KR20160138165A - 나노-와이어 기반 투명 전도체들의 개선된 광 안정성 - Google Patents

나노-와이어 기반 투명 전도체들의 개선된 광 안정성 Download PDF

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Abstract

은 나노구조체들 또는 은 메시에 의해 형성된 투명 전도성 필름을 포함하는 광-안정 광학적 스택들이 본원에 개시된다. 특히, 하나 이상의 광 안정제들(예컨대 전이 금속 염들)이 광학적 스택의 하나 이상의 구성 층들 내에 통합된다.

Description

나노-와이어 기반 투명 전도체들의 개선된 광 안정성{IMPROVED LIGHT STABILITY OF NANOWIRE-BASED TRANSPARENT CONDUCTORS}
관련 출원들에 대한 상호 참조
본 출원은 그들 전체가 본원에 참조로서 포함되는 2014년 03월 20일자로 출원된 미국 가특허출원 제61/968,257호 및 2014년 11월 03일자로 출원된 미국 가특허출원 제62/074,497호에 대한 35 U.S.C. 조문기호 119(e) 하에서의 이익을 주장한다.
본 개시는 나노기술의 분야에 관한 것으로서, 더 구체적으로는, 우수한 광 안정성을 갖는 은 나노구조체 층 또는 은 메시(mesh) 전도성 층 중 하나 또는 둘 모두를 갖는 투명 전도성 필름들에 대한 구조체들 및 방법들을 설명한다.
은 메시 또는 나노구조체-기반 전도성 층을 갖는 광-안정(light-stable) 투명 전도체들 및 이를 만들기 위한 방법들을 본원에서 설명된다. 특히, 광 안정성은, 하나 이상의 전이 금속 첨가제들과 같은 하나 이상의 광 안정제들을 통합하는 투명 전도체들에서 현저하게 개선된다.
일 실시예는, 은 나노와이어들 또는 은 메시를 포함하는 전도성 필름; 및 전이 금속 염 또는 전이 배위 착물(transition coordination complex)을 포함하는 광 안정제를 포함하는 광학적 스택(stack)을 제공한다.
다양한 추가적인 실시예들에 있어서, 광학적 스택은, 기판, 광학적으로 투명한 접착제, 그 안에 광 안정제가 통합되는 오버코트(overcoat)를 더 포함한다.
추가적인 실시예들은, 본원에서 설명되는 광학적 스택들을 통합하는 디바이스들을 제공한다.
또 다른 실시예는, 복수의 은 나노와이어들; 및 전이 금속 염 또는 전이 배위 착물을 포함하는 광 안정제를 포함하는 코팅 조성물을 제공한다.
도 1은 나노구조체 층을 포함하는 광학적 스택의 표준 구성을 도시한다.
도 2는, 나노구조체 층 위에 놓이는 오버코트 층을 포함하는 광학적 스택의 대안적인 구성을 도시한다.
도 3은, 광 노출 하에서의 표준 광학적 스택의 시간에 따른 시트 저항 변화 및 에지 고장(edge failure)을 도시한다.
도 4는, 광 안정제로 도핑된 은 나노와이어 잉크로 형성된 광학적 스택의, 크세논 광 하에서의 시간의 경과에 따른 시트 저항의 변화들을 도시한다.
도 5는, 광 안정제가 없는 대조군(control) 잉크로부터 형성된 표준 광학적 스택과 비교되는, 광 안정제로 도핑된 잉크로부터 형성된 광학적 스택의, 형광 광 조명(fluorescent light light) 하에서의 시간의 경과에 따른 시트 저항들의 변화들을 도시한다.
도 6은, FeSO4 첨가제로 도핑된 은 나노와이어 잉크로 형성된 광학적 스택의, 에지 고장의 지연 및 시간에 따른 시트 저항 변화를 도시한다.
도 7은, 광 안정제를 갖지 않는 대조군 잉크 및 FeSO4 첨가제로 도핑된 잉크로 형성된 전도성 필름들의 시트 저항 및 헤이즈(haze)의 상관 관계를 도시한다.
도 8은, 광 안정제를 갖지 않는 대조군 잉크로 코팅된 필름들, 광 안정제를 갖는 잉크로 코팅된 필름들, 및 고압 적층(lamination) 후의 광 안정제를 갖는 필름들의 시트 저항 대 헤이즈를 도시한다.
도 9는, 광 안정제 및 착화제로 도핑된 잉크로 코팅된 필름들, 및 광 안정제를 갖지 않는 대조군 잉크로 코팅된 필름들의 시트 저항 대 헤이즈를 도시한다.
도 10은, 광 안정제를 갖지 않는 대조군 잉크로 코팅된 필름들, 및 광 안정제 및 pH 조절제를 갖는 잉크로 코팅된 필름들의 시트 저항 대 헤이즈를 도시한다.
도 11은, 일 실시예에 따른 광 안정제로서 전이 금속 첨가제로 도핑된 오버코트를 갖는 나노구조체 필름의 에지 고장의 지연 및 시간에 따른 시트 저항 변화를 도시한다.
도 12는, 다른 실시예에 따른 광 안정제로서 다른 전이 금속 첨가제로 도핑된 오버코트를 갖는 나노구조체 필름의 에지 고장의 지연 및 시간에 따른 시트 저항 변화를 도시한다.
도 13은 특정 전이 금속 첨가제의 광 안정 효과의 부족을 도시한다.
도 14는, 또 다른 실시예에 따른 광 안정제로서 또 다른 전이 금속 첨가제로 도핑된 오버코트를 갖는 나노구조체 필름의 에지 고장의 지연 및 시간에 따른 시트 저항 변화를 도시한다.
도 15는 페로센으로 도핑된 오버코트를 갖는 나노구조체 필름의 에지 고장의 지연 및 시간에 따른 시트 저항 변화를 도시한다.
투명 전도체들은, 은 나노구조체 층 또는 은 메시 층, 또는 이들 둘 모두에 의해 구성된 얇은 투명 전도성 필름들이다. 이러한 투명 전도체들은 디스플레이 산업에서의 사용에 특히 적합하다. 그러나, 이들은 상업적인 제품들 내에 통합되기 위하여 양호한 환경적(열, 습도, 및 광) 신뢰성을 나타내야만 한다.
나노구조체-기반 전도성 필름의 조제는 전형적으로, 베이스 기판, 나노구조체 층 또는 필름, 및 광학적으로 투명한 접착제(optically clear adhesive; "OCA")뿐만 아니라 선택적인 보호 층 또는 오버코트(overcoat; "OC")를 포함하는 다중-층 구조체들을 형성하는 것을 수반한다. 전형적으로, 이러한 구성 층들은 순차적으로 코팅되거나 또는 OCA 층에 의해 결합된다. 본원에서 사용되는 "나노구조체 층" 또는 "나노와이어 층"은 상호연결되거나 또는 네트워킹되는 은 나노와이어들의 얇은 필름을 지칭한다. 다중-층 구조체는 또한 "광학적 스택"으로서 지칭된다.
때때로, 가속된 광 테스팅 하에서 전도성 필름들의 신뢰성이 표준 산업 요건들보다 못할 수 있다는 것이 관찰된다. 예를 들어, 전도성 필름의 시트 저항이 장기간의 또는 집중적인 광 노출 이후에 드리프팅(drifting)하기 시작하거나 또는 증가하기 시작할 수 있다. 이는 때때로, (OCA를 포함하는) 기판들 및 상단 층들에 대한 베이스 재료들을 주의 깊게 선택함으로써 처리될 수 있다.
그러나, 기판들 또는 다른 구성 층들을 형성하는 베이스 재료들과 무관하게 더 양호한 광 안정성을 갖는 투명 전도성 필름들을 제조하는 것이 바람직할 것이다.
이론에 구애되는 것은 아니지만, (산소 및 반응성 산소 종, 등을 포함하는) 특정 활성 종이 아미도 광-유도형 불안정성을 야기하는 후보들로 여겨진다. 이러한 활성 종을 생성하기 위한 하나의 가능한 소스는 금속 나노와이어들의 표면 상의 플라즈마몬 여기(plasmon excitation)일 수 있다.
광학적 스택 내로의 균일하지 않은 산소 확산의 특유한 결과는, 광-분해(photo-degradation)가 때때로 새도우 마스크의 에지(즉, 광-노출 영역과 어두운 영역 사이의 에지 또는 계면)에서 극단적으로 국부화될 수 있다는 것이다. 고도로 국부화된 광-열화는, 어두운 또는 광-노출 영역들의 시트 저항들에 비하여, 에지에서의 시트 저항의 급격한 증가를 야기한다. 이러한 관찰이 본원에서 또한 "에지 고장"으로 지칭된다.
도 1은, OCA 층(30)에 의해 커버 유리(40)에 결합되는 나노구조체 층(20)을 포함하는 표준 광학적 스택(10)을 도시한다. 나노구조체 층(20)은, 기판 상에 코팅된 복수의 네트워킹 전도성 와이어들(예를 들어, 은 나노와이어들)(미도시)을 포함한다. 도시된 구성에 있어서, 나노와이어들은 OCA 층을 향하며 이와 접촉한다. 전도성 필름은 디스플레이와 같은 디바이스의 일 부분으로서 사용될 수 있다. 도시된 바와 같이, 흑색 장식 프레임(black deco frame)(50)이 디스플레이의 주변부 상에 위치되며, 광-노출 영역과 어두운 영역 사이의 에지 또는 계면의 위치가 표시된다(60).
도 2는, 그 내부에서 나노와이어 층(120)이 먼저 오버코팅되는 다른 표준 광학적 스택(100)의 대안적인 구성을 도시한다. 오버코트(122)는 전형적으로, 기판(128) 상에 코팅되고 경화된 나노와이어들(126)의 면 상에 코팅된다. 그 후, 오버코트 층은 OCA 층(130)에 의해 커버 유리(140)에 결합된다. 흑색 장식 프레임(150)이 또한 도시된다.
가속된 광 조건 하의 광 안정성
주변 환경 챔버는, 그 내부에서 광학적 스택이 동작하는, 시뮬레이션된 광 및 주변 조건들을 제공하는 테스팅 장비로서 사용될 수 있다. 전형적으로, 크세논 아크 램프(예를 들어, Atlas XXL+)가 태양 시뮬레이터로서 사용될 수 있다. 크세논 암 램프(xenon arm lamp)는 태양광에 밀접하게 매칭되는 광의 완전한 스펙트럼을 제공한다. 광의 강도는, 하루 또는 계절의 상이한 시간들에서의 직접적인 태양광 또는 간접적인 확산 태양광을 시뮬레이션하도록 조정될 수 있다. 이에 더하여, 환경 챔버는, (챔버 온도 및 백 패널 온도를 포함하는) 온도, 상대 습도(relative humidity; RH) 및 유사한 것을 조정할 수 있다.
광 안정제들
다양한 실시예들은 하나 이상의 광 안정제들을 통합하는 전도성 필름들 또는 광학적 스택들에 관한 것이다. 광 안정제들은 임의의 수의 메커니즘들에 따라 동작할 수 있다. 예를 들어, 광 안정제들은, 전도성 필름 내에 존재하거나 또는 전도성 필름 내로 확산된 산소 또는 다른 활성 종을 비활성화하거나 또는 중성화할 수 있다. 특히, 광 안정제들은, 산소가 은 나노구조체들과 상호작용하기 이전에 유기 재료들에 의해 빠르게 소비될 수 있도록, 광학적 스택들 내에 존재하는 유기 재료들과 산소의 반응을 가속시키기 위한 촉매로서 역할할 수 있다. 은 나노구조체들은 기판들, 결합제 재료(binder material)들, 오버코트, OCA들, 등을 포함하는 복수의 유기 재료들 부근에 존재하며, 이들의 전부는 적절한 촉매 조건들 하에서 산소를 소비하는 것이 가능할 수 있다. 대안적으로, 광 안정제들은 금속 표면 상의 플라즈몬 여기를 ??칭(quench)할 수 있으며, 그럼으로써 활성 종의 생성을 축소시킨다. 안정화의 특정 메커니즘과 무관하게, 본원에서 설명되는 광 안정제들은, 특히 명-암 계면(light-dark interface)에서, 장기간의 광 노출 하에 있는 전도성 필름들 또는 광학적 스택들의 시트 저항을 안정화하는데 기여한다.
선호되는 실시예들에 있어서, 광 안정제들은 "전이 금속 첨가제들" 또는 "전이 금속 도펀트들"이며, 이러한 용어들은 상호 교환적으로 사용되고, 예를 들어, 본원에서 논의되는 바와 같은 전이 금속 염들, 전이 금속 배위 착물들을 포함한다.
특정 실시예들에 있어서, 전이 금속 첨가제들은, 중심 전이 금속 원자 또는 이온, 및, 리간드(ligand)들로도 지칭되는 결합된 분자들 또는 이온들의 주변 어레이(surrounding array)를 포함하는 배위 착물 또는 금속 염이다. 크기에 의존하여, 중심 금속 원자 또는 이온의 전하 또는 원자가(valency), 리간드들의 수가 변화할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 전부는 아니지만, 그들의 낮은 산화 상태(oxidation state)의 전이 금속 화합물들이 선호되며, 이는 높은 산화 상태의 금속들이 은 나노와이어들을 산화시킬 수 있기 때문이다.
적절한 전이 금속 도펀트들은, 비제한적으로, Fe(II), Fe(III), Co(II), Co(III), Mn(II), Mn(III), V(III), V(IV), 등의 착물들을 포함한다.
다수의 유기 또는 무기 리간드들이 전이 금속들과의 착물의 부분들로서 사용될 수 있다. 적절한 유기 리간드들은, 예를 들어, 트리스(아세틸아세토네이토)("acac"), 페로센("FC"), 바이피리딘, 페난트롤린, N,N'-비스(살리실리덴)-에틸렌디아민, 아세테이트, 락테이트, 아스코르베이트, 글루코네이트, 시트레이트, 타르트레이트, 에틸렌디아민테트라아세테이트, 등을 포함한다. 적절한 무기 리간드들은, 예를 들어, 설페이트, 니트레이트, 테트라플루오르보레이트, 등을 포함한다.
개시된 전이 금속들 및 유기 또는 무기 리간드들의 임의의 조합이 전이 금속 첨가제들이다. 적절한 전이 금속 도펀트들의 예들은, 비제한적으로, Fe(III)(acac)3, Co(acac)2, Mn(acac)3, VO(acac)2, 철(II) 아스크로베이트, 철(II) 설페이트, 트리스-(2,2'-바이피리딘) 철(II) 설페이트, 철(II) 아세테이트, 철(II) D-글루코네이트 디하이드레이트, 철(II) 락테이트 수화물, 철(III) 니트레이트, 철(III) 설페이트, 철(III)NH4(SO4)2, 페로세늄 테트라플루오르보레이트, 등을 포함한다.
특정 전이 금속 첨가제들은 용액 환경에서 나노와이어들과 접촉하는 상태로 양립가능하며, 따라서 ("잉크"로도 지칭되는) 나노와이어 코팅 조성물 내에 직접적으로 통합되기에 특히 적절하다. 적절한 예들은, (예를 들어, 설페이트를 형성하기 위한) 무기 산들 또는 유기 산들로 형성된 전이 금속 염들을 포함한다.
유기 산들은, 이들이 전이 금속과 염을 형성하기 위해 이용가능한 복수의 양성자들을 가지며, 이들이 흔히 전이 금속과 배위 결합들을 형성하기 위한 (산소 또는 질소와 같은) 다른 모이어티(moiety)들을 가지기 때문에 선호된다. 특정 유기 산들은 2염기성(최대 2개의 이용가능한 양성자들), 3염기성(최대 3개의 이용가능한 양성자들), 또는 4염기성(최대 4개의 이용가능한 양성자들)이며, 이는 이들을 전이 금속들과의 안정적인 또는 배위 결합된 착물을 형성하기에 적절하게 만든다. 유기 산들의 특정 예들은, 비제한적으로, 타르타르 산과 같은 2염기성 산들, 시트르 산과 같은 3염기성 산들, 에틸렌디아민테트라아세트 산(ethylenediaminetetraacetic acid; EDTA)과 같은 4염기성 산들을 포함한다.
전이 금속 도펀트들의 특정 예들은, 비제한적으로, 철(II) 설페이트, 철(III) 타르트레이트, 철(III) 나트륨 EDTA, 암모늄 철 시트레이트, 및 철(III) 시트르산 3염기성을 포함한다.
추가적으로, 바이피리딘, 페난트롤린, 및 흔히 살렌(salen)으로 지칭되는 N,N'-비스(살리실리덴)에틸렌디아민과 같은 리간드들은, 전이 금속 첨가제들과 별개로 또는 이와 함께 나노와이어 또는 메시 층, OCA 또는 다른 오버코트 층 내에서 사용될 수 있다. 이러한 리간드들은 필름 복합물 내에 이미 존재하는(또는 부가된) 미량의(trace) 금속성 불순물을 활성화할 수 있으며, 이러한 미량의 금속성 불순물들을 산소에 대하여 훨씬 더 반응성으로 만들 수 있다.
광 안정제들의 또 다른 부류들은 가역적 산화환원 시스템들을 포함하며, 그 결과 나노와이어 층 또는 메시 내의 광-생성된 전하들이 산화환원 종에 의해 빠르고 효율적으로 ??칭되고, 이는 심지어 산소가 존재할 때에도 나노와이어들의 광-산화를 효율적으로 방지한다. 적절한 가역 산화환원 시스템들 사이의 하나의 공통적인 특징은, 이들이 산화 또는 환원 시에 소비되는 대신에 적절하게 재생되도록 가능한 한 가역적이어야 한다는 것이다.
산화환원 시스템들은, 유기성(하이드로퀴논, TMPD, TTF, TCNQ, 바이올로겐, 풀러렌, 아스코르브산 및 그것의 유도체, 니트록사이드 유도체, 산화환원 폴리머, 전도성 폴리머, PANI, PEDOT), 유기금속성(메탈로센 예컨대 페로센, 코발토센, 등), 또는 무기성(I-/I2, K4Fe(CN)6, 금속+/금속++ 염, 또는 금속++/금속+++ 염, 예컨대 Fe2+/Fe3+)일 수 있다.
광 안정제들의 통합
본원에 개시되는 광 안정제들은, (도 1에 도시된 바와 같은) 기판, OCA 층, 나노와이어 층, 및 (도 2에 도시된 바와 같은) 오버코트를 포함하는 주어진 광학적 스택의 층들 중 임의의 층 내에 통합될 수 있다.
광 안정제들은, 주어진 광학적 스택의 구성 층들 중 임의의 구성 층을 형성하기 위하여 코팅될 수 있는 용액-기반 조성물 내에 통합될 수 있다. 예를 들어, 나노와이어 층, 오버코트 층, 언더코트(undercoat) 층, 또는 OCA 층을 형성하기 위한 코팅 조성물들은 코팅 이전에 미리 결정된 양의 광 안정제들을 통합할 수 있다.
대안적으로, 광학적 스택의 구성 층 또는 층들은, 광 안정제(들)가 층들 내로 확산하는 것을 가능하게 하기 위하여 시간의 기간 동안 광 안정제(들)의 용액 내에 담가질 수 있다.
또 다른 추가적인 실시예에 있어서, 층 내로 집적적으로 통합되는 대신에, 광 안정제들은, 별개의 또는 전용 단계에서 광학적 스택의 층에 도포(apply)될 수 있다. 예를 들어, 오버코트 층이 코팅되기 이전에, 도펀트 용액이 나노와이어 층의 상단 상에 도포(예를 들어, 스프레이 또는 스핀-코팅(spin-coat))될 수 있다.
촉매 작용을 하거나, 산소를 제거하거나 또는 표면 플라즈몬 여기를 ??칭하는 전이 금속 첨가제들을 포함하는 광 안정제들의 사용이 은 나노와이어들에 한정되지 않으며, 이는 다른 금속 나노구조체 및/또는 금속 메시 투명 전도체들, 및 산소 민감성 엘러먼트들 예컨대 (유기 발광 다이오드, 또는 OLED를 포함하는) 발광 다이오드들, (유기 광전지, 또는 OPV를 포함하는) 광전지 디바이스들, 또는 가요성 플라스틱 기판들과 같은 특히 양호한 산소 장벽이 아닌 기판 상에 구축된 임의의 전기적 디바이스를 보호하는데 유용할 수 있다.
하나 이상의 광 안정제들을 통합하는 오버코트
일 실시예에 있어서, 광 안정제들(예를 들어, 전이 금속 도펀트들)은 오버코트 조성물 내에 통합될 수 있다. 오버코트는 보호 층 또는 밀봉제이며, 이는 전형적으로 나노와이어 층 위에, 즉, 나노와이어들의 면 상에 직접적으로 코팅된다. 도 2를 참조하라. 오버코트는, 아크릴레이트 또는 에폭시 재료들을 포함하는, UV-경화성의 높은 내구성의 폴리머 재료이다. 오버코트는 오버코트 조성물을 코팅함으로써 형성되며, 이의 농도가 오버코트의 두께를 결정할 수 있다. 전형적으로, 오버코트는 50-200nm 두께의 얇은 필름이지만, 다른 두께들이 또한 고려된다.
다양한 실시예들에 있어서, 오버코트 조성물은 폴리머 재료(용매를 제외하고, 고형물)의 중량으로 약 0.14% - 30%로 하나 이상의 도펀트들을 포함할 수 있다. 고형 폴리머 재료의 도펀트의 중량으로 적절한 양들은, 예를 들어, 0.3%-8%, 0.5%-10%, 0.7%-15%, 1%-10%, 2-8%, 5-15% 및 유사한 것일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 오버코트 조성물은 하나 이상의 UV-경화성 아크릴레이트 폴리머들을 포함한다. 전형적으로 아크릴레이트들의 혼합물이 사용될 수 있다. 예를 들어, 우레탄 메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 및 트리메틸롤프로판 트리아크릴레이트의 혼합물(예를 들어, Addison Clear Wave Coatings사에 의해 공급되는 HC 5619)이 사용될 수 있다. UV-경화성 폴리머들은, 높은 농도(40 wt% 고형물)로 이소프로판올(IPA) 및 디아세톤 알코올의 50/50 혼합물 내에 용해될 수 있다. 농축된 오버코트 조성물은 본원에서 설명되는 바와 같은 하나 이상의 광 안정제들을 더 포함한다. 특히, 농축된 코팅 조성물은 Fe(III)(acac)3을 포함한다.
코팅 이전에, 농축된 오버코트 조성물은, 추가적인 용매들(예를 들어, IPA 또는 디아세톤 알코올, 또는 이들의 50/50 혼합물)을 부가함으로써 고형물들의 0.5-5%까지 희석될 수 있다. 희석된 오버코트 조성물 내의 도펀트 레벨은, 조성물의 중량으로 약 34-3100ppm일 수 있거나, 또는 더 바람직하게는, 조성물의 중량으로 약 70ppm-1500ppm일 수 있다.
하나 이상의 광 안정제들을 통합하는 잉크
다른 실시예에 있어서, 광 안정제들(예를 들어, 전이 금속 도펀트)이 또한 잉크, 즉, 은 나노와이어들을 포함하는 나노와이어 코팅 조성물 내로 직접적으로 통합될 수 있다. 기판 상에 잉크를 코팅한 이후에, 광 안정제들이 나노와이어 층 또는 필름 내에 존재할 것이다.
결과적인 나노와이어 층의 광 안정성을 개선하기 위한 다수의 금속 염들이 발견되었지만, 획득되는 광 안정성은 주어진 헤이즈에서의 시트 저항의 증가를 대가로 하는 것일 수 있다. 헤이즈는 은 나노와이어 표면으로부터의 광의 전방 산란이다. 따라서, 주어진 헤이즈 값은 은 나노와이어들의 주어진 양과 상관될 수 있다.
코팅 조성물 내로의 다수의 금속 염들의 직접적인 통합은, 은 나노와이어들이 금속 염들 또는 그들의 수화된-복합물들에 의해 표면 상에서 (적어도 부분적으로) 커버되게끔 하는 경향이 있다고 결정되었다. 금속 염들 또는 복합물들이 금속 나노와이어들보다 덜 전도성인 경향이 있기 때문에, 나노와이어들 사이의 접촉 저항이 금속 염 코팅에 기인하여 증가하기 쉽다. 더 높은 접촉 저항의 결과로서, 나노와이어 층의 전체 시트 저항이 증가할 것이다.
본원에서 개시되는 다양한 실시예들에 따르면, 산들(예를 들어, 유기 산들)로 형성된 전이 금속 염들 또는 복합물들은, 금속 나노와이어들 사이의 접촉 저항을 증가시키지 않으면서 전도성 필름들의 안정성을 개선하는 것이 가능하다. 특히, 나노와이어 코팅 조성물 내에서 사용되는 전이 금속 염들 또는 복합물들은 열적로 분해성이거나 또는 UV-분해성이다. 이들이 코팅된 필름들 내에서 UV 광 아래에서 또는 상승된 온도에서 분해됨에 따라, 접촉 저항이 낮아지고, 주어진 헤이즈에서의 시트 저항이 복원될 수 있다.
적절한 전이 금속 도펀트들의 예들은, 비제한적으로, 철 타르트레이트, 철 나트륨 EDTA, 철 시트르산 3염기성 및 암모늄 철 시트레이트를 포함한다.
더 구체적으로, 전이 금속 도펀트들은 먼저 높은 농축된 용액들로서 탈 이온수 내에 용해될 수 있다. 결과적인 용액들이 더 낮은 농도로 나노와이어 코팅 조성물과 조합되어 잉크 첨가제들로서 사용될 수 있다. 도핑된 나노와이어 코팅 조성물(또는 "도핑된 잉크")은 본원에서 설명되는 코팅 방법 중 임의의 방법에 따라 목표 헤이즈로 코팅될 수 있다. 결과적인 나노와이어 층은 본원에서 설명되는 표준 절차에 따라 추가적으로 오버-코팅될 수 있다. 오버코트 자체가 전이 금속 도펀트로 도핑될 수 있다(예를 들어, 예 2).
다른 실시예들에 있어서, 도핑된 나노와이어 조성물로부터 형성된 전도성 필름은 시트 저항을 증가시키기 위하여 고압 적층 프로세서를 겪을 수 있다. 본원에서 논의되는 바와 같이, 나노와이어 표면 상의 전이 금속 도펀트의 존재는 나노와이어들 사이의 접촉 저항을 증가시킬 수 있으며, 이는 시트 저항의 증가를 야기한다. 고압 적층 프로세스는 필름을 고압 라미네이터(laminator)을 통해 이동시키는 단계를 포함하며, 이러한 프로세스는 하나 이상의 전이 금속 도펀트들로 도핑된 은 나노와이어 코팅 조성물로 코팅된 필름들에 대한 시트 저항을 낮출 것이다.
하나 이상의 광 안정제들과 통합된 OCA 층 또는 기판
또 다른 실시예에 있어서, 광 안정제들(예를 들어, 전이 금속 도펀트들)은 또한 OCA 층 내에 통합될 수 있다. 상용 OCA 필름은, 도펀트들이 기판 내로 확산하는 것을 가능하게 하기 위하여 충분한 시간의 기간 동안 하나 이상의 전이 금속 도펀트들을 포함하는 용액 내에 담가질 수 있다. 대안적으로, 하나 이상의 전이 금속 도펀트 및 접착제의 용액이 도핑된 OCA 층을 형성하기 위하여 코팅될 수 있다.
추가적인 실시예에 있어서, 전이 금속 도펀트는 또한 기판 내에 통합될 수 있다. 전형적으로, 상용 기판(예를 들어, PET 필름)은, 도펀트들이 기판 내로 확산하는 것을 가능하게 하기 위하여 충분한 시간의 기간 동안 하나 이상의 전이 금속 도펀트들을 포함하는 용액 내에 담가질 수 있다.
예들
예 1
도펀트가 없는 대조군
예 1은 도 1에 도시된 구조의 광학적 스택이다. 대조군으로서, 광학적 스택 내에 도펀트 또는 첨가제가 존재하지 않는다.
먼저, 은 나노와이어 필름이, 은 나노와이어들을 포함하는 나노와이어 코팅 조성물을 50μm 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름 상에 코팅함으로써 형성되었다. 전형적으로, 나노와이어 코팅 조성물은 수계 용매(예를 들어, 물 또는, 이소프로판올, 에탄올, 등과 같은 보조-용매와 혼합된 물) 내에 약 0.05% 내지 1.4%의 은 나노와이어들을 포함한다. 선택적으로, 계면활성제(예를 들어, 플루오로계면활성제) 또는 점도지수향상제, 예컨대 하이드록시프로필 메틸 셀룰로오스(hydroxypropyl methyl cellulose; HPMC)가 포함될 수 있다. 건조 시에, 나노 와이어 조성물의 비-휘발성 성분이 기판 상의 네트워킹 나노와이어들의 나노와이어 층을 형성한다.
당업계의 임의의 코팅 방법들이 사용될 수 있다. 선호되는 방법은, 슬롯-다이(slot-die) 롤-대-롤(roll-to-roll) 코팅을 포함하는 슬롯-다이 코팅이다.
그런 다음, (나노와이어 층 및 기판을 포함하는) 나노와이어 필름이 표준 OCA(3M®, 8146)를 가지고 보로실리케이트 커버 유리 상에 적층되었으며, 네트워킹 나노와이어(networking nanowire; NW)들의 층은 커버 유리를 향한다. 흑색 테이프가 상단 유리 상에 위치되었다. 나노와이어 필름 상에 오버코트를 갖는 다른 대조군 스택이 또한 마련되었다. 도 2에 도시된 구성을 참조하라.
디바이스는 크세논 테스트 챔버(0.8W, 38°C, 50% RH) 내에 위치되었다. 밝은 영역, 에지 영역, 및 어두운 영역의 저항률이 비-접촉 방법(델콤(Delcom))에 의해 모니터링되었다. 정규 (대조군) 필름은, 적어도 20% 이상만큼의 시트 저항 변화 이전의 크세논 광원에 노출된 시간의 양에 의해 표현되는 바와 같은 다음의 광 안정성 데이터를 나타내었다:
밝은 영역: 200 시간.
에지 영역: 100 시간.
어두운 영역: 200 시간 이상.
이러한 대조군에서 실증되는 바와 같이, 광 노출 하에서, 전도성 나노구조체들(예를 들어, 은 나노구조체들 또는 은 나노와이어들)을 갖는 전도성 필름의 시트 저항이 더 높게 드리프팅할 수 있다(덜 전도성이 될 수 있다). 에지 영역은 밝은 영역에 비하여 훨씬 더 급격한 드리프트를 갖는다. 도 3을 또한 참조하라.
예 2
철 시트르산 3염기성으로 도핑된 나노와이어 코팅 조성물
나노와이어들은, 본 출원의 양수인인 Cambrios Technologies Corporation의 명의로 함께-계류중인 미국 가출원 번호 제61/978,715호 및 제62/075,733호에서 설명된 프로세스에 따라 마련되었다. 이러한 출원들 둘 모두가 전체적으로 참조로서 본원에 통합된다.
잉크 A(대조군 잉크):
도핑되지 않은 나노와이어 잉크가 대조군으로서 마련되었다. 도핑되지 않은 나노와이어 잉크는, 0.136%의 은, 0.28%의 HPMC 311(점도지수향상제 또는 결합제), 및 Capstone® 175ppm의 FS-3100(DuPont에 의해 판매되는 비이온성 플루오로계면활성제)을 포함하였다.
잉크 B:
도핑된 나노와이어 잉크가 마련되었다. 잉크 A와 비교하여, 도핑된 잉크 B가 더 희석되지만, 구성요소들의 상대적인 양들은 일정하게 유지되었다. 다음의 농도들을 제공하기 위하여 도펀트가 부가되었다: 0.06%의 은, 0.12%의 HPMC311, 77ppm의 Capstone® FS-3100, 및 65.3ppm의 철 시트레이트 3염기성 1수화물(전이 금속 도펀트).
그런 다음, 오버코트를 갖는 및 오버코트를 갖지 않는, 잉크 A 및 잉크 B로 만들어진 필름들이 실내 광 또는 UV 광 하에서 노출되었다. 이하의 표 1에 도시된 바와 같이, 다른 신뢰성 조건들 하에서의 성능뿐만 아니라 나노와이어 필름들의 광 안정성이 필름들의 시트 저항을 손상시키지 않고 개선된다.
표 1
광 노출이 없는 것 대 광 노출이 있는 나노와이어 필름들의 시트 저항(R)
Figure pct00001
도 3은 도펀트가 없는 (노출된(bare) 또는 오버코팅된) 광-노출된 필름들의 시트 저항을 도시한다. 도시된 바와 같이, 에지 고장이 노출된 필름 및 오버코팅된 필름 둘 모두에 대하여 어두운 영역과 밝은 영역의 계면에서 확연하였으며, 이에 의하여 시트 저항이 약 50 시간 동안의 크세논 광에 대한 노출 시에 급격하게 증가한다. 그에 반해서, 시트 저항이 노출된 필름 및 오버코팅된 필름에 대하여 광 노출된 영역에서 수백 시간 동안 상대적으로 일정하게 남아 있었으며, 이는 광에 전혀 노출되지 않은 것들(즉, 어두운 대조군들)에 비할 만 하다.
도 4는 크세논 광 하에서의 도핑된 필름들의 비교 결과들을 도시한다. 도시된 바와 같이, 인지불가능한 에지 고장이 존재하였으며, 필름들의 신뢰성이 수백 시간의 기간 동안 달성되었다.
도 5는 형광 광에 노출된 도핑된 전도성 필름 및 도핑되지 않은 전도성 필름의 나란히 있는 비교를 도시한다. 도 3 및 도 4에 도시된 결과들에 따르면, 도핑되지 않은 필름에 비하여 도핑된 필름이 훨씬 더 양호한 장기간의 광 안정성을 나타내었다.
예 3
FeSO4로 도핑된 나노와이어 코팅 조성물
이러한 예에 있어서, 철(II) 설페이트(FeSO4)가 은 나노와이어의 총량에 대하여 ≥ 0.3:1의 몰 비율로 표준 나노와이어 코팅 조성물에 부가되었다. 광 안정성 첨가제가 없는 표준 잉크("대조군 잉크")는 0.06%의 은, 0.12%의 HPMC, 77.2 ppm의 Capstone® FS-3100으로 구성된다. 이러한 표준 나노와이어 코팅 조성물에 FeSO4가 25.3 ppm으로 부가되었다.
대조군으로서, 동일한 양의 은 나노와이어들을 갖는 (도핑되지 않은) 표준 나노와이어 코팅 조성물이 또한 도 1 및 도 2의 구성들에 따라 광학적 스택으로 형성되었다.
도 6은, 도핑된 나노와이어 코팅 조성물로부터 형성된 전도성 필름과 비교할 때, 표준 코팅 조성물로부터 형성된 투명 전도성 필름의 시트 저항이 2배 이상만큼 증가할 수 있다는 것을 도시한다. 도 6은 또한 에지 고장이 500 시간 이상만큼 지연되었다는 것을 도시한다.
2개의 잉크들이 다양한 양의 은 나노와이어 커버리지(coverage)로 (Toray사의 U438이라는 명칭의) Toray U483 PET 상에 코팅되었을 때, 동일한 헤이즈에서 도핑된 잉크로부터 만들어진 필름의 저항이 표준 잉크보다 더 높다. 헤이즈는 은 나노와이어 표면으로부터의 광의 전방 산란이며, 따라서, 유사한 헤이즈는 PET 필름들 상의 은 나노와이어들의 유사한 양들을 의미한다.
도 7은 2개의 잉크들, 즉, 도핑된 잉크 및 도핑되지 않은 대조군 잉크의 헤이즈 대 필름 시트 저항을 도시한다. 유사한 헤이즈에 대하여, 광 안정제를 갖는 잉크가 더 높은 시트 저항의 전도성 필름을 생산하였다.
예 4
고압 적층
도 8(원들)에 도시된 바와 같이, 예 3의 도핑된 나노와이어 조성물(0.06%의 은 나노와이어, 0.12%의 HPMC, 77.2ppm의 Capstone® FS-3100, 25.3 ppm의 FeSO4)로부터 형성된 전도성 필름은 주어진 헤이즈 레벨들에서 상대적으로 높은 시트 저항을 나타내었다. 동일한 필름들이 70-90MPa의 범위 내의 인가되는 압력에서 라미네이터를 통과하였을 때, 저항이 대조군 필름들(전이 금속 도펀트들이 없는 필름들)의 레벨까지 낮춰졌다. 이는, 고-압 적층이 도핑된 잉크로부터 만들어진 필름들 내의 시트 저항을 효율적으로 낮출 수 있다는 것을 실증한다.
예 5
시트 저항을 감소시키기 위한 착화제들의 통합
전이 금속 도펀트로 도핑된 나노와이어 코팅 조성물들로부터 형성된 은 나노와이어 필름의 시트 저항을 낮추기 위한 다른 방법은, 추가적인 착화제, 예컨대 Hexafor 612(Maflon, 이탈리아 베르가모), FSOA, FSOB, OH-, 산(예를 들어, 유기 산), 등을 부가하는 것이다. 도 9에 도시된 바와 같이, FeSO4 도펀트 및 착화제 Hexafor 612를 갖는 잉크는, 도핑되지 않은 코팅 조성물로 형성된 대조군 필름의 헤이즈-저항 관계와 유사한 헤이즈-저항 관계의 전도성 필름을 생산하였다.
예 6
시트 저항을 낮추기 위한 pH 조정
전이 금속 도펀트로 도핑된 나노와이어 코팅 조성물들로부터 형성된 은 나노와이어 필름의 시트 저항을 낮추기 위한 또 다른 방법은, 잉크의 pH를 감소시키기 위하여 산과 같은 소량의 pH 조절제를 부가하는 것이다. 적절한 산들은 질산, 아세트 산 등을 포함한다. 도 10은 대조군 잉크로 코팅된 필름들 및 FeSO4 및 아세트 산으로 도핑된 잉크로 코팅된 필름들의 시트 저항 대 헤이즈를 도시한다. 도시된 바와 같이, FeSO4 도펀트 및 아세트 산을 갖는 잉크는 대조군 필름의 헤이즈-저항 관계와 유사한 헤이즈-저항 관계를 갖는다.
예 7
철(III) 아세틸아세토네이트로 도핑된 PET 상의 나노와이어 복합물 필름
Fe(III)(acac)3-도핑된 오버코트를 마련하기 위하여, UV-경화가능 아크릴레이트 혼합물이 사용되었다(HC 5619, Addison Clear Wave Coatings사). HC 5619는, 높은 농도(40 wt% 고형물)로 이소프로판올(IPA) 및 디아세톤 알코올의 50/50 혼합물 내에 아크릴레이트들의 혼합물을 포함한다. 이러한 농축된 오버코트 조성물이 IPA/디아세톤 알코올(50:50)로 고형물의 1-3%의 범위 내의 농도까지 희석되었다. 광 안정제, 즉, Fe(III)(acac)3이 도핑된 오버코트 용액의 중량으로 70-1500 ppm의 도펀트 레벨로 희석된 아크릴레이트들에 부가되었다.
PET 기판을 갖는 나노와이어-기반 투명 필름이 도핑된 오버코트 용액을 코팅함으로써 나노와이어 면 상에서 오버코팅되었다. 그런 다음, 광학적 스택이 예 1에서 설명된 바와 같이 구성되었다.
도 11은 38°C 및 50% R.H.에서 Xe 광에 노출될 때 3400 시간 동안 저항의 증가가 없는 우수한 광 안정성을 도시하며, 이는 Fe(acac)3이 광 안정제로서 효율적이라는 것을 예시한다.
예 8
코발트 아세틸아세토네이트로 도핑된 PET 상의 나노와이어 복합물 필름
예 1에서 마련된 전도성 필름이 먼저 아세톤 내의 코발트 아세틸아세토네이트 ("Co(acac)2")의 1% 용액 내에 24 시간 동안 담가지고, 아세톤으로 세척되며, 질소로 건조되었다. 일부 Co(acac)2가 필름 내로 확산할 수 있는 것으로 믿어진다. 그런 다음, 디바이스가 예 1과 같이 구성되었다. 디바이스는 예 1의 표준 광학적 스택보다 더 양호한 광 안정성을 가지며, 따라서 이는 Co(acac)2가 광 안정제로서 적절하다는 것을 실증한다(최대 1500 시간 동안 유의미한 저항의 증가가 없음).
전사 필름(transfer film) OCA 층이 24 시간 동안 헥산 내의 1% Co(acac)2의 용액 내에 담가지고, 헥산으로 세척되며, 그런 다음 도 1에 도시된 바와 같이 나노와이어 층 상으로 전사되었을 때, 거의 1500 시간 동안 38°C 및 50%의 상대 습도에서 크세논 광원에 노출될 때, 광에 노출되었던 그것의 영역 내의 결과적인 광학적 스택의 저항은 저항의 유의미한 변화를 보이지 않았다. 도 12를 참조하라. 그 안에서 Co(acac)2가 OCA에 부가되었던 광학적 스택의 에지 영역 및 어두운 영역에서의 시트 저항이 실질적으로 안정적(최대 1000 시간 동안 20% 미만의 변화들)이었다는 것이 도 12에 또한 도시된다.
도 13은, 그 안에서 Co(acac)2가 나노와이어 층 내로 확산되었던 광학적 스택의 나노와이어 층의 밝은 영역, 에지 영역 및 어두운 영역의 저항을 시간의 함수로서 도시한다.
예 9
망간 아세틸아세토네이트로 도핑된 PET 상의 나노와이어 복합물 필름
예 1에서 사용된 나노와이어 필름이 먼저 아세톤 내의 Mn(acac)3의 1% 용액 내에 24 시간 동안 담가지고, 아세톤으로 세척되며, 질소로 건조되었다. 일부 망간 아세틸아세토네이트가 필름 내로 확산할 수 있는 것으로 믿어진다. 그런 다음, 디바이스가 예 1에서 같이 구성되고 크세논 광에 노출되었다. 이러한 디바이스는 예 1보다 더 열악한 광 안정성을 나타내었으며, 따라서 망간 아세틸아세토네이트가 광 안정제로서 적절하지 않다는 것을 실증한다.
밝은 영역: 저항이 약 200 시간 내에 적어도 20%만큼 증가한다.
에지 영역: 저항이 약 250 시간 내에 적어도 20%만큼 증가한다.
어두운 영역: 저항이 적어도 약 250 시간 내에 20% 이상만큼 증가하지 않는다.
예 10
바나딜 아세틸아세토네이트("VO(acac)2")로 도핑된 PET 상의 나노와이어 복합물 필름
예 1에서 사용된 나노와이어 필름이 먼저 아세톤 내의 VO(acac)2의 1% 용액 내에 24 시간 동안 담가지고, 아세톤으로 세척되며, 질소로 건조되었다. 일부 바나딜 아세틸아세토네이트가 필름 내로 확산할 수 있는 것으로 믿어진다. 그런 다음, 디바이스가 예 1에서 같이 구성되고 크세논 광원에 노출되었다. 이러한 디바이스는 예 8보다 훨씬 더 양호한 광 안정성을 나타내었으며, 따라서 바나딜 아세틸아세토네이트가 광 안정제로서 적절하다는 것을 실증한다(도 14 참조).
예 11
페로센(Fc)으로 도핑된 PET 상의 나노와이어 복합물 필름
예 1에서 사용된 나노와이어 투명 필름이 먼저 아세톤 내의 페로센(Fc)의 1% 용액 내에 24 시간 동안 담가지고, 아세톤으로 세척되며, 질소로 건조되었다. 일부 페로센이 필름 내로 확산할 수 있는 것으로 믿어진다. 그런 다음, 디바이스가 예 1에서 같이 구성되고 크세논 광원에 노출되었다. 도 15는 광 노출의 시간의 함수로서 나노와이어 층의 저항의 퍼센트 변화를 도시한다. 도 15에 도시된 바와 같이, 이러한 디바이스는 탁월한 광 안정성을 나타내었으며, 따라서 이는 페로센이 광 안정제로서 적절하다는 것을 실증한다.
밝은 영역: 저항의 유의미한 증가 없이(예를 들어, 1% 또는 2% 미만) 1000 시간을 초과.
에지 영역: 저항의 유의미한 증가 없이(예를 들어, 1% 또는 2% 미만) 1000 시간을 초과.
어두운 영역: 저항의 유의미한 증가 없이(예를 들어, 1% 또는 2% 미만) 1000 시간을 초과.
이상에서 설명된 다양한 실시예들이 추가적인 실시예들을 제공하기 위하여 결합될 수 있다. 본 명세서에서 언급되거나 및/또는 출원 데이터 시트에 열거된 미국 특허들, 미국 특허 출원 공보들, 미국 특허 출원들, 외국 특허들, 외국 특허 출원들 및 비-특허 공개문헌들의 전부는 그 전체가 본원에 참조로서 포함된다. 더 추가적인 실시예들을 제공하기 위하여 다양한 특허들, 출원들 및 공개문헌들의 개념들을 이용하는 것이 필요한 경우, 실시예들의 측면들이 수정될 수 있다.
이상의 상세한 설명을 고려하여 실시예들에 대해 이러한 그리고 다른 변화들이 이루어질 수 있다. 일반적으로, 다음의 청구항들에 있어, 사용되는 용어들은 청구항들을 명세서 및 청구항들에 개시된 특정 실시예들로 한정하도록 해석되지 않아야만 하며, 오히려 이러한 청구항들에 대한 등가물들의 완전한 범위와 함께 가능한 모든 실시예들을 포함하는 것으로 해석되어야만 한다. 따라서, 청구항들은 본 개시에 의해 한정되지 않는다.

Claims (26)

  1. 광학적 스택(stack)으로서,
    은 나노와이어들 또는 은 메시(mesh)를 포함하는 전도성 필름;
    전이 금속 염 또는 전이 배위 착물을 포함하는 광 안정제를 포함하는, 광학적 스택.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 광 안정제는 상기 전도성 필름 내에 존재하는, 광학적 스택.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 광학적 스택은, 상기 전도성 필름 위에 놓이는 오버코트(overcoat) 층을 더 포함하며, 상기 광 안정제는 상기 오버코트 층 내에 존재하는, 광학적 스택.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학적 스택은, 광학적으로 투명한 접착제 층을 더 포함하는, 광학적 스택.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 광 안정제는 상기 광학적으로 투명한 접착제 층 내에 존재하는, 광학적 스택.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광 안정제는, Fe(II), Fe(III), Co(II), Co(III), Mn(II), Mn(III), V(III), 또는 V(IV)의 전이 금속 염 또는 배위 착물인, 광학적 스택.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 전이 금속 염 또는 배위 착물은, 트리스(아세틸아세토네이토)("acac"), 페로센("FC"), 바이피리딘, 페난트롤린, N,N'-비스(살리실리덴)-에틸렌디아민, 아세테이트, 락테이트, 아스코르베이트, 글루코네이트, 시트레이트, 타르트레이트, 에틸렌디아민테트라아세테이트, 설페이트, 니트레이트, 및 테트라플루오로보레이트로 구성된 그룹으로부터 선택된 리간드를 갖는, 광학적 스택.
  8. 청구항 2에 있어서,
    상기 광 안정제는 철(III) 시트르산 3염기성 또는 FeSO4인, 광학적 스택.
  9. 청구항 3에 있어서,
    상기 광 안정제는 Fe(acac)3인, 광학적 스택.
  10. 청구항 5에 있어서,
    상기 광 안정제는 Co(acac)2인, 광학적 스택.
  11. 광학적 스택으로서,
    제 1 기판;
    상기 제 1 기판 위에 놓이며, 복수의 은 나노와이어들을 포함하는 나노와이어 층;
    상기 전도성 필름 위에 놓이는 광학적으로 투명한 접착제 층;
    상기 광학적으로 투명한 접착제 층 위에 놓이는 제 2 기판; 및
    전이 금속 염 또는 전이 배위 착물을 포함하는 광 안정제를 포함하는, 광학적 스택.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 광 안정제는 상기 제 1 기판 또는 상기 제 2 기판 내에 통합되는, 광학적 스택.
  13. 청구항 11에 있어서,
    상기 광 안정제는 상기 나노와이어 층 내에 통합되는, 광학적 스택.
  14. 청구항 11에 있어서,
    상기 광 안정제는 상기 광학적으로 투명한 접착제 층 내에 통합되는, 광학적 스택.
  15. 청구항 11에 있어서,
    상기 광학적 스택은, 상기 나노와이어 층과 상기 광학적으로 투명한 접착제 층 사이에 개재되는 오버코트를 더 포함하며, 상기 오버코트는 상기 복수의 은 나노와이어들과 접촉하는, 광학적 스택.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 오버코트는 상기 광 안정제를 통합하는, 광학적 스택.
  17. 청구항 11 내지 청구항 16 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광 안정제는, Fe(II), Fe(III), Co(II), Co(III), Mn(II), Mn(III), V(III), 또는 V(IV)의 전이 금속 염 또는 배위 착물인, 광학적 스택.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 전이 금속 염 또는 배위 착물은, 트리스(아세틸아세토네이토)("acac"), 페로센("FC"), 바이피리딘, 페난트롤린, N,N'-비스(살리실리덴)-에틸렌디아민, 아세테이트, 락테이트, 아스코르베이트, 글루코네이트, 시트레이트, 타르트레이트, 에틸렌디아민테트라아세테이트, 설페이트, 니트레이트, 및 테트라플루오로보레이트로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 리간드들을 갖는, 광학적 스택.
  19. 청구항 11 내지 청구항 18 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광 안정제는 유기 산과 함께 존재하는, 광학적 스택.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 유기 산은 아세트 산 또는 시트르 산인, 광학적 스택.
  21. 청구항 1 내지 청구항 20 중 어느 한 항의 상기 광학적 스택을 포함하는, 전자 디바이스.
  22. 청구항 21에 있어서,
    상기 전자 디바이스는 OLED, 광 전지, 터치 패널, 또는 디스플레이인, 전자 디바이스.
  23. 코팅 조성물로서,
    복수의 은 나노와이어들; 및
    전이 금속 염 또는 전이 배위 착물을 포함하는 광 안정제를 포함하는, 코팅 조성물.
  24. 청구항 23에 있어서,
    상기 광 안정제는, Fe(II), Fe(III), Co(II), Co(III), Mn(II), Mn(III), V(III), 또는 V(IV)의 전이 금속 염 또는 배위 착물인, 코팅 조성물.
  25. 청구항 23 또는 청구항 24에 있어서,
    상기 전이 금속 염 또는 배위 착물은, 트리스(아세틸아세토네이토)("acac"), 페로센("FC"), 바이피리딘, 페난트롤린, N,N'-비스(살리실리덴)-에틸렌디아민, 아세테이트, 락테이트, 아스코르베이트, 글루코네이트, 시트레이트, 타르트레이트, 에틸렌디아민테트라아세테이트, 설페이트, 니트레이트, 및 테트라플루오로보레이트로 구성된 그룹으로부터 선택된 리간드를 갖는, 코팅 조성물.
  26. 청구항 23에 있어서,
    상기 전이 금속 염 또는 전이 배위 착물은 (III) 시트르산 3염기성 또는 FeSO4인, 코팅 조성물.
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