KR20160129873A - Ｘ선 콜리메이터 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 x선 콜리메이터에 관한 것으로, 기판(10)에 다수의 구멍들(30)이 형성되어 있고, 각 구멍은 단부에 절두원추형 부분(40)이 있고 타단부에는 관형 ㅂ부위(50)가 있어, x선 촬영장치에 사용할 수 있으며, 이런 x선 콜리메이터는 2차원 배열의 x선 소스(70) 및 2차원 x선 센서(130)와 정렬되어, x선 소스의 x선 광자들이 콜리메이터의 구멍들을 통과한 다음 좁은 앵글콘으로 x선 광자 빔으로 방출되는데, 이런 광자 빔은 콜리메이터의 출구 구멍들과 x선 센서 사이에 위치한 촬영할 물체(110)를 투과한다.

Description

Ｘ선 콜리메이터{X-RAY COLLIMATOR}
본 발명은 x선 콜리메이터와 x선 영상 획득 방법에 관한 것으로, 구체적으로는 x선 제동복사선의 조준 설비에 관한 것이며, 이때 x선 소스는 2차원으로 배열된 다수의 x선 소스들을 포함한다.
x선 조준을 하면 영상의 화질이 개선된다고 알려져 있는데, 이는 이런 조준으로 인해 촬영할 물체를 통과한 뒤 x선 센서에 도달하는 x선 광자의 산란이 줄어들기 때문이다. 즉, 조준이 없을 경우 산란된 x선 광자들은 센서요소의 판독에 영향을 미쳐 x선 영상의 전체 콘트라스트를 낮추고, x선 소스에서 곧바로 센서에 보내진 미산란 x선 광자들처럼 진단 정보를 전달하지 않는다. 산란된 광자들은 방사선사진을 흐리게 한다.
일반적으로, 기존의 x선 콜리메이터들은 흔히 ASG(anti-scatter grid)라 하는 2차원 그리드를 포함하는데, 이런 그리드는 센서 바로 앞에 위치하면서 넓은 각도로 발산하는 광자들을 흡수하거나 차폐한다. 이런 ASG는 광자들을 조준하는 베니션 블라인드처럼 동작하는 고밀도 금속들로 이루어진 격자 구조를 갖는다. 다양한 형상과 제작방법들이 여러 문헌에 기록되어 있는데, 이들 모두 원치않는 산란 광자들이 센서에 부딪치는 것을 줄이는 것을 목표로 한다.
산란방지법 외에도 x선 렌즈를 포함해, 초점 성능을 개선하여 x선 초점을 맞추고자 하는 다양한 시도가 이루어졌다. x선 렌즈의 예로는 폴리캐폴라리 렌즈와 월터 렌즈가 있는데, 이들 렌즈 둘다 하나의 x선 소스를 집합적으로 반사시킨다. 물론 굴절렌즈도 사용했다.
최근에는 마이크로미터 크기의 x선 소스가 개발되어, 이제 x선 소스의 간격을 100㎛ 내지 1㎝ 이상으로 한 2차원 격자형 x선 소스를 생산할 수 있다.
이런 2차원 x선 소스의 일례가 WO2011/017645에 소개되었다.
공지의 조준렌즈 방법들은 2차원 격자형 x선 소스를 조준하는데 유용하지 못하므로, 본 발명의 목적은 공지의 x선 조준방법의 단점들을 줄이고 2차원 격자형 x선 소스에서 나오는 x선을 조준하는 수단을 제공하는데 있다.
본 발명의 목적은 x선 조준수단으로서, 하나의 x선 소스로부터 다수의 조준요소들인 조준공들을 통해 x선 광자들을 받는데 있다. 본 발명의 다른 목적은 x선 조준수단으로서, 각각의 조준공을 가로세로비가 높은 테이퍼 형상을 갖도록 하고 마이크로미터 크기의 2차원 격자형 x선 소스에 정렬하여 x선 출력 각도와 분포를 조절하는데 있다. 이와 관련해, 가로세로비, 즉 높이 대 폭의 비를 10:1 내지 1000:1 정도로 한다.
본 발명은 기판에 다수의 구멍들이 형성된 x선 콜리메이터를 제공하는데, 이 구멍들 중의 적어도 일부는 테이퍼형 입구와 구멍 길이를 따라 입구에 이어진 관형 부위를 갖고, 테이퍼형 입구가 절두원추형 부분이며, x선 소스가 테이퍼형 입구에 배치되며, 구멍들 중의 적어도 일부의 구멍 각각은 좁은 앵글콘(angle cone)으로 x선 광자 빔을 방출한다.
여기서, "좁은 앵글콘"이란 방출 각도가 평행하거나 편차가 1도 내지 20도 범위에 있음을 의미한다.
이런 구멍들은 2차원으로 배열되는데, 2차원 배열은 격자 형태일 수 있고, 격자란 행과 열이 일정 간격으로 된 것을 말하지만, 불규칙적일 수도 있다.
기판은 실리콘이나 유리를 포함할 수 있고, 유리는 용융실리카로 이루어질 수 잇다.
절두원추형 부분이 포물선 형상을 취할 수 있다. 이런 포물선 형상으로는 윈스톤콘(Winston Cone)으로 알려진 형상을 포함한다. 관형 부분은 원통형일 수 있다.
절두원추형 부분의 입구와 관형 부위의 출구 사이의 간격은 출구의 직경보다 커서, 전달되는 x선의 오픈 각도가 미안내 복사선의 오픈 각도보다 작아지도록 하는 것이 좋다.
절두원추형 부분의 입구와 관형 부위의 출구 사이의 간격은 "정상 콜리메이터 길이"로 알려져 있다.
정상 콜리메이터 길이는 출구의 직경보다 10배 이상 더 커서, 전달되는 x선의 오픈 각도가 미안내 복사선의 오픈 각도보다 작아지도록 하는 것이 좋다.
정상 콜리메이터 길이 대 출구 직경의 비율을 콜리메이터의 "가로세로비"라 한다.
구멍들의 내면에 박막이 코팅될 수 있다. 이 박막은 적어도 1겹의 텅스텐 막이나 이리듐 막을 포함하거나, 2겹의 텅스텐과 알루미늄 산화물 막, 텅스텐과 실리콘 막 또는 텅스텐과 탄소 막을 포함하거나, 저원자수/저밀도 스케이서 재료와 고원자수 금속의 2겹 혼합물을 포함할 수 있다. 여기서, 저원자수의 "저"란 고원자수 금속보다 낮은 원자수를 의미하고, "저원자수 재료"의 원자수가 "고원자수 금속"의 원자수보다 겨우 1만 작을 수도 있다. 2겹은 박막들이 적층된 것을 말한다.
x선 콜리메이터가 고원자수 재료로 된 제1 박막을 포함한 표적을 더 가질 수 있는데, 제1 박막은 전자이미터 어레이로부터의 전자 소스를 x선 광자 소스로 변환하며, 절두원추형 부분의 입구가 표적에 맞닿을 수 있다.
제1 박막은 텅스텐, 텅스텐 합금, 몰리브데늄 또는 금 중의 하나 이상을 포함할 수 있다. 제1 박막의 두께가 1~5 ㎛일 수 있다.
x선 필터 역할을 하는 제2 박막이 표적과 절두원추형 부분의 입구 사이에 위치할 수도 있다. x선 필터의 재료가 알루미늄을 포함할 수 있다.
x선 필터의 두께가 100~500 ㎛일 수 있다.
본 발명은 또한, 이상 설명한 x선 콜리메이터를 2개 이상 포함하는 x선 콜리메이터 어셈블리도 제공하는데, 이때 한쪽 x선 콜리메이터의 구멍들의 관형 부위들이 인접 x선 콜리메이터의 절두원추형 부분과 정렬되어, 구멍의 길이를 확장할 수 있다.즉, 2개의 콜리메이터들이 직렬로 배열될 수 있다.
본 발명은 또한, 이상 설명한 x선 콜리메이터를 제공하는 단계; 및 x선 콜리메이터를 2차원 x선 센서와 정렬하여, x선 소스의 x선 광자들이 콜리메이터의 구멍들을 통과해 좁은 앵글콘(angle cone)으로 나가도록 하며, 광자들의 일부는 콜리메이터의 구멍 출구와 x선 센서 사이의 물체를 통과하도록 하는 단계를 포함하는 x선 영상 획득 방법도 제공한다.
본 발명은 또한, x선 소스 배열을 제공하는 이상 설명한 x선 콜리메이터를 구하는 단계; x선 감지요소 배열을 제공하는 단계; x선 콜리메이터 입력 구멍들을 x선 소스 배열에 정렬하는 단계; x선 콜리메이터의 출력 구멍들을 x선 감지요소 배열에 정렬하는 단계를 포함하는 x선 영상 획득 방법도 제공한다. 여기서, x선 소스 배열의 x선 광자들은 콜리메이터 구멍들을 통과하고 x선 광자의 평행한 빔으로 방출되는데, 이 빔은 콜리메이터의 출구 구멍들과 x선 감지요소 배열 사이에 위치한 물체를 통과한다. x선 소스 배열은 2차원일 수 있다. x선 감지요소 배열도 2차원일 수 있다.
본 발명은 마이크로미터 급 x선 소스의 2차원 배열에서 나오는 x선을 조준하는 수단을 제공하는 장점을 갖는다.
도 1은 x선 콜리메이터의 평면도;
도 2는 x선 콜리메이터의 단면도;
도 3은 도 2의 x선 콜리메이터를 x선 표적과 전자원에 결합한 상태의 단면도;
도 3은 도 3의 x선 콜리메이터가 x선 필터를 포함한 상태의 단면도;
도 5는 촬영할 물체를 2차원 x선 센서에 인접하게 배열하고 도 4의 x선 콜리메이터를 2개 배치한 상태의 단면도.
도면을 참조해 본 발명을 설명하겠지만, 본 발명은 특허청구범위에 의해서만 한정되고, 도면은 설명의 편의상 참고할 뿐이며 본 발명의 모든 특징들을 나타내는 것은 아니다. 도면에 도시된 요소들의 치수와 크기는 편의상 축소한 것이다.
도 1은 x선 콜리메이터의 윗면의 평면도이다. 기판(10)은 평평한 사각형이고 측면부의 두께가 가장 얇으며, 실리콘을 포함하거나, 용융실리카나 유리와 같은 다른 재료로 이루어질 수 있으며, 당연히 다른 재료로 이루어질 수도 있다.
기판(10)에 텅스텐 원소들이 분산되어 있을 수 있지만, 납, 금, 탄탈륨과 같은 다른 고원자 원소들을 사용할 수도 있다.
기판(10)에 조준공(30)이 2차원으로 배열되어 있는데, 여기서는 5행 4열로 배열되어 있지만, 다르게도 배열될 수 있다. 이런 구멍 배열은 x선 소스가 2차원으로 배열되어 조준공 각각에 x선 소스 하나씩 정렬된다는 점에서 유용하다. 물론 구멍의 형상이나 패턴을 다르게 할 수도 있다.
조준공(30)은 직경이 100㎛ 정도이고 간격 1㎜ 내지 1㎝의 격자 형태로 배열된다.
도 2는 테이퍼형 조준공(30)의 단면도이다. 이 조준공(30)은 광형 부위를 갖고, 좌측 단부는 막혀있으며, x선이 조준공으로 들어가기 위한 입구(20)를 갖는다. 조준공(30)의 반대쪽 단부(50)는 x선이 지나갈 수 있도록 트여있다. 입구(20)와 관형 부위 사이의 조준공 측벽은 테이퍼형상의 테이퍼(40)이다.
테이퍼(40)는 윈스톤콘(Winston Cone) 포물선을 포함한 포물선 형상이지만 다른 형상도 가능하다. 테이퍼형 조준공(30)은 출구 단부(50)쪽으로는 거의 원통형이지만 다른 형상을 가질 수도 있다.
입구(20)는 기판의 한쪽에 위치하고, 출구 단부(50)는 기판의 반대쪽에 위치하여, 조준공이 기판의 한쪽에서 반대쪽까지 뻗어있으며, 조준공의 종축선은 기판 평면에 거의 직각이다.
조준공(30)의 입구(20)와 출구 단부(50) 사이의 간격은 1㎜ 내지 1㎝이지만, 다른 간격도 가능하다.
테이퍼형 조준공(30)은 DRIE(Deep Reactive Ion Etching)와 같은 화학적 딥에칭법으로 형성한 다름 산화와 또다른 에칭을 하여 돌출부들을 제거하여 만들지만, 가로세로비가 크고 내벽면을 매끈하게만 하면 다른 방법을 이용할 수도 있다.
당업계에서 "수퍼미러"로 사용되는 재료로 된 박막(60)을 조준공(30)의 내면에 코팅한다. 이런 박막으로는 1겹의 텅스텐 막이 좋지만, 1겹의 이리듐 막이나, 2겹의 텅스텐과 실리콘 막 또는 2겹의 텅스텐과 탄소 막을 사용할 수도 있다. 다른 "수퍼미러" 재료로는 원자수(Z)가 낮거나 저밀도의 스페이서 재료와 원자수가 높은 금속을 혼합한 것도 효과적이다.
박막(60)은 보통 ALD(atomic layer deposition) 방식으로 증착되지만, 다른 증착법도 가능하다.
도 3은 조준공(30)의 입구를 x선 표적(70)에 결합한 상태의 단면도이다. 이 조준공(30)은 전자를 생성하는 전자원(90)에 정렬되고, 생성된 전자들이 전기장에 의해 전기장 라인(80)을 따라 가속되면서 x선 표적(70)에 부딪친다. "정렬"이란 전자의 축선과 조준공의 종축선이 일치한다는 의미이다. 그러나, 조준공의 직경의 1~50 % 범위내에서 허용오차가 있을 수 있고, 이런 허용오차는 다소간 크거나 작아도 된다.
사용할 때, 조준공의 테이퍼 단부(40)와 입구(20)가 x선 표적(70)에 인접하도록 배치하는데, 이런 표적은 두께 1~5㎛의 텅스텐 박막이 좋지만, 몰리브데늄, 금, 텅스텐 합금 등의 다른 재료를 사용할 수도 있다.
텅스텐 표적들 사이에 저밀도 재료를 끼워 x선 표적(70)을 구분할 수 있고, 사이에 끼인 저밀도 재료를 제거하면 텅스텐 표적 재료가 붙어있게 된다.
입구(20)는 x선 표적(70)에 가능한 가까운 것이 좋은데, 표적과 조준공 단부 사이에 표적을 붙잡아두는 물질을 배치할 수도 있다. 두께 1㎛의 박막을 제외한 전부를 제거하는 방법들이 있지만, 50~100㎛ 범위의 수백 마이크로미터의 박막을 제거하는 방법들이 좀더 일반적이다.
사용시, 텅스텐 표적(70)에서 나오는 x선 광자들이 W:AlO2의 박막(60)에서 반사되고 조준공(30)의 출구 단부(50)에서 조준된 형태로 나간다.
도 4는 x선 표적(70)에 조준공(30)이 결합되고, 표적(70)과 입구(20) 사이에 x선 필터(100)를 배치한 상태의 단면도이다.
x선 필터(100)는 두께 250㎛ 정도의 알루미늄 시트이지만, x선 에너지와 표적과 적용례에 따라서는 재료와 두께를 달리 할 수도 있다.
필터(100)는 저에너지 x선 광자와 미변환 전자들을 흡수하여, 필터(100)를 통과한 x선 광자의 에너지 범위가 좀더 균일해지고, 이때문에 x선 영상의 화질이 개선된다.
도 5는 2개의 전자원(80)이 표적(70)에서 x선 광자들을 생성하고 고에너지 x선 광자들이 필터(100)를 통과한 다음 조준공(30)을 따라 내부에서 반사되면서 촬상 물체(110)를 통과한 다음 2차원 x선 센서(130)내의 인접한 소자들(120)에 도달하는 것을 보여주는 단면도이다. x선 소스들과 조준공 사이에 1:1 대응관계가 있지만, 조준공 하나에 다수의 x선 소스들이나 조준공 하나에 다수의 표적들을 배치하는 등의 관계도 가능하다.
조준공(30) 사이에 있는 중간 요소들(31)은 인접 조준공 입구(20) 사이를 지나는 모든 x선 광자들을 차폐하는 역할을 한다. 또, 중간 요소들이 x선을 흡수할 수도 있다. 그 결과, 기판(10)의 조준공(30)을 따라 안내된 x선 광자들만이 조준면에 직각으로 나가게 되어, 화질이 개선된다. 이와 관련해, 조준면은 조준공(30)의 종축선에 직각인 가상의 평면이다.
저에너지 x선 광자들을 흡수하기 위해 조준공(30)의 출구에 x선 흡수 박막을 추가할 수도 있다. 이런 막은 영상 형성에 관여하지않고 환자나 표적에 대한 조사량을 증가시키는 저에너지 x선을 흡수하여 스펙트럼을 강화나 경화할 수 있다.
조준 기판(10)을 2개 이상 사용하여, 한쪽 기판(10)의 원통형 조준공(30)을 인접 조준 기판(10)의 입구(20)에 정렬하여 조준공의 길이를 늘일 수도 있다.

Claims (21)

  1. 기판에 다수의 구멍들이 형성된 x선 콜리메이터에 있어서:
    구멍들 중의 적어도 일부는 테이퍼형 입구와 구멍 길이를 따라 입구에 이어진 관형 부위를 갖고, 상기 테이퍼형 입구가 절두원추형 부분이며, x선 소스가 테이퍼형 입구에 배치되며, 구멍들 중의 적어도 일부의 구멍 각각은 좁은 앵글콘(angle cone)으로 x선 광자 빔을 방출하는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  2. 제1항에 있어서, 상기 구멍들이 2차원으로 배열된 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기판이 실리콘이나 유리로 이루어진 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  4. 제3항에 있어서, 상기 유리가 용융실리카로 이루어진 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 하나에 있어서, 절두원추형 부분이 포물선 형상을 취하는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  6. 제5항에 있어서, 상기 포물선 형상이 윈스톤콘(Winston Cone)으로 알려진 형상인 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  7. 제1항 내지 제6항 중의 어느 하나에 있어서, 관형 부분이 원통형인 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  8. 제1항 내지 제7항 중의 어느 하나에 있어서, 절두원추형 부분의 입구와 관형 부위의 출구 사이의 간격이 출구의 직경보다 커서, 전달되는 x선의 오픈 각도가 미안내 복사선의 오픈 각도보다 작아지는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  9. 제1항 내지 제8항 중의 어느 하나에 있어서, 절두원추형 부분의 입구와 관형 부위의 출구 사이의 간격이 출구의 직경보다 10배 이상 더 커서, 전달되는 x선의 오픈 각도가 미안내 복사선의 오픈 각도보다 작아지는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  10. 제1항 내지 제9항 중의 어느 하나에 있어서, 상기 구멍들의 내면에 박막이 코팅되는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  11. 제10항에 있어서, 상기 박막이 적어도 1겹의 텅스텐 막이나 이리듐 막을 포함하는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  12. 제10항에 있어서, 상기 박막이 2겹의 텅스텐과 알루미늄 산화물 막, 텅스텐과 실리콘 막 또는 텅스텐과 탄소 막을 포함하는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  13. 제10항에 있어서, 상기 박막이 저원자수/저밀도 스케이서 재료와 고원자수 금속의 2겹 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  14. 제1항 내지 제13항 중의 어느 하나에 있어서, 고원자수 재료로 된 제1 박막을 포함한 표적을 더 포함하고, 상기 제1 박막은 전자이미터 어레이로부터의 전자 소스를 x선 광자 소스로 변환하며, 절두원추형 부분의 입구가 표적에 맞닿는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  15. 제14항에 있어서, 상기 제1 박막이 텅스텐, 텅스텐 합금, 몰리브데늄 또는 금 중의 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  16. 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 제1 박막의 두께가 1~5 ㎛인 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  17. 제14항 내지 제16항 중의 어느 하나에 있어서, x선 필터 역할을 하는 제2 박막이 표적과 절두원추형 부분의 입구 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  18. 제17항에 있어서, x선 필터의 재료가 알루미늄인 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  19. 제17항 또는 제18항에 있어서, x선 필터의 두께가 100~500 ㎛인 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터.
  20. 제1항 내지 제19항 중의 어느 하나에 따른 x선 콜리메이터를 2개 이상 포함하는 x선 콜리메이터 어셈블리에 있어서:
    한쪽 x선 콜리메이터의 구멍들의 관형 부위들이 인접 x선 콜리메이터의 절두원추형 부분과 정렬되어, 구멍의 길이를 확장하는 것을 특징으로 하는 x선 콜리메이터 어셈블리.
  21. 제1항 내지 제19항 중의 어느 하나에 따른 x선 콜리메이터를 제공하는 단계; 및
    x선 콜리메이터를 2차원 x선 센서와 정렬하여, x선 소스의 x선 광자들이 콜리메이터의 구멍들을 통과해 좁은 앵글콘(angle cone)으로 나가도록 하며, 광자들의 일부는 콜리메이터의 구멍 출구와 x선 센서 사이의 물체를 통과하도록 하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 x선 영상 획득 방법.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180105206A (ko) 2016-01-25 2018-09-27 어답틱스 리미티드 분산형 x선 발생기 어레이를 갖춘 의료 영상장치
DE102017214196A1 (de) 2017-08-15 2019-02-21 Siemens Healthcare Gmbh Röntgensystem sowie Verfahren zu dessen Betrieb
GB2572217A (en) 2018-03-23 2019-09-25 Rolls Royce Plc X-ray imaging systems and methods, and methods of manufacture of Collimators for use therein
CN109786193A (zh) * 2018-12-29 2019-05-21 同方威视技术股份有限公司 一种x射线源
CN109738439B (zh) * 2019-01-02 2021-04-13 中国工程物理研究院材料研究所 一种立体角微分成像准直器及其应用
WO2020142978A1 (en) * 2019-01-10 2020-07-16 Shenzhen Xpectvision Technology Co., Ltd. Imaging systems and methods of operating the same
CN112683937B (zh) * 2019-10-18 2024-05-10 北航（四川）西部国际创新港科技有限公司 一种多源射线整合装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100260315A1 (en) * 2009-04-10 2010-10-14 Canon Kabushiki Kaisha Source grating for talbot-lau-type interferometer
JP2012037440A (ja) * 2010-08-10 2012-02-23 Tokyo Metropolitan Univ Ｘ線光学系

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3507340A1 (de) * 1984-03-02 1985-09-05 Canon K.K., Tokio/Tokyo Roentgenkollimator
JPS60256036A (ja) * 1984-06-01 1985-12-17 Densoku Kogyo Kk 螢光ｘ線膜厚測定及び分析装置におけるコ−リ−メ−タ
JPH06295903A (ja) * 1993-02-09 1994-10-21 Matsushita Electron Corp スパッタリング装置
US5984853A (en) 1997-02-25 1999-11-16 Radi Medical Systems Ab Miniaturized source of ionizing radiation and method of delivering same
US7518136B2 (en) * 2001-12-17 2009-04-14 Tecomet, Inc. Devices, methods, and systems involving cast computed tomography collimators
JP2003197811A (ja) * 2001-12-27 2003-07-11 Hitachi Ltd ガラス基板及びその製造方法、並びに配線基板、半導体モジュール
US6760407B2 (en) * 2002-04-17 2004-07-06 Ge Medical Global Technology Company, Llc X-ray source and method having cathode with curved emission surface
US7218700B2 (en) 2004-05-28 2007-05-15 General Electric Company System for forming x-rays and method for using same
JP4599504B2 (ja) * 2005-02-24 2010-12-15 国立大学法人横浜国立大学 Ｘ線用コリメータ、その製法、ｘ線検出装置及びｘ線入射場所の決定方法
JP4860418B2 (ja) * 2006-10-10 2012-01-25 株式会社リガク Ｘ線光学系
US20110075802A1 (en) 2009-09-29 2011-03-31 Moritz Beckmann Field emission x-ray source with magnetic focal spot screening
EP2465331B1 (en) * 2009-08-07 2016-03-23 The Regents of The University of California Apparatus for producing x-rays for use in imaging
US8774351B2 (en) * 2011-04-05 2014-07-08 Triple Ring Technologies, Inc. Method and apparatus for advanced X-ray imaging systems
CN103163549A (zh) * 2011-12-19 2013-06-19 中国科学院西安光学精密机械研究所 一种基于微通道板拼接的大面积x射线脉冲探测装置
JP2013186010A (ja) * 2012-03-08 2013-09-19 Toshiba Corp コリメータの製造方法、コリメータ、およびｘ線ｃｔ装置
CN103315761B (zh) * 2013-06-17 2016-06-29 深圳先进技术研究院 一种基于线阵射线源的锥束ct系统

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100260315A1 (en) * 2009-04-10 2010-10-14 Canon Kabushiki Kaisha Source grating for talbot-lau-type interferometer
JP2012037440A (ja) * 2010-08-10 2012-02-23 Tokyo Metropolitan Univ Ｘ線光学系

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