KR20160098403A - 터치 컨트롤 디스플레이장치 및 그 제조 방법 - Google Patents

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샤오펭 저
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히라야마 히데오
시우키 후앙
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쿤산 뉴 플랫 패널 디스플레이 테크놀로지 센터 씨오., 엘티디.
쿤산 고-비젼녹스 옵토-일렉트로닉스 씨오., 엘티디.
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Abstract

본 발명에 기재된 터치 컨트롤 디스플레이장치는 제2 전극을 형성하는 동시에 제2 전극이 각각 수평방향과 수직방향을 따라 직렬연결되어 서로 절연된 교차 네트워크, 즉 터치 컨트롤 감지층을 형성하며, 터치 컨트롤 기능을 상기 유기발광 다이오드에 통합시킴으로써 구조가 간단하고, 터치 컨트롤 부재를 별도로 마련하지 않아도 발광효율이 높고 응답속도가 빠르다. 본 발명에 기재된 터치 컨트롤 디스플레이장치의 제조 방법은 제2 전극을 각각 수평방향과 수직방향을 따라 직렬연결된 구조로 제조하여, 유기발광 다이오드를 제조 완성하는 동시에 능숙한 리소그래피 및 에칭 공정을 통해 터치 컨트롤 기능을 통합시킬 수 있어, 제조 방법이 간단하고 공정원가를 저감시켰다.

Description

터치 컨트롤 디스플레이장치 및 그 제조 방법{TOUCH CONTROL DISPLAY DEVICE AND PREPARATION METHOD THEREFOR}
본 발명은 디스플레이 기술분야에 관한 것이며, 구체적으로 내장형 터치 컨트롤 구조를 구비하는 유기발광 디스플레이장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
터치스크린(영문 전칭: Touch Panel)은 터치 컨트롤 스크린, 터치패널이라고도 칭하며, 커넥터 등의 신호 입력을 수신 가능한 유도식 디스플레이장치로서, 각종 전자제품에 광범위하게 응용된다. 터치스크린은 그 작동 원리 및 신호 전송 매체에 따라 저항 방식, 정전용량 방식, 적외선 방식 및 표면 음파 방식 4가지 종류로 분류될 수 있다.
정전용량 방식 터치 스크린(영문 전칭: Capacitive Touch Panel, CTP로 약칭)은 인체의 유도 전류를 이용하여 스크린을 제어한다. 터치 구역의 정전용량 변화를 감지하여 손가락의 위치를 계산하는데, 정확도가 99%에 달할 수 있고, 응답시간이 3ms 보다 작다. CTP는 감도가 높고 다중 터치 기술 실현이 용이한 등 장점을 구비하며, 점차적으로 스마트폰, 태블릿PC 등 전자제품에 응용되는 주된 터치 스크린으로 부각되고 있다.
종래 기술에 있어서 CTP는 터치 적층구조 및 디스플레이 패널의 상대위치에 따라 out cell(터치 컨트롤 장치가 디스플레이 패널의 외부에 설치됨), on cell(터치 컨트롤 장치가 디스플레이 패널 상에 설치됨) 및 in cell(터치 컨트롤 장치가 디스플레이 패널 내에 통합됨)등 기술구조로 분류될 수 있다. out cell과 on cell은 기술이 성숙되고 중소 사이즈의 디스플레이 패널에 광범위하게 적용되고 있으며, out cell기술 중의 OFS(영문 전칭: One Film Solution, 원 필름 솔루션)는 유기전계발광 디스플레이장치에 적용 가능하여 플렉서블 타입 터치 디스플레이가 가능하게 되었다. in cell은 디스플레이 패널이 더욱 얇고 가벼우며, 투과율이 더욱 높고 공률을 더욱 작게 할 수 있을 뿐만 아니라, 유연성을 실현할 수 있어, 터치 디스플레이로 불리며, 특히 유기전계발광 디스플레이 터치 컨트롤의 최종 솔루션은 점차적으로 유기전계발광 디스플레이장치 중의 터치 컨트롤 기술의 발전 주류가 될 것이다.
중국 특허 CN101635276A에는 기판, OLED소자 및 광학 감지소자를 포함하는 유기발광 다이오드 터치패널이 개시되었다. 기판 상에 적어도 하나의 화소구역이 마련되어 있으며, 화소구역 중에는 표시구역과 감지구역이 정의되어 있다. OLED소자는 표시구역 중의 기판 상에 마련되고, 제1 박막 트랜지스터, 발광하전극부, 패터닝 유기발광층 및 발광상전극부를 포함한다. 발광하전극부는 발광상전극부에 마련되며 제1 박막 트랜지스터에 전기연결된다. 패터닝 유기발광층은 발광하전극부에 마련된다. 발광상전극부는 패터닝 유기발광층에 마련된다. 광학 감지소자는 감지구역 중의 기판 상에 마련되며, 제2 박막 트랜지스터, 감광하전극부, 패터닝 감광유전층 및 감광상전극부를 포함한다. 감광하전극부는 제2 박막 트랜지스터에 마련되며 제2 박막 트랜지스터에 전기연결된다. 패터닝 감광유전층은 감광하전극부에 마련되며, 감광상전극부는 패터닝 감광유전층 상에 마련된다. 해당 특허는 감도가 높지만 in-cell형 광학 터치 방식에 속하는데, 구조와 제조공정이 복잡할 뿐만 아니라 다중 터치를 실현하기 어려운바 주류적 터치 컨트롤 기술에 속하지 않는다.
따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 종래 기술 중 in-cell형 터치 컨트롤 기술 구조와 제조 방법이 복잡한 문제를 해결하는 것으로서, 구조와 공정이 간단하고 내장형 컨트롤 구조를 가지는 유기발광 디스플레이장치 및 그 제조 방법을 제공한다.
상기 기술적 과제를 해결하기 위해 본 발명은 아래와 같은 기술방안을 적용한다.
본 발명에 기재된 터치 컨트롤 디스플레이장치는 기판, 기판 상에 마련된 복수개의 유기발광 다이오드를 포함하고, 상기 유기발광 다이오드는 순차적으로 적층 설치된 제1 전극, 유기재료층 및 제2 전극을 포함하며, 상기 제1 전극은 독립적으로 설치되고, 상기 제2 전극은 각각 직렬연결되어 여러 개의 평행 배열된 제1 버스바와 여러 개의 평행 배열된 제2 버스바를 형성하며, 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바는 서로 절연된 교차 네트워크를 형성한다.
상기 제1 버스바는 제1 방향에 따라 배치되는 상기 제2 전극이 동일층에 직렬연결되어 형성되고, 상기 제2 버스바는 제2 방향에 따라 배치되는 상기 제2 전극이 상기 유기발광 다이오드 외부에 마련된 전도성 브리지를 통해 직렬연결되어 형성된다.
상기 전도성 브리지는 상기 기판 상에 설치되며, 상기 전도성 브리지를 직접 피복하는 절연층을 통해 상기 유기발광 다이오드와 절연된다.
상기 전도성 브리지는 금속 전도성 브리지이다.
상기 전도성 브리지의 두께는 10nm~1000nm이다.
상기 기판 상에는 인접한 상기 유기발광 다이오드를 이격하는 화소제한층이 추가로 설치된다.
상기 화소제한층에는 인접한 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바를 구획하는 이격기둥층이 추가로 직접 설치된다.
상기 제2 전극의 두께는 1nm~500nm이다.
상기 기판 상에 설치된 여러 개의 구동 박막 트랜지스터를 추가로 포함하며, 각 상기 제1 전극은 각 상기 구동 박막 트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극에 접촉 연결된다.
본 발명에 기재된 터치 컨트롤 장치의 제조 방법은 기판 상에 제1 전도층을 형성하고, 제2 방향을 따라 평행 설치된 복수개의 전도성 브리지를 패턴형성하는 단계(S1),
상기 기판 상에 전도성 브리지를 피복하는 절연층을 형성하고, 절연층에 전도성 브리지를 도통하는 도통홀을 설치하는 단계(S2),
절연층 상에서로 독립적인 제1 전극을 직접 형성하고, 각 제1 전극 상에 유기재료층을 형성하는 단계(S3), 및
유기재료층 상에 제2 전극을 형성하고, 제1 방향을 따라 배치된 여러 개의 제2 전극은 동일 층에 직렬연결되어 복수개의 평행 배열된 제1 버스바를 형성하고, 제2 방향을 따라 배치된 여러 개의 제2 전극은 도통홀을 통해 전도성 브리지에 직렬연결되어 복수개의 평행 배열된 제2 버스바를 형성하며, 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바는 서로 절연된 교차 네트워크를 형성하는 단계(S4)를 포함한다.
단계(S3)에 있어서, 상기 제1 전극을 형성한 후 상기 기판 상에 상기 제1 전극을 감싸는 화소제한층을 형성하는 단계를 추가로 포함한다.
단계(S3)에 있어서, 상기 화소제한층상에 이격기둥층을 형성하는 단계를 추가로 포함하며, 단계(S4)에서 형성된 인접한 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바는 상기 이격기둥층에 의해 이격된다.
단계(S2)에 있어서 상기 도통홀의 축방향 및 상기 기판이 이루는 각은 10°~90°이다.
본 발명의 상기 기술방안은 종래 기술에 비해 아래와 같은 장점이 있다.
1. 본 발명에 기재된 터치 컨트롤 디스플레이장치는 기판, 기판에 마련된 유기발광 다이오드를 포함하고, 상기 제1 전극은 독립적으로 설치되며, 상기 제2 전극은 각각 직렬연결되어 여러 개의 평행 배열된 제1 버스바와 여러 개의 평행 배열된 제2 버스바를 형성하며, 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바는 서로 절연된 교차 네트워크를 형성한다. 제2 전극을 형성하는 동시에 제2 전극은 각각 수평방향과 수직방향을 따라 직렬연결되어 서로 절연된 교차 네트워크, 즉 터치 컨트롤 감지층을 형성하며, 터치 컨트롤 기능을 상기 유기발광 다이오드의 제2 전극에 통합하여 구조가 간단하고 또한 다중 터치를 실현할 수 있다.
2. 본 발명에 기재된 터치 컨트롤 디스플레이장치는 터치 컨트롤 기능을 상기 유기발광 다이오드에 통합시켜 별도로 터치 부재를 설치하지 않고 발광효율이 높고 응답 속도가 빠르다.
3, 본 발명에 기재되는 터치 컨트롤 디스플레이장치의 제조 방법은 제2 전극을 각각 수평방향과 수직방향을 따라 직렬연결한 구조로 제조하고, 유기발광 다이오드를 제조 완성하는 동시에 능숙한 리소그래피 및 에칭 공정을 통해 터치 컨트롤 기능을 통합시킬 수 있어, 제조 방법이 간단하고 공정 원가을 저감시켰다.
본 발명의 내용을 더욱 용이하고 정확하게 이해하기 위해 이하 본 발명의 구체적인 실시예와 도면에 근거하여 진일보 구체적으로 본 발명에 대해 설명한다. 그 중,
도1은 본 발명의 실시예1에 기재된 터치 컨트롤 디스플레이장치의 구조모식도이다.
본 발명의 목적, 기술방안과 장점을 더욱 명확하게 설명하기 위하여 이하 도면을 결합하여 본 발명의 구체적인 실시방식에 대해 진일보 구체적으로 설명한다.
본 발명은 여러 가지 부동한 방식에 의해 실시될 수 있는 것으로, 여기에 기재된 실시예에 의해 한정되는 것으로 이해해서는 안된다. 반대로, 이러한 실시예들을 제공함으로써 공개되는 내용이 철저하고 완전하도록 하고 본 발명의 사상을 본 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 충분히 전달하며, 본 발명은 단지 청구항에 의해 한정된다. 도면에 있어서, 명확하게 설명하기 위하여 층과 구역의 사이즈와 상대 사이즈를 확대하여 설명할 수 있다. 소자 예를 들어 층, 구역 또는 기판이 다른 소자 "상"에 "형성되어" 또는 "설치되어"라고 언급할 때에는 해당 소자가 직접적으로 상기 다른 소자 상에 설치되거나, 또는 중간 소자가 존재할 수 있는 것으로 이해하여야 한다. 반대로, 다른 소자 "상"에 "직접 형성되어" 또는 "직접 설치되어"라고 언급할 때에는 중간 소자가 존재하지 않는 것으로 이해하여야 한다.
본 실시예는 도1에 나타낸 바와 같이, 기판(100), 기판(100) 상에 마련된 유기발광 다이오드를 포함하고, 제1 전극(102)은 독립적으로 설치되고, 상기 제2 전극(104) 및 (105)은 각각 직렬연결되어 여러 개의 평행 배열된 제1 버스바와 여러 개의 평행 배열된 제2 버스바를 형성하며, 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바는 서로 절연된 교차 네트워크를 형성하는 터치 컨트롤 디스플레이장치를 제공한다.
상기 제1 버스바는 제1방향에 따라 배치된 상기 제2 전극(105)이 동일 층에 직렬연결되어 형성되고, 상기 제2 버스바는 제2 방향에 따라 배치되는 상기 제2 전극(104)이 상기 유기발광 다이오드 외부에 마련된 전도성 브리지를 통해 직렬연결되어 형성된다.
상기 전도성 브리지(108)는 상기 기판(100)과 상기 유기발광 다이오드 사이의 절연층(101)에 설치되며, 상기 전도성 브리지(108)는 단층 또는 다층 전도성 중합체 또는 몰리브덴, 알루미늄, 티탄, 텅스텐 등 금속 또는 그 합금 필름 중에서 선택되되 이에 한정되지 않으며, 다층 금속 전도성 브리지인 것이 바람직하며, 본 실시예는 순차적으로몰리브덴/알루미늄/몰리브덴으로 적층된 3층 금속막이 더욱 바람직하다.
본 실시예에 있어서, 상기 전도성 브리지(108) 중의 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴은 각각 50nm/250nm/50nm이며, 본 발명의 기타 실시예로서, 상기 전도성 브리지(108)의 두께는 10nm~1000nm일 수 있으며, 모두 본 발명의 목적을 실현할 수 있으며, 본 발명의 보호범위에 속한다.
상기 절연층(101)은 질화규소, 산화규소, 실리콘 옥시카바이드, 산화알루미늄 등 중에서 선택되되 이에 한정되지 않는 한층 또는 다층 적층구조이며, 본 실시예는 단층의 질화규소층이 바람직하다.
본 발명의 상기 제1 전극(102), 상기 유기재료층(103), 상기 제2 전극에 사용되는 재료 및 두께는 모두 종래의 기술과 같으며, 그 중 상기 제2 전극의 두께는 1nm~500nm인 것이 바람직하다. 본 실시예에 있어서, 상기 제1 전극(102)은 순차적으로 적층된 ITO/Ag/ITO층이고 두께는 15nm/110nm/7nm이며, 상기 유기재료층(103)은 발광층, 정공 주입층, 정공 전송층, 전자 차단층, 정공 차단층, 전자 전송층 및 전자 주입층 중의 하나 또는 복수를 포함하는 조합이며, 본 실시예에 있어서, 상기 유기재료층(103)은 순차적으로 적층 설치된 정공 전송층, 발광층 및 전자 전송층을 포함하고 총 두께는 200nm이며, 상기 제2 전극은 Ag이고 두께는 5nm이다.
상기 기판(100) 상에는 인접한 상기 유기발광 다이오드를 이격하는 화소제한층(110)이 추가로 마련되며, 상기 화소제한층(110) 상에는 인접한 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바를 구획하는 이격기둥층(106)이 추가로 직접 설치된다.
본 실시예에 있어서, 상기 제2 전극층을 상기 제1버스바와 상기 제2 버스바로 구획하는 이격기둥층(106)이 폴리이미드층인 것이 바람직하고, 그 높이는 0.1㎛~5㎛이며, 본 실시예에서 1㎛이고 두께는 1㎛인 것이 바람직하다. 본 발명의 기타 실시예에 있어서, 상기 이격기둥층(106)은 기타 절연재료를 통해 제조될 수 있으며, 상기 제2 전극 사이에 이격기둥층(106)을 설치하지 않아도 되며, 인접한 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바의 절연을 보장하기만 하면 본 발명의 목적을 실현할 수 있으며, 본 발명의 보호범위에 속한다.
본 실시예에 기재된 터치 컨트롤 디스플레이장치는 액티브 매트릭스 유기발광 디스플레이장치이고 상기 기판(100) 상에 설치된 여러개의 구동 박막트랜지스터를 추가로 포함하며, 각 상기 제1 전극(102)은 각 상기 구동 박막트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극에 접촉 연결된다.
본 실시예에 기재된 터치 컨트롤 디스플레이장치는 톱 에미션 방식의 유기발광 디스플레이장치인 것이 바람직하며, 다시 말해서 상기 제2 전극(102)은 투명 전극이다.
본 실시예에 있어서, 상기 제2 전극(104) 및 (105)에는 패키지층(109)이 더 설치되며, 상기 패키지층(109)은 한층 또는 다층이 교호 설치된 유기 필름 및/또는 무기 필름의 필름층을 포함하며, 무기 필름은 질화규소, 산화규소 등 필름 중에서 선택되되 이에 한정되지 않으며, 유기필름은 UV경화성수지, 이산화규소-아크릴수지 복합재료 등 필름 중에서 선택된다. 본 실시예에 있어서, 상기 패키지층(109)은 4쌍의 교호적으로 증착되는 폴리아크릴레이트층과 산화알루미늄층인 것이 바람직하고, 폴리아크릴레이트층의 막 두께는 모두 1.5㎛이고, 산화알루미늄의 막 두께는 모두 50nm이다.
본 실시예에 기재된 터치 컨트롤 디스플레이장치에 있어서, 상기 제2 전극은 각각 수평방향과 수직방향을 따라 직렬연결된 구조로 마련되어 서로 절연된 교차 네트워크를 형성하며, 제2 전극을 형성하는 동시에 터치 컨트롤 감지층을 형성하여 터치 컨트롤 기능을 상기 유기발광 다이오드에 통합시켜 구조를 간단하고, 또한 터치 컨트롤 기능을 상기 유기발광 다이오드에 통합시켜 터치 컨트롤 부재를 별도로 마련하지 않고도 발광효율이 높고 응답속도가 빠르다.
상기 터치 컨트롤 장치의 제조 방법은 아래와 같은 단계를 포함한다.
S1. 스퍼터링 공정을 통해 기판(100) 상에 제1 전도층을 형성하고, 수직방향으로 평행 설치되고 연속적인 복수개의 버스바가 패턴 형성되며, 다시 말해서 전도성 브리지(108)가 형성된다.
본 발명의 다른 실시예에 있어서, 상기 제1 전도층에는 도선형상의 전도성 브리지(108)가 패턴형성될 수도 있으며, 상기 도선 또는 버스바는 연속되지 않을 수도 있다.
S2. 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)공정을 통해 상기 전도성 브리지(108)를 피복하는 절연층(101)을 형성하며, 리소크래피 공정을 통해 동일열의 인접한 상기 제2 유기발광 다이오드 사이의 절연층(101)에는 동일한 상기 전도성 브리지(108)를 도통하는 도통홀(107)이 마련된다. 상기 도통홀(107)의 축방향 및 상기 기판(100)이 이루는 각이 50°이며, 본 발명의 다른 실시예에 있어서, 상기 도통홀은 레이저 어블레이션, 이온빔 식각, 전자빔 식각 등 공정을 통해 제조될 수 있으며, 상기 도통홀(107)의 축방향 및 상기 기판(100)이 이루는 각은 10°~90° 중의 임의의 각일 수 있으며, 모두 본 발명의 목적을 실현할 수 있으며 본 발명의 보호범위에 속한다.
S3, 스퍼터링 공정을 통해 절연층(101) 상에 제2 전도층을 직접 형성하고, 리소그래피 및 식각 공정을 통해 서로 독립적인 제1 전극(102)을 패턴형성한다.
본 발명의 다른 실시예에 있어서, 상기 제2 전도층은 CVD, 전기 화학 증착 등 공정을 통해 제조될 수 있으며, 모두 본 발명의 목적을 실현할 수 있으며 본 발명의 보호범위에 속한다.
코팅공정을 통해 기판 상에 상기 제1 전극(102)을 피복하는 화소제한층(110)을 형성하고, 리소그래피 공정을 통해 패터닝함으로써 상기 제1 전극(102)과 도통홀(107)을 노출한다.
그 후 코팅공정과 리소그래피 공정을 통해 화소제한층(110)에 이격기둥층(106)을 형성한다.
정밀한 마스크 증착 공정을 통해 상기 제1 전극(102)에 유기재료층(103)을 형성한다.
S4, 증착공정을 통해 상기 이격기둥층(106)을 마스크로 하여 상기 유기재료층(103) 상에 제1 방향을 따라 동일층에 직렬연결되는 제2 전극(105)과 제2 방향을 따라 서로 이격되는 제2 전극(104)을 형성하되, 제2 전극(104)과 제2 전극(105)은 마이너스 각도인 이격기둥층(106)을 통해 자연적으로 이격된다. 상기 제2 전극(105)은 직렬연결되어 제1 버스바를 형성하고, 상기 제2 전극을 형성하는 재료는 상기 도통홀(107)에 충전되는 동시에 상기 전도성 브리지(108)에 전기 접촉 연결되어, 상기 제2 전극(104)이 제2 방향을 따라 직렬연결되어 제2 버스바를 형성하도록 한다.
본 실시예에 있어서 상기 단계 S4 다음에 상기 기판(100) 상에 상기 제2 전극(104) 및 (105)를 피복하는 패키지층(109)을 제조하는 단계를 추가로 포함하며, 구체적인 실시방식은 종래기술과 같다.
본 실시예에서 설명한 터치 컨트롤 디스플레이장치의 제조 방법은 상기 제2 전극을 각각 수평방향과 수직방향을 따라 직렬연결된 구조로 제조하고, 유기발광 다이오드를 제조 완성하는 동시에 능숙한 리소그래피 공정을 통해 터치 컨트롤 기능을 통합시킬 수 있어, 제조 방법이 간단하고 공정비용을 저감시켰다.
위로부터 알 수 있다시피, 상기 실시예는 본 발명을 명확하게 설명하기 위한 예시이며 실시형태를 한정하는 것이 아니다. 본 분야의 통상의 지식을 가진 자는 상기 설명에 기초하여 기타 다른 형태의 변화 또는 변동을 실시할 수 있다. 여기서는 모든 실시형태에 대해 전부 예시할 필요가 없거니와 예시할 수도 없지만 이에 근거한 자명한 변화 또는 변동은 여전히 본 발명의 보호 범위에 속한다.
100: 기판
101: 절연층
102: 제1 전극
103: 유기재료층
104: 제2 버스바 중의 제2 전극
105: 제1 버스바 중의 제2 전극
106: 이격기둥층
107: 도통홀
108: 전도성 브리지
109: 패키지층
110: 화소제한층

Claims (13)

  1. 기판, 기판 상에 마련된 복수개의 유기발광 다이오드를 포함하고, 상기 유기발광 다이오드는 순차적으로 적층 설치된 제1 전극, 유기재료층 및 제2 전극을 포함하는 터치 컨트롤 디스플레이장치에 있어서,
    상기 제1 전극은 독립적으로 설치되고, 상기 제2 전극은 각각 직렬연결되어 여러 개의 평행 배열된 제1 버스바와 여러 개의 평행 배열된 제2 버스바를 형성하며, 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바는 서로 절연된 교차 네트워크를 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 버스바는 제1방향에 따라 배치되는 상기 제2 전극이 동일층에 직렬연결되어 형성되고, 상기 제2 버스바는 제2 방향에 따라 배치되는 상기 제2 전극이 상기 유기발광 다이오드 외부에 마련된 전도성 브리지를 통해 직렬연결되어 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 전도성 브리지는 상기 기판 상에 마련되고, 상기 전도성 브리지를 직접 피복하는 절연층을 통해 상기 유기발광 다이오드와 절연되는 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 전도성 브리지가 금속 전도성 브리지인 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 전도성 브리지의 두께가 10nm~1000nm인 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 기판에는 인접한 상기 유기발광 다이오드를 이격하는 화소제한층이 추가로 마련되는 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 화소제한층 상에는 인접한 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바를 구획하는 이격기둥층이 추가로 직접 마련되는 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 전극의 두께가 1nm~500nm인 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치.
  9. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판 상에 설치된 여러 개의 구동 박막트랜지스터를 추가로 포함하며, 각 상기 제1 전극이 각 상기 구동 박막트랜지스터의 소스 전극 또는 드레인 전극과 접촉 연결되는 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 터치 컨트롤 디스플레이장치의 제조 방법에 있어서,
    기판 상에 제1 전도층을 형성하고, 제2 방향을 따라 평행 설치되는 복수개의 전도성 브리지를 패턴 형성하는 단계(S1),
    상기 기판 상에 전도성 브리지를 피복하는 절연층을 형성하고, 절연층에 전도성 브리지를 도통하는 도통홀을 설치하는 단계(S2),
    절연층 상에서로 독립적인 제1 전극을 직접 형성하고, 각 제1 전극 상에 유기재료층을 형성하는 단계(S3), 및
    유기재료층 상에 제2 전극을 형성하고, 제1 방향을 따라 배치된 여러 개의 제2 전극은 동일 층에서 직렬연결되어 복수개의 평행 배열된 제1 버스바를 형성하며, 제2 방향을 따라 배치된 여러 개의 제2 전극은 도통홀을 통해 전도성 브리지와 직렬연결되어 복수개의 평행 배열된 제2 버스바를 형성하며, 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바가 서로 절연된 교차 네트워크를 형성하는 단계(S4)를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치의 제조 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    단계(S3)에 있어서, 상기 제1 전극을 형성한 후, 상기 기판 상에 상기 제1 전극을 감싸는 화소제한층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    단계(S3)에 있어서, 상기 화소제한층 상에 이격기둥층을 형성하는 단계를 추가로 포함하며, 단계(S4)에서 형성된 인접한 상기 제1 버스바와 상기 제2 버스바는 상기 이격기둥층에 의해 이격되는 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치의 제조 방법.
  13. 제10항에 있어서,
    단계(S2)에 있어서 상기 도통홀의 축방향 및 상기 기판이 이루는 각이 10°~90°인 것을 특징으로 하는 터치 컨트롤 디스플레이장치의 제조 방법.
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