기 제조예 C-1에서 화합물 B-1 대신 화합물 B-2을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 C-2를 제조하였다.
MS[M+H]+= 435.03
제조예 C-3. 화합물 C-3의 제조
상기 제조예 C-1에서 화합물 B-1 대신 화합물 B-3을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 C-3를 제조하였다.
MS[M+H]+= 435.03
제조예 C-4. 화합물 C-4의 제조
상기 제조예 C-1에서 화합물 B-1 대신 화합물 B-4을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 C-4를 제조하였다.
MS[M+H]+= 435.03
제조예 C-5. 화합물 C-5의 제조
상기 제조예 C-1에서 화합물 B-1 대신 화합물 B-5을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 C-5를 제조하였다.
MS[M+H]+= 391.08
제조예 C-6. 화합물 C-6의 제조
상기 제조예 C-1에서 화합물 B-1 대신 화합물 B-6을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 C-6를 제조하였다.
MS[M+H]+= 451.01
제조예 C-7. 화합물 C-7의 제조
상기 제조예 C-1에서 화합물 B-1 대신 화합물 B-7을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 C-7를 제조하였다.
MS[M+H]+= 451.01
제조예 C-8. 화합물 C-8의 제조
상기 제조예 C-1에서 화합물 B-1 대신 화합물 B-8을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 C-8를 제조하였다.
MS[M+H]+= 451.01
제조예 C-9. 화합물 C-9의 제조
상기 제조예 C-1에서 화합물 B-1 대신 화합물 B-9을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 C-9를 제조하였다.
MS[M+H]+= 451.01
제조예 C-10. 화합물 C-10의 제조
상기 제조예 C-1에서 화합물 B-1 대신 화합물 B-10을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 C-10를 제조하였다.
MS[M+H]+= 451.01
제조예 D-1. 화합물 D-1의 제조
화합물 C-3 (20g, 46mmol)과 4-클로로페닐보로닉산 (7.33g, 47mmol)을 테트라하이드로퓨란( 300ml)에 첨가한 후 2M 포타슘카보네이트 수용액( 100ml)을 첨가하고, 테트라키스트리페닐-포스피노팔라듐(1.06g, 0.92mmol)을 넣은 후, 7시간동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 반응을 종결한 후, 포타슘카보네이트 용액을 제거하여 층분리하였다. 용매 제거 후 테트라하이드로퓨란과 에틸아세테이트로 재결정하여 상기 화합물 D-1 (18.2g, 수율 25%)을 제조하였다.
MS[M+H]+= 467.11
제조예 D-2. 화합물 D-2의 제조
상기 제조예 D-1에서 화합물 C-3 대신 화합물 C-9을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 D-2를 제조하였다.
MS[M+H]+= 483.09
제조예 1. 화합물 1의 제조
화합물 C-1 ( 20g, 46mmol)과 , 4-(9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-일)-N-페닐아닐린( 16.9g, 47mmol), 소듐-t-부톡사이드( 6.2g, 64.4mmol) 을 tolene에 넣고 가열교반한 뒤 환류시키고 [비스(트라이-t-부틸포스핀)]팔라듐 (1.03mg. 2mmol%) 을 넣었다. 상온으로 온도를 낮추고 반응을 종결한 후, 테트라하이드로퓨란과 에틸아세테이트를 이용해 재결정하여 화합물 1( 28.3g, 65%)을 제조하였다.
MS[M+H]+= 716.29
제조예 2. 화합물 2의 제조
상기 제조예 1에서 화합물 C-1 대신 C-2을 사용하고, 4-(9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-일)-N-페닐아닐린 대신 N-페닐-[1, 1':4', 1"-터페닐]아민을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 2를 제조하였다.
MS[M+H]+= 676.26
제조예 3. 화합물 3의 제조
상기 제조예 1에서 화합물 C-1 대신 C-3을 사용하고, 4-(9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-일)-N-페닐아닐린 대신 N-(1, 1'-비페닐]-4-일)-[1, 1'-비페닐]-2-아민을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 3을 제조하였다.
MS[M+H]+= 676.26
제조에 4. 화합물 4의 제조
상기 제조예 1에서 화합물 C-1 대신 C-3을 사용하고, 4-(9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-일)-N-페닐아닐린 대신 N-(1, 1'-비페닐]-4-일)-9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-아민을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 4를 제조하였다.
MS[M+H]+= 716.29
제조예 5. 화합물 5의 제조
상기 제조예 1에서 화합물 C-1 대신 D-1을 사용하고, 4-(9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-일)-N-페닐아닐린 대신 9,9-디메틸-N-페닐-9H-플루오렌-2-아민을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 5를 제조하였다.
MS[M+H]+= 716.29
제조예 6. 화합물 6의 제조
상기 제조예 1에서 화합물 C-1 대신 C-5을 사용하고, 4-(9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-일)-N-페닐아닐린 대신 디([1,1'-비페닐)-4-일)아민을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 합물 6 를 제조하였다.
MS[M+H]+= 676.26
제조예 7. 화합물 7의 제조
상기 제조예 1에서 화합물 C-1 대신 C-6을 사용하고, 4-(9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-일)-N-페닐아닐린 대신 디([1,1'-비페닐)-4-일)아민을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 7를 제조하였다.
MS[M+H]+= 692.23
제조예 8. 화합물 8의 제조
상기 제조예 1에서 화합물 C-1 대신 C-7을, 4-(9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-일)-N-페닐아닐린 대신 N-페닐-[1, 1':4', 1"-터페닐]아민을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 8 를 제조하였다.
MS[M+H]+= 692.23
제조예9. 화합물 9의 제조
상기 제조예 1에서 화합물 C-1 대신 D-2을 사용하고, N-(1, 1'-비페닐]-4-일)-9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-아민을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 9를 제조하였다.
MS[M+H]+= 808.30
제조예 10. 화합물 10의 제조
상기 제조예 1에서 화합물 C-1 대신 C-10을 사용하고, 4-(9,9-디메틸-9H-플루오렌-2-일)-N-페닐아닐린 대신 N.9-디페닐-9H-카바졸-3-아민을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 합성하여 화합물 10을 제조하였다
MS[M+H]+= 705.30
실시예 1-1
ITO(인듐 주석 산화물)가 1,000Å 두께로 박막 코팅된 유리 기판(corning 7059 glass)을, 분산제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 세제는 Fischer Co.의 제품을 사용하였으며, 증류수는 Millipore Co. 제품의 필터(Filter)로 2차 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30분간 세척한 후, 증류수로 2회 반복하여 초음파 세척을 10분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올 용제 순서로 초음파 세척을 하고 건조시켰다.
이렇게 준비된 ITO 투명 전극 위에 헥사니트릴 헥사아자트리페닐렌(hexanitrile hexaazatriphenylene)를 500Å의 두께로 열 진공 증착하여 정공 주입층을 형성하였다. 그 위에 정공을 수송하는 물질인 위 제조예 1에서 합성한 화합물1 (900Å)을 진공증착한 후 이어서 상기 정공수송층 위에 HT2를 막두께 100Å으로 진공증착하여 정공 조절층을 형성하였다. 화합물 발광층으로 호스트 H1과 도판트 D1 화합물(25:1) 을 300Å의 두께로 진공 증착하였다. 그 다음에 E1 화합물(300Å)을 전자주입 및 수송층으로 순차적으로 열 진공 증착하였다. 상기 전자 수송층 위에 순차적으로 12Å 두께의 리튬 플루오라이드(LiF)와 2,000Å 두께의 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하여, 유기 발광 소자를 제조하였다.
상기의 과정에서 유기물의 증착속도는 1 Å/sec를 유지하였고, 리튬플루라이드는 0.2 Å/sec, 알루미늄은 3 ~ 7 Å/sec의 증착속도를 유지하였다.
실시예 1-2
상기 실시예 1-1에서 정공수송층으로 화합물 1 대신 화합물 3 를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.
실시예 1-3
상기 실시예 1-1에서 정공 수송층으로 화합물 1 대신 화합물 4를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.
실시예 1-4
상기 실시예 1-1에서 정공 수송층으로 화합물 1 대신 화합물 5를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.
실시예 1-5
상기 실시예 1-1에서 정공 수송층으로 화합물 1 대신 화합물 7를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.
실시예 1-6
상기 실시예 1-1에서 정공 수송층으로 화합물 1 대신 화합물 10를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.
비교예 1-1
상기 실시예 1-1에서 정공 수송층으로 화합물 1 대신 하기 HT1를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.
상기 실시예 1-1 내지 1-6 및 비교예 1-1의 유기 발광 소자의 소자 평가 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
50 mA/㎠ | 정공수송층 물질 | 전압(V) | 전류효율(cd/A) |
비교예 1-1 | HT1 | 4.11 | 5.32 |
실시예 1-1 | 화합물1 | 3.70 | 5.61 |
실시예 1-2 | 화합물3 | 3.46 | 5.75 |
실시예 1-3 | 화합물4 | 3.59 | 5.88 |
실시예 1-4 | 화합물5 | 3.66 | 5.91 |
실시예 1-5 | 화합물7 | 3.71 | 5.55 |
실시예 1-6 | 화합물10 | 3.55 | 5.89 |
상기 표 1과 같이 본 명세서의 일 실시상태에 따른 스피로형 화합물을 사용하여 제작한 실시예 1-1 내지 1-6의 유기 발광 소자는 벤지딘 타입의 물질인 비교예 1-1 보다 저전압, 고효율의 특성을 나타내는 것을 알 수 있다.
실시예 2-1
ITO(인듐 주석 산화물)가 1,000Å 두께로 박막 코팅된 유리 기판(corning 7059 glass)을, 분산제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 세제는 Fischer Co.의 제품을 사용하였으며, 증류수는 Millipore Co. 제품의 필터(Filter)로 2차 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30분간 세척한 후, 증류수로 2회 반복하여 초음파 세척을 10분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올 용제 순서로 초음파 세척을 하고 건조시켰다.
이렇게 준비된 ITO 투명 전극 위에 헥사니트릴 헥사아자트리페닐렌(hexanitrile hexaazatriphenylene)를 500Å의 두께로 열 진공 증착하여 정공 주입층을 형성하였다. 그 위에 정공을 수송하는 물질인 HT1 (900Å)을 진공증착한 후 이어서 상기 정공 수송층 위에 화합물 2를 막두께 100Å으로 진공증착하여 정공조절층을 형성하였다. 발광층으로 호스트 H1과 도판트 D1 (25:1) 을 300Å의 두께로 진공 증착하였다. 그 다음에 E1 (300Å)을 전자주입 및 수송층으로 순차적으로 열 진공 증착하였다. 상기 전자 수송층 위에 순차적으로 12Å 두께의 리튬 플루오라이드(LiF)와 2,000Å 두께의 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하여, 유기 발광 소자를 제조하였다.
상기의 과정에서 유기물의 증착속도는 1 Å/sec를 유지하였고, 리튬플루라이드는 0.2 Å/sec, 알루미늄은 3 ~ 7 Å/sec의 증착속도를 유지하였다.
실시예 2-2
상기 실시예 2-1에서 정공조절층으로 화합물 2 대신 화합물 6를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.
실시예 2-3
상기 실시예 2-1에서 정공조절층으로 화합물 2 대신 화합물 8를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.
실시예 2-4
상기 실시예 2-1에서 정공조절층으로 화합물 2 대신 화합물 9를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.
비교예 2-1
상기 실시예 2-1에서 정공조절층으로 화합물 2 대신 HT2를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.
상기 실시예 2-1 내지 2-4 및 비교예 2-1 의 유기 발광 소자의 소자 평가 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
실험예 50 mA/㎠ |
정공조절층 물질 | 전압(V) | 전류효율(cd/A) |
비교예 2-1 | HT2 | 4.02 | 5.11 |
실시예 2-1 | 화합물2 | 4.03 | 5.30 |
실시예 2-2 | 화합물6 | 3.56 | 5.76 |
실시예 2-3 | 화합물8 | 4.01 | 5.02 |
실시예 2-4 | 화합물9 | 3.61 | 5.98 |
상기 표 2와 같이 본 명세서의 일 실시상태에 따른 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물을 사용하여 제작한 실시예 2-1 내지 2-4의 유기 발광 소자는 카바졸 타입의 물질인 HT2를 사용한 비교예 2-1의 유기 발광 소자 보다 저전압, 고효율의 특성을 나타내는 것을 알 수 있다.
특히, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물의 분자구조에서 산소족 원소가 상기 화합물 6 및 9와 같이 형성되는 경우, 이는 정공조절층으로 사용한 경우 화합물 6 및 9가 높은 삼중항에너지를 가짐으로써 소자성능을 향상시키는 효과가 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물은 유기 발광 소자를 비롯한 유기 전자 소자에서 정공 수송 및 정공 조절 역할을 할 수 있으며, 본 명세서에 따른 유기 발광 소자는 효율, 구동전압, 안정성 면에서 우수한 특성을 나타낸다.
10, 11: 유기 발광 소자
20: 기판
30: 제1 전극
40: 발광층
50: 제2 전극
60: 정공주입층
70: 정공수송층
80: 전자수송층
90: 전자주입층
20: 기판
30: 제1 전극
40: 발광층
50: 제2 전극
60: 정공주입층
70: 정공수송층
80: 전자수송층
90: 전자주입층
Claims (18)
- 하기 화학식 1로 표시되는 스피로형 화합물:
[화학식 1]
상기 화학식 1에 있어서,
X1은 O 또는 S이고,
R1 내지 R12 중 어느 하나는 하기 화학식 B이고, 나머지 및 R13 내지 R16은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; 카르보닐기; 에스테르기; 이미드기; 아미드기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 아릴옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬티옥시기; 치환 또는 비치환된 아릴티옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬술폭시기; 치환 또는 비치환된 아릴술폭시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 실릴기; 치환 또는 비치환된 붕소기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 아릴포스핀기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
[화학식 B]
L1은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌이기고,
Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이거나, 서로 결합하여, 치환 또는 비치환된 고리를 형성한다. - 청구항 1에 있어서,
상기 화학식 1은 하기 화학식 1-1 내지 1-6 중 어느 하나로 표시되는 것인 스피로형 화합물:
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
[화학식 1-4]
[화학식 1-5]
[화학식 1-6]
상기 화학식 1-1 내지 1-6에 있어서,
X1 및 R1 내지 R16의 정의는 상기 화학식 1과 동일하고,
L1, Ar1 및 Ar2의 정의는 상기 화학식 B와 동일하며,
R101 내지 R103은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; 카르보닐기; 에스테르기; 이미드기; 아미드기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 아릴옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬티옥시기; 치환 또는 비치환된 아릴티옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬술폭시기; 치환 또는 비치환된 아릴술폭시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 실릴기; 치환 또는 비치환된 붕소기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 아릴포스핀기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
r101, r102 및 r103은 각각 1 내지 3의 정수이며,
r101, r102 및 r103이 각각 2 이상인 경우, 2 이상의 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하다. - 청구항 1에 있어서,
상기 화학식 1은 하기 화학식 1-7 내지 1-18 중 어느 하나로 표시되는 것인 스피로형 화합물:
[화학식 1-7]
[화학식 1-8]
[화학식 1-9]
[화학식 1-10]
[화학식 1-11]
[화학식 1-12]
[화학식 1-13]
[화학식 1-14]
[화학식 1-15]
[화학식 1-16]
[화학식 1-17]
[화학식 1-18]
상기 화학식 1-7 내지 1-18에 있어서,
R1 내지 R16의 정의는 상기 화학식 1과 동일하고,
L1, Ar1 및 Ar2의 정의는 상기 화학식 B와 동일하며,
R101 내지 R103은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; 카르보닐기; 에스테르기; 이미드기; 아미드기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 아릴옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬티옥시기; 치환 또는 비치환된 아릴티옥시기; 치환 또는 비치환된 알킬술폭시기; 치환 또는 비치환된 아릴술폭시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 실릴기; 치환 또는 비치환된 붕소기; 치환 또는 비치환된 아민기; 치환 또는 비치환된 아릴포스핀기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
r101, r102 및 r103은 각각 1 내지 3의 정수이며,
r101, r102 및 r103이 각각 2 이상인 경우, 2 이상의 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하다. - 청구항 1에 있어서,
상기 L1은 직접결합; 치환 또는 비치환된 페닐렌기; 치환 또는 비치환된 바이페닐릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 나프틸렌기인 것인 스피로형 화합물. - 청구항 1에 있어서,
상기 Ar1 및 Ar2은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 치환 또는 비치환된 터페닐기; 치환 또는 비치환된 쿼터페닐기; 치환 또는 비치환된 나프틸기; 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 치환 또는 비치환된 스피로비플루오레닐기; 치환 또는 비치환된 트리페닐레닐기; 치환 또는 비치환된 페난트레닐렌기; 치환 또는 비치환된 카바졸릴기; 치환 또는 비치환된 디벤조퓨라닐기; 또는 치환 또는 비치환된 디벤조티오펜기인 것인 스피로형 화합물. - 청구항 1에 있어서,
상기 Ar1와 Ar2는 서로 결합하여 하기 화학식 C의 구조로 표시되는 것인 스피로형 화합물:
[화학식 C]
상기 화학식 C에 있어서,
X2는 CRR', NR", O 또는 S이고,
R, R', R", R201 및 R202는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이고,
r201 및 r202는 각각 1 내지 4의 정수이고,
상기 r201 및 r202가 각각 2 이상인 경우, 2 이상의 괄호 내의 구조는 서로 같거나 상이하며,
는 상기 화학식 B의 L1에 결합되는 부위이다. - 제1 전극; 상기 제1 전극에 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1 층 이상은 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항의 스피로형 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자.
- 청구항 8에 있어서,
상기 유기물층은 정공주입층을 포함하고, 상기 정공주입층은 상기 스피로형 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자. - 청구항 8에 있어서,
상기 유기물층은 정공수송층을 포함하고, 상기 정공수송층은 상기 스피로형 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자. - 청구항 8에 있어서,
상기 유기물층은 정공조절층을 포함하고, 상기 정공조절층은 상기 스피로형 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자. - 청구항 8에 있어서,
상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 스피로형 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자. - 청구항 8에 있어서,
상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 스피로형 화합물을 발광층의 도펀트로서 포함하는 것인 유기 발광 소자. - 청구항 8에 있어서,
상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 하기 화학식 1-A로 표시되는 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자:
[화학식 1-A]
상기 화학식 1-A에 있어서,
n1은 1 이상의 정수이고,
Ar3은 치환 또는 비치환된 1가 이상의 벤조플루오렌기; 치환 또는 비치환된 1가 이상의 플루오란텐기; 치환 또는 비치환된 1가 이상의 파이렌기; 또는 치환 또는 비치환된 1가 이상의 크라이센기이고,
L1은 직접결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 실릴기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이거나, 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있으며,
n1이 2 이상인 경우, 2 이상의 괄호 안의 구조는 서로 같거나 상이하다. - 청구항 14에 있어서,
상기 L1은 직접결합이고, Ar3는 2 가의 파이렌기이며, Ar4 및 Ar5는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 알킬기로 치환된 실릴기로 치환 또는 비치환된 아릴기이고, n1은 2인 것인 유기 발광 소자. - 청구항 16에 있어서,
상기 Ar11 및 Ar12는 1-나프틸기이고, G1 내지 G8은 수소인 것인 유기 발광 소자.
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