KR20170012391A - 감소된 스크래치 및 지문 가시성을 갖는 저 명암의 반사-방지 제품 - Google Patents

감소된 스크래치 및 지문 가시성을 갖는 저 명암의 반사-방지 제품 Download PDF

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Abstract

저-명암의 반사-방지 코팅을 포함하는 제품의 구체 예는 개시된다. 이러한 제품의 코팅 표면은 원래 그대로의 상태와 표면 결함이 존재하는 경우 사이에 반사율에서 감소된 차이를 나타낸다. 하나 이상의 구체 예에서, 이러한 제품의 코팅 표면은 원래 그대로의 상태에서 약 0.6% 내지 약 6.0% 범위의 제1 평균 반사율, 및 반사-방지 코팅의 표면 두께의 제거 후에 약 8% 이하의 제2 평균 반사율을 나타낸다. 다른 구체 예에서, 코팅 기판은, 코팅 표면이 오염물질을 포함하는 경우, 약 10% 이하의 제2 평균 반사율을 나타낸다. 몇몇 구체 예에서, 코팅 기판은 원래 그대로의 상태에서 제1 색 좌표 (a*1, b*1) 및 표면 결함의 존재 이후에 Δa*b*가 약 6 이하가 되도록 제2 색 좌표 (a*2, b*2)를 나타낸다.

Description

감소된 스크래치 및 지문 가시성을 갖는 저 명암의 반사-방지 제품 {Low Contrast Anti-Reflection Articles With Reduced Scratch and Fingerprint Visibility}
본 출원은 2014년 5월 23일자에 출원된 미국 가 특허출원 제62/002,466호의 우선권을 주장하고, 이의 전체적인 내용은 참조로서 여기에 혼입된다.
본 개시는 낮은 명암의, 반사-방지 코팅을 갖는 제품에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는, 감소된 표면 결함 (예를 들어, 스크래치 및 지문) 가시성을 갖는 제품에 관한 것이다.
투명한, 내스크래치성 필름 및 경질 코팅은 디스플레이 커버 유리 시장, 및 건축용, 자동차, 또는 높은 광학 투과율 및 표면 내구성을 요구하는 다른 적용과 같은 기타 적용에 사용된다. 이들 필름 및 코팅은 또한, 단단하고 거친 표면상으로 낙하 동안, 손상에 대한 저항성을 개선하는 것으로 나타낸다.
반사-방지 코팅은, 또한 표면으로부터 반사된 주변 광의 강도를 감소시키고, 디스플레이의 투과율, 가독성 (readability) 및 시야성 (viewability)을 증가시키며, 및 안경, 창 및 기타 표면으로부터 원하지 않거나 또는 산란하는 눈부심을 감소시키기 위해, 이들 시장에 대해 및 적용을 위해 개발되어 왔다. 종래의 반사-방지 코팅은, 반사-방지 코팅을 포함하지 않지만 동일한 표면 결함을 갖는 표면과 비교한 경우, (여기에 기재된 바와 같은) 표면 결함의 증가된 가시성을 포함하는 단점을 겪는다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 표면 결함의 가시성은, 반사-방지 코팅의 원래 그대로의 부분과 동일한 반사-방지 코팅의 표면 결함-함유 부분 사이에 반사율 차이에 대해 적어도 일부 의존한다. 도 1은 표면 (22)을 갖는 기판 (20), 및 상기 표면 (22)상에 배치되어 코팅 표면 (32)을 형성하는 반사-방지 코팅 (30)을 갖는 공지의 제품 (10)을 예시한다. 도 1에서, 반사-방지 코팅 (30)의 일부의 제거 (즉, 코팅 표면 (32) 상에 표면 결함의 형성)는 표면 결함 (34)을 포함하는 새로운 표면을 형성한다. 표면 결함이 없는 코팅 표면 (32)은 원래 그대로의 상태로 고려된다. 여기에 사용된 바와 같은, 문구 "원래 그대로"는, 여기에 정의된 바와 같은, 표면 결함이 없는 코팅 표면을 의미한다. 도 1에 나타낸 바와 같은, 원래 그대로의 코팅 표면은 제1 반사율 (%R1)을 갖고, (표면 두께의 제거에 의해 나타낸) 표면 결함을 포함하는 표면은 %R1과 다른 제2 반사율 (%R2)를 나타낸다. 몇몇 반사-방지 코팅은 교차하는 고 굴절률 층 및 저 굴절률 층을 포함하고, 제2 반사율 (%R2)은, 표면 결함 (34)을 포함하는 노출된 표면에서 물질이 원래 그대로의 표면에서 물질과 다르기 때문에 %R1과 다르다. 이 결과는, 또한 표면 결함이, 표면 두께의 제거 대신에, 코팅 표면상에 오염물질의 첨가를 포함하는 경우 존재한다. 반사율에서 이 차이는, 반사-방지 코팅의 구조에 의존하여, 제거된 변화하는 표면 두께를 갖는 표면 결함의 존재에 의해 강화될 수 있는, 표면 결함의 존재를 두드러지게 한다.
부가적으로, 최근 떠오르는 디스플레이 커버용 코팅 물질은, 고 경도 또는 다른 개선된 기계적 특성을 가질 수 있다; 그러나, 이들 개선된 기계적 특성은 종종, Al2O3, 단-결정 Al2O3 (사파이어), AlNx, AlOxNy, SiNx, SiOxNy, 및 ZrO2와 같은, 더 고 굴절률을 갖는 물질과 근본적으로 관련된다.
따라서, 제품의 사용 동안 나타나거나 또는 형성될 수 있는 표면 결함의 가시성을 실질적으로 증가시키지 않고, 고-굴절률 물질 (high-index materials)을 갖는 제품 및/또는 투명 기판과 연관된 반사율을 감소시키는 특별하게 설계된 코팅에 대한 요구가 있다. 본 개시는, 표면 결함의 가시성을 감소시키면서, 동일한 맨 투명 기판과 비교하여, 반사율을 감소시키는 것과 관련 있다.
본 개시의 다양한 관점은 표면 결함의 낮은 반사율 및 감소된 가시성을 나타내는 투명 제품과 관련 있다. 상기 제품은, 제품의 반사율을 감소시키는 적어도 하나의 표면상에 배치되고, 표면 결함의 명암 또는 가시성을 감소시키는 속성을 갖는 반사-방지 코팅을 포함한다. 여기에 사용된 바와 같은, 문구 "표면 결함"은, 반사-방지 코팅의 표면 두께의 제거 (예를 들어, 반사-방지 코팅 내에 또는 상에 스크래치, 칩, 및/또는 마멸된 구역); 반사-방지 코팅의 코팅 표면에 물질 또는 오염물질 (예를 들어, 지문, 지문 잔류물 또는 지문-시뮬레이팅 매체 (fingerprint-simulating medium) 또는 매개체)의 부가; 반사-방지 코팅의 박리 구역; 및 제품의 정상 사용 동안 반사-방지 코팅에 및/또는 반사-방지 코팅으로 도입된 (즉, 반사-방지 코팅의 배치 또는 제품의 제작 동안 도입되지 않은) 다른 표면 흠을 포함한다. 표면 결함은 약 1㎛ 이상의 측면 치수를 가져야 한다.
본 개시의 제1 관점은 기판 표면을 갖는 기판, 및 기판 표면상에 배치되어 코팅 표면을 형성하는 반사-방지 코팅을 포함하는 제품과 관련된다. 별도의 언급이 없는 한, 코팅 표면은 반사-방지 코팅 및 기저 기판 (underlying substrate) (및/또는 기판과 반사-방지 코팅 사이에 배치된 다른 층)의 표면이다. 하나 이상의 코팅 예에서, 코팅 표면은, 코팅 표면이 원래 그대로의 상태에 있는 경우, 약 450 내지 약 650㎚의 범위 내에 가시광선 스펙트럼의 적어도 일부에 걸쳐 약 0.6% 내지 약 6.0%의 범위에서 제1 평균 반사율, 및 코팅 표면으로부터 반사-방지 코팅의 표면 두께의 제거 후에, 상기 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 약 8% 이하 (예를 들어, 약 3% 이하)의 제2 평균 반사율을 나타낸다. 하나의 변형에서, 반사-방지 코팅은 표면 두께를 초과하는 코팅 두께를 포함한다. 또 다른 변형에서, 표면 두께는 약 25㎚ 이상 (예를 들어, 약 25㎚ 내지 약 100㎚ 또는 약 25㎚ 내지 약 500㎚의 범위)이다. 또 다른 변형에서, 반사-방지 코팅은 다중 층을 포함하고, 구체적으로 기판 표면상에 배치된 제1층 및 상기 제1층 상에 배치된 제2층을 포함하며, 여기서 제2층은 표면 두께 미만인 두께를 갖는다 (또는 바꿔 말하면, 표면 두께는 제2층의 층 두께 이상이다).
하나의 구체 예에서, 코팅 표면은, 코팅 표면이 원래 그대로의 상태에 있는 경우, 제1 반사율, 및 코팅 표면으로부터 반사-방지 코팅의 표면 두께의 제거 후에 제2 반사율을 나타낼 수 있다. 상기 제1 반사율 및 상기 제2 반사율 중 적어도 하나는, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 2% 절대 반사율 (absolute reflectance) 이하의 평균 진동폭 (oscillation amplitude)을 나타낼 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 상기 가시광선 스펙트럼 내에 약 100㎚의 파장 폭에서, 제1 반사율 및 제2 반사율 중 적어도 하나는 약 2% 절대 반사율 이하의 최대 진동폭을 나타낸다. 이러한 구체 예의 반사율은 약 0 degrees 내지 약 60 degrees의 범위 내에 입사 조명 각하에서 측정될 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 제1 반사율 및 제2 반사율 중 적어도 하나는, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 평균 반사율 값과 비교하여 20% 미만의 반사율 진동을 포함한다.
하나 이상의 구체 예에서, 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 0.5 내지 약 50의 범위에서 명암비 (contrast ratio) (제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율)를 포함한다. 하나 이상의 구체 예에서, 표면 두께는 약 25㎚까지 포함하고, 제2 평균 반사율은 약 6% 이하를 포함하며, 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 0.5 내지 약 10의 범위에서 명암비 (제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율)를 나타낸다. 몇몇 구체 예에서, 표면 두께는 약 50㎚까지 포함하고, 제2 평균 반사율은 약 8% 이하를 포함하며, 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 0.5 내지 약 20의 범위에서 명암비 (제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율)를 나타낸다. 몇몇 구체 예에서, 표면 두께는 약 500㎚까지 포함하고, 제2 평균 반사율은 약 12% 이하를 포함하며, 및 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 0.5 내지 약 50의 범위에서 명암비 (제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율)를 나타낸다. 하나 이상의 구체 예에서, 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 10 미만의 명암비 (제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율)를 나타내고, 제1 평균 반사율 및 제2 평균 반사율은 약 0 degrees 내지 약 60 degrees의 범위 내에 입사 조명 각하에서 측정된다. 몇몇 구체 예에 의해 나타낸 명암비는, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 절대비 단위 (absolute ratio units)에서 약 1 이하의 평균 진폭을 갖는 진동 (oscillation)을 나타낼 수 있다. 다른 구체 예에서, 제1 평균 반사율 및 제2 평균 반사율은 약 0 degrees 내지 약 60 degrees의 범위 내에 입사 조명 각하에서 측정된다.
본 개시의 제2 관점은, 표면, 및 상기 표면상에 배치되어 코팅 표면을 형성하는 반사-방지 코팅을 갖는 기판을 포함하는 제품과 관련되며, 여기서 상기 코팅 표면은, 반사-방지 코팅이 공기에 침지된 경우, 제1 평균 반사율, 및 반사-방지 코팅이 지문-시뮬레이팅 매체에 침지된 경우, 제1 평균 반사율 이하 (및 약 1% 미만일 수 있음)인 제2 평균 반사율을 나타낸다. 상기 지문-시뮬레이팅 매체는 약 1.4 내지 약 1.6의 범위에서 굴절률을 포함할 수 있다.
본 개시의 제3 관점은, 표면, 및 상기 표면상에 배치되어 코팅 표면을 형성하는 반사-방지 코팅을 갖는 기판을 갖는 제품을 포함하며, 여기서 상기 제품의 코팅 표면은, 제품이 원래 그대로의 상태에 있는 경우, 약 450 내지 약 650nm의 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 약 0.6% 내지 약 6.0% 범위에서 제1 평균 반사율, 및 코팅 표면이 지문-시뮬레이팅 매체의 층을 포함하는 경우, 상기 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 약 10% 이하의 제2 평균 반사율을 나타낸다. 상기 지문 시뮬레이팅 매체의 층은 약 100㎚ 내지 약 2000nm의 범위에서 두께를 가질 수 있고, 1.4-1.6의 굴절률을 포함한다.
제2 평균 반사율 대 제1 평균 반사율의 명암비는 약 20 이하이고, 상기 비는, 상기 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 절대비 단위로 약 10 이하의 평균 진폭을 갖는 진동을 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 코팅 표면은, 지문-시뮬레이팅 매체의 층 및 가시광선 스펙트럼에 가로질러, 약 8% 절대 반사율 이하의 최대 반사율 값을 포함하고, 코팅 표면은, 지문-시뮬레이팅 매체의 층 및 가시광선 스펙트럼에 가로질러, 약 7.5% 절대 반사율 이하의 최대 진동폭을 포함하는 반사율을 포함한다.
본 개시의 제4 관점은, 기판 표면 및 상기 기판 표면상에 배치되어 코팅 표면을 형성하는 반사-방지 코팅을 포함하는 제품과 관련되며, 여기서 상기 코팅 표면은, 원래 그대로의 상태에서 광원 하에 수직 입사로부터 약 0 degrees 내지 약 75 degrees의 범위 내에 입사 조명 각을 사용하여 측정된 경우, 제1 색 좌표 (a*1, b*1), 및 코팅 표면으로부터 반사-방지 코팅의 표면 두께의 제거 후에 상기 광원 하에 입사 조명 각을 사용하여 측정된 경우, 제2 색 좌표 (a*2, b*2)를 나타낸다. 상기 입사 조명 각은 약 60 degrees일 수 있고, 상기 표면 두께는 약 0.1 내지 약 100nm의 범위일 수 있다.
색 좌표 (Δa*b*)에서 차이는 약 6 이하 또는 약 3 이하일 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 표면 두께는 약 0.1㎚ 내지 약 140㎚의 범위이다. 반사-방지 코팅은 표면상에 배치된 제1층 및 상기 제1층 상에 배치된 제2층을 가질 수 있고, 여기서 상기 제1층은 약 50㎚ 이하의 두께를 갖는 고-굴절률 물질 층을 포함한다. 또 다른 구체 예에서, 반사-방지 코팅은, 약 100㎚ 이상의 압입 깊이에 걸쳐, 여기에 정의된 바와 같은, 베르코비치 압입자 경도 시험 (Berkovitch Indenter Hardness Test)에 의해 측정된 것으로, 약 5GPa를 초과하는 경도를 갖는 경질 물질을 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 제품은, 약 100㎚ 이상의 압입 깊이에 걸쳐, 여기에 정의된 바와 같은, 베르코비치 압입자 경도 시험에 의해 측정된 것으로, 약 5GPa 이상의 경도를 나타낸다.
부가적인 특색 및 장점은 하기 상세한 설명에서 서술될 것이고, 부분적으로 하기 상세한 설명으로부터 기술분야의 당업자에게 명백하거나, 또는 하기 상세한 설명, 청구항뿐만 아니라 첨부된 도면을 포함하는, 여기에 기재된 구체 예를 실행시켜 용이하게 인지될 것이다.
전술한 배경기술 및 하기 상세한 설명 모두는 단순히 예시적인 것이고, 청구항의 본질 및 특징을 이해하기 위한 개요 또는 틀거리를 제공하도록 의도된 것으로 이해될 것이다. 수반되는 도면은 또 다른 이해를 제공하기 위해 포함되고, 본 명세서에 혼입되며, 본 명세서의 일부를 구성한다. 도면은 하나 이상의 구체 예를 예시하고, 상세한 설명과 함께 다양한 구체 예의 원리 및 작동을 설명하기 위해 제공된다.
도 1은 기판 및 반사-방지 코팅을 포함하는 공지의 제품의 측면도;
도 2는 표면 두께의 제거를 포함하는 표면 결함을 갖는 하나 이상의 구체 예에 따른 제품의 측면도;
도 3은 다-층 반사-방지 코팅 및 표면 두께의 제거를 포함하는 표면 결함을 갖는 하나 이상의 구체 예에 따른 제품의 측면도;
도 4는 오염의 부가를 포함하는 표면 결함을 갖는 하나 이상의 구체 예에 따른 제품의 측면도;
도 5a는 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 비교 예 1의 제품의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 5b는 다른 표면 두께의 제거 후에, 도 5a에 나타낸 제품의 명암비를 나타내는 그래프;
도 5c는 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 비교 예 2의 명암비를 나타내는 그래프;
도 5d는 표면 두께 제거 및 입사 조명 각의 함수에 따른, 도 5a에 나타낸 제품의 a*b*를 나타내는 그래프;
도 6a는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 실시 예 3의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 6b는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 도 6a에 나타낸 제품이 명암비를 나타내는 그래프;
도 6c는, 표면 두께 제거 및 입사 조명 각의 함수에 따른, 도 6a에 나타낸 제품의 a*b*를 나타내는 그래프;
도 7a는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 실시 예 4의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 7b는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 도 7a에 나타낸 제품이 명암비를 나타내는 그래프;
도 7c는, 다른 입사 시야각에서 원래 그대로의 상태의 모범 실시 예 4의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 7d는, 표면 두께 제거 및 입사 조명 각의 함수에 따른, 도 7a에 나타낸 제품의 a*b*를 나타내는 그래프;
도 8a는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 실시 예 5의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 8b는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 도 8a에 나타낸 제품의 명암비를 나타내는 그래프;
도 8c는, 다른 입사 시야각에서 원래 그대로의 상태의 모범 실시 예 5의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 8d는, 표면 두께 제거 및 입사 조명 각의 함수에 따른, 도 8a에 나타낸 제품의 a*b*를 나타내는 그래프;
도 9a는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 실시 예 6의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 9b는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 도 9a에 나타낸 제품의 명암비를 나타내는 그래프;
도 9c는, 다른 입사 시야각에서 원래 그대로의 상태의 모범 실시 예 6의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 9d는, 다른 입사 조명 각에서, 50㎚의 표면 두께의 제거 후에, 모범 실시 예 6의 반사율에서 변화를 나타내는 그래프;
도 9e는 도 9d에 나타낸 코팅 표면의 명암비를 나타내는 그래프;
도 9f는, 표면 두께 제거 및 입사 조명 각의 함수에 따른, 도 9a에 나타낸 제품의 a*b*를 나타내는 그래프;
도 10a는, 다른 두께를 갖는 오염물질의 첨가를 포함하는 표면 결함을 갖는 모범 비교 예 7의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 10b는, 다른 두께를 갖는 오염물질의 첨가 후에, 도 10a에 나타낸 제품의 명암비를 나타내는 그래프;
도 11a는, 다른 두께를 갖는 오염물질의 첨가를 포함하는 표면 결함을 갖는 모범 실시 예 8의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 11b는, 다른 두께를 갖는 오염물질의 첨가 후에, 도 11a에 나타낸 제품의 명암비를 나타내는 그래프;
도 12a는, 다른 두께를 갖는 오염물질의 첨가를 포함하는 표면 결함을 갖는 모범 실시 예 9의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 12b는, 다른 두께를 갖는 오염물질의 첨가 후에, 도 12a에 나타낸 제품의 명암비를 나타내는 그래프;
도 13a는, 다른 두께를 갖는 오염물질의 첨가를 포함하는 표면 결함을 갖는 모범 실시 예 10의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 13b는, 다른 두께를 갖는 오염물질의 첨가 후에, 도 13a에 나타낸 제품의 명암비를 나타내는 그래프;
도 14a는, 다른 입사 조명 각에서 모범 실시 예 11의 반사율 스펙트럼의 그래프;
도 14b는, 다른 입사 조명 각에서 및 광원 D65 및 F2 하에서 모범 실시 예 11에 대한 a* 및 b* 좌표를 나타내는 그래프;
도 15a는, 다른 입사 조명 각에서 모범 실시 예 12의 반사율 스펙트럼의 그래프; 및
도 15b는, 다른 입사 조명 각에 및 광원 D65 및 F2 하에 모범 실시 예 12에 대한 a* 및 b* 좌표를 나타내는 그래프이다.
이하 참조는 다양한 구체 예에 대해 매우 상세하게 만들어질 것이고, 이의 실시 예들은 수반되는 도면에 예시된다. 가능한 한, 동일한 참조 번호는 동일하거나 또는 유사한 부품을 나타내는 것으로 도면 도처에 사용될 것이다.
본 개시의 제1 관점은 저-명암, 반사-방지 코팅을 포함하는 제품에 관한 것이다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 제품 (100)은 적어도 하나의 기판 표면 (220) 및 상기 적어도 하나의 기판 표면상에 배치되어, 제품의 반사율을 감소시키는, 코팅 표면 (320)을 형성하는, 반사-방지 코팅 (300)을 갖는 기판 (200)을 포함한다. 다시 말해서, 코팅 표면 (320)은 낮은 반사율 또는 기판 표면 (220) 상에 배치된 반사-방지 코팅 (300)이 없는 기판 표면 (220)의 반사율 미만인 반사율을 나타낸다. 여기에 사용된 바와 같은, 용어 "반사율"은 물질 (예를 들어, 제품, 기판, 또는 광학 필름 또는 이의 일부)로부터 반사된 주어진 파장 범위 내에 입사 광 파워 (optical power)의 퍼센트로 정의된다. 반사율은 특정 선폭을 사용하여 측정된다. 하나 이상의 구체 예에서, 반사율의 특징화의 분광 해상도 (spectral resolution)는 5㎚ 또는 0.02 eV 미만이다.
여기에 기재된 평균 반사율 (%Rav1 및 %Rav2) 및 반사율 (%R1 및 %R2) 값 및 범위는, 시야각이 변화함에 따라, 코팅 표면의 반사를 감지하거나 또는 나타낸 색상을 모의실험하는, 입사 조명 각하에서 사용하여 측정될 수 있다. 상기 입사 조명 각은 약 0 degrees 내지 약 80 degrees, 약 0 degrees 내지 약 75 degrees, 약 0 degrees 내지 약 70 degrees, 약 0 degrees 내지 약 65 degrees, 약 0 degrees 내지 약 60 degrees, 약 0 degrees 내지 약 55 degrees, 약 0 degrees 내지 약 50 degrees, 약 0 degrees 내지 약 45 degrees, 약 0 degrees 내지 약 40 degrees, 약 0 degrees 내지 약 35 degrees, 약 0 degrees 내지 약 30 degrees, 약 0 degrees 내지 약 25 degrees, 약 0 degrees 내지 약 20 degrees, 약 0 degrees 내지 약 15 degrees, 약 5 degrees 내지 약 80 degrees, 약 5 degrees 내지 약 80 degrees, 약 5 degrees 내지 약 70 degrees, 약 5 degrees 내지 약 65 degrees, 약 5 degrees 내지 약 60 degrees, 약 5 degrees 내지 약 55 degrees, 약 5 degrees 내지 약 50 degrees, 약 5 degrees 내지 약 45 degrees, 약 5 degrees 내지 약 40 degrees, 약 5 degrees 내지 약 35 degrees, 약 5 degrees 내지 약 30 degrees, 약 5 degrees 내지 약 25 degrees, 약 5 degrees 내지 약 20 degrees, 약 5 degrees 내지 약 15 degrees, 및 이들 사이에 모든 범위 및 서브-범위 일 수 있다. 여기에 기재된 평균 반사율 (%Rav1 및 %Rav2) 및 반사율 (%R1 및 %R2) 값 및 범위를 측정하는데 사용된 광원은, (텅스텐-필라멘트 조명을 나타내는) A 광원, (일광 모의실험 광원) B 광원, (일광 모의실험 광원) C 광원, (천연 일광을 나타내는) D 시리즈 광원, 및 (다양한 타입의 형광을 나타내는) F 시리즈 광원을 포함하는, CIE에 의해 결정된 바와 같이 표준 광원을 포함할 수 있다.
반사-방지 코팅 (300)은, 종래의 반사-방지 코팅과 비교하여, 반사-방지 코팅에 또는 반사-방지 코팅 상에 표면 결함의 가시성 또는 명암이 감소됨에 따라, "저-명암" 코팅으로 기재될 수 있다. 명암 및 가시성은 표면 결함이 있는 및 없는 표면들 사이에 상대적인 반사율의 면에서 기재될 수 있다.
따라서, 원래 그대로의 상태에 반사-방지 코팅 및 표면 결함을 포함하는 조건을 갖는 동일한 코팅의 반사율에서 상대적인 차이는, 여기에 기재된 반사-방지 코팅의 저 명암 속성을 묘사하는데 사용될 수 있다. 구체적으로, 개별적으로 및 집합적으로 각각 표면 결함을 갖는 조건에서 및 원래 그대로의 상태에서 반사-방지 코팅의 반사율의 비 (즉, 명암비), 반사율 진동 대 파장 및 파장 대 명암비에서 진동은, 반사-방지 코팅 및 그 안에 함유된 표면 결함의 가시성 및 색상에 영향을 미친다. 이렇게 반사율 및 명암비에서 더 낮은 또는 더 작은 진동 및 더 작은 명암비는, 표면 결함의 가시성을 낮추는 데 기여한다. 이러한 표면 결함은, 종종 결함 크기 및 형태에 기인한 광 산란을 생성할 수 있고; 하나 이상의 구체 예의 반사-방지 코팅의 성능은 일반적으로, 여기에 기재된 다른 광학 거동과 관계없이, 산란 효과를 무시한다. 표면 결함으로부터 광 산란의 존재에서도, 여기에 기재된 반사-방지 코팅 구체 예의 광학 성능은, 표면 결함의 가시성을 상당히 감소시킨다.
하나 이상의 구체 예에서, 코팅 표면 (320)은, 코팅 표면이 원래 그대로의 상태에 있는 경우, 가시광선 스펙트럼의 적어도 일부에 걸쳐 제1 평균 반사율 (%Rav1) 또는 제1 반사율 (%R1) 및 코팅 표면이, 여기에 기재된 바와 같은, 표면 결함 (340)을 포함하는 경우, 가시광선 스펙트럼의 적어도 일부에 걸쳐 제2 평균 반사율 (%Rav2) 또는 제2 반사율 (%R2)을 나타낸다. %R1과 %R2 사이 및 %Rav1과 %Rav2 사이에서 상대적인 차이는, 공지의 코팅과 비교한 경우 감소한다. 여기에 사용된 바와 같은, 문구 "가시광선 스펙트럼"은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 또는 약 450㎚ 내지 약 650㎚의 범위에 따라서 파장을 포함한다. 여기에 기재된 반사율 값 또는 범위는, 가시광선 스펙트럼의 일부에 따라 또는 가시광선 스펙트럼을 가로지른 것이 될 수 있다. 가시광선 스펙트럼의 일부는, 가시광선 스펙트럼 내에 약 100㎚ 또는 200㎚의 폭 (예를 들어, 약 400㎚ 내지 약 500㎚, 또는 약 450㎚ 내지 약 650㎚)일 수 있는, "파장 폭"으로 기재될 수 있다.
하나 이상의 특정 구체 예에서, 표면 결함 (340)은, 도 2에 나타낸 바와 같이, 약 25㎚ 이상의 코팅 표면으로부터 반사-방지 코팅의 표면 두께 (360)의 제거를 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 상기 표면 두께는 약 25㎚ 내지 약 500㎚의 범위일 수 있다. 예를 들어, 상기 표면 두께는, 약 25㎚ 내지 약 450㎚, 약 25㎚ 내지 약 400㎚, 약 25㎚ 내지 약 350㎚, 약 25㎚ 내지 약 300㎚, 약 25㎚ 내지 약 250㎚, 약 25㎚ 내지 약 200㎚, 약 25㎚ 내지 약 150㎚, 약 25㎚ 내지 약 100㎚, 약 50㎚ 내지 약 500㎚, 약 75㎚ 내지 약 500㎚, 약 100㎚ 내지 약 500㎚, 약 150㎚ 내지 약 500㎚, 약 200㎚ 내지 약 500㎚, 약 250㎚ 내지 약 500㎚, 또는 약 300㎚ 내지 약 500㎚ 범위일 수 있다.
몇몇 구체 예에서, 상기 반사-방지 코팅은, 표면 두께를 초과하는 두께를 포함한다. 표면 두께의 제거는, 그 제거 구역에 표면 결함 (340)을 형성하지만, 반면에 잔여 코팅 표면 (320)은 표면 결함이 존재하지 않기 때문에 원래 그대로의 상태를 형성할 수 있다.
몇몇 구체 예에서, 도 3에 나타낸 바와 같이, 반사-방지 코팅 (300)은, 제1층 (311)이 기판 표면 (220) 상에 배치되고, 제2층 (312)이 상기 제1층 (311) 상에 배치되도록, 적어도 두 층을 포함하는 다-층 코팅을 포함하다. 상기 제2층 (312)은 표면 두께 (360) 미만인 층 두께 (314)를 가질 수 있다. 다시 말해서, 표면 두께 (360)는, 상기 표면 두께 (360)의 제거가 코팅 표면 (320)으로부터 제2층 (312)의 적어도 일부의 제거를 포함하도록, 제2층 (312)의 층 두께 (314) 이상이다. 이러한 구체 예에서, 코팅 표면 (320)은, 원래 그대로의 상태를 제공할 수 있는, 제2층으로부터 형성된 구역, 및 표면 결함 (340)을 포함하는, 제1층 (311)으로부터 형성된 구역을 포함한다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 하나 이상의 구체 예의 표면 결함 (340)은, 반사-방지 코팅 (300)의 코팅 표면 (320)에 오염물질 (365) 또는 물질의 첨가 (예를 들어, 지문, 지문 잔류물, 또는 지문-시뮬레이팅 매체 또는 매개체)를 포함할 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 오염물질 (365)은 약 100㎚ 내지 약 2000nm의 범위에서 두께를 갖는 평면 층으로 존재할 수 있다. 특정 구체 예에서, 상기 두께는 지문 유적 (droplet)을 모의실험하기 위해 의도된다. 상기 오염물질은 지문 잔류물에 함유된 오일을 모의실험하기 위해 약 1.4 내지 약 1.6의 범위, 또는 약 1.49인 굴절률을 가질 수 있다. 몇몇 구체 예에서, %R1 및/또는 %Rav1, 및 %R2 및/또는 %Rav2은, 반사율을 측정하는데 사용된 동일한 기술을 사용하여 측정될 수 있고, 여기서 상기 표면 결함은 오염물질의 첨가 또는 표면 두께의 제거를 포함한다. 오염물질의 첨가를 포함하는 표면 결함을 갖는 다른 구체 예에서, %R1 및/또는 %Rav1은, 반사-방지 코팅이 공기 내에 또는 둘러싸인 또는 침지된 상태인 경우, 측정되거나 또는 모델링될 수 있다 (즉, 공기/반사-방지 코팅 계면에서 %R1 및/또는 %Rav1은, 반사율 측정 시스템에 의해 포획된다). 이러한 구체 예에서, %R2 및/또는 %Rav2은, 반사-방지 코팅이 오염물질 내에 또는 둘러싸인 또는 침지된 상태인 경우, 측정되거나 또는 모델링될 수 있다 (즉, 공기/오염물질 계면에서 %R2 및/또는 %Rav2은, 반사율 측정 시스템에 의해 포획되지만, 시스템에서 어떤 공기 계면으로부터 반사율은 제거되거나 또는 공제된다). 검출기 또는 측정 시스템 렌즈는, 제품의 코팅 표면을 또한 둘러싸는 오염 물질 욕조와 접촉될 수 있다.
하나 이상의 구체 예에서, %Rav2는 %Rav1 이하일 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, %Rav1는 전체 가시광선 스펙트럼 또는 가시광선 스펙트럼의 적어도 일부에 걸쳐, 약 0.5% 내지 약 7%, 또는 약 0.6% 내지 약 6.0%의 범위일 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, %Rav2는, 전체 가시광선 스펙트럼 또는 가시광선 스펙트럼의 적어도 일부에 걸쳐, 약 10% 이하 (예를 들어, 약 8% 이하, 약 6% 이하, 약 5% 이하, 약 4% 이하, 약 3% 이하, 또는 약 2% 이하) 또는 약 0.1% 내지 약 8%의 범위일 수 있다. 표면 결함이 오염물질의 첨가를 포함하는 경우, %Rav2는, 가시광선 스펙트럼의 적어도 일부를 가로질러, 약 2% 이하, 1% 이하, 또는 약 0.5% 이하일 수 있다.
%R1 및 %R2 중 적어도 하나는, 반사율이 측정되는 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 진동을 나타낼 수 있다. %R1 및 %R2 중 적어도 하나는, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 2% 절대 반사율 이하의 평균 진동폭을 포함할 수 있다. 여기에 사용된 바와 같은, 용어 "진폭"은 가시광선 스펙트럼 또는 주어진 파장 폭에 걸쳐 반사율 (또는 투과율)에 고-저-간 변화를 포함한다. 문구 "평균 진동폭"은, 가시광선 스펙트럼 내에 또는 주어진 파장 폭에 걸쳐 매 가능한 100㎚ 파장 범위에 걸쳐 평균을 낸 반사율 또는 투과율에서 고-저-간 변화를 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 평균 진동폭은, 전체 가시광선 스펙트럼 또는 약 100㎚의 주어진 파장 폭에 걸쳐, 절대 반사율 면에서, 약 1.75% 이하, 약 1.5% 이하, 약 1% 이하, 약 0.75% 이하, 약 0.5% 이하, 약 0.25% 이하, 또는 약 0.1% 이하일 수 있다. 몇몇 경우에서, 평균 진동폭의 하한은 약 0.1%일 수 있다. 따라서, %R1 및 %R2 중 적어도 하나의 평균 진동폭은, 전체 가시광선 스펙트럼 또는 약 100㎚의 주어진 파장 폭에 걸쳐, 절대 반사율 면에서, 약 0.1% 내지 약 2%의 범위일 수 있다. 진동의 정도는 또한, 가시광선 스펙트럼에 가로질러, 또는 주어진 파장 폭에 걸쳐, 평균 반사율 또는 투과율 값에 비례하는 퍼센트의 면에서 기재될 수 있다. 예를 들어, %R1 및 %R2 중 적어도 하나는, 가시광선 스펙트럼 또는 주어진 파장 폭에 걸쳐, 평균 반사율 값에 비례하여, 약 30% 미만, 약 20% 미만 또는 약 10% 미만의 반사율 진동을 나타낼 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, 표면 결함이 오염물질의 첨가를 포함하는 경우, 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼을 가로질러 약 8% 이하의 최대 반사율 값을 나타내고, 및 선택적으로 가시광선 스펙트럼에 가로질러, 약 7.5% 절대 반사율 이하 (예를 들어, 약 6%, 5%, 또는 약 4% 절대 반사율 이하)의 최대 진동폭을 포함한다.
하나 이상의 구체 예에서, 코팅 표면은, %Rav2 및 %Rav1이 동일한 입사 조명 각에서 측정되는 전제하에서, 가시광선 스펙트럼 또는 주어진 파장 폭에 걸쳐, 제2 평균 반사율 대 제1 평균 반사율 (%Rav2 : %Rav1)의 비로 측정된 명암비를 포함한다. 하나 이상의 구체 예에서, 상기 명암비는 약 0.5 내지 약 50 범위일 수 있다. 예를 들어, 상기 명암비는, 약 0.5 내지 약 45, 약 0.5 내지 약 40, 약 0.5 내지 약 35, 약 0.5 내지 약 30, 약 0.5 내지 약 25, 약 0.5 내지 약 20, 약 0.5 내지 약 15, 약 0.5 내지 약 10, 약 0.5 내지 약 8, 약 0.5 내지 약 6, 또는 약 0.5 내지 약 5의 범위일 수 있다. 비교를 위해, 제거된 약 25㎚ 내지 약 500㎚ 표면 두께의 표면 결함을 갖는, 공지의 반사-방지 표면은, 통상적으로 약 100 이상의 명암비를 나타낸다. 몇몇 경우에서, 반사-방지 코팅의 명암비는 표면 결함과 관련될 수 있다. 예를 들어, 표면 결함이 약 25㎚까지의 표면 두께 제거를 포함하는 경우, 명암비는 약 10 이하, 약 5 이하 또는 약 2 이하 (하한은 약 0.5)일 수 있고; 및 %Rav2는 약 6% 이하, 4% 이하, 또는 3% 이하일 수 있다. 또 다른 실시 예에서, 표면 결함이 약 50㎚까지의 표면 두께 제거를 포함하는 경우, 명암비는 약 20 이하, 10 이하, 약 5 이하, 약 3 이하, 또는 약 2 이하 (하한은 약 0.5)일 수 있고; 및 %Rav2은 약 8% 이하, 약 6% 이하, 또는 약 5% 이하일 수 있다. 또 다른 구체 예에서, 표면 결함이 약 100㎚까지의 표면 두께 제거를 포함하는 경우, 명암비는 약 50 이하, 20 이하, 10 이하, 약 5 이하, 또는 약 3 이하 (하한은 약 0.5)일 수 있고; 및 %Rav2는 약 12% 이하, 약 8% 이하, 약 7% 이하, 또는 약 6% 이하일 수 있다. 또 다른 실시 예에서, 표면 결함이 약 500㎚까지 표면 두께 제거를 포함하는 경우, 명암비는 약 50 이하, 20 이하, 10 이하, 약 5 이하, 또는 약 3 이하 (하한은 약 0.5)일 수 있고; 및 %Rav2는 약 12% 이하일 수 있다. 표면 결함이 오염물질의 첨가를 포함하는 구체 예에서, 명암비는 약 20 이하, 약 10 이하, 약 8 이하, 약 6 이하, 약 5 이하, 약 4 이하, 약 3 이하, 약 2 이하 (하한은 약 0.5)일 수 있다. 이러한 명암비 및/또는 %Rav2 값은 약 400㎚ 내지 약 700㎚, 또는 약 450㎚ 내지 약 650㎚의 범위에서 가시광선 스펙트럼을 따를 수 있다.
하나 이상의 구체 예에서, 코팅 표면의 명암비는 진동을 나타낼 수 있다. 표면 결함이 표면 두께의 제거를 포함하는 몇몇 구체 예에서, 명암비는, 가시광선 스펙트럼 또는 주어진 파장 폭에 걸쳐, 절대비 단위에서, 약 2 이하, 약 1 이하 또는 약 0.5 이하의 평균 진동폭을 갖는다. 표면 결함이 오염물질의 첨가를 포함하는 몇몇 구체 예에서, 명암비는, 가시광선 스펙트럼 또는 주어진 파장 폭에 걸쳐, 절대비 단위에서 약 10 이하, 약 7 이하 또는 약 5 이하의 평균 진동폭을 갖는다.
하나 이상의 구체 예의 반사-방지 코팅 (300)의 성능은 제품의 반사율 또는 투과율에서 변화의 면에서 기재될 수 있다. 색상은 International Commission on Illumination ("CIE") L*, a*, b* 색 측정 시스템 (colorimetry system)하에서 색상 값 또는 좌표 (a*, b*)에 의해 나타낼 수 있다. 색상에서 변화는, 코팅 표면의 a* 및 b* 좌표를 사용하여, 다음 수학식 √((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)에 의해 결정된 바와 같은 색 변이 (color shift)으로 기재될 수 있다. 좌표 a*1, 및 b*1은, 1) 코팅 표면이 원래 그대로 있는 구역 또는 원래 그대로의 상태에 코팅 표면의 색 좌표; 2) (0,0); 3) 기준 색 좌표일 수 있다. 좌표 a*2, 및 b*2는 표면 결함의 형성 후에 또는 표면 결함을 포함하는 구역에서 코팅 표면의 색 좌표일 수 있다. 색 좌표 (a*1, b*1) 및 (a*2, b*2)를 측정하는 경우, 입사 조명 각 및 광원은 동일하다. 몇몇 구체 예에서, 상기 색 변이는 Δa*b*로 기재될 수 있고, 여기에 기재된 입사 조명 각 (예를 들어, 약 0 degrees 내지 약 75 degrees, 약 0 degrees 내지 약 30 degrees 또는 약 30 degrees 내지 약 75 degrees)에서 및 여기에 기재된 광원하에서 약 6 이하 일 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 상기 색 변이는 약 5.5 이하, 약 5 이하, 약 4.5 이하, 약 4 이하, 약 3.5 이하, 약 3 이하, 약 2.5 이하, 약 2 이하, 약 1.9 이하, 1.8 이하, 1.7 이하, 1.6 이하, 1.5 이하, 1.4 이하, 1.3 이하, 1.2 이하, 1.1 이하, 1 이하, 0.9 이하, 0.8 이하, 0.7 이하, 0.6 이하, 0.5 이하, 0.4 이하, 0.3 이하, 0.2 이하, 또는 0.1 이하일 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 상기 색 변이는 약 0일 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 코팅 표면은, 표면 결함이 약 0.1㎚ 내지 약 200㎚, or from 약 0.1㎚ 내지 약 150㎚, 또는 약 0.1㎚ 내지 약 140㎚ 범위에서 표면 두께의 제거를 포함하는 경우, 이러한 색 변이 범위를 나타낸다. 하나 이상의 특정 구체 예에서, 입사 조명 각이 약 60 degrees이고, 표면 두께가 약 0.1 내지 약 100nm 범위인 경우, 상기 색 변이는 약 3 이하이다.
하나 이상의 구체 예에서, 반사-방지 코팅은 한 층 이상을 포함할 수 있다. 몇몇 경우에서, 반사-방지 코팅은, 기판 표면 (220) 상에 배치된 제1층 (311) 및 상기 제1층 상에 배치된 제2층 (312)을 포함할 수 있고, 여기서 상기 제1층 (311)은 (예를 들어, 상기 제2층 (312)의 굴절률을 초과하는 굴절률을 갖는) 고 굴절률 물질을 포함한다. 몇몇 경우에서, 상기 제1층 (311)은 약 50㎚ 이하의 두께를 가질 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 고 굴절률 물질을 포함하는 반사-방지 코팅의 하나 이상 또는 모든 층은 약 100㎚ 이하 또는 약 50㎚ 이하의 두께를 가질 수 있다.
반사-방지 코팅 (300) 및/또는 제품 (100)은 베르코비치 압입자 경도 시험에 의해 측정된 경도 면에서 기재될 수 있다. 여기에 사용된 바와 같은, "베르코비치 압입자 경도 시험"은 다이아몬드 베르코비치 압입자로 표면을 압입하여 물질의 표면상에 물질의 경도를 측정하는 단계를 포함한다. 상기 베르코비치 압입자 경도 시험은, 일반적으로 Oliver, W.C.; Pharr, G. M. An improved technique for determining hardness and elastic modulus using load and displacement sensing indentation experiments. J. Mater. Res., Vol. 7, No. 6, 1992, 1564-1583; 및 Oliver, W.C.; Pharr, G.M. Measurement of Hardness and Elastic Modulus by Instrument Indentation: Advances in Understanding and Refinements to Methodology. J. Mater. Res., Vol. 19, No. 1, 2004, 3-20에서 서술된 방법을 사용하여, 다이아몬드 베르코비치 압입자로 반사-방지 코팅의 표면 (또는 여기에 기재된 바와 같은, 반사-방지 코팅 중 어떤 하나 이상의 층의 표면) 또는 제품의 코팅 표면 (320)을 압입하여, 약 약 50㎚ 내지 약 1000㎚의 범위 (또는 반사-방지 코팅 또는 층의 전체 두께 중 더 작은 두께)의 압입 깊이로 압흔을 형성하는 단계 및 이 압입 깊이의 세그먼트 또는 전체 압입 깊이 범위 (예를 들어, 약 100㎚ 내지 약 600㎚의 범위)를 따라 이 압입으로부터 최대 경도를 측정하는 단계를 포함한다. 여기에 사용된 바와 같은, 경도는 최대 경도를 나타내고, 평균 경도는 아니다.
몇몇 구체 예에서, 반사-방지 코팅 (300)은 베르코비치 압입자 경도 시험에 의해, 코팅 표면 (320)에 대해 측정된 것으로, 약 5GPa를 초과하는 경도를 나타낼 수 있다. 반사-방지 코팅은 약 8GPa 이상, 약 10GPa 이상 또는 약 12GPa 이상의 경도를 나타낼 수 있다. 여기에 기재된 바와 같은, 반사-방지 코팅 (300) 및 어떤 부가적 코팅을 포함하는, 제품 (100)은, 베르코비치 압입자 경도 시험에 의해, 코팅 표면 (320)에 대해 측정된 것으로, 약 5GPa 이상, 약 8GPa 이상, 약 10GPa 이상 또는 약 12GPa 이상의 경도를 나타낼 수 있다. 이러한 측정된 경도 값은, 약 50㎚ 이상 또는 약 100㎚ 이상 (예를 들어, 약 100㎚ 내지 약 300㎚, 약 100㎚ 내지 약 400㎚, 약 100㎚ 내지 약 500㎚, 약 100㎚ 내지 약 600㎚, 약 200㎚ 내지 약 300㎚, 약 200㎚ 내지 약 400㎚, 약 200㎚ 내지 약 500㎚, 또는 약 200㎚ 내지 약 600㎚)의 압입 깊이에 따라 반사-방지 코팅 (300) 및/또는 제품 (100)에 의해 나타낼 수 있다.
반사-방지 코팅 (300)은, 베르코비치 압입자 경도 시험에 의해 측정된 것으로, 약 5GPa 이상, 8GPa 이상, 10GPa 이상, 12GPa 이상, 약 13GPa 이상, 약 14GPa 이상, 약 15GPa 이상, 약 16GPa 이상, 약 17GPa 이상, 약 18GPa 이상, 약 19GPa 이상, 약 20GPa 이상, 약 22GPa 이상, 약 23GPa 이상, 약 24GPa 이상, 약 25GPa 이상, 약 26GPa 이상, 또는 약 27GPa 이상 (약 50GPa까지)의 이러한 층의 표면상에 측정된 바와 같은 경도를 갖는 적어도 한 층을 가질 수 있다. 이러한 층의 경도는, 베르코비치 압입자 경도 시험에 의해 측정된 것으로, 약 18GPa 내지 약 21GPa 범위일 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 반사-방지 코팅은, 여기에 정의된 바와 같이, 베르코비치 압입자 경도 시험에 의해 측정된 것으로, 약 5GPa 초과 (예를 들어, 약 10GPa 이상, 약 15GPa 이상, 또는 약 20GPa 이상)의 평균 경도를 갖는 경질 물질을 포함한다. 상기 경질 물질은 반사-방지 코팅의 모든 층 또는 반사-방지 코팅의 하나 이상의 특정 층에 존재할 수 있다. 몇몇 경우에서, 반사-방지 코팅은, 경질 물질을 포함하는 약 1㎛ 이상, 또는 약 2㎛ 이상의 두께를 갖는 층을 포함할 수 있다. 이러한 측정된 경도 값은, 약 50㎚ 이상 또는 100㎚ 이상 (예를 들어, 약 100㎚ 내지 약 300㎚, 약 100㎚ 내지 약 400㎚, 약 100㎚ 내지 약 500㎚, 약 100㎚ 내지 약 600㎚, 약 200㎚ 내지 약 300㎚, 약 200㎚ 내지 약 400㎚, 약 200㎚ 내지 약 500㎚, 또는 약 200㎚ 내지 약 600㎚)의 압입 깊이에 따라 적어도 한 층에 의해 나타낼 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, 제품은 (코팅 표면으로부터 반대 표면상에서 측정될 수 있는) 기판의 경도를 초과하는 경도를 나타낸다.
하나 이상의 구체 예에서, 반사-방지 코팅 (300) 또는 상기 반사-방지 코팅 내에 개별 층은, 베르코비치 압입자로 표면을 압입하여, 코팅 표면 (320) 상에 측정된 것으로, 약 75GPa 이상, 약 80GPa 이상 또는 약 85GPa 이상의 탄성 계수 (elastic modulus)를 나타낼 수 있다. 이들 모듈러스 값은 코팅 표면 (101)에 매우 가깝게, 예를 들어, 0-50㎚의 압입 깊이에서 측정된 모듈러스를 나타낼 수 있거나, 또는 이것은 더 깊은 압입 깊이에, 예를 들어, 약 50-1000nm에서 측정된 모듈러스를 나타낼 수 있다.
반사-방지 코팅은, 2014년 4월 25일자에 출원된, 발명의 명칭이 "Scratch-Resistant Articles with a Gradient Layer"인 미국 특허출원 제14/262,224호에 기재된 바와 같이, 이의 두께의 적어도 일부에 따라 굴절률 구배를 포함할 수 있고, 상기 특허의 전체적인 내용은 참조로서 여기에 혼입된다. 구체적으로, 상기 반사-방지 코팅은 (기판 표면 (220)에 인접한) 제1표면으로부터 제2표면 (즉, 코팅 표면)으로 증가하는 굴절률을 포함할 수 있다. 상기 굴절률은 약 0.2/㎛ 내지 약 0.5/㎛ 범위의 평균율에서 굴절률 구배를 따라 증가할 수 있고, 약 1.5 내지 약 2.0의 범위일 수 있다. 상기 반사-방지 코팅은 Si, Al, N, 및 O 중 적어도 둘을 포함하는 조성 구배 (compositional gradient)를 포함할 수 있다.
다른 구체 예에서, 반사-방지 코팅은, 2014년 4월 25일자에 출원된, 발명의 명칭이 "Low-Color Scratch-Resistant Articles with a Multilayer Optical Film"인 미국 특허출원 제14/262,066호에 기재된 바와 같이, 다른 및 선택적으로 교호하는 굴절률을 갖는 하나 이상의 층을 포함할 수 있고, 상기 특허의 전체적인 내용은 참조로서 여기에 혼입된다. 구체적으로, 상기 반사-방지 코팅은 제1 저 굴절률 (RI) 서브-층 및 제2 고 RI 서브-층을 포함할 수 있다. 선택적인 제3 서브-층은 또한 포함될 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, 상기 반사-방지 코팅은 다수의 서브-층 세트를 포함할 수 있다. 단일 서브-층 세트는 제1 저 RI 서브-층, 제2 고 RI 서브-층 및 선택적으로, 제3 서브-층을 포함할 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 상기 반사-방지 코팅은, (예시를 위해 "L"로 지명된) 제1 저 RI 서브-층 및 (예시를 위해 "H"로 지명된) 제2 고 RI 서브-층이 다음의 서브-층의 순서: L/H/L/H 또는 H/L/H/L를 제공할 수 있어, 상기 제1 저 RI 서브-층 및 제2 고 RI 서브-층이 광학 간섭 층의 물리적 두께에 따라 교대로 나타나도록, 다수의 서브-층 세트를 포함할 수 있다. 몇몇 실시 예에서, 상기 반사-방지 코팅은 3 서브-층 세트 또는 10까지의 서브-층 세트를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 반사-방지 코팅은 약 2 내지 약 12 서브-층 세트, 약 3 내지 약 8 서브-층 세트, 약 3 내지 약 6 서브-층 세트를 포함할 수 있다. 몇몇 실시 예에 사용된 제3 서브-층(들)은 저 RI, 고 RI 또는 중간 RI를 가질 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 상기 제3 서브-층(들)은 제1 저 RI 서브-층 또는 제2 고 RI 서브-층과 같은 RI를 가질 수 있다. 다른 구체 예에서, 상기 제3 서브-층(들)은 제1 저 RI 서브-층의 RI와 제2 고 RI 서브-층의 RI 사이에 있는 중간 RI를 가질 수 있다. 상기 제3 서브-층(들)은 다수의 서브-층 세트와 (여기에 기재되는 바와 같은) 기능성 코팅 (도시되지 않음) 사이 또는 기판과 다수의 서브-층 세트 (도시되지 않음) 사이에 배치될 수 있다. 선택적으로, 상기 제3 서브-층은 다수의 서브-층 세트 (도시되지 않음)에 포함될 수 있다. 제3 서브-층은 다음의 대표적인 배열에서 반사-방지 코팅에 제공될 수 있다: L제3 서브-층/H/L/H/L; H제3 서브-층/L/H/L/H; L/H/L/H/L제3 서브-층; H/L/H/L/H제3 서브-층; L제3 서브-층/H/L/H/L/H제3 서브- 층; H제3 서브-층/L/H/L/H/L제3 서브-층; L제3 서브-층/ L/H/L/H; H제3 서브-층/ H/L/H/L; H/L/H/ L/L제3 서브-층; L/H/L/ H/H제3 서브-층; L제3 서브-층/L/H/L/H/H제3 서브-층; H제3 서브-층//H/L/H/L/L제3 서브-층; L/M/H/L/M/H; H/M/L/H/M/L; M/L/H/L/M; 및 다른 조합. 이들 배열에서, 아래 첨자가 없는 "L"은 제1 저 RI 서브-층을 의미하고, 아래 첨가가 없는 "H"는 제2 고 RI 서브-층을 의미한다. "L제3 서브-층"에 대한 기준은 저 RI를 갖는 제3 서브-층을 의미하고, "H제3 서브-층"은 고 RI를 갖는 제3 서브-층을 의미하며, "M"은 중간 RI를 갖는 제3 서브-층을 의미한다.
여기에 사용된 바와 같은, 용어 "저 RI", "고 RI" 및 "중간 RI"은 다른 RI에 대한 상대 값을 의미한다 (예를 들어, 저 RI < 중간 RI < 고 RI). 하나 이상의 구체 예에서, 용어 "저 RI"는, 제1 저 RI 서브-층 또는 제3 서브-층과 함께 사용된 경우, 약 1.3 내지 약 1.7의 범위를 포함한다. 하나 이상의 구체 예에서, 용어 "고 RI"는, 제2 고 RI 서브-층 또는 제3 서브-층과 함께 사용된 경우, 약 1.6 내지 약 2.5의 범위를 포함한다. 몇몇 구체 예에서, 용어 "중간 RI"는, 제3 서브-층과 함께 사용된 경우, 약 1.55 내지 약 1.8의 범위를 포함한다. 몇몇 경우에서, 저 RI, 고 RI 및 중간 RI에 대한 범위는 중첩될 수 있다; 그러나, 대부분의 경우에서, 광학 간섭 층의 서브-층은: 저 RI < 중간 RI < 고 RI의 RI을 고려하는 일반적인 관계를 갖는다.
반사-방지 코팅에 사용하는데 적절한 대표적인 물질은: SiO2, Al2O3, GeO2, SiO, AlOxNy, AlN, SiNx, SiOxNy, SiuAlvOxNy, Ta2O5, Nb2O5, TiO2, ZrO2, TiN, MgO, MgF2, BaF2,CaF2, SnO2, HfO2, Y2O3, MoO3, DyF3, YbF3, YF3, CeF3, 고분자, 불소 중합체 (fluoropolymers), 플라즈마-중합 고분자 (plasma-polymerized polymers), 실록산 중합체 (siloxane polymers), 실세스퀴녹산, 폴리이미드, 불소화 폴리이미드 (fluorinated polyimides), 폴리에테르이미드 (polyetherimide), 폴리에테르설폰 (polyethersulfone), 폴리페닐설폰 (polyphenylsulfone), 폴리카보네이트 (polycarbonate), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (polyethylene terephthalate), 폴리에틸렌 나프탈레이트 (polyethylene naphthalate), 아크릴 고분자 (acrylic polymers), 우레탄 고분자 (urethane polymers), 폴리메틸메타아크릴레이트 (polymethylmethacrylate), 내-스크래치성 층에 사용하기에 적절한 이하 인용된 다른 물질 및 기술분야에 알려진 다른 물질을 포함한다. 제1 저 RI 서브-층에 사용하는데 적합한 물질의 몇몇 예로는 SiO2, Al2O3, GeO2, SiO, AlOxNy, SiOxNy, SiuAlvOxNy, MgO, MgF2, BaF2, CaF2, DyF3, YbF3, YF3, 및 CeF3를 포함한다. 제2 고 RI 서브-층에 사용하기 위해 적합한 물질의 몇몇 예로는, SiuAlvOxNy, Ta2O5, Nb2O5, AlN, Si3N4, AlOxNy, SiOxNy, HfO2, TiO2, ZrO2, Y2O3, Al2O3, 및 MoO3를 포함한다.
하나 이상의 구체 예에서, 서브-층(들)의 적어도 하나는 특정 광학 두께 범위를 포함할 수 있다. 여기에 사용된 바와 같은, 용어 "광학 두께"는 (n*d)에 의해 결정되고, 여기서 "n"은 서브-층의 RI를 의미하며, "d"는 서브-층의 물리적 두께를 의미한다. 하나 이상의 구체 예에서, 반사-방지 코팅의 서브-층들 중 적어도 하나는 약 2㎚ 내지 약 200㎚, 약 10㎚ 내지 약 100㎚, 또는 약 15㎚ 내지 약 100㎚의 범위에서 광학 두께를 포함할 수 있다. 몇몇 구체 예에서, 반사-방지 코팅에서 모든 서브-층은 약 2㎚ 내지 약 200㎚, 약 10㎚ 내지 약 100㎚, 또는 약 15㎚ 내지 약 100㎚의 범위에서 광학 두께를 각각 가질 수 있다. 몇몇 경우에서, 반사-방지 코팅의 적어도 하나의 서브-층은 약 50㎚ 이상의 광학 두께를 갖는다. 몇몇 경우에서, 각각의 제1 저 RI 서브-층은 약 2㎚ 내지 약 200㎚, 약 10㎚ 내지 약 100㎚, 또는 약 15㎚ 내지 약 100㎚의 범위에서 광학 두께를 갖는다. 다른 경우에서, 각각의 제2 고 RI 서브-층은 약 2㎚ 내지 약 200㎚, 약 10㎚ 내지 약 100㎚, 또는 약 15㎚ 내지 약 100㎚의 범위에서 광학 두께를 갖는다. 또 다른 경우에서, 각각의 제3 서브-층은 약 2㎚ 내지 약 200㎚, 약 10㎚ 내지 약 100㎚, 또는 약 15㎚ 내지 약 100㎚의 범위에서 광학 두께를 갖는다.
하나 이상의 구체 예에서, 반사-방지 코팅은 약 800㎚ 이하의 물질적 두께를 갖는다. 상기 반사-방지 코팅은 약 10㎚ 내지 약 800㎚, 약 50㎚ 내지 약 800㎚, 약 100㎚ 내지 약 800㎚, 약 150㎚ 내지 약 800㎚, 약 200㎚ 내지 약 800㎚, 약 10㎚ 내지 약 750㎚, 약 10㎚ 내지 약 700㎚, 약 10㎚ 내지 약 650㎚, 약 10㎚ 내지 약 600㎚, 약 10㎚ 내지 약 550㎚, 약 10㎚ 내지 약 500㎚, 약 10㎚ 내지 약 450㎚, 약 10㎚ 내지 약 400㎚, 약 10㎚ 내지 약 350㎚, 약 10㎚ 내지 약 300㎚, 약 50㎚ 내지 약 300㎚의 범위, 및 이들 사이에 모든 범위 및 서브-범위에서 물리적 두께를 가질 수 있다.
기판 (200)은, 비결정질 기판, 결정질 기판 또는 이의 조합을 포함할 수 있다. 상기 기판 (200)은 인공 물질 및/또는 자연적으로 발생하는 물질 (예를 들어, 석영 및 고분자)로 형성될 수 있다. 몇몇 특정 구체 예에서, 기판 (200)은 구체적으로 플라스틱 및/또는 금속 기판을 배제할 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, 상기 기판은 약 1.45 내지 약 1.55의 범위에서 굴절률을 나타낸다. 특정 구체 예에서, 상기 기판 (200)은 적어도 5, 적어도 10, 적어도 15 또는 적어도 20 샘플을 사용한, 볼-온-링 시험 (ball-on-ring testing)을 사용하여 측정된 것으로, 0.5% 이상, 0.6% 이상, 0.7% 이상, 0.8% 이상, 0.9% 이상, 1% 이상, 1.1% 이상, 1.2% 이상, 1.3% 이상, 1.4% 이상 1.5% 이상 또는 2% 이상인 하나 이상의 대립 주 표면상에 표면에서 평균 파괴변형율 (strain-to-failure)을 나타낼 수 있다. 특정 구체 예에서, 상기 기판 (200)은 약 1.2%, 약 1.4%, 약 1.6%, 약 1.8%, 약 2.2%, 약 2.4%, 약 2.6%, 약 2.8%, 또는 약 3% 이상의 하나 이상의 대립 주 표면상에 이의 표면에서 평균 파괴변형율을 나타낼 수 있다. 적절한 기판 (200)은 약 30GPa 내지 약 120GPa의 범위에서 탄성 모듈러스 (elastic modulus) (또는 영률)를 나타낼 수 있다.
하나 이상의 구체 예에서, 비결정질 기판은 강화되거나 또는 비-강화될 수 있는, 유리를 포함할 수 있다. 적절한 유리의 예로는 소다 라임 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 알칼리 함유 보로실리케이트 유리 및 알칼리 알루미노보로실리케이트 유리를 포함한다. 몇몇 변형에서, 상기 유리는 산화리튬 (lithia)이 없을 수 있다. 하나 이상의 선택적인 구체 예에서, 상기 기판 (200)은 (강화되거나 또는 비-강화될 수 있는) 유리 세라믹 기판과 같은 결정질 기판을 포함할 수 있거나 또는 사파이어와 같은, 단결정 구조를 포함할 수 있다. 하나 이상의 특정 구체 예에서, 상기 기판 (200)은 비결정질 베이스 (예를 들어, 유리) 및 결정질 클래딩 (예를 들어, 사파이어층, 다결정질 알루미나층 및/또는 스피넬 (MgAl2O4) 층)을 포함한다.
기판 (200)은, 비록 다른 구체 예가 곡면 또는 그렇지 않으면 형상화된 또는 형태화된 기판을 활용할 수 있을지라도, 실질적으로 평면 또는 시트-형일 수 있다. 상기 기판 (200)은 실질적으로 광학적으로 맑고, 투명하며 및 광 산란이 없을 수 있다. 이러한 구체 예에서, 상기 기판은 약 85% 이상, 약 86% 이상, 약 87% 이상, 약 88% 이상, 약 89% 이상, 약 90% 이상, 약 91% 이상 또는 약 92% 이상의 광학 파장 레짐에 걸쳐 평균 광 투과율을 나타낼 수 있다.
부가적으로 또는 선택적으로, 기판 (200)의 물리적 두께는 미관상 및/또는 기능상 이유 때문에 하나 이상의 이의 치수에 따라 변화될 수 있다. 예를 들어, 상기 기판 (200)의 에지는 기판 (200)의 좀 더 중심 영역과 비교하여 더 두꺼울 수 있다. 상기 기판 (200)의 길이, 폭, 및 물리적 두께 치수들은 또한 제품 (100)의 적용 또는 용도에 따라 변화될 수 있다.
기판 (200)은 다양한 다른 공정을 사용하여 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 기판 (200)은 유리와 같은 비결정질 기판을 포함하는 경우, 다양한 형성 방법은 퓨전 인발 및 슬롯 인발과 같은 다운-인발 공정 및 플로우트 유리 공정을 포함할 수 있다.
형성시, 기판 (200)은 강화 기판을 형성하기 위해 강화될 수 있다. 여기에 사용된 바와 같은, 용어 "강화 기판"은, 예를 들어, 기판의 표면에서 더 작은 이온에 대해 더 큰 이온의 이온-교환을 통해, 화학적으로 강화 기판을 의미할 수 있다. 그러나, 압축 응력 및 중심 인장 영역을 생성하기 위해 기판의 부분들 사이에 열팽창계수의 불일치를 활용하거나 또는 열 템퍼링과 같은, 기술분야에서 알려진 다른 강화 방법은, 강화 기판을 형성하기는데 활용될 수 있다.
기판은 이온 교환 공정에 의해 화학적으로 강화된 경우, 기판의 표면층에서 이온은 동일한 원자가 또는 산화 상태를 갖는 더 큰 이온에 의해 대체되거나 - 또는 교환된다. 이온 교환 공정은 통상적으로 기판에서 더 작은 이온과 교환될 더 큰 이온을 함유하는 용융염 욕조에 기판을 침지시켜 수행된다. 욕조 조성물 및 온도, 침지 시간, 염 욕조 (또는 욕조들)에 기판의 침지의 수, 다중 염 욕조의 사용, 어닐링, 세척 및 이와 유사한 것과 같은 부가적인 단계들을 포함하는, 그러나 이에 제한되지 않는, 이온 교환 공정에 대한 파라미터가, 기판의 조성물 및 강화 작용으로부터 결과하는 기판의 원하는 압축 응력 (CS), 압축 응력 층의 깊이 (또는 층의 깊이)에 의해 일반적으로 결정되는 것으로, 기술분야의 당업자는 인식할 것이다. 예로서, 알칼리 금속-함유 유리 기판의 이온 교환은, 더 큰 알칼리 금속 이온의 질산염, 황산염 및 염화물과 같은 염을 함유하는, 그러나 이에 제한되지 않는, 적어도 하나의 용융 욕조에 침지시켜 달성될 수 있다. 용융염 욕조의 온도는 통상적으로 약 380℃ 내지 약 450℃의 범위이며, 반면에 침지 시간은 약 15분 내지 약 40시간의 범위이다. 그러나, 전술된 것과 다른 온도 및 침지 시간은 또한 사용될 수 있다.
부가적으로, 유리 기판이, 침지 사이에 세척 및/또는 어닐링 단계와 함께, 다중 이온교환 욕조에 침지되는 이온 교환 공정의 비-제한 예로는, 2008년 7월 11일자에 출원된 미국 가 특허출원 제61/079,995호의 우선권을 주장하며, 2009년 7월 10일자에 발명의 명칭이 "Glass with Compressive Surface for Consumer Applications"로 출원된 미국 특허출원 제12/500,650호, 여기서 유기 기판은 다른 농도의 염 욕조에서 다중, 연속적, 이온 교환 처리에 침지시켜 강화되며; 및 2008년 7월 29일자에 출원한 미국 가 특허출원 제61/084,398호의 우선권을 주장하며, 2012년 11월 20일자에 Christopher M. Lee 등에 의해 발명의 명칭이 "Dual Stage Ion Exchange for Chemical Strengthening of Glass"로 등록된 미국 특허 8,312,739호에 기재되며, 여기서 유리 기판은 용출 이온으로 희석된 제1 욕조에서 이온 교환시키고, 그 다음 제1 욕조보다 더 적은 농도의 용출 이온을 갖는 제2 욕조에 침지시켜 강화된다. 미국 특허출원 제12/500,650호 및 미국 특허 제8,312,739호의 전체적인 내용은 참조로서 여기에 혼입된다.
이온 교환에 의해 달성된 화학적 강화의 정도는 중심 인장 (CT), 표면 (CS), 및 층의 깊이 (DOL)의 파라미터에 기초하여 정량화될 수 있다. 표면 (CS)은 다양한 깊이에서 강화 유리 내에 또는 표면 근처에서 측정될 수 있다. 최대 CS 값은 강화 기판의 표면에서 측정된 CS (CSs)를 포함할 수 있다. 유리 기판 내에 압축 응력 층에 인접한 내부 영역에 대해 계산된, CT는, CS, 물리적 두께 t, 및 DOL로부터 계산될 수 있다. CS 및 DOL은 기술분야에서 알려진 방법을 사용하여 측정된다. 이러한 수단은 Luceo Co., Ltd. (Tokyo, Japan)의해 제작된, FSM-6000, 또는 이와 유사한 것과 같은 상업적으로 이용 가능한 기구를 사용한 표면 응력의 측정 (FSM)을 포함하지만, 이에 제한되지 않고, 및 CS 및 DOL을 측정하는 방법은 명칭이 "Standard Specification for Chemically Strengthened Flat Glass"인, ASTM 1422C-99, 및 명칭이 "Standard Test Method for Non-Destructive Photoelastic Measurement of Edge and Surface Stresses in Annealed, Heat-Strengthened, and Fully-Tempered Flat Glass"인, ASTM 1279.19779에 기재되며, 이의 전체적인 내용은 참조로 여기에 혼입된다. 표면 응력 측정은, 유리 기판의 복굴절과 연관된, 응력 광학 계수 (SOC)의 정확한 측정에 의존한다. SOC는 결과적으로 섬유 및 4점 굽힘 방법 (이들 모두는 명칭이 "Standard Test Method for Measurement of Glass Stress-Optical Coefficient"으로 ASTM 표준 C770-98 (2008)에 기재되고, 이의 전체적인 내용은 참조로 여기에 혼입됨), 및 벌크 실린더 방법과 같은, 기술분야에서 알려진 방법들에 의해 측정된다. CS와 CT 사이의 관계는 하기 수학식 1에 의해 제공된다:
[수학식 1]
CT = (CS · DOL)/(t - 2 DOL)
여기서, t는 유리 제품의 물리적 두께 (㎛)이다. 본 개시의 다양한 섹션에서, CT 및 CS는 메가파스칼 (MPa)로 여기에서 표시되고, 물리적 두께 t는 micrometers (㎛) 또는 millimeters (mm)로 표시되며, DOL은 micrometers (㎛)로 표시된다.
하나의 구체 예에서, 강화 기판 (200)은 250MPa 이상, 300MPa 이상, 예를 들어, 400MPa 이상, 450MPa 이상, 500MPa 이상, 550MPa 이상, 600MPa 이상, 650MPa 이상, 700MPa 이상, 750MPa 이상 또는 800MPa 이상의 표면 CS를 가질 수 있다. 강화 기판은 10㎛ 이상, 15㎛ 이상, 20㎛ 이상 (예를 들어, 25㎛, 30㎛, 35㎛, 40㎛, 45㎛, 50㎛ 이상)의 DOL 및/또는 10MPa 이상, 20MPa 이상, 30MPa 이상, 40MPa 이상 (예를 들어, 42MPa, 45MPa, 또는 50MPa 이상)이지만, 100MPa 미만 (예를 들어, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55MPa 이하)의 CT를 가질 수 있다. 하나 이상의 특정 구체 예에서, 강화 기판은: 500MPa를 초과하는 표면 CS, 15㎛를 초과하는 DOL, 및 18MPa를 초과하는 CT 중 하나 이상을 갖는다.
기판에 사용될 수 있는 대표 유리는, 비록 다른 유리 조성물이 고려될지라도, 알칼리 알루미노실리케이트 유리 조성물 또는 알칼리 알루미노보로실리케이트 유리 조성물을 포함할 수 있다. 이러한 유리 조성물은 이온 교환 공정에 의해 화학적으로 강화될 수 있다. 하나의 대표 유리 조성물은 SiO2, B2O3 및 Na2O를 포함하고, 여기서 (SiO2 + B2O3) ≥ 66 mol.%, 및 Na2O ≥ 9 mol.%이다. 구현 예에서, 상기 유리 조성물은 적어도 6 wt.% 산화알루미늄을 포함한다. 또 다른 구현 예에서, 기판은, 알칼리토 산화물의 함량이 적어도 5 wt.%가 되도록, 하나 이상의 알칼리토 산화물을 갖는 유리 조성물을 포함한다. 적절한 유리 조성물은, 몇몇 구현 예에서, K2O, MgO, 및 CaO 중 적어도 하나를 더욱 포함한다. 특정 구현 예에서, 기판에 사용된 유리 조성물은, 61-75 mol.% SiO2; 7-15 mol.% Al2O3; 0-12 mol.% B2O3; 9-21 mol.% Na2O; 0-4 mol.% K2O; 0-7 mol.% MgO; 및 0-3 mol.% CaO를 포함할 수 있다.
기판용으로 적절한 또 다른 대표 유리 조성물은: 60-70 mol.% SiO2; 6-14 mol.% Al2O3; 0-15 mol.% B2O3; 0-15 mol.% Li2O; 0-20 mol.% Na2O; 0-10 mol.% K2O; 0-8 mol.% MgO; 0-10 mol.% CaO; 0-5 mol.% ZrO2; 0-1 mol.% SnO2; 0-1 mol.% CeO2; 50 ppm 미만의 As2O3; 및 50 ppm 미만의 Sb2O3를 포함하고; 여기서 12 mol.% ≤ (Li2O + Na2O + K2O) ≤ 20 mol.% 및 0 mol.% ≤ (MgO + CaO) ≤ 10 mol.%이다.
기판용으로 적절한 또 다른 대표 유리 조성물은: 63.5-66.5 mol.% SiO2; 8-12 mol.% Al2O3; 0-3 mol.% B2O3; 0-5 mol.% Li2O; 8-18 mol.% Na2O; 0-5 mol.% K2O; 1-7 mol.% MgO; 0-2.5 mol.% CaO; 0-3 mol.% ZrO2; 0.05-0.25 mol.% SnO2; 0.05-0.5 mol.% CeO2; 50 ppm 미만의 As2O3; 및 50 ppm 미만의 Sb2O3를 포함하고; 여기서 14 mol.% ≤ (Li2O + Na2O + K2O) ≤ 18 mol.% 및 2 mol.% ≤ (MgO + CaO) ≤ 7 mol.%이다.
특정 구현 예에서, 기판용으로 적절한 알칼리 알루미노실리케이트 유리 조성물은 알루미나, 적어도 하나의 알칼리 금속 및, 몇몇 구현 예에서, 50 mol.% 초과의 SiO2, 다른 구현 예에서, 적어도 58 mol.%의 SiO2, 및 또 다른 구현 예에서, 적어도 60 mol.%의 SiO2를 포함하고, 여기서 비는
Figure pct00001
이며, 여기서 상기 성분의 비는 mol.%로 표시되고, 상기 개질제는 알칼리 금속 산화물이다. 상기 유리는, 특정 구현 예에서, 58-72 mol.% SiO2; 9-17 mol.% Al2O3; 2-12 mol.% B2O3; 8-16 mol.% Na2O; 및 0-4 mol.% K2O를 포함하며, 여기서 비는
Figure pct00002
이다.
또 다른 구현 예에서, 상기 기판은: 64-68 mol.% SiO2; 12-16 mol.% Na2O; 8-12 mol.% Al2O3; 0-3 mol.% B2O3; 2-5 mol.% K2O; 4-6 mol.% MgO; 및 0-5 mol.% CaO, 여기서: 66 mol.% ≤ SiO2 + B2O3 + CaO　≤ 69 mol.%; Na2O + K2O + B2O3 + MgO + CaO + SrO > 10 mol.%; 5 mol.% ≤ MgO + CaO + SrO ≤ 8 mol.%; (Na2O + B2O3) - Al2O3 ≤ 2 mol.%; 2 mol.% ≤ Na2O - Al2O3 ≤ 6 mol.%; 및 4 mol.% ≤ (Na2O + K2O) - Al2O3 ≤ 10 mol.%를 포함하는 알칼리 알루미노실리케이트 유리 조성물을 포함할 수 있다.
선택적인 구체 예에서, 상기 기판은: 2 mol% 이상의 Al2O3 및/또는 ZrO2, 또는 4 mol% 이상의 Al2O3 및/또는 ZrO2를 포함하는 알칼리 알루미노실리케이트 유리 조성물을 포함할 수 있다.
기판 (200)이 결정질 기판을 포함하는 경우, 상기 기판은, Al2O3를 포함할 수 있는, 단결정을 포함할 수 있다. 이러한 단결정 기판은 사파이어라 한다. 결정질 기판에 대한 다른 적절한 물질은 다결정질 알루미나층 및/또는 스피넬 (MgAl2O4)을 포함한다.
선택적으로, 결정질 기판 (200)은, 강화 또는 비-강화될 수 있는, 유리 세라믹 기판을 포함할 수 있다. 적절한 유리 세라믹의 예로는 Li2O-Al2O3-SiO2 시스템 (즉, LAS-시스템) 유리 세라믹, MgO-Al2O3-SiO2 시스템 (즉, MAS-시스템) 유리 세라믹, 및/또는 β-석영 고용체, β-스포듀멘 ss, 근청석 (cordierite), 및 리튬 디실리케이트 (lithium disilicate)을 포함하는 주 결정상을 포함하는 유리 세라믹을 포함할 수 있다. 유리 세라믹 기판은 여기에 기재된 화학적 강화 공정을 사용하여 강화될 수 있다. 하나 이상의 구체 예에서, MAS-시스템 유리 세라믹 기판은 Li2SO4 용융염에서 강화될 수 있고, 이에 의해 Mg2 +에 대한 2Li+의 교환은 발생할 수 있다.
하나 이상의 구체 예에 따른 기판 (200)은 약 100㎛ 내지 약 5㎜ 범위의 물리적 두께를 가질 수 있다. 대표 기판 (200)의 물리적 두께는 약 100㎛ 내지 약 500㎛의 범위 (예를 들어, 100, 200, 300, 400 또는 500㎛)이다. 또 다른 대표 기판 (200)의 물리적 두께는 약 500㎛ 내지 약 1000㎛의 범위 (예를 들어, 500, 600, 700, 800, 900 또는 1000㎛)이다. 상기 기판 (200)은 약 1㎜ 초과 (예를 들어, 약 2, 3, 4, 또는 5㎜)의 물리적 두께를 가질 수 있다. 하나 이상의 특정 구체 예에서, 상기 기판 (200)은 2㎜ 이하 또는 1㎜ 미만의 물리적 두께를 가질 수 있다. 상기 기판 (200)은 산 연마될 수 있거나 또는 처리될 수 있어 표면 흠의 영향을 제거 또는 감소시킨다.
여기에 기재된 제품은 반사-방지 코팅과 함께 다른 코팅을 혼입할 수 있다. 예를 들어, 하나 이상의 내-스크래치성 코팅, 항-지문 코팅, 항-균성 코팅, 및 다른 이러한 기능성 코팅은 제품으로 혼입될 수 있다. 다른 실시 예에서, 하나 이상의 반사-방지 코팅은 기능성 코팅과 조합하여 사용될 수 있다. 예를 들어, 반사-방지 코팅은, 상기 반사-방지 코팅이 제품의 상부 코팅을 형성하도록 기능 코팅의 상부에 존재할 수 있다. 또 다른 실시 예에서, 반사-방지 코팅은, 기능성 코팅 하부에 존재할 수 있고, 또 다른 반사-방지 코팅은 기능성 코팅의 상부에 존재할 수 있다.
반사-방지 코팅 및/또는 다른 코팅은, 진공 증착 기술, 예를 들어, 화학적 기상 증착 (예를 들어, 플라즈마 강화 화학적 기상 증착 (PECVD), 저-압 화학적 기상 증착, 대기압 화학적 기상 증착, 및 플라즈마-강화 대기압 화학적 기상 증착), 물리적 기상 증착 (예를 들어, 반응성 또는 비반응성 스퍼터링 또는 레이저 삭마), 열적 또는 e-빔 증착 및/또는 원자 층 증착과 같은 다양한 증착 방법을 사용하여 형성될 수 있다. 반사-방지 코팅의 하나 이상의 층들은 특정 굴절률 범위 또는 값을 제공하기 위해 나노-기공 또는 혼합-물질을 포함할 수 있다.
실시 예
다양한 구체 예는 하기 실시 예에 의해 더욱 명확해질 것이다.
실시 예 1-10은 제품의 반사율 스펙트럼을 이해하기 위한 모델링을 사용하며, 여기서 반사-방지 코팅은 원래 그대로이고 표면 결함을 포함한다. 상기 모델링은 반사-방지 코팅에 사용될 수 있는 다양한 물질의 형성된 층들 및 강화된 알루미노보로실리케이트 ("ABS") 유리 또는 사파이어의 기판으로부터 수집된 굴절률 데이터에 기초한다. 상기 반사-방지 코팅의 층들은, 실리콘 웨이퍼 상으로 e-빔 증착, DC 반응성 스퍼터링, 및 반응성 DC 및 무선 주파수 (RF) 스퍼터링에 의해 형성된다. 형성된 층들의 몇몇은 SiO2, Nb2O5, 또는 Al2O3을 포함하고, 이온 보조를 사용하여 약 50℃의 온도에서 실리콘, 니오븀, 또는 알루미늄 타겟 (각각)으로부터 DC 반응성 스퍼터링에 의해 실리콘 웨이퍼 상으로 침착된다. 이 방식에 형성된 층들은 표시기 (indicator) "RS"로 나타낸다. SiuAlvOxNy의 층들은 AJA-Industries에 의해 공급된 스퍼터 침착 도구를 사용하는 이온 보조와 함께, RF 중첩된 DC 스퍼터링과 조합된 DC 반응성 스퍼터링에 의해 실리콘 웨이퍼 상으로 침착된다. 상기 웨이퍼는 침착 동안 200℃로 가열되고, 3inch 직경을 갖는 실리콘 타겟 및 3inch 직경을 갖는 알루미늄 타겟은 사용된다. 사용된 반응성 가스는 질소 및 산소를 포함하고, 아르곤은 불활성 가스로서 사용된다. RF 파워는 13.56　Mhz에 실리콘 타겟에 공급되고, DC 파워는 알루미늄 타겟에 공급된다. 최종 SiuAlvOxNy 층은, 여기에 기재된 바와 같이, 시험될 SiuAlvOxNy 층의 표면상에 베르코비치 압입자를 사용하여, 약 15GPa를 초과하는 측정 경도 및 550㎚에서 약 1.95의 굴절률을 갖는다. SiuAlvOxNy 및 AlOxNy 물질은 침착되고, 매우 유사한 경도 및 굴절률 프로파일을 갖는다. 따라서, SiuAlvOxNy 및 AlOxNy 물질은 서로 손쉽게 교환될 수 있다.
광학 필름 및 기판의 형성된 층들의 (파장의 함수에 따른) 굴절률은 분광 타원 편광분석 (spectroscopic ellipsometry)을 사용하여 측정된다. 표 1-6은 측정된 분산 곡선 및 굴절률을 포함한다. 이렇게 측정된 굴절률은 그 다음 모범 실시 예 1-10에 대한 반사율 스펙트럼을 계산하는데 사용된다.
RS-SiO2 층 대 파장에 대한 굴절률 및 분산 곡선
물질 반응성 스퍼터링된 SiO2
파장 (nm) 굴절률 (n) 흡광 계수 (k)
246.5 1.52857 0.0
275.2 1.51357 0.0
300.8 1.50335 0.0
324.7 1.49571 0.0
350.2 1.48911 0.0
375.8 1.48374 0.0
399.7 1.47956 0.0
425.2 1.47583 0.0
450.7 1.47269 0.0
476.3 1.47002 0.0
500.2 1.46788 0.0
525.7 1.46589 0.0
549.5 1.46427 0.0
575.0 1.46276 0.0
600.5 1.46143 0.0
625.9 1.46026 0.0
649.7 1.45928 0.0
675.1 1.45835 0.0
700.5 1.45751 0.0
725.9 1.45676 0.0
751.3 1.45609 0.0
775.0 1.45551 0.0
800.4 1.45496 0.0
850.9 1.45399 0.0
899.8 1.45320 0.0
950.2 1.45252 0.0
999.0 1.45195 0.0
1100.0 1.45100 0.0
1199.6 1.45028 0.0
1302.0 1.44971 0.0
1400.8 1.44928 0.0
1499.7 1.44892 0.0
1599.0 1.44863 0.0
1688.4 1.44841 0.0
SiuAlvOxNy 층 대 파장에 대한 굴절률 및 분산 곡선
물질 반응성 스퍼터링된 SiuAlvOxNy 또는 AlOxNy
파장 (nm) 굴절률 (n) 흡광 계수 (k)
206.6 2.37659 0.21495
225.4 2.28524 0.11270
251.0 2.18818 0.04322
275.5 2.12017 0.01310
300.9 2.06916 0.00128
324.6 2.03698 0.0
350.2 2.01423 0.0
360.4 2.00718 0.0
371.2 2.00059 0.0
380.3 1.99562 0.0
389.9 1.99090 0.0
400.0 1.98640 0.0
410.5 1.98213 0.0
421.7 1.97806 0.0
430.5 1.97513 0.0
439.7 1.97230 0.0
449.2 1.96958 0.0
459.2 1.96695 0.0
469.6 1.96441 0.0
480.6 1.96197 0.0
492.0 1.95961 0.0
499.9 1.95808 0.0
512.3 1.95586 0.0
520.9 1.95442 0.0
529.9 1.95301 0.0
539.1 1.95165 0.0
548.6 1.95031 0.0
558.5 1.94900 0.0
568.7 1.94773 0.0
579.4 1.94649 0.0
590.4 1.94528 0.0
601.9 1.94410 0.0
613.8 1.94295 0.0
619.9 1.94239 0.0
632.6 1.94128 0.0
639.1 1.94074 0.0
652.6 1.93968 0.0
666.6 1.93864 0.0
681.2 1.93763 0.0
696.5 1.93665 0.0
Figure pct00003
ABS 유리 기판 대 파장에 대한 굴절률 및 분산 곡선
물질 알루미노실리케이트 유리
파장 (nm) 굴절률 (n) 흡광 계수 (k)
350.6 1.53119 0.0
360.7 1.52834 0.0
370.8 1.52633 0.0
380.8 1.52438 0.0
390.9 1.52267 0.0
400.9 1.52135 0.0
411.0 1.52034 0.0
421.0 1.51910 0.0
431.1 1.51781 0.0
441.1 1.51686 0.0
451.2 1.51600 0.0
461.2 1.51515 0.0
471.2 1.51431 0.0
481.3 1.51380 0.0
491.3 1.51327 0.0
501.3 1.51259 0.0
511.4 1.51175 0.0
521.4 1.51124 0.0
531.4 1.51082 0.0
541.5 1.51040 0.0
551.5 1.50999 0.0
Figure pct00004
사파이어 기판 대 파장에 대한 굴절률 및 분산 곡선
물질 사파이어
파장 (nm) 굴절률 (n) 흡광 계수 (k)
206.6 1.83400 0.0
210.1 1.83366 0.0
213.8 1.83355 0.0
217.5 1.83361 0.0
221.4 1.83378 0.0
225.4 1.83400 0.0
229.6 1.83422 0.0
233.9 1.83439 0.0
238.4 1.83445 0.0
243.1 1.83434 0.0
248.0 1.83400 0.0
253.0 1.83326 0.0
258.3 1.83221 0.0
Figure pct00005
Nb2O5-RS 대 파장에 대한 굴절률 및 분산 곡선
물질 반응성 스퍼터링된 Nb2O5
파장 (nm) 굴절률 (n) 흡광 계수 (k)
206.6 2.04389 0.66079
250.0 2.32991 1.05691
300.2 3.14998 0.45732
325.0 2.94490 0.12012
350.2 2.74715 0.02027
375.1 2.62064 0.00048
400.6 2.53696 0.0
425.3 2.48169 0.0
450.0 2.44210 0.0
475.0 2.41223 0.0
500.9 2.38851 0.0
525.4 2.37086 0.0
549.8 2.35647 0.0
575.3 2.34409 0.0
600.4 2.33392 0.0
624.6 2.32557 0.0
650.8 2.31779 0.0
675.7 2.31142 0.0
700.5 2.30583 0.0
725.1 2.30093 0.0
749.1 2.29665 0.0
774.9 2.29255 0.0
799.9 2.28898 0.0
849.2 2.28288 0.0
901.7 2.27749 0.0
999.9 2.26958 0.0
1102.1 2.26342 0.0
1203.7 2.25867 0.0
1298.3 2.25513 0.0
1400.9 2.25198 0.0
1502.8 2.24939 0.0
1599.8 2.24730 0.0
1698.4 2.24547 0.0
1796.9 2.24389 0.0
1892.9 2.24254 0.0
1999.7 2.24122 0.0
2066.4 2.24047 0.0
Al2O3-RS 대 파장에 대한 굴절률 및 분산 곡선
물질 반응성 스퍼터링된 Al2O3
파장 (nm) 굴절률 (n) 흡광 계수 (k)
251.3 1.76256 0.0
275.2 1.74075 0.0
300.8 1.72358 0.0
324.7 1.71136 0.0
350.2 1.70121 0.0
375.8 1.69321 0.0
401.3 1.68679 0.0
425.2 1.68185 0.0
450.7 1.67747 0.0
474.7 1.67402 0.0
500.2 1.67089 0.0
525.7 1.66823 0.0
549.5 1.66608 0.0
575.0 1.66408 0.0
600.5 1.66234 0.0
625.9 1.66082 0.0
649.7 1.65955 0.0
675.1 1.65835 0.0
700.5 1.65728 0.0
725.9 1.65633 0.0
749.7 1.65552 0.0
775.0 1.65474 0.0
800.4 1.65404 0.0
850.9 1.65282 0.0
899.8 1.65184 0.0
950.2 1.65098 0.0
999.0 1.65027 0.0
1100.0 1.64909 0.0
1199.6 1.64821 0.0
1302.0 1.64751 0.0
1400.8 1.64698 0.0
1499.7 1.64654 0.0
1599.0 1.64619 0.0
1688.4 1.64592 0.0
여기에 기재된 구체 예 및 공지의 설계에 따른 반사-방지 코팅, 저 명암 구조는 이렇게 얻어진 굴절률 값을 사용하여 설계된다. 실시 예에 의해 예시되는 바와 같이, 저-명암 반사-방지 코팅은: 1) 넓은 범위의 파장 폭을 가로질러 또는 가시광선 스펙트럼을 가로질러 및 다양한 표면 결함에 대하여 저 명암비, 2) 표면 결함을 갖는 구역에서 낮은 절대 반사율 R2, 및 3) 공지의 반사-방지 코팅을 비교한 경우, 다른 광원 하에 다른 입사 조명 각에서, 표면 결함을 갖는 구역에서 낮은 색 변이를 나타낸다. 본 실시 예에서, 색 변이는, D65 광원을 사용하여, 절대 백색 (0,0)에 비례하여 계산된다. 상기 디자인의 반사율은 침지 상태에서 모델링된다. 여기에 사용된 바와 같은, 문구 "침지 상태"는, 반사-방지 코팅을 포함하는 것 외에 다른 계면에 제품에 의해 생성된 반사를 제거하거나 또는 공제한 평균 반사율의 측정을 포함한다. 실시 예에 사용된 표면 결함 조건은 다음과 같다: 조건 "A" = 25㎚의 표면 두께 제거; 조건 "B" = 50㎚의 표면 두께 제거; 조건 "C" = 75㎚의 표면 두께 제거; 조건 "D" = 100㎚의 두께를 갖는 오염물질의 첨가; 조건 "E" = 500㎚의 두께를 갖는 오염물질의 첨가; 및 조건 "F" = 2000㎚의 두께를 갖는 오염물질의 첨가.
모범 비교 예 1 및 2
모범 비교 예 1 및 2는 표 7 및 8에 나타낸 것과 동일한 구조를 갖는 제품이다. 모범 비교 예 1은 화학적으로 강화된 알칼리 알루미노보로실리케이트 유리 기판 및 상기 기판상에 배치된 반사-방지 코팅을 포함한다. 모범 비교 예 2는 사파이어 기판 및 상기 기판상에 배치된 반사-방지 코팅을 포함한다. 반사-방지 코팅에 배열된 순서대로, 반사-방지 코팅 물질 및 물질의 각층의 두께는 표 7 및 8에 제공된다.
원래 그대로의 상태에서, 모범 비교 예 1의 구조
물질 두께 (nm)
공기 침지됨
SiO2 88.25
Nb2O5 114.16
SiO2 35.24
Nb2O5 12.41
ABS 유리 침지됨
원래 그대로의 상태에서, 모범 비교 예 2의 구조
물질 두께 (nm)
공기 침지됨
SiO2 86
Nb2O5 117.37
SiO2 24.89
Nb2O5 15.41
사파이어 침지됨
도 5a-5c는, 수직 입사각에서, 원래 그대로의 상태에서 모범 비교 예 1 및 2의 코팅 표면 및 표면 결함 조건 A, B 및 C를 갖는 모범 비교 예 1 및 2의 코팅 표면의 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 5a에 나타낸 바와 같이, 모범 비교 예 1의 코팅 표면의 반사율은, 표면 두께 제거가 증가함에 따라, 증가한다. 구체적으로, 원래 그대로의 상태에서 반사율은, 약 425㎚ 내지 약 650㎚의 범위에서 가시광선 스펙트럼 내에 약 0.5% 미만이고, 및 표면 결함 조건 C 이후에 반사율은 약 10% 절대 반사율의 증가인, 동일한 가시광선 스펙트럼 범위 내에 100㎚ 표면 두께 제거로 약 10.5%를 초과한다. 이와 같이, 표면 결함의 가시성은, 표면 결함이 없는, 반사-방지 코팅의 나머지와 비교한 경우, 증가한다. 도 5b는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 비교 예 1의 명암비를 예시한다. 명암비는 더 크 표면 두께가 제거됨에 따라 상당히 증가되고, 약 15 초과 및 약 45 초과의 명암비 값은, 약 400㎚ 내지 약 700㎚의 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 관측된다. 도 5c는, 모범 비교 예 2의 명암비를 예시하고, 표면 결함 가시성은, 사파이어 기판이 사용된 경우 (낮은 표면 두께에서조차도) 훨씬 더 현저하게 나타난다.
도 5d는, 다른 표면 두께 제거 및 입사 조명각 변화에 대한 a*b*의 면에서 색상에서 모범 변화를 나타낸다. 약 30㎚ 내지 약 70㎚, 및 약 100㎚ to 110㎚의 범위 내에 표면 두께 제거에서, a*b* 값은 약 60 degrees까지 입사 조명 각에서 6을 초과하고, 약 20 degrees까지의 입사 조명 각에서, 9 만큼 높게 도달할 수 있다.
모범 실시 예 3
모범 실시 예 3은, 표 9에 나타낸 바와 같은 구조를 갖는 제품이고, 화학적을 강화된 ABS 유리 기판 및 상기 기판상에 배치된 반사-방지 코팅을 포함한다. 상기 반사-방지 코팅에 배열된 순서대로, 반사-방지 코팅 물질 및 물질의 각 층의 두께는 표 9에 제공된다.
원래 그대로의 상태에서, 모범 실시 예 3의 구조
물질 두께 (nm)
공기 침지됨
SiO2 108
AlOxNy 35
SiO2 38.8
AlOxNy 34
SiO2 50.1
AlOxNy 11.5
ABS 유리 침지됨
도 6a는, 원래 그대로의 상태 및 표면 결함 조건 A, B, 및 C를 갖는 모범 실시 예 3의 코팅 표면의 수직 입사에서 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 6a에 나타낸 바와 같이, 반사율은 표면 두께 제거가 증가함에 따라 증가한다; 그러나, 반사율에서 증가는, 모범 비교 예 1 및 2와 비교한 경우, 감소한다. 원래 그대로의 상태에서, 반사율은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 1.2%이다. 반사율은, 원래 그대로의 상태에 걸쳐 6.8% 절대 반사율의 증가인, 동일한 가시광선 스펙트럼 범위에서 약 8% 미만으로 표면 결함 조건 C (즉, 100㎚ 표면 두께 제거) 이후에 증가한다. 모범 비교 예 1 및 2와 비교한 경우, 100㎚까지 표면 두께 제거를 포함하는 표면 결함의 가시성은 상당히 감소될 것이다. 도 6b는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 실시 예 3의 명암비를 예시한다. 6 미만의 명암비 값은, 100㎚까지의 표면 두께가 제거된 경우조차도, 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 관측되고, 이는 모범 비교 예 1 및 2로 관측된 명암비보다 상당히 적은 것이다.
도 6c는, 다른 표면 두께 제거 및 입사 조명각 변화 후에, 모범 실시 예 3의 코팅 표면의 a*b*의 면에서 색상에서 모범 변화를 나타낸다. 색상에서 가장 큰 변화 (또는 a*b*의 가장 큰 값)는, 약 10㎚ 내지 약 20㎚ 및 약 110㎚ 내지 약 130㎚의 범위에서 표면 두께 제거에서 관측되고, 여기서 a*b* 값은 약 60 degrees까지의 입사 조명 각에서 약 4 내지 약 6의 범위이다. 모든 다른 입사 조명 각 및 표면 두께에서, a*b* 값은 4 미만이다.
모범 실시 예 4
모범 실시 예 4는, 표 10에 나타낸 바와 같은 구조를 갖는 제품이고, 사파이어 기판 및 상기 기판상에 배치된 반사-방지 코팅을 포함한다. 반사-방지 코팅에 배열된 순서대로, 반사-방지 코팅 물질 및 물질의 각 층의 두께는, 표 10에 제공된다.
원래 그대로의 상태에서, 모범 실시 예 4의 구조
물질 두께 (nm)
공기 침지됨
SiO2 120.6
AlOxNy 21.5
SiO2 42.8
AlOxNy 29.6
SiO2 19.3
AlOxNy 6.2
사파이어 침지됨
도 7a는, 원래 그대로의 상태 및 표면 결함 조건 A, B 및 C를 갖는 모범 실시 예 4의 코팅 표면의 수직 입사에서 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 7a에 나타낸 바와 같이, 반사율은 표면 두께 제거가 증가함에 따라 증가한다; 그러나, 반사율에서 증가는, 모범 비교 예 1 및 2와 비교한 경우, 감소한다. 원래 그대로의 상태에서, 반사율은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 2.2%이다. 표면 결함 조건 C (즉, 100㎚의 표면 두께의 제거) 후에, 반사율은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 7% 미만으로 및 약 420㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 6% 미만으로; 및 약 450㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 5.5% 미만으로 증가한다. 반사율에서 증가는 약 4.8% 절대 반사율 미만이고, 및 다소 좁은 가시광선 스펙트럼 범위 내에서, 약 3.3% 절대 반사율 미만이다. 모범 비교 예 1 및 2와 비교한 경우, 100㎚까지의 표면 두께 제거를 포함하는 표면 결함의 가시성은 상당히 감소될 것이다. 도 7b는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 실시 예 4의 명암비를 예시한다. 3 미만의 명암비 값은, 100㎚까지의 표면 두께가 제거된 경우조차도, 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 관측되고, 이는 모범 비교 예 1 및 2로 관측된 명암비보다 상당히 적은 것이다.
도 7c는, 다른 입사 조명 각에서, 원래 그대로의 상태에서 모범 실시 예 4의 코팅 표면의 반사율에서 모범 변화를 예시한다. 도 7d는, 다른 표면 두께 제거 및 입사 조명 각 변화 후에, 모범 실시 예 4의 코팅 표면에 대한 a*b*의 면에서 색상에서 모범 변화를 나타낸다. 색상에서 가장 큰 변화 (또는 a*b*의 가장 큰 값)는 약 10㎚ 내지 30㎚, 약 60㎚ 내지 130㎚ 및 약 120㎚ 내지 135㎚ 범위 내에 표면 두께 제거에서 관측되고, 여기서 a*b* 값은 약 40 degrees까지의 입사 조명 각에, 약 2.5 내지 약 4.5의 범위이다. 모든 다른 입사 조명각 및 표면 두께에서, a*b* 값은 2.5 미만이다.
모범 실시 예 5
모범 실시 예 5는, 표 11에 나타낸 바와 같은 구조를 갖는 제품이고, 화학적으로 강화된 ABS 유리 기판 및 상기 기판상에 배치된 반사-방지 코팅을 포함한다. 반사-방지 코팅에 배열된 순서대로, 반사-방지 코팅 물질 및 물질의 각 층의 두께는, 표 11에 제공된다.
원래 그대로의 상태에서, 모범 실시 예 5의 구조
물질 두께 (nm)
공기 침지됨
SiO2 99.18
AlOxNy 44.11
SiO2 8.26
AlOxNy 86.41
SiO2 26.05
AlOxNy 26.64
SiO2 47.34
AlOxNy 7.26
ABS 유리 침지됨
도 8a는, 원래 그대로의 상태 및 표면 결함 조건 A, B, 및 C를 갖는 모범 실시 예 5의 코팅 표면의 수직 입사에서 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 8a에 나타낸 바와 같이, 반사율은 표면 두께 제거가 증가함에 따라 증가한다; 그러나, 반사율에서 증가는, 모범 비교 예 1 및 2와 비교한 경우, 감소한다. 원래 그대로의 상대에서, 반사율은 약 450㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 1%이다. 표면 결함 조건 C (즉, 100㎚의 표면 두께의 제거) 후에, 반사율은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 8.5% 미만으로 및 약 420㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 7.5% 미만으로 증가한다. 반사율에서 증가는 약 7.5% 절대 반사율 미만이고, 몇몇 다소 좁은 가시광선 스펙트럼 범위에서, 약 6.5% 절대 반사율 미만이다. 모범 비교 예 1 및 2와 비교한 경우, 100㎚까지의 표면 두께 제거를 포함하는, 표면 결함의 가시성은, 상당히 감소될 것이다. 도 8b는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 실시 예 5의 모범 명암비를 예시한다. 9 미만의 명암비 값은, 100㎚까지의 표면 두께가 제거된 경우조차도, 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 관측되고, 이는 모범 비교 예 1 및 2로 관측된 명암비보다 상당히 적은 것이다.
도 8c는, 다른 입사 조명 각에서, 원래 그대로의 상태의 모범 실시 예 5의 코팅 표면의 반사율에서 모범 변화를 예시한다. 도 8d는, 다른 표면 두께 제거 및 입사 조명 각 변화 후에, 모범 실시 예 5의 코팅 표면에 대한 a*b*의 면에서 색상에서 모범 변화를 나타낸다. 색상에서 가장 큰 변화 (또는 a*b*의 가장 큰 값)는 약 10㎚ 내지 약 30㎚, 약 60㎚ 내지 약 80㎚ 및 약 110㎚ 내지 약 120㎚ 범위 내에 표면 두께 제거에서 관측되고, 여기서 a*b* 값은, 약 60 degrees까지의 입사 조명 각에서, 약 3 내지 약 4.5의 범위이다. 모든 다른 입사 조명 각 및 표면 두께에서, a*b* 값은 3 미만이다.
이론에 제한되는 것을 원하지는 않지만, 반사-방지 코팅의 하나 이상의 층의 두께는, 반사율 스펙트럼의 평탄도로부터 의도적 편차 또는 어떤 색상을 부여하기 위해 조정될 수 있다. 예를 들어, 모범 실시 예 5는, 수직 입사에서 반사율 스펙트럼에 대한 평탄도로부터 의도적 편차를 포함하고, 이것은, 수직 입사에서 반사율에서 본 경우, 반사-방지 코팅에 엷은 청색을 부여할 것이다. 이는, 예를 들어, 1) 층 두께에 변화를 조작하여 생성된 반사된 색상에서 적은 변화; 및 2) 도 8c 및 8d에 나타낸 바와 같이, 60 degrees에서와 같은, 오프 각-시야 (off angle-viewing)에서 상대적으로 평평한 반사율 스펙트럼을 가능하게 하는, 몇몇 적용에 유리할 수 있다.
하나 이상의 구체 예에서, 더 큰 입사 조명 각 (예를 들어, 약 60 degrees 초과)에서 광학 성능은, 몇몇 경우에서, 반사-방지 코팅에 부가적인 층을 부가하여 개선될 수 있고, 이것은, 모범 실시 예 5에서 나타낸 바와 같이, 저-진동 파장 밴드가 800㎚, 900㎚, 또는 심지어 1000㎚와 같은, 근-IR 파장으로 확장하는 것을 가능하게 한다. 일반적으로 제품의 전체 반사율 스펙트럼이 더 높은 입사 조명 각에서 더 짧은 파장으로 변이하기 때문에, 이는 높은 입사 조명 각에서 더 낮은 색상 및 더 낮은 진동을 유도한다.
모범 실시 예 6
모범 실시 예 6은, 표 12에 나타낸 바와 같은 구조를 갖는 제품이고, 화학적으로 강화된 ABS 유리 기판 및 두 개의 반사-방지 코팅을 포함한다. 하나의 반사-방지 코팅은 내-스크래치성 층 (즉, AlOxNy의 2000㎚-두께 층)을 포함하고, 상기 기판상에 배치된다. 제2 반사-방지 코팅은 제1 반사-방지 코팅 상에 배치된다. 제품에 배열된 순서대로, 반사-방지 코팅들 모두에 대해 사용된 물질 및 물질의 각 층의 두께는, 표 12에 제공된다.
원래 그대로의 상태에서, 모범 실시 예 6의 구조
물질 두께 (nm)
공기 침지됨


1st 반사-방지 코팅		 SiO2 104
AlOxNy 31.27
SiO2 19.64
AlOxNy 56.25
SiO2 3.2


2nd 반사-방지 코팅		 AlOxNy 2000
SiO2 8.22
AlOxNy 46.39
SiO2 29
AlOxNy 27.87
SiO2 49.63
AlOxNy 9.34
ABS 유리 침지됨
도 9a는, 원래 그대로의 상태 및 표면 결함 조건 A, B, 및 C를 갖는 모범 실시 예 6의 코팅 표면의 수직 입사에서 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 9a에 나타낸 바와 같이, 반사율은 표면 두께 제거가 증가함에 따라 증가한다; 그러나, 반사율에서 증가는 모범 비교 예 1 및 2와 비교한 경우, 감소한다. 원래 그대로의 상태에서, 반사율은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 1.5% 내지 2% 범위이다. 표면 결함 조건 C (즉, 100㎚의 표면 두께의 제거) 이후에, 반사율은 동일한 가시광선 스펙트럼 범위 내에서 약 7% 미만으로 증가한다. 반사율에서 증가는 약 5.5% 절대 반사율 미만이다. 모범 비교 예 1 및 2와 비교한 경우, 100㎚까지의 표면 두께 제거를 포함하는 표면 결함의 가시성은, 상당히 감소될 것이다. 도 9b는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 실시 예 6의 명암비를 예시한다. 5 미만의 명암비 값은, 100㎚까지의 표면 두께가 제거된 경우조차도, 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 관측되고, 이는 모범 비교 예 1 및 2로 관측된 명암비보다 상당히 적은 것이다.
도 9c는, 다른 입사 조명 각에서, 원래 그대로의 상태의 모범 실시 예 6의 코팅 표면의 반사율에서 모범 변화를 예시한다. 도 9d는, 다른 입사 조명 각에서, 표면 결함 조건 B 후에, 모범 실시 예 6의 코팅 표면의 반사율에서 변화를 예시한다. 도 9e는, 도 9d에 나타낸 코팅 표면의 명암비를 나타낸다. 도 9f는, 다른 표면 두께 제거 및 입사 조명 각 변화에 대한 a*b*의 면에서 색상에서 변화를 나타낸다. 색상에서 가장 큰 변화 (또는 a*b*의 가장 큰 값)는, 약 10㎚ 내지 약 30㎚, 약 60㎚ 내지 약 80㎚ 및 약 110㎚ 내지 약 120㎚ 범위의 표면 두께 제거에서 관측되고, 여기서 a*b* 값은 약 60 degrees까지의 입사 조명 각에서, 약 2.5 내지 약 3.5의 범위이다. 모든 다른 입사 조명 각 및 표면 두께에서, a*b* 값은 2.5 미만이다.
모범 비교 예 7
모범 비교 예 7은 모범 비교 예 1과 같은 구조를 갖는 제품이다. 도 10a-10b는, 원래 그대로의 상태에서 및 지문 시뮬레이팅 매체인 오염물질을 갖는 조건 D, E, 및 F를 포함하는 표면 결함을 갖는 모범 비교 예 7의 코팅 표면의 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 10a는, 원래 그대로의 상태 및 다른 표면 결함 조건 후에 모범 비교 예 7의 코팅 표면의 반사율을 나타낸다. 반사율은 오염 물질의 두께가 증가함에 따라 증가한다. 구체적으로, 원래 그대로의 상태에서 반사율은 약 425㎚ 내지 약 650㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 0.5% 미만이다. 표면 결함 조건 D 후에 반사율은, 동일한 가시광선 스펙트럼 범위 내에서 약 9%를 초과하고, 표면 결함 조건 E 및 F 후에 반사율은, 더 좁은 범위의 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 12%를 초과하는 최대 반사율을 갖는, 약 12% 절대 반사율만큼 큰 진폭을 갖는 진동을 포함한다. 원래 그대로의 상태와 표면 결함 D-F 사이 반사율에서 증가는 약 11.5% 절대 반사율 이상으로 모델링된다. 이와 같이, 표면 결함의 가시성은, 표면 결함이 없는, 반사-방지 코팅의 나머지와 비교한 경우, 상당히 증가한다. 도 10b는, 각각의 표면 결함 조건 D-F에 대해, 도 10a에 나타낸 모범 구조의 명암비를 예시한다. 명암비 스펙트럼은 상당히 진동하고, 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 조건 D 및 E에 대해 100을 초과한다.
모범 실시 예 8
모범 실시 예 8은 모범 실시 예 3과 동일한 구조를 갖는 제품을 포함한다.
도 11a는, 원래 그대로의 상태 및 표면 결함 조건 D, E, 및 F를 갖는 모범 실시 예 8의 코팅 표면의 수직 입사에서 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 11a에 나타낸 바와 같이, 반사율은 표면 두께 제거가 증가함에 따라 증가한다; 그러나, 반사율에서 증가는 모범 비교 예 7과 비교한 경우, 감소한다. 원래 그대로의 상태에서, 반사율은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 1.2%이다. 표면 결함 조건 D 후에, 반사율은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 8% 미만으로 증가한다. 표면 결함 조건 E 후에, 반사율은 약 450㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 8% 미만으로 증가한다. 표면 결함 조건 F 후에, 반사율은 약 425㎚ 내지 약 675㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 8.5% 미만으로 증가한다. 반사율에서 증가는 약 7.3% 절대 반사율 미만이다. 모범 비교 예 7과 비교한 경우, 2000㎚까지의 지문 시뮬레이팅 매체의 첨가를 포함하는 표면 결함의 가시성은, 상당히 감소될 것이다. 도 11b는, 다른 두께의 지문 시뮬레이팅 매체의 첨가 후에, 모범 실시 예 8의 명암비를 예시한다. 7.5 미만의 명암비 값은 2000㎚까지의 두께를 갖는 지문 시뮬레이팅 매체가 코팅 표면에 존재하는 경우조차도, 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 관측되고, 이는 모범 비교 예 7로 관측된 명암비보다 상당히 적은 것이다.
모범 실시 예 9
모범 실시 예 9는 모범 실시 예 4와 동일한 구조를 갖는 제품을 포함한다.
도 12a는, 수직 입사에서, 원래 그대로의 상태 및 표면 결함 조건 D, E, 및 F를 갖는, 모범 실시 예 9의 코팅 표면의 수직 입사에서 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 12a에 나타낸 바와 같이, 반사율은 표면 두께 제거가 증가함에 따라 증가한다; 그러나, 반사율에서 증가는 모범 비교 예 7과 비교한 경우, 감소한다. 원래 그대로의 상태에서, 반사율은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 2.2%이다. 표면 결함 조건 D 후에, 반사율은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 6% 미만으로 증가한다. 표면 결함 조건 E 후에, 반사율은 약 450㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 6% 미만으로 증가한다. 표면 결함 조건 F 후에, 반사율은 약 450㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 6% 미만으로 증가한다. 반사율에서 증가는 약 3.8% 절대 반사율 미만이다. 모범 비교 예 7과 비교한 경우, 2000㎚까지의 지문 시뮬레이팅 매체의 첨가를 포함하는 표면 결함의 가시성은, 상당히 감소될 것이다. 도 12b는, 다른 두께의 지문 시뮬레이팅 매체의 첨가 후에, 모범 실시 예 9의 명암비를 예시한다. 3.3 미만의 명암비 값은 2000㎚까지의 두께를 갖는 지문 시뮬레이팅 매체가 코팅 표면에 존재하는 경우조차도, 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 관측되고, 이는 모범 비교 예 7로 관측된 명암비보다 상당히 적은 것이다.
모범 실시 예 10
모범 실시 예 10은 모범 실시 예 6과 동일한 구조를 갖는 제품을 포함한다. 도 13a는, 원래 그대로의 상태 및 표면 결함 조건 D, E 및 F를 갖는 모범 실시 예 10의 코팅 표면의 수직 입사에 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 13a에 나타낸 바와 같이, 반사율은 오염 물질의 두께가 증가함에 따라 증가한다; 그러나, 반사율에서 증가는 모범 비교 예 7과 비교한 경우, 감소한다. 원래 그대로의 상태에서, 상기 반사율은 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위의 가시광선 스펙트럼 내에서 약 1.5% 내지 2% 범위이다. 표면 결함 조건 D 및 E 후에, 반사율은 동일한 가시광선 스펙트럼 범위 내에서 약 7.5% 미만으로 증가한다. 표면 결함 조건 F 후에, 반사율은 동일한 가시광선 스펙트럼 범위 내에서 약 8% 미만으로 증가한다. 반사율에서 증가는 약 6.5% 절대 반사율 미만이다. 모범 비교 예 7과 비교한 경우, 약 2000㎚까지의 두께를 갖는 지문 시뮬레이팅 매체 오염물질을 포함하는 표면 결함의 가시성은, 상당히 감소될 것이다. 도 13b는, 다른 표면 두께의 제거 후에, 모범 실시 예 10의 명암비를 예시한다. 5.5 미만의 명암비 값은 2000㎚까지의 두께를 갖는 지문 시뮬레이팅 매체가 코팅 표면에 존재하는 경우조차도, 약 400㎚ 내지 약 700㎚ 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 관측되고, 이는 모범 비교 예 7로 관측된 명암비보다 상당히 적은 것이다.
모범 실시 예 11 및 12
실시 예 11-12는 반사-방지 코팅이 원래 그대로이고, 표면 결함을 포함하는 제품의 반사율 스펙트럼을 이해하기 위한 모델링을 사용한다. 상기 모델링은 ABS 유리의 기판 및 반사-방지 코팅에 사용될 수 있는 다양한 물질로 형성된 층으로부터 수집된 굴절률 데이터에 기초한다. 반사-방지 코팅의 층은 진공 침착에 의해 형성된다. 형성된 층의 몇몇은 다른 두께 (예를 들어, 100㎚ 및 2000㎚)에서 형성된 SiO2, 및 AlOxNy를 포함한다. 기판 및 광학 필름의 형성층의 (파장의 함수에 따른) 굴절률은 분광 타원 편광을 사용하여 측정된다. 표 13-15는 측정된 굴절률 및 분산 곡선을 포함한다. 이렇게 측정된 굴절률은 그 다음 모범 실시 예 11 및 12에 대한 반사율 스펙트럼을 계산하는데 사용된다.
SiO2 층 대 파장에 대한 굴절률 및 분산 곡선
파장 굴절률 흡광 계수
350 1.49325 0.00006
351 1.49311 0.00006
352 1.49297 0.00006
353 1.49283 0.00006
354 1.4927 0.00006
355 1.49256 0.00007
356 1.49243 0.00007
357 1.49229 0.00007
358 1.49216 0.00007
359 1.49202 0.00007
360 1.49189 0.00007
361 1.49176 0.00007
362 1.49163 0.00007
363 1.4915 0.00007
364 1.49137 0.00007
365 1.49124 0.00007
366 1.49112 0.00007
367 1.49099 0.00007
368 1.49086 0.00007
369 1.49074 0.00007
370 1.49061 0.00007
371 1.49049 0.00007
372 1.49037 0.00007
373 1.49024 0.00007
374 1.49012 0.00007
375 1.49 0.00007
376 1.48988 0.00007
377 1.48976 0.00007
378 1.48964 0.00007
379 1.48952 0.00007
380 1.48941 0.00007
381 1.48929 0.00007
382 1.48917 0.00007
383 1.48906 0.00007
384 1.48894 0.00007
385 1.48883 0.00007
386 1.48872 0.00007
387 1.4886 0.00007
388 1.48849 0.00007
389 1.48838 0.00007
Figure pct00006
Figure pct00007
Figure pct00008
Figure pct00009
Figure pct00010
Figure pct00011
Figure pct00012
Figure pct00013
Figure pct00014
Figure pct00015
Figure pct00016
100㎚의 두께를 갖는 AlOxNy 층 대 파장에 대한 굴절률 및 분산 곡선
파장 굴절률 흡광 계수
350 2.05658 0
351 2.05585 0
352 2.05512 0
353 2.0544 0
354 2.05369 0
355 2.05299 0
356 2.05229 0
357 2.0516 0
358 2.05091 0
359 2.05023 0
360 2.04955 0
361 2.04888 0
362 2.04822 0
363 2.04756 0
364 2.04691 0
365 2.04626 0
366 2.04562 0
367 2.04498 0
368 2.04435 0
369 2.04372 0
370 2.0431 0
371 2.04249 0
372 2.04188 0
373 2.04127 0
374 2.04067 0
375 2.04007 0
376 2.03948 0
377 2.0389 0
378 2.03832 0
379 2.03774 0
380 2.03717 0
Figure pct00017
Figure pct00018
Figure pct00019
Figure pct00020
Figure pct00021
Figure pct00022
Figure pct00023
Figure pct00024
Figure pct00025
Figure pct00026
Figure pct00027
200㎚의 두께를 갖는 AlOxNy 층 대 파장에 대한 굴절률 및 분산 곡선
파장 굴절률 흡광 계수
350 2.03915 0.00065
351 2.03836 0.00064
352 2.03758 0.00064
353 2.03681 0.00063
354 2.03605 0.00063
355 2.03529 0.00062
356 2.03454 0.00062
357 2.0338 0.00061
358 2.03307 0.00061
359 2.03234 0.0006
360 2.03162 0.0006
361 2.03091 0.00059
362 2.03021 0.00059
363 2.02951 0.00059
364 2.02882 0.00058
365 2.02813 0.00058
366 2.02746 0.00057
Figure pct00028
Figure pct00029
Figure pct00030
Figure pct00031
Figure pct00032
Figure pct00033
Figure pct00034
Figure pct00035
Figure pct00036
Figure pct00037
Figure pct00038
모범 실시 예 11은, 표 16에 나타낸 바와 같은 구조를 갖는 제품이고, 화학적으로 강화된 ABS 유리 기판 및 상기 기판상에 배치된 반사-방지 코팅을 포함한다. 상기 반사-방지 코팅에서 배열된 순서대로, 각 층의 물질의 반사-방지 코팅 물질 및 두께는, 표 16에 제공된다.
원래 그대로의 상태에서, 모범 실시 예 11의 구조
물질 두께 (nm)
공기 침지됨
SiO2 95
AlOxNy 167
SiO2 31
AlOxNy 37
SiO2 57
AlOxNy 14
ABS 유리 침지됨
도 14a는, 다른 입사 조명 각에서, 원래 그대로의 상태의 모범 실시 예 11의 코팅 표면의 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 14b는, 10 degree 관찰자하에서 및 D65 광원 및 F2 광원하에서 코팅 표면의 반사에서 a* 및 b* 색 좌표를 예시한다.
모범 실시 예 12는, 표 17에 나타낸 바와 같은 구조를 갖는 제품이고, 화학적으로 강화된 ABS 유리 기판 및 상기 기판상에 배치된 반사-방지 코팅을 포함한다. 반사-방지 코팅에 배열된 순서대로, 반사-방지 코팅 물질 및 물질의 각 층의 두께는, 표 17에 제공된다.
원래 그대로의 상태에서, 모범 실시 예 12의 구조
물질 두께 (nm) 굴절률 흡광 계수 광학 두께 (FWOT)
공기 침지됨 1 0
SiO2 107 1.4764 0.00005 0.2867163
AlOxNy 44 1.98107 0 0.15888173
SiO2 10 1.4764 0.00005 0.02754151
AlOxNy 86 1.98107 0 0.31124395
SiO2 26 1.4764 0.00005 0.06990069
AlOxNy 27 1.98107 0 0.09595578
SiO2 47 1.4764 0.00005 0.12707752
AlOxNy 9 1.98107 0 0.03083264
ABS 유리 침지됨 1.51005 0
도 15a는 다른 입사 조명 각에서, 원래 그대로의 상태의 모범 실시 예 12의 코팅 표면의 모범 반사율에서 변화를 예시한다. 도 15b는, 10 degree 관찰자하에서 및 D65 광원 및 F2 광원하에서 코팅 표면의 반사에서 a* 및 b* 색 좌표를 예시한다.
본 실시 예에 나타낸 바와 같이, 표면 두께 제거를 포함하는 표면 결함이 평가된 경우, 표면 두께는 0㎚로부터 약 150㎚로 증가함에 따라, 반사율은 증가하는 경향이 있고, 반사 색상은 또한, 도들에 나타낸 바와 같이, 연속적으로 또는 반-연속적으로 변화한다. 반사율, 명암비, 또는 색 변이에서 불연속성 도약 (discontinuous jumps)은 어떤 표면 두께 제거에서도 관측되지 않는다.
이론에 제한되지 않고, (동일한 지문 잔류물을 갖는 종래의 반사-방지 코팅에서 관측된 더 높은 반사율과 비교한 경우) 지문 유적의 첨가의 표면 결함을 갖는 하나 이상의 구체 예에 따른 몇몇 반사-방지 코팅의 더 낮은 절대 반사율은, 도 11a-b, 도 12a-b 및 도 13a-b에 나타낸 바와 같이, 지문 잔류물과 종래의 반사-방지 코팅 사이의 계면과 비교하여, 하나 이상의 구체 예에 따른 반사-방지 코팅 및 지문 유적 사이 계면에 더 낮은 반사율에 의해 설명될 수 있는 것으로 믿어진다. 환원하면, 종래의 반사-방지 코팅이 공기에 대해 좀 더 완벽하게 임피던스-정합되기 (impedance-matched) 때문에, 지문 오일에 대해 덜 완벽하게 임피이던스-정합된다. 하나 이상의 구체 예에 따른 반사-방지 코팅이 공기에 덜 완벽하게 임피던스-정합될 수 있는 반면, 이들은 지문 오일에 대해 좀 더 완벽하게 임피던스-정합될 수 있어, 공기에 의해 둘러싸이고 코팅 표면상에 배치된 유한 두께 (예를 들어, 약 100㎚ 내지 약 2000nm)를 갖는 지문 유적을 포함하는 표면 결함과 조합된 경우, 종래의 반사-방지 코팅과 비교하여, 더 낮은 총 반사율을 결과한다.
이론에 제한되지 않고, 여기에 기재된 반사-방지 코팅의 몇몇 구체 예는, 몇몇 가시광선 파장에서 더 높은 반사율을 나타낼 수 있다; 그러나, 시스템 수준에서 (즉, 디스플레이 또는 전자 장치의 다른 요소와 조합된 경우), 이러한 반사율에서 증가는 부품 수준에 (즉, 디스플레이 또는 전자 장치의 다른 요소가 없는 제품에서) 나타내는 것보다 덜 중요할 수 있다. 구체적으로, 약 0.5% 내지 약 3% 범위에 매립 표면 반사 (buried surface reflections)는, 비록 직접 접착-결합 커버 물질을 가질지라도, 디스플레이에서 일반적이다. 약 2%의 매립 표면 반사를 갖는 디스플레이 장치는, 0.1%의 반사율을 갖는 종래의 반사-방지 코팅과 조합된 경우 약 2.1%의 총 반사율을 가질 것이다. 따라서, 동일한 디스플레이 장치는 1.2%의 반사율을 갖는 하나 이상의 구체 예에 따른 반사-방지 코팅과 조합된 경우, 3.2%의 총 반사율을 가질 것이다. 이 차이는 상대적으로 작고, 두 코팅은 어떤 반사-방지 코팅이 없을 수 있는 동일한 디스플레이 시스템보다 실질적으로 더 작은 반사율을 부여한다 (즉, 미코팅 유리는 약 6% 반사율을 나타내고, 미코팅 사파이어는 약 10% 반사율을 나타낸다).
여기에 기재된 반사-방지 코팅 설계는 다른 크기 또는 굴절률을 갖는 표면 결함을 제공하도록 조정될 수 있다. 예를 들어, 층의 두께는 본 발명의 사상을 벗어나지 않고 조정될 수 있다. 하나의 실시 예에서, 반사-방지 코팅은, 2000nm 두께인 내스크래치성 층을 포함할 수 있다; 그러나, 이 층은 더 얇게 (예를 들어, 약 100㎚ 내지 약 2000㎚의 범위에서) 만들 수 있으면서도, 제품이, 아스팔트, 시멘트, 또는 샌드페이퍼와 같은 단단한 표면상으로 낙하된 경우와 같은, 낙하 사건을 잠재적으로 포함하는, 스크래치, 마모, 또는 손상 사건에 대하여 약간의 저항성을 여전히 제공한다. 다른 실시 예에서, 내스크래치성 층은 더 두껍게 만들어질 수 있다 (예를 들어, 약 2000㎚ 내지 약 10000㎚ 두께의 범위). (본 실시 예에서 SiO2를 포함하는) 반사-방지 코팅의 상부 층은 변화하는 두께를 가질 수 있다. 하나의 구체 예에서, 두께는 약 1㎚ 내지 약 200㎚의 범위이다. 상부 SiO2 층은 또는, 액체 침착 또는 기상 침착 수단에 의해 형성될 수 있는, 플루오로실란 층, 알킬실란 층, 실세스퀴녹산 층 및 이와 유사한 것을 포함하는, 실리칸-계 저-마찰 코팅층과 같은 반사-방지 코팅 상에 배치된 부가적인 코팅과 친화성을 제공할 수 있다.
다양한 변형 및 변화가 본 발명의 사상 및 범주를 벗어나지 않고 만들어질 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다.

Claims (20)

  1. 기판 표면을 갖는 기판; 및
    코팅 표면을 형성하는 기판 표면상에 배치된 반사-방지 코팅을 포함하고, 여기서, 상기 코팅 표면은, 코팅 표면이 원래 그대로의 상태인 경우 제1 평균 반사율, 및 코팅 표면으로부터 반사-방지 코팅의 약 20㎚ 내지 약 500㎚의 표면 두께의 제거 후에 제2 평균 반사율을 나타내며, 상기 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 약 0.5 내지 약 50 범위에서 명암비 (제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율)를 제공하고, 여기서 상기 반사-방지 코팅은 상기 표면 두께를 초과하는 두께를 가지며, 여기서 상기 반사율은 CIE 광원하에서 측정되는 제품.
  2. 청구항 1에 있어서,
    사익 제1 평균 반사율은 약 450㎚ 내지 약 650㎚의 범위 내에 가시광선 스펙트럼의 적어도 일부에 걸쳐 약 0.6% 내지 약 6% 범위에 있고, 제2 평균 두께는, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 약 8% 이하인 제품.
  3. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반사-방지 코팅은 기판 표면상에 배치된 제1층 및 상기 제1층 상에 배치된 층 두께를 갖는 제2층을 포함하고, 여기서 표면 두께는 제2층의 층 두께 이상인 제품.
  4. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅 표면은, 상기 코팅 표면이 원래 그대로의 상태에 있는 경우, 제1 반사율, 및 상기 코팅 표면으로부터 반사-방지 코팅의 표면 두께를 제거한 후에 제2 반사율을 나타내며, 및 여기서 상기 제1 반사율 및 제2 반사율 중 적어도 하나는, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 2% 절대 반사율 이하의 평균 진동폭을 포함하는 제품.
  5. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가시광선 스펙트럼 내에 약 100㎚의 파장 폭에 걸쳐, 상기 제1 반사율 및 제2 반사율 중 적어도 하나는 약 2% 절대 반사율 이하의 최대 진동폭을 포함하는 제품.
  6. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반사율은 약 0 degrees 내지 약 60 degrees 범위 내에 입사 조명 각에서 측정되는 제품.
  7. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 반사율 및 제2 반사율 중 적어도 하나는, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 평균 반사율 값에 비례하여 20% 미만의 반사율 진동을 포함하는 제품.
  8. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 평균 반사율은 약 3% 미만인 제품.
  9. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 표면 두께는 약 25㎚까지 포함하고, 여기서 상기 제2 평균 반사율은 약 6% 이하를 포함하며, 및 여기서 상기 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 0.5 내지 약 10의 범위에서 명암비 (제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율)를 나타내는 제품.
  10. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 표면 두께는 약 50㎚까지 포함하고, 여기서 상기 제2 평균 반사율은 약 8% 이하를 포함하며, 및 여기서 상기 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 0.5 내지 약 20의 범위에서 명암비 (제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율)를 나타내는 제품.
  11. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 표면 두께는 약 500㎚까지 포함하고, 여기서 상기 제2 평균 반사율은 약 12% 이하를 포함하며, 및 여기서 상기 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 0.5 내지 약 50의 범위에서 명암비 (제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율)를 나타내는 제품.
  12. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅 표면은, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 약 10 미만의 범위에서 명암비 (제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율)를 나타내고, 및 여기서 상기 제1 평균 반사율 및 제2 평균 반사율은 약 0 degrees 내지 약 60 degrees 범위 내에 입사 조명 각하에서 측정되는 제품.
  13. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 명암비는, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 절대비 단위에서 약 1 이하의 평균 진폭을 갖는 진동을 포함하는 제품.
  14. 전술한 청구항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광원은 D65 광원 또는 F2 광원을 포함하는 제품.
  15. 기판 표면을 갖는 기판; 및
    코팅 표면을 형성하는 기판 표면상에 배치된 반사-방지 코팅을 포함하는 제품으로,
    여기서, 상기 제품의 코팅 표면은, 상기 제품이 코팅 표면이 원래 그대로의 상태인 경우, 약 450 내지 약 650nm의 범위 내에 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 약 0.6% 내지 약 6.0%의 제1 평균 반사율, 및 상기 코팅 표면이 약 100㎚ 내지 약 2000㎚ 범위의 두께를 갖는 지문-시뮬레이팅 매체의 층을 포함하는 경우, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐 약 10% 이하의 제2 평균 반사율을 나타내고, 여기서 상기 지문-시뮬레이팅 매체는 1.4-1.6의 굴절률을 포함하는 제품.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 제2 평균 반사율 : 제1 평균 반사율의 비는 약 20 이하이고, 상기 비는, 가시광선 스펙트럼에 걸쳐, 절대비 단위에서 약 10 이하의 평균 진폭을 갖는 진동을 포함하는 제품.
  17. 청구항 15 또는 16에 있어서,
    상기 코팅 표면은, 지문-시뮬레이팅 매체의 층 및 가시광선 스펙트럼을 가로질러, 약 8% 절대 반사율 이하의 최대 반사율 값을 포함하고, 및 여기서 상기 코팅 표면은, 지문-시뮬레이팅 매체의 층 및 가시광선 스펙트럼을 가로질러, 약 7.5% 절대 반사율 이하의 최대 진동폭을 포함하는 반사율을 포함하는 제품.
  18. 기판 표면을 갖는 기판; 및
    코팅 표면을 형성하는 기판 표면상에 배치된 반사-방지 코팅을 포함하고,
    여기서, 상기 코팅 표면은, 원래 그대로의 상태에서 광원하에 수직 입사로부터 약 0 degrees 내지 약 75 degrees의 범위 내에 입사 조명 각을 사용하여 측정된 경우, 제1 색 좌표 (a*1, b*1), 및 상기 코팅 표면으로부터 반사-방지 코팅의 약 0.1㎚ 내지 약 140㎚의 범위에서 표면 두께의 제거 후에 광원하에 입사 조명 각을 사용하여 측정된 경우, 제2 색 좌표 (a*2, b*2)를 나타내며, 및
    여기서 Δa*b*는 약 6 이하인 제품.
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 제품은, 코팅 표면으로부터 약 100nm 이상의 압입 깊이에 걸쳐 베르코비치 압입 경도 시험에 의해 코팅 표면에 대해 측정된 것으로 약 5GPa 이상의 경도를 나타내는 제품.
  20. 청구항 18 또는 19에 있어서,
    상기 입사 조명 각은 약 60 degrees이고, 여기서 표면 두께는 약 0.1 내지 약 100nm의 범위이며, 및 여기서 Δa*b*는 약 3 미만인 제품.
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9366784B2 (en) 2013-05-07 2016-06-14 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
US9703011B2 (en) 2013-05-07 2017-07-11 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with a gradient layer
US9110230B2 (en) 2013-05-07 2015-08-18 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9684097B2 (en) 2013-05-07 2017-06-20 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9359261B2 (en) 2013-05-07 2016-06-07 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
US11267973B2 (en) 2014-05-12 2022-03-08 Corning Incorporated Durable anti-reflective articles
US9335444B2 (en) 2014-05-12 2016-05-10 Corning Incorporated Durable and scratch-resistant anti-reflective articles
WO2015179739A1 (en) * 2014-05-23 2015-11-26 Corning Incorporated Low contrast anti-reflection articles with reduced scratch and fingerprint visibility
US9790593B2 (en) 2014-08-01 2017-10-17 Corning Incorporated Scratch-resistant materials and articles including the same
JP2017538189A (ja) 2014-10-14 2017-12-21 コーニング インコーポレイテッド 圧電フィルム構造体およびセンサ並びにそれらを用いた表示アセンブリ
EP3770649A1 (en) 2015-09-14 2021-01-27 Corning Incorporated High light transmission and scratch-resistant anti-reflective articles
DE102017105372B4 (de) * 2017-03-14 2022-05-25 Schott Ag Transparentes Element mit einer Antireflex-Beschichtung und Verfahren zu dessen Herstellung
US20190106805A1 (en) * 2017-10-10 2019-04-11 Wisconsin Alumni Research Foundation Crystallization of amorphous multicomponent ionic compounds
TWI821234B (zh) 2018-01-09 2023-11-11 美商康寧公司 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法
WO2020037042A1 (en) 2018-08-17 2020-02-20 Corning Incorporated Inorganic oxide articles with thin, durable anti-reflective structures
US11254095B2 (en) 2018-09-28 2022-02-22 Corning Incorporated High hardness articles including an optical layer and methods for making the same
CN110767668B (zh) * 2019-12-30 2020-03-27 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 含纳米级表面的clcc封装体盖板、封装体和摄像模组
US20220011478A1 (en) 2020-07-09 2022-01-13 Corning Incorporated Textured region of a substrate to reduce specular reflectance incorporating surface features with an elliptical perimeter or segments thereof, and method of making the same
CN113702383A (zh) * 2021-07-14 2021-11-26 信利光电股份有限公司 一种盖板质量检测设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0894805A (ja) * 1994-09-20 1996-04-12 Olympus Optical Co Ltd 光学膜の製造方法及び光学素子
KR20030038554A (ko) * 2001-04-17 2003-05-16 소니 가부시끼 가이샤 반사방지필름 및 반사방지층부착 플라스틱기판
JP2006017870A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
KR20140024280A (ko) * 2011-02-04 2014-02-28 가디언 인더스트리즈 코퍼레이션. 뉴턴링들에 대한 줄어든 민감도를 가지는 전기 장치들 및/또는 그 제조방법

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4128303A (en) * 1976-04-05 1978-12-05 Kabushiki Kaisha Hoya Lens Anti reflection coating with a composite middle layer
US4995684A (en) 1986-06-18 1991-02-26 Raytheon Company Impact resistant and tempered optical elements
US4966437A (en) 1988-04-19 1990-10-30 Litton Systems, Inc. Fault-tolerant anti-reflective coatings
JP3333609B2 (ja) * 1993-10-28 2002-10-15 日東電工株式会社 反射防止層の油脂膜除去方法
US5719705A (en) * 1995-06-07 1998-02-17 Sola International, Inc. Anti-static anti-reflection coating
US5847876A (en) * 1996-06-25 1998-12-08 Mcdonnell Douglas Fingerprint resistant anti-reflection coatings
US5948481A (en) * 1996-11-12 1999-09-07 Yazaki Corporation Process for making a optical transparency having a diffuse antireflection coating
AUPP723698A0 (en) 1998-11-20 1998-12-17 Sola International Holdings Ltd Coated lens
JP2000171630A (ja) 1998-12-04 2000-06-23 Asahi Optical Co Ltd 光学多層薄膜の形成方法
US7445273B2 (en) * 2003-12-15 2008-11-04 Guardian Industries Corp. Scratch resistant coated glass article resistant fluoride-based etchant(s)
DE102004027842A1 (de) * 2004-06-08 2006-01-12 Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH Abrieb- und kratzfeste Beschichtungen mit niedriger Brechzahl auf einem Substrat
WO2006016592A1 (en) 2004-08-12 2006-02-16 Fujifilm Corporation Anti-reflection film
KR101300850B1 (ko) * 2006-02-27 2013-08-27 코니카 미놀타 어드밴스드 레이어즈 인코포레이티드 반사 방지 필름, 반사 방지 필름의 제조 방법, 편광판 및 표시 장치
JP2009122416A (ja) 2007-11-15 2009-06-04 Toppan Printing Co Ltd 光学薄膜フィルム
CN102016652B (zh) * 2008-04-24 2012-12-26 旭硝子株式会社 低反射玻璃及显示器用保护板
CN102131740B (zh) 2008-07-11 2015-12-02 康宁股份有限公司 用于消费用途的具有压缩表面的玻璃
JP5777109B2 (ja) 2008-07-29 2015-09-09 コーニング インコーポレイテッド ガラスの化学強化のための二段階イオン交換
JP2010167744A (ja) 2009-01-26 2010-08-05 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 耐指紋性に優れた製品およびその製造方法
CN102024508B (zh) * 2009-09-14 2013-05-01 群康科技(深圳)有限公司 导电片结构
DE102009056594A1 (de) * 2009-12-04 2011-06-09 Q-Cells Se Antireflexionsbeschichtung sowie Solarzelle und Solarmodul
US8939606B2 (en) * 2010-02-26 2015-01-27 Guardian Industries Corp. Heatable lens for luminaires, and/or methods of making the same
JP2012004349A (ja) * 2010-06-17 2012-01-05 Az Electronic Materials Kk シリコンオキシナイトライド膜の形成方法およびそれにより製造されたシリコンオキシナイトライド膜付き基板
TWI502617B (zh) 2010-07-21 2015-10-01 應用材料股份有限公司 用於調整電偏斜的方法、電漿處理裝置與襯管組件
DE102010048088A1 (de) 2010-10-01 2012-04-05 Carl Zeiss Vision Gmbh Optische Linse mit kratzfester Entspiegelungsschicht
US20120275026A1 (en) 2011-04-29 2012-11-01 Unipixel Displays, Inc. Low reflectance fingerprint resistant surface for displays
KR20140098178A (ko) * 2011-11-30 2014-08-07 코닝 인코포레이티드 광학 코팅 및 ｅｔｃ 코팅을 가진 유리 물품 제조 방법
CN104302589B (zh) 2011-11-30 2017-11-28 康宁股份有限公司 光学涂覆方法、设备和产品
JP5181380B1 (ja) * 2012-01-10 2013-04-10 ナルックス株式会社 光学多層膜
CN104040379B (zh) 2012-01-10 2016-02-10 纳卢克斯株式会社 光学多层膜
CN102850761B (zh) 2012-09-26 2015-04-01 上海锦湖日丽塑料有限公司 一种耐刮擦的聚碳酸酯及其制备方法
JP2014071166A (ja) 2012-09-28 2014-04-21 Nippon Electric Glass Co Ltd 光学部材及びその製造方法
KR101949561B1 (ko) 2012-10-12 2019-02-18 코닝 인코포레이티드 잔류 강도를 갖는 제품
US9359261B2 (en) * 2013-05-07 2016-06-07 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
US9703011B2 (en) 2013-05-07 2017-07-11 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with a gradient layer
CN103395247B (zh) 2013-07-30 2015-05-13 深圳欧菲光科技股份有限公司 盖板玻璃及其制备方法
WO2015179739A1 (en) 2014-05-23 2015-11-26 Corning Incorporated Low contrast anti-reflection articles with reduced scratch and fingerprint visibility

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0894805A (ja) * 1994-09-20 1996-04-12 Olympus Optical Co Ltd 光学膜の製造方法及び光学素子
KR20030038554A (ko) * 2001-04-17 2003-05-16 소니 가부시끼 가이샤 반사방지필름 및 반사방지층부착 플라스틱기판
JP2006017870A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
KR20140024280A (ko) * 2011-02-04 2014-02-28 가디언 인더스트리즈 코퍼레이션. 뉴턴링들에 대한 줄어든 민감도를 가지는 전기 장치들 및/또는 그 제조방법

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