CN106406590A - 触控显示装置及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种触控显示装置，包括：基板，所述基板包括显示区以及非显示区；用于发光的像素阴极，位于所述显示区上；电极隔离柱，位于所述非显示区上，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差；第一触控电极，位于所述电极隔离柱上，所述高度差使得所述第一触控电极和像素阴极电性断开；绝缘层，位于所述像素阴极和第一触控电极上；以及第二触控电极，位于所述绝缘层上。本发明还提供一种触控显示装置的制备方法。在本发明中，所述第一触控电极和所述第二触控电极中的一个作为接收电极，另一个作为发射电极，共同形成内嵌式触控结构，有利于实现触控显示装置的薄型化和柔性化。

Description

触控显示装置及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种触控显示装置及其制备方法。

背景技术

触控显示器是结合感测技术及显示技术所形成的一种输入/输出装置，普遍使用于电子装置中，例如可携式及手持式电子装置等等。

目前，薄膜封装式OLED发光显示器件的触控方案主要是OGS(on glasssolution，一体化触控)等“外挂式”触控方式，即需要单独的工艺制程制作触控面板模块，使得触控显示器的成本高、厚度厚，无法满足柔性显示及轻薄化等需求。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供一种触控显示装置，包括：

基板，所述基板包括显示区以及非显示区；

用于发光的像素阴极，位于所述显示区上；

电极隔离柱，位于所述非显示区上，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差；

第一触控电极，位于所述电极隔离柱上，所述高度差使得所述第一触控电极和像素阴极电性断开；

绝缘层，位于所述像素阴极和第一触控电极上；以及

第二触控电极，位于所述绝缘层上。

进一步的，在所述触控显示装置中，所述高度差大于所述像素阴极的厚度。

进一步的，在所述触控显示装置中，所述电极隔离柱的上表面大于所述电极隔离柱的下表面，所述电极隔离柱呈上大下小的结构。

进一步的，在所述触控显示装置中，所述触控显示装置还包括一电致发光层，所述电致发光层位于所述基板和所述像素阴极之间。

进一步的，在所述触控显示装置中，所述第一触控电极和第二触控电极均为条形，多个所述第二触控电极在水平第一方向上排列，多个所述第一触控电极在水平第二方向上排列，所述水平第一方向和水平第二方向垂直。

进一步的，在所述触控显示装置中，所述第一触控电极包括第一条形结构和阵列的第一菱形结构，所述第二触控电极包括第二条形结构和阵列的第二菱形结构，所述第一菱形结构和第二菱形结构依次间隔排列，所述第一条形结构导通在水平第二方向上排列的所述第一菱形结构，所述第二条形结构导通在水平第一方向上排列的所述第二菱形结构，所述水平第一方向和水平第二方向垂直。

进一步的，在所述触控显示装置中，所述触控显示装置还包括一保护层，所述保护层位于所述像素阴极、第一触控电极与所述绝缘层之间。

进一步的，在所述触控显示装置中，所述基板包括像素阳极以及位于所述像素阳极上的像素限定层，所述像素限定层具有一开口，所述开口定义出所述显示区。

进一步的，在所述触控显示装置中，所述绝缘层包括由上到下依次层叠的第一无机绝缘层、有机绝缘层和第二无机绝缘层。

根据本发明的另一面，还提供一种触控显示装置的制备方法，包括：

提供一基板，所述基板包括显示区以及非显示区；

在所述非显示区制备一电极隔离柱；

制备一电极层，部分所述电极层位于所述显示区上形成用于发光的像素阴极，另一部分所述电极层位于所述电极隔离柱上形成第一触控电极，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差，使得所述像素阴极和第一触控电极电性断开；

制备一绝缘层，所述绝缘层位于所述像素阴极和第一触控电极上；以及

在所述绝缘层上制备一第二触控电极。

在本发明提供一种触控显示装置及其制备方法中，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差，可以同时制备所述像素阴极和所述第一触控电极，通过所述高度差使得所述第一触控电极和像素阴极断开，从而实现电性绝缘，降低制造成本；并且，所述第一触控电极和像素阴极电性绝缘，可以有效地避免信号干扰；此外，所述第一触控电极位于所述非显示区上，所述第一触控电极可以选择金属、合金等非透明导电材料，有利于提高导电率；所述第二触控电极位于所述绝缘层上，即所述第二触控电极位于薄膜封装结构中，所述第一触控电极和所述第二触控电极中的一个作为接收电极，另一个作为发射电极，共同形成内嵌式(in-cell)触控结构，有利于实现触控显示装置的薄型化和柔性化。

附图说明

图1为本发明第一实施例的触控显示装置的俯视图示意图；

图2为图1沿AA’线的剖面图；

图3为图1沿BB’线的剖面图；

图4为本发明第二实施例的触控显示装置的俯视图示意图。

具体实施例

下面将结合示意图对本发明的触控显示装置进行更详细的描述，其中表示了本发明的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明，而仍然实现本发明的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本发明的限制。

在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

本发明的核心思想在于，本发明提供一种触控显示装置，所述触控显示装置包括：基板，所述基板包括显示区以及非显示区；用于发光的像素阴极，位于所述显示区上；电极隔离柱，位于所述非显示区上，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差；第一触控电极，位于所述电极隔离柱上，所述高度差使得所述第一触控电极和像素阴极电性断开；绝缘层，位于所述像素阴极和第一触控电极上；以及第二触控电极，位于所述绝缘层上。

其中，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差，可以同时制备所述像素阴极和所述第一触控电极，通过所述高度差使得所述第一触控电极和像素阴极断开，从而实现电性绝缘，降低制造成本；并且，所述第一触控电极和像素阴极电性绝缘，可以有效地避免信号干扰；此外，所述第一触控电极位于所述非显示区上，所述第一触控电极可以选择金属、合金等非透明导电材料，有利于提高导电率；所述第二触控电极位于所述绝缘层上，即所述第二触控电极位于薄膜封装结构中，所述第一触控电极和所述第二触控电极中的一个作为接收电极，另一个作为发射电极，共同形成内嵌式(in-cell)触控结构，有利于实现触控显示装置的薄型化和柔性化。

根据本发明的核心思想，本发明还提供一种触控显示装置的制备方法，包括：

提供一基板，所述基板包括显示区以及非显示区；

在所述非显示区制备一电极隔离柱；

制备一电极层，部分所述电极层位于所述显示区上形成用于发光的像素阴极，另一部分所述电极层位于所述电极隔离柱上形成第一触控电极，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差，使得所述像素阴极和第一触控电极电性断开；

制备一绝缘层，所述绝缘层位于所述像素阴极和第一触控电极上；以及

在所述绝缘层上制备一第二触控电极。

以下列举所述触控显示装置及其制备方法的几个实施例，以清楚说明本发明的内容，应当明确的是，本发明的内容并不限制于以下实施例，其他通过本领域普通技术人员的常规技术手段的改进亦在本发明的思想范围之内。

第一实施例

请参阅图1-图3具体说明本发明的第一实施例，其中，图1为本发明第一实施例的触控显示装置的俯视图示意图；图2为图1沿AA’线的剖面图；图3为图1沿BB’线的剖面图。为了清楚的显示第一触控电极120a和第二触控电极150的位置关系，在图2和图3中，省略了绝缘层140和保护层130。在图1-图3中，X表示水平第一方向，Y表示水平第二方向，Z表示垂直方向，X、Y、Z相互垂直。

如图2和图3所示，所述触控显示装置1包括基板100、像素阴极120、第一触控电极120a、电极隔离柱130、绝缘层140、第二触控电极150，其中，所述基板100包括显示区100a和非显示区100b，所述显示区100a用于发光显示，所述非显示区100b用于电路的布置等功能。在本实施例中，所述触控显示装置1为LED(发光二极管)的触控显示装置，所以，所述基板100包括像素阳极101以及位于所述像素阳极101上的像素限定层102，其中，所述像素限定层102具有一开口102a，所述开口102a的大小和位置定义出所述显示区100a的大小和位置，所述开口102a区域为所述显示区100a，所述开口102a以外的区域为所述非显示区100b。

所述像素阴极120位于所述显示区100a上，较佳的，所述触控显示装置1还包括一电致发光层110，所述电致发光层110位于所述基板100和所述像素阴极120之间，所述电致发光层110位于所述显示区100a上，一般的，在所述电致发光层110的制备过程中，还有小部分所述电致发光层110位于所述非显示区100b上，所述像素阴极120位于所述电致发光层110上，所以，亦有小部分所述像素阴极120位于所述非显示区100b上。

较佳的，所述触控显示装置1包括一电极隔离柱130，所述电极隔离柱130位于所述非显示区100b上，所述电极隔离柱130的上表面与所述像素阴极120的上表面具有一高度差，所述第一触控电极120a位于所述电极隔离柱130上，从而可以通过控制所述电极隔离柱130在垂直方向Z上的高度，调整所述第一触控电极120a在垂直方向Z上的高度，可以方便地控制所述第一触控电极120a与所述像素阴极120位于垂直方向Z上的不同平面，通过所述高度差使得所述第一触控电极120a和像素阴极120断开，从而实现电性绝缘。优选的，所述高度差大于所述像素阴极120的厚度，可以有效地控制所述第一触控电极120a和像素阴极120断开。在本实施例中，如图2所示，所述电极隔离柱130位于未覆盖所述电致发光层110的非显示区100b上，所述电极隔离柱130的上表面131高于所述像素阴极120的上表面121，从而可以方便地控制所述第一触控电极120a和像素阴极120电性绝缘。

在具体的制备过程中，可以控制所述电极隔离柱130的上表面131高于所述电致发光层110的上表面111，且所述电极隔离柱130的上表面131与所述电致发光层110的上表面111的高度差H1大于所述像素阴极120的厚度，则可以使得所述电极隔离柱130的上表面131高于所述像素阴极120的上表面121。一般的，所述像素阴极120的制备工艺采用蒸镀、溅射或沉积的方法制备，制备所述像素阴极120的电极材料会覆盖整个所述基板100，其中，覆盖在所述电极隔离柱130上的电极材料形成所述第一触控电极120a，未覆盖在所述电极隔离柱130上的电极材料形成所述像素阴极120，在本实施例中，覆盖在所述电致发光层110上的电极材料形成所述像素阴极120。从而可以在制备所述像素阴极120的同时制备所述第一触控电极120a，通过高度差使得所述第一触控电极120a和像素阴极120断开，从而实现电性绝缘，降低制造成本；并且，所述第一触控电极120a和像素阴极120电性绝缘，可以有效地避免信号干扰；此外，所述第一触控电极120a位于所述非显示区100b上，所述第一触控电极120a可以选择金属、合金等非透明导电材料，有利于提高导电率。

在本实施例中，所述电极隔离柱130的上表面131大于所述电极隔离柱130的下表面132，所述电极隔离柱130呈上大下小的结构，从而可以更有效地控制所述第一触控电极120a和像素阴极120电性绝缘。所述电极隔离柱130的材料可以为负性光阻材料，又或是酚醛树脂、聚酰亚胺、环氧树脂或丙烯酸类树脂等，并通过黄光显影形成上大下小的结构。

较佳的，如图2和图3所示，所述触控显示装置1还包括一保护层130，在所述第一触控电极120a和像素阴极120制备之后，制备所述保护层130，如图2所示，所述保护层130位于所述第一触控电极120a和像素阴极120上，以保护所述第一触控电极120a和像素阴极120，由于所述保护层130一般采用沉积工艺制备，所以，如图3所示，在未制备所述第一触控电极120a和像素阴极120的区域，所述保护层130还位于所述基板100上。

如图2和图3所示，所述绝缘层140位于所述像素阴极120和第一触控电极120a上，用于薄膜封装。在本实施例中，所述保护层130位于所述第一触控电极120a和像素阴极120上，所以，所述绝缘层140位于所述保护层130上。由于所述绝缘层140一般采用沉积或蒸镀等工艺制备，所以，如图3所示，在未制备所述第一触控电极120a和像素阴极120的区域，所述绝缘层140还位于所述保护层130上。由于所述电极隔离柱130的上表面131高于所述像素阴极120的上表面121，所以，位于所述电极隔离柱130上的第一触控电极120a和保护层130深入所述绝缘层140，被所述保护层130包围。优选的，所述绝缘层140包括由上到下依次层叠的第一无机绝缘层141、有机绝缘层142(一般为聚对苯二甲酸乙二醇酯层)和第二无机绝缘层143，可以起到很好的封装效果。在本实施例中，如图3所示，所述第二触控电极150位于所述绝缘层140上。

如图1所示，在本实施例中，所述第一触控电极120a和第二触控电极150均为条形，多个所述第二触控电极150在水平第一方向X上排列，多个所述第一触控电极120a在水平第二方向Y上排列。在本实施例中，所述第二触控电极150位于所述非显示区100b上，所述第二触控电极150的材料可以为透明导电材料或非透明导电材料。

在本实施例中，通过控制所述电极隔离柱130的位置，图形化所述第一触控电极120a和像素阴极120，图形化所述绝缘层140上的导电材料以形成第二触控电极150，所述第一触控电极120a和所述第二触控电极150中的一个作为接收电极，另一个作为发射电极，共同形成内嵌式(in-cell)触控结构，有利于实现触控显示装置1的薄型化和柔性化。

第二实施例

请参阅图4，图4为本发明第二实施例的触控显示装置的俯视图示意图，为了清楚的显示第一触控电极220a和第二触控电极250的位置关系，在图4中，省略了绝缘层140和保护层130。所述第二实施例的触控显示装置2与所述第一实施例的触控显示装置1基本相同，其区别在于：如图4所示，所述第一触控电极220a包括第一条形结构221和阵列的第一菱形结构222，所述第二触控电极250包括第二条形结构251和阵列的第二菱形结构252，所述第一菱形结构222和第二菱形结构252依次间隔排列，所述第一条形结构221导通在水平第二方向Y上排列的所述第一菱形结构222，同一所述第一条形结构221依次连接所述第一菱形结构222的两个相对的顶点，所述第二条形结构251导通在水平第一方向X上排列的所述第二菱形结构252，同一所述第二条形结构251依次连接所述第二菱形结构252的两个相对的顶点。

为了清楚的显示第一触控电极220a和第二触控电极250的位置关系，在图4中，省略了显示区100a和非显示区100b的位置，所述显示区100a和非显示区100b的位置为本领域的普通技术人员可以理解的，可以根据需要进行设置，在此不作赘述。其中，所述第二触控电极250位于所述显示区100a上所述第二触控电极150的材料为透明导电材料，以增加显示的面积。

在本实施例中，通过控制所述电极隔离柱130的位置，图形化所述第一触控电极220a和像素阴极120，图形化所述绝缘层140上的导电材料以形成第二触控电极250，所述第一触控电极220a和所述第二触控电极250中的一个作为接收电极，另一个作为发射电极，共同形成内嵌式(in-cell)触控结构，有利于实现触控显示装置2的薄型化和柔性化。

第三实施例

第三实施例提供一种触控显示装置的制备方法，该制备方法可以用于制备第一实施例的触控显示装置1和第二实施例的触控显示装置2。以下以制备第一实施例的触控显示装置1为例进行具体说明，所述触控显示装置的制备方法包括以下步骤：

S1、提供所述基板100，所述基板100包括显示区100a和非显示区100b，在本实施例中，所述基板100包括像素阳极101以及位于所述像素阳极101上的像素限定层102，其中，通过图形化的方法在所述像素限定层102形成所述开口102a，所述开口102a的大小和位置定义出所述显示区100a的大小和位置，所述开口102a区域为所述显示区100a，所述开口102a以外的区域为所述非显示区100b。所述触控显示装置1还包括一电致发光层110，所述电致发光层110位于所述显示区100a上；

S2、通过涂覆和光刻工艺，在所述非显示区100b制备一电极隔离柱130，控制所述电极隔离柱130的上表面131高于所述电致发光层110的上表面111；

S3、制备一电极层，所述电极层的制备工艺采用蒸镀、溅射或沉积等方法制备，制备所述电极层的电极材料会覆盖整个所述基板100，其中，覆盖在所述电极隔离柱130上的电极材料形成所述第一触控电极120a，未覆盖在所述电极隔离柱130上的电极材料形成所述像素阴极120，在本实施例中，覆盖在所述电致发光层110上的电极材料形成所述像素阴极120。由于所述电极隔离柱130的上表面与所述像素阴极120的上表面具有所述高度差，在制备所述电极层时，控制所述电极层的厚度，例如所述电极层的厚度小于所述高度差，可以使得所述像素阴极120和第一触控电极120a电性断开，从而实现电性绝缘；

在所述第一触控电极120a和像素阴极120制备之后，制备所述保护层130，所述保护层130位于所述第一触控电极120a和像素阴极120上，以保护所述第一触控电极120a和像素阴极120；

S4、采用蒸镀或沉积的方法制备所述绝缘层140，所述绝缘层140位于所述像素阴极120和第一触控电极120a上，在本实施例中，依次制备所述第一无机绝缘层141、有机绝缘层142和第二无机绝缘层143，以形成用于薄膜封装的所述绝缘层14；

S5、采用蒸镀、溅射或沉积等方法在所述绝缘层140上制备所述第二触控电极150。

本发明的较佳实施例如上所述，但是，本发明的触控显示装置及其制备方法并不限于上述公开的内容，例如：

所述电极隔离柱130的上表面并不限于高于所述像素阴极120的上表面，所述电极隔离柱130的上表面还可以低于所述像素阴极120的上表面，使得所述电极隔离柱130的上表面与所述像素阴极120的上表面具有一高度差，在制备所述电极层时，控制所述电极层的厚度小于所述高度差，亦可以使得所述第一触控电极120a和所述像素阴极120电性断开，根据本发明的上述描述，此方案为本领域的普通技术人员可以理解的，在此不作赘述；

此外，所述电极隔离柱130还可以至少部分位于所述电致发光层110上，亦可以使得所述第一触控电极120a和所述像素阴极120电性隔离，亦在本发明的思想范围之内；

所述绝缘层140并不限于为由上到下依次层叠的第一无机绝缘层141、有机绝缘层142(一般为聚对苯二甲酸乙二醇酯层)和第二无机绝缘层143，在本发明的其它实施例中，所述绝缘层140还可以只包括一第一无机绝缘层141，所述第二触控电极150位于所述第一无机绝缘层141上，然后在所述第二触控电极150上依次层叠有机绝缘层142和第二无机绝缘层143；或，所述绝缘层140还可以包括依次层叠的第一无机绝缘层141和有机绝缘层142，所述第二触控电极150位于所述有机绝缘层142上，然后在所述第二触控电极150上制备第二无机绝缘层143，亦在本发明的思想范围之内；

另外，所述第一触控电极和第二触控电极的形状并不限于本发明第一实施例和第二实施例所示的形状，本领域的普通技术人员可以根据需要进行适当的修改，亦在本发明的思想范围之内。

综上所述，本发明提供一种触控显示装置以及制备方法，所述触控显示装置包括：基板，所述基板包括显示区以及非显示区；用于发光的像素阴极，位于所述显示区上；电极隔离柱，位于所述非显示区上，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差；第一触控电极，位于所述电极隔离柱上，所述高度差使得所述第一触控电极和像素阴极电性断开；绝缘层，位于所述像素阴极和第一触控电极上；以及第二触控电极，位于所述绝缘层上。

其中，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差，可以同时制备所述像素阴极和所述第一触控电极，通过所述高度差使得所述第一触控电极和像素阴极断开，从而实现电性绝缘，降低制造成本；并且，所述第一触控电极和像素阴极电性绝缘，可以有效地避免信号干扰；此外，所述第一触控电极位于所述非显示区上，所述第一触控电极可以选择金属、合金等非透明导电材料，有利于提高导电率；所述第二触控电极位于所述绝缘层上，即所述第二触控电极位于薄膜封装结构中，所述第一触控电极和所述第二触控电极中的一个作为接收电极，另一个作为发射电极，共同形成内嵌式(in-cell)触控结构，有利于实现触控显示装置的薄型化和柔性化。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种触控显示装置，其特征在于，包括：

基板，所述基板包括显示区以及非显示区；

用于发光的像素阴极，位于所述显示区上；

电极隔离柱，位于所述非显示区上，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差；

第一触控电极，位于所述电极隔离柱上，所述高度差使得所述第一触控电极和像素阴极电性断开；

绝缘层，位于所述像素阴极和第一触控电极上；以及

第二触控电极，位于所述绝缘层上。

2.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述高度差大于所述像素阴极的厚度。

3.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述电极隔离柱的上表面大于所述电极隔离柱的下表面，所述电极隔离柱呈上大下小的结构。

4.如权利要求1-3中任意一项所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控显示装置还包括一电致发光层，所述电致发光层位于所述基板和所述像素阴极之间。

5.如权利要求1-3中任意一项所述的触控显示装置，其特征在于，所述第一触控电极和第二触控电极均为条形，多个所述第二触控电极在水平第一方向上排列，多个所述第一触控电极在水平第二方向上排列，所述水平第一方向和水平第二方向垂直。

6.如权利要求1-3中任意一项所述的触控显示装置，其特征在于，所述第一触控电极包括第一条形结构和阵列的第一菱形结构，所述第二触控电极包括第二条形结构和阵列的第二菱形结构，所述第一菱形结构和第二菱形结构依次间隔排列，所述第一条形结构导通在水平第二方向上排列的所述第一菱形结构，所述第二条形结构导通在水平第一方向上排列的所述第二菱形结构，所述水平第一方向和水平第二方向垂直。

7.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控显示装置还包括一保护层，所述保护层位于所述像素阴极、第一触控电极与所述绝缘层之间。

8.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述基板包括像素阳极以及位于所述像素阳极上的像素限定层，所述像素限定层具有一开口，所述开口定义出所述显示区。

9.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述绝缘层包括由上到下依次层叠的第一无机绝缘层、有机绝缘层和第二无机绝缘层。

10.一种触控显示装置的制备方法，其特征在于，包括：

提供一基板，所述基板包括显示区以及非显示区；

在所述非显示区制备一电极隔离柱；

制备一电极层，部分所述电极层位于所述显示区上形成用于发光的像素阴极，另一部分所述电极层位于所述电极隔离柱上形成第一触控电极，所述电极隔离柱的上表面与所述像素阴极的上表面具有一高度差，使得所述像素阴极和第一触控电极电性断开；

制备一绝缘层，所述绝缘层位于所述像素阴极和第一触控电极上；以及

在所述绝缘层上制备一第二触控电极。