KR20160135251A - 다공질 탄소, 그 제조방법, 및 다공질 탄소를 이용한 흡착/탈리 장치 - Google Patents

다공질 탄소, 그 제조방법, 및 다공질 탄소를 이용한 흡착/탈리 장치 Download PDF

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히로노리 오리카사
마사히로 도요다
도모키 츠무라
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Abstract

본 발명은, 산화 소모 온도가 높은 다공질 탄소, 그 제조 방법, 및 다공질 탄소를 이용한 흡착/탈리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 메소공과 그 메소공의 외곽을 구성하는 탄소질벽을 구비한 다공질 탄소로서, 주로 하드 카본으로 구성되고 산화 소모 온도가 600℃ 이상인 것을 특징으로 하는 것이며, 2500℃ 이상에서 30분 이상 60분 이하로 가열한 후에, X선 회절법에 의해서 (002)면의 평균면간격 d(002)를 측정한 결과, 당해 값이 0.350nm 이상인 것이 바람직하다.

Description

다공질 탄소, 그 제조방법, 및 다공질 탄소를 이용한 흡착/탈리 장치 {POROUS CARBON, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND ADSORPTION/DESORPTION DEVICE USING POROUS CARBON}
본 발명은 다공질 탄소, 그 제조방법, 및 다공질 탄소를 이용한 흡착/탈리 장치에 관한 것이다.
다공질 탄소의 제조방법으로서는, 목재 펄프, 톱밥, 야자각, 면실각, 왕겨 등의 셀룰로오스질이나, 조, 피, 옥수수 등의 전분질, 리그닌 등의 식물성 원료, 석탄이나 타르, 석유 피치 등의 광물성 원료, 또는 페놀 수지나 폴리아크릴로니트릴 등의 합성 수지 등을 원료로 하고, 이것을 비산화성 분위기 하에서 가열하여서 탄소화하는 방법이 주지이며, 또한 이들의 탄소화물(활성탄)을 약제로 처리하여 활력화하는 방법도 잘 알려져 있다.
또한 최근에는 활력용의 약제로서 수산화칼륨을 사용하고, 이것을 유기질 수지와 혼합하여서 비산화성 분위기 하에서 가열하면, 3000 ㎡/g에나 달하는 높은 비표면적의 활성탄이 얻어지는 것이 확인되어서, 주목을 끌고 있다(하기 특허문헌 1 참조). 그런데, 상기 방법은 공업적 규모에서의 실용화에는 적합하지 않다.
이러한 점을 고려하여서, 유기질 수지를 알칼리 토류 금속의 산화물, 수산화물, 탄산염, 유기산염으로 이루어진 군에서 선택되는 알칼리 토류 금속 화합물의 적어도 1종과 혼합하고, 비산화성 분위기에서 가열 소성하는 공정을 포함하는 활성탄의 제조방법이 제안되고 있다(하기 특허문헌 2 참조).
특허문헌 1: 특개평9-86914호 공보 특허문헌 2: 특개2006-062954호 공보
그렇지만, 상기 종래의 방법으로 제작할 경우에는, 산화 소모 온도가 낮아진다고 하는 과제를 가지고 있었다.
그래서 본 발명은 산화 소모 온도가 높은 다공질 탄소, 그 제조방법, 및 다공질 탄소를 이용한 흡착/탈리 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명은, 메소공(孔)과 이 메소공의 외곽을 구성하는 탄소질벽을 구비한 다공질 탄소로서, 주로 하드 카본으로 구성되고, 산화 소모 온도가 600℃ 이상인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 산화 소모 온도가 높아진다고 하는 우수한 효과를 나타낸다.
도 1은 본 발명의 제조공정을 나타낸 도면으로서, 도면 (a)는 원료의 화학식을 나타낸 설명도, 도면 (b)는 원료를 열처리한 상태를 나타낸 설명도, 도면 (c)는 다공질 탄소를 나타낸 설명도이다.
도 2는 탄소 A1에서의 탄소 중량과 온도와의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 3은 탄소 A2에서의 탄소 중량과 온도와의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 4는 탄소 A3에서의 탄소 중량과 온도와의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 5는 탄소 A4에서의 탄소 중량과 온도와의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 6은 탄소 A5에서의 탄소 중량과 온도와의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 7은 탄소 A6에서의 탄소 중량과 온도와의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 8은 탄소 A7에서의 탄소 중량과 온도와의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 9는 탄소 Z에서의 탄소 중량과 온도와의 관계를 나타낸 그래프이다.
본 발명은, 메소공과 이 메소공의 외곽을 구성하는 탄소질벽을 구비한 다공질 탄소로서, 주로 하드 카본으로 구성되고, 산화 소모 온도가 600℃ 이상인 것을 특징으로 한다.
상기 구성에 의하면, 산화 소모 온도가 높아진다고 하는 뛰어난 효과를 나타낸다. 주로 하드 카본으로 구성되어 있으면, 내열성이 뛰어나기 때문에, 산화 소모 온도가 높아지는 것 외에, 전기 절연성이 뛰어나다. 또한, 분말 강도가 높아지므로, 외력이 가해졌을 경우에도 입도 변화가 적게 된다.
여기서, 주로 하드 카본으로 구성된다는 것은, 하드 카본의 비율이 90 질량% 이상인 경우를 말한다. 또한, 하드 카본의 비율은 95 질량% 이상, 특히 99 질량% 이상인 것이 바람직하고, 가장 바람직한 것은 전부가 하드 카본인 경우이다.
2500℃에서 30분 이상 60분 이하로 가열한 후에, X선 회절법에 의해서 (002)면의 평균면간격 d(002)를 측정한 경우, 당해 값이 0.350 nm 이상인 것이 바람직하다.
2500℃에서 30분 이상 60분 이하로 가열한 경우에는, 흑연화 되어 있다고 상정되기 때문에, 당해 상태에서 X선 회절법에 의한 (002)면의 평균면간격 d(002)를 규정하고 있다.
여기서, 본 명세서에 있어서, 하드 카본이란, 2500℃에서 30분 이상 60분 이하로 가열한 경우에 (002)면의 면간격 d(002)의 값이 0.340 nm 이상이 되는 카본을 말하고, 소프트 카본이란, 2500℃에서 30분 이상 60분 이하로 가열한 경우에 (002)면의 면간격 d(002)의 값이 0.340 nm 미만이 되는 카본을 말한다.
비표면적이 500 ㎡/g 이상인 것이 바람직하다.
비표면적이 500 ㎡/g 미만이면, 기공의 형성량이 불충분하게 되기 때문에, 예를 들면 흡착/탈리제로서 이용된 경우에 가스 흡착능이 저하하는 경우가 있다. 일반적으로, 열처리를 하면, 다공질 탄소의 비표면적은 작아지지만, 본 발명에서와 같이 주로 하드 카본으로 구성되어 있으면, 비표면적이 작아지기 어려워진다. 따라서, 가스 흡착능이 저하하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 비표면적의 상한은 한정하는 것은 아니지만, 일반적으로는, 1700 ㎡/g가 상한이다.
상기 메소공의 용량은 0.2㎖/g 이상인 것이 바람직하다.
메소공의 용량이 0.2㎖/g 미만이면, 상술한 바와 같이 흡착/탈리제로서 이용된 경우에, 비표면적을 확보하는 것이 곤란하고, 더욱이 상대 압력이 높은 경우의 가스 흡착능이 저하하는 경우가 있다. 일반적으로, 열처리를 하면, 다공질 탄소의 메소공의 용량은 작아지지만, 본 발명에서와 같이 주로 하드 카본으로 구성되어 있으면, 메소공의 용량이 작아지기 어려워진다. 따라서, 상대 압력이 높은 경우의 가스 흡착능이 저하하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 메소공의 용량의 상한은 한정하는 것은 아니지만, 일반적으로는, 1.0㎖/g가 상한이다.
진밀도는 1.0 g/cc 이상인 것이 바람직하다.
진밀도가 1.0 g/cc 미만이면, 비표면적을 확보하는 것이 곤란하고, 탄소질벽의 형상이 유지될 수 없게 되는 경우가 있다. 일반적으로, 열처리를 하면, 다공질 탄소의 진밀도는 낮아지지만, 본 발명에서와 같이 주로 하드 카본으로 구성되어 있으면, 진밀도가 저하하기 어려워진다. 따라서, 탄소질벽의 형상이 유지될 수 없게 되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 진밀도의 상한은 한정하는 것은 아니지만, 일반적으로는 1.9 g/cc가 상한이다.
또한, 본 발명은 금속 유기산의 수화물을 이용하여서 메소공을 가지는 탄소질 소성체를 제작하는 제1 스텝과, 상기 탄소질 소성체를 비산화 분위기 하에 1500℃ 이상 3000℃ 이하에서 1분 이상 60분 이하로 열처리 하는 제2 스텝을 가지는 것을 특징으로 한다.
열처리 온도와 열처리 시간을 규제하는 것은, 이하에 나타내는 이유에 의한 것이다.
열처리 온도가 1500℃ 미만으로 되거나 열처리 시간이 1분 미만으로 되거나 하면, 열처리가 불충분하게 되어서, 산화 소모 온도가 낮아지거나 비표면적이 너무 커지거나 메소공의 용량이 너무 커지거나 진밀도가 너무 높아지거나 하는 경우가 있다. 한편, 열처리 온도가 3000℃를 넘거나 열처리 시간이 60분을 넘으면, 열처리가 과잉이 되어서, 비표면적이 너무 작아지거나 메소공의 용량이 너무 작아지거나 진밀도가 너무 낮아지거나 하는 경우가 있다.
또한, 비산화 분위기란, 아르곤 가스 분위기 혹은 질소 가스 분위기 등의 경우 외에, 감압 분위기[133 Pa (1 torr) 이하]를 포함한다.
상기 열처리에서의 승온 속도가 5℃/min 이상 30℃/min 이하인 것이 바람직하다.
흡착/탈리 장치에, 상술한 다공질 탄소가 흡착/탈리제로서 이용되는 것을 특징으로 한다.
종래 이용되고 있던 활성탄에서는, 산화 소모 온도가 300℃ 이하이며, 300℃ 이상의 분위기 하에서는 흡착/탈리제로서 사용할 수 없었다. 본원의 다공질 탄소는, 산화 소모 온도가 600℃ 이상이며, 고온에서도 포러스 구조가 유지되므로, 300℃ 이상의 내산화성이 요구되는 상황 하에서도, 흡착/탈리제로서 사용할 수 있다. 또한, 고온에서 사용할 수 있는 흡착/탈리 장치로서 금속 필터가 존재하지만, 당해 필터의 구멍 사이즈는 다공질 탄소와 비교하면, 현격하게 크다. 따라서, 본원의 다공질 탄소를 이용한 흡착/탈리 장치에 비하면, 흡착/탈리 성능이 현저하게 뒤떨어진다.
상기 탄소질벽은 3차원 그물코 구조를 이루는 것이 바람직하고, 또한 메소공은 개(開)기공으로서, 기공 부분이 연속하는 것과 같은 구성으로 되어 있는 것이 바람직하다.
이들 구성이라면, 본 발명의 다공질 탄소를 흡착/탈리제로서 이용한 경우에, 가스의 흐름이 원활하게 되므로, 보다 가스를 보충하기 쉽고, 가스 흡착능이 향상한다.
여기서, 구체적인 실시 형태를 이하에 설명한다.
본 발명의 다공질 탄소는, 열처리에 의한 열분해 과정에서, 주형 입자인 산화물(예를 들면, 산화 마그네슘)과 탄소로 상태가 변화하는, 금속 유기산(구연산 마그네슘, 옥살산 마그네슘, 구연산 칼슘, 옥살산 칼슘 등)의 수화물을 원료로서 사용한다. 그리고, 이 원료를 비산화 분위기 혹은 감압 분위기에서, 예를 들면 500℃ 이상의 온도에서 탄화한 후, 세정 처리 함으로써 산화물을 제거하여서 탄소질 소성체를 제작하고, 그 후에 이 비정질의 다공질 탄소를 비산화 분위기에서 1500℃ 이상 3000℃ 이하에서 1분 이상 60분 이하로 열처리 함으로써 얻어진다.
상기 비정질 다공질 탄소는 다수의 메소공을 가지고 있고, 이 메소공 사이에 형성된 탄소질벽에서의 메소공에 면하는 위치에는, 미크로공(孔)이 형성되어 있는 것과 같은 구조로 되어 있다. 또한, 상기 탄소질 소성체의 열처리에 있어서는, 다수의 메소공이 존재한 상태는 유지되고 있다. 또한, 본 명세서에 있어서는, 세공 지름이 2 nm 미만의 것을 미크로공, 세공 지름이 2~50 nm의 것을 메소공이라고 칭하는 것으로 한다.
여기서, 탄소질 소성체를 제작하는 경우의 원료로서는, 상기 금속 유기산의 수화물로 한정하는 것이 아니고, 유기질 수지와 산화물(주형 입자)을 습식 혹은 건식 혼합한 것을 이용해도 된다.
상기 산화물(주형 입자)로서는, 알칼리 토류 금속의 산화물 등을 들 수 있다. 알칼리 토류 금속으로서는 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨 등을 들 수 있지만, 이들 중에서도 바람직한 것은 마그네슘과 칼슘이며, 특히 마그네슘이 최적이다. 상기 산화물의 형태는 특별히 제한되지 않고, 분말상, 펠릿상, 과립상, 페이스트상 등의 임의의 형태로 사용할 수 있지만, 특히 바람직한 것은 상기 유기질 수지와 균일 혼합하기 쉽고 탄화물의 다공질화에 가장 유효한 분말상 혹은 과립상의 것이다. 상기 유기질 수지에 대한 상기 산화물의 배합 비율은 특별히 제한되지 않지만, 얻어지는 다공질 탄소의 다공질화를 증진하는 데에 특히 바람직한 것은, 상기 유기질 수지 100 질량부에 대하여 상기 산화물이 40~700 질량부의 범위이다. 덧붙여서, 상기 산화물의 배합 비율이 40 질량부 미만에서는, 다공질 탄소에 대한 다공질화 증진 효과가 부족한 경향이 된다. 한편, 다공질 탄소의 다공질화 작용의 관점에서 보면, 상기 산화물의 배합 비율에 상한은 존재하지 않지만, 그 작용은 700 질량부에서 거의 포화되고, 그 이상 배합하여도 그 이상으로 비표면적은 증대하지 않고, 상기 산화물의 사용량이 쓸데없이 증대할 뿐만 아니라, 탄화 처리 후의 상기 산화물의 제거 작업성도 저하하므로 바람직하지 않다. 상기 산화물의 배합량의 보다 바람직한 하한치는 100 질량부이고, 보다 바람직한 상한치는 300 질량부이다. 상기 유기질 수지와 상기 산화물의 배합 형태에도 각별한 제한은 없고, 가장 일반적인 분말이나 과립상물 등의 고형물끼리의 균일 혼합의 외에, 예를 들면 상기 유기질 수지를 가열 용융 하고, 여기에 상기 산화물을 균일 분산시키고 나서, 구상, 펠릿상, 괴상 등의 임의의 형상으로 2차 성형한 것, 나아가서는 유기용제나 물 등에 용해한 상기 유기질 수지와 상기 산화물의 혼합 용액이나 슬러리나 그 건조물 등의 임의의 형태로 사용할 수 있다.
상기 유기질 수지로서는, 단위 구조 중에 적어도 하나 이상의 질소를 포함하는 폴리이미드 또는 탄소화 수율이 40 중량% 이상 85 중량% 이하의 수지, 예를 들면 페놀 수지 등이 바람직하게 이용된다.
상기 단위 구조 중에 적어도 하나 이상의 질소를 포함하는 폴리이미드는 산 성분과 디아민 성분과의 중축합에 의해 얻을 수 있다. 다만, 이 경우, 산 성분 및 디아민 성분의 어느 한쪽 또는 양쪽에 하나 이상의 질소 원자를 포함할 필요가 있다.
구체적으로는, 폴리이미드의 전구체인 폴리아미드산을 성막하고, 용매를 가열제거 함으로써 폴리아미드산막을 얻는다. 이어서, 얻어진 폴리아미드산막을 200℃ 이상에서 열이미드화 함으로써 폴리이미드를 제조할 수 있다.
상기 디아민으로서는, p-페닐렌 디아민(PPD), 디옥시디아닐린 등의 방향족 디아민을 예시할 수 있다. 또한, 상기 디아민 성분은 상기 각각의 방향족 디아민을 2종 이상 조합하여 사용하여도 된다.
한편, 산 성분으로서는, 3,4,3',4'-비페닐테트라카르본산 이무수물(BPDA), 피로메리트산 이무수물(PMDA) 등을 들 수 있다.
또한, 폴리이미드 전구체의 용매로서 이용하는 유기용매는, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸 포름아미드 등을 들 수 있다.
이미드화의 수법으로서는 공지의 방법 [예를 들면, 고분자학회 편 「신 고분자 실험학」 쿄리츠 출판, 1996년 3월 28일, 제3권, 고분자의 합성·반응(2), 158면 참조]에 나타나 있는 바와 같이, 가열 혹은 화학 이미드화의 어느 쪽의 방법에 의해서도 되고, 본 발명은 그 이미드화의 방법에는 좌우되지 않는다.
또한, 폴리이미드 이외의 수지로서는, 석유계 타르 피치, 아크릴 수지 등의 40% 이상의 탄소 수율을 가지는 것을 사용할 수 있다.
또한, 산화물을 제거하는 세정액으로서는, 염산, 황산, 질산, 구연산, 초산, 포름산 등의 일반적인 무기산을 사용하고, 2 mol/L 이하의 희산으로서 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 80℃ 이상의 열수를 사용하는 것도 가능하다.
실시예
[제1 실시예]
(실시예 1)
우선, 도 1(a)에 나타내는 바와 같이, 탄소 전구체와 주형 입자 전구체를 겸하는 2구연산 3마그네슘 9수화물 [Mg3(C6H5O7)2·9H2O]를 준비하고, 이것을 아르곤 분위기 중에서 900℃에서 1시간 열처리 하였다. 이로써, 도 1(b)에 나타내는 바와 같이, 주형 입자인 MgO와 탄소질벽(3)을 구비한 소성물을 얻었다. 이어서, 얻어진 소성물을 1 mol/L의 비율로 첨가된 황산 용액으로 세정하여서, MgO를 완전하게 용출시킴으로써, 도 1(c)에 나타내는 바와 같이, 다수의 메소공(4)를 가지는 비정질의 다공질 탄소(5)를 얻었다. 마지막으로, 이 비정질의 다공질 탄소를 이하에 나타내는 조건으로 열처리 하여서, 다공질 탄소를 얻었다.
- 열처리 조건
분위기: 아르곤 가스 분위기
열처리 온도: 1800℃ (20℃/분으로 온도 상승)
열처리 시간: 30분
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 A1이라고 칭한다.
(실시예 2)
비정질의 다공질 탄소의 열처리 온도를 2000℃로 한 것 외에는, 상기 실시예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 A2라고 칭한다.
(실시예 3)
비정질의 다공질 탄소의 열처리 온도를 2200℃로 한 것 외에는, 상기 실시예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 A3라고 칭한다.
(실시예 4)
비정질의 다공질 탄소의 열처리 온도를 2400℃로 한 것 외에는, 상기 실시예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 A4라고 칭한다.
(실시예 5)
비정질의 다공질 탄소의 열처리 온도를 2500℃로 한 것 외에는, 상기 실시예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 A5라고 칭한다.
(실시예 6)
비정질의 다공질 탄소의 열처리 온도를 2700℃로 한 것 외에는, 상기 실시예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 A6라고 칭한다.
(실시예 7)
비정질의 다공질 탄소의 열처리 온도를 3000℃로 한 것 외에는, 상기 실시예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 A7라고 칭한다.
(비교예)
비정질의 다공질 탄소의 열처리를 실시하지 않았던 것 외에는, 상기 실시예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 Z로 칭한다.
(실험 1)
상기 탄소 A1~A7, Z를 대기 분위기 하에서 승온하여서, 탄소 중량과 온도와의 관계를 조사하였으므로, 그 결과를 도 2~도 9에 나타낸다. 도 2는 탄소 A1의 그래프, 도 3은 탄소 A2의 그래프, 도 4는 탄소 A3의 그래프, 도 5는 탄소 A4의 그래프, 도 6은 탄소 A5의 그래프, 도 7은 탄소 A6의 그래프, 도 8은 탄소 A7의 그래프, 도 9는 탄소 Z의 그래프이다. 또한, 도 2~도 9로부터 탄소 A1~A7, Z의 산화 소모 온도를 도출하였으므로, 그 결과를 표 1에 나타낸다.
여기서, 상기 산화 소모 온도란, 예를 들면 도 2에 나타내는 바와 같이, 거의 중량 변화하지 않는 부분(횡축으로 대략 평향인 부분)의 가상 연장선 A와 중량 변화가 현저한 부분의 가상 연장선 B와의 교점 C에서의 온도이다.
또한, 표 1에는 탄소 A1~A7, Z의 비표면적, 메소공의 용량 및 진밀도에 대해서도 아울러 나타낸다. 상기 비표면적은, 시료에 질소 가스를 77K의 온도 중의 각각의 상대 압력에서 흡착시키고, 흡착 등온선을 측정하고, BET법에 의해서 산출하였다. 상기 메소공의 용량은, 흡착 등온선으로부터 산출된 전체 세공 용적 및 DA법을 이용한 미크로공 용적을 이용하고, 전체 세공 용적으로부터 미크로공 용적을 공제함으로써 메소공 용량을 산출하였다. 진밀도는, 피크노미터에 게이뤼삭 비중병을 이용하고, 침투액으로 1-부탄올을 이용하여서, 피크노미터법에 의해서 측정하였다.
탄소의
종류
열처리 산화소모온도
(℃)
비표면적
(㎡/g)
메소공의
용량 (ml/g)
진밀도
(g/cc)
유무 온도(℃)
탄소 A1 1800 620 1680 0.98 1.83
탄소 A2 2000 620 1550 0.99 1.63
탄소 A3 2200 625 1310 0.91 1.63
탄소 A4 2400 645 1250 0.75 1.51
탄소 A5 2500 650 998 0.47 1.35
탄소 A6 2700 653 512 0.23 1.14
탄소 A7 3000 672 501 0.22 1.15
탄소 Z - 575 1705 1.80 1.93
표 1로부터 명백한 바와 같이, 산화 소모 온도에 있어서, 탄소 Z에서는 575℃인 것에 대해서 탄소 A1~A7에서는 620~672℃로서, 탄소 A1~A7는 탄소 Z보다 높아지고 있는 것을 알 수 있다. 또한, 열처리 한 것에 기인하여서, 탄소 A1~A7는 탄소 Z에 비해서, 비표면적, 진밀도 및 메소공의 용량이 작아지고 있는 것을 알 수 있다. 다만, 탄소 A1~A7에서의 비표면적은 500 ㎡/g 이상이며, 메소공의 용량은 0.2㎖/g 이상이고, 진밀도는 1.0g/cc 이상이므로, 실용상의 문제는 없다.
[제2 실시예]
(실시예 1~5)
실시예 1~5로서 상기 제 1 실시예의 실시예 1, 실시예 3, 실시예 5, 실시예 6, 실시예 7에서 나타낸 탄소 A1, 탄소 A3, 탄소 A5, 탄소 A6, 탄소 A7를 이용하였다.
(비교예 1)
탄소 전구체와 주형 입자 전구체를 겸하는 2구연산 3마그네슘 [Mg3(C6H5O7)2로 나타내고, 수화되어 있지 않은 것]을 이용하고, 열처리 시간을 60분으로 한 것 이외에는, 상기 제 1 실시예의 실시예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 Y1라고 칭한다.
(비교예 2)
비정질의 다공질 탄소의 열처리 온도를 2200℃로 한 것 외에는, 상기 비교예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 Y2라고 칭한다.
(비교예 3)
비정질의 다공질 탄소의 열처리 온도를 2500℃로 한 것 외에는, 상기 비교예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 Y3라고 칭한다.
(비교예 4)
비정질의 다공질 탄소의 열처리 온도를 2800℃로 한 것 외에는, 상기 비교예 1과 동일하게 하여서 다공질 탄소를 제작하였다.
이와 같이 하여서 제작한 다공질 탄소를, 이하, 탄소 Y4라고 칭한다.
(실험 1)
상기 탄소 A3, A5~A7, Y2~Y4에서의 하드 카본의 비율과 X선 회절법(선원: CuKα선)에 의한 (002)면의 평균면간격 d(002) (이하, 간단하게 평균면간격 d(002)라고 칭하는 경우가 있음)를 조사하였으므로, 그 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 상기 탄소 A5, Y3에서의 산화 소모율을 조사하였으므로, 그 결과를 표 2에 나타낸다.
상기 평균면간격 d(002)는 X선 회절법으로부터 얻어진 회절 프로파일에 있어서, 002면의 회절 피크가 2개 이상 존재할 때에는, 각 회절 피크 톱의 2θ를 이용하여서, 각각의 Bragg의 식[2dsinθ=λ (λ=1.5148Å)]으로부터 d(002)를 산출한 후, 평균치를 산출하고, 평균면간격 d(002)로 하였다. 또한, 002면의 회절 피크가 1개인 경우는, 회절 피크 톱의 2θ를 이용하여서, Bragg의 식[2dsinθ=λ (λ=1.5148Å)]으로부터 d(002)를 산출하고, 평균면간격 d(002)로 하였다.
또한, 하드 카본의 비율에 있어서는, 평균면간격 d(002)와 열분해의 그래프로부터 산출하였다. 구체적으로는, 평균면간격 d(002)의 값으로부터, 하드 카본만으로부터 구성되어 있는지, 소프트 카본만으로부터 구성되어 있는지, 소프트 카본과 하드 카본과의 혼합물로 구성되어 있는지가 판명된다. 그리고, 소프트 카본과 하드 카본과의 혼합물로 구성되어 있는 경우에는, 열분해의 그래프의 면적비로부터, 소프트 카본과 하드 카본과의 비율을 계산하였다.
또한, 상기 산화 소모율은, 이하와 같이 하여서 산출하였다. 우선, 건조 중량 1g의 샘플을 알루미나 제 도가니에 넣고, 대기 중의 700℃에서 1시간 유지하였다. 그 후, 자연 냉각하고, 도가니에 남은 잔분을 칭량하여서, 이것을 Xg로 하였다. 그리고, 하기 식(1)로부터 산화 소모율을 산출하였다.
산화 소모율 = {(1g-Xg)/1g}×100 ··· (1)
탄소의
종류
열처리온도
(℃)
하드카본의
비율(질량%)
평균면간격
d(002) (nm)
산화소모율
(mass%)
탄소 A3 2200 100 0.362 -
탄소 Y2 89 0.348 -
탄소 A5 2500 100 0.355 17
탄소 Y3 71 0.347 38
탄소 A6 2700 100 0.351 -
탄소 Y4 2800 56 0.346 -
탄소 A7 3000 100 0.350 -
상기 표 2로부터 명백한 바와 같이, 탄소 Y2~Y4에서는 하드 카본의 비율이 56~89%로 되어 있는 것에 대하여, 탄소 A3, A5~A7에서는 하드 카본의 비율이 모두 100%로 되어 있는 것이 인정된다. 이것은, 이하에 나타내는 이유에 의한 것이라고 생각된다. 탄소 A3, A5~A7에서는, 원료로서 수화물(2구연산 3마그네슘 9수화물)을 이용하고 있으므로, 소성 시에 H2O가 존재하고, 산소가 존재한다. 이 때문에, 구연산이 불융화 하여서, 하드 카본의 비율이 높아진다. 이것에 대하여, 탄소 Y2~Y4에서는, 원료로서 수화물을 이용하지 않기 때문에, 소성 시에 H2O가 존재하지 않고, 산소가 존재하지 않는다. 따라서, 구연산이 중축합 하여서 용융하기 때문에, 하드 카본의 비율이 낮아진다.
또한, 탄소 Y2~Y4에서는 평균면간격 d(002)가 0.346~0.348nm로 되어 있는 것에 대하여, 탄소 A3, A5~A7에서는 평균면간격 d(002)가 0.350~0.362nm로 되어 있는 것이 인정된다. 이것은, 탄소 A3, A5~A7는 탄소 Y2~Y4에 비해 하드 카본의 비율이 높은 것에 기인하는 것이라고 생각된다.
나아가, 탄소 Y3에서는 산화 소모율이 38 mass%로 되어 있는 것에 대하여, 탄소 A5에서는 산화 소모율이 17 mass%로 되어 있는 것이 인정되고, 탄소 A5는 탄소 Y3에 비해서 내산화성이 높아지고 있었다. 이것도, 탄소 A5는 탄소 Y3에 비해서 하드 카본의 비율이 높은 것에 기인하는 것이라고 생각된다.
(실험 2)
상기 탄소 A1, A3, A5, Y1~Y3에서의 전기 전도율을 조사하였으므로, 그 결과를 표 3에 나타낸다. 또한, 전기 전도율은, 분체용 전기 전도도 측정셀(유한회사 타크미기연 제)의 실린더부에 시료 200mg를 충전하고, 20 MPa의 압력을 가하면서 전기 저항을 측정하였다.
탄소의 종류 열처리온도
(℃)
전기전도율
(S/m)
탄소 A1 1800 72
탄소 Y1 99
탄소 A3 2200 68
탄소 Y2 120
탄소 A5 2500 65
탄소 Y3 159
상기 표 3으로부터 명백한 바와 같이, 탄소 Y1~Y3에서는 전기 전도율이 99~159 S/m인 것에 대하여, 탄소 A1, A3, A5에서는 전기 전도율이 65~72 S/m인 것이 인정된다. 이와 같이, 탄소 A1, A3, A5는 탄소 Y1~Y3에 비해서 전기 전도율이 낮아지는 것은, 실험 2에서 나타낸 바와 같이, 탄소 A1, A3, A5는 탄소 Y1~Y3에 비해서 하드 카본의 비율이 높은 것에 기인하는 것이라고 생각된다. 또한, 탄소 Y1~Y3에서는 열처리 온도가 올라감에 따라 전기 전도율이 높아지는 것에 대하여, 탄소 A1, A3, A5에서는 열처리 온도가 올라감에 따라 전기 전도율이 낮아지는 것이 인정된다.
본 발명은 케미컬 필터, 금속 메쉬 필터, 컬럼 충전제, 액체 필터 등에 이용할 수 있다.
1: 폴리아믹산수지(이미드계 수지)
2: 산화 마그네슘
3: 탄소질벽
4: 메소공
5: 다공질 탄소

Claims (8)

  1. 메소공과 상기 메소공의 외곽을 구성하는 탄소질벽을 구비한 다공질 탄소로서, 주로 하드 카본으로 구성되고, 산화 소모 온도가 600℃ 이상인 것을 특징으로 하는 다공질 탄소.
  2. 청구항 1에 있어서,
    2500℃에서 30분 이상 60분 이하로 가열한 후에, X선 회절법에 의해 (002)면의 평균면간격 d(002)를 측정한 경우, 당해 값이 0.350 nm 이상인, 다공질 탄소.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    비표면적이 500 ㎡/g 이상인, 다공질 탄소.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중의 어느 한 항에 있어서,
    상기 메소공의 용량은 0.2 ㎖/g 이상인, 다공질 탄소.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중의 어느 한 항에 있어서,
    진밀도는 1.0 g/cc 이상인, 다공질 탄소.
  6. 금속 유기산의 수화물을 이용하여 메소공을 가지는 탄소질 소성체를 제작하는 제1 스텝과,
    상기 탄소질 소성체를 비산화 분위기 하에 1500℃ 이상 3000℃ 이하에서 1분 이상 60분 이하로 열처리하는 제2 스텝을 가지는 것을 특징으로 하는 다공질 탄소의 제조 방법.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 열처리에서의 승온 속도가 5℃/min 이상 30℃/min 이하인, 다공질 탄소의 제조 방법.
  8. 청구항 1 내지 청구항 5 중의 어느 한 항의 다공질 탄소가 흡착/탈리제로서 이용되는 것을 특징으로 하는 흡착/탈리 장치.
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