KR20160095126A - 투명 전도성 다층 어셈블리 - Google Patents

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KR20160095126A
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transparent
organic polymeric
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KR1020167018206A
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완-춘 첸
춘-밍 치우
휘 루오
쩨 유안 왕
타-후아 유
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쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니
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Abstract

투명 유기 중합체성 가요성 기재, 기재의 제1 주표면 상의 투명 전도층, 및 기재의 제2 주표면 상의 반사방지층을 포함한 투명 다층 어셈블리.

Description

투명 전도성 다층 어셈블리{TRANSPARENT CONDUCTIVE MULTILAYER ASSEMBLY}
소비자 전자 디바이스들은 동시에 전기적이고 광학적으로 양호한 특성이 요구되는 터치 스크린 디스플레이를 종종 채용한다.
넓은 의미로서 요약하자면, 본 발명에서는 투명 유기 중합체성 가요성 기재, 기재의 제1 주표면 상의 투명 전도층, 및 기재의 제2 주표면 상의 반사방지층을 포함한 투명 다층 어셈블리가 기술된다. 이러한 양태 및 기타 양태가 하기의 상세한 설명으로부터 자명해질 것이다. 그러나, 어떠한 경우에도, 청구가능한 본 발명의 요지가 최초 출원된 출원의 특허청구범위에 제시되든, 또는 보정되거나 또는 달리 절차 진행 중에 제시된 청구범위에 제시되든 간에, 상기 넓은 의미로서의 발명의 내용은 그러한 발명의 요지를 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다.
도 1은 본 명세서에 개시된 바와 같은 예시적인 투명 다층 어셈블리의 개략적 측단면도이다.
도 2는 예시적인 투명 다층 어셈블리의 개략적 측단면도로서, 어셈블리의 투명 전도층이 투명 전도성 다층 스택으로 구성되었다.
도 3은 도 1의 투명 다층 어셈블리의 개략적 측단면도로서, 광학적으로 투명한 접착제와 결합되어 전자기 간섭 차폐 어셈블리를 형성하고 있다.
도 4는 도 3의 전자기 간섭 차폐 어셈블리를 포함한 터치 스크린 모듈을 포함한 예시적인 터치 스크린 디스플레이의 개략적 측단면도이다.
여러 도면의 동일한 도면 번호는 동일한 요소를 나타낸다. 일부 요소는 동일하거나 동등한 다수로 존재할 수 있으며; 그러한 경우에 오직 하나 이상의 대표적인 요소가 도면 부호에 의해 지정될 수 있지만, 그러한 도면 부호는 그러한 동일한 요소 모두에 적용된다는 것이 이해될 것이다. 달리 표시되지 않는한, 본 명세서 내의 모든 수치들 및 도면들은 크기조정되지 않았으며 본 발명의 상이한 실시예들을 설명할 목적으로 선택된 것이다. 특히 다양한 구성요소들의 치수들은 단지 예시적인 형태로 표시된 것이며, 다양한 구성요소들의 치수들 간의 관계는, 그리 표시되지 않는한, 도면들로부터 추론되어서는 안된다. "상단", "하단", "상부", "하부", "아래", "위", "전방", "후방", "외향", "내향", "상방" 및 "하방", 및 "제1" 및 "제2"와 같은 용어가 본 개시 내용에 사용될 수 있지만, 이들 용어는 달리 언급되지 않는다면 그들의 상대적 의미로만 사용됨을 이해하여야 한다. 특성 또는 속성에 대한 수식어로서 본 명세서에 사용되는 바와 같이, 용어 "대체로"는 달리 구체적으로 정의되지 않는 한, 특성 또는 속성이 절대적인 정밀도 또는 완벽한 일치를 요구함이 없이(예컨대, 정량화가능한 특성에 대해 +/- 20% 이내) 당업자에 의해 용이하게 인식가능할 것이라는 것을 의미하며, 용어 "실질적으로"는, 달리 구체적으로 정의되지 않는 한, 절대적인 정밀도 또는 완벽한 일치를 요구함이 없이 높은 정도의 근사(예컨대, 정량화가능한 특성에 대해 +/- 10% 이내)를 의미한다. 동일한, 같은, 균일한, 일정한, 엄밀하게 등과 같은 용어는, 절대적인 정밀도 또는 완벽한 일치를 요구하기보다는 특정 환경에 적용가능한 통상의 공차 또는 측정 오차 내에 있는 것으로 이해된다.
도 1의 개략적 측단면도에는 예시적인 투명 다층 어셈블리(40)가 도시되어 있다. 어셈블리(40)는 서로 반대편인 제1 및 제2 주표면(52, 54)이 구비된 투명 유기 중합체성 가요성 기재(50)를 포함한다. 서로 반대편인 주표면(62, 64)이 구비된 투명 전도층(60)은 기재(50)의 제1 측면 상에 배치되며, 전도층(60)의 제1 주표면(62)이 기재(50)의 제1 주표면(52)과 직접적으로 접촉되어 있다. 서로 반대편인 주표면(72, 74)이 구비된 투명 반사방지층(70)은 기재(50)의 대향 측부인 제2 측부 상에 배치되며 반사방지층(70)의 제1 주표면(72)이 기재(50)의 제2 주표면(54)과 직접적으로 접촉되어 있다.
투명 유기 중합체성 가요성 기재(50)는 투명도, 노화 효과 저항성, 온도 저항성 등의 필수 특성을 보이는 임의의 적합한 재료로 구성될 수 있다. 적합한 재료들로는 예컨대 폴리카보네이트, 시클로-올레핀 공중합체, 폴리(메틸메타크릴레이트) 등이 포함될 수 있다. 임의의 이러한 재료 중 임의의 공중합체, 블렌드 등이 이용될 수 있다. 예컨대 재료의 광학적 특성을 저해하지 않는다면 임의의 적합한 첨가제가 임의의 용도로 존재할 수 있다. 많은 실시예들에서, 기재(50)는 폴리에스테르(예컨대, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 및 이들의 공중합체 및 블렌드)로 구성될 수 있다.
일부 실시예들에서, 투명 유기 중합체성 가요성 기재(50)는 필름의 두께 전체에 걸쳐 균일한 조성을 가진 단일의 일체형 유기 중합체성 필름으로 이루어질 수 있다. 많은 실시예들에서, 이러한 필름은 비-전도성(즉, 전기 절연성) 필름일 수 있다. 예를 들어, 주표면 상에 유기 또는 무기 재료의 임의의 층(예컨대, 코팅)을 가지지 않는 광학 등급(optical grade) 폴리에스테르 필름이 사용될 수 있다. 이러한 일부 실시예들에서, 이러한 필름의 주표면 둘 모두가 필름의 내부 부분들과 실질적으로 동일한 조성을 가질 것이다. 특정 실시예들에서, 기재(50)는 임의의 유형의 표면 층(예컨대, 프라이머(primer) 또는 타이층(tie layer)), 코팅, (예컨대, 플라스마, 코로나 등과 같이) 표면 화학특성을 변형시킬 수 있는 임의의 유형의 처리 등을 포함하지 않는 광학 등급의 폴리에스테르 필름으로 구성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 이러한 폴리에스테르 필름에는 예컨대 점착방지 특성 등을 제공하기 위하여 일부 폴리에스테르 필름의 표면 상에 때때로 제공되는 크기 스케일의 표면 조면화(실리카 입자의 존재에 의해 달성되거나 몇몇 다른 표면-조면화 방법에 의함)가 없을 수 있다. 다양한 실시예들에서, (전도층, 반사방지 코팅 등이 존재하지 않는) 이러한 필름 기재의 광투과도는 적어도 약 88, 89, 90, 또는 91%일 수 있다.
다른 실시예들에서, 투명 유기 중합체성 가요성 기재(50)는 유기 중합체성 필름을 포함할 수 있고 그의 주표면 상에 적어도 하나의 재료층이 구비되므로, 기재(50)는 다층 기재가 된다. (이러한 구성은 본 명세서에 기재된 다른 요구조건들이 충족되는 한 허용된다). 일부 실시예들에서, 이러한 재료층은 예컨대 코팅(예컨대, 액체 코팅에 의함), 증착(예컨대, 미국 특허 제5,440,446호에 개시된 일반적 유형의 증착/축합 공정에 의함) 등에 의한 유기 중합체성 재료일 수 있다. 일부 실시예들에서, 기재(50)는 예컨대 다층 압출에 의해 얻어진 다층 필름을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 기재(50)는 주표면 중 하나 또는 둘 모두 상에 프라이밍 처리(priming treatment)를 포함할 수 있다.
투명 전도층(60)은 임의의 적합한 투명 전도성 재료로 구성될 수 있다. "전도성"이라는 말은 층(60)에서 약 500 Ohm/sq 미만의 평균 면적 저항률이 나타남을 의미한다. 다양한 실시예들에서, 전도층(60)은 예컨대 하나 이상의 금속, 금속 산화물, 전도성 중합체 등을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 전도층(60)은 연속적 층의 형태를 취할 수 있다(다만 이러한 것이 코팅 공정에서 통계적으로 불가피할 수 있는 아주 적은 수의 간헐적 결함의 존재를 배제하는 것은 아니다). 다른 실시예들에서, 전도층(60)은 불연속적 층(예컨대, 금속 메시와 같은 네트워크, 금속 나노와이어 구조 등)을 포함하거나 그 형태를 취할 수 있다. 특정 실시예들에서, 전도층(60)은 예컨대 미국 특허 제8,049,333호에 개시된 일반적 유형의 금속(예컨대, 은) 나노와이어를 포함할 수 있다. 다른 실시예들에서, 전도층(60)은 예컨대 전도성 중합체, 그래핀, 탄소 나노튜브 등을 포함할 수 있다.
일부 실시예들에서, 투명 전도층(60)은 도 2의 예시적 실시예에 도시된 바와 같은 다층 스택(예컨대, 3층 스택)의 형태를 취할 수 있다. 일부 실시예들에서, 이러한 다층 스택은 서로 반대편인 제1 및 제2 주표면들을 구비한 저 굴절률 전도성 코어층(84)을 포함할 수 있다. 이러한 스택은 기재(50)의 제1 주표면(52) 상에 직접적으로 접촉되어 배치됨에 따라 투명 전도층(60)의 제1 주표면(62)을 제공하는 제1 주표면, 및 다층 스택의 코어층의 제1 주표면 상에 직접적으로 접촉되어 배치된 제2 주표면을 구비한 제1 전도성 고 굴절률 외부층(82)을 추가로 포함할 수 있다. 이러한 스택은 코어층의 제2 주표면 상에 직접적으로 접촉되어 배치된 제1 주표면과, 투명 전도층(60)의 제2 주표면(64)을 제공하는 제2 주표면이 구비된 제2 전도성 고 굴절률 외부층(86)을 추가로 포함할 수 있다.
고 굴절률(index of refraction, RI)과 저 굴절률(RI)이란 용어들은 서로에 대해 상대적으로 정의된 것으로, 고 굴절률 재료와 저 굴절률 재료의 굴절률의 차이(특히, 그 중 "실수(real)" 부분)가 적어도 0.5 임을 의미한다(대략 630 nm의 파장에서 측정된 경우). 추가의 실시예들에서, 고 굴절률(RI) 및 저 굴절률(RI) 재료들은 대략 630 nm에서 재측정시 적어도 약 0.8 또는 1.0의 차이를 가질 수 있다. 특정 예를 들자면, 은과 금과 같은 금속의 RI는 예컨대 0.1 내지 0.2의 범위를 포함할 수 있는 반면, 예컨대 알루미늄-도핑된 아연 산화물, 인듐 아연 산화물, 및 인듐 주석 산화물과 같은 금속 산화물의 RI는 예컨대 1.8 내지 2.1 범위를 포함할 수 있다.
일부 실시예들에서, 저 굴절률 코어층(84)은 금속으로 구성될 수 있다. 특정 실시예들에서, 이는 금, 은(예컨대, 은 나노와이어) 등으로 구성될 수 있다. 물론 이러한 금속층은 요구되는 광학적 투명도를 유지하고, 반사, 변색 등을 최소화하기 위해 충분히 낮은 두께를 갖도록 편리하게 제공되야 함이 이해될 것이다. 다양한 실시예들에서, 코어층(84)은 두께가 최대 약 30, 20, 15, 또는 10 nm일 수 있다. 추가의 실시예들에서, 코어층(84)은 두께가 적어도 약 1, 2, 또는 4 nm 일 수 있다.
일부 실시예들에서, 고 굴절률 외부층들(82, 86)은 금속 산화물로 구성될 수 있다(다만 두 개의 외부층이 반드시 동일한 재료로 구성되어야 할 필요는 없음). 이러한 금속 산화물은 예컨대 인듐 아연 산화물(IZO), 알루미늄-도핑된 아연 산화물(aluminum-doped zinc oxide, AZO), 인듐 주석 산화물(ITO) 등에서 선택될 수 있다. 이러한 재료들의 특성들로 인해, 외부층들(82, 86) 중 적어도 하나는 코어층(84) 보다 다소 두꺼운 층들로서 제공되는 것이 가능할 수 있다. 다양한 실시예들에서, 외부층들(82 및/또는 86)은 두께가 적어도 약 2, 4, 8, 10, 20, 30 또는 40 nm 일 수 있다. 추가의 실시예들에서, 외부층들(82 및/또는 86)은 두께가 최대 약 100, 80, 60, 50, 또는 40 nm일 수 있다.
일부 실시예들에서, 제1 전도성 고 굴절률 외부층(82)의 두께와 제2 전도성 고 굴절률 외부층(86)의 두께는 서로에 대해 약 20%, 10%, 또는 5% 이내일 수 있다. 그러나, 다른 실시예들에서, 이러한 전도성 고 굴절률 외부층 하나의 두께와 다른 전도성 고 굴절률 외부층의 차이는 적어도 약 20%, 40%, 80%, 120%, 또는 200% 일 수 있다. 이러한 실시예들에서, 제1 전도성 고 굴절률 외부층이나 제2 전도성 고 굴절률 외부층 둘 중에 어느 하나가 더 두꺼운 것일 수 있다. 특정 실시예들에서, 제1 전도성 고 굴절률 외부층(82)(저 굴절률 전도성 코어층(84)과 기재(50) 사이에 위치)의 두께는 제2 전도성 고 굴절률 외부층(86)의 두께보다 상당히 낮을 수 있다. 이러한 실시예들에서, 층(82)의 두께는, 약 15, 20, 또는 25 nm 내지 약 60, 50, 또는 40 nm 범위일 수 있는 두께를 가진 층(86)과 결합하여 약 2, 3, 또는 4 nm 내지 약 12, 10 또는 8 nm의 범위일 수 있다.
(예컨대, 2개의 금속 산화물층 사이에 샌드위치된 고 전도성 금속 코어층을 구비한) 일반적인 유형의 이러한 다층 스택은 유리하게 낮은 면적 저항률을 보이는 반면, 동시에 유리하게 높은 광투과성을 보일 수 있음이 이해될 것이다. 이러한 스택의 층들의 두께는 특정 조성과 상관없이 스택이 관심 파장(wavelengths of interest)에서의 내부 계면 반사(interfacial reflection)를 최소화하도록 사분파 스택을 형성하거나 이에 근접하도록 편리하게 선택될 수 있다.
일부 실시예들에서, 투명 전도층(60)(예컨대, 투명 전도성 다층 스택)은 투명 유기 중합체성 가요성 기재(50)가 아닌 유기 중합체성 재료의 임의의 층이나 광학적으로 투명한 접착제(이후에 기재되는 바와 같이, 이는 예컨대 터치 스크린 모듈에 대한 어셈블리(40)의 부착을 용이하게 하기 위한 투명 전도층(60)의 주표면(64)에 도포될 수 있음)를 포함하지 않으며 이에 접촉하지도 않는다. 따라서 이러한 실시예들에서, 예컨대 다층 전도성 스택의 임의의 층들 사이에는 (예컨대 배리어 층, 유전체 층, 절연층, 보호층 등의 특징 여부를 불문하고) 임의의 유기 중합체성 필름의 존재가 배제된다. 추가의 실시예들에서, 이러한 투명 전도성 다층 스택은 코어층과 제1 및 제2 외부층 외에는 (금속, 금속 산화물, 유기 중합체성 등의 재료 여부를 불문하고) 임의의 층들을 포함하지 않는다(이러한 부가의 층은 예컨대, 시드 층, 핵생성 층, 배리어 층, 보호층, 유전체 층 등의 특징 여부를 불문함).
투명 전도층(60)은 임의의 적합한 수단, 예컨대, (예컨대, 전도성 잉크의) 물리 증착법, 화학 증착법, 코팅, 인쇄 등에 의해 기재(50)의 제1 주표면(52) 상에 직접적으로 배치될 수 있다(다만 예컨대 코팅과 인쇄와 같은 침착 방법들 사이에 항상 명확한 차이가 존재하는 것은 아닐 수 있을 유념한다). 투명 전도층(60)이 다층 스택인 경우, 그의 개별 층들은 이들 방법들 중 임의의 방법을 단독으로 또는 조합하여 (예컨대 순차적으로) 침착될 수 있다. 다양한 실시예들에서, 이러한 전도성 다층 스택의 다양한 전도층들 중 임의의 층 또는 모든 층들이 연속적이거나 불연속적일 수 있다.
반사방지층(70)은 임의의 방식으로 제공되었을 때 적절한 반사방지 특성을 나타내는 임의의 적합한 투명 재료로 구성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 반사방지층(70)은 다층 광학 사분파 스택의 형태를 취할 수 있다(층(70)의 개별 (서브)층들은 관심 파장에서 그들 사이의 계면들로부터 반사되는 광파의 상쇄 간섭을 제공함). 그러나, (특히 디스플레이에서 방출된 광이 어셈블리(40)를 통과하도록 광학 디스플레이 전면에 어셈블리(40)가 위치되야 하는 경우), 층(70)은 그의 외표면에서 반사된 광과 다층 반사방지 구조의 내표면에서 반사된 다른 광과의 상쇄 간섭에 의존하는 유형보다는 그의 외표면에서의 반사를 최소화하는 반사방지층의 유형인 것이 이로울 수 있다. 이러한 동작 모드는 어셈블리(40)에서 반사된 광량을 단지 최소화하는 것이 아니라 어셈블리(40)를 통해 투과된 광량을 최대화할 수 있다. 이러한 구성은 예컨대, 반사방지층(70)이 광학 디스플레이에서 방출된 입사광이 층(70)의 외표면(예컨대, 표면(74)) 상에 입사되는 공기 계면을 포함한 경우에 이롭게 이용될 수 있다.
이러한 반사방지 모드는 예컨대, 그의 광-대향(예컨대, 에어갭-대향)의 외표면(예컨대, 주표면(74)) 상의 특징부를 포함한 임의의 층에 의해 제공될 수 있으며, 특징부들은 관심 가시광 파장의 범위 내에 있다. 다시 말하면, 이러한 특징부들은 에어갭의 에어와 층(70)을 이루는 재료 사이에서의 굴절률의 미스매치의 효과를 최소화하도록 나노 크기화될 수 있다.
따라서, 일부 실시예들에서, 반사방지층(70)의 주표면(74)은 나노구조 층을 포함하며, 이에 의하면 약 800 nm 내지 약 10 nm 범위에서, (층의 주평면의 내부/외부, 그리고 필름 평면을 따른 각 방향의) 3개의 가능한 치수(dimension) 중 적어도 2개에서, 주표면(74)이 나타내는 다수의 특징부들 각각이 특징적 길이를 나타냄을 의미한다. 이러한 나노 특징부들은 규칙적이거나 반복적 패턴, 또는 무작위 또는 불규칙적 패턴으로 제공될 수 있다. 이러한 나노구조에서 개별 나노 특징부들은 임의의 적합한 형태(예컨대, 나노필라, 모스-아이(moth-eye) 구조 등)를 취할 수 있으며, 개별 나노 특징부들은 크기 및/또는 형태에서 모두 동일할 수도 있고, 나노 특징부 간에 매우 다양할 수도 있다. 본 문맥에서 나노 특징부란 평탄한 평면으로부터의 이탈 또는 편차를 표현하는 임의의 것일 수 있다. 나노 특징부는 돌출된 것들(예를 들어, 노듈(nodule), 기둥(post), 덩어리(lump), 릿지(ridge)), 또는 인입된 것들(예를 들어, 구멍, 피트(pit), 열하(fissure), 크레비스(crevice))을 포함할 수 있다. 미세구조화(microstructured) 표면은 또한 돌출 및 인입 특징부들의 조합을 소유할 수 있다(예를 들어, 돌출되고 인입된 피라미드들).
이러한 나노구조화 표면은 임의의 적합한 방식으로 얻을 수 있으며, 요구되는 반사방지 특성을 제공할 수 있는 임의의 구조 및 조성을 가질 수 있다. 일부 실시예들에서, 이러한 나노구조화 표면은 서브마이크로미터 입자들이 내부에(예컨대, 적어도 중합체성 매트릭스의 한 주표면 상이거나 근접한 영역 내에) 분산된 중합체성 매트릭스를 포함한다. 이러한 나노구조화 표면은 예컨대, 내부에 분산된 서브마이크로미터 입자들을 포함한 경화성 수지를 제공하고, 층의 외표면 영역에서 수지의 경화를 억제하기 위한 억제재 가스의 존재하에 수지 층을 경화함으로써, 적어도 부분적으로 돌출된 서브마이크로미터 입자들을 포함한 표면을 생성함에 의해 편리하게 얻을 수 있다. 그런 다음 표면 영역이 순차적으로 경화됨으로써 나노구조화 표면을 구비한 생성물을 제공할 수 있다. 이러한 공정과 결과적 나노구조화 표면들에 대한 추가적 상세사항들은 2012년 2월 1일 출원되고, 제목이 나노구조화 재료 및 그 제조 방법인, 미국 가특허 출원 제61/593,666호; 및 그로부터 우선권을 주장한 국제 특허 출원 공개 제WO 2013/116103호에 상세히 기술되어 있다. 이들 출원 둘 모두는 이러한 목적으로 전체적으로 본 명세서에 참고로 포함된다.
일부 다른 실시예들에서, 이러한 나노구조화 표면은 예컨대, (예컨대, 실리카 나노입자들에 의해 제공된) 나노분산상(nanodispersed phase)을 포함한 매트릭스를 제공하고, 예컨대, 플라스마 처리를 이용해 매트릭스를 식각함에 의해 편리하게 얻을 수 있다. 이러한 공정과 결과적 나노구조화 표면에 대한 추가적 상세사항은 이러한 목적으로 전체적으로 본 명세서에 참고로 포함된 미국 특허 출원 공개 제2011/0281068호에 상세히 기술되어 있다.
그러나 다양한 실시예들에 의해 (기재의 주표면 상에 제공된 것과 같은) 반사방지층(70)이 제공되었다 하더라도, 이것이 나타내는 반사율은 예컨대, 약 630 nm 파장에서의 가시광이 층(70)과 기재의 최단 치수와 정렬된 방향으로 입사된 경우, 약 3.5, 3.0, 2.5, 또는 2.0 미만이다.
다양한 실시예에서, 투명 다층 어셈블리(40)의 광투과도는 적어도 약 86, 88, 89, 90, 또는 91%일 수 있다. 추가의 실시예들에서, 어셈블리(40)의 광투과도는 최대 약 94%일 수 있다. 다양한 실시예들에서, 어셈블리(40)의 투명 전도층(60)의 면적 저항률은 약 100, 80, 60, 50, 40, 30, 또는 20 Ohm/sq 미만일 수 있다. 추가의 실시예들에서, 층(60)의 면적 저항률은 적어도 약 5 Ohm/sq 일 수 있다. 특정 실시예들에서, 투명 다층 어셈블리(40)의 광투과도는 88% 초과이고, 투명 전도층(60)의 면적 저항률은 40 Ohm/sq 미만이다. 다른 특정 실시예들에서, 투명 다층 어셈블리(40)의 광투과도는 90% 초과이고, 투명 전도층의 저항은 40 또는 50 내지 약 500 Ohm/sq 범위에 있다(다만 매우 높은 투명도를 제공하기 위해 보다 낮은 전도성을 수용하는 것이 가능할 수 있다). 다양한 실시예들에서, (그의 최단 치수를 따라 관찰한 경우) 어셈블리(40)는 (CIE L*a*b* 스케일로 측정했을 때) "a*" 및 "b*" 값들을 나타낼 수 있으며, 절대값은 약 4, 3, 2, 또는 1.0 미만일 수 있다. 다양한 실시예들에서, 어셈블리(40)는 (그의 최단 치수를 따라 관찰했을 때) 약 10%, 5%, 또는 2% 미만의 헤이즈(haze)를 나타낸다.
일부 실시예들에서, 투명 다층 어셈블리(40)는 투명 유기 중합체성 가요성 기재(50), 투명 전도층(60), 및 전도층(60)으로부터 기재(50)의 대향측 상의 반사방지층(70)으로 본질적으로 이루어진다. 이러한 실시예들에서, 어셈블리(40)는 투명 유기 중합체성 가요성 기재(50) 이외에는 유기 중합체성 재료의 임의의 층을 포함하지 않을 수 있다(다만 소정 실시예들에서 기재(50) 자체가 다층 기재일 수 있으며, 또한 일부 실시예들에서 어셈블리(40)와 예컨대 터치 스크린 모듈간의 접합을 위해 이용된 광학적으로 투명한 접착층에 전도층(60)이 접촉되어 있을 수 있다). 이러한 실시예들에서, 어셈블리(40)도 이와 비슷하게 전도층(60) 내에 존재할 수 있는 이러한 층들 또는 서브 층들 이외의 무기 재료(예컨대, 금속 또는 금속 산화물)의 임의의 부가 층을 포함하지 않을 수 있다. 이러한 조건이 특정 유형의 반사방지층(70) 내에 일부 무기 재료(예컨대, 실리카 나노입자)의 존재를 배제하는 것은 아님을 유념한다.
일부 실시예들에서, 투명 다층 어셈블리(40)는 광학적으로 투명한 접착제(OCA)(94)와 결합되어 도 3에 예시적 방식으로 도시된 바와 같은 다층 전자기 간섭(EMI) 차폐 어셈블리(10)를 형성할 수 있다. (EMI 차폐 어셈블리라는 용어는 편의를 위해 사용된 것으로, 어셈블리(40)가 EMI 차폐를 제공할 수 있게 하기 위해 접착제의 존재가 반드시 필요한 것은 아님을 유념한다). 광학적으로 투명한 접착제(94)는 일부 실시예들에서 EMI 차폐 어셈블리(10)를 형성하기 위해 투명 전도층(60)의 제2 주표면(64) 상에 직접적으로 접촉되어 배치된 제1 주표면을 포함할 수 있다.
광학적으로 투명한 접착제(94)는 광학적으로 충분히 투명하고(즉 약 50 마이크로미터의 두께로 측정되었을 때 적어도 85%의 광투과도를 가진 접착제를 의미함), 예컨대 이하 기술된 바와 같이 어셈블리(40)와 터치 스크린 모듈을 충분하게 결합시킬 수 있는 임의의 적합한 접착제일 수 있다. 다양한 실시예들에서, 광학적으로 투명한 접착제(94)는 적어도 약 90%의 광투과도 및/또는 약 10%, 5%, 또는 2% 미만의 헤이즈 값을 나타낼 수 있다. 일부 실시예들에서, 광학적으로 투명한 접착제(94)는 그의 결합 기능을 수행하기 위해 추가적인 처리, 활성화, 경화 등을 필요로 하지 않는 감압 접착제의 형태를 취할 수 있다. 다른 실시예들에서, 광학적으로 투명한 접착제는 활성화(예컨대, 열에 대한 노출 등에 의해 경화)되어 그의 최종 결합 특성을 달성하는 액상 수지, 또는 반액상 감압 접착제의 형태를 취할 수 있다. 많은 실시예들에서, 광학적으로 투명한 접착제(94)는 비전도성일 수 있으며, 다만 일부 실시예들에서 예컨대, 국제 특허 출원 공개 제WO 2013/025330호에 개시된 바와 같이 전도성일 수도 있다. 광학적으로 투명한 접착제로 사용할 수 있는 적합한 재료로는, 예를 들어, 천연 고무, 합성 고무, 스티렌 블록 공중합체, (메트)아크릴 블록 공중합체, 폴리비닐 에테르, 폴리올레핀, 및 폴리(메트)아크릴레이트에 기반한 것들이 포함될 수 있다. 용어 (메트)아크릴레이트 및 (메트)아크릴은 특히 적합할 수 있는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 둘 모두를 포함한다. 광학적으로 투명한 접착제로 사용하기에 적합할 수 있는 재료들이 국제 특허 출원 공개 제WO 2013/025330에 추가로 상세히 기술되어 있으며, 이는 본 목적을 위해 전체적으로 본 명세서에서 참조로서 통합된다. 어셈블리(40)와 대향된 광학적으로 투명한 접착제의 주표면 상에 이형 라이너를 제공하여 (예컨대, 시트 형태이거나 롤 제품일 수 있는) EMI 차폐 어셈블리(10)를 예컨대 터치 스크린 및/또는 터치 스크린 디스플레이 제조업자에게 공급할 수 있다 임의의 적합한 이형 라이너가 요구되는 바대로 사용될 수 있다.
일부 실시예들에서, 전술된 EMI 차폐 어셈블리(10)는 터치-감지 유닛(90)과 결합되어 도 4에 도시된 바와 같은 터치 스크린 모듈(20)(특히, EMI-차폐 터치 스크린 모듈)을 형성할 수 있다. 많은 실시예들에서, 터치-감지 유닛(90)은 정전용량 감지 유닛으로서, 예컨대 투영-캐패시턴스(projected-capacitance)("pro-cap") 감지 유닛일 수 있다. 어셈블리(10)와 터치-감지 유닛(90)과의 결합은 광학적으로 투명한 접착제(94)의 제2 주표면을 터치-감지 유닛(90)의 제1 주표면에 접합시킴에 의해 달성될 수 있다. 일부 실시예들에서, 터치-감지 유닛(90)은 예컨대 특정 감지 장치의 다양한 층들 이외에 부가적 층들 및/또는 컴포넌트들을 선택적으로 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 4의 예시적 도시에서 소위 커버 글래스나 커버 렌즈(96)(예컨대, 유리, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리(메틸 메타크릴레이트) 등으로 제조될 수 있음)가 (2차 광학적으로 투명한 접착제(194)에 의해) 터치-감지 유닛(90)에 접합된다. 또한, 도 4에 도시된 바와 같이, 예컨대 사용시 터치 대상이 될 유닛(90)의 최외곽 표면에 대해 내마모성을 부여할 수 있는 부가의 선택적 보호층(98)이 제공될 수 있다.
EMI 차폐 어셈블리(10)가 유닛(90)에 부착된 시점에 터치-감지 유닛(90)은 예컨대 그에 부착된 커버 글래스를 이미 가지고 있거나, 또는 가지고 있지 않을 수 있음이 이해될 것이다. 일부 실시예들에서, 터치-감지 유닛(90)의 하나 이상의 층들이나 컴포넌트들이 예컨대, 커버 글래스 또는 그의 컴포넌트와 결합되거나 대체될 수 있음이 이해될 것이다. 특정 예시를 들자면, 이러한 커버 글래스의 (후방-대면의) 주표면 상으로 pro-cap 터치-감지 유닛의 전도층이 침착됨으로써 터치-감지 유닛(90)에서 글래스 층의 생략이 잠재적으로 가능할 수 있다. 당업자라면 이러한 터치-감지 유닛, 커버 글래스 등에는 수도 셀 수 없이 많은 변형예와 구성예들이 있음을 이해할 것이다. 이러한 변형예들에도 불구하고, EMI 차폐 어셈블리(10)가 임의의 이러한 터치-감지 유닛(90)과 유용하게 이용될 수 있다(즉, 유닛(90)과 광학 디스플레이 사이에 위치됨).
도 4에 또한 도시된 바와 같이, 일부 실시예들에서, EMI 차폐의 터치 스크린 모듈(20)이 광학 디스플레이(30)와 결합되어 터치 스크린 디스플레이(100)를 형성할 수 있다. (광학 디스플레이(30)는 임의의 적합한 메커니즘, 예컨대, LCD, OLED 등에 의해 작동할 수 있다). 언급된 바와 같이, EMI 차폐 어셈블리(10)의 존재로 인해 광학 디스플레이(30)와 터치-감지 유닛(90) 간의 임의의 간섭을 최소화할 수 있다. 이러한 결합은 도 4의 예시적 방식에 도시된 바와 같이, 투명 다층 어셈블리(10)의 반사방지층(70)의 제2 주표면(74)에 인접하게 광학 디스플레이(30)를 위치시키되, 광학 디스플레이의 제1 주표면과 반사방지층의 제2 주표면(74) 간에 에어갭(32)을 가지게 함으로써 달성될 수 있다. 다양한 실시예들에서, 에어갭(32)은 평균 수치에서 적어도 약 0.1, 0.2, 또는 0.4 mm일 수 있으며; 추가의 실시예들에서, 에어갭(32)은 평균 수치에서 최대 약 2, 1, 또는 0.6 mm 일 수 있다. 물론 도 4는 터치 스크린 디스플레이(100)의 다만 대표적인 부분을 도시한 것이다; 디스플레이의 (예컨대, 그의 외곽을 따른) 다양한 위치들에서, 다양한 결합부들, 개스킷들 등이 이용됨에 따라, 도시된 에어갭이 디스플레이의 실제 뷰잉 영역 위에만 존재할 수 있음이 이해될 것이다. 일부 실시예들에서, 개선된 지지를 제공하기 위해 예컨대, 대형 터치 스크린 디스플레이의 경우에서, 에어갭이 차지한 영역의 위로 어느 위치 및/또는 터치 스크린 디스플레이의 외곽을 둘러 어느 위치에 하나 이상의 이격 부재들이 제공될 수 있다. 이러한 이격 부재는 예컨대 임의의 적합한 전기 절연 부재, 예컨대, 폼 테이프(foam tape) 등일 수 있다.
본 명세서의 기술 내용에 따르면, 전도층(60)으로부터 기재(50)의 대향측 상에 반사방지층(70)을 제공함으로서 달성되는 광학 디스플레이(30)에 대향하는 반사방지층(70)의 존재로 인해 광학 디스플레이(30)로부터의 광이 고충실도(high fidelity)를 가지고 어셈블리(10)를 통과하여 투과되고 사실상 터치 스크린 모듈(20) 전체를 통과하도록 제공할 수 있음이 이해될 것이다.
예시적인 실시예들의 목록
실시예 1은 서로 반대편인(opposed) 제1 및 제2 주표면을 갖는 투명 유기 중합체성 가요성 기재; 서로 반대편인 제1 및 제2 주표면을 갖는 투명 전도층으로서, 투명 전도층의 제1 주표면은 기재의 제1 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치되는, 투명 전도층; 및 서로 반대편인 제1 및 제2 주표면을 갖는 반사방지층으로서, 반사방지층의 제1 주표면은 투명 유기 중합체성 가요성 기재의 제2 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치되는, 반사방지층을 포함하는, 투명 다층 어셈블리이다.
실시예 2는 실시예 1의 투명 다층 어셈블리로서, 투명 전도층은, 서로 반대편인 제1 및 제2 주표면을 갖는 전도성의 저 굴절률 코어층; 기재의 제1 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치되고 투명 전도층의 제1 주표면을 제공하는 제1 주표면, 및 다층 스택의 코어층의 제1 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치된 제2 주표면을 구비한 제1 전도성 고 굴절률 외부층; 및 코어층의 제2 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치된 제1 주표면, 및 투명 전도층의 제2 주표면을 제공하는 제2 주표면을 구비한 제2 고 굴절률 외부층을 포함하는 투명 전도성 다층 스택이다.
실시예 3은 실시예 2의 투명 다층 어셈블리로서, 투명 전도성 다층 스택의 제1 및 제2 외부층은 각각 인듐 아연 산화물, 알루미늄 아연 산화물, 및 이들의 혼합물 및 블렌드로 이루어진 그룹에서 선택된다. 실시예 4는 실시예 2 또는 실시예 3의 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 전도성의 저 굴절률 코어층은 금속층이다. 실시예 5는 실시예 2 내지 실시예 4 중 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 투명 전도성 다층 스택은 투명 유기 중합체성 가요성 기재 또는 광학적으로 투명한 접착제(optically clear adhesive)가 아닌 유기 중합체성 재료의 임의의 층을 포함하지도 않으며 이에 접촉하지도 않는다. 실시예 6은 실시예 2 내지 실시예 5 중 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 투명 전도성 다층 스택은 코어층 및 제1 및 제2 외부층 이외의 임의의 다른 층들을 포함하지 않는다. 실시예 7은 실시예 2 내지 실시예 6 중 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 투명 전도층은 은 나노와이어, 그래핀, 탄소 나노튜브, 및 와이어 메쉬(wire mesh)로 이루어진 그룹에서 선택된 전도성 재료를 포함한다.
실시예 8은 실시예 1 내지 실시예 7 중 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 투명 유기 중합체성 가요성 기재는 필름의 두께 전체에 걸쳐 균일한 조성의 단일 유기 중합체성 필름으로 이루어진다. 실시예 9는 실시예 1 내지 실시예 7 중 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 투명 유기 중합체성 가요성 기재는, 그의 주표면 상에 증착에 의해 제공된 유기 중합체성 재료의 적어도 하나의 층을 구비한 유기 중합체성 필름을 포함함으로써 유기 중합체성 재료의 증착된 층의 주표면이 투명 유기 중합체성 가요성 기재의 주표면을 제공한다.
실시예 10은 실시예 1 내지 실시예 9 중 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 반사방지층은 다층 광학 사분파 스택이다. 실시예 11은 실시예 1 내지 실시예 9 중 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 반사방지층의 제2 주표면은 나노구조화 표면이다. 실시예 12는 실시예 1 내지 실시예 11 중 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 투명 다층 어셈블리의 광투과도는 88% 초과이고, 투명 전도층의 면적 저항률은 40 Ohm/sq 미만이다. 실시예 13은 실시예 1 내지 실시예 11 중 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 투명 다층 어셈블리의 광투과도는 90% 초과이고, 투명 전도층의 면적 저항률은 약 50 내지 약 500 Ohm/sq이다. 실시예 14는 실시예 1 내지 실시예 13 중 어느 한 실시예의 투명 다층 어셈블리로서, 어셈블리는 투명 유기 중합체성 가요성 기재, 투명 전도층, 및 반사방지층으로 본질적으로로 이루어지고, 어셈블리는 투명 유기 중합체성 가요성 기재 이외의 유기 중합체성 재료의 임의의 층은 포함하지 않는다.
실시예 15는 제1 주표면이 투명 전도층의 제2 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치된 광학적으로 투명한 접착제와 조합하여, 실시예 1 내지 실시예 14 중 임의의 실시예의 투명 다층 어셈블리를 포함하는 다층 전자기 간섭 차폐 어셈블리이다. 실시예 16은 광학적으로 투명한 접착제의 제2 주표면이 터치-감지 유닛의 제1 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치되는, 실시예 15의 다층 전자기 차폐 어셈블리를 포함하는 터치 스크린 모듈이다. 실시예 17은 광학 디스플레이의 제1 주표면과 반사방지층의 제2 주표면 사이에 에어갭을 가지면서 터치 스크린 모듈의 투명 다층 어셈블리의 반사방지층의 제2 주표면에 인접하게 위치되는 광학 디스플레이와 조합하여, 실시예 16의 터치 스크린 모듈을 포함하는 터치 스크린 디스플레이이다.
실험예
실험 방법
예컨대, 250-800 nm 범위에 걸쳐, 총 광 전송(종종 광투과도라고 지칭됨) 및 반사에 대한 측정과 컬러 특성에 대한 측정을 예컨대 Lambda 950이라는 상표명으로 지정되고 Perkin-Elmer에서 구입가능한 일반적 유형의 분광광도계와 적분구(integrating sphere)를 이용하여 수행할 수 있다. 광투과도는 예컨대 퍼센트로 보고된 총 분광 투과율(total luminous transmittance)로서 보고될 수 있다. 반사율은 퍼센트로 보고될 수 있다. 컬러 특성은 CIE 스케일 상으로 예컨대 L*, a*, 및 b* 값들로 보고될 수 있다.
헤이즈의 측정은 BYK Gardiner에서 "BYK Hazegard Plus"라는 상표명으로 지정되고 BYK Gardiner로부터 구매가능한 일반적 유형의 헤이즈 측정기를 이용하여 수행될 수 있으며, 그 결과는 퍼센트로 보고될 수 있다.
전기 면적 저항률의 측정은 four-terminal 검사(four point probe 검사로도 지칭됨)를 이용하여 수행될 수 있으며, 그 결과는 Ohm/sq로 보고될 수 있다.
EMI 차폐 효율의 측정은 상표명 E5701C로 지정되고 Agilent로부터 구매가능한 일반적 유형의 네트워크 분석기를 이용하여 수행될 수 있으며, 시료가 소스와 리시버 사이에 위치되고, 스캔 범위는 30 ㎒ ― 1.5 ㎓ 일 수 있다. 결과치는 감쇠 데시벨(dB)로 보고될 수 있다.
대표적 실험예
상표명 4507로 지정되고, 미츠비시에서 구입가능한 일반적 유형의 대략 75 μm 두께의 광학 등급 폴리에스테르 필름 기재를 얻었다. 국제 특허 출원 공개 제WO 2013/116103의 실시예들에 요약된 절차들에 따라 일반적으로 폴리에스테르 필름의 하나의 주표면 상에 나노구조화 반사방지층을 형성했다. 보다 상세하게는, 국제 특허 출원 공개 제WO 2013/116103의 준비예 8에 따라 일반적으로 표면-개질 실리카 나노입자(평균 크기 범위가 대략 100 nm)를 준비하였다. 그런 다음 나노입자와 예비중합체 수지를 혼합하고 필름 기재 상으로 코팅하고, 국제 특허 출원 공개 제WO 2013/116103호의 실시예 11의 절차에 일반적으로 따라 산소 존재하에 경화하였다. 그런 다음 폴리에스테르 필름의 다른 주표면 상에 투명 전도성 다층 스택을 형성하였다. 반사방지층의 형성(침착/처리)은 연속적 롤의 형태를 가진 폴리에스테르 필름을 이용한 롤-투-롤(roll-to-roll) 처리에 의해 수행하였다. 그런 다음 필름에서 AR-코팅된 필름의 시트 샘플을 절단하고, 아래에 기술된 바와 같은 스퍼터 코팅에 의해 다양한 전도층들을 배치 모드(batch mode)로 침착하였다.
투명 전도성 다층 스택은 3-층의 IZO/Ag/IZO 샌드위치를 포함하였다. 먼저 IZO 외부층을 폴리에스테르 필름의 표면(AR 코팅을 담지한 표면의 대향측)상으로 직접적으로 스퍼터 코팅하였으며, 추정 두께는 대략 6-7 nm 범위였다. 그런 다음 Ag 코어층을 대략 6-7 nm 범위의 추정 두께로 스퍼터 코팅하고, 이후에 IZO의 제2 외부층을 Ag 코어층의 최상부에 대략 30-35 nm 범위의 추정 두께로 스퍼터 코팅하여 3층 스택을 제공하였다. 3개 층 모두가 연속적인 것으로 여겨졌다.
그로 인한 생성물이 도 1에 도시된 일반적 유형의 투명 다층 어셈블리(상세하게는, 도 2에 도시된 일반적 유형의 3층 스택을 포함한 전도층을 구비함)였다.
본 구성의 전형적 샘플의 경우, (임의의 전도층 또는 반사방지층이 부재한) 폴리에스테르 기재의 광투과도(총 분광 투과율)는 대략 90-91% 범위 내로 추정되었다. 그 위에 3층 전도성 스택을 구비한 (반사방지층이 부재한) 폴리에스테르 기재의 광투과도는 대략 85-86% 범위 내였다. 그 위에 반사방지층을 구비한 (임의의 전도층이 부재한) 폴리에스테르 기재의 광투과도는 대략 93% 범위 내였다. 자신의 일측 상에 3층 전도성 스택을, 타측 상에 반사방지층을 구비한 폴리에스테르 기재(즉, 전체 투명 다층 어셈블리)의 광투과도는 대략 90% 범위 내였다.
본 구성의 전형적 샘플의 경우, (전체 투명 다층 어셈블리의) CIE L*, a*, 및 b* 값을 대략 95.2, -2.3, 및 2.9 범위에서 각각 측정하였다. 3층 전도성 스택의 면적 저항률은 대략 13-15 Ohm/sq 범위 내인 것으로 측정되었다. EMI 차폐 효율은 대략 20 dB 감쇠 범위로 측정되었다.
상기 실시예는 단지 명확한 이해를 위해 제공되었고, 이로부터 불필요한 제한이 이해되어서는 안된다. 실험예들에서 전술된 검사 및 검사 결과는 예측적이기보다는 오직 예시적인 것으로 의도되며, 검사 절차에 있어서의 변동이 상이한 결과를 산출할 것으로 예상될 수 있다. 실시예들의 모든 정량적 값들은 사용된 절차에 수반된 일반적으로 알려진 허용오차의 측면에서 근사치로 이해된다.
본 명세서에 개시된 예시적인 특정 요소, 구조, 특징, 상세 사항, 구성 등이 복수의 실시예에서 변형 및/또는 조합될 수 있음이 당업자에게 명백할 것이다. (상세하게는, 본 명세서에서 대체물로서 분명하게 언급된 요소들은 임의의 요구되는 조합을 통해 청구항에 명시적으로 포함되거나 배제될 수 있다.) 모든 그러한 변형과 조합은 본 발명자에 의해 단지 예시적인 설명의 역할을 하도록 선택된 그들 대표적인 설계가 아니라 구상된 발명의 범위 내에 있는 것으로 고려된다. 따라서, 본 발명의 범주는 본 명세서에 기재된 예시적인 특정 구성으로 제한되는 것이 아니라, 오히려 적어도 특허청구범위의 표현에 의해 설명되는 구성 및 이들 구성의 등가물로 연장되어야 한다. 서면으로 된 본 명세서와 본 명세서에 참고로 포함되는 임의의 문헌의 개시 내용 간에 상충 또는 모순이 있는 경우에는, 서면으로 된 본 명세서가 우선할 것이다.

Claims (17)

  1. 서로 반대편인(opposed) 제1 및 제2 주표면을 갖는 투명 유기 중합체성 가요성 기재;
    서로 반대편인 제1 및 제2 주표면을 갖는 투명 전도층으로서, 상기 투명 전도층의 상기 제1 주표면은 상기 기재의 상기 제1 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치되는, 투명 전도층; 및
    서로 반대편인 제1 및 제2 주표면을 갖는 반사방지층으로서, 상기 반사방지층의 상기 제1 주표면은 상기 투명 유기 중합체성 가요성 기재의 상기 제2 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치되는, 반사방지층
    을 포함하는, 투명 다층 어셈블리.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 투명 전도층은,
    서로 반대편인 제1 및 제2 주표면을 갖는 전도성의 저 굴절률 코어층;
    상기 기재의 상기 제1 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치되고 상기 투명 전도층의 상기 제1 주표면을 제공하는 제1 주표면, 및 상기 코어층의 상기 제1 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치된 제2 주표면을 구비한 제1 전도성 고 굴절률 외부층; 및
    상기 코어층의 상기 제2 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치된 제1 주표면, 및 상기 투명 전도층의 상기 제2 주표면을 제공하는 제2 주표면을 구비한 제2 고 굴절률 외부층
    을 포함한 투명 전도성 다층 스택인, 투명 다층 어셈블리.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 투명 전도성 다층 스택의 상기 제1 및 제2 외부층은 각각 인듐 아연 산화물, 알루미늄 아연 산화물, 및 이들의 혼합물 및 블렌드로 이루어진 그룹에서 선택되는, 투명 다층 어셈블리.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 전도성의 저 굴절률 코어층은 금속층인, 투명 다층 어셈블리.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 투명 전도성 다층 스택은 상기 투명 유기 중합체성 가요성 기재 또는 광학적으로 투명한 접착제(optically clear adhesive)가 아닌 유기 중합체성 재료의 임의의 층을 포함하지도 않으며 이에 접촉하지도 않는, 투명 다층 어셈블리.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 투명 전도성 다층 스택은 상기 코어층 및 상기 제1 및 제2 외부층 이외의 임의의 다른 층들을 포함하지 않는, 투명 다층 어셈블리.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 투명 전도층은 은 나노와이어, 그래핀, 탄소 나노튜브, 및 와이어 메쉬(wire mesh)로 이루어진 그룹에서 선택된 전도성 재료를 포함하는, 투명 다층 어셈블리.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 투명 유기 중합체성 가요성 기재는 필름의 두께 전체에 걸쳐 균일한 조성의 단일 유기 중합체성 필름으로 이루어지는, 투명 다층 어셈블리.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 투명 유기 중합체성 가요성 기재는, 그의 주표면 상에 증착에 의해 제공된 유기 중합체성 재료의 적어도 하나의 층을 구비한 유기 중합체성 필름을 포함함으로써 상기 유기 중합체성 재료의 증착된 층의 주표면이 상기 투명 유기 중합체성 가요성 기재의 주표면을 제공하는, 투명 다층 어셈블리.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 반사방지층은 다층 광학 사분파(quarter-wave) 스택인, 투명 다층 어셈블리.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 반사방지층의 상기 제2 주표면은 나노구조화 표면(nanostructured surface)인, 투명 다층 어셈블리.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 투명 다층 어셈블리의 광투과도는 88% 초과이고, 상기 투명 전도층의 면적 저항률은 40 Ohm/sq 미만인, 투명 다층 어셈블리.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 투명 다층 어셈블리의 광투과도는 90% 초과이고, 상기 투명 전도층의 면적 저항률은 약 50 내지 약 500 Ohm/sq인, 투명 다층 어셈블리.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 어셈블리는 상기 투명 유기 중합체성 가요성 기재, 상기 투명 전도층, 및 상기 반사방지층으로 본질적으로로 이루어지고, 상기 어셈블리는 상기 투명 유기 중합체성 가요성 기재 이외의 유기 중합체성 재료의 임의의 층은 포함하지 않는, 투명 다층 어셈블리.
  15. 제1 주표면이 투명 전도층의 제2 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치된 광학적으로 투명한 접착제와 조합하여, 제1항의 투명 다층 어셈블리를 포함하는 다층 전자기 간섭 차폐 어셈블리.
  16. 광학적으로 투명한 접착제의 제2 주표면이 터치-감지 유닛의 제1 주표면 상에 직접적으로 접촉하여 배치되는, 제15항의 다층 전자기 차폐 어셈블리를 포함하는 터치 스크린 모듈.
  17. 광학 디스플레이의 제1 주표면과 반사방지층의 제2 주표면 사이에 에어갭을 가지면서 터치 스크린 모듈의 투명 다층 어셈블리의 반사방지층의 제2 주표면에 인접하게 위치되는 광학 디스플레이와 조합하여, 제16항의 터치 스크린 모듈을 포함하는 터치 스크린 디스플레이.
KR1020167018206A 2013-12-09 2014-12-08 투명 전도성 다층 어셈블리 KR20160095126A (ko)

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