JP4599504B2 - X線用コリメータ、その製法、x線検出装置及びx線入射場所の決定方法 - Google Patents
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Description
X線用のCCDセンサーは10μm角程度の小さい画素が2次元に多数並んだ撮像素子であるが、その応答は素子内でもむらが存在するため、応答の位置依存性やエネルギー依存性を決めることが重要である。その目的で、画素サイズよりも細いX線ビームを局所的に照射する目的のX線マルチコリメータ(メッシュ)が必要不可欠となっている。
従来は、このメッシュに金箔のコリメータが用いられてきた(非特許文献1)。しかし、金箔のコリメータは厚くて10μm程度、穴の径は小さくても2〜3μm程度が現在のところ技術的な限界である。これは、現在開発が行われている高解像度かつ高エネルギーX線用のCCDには穴の径が大き過ぎ、また厚みも不足で、エネルギーが10keV以上のX線では透けるためにコリメータの役をなさない。
この性質を利用して、実際にポリカーボネート系のプラスチックであるCR−39が、高感度でユニークな放射線モニタとして産業的に用いられている他、様々なプラスチックが研究されてきており、特殊なフィルターへの応用などが考えられている。
BP−1は、P2O5が65wt%、BaOが25wt%、Na2Oが5wt%、SiO2が5wt%という成分比を持つ特殊なガラスで、感度の高さはCR−39には及ばないものの、ガラスの中では著しく感度が高く、飛跡形状のばらつきが少なく、粒子弁別能も高いという優れた特長がある。熱や真空など使用環境の影響も受けにくく安定であることから、人工衛星による宇宙線観測などの基礎科学を中心に、UCB及び関係する一部の研究者の間でのみ利用されてきた。しかし、現在のところ、この基礎科学以外には殆ど用いられておらず、新たな応用は未開拓のままである。
この技術の概念図を図2(1)に示す。X線はメッシュの微細孔を通過した場合にしか検出器に到達しないので、X線入射位置は微細孔の径2μmまで小さくできる。更に、周期的に配置した微細孔と周期的に並んだCCDピクセルとの回転角θを微小に設けることで、各々の微細孔がコリメートする画素内領域が逐次変化していくので、全画素からのデータを用いることで、画素内の様々な領域にコリメートした場合の出力信号を調べることができる(2次元スキャンニング)。また、回転角θにより2種類の量子化された周期構造の相関に特徴的なモアレパターンが生じるため、得られたモアレパターンを利用して、実際の回転角、0.001程度のシリコンと金属の熱膨張率の違いに依る周期の差をパラメタライズし、メッシュ金属平面上の全ての微細孔(格子点)の位置を決めることができる。
X線用のCCDセンサーは10μm角程度の小さい画素が2次元に多数並んだ撮像素子であるが、その応答は画素内で決して一様ではない。画素という単位でしか信号を取得できないCCDにとって、ある画素からの出力信号はX線の画素内入射位置に依存して変化する。これは、X線光子がCCDに入射した際に生成される信号電荷群が有限の広がりを持つことに起因するものであり、電荷群の広がり、形状を実測するためには、X線の入射位置をCCDの画素サイズより高い精度で制御することが必要である。
本発明は、穴径が約10nm〜10μm、厚みが約100μm以上であるX線用のコリメータを提供し、微細な画素が2次元周期的に並ぶX線ピクセル検出器(CCD等)において、X線入射位置をミクロン〜ナノスケール(画素サイズの1/10−1/100)の高精度で制御し、一画素内の様々領域における信号応答分布を実測(2次元スキャンニング)する方法及びその装置を提供する。
BP−1はガラスであるため、母材の厚みを数mm厚と十分厚くすることはたやすい。また、X線を吸収するには原子番号の大きな素材が有利であるが、BP−1中には原子番号が56のバリウムが約25wt%と多く含まれているため、実用上十分高いX線吸収能が見込まれる。
さらに、重粒子の飛跡貫通孔の形状は、過去の電子顕微鏡での観察により、数10nmサイズまで原理的に十分に高い精度で断面が真円で、かつ、入射重粒子の軌道の直線精度で真っ直ぐに形成されることがわかった。
本発明者らは、この軌道をエッチングすることによって貫通孔形成させ、この貫通孔を有するBP−1板がコリメータとして利用できることを見出し、本発明を完成させた。
更に、本発明は、材質がBaOの含量が15〜30wt%であるバリウムリン酸ガラスであり、厚さが100μm以上である板に垂直方向に重イオンビームを照射し、照射された板をエッチングすることから成る、最狭部の穴径が10nm〜10μmの貫通穴を少なくとも一つ有するX線用コリメータの製法である。
また、本発明は、材質がBaOの含量が15〜30wt%であるバリウムリン酸ガラスであり、合計の厚さが100μm以上である複数枚の板に垂直方向に重イオンビームを照射し、照射された複数の板を個別にエッチングし、エッチング後の複数の板を、穴を同軸にして重ねることから成る、最狭部の穴径が10nm〜10μmの貫通穴を少なくとも一つ有するX線用コリメータの製法である。
更に、この発明は、X線ビームを検知するCCD及びその直前に配置されたコリメータから成るX線検出装置であって、該コリメータが、略厚さ方向に、最狭部の穴径が10nm〜10μmの貫通穴(微細孔)を多数有する厚さが100μm以上の板からなり、材質がBaOの含量が15〜30wt%であるバリウムリン酸ガラスであって、該貫通穴が入射X線ビームに平行となるように配置されたX線検出装置である。
また、この発明は、このX線検出装置を用いてX線の入射場所を決定する方法であって、予め前記コリメータ上の全ての微細孔の二次元位置情報をデータベース化する段階、前記X線検出装置でX線を検出する段階、及び該微細孔の二次元位置情報と前記CCDで得られたX線画像との相関処理を行う段階から成るX線入射場所の決定方法である。
本発明のX線検出装置を用いることにより、CCD表面に実装された電極等の不感層による検出効率の画素内非一様性の検証や、入射X線光子によりCCD内部で生成される電荷群の広がり形状の実測が可能である。
本発明で用いるコリメータの材質は、BaOの含量が15〜30wt%であるバリウムリン酸ガラスであり、対象とする放射線を遮蔽し、入射粒子の軌道上で溶ける速さと、損傷の無い周辺部が溶ける速さに差がある。このガラスについては、BP−1というガラスが1988年に米国カリフォルニア大学バークレー校(UCB)のグループにより開発され(S.-C. Wang et al., Nucl. Instrum. and Meth., B35 (1988) 43.)、宇宙物理学や原子物理学、原子核物理学の研究において重イオンの検出に用いられてきた。
BP−1は、P2O5が65 wt%、BaOが25 wt%、Na2Oが5 wt%、SiO2が5 wt%という成分比を持つ特殊なガラスで、ガラスの中では著しく感度が高く、飛跡形状のばらつきが少なく、粒子弁別能も高いという優れた特長がある。熱や真空など使用環境の影響も受けにくく安定であることから、いままで人工衛星による宇宙線観測等の基礎科学を中心に、UCB及び関係する一部の研究者の間でのみ利用されてきた。
このコリメータの厚さは100μm以上であり、貫通穴の最狭部の穴径は10nm〜10μm、好ましくは10nm〜1μmである。
(1)材料板の準備
BP−1などの材料板を平板などの必要な形状に切断し、表面の研摩を行なう。この板の厚さは、1μm〜100mm、好ましくは1μm〜5mmである。この厚さにより、効果的にX線を遮断できる。材質は、BaOの含量が15〜30wt%であるバリウムリン酸ガラスであり、好ましくはBP−1である。原子番号がなるべく大きな元素が含まれていることが望ましい。
(2)重イオンビーム照射
放射線医学総合研究所などで利用できる、Xeなどの重イオンビームを材料板に照射する。ビームのエネルギーは、板を突き抜けるだけの飛程を持ち、同時に一定以上の十分な放射線損傷を材料板に与えるものであればよい。BP−1の場合は、Feビームはエネルギーによらず不十分で、Xeの80MeV/nのビームなどが必要である。
以下の重イオンビームが好ましい。
・重イオンの種類:
陽子(原子番号=1)〜ウランイオン(原子番号=92)、好ましくは、キセノンイオン(原子番号=54)〜ウランイオン(原子番号=92)
・重イオンのビームエネルギー:
核子当たり1MeV〜核子当たり100GeV、好ましくは、核子当たり50MeV〜核子当たり1GeV
・照射角度: コリメートする放射線ビームの方向に沿った角度
・照射密度: 0.01個/cm2〜108個/cm2、好ましくは0.1個/cm2〜105個/cm2
HBF4、HF、NaOHなどの濃溶液での十分な撹拌を施しながらの化学処理など、エッチングを行なう。エッチング処理は両表面のピットが内部で繋がるまで行なう。繋がった時点以降に更にどれほど処理を継続するかで貫通部分のサイズが決定される。
好ましいエッチングの条件は以下のとおりである。
水酸化アルカリ溶液(水酸化ナトリウム溶液など)
含フッ素強酸(フッ化水素酸、テトラフルオロホウ酸、好ましくはテトラフルオロホウ酸)
・エッチング液の濃度: 0.01%〜100%、好ましくは50%程度
・エッチング温度: −10℃〜200℃、好ましくは50℃付近
(4)基板の洗浄
・基板を洗浄液で洗浄し、エッチング液や副生物を完全に洗い流す。
また十分な厚みのコリメータが必要な場合には、図3(2)に示すように、複数枚の板を重ねた積層構造をとる。この場合、重ねた状態でビーム照射を行ない、化学エッチングは個別に適切な程度に行なう。これを後で元の位置に重ねれば、1枚板で製作する場合に比べて内部のテーパーを実質的に減らすことが可能である。
図4に本発明のコリメータの使用例を挙げる。
2次元ピクセル型検出器は、ほぼ同型(一般的には正方形)の検出器を2次元に複数並べたもので、並べられた検出器一つ一つをピクセル或は画素と呼ぶ。取得した信号がどのピクセルから得たものであるかを特定できるので、X線が入射したピクセルを知ることができる。故に、入射X線の位置情報を得ることが可能で、X線による「撮像」ができる。ただし、ピクセル単位でしか位置情報は得られないので、位置分解能はピクセルサイズとなる。
CCDは、薄型微小シリコン半導体検出器を2次元に多数並べた2次元ピクセル型検出器である。ピクセルサイズは、10〜100μm四角、ビクセル数は数万個〜数百万個である。1画素(ピクセル)は、3〜4種類の電極で覆われており、各電極は互いにオーバーラップし、一画素内表面は非常に複雑な構造を持つ。一枚のシリコンウェハに紫外線露光等で、ピクセルに切り分ける製造プロセスから、CCD一素子の中で、ピクセル毎の検出性能のバラツキは非常に小さい。
図5に様々な母材のX線透過率を示す。銅、金と比較してBP−1ガラス製のマルチコリメータが20keVに至る高エネルギーX線まで十分に役に立つことが分かる。
まず高速顕微鏡装置などを用いて全ての微細孔の二次元位置情報をデータベース化する。得られたM(微細孔の数)の各点pi=(pixtemp, piytemp)の集合をPとし、テンプレートパターンと呼ぶ。各点の座標値はデータベース化を行う際に定義される任意の平面直交座標系(xtemp, ytemp)に従い、これをテンプレート座標系と呼ぶ(図6)。
実際に、乱数を発生させて生成した疑似テンプレートパターンを用意し、予めアライメントパラメータη=(0.998, 0.998, 0.80, 0.0, 0.0)を定め、テンプレートパターンに記憶された微細孔が対応するCCDが画素にのみ事象が生成するようなシミュレーションを行った。画素数500×500、20,000個の微細孔がランダムに分布した場合を模擬している。シミュレーションにより得られたCCD画像は図8に示す通りまばらにX線事象を示す黒い点が点在するだけである(一部を拡大して表示)。この画像データをデータパターンとし、上記の手法により識別関数を計算し、2個のパラメータ、α,θに対する依存性を示したものが図9である。識別関数の最小値が一意に決まり、その値が予め定めた値と一致していることが確認できる。
図11の写真は、その典型的な貫通孔のひとつについて、ガラスの端面で横から撮影した数枚の写真をつないだものである。上下方向の板の厚みは約1,300μm、斜め矢印が示した最も細い「くびれ」の部分の内直径はφ1μm程度、表面の口径はφ20μm程度で、おおよそ計算通りであった。
・一般のX線検出器で、10KeV以上のX線に対する位置分解能の測定を伴う性能試験用。
・放射光について、10KeV以上のX線ビームを細く絞り、半導体製造技術などの種々のナノテクノロジーへ応用が可能である。
(2)更に本発明のコリメータは重イオンコリメータに利用できる。
・X線に対するコリメータ以外に、X線以外の重イオンビーム(α線等)のコリメータとしても使用できる。放射線医学総合研究所のマイクロビーム(α粒子、ビームエネルギーは約5MeV、ビーム径約φ10〜20μm)などの低エネルギー荷電粒子ビームは、BP−1などの固体中の飛程が数十μmと短いので、本コリメータを用いれば同ビームをさらに細く絞ることが可能であると思われる。これにより、細胞内の、より局所的な照射実験などが可能になり、結果的に生物・医学における研究の促進や、将来的には新しい治療技術に結びつくことも考えられる。
ナノサイズの正確なコリメータを製作するには、機械的な加工を用いることは非常に手間がかかるか、もしくは非常に困難なものと考えられる。これに対し、重粒子照射と化学エッチングを併せた本技術は、原理的に精度の高さを保証するものである点で本質的に優れていると考えられる。
Claims (8)
- 略厚さ方向に、最狭部の穴径が10nm〜10μmの貫通穴を少なくとも一つ有する厚さが100μm以上の板からなり、材質がBaOの含量が15〜30wt%であるバリウムリン酸ガラスであるX線用コリメータ。
- 前記バリウムリン酸ガラスがBP−1(成分:P2O5 65wt%,BaO 25wt%,Na2O 5wt%,SiO2 5wt%)である請求項1に記載のX線用コリメータ。
- 材質がBaOの含量が15〜30wt%であるバリウムリン酸ガラスであり、厚さが100μm以上である板に垂直方向に重イオンビームを照射し、照射された板をエッチングすることから成る、最狭部の穴径が10nm〜10μmの貫通穴を少なくとも一つ有するX線用コリメータの製法。
- 材質がBaOの含量が15〜30wt%であるバリウムリン酸ガラスであり、合計の厚さが100μm以上である複数枚の板に垂直方向に重イオンビームを照射し、照射された複数の板を個別にエッチングし、エッチング後の複数の板を、穴を同軸にして重ねることから成る、最狭部の穴径が10nm〜10μmの貫通穴を少なくとも一つ有するX線用コリメータの製法。
- 前記バリウムリン酸ガラスがBP−1(成分:P 2 O 5 65wt%,BaO 25wt%,Na 2 O 5wt%,SiO 2 5wt%)である請求項3又は4に記載の製法。
- X線ビームを検知するCCD及びその直前に配置されたコリメータから成るX線検出装置であって、該コリメータが、略厚さ方向に、最狭部の穴径が10nm〜10μmの貫通穴(微細孔)を多数有する厚さが100μm以上の板からなり、材質がBaOの含量が15〜30wt%であるバリウムリン酸ガラスであって、該貫通穴が入射X線ビームに平行となるように配置されたX線検出装置。
- 前記バリウムリン酸ガラスがBP−1(成分:P2O5 65wt%,BaO 25wt%,Na2O 5wt%,SiO2 5wt%)である請求項6に記載のX線検出装置。
- 請求項6又は7に記載のX線検出装置を用いてX線の入射場所を決定する方法であって、予め前記コリメータ上の全ての微細孔の二次元位置情報をデータベース化する段階、前記X線検出装置でX線を検出する段階、及び該微細孔の二次元位置情報と前記CCDで得られたX線画像との相関処理を行う段階から成るX線入射場所の決定方法。
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Citations (2)
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS613097A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-09 | キヤノン株式会社 | X線コリメ−タの製造方法 |
JPH08271639A (ja) * | 1995-03-14 | 1996-10-18 | Commiss Energ Atom | 粒子の微小軸合わせ装置、検出器、および粒子の検出方法、ならびに軸合わせ装置の製造方法および使用 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015132593A1 (en) * | 2014-03-05 | 2015-09-11 | Adaptix Limited | X-ray collimator |
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