KR20170026489A - Uv-활성 발색단 관능화 폴리실록산 및 그로부터 제조된 코폴리머 - Google Patents

Uv-활성 발색단 관능화 폴리실록산 및 그로부터 제조된 코폴리머 Download PDF

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Abstract

본 명세서에 개시되는 것은 하기 식 I의 구조를 갖는 폴리오가노실록산이다:
Figure pct00042
(식 I)
상기 식 (I)에서; R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼 또는 알케닐옥시 라디칼이며; R3은 유기 UV 흡수성 기이고; R4는 독립적으로 직접 결합, 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼, 또는 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)의 기이고
Figure pct00043

여기서 A, B는 탄화수소 라디칼이며; R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이고; R6은 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며; x는 1 내지 300이고; y는 0 내지 50이며, z는 1 내지 50이다. 본 발명의 폴리오가노실록산은 다양한 코폴리머 또는 폴리머 블렌드를 만드는데 사용된다. 다양한 물품들이 폴리머 블렌드 또는 코폴리머로서 설명된 상기 폴리실록산을 이용하여 만들 수 있다.

Description

UV-활성 발색단 관능화 폴리실록산 및 그로부터 제조된 코폴리머{UV-ACTIVE CHROMOPHORE FUNCTIONALIZED POLYSILOXANES AND COPOLYMERS MADE THEREFROM}
본 발명은 UV-활성 발색단 관능화 폴리실록산 및 그로부터 제조된 코폴리머에 관한 것이다.
일반적으로, 합성수지는 그 용도 및 그 수지가 처하게 되는 조건에 따라 다양한 기능을 가진다. 통상의 합성수지는 새로운 기능을 부여하기 위해 합성수지에 기능성 모노머 또는 폴리머를 부가함으로써 개질된다. 열가소성 수지는 일반적으로 시각적 명료성(optical clarity), 높은 전성(ductility), 높은 열 변형 온도 및 치수 안정성과 같은 수많은 유리한 특성을 가지는 특징이 있다. 상기 특성들로 인해, 열가소성 수지는 수많은 산업 분야에 자주 이용된다. 방향족 폴리카보네이트가 미국 특허 제4,172,103호에 기술되어 있다. 이 방향족 폴리카보네이트는 2가 페놀 [예를 들어, 2, 2-비스(4-하이드록시페닐) 프로판]과 포스겐(phosgene)과 같은 카보네이트 전구체를 산 결합제(acid binding agent)의 존재하에 반응시켜서 만들어진다. 일반적으로, 방향족 폴리카보네이트는 무기산의 공격에 대해 우수한 내성을 나타내고, 용이하게 성형 가능하며, 생리학적으로 불활성이다.
폴리디오가노실록산/폴리카보네이트 블록 코폴리머가 미국 특허 제3,189,662호, 제3,821,325호, 제3,832,419호 및 제3,679,774호에 기술되어 있다. 폴리디오가노실록산/폴리카보네이트 블록 코폴리머는 코팅, 절연재, 피복, 결합제 및 접착제로 사용된다.
미국 특허 제3,419,634호는 경화될 수 있는 불포화 말단기를 가지며 필러(fillers)를 함유할 수 있는 폴리디오가노실록산/폴리카보네이트 블록 코폴리머를 개시하고 있다. 이 블록 코폴리머는 특히 피복, 자동차 유리, 안전 유리용 바인더 및 유리용 씨일(seal)로 사용될 수 있다.
열가소성 수지는 수많은 유리한 특성을 보유하고 있지만, 자외선에 의한 광분해(photodegradation)에 취약하다. 광분해는 폴리머 표면의 황변 및 부식을 포함하는 좋지 않은 특성을 초래한다. 향상된 UV 저항성 특성을 가지는 폴리카보네이트와 같은 열가소성 수지를 제조하는 데에는 다양한 방법들이 있다. 그 방법들 중 하나는 폴리카보네이트 표면을 자외선 흡수제를 포함하는 코팅 물질로 처리하는 것을 이용한다. 이러한 해결 방법은 코팅 물질과 UV 흡수제의 상용성이 불량하여, 코팅에 사용될 수 있는 UV 흡수제 양을 제한한다. 폴리카보네이트 코팅에 관련된 추가 단계들은 제조 비용을 증가시킨다. 또 하나의 방법은 폴리카보네이트 프로세싱 단계 동안 첨가제로서 UV 흡수 물질의 첨가와 관련이 있다. 이러한 방법은 추가 코팅 단계를 요하지 않는다 하더라도, 폴리카보네이트 물품의 시각적 명료성에 나쁜 영향을 미치지 않으려면 UV 안정제가 극히 적은 양(ppm 레벨)으로만 첨가될 수 있다. 또한, UV 안정제의 열적 열화가 폴리카보네이트의 매우 높은 프로세싱 온도(275℃ 내지 300℃)로 인해 문제가 된다.
국제공개공보 제2008/00084호는, 교호 부분들(alternating segments)인 25:75 내지 75:25의 중량비의 방향족 폴리카보네이트와 폴리실록산으로 이루어진 블록 코폴리머의 50 중량퍼센트 이하로 고분자 방향족 폴리카보네이트의 혼합물에 사용될 수 있는 UV 흡수제를 개시하고 있다. 상기 혼합물은 높은 전성, 내용매성 및 개선된 화재 거동(fire behavior)에 특징이 있다.
그러나 폴리카보네이트 및/또는 폴리카보네이트-폴리실록산 코폴리머 또는 폴리머 블렌드의 UV 저항성의 향상을 위하여 선행 기술에 공지된 첨가제를 사용하는 방법은, 첨가제 침출성(leachability) 및 프로세싱 단계 추가가 단점이 된다.
따라서, 감소된 수의 프로세싱 단계로 개선된 UV 저항성을 제공할 수 있는 폴리실록산 조성물이 필요하다. 본 발명은 그 필요에 대한 해결책을 제공한다.
본 발명에 의하면 하기 식 I의 구조를 갖는 폴리실록산이 개시된다:
Figure pct00001
(식 I)
위 식에서 R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼 또는 알케닐옥시 라디칼이고; R3은 유기 UV 흡수성 기(organic UV absorbing group)이고; R4는 독립적으로 직접 결합, 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼, 또는 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)의 기이고
Figure pct00002
위 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)에서 A, B는 탄화수소 라디칼이며;
R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이고, R6은 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며; x는 1 내지 300이고; y는 0 내지 50이며; z는 1 내지 50이다.
본 발명에서, 하기 식 Ⅵ의 단위들을 가지는 코폴리머 조성물이 제공된다.
Figure pct00003
(식 Ⅵ)
위 식에서 R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼 또는 알케닐옥시 라디칼이고; R3은 유기 UV 흡수성 기이며; R4는 독립적으로 직접 결합, 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼, 또는 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)의 기이고
Figure pct00004
위 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)에서 A, B는 탄화수소 라디칼이며;
R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기이거나 또는 아릴옥시 기이고; R6은 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며, x는 1 내지 300이고, y는 0 내지 50이며, z는 1 내지 50이다.
본 발명에 의해 폴리실록산 코폴리머를 제조하는 방법이 개시된다. 상기 방법은 식 I로 표시되는 오가노실록산을 하기 식 Ⅷ로 표시되는 화합물과 중합하는 단계를 포함한다:
Figure pct00005
(식 I)
{위 식 I에서 R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼 또는 알케닐옥시 라디칼이며, R3은 유기 UV 흡수성 기이고, R4는 독립적으로 직접 결합 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼 또는 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)의 기이고
Figure pct00006
위 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)에서 A, B는 탄화수소 라디칼이며;
R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기이거나 또는 아릴옥시 기이고, R6은 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며; x는 1 내지 300이고; y는 0 내지 50이며;, z는 1 내지 50임},
Figure pct00007
(식 Ⅷ)
{위 식 Ⅷ에서 R8은 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이고; R9는 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며; V는
Figure pct00008
로 이루어진 군에서 선택되며, 여기서 R10 및 R11은 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 18 탄소 원자를 가지는 알킬 기, 3 내지 14 탄소 원자를 가지는 아릴 기, 6 내지 10 탄소 원자를 가지는 아릴옥시 기, 7 내지 20 탄소 원자를 가지는 아랄킬 기, 1 내지 10 탄소 원자를 가지는 알콕시 기, 6 내지 20 탄소 원자를 가지는 사이클로알킬 기, 6 내지 20 탄소 원자를 가지는 사이클로알콕시 기, 2 내지 10 탄소 원자를 가지는 알케닐 기, 아랄킬옥시 기, 니트로 기, 알데하이드 기, 시아노 기, 또는 카복실 임}.
상기 중합은 폴리카보네이트-폴리실록산 코폴리머를 제공하기 위하여, 카보네이트 전구체의 존재하에 수행된다.
본 발명에서 제시되는 것은 UV 저항성 폴리실록산이다. 본 발명의 UV 저항성 폴리실록산은, 폴리카보네이트와 같은 블록 코폴리머에 중합체 블록(polymeric block)으로 사용하기에 적합하다. UV 흡수 모이어티는 반응성 폴리실록산에 공유결합으로 부착된다. 공지의 적용 방법들, 예를 들어 UV 흡수제의 고농축 용액에 의한 폴리머 표면의 팽윤, UV 흡수제를 포함하는 특정 보호 래커(protective lacquer)에 의한 폴리머 표면의 코팅, 또는 UV 흡수제가 풍부한 피복 층의 공압출(co-extruding)에 비해, 반응성 폴리실록산과의 공유결합에 의한 UV 흡수성 모이어티의 합체(incorporation)는 더욱 UV 저항성이고, 더욱 가공이 용이하며, 그에 따라 코스트를 감소시키는 장점이 있다.
본 발명에 의한 폴리실록산/폴리카보네이트 블록 코폴리머는, UV 흡수성 모이어티가 폴리실록산과 공유 결합되어 있어, 고유한(inherent) UV 저항 특성을 나타낸다. 이러한 코폴리머는 추가 프로세싱 단계를 필요로 하지 않으며, 용매 영향 또는 애프터 베이킹(after-baking)으로 인한 박벽화 성형물(thin-walled moldings)에 대한 손상의 위험이 없고, 교정(calibration) 문제(공압출에서 일어나는 것과 같은 문제)도 없다.
그 결과의, 고유한 UV 흡수성 폴리실록산/폴리카보네이트 블록 코폴리머들의 혼합물은 임의 공지의 방식으로 압출되어 보다 양호한 고유한 UV 저항 특성을 갖는 패널, 필름, 주형(cast)을 제공할 수 있다.
본 명세서에 개시되는 것은 하기 식 I의 구조를 갖는 폴리실록산이다:
Figure pct00009
(식 I)
{위 식에서 R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼 또는 알케닐옥시 라디칼이며; R3은 유기 UV 흡수성 기이고; R4는 독립적으로 직접 결합, 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼, 또는 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)의 기이고
Figure pct00010
위 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)에서 A, B는 탄화수소 라디칼이며;
R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이고; R6은 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며; x는 1 내지 250이고; y는 0 내지 40이며; z는 1 내지 40이다.
본 발명에 의해 위에 나타낸 구조의 폴리실록산 화합물을 제조하는 방법이 개시된다. 본 발명의 방법은 사이클릭 올리고머, 예를 들어 사이클릭 실록산으로부터 하이드라이드 말단 실록산을 얻는 단계를 포함한다. 상기 하이드라이드 말단 실록산은, 산성 및/또는 염기성 촉매의 존재하에서 사이클릭 실록산과 디실록산 하이드라이드의 개환 중합을 통해 얻어질 수 있다. 상기 하이드라이드 말단 실록산은 하기 식 Ⅲ으로 표시된다:
Figure pct00011
(식 Ⅲ).
위 식에서 R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼 또는 알케닐옥시 라디칼이며; x는 1 내지 300이고; y는 0 내지 50이다. 상기 하이드라이드 말단 실록산은 불포화기 함유 치환/비치환 하이드록시페닐 화합물로 하이드로실릴화되어 하이드록시페닐 화합물 말단 실록산이 얻어진 다음, 평형화된다. 하이드록시페닐 화합물 말단 실록산의 평형화(Equilibration)는 하이드라이드 치환 사이클릭 실록산의 조합으로 끝난다. 얻어진 하이드라이드 치환 하이드록시페닐 화합물 말단 폴리실록산은 식 I로 표시되며
Figure pct00012
(식 I)
{위 식에서 R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼 또는 알케닐옥시 라디칼이고; R4는 독립적으로 직접 결합, 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼, 또는 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)의 기이고
Figure pct00013
위 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)에서 A, B는 탄화수소 라디칼이며;
R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이고; R6은 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며; x는 1 내지 300이고; y는 0 내지 50이며; z는 0 내지 50임}, UV 흡수성 폴리실록산을 산출하기 위하여 백금과 같은 촉매의 존재하에, 바람직하게 50℃ 내지 80℃의 온도에서, 불포화 관능성 UV 흡수제와 반응된다. 상기 UV 흡수성 폴리실록산은 감압하에 약 150℃ 내지 300℃의 온도에서 유기화합물(organics)이 정제되어 순수 UV함유 폴리실록산 화합물이 수득된다. UV 흡수제 및 촉매는 아래에서 더 상세히 설명한다.
구체예들에서, 상기 UV 흡수성 기 R3은, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-2'-카르복시벤조페논, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시벤조페논, 2,2',4, 4'-테트라하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디부톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2, 2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-부톡시벤조페논, 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-삼차-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-메틸-5'-삼차-부틸-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-사이클로헥실-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2'-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-이소옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-삼차-부틸-5'-이차-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸 및 2-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸-페닐)-2H-벤조트리아졸; 바람직하게는 벤조페논 및 디벤조일레조르시놀로 이루어진 군에서 선택된다.
구체예들에서, 상기 벤조페논은 하기 식 Ⅳ의 구조를 갖는다:
Figure pct00014
(식 Ⅳ).
구체예들에서, 상기 디벤조일레조르시놀은 하기 식 V의 구조를 갖는다:
Figure pct00015
(식 V).
구체예들에서, 본 발명은 또한 식 Ⅵ로 지칭되는 식의 코폴리머를 포함하는 코폴리머 조성물에 관한 것이다:
Figure pct00016
(식 VI).
위 식에서; R1 및 R2는 독립적으로, 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼, 또는 알케닐옥시 라디칼이고; R3은 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-2'-카르복시벤조페논, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시벤조페논, 2,2',4, 4'-테트라하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디부톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2, 2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-부톡시벤조페논, 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-삼차-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-메틸-5'-삼차-부틸-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-사이클로헥실-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2'-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-이소옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-삼차-부틸-5'-이차-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸 및 2-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸-페닐)-2H-벤조트리아졸; 더 바람직하게는 벤조페논 및 디벤조일레조르시놀로 이루어진 군에서 선택되는 유기 UV 흡수성 기이며; R4는 독립적으로 직접 결합이거나, 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼, 또는 식 II(a) 또는 식 II(b)의 기이고
Figure pct00017
상기 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)에서 A, B는 탄화수소 라디칼이며;
R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기이거나 또는 아릴옥시 기이고; R6은 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며; x는 1 내지 300이고; y는 0 내지 50이며, z는 1 내지 50이다.
구체예들에서, 본 발명의 코폴리머 조성물은 하기 식 Ⅶ의 구조 단위들을 더 포함한다:
Figure pct00018
(식 Ⅶ).
{위 식에서 각 R7은 독립적으로 1 내지 60 탄소 원자를 갖는 탄화수소 라디칼, 2가 탄화수소, 하기 식 Ⅷ의 구조 단위로부터 유도된 기이고
Figure pct00019
(식 Ⅷ)
위 식 Ⅷ에서 R8은 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이고; R9는 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며; V는
Figure pct00020
로 이루어진 군에서 선택되며, 여기서 R10, R11은 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 18 탄소원자를 갖는 알킬 기, 3 내지 14 탄소 원자를 갖는 아릴 기, 6 내지 10 탄소 원자를 갖는 아릴옥시 기, 7 내지 20 탄소 원자를 갖는 아랄킬 기, 1 내지 10 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 6 내지 20 탄소 원자를 갖는 사이클로알킬 기, 6 내지 20 탄소 원자를 갖는 사이클로알콕시 기, 2 내지 10 탄소 원자를 갖는 알케닐 기, 아랄킬옥시 기, 니트로 기, 알데하이드 기, 시아노 기이거나, 또는 카르복실 기임}. 여기서, 카보네이트 전구체의 존재하에 폴리카보네이트-폴리실록산 코폴리머를 생성한다.
구체예들에서, 식 I은 폴리카보네이트 호모폴리머, 폴리카보네이트 코폴리머, 폴리카보네이트-폴리에스테르, 폴리에스테르, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리이미드 및 폴리에테르이미드 또는 이들의 조합과 조합될 수 있다.
구체예들에서, 본 발명은 또한 식 I의 폴리실록산을 포함하는 폴리머 블렌드 조성물 또는 하기 식 Ⅶ 및 식 Ⅷ의 단위들을 포함하는 코폴리머에 관한 것이다:
Figure pct00021
(식 Ⅶ).
위 식에서 각 R7은 1 내지 60 탄소 원자를 갖는 탄화수소 라디칼, 2가 탄화수소 기, 또는 하기 구조 단위로부터 유도된 기이고
Figure pct00022
(식 Ⅷ)
위 식에서 R8은 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이며; R9는 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이고; V는
Figure pct00023
로 이루어진 군에서 선택되며, 여기서 R10, R11은 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 18 탄소 원자를 갖는 알킬 기, 3 내지 14 탄소 원자를 갖는 아릴 기, 6 내지 10 탄소 원자를 갖는 아릴옥시 기, 7 내지 20 탄소 원자를 갖는 아랄킬 기, 1 내지 10 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 6 내지 20 탄소 원자를 갖는 사이클로알킬 기, 6 내지 20 탄소 원자를 갖는 사이클로알콕시 기, 2 내지 10 탄소 원자를 갖는 알케닐 기, 아랄킬옥시 기, 니트로 기, 알데하이드 기, 시아노 기이거나, 또는 카르복실 기이다.
위에 제시된 폴리카보네이트 코폴리머 블렌드의 구체예들에서, R9는 독립적으로 하이드록시 기이고, R10은 독립적으로 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알킬 기이다.
본 발명의 코폴리머는 포스겐과 같은 카보네이트 전구체의 존재하에 디하이드록시벤젠 화합물과 비스-관능화 폴리오가노실록산 화합물(bis-functionalized polyorganosiloxane compound)을 중합하는 것에 의해 제조될 수도 있다. 하나의 실시예에서, 상기 디하이드록시벤젠 화합물은 비스페놀 A이며, 상기 비스-관능화 폴리디오가노실록산 화합물은 식 I의 것이다.
본 발명에서 제시되는 상기 코폴리머를 중합하는 방법의 구체예들에서, 상기 카보네이트 전구체는 포스겐, 디포스겐, 트리포스펜 및 디아릴카보네이트, 비스(메틸살리실)카보네이트, 또는 그들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된다.
구체에들에서, 상기 중합 반응은 염소화 지방족 유기화합물 액체, 메틸렌 클로라이드, 클로로폼, 카본 테트라클로라이드, 1,2-디클로로에탄, 트리클로로에탄, 테트라클로로에탄, 디클로로프로판, 1,2-디클로로에틸렌, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 염소-함유 방향족 용매, 톨루엔, 다양한 클로로톨루엔들 및 그 유사물들, 탈이온수와 같은 수성 용매들, 코오스틱(caustic), 및 선택적으로 하나 이상의 촉매들을 포함하는 용매의 존재하에 수행되는 계면 중합 방법(interfacial polymerization process)이다.
계면 중합 반응에 적합한 촉매는 3차 아민(예를 들어 트리알킬아민) 촉매와 같은 지방족 아민; 식 (A3)4L+B의 촉매와 같은 상 전이 촉매를 포함한다. 식 (A3)4L+B에서, 각각의 A는 독립적으로 C1-10 알킬 기이고; L은 질소 또는 인 원자이며; B는 할로겐 원자 또는 C1-8 알콕시 기 또는 C6-18 아릴옥시 기이다. 이러한 촉매들의 조합 또한 효과적이다.
구체예들에서, 상기 중합 반응은 2상성 용매(biphasic solvent) 내에서 포스겐과 비스페놀 A를 상 전이 촉매의 존재하에 반응시켜 비스클로로포메이트를 형성시키는 단계; 및 디하이드록시실리콘을 첨가하여 상기 코폴리머를 형성하는 단계에 의해 수행된다. 구체예들에서, 디하이드록시실리콘의 클로로포메이트는 관형 반응기에서 형성된 다음, 계면 중축합 반응기에 촉매와 함께 첨가된다.
다양한 제조품들이 본 발명의 코폴리머를 사용하여, 특히 본 발명의 코폴리머를 (예를 들어, 폴리카보네이트 호모폴리머와의 조합으로) 함유하는 폴리머 블렌드 조성물을 사용하여 만들어질 수 있다. UV 흡수성 폴리디오가노실록산 폴리머를 포함하는 본 발명에 의한 블록 코폴리머는 양호한 내재의 UV 저항 특성을 갖는 패널, 필름, 주형을 제공하기 위하여 공지 방법으로 압출될 수 있다.
이하, 특정 구체예들을 상세하게 설명하기로 한다. 하기 실시예들은 예시하기 위한 것으로, 이 실시예들에 제시되는 물질들, 조건들 또는 프로세스 파라미터들에 한정되는 것은 아니다. 달리 언급하지 않는 한, 모든 부(parts)는 고체 중량 기준 백분율이다.
실시예들
실시예 1
하이드라이드 말단 실록산 유체 H MD 45 M H 의 합성
자석 교반기, 환류 응축기가 장치된 500ml 둥근바닥(RB) 플라스크에 옥타메틸사이클로테트라실록산 (D4) (500g) 및 퓨로라이트(Purolite) CT275 (2.298g)의 혼합물을 넣고 질소 분위기하에서 교반하였다. 교반된 혼합물에, 실온에서 1,1,3,3-테트라메틸디실록산 (HMMH)(19.68g)을 첨가하였다. 상기 플라스크를 가열하고 약 50℃에서 약 1시간 동안 유지한 다음, 온도를 약 60℃까지 약 1시간 동안 증가시켰다. 상기 온도를 70℃까지 약 2시간 동안 증가시킨 다음, 80℃까지 약 4시간 동안 증가시켰다. 반응 완료 후, 상기 플라스크를 30℃ 미만으로 냉각시키고, 셀라이트(Celite) (0.750 g)로 처리하고 여과하였다. 130℃/5 mbar에서 진공을 걸어서 휘발성 물질을 제거하여 무색 액체 480g을 수득하였다. 이 액체의 특성은 다음과 같았다: 고체 함량은 98%이었고, 점도는 15-20mPas이었으며, 하이드라이드 함량은 11.68 cc H2/g (0.0521 중량퍼센트)이었고, 분자량(Mn)은 4648이었으며, 다분산 지수 (PDI)는 1.6이었다.
비교예 1
유게놀 ( Eugenol ) 말단 실록산 유체 Eu MD 45 M Eu 의 합성
250ml RB 플라스크에 HMD45MH (75g, 위 실시예에서 제조된 것) 및 알루미나 담지 백금 촉매 (0.350g)를 투입하였다. 이 혼합물을 질소 분위기하에서 교반하고 80℃가 되게 하였다. 알릴-3-메톡시--4-하이드록시벤젠 (Eugenol) (9.622g)을 첨가 깔때기에 넣어 반응 온도를 약 100℃ 미만으로 유지하는 속도로 적가하였다. 첨가 후, 반응 혼합물을 1시간 동안 약 80℃가 되게 한 다음, 온도를 약 100℃까지 약 2시간 동안 상승시켰다. 하이드로실릴화 반응의 완료는 1H NMR(proton NMR)로 확인하였다. 반응 혼합물을 30℃ 미만으로 냉각시키고, Celite(0.5g)로 처리하고 여과하였다. 그런 다음, 생성된 유체를 200℃/5mbar에서 스트리핑하여 맑은 담황색 액체를 수득하였다. 이 액체의 특성은 다음과 같았다: 고체 함량은 98%이었고, 점도는 130-150mPas이었으며, 분자량(Mn)은 4653이었고, PDI는 4.2이었다.
실시예 2
유게놀 하이드라이드 유체 Eu MD 45 D H 4 M Eu 의 합성
250ml RB 플라스크에 EuMD45DH 4MEu (150g, 위 실시예에서 제조된 것) 및 테트라메틸사이클로테트라실록산 (D4H) (10.99g)를 투입하였다. 이 혼합물에 트리플루오로메탄술폰산 0.20g을 첨가하고, 질소 분위기하에 50℃에서 1시간 동안 교반하였다. 1시간 후에, 온도를 60℃로 상승시키고 1시간 동안 유지시켰다. 온도를 70℃까지 상승시켰고, 교반하면서 8시간 동안 유지시켰다. 반응의 완료 후에, 플라스크를 30℃ 미만으로 냉각시키고, 고체 카보네이트를 사용하여 산 촉매로 중화시키고, Celite로 처리하고 여과하였다. 그런 다음, 생성된 유체를 200℃/5mbar에서 스트리핑하여 분자 구조 EuMD45DH 4MEu를 갖는 맑은 담황색 액체를 수득하였다. 이 액체의 특성은 다음과 같았다: 고체 함량은 98.2%이었고, 분자량(Mn)은 5327이었으며, PDI는 1.9이었다.
실시예 3
디벤조일 레조르시놀 변성 실록산 유체 Eu MD 45 D DBR 4 M Eu 의 합성
위 실시예에서 합성된 유게놀 하이드라이드 유체(EuMD45DH 4MEu) 30g을 RB 플라스크에 투입하였다. 카스테트(karstedt) 촉매를 첨가하고 질소 분위기하에 50℃에서 교반하였다. 톨루엔 중의 알릴-디벤조일 레조르시놀 (Allyl DBR) (20% 용액) (10.8g)를 첨가 깔때기에 넣어 반응 온도를 60℃ 미만으로 유지하는 속도로 적가하였다. 첨가 후, 반응 혼합물을 60℃에서 3시간 동안 더 유지시켰다. 하이드로실릴화 반응의 완료는 1H NMR로 확인하였다. 반응 혼합물을 30℃ 미만으로 냉각시키고, Celite (0.5g)로 처리하고 여과하였다. 그런 다음, 생성된 유체를 200℃/5mbar에서 스트리핑하여 점성이 높은 맑은 담황색의 액체를 수득하였다. 최종 생성물은 EuMD45DDBR 4MEu 의 평균 구조를 갖는다. 이 액체의 특성은 다음과 같았다: 고체 함량은 98.5%이었고, 분자량(Mn)은 6160이었으며, PDI는 5.3이었다.
실시예 4
하이드록시 벤조페논 변성 실록산 유체 Eu MD 45 D HBP 4 M Eu 의 합성
실험들은 알릴-디벤조일 레조르시놀 대신에 알릴옥시-2-하이드록시 벤조페논을 사용하여 위에서 설명한 것과 동일한 반응 조건들하에서 수행되었다. 얻어진 액체의 특성은 다음과 같았다: 고체 함량은 98%이었다.
폴리카보네이트- 폴리실록산 코폴리머의 합성:
50ml의 물 및 DCM 7.42 g을 수용한 4구 RB 플라스크에 10.278g의 비스페놀-A, 1.142g의 페놀 말단 UV 흡수제 변성 실록산 유체 및 0.113g의 벤젠 트리에틸암모늄 클로라이드(BTAC)을 투입하였다. 7.42g의 트리포스겐을 질소 분위기하의 유리 바이알에 계량하여 25ml DCM에 용해시켰다. DCM에 용해된 트리포스겐을 첨가 깔때기에 넣었다. 25ml의 25-30 중량 퍼센트 NaOH 용액을 반응기에 장치된 제2 첨가 깔때기에 옮겨 넣었다. 반응 혼합물을 강하게 교반(300-400rpm)하면서 트리포스겐과 NaOH를 동시에 첨가하였다. NaOH 첨가는 반응 혼합물의 pH가 5와 6 사이로 유지되도록 주의 깊게 수행되었다. 교반을 추가 20분 동안 계속하였다. NaOH 잔량을 첨가하여 pH를 10-11로 증가시켰다. 반응 혼합물을 추가 5 내지 10분 동안 더 교반하였다. 반응 혼합물에 0.16 g의 4-큐밀 페놀 (pCP) 및 54.4mg의 트리에틸아민(TEA)을 첨가하였다. 교반은 추가 5 내지 10분 동안 더 계속되었고 수성 NaOH를 첨가하여 pH를 12까지 증가시켰다. 반응을 중단하고 분액 깔때기를 사용하여 수성 층으로부터 유기층을 분리하였다. 폴리머(유기층)를 1N HCl로 세척하였으며 많은 과량의 메탄올에 침전시켰다. 최종 생성물을 약 60℃ 내지 약 70℃의 오븐에서 하룻밤 동안 건조시켰다.
표1. 폴리카보네이트-폴리실록산 코폴리머의 상세 조성
시료 M n, SEC M w, SEC PDI
폴리카보네이트- 폴리실록산 ( 실시예 3) 코폴리머 13904 65829 4.7
폴리카보네이트- 폴리실록산 ( 실시예 4) 코폴리머 12712 26099 2.0
폴리카보네이트- 폴리실록산 ( 비교예 1) 코폴리머 42974 64852 1.5
상기 표 1에 나타난 것과 같이, 실시예 3 및 4의 반응성 UV 흡수성 폴리실록산을 사용하여 제조된 상기 폴리실록산-폴리카보네이트 코폴리머들은, 비교예 1(유게놀 말단 폴리실록산-폴리카보네이트 코폴리머)에 의해 제조된 폴리실록산-폴리카보네이트 코폴리머와 비교할 때, 전반적으로 비교할 만한 수 평균 분자량(Mn), 중량 평균 분자량(Mw) 및 다분산 지수(PDI)를 나타내었다. 이는 포스겐의 존재하에 반응성 UV 흡수 폴리실록산과 비스페놀-A의 중합 가능성이 표준 유게놀 말단 폴리실록산과 상당히 유사하다는 것을 명확하게 가리킨다. 게다가, 비용 효율적인 반응성 UV 흡수성 폴리실록산 기반 코폴리머들은 UV 저항 특성을 향상시키게 될 것이다.
위에서 설명된 것의 변형예들 및 그 다른 특징들 및 기능들 또는 대안들이 다른 다양한 시스템 또는 적용분야에 결합될 수 있다는 것을 이해하여야 할 것이다. 여기서 예측 또는 예상하지 않은 그 안의 다양한 대안들, 수정들, 변형들 또는 개선들이 첨부하는 청구범위에 의해 또한 포괄되는 분야의 기술자에 의해 도출될 수도 있다.

Claims (20)

  1. 하기 식 I의 구조를 포함하여 구성되는 폴리실록산:
    Figure pct00024
    (식 I)
    {위 식에서;
    R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼 또는 알케닐옥시 라디칼이며;
    R3은 유기 UV 흡수성 기이고;
    R4는 독립적으로 직접 결합, 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼, 또는 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)의 기이고
    Figure pct00025

    여기서 A, B는 탄화수소 라디칼이며;
    R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시, 또는 아릴옥시 기이고;
    R6은 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며;
    x는 1 내지 300이고; y는 0 내지 50이며, z는 1 내지 50임}.
  2. 하기 식 Ⅲ으로 표시되는 하이드라이드 말단 실록산을, 알릴 불포화 사슬-함유 치환 또는 비치환 하이드록시페닐 화합물과 반응시킨 다음, 하이드라이드 치환 사이클릭 실록산의 존재하에 하이드록시페닐 화합물 말단 실록산의 평형화(equilibration)가 후속되어, 하기 식 I의 하이드록시페닐 화합물 말단 실록산을 얻는 단계
    Figure pct00026
    (식 Ⅲ)
    {위 식에서 R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼, 또는 알케닐옥시 라디칼이고; x는 1 내지 300이고, y는 0 내지 50임},
    Figure pct00027
    (식 I)
    {위 식에서 R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼 또는 알케닐옥시 라디칼이고; R4는 독립적으로 직접 결합, 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼, 또는 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)의 기이고
    Figure pct00028

    여기서 A 및 B는 탄화수소 라디칼이며;
    R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이고, R6은 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며, x는 1 내지 300이고; y는 0 내지 50이고; z는 0 내지 50임};
    상기 하이드록시페닐 화합물 말단 실록산을 불포화 관능 UV 흡수제와 약 50℃ 내지 80℃의 온도에서 촉매의 존재하에 반응시켜 UV 흡수성 폴리실록산을 얻는 단계; 및
    상기 UV 흡수성 폴리실록산을 정제하는 단계;
    를 포함하여 구성되는, 제1항의 폴리실록산을 제조하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, R3이, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-2'-카르복시벤조페논, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시벤조페논, 2,2',4, 4'-테트라하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디부톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2, 2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-부톡시벤조페논, 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-삼차-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-메틸-5'-삼차-부틸-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-사이클로헥실-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2'-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-이소옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-삼차-부틸-5'-이차-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 및 2-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸-페닐)-2H-벤조트리아졸로 이루어진 군에서 선택되는, 폴리실록산.
  4. 제1항에 있어서, R3이, 하기 식 Ⅳ의 화합물에 의해 표시되는, 폴리실록산:
    Figure pct00029
    (식 Ⅳ).
  5. 제1항에 있어서, R3이, 하기 식 V의 화합물에 의해 표시되는 폴리실록산:
    Figure pct00030
    (식 V).
  6. 제1항에 있어서, 폴리카보네이트 호모폴리머, 폴리카보네이트 코폴리머, 폴리카보네이트-폴리에스테르, 폴리에스테르, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리이미드 및 폴리에테르이미드로 이루어진 군에서 선택되는 폴리머를 더 포함하여 구성되는, 폴리실록산.
  7. 제6항의 폴리실록산을 포함하여 구성되는 물품.
  8. 하기 식 Ⅵ으로 표시되는 단위들을 갖는 적어도 하나의 폴리실록산을 포함하여 구성되는 코폴리머 조성물:
    Figure pct00031
    (식 Ⅵ)
    {위 식에서;
    R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼, 또는 알케닐옥시 라디칼이며;
    R3은 유기 UV 흡수성 기이고;
    R4는 직접 결합 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼, 또는 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)의 기이고
    Figure pct00032

    여기서 A 및 B는 탄화수소 라디칼이며;
    R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이고;
    R6은 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며;
    x는 1 내지 300이고; y는 0 내지 50이며, z는 1 내지 50임}.
  9. 제8항에 있어서, 하기 식 Ⅶ의 구조 단위들을 더 포함하여 구성되는 코폴리머 조성물:
    Figure pct00033
    (식 Ⅶ)
    {위 식에서 각각의 R7은 1 내지 60 탄소 원자를 갖는 탄화수소 라디칼이거나, 2가 탄화수소 기, 또는 하기 식 Ⅷ의 구조 단위로부터 유도된 기이고
    Figure pct00034
    (식 Ⅷ)
    여기서 R8은 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이며; R9는 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이고; V는
    Figure pct00035

    로 이루어진 군에서 선택되며, 여기서 R10 및 R11은 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 18 탄소 원자를 가지는 알킬 기, 3 내지 14 탄소 원자를 가지는 아릴 기, 6 내지 10 탄소 원자를 가지는 아릴옥시 기, 7 내지 20 탄소 원자를 가지는 아랄킬 기, 1 내지 10 탄소 원자를 가지는 알콕시 기, 6 내지 20 탄소 원자를 가지는 사이클로알킬 기, 6 내지 20 탄소 원자를 가지는 사이클로알콕시 기, 2 내지 10 탄소 원자를 가지는 알케닐 기, 아랄킬옥시 기, 니트로 기, 알데하이드 기, 시아노 기, 또는 카복실 기임}.
  10. 제8항에 있어서, R9는 하이드록시 기이고, R10은 1 내지 6 탄소 원자의 알킬기인, 코폴리머 조성물.
  11. 제8항에 있어서, 폴리카보네이트 호모폴리머, 폴리카보네이트 코폴리머, 폴리카보네이트-폴리에스테르, 폴리에스테르, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리이미드, 폴리에테르이미드 또는 이들의 조합을 더 포함하여 구성되는, 코폴리머 조성물.
  12. 제8항에 있어서, R3이, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-2'-카르복시벤조페논, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시벤조페논, 2,2',4, 4'-테트라하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디프로폭시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디부톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-에톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-프로폭시벤조페논, 2, 2'-디하이드록시-4-메톡시-4'-부톡시벤조페논, 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-삼차-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-메틸-5'-삼차-부틸-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-사이클로헥실-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2'-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-이소옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-삼차-부틸-5'-이차-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸 및 2-(2'-하이드록시-3',5'-디메틸-페닐)-2H-벤조트리아졸로 이루어진 군에서 선택되는, 코폴리머 조성물.
  13. 제8항에 있어서, R3이, 하기 식 Ⅳ의 화합물로 표시되는, 코폴리머 조성물:
    Figure pct00036
    (식 Ⅳ).
  14. 제8항에 있어서, R3이, 하기 식 V의 화합물로 표시되는, 코폴리머 조성물:
    Figure pct00037
    (식 V).
  15. 제8항의 코폴리머 조성물을 포함하여 구성되는 물품.
  16. 제15항에 있어서, 패널, 필름 및 주형으로 이루어진 군에서 선택되는 물품.
  17. 하기 식 I로 표시되는 오가노실록산을, 카보네이트 전구체의 존재하에, 하기 식 Ⅷ로 표시되는 화합물과 중합하는 단계를 포함하여 구성되는, 폴리실록산 코폴리머의 제조 방법:
    Figure pct00038
    (식 I)
    {위 식에서;
    R1 및 R2는 독립적으로 탄화수소 라디칼, 불포화 라디칼, 알콕시 라디칼, 아릴 라디칼, 또는 알케닐옥시 라디칼이며;
    R3은 유기 UV 흡수성 기이고;
    R4는 직접 결합, 또는 산소 및 질소로 선택적으로 치환된 탄화수소 라디칼, 또는 식 Ⅱ(a) 또는 식 Ⅱ(b)의 기이고
    Figure pct00039

    여기서 A, B는 탄화수소 라디칼이며;
    R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이고;
    R6은, 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이며; x는 1 내지 300이고; y는 0 내지 50 이며, z는 1 내지 50임},
    Figure pct00040
    (식 Ⅷ)
    {위 식에서 R8은 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 지방족 기, 6 내지 8 탄소 원자를 갖는 방향족 기, 1 내지 6 탄소 원자를 갖는 알콕시 기, 또는 아릴옥시 기이며; R9는 독립적으로 하이드록실 기, 아민 기, 산 클로라이드 기, 또는 설포닐 할라이드 기이고; V는
    Figure pct00041

    로 이루어진 군에서 선택되며, 여기서 R10 및 R11은 독립적으로 수소, 할로겐, 1 내지 18 탄소 원자를 가지는 알킬 기, 3 내지 14 탄소 원자를 가지는 아릴 기, 6 내지 10 탄소 원자를 가지는 아릴옥시 기, 7 내지 20 탄소 원자를 가지는 아랄킬 기, 1 내지 10 탄소 원자를 가지는 알콕시 기, 6 내지 20 탄소 원자를 가지는 사이클로알킬 기, 6 내지 20 탄소 원자를 가지는 사이클로알콕시 기, 2 내지 10 탄소 원자를 가지는 알케닐 기, 아랄킬옥시 기, 니트로 기, 알데하이드 기, 시아노 기, 또는 카복실 기임}.
  18. 제17항에 있어서, 상기 카보네이트 전구체가, 포스겐, 디포스겐, 디아릴카보네이트, 비스(메틸살리실)카보네이트, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는, 폴리실록산 코폴리머의 제조 방법.
  19. 제17항에 있어서, 상기 중합 단계가, 용매 및 임의선택적으로 하나 이상의 촉매의 존재하에 수행되는 계면 중합 프로세스인, 폴리실록산 코폴리머의 제조 방법.
  20. 제17항에 있어서, 상기 하나 이상의 촉매가, 지방족 아민, 트리알킬아민; 및 식 (A3)4L+B의 상 전이 촉매 (여기서, A는 각각 독립적으로 C1-10 알킬 기이고, L은 질소 또는 인 원자이고, B는 할로겐 원자이거나 C1-8 알콕시 기이거나 또는 C6-18 아릴옥시 기임)로 이루어진 군에서 선택되는, 폴리실록산 코폴리머의 제조 방법.
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